AT67437B - Verfahren zur Erzeugung von Vakuum vermittelst tiefer Temperaturen. - Google Patents

Description

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 Wasserstoffes erreichbaren Temperaturen zu bringen, um ein sehr hohes Vakuum in dem Gefäss zu erzeugen. Dies beruht darauf, dass der Dampfdruck der meisten Gase bei diesen Temperaturen verschwindend klein wird. Eine, und zwar die einzige praktisch in Frage kommende Ausnahme von dieser Regel bildet der Wasserstoff selbst. Es ist in der Tat nicht ohneweiters möglich, die z. B. von den Faden einer Glühlampe beim Glühen oder von den Metallelektroden einer Röntgen-   röhre während   des Einleitens einer Entladung abgegebeneu Wasserstoffmolekeln auf dem genannten Wege zu verdichten. 



   Es ist aber ein leichtes-und das ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung-die Wasser   stoffatome zu Bestandteilen von anderen leicht kondensierbaren Molekeln zu machen. Man braucht   zu diesem Zwecke nur nacheinander geringe Mengen eines Gases einzuführen und das so   ent-   stehende Gasgemisch entweder mit der Gasentladung zu behandeln oder auch mit   hellglühenden   -Metallflächen in Berührung zu bringen. Führt man z. B. Sauerstoff ein. so wird einfach Wasser gebildet, wenn jedoch selbst Spuren von Sauerstoff unerwünscht sind, so kann man Kohlendioxyd 
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    PATENT-ANSPRÜCHE:     1.   Verfahren zur Erzeugung von   vakuum     vernuttelst   tiefer   Temperatuien, dadurch gekenn-   zeichnet, dass der Wasserstoff in dem zu evakuierenden Raum durch Einführung von Gasen in leichter kondensierbare Verbindungen   übergeführt und diese verdichtet werden.   

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Claims (1)

1. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurth gekennzeichnet, dass in das Vakuum Sauerstoff eingeführt wird.

   3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die zugeführte...}, ebenfalls kodensierbaren Gase, beispielsweise Kohlendioxyd, nach ihrem übergang in den flüssigen oder EMI1.4 4. Verfahren nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Gase im Vakuum durch Berührung mit glühenden Metallen zu der erwünschten chemischen Umsetzung veranlasst werden.

   5. Verfahren nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Gase im Vakuum EMI1.5 **WARNUNG** Ende CLMS Feld Kannt Anfang DESC uberlappen**.