AT338886B - Anordnung zur bedampfung aus einer thermischen dampfquelle - Google Patents
Anordnung zur bedampfung aus einer thermischen dampfquelleInfo
- Publication number
- AT338886B AT338886B AT725175A AT725175A AT338886B AT 338886 B AT338886 B AT 338886B AT 725175 A AT725175 A AT 725175A AT 725175 A AT725175 A AT 725175A AT 338886 B AT338886 B AT 338886B
- Authority
- AT
- Austria
- Prior art keywords
- arrangement
- steam source
- steam
- steaming
- thermal steam
- Prior art date
Links
- 238000010025 steaming Methods 0.000 title description 3
- 238000004326 stimulated echo acquisition mode for imaging Methods 0.000 title 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 8
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
<Desc/Clms Page number 1>
Beim Aufbringen dünner Schichten, speziell für elektronenmikroskopische Zwecke, durch thermisches Verdampfen des Aufdampfgutes (Metalle, Halbleiter u. a. m.) wird der Auffänger durch die die Dampfstrahlen begleitenden Wärmestrahlen erwärmt ; die hiedurch verursachte Temperaturerhöhung des Präparates ist
EMI1.1
Das erfindungsgemässe Verfahren vermeidet das Auftreffen von Wärmestrahlen am Auffänger, indem es sich des Umstandes bedient, dass Wärme- bzw. Dampfstrahlen sehr verschiedene Geschwindigkeiten besitzen. Zur Lösung dieser an sich bekannten Schwierigkeiten sind schon verschiedene Lösungsvorschläge bekanntgeworden.
Einrichtungen zur Trennung von Dampf- und Wärmestrahlen werden in allgemeiner Form in der österr.
Patentschrift Nr. 231530, sowie in speziellen Ausführungen in den österr. Patentschriften Nr. 293814 und Nr. 314624 beschrieben. Die österr. Patentschrift Nr. 231530 offenbart das Prinzip der Trennung von Dampfund Wärmestrahlung auf Grund ihrer unterschiedlichen Ausbreitungsgeschwindigkeit und hat einige Enrichtungen zur Durchführung des genannten Verfahrensprinzips zum Gegenstand.
EMI1.2
231530schirmung der Wärmestrahlung. Auf Grund ihrer Geometrie können jedoch nicht mehr als 50% der angebotenen Dampf teilchen in das System eintreten, wodurch die Gesamtdurchlässigkeit vermindert wird. Die in den österr. Patentschriften Nr. 293814 und Nr. 314624 beschriebenen Einrichtungen weisen Kanäle auf, welche
EMI1.3
und Wärmestrahlung möglich,hohe Ausbeute zu erzielen.
Die Erfindung betrifft demnach eine Anordnung zur Bedampfung aus einer Dampf- quelle mit herabgesetzter Temperaturbelastung des zu bedampfenden Objektes, wobei die aus der Dampf- quelle emittierte Wärmestrahlung unter Ausnutzung ihrer grösseren Ausbreitungsgeschwindigkeit mittels eines rotierenden Blendensystems vom Dampfstrahl abgetrennt wird und zeichnet sich dadurch aus, dass auf einer gemeinsamen Drehachse parallel und mit Abstand zueinander drei oder mehrere Scheiben als Blenden angeordnet sind, welche mit Öffnungen derart versehen sind, dass in einem geometrisch vorbestimmbaren Raumwinkelbereich in dem die Dampfstrahlen zum Objekt gelangen können sowohl die optische Durchsicht verwehrt ist als auch Reflexionen von Wärmestrahlen an Wänden des rotierenden Systems in den genannten Raumwinkelbereich vermieden werden.
Aus der Literatur sind Anordnungen mit rotierenden Scheiben bekannt, die aus einer Gesamtheit unterschiedlich schneller Teilchen solche einer bestimmten Geschwindigkeit selektionieren. Während in diesen Anordnungen aus dem gesamten Angebot nur Teilchen einer ganz bestimmten Geschwindigkeit ausgewählt werden sollen, ist in der erfindungsgemässen Anordnung im Gegensatz hiezu Bedacht darauf genommen, ein möglichst breites Geschwindigkeitsspektrum durchzulassen. Dementsprechend unterscheiden sich diese beiden Anordnungen in ihrem Aufbau und ihrer Wirkungsweise grundsätzlich.
Die dem erfindungsgemässen Gedanken entsprechende Vorrichtung verbindet die Vorteile der in den österr. Patentschriften Nr. 231530, Nr. 293814, sowie Nr. 314624 der genannten Anordnungen, ohne deren Nachteile aufzuweisen. Die Erfindung betrifft demnach eine Anordnung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass auf einer gemeinsamen Achse drei oder mehr Scheiben parallel zueinander starr angeordnet sind, wodurch wesentlich mehr als 50% der angebotenenDampfteilchen in das System einzudringen vermögen, ohne dass dabei unerwünschte Reflexionen von Wärmestrahlen an den Wänden des rotierenden Systems auftreten können.
Die geometrischen Bedingungen der erfindungsgemässen Anordnung, sowie die völlige Ausschaltung von Licht- undWärmestrahlung erlauben einen sehr kleinen Abstand zwischen Dampfquelle und Auffänger. Da die Aufdampfrate umgekehrt proportional dem Quadrat dieses Abstandes ist, hat dieser Umstand grosse Bedeutung. Durch geeignet geformte Öffnungen am Umfang der Scheiben lässt sich darüber hinaus ein gewünschtes Profil der Aufdampfschicht erzeugen.
Die dünnen, untereinander gleichen Scheiben sind leicht zu fertigen und erlauben es, die geometrischen Bedingungen einfach zu variieren. Ausserdem ist ihre geringe Masse wegen der hohen erforderlichen Drehzahlen sehr von Vorteil.
EinAusfuhrungsbeispiel für eine Anordnung mit fünf rotierenden Scheiben ist in Fig. 1 in Auf- und Grundriss dargestellt. Die Scheiben --3-- sind mit der gemeinsamen Achse A-B fest verbunden und werden durch ein geeignetes Antriebssystem --7-- auf der erforderlichen Umdrehungszahl U gehalten. Diese Umdrehungszahl wird durch das Molekulargewicht und die Temperatur der zu verdampfenden Substanz, sowie durch die Geometrie der Anordnung bestimmt.
Der aus der DampfqueUe --1-- emittierte Dampfstrahl --6-- wird durch die Blenden --2 und 4-- auf den erforderlichen Bereich begrenzt. Zwischen diesen beiden Blenden rotieren die fünf am Umfang mit Schlitzen versehenen Scheiben --3--.
<Desc/Clms Page number 2>
Die Breite der Schlitze --b--, sowie die der Stege --s-- und die Lage der fünf Scheiben zueinander sind so gewählt, dass im Bereich des ausgeblendeten Dampfstrahles --6-- keine direkte Sicht zwischen Dampf-
EMI2.1
--1-- und Auffänger --5-- besteht.Die Schlitze der fünf Scheiben begrenzen gedachte Kanäle mit dem Steigungswinkel a, die von den Dampfteilchen durcheilt werden können.
Für Teilchen der Geschwindigkeit :
EMI2.2
EMI2.3
EMI2.4
Es werden jedoch nicht nur Teilchen dieser Geschwindigkeit durchgelassen, sondern wegen der relativ grossen Breite b der Schlitze der Geschwindigkeitsbereich zwischen Vmin und Vmax wie in Fig. 2 dargestellt. Die Grenzgeschwindigkeiten Vmin und Vmax lassen sich durch Wahl der Geometrie variieren.
PATENTANSPRÜCHE :
1. Anordnung zur Bedampfung aus einer Dampfquelle (1) mit herabgesetzter Temperaturbelastung des zu bedampfenden Objektes (5), wobei die aus der Dampfquelle (1) emittierte Wärmestrahlung unter Ausnutzung ihrer grösseren Ausbreitungsgeschwindigkeit mittels eines rotierenden Blendensystems vom Dampf- strahl(6)abgetrenntwird, dadurch gekennzeichnet, dassauf einergemeinsamenDrehachseparallel und mit Abstand zueinander drei oder mehrere Scheiben (3) als Blenden angeordnet sind, welche mit Öffnungen derart versehen sind, dass in einem geometrisch vorbestimmbarenRaumwinkelbereich, in dem die Dampfstrahlen zum Objekt (5) gelangen können, sowohl die optische Durchsicht verwehrt ist, als auch Reflexionen von Wärmestrahlen an Wänden des rotierenden Systems in den genannten Raumwinkelbereich vermieden werden.
Claims (1)
- 2. Anordnung zur Bedampfung aus einer thermischen Dampfquelle (1) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Öffnungen am Umfang der Scheiben (3) angeordnet und nach aussen offen sind. EMI2.5
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| AT725175A AT338886B (de) | 1975-09-22 | 1975-09-22 | Anordnung zur bedampfung aus einer thermischen dampfquelle |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| AT725175A AT338886B (de) | 1975-09-22 | 1975-09-22 | Anordnung zur bedampfung aus einer thermischen dampfquelle |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| ATA725175A ATA725175A (de) | 1977-01-15 |
| AT338886B true AT338886B (de) | 1977-09-26 |
Family
ID=3594170
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| AT725175A AT338886B (de) | 1975-09-22 | 1975-09-22 | Anordnung zur bedampfung aus einer thermischen dampfquelle |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| AT (1) | AT338886B (de) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2455634A1 (fr) * | 1979-05-04 | 1980-11-28 | Bois Daniel | Procede et dispositif de depot par evaporation sous vide utilisant un faisceau d'electrons moule et un ecran |
| DE102010021547A1 (de) * | 2010-05-20 | 2011-11-24 | Konstantinos Fostiropoulos | Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung von Substraten im Vakuumdepositionsverfahren |
-
1975
- 1975-09-22 AT AT725175A patent/AT338886B/de active
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2455634A1 (fr) * | 1979-05-04 | 1980-11-28 | Bois Daniel | Procede et dispositif de depot par evaporation sous vide utilisant un faisceau d'electrons moule et un ecran |
| DE102010021547A1 (de) * | 2010-05-20 | 2011-11-24 | Konstantinos Fostiropoulos | Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung von Substraten im Vakuumdepositionsverfahren |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ATA725175A (de) | 1977-01-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE69201878T2 (de) | Solarempfänger. | |
| DE2329367C2 (de) | Brennkammer für Gasturbine | |
| DE3244158A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur isotopentrennung | |
| AT338886B (de) | Anordnung zur bedampfung aus einer thermischen dampfquelle | |
| DE1139604B (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Fasern aus thermoplastischen Werkstoffen, insbesondere von Glasfasern | |
| DE1283409B (de) | Absorberstab fuer Kernreaktoren | |
| DE1275699B (de) | Verfahren zur Herstellung einer magnetischen Duennschichtanordnung | |
| DE3331653C2 (de) | ||
| DE2552621C3 (de) | Verfahren zum Herstellen von n-dotierten Siliciumeinkristallen mit in radialer Richtung tellerförmigem Profil des spezifischen Widerstandes | |
| DE2029014C3 (de) | Vorrichtung zum Vakuumaufdampfen von Werkstoffgemischen | |
| DE3914709C1 (de) | ||
| DE2536841C3 (de) | Gleitfallschirm mit an der Kappe angeordneten Kappenfeldern | |
| DE1091698B (de) | Vorrichtung zur Herstellung von Fasern aus thermoplastischen Massen, insbesondere von Glasfasern | |
| DE1949275B2 (de) | Verfahren zur herstellung einer optischen gradientenfaser aus glas | |
| DE2529484C3 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum epitaktischen Abscheiden von Silicium auf einem Substrat | |
| CH629034A5 (de) | Vorrichtung zum herstellen mehrschichtiger halbleiterelemente mittels fluessigphasen-epitaxie. | |
| DE695384C (de) | Vorrichtung zum Entgasen von Fluessigkeiten durch Zentrifugieren | |
| DE2621418C2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Dotieren von Halbleiterplättchen | |
| DE712816C (de) | Drehanodenroentgenroehre | |
| DE2002727C3 (de) | Anordnung zur Vakuumbedampfung | |
| AT314624B (de) | Anordnung zur Vakuumbedampfung aus einer thermischen Dampfquelle | |
| DE1177062B (de) | Tunnelofen zum Brennen von keramischen und verwandten Erzeugnissen | |
| DE557670C (de) | Abtast- bzw. Bildzusammensetzvorrichtung | |
| DE598738C (de) | Linsenaehnliche Einrichtung zur Verwertung der Sonnenwaerme zu techischen Zwecken | |
| DE1030370B (de) | Kuehlturm |