AT338886B - Anordnung zur bedampfung aus einer thermischen dampfquelle - Google Patents

Anordnung zur bedampfung aus einer thermischen dampfquelle

Info

Publication number
AT338886B
AT338886B AT725175A AT725175A AT338886B AT 338886 B AT338886 B AT 338886B AT 725175 A AT725175 A AT 725175A AT 725175 A AT725175 A AT 725175A AT 338886 B AT338886 B AT 338886B
Authority
AT
Austria
Prior art keywords
arrangement
steam source
steam
steaming
thermal steam
Prior art date
Application number
AT725175A
Other languages
English (en)
Other versions
ATA725175A (de
Original Assignee
Horn Herwig Dr
Aldrian Adolf Ing
Golob Peter Dr
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Horn Herwig Dr, Aldrian Adolf Ing, Golob Peter Dr filed Critical Horn Herwig Dr
Priority to AT725175A priority Critical patent/AT338886B/de
Publication of ATA725175A publication Critical patent/ATA725175A/de
Application granted granted Critical
Publication of AT338886B publication Critical patent/AT338886B/de

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description


   <Desc/Clms Page number 1> 
 



   Beim Aufbringen dünner Schichten, speziell für elektronenmikroskopische Zwecke, durch thermisches Verdampfen des Aufdampfgutes (Metalle, Halbleiter u. a.   m.)   wird der Auffänger durch die die Dampfstrahlen begleitenden Wärmestrahlen erwärmt ; die hiedurch verursachte Temperaturerhöhung des Präparates ist 
 EMI1.1 
 



   Das erfindungsgemässe Verfahren vermeidet das Auftreffen von Wärmestrahlen am   Auffänger,   indem es sich des Umstandes bedient, dass Wärme- bzw. Dampfstrahlen sehr verschiedene Geschwindigkeiten besitzen. Zur Lösung dieser an sich bekannten Schwierigkeiten sind schon verschiedene Lösungsvorschläge bekanntgeworden. 



   Einrichtungen zur Trennung von Dampf- und Wärmestrahlen werden in allgemeiner Form in der österr. 



  Patentschrift Nr. 231530, sowie in speziellen Ausführungen in den österr. Patentschriften Nr. 293814 und Nr. 314624 beschrieben. Die österr. Patentschrift Nr. 231530 offenbart das Prinzip der Trennung von Dampfund Wärmestrahlung auf Grund ihrer unterschiedlichen Ausbreitungsgeschwindigkeit und hat einige Enrichtungen zur Durchführung des genannten Verfahrensprinzips zum Gegenstand. 
 EMI1.2 
 
231530schirmung der Wärmestrahlung. Auf Grund ihrer Geometrie können jedoch nicht mehr als 50% der angebotenen Dampf teilchen in das System eintreten, wodurch die Gesamtdurchlässigkeit vermindert wird. Die in den österr. Patentschriften Nr. 293814 und Nr. 314624 beschriebenen Einrichtungen weisen Kanäle auf, welche 
 EMI1.3 
 und Wärmestrahlung möglich,hohe Ausbeute zu erzielen.

   Die Erfindung betrifft demnach eine Anordnung zur Bedampfung aus einer Dampf- quelle mit herabgesetzter Temperaturbelastung des zu bedampfenden Objektes, wobei die aus der Dampf- quelle emittierte Wärmestrahlung unter Ausnutzung ihrer grösseren Ausbreitungsgeschwindigkeit mittels eines rotierenden Blendensystems vom Dampfstrahl abgetrennt wird und zeichnet sich dadurch aus, dass auf einer gemeinsamen Drehachse parallel und mit Abstand zueinander drei oder mehrere Scheiben als Blenden angeordnet sind, welche mit Öffnungen derart versehen sind, dass in einem geometrisch vorbestimmbaren Raumwinkelbereich in dem die Dampfstrahlen zum Objekt gelangen können sowohl die optische Durchsicht verwehrt ist als auch Reflexionen von Wärmestrahlen an Wänden des rotierenden Systems in den genannten Raumwinkelbereich vermieden werden. 



   Aus der Literatur sind Anordnungen mit rotierenden Scheiben bekannt, die aus einer Gesamtheit unterschiedlich schneller Teilchen solche einer bestimmten Geschwindigkeit selektionieren. Während in diesen Anordnungen aus dem gesamten Angebot nur Teilchen einer ganz bestimmten Geschwindigkeit ausgewählt werden sollen, ist in der erfindungsgemässen Anordnung im Gegensatz hiezu Bedacht darauf genommen, ein möglichst breites Geschwindigkeitsspektrum durchzulassen. Dementsprechend unterscheiden sich diese beiden Anordnungen in ihrem Aufbau und ihrer Wirkungsweise grundsätzlich. 



   Die dem erfindungsgemässen Gedanken entsprechende Vorrichtung verbindet die Vorteile der in den österr. Patentschriften Nr. 231530, Nr. 293814, sowie Nr. 314624 der genannten Anordnungen, ohne deren Nachteile aufzuweisen. Die Erfindung betrifft demnach eine Anordnung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass auf einer gemeinsamen Achse drei oder mehr Scheiben parallel zueinander starr angeordnet sind, wodurch wesentlich mehr als 50% der angebotenenDampfteilchen in das System einzudringen vermögen, ohne dass dabei unerwünschte Reflexionen von Wärmestrahlen an den Wänden des rotierenden Systems auftreten können. 



   Die geometrischen Bedingungen der erfindungsgemässen Anordnung, sowie die völlige Ausschaltung von Licht- undWärmestrahlung erlauben einen sehr kleinen Abstand zwischen Dampfquelle und Auffänger. Da die Aufdampfrate umgekehrt proportional dem Quadrat dieses Abstandes ist, hat dieser Umstand grosse Bedeutung. Durch geeignet geformte Öffnungen am Umfang der Scheiben lässt sich darüber hinaus ein gewünschtes Profil der Aufdampfschicht erzeugen. 



   Die dünnen, untereinander gleichen Scheiben sind leicht zu fertigen und erlauben es, die geometrischen Bedingungen einfach zu variieren. Ausserdem ist ihre geringe Masse wegen der hohen erforderlichen Drehzahlen sehr von Vorteil. 



     EinAusfuhrungsbeispiel   für eine Anordnung mit fünf rotierenden Scheiben ist in   Fig. 1 in Auf- und   Grundriss dargestellt. Die Scheiben --3-- sind mit der gemeinsamen Achse A-B fest verbunden und werden durch ein geeignetes Antriebssystem --7-- auf der erforderlichen Umdrehungszahl U gehalten. Diese Umdrehungszahl wird durch das Molekulargewicht und die Temperatur der zu verdampfenden Substanz, sowie durch die Geometrie der Anordnung bestimmt. 



   Der aus der   DampfqueUe --1-- emittierte Dampfstrahl --6-- wird   durch die Blenden --2 und 4-- auf den erforderlichen Bereich begrenzt. Zwischen diesen beiden Blenden rotieren die fünf am Umfang mit Schlitzen versehenen   Scheiben --3--.   

 <Desc/Clms Page number 2> 

 



   Die Breite der Schlitze --b--, sowie die der Stege --s-- und die Lage der fünf Scheiben zueinander sind so gewählt, dass im Bereich des ausgeblendeten Dampfstrahles --6-- keine direkte Sicht zwischen Dampf- 
 EMI2.1 
 --1-- und Auffänger --5-- besteht.Die Schlitze der fünf Scheiben begrenzen gedachte Kanäle mit dem Steigungswinkel a, die von den Dampfteilchen durcheilt werden können. 



   Für Teilchen der Geschwindigkeit : 
 EMI2.2 
 
 EMI2.3 
 
 EMI2.4 
 
Es werden jedoch nicht nur Teilchen dieser Geschwindigkeit durchgelassen, sondern wegen der relativ grossen Breite b der Schlitze der Geschwindigkeitsbereich zwischen Vmin und Vmax wie in Fig. 2 dargestellt. Die Grenzgeschwindigkeiten Vmin und   Vmax   lassen sich durch Wahl der Geometrie variieren. 



   PATENTANSPRÜCHE : 
1. Anordnung zur Bedampfung aus einer Dampfquelle (1) mit herabgesetzter Temperaturbelastung des zu bedampfenden Objektes (5), wobei die aus der Dampfquelle (1) emittierte Wärmestrahlung unter Ausnutzung ihrer grösseren Ausbreitungsgeschwindigkeit mittels eines rotierenden Blendensystems vom Dampf-   strahl(6)abgetrenntwird, dadurch gekennzeichnet, dassauf einergemeinsamenDrehachseparallel    und mit Abstand zueinander drei oder mehrere Scheiben (3) als Blenden angeordnet sind, welche mit Öffnungen derart versehen sind, dass in einem geometrisch   vorbestimmbarenRaumwinkelbereich,   in dem die Dampfstrahlen zum Objekt (5) gelangen können, sowohl die optische Durchsicht verwehrt ist, als auch Reflexionen von Wärmestrahlen an Wänden des rotierenden Systems in den genannten Raumwinkelbereich vermieden werden.

Claims (1)

  1. 2. Anordnung zur Bedampfung aus einer thermischen Dampfquelle (1) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Öffnungen am Umfang der Scheiben (3) angeordnet und nach aussen offen sind. EMI2.5
AT725175A 1975-09-22 1975-09-22 Anordnung zur bedampfung aus einer thermischen dampfquelle AT338886B (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
AT725175A AT338886B (de) 1975-09-22 1975-09-22 Anordnung zur bedampfung aus einer thermischen dampfquelle

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
AT725175A AT338886B (de) 1975-09-22 1975-09-22 Anordnung zur bedampfung aus einer thermischen dampfquelle

Publications (2)

Publication Number Publication Date
ATA725175A ATA725175A (de) 1977-01-15
AT338886B true AT338886B (de) 1977-09-26

Family

ID=3594170

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
AT725175A AT338886B (de) 1975-09-22 1975-09-22 Anordnung zur bedampfung aus einer thermischen dampfquelle

Country Status (1)

Country Link
AT (1) AT338886B (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2455634A1 (fr) * 1979-05-04 1980-11-28 Bois Daniel Procede et dispositif de depot par evaporation sous vide utilisant un faisceau d'electrons moule et un ecran
DE102010021547A1 (de) * 2010-05-20 2011-11-24 Konstantinos Fostiropoulos Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung von Substraten im Vakuumdepositionsverfahren

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2455634A1 (fr) * 1979-05-04 1980-11-28 Bois Daniel Procede et dispositif de depot par evaporation sous vide utilisant un faisceau d'electrons moule et un ecran
DE102010021547A1 (de) * 2010-05-20 2011-11-24 Konstantinos Fostiropoulos Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung von Substraten im Vakuumdepositionsverfahren

Also Published As

Publication number Publication date
ATA725175A (de) 1977-01-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69201878T2 (de) Solarempfänger.
DE2329367C2 (de) Brennkammer für Gasturbine
DE3244158A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur isotopentrennung
DE2734799A1 (de) Radiologischer bildverstaerker
DE2057294B2 (de) Kernbrennstoffbaugruppe für Kernreaktoren
AT338886B (de) Anordnung zur bedampfung aus einer thermischen dampfquelle
EP0967181B1 (de) Verfahren und Vorrichtung für die Herstellung einer porösen SiO2-Vorform
DE1283409B (de) Absorberstab fuer Kernreaktoren
DE1275699B (de) Verfahren zur Herstellung einer magnetischen Duennschichtanordnung
DE3331653C2 (de)
DE2552621C3 (de) Verfahren zum Herstellen von n-dotierten Siliciumeinkristallen mit in radialer Richtung tellerförmigem Profil des spezifischen Widerstandes
DE2536841C3 (de) Gleitfallschirm mit an der Kappe angeordneten Kappenfeldern
DE3914709C1 (de)
DE1589912B2 (de) Festkörperoszillator
DE2529484C3 (de) Verfahren und Vorrichtung zum epitaktischen Abscheiden von Silicium auf einem Substrat
CH629034A5 (de) Vorrichtung zum herstellen mehrschichtiger halbleiterelemente mittels fluessigphasen-epitaxie.
DE477856C (de) Waermeaustauschvorrichtung, insbesondere zur Erhitzung von Luft
DE712816C (de) Drehanodenroentgenroehre
DE2002727C3 (de) Anordnung zur Vakuumbedampfung
DE2851879A1 (de) Vorrichtung zum messen der waermestrahlungsleistung
AT314624B (de) Anordnung zur Vakuumbedampfung aus einer thermischen Dampfquelle
DE598738C (de) Linsenaehnliche Einrichtung zur Verwertung der Sonnenwaerme zu techischen Zwecken
DE102015215457A1 (de) Receiver für Solarenergiegewinnungsanlagen
DE1030370B (de) Kuehlturm
DE1960903A1 (de) Optische Vorrichtung