AT333795B - Verfahren zur herstellung von druckformen - Google Patents

Verfahren zur herstellung von druckformen

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AT333795B
AT333795B AT848772A AT848772A AT333795B AT 333795 B AT333795 B AT 333795B AT 848772 A AT848772 A AT 848772A AT 848772 A AT848772 A AT 848772A AT 333795 B AT333795 B AT 333795B
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/095Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer
    • G03F7/0952Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer comprising silver halide or silver salt based image forming systems, e.g. for camera speed exposure

Description


   <Desc/Clms Page number 1> 
 



   Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung von zylindrischen Druckformen ohne sichtbare Stossnaht mit Auflichtung des Musters auf phototechnischem Weg mit Hilfe eines an sich kontinuierlichen, jedoch musterbedingt unterbrochenen projizierenden Lichtstrahles. 



   Phototechnische Verfahren finden   z. B.   bei der galvanoplastischen Herstellung von Siebdruckschablonen Anwendung, sie werden auch bei der Druckformherstellung eingesetzt, etwa bei der Herstellung von Tiefdruckoder Hochdruckformen, wobei nach dem Entwickeln der auf einem Druckformträger (Platte, Zylinder) aufgebrachten Photoschicht durch Ätzen ein dem Muster entsprechendes Oberflächenrelief erzeugt wird. 



   Neben diesen galvanoplastisch erzeugten Siebdruckschablonen werden auch sogenannte Lackschablonen 
 EMI1.1 
 
B.lichtempfindlichen Lack beschichtet. Nach der Auflichtung des Musters durch einen über die erwähnte Photolackschicht gezogenen Film hindurch, der das gewünschte Muster trägt, und nach der anschliessenden
Entwicklung erhält man eine Lackschablone, deren Öffnungen stellenweise durch den gehärteten Photolack verschlossen, teilweise jedoch durchlässig für den Farbstoff sind. 



   Nachteile dieser Herstellungsverfahren bestehen unter anderem darin, dass neben umfangreichen Arbeiten zur Herstellung der als Kopiervorlagen geeigneten Filme diese nicht ohne Stossnaht auf die Druckformträger aufgespannt werden können, so dass nach der Entwicklung der Photoschicht umfangreiche Retusche-Arbeiten an der Stossstelle der Filmenden notwendig werden. 



   Aufgabe der Erfindung ist es, ein Belichtungsverfahren für die auf dem Druckformträger zur Herstellung der Druckform aufgetragene (n) lichtempfindliche (n) Schicht bzw. Schichten zu schaffen, bei welchem die bisher üblichen Filme entbehrlich sind und somit auch die erwähnten störenden, durch die Stossstellen der Filme bedingten Fehler nicht auftreten. 



   Dies wird   erfindungsgemäss   dadurch erreicht, dass man auf einen Druckformträger zuerst eine wenig lichtempfindliche, jedoch chemikalienfeste,   z. B.   säurefeste, Schicht und darüber eine hochlichtempfindliche Schicht aufbringt, diese obere hoch lichtempfindliche Schicht in der bekannten Weise mit dem das Muster abtastenden Lichtstrahl belichtet und hernach die untere, weniger lichtempfindliche Schicht grossflächig belichtet, worauf sodann auf an sich bekanntem chemischem oder galvanischem Wege die Druckform gebildet wird. 



   Ein besonderer Vorteil des erfindungsgemässen Verfahrens liegt in den kurzen Arbeitszeiten bei der Übertragung des Musters von einer Vorlage auf den Druckformenträger. Zunächst wird die oberste lichtempfindliche Schicht mit Hilfe eines projizierenden Lichtstrahls, mit dem Muster versehen und anschliessend entwickelt ; sie kann   z. B.   eine Silber-Halogen-haltige, dünne Schicht sein, welche durch die Belichtung und anschliessende Entwicklung lichtundurchlässig an den belichteten Stellen wird. Dadurch trägt die darunter befindliche chemikalienfeste und lichtempfindliche Schicht an ihrer Oberfläche lichtundurchlässige Überdeckungen mit dazwischenliegenden offenen mustergemässen Stellen. In diesem Zustand erfolgt die zweite Belichtung, bei welcher jedoch für jede Oberflächeneinheit eine wesentlich längere Belichtungszeit zur Verfügung steht.

   Es kann   z. B.   mit balkenförmigen Xenon- oder Metallhalogendampflampen grossflächig belichtet werden. 



  Die zweite Belichtung kann aber auch durch eine parallel zur Schablonenachse wandernde Punktlichtquelle grosser Intensität durchgeführt werden. Die weniger lichtempfindliche, aber dafür säurebeständige untere Schicht kann hiedurch vollständig belichtet werden. Der Vorteil dieses Verfahrens ist, dass die erste Auflichtung des Musters mit Hilfe eines projizierenden Lichtstrahls zufolge der hohen Empfindlichkeit der obersten, hochgradig lichtempfindlichen Schicht mit sehr kurzen Belichtungszeiten, also sehr rasch erfolgen kann, wodurch eine sehr gute wirtschaftliche Ausnutzung der in der Anschaffung relativ teuren Anlagen für die Übertragung des Musters mit Hilfe eines projizierenden Lichtstrahls erreicht wird. 



   Die Erfindung wird an Hand eines Beispieles näher erläutert, soll jedoch darauf nicht beschränkt sein. Fig. 1 zeigt im Querschnitt einen Abschnitt eines Druckformträgers mit aufgebrachten lichtempfindlichen Schichten. In Fig. 2 ist eine Einrichtung zur erfindungsgemässen Belichtung dargestellt. 



   Auf dem metallischen   Träger--l--in Fig. l, z. B.   einer perforierten Schablonenfolie, ist eine chemikalienfeste, säurebeständige, lichtempfindliche Schicht--2--aufgetragen. Darüber liegt eine 
 EMI1.2 
 sein. Die Schichtdicke der   Schicht--3--liegt   zweckmässig im Bereich von 0, 005 bis 0, 02 mm. Das Material der   Schicht--2--dringt   in die Perforationen des   Trägers--l--ein   und überdeckt den   Träger--l--z. B.   mit einer Schichtdicke von 0, 01 bis 0, 03 mm. 



   Fig. 2 zeigt die Einrichtung, auf welcher der so vorbereitete Druckformträger erfindungsgemäss belichtet wird. Der zylindrische   Druckformträger--l--, z. B.   eine perforierte Hülse, wird durch den   Antrieb --4-- um   seine Achse--5--in Drehung versetzt. Vom   Antrieb--4--wird   über die   Welle--6--eine   Drehbewegung 
 EMI1.3 
 

 <Desc/Clms Page number 2> 

 Helligkeit des Lichtstrahls wird vom   Getriebe --7-- eine   Drehbewegung über die Welle--11--und die Getriebe-12, 13, 14-- einer Abtasteinrichtung --15-- zugeleitet. In dieser Abtasteinrichtung-15- 
 EMI2.1 
 mehrerer Photozellen--17, 17'-das Muster abgenommen, wobei diese Photozellen-17, 17'wechselweise arbeiten.

   Während nämlich die eine dieser   Photozellen--17--in   Richtung des   Pfeiles-IS--   läuft und die Mustervorlage auf der   Trommel --16-- abtastet,   bewegt sich die   andere-17'--zurück   in   Richtung --19-- und   verharrt in ihrer Ausgangsposition-20-, bis die   Photozelle --17-- am   Mustervorlagenende angelangt ist. Dieses Arbeitsspiel wiederholt sich wechselweise. Die Photozellen   --17, 17'-arbeiten   hiebei so, dass bei Übergang von hell auf dunkel ein entsprechender Befehl über die elektrische   Steuereinheit--21-abgegeben   wird, welche die Hell-Dunkelschaltung des Lichtstrahls aus der   Auflichteinheit--9--veranlasst.   



   Von den beiden lichtempfindlichen Schichten--2 und   3--auf   dem   Druckformträger-l-- (Fig. l)   wird-wie bereits   ausgeführt-zunächst   die obere hoch-lichtempfindliche   Schicht --3-- mit   Hilfe eines projizierenden Lichtstrahls belichtet und dann entwickelt, worauf die grossflächige Belichtung und Entwicklung der unteren lichtempfindlichen   Schicht --2-- erfolgt.   



   Bei der Entwicklung der obersten   Schicht --3-- wird   diese nicht gehärtet, so dass sie in weiterer Folge 
 EMI2.2 
   --2-- kann   zweckmässig eine reflexionshemmende Schicht angeordnet sein. 



   Das musterbedingte Unterbrechen des kontinuierlichen Lichtstrahls kann   z. B.   mit Hilfe eines
Spiegelgalvanometers erfolgen, weiters ist auch die Verwendung von polarisiertem Licht zusammen mit einer "Pockels"-Zelle möglich, mit deren Hilfe die musterbedingte Hell-Dunkelschaltung erreicht werden kann. 



   Die "Pockels"-Zelle ist eine optisch aktive Zelle, die-so wie eine "Kerr"-Zelle-eine Drehung des sie durchdringenden polarisierten Lichtstrahls in Abhängigkeit von der an den Elektroden der Zelle angelegten elektrischen Spannung bewirkt, wodurch, entsprechend der musterbedingten Spannungsschwankungen, der Lichtstrahl den zunächst auf "dunkel" gestellten Analysator der Polarisations-Belichtungseinheit zu durchsetzen vermag. Die musterbedingten Spannungsschwankungen gelangen, wie erwähnt, über die elektrische Steuereinheit --21--andie"Pockels"-Zelle. 



   Fig. 1 und 2 erläutern die Anwendung des erfindungsgemässen Verfahrens zur Herstellung von zylindrischen Lackschablonen, die aus einem aus einer perforierten Hülse bestehenden Druckformträger und aus einer mit mustergemässen Durchlässen versehenen Beschichtung aus lackartigem Material   (z. B.   Diazoharz) bestehen. Die Erfindung ist jedoch nicht auf Herstellung zylindrischer Lackschablonen beschränkt. Für die Herstellung von ebenen Siebdruckschablonen (Flachschablonen) könnte man   z. B.   ein bereits perforiertes, ebenes Nickelblech als Druckformträger verwenden, welcher während der Dauer des Herstellungsverfahrens zur zylindrischen Hülse geformt wird.

   Weiters kann das erfindungsgemässe Verfahren bei der Herstellung von Druckformen für Hochdruck oder Tiefdruck eingesetzt werden, wobei von einem mit mindestens einer lichtempfindlichen Schicht beschichteten Druckformträger (Druckplatte, Druckzylinder) ausgegangen wird und wobei nach dem   erfindungsgemässen   Belichten und anschliessenden Entwickeln durch Ätzen ein dem Druckmuster entsprechendes Oberflächenrelief erzeugt wird.

Claims (1)

  1. PATENTANSPRUCH : Verfahren zur Herstellung von zylindrischen Druckformen ohne sichtbare Stossnaht mit Auflichtung des Musters auf phototechnischem Wege mit Hilfe eines an sich kontinuierlichen, jedoch musterbedingt EMI2.3 Druckformträger zuerst eine wenig lichtempfindliche, jedoch chemikalienfeste, z. B. säurefeste, Schicht und darüber eine hochlichtempfindliche Schicht aufbringt, diese obere hochlichtempfindliche Schicht in der bekannten Weise mit dem das Muster abtastenden Lichtstrahl belichtet und hernach die untere, weniger lichtempfindliche Schicht grossflächig belichtet und dass sodann auf an sich bekanntem chemischem oder galvanischem Wege die Druckform gebildet wird.
AT848772A 1972-10-04 1972-10-04 Verfahren zur herstellung von druckformen AT333795B (de)

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EP0785474A1 (de) * 1996-01-16 1997-07-23 Schablonentechnik Kufstein Aktiengesellschaft Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer Flexodruckschablone

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