AT309472B - Vorrichtung zum Einführen eines mit mindestens einer Photoschicht versehenen elastischen Zylinders in eine zylindrische Rastermaske - Google Patents

Vorrichtung zum Einführen eines mit mindestens einer Photoschicht versehenen elastischen Zylinders in eine zylindrische Rastermaske

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AT309472B
AT309472B AT981971A AT981971A AT309472B AT 309472 B AT309472 B AT 309472B AT 981971 A AT981971 A AT 981971A AT 981971 A AT981971 A AT 981971A AT 309472 B AT309472 B AT 309472B
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Austria
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cylinder
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elastic
elastic cylinder
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Zimmer Peter
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/18Coating curved surfaces

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)

Description


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   Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Einführen eines mit mindestens einer Photoschicht versehenen elastischen Zylinders in eine zylindrische Rastermaske, deren Innendurchmesser dem Aussendurchmesser des elastischen Zylinders gleich ist, welcher elastische Zylinder beim Einführen so deformiert wird, dass sein Querschnitt konkave und konvexe Krümmungen (Achterform) aufweist und nach dem anschliessenden Aufheben der Deformation an der Innenwand der Rastermaske anliegt. 



   Bei der Herstellung von zylindrischen Druckformen ist ein wesentlicher Arbeitsgang das Aufrastern der Zylinderoberfläche. Meistens geschieht dies dadurch, dass die metallische Oberfläche des aufzurasternden Zylinders-beispielsweise eines Tiefdruckzylinders oder einer Matrize für die galvanoplastische Herstellung von   Siebdruckzylindern-mit   einer lichtempfindlichen Lackschichte, der sogenannten Photoschichte, überzogen wird. Nach dessen Trocknung legt man einen Film, welcher das Rastermuster trägt, darüber und belichtet hierauf.

   Die daran anschliessende Entwicklung der durch die Belichtung örtlich in ihren chemischen Eigenschaften veränderten Photoschicht legt nun die metallische Oberfläche des Zylinders in der Art frei, dass, je nach Typ der verwendeten Photoschichte, entweder das Rastergitter oder die von diesem umschlossenen Rasterpunkte elektrisch leitend werden, worauf die weiteren Arbeitsgänge basieren. 



   Die zur Aufrasterung verwendeten Filme entsprechen in ihrer Breite dem Umfang der Matrize und ihre Längen stimmen mit der Matrizenlänge überein. An der Stossstelle des Filmes ist es insbesondere bei sehr feinen Rastern in der Praxis nie möglich, einen genauen punktweisen Anschluss des Rastermusters herzustellen. Ausserdem wird durch den unvermeidlichen Spalt und die Reflexion an den Spaltwänden die Belichtung der Photoschicht an dieser Stelle weitgehend verhindert, so dass eine Längsnaht stets sichtbar bleibt. Diese muss dann durch sehr aufwendige Handarbeit retuschiert werden. 



   Diesen Nachteil vermeidet die Erfindung durch die Verwendung eines Saugarmes, dessen elastische Saugnäpfe an zwei gegenüberliegenden Seiten des Saugarmes angeordnet sind und die je Seite gemeinsam be- und entlüftet werden können. Mit Hilfe dieses Saugarmes wird die Wandung eines mit der Photoschicht versehenen Zylinders elastisch so deformiert, dass der Querschnitt konkave und konvexe Krümmungen (Achterform) aufweist, in diesem Zustand eine dünne, lichtundurchlässige, zylindrische, im Rastermuster durchbrochene Rastermaske übergeschoben, deren Innendurchmesser dem Aussendurchmesser des Zylinders gleich ist und anschliessend werden durch Aufheben der Deformation die Mantelflächen von Zylinder und Rastermaske in Kontakt gebracht.

   Dieses nierenförmige Zusammenlegen der Matrize über die gesamte Länge bietet den sehr grossen Vorteil, dass die Photoschicht auf der Matrize unbeschädigt bleibt, wenn die Nickelfolie über die Matrize geschoben wird, um den Auflichtvorgang durchzuführen. Gleichzeitig wird auch die sehr dünne, etwa 1/100 bis 2/100 mm dicke endlose Nickelfolie geschont und erhält dadurch eine sehr hohe Lebensdauer. Die Erfindung unterscheidet sich damit wesentlich von dem in der   österr.

   Patentschrift Nr. 287743   genannten Verfahren, bei dem durch ein nierenförmiges Eindrücken der elastischen Matrize, welches durch ein langsam über die Länge und den Umfang schraubenlinienförmig wanderndes Einbeulen so hohe Schubspannungen zwischen galvanisch erzeugter Schablone und der darunter befindlichen elastischen Matrize verursacht, dass die schwachen Bindungen zwischen Matrize und Schablone zerstört und die Schablone anschliessend von der in Kreisform befindlichen Matrize abgezogen werden kann. Nach dem Belichten der Photoschicht durch die Rastermaske hindurch, dem Abziehen der Rastermaske, wobei der belichtete Zylinder wieder in die genannte Achterform gebracht wird, und dem Entwickeln erhält man den erwünschten Linien- oder Punktraster auf der Oberfläche des Zylinders. 



   Es ist zu beachten, dass die Rasterfolie unbedingt eng geschlossen an der Photoschicht aufliegen muss, um bei der Belichtung scharfe Konturen zu erzielen. Die Rastermasken sind als Film praktisch nicht herstellbar, sie können jedoch   z. B.   als dünne Metallfolien in einem Galvanoprozess von einer tiefgravierten Walze, welche den entsprechend moletierten Punktraster trägt, hergestellt werden. Derartige Metallfolien sind notwendigerweise äusserst dünn, da bei dickerer Auftragung im Galvanoprozess die Punktkonturen zuwachsen bzw. unscharf werden. Um diese Rastermasken auf elastische Zylinder aufzuziehen, wird erfindungsgemäss mit Hilfe eines stangenförmigen Saugarmes die dünne elastische Matrize in Nierenform gebracht und die Rastermaske in ovaler Form darübergeschoben. 



   Die Erfindung ist an Hand von Skizzen näher erläutert, ohne darauf beschränkt zu sein. 
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 der Deformation des Zylinders mit Hilfe des Saugarmes, das Darüberschieben der Rastermaske und das Anlegen des Zylindermantels an die Rastermaske. 



   Der   Saugarm--l--in Fig. l   und 2 ist in die beiden Kammern-2 und 3-unterteilt. Am rechtsseitigen Ende dieser beiden Kammern--2, 3--befinden sich die   Anschlüsse--4   und 5--. An jede Kammer sind elastische   Saugnäpfe --6-- angeschlossen.   Die Saugnäpfe sind mit den Kammern durch   Bohrungen--8--so   verbunden, dass bei Evakuierung der Kammer das Vakuum auch auf die Sauger übertragen werden kann. 



   In Fig. 3 ist nun ein solcher Saugarm im oberen   Scheitelpunkt--9--eines   elastischen Zylinders   --10--,   der bereits mit einer (nicht dargestellten) Photoschicht versehen ist, angesetzt. Die obere Kammer   --2-- dieses   Saugarmes wird nun über ihren   Anschluss--4--evakuiert   und die   Saugnäpfe-6--legen   sich fest an die Wandung des   Zylinders --10-- an.   

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   In Fig. 4 ist der Saugarm nach abwärts gedrückt und mit diesem die Wandung des elastischen Zylinders --10-- ebenfalls nach unten gezogen, so dass der Zylinder zunächst einen bohnenförmigen Querschnitt erhält. 



  Die unteren   Saugnäpfe --7-- liegen   nun am unteren Scheitelpunkt--11--des Zylinders--10--an. Evakuiert man jetzt die   Kammer --3-- des Saugarmes --1--,   so wird auch am unteren Scheitelpunkt --11-- die Wandung des   Zylinders--10--angesaugt.   Hält man nun den elastischen Zylinder nur mehr mit Hilfe des Saugarmes, so wird sich die in Fig. 5 gezeigte achterförmige Umrisslinie einstellen und es kann die dünne   Rasterfolie--12--bequem   geschoben werden. 



   Nunmehr wird, wie in Fig. 6 dargestellt, der Zylinder wieder so auf eine ebene Unterlage--13--gelegt, dass der untere Scheitel--11--einschliesslich der darübergeschobenen   Rastermaske--12--die   Unterlage -   berührt.   Das Vakuum der unteren   Kammer --3-- des   Saugarmes kann aufgehoben werden, die Sauger lösen sich leicht von der Zylinderwandung. Der Saugarm wird zusammen mit der Zylinderwandung im Bereich des oberen   Scheitels--9--langsam   nach oben geführt und der Zylinder nimmt wieder die in Fig. 7 gezeigte gespannte Kreiszylinderform an.

   Nunmehr wird auch die obere   Kammer --2-- belüftet,   die Sauger lösen sich im Bereich des oberen   Scheitelpunktes--9--von   der Zylinderwandung und der   Saugarm--l--   kann aus dem elastischen Zylinder herausgezogen werden. 



   Dieses Verfahren weist den Vorteil einer äusserst schonenden Behandlung der dünnen, perforierten Rastermaske auf, wodurch die Rissgefahr dieser Folie weitgehend eliminiert wird. 



   Entsprechend seiner späteren Verwendung wird der erfmdungsgemäss behandelte Zylinder weiterbearbeitet. 



  So kann   z. B.   während oder nach der Belichtung der Photoschichte durch die Rastermaske hindurch ein Druckmuster dem Rastergitter überlagert werden. Durch Entwickeln der Photoschichte, Ätzen usw. kann man so   z. B.   eine Matrize für die galvanoplastische Herstellung von Rundschablonen für den Siebdruck, Druckformen für den Tiefdruck, welche auf entsprechende Trägerwalzen aufgezogen werden und Ähnliches erhalten. 



   PATENTANSPRÜCHE : 
1. Vorrichtung zum Einführen eines mit mindestens einer Photoschicht versehenen elastischen Zylinders in eine zylindrische Rastermaske, deren Innendurchmesser dem Aussendurchmesser des elastischen Zylinders gleich ist, welcher elastische Zylinder beim Einführen so deformiert wird, dass sein Querschnitt konkave und konvexe Krümmungen (Achterform) aufweist und nach dem anschliessenden Aufheben der Deformation an der Innenwand der Rastermaske anliegt, gekennzeichnet durch einen Saugarm, dessen elastische Saugnäpfe an zwei gegenüberliegenden Seiten des Saugarmes angeordnet sind und die je Seite gemeinsam be- und entlüftet werden können. 
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AT981971A 1971-11-15 1971-11-15 Vorrichtung zum Einführen eines mit mindestens einer Photoschicht versehenen elastischen Zylinders in eine zylindrische Rastermaske AT309472B (de)

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