AT208343B - Vorrichtung zur Förderung von Gas und zu dessen feinster Verteilung in einer Flüssigkeit - Google Patents

Description

   <Desc/Clms Page number 1> 
 



  Vorrichtung zur Förderung von Gas und zu dessen feinster Verteilung in einer Flüssigkeit 
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Weiter- entwicklung der im Stammpatent Nr. 204015 beschriebenen Vorrichtung zur feinsten Ver- teilung von Gas in einer Flüssigkeit. Bei derselben sollte das zu verteilende Gas mittels einer wasser- ringpumpenähnlichen Vorrichtung-die im   folgenden Gasverdichter"genannt wird-auf    den erforderlichen Druck gebracht und der, mit dem Gasverdichter über eine hydraulische Kupp- lung verbundenen, rotierenden Verteilervorrich- tung zugeführt werden. Der Gasverdichter war oberhalb des Spiegels der zu begasenden Flüssig- keit angeordnet und durch eine, die Antriebskraft für den Verteiler übertragende, Hohlwelle mit der in der Nähe des Bodens des Gefässes gelagerten
Gasverteilungsvorrichtung starr verbunden. 



   Im Gegensatz zu der Anordnung im Stammpatent Nr. 204015 ist bei der den Gegenstand der vorliegenden Anmeldung bildenden Vorrichtung der Gasverdichter in der Höhe des Gefässbodens angeordnet, liegt also innerhalb der zu begasenden Flüssigkeit. Die der Gasverteilung dienenden Hohlkörper von an sich bekannter Anordnung sind mit dem Gehäuse des Gasverdichters starr verbunden. 



   In der Zeichnung ist der Gegenstand der Erfindung schematisch dargestellt. Es zeigen :
Fig. 1 einen senkrechten Schnitt durch den Gasverdichter und die Verteilervorrichtung, Fig. 2 einen waagrechten Schnitt durch den Gasverdichter in der Ebene II-II, Fig. 3 einen waagrechten Schnitt durch den Gasverdichter in der Ebene I-I, Fig. 4 einen waagrechten Schnitt in der Höhe des Gasverteilers, wobei dessen Arme, die nicht Gegenstand der Anmeldung sind, in Ansicht gezeichnet sind. 



   Der Läufer   f,   g des Gasverdichters ist mit der hohlen, gleichzeitig der Gaszufuhr von aussen her dienenden, Antriebswelle c der Vorrichtung starr verbunden. Im Betrieb bildet sich unter dem Einfluss der Schaufeln g ein im Gehäuse   d1-d3   des Gasverdichters umlaufender Wasserring m. 



  In die durch die Schaufeln g, die Stirnwände   d1   und d3 des Gehäuses und die Innenfläche des Wasserringes m gebildeten Hohlräume tritt das   Gas über die Ansaugöffnungen il und i3 ein, wird im Laufe einer Umdrehung des Läufers ver-   dichtet und durch die Auspuffschlitze   k1   und k3 nach den mit Austrittsöffnungen versehenen Ver- teilerkörpern   e2   von an sich bekannter Anordnung, z. B. Patent Nr. 142217, gefördert. Durch diese erfolgt die Feinstverteilung des Gases in der um- gebenden Flüssigkeit. 



   Um auch den drehachsennahen Zonen der zu begasenden Flüssigkeit Gas in ausreichender
Menge zuzuführen, kann auf der Hohlwelle c ein
Hohlkörper h angebracht werden. Das Gehäuse   d1-d5   erhält dann an der oberen Stirnfläche d5 Öffnungen   d6, über   welche eine entsprechende Menge des verdichteten Gases aus dem Raum   k2   in die zu begasende Flüssigkeit übertreten kann. 



  Aus dieser wird das Gas in die durch den Hohlkörper h erzeugte, bzw. von diesem mitgeschleppte Vacuole übernommen. An der Berührungsfläche der Vacuole mit der umgebenden Flüssigkeit bzw. in ihrem Wirbelzopf erfolgt die Auflösung des in der Vacuole eingeschlossenen Gases zu feinsten Blasen. 



   Der Antrieb der Vorrichtung kann ohne weiteres auch von unten, d. h. vom Gefässboden her, erfolgen. In diesem Falle wird die Hohlwelle c mittels einiger Stege mit dem flüssigkeitsdicht durch den Bottichboden gehenden Antriebszapfen starr verbunden. Das obere Teil der Hohlwelle c dient dann lediglich der Luftzuführung und kann feststehend angeordnet werden. Eine völlige Abdichtung des rotierenden gegen- über dem feststehenden Teil der Hohlwelle c ist nicht erforderlich, da eine etwa in das Innere der letzteren eindringende geringe Flüssigkeitsmenge über den Flüssigkeitsring m und einige am Boden des Gasverdichters angebrachte Öffnungen nach aussen gelangt. 

**WARNUNG** Ende DESC Feld kannt Anfang CLMS uberlappen**.

Claims (1)

1. PATENTANSPRÜCHE : 1. Vorrichtung zur feinsten Verteilung von Gas in einer Flüssigkeit unter gleichzeitiger Förderung des ersteren, wobei das Gas aus in der Flüssigkeit umlaufenden Hohlkörpern austritt und die Förderung des Gases durch eine Flüssigkeitsringpumpe erfolgt, die als Flüssigkeitskupplung <Desc/Clms Page number 2> zwischen die Motorwelle und die Gasverteilkörper geschaltet ist, nach Stammpatent Nr. 204015, dadurch gekennzeichnet, dass die Flüssigkeitspumpe in der Nähe des Gefässbodens angeordnet ist, wobei deren Schaufelrad durch eine gleichzeitig der Gaszuleitung dienende Hohlwelle mit dem Antriebsmotor verbunden ist und die Gasverteilkörper (e2) unmittelbar am drehbar gelagerten Pumpengehäuse angeordnet sind.

   2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass an der oberen Gehäuse- EMI2.1 halb der Flüssigkeitsringpumpe ein mit der Antriebshohlwelle (c) verbundener Hilfsflügel (h) angeordnet ist, der das aus den Öffnungen der Pumpengehäusewand ausströmende Gas verteilt.

   3. Vorrichtung zur feinsten Verteilung von Gas in einer Flüssigkeit, dadurch gekennzeichnet, dass in dem zu begasenden Gefäss mehrere Vorrichtungen nach Anspruch 1 bzw. den Ansprüchen 1 und 2, auf der gleichen, der Gaszufuhr dienenden, hohlen Antriebswelle übereinander angeordnet sind.

   4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die einzelnen Gasverdichter in bezug auf Förderleistung und Gaspressung, ihrer Lage zur Oberfläche der zu begasenden Flüssigkeit entsprechend, verschieden voneinander ausgelegt sind.