AT206248B - Lösung zum chemischen Polieren von Kupfer und seinen Legierungen - Google Patents
Lösung zum chemischen Polieren von Kupfer und seinen LegierungenInfo
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- 238000005498 polishing Methods 0.000 title description 24
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 9
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 title description 9
- 239000010949 copper Substances 0.000 title description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 title description 7
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 title description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 title description 5
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 claims description 12
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 12
- DJHGAFSJWGLOIV-UHFFFAOYSA-N Arsenic acid Chemical compound O[As](O)(O)=O DJHGAFSJWGLOIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229940000488 arsenic acid Drugs 0.000 claims description 7
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 claims description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 14
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 4
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 4
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 2
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001495 arsenic compounds Chemical class 0.000 description 1
- BJTQUFONDOVFIJ-UHFFFAOYSA-N arsonooxyarsonic acid Chemical compound O[As](O)(=O)O[As](O)(O)=O BJTQUFONDOVFIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 239000003517 fume Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229940093920 gynecological arsenic compound Drugs 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- MOFOBJHOKRNACT-UHFFFAOYSA-N nickel silver Chemical compound [Ni].[Ag] MOFOBJHOKRNACT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010956 nickel silver Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000000779 smoke Substances 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052572 stoneware Inorganic materials 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
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EMI1.1
Die Erfindung bezieht sich auf das chemische Polieren von Kupfer und seinen Legierungen.
Im USA-Patent Nr. 2, 446, 060 ist ein Bad zum chemischen Polieren von Metalloberflächen vorgeschlagen worden, welches aus konzentrierten Lösungen von 5 bis 85 Vol.-% Salpetersäure, annähernd vom spez. Gewicht 1,42 in Mischung mit 0-95 Vol.-% Phosphorsäure, annähernd vom spez. Gewicht 1, 7 und 0-90 Vol. -% Essigsäure, annähernd vom spez. Gewicht 1,05, besteht. Es heisst dort, dass die maximale Menge an Wasser, welche zu Bädern nur aus Salpetersäure und Phosphorsäure, deren Zusammensetzung zwischen 5- 75% Salpetersäure und 95-25% Phosphorsäure schwanken kann, zugesetzt werden kann, 10 Vol.- /o beträgt, da bei höherem Wasseranteil das Polieren schlechter wird.
Ferner besagt. das brit. Patent Nr. 738, 744, dass dort, wo im Bad keine Essigsäure, sondern nur Phosphorsäure und Salpetersäure anwesend sind, die Gegenwart von Wasser wesentlich ist, um ein zufriedenstellendes Polieren zu erhalten ; es wurde ein Bad zum chemischen Polieren von Kupfer, Nickel und Legierungen dieser Metalle mit oder ohne Zuastz von Zink, vorgeschlagen, welches 5-83 < '/o Phosphorsäure, 2-50of01 Salpetersäure und 15-450/0 Wasser enthält.
Es wurde nun gefunden, dass ein viel besseres Polieren unter Verwendung von Bädern erreichbar ist, welche zusammen mit Phosphor und Salpetersäure, Arsensäure oder Pyroarsensäure enthalten. Die Bäder nach der Erfindung ergeben einen spiegelnden Glanz, der dem weit überlegen ist, den man durch vorher bekannte Bäder erreichen konnte.
Nach der Erfindung wird eine Lösung zum chemischen Polieren von Kupfer und seinen Legierungen hergestellt, welche 5-400/o Arsensäure (einer Konzentration von 80 Gew.-% in Wasser), 2-500/0 Salpetersäure, annähernd vom spez.
Gewicht 1, 5 und 5-78% Phosphorsäure, annähernd vom spez. Gewicht 1, 75, enthält. Vorzugsweise enthält die Lösung auch Eisessig und bzw. oder bis zu 20% Wasser. Die vorstehenden per- zentuellen Angaben sind sämtliche Volumspro- zente.
Die bevorzugten Lösungen enthalten 10-300/0 Arsensäure, 20-30% Phosphorsäure, 30-50% Essigsäur, e, 10-15Q/0I Salpetersäure und bis zu 10"/o Wasser. (Auch hier handelt es, sich um Volumsprozente und die Stärke der Säuren sind die vorhin angegebenen).
Es wurde gefunden, dass das Mass bzw. die Geschwindigkeit des Polierens mit den Lösungen durch die anwesende Menge an Eisessig-bestimmt und regelbar ist. Ist keine Essigsäure anwesend, so wird die Poliergeschwindigkeit eher zu hoch und sind mehr als 700/et vorhanden, so ist die Geschwindigkeit für die meisten Zwecke zu gering.
Sind mehr als 75% Phosphorsäure anwesend, so wird das Metall geätzt. Bei Anwesenheit von mehr als 30% Salpetersäure ist die erhaltene Po- lierung, wenn auch glänzend, nicht sonderlich spiegelnd, und wenn mehr als 40Q/" Arsensäure vorhanden sind, wird die'Oberfläche des eingetauchten Metalles narbig.
Die Lösungen setzen das Polieren ohne Notwendigkeit einer Regenerierung so'lange (fort, bis sie bis zu etwa 90 g je Liter an gelöstem Metall enthalten. Wird eine Regenerierung notwendig, d. i. sobald die Polierung schlecht oder die Poliergeschwindigkeit erheblich geändert wird, kann sie durch blossen Zusatz jenes Bestandteiles bewerkstelligt werden, der bei Analyse der Polierlösung als in zu geringem Ausmasse vorhanden festgestellt wird. Gewöhnlich : genügt es, Salpeterund Essigsäure zuzusetzen, während es sich zeigt te, dass es nicht nötig wäre, weitere Mengen Arsensäure beizufügen.
Bei Verwendung werden die Lösungen vorzugsweise auf einer Temperatur zwischen 50 und 800 C gehalten und mit den bevorzugten erfin- dungsgemässen Lösungen wird eine ausreichende Polierung in ungefähr 3 min erzielt.
Die erfindungsgemässen Lösungen können in Gefässen auf Vorrat gelegt werden, die aus Stof- fen, wie Glas, Steinzeug, rostfreiem Stahl ode1 Polyvinylharzen, hergestellt sind.
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Es wurde festgestellt, dass die Gegenwart von Arsensäure in der Polierlösung keine Gefahr in Gestalt giftiger Dämpfe oder Ablagerungen auf den polierten Metallflächen mit sich bringt. In dem Rauch aus den Lösungen wurde selbst bei Abwesenheit von Salpetersäure kein Arsen festgestellt, noch fanden sich nennenswerte Ablagerungen von Arsenverbindungen auf der Oberfläche des polierten Metalles vor.
Das Verfahren zum chemischen Polieren von Metallflächen mit erfindungsgemässen Lösungen besteht in einem blossen Eintauchen in das Bad, zum Unterschied von Verfahren, bei welchen das Metall als Anode in einem von der Polierlösung gebildeten Elektroltyen zu verwenden ist. Die erfindungsgemässen Bäder eignen sich nicht zum Elektropolieren.
Die nachstehenden Beispiele dienen zur Erläuterung der Durchführung der Erfindung und die perzentuellen Angaben sind stets volumsmässige und, die Konzentrationen der verwendeten Säuren die vorhin angegebenen. Betont soll werden, dass der Prozentsatz an Wasser sich auf zugesetztes Wasser bezieht, also das in den Säuren vor dem Mischen bereits vorhandene Wasser nicht einbegreift.
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l :renden Metallgegenstände wurden 3 min lang bei einer Temperatur von 60 bis 800 C eingetaucht. Ein im wesentlichen gutes Polieren wurde. dabei erzielt, das für Kupfer, Nickel, Silber besser als für Messing ist.
Beispiel 2 : Eine Lösung aus 20% Phosphor-, 300/0 Arsen-, 40"/o. Essig-, 10% Salpetersäure ohne Wasserzusatz wurde hergestellt. Es ergab sich ein sehr gutes Polieren von Messinggegenständen, die bei 60-80"C 3 min. lang eingetaucht wurden. Diese Lösung bewährte sich insbesondere auch für das Polieren von Vergoldermetall, das bei 50-600 C 3 min eingetaucht wurde.
Beispiel 3 : Eine Lösung aus 250/0 Phosphor-, 20'do Arsen-, 40% Essig-, 10 < '/o Salpetersäure und 5% Wasser wurde zugerichtet. Insbesondere auf Messinggegenständen und auf Vergoldermetall wurde sehr gutes Polieren erzielt, wenn diese Me-
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CDas Polieren von Kupfer war bei 500 C besser als bei 800 C. : Beispiel 4 : Aus 20010 Phosphor-, 30tao Arsen- 35% Essig-, zo Salpetersäure wurde ohne Wasserzusatz eine Lösung hergestellt. Damit wurde ein gutes Polieren von Messinggegenständen bei Eintauchen während 3er min bei 60-800 C er-s reicht, aber die Geschwindigkeit war eher hoch.
Ein sehr brauchbares Polieren von Vergoldermetall wurde erreicht, wenn dieses bei 700 C min. eingetaucht war, doch auf Nickelsilber wurde kein Polieren erzielt.
In den vorstehenden Beispielen bestand das verwendete Messing auf 70 Gew.-% Kupfer und 30 Gew.-% Zink und das Vergoldermetall bestand aus 80-90 Gew.-% Kupfer und 20-10 Gew. -%Zink.
PATENTANSPRÜCHE :
1. Lösung zum chemischen Polieren von Kupfer und seinen Legierungen, vorzugsweise durch Eintauchen der zu behandelnden Gegenstände, in die insbesondere auf einer Temperatur zwischen 50 und 800 C gehaltenen Lösung, gekennzeichnet
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Wasser, 2-50 Vol. -0/0 Salpetersäure vom spez.
'Gewicht 1, 5 und 5-75 Vol.-"/o Phosphorsäure vom spez. Gewicht 1, 75.
Claims (1)
- 2. Lösung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Salpetersäure in einer 30 Vol.-% der Lösung nicht übersteigenden Menge anwesend ist.3. Lösung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass Eisessig in einer Menge vorhanden ist, welche 70 Vol. -oxo der Lösung nicht übersteigt.4. Lösung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass ihr Eisessig und bzw. oder zusätzliches Wasser in einer Menge bis zu 20 Vol.-% EMI2.4 sprüche, dadurch gekennzeichnet, dass sie enthält: 10-30% Arsensäure, 20-300/0 Phosphorsäure, 30-50% Essigsäure, 10-15% Salpetersäure und bis zu 10% Wasser.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB206248X | 1957-08-20 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| AT206248B true AT206248B (de) | 1959-11-10 |
Family
ID=10149017
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| AT535358A AT206248B (de) | 1957-08-20 | 1958-07-29 | Lösung zum chemischen Polieren von Kupfer und seinen Legierungen |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| AT (1) | AT206248B (de) |
-
1958
- 1958-07-29 AT AT535358A patent/AT206248B/de active
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