AT140473B - Verfahren zur Herstellung von auch für Offsetdruck geeigneten Flachdruckplatten. - Google Patents

Description

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  Verfahren zur Herstellung von auch finir   Offsetdruck geeigneten Nachdruckplatten.   



   Um Metallplatten mit einer für Flachdruckzwecke geeigneten   Oberfläche   zu versehen, wurden bisher hauptsächlich drei Wege eingeschlagen :
1. Man versuchte gepulverten Lithographiestein mechanisch auf Metall und Papier aufzubringen 
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 bröckelten ab und wären z. B. für Rotationsdruck, weil nicht   biegefähig, gänzlich   ungeeignet. 



   2. Die um 1900 von Strecker vorgeschlagenen Verfahren zur Schichtbildung auf Metallen, welche unter der   Voraussetzung "dass   die Lokalaetionen und Autoelektrolyse, sowie die Autooxydation als 
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 Ketten und führten zu der jetzt allgemein zur Schichtbildung auf Zink-jedoch ohne Strom-ver-   wendeten Streekerätze",   in der die seinerzeit im Elektrolyten verwendeten   Salzgemische   (Fluoride, Phosphate, Nitrate, kieselfluorwasserstoffsaure Salze mit Oxydationsmitteln und Gummi arabieum) nur perzentuell abgeändert enthalten sind. Die   Stromwirkung   war für das Zustandekommen der Schichten belanglos, da durch die Einwirkung der verwendeten   Salzgemische   auf Metall (Zink, Aluminium) auf jeden Fall auch ohne Stromeinwirkung eine   Sehichtbildung   erfolgt.

   Ausserdem liegen die Zersetzungsspannungen der nach den vorerwähnten Patenten verwendeten Salze alle höher als die angegebenen 
Badspannungen. Eine galvanische Kettenbildung endlich käme nur bei Anwendung elektronegativerer
Metalle in Frage, um anodisehe Wirkung zu erzielen. Als solche kämen für Zink und Aluminium nur
Natrium, Kalium u. dgl. in Betracht, die jedoch wegen ihrer sonstigen Eigenschaften nicht verwendbar sind. Die Schichtbildung war also auch bereits ursprünglich rein chemischer Natur. Unter rein chemisch ist hier zu verstehen : ohne Verwendung einer äusseren Stromquelle. 



   3. Auf chemischem Wege erzielt man nur dünne, Feuchtwasser und Gummi nur wenig aufnehmende
Schichten, da die gebildete Schichte das Metall sofort vor weiterem Angriff der Ätze   schützt.   In Verwendung sind z. B.   Streekerätze,   Galläpfelabsud für Zink, Phosphorsäure für Aluminium. Die durch Ätzen erzielbaren Schichten sind zu dünn, um allein zu einem zufriedenstellenden Druckergebnis zu führen, weshalb die chemisch geätzten Druckplatten auf umständliche kostspielige, zeitraubende Weise in   Schüttelmaschinen   mit Schleifsand und Kugeln sorgfältig gekörnt und nach Aufbringen des Druckbildes geätzt werden müssen.

   So erzeugte Platten neigen wegen ihrer geringen Aufnahmsfähigkeit für Gummi und Feuchtwasser zum Schmieren, die Körnung ist leicht verletzbar und stört durch ihre Eigenstruktur bei feinen Linien und Rasterdrucken. Das von Strecker (D. R. P. Nr. 159885) vorgeschlagene Abätzen der Oberfläche von Walzzink bedeutet elektrochemische Reinigung und Rauhung der Oberfläche, die einer weiteren chemischen Ätzung zur Schichtbildung unterworfen werden müsste, um für Flachdruck verwendbar zu sein. Da die eventuell erhaltene Körnung lediglich von der   Metallstruktur   abhängt, ist eine Variation der Korngrösse schwer, wenn nicht unmöglich erreichbar. 



   Elektrolytische Verfahren zur Erzeugung von Schichten auf Metallen sind an sich bekannt. So werden   z.   B. Fremdmetalle als   umporöse     Oxydschichten   für   Abdeekzwecke   bei   Metallatzungen   erzeugt (D. R. P. Nr. 448554, Rieder, Blei und Manganoxydschichten), ferner   Isolations-und Korrosionssehutz-   schichten (österr. Patentschrift Nr. 95759, Dr.   Hansgirg).   Alle diese Verfahren arbeiten mit hohen
Spannungen und Stromstärken und haben den Zweck, möglichst porenfreie, glasartige Schichten zu erzeugen, die Stromwirkungen und Feuchtigkeit und chemischen Einflüssen den Zutritt zum Metall verwehren.

   Da so erzeugte Schichten Wasser nicht oder nur sehr wenig aufnehmen und festhalten dürfen, sind sie für die Herstellung von Druckplatten, bei denen grosse   Aufnahmsfähigkeit für Gummi   und Feuchtwasser Hauptbedingung ist, nicht verwendbar, um so weniger, als für Druckzwecke geeignete poröse
Schichten, entsprechend den relativ grossen Dimensionen kolloidaler Teilchen (Gummi arabicum) bedeutende Porengrössen aufweisen müssen. 



   Elektrolytische Verfahren zur Bildung von nicht aus blankem Metall bestehenden, sondern lithographiesteinartigen Schichten auf Metallen für Flachdruckzwecke wurden bisher weder vorgeschlagen, noch angewendet. Unter lithographiesteinartige Schicht ist im vorliegenden Zusammenhang zu verstehen eine weder Fett noch Wasser abstossende Schicht, die dem geschliffenen und gekörnten für Fett und Wasser empfänglichen Stein vor dem Gummieren, Ätzen und Aufbringen der Fettfarbe, also dem Stein, wie er vor der eigentlichen drucktechnischen Behandlung vorliegt, entspricht. 



   Den Erfordernissen des Flachdruckes wurde bisher am besten der Lithographiestein gerecht. 



  Durch seine von Natur aus poröse Struktur nimmt er Gummi und Feuchtwasser gut an, die Farbe wird in den Poren ebenfalls gut festgehalten, zum Teile sogar chemisch gebunden. Die Ätzung kann   ziemlich   schwach sein, da sie nur die Poren des Steines von mechanischen Verunreinigungen, wie Schleifstaub, zu reinigen hat. Bei den als Ersatz verwendeten Metallen (Zink und Aluminium) dagegen versucht man 

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 die Porosität des Steines durch Kornbildung zu ersetzen ; das Ätzen hat die Aufgabe, eine Schichte, in der Gummi und Feuchtwasser etwas Halt finden, zu erzeugen. Die'Farbe dagegen befindet sich auf dem Metalle selbst. 



   Vorliegendes Verfahren bezweckt, auf glatten, ungekörnten Metalloberflächen beliebig starke, aufnahmskräftige und für   Flachdruekzwecke   entsprechend poröse Schichten auf elektrolytischem Wege durch anodische Formierung zu erzeugen. 



   Es zeigte sich nun, dass Schichten von derartigen Eigenschaften bei Anwendung geringer Spannungen (die beträchtlich unter der Grenze liegen, bei der man Schichtbildung überhaupt für möglich hielt ; Förster, Elektro-Chemie, S. 441) zu erhalten sind. 



   Für Aluminium verwendet man z. B.   % % ige Salpetersäure, Amp./tK ?   bei zirka 7 Volt Wechselstrom. 



   Für Zink z. B. eine gesättigte   (37% ige) Soda-oder gesättigte Pottaschelösung, Stromdichte   1-2   Amp./,   Spannung zirka 10-12 Volt Gleichstrom. 



   Bei Anwendung von Gleichstrom für Aluminium ist die Stromausbeute geringer. 



   Da nach vorliegendem Verfahren auch gewöhnliches Handelszink verwendet werden kann, empfiehlt sich für Zink Gleichstrom, der die Verunreinigungen des Materials (Blei, Eisen, Cadmium) kathodisch niederschlägt und dadurch, dass das Bad rein bleibt, die Erzeugung einer reinen Schicht ermöglicht. 
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