JP2006147840A5 - - Google Patents

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  1. 厚肉部と、前記厚肉部の端面上に一体的に架設された薄肉ダイヤフラム部、及び、前記厚肉部及び前記薄肉ダイヤフラム部によって外部に連通するように形成された空洞とからなるセラミック基体、及び
    前記セラミック基体の薄肉ダイヤフラム部の外表面上に固定された層構造からなる下部電極、圧電/電歪膜及び上部電極を含む圧電/電歪素子
    とから構成され、
    前記セラミック基体の薄肉ダイヤフラム部が、前記圧電/電歪素子の駆動に連動して振動することが可能であり、
    下記(A)〜(C)に規定された形状及び寸法関係を満たすことを特徴とする圧電/電歪デバイス。
    (A)前記薄肉ダイヤフラム部の形状が、外方に凸のアーチ形状であり、かつ前記アーチ形状の外方への突出量が、5〜50μmであること、
    (B)前記薄肉ダイヤフラム部の架設幅が、600〜2000μmであること、
    (C)前記厚肉部の高さの、その幅に対する割合(高さ/幅)が、0.25〜3であること。
  2. 前記薄肉ダイヤフラム部及び薄肉ダイヤフラム部の外表面上に固定された圧電/電歪素子をそれぞれ2以上有し、前記薄肉ダイヤフラム部及び前記圧電/電歪素子が、第1の平面上及び前記第1の平面に平行な第2の平面上にそれぞれ配設されてなる請求項1に記載の圧電/電歪デバイス。
  3. 前記薄肉ダイヤフラム部及び薄肉ダイヤフラム部の外表面上に固定された圧電/電歪素子をそれぞれ2以上有し、前記薄肉ダイヤフラム部及び前記圧電/電歪素子が、第1の平面上、前記第1の平面に平行な第2の平面上及び前記第1の平面に垂直な第3の平面上にそれぞれ配設されてなる請求項1に記載の圧電/電歪デバイス。
  4. 前記圧電/電歪素子が、膜形成手法にて形成されたものであるとともに、前記圧電/電歪素子の構成材料が、前記薄肉ダイヤフラム部の外表面上に配設された後、熱処理されて、前記薄肉ダイヤフラム部の外表面上に固定されることによって得られてなる請求項1〜3のいずれか1項に記載の圧電/電歪デバイス。
  5. 前記セラミック基体の前記薄肉ダイヤフラム部の厚さが100μm以下である請求項1〜4のいずれか1項に記載の圧電/電歪デバイス。
  6. 前記薄肉ダイヤフラム部の外形形状が、アスペクト比が1.5以上の、長方形、長円形、又は楕円形である請求項1〜5のいずれか1項に記載の圧電/電歪デバイス。
  7. 前記上部電極の中心と前記薄肉ダイヤフラム部の中央とのずれが、前記薄肉ダイヤフラム部の長さ方向において、該薄肉ダイヤフラム部の長さに対し5%以下、該薄肉ダイヤフラム部の幅方向において、該薄肉ダイヤフラム部の幅に対し10%以下である請求項1〜6のいずれか1項に記載の圧電/電歪デバイス。
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Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006096549A2 (en) * 2005-03-04 2006-09-14 Omniprobe, Inc. Apparatus and method for automated stress testing of flip-chip packages
JP5088916B2 (ja) * 2005-10-28 2012-12-05 富士フイルム株式会社 無機膜基板の製造方法
JP4539992B2 (ja) * 2006-06-07 2010-09-08 東芝テック株式会社 インクジェット記録装置
KR100819933B1 (ko) * 2006-06-20 2008-04-10 (주)제이엠씨 돔형의 압전박막 소자 및 그 제조방법
JP4611251B2 (ja) * 2006-07-04 2011-01-12 日本碍子株式会社 流体特性測定装置
KR101069927B1 (ko) * 2009-02-25 2011-10-05 삼성전기주식회사 잉크젯 헤드
JP5669452B2 (ja) * 2009-07-28 2015-02-12 キヤノン株式会社 振動体の製造方法
CN101998216A (zh) * 2009-08-28 2011-03-30 友泰讯科(北京)科技有限公司 一种扬声器和便携式电子设备
US8261618B2 (en) * 2010-11-22 2012-09-11 General Electric Company Device for measuring properties of working fluids
CN102290527B (zh) * 2011-09-22 2013-03-20 中国科学院上海硅酸盐研究所 一种弯曲形压电单晶片的制备方法
JP6182968B2 (ja) 2012-08-14 2017-08-23 株式会社リコー 電気機械変換素子、液滴吐出ヘッド、画像形成装置及び電気機械変換素子の製造方法
JP5497222B2 (ja) * 2012-09-28 2014-05-21 バンドー化学株式会社 静電容量型センサシート及び静電容量型センサシートの製造方法
JP6172437B2 (ja) * 2013-03-13 2017-08-02 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置
JP6332738B2 (ja) 2013-06-19 2018-05-30 株式会社リコー アクチュエータ及びその製造方法、並びに、そのアクチュエータを備えた液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置及び画像形成装置
US9835511B2 (en) * 2015-05-08 2017-12-05 Rosemount Aerospace Inc. High temperature flexural mode piezoelectric dynamic pressure sensor
DE102016114566A1 (de) * 2015-08-10 2017-02-16 Bürkert Werke GmbH Folienwandler und Aktorstreifen für einen Folienwandler
CN105032717B (zh) * 2015-09-18 2017-10-17 京东方科技集团股份有限公司 一种封框胶涂布喷嘴及封框胶涂布装置
CN205847241U (zh) * 2016-05-19 2016-12-28 瑞声科技(新加坡)有限公司 电子设备
CN107396275B (zh) * 2017-07-21 2019-05-17 维沃移动通信有限公司 一种振幅检测装置、方法及移动终端
CN107520110A (zh) * 2017-07-31 2017-12-29 瑞声科技(新加坡)有限公司 压电超声换能器及其制备方法
CN109572261A (zh) * 2018-10-17 2019-04-05 东莞福哥电子有限公司 一种弧面型碳膜印刷层的制作方法
US20220069737A1 (en) * 2018-11-29 2022-03-03 The Trustees Of Dartmouth College Electrostatic-actuator-based, tunable, soft robots
CN110756418A (zh) * 2019-10-29 2020-02-07 海鹰企业集团有限责任公司 调节高频曲面换能器频率的方法
JP2023042043A (ja) * 2021-09-14 2023-03-27 日清紡ホールディングス株式会社 圧電体デバイス
JP2023042042A (ja) * 2021-09-14 2023-03-27 日清紡ホールディングス株式会社 圧電体デバイス

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3162584B2 (ja) * 1994-02-14 2001-05-08 日本碍子株式会社 圧電/電歪膜型素子及びその製造方法
US5545461A (en) * 1994-02-14 1996-08-13 Ngk Insulators, Ltd. Ceramic diaphragm structure having convex diaphragm portion and method of producing the same
US6049158A (en) * 1994-02-14 2000-04-11 Ngk Insulators, Ltd. Piezoelectric/electrostrictive film element having convex diaphragm portions and method of producing the same
JP3313531B2 (ja) * 1994-06-03 2002-08-12 日本碍子株式会社 圧電/電歪膜型素子及びその製造方法
CN1050008C (zh) * 1994-08-11 2000-03-01 日本碍子株式会社 压电/电致伸缩膜元件及其制作方法
CN1050229C (zh) * 1994-08-11 2000-03-08 日本碍子株式会社 压电/电致伸缩膜元件及其制作方法
JP3366158B2 (ja) * 1994-09-06 2003-01-14 日本碍子株式会社 セラミックダイヤフラム構造体及びその製造方法
JP3471447B2 (ja) * 1994-11-16 2003-12-02 日本碍子株式会社 セラミックダイヤフラム構造体およびその製造方法
JP3388060B2 (ja) 1994-11-25 2003-03-17 日本碍子株式会社 流体の特性測定用素子及び流体の特性測定装置
JP3501860B2 (ja) * 1994-12-21 2004-03-02 日本碍子株式会社 圧電/電歪膜型素子及びその製造方法
JPH09164674A (ja) * 1995-12-15 1997-06-24 Minolta Co Ltd インクジェット記録装置
EP0810676B1 (en) * 1996-05-27 2002-08-28 Ngk Insulators, Ltd. Piezoelectric film-type element
JP3589560B2 (ja) * 1998-01-27 2004-11-17 株式会社リコー インクジェットヘッド及びその製造方法
JP3462400B2 (ja) * 1998-09-14 2003-11-05 日本碍子株式会社 セラミックダイヤフラム構造体の製造方法
US6407481B1 (en) * 1999-03-05 2002-06-18 Ngk Insulators, Ltd. Piezoelectric/electrostrictive device having convexly curved diaphragm
JP2000334946A (ja) * 1999-05-28 2000-12-05 Ricoh Co Ltd インクジェットヘッド及びインクジェット記録装置
US6404109B1 (en) * 1999-10-01 2002-06-11 Ngk Insulators, Ltd. Piezoelectric/electrostrictive device having increased strength
JP3728623B2 (ja) * 2001-03-02 2005-12-21 日本碍子株式会社 圧電/電歪膜型素子

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