WO2024095862A1 - 金属有機構造体 - Google Patents
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Definitions
- the present invention relates to a metal-organic framework.
- Metal organic frameworks also known as porous coordination polymers, are a type of material that form porous structures through coordination bonds between metal ions and organic ligands, and are expected to be used for gas adsorption/desorption, catalysis, etc.
- Patent Document 1 discloses a metal organic structure including a metal ion, a first ligand, a second ligand, and an optional third ligand, in which the metal ion is an aluminum ion, the first and second ligands are organic compound ions consisting of a heterocycle having two carboxy groups, the angle between the heteroatom and the carboxy group satisfies a specified condition, the third ligand is an organic compound ion having two carboxy groups, and the abundance ratio of the first to third ligands is within a specified range.
- MOFs Metal-organic frameworks
- adsorbing substances such as water, carbon dioxide, and hydrogen
- a specified temperature to desorb the adsorbed substances from the MOF.
- the present invention aims to provide an MOF with excellent desorption performance.
- the organic ligand comprises at least one organic ligand represented by the formula R(COO-) n , where R is an aromatic hydrocarbon group or pyrrole, and may have a functional group X which is -OH, -NH2 or -S-S-, and n is 2 or more and 3 or less;
- the metal organic structure, wherein the metal ion is an ion of at least one metal selected from the group consisting of Al, Ga, In, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Cu, Zr, and Hf.
- the cross section ab is a cut surface of the through hole Pmax in a surface parallel to the a-b surface of the unit lattice, and is a surface cut with the through hole Pmax penetrating through, and when there are a plurality of cross sections through which the through hole Pmax can be cut out in a penetrating state, the cross section with the largest overlap with the through hole Pmax is called the cross section ab.
- the cross section ab is replaced with the cross section bc and the a-b surface is replaced with the bc surface to obtain the cross section bc
- the cross section ab is replaced with the cross section ca and the a-b surface is replaced with the c-a surface to obtain the cross section ca.
- the present invention can improve the desorption performance of MOFs.
- FIG. 1 shows an example of the crystal structure of the MOF of Example 3, displayed as a space-filling model, observed from one direction.
- FIG. 13 is an example of the crystal structure of the MOF of Example 3 displayed as a space-filling model, observed from a different direction.
- FIG. 13 is an example of the crystal structure of the MOF of Example 3 displayed as a space-filling model, observed from yet another direction.
- FIG. 1 is a diagram showing the maximum hole diameter L and the minimum hole diameter S of a through hole Pmax .
- the MOF of the present invention is composed of organic ligands and metal ions, has a porosity of 20-75%, and has a ratio of maximum pore size L to minimum pore size S (maximum pore size L/minimum pore size S) determined by a specified procedure of 1.06 or more.
- maximum pore size L/minimum pore size S determined by a specified procedure of 1.06 or more.
- the porosity of the MOF of the present invention is 20 to 75%, preferably 25% or more, more preferably 30% or more, even more preferably 40% or more, and is preferably 70% or less, more preferably 65% or less, even more preferably 60% or less. From the viewpoint of increasing the desorption amount, the porosity may be 30% or more and 45% or less.
- the porosity can be obtained by measuring the MOF of the present invention by XRD (X-ray diffraction), obtaining a cif (Crystallo- graphic Information File) file, reading it into software called Mercury (The Cambridge Crystallographic Data Centre), and based on the obtained information, inputting a probe radius of 1.5 ⁇ and an approximate grid spacing of 0.7 ⁇ for the void contact surface.
- XRD X-ray diffraction
- Mercury The Cambridge Crystallographic Data Centre
- Ratio of maximum pore diameter L to minimum pore diameter S (maximum pore diameter L/minimum pore diameter S)
- the ratio of maximum pore size L/minimum pore size S is 1.06 or more, preferably 1.09 or more, more preferably 1.11 or more, even more preferably 1.17 or more, and most preferably 2. It is preferably 0 or more and 4.0 or less, more preferably 3.5 or less, and further preferably 3.0 or less.
- the maximum pore size L/minimum pore size S is determined by the following steps (a1) to (a3).
- a crystal structure determined by X-ray crystal structure analysis is displayed as a space-filling model, the outer periphery of the through hole is displayed without being missing, the presence or absence of a through hole is observed from all directions, and the through hole Pmax with the maximum diameter of the inscribed circle is identified.
- X-ray crystal structure analysis is performed by XRD measurement to obtain a cif file, and when the cif file is read into the Mercury, a single space-filling model (crystal structure) is obtained.
- Figures 1 to 3 show the state when the obtained crystal structure is rotated and the through hole is observed from a predetermined direction.
- Figure 3 shows an inscribed circle 11 when the through hole is observed from the direction shown in Figure 3, and such an inscribed circle is identified for all the through holes observed from each direction, and the through hole Pmax with the largest diameter of the inscribed circle among all the observed through holes is identified.
- the cross section ab is a cut surface of the through hole Pmax in a plane parallel to the a-b plane of the unit lattice, and is a plane cut with the through hole Pmax penetrating through.
- the cross section bc is a cross section obtained by replacing the cross section ab with the cross section bc and replacing the ab plane with the bc plane in the above-mentioned cross section ab.
- the cross section ca is a cross section obtained by replacing the cross section ab with the cross section ca and the ab plane with the ca plane. The observation regions in these cross sections ab, bc, and ca follow the observation regions in step (a1).
- the maximum length of the inner diameter of the through hole Pmax cut along a line perpendicular to the central axis of the through hole Pmax is found, and the maximum of the maximum lengths of the cross sections ab, bc, and ca is defined as the maximum hole diameter L of the through hole Pmax .
- the minimum length of the inner diameter of the through hole Pmax cut along a line perpendicular to the central axis of the through hole Pmax is defined as the minimum hole diameter S.
- FIG. 4 shows a cross section 21 (any of cross sections ab, bc, or ca) on which the maximum hole diameter L25 of the through hole P max 22 was determined.
- 23a and 23b are the outer periphery of the through hole P max 22, and 24 is the central axis of the through hole P max 22.
- 26 which is the minimum length of the inner diameter of the through hole P max 22 cut by a line perpendicular to the central axis 24 of the through hole P max 22, is the minimum hole diameter S.
- maximum pore size L/minimum pore size S determined in this way being 1.06 or more means that the shape of the through-hole is tortuous, and the surface area inside the through-hole is large, which is thought to make it easier for substances such as water, carbon dioxide, and hydrogen to be adsorbed.
- the values of the maximum pore diameter L and the minimum pore diameter S are not limited as long as the maximum pore diameter L/minimum pore diameter S is 1.06 or more, but the maximum pore diameter L is, for example, 2.5 to 20 ⁇ , and the minimum pore diameter S is, for example, 1.5 to 15 ⁇ .
- the metal ions constituting the MOF are ions of at least one metal selected from the group consisting of Al, Ga, In, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Cu, Zr and Hf, preferably at least one metal ion selected from the group consisting of Al, Ga, In, Ti, V, Co, Zr and Hf, more preferably at least one metal ion selected from the group consisting of Al, Ga, In, Ti, V, Zr and Hf, even more preferably at least one metal ion selected from the group consisting of Al, In and Ti, and particularly preferably Al ions, or In and/or Ti ions.
- the organic ligands constituting the MOF include at least one organic ligand which is a group (carboxylate) represented by R(COO ⁇ ) n , where R is an aromatic hydrocarbon group or pyrrole, and which may have a functional group X which is —OH, —NH2 or —S—S—, and n is 2 or more and 3 or less.
- R is an aromatic hydrocarbon group or pyrrole
- Preferred ranges of the number of carbon atoms in the aromatic hydrocarbon group are, in order, 6 or more and 30 or less, 6 or more and 24 or less, 6 or more and 18 or less, 6 or more and 12 or less, and 6 or more and 10 or less.
- Specific examples include groups in which n hydrogen atoms (preferably 2 or 3) have been removed from benzene or biphenyl and which may contain a functional group X (particularly -OH, -NH2 or -S-S-).
- R(COO ⁇ ) n is a compound in which n protons have been eliminated from R(COOH) n .
- the dicarboxylic acid is preferably at least one selected from the group consisting of isophthalic acid, 1H-pyrrole-2,5-dicarboxylic acid, terephthalic acid, 2-aminoterephthalic acid, 2,2'-dithiodibenzoic acid, and 4,4'-dihydroxybiphenyl-3,3'-dicarboxylic acid.
- R(COOH) n those where n is 3, i.e., tricarboxylic acids, include trimellitic acid, trimesic acid (benzene tricarboxylate), biphenyl-3,4',5-tricarboxylic acid, 1,3,5-tris(4-carboxyphenyl)benzene, etc., of which trimellitic acid, benzene tricarboxylate, or 1,3,5-tris(4-carboxyphenyl)benzene is preferred, and benzene tricarboxylate is particularly preferred.
- R is any one of the following (A-1) to (A-10).
- At least one of the hydrogen atoms bonded to the carbon atom may be substituted with -OH or -NH2 , and -X- represents -S-S- or a single bond.
- the organic ligand constituting the MOF of the present invention may further contain an organic ligand of a type different from the carboxylate represented by R(COO ⁇ ) n described above.
- organic ligand include at least one selected from the group consisting of urea, pyrazine, oxazole, isoxazole, thiazole, imidazole, pyrazole, 1,2,3-thiadiazole, pyridazine, pyrimidine, purine, pteridine, 2,2′-bipyridine, and 4,4′-bipyridine, with 4,4′-bipyridine being particularly preferred.
- the molar ratio of metal ions to organic ligands (total amount when multiple types are used) (metal ions/organic ligands) is preferably 0.1 or more, more preferably 0.3 or more, even more preferably 0.5 or more, particularly preferably 0.9 or more, and preferably 5 or less, more preferably 4 or less, even more preferably 3 or less, particularly preferably 2.5 or less.
- the molar ratio is particularly preferably 0.9 or more and 4 or less, and most preferably 0.9 or more and 2.5 or less.
- the MOF of the present invention can be obtained by reacting a metal compound containing the metal ions constituting the MOF with one or more organic compounds that serve as organic ligands constituting the MOF in a solvent.
- a metal compound containing the metal ions constituting the MOF with one or more organic compounds that serve as organic ligands constituting the MOF in a solvent.
- solution A in which either a metal compound containing metal ions or an organic compound serving as an organic ligand is completely dissolved in a solvent, and then drip the other (it is also preferable to drip solution B in which the other is also dissolved in a solvent).
- solution X in which both a metal compound containing metal ions and an organic compound serving as an organic ligand are completely dissolved in a solvent, and drip a metal compound or organic compound of a different kind from the metal compound and organic compound in solution X, or drip solution Y in which a metal compound or organic compound of a different kind from the metal compound and organic compound in solution X is completely dissolved in a solvent.
- the temperature of the dripping is preferably room temperature (specifically, about 20 to 30°C). It is also preferable to drip the amount of the metal compound or organic compound to be dripped so that it is 1.0 mmol/min or less.
- the dripping speed is preferably 0.8 mmol/min or less, and may be 0.01 mmol/min or more, preferably 0.1 mmol/min or more, and more preferably 0.3 mmol/min or more. In particular, it is preferable to drop a metal compound or a liquid in which a metal compound is dissolved in a solvent into a liquid in which an organic compound is dissolved in a solvent, and it is even more preferable to drop the metal compound at the above-mentioned dropping speed.
- the metal compound containing the metal ion that constitutes the MOF is preferably a metal sulfate, nitrate, acetate, chloride, bromide or alkoxide.
- the organic compound serving as the organic ligand constituting the MOF preferably contains one or more selected from the group consisting of polyvalent carboxylic acids represented by R(COOH) n .
- R and n are the same as R and n in the carboxylate represented by R(COO ⁇ ) n described above, and all of the above descriptions of R and n, including preferred embodiments, can be referred to.
- the organic compound serving as the organic ligand preferably contains a dicarboxylic acid or a tricarboxylic acid, and specific examples thereof, including preferred ranges thereof, can be referenced to the dicarboxylic acids or tricarboxylic acids described in the carboxylate represented by R(COO ⁇ ) n .
- the organic compound to be the organic ligand in addition to one or more selected from the group consisting of polyvalent carboxylic acids represented by R(COOH) n , it is preferable to use at least one selected from the group consisting of urea, pyrazine, oxazole, isoxazole, thiazole, imidazole, pyrazole, 1,2,3-thiadiazole, pyridazine, pyrimidine, purine, pteridine, 2,2'-bipyridine, and 4,4'-bipyridine.
- an alkali metal hydroxide or an alkali metal azide as the inorganic compound to be the inorganic ligand.
- the MOF may contain an inorganic ligand that is OH - , O 2- , or OH 2 due to the solvent that dissolves the metal compound or organic compound, moisture in the air, or the like.
- the solvent for dissolving the metal compound containing the metal ion or the organic compound that serves as the organic ligand is preferably water; an alcohol solvent such as methanol or ethanol; or an amide solvent such as dimethylformamide, and one of these may be used alone or two or more of them may be mixed together.
- the ratio of the metal compound to the solvent in these solutions is preferably 0.01 mol/L or more, more preferably 0.1 mol/L or more, even more preferably 0.18 mol/L or more, and preferably 1 mol/L or less, more preferably 0.7 mol/L or less, even more preferably 0.5 mol/L or less, and particularly preferably 0.370 mol/L or less.
- the ratio is particularly preferably 0.18 mol/L or more and 0.5 mol/L or less, and most preferably 0.18 mol/L or more and 0.370 mol/L or less.
- the ratio of the organic compound to the solvent in each of these solutions is preferably 0.01 mol/L or more, more preferably 0.1 mol/L or more, even more preferably 0.2 mol/L or more, and is preferably 1.5 mol/L or less, more preferably 1 mol/L or less, even more preferably 0.7 mol/L or less.
- the ratio of the inorganic compound to the solvent in each of these solutions is preferably 0.05 mol/L or more and 1 mol/L or less.
- the molar ratio of the metal compound containing the metal ion to the organic compound that serves as the organic ligand can be adjusted so that the ratio of the molar amount of the metal atom in the metal compound to the molar amount of the organic compound is equal to the molar ratio of the metal ion to the organic ligand described above.
- DMF dimethylformamide
- solution A the ratio of isophthalic acid to the solvent was 1.29 mol/L
- solution B the ratio of Al 2 (SO 4 ) 3.nH 2 O to the solvent was 0.369 mol/L, and the drop rate of Al 2 (SO 4 ) 3.nH 2 O was 0.739 mmol/min.
- the mixture was then refluxed at 125° C. for 24 hours to obtain a suspension. This was decanted, and the precipitated solid was washed three times with 10 ml of water by centrifugation, and the obtained filter cake was dried in a vacuum drying oven at 80°C for 24 hours, 100°C for 24 hours and 120°C for 48 hours to obtain 0.66 g of a product (yield 99%).
- Example 3 In a 50 mL SUS-304 pressure vessel (including a Teflon (registered trademark) inner cylinder), 3.000 mmol of 2-aminoterephthalic acid was completely dissolved in 25 mL of a 1/1 (volume ratio) mixture of dimethylformamide (DMF) and MeOH to obtain solution A. 1.518 mmol of Ti[OCH(CH 3 ) 2 ] 4 was added dropwise to the solution at 25° C. over 20 minutes, and the solution was stirred for 5 minutes with a stirrer chip inserted. In solution A, the ratio of 2-aminoterephthalic acid to the solvent was 0.12 mol/L, and the drop rate of Ti[OCH(CH 3 ) 2 ] 4 was 0.0759 mmol/min.
- SUS-304 pressure vessel including a Teflon (registered trademark) inner cylinder
- Example 4 In a 50 mL vial, 5 ml of DMF was added to 2.496 mmol of terephthalic acid, and the mixture was stirred with a stirrer chip to completely dissolve the acid, obtaining solution A. Separately, 5 ml of dimethylformamide (DMF) was added to 2.654 mmol of indium nitrate (III) hydrate, and then 2 ml of ethanol was added and the mixture was completely dissolved with a stirrer chip to obtain solution B. Solution B was added dropwise to solution A over 20 minutes and stirred for 20 minutes.
- DMF dimethylformamide
- III indium nitrate
- Example 5 In a 1L eggplant flask, 3.05 mmol of cobalt(II) chloride hexahydrate, 10.42 mmol of 2,2'-dithiodibenzoic acid, 10.40 mmol of sodium azide, and 150 mL of DMF were mixed at 25°C and completely dissolved to obtain solution A. Separately, 3.08 mmol of benzene tricarboxylate, 3.10 mmol of 4,4'-bipyridine, and 150 mL of ethanol were mixed and completely dissolved to prepare solution B, which was then added dropwise to solution A at 25°C over 3 hours.
- Example 6 In a 100 mL SUS-304 pressure vessel (including a Teflon (registered trademark) inner cylinder), 7.483 mmol of terephthalic acid was completely dissolved in 25 mL of a mixture of dimethylformamide (DMF) and MeOH at a ratio of 9/1 (volume ratio) to obtain solution A. This solution A was added dropwise to 4.523 mmol of Ti[OCH(CH 3 ) 2 ] 4 at 25 ° C. over 30 minutes, mixed, and stirred for 5 minutes with a stirrer tip. In solution A, the ratio of terephthalic acid to the solvent was 0.299 mol / L, and the dropping rate of terephthalic acid was 0.249 mmol / min.
- DMF dimethylformamide
- the obtained precipitated solid was washed and filtered three times with 30 mL of DMF and three times with 30 mL of methanol, and the obtained filter cake was dried under reduced pressure at 80° C. for 24 hours in a vacuum drying oven to obtain 0.65 g of the product (yield 48.2%).
- solution A the ratio of 2,5-furandicarboxylic acid to the solvent was 0.336 mol/L
- solution B the ratio of AlCl 3 ⁇ 6H 2 O to the solvent was 0.504 mol/L, and the drop rate of AlCl 3 ⁇ 6H 2 O was 0.168 mmol/min.
- the mixture was then refluxed at 25° C. for 18 hours to obtain a suspension.
- the obtained precipitated solid was centrifuged and washed three times with 50 mL of water, and the obtained cake was dried in a vacuum drying oven at 80° C. for 24 hours to obtain a product.
- the MOF of the present invention is suitable for use in, for example, adsorption and removal of gases and organic molecules.
- gases include water (water vapor), carbon dioxide, hydrogen, carbon monoxide, oxygen, nitrogen, hydrocarbons with 1 to 4 carbon atoms, rare gases, hydrogen sulfide, ammonia, sulfur oxides, nitrogen oxides, and siloxanes.
- organic molecules examples include hydrocarbons with 5 to 8 carbon atoms, alcohols with 1 to 8 carbon atoms, aldehydes with 1 to 8 carbon atoms, carboxylic acids with 1 to 8 carbon atoms, ketones with 1 to 8 carbon atoms, amines with 1 to 8 carbon atoms, esters with 1 to 8 carbon atoms, and amides with 1 to 8 carbon atoms.
- the organic molecules may contain aromatic rings.
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Abstract
脱離性能に優れたMOFを提供することを目的とする。本発明は、所定の有機配位子と所定の金属イオンで構成される金属有機構造体であって、空隙率が20~75%であり、下記(a1)~(a3)の手順で決定される最大孔径Lと最小孔径Sの比率(最大孔径L/最小孔径S)が1.06以上である金属有機構造体である。 (a1)X線結晶構造解析によって決定される結晶構造をスペースフィリングモデルで表示し、所定の条件で貫通孔の有無を観察し、内接円の直径が最大となる貫通孔Pmaxを特定する。 (a2)前記貫通孔Pmaxの所定断面で貫通孔Pmaxの内径のうち最大長さを探し、貫通孔Pmaxの最大孔径Lを特定する。 (a3)前記最大孔径Lを決定した断面において、最小孔径Sを特定する。
Description
本発明は、金属有機構造体に関する。
金属有機構造体(Metal Organic Frameworks)は、多孔性配位高分子(Porous Coordination Polymer)とも呼ばれ、金属イオンと有機配位子との配位結合により多孔性の構造を形成する材料の一つであり、ガスを吸脱着したり、触媒等への応用が期待されている材料である。
例えば、特許文献1には、金属イオンと、第1の配位子と、第2の配位子と、随意の第3の配位子を含む金属有機構造体であって、金属イオンがアルミニウムイオンであり、第1及び第2の配位子が2つのカルボキシ基を有するヘテロ環からなる有機化合物イオンであり、ヘテロ原子とカルボキシ基がなす角が所定の条件を満たし、第3の配位子が2つのカルボキシ基を有する有機化合物イオンであり、第1~第3の配位子の存在割合が所定範囲である金属有機構造体が開示されている。
金属有機構造体(以下、MOFと呼ぶ場合がある)は、水、二酸化炭素、水素等の物質を吸着した後、所定温度に加熱して吸着した物質をMOFから脱離させて再生して使用することができるが、このとき吸着した物質を効率良く脱離できることが望まれる。
そこで、本発明は脱離性能に優れたMOFを提供することを目的とする。
上記課題を達成した本発明は以下の通りである。
[1]有機配位子と金属イオンで構成される金属有機構造体であって、
空隙率が20~75%であり、下記(a1)~(a3)の手順で決定される最大孔径Lと最小孔径Sの比率(最大孔径L/最小孔径S)が1.06以上であり、
前記有機配位子は、R(COO-)nであって、Rは芳香族炭化水素基又はピロールであり、-OH、-NH2又は-S-S-である官能基Xを有していてもよい基であり、nは2以上、3以下である有機配位子の少なくとも1種を含み、
前記金属イオンは、Al、Ga、In、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Cu、Zr及びHfよりなる群から選ばれる少なくとも1種の金属のイオンである金属有機構造体。
(a1)X線結晶構造解析によって決定される結晶構造をスペースフィリングモデルで表示し、貫通孔の外周が欠けることなく表示させ、全方向から貫通孔の有無を観察し、内接円の直径が最大となる貫通孔Pmaxを特定する。
(a2)前記貫通孔Pmaxの断面ab、断面bc、及び断面caのそれぞれの断面で、貫通孔Pmaxの中心軸と直交する線で切り取られる貫通孔Pmaxの内径のうち最大長さを探し、断面ab、断面bc、断面caそれぞれの最大長さのうち最大のものを貫通孔Pmaxの最大孔径Lとする。
ただし、断面abとは、単位格子のa-b面と平行な面での貫通孔Pmaxの切断面であって、貫通孔Pmaxが貫通した状態で切り取られる面であり、貫通した状態で貫通孔Pmaxを切り取ることが可能な複数の断面が存在する場合は、貫通孔Pmaxとの重なりが最も大きな断面を断面abという。また、前記断面abの特定において、断面abを断面bcと読み替え、かつa-b面をb-c面と読み替えたものが断面bcであり、断面abを断面caと読み替え、かつa-b面をc-a面と読み替えたものが断面caである。
(a3)前記最大孔径Lを決定した断面において、貫通孔Pmaxの中心軸と直交する線で切り取られる貫通孔Pmaxの内径のうち最小長さを最小孔径Sとする。
[2]最大孔径Lと最小孔径Sの比率(最大孔径L/最小孔径S)が4.0以下である[1]に記載の金属有機構造体。
[1]有機配位子と金属イオンで構成される金属有機構造体であって、
空隙率が20~75%であり、下記(a1)~(a3)の手順で決定される最大孔径Lと最小孔径Sの比率(最大孔径L/最小孔径S)が1.06以上であり、
前記有機配位子は、R(COO-)nであって、Rは芳香族炭化水素基又はピロールであり、-OH、-NH2又は-S-S-である官能基Xを有していてもよい基であり、nは2以上、3以下である有機配位子の少なくとも1種を含み、
前記金属イオンは、Al、Ga、In、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Cu、Zr及びHfよりなる群から選ばれる少なくとも1種の金属のイオンである金属有機構造体。
(a1)X線結晶構造解析によって決定される結晶構造をスペースフィリングモデルで表示し、貫通孔の外周が欠けることなく表示させ、全方向から貫通孔の有無を観察し、内接円の直径が最大となる貫通孔Pmaxを特定する。
(a2)前記貫通孔Pmaxの断面ab、断面bc、及び断面caのそれぞれの断面で、貫通孔Pmaxの中心軸と直交する線で切り取られる貫通孔Pmaxの内径のうち最大長さを探し、断面ab、断面bc、断面caそれぞれの最大長さのうち最大のものを貫通孔Pmaxの最大孔径Lとする。
ただし、断面abとは、単位格子のa-b面と平行な面での貫通孔Pmaxの切断面であって、貫通孔Pmaxが貫通した状態で切り取られる面であり、貫通した状態で貫通孔Pmaxを切り取ることが可能な複数の断面が存在する場合は、貫通孔Pmaxとの重なりが最も大きな断面を断面abという。また、前記断面abの特定において、断面abを断面bcと読み替え、かつa-b面をb-c面と読み替えたものが断面bcであり、断面abを断面caと読み替え、かつa-b面をc-a面と読み替えたものが断面caである。
(a3)前記最大孔径Lを決定した断面において、貫通孔Pmaxの中心軸と直交する線で切り取られる貫通孔Pmaxの内径のうち最小長さを最小孔径Sとする。
[2]最大孔径Lと最小孔径Sの比率(最大孔径L/最小孔径S)が4.0以下である[1]に記載の金属有機構造体。
本発明によれば、MOFの脱離性能を向上できる。
本発明のMOFは、有機配位子と金属イオンで構成され、空隙率が20~75%であり、所定の手順で決定される最大孔径Lと最小孔径Sの比率(最大孔径L/最小孔径S)が1.06以上である。空隙率が所定以上であると吸着した物質が脱離しやすく、また最大孔径L/最小孔径Sが所定以上であると、MOF内部の表面積が大きくなる傾向があり、水、二酸化炭素、水素等の物質を吸着しやすい。
1.空隙率
本発明のMOFの空隙率は、20~75%であり、好ましくは25%以上であり、より好ましくは30%以上であり、更に好ましくは40%以上であり、また70%以下が好ましく、より好ましくは65%以下であり、更に好ましくは60%以下である。また、脱離量を増加させる観点から、空隙率は、30%以上、45%以下であってもよい。
本発明のMOFの空隙率は、20~75%であり、好ましくは25%以上であり、より好ましくは30%以上であり、更に好ましくは40%以上であり、また70%以下が好ましく、より好ましくは65%以下であり、更に好ましくは60%以下である。また、脱離量を増加させる観点から、空隙率は、30%以上、45%以下であってもよい。
空隙率は、後記する実施例で示す通り、本発明のMOFをXRD(X-ray diffraction)測定し、cif(Crystallographic Information File)ファイルを取得し、Mercuryというソフトウェア(The Cambridge Crystallographic Data Centre)で読み込み、得られた情報をベースに、Void contact surfaceのprobe Radius 1.5Å、Approx. Grid Spacing:0.7Åと入力して得ることができる。
2.最大孔径Lと最小孔径Sの比率(最大孔径L/最小孔径S)
最大孔径L/最小孔径Sは、1.06以上であり、好ましくは1.09以上であり、より好ましくは1.11以上であり、更に好ましくは1.17以上であり、最も好ましくは2.0以上であり、また4.0以下であることが好ましく、より好ましくは3.5以下であり、更に好ましくは3.0以下である。
最大孔径L/最小孔径Sは、1.06以上であり、好ましくは1.09以上であり、より好ましくは1.11以上であり、更に好ましくは1.17以上であり、最も好ましくは2.0以上であり、また4.0以下であることが好ましく、より好ましくは3.5以下であり、更に好ましくは3.0以下である。
最大孔径L/最小孔径Sは、以下の手順(a1)~(a3)で決定される。
(a1)X線結晶構造解析によって決定される結晶構造をスペースフィリングモデルで表示し、貫通孔の外周が欠けることなく表示させ、全方向から貫通孔の有無を観察し、内接円の直径が最大となる貫通孔Pmaxを特定する。
上記空隙率の測定と同様に、XRD測定によってX線結晶構造解析を行って、cifファイルを取得し、当該cifファイルを前記Mercuryにて読み込むと、単一のスペースフィリングモデル(結晶構造)が得られる。
結晶構造のスペースフィリングモデルを取得した後、貫通孔の外周が欠けることなく表示させ、結晶構造を回転させて全方向から貫通孔の有無を観察する。図1~図3は、得られた結晶構造を回転させて、所定の方向から貫通孔を観察した際の様子を表す。図3では、図3に示した方向から貫通孔を観察した際の内接円11を示しており、各方向から観察される全ての貫通孔でこのような内接円を特定し、観察される全ての貫通孔の中で内接円の直径が最大となる貫通孔Pmaxを特定する。
(a1)観察される貫通孔の全てを、外周が欠けることなく観察するためには、まず1単位格子で観察を行い、外周の欠けた貫通孔が存在する場合には、単位格子の2×2×2倍の領域を表示させて観察すればよい。
(a1)観察される貫通孔の全てを、外周が欠けることなく観察するためには、まず1単位格子で観察を行い、外周の欠けた貫通孔が存在する場合には、単位格子の2×2×2倍の領域を表示させて観察すればよい。
(a2)次に、貫通孔Pmaxを後述の特定の断面ab、断面bc、及び断面caで観察する。
前記断面abとは、単位格子のa-b面と平行な面での貫通孔Pmaxの切断面であって、貫通孔Pmaxが貫通した状態で切り取られる面である。単位格子のa-b面と平行な面であって、貫通した状態で貫通孔Pmaxを切り取ることが可能な断面は複数存在する場合もあり、複数の断面が存在する場合は、貫通孔Pmaxとの重なりが最も大きな断面を断面abという。
断面bcとは、前記断面abの特定において、断面abを断面bcと読み替え、かつa-b面をb-c面と読み替えた断面である。
また、断面caとは、断面abを断面caと読み替え、かつa-b面をc-a面と読み替えた断面である。
なお、これら断面ab、bc、caでの観察領域は、手順(a1)における観察領域に従う。
前記断面abとは、単位格子のa-b面と平行な面での貫通孔Pmaxの切断面であって、貫通孔Pmaxが貫通した状態で切り取られる面である。単位格子のa-b面と平行な面であって、貫通した状態で貫通孔Pmaxを切り取ることが可能な断面は複数存在する場合もあり、複数の断面が存在する場合は、貫通孔Pmaxとの重なりが最も大きな断面を断面abという。
断面bcとは、前記断面abの特定において、断面abを断面bcと読み替え、かつa-b面をb-c面と読み替えた断面である。
また、断面caとは、断面abを断面caと読み替え、かつa-b面をc-a面と読み替えた断面である。
なお、これら断面ab、bc、caでの観察領域は、手順(a1)における観察領域に従う。
貫通孔Pmaxを断面ab、断面bc、及び断面caで観察した後、貫通孔Pmaxの中心軸と直交する線で切り取られる貫通孔Pmaxの内径のうち最大長さを探し、断面ab、断面bc、断面caそれぞれの最大長さのうち最大のものを貫通孔Pmaxの最大孔径Lとする。
(a3)更に、前記最大孔径Lを決定した断面において、貫通孔Pmaxの中心軸と直交する線で切り取られる貫通孔Pmaxの内径のうち最小長さを最小孔径Sとする。
図4は、貫通孔Pmax22の最大孔径L25を決定した断面21(断面ab、断面bc、及び断面caのいずれか)である。23a、23bは、貫通孔Pmax22の外周であり、24は貫通孔Pmax22の中心軸である。最大孔径L25を決定した断面21にて、貫通孔Pmax22の中心軸24と直交する線で切り取られる貫通孔Pmax22の内径のうち最小長さである26が最小孔径Sである。
このようにして決定される最大孔径L/最小孔径Sの値が1.06以上であることはすなわち、貫通孔の形状が曲がりくねった状態にあることを意味し、貫通孔内部の表面積が大きくなるため、水、二酸化炭素、水素等の物質を吸着しやすいと考えられる。
最大孔径L及び最小孔径Sのそれぞれの値は、最大孔径L/最小孔径Sが1.06以上である限り限定されないが、最大孔径Lは例えば2.5~20Åであり、最小孔径Sは例えば1.5~15Åである。
MOFを構成する金属イオンは、Al、Ga、In、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Cu、Zr及びHfよりなる群から選ばれる少なくとも1種の金属のイオンであり、Al、Ga、In、Ti、V、Co、Zr及びHfよりなる群から選ばれる少なくとも1種の金属のイオンであることが好ましく、Al、Ga、In、Ti、V、Zr及びHfよりなる群から選ばれる少なくとも1種の金属のイオンであることがより好ましく、Al、In、及びTiよりなる群から選ばれる少なくとも1種の金属のイオンであることが更に好ましく、Alイオンであること、又はIn及び/又はTiイオンであることが特に好ましい。
MOFを構成する有機配位子は、R(COO-)nで表される基(カルボキシレート)であって、Rは芳香族炭化水素基又はピロールであり、-OH、-NH2又は-S-S-である官能基Xを有していてもよい基であり、nは2以上、3以下である有機配位子の少なくとも1種を含む。
芳香族炭化水素基の炭素数の好ましい範囲は順に、6以上30以下、6以上24以下、6以上18以下、6以上12以下、6以上10以下であり、具体的にはベンゼン又はビフェニルからn個(2個または3個が好ましい)の水素原子を取り除いた基であって官能基X(特に-OH、-NH2または-S-S-)を含んでいてもよい基が挙げられる。
R(COO-)nは、R(COOH)nからプロトンがn個脱離したものである。
前記したR(COOH)nのうちnが2のもの、すなわちジカルボン酸としては、1,2-ベンゼンジカルボン酸(フタル酸)、1,3-ベンゼンジカルボン酸(イソフタル酸)、1,4-ベンゼンジカルボン酸(テレフタル酸)、2-アミノテレフタル酸、2,5-ジヒドロキシテレフタル酸、2,2’-ジチオ二安息香酸、ぺリレン-3,9-ジカルボン酸、4,4’-ジヒドロキシビフェニル-3,3’-ジカルボン酸、4,4’-ジアミノ-1,1’-ビフェニル-3,3’-ジカルボン酸、4,4’-ジアミノビフェニル-3,3’-ジカルボン酸、1,1’-ビナフチルジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸、ナフタレン-1,8-ジカルボン酸、1,4-ナフタレンジカルボン酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸、12,3-ナフタレンジカルボン酸、アントラセン-2,3-ジカルボン酸、2’,3’-ジフェニル-p-ターフェニル-4,4’’-ジカルボン酸、5-tert-ブチル-1,3-ベンゼンジカルボン酸、5-ヒドロキシ-1,3-ベンゼンジカルボン酸、2,5-ジヒドロキシ-1,4-ベンゼンジカルボン酸、4,4’-ジヒドロキシ-ジフェニルメタン-3,3’-ジカルボン酸、1H-ピロール-2,5-ジカルボン酸、1-メチルピロール-3,4-ジカルボン酸、または1-ベンジル-1H-ピロール-3,4-ジカルボン酸等が挙げられる。ジカルボン酸は、イソフタル酸、1H-ピロール-2,5-ジカルボン酸、テレフタル酸、2-アミノテレフタル酸、2,2’-ジチオ二安息香酸及び4,4’-ジヒドロキシビフェニル-3,3’-ジカルボン酸よりなる群から選択される少なくとも1種であることが好ましい。
前記した前記したR(COOH)nのうちnが3のもの、すなわちトリカルボン酸としては、トリメリット酸、トリメシン酸(トリカルボン酸ベンゼン)、ビフェニル-3,4’,5-トリカルボン酸、1,3,5-トリス(4-カルボキシフェニル)ベンゼンなどが挙げられ、トリメリット酸、トリカルボン酸ベンゼンまたは1,3,5-トリス(4-カルボキシフェニル)ベンゼンが好ましく、特にトリカルボン酸ベンゼンが好ましい。
前記Rは下記(A-1)~(A-10)のいずれかであることが好ましい。
前記(A-1)~(A-10)において、炭素原子に結合した水素原子の少なくとも1つが-OHまたは-NH2に置換されていてもよく、-X-は-S-S-または単結合を表す。
本発明のMOFを構成する有機配位子として、前記したR(COO-)nで表されるカルボキシレートとは異なる種の有機配位子を更に含んでいてもよく、このような有機配位子としては、尿素、ピラジン、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、1,2,3-チアジアゾール、ピリダジン、ピリミジン、プリン、プテリジン、2,2’-ビピリジン、及び4,4’-ビピリジンよりなる群から選ばれる少なくとも1種が挙げられ、4,4’-ビピリジンが特に好ましい。
有機配位子(複数種の場合には合計量)に対する金属イオンのモル比(金属イオン/有機配位子)は、0.1以上が好ましく、より好ましくは0.3以上であり、更に好ましくは0.5以上であり、特に0.9以上が好ましく、また5以下であることが好ましく、より好ましくは4以下であり、更に好ましくは3以下であり、特に2.5以下が好ましい。当該モル比は、0.9以上、4以下であることが特に好ましく、0.9以上、2.5以下が最も好ましい。
次に、本発明のMOFの製造方法について説明する。本発明のMOFは、MOFを構成する金属イオンを含有する金属化合物と、MOFを構成する有機配位子となる1種以上の有機化合物を溶媒中で反応させることにより得ることができる。また、必要に応じて、無機配位子となる無機化合物を、前記金属化合物または有機化合物と共に、溶媒に混合することも好ましい。
具体的には、金属イオンを含有する金属化合物または有機配位子となる有機化合物のいずれか一方をまず溶媒に完全に溶解させた溶液Aを用意し、他方を滴下(この時、他方についても溶媒に溶解させた溶液Bを滴下することも好ましい)することが好ましい。また、金属イオンを含有する金属化合物と、有機配位子となる有機化合物の両方を溶媒に完全に溶解させた溶液Xを準備し、溶液X中の金属化合物及び有機化合物とは異なる種類の金属化合物または有機化合物を滴下するか、溶液X中の金属化合物及び有機化合物とは異なる種類の金属化合物または有機化合物を溶媒に完全に溶解させた溶液Yを滴下することも好ましい。滴下の温度は常温(具体的には20~30℃程度)であることが好ましい。また滴下する金属化合物または有機化合物の量は、1.0mmol/分以下となるように滴下することが好ましい。滴下速度は、0.8mmol/分以下であることが好ましく、また0.01mmol/分以上であってもよく、0.1mmol/分以上が好ましく、0.3mmol/分以上がより好ましい。特に、有機化合物が溶媒に溶解した液に、金属化合物または金属化合物が溶媒に溶解した液を滴下することが好ましく、このとき前記した滴下速度で滴下することが更に好ましい。
MOFを構成する金属イオンを含有する金属化合物は、金属の硫酸塩、硝酸塩、酢酸塩、塩化物、臭化物又はアルコキシドであることが好ましい。
MOFを構成する有機配位子となる有機化合物は、R(COOH)nで表される多価カルボン酸よりなる群から選択される1種以上を含むことが好ましい。R及びnは、上記のR(COO-)nで表されるカルボキシレートにおけるR及びnと同義であり、好ましい態様も含めて上記のR、nの説明を全て参照できる。
有機配位子となる有機化合物はジカルボン酸またはトリカルボン酸を含むことが好ましく、その具体例は、R(COO-)nで表されるカルボキシレートにおいて説明したジカルボン酸またはトリカルボン酸を、好ましい範囲も含めて参照できる。
有機配位子となる有機化合物として、R(COOH)nで表される多価カルボン酸よりなる群から選択される1種以上に加えて更に、尿素、ピラジン、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、1,2,3-チアジアゾール、ピリダジン、ピリミジン、プリン、プテリジン、2,2’-ビピリジン、及び4,4’-ビピリジンよりなる群から選ばれる少なくとも1種を用いることが好ましい。また、上記した無機配位子となる無機化合物は、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属アジ化物を用いることが好ましい。また、金属化合物や有機化合物を溶解させる溶媒や空気中の水分などに由来して、MOFにOH-、O2-、又はOH2である無機配位子が含まれる場合がある。
金属イオンを含有する金属化合物または有機配位子となる有機化合物を溶解する溶媒は、水;メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒;ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒などが好ましく、一種のみを用いてもよいし、二種以上を混合して用いてもよい。
金属イオンを含有する金属化合物が完全に溶解した溶液A、溶液Bまたは溶液Xを用意する場合、これら溶液中の溶媒に対する金属化合物の比率(金属化合物/溶媒)は、いずれも0.01mol/L以上が好ましく、より好ましくは0.1mol/L以上であり、更に好ましくは0.18mol/L以上であり、また1mol/L以下が好ましく、より好ましくは0.7mol/L以下であり、更に好ましくは0.5mol/L以下であり、特に好ましくは0.370mol/L以下である。当該比率は、0.18mol/L以上、0.5mol/L以下が特に好ましく、0.18mol/L以上、0.370mol/L以下が最も好ましい。
有機配位子となる有機化合物が完全に溶解した溶液A、溶液Bまたは溶液Xを用意する場合、これら溶液中の溶媒に対する有機化合物の比率(有機化合物/溶媒)は、いずれも0.01mol/L以上が好ましく、より好ましくは0.1mol/L以上であり、更に好ましくは0.2mol/L以上であり、また1.5mol/L以下が好ましく、より好ましくは1mol/L以下であり、更に好ましくは0.7mol/L以下である。
また、無機配位子となる無機化合物が、溶液A、溶液Bまたは溶液Xに含まれる場合には、これら溶液中の溶媒に対する無機化合物の比率(無機化合物/溶媒)は、いずれも、0.05mol/L以上が好ましく、また1mol/L以下が好ましい。
金属イオンを含有する金属化合物と有機配位子となる有機化合物のモル比については、有機化合物のモル量に対する金属化合物中の金属原子のモル量の比率が、前記した有機配位子に対する金属イオンのモル比と等しくなるように調整すればよい。
上記した滴下終了後は、室温(例えば25℃)~200℃の温度で5分~100時間程度、還流、撹拌及び静置の少なくとのいずれかを行うことが重要であり、より具体的には室温から100℃未満の場合には72時間以上、100℃以上130℃未満の場合には20時間以上、130℃以上200℃以下の場合には15時間以上、金属化合物と有機化合物とを反応させることが重要である。得られた反応生成物を遠心分離や濾過などにより溶媒から分離し、洗浄、乾燥を行うことで目的のMOFを得ることができる。
本願は、2022年10月31日に出願された日本国特許出願第2022-174075号及び2022年10月31日に出願された日本国特許出願第2022-174076号に基づく優先権の利益を主張するものである。2022年10月31日に出願された日本国特許出願第2022-174075号及び2022年10月31日に出願された日本国特許出願第2022-174076号の明細書の全内容が、本願に参考のため援用される。
以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明する。本発明は以下の実施例によって制限を受けるものではなく、前記、後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。
実施例1
20mLのナスフラスコ中で、イソフタル酸3.233mmolとジメチルホルムアミド(DMF)2.5mLを25℃で混合し、完全に溶解させ溶液Aを取得した。別途、Al2(SO4)3・nH2O(n=14~18)3.693mmolとイオン交換水10mLを混合し完全に溶解させた溶液Bを調製し、溶液Aに25℃で5分間かけ滴下添加した。溶液Aにおいて、溶媒に対するイソフタル酸の比率は1.29mol/Lであり、溶液Bにおいて、溶媒に対するAl2(SO4)3・nH2Oの比率は0.369mol/Lであり、Al2(SO4)3・nH2Oの滴下速度は0.739mmol/分である。その後、125℃で24時間還流させ、懸濁液を得た。これをデカンテーションし、沈殿固形物を10mlの水で3回、遠心分離洗浄を実施し、得られたろ過ケーキを真空乾燥炉で80℃×24時間、100℃×24時間+120℃×48時間乾燥させ、生成物質を0.66g得た(収率99%)。
20mLのナスフラスコ中で、イソフタル酸3.233mmolとジメチルホルムアミド(DMF)2.5mLを25℃で混合し、完全に溶解させ溶液Aを取得した。別途、Al2(SO4)3・nH2O(n=14~18)3.693mmolとイオン交換水10mLを混合し完全に溶解させた溶液Bを調製し、溶液Aに25℃で5分間かけ滴下添加した。溶液Aにおいて、溶媒に対するイソフタル酸の比率は1.29mol/Lであり、溶液Bにおいて、溶媒に対するAl2(SO4)3・nH2Oの比率は0.369mol/Lであり、Al2(SO4)3・nH2Oの滴下速度は0.739mmol/分である。その後、125℃で24時間還流させ、懸濁液を得た。これをデカンテーションし、沈殿固形物を10mlの水で3回、遠心分離洗浄を実施し、得られたろ過ケーキを真空乾燥炉で80℃×24時間、100℃×24時間+120℃×48時間乾燥させ、生成物質を0.66g得た(収率99%)。
実施例2
100mLのナスフラスコ中で、1H-ピロール-2,5-ジカルボン酸5.169mmolとイオン交換水13.5mLと水酸化ナトリウム10.42mmolを25℃で混合し、完全に溶解させ溶液Aを取得した。別途、Al2(SO4)3・nH2O(n=14~18)2.555mmolとイオン交換水13.35mLを混合し完全に溶解させた溶液Bを調製し、溶液Aに25℃で5分間かけ滴下添加した。溶液Aにおいて、溶媒に対する1H-ピロール-2,5-ジカルボン酸の比率は0.383mol/Lであり、溶液Bにおいて、溶媒に対するAl2(SO4)3・nH2Oの比率は0.191mol/Lであり、Al2(SO4)3・nH2Oの滴下速度は0.511mmol/分である。その後、100℃で24時間還流させ、懸濁液を得た。これをデカンテーションし、沈殿固形物を20mlの水で3回、20mlのエタノールで3回ろ過洗浄を実施し、得られたろ過ケーキを真空乾燥炉で60℃×24時間乾燥させ、生成物質を0.88g得た(収率87%)。
100mLのナスフラスコ中で、1H-ピロール-2,5-ジカルボン酸5.169mmolとイオン交換水13.5mLと水酸化ナトリウム10.42mmolを25℃で混合し、完全に溶解させ溶液Aを取得した。別途、Al2(SO4)3・nH2O(n=14~18)2.555mmolとイオン交換水13.35mLを混合し完全に溶解させた溶液Bを調製し、溶液Aに25℃で5分間かけ滴下添加した。溶液Aにおいて、溶媒に対する1H-ピロール-2,5-ジカルボン酸の比率は0.383mol/Lであり、溶液Bにおいて、溶媒に対するAl2(SO4)3・nH2Oの比率は0.191mol/Lであり、Al2(SO4)3・nH2Oの滴下速度は0.511mmol/分である。その後、100℃で24時間還流させ、懸濁液を得た。これをデカンテーションし、沈殿固形物を20mlの水で3回、20mlのエタノールで3回ろ過洗浄を実施し、得られたろ過ケーキを真空乾燥炉で60℃×24時間乾燥させ、生成物質を0.88g得た(収率87%)。
実施例3
50mLのSUS-304製耐圧容器(テフロン(登録商標)内筒管含む)中で、2-アミノテレフタル酸3.000mmolをジメチルホルムアミド(DMF)とMeOHを1/1(体積比)で混合した25mLに完全に溶解させ溶液Aを得た。これに1.518mmolのTi[OCH(CH3)2]4を25℃で20分間かけて滴下添加し、5分間スターラーチップを入れ撹拌した。溶液Aにおいて、溶媒に対する2-アミノテレフタル酸の比率は0.12mol/Lであり、Ti[OCH(CH3)2]4の滴下速度は0.0759mmol/分である。その後、150℃で16時間静置させた。得られた沈殿固形物を10mLのDMFで3回洗浄ろ過を実施し、得られたろ過ケーキを真空乾燥炉で120℃×24時間、150℃×24時間減圧乾燥させ、生成物質を0.62g得た(収率89.4%)。
50mLのSUS-304製耐圧容器(テフロン(登録商標)内筒管含む)中で、2-アミノテレフタル酸3.000mmolをジメチルホルムアミド(DMF)とMeOHを1/1(体積比)で混合した25mLに完全に溶解させ溶液Aを得た。これに1.518mmolのTi[OCH(CH3)2]4を25℃で20分間かけて滴下添加し、5分間スターラーチップを入れ撹拌した。溶液Aにおいて、溶媒に対する2-アミノテレフタル酸の比率は0.12mol/Lであり、Ti[OCH(CH3)2]4の滴下速度は0.0759mmol/分である。その後、150℃で16時間静置させた。得られた沈殿固形物を10mLのDMFで3回洗浄ろ過を実施し、得られたろ過ケーキを真空乾燥炉で120℃×24時間、150℃×24時間減圧乾燥させ、生成物質を0.62g得た(収率89.4%)。
実施例4
50mLのバイアル瓶中で、テレフタル酸2.496mmolに5mlのDMFを加えスターラーチップを入れ撹拌し、完全に溶解させ溶液Aを得た。別途硝酸インジウム(III)水和物2.654mmolに5mlのジメチルホルムアミド(DMF)を加え、その後2mlのエタノールを加えスターラーチップを入れ完全に溶解させ溶液Bとし、溶液Aに溶液Bを20分間かけて滴下添加し20分間撹拌させた。溶液Aにおいて、溶媒に対するテレフタル酸の比率は0.499mol/Lであり、溶液Bにおいて、溶媒に対する硝酸インジウム(III)水和物の比率は0.379mol/Lであり、硝酸インジウム(III)水和物の滴下速度は0.133mmol/分である。その後、120℃で48時間静置させた。得られた沈殿固形物を30mLのDMFで3回洗浄ろ過を実施し、得られたろ過ケーキを真空乾燥炉で120℃×24時間減圧乾燥させ、生成物質を0.49g得た(収率89.1%)。
50mLのバイアル瓶中で、テレフタル酸2.496mmolに5mlのDMFを加えスターラーチップを入れ撹拌し、完全に溶解させ溶液Aを得た。別途硝酸インジウム(III)水和物2.654mmolに5mlのジメチルホルムアミド(DMF)を加え、その後2mlのエタノールを加えスターラーチップを入れ完全に溶解させ溶液Bとし、溶液Aに溶液Bを20分間かけて滴下添加し20分間撹拌させた。溶液Aにおいて、溶媒に対するテレフタル酸の比率は0.499mol/Lであり、溶液Bにおいて、溶媒に対する硝酸インジウム(III)水和物の比率は0.379mol/Lであり、硝酸インジウム(III)水和物の滴下速度は0.133mmol/分である。その後、120℃で48時間静置させた。得られた沈殿固形物を30mLのDMFで3回洗浄ろ過を実施し、得られたろ過ケーキを真空乾燥炉で120℃×24時間減圧乾燥させ、生成物質を0.49g得た(収率89.1%)。
実施例5
1Lのナスフラスコ中で、塩化コバルト(II)六水和物3.05mmol、2,2’-ジチオ二安息香酸10.42mmol、アジ化ナトリウム10.40mmolとDMF150mLを25℃で混合し、完全に溶解させ溶液Aを取得した。別途、トリカルボン酸ベンゼン3.08mmol、4,4’-ビピリジン3.10mmolとエタノール150mlを混合し完全に溶解させた溶液Bを調製し、溶液Bを溶液Aに25℃で3時間かけ滴下添加した。溶液Aにおいて、溶媒に対する塩化コバルト(II)六水和物の比率は、0.0203mol/Lであり、溶媒に対する2,2’-ジチオ二安息香酸の比率は0.0695mol/Lであり、溶液Bにおいて、溶媒に対するトリカルボン酸ベンゼン及び4,4’-ビピリジンの合計の比率は0.0412mol/Lである。また、トリカルボン酸ベンゼン及び4,4’-ビピリジンの合計量の滴下速度は、0.0343mmol/分である。その後、25℃で4日間撹拌させ、懸濁液を得た。得られた沈殿固形物を30mLのDMFで3回洗浄ろ過を実施し、得られたろ過ケーキを真空乾燥炉で120℃×24時間減圧乾燥させ、生成物質を1.16g得た(収率90.0%)。
1Lのナスフラスコ中で、塩化コバルト(II)六水和物3.05mmol、2,2’-ジチオ二安息香酸10.42mmol、アジ化ナトリウム10.40mmolとDMF150mLを25℃で混合し、完全に溶解させ溶液Aを取得した。別途、トリカルボン酸ベンゼン3.08mmol、4,4’-ビピリジン3.10mmolとエタノール150mlを混合し完全に溶解させた溶液Bを調製し、溶液Bを溶液Aに25℃で3時間かけ滴下添加した。溶液Aにおいて、溶媒に対する塩化コバルト(II)六水和物の比率は、0.0203mol/Lであり、溶媒に対する2,2’-ジチオ二安息香酸の比率は0.0695mol/Lであり、溶液Bにおいて、溶媒に対するトリカルボン酸ベンゼン及び4,4’-ビピリジンの合計の比率は0.0412mol/Lである。また、トリカルボン酸ベンゼン及び4,4’-ビピリジンの合計量の滴下速度は、0.0343mmol/分である。その後、25℃で4日間撹拌させ、懸濁液を得た。得られた沈殿固形物を30mLのDMFで3回洗浄ろ過を実施し、得られたろ過ケーキを真空乾燥炉で120℃×24時間減圧乾燥させ、生成物質を1.16g得た(収率90.0%)。
実施例6
100mLのSUS-304製耐圧容器(テフロン(登録商標)内筒管含む)中で、テレフタル酸7.483mmolをジメチルホルムアミド(DMF)とMeOHを9/1(体積比)で混合した25mLに完全に溶解させ溶液Aを得た。この溶液Aを4.523mmolのTi[OCH(CH3)2]4に25℃で30分かけて滴下して混合し、5分間スターラーチップを入れ撹拌した。溶液Aにおいて、溶媒に対するテレフタル酸の比率は0.299mol/Lであり、テレフタル酸の滴下速度は0.249mmol/分である。その後、150℃で16時間静置させた。得られた沈殿固形物を10mLのDMFで3回洗浄ろ過を実施し、得られたろ過ケーキを真空乾燥炉で120℃×24時間、150℃×24時間減圧乾燥させ、生成物質を0.35g得た(収率24.6%)。
100mLのSUS-304製耐圧容器(テフロン(登録商標)内筒管含む)中で、テレフタル酸7.483mmolをジメチルホルムアミド(DMF)とMeOHを9/1(体積比)で混合した25mLに完全に溶解させ溶液Aを得た。この溶液Aを4.523mmolのTi[OCH(CH3)2]4に25℃で30分かけて滴下して混合し、5分間スターラーチップを入れ撹拌した。溶液Aにおいて、溶媒に対するテレフタル酸の比率は0.299mol/Lであり、テレフタル酸の滴下速度は0.249mmol/分である。その後、150℃で16時間静置させた。得られた沈殿固形物を10mLのDMFで3回洗浄ろ過を実施し、得られたろ過ケーキを真空乾燥炉で120℃×24時間、150℃×24時間減圧乾燥させ、生成物質を0.35g得た(収率24.6%)。
比較例1
500mLナスフラスコにギ酸(2.69mol)、無水酢酸(1.08mol)、Ti(OCH(CH3)2)4(0.067mol)を加えて、25℃で30分撹拌した後に、120℃に昇温し、12時間還流した。得られた白濁反応液を50℃に加熱しながらアセトンで洗浄(100ml×3回)し、白色固体A12.03gを得た(収率:74.8%)。
500mLのSUS-304製耐圧容器(テフロン(登録商標)内筒管含む)中で、0.23mmol白色固体Aを無水酢酸(10mL)と酢酸(10mL)を混合した液に溶解させた。これに55.2mmolの5-アミノイソフタル酸を一度に加えた後、メタノール1mLを25℃で混合し、5分間スターラーチップを入れ撹拌した。その後、180℃で48時間静置させた。得られた沈殿固形物を30mLのアセトンで3回洗浄ろ過を実施し、得られたろ過ケーキを風乾で24時間乾燥させ、生成物質を0.20g得た(収率47.9%)。
500mLナスフラスコにギ酸(2.69mol)、無水酢酸(1.08mol)、Ti(OCH(CH3)2)4(0.067mol)を加えて、25℃で30分撹拌した後に、120℃に昇温し、12時間還流した。得られた白濁反応液を50℃に加熱しながらアセトンで洗浄(100ml×3回)し、白色固体A12.03gを得た(収率:74.8%)。
500mLのSUS-304製耐圧容器(テフロン(登録商標)内筒管含む)中で、0.23mmol白色固体Aを無水酢酸(10mL)と酢酸(10mL)を混合した液に溶解させた。これに55.2mmolの5-アミノイソフタル酸を一度に加えた後、メタノール1mLを25℃で混合し、5分間スターラーチップを入れ撹拌した。その後、180℃で48時間静置させた。得られた沈殿固形物を30mLのアセトンで3回洗浄ろ過を実施し、得られたろ過ケーキを風乾で24時間乾燥させ、生成物質を0.20g得た(収率47.9%)。
比較例2
50mLのナスフラスコ中で、2,5-チオフェンジカルボン酸2.54mmolとDMF4mLを25℃で混合し、完全に溶解させ溶液Aを取得した。別途、Al2(SO4)3・nH2O(n=14~18)5.64mmolとイオン交換水16mlを混合し完全に溶解させた溶液Bを調製し、溶液Bを溶液Aに25℃で一度に添加した。その後、135℃で24時間撹拌しながら還流し、懸濁液を得た。得られた沈殿固形物を30mLのDMFで3回30mLのメタノールで3回洗浄ろ過を実施し、得られたろ過ケーキを真空乾燥炉で80℃×24時間減圧乾燥させ、生成物質を0.65g得た(収率48.2%)。
50mLのナスフラスコ中で、2,5-チオフェンジカルボン酸2.54mmolとDMF4mLを25℃で混合し、完全に溶解させ溶液Aを取得した。別途、Al2(SO4)3・nH2O(n=14~18)5.64mmolとイオン交換水16mlを混合し完全に溶解させた溶液Bを調製し、溶液Bを溶液Aに25℃で一度に添加した。その後、135℃で24時間撹拌しながら還流し、懸濁液を得た。得られた沈殿固形物を30mLのDMFで3回30mLのメタノールで3回洗浄ろ過を実施し、得られたろ過ケーキを真空乾燥炉で80℃×24時間減圧乾燥させ、生成物質を0.65g得た(収率48.2%)。
比較例3
100mLのSUS-304製耐圧容器(テフロン(登録商標)内筒管含む)中で、5.1mmolのAlCl3と、2.089mmolのテレフタル酸と、60mlのDMFを全て一度に混合し室温で5分間超音波をかけ溶解した。その後、110℃で20時間静置させた。得られた沈殿固形物を30mLのDMFで3回洗浄ろ過を実施し、得られたろ過ケーキを真空乾燥炉で60℃×30分、150℃×12時間減圧乾燥させ、生成物質を0.38g得た(収率90%)。
100mLのSUS-304製耐圧容器(テフロン(登録商標)内筒管含む)中で、5.1mmolのAlCl3と、2.089mmolのテレフタル酸と、60mlのDMFを全て一度に混合し室温で5分間超音波をかけ溶解した。その後、110℃で20時間静置させた。得られた沈殿固形物を30mLのDMFで3回洗浄ろ過を実施し、得られたろ過ケーキを真空乾燥炉で60℃×30分、150℃×12時間減圧乾燥させ、生成物質を0.38g得た(収率90%)。
比較例4
50mLのナスフラスコに、5.04mmolの2,5-フランジカルボン酸と10.59mmolのNaOHと、15mLのイオン交換水を混合し、完溶させ溶液Aを得た。5.04mmolのAlCl3・6H2Oと、10mLのイオン交換水を混合し完全に溶解させた溶液Bを25℃で30分かけ溶液Aに滴下添加した。溶液Aにおいて、溶媒に対する2,5-フランジカルボン酸の比率は0.336mol/Lであり、溶液Bにおいて、溶媒に対するAlCl3・6H2Oの比率は0.504mol/Lであり、AlCl3・6H2Oの滴下速度は0.168mmol/分である。その後、25℃で18時間還流させ、懸濁液を得た。得られた沈殿固形物を50mLの水で3回、遠心分離洗浄を実施し、得られたケーキを真空乾燥炉で80℃×24時間乾燥させ、生成物質を得た。
50mLのナスフラスコに、5.04mmolの2,5-フランジカルボン酸と10.59mmolのNaOHと、15mLのイオン交換水を混合し、完溶させ溶液Aを得た。5.04mmolのAlCl3・6H2Oと、10mLのイオン交換水を混合し完全に溶解させた溶液Bを25℃で30分かけ溶液Aに滴下添加した。溶液Aにおいて、溶媒に対する2,5-フランジカルボン酸の比率は0.336mol/Lであり、溶液Bにおいて、溶媒に対するAlCl3・6H2Oの比率は0.504mol/Lであり、AlCl3・6H2Oの滴下速度は0.168mmol/分である。その後、25℃で18時間還流させ、懸濁液を得た。得られた沈殿固形物を50mLの水で3回、遠心分離洗浄を実施し、得られたケーキを真空乾燥炉で80℃×24時間乾燥させ、生成物質を得た。
実施例及び比較例で得られた物質を、下記の方法で評価した。
(1)空隙率の測定
実施例及び比較例で生成した物質を、下記条件にてXRD測定し、cifファイルを取得し、Mercuryというソフトウェアでcifファイルを読み込み、得られたデータにVoid contact surfaceのprobe Radius 1.5Å、Approx. Grid Spacing:0.7Åと入力して空隙率を求めた。
装置:Rigaku社製 SmartLab
線源:Cu
測定範囲:2θ=3~40°
Stepサイズ:0.01°
走査速度:3°/min
測定温度:室温(25℃)
実施例及び比較例で生成した物質を、下記条件にてXRD測定し、cifファイルを取得し、Mercuryというソフトウェアでcifファイルを読み込み、得られたデータにVoid contact surfaceのprobe Radius 1.5Å、Approx. Grid Spacing:0.7Åと入力して空隙率を求めた。
装置:Rigaku社製 SmartLab
線源:Cu
測定範囲:2θ=3~40°
Stepサイズ:0.01°
走査速度:3°/min
測定温度:室温(25℃)
(2)最大孔径L及び最小孔径Sの測定
上記空隙率の測定の際に得られるMercuryの作図から、細孔サイズ及び細孔形状を含む結晶構造を得て、上記した手順(a1)~(a3)に従って、最大孔径L及び最小孔径Sを決定した。
上記空隙率の測定の際に得られるMercuryの作図から、細孔サイズ及び細孔形状を含む結晶構造を得て、上記した手順(a1)~(a3)に従って、最大孔径L及び最小孔径Sを決定した。
(3)脱離量の測定
Rigaku社製の熱重量・示差熱同時測定(TG-DTA:Thermogravimetry-Differential Thermal Analysis)装置を用いて、下記の条件で前処理したMOFの水分の脱離量を測定した。
前処理条件:25℃、相対圧0.5に調湿された空気雰囲気下で12時間保持
脱離量:前記した前処理の後、窒素フロー下、昇温速度:5℃/分で昇温し、50℃で30分保持し、この区間(25~50℃)での重量減少量W25-50を測定し、このW25-50を、前記前処理後のサンプル重量で除して脱離量(質量%)とした。
Rigaku社製の熱重量・示差熱同時測定(TG-DTA:Thermogravimetry-Differential Thermal Analysis)装置を用いて、下記の条件で前処理したMOFの水分の脱離量を測定した。
前処理条件:25℃、相対圧0.5に調湿された空気雰囲気下で12時間保持
脱離量:前記した前処理の後、窒素フロー下、昇温速度:5℃/分で昇温し、50℃で30分保持し、この区間(25~50℃)での重量減少量W25-50を測定し、このW25-50を、前記前処理後のサンプル重量で除して脱離量(質量%)とした。
結果を表1に示す。なお、比較例1では、手順(a2)での断面観察において観察した孔が貫通孔となっていなかったため、最大孔径L/最小孔径Sの欄に「閉ざされている」と記載した。
実施例1~6では、空隙率が20~75%であり、最大孔径L/最小孔径Sが1.06以上である結晶性のMOFが得られたのに対して、比較例1~3のMOFは最大孔径L/最小孔径及び空隙率の少なくともいずれかの要件を満たしておらず、また比較例4では溶液Bを溶液Aに滴下添加した後の還流条件が適切でなかったため、XRD測定による測定で結晶性物質が確認できなかった。
本発明のMOFは、例えばガスや有機分子の吸着及び除去に好適に用いられる。ガスとしては、例えば水(水蒸気)、二酸化炭素、水素、一酸化炭素、酸素、窒素、炭素数1~4の炭化水素、希ガス、硫化水素、アンモニア、硫黄酸化物、窒素酸化物、シロキサン等が挙げられる。有機分子としては、例えば炭素数5~8の炭化水素、炭素数1~8のアルコール、炭素数1~8のアルデヒド、炭素数1~8のカルボン酸、炭素数1~8のケトン、炭素数1~8のアミン、炭素数1~8のエステル、炭素数1~8のアミド等が挙げられる。なお、前記有機分子は芳香環を含んでいても良い。
11 内接円
21 断面
22 貫通孔Pmax
23a、23b 貫通孔Pmaxの外周
24 貫通孔Pmaxの中心軸
25 最大孔径L
26 最小孔径S
21 断面
22 貫通孔Pmax
23a、23b 貫通孔Pmaxの外周
24 貫通孔Pmaxの中心軸
25 最大孔径L
26 最小孔径S
Claims (2)
- 有機配位子と金属イオンで構成される金属有機構造体であって、
空隙率が20~75%であり、下記(a1)~(a3)の手順で決定される最大孔径Lと最小孔径Sの比率(最大孔径L/最小孔径S)が1.06以上であり、
前記有機配位子は、R(COO-)nであって、Rは芳香族炭化水素基又はピロールであり、-OH、-NH2又は-S-S-である官能基Xを有していてもよい基であり、nは2以上、3以下である有機配位子の少なくとも1種を含み、
前記金属イオンは、Al、Ga、In、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Cu、Zr及びHfよりなる群から選ばれる少なくとも1種の金属のイオンである金属有機構造体。
(a1)X線結晶構造解析によって決定される結晶構造をスペースフィリングモデルで表示し、貫通孔の外周が欠けることなく表示させ、全方向から貫通孔の有無を観察し、内接円の直径が最大となる貫通孔Pmaxを特定する。
(a2)前記貫通孔Pmaxの断面ab、断面bc、及び断面caのそれぞれの断面で、貫通孔Pmaxの中心軸と直交する線で切り取られる貫通孔Pmaxの内径のうち最大長さを探し、断面ab、断面bc、断面caそれぞれの最大長さのうち最大のものを貫通孔Pmaxの最大孔径Lとする。
ただし、断面abとは、単位格子のa-b面と平行な面での貫通孔Pmaxの切断面であって、貫通孔Pmaxが貫通した状態で切り取られる面であり、貫通した状態で貫通孔Pmaxを切り取ることが可能な複数の断面が存在する場合は、貫通孔Pmaxとの重なりが最も大きな断面を断面abという。また、前記断面abの特定において、断面abを断面bcと読み替え、かつa-b面をb-c面と読み替えたものが断面bcであり、断面abを断面caと読み替え、かつa-b面をc-a面と読み替えたものが断面caである。
(a3)前記最大孔径Lを決定した断面において、貫通孔Pmaxの中心軸と直交する線で切り取られる貫通孔Pmaxの内径のうち最小長さを最小孔径Sとする。 - 最大孔径Lと最小孔径Sの比率(最大孔径L/最小孔径S)が4.0以下である請求項1に記載の金属有機構造体。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2022-174075 | 2022-10-31 | ||
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