WO2024014214A1

WO2024014214A1 - 表示装置及び電子機器

Info

Publication number: WO2024014214A1
Application number: PCT/JP2023/021876
Authority: WO
Inventors: 昭綱高木; 尚人小田
Original assignee: ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社
Priority date: 2022-07-12
Filing date: 2023-06-13
Publication date: 2024-01-18

Abstract

表示エリアへの水分侵入を抑制し、且つ、保護層の上方側に機能層や封止基板を設ける場合における機能層の塗布性や密着性を向上させることの可能な表示装置及び電子機器を提供する。　表示装置が、基板の上に、順に、無機絶縁層と発光素子を形成した発光素子基板と、前記発光素子基板の上面側を覆う保護層と、を有し該保護層の上方側に、平坦化層と、前記平坦化層とは異なる機能層と、を備え、前記無機絶縁層は、溝又は段差の少なくとも一方を有し、前記保護層は、前記溝又は段差の少なくとも一部を覆う被覆部を有する。

Description

表示装置及び電子機器

　本開示は、表示装置及び電子機器に関する。

　有機ＥＬ素子などの発光素子を用いた表示装置には、表示エリアに設けられた発光素子の内部への水分侵入を抑制することが要請されている。水分侵入経路としては、基板の上に設けられる保護層を経由する経路が指摘されている。特許文献１には、表示パネルを取り巻くように基板に凹部や凸部を直接設けることで、基板の上に設けられる保護層となるパッシベーション膜の水分侵入経路を延長する技術が開示されている。

特開２００６－１２０６３５号公報

　特許文献１の技術では、保護層の表面に凹凸が形成されやすいため、保護層の上方側にカラーフィルタ等の機能層や封止基板を設ける場合における機能層や封止基板の塗布性や密着性を向上させる点で改善の余地がある。

　本開示は、上述した点に鑑みてなされたものであり、表示エリアへの水分侵入を抑制し、且つ、保護層の上方側に機能層や封止基板を設ける場合における機能層や封止基板の塗布性や密着性を向上させることの可能な表示装置及び電子機器の提供を目的の一つとする。

　本開示は、例えば、（１）基板の上に、順に、無機絶縁層と発光素子を形成した発光素子基板と、
　発光素子基板の上面側を覆う保護層と、を有し
　該保護層の上方側に、平坦化層と、平坦化層とは異なる機能層と、を備え、
　無機絶縁層は、溝又は段差を有し、
　保護層は、溝又は段差の少なくとも一部を覆う被覆部を有する、
　表示装置である。

　本開示は、（２）上記（１）に記載の表示装置を備えた電子機器であってもよい。

図１Ａは、表示装置の実施例の一つを説明するための平面図である。図１Ｂは、図１Ａにおける破線で囲まれた領域ＸＳの部分を拡大した部分拡大平面図である。図１Ｃは、図１ＡのＡ－Ａ線縦断面の状態を模式的に示す断面図である。図２は、第１の実施形態にかかる表示装置の一実施例を説明するための断面図である。図３Ａ、図３Ｂ、図３Ｃ及び図３Ｄは、表示装置の製造方法の一実施例を示す断面図である。図４Ａ、図４Ｂは、表示装置の製造方法の一実施例を示す断面図である。図５は、第１の実施形態の変形例にかかる表示装置の一実施例を説明するための断面図である。図６は、第１の実施形態にかかる表示装置の一実施例を説明するための平面図である。図７は、第２の実施形態にかかる表示装置の一実施例を説明するための断面図である。図８は、第３の実施形態にかかる表示装置の一実施例を説明するための断面図である。図９は、第４の実施形態にかかる表示装置の一実施例を説明するための断面図である。図１０は、第５の実施形態にかかる表示装置の一実施例を説明するための断面図である。図１１は、第６の実施形態にかかる表示装置の平面図である。図１２は、第６の実施形態にかかる表示装置の一実施例を説明するための断面図である。図１３は、第７の実施形態にかかる表示装置の一実施例を説明するための断面図である。図１４は、第８の実施形態にかかる表示装置の一実施例を説明するための断面図である。図１５は、第９の実施形態にかかる表示装置の一実施例を説明するための断面図である。図１６は、第１０の実施形態にかかる表示装置の一実施例を説明するための断面図である。図１７は、第１１の実施形態にかかる表示装置の一実施例を説明するための断面図である。図１８Ａ及び図１８Ｂは、共振器構造を有する表示装置の一実施例を説明するための図である。図１９Ａ及び図１９Ｂは、共振器構造を有する表示装置の一実施例を説明するための図である。図２０Ａ及び図２０Ｂは、共振器構造を有する表示装置の一実施例を説明するための図である。図２１は、共振器構造を有する表示装置の一実施例を説明するための図である。図２２Ａ、図２２Ｂ及び図２２Ｃは、表示装置が波長選択部を有する場合の一実施例を説明するための図である。図２３は、表示装置が波長選択部を有する場合の一実施例を説明するための図である。図２４Ａ及び図２４Ｂは、表示装置が波長選択部を有する場合の一実施例を説明するための図である。図２５は、表示装置が波長選択部を有する場合の一実施例を説明するための図である。図２６Ａ、図２６Ｂは、表示装置の適用例を説明するための図である。図２７は、表示装置の適用例を説明するための図である。図２８は、表示装置の適用例を説明するための図である。図２９は、表示装置の適用例を説明するための図である。図３０は、表示装置の適用例を説明するための図である。図３１Ａ、図３１Ｂは、表示装置の適用例を説明するための図である。

　以下、本開示にかかる一実施例等について図面を参照しながら説明する。なお、説明は以下の順序で行う。本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。

　なお、説明は以下の順序で行うものとする。
１．第１の実施形態
２．第２の実施形態
３．第３の実施形態
４．第４の実施形態
５．第５の実施形態
６．第６の実施形態
７．第７の実施形態
８．第８の実施形態
９．第９の実施形態
１０．第１０の実施形態
１１．第１１の実施形態
１２．表示装置が共振器構造を有する場合の例
１３．表示装置が波長選択部を有する場合の位置関係の例
１４．適用例

　以下の説明は本開示の好適な具体例であり、本開示の内容は、これらの実施の形態等に限定されるものではない。また、以下の説明において、説明の便宜を考慮して前後、左右、上下等の方向を示すが、本開示の内容はこれらの方向に限定されるものではない。図１Ａ、図１Ｂ、図１Ｃ、図２の例では、Ｚ軸方向を上下方向（上側が＋Ｚ方向、下側が－Ｚ方向）、Ｘ軸方向を前後方向（前側が＋Ｘ方向、後ろ側が－Ｘ方向）、Ｙ軸方向を左右方向（右側が＋Ｙ方向、左側が－Ｙ方向）であるものとし、これに基づき説明を行う。これは、図３から図２１についても同様である。図１Ａ等の各図に示す各層の大きさや厚みの相対的な大小比率は便宜上の記載であり、実際の大小比率を限定するものではない。これらの方向に関する定めや大小比率については、図１Ｂ、図１Ｃ、図２から図１７の各図についても同様である。

［１　第１の実施形態］
［１－１　構成］
　本開示の一実施形態に係る表示装置としては、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示装置を挙げることができる。第１の実施形態にかかる表示装置においては、図１Ａ、図１Ｂ、図１Ｃに示すように、表示装置が有機ＥＬ表示装置（以下、単に「表示装置１０」という。）である場合を例として説明を続ける。図１Ａは、表示装置１０の一実施例を示す平面図である。図１Ｂは、図１Ａの領域ＸＳの部分の副画素のレイアウトを模式的に説明するための図である。図１Ｃは、図１ＡのＡ－Ａ線縦断面の状態を模式的に示す断面図である。

（表示エリアと外側エリア）
　表示装置１０においては、表示面Ｄ側に、表示エリア１０Ａと外側エリア１０Ｂが定められる。表示エリア１０Ａは、複数の発光素子１０４で生じた光を出射させる領域として定められた領域である。外側エリア１０Ｂは、表示エリア１０Ａの外周縁から外側の領域として定められる。図１Ａの例では、表示エリア１０Ａは、矩形状の領域として形成されている。表示エリア１０Ａの外側の矩形環状の領域として定められた領域が外側エリア１０Ｂとなっている。表示エリア１０Ａの外縁の位置が外側エリア１０Ｂの内周縁の位置となっており、表示エリア１０Ａと外側エリア１０Ｂは境界を接している。なお、図１Ａに示す、表示面Ｄとは、表示装置１０において発光素子１０４から生じた光が外部に取り出される面を示す。

　以下では表示装置１０がトップエミッション方式で表示する場合を例として説明する。トップエミッション方式は、基板１１よりも発光素子１０４が発光面側に配置される方式を示すものとする。したがって表示装置１０は、基板１１が表示装置１０の裏面側に位置し、基板１１から後述する発光素子１０４に向かう方向（＋Ｚ方向）が表示装置１０の表面側（上面側）方向となっている。表示装置１０では、発光素子１０４から生じた光は、＋Ｚ方向に向けられ、外部に出射される。以下の説明において、表示装置１０を構成する各層において、表示装置１０の表示エリア（表示エリア１０Ａ）での表示面側となる面を第１の面（上面）といい、表示装置１０の裏面側となる面を第２の面（下面）という。なお、このことは、本開示にかかる表示装置１０が、ボトムエミッション方式である場合を禁止するものではない。表示装置１０は、ボトムエミッション方式でも適用可能である。ボトムエミッション方式では、発光素子１０４から生じた光が－Ｚ方向に向けられ外部に出射される。

（副画素の種類）
　図１Ａ、図１Ｂ及び図１Ｃ等の例では、表示装置１０の発光色に対応する複数の色種として赤色、緑色、青色の３色が定められ、副画素として、副画素１０１Ｒ、副画素１０１Ｇ、副画素１０１Ｂの３種が設けられる。副画素１０１Ｒ、副画素１０１Ｇ、副画素１０１Ｂは、それぞれ赤色の副画素、緑色の副画素、青色の副画素であり、それぞれ赤色、緑色、青色の表示を行う。ただし、図１の例は、一例であり、表示装置１０を、３つの色種に対応した複数の副画素を有する場合に限定するものではない。また、赤色、緑色、青色の各色種に対応する光の波長は、例えば、それぞれ６１０ｎｍから６５０ｎｍの範囲（赤色の波長帯）、５１０ｎｍから５９０ｎｍの範囲（緑色の波長帯）、４４０ｎｍから４８０ｎｍの範囲（青色の波長帯）にある波長として定めることができる。なお、副画素の色種の数は、ここに示す３色に限定されず、２色でもよいし、４色等でもよい。また、副画素の色種は、赤色、緑色、青色に限定されず、黄色や白色等であってもよい。

　また、表示装置１０における副画素１０１Ｂ、１０１Ｒ、１０１Ｇのレイアウトは、特に限定されないが、図１の例では、表示面を構成する所定の領域において、１つの画素を構成する副画素１０１Ｂ、１０１Ｒ、１０１Ｇがストライプ状に配置され、且つ、各画素が二次元的に設けられたレイアウトとなっている。したがって、図１の例に示される表示装置１０では、複数の色種に対応する複数の副画素１０１Ｂ、１０１Ｒ、１０１Ｇが、二次元的に且つストライプ状のレイアウトで設けられている。なお図１Ｂは一例であり、後述するように、本開示において、副画素１０１Ｂ、１０１Ｒ、１０１Ｇのレイアウトを限定するものではない。図１Ａの例は、表示装置１０の表示エリア１０Ａを説明するための図である。

　本明細書の説明では、副画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂの種類を特に区別しない場合、副画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂは、副画素１０１という語で総称される。

（副画素の駆動）
　表示装置１０は、一般的に、制御回路（図示しない）、ＨドライバやＶドライバ（図示しない）を備えており、制御回路は、ＨドライバやＶドライバの駆動を制御する。ＨドライバとＶドライバは、各副画素１０１に対して二次元行列を割り当てた場合に、それぞれ列単位と行単位で副画素１０１の駆動を制御する。

（発光素子基板）
　図１Ｃの例では、表示装置１０は、発光素子基板１０３を有する。発光素子基板１０３は、基板１１の上に、無機絶縁層１２と発光素子１０４とを形成している。ここに発光素子１０４は、後述するように、順に、第１の電極１３、有機層１４、第２の電極１５を積層した構造を有する。

（基板）
　基板１１は、例えば、水分および酸素の透過性が低いガラスまたは樹脂で構成されていてもよく、トランジスタ等の形成が容易な半導体で形成されてもよい。具体的には、基板１１は、ガラス基板、半導体基板または樹脂基板等であってもよい。

　基板１１の上には、図１Ｃ、図２に示すように、無機絶縁層１２が設けられており、無機絶縁層１２内には複数の発光素子１０４を駆動する各種回路が設けられている。各種回路としては、発光素子１０４の駆動を制御する駆動回路、複数の発光素子１０４に電力を供給する電源回路（いずれも図示せず）を例示することができる。各種回路は、無機絶縁層１２により、外部への露出を規制されている。また、基板１１には、発光素子１０４と基板１１上に設けられた回路等を第１の電極１３等とに接続するための配線１１０が設けられる。配線１１０としては、複数のコンタクトプラグを挙げることができる。

（無機絶縁層）
　無機絶縁層１２は、例えば有機材料または無機材料により構成される。有機材料は、例えば、ポリイミドおよびアクリル樹脂のうちの少なくとも１種を含む。無機材料は、例えば、酸化シリコン、窒化シリコン、酸窒化シリコンおよび酸化アルミニウムのうちの少なくとも１種を含む。

（溝又は段差）
　無機絶縁層１２は、溝又は段差を有する。溝又は段差は、高低差部（高さ方向の位置の差を形成する部分）（図２においては、第１高低差部１３３）を形成する。図１Ａ、図２に示すように、発光素子基板１０３の厚み方向（Ｚ軸方向）を視線方向とした場合に、無機絶縁層１２は、外側エリア１０Ｂに対応した位置に、溝又は段差を有する。図２の例では、無機絶縁層は、溝２７Ａを有している。溝２７Ａのレイアウトは特に限定されないが、表示エリア１０Ａの周囲を取り巻くように、溝２７Ａが環状に形成されていることが好ましい。図１Ａ、図２の例では、溝２７Ａが矩形環状に形成されている。

（溝）
　溝２７Ａは、上述したように、発光素子基板１０３の厚み方向（Ｚ軸方向）を視線方向とした場合（表示装置１０の平面視上）、表示エリア１０Ａの外側の位置）に形成されている。また、溝２７Ａは、壁部１２７と底面１２８を有しており、おおむね封止基板２２の端部４１の下側位置又はその下側位置よりも表示エリア１０Ａ側（図２では－Ｘ方向側）に寄った所定位置に形成されていることが好ましい。Ｚ軸方向を視線方向とした場合に、溝２７Ａの底面１２８の少なくとも一部は、表示装置１０の平面視上、後述する封止基板２２の端部４１の端面４１Ａ（傾斜部４０の先端４０Ｂ）から傾斜部４０の基端４０Ａまでの間に対応した領域に、形成されていることが好適である。この場合、表示装置１０の製造時に、図２に示すように、溝２７Ａの壁部１２７に接し且つ第１壁部１２７Ａを覆うように被覆部１６０を形成し、溝内空間１２９のうち被覆部１６０を除く部分１２９Ａを端面コート部４２等で埋めることが容易となる。なお、溝内空間１２９とは、溝２７Ａの壁部１２７（第１壁部１２７Ａと第２壁部１２７Ｂ）と底面１２８で囲まれた空間部分を示すものとする。

　溝２７Ａは、図１Ａの例では、矩形環状に形成されているがこれは一例であり、矩形環状に限定されず、円環状、楕円環状等でもよい。

（溝の断面形状）
溝２７Ａの断面形状は、特に限定されず、図２の例のように非テーパー状でもよいし、テーパー状でもよいし、逆テーパー状でもよい。

（溝の幅）
　溝２７Ａの幅は、少なくとも、無機絶縁層１２上に後述する保護層１６を形成した場合に、保護層１６の被覆部１６０の上面側に溝２７Ａに対応した高低差構造（図２においては第２高低差部１３４）が形成できるような大きさであれば特に限定されない。第２高低差部１３４となる高低差構造は、凹状構造や段差状構造を例示することができる。また、第２高低差部１３４となる高低差構造が形成されていると、保護層１６内を伝う水分侵入経路を延長することができる。高低差構造の形成の観点から、溝２７Ａの幅は、保護層１６の厚みよりも大きいことが好ましい。特に、図２の例では、溝２７Ａの壁部１２７や底面１２８の一部が第１保護層１６Ａに接し且つ壁部１２７や底面１２８が覆われるため、溝２７Ａの幅Ｗｄ１は、第１保護層１６Ａの厚みＷｍよりも大きいことが好ましい。

（溝の深さ）
　溝２７Ａの深さは、無機絶縁層１２上に後述する保護層１６を形成した場合に、保護層１６の被覆部１６０の上面側に、溝２７Ａに対応した高低差構造が形成することができるような深さとなっている。この観点から、溝２７Ａの深さは、保護層１６の厚みよりも大きいことが好ましい。特に、図２の例では、溝２７Ａの底面１２８の一部が第１保護層１６Ａに接し且つ底面１２８が覆われるため、溝２７Ａの深さＷｄ２は、第１保護層１６Ａの厚みＷｍよりも大きいことが好ましい。

（溝又は段差の数）
　図２等の例では、溝又は段差として溝２７Ａが１つ形成されているが、溝又は段差は２以上設け得られてもよい。例えば、図６に示すように、表示エリア１０Ａを囲むように、外側エリア１０Ｂに複数の溝２７Ａが環状に形成されていてもよい。図６は、溝又は段差が複数形成されている場合の一実施例を説明するための平面図である。図６のように内外方向に２以上の溝２７Ａが形成されている場合、溝２７Ａの位置は、外側エリア１０Ｂであれば特に限定されるものではない。例えば、最も外側の溝２７Ａの底面１２８上に傾斜部４０の基端４０Ａが位置しているように溝２７Ａが形成され、最も外側の溝２７Ａよりも内側の溝２７Ａが外側エリア１０Ｂにおいて傾斜部４０の基端４０Ａよりも表示エリア１０Ａ側に寄った所定位置に形成されている。また、溝又は段差の組み合わせについては、表示エリア１０Ａを囲むように、溝２７Ａと後述する第１の実施形態の変形例に示すような段差２７Ｂとの組み合わせでもよい。

（発光素子）
　無機絶縁層１２の第１の面上に、複数の発光素子１０４が設けられている。図１、図２、等の例では、発光素子１０４は、有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）となっている。複数の発光素子１０４として、副画素１０１の色種に対応する色を発光面からの出射光とする（発光色とする）発光素子が設けられる。例えば、副画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂには、それぞれ発光素子１０４Ｒ、１０４Ｇ、１０４Ｂが形成されている。また複数の発光素子１０４は、それぞれの色種の副画素１０１の配置に対応したレイアウトとなっている。なお、本明細書において、発光素子１０４Ｒ、１０４Ｇ、１０４Ｂといった種類が特に区別されない場合、発光素子１０４という語が使用される。

　発光素子１０４は、順に、第１の電極１３と、有機層１４と、第２の電極１５と積層した積層構造を備える。第１の電極１３、有機層１４および第２の電極１５は、基板１１側からこの順序で、第２の面から第１の面に向かう方向（＋Ｚ方向）に積層されている。

（第１の電極）
　第１の電極１３は、基板１１の第１の面側に複数設けられる。図２の例では、第１の電極１３は、アノード電極である。

　第１の電極１３は、金属層および金属酸化物層のうちの少なくとも一層により構成されている。第１の電極１３は、金属層もしくは金属酸化物層の単層膜、または金属層と金属酸化物層の積層膜により構成されていてもよい。

　金属層は、例えば、クロム（Ｃｒ）、金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、ニッケル（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）、モリブデン（Ｍｏ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、アルミニウム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、鉄（Ｆｅ）、タングステン（Ｗ）および銀（Ａｇ）からなる群より選ばれる少なくとも１種の金属元素を含む。金属層は、上記少なくとも１種の金属元素を合金の構成元素として含んでいてもよい。合金の具体例としては、アルミニウム合金または銀合金が挙げられる。アルミニウム合金の具体例としては、例えば、ＡｌＮｄまたはＡｌＣｕが挙げられる。

　金属酸化物層は、例えば、インジウム酸化物と錫酸化物の混合体（ＩＴＯ）、インジウム酸化物と亜鉛酸化物の混合体（ＩＺＯ）および酸化チタン（ＴｉＯ）のうちの少なくとも１種を含む。

　図１Ｃ、図２においては、第１の電極１３は、副画素１０１毎に、電気的に分離されている。すなわち、第１の電極１３は、基板１１の第１の面側に複数設けられ、且つ副画素１０１毎に設けられている。

　また、隣り合う第１の電極１３の間には、絶縁性を有する層が形成されていることが好ましい。図１Ｃ、図２の例では、無機絶縁層１２が、隣り合う第１の電極１３の間に形成されている。図１Ｃ、図２等の例では、無機絶縁層１２は、各第１の電極１３を発光素子１０４毎（すなわち副画素１０１毎）に電気的に分離する。また、図１Ｃに示すように、無機絶縁層１２には、第１の面側に開口部１２Ａが形成されており、第１の電極１３の第１の面（第２の電極１５との対向面）は、無機絶縁層１２の開口部１２Ａから露出しており、第１の電極１３のうち開口部１２Ａから露出した部分が、無機絶縁層１２の介在を避けて後述する有機層１４に対面する。なお、無機絶縁層１２は、隣り合う第１の電極１３の間のみならず、第１の電極１３の縁部上に乗り上げるように形成されてもよい。第１の電極１３の縁部は、第１の電極１３の外周縁から第１の電極１３の中央側に寄った所定の位置までの部分で定められる。この場合においても、無機絶縁層１２は、開口部１２Ａを有しており、開口部１２Ａから第１の電極１３の第１の面が露出している。

（発光素子）
　表示装置１０では、基板１１の第１の面の上方側に、複数の発光素子１０４が設けられている。図１Ｃの例では、複数の発光素子１０４として、個々の副画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂに対応するように個々の発光素子１０４Ｒ、１０４Ｇ、１０４Ｂが形成される。本明細書において、発光素子１０４Ｒ、１０４Ｇ、１０４Ｂといった種類が特に区別されない場合、発光素子１０４という語が使用される。複数の発光素子１０４は、ストライプ状の配置パターンで二次元配置されている。

（有機層）
　有機層１４は、第１の電極１３と第２の電極１５の間に設けられている有機発光層である。有機層１４は、副画素１０１に共通する層として設けられている。有機層１４は、図１Ｃの例では、副画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂに共通しており、白色光を発光可能に構成されている。ただし、このことは、有機層１４の発光色が白色以外であることを禁止するものではなく、赤色、青色、緑色などの色が採用されてもよい。すなわち、有機層１４の発光色は、例えば白色、赤色、青色及び緑色のいずれか１種類であってよい。

　有機層１４は、例えば、第１の電極１３から第２の電極１５に向かって正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層がこの順序で積層された構成を有する。電子輸送層と第２の電極１５との間には、電子注入層を設けてもよい。電子注入層は、電子注入効率を高めるためのものである。なお、有機層１４の構成はこれに限定されるものではなく、発光層以外の層は必要に応じて設けられるものである。

　正孔注入層は、発光層への正孔注入効率を高めるためのものであると共に、リークを抑制するためのバッファ層である。正孔輸送層は、発光層への正孔輸送効率を高めるためのものである。電子輸送層は、発光層への電子輸送効率を高めるためのものである。

　発光層は、電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり、光を発生するものである。発光層は、有機発光材料を含む有機化合物層である。

（第２の電極）
　有機層１４の上側には、第２の電極１５が設けられる。第２の電極１５のうち、副画素１０１に対応する部分（発光素子１０４に対応する部分）では、第１の電極１３と対向するように設けられている。第２の電極１５は、複数の副画素１０１に共通の電極として設けられている。第２の電極は、複数の前記副画素に共通に形成されている。第２の電極１５は、カソード電極である。第２の電極１５は、有機層１４で発生した光に対して透過性を有する透明電極であることが好適である。ここでいう透明電極は、透明導電層で形成されたもの、及び透明導電層と半透過反射層を有する積層構造で形成されたものを含む。

　透明導電層は、光透過性が良好で仕事関数が小さい透明導電材料が好適に用いられる。透明導電層は、例えば、金属酸化物で形成することができる。具体的に、透明導電層の材料としては、インジウム酸化物と錫酸化物の混合体（ＩＴＯ）、インジウム酸化物と亜鉛酸化物の混合体（ＩＺＯ）および酸化亜鉛（ＺｎＯ）のうちの少なくとも１種を含むものを例示することができる。

　半透過反射層は、例えば金属層で形成することができる。具体的には、半透過反射層の材料は、マグネシウム（Ｍｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）および銅（Ｃｕ）からなる群より選ばれる少なくとも１種の金属元素を含むものを例示することができる。金属層は、上記少なくとも１種の金属元素を合金の構成元素として含んでいてもよい。合金の具体例としては、ＭｇＡｇ合金、ＡｇＰｄＣｕ合金等が挙げられる。

（補助電極）
　表示装置１０には、外側エリア１０Ｂに補助電極３１が設けられている。補助電極２６は、基板１１側に形成された各種の回路と第２の電極１５との電気的接続を中継する。

　補助電極２６の材質は、導電性材料であれば特に限定されず、例えば金属等を用いることができる。図２に示すように第２の電極１５が、表示エリア１０Ａからその外側（外側エリア１０Ｂ）まで延長され、補助電極２６に接続されることで、第２の電極１５と補助電極２６との電気的接続を実現することができる。

　補助電極２６は、図２の例では、表示エリア１０Ａの平面視上、表示エリア１０Ａの周囲を取り巻くように環状に形成されている。ただし、図２は、一例であり、補助電極２６のレイアウトを環状に限定するものではない。

（保護層）
　表示装置１０においては、発光素子基板１０３の上には、発光素子１０４の形成面側（第１の面）を覆うように、保護層１６が形成されていることが好適である。保護層１６は、発光素子１０４の第１の面を外気に触れにくくし、外部環境から発光素子１０４への水分侵入を抑制する。

　保護層１６は、絶縁材料で形成される。絶縁材料としては、例えば、熱硬化性樹脂などを用いることができる。そのほかにも、絶縁材料としては、ＳｉＯ、ＳｉＯＮ、ＡｌＯ、ＴｉＯ等でもよい。この場合、保護層１６として、ＳｉＯ、ＳｉＯＮ等を含むＣＶＤ膜や、ＡｌＯ、ＴｉＯ、ＳｉＯ等を含むＡＬＤ膜等を例示することができる。なお、ＣＶＤ膜は、化学気相成長法（ｃｈｅｍｉｃａｌ　ｖａｐｏｒ　ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）を用いて形成された膜を示す。ＡＬＤ膜は、原子層堆積法（Ａｔｏｍｉｃ　ｌａｙｅｒ　ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）を用いて形成された膜を示す。保護層１６は、単層で形成されてもよいし、複数の層を積層した構造を有してもよい。図２の例では、保護層１６は、第１保護層１６Ａと第２保護層１６Ｂの積層構造を有している。第１保護層１６Ａ、第２保護層が、それぞれ所定の絶縁材料で形成された層であってもよいし、第１保護層１６Ａ、第２保護層１６Ｂが、それぞれＣＶＤ膜、ＡＬＤ膜で形成されてもよい。

　保護層１６が、発光素子基板１０３の第１の面に近い方から第１保護層１６Ａ、第２保護層１６Ｂの順に積層した積層構造を有する場合、第２保護層１６Ｂの方が後述するシール層２９等との密着性が弱い場合が多い。そこで、第１保護層１６Ａよりも第２保護層１６Ｂの方がシール層２９との接触面積が狭くなるように保護層１６を形成していることが好ましい。具体的に、図２の例では、第１保護層１６Ａが、表示エリア１０Ａ及び外側エリア１０Ｂに広範囲に形成されており、また溝２７Ａの壁部１２７に接し且つ壁部１２７を覆っている。第１保護層１６Ａの外側端面１６２は、後述する、端面コート部４２で被覆されている。第２保護層１６Ｂは、その外側端面１６３の位置が溝２７Ａよりも表示エリア１０Ａ側（図２では－Ｘ方向側）の所定位置となるように、形成されている。なお、図２の例では、第２保護層１６Ｂの外側端面１６３は、後述する、第１平坦化層２４で被覆されている。

（被覆部）
　外側エリア１０Ｂでは、発光素子基板１０３の厚み方向を視線方向とした場合に、保護層１６は、被覆部１６０を有する。被覆部１６０は、保護層１６のうち溝又は段差の少なくとも一部の面（壁部や底面）を覆う部分である。溝又は段差の少なくとも一部の面を覆うとは、溝又は段差を直接覆う場合のみならず、他の層を介して間接的に溝又は段差を覆う場合を含むものとする。

　図２の例では、被覆部１６０は、保護層１６のうち第１保護層１６Ａで形成されている。また、被覆部１６０は、溝２７Ａの壁部１２７に接し且つ第１壁部１２７Ａを覆っており、また溝２７Ａの底面１２８の一部を覆っている。保護層１６の被覆部１６０が、その上面側（第１の面側）に凹状構造又は段差状構造を形成しており、図２の例では、被覆部１６０の上面側で段差状構造を形成している。また保護層１６は、被覆部１６０の上面側の所定の空間として上側空間１６１を形成している。上側空間１６１は、凹状構造又は段差状構造の上面側の空間に対応する部分である。被覆部１６０の上面側に段差状構造が形成されている場合には、上側空間１６１は、段差状構造の側壁部の部分から外側且つ底部の部分から上側の空間として定められた空間を示す。被覆部１６０の上面側に凹状構造が形成されている場合には、上側空間１６１は、凹状構造の内面で囲まれた空間として定められた空間を示す。上側空間１６１は無機絶縁層１２の溝又は段差（図２の例では溝２７Ａ）の直上に形成される。また、被覆部１６０の上側の空間（上側空間１６１）はシール層２９で埋められており、シール層２９の端面１６４は端面コート部４２で被覆されている。

（平坦化層及び機能層）
　保護層１６の上（第１の面）を覆うように、平坦化層２３及び機能層１０５が形成されている。

（平坦化層）
　平坦化層２３として、図２の例では、第１平坦化層２４と第２平坦化層２５が形成されている。第１平坦化層２４は、図２に示すように、保護層１６の上に形成されている。第１平坦化層２４は、無機材料で形成された層であってもよいし、有機材料で形成された層であってもよい。無機材料としては、保護層１６と同様の材質を例示することができる。有機材料としては、樹脂材料などを例示することができる。第１平坦化層２４は、後述するカラーフィルタ１８を形成するための面の平坦性を向上することができる。また、第１平坦化層２４は、保護層１６とともに、発光素子１０４の第１の面を外気に触れにくくし、外部環境から発光素子１０４への水分侵入を抑制することができる。

　第１平坦化層２４は、図２の例では、第２保護層１６Ｂを覆い、第２保護層１６Ｂの外側端面１６３よりも外側エリア１０Ｂ側の位置（図２では＋Ｘ方向側の位置）且つ溝２７Ａよりも表示エリア１０Ａ側（図２では－Ｘ方向側の位置）の所定位置を端面１６５の位置とするように形成されている。第１平坦化層２４の端面１６５は、後述する第２平坦化層２５で覆われている。

　第２平坦化層２５は、後述するカラーフィルタ１８の第１の面上に形成されている。第２平坦化層２５は、第１平坦化層２４と同様に、無機材料で形成された層であってもよいし、有機材料で形成された層であってもよい。第２平坦化層２５は、第１平坦化層２４と同じ材質で形成されていてもよいし、異なる材質で形成されてもよい。

（機能層）
　第１平坦化層２４の上には、機能層１０５が形成されている。機能層１０５は、平坦化層２３を除く層構造であり、且つ、保護層１６の上方側に形成される層構造を示す。機能層１０５としては、カラーフィルタ１８、シール層２９、充填層２８、レンズ２１などを例示することができる。

（カラーフィルタ）
　表示装置１０では、第１平坦化層２４の第１の面側（上側、＋Ｚ方向側）には、カラーフィルタ１８が設けられている。カラーフィルタ１８としては、オンチップカラーフィルタ（Ｏｎ　Ｃｈｉｐ　Ｃｏｌｏｒ　Ｆｉｌｔｅｒ：ＯＣＣＦ）を例示することができる。カラーフィルタ１８として、第１のカラーフィルタ１９と第２のカラーフィルタ２０が設けられている。カラーフィルタ１８の材質としては、有機材料を例示することができる。

（第１のカラーフィルタ）
　第１のカラーフィルタ１９は、おおむね表示エリア１０Ａ内に形成されていることが好適である。また、第１のカラーフィルタ１９は、副画素１０１の色種に応じて設けられる。第１のカラーフィルタ１９は、例えば、図１Ｃの例では、赤色のカラーフィルタ（赤色フィルタ１９Ｒ）、緑色のカラーフィルタ（緑色フィルタ１９Ｇ）および青色のカラーフィルタ（青色フィルタ１９Ｂ）を挙げることができる。赤色フィルタ１９Ｒ、緑色フィルタ１９Ｇ、青色フィルタ１９Ｂはそれぞれ、副画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂに設けられる。表示装置１０に第１のカラーフィルタ１９が設けられていることで、副画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂの色種に対応した光を効果的に外部に取り出すことができる。

（第２のカラーフィルタ）
　第２のカラーフィルタ２０は、最も外側に設けられた第１のカラーフィルタ１９の外側に形成されている。図２では、第２のカラーフィルタ２０は、おおむね外側エリア１０Ｂに形成されている。第２のカラーフィルタ２０は、補助電極２６の上側（＋Ｚ方向側）を覆うように形成されている。第２のカラーフィルタ２０は、遮光性を有する層として機能する。第２のカラーフィルタ２０は、赤色のカラーフィルタ（赤色フィルタ２０Ｒ）と青色のカラーフィルタ（青色フィルタ２０Ｂ）を積層した構造を有している。赤色フィルタ２０Ｒは、赤色フィルタ１９Ｒと同様の素材を用いて、同時に形成されてよい。青色フィルタ２０Ｂは、青色フィルタ１９Ｂと同様の素材を用いて、同時に一体的に形成されてよい。

　赤色フィルタ２０Ｒは、例えば、可視光のうち赤色の波長帯の光を通しやすく、他色の波長帯の光を吸収しやすいフィルタを例示することができる。青色フィルタ２０Ｂは、可視光のうち青色の波長帯の光を通しやすく、他色の波長帯の光を吸収しやすいフィルタを例示することができる。このような赤色フィルタ２０Ｒと青色フィルタ２０Ｂを積層した構造によれば、広範囲の波長帯の光について光の遮断が実現することができる。したがって、表示エリア１０Ａの発光素子１０４で生じた光のうち斜め方向に外側エリア１０Ｂから外部に向かう光が、おおむね第２のカラーフィルタ２０で透過を抑制されるようになる。こうして第２のカラーフィルタ２０による光の漏れ出しの抑制効果が発揮される。表示装置１０の外部から基板１１側に向かう光については、第２のカラーフィルタ２０によって遮断されるようになり、外光の侵入が抑制される。

　このように第２のカラーフィルタ２０は、赤色フィルタ２０Ｒと青色フィルタ２０Ｂが積層された状態で遮光性を有しており、赤色フィルタ２０Ｒと青色フィルタ２０Ｂの積層構造が、遮光用のフィルタとして機能している。なお、図２Ａに示す一例では、第２のカラーフィルタ２０の最内側端は、第１のカラーフィルタ１９の最外側端に接している。

　第２のカラーフィルタ２０の外端の端面１６７の位置は、溝２７Ａよりも表示エリア１０Ａ側の所定位置となっており、第２のカラーフィルタ２０の外端の端面１６７は、第２平坦化層２５で覆われている。

（シール層）
　カラーフィルタ１８の上には、シール層２９が形成されている。シール層２９は、発光素子基板１０３の厚み方向を視線方向として（発光素子基板１０３の平面視上）、少なくとも第２のカラーフィルタ２０の一部を覆うような領域に形成されていることが好適であり、おおむね外側エリア１０Ｂの領域を覆うように形成されていることが好適である。図２の例では、シール層２９は、第２平坦化層２５を被覆するように形成されている。また、シール層２９は、溝２７Ａ内の空間（溝内空間１２９）を覆う被覆部１６０の上側に形成された上側空間１６１の少なくとも一部を埋めるように形成されている。図２の例では、上側空間１６１がシール層２９で埋められ、端面コート部４２でシール層２９の端面１６４が被覆されている。シール層２９はシール材から形成されている。シール材２９Ａは、透明接着層であることが好ましい。シール層２９の材質（シール材２９Ａの材質）としては、樹脂材料等を用いられてよい。シール層２９の材質は、特に限定されないが、カラーフィルタ１８よりも耐湿性の高いものが好適に用いられる。シール層２９には、吸湿性材料が添加されていてもよい。

（レンズ）
　機能層１０５は、レンズ２１を有してもよい。レンズ２１は、第１のカラーフィルタ１９上に（第１の面上に）形成されていることが好ましい。レンズ２１は、図１の例では、それぞれの副画素１０１に応じたレイアウトで設けられている。レンズ２１は、オンチップレンズ（Ｏｎ　Ｃｈｉｐ　Ｌｅｎｄｓ：ＯＣＬ）であることが好適である。

　レンズ２１の形状は特に限定されない。レンズ２１としては、第１の面側に凸型に湾曲した湾曲面を有する凸状形状に形成されたレンズ（いわゆる凸レンズ）を、例示することができる。なお、図２では、説明の便宜上、特にレンズ２１の形状を規定していない。これは、図３か図５、図７から図１７においても同じである。レンズ２１が設けられていることで、発光素子１０４から生じた光を表示エリア１０Ａから出射するように調整することが一層容易となり、光の利用効率を向上させることができる。

（充填層）
　表示エリア１０Ａには、図２に示すように、レンズ２１の第１の面側を被覆するように、充填層２８が設けられていることが好ましい。充填層２８が設けられていることで、表示エリア１０Ａの第１の面側を平滑化するとともに、レンズ２１や発光素子１０４を外気や水分から保護することができる。充填層２８は、上記したシール層２９と同様に、透明接着層としての機能を有する層であることが好ましい。充填層２８の材質については、上記したシール層２９と同様に、樹脂材料を用いられてよい。

　なお、図２の例では、充填層２８は、上記したシール層２９と区別されているが、これは一例であり、これに限定されない。充填層２８は、シール層２９と一体的に形成されてもよい。これは、図２の例に示すように、充填層２８は、図２に示すシール層２９として表示された部分も含めて、第２平坦化層２５の第１の面側の全体を覆うように、一面に形成されることで具体的に実現することができる。この場合、充填層２８がシール層２９を兼ねる。なお、この場合においては、シール材２９Ａは、充填層２８を形成する材料で形成され、充填層２８を形成する材料で上側空間１６１も埋められる。

（封止基板）
　充填層２８を覆うように、封止基板２２が設けられていてもよい（図示しない）。封止基板２２の材質は、基板１１の材料等を用いることができる。例えば、封止基板２２としてガラス基板を用いることができる。ガラス基板の材質は特に限定されず、発光素子１０４から発光される光を透過させる物質にて形成されていればよい。ガラス基板の材質としては、例えば、高歪点ガラス、ソーダガラス、硼珪酸ガラス、鉛ガラス等の各種ガラス基板、石英基板等を挙げることができる。

（封止基板の端部の形状）
　封止基板２２の端部４１には、発光素子基板１０３に向かい合うほうの面（第２の面）側に傾斜部４０が形成されていることが好ましい。傾斜部４０は、封止基板２２の第２の面に、封止基板２２の端面４１Ａの位置から内側に向かって下り傾斜する傾斜面を形成している。傾斜部４０の基端４０Ａ（内側端）の位置は特に限定されないが、溝２７Ａの底面１２８の直上となるような位置であることが好ましい。図２の例では、傾斜部４０は、湾曲傾斜面を形成し、傾斜部４０の基端４０Ａの直下に、シール層２９の端面１６４が形成されている。この場合、後述する端面コート部４２とシール層２９との界面の位置を溝２７Ａの底面１２８の内側に位置させることができ、シール層２９の端面１６４の位置と第１保護層１６Ａの外側端面１６２の位置を内外方向の位置についておおむね揃えることで、溝内空間１２９の一部（部分１２９Ａ）が端面コート部４２で埋められた状態を形成することが容易となる。

（端面コート部）
　発光素子基板１０３と封止基板２２との間の部分には、シール層２９の外側を覆うように、端面コート部４２が設けられていることが好ましい。図２の例では、端面コート部４２は、第２壁部１２７Ｂと底面１２８の一部に接し、溝内空間１２９の部分１２９Ａを埋めており、シール層２９の端面１６４と第１保護層１６Ａの外側端面１６２を被覆している。端面コート部４２の材質は、特に限定されないが、例えば、樹脂材料等、コート層と同様の材質を例示することができる。端面コート部４２は、シール層２９の端面等を被覆する。また、端面コート部４２は、層構造応じて、シール層２９や保護層１６の端面のみならず、無機絶縁層１２、基板１１等の端面を被覆してもよい。

［１－２　製造方法］
　表示装置１０の製造方法の一実施例について説明を続ける。図３Ａに示すように、基板１１に、回路等を搭載し、無機絶縁層１２を形成し、配線１１０や補助電極２６等を形成する。無機絶縁層１２には、外側エリア１０Ｂに溝又は段差（図３Ａの例では溝２７Ａ）が形成される。図３Ｂに示すように、さらに発光素子１０４を形成することで発光素子基板１０３を形成し、発光素子基板１０３の第１の面側に保護層１６を形成する。さらに、図３Ｃに示すように、第１平坦化層２４、カラーフィルタ１８、第２平坦化層２５、レンズ２１を形成する。このとき、カラーフィルタ１８として、第１のカラーフィルタ１９と第２のカラーフィルタ２０を形成する。カラーフィルタ１８は、ＯＣＣＦとなっている。ここまで、一般的な表示装置の製造工程が実施されてよい。次に、レンズ２１を覆うように充填層２８を形成する。そして、充填層２８の周囲をシール層２９で覆う（図３Ｄ）。さらに、図４Ａに示すように、封止基板２２を配置する。封止基板２２を配置する際に、封止基板２２から充填層２８とシール層２９へ力が加わり、充填層２８とシール層２９の隙間が埋められ、シール層２９の端面１６４が上側空間１６１に進出する（図４Ｂ）。シール層２９の端面１６４の位置は、おおむね封止基板２２における傾斜部４０の基端４０Ａの位置となっている（なお、図４Ａ、図４Ｂでは説明の便宜上、傾斜部４０の記載を省略している）。さらに、保護層１６のうち、シール層２９の端面１６４から外側に位置している部分がエッチング処理によって取り除かれる（図４Ｂ）。このとき、溝２７Ａの内部に形成された保護層１６の一部が除かれ、溝内空間１２９の一部（部分１２９Ａ）が露出する。そして、第１保護層１６Ａの外側端面１６２及びシール層２９の端面１６４を覆うように、端面コート部４２が形成される。このとき、溝内空間１２９の部分１２９Ａが端面コート部４２で埋められる。また、無機絶縁層１２の端面１６９も端面コート部４２で覆われてよい。これにより、図２に例示するような表示装置１０を製造することができる。ここに示す製造方法は、一例であり、表示装置１０の製造方法はこれに限定されない。

［１－３　作用及び効果］
　表示装置においては、その外側から水分が侵入し、外側エリアから表示エリアまで到達すると、発光素子などが破損し、表示エリアに非発光領域を生じてしまう可能性がある。そこで表示装置には水分の侵入を抑制することが要請されている。水分の侵入経路としては、異なる層構造の界面を伝う経路や水分を侵入されやすい層の内部を伝う経路が考えられる。

　第１の実施形態にかかる表示装置１０においては、図２に示すように、溝２７Ａが形成されており、溝２７Ａの壁部１２７と底面１２８の一部を覆うように壁部１２７と底面１２８に沿って保護層１６の被覆部１６０が形成されている。したがって、無機絶縁層１２と保護層１６の界面を伝って外部から外側エリアから表示エリアまで水分が侵入するまでの経路長さ（水分侵入経路Ｎ１の長さ）を延長することができる。また、保護層１６の内部への水分の侵入が生じても、被覆部１６０で、その上面側に段差状構造又は凹状構造が形成される（上側空間１６１が形成される）ため、保護層１６の内部を伝って水分が表示エリアに到達する侵入経路の長さ（水分侵入経路Ｎ２の長さ）を延長することができる。

　また、保護層１６の被覆部１６０の形成部分の上面側（＋Ｚ方向側）には上側空間１６１が形成されており、この上側空間１６１にはシール層２９が埋め込まれている。保護層１６の被覆部１６０の第１の面側に凹状構造や段差状構造が形成されてもシール層で埋めることができ、表示装置１０における第１の面側の平滑性（図２では、シール層２９の第１の面側の平滑性）を保つことができる。

［１－４　変形例］
　第１の実施形態の表示装置１０において、無機絶縁層１２は、図２の例では、溝２７Ａが形成されていたが、これに限定されない。無機絶縁層１２には、溝２７Ａにかえて、例えば、図５に示すような段差２７Ｂが形成されてもよい。このような実施形態を第１の実施形態の変形例と称呼する。図５は、第１の実施形態の変形例にかかる表示装置１０の一実施例を示す断面図である。段差２７Ｂと、段差２７Ｂを被覆する構造とを除いては、上記図２等に例示した第１の実施形態の表示装置１０と同様である。

（段差）
　段差２７Ｂは、外側エリア１０Ｂの外側端部の付近に形成されている。図５の例では、段差２７Ｂは、無機絶縁層１２の外端の端面１６９に段差構造（段差２７Ｂによる第１高低差部１３３となる段差構造）を形成する。段差構造は、無機絶縁層１２の第１の面についてその高さ方向の位置（Ｚ軸方向の位置）の差（高低差）を形成する構造部である。なお、Ｚ軸方向を視線方向とした場合に、段差２７Ｂの壁部１３０が、傾斜部４０の基端４０Ａよりも表示エリア１０Ａに近い位置（図５では－Ｘ方向側の位置）に、形成されていることが好適である。

（被覆部）
　図５の例では、保護層１６の被覆部１６０は、第１保護層１６Ａで形成されている。被覆部１６０は、段差２７Ｂを形成する壁部１３０と段差２７Ｂの壁部１３０の下端で繋がる底面１３１の少なくとも一部に接し且つ壁部１３０と底面１３１の一部を覆うように形成されている。被覆部１６０は、第２高低差部１３４を形成しており、被覆部１６０の上側には、上側空間１６１が形成されており、シール層２９が上側空間１６１を埋めている。

（端面コート部）
　端面コート部４２は、保護層１６の端面（図５の例では第１保護層１６Ａの外側端面１６２）とシール層２９の端面１６４に接し且つ外側端面１６２と端面１６４を覆うように形成される。また、端面コート部４２は、無機絶縁層１２の表面のうち端面１６９の一部と、被覆部１６０から外側に露出した底面の一部（部分１３２）とを覆っている。

　第１の実施形態の変形例１にかかる表示装置１０においても、上記した［１－３　作用及び効果］で示したことと同様の効果を得ることができる。

［２　第２の実施形態］
　第２の実施形態にかかる表示装置１０は、図７に示すように、カラーフィルタ１８の下側位置に溝又は段差を形成している。第２の実施形態にかかる表示装置１０は、溝又は段差の形成位置を除き、第１の実施形態と同様である。以下、第１の実施形態と同様の構成については、説明が重複するため、説明を省略する。これは、第３実施形態以下に説明する各実施形態についても同様である。図７は、第２の実施形態にかかる表示装置の一実施例を模式的に示す断面図である。

（溝又は段差）
　第２の実施形態にかかる表示装置１０においては、無機絶縁層１２に溝又は段差が形成されている。図７の例では、無機絶縁層１２に溝２７Ａが形成されている。溝２７Ａは、発光素子基板１０３の厚み方向（Ｚ軸方向）を視線方向とした場合に、第２のカラーフィルタ２０の下側位置（真下の位置）に形成されている。溝２７Ａは、第１の実施形態と同様に、環状に形成されてよい。

（保護層）
　図７の例では、保護層１６は、第１の実施形態と同様に、第１保護層１６Ａ及び第２保護層１６Ｂの積層構造を有している。この例では、保護層１６の被覆部１６０についても、第１保護層１６Ａ及び第２保護層１６Ｂの積層構造を有している。また、被覆部１６０は、溝２７Ａの壁部１２７（第１壁部１２７Ａ及び第２壁部１２７Ｂ）と底面１２８に接しており、溝内空間１２９の少なくとも一部を埋めている。被覆部１６０は、上面側（第１の面側）に、第２高低差部１３４となる凹状構造を形成しており、凹状構造の内側に上側空間１６１を形成している。

（平坦化層）
　平坦化層２３として、保護層１６の少なくとも一部を被覆する第１平坦化層２４と、カラーフィルタ１８を被覆する第２平坦化層２５が形成されている。第２平坦化層２５は、第１の実施形態と同様に形成されている。第１平坦化層２４は、発光素子基板１０３の平面視上、溝２７Ａを覆うような領域に形成されている。第１平坦化層２４は、保護層１６の第２高低差部１３４の上方側を覆っており、すなわち被覆部１６０の位置に形成された上側空間１６１を覆っている。第１平坦化層２４は、上側空間１６１を埋めるように形成されている（空洞部１７０の形成を避けるように形成される）ことが好ましいがこれに限定されない。図７の例では、上側空間１６１の上側の開口を塞ぐように形成されており、被覆部１６０と第１平坦化層２４とで囲まれた空洞部１７０が形成されている。第１平坦化層２４は、吸湿性に優れた材質で形成されていることが好ましい。また、第１平坦化層２４は、吸湿性部材を有する層であることが好ましい。第１平坦化層２４が吸湿性部材を有し、且つ、溝２７Ａの上側に形成された上側空間１６１の上側の開口を塞いでいることで、外部から水分が第１平坦化層２４の吸湿性部材で取り除かれやすくなる。このため、第１平坦化層２４の内部を伝って表示エリア１０Ａ内まで水分が侵入しにくくなり、また、第１平坦化層２４と第２保護層１６Ｂとの界面を伝って水分が侵入しにくくなる。

（カラーフィルタ）
　カラーフィルタ１８として、第１の実施形態と同様に、第１のカラーフィルタ１９と第２のカラーフィルタ２０とが形成されている。第２の実施形態にかかる表示装置１０においては、発光素子基板１０３の厚み方向を視線方向とした場合に、第２のカラーフィルタ２０の形成領域の下側に溝２７Ａが形成されている。

　第２の実施形態にかかる表示装置１０においては、第１の実施形態と同様の効果を得ることができる。

　第２の実施形態にかかる表示装置１０においては、溝２７Ａの上に形成される被覆部１６０の上面に形成された上側空間１６１が第１平坦化層２４で覆われるため、第１の面側の平坦性を向上させることができる。したがって、第１平坦化層２４の上（上側空間１６１の上方側）に機能層１０５として第２のカラーフィルタ２０を密接性よく形成することができる。

［３　第３の実施形態］
　第３の実施形態にかかる表示装置１０は、図８に示すように、第１平坦化層２４が、上側平坦化層２４Ａと下側平坦化層２４Ｂを積層した構造を有している。第３の実施形態にかかる表示装置１０は、第１平坦化層２４の構造を除き、第２の実施形態にかかる表示装置と同様である。以下、第１の実施形態や第２の実施形態と同様の構成については、説明が重複するため、説明を省略する。図８は、第３の実施形態にかかる表示装置１０の一実施例を模式的に示す断面図である。

（溝又は段差）
　第３の実施形態にかかる表示装置１０においては、無機絶縁層１２に溝又は段差が形成されている。図８の例では、無機絶縁層１２に溝２７Ａが形成されている。溝２７Ａは、発光素子基板１０３の厚み方向（Ｚ軸方向）を視線方向とした場合に、第２のカラーフィルタ２０の下側位置（真下の位置）に形成されており、且つ、下側平坦化層２４Ｂの下側に形成されている。溝２７Ａは、第１の実施形態と同様に、環状に形成されてもよい。

（平坦化層）
　平坦化層２３として、保護層１６の少なくとも一部を被覆する第１平坦化層２４と、カラーフィルタ１８を被覆する第２平坦化層２５が形成されている。第２平坦化層２５は、第１の実施形態と同様に形成されている。第１平坦化層２４は、上述したように、上側平坦化層２４Ａと下側平坦化層２４Ｂを積層した構造を有する。上側平坦化層２４Ａは、発光素子基板１０３の厚み方向を視線方向として、表示エリア１０Ａと外側エリア１０Ｂに形成されている。下側平坦化層２４Ｂは、発光素子基板１０３の厚み方向を視線方向として、外側エリア１０Ｂに形成されており、且つ、被覆部１６０を介して溝２７Ａを覆うような領域に形成されている。下側平坦化層２４Ｂは、保護層１６の被覆部１６０の上面側に形成された上側空間１６１を覆っている。下側平坦化層２４Ｂは、上側空間１６１を埋めるように形成されていることが好ましいがこれに限定されない。図８の例では、下側平坦化層２４Ｂは、上側空間１６１の上側の開口を塞ぐように形成されており、被覆部１６０と下側平坦化層２４Ｂとで囲まれた空洞部１７０が形成されている。下側平坦化層２４Ｂは、吸湿性に優れた材質で形成されていることが好ましい。また、下側平坦化層２４Ｂは、吸湿性部材を有する層であることが好ましい。第１平坦化層２４については、上側平坦化層２４Ａと下側平坦化層２４Ｂのうち下側平坦化層２４Ｂのみに吸湿性部材を配合した状態とされてよい。この場合、表示エリア１０Ａに設けられた第１平坦化層２４については上側平坦化層２４Ａとなるため、表示エリア１０Ａ上の第１平坦化層２４の部分には吸湿性部材の配合が避けられる。したがって、発光素子１０４から生じた光の進行が第１平坦化層２４を通過する際に吸湿性部材で影響を受ける可能性を考慮する必要を、無くすることができる。また、下側平坦化層２４Ｂが吸湿性部材を有し、且つ、溝２７Ａの上側に形成された上側空間１６１を塞いでいることで、第１平坦化層２４と第２保護層１６Ｂとの界面を伝って水分が侵入した場合に、水分侵入経路の一部に下側平坦化層２４Ｂと第２保護層１６Ｂとの境界が存在するようになり、外部から侵入してきた水分が下側平坦化層２４Ｂと第２保護層１６Ｂとの境界に到達した時に下側平坦化層２４Ｂの吸湿性部材でその水分を取り除くことが容易となる。

　第３の実施形態にかかる表示装置１０においては、第１の実施形態と同様の効果を得ることができる。

［４　第４の実施形態］
　第４の実施形態にかかる表示装置１０は、図９に示すように、溝又は段差が、補助電極２６の形成領域に形成されている。第４の実施形態にかかる表示装置１０は、溝又は段差の形成位置を除き、第１の実施形態と同様である。以下、第１の実施形態と同様の構成については、説明が重複するため、説明を省略する。図９は、第４の実施形態にかかる表示装置１０の一実施例を模式的に示す断面図である。

（溝又は段差）
　第４の実施形態にかかる表示装置１０においては、無機絶縁層１２に溝又は段差が形成されている。図９の例では、無機絶縁層１２に、溝２７Ａが形成されている。溝２７Ａは、発光素子基板１０３の厚み方向を視線方向とした場合に、補助電極２６の下側に形成されている。特に、溝２７Ａは、図９の例に示すように、補助電極２６と第２の電極１５との接続部１７１の直下に形成されていることが好ましい。補助電極２６は、通常、外側エリア１０Ｂで環状に形成されており、溝２７Ａは、補助電極２６と同様に、環状に形成されてもよい。

（補助電極）
　補助電極２６は、図９の例では、溝２７Ａの壁部１２７（第１壁部１２７Ａと第２壁部１２７Ｂ）と底面１２８に接し且つ壁部１２７と底面１２８を被覆するように形成されている。補助電極２６は第１の面側の所定の領域で第２の電極１５に電気的に接続されている。

（補助電極と第２の電極との接続部）
　発光素子１０４を構成する第２の電極１５は、補助電極２６に繋がっている。第２の電極１５と補助電極２６とが繋がる部分である接続部１７１は、溝２７Ａに対応する部分の少なくとも一部を含む部分を覆う領域に形成されていることが好ましい。接続部１７１が溝２７Ａに対応する部分の少なくとも一部を覆う領域に存在していることで、第２の電極１５と補助電極２６との接続面積を拡大させることができ、第２の電極１５と補助電極２６の接触抵抗を減少させることができる。

（保護層）
　図９の例では、保護層１６は、第１の実施形態と同様に、第１保護層１６Ａ及び第２保護層１６Ｂの積層構造を有している。保護層１６の被覆部１６０についても、第１保護層１６Ａ及び第２保護層１６Ｂの積層構造を有している。また、被覆部１６０は、接続部１７１を介して溝２７Ａを覆っている。図９の例では、被覆部１６０は、溝２７Ａの上側（第１の面側）に、凹状構造を形成しており、凹状構造の内側に上側空間１６１を形成している。

（第１平坦化層）
　第１平坦化層２４は、保護層１６を覆うように形成されており、上側空間１６１を埋めている。第１平坦化層２４は、吸湿性に優れていることが好ましい。第１平坦化層２４は、吸湿性部材を含む層であってもよい。

　第４の実施形態にかかる表示装置１０においては、第１の実施形態と同様の効果を得ることができる。

［５　第５の実施形態］
　第５の実施形態にかかる表示装置１０は、図１０に示すように、溝又は段差が、補助電極２６の形成領域よりも表示エリア１０Ａ側（図１０では－Ｘ方向側の位置）に近い位置に設けられている。ただし、溝又は段差は、表示エリア１０Ａよりも外側（外側エリア１０Ｂ（図１０では＋Ｘ方向側）に設けられる。第５の実施形態にかかる表示装置１０は、溝又は段差の形成位置を除き、第１の実施形態と同様である。以下、第１の実施形態と同様の構成については、説明が重複するため、説明を省略する。図１０は、第５の実施形態にかかる表示装置１０の一実施例を模式的に示す断面図である。

（溝又は段差）
　第５の実施形態にかかる表示装置１０においては、無機絶縁層１２に溝又は段差が形成されている。図１０の例では、無機絶縁層１２に、溝２７Ａが形成されている。溝２７Ａは、発光素子基板１０３の厚み方向を視線方向とした場合に、補助電極２６の形成領域よりも表示エリア１０Ａ側に近い位置且つ表示エリア１０Ａよりも外側の位置（外側エリア１０Ｂの位置）に形成されている。溝２７Ａは、より具体的には、発光素子１０４を形成する第１の電極１３のうち最も外側に位置するも第１の電極１３と補助電極２６との間に形成されている。溝２７Ａは、外側エリア１０Ｂにおいて環状に形成されてもよい。

（有機層と第２の電極）
　発光素子１０４を構成する有機層１４と第２の電極１５は、図１０の例では、表示エリア１０Ａに形成されており、表示エリア１０Ａからさらに外側エリア１０Ｂの所定の領域まで連続的に形成されている。有機層１４と第２の電極１５は、補助電極２６に繋がっている。有機層１４は、発光素子基板１０３の厚み方向を視線方向とした場合に、溝２７Ａの少なくとも一部を含む部分を覆うように形成されていることが好ましい。第２の電極１５は、有機層１４を介して溝２７Ａの少なくとも一部を含む部分を覆うように形成されていることが好ましい。図１０の例では、有機層１４は、溝２７Ａの壁部１２７と底面１２８を覆っている。第２の電極１５は、有機層１４を介して溝２７Ａの壁部１２７と底面１２８を覆っている。

（保護層）
　図１０の例では、保護層１６は、第１の実施形態と同様に、第１保護層１６Ａ及び第２保護層１６Ｂの積層構造を有している。保護層１６の被覆部１６０についても、第１保護層１６Ａ及び第２保護層１６Ｂの積層構造を有している。被覆部１６０は、有機層１４と第２の電極１５を介して溝２７Ａを覆っている。図１０の例では、被覆部１６０は、第２の面側で第２の電極１５の第１の面に接しており、溝２７Ａの上面側（第１の面側）に、凹状構造を形成しており、凹状構造の内側に上側空間１６１を形成している。

（第１平坦化層）
　第１平坦化層２４は、保護層１６を覆うように形成されており、上側空間１６１を覆っている。図１０の例では、第１平坦化層２４と被覆部１６０との間に空洞部１７０が形成されている。ただし、このことは、第１平坦化層２４が上側空間１６１を埋めるように形成されることを禁止するものではない。第１平坦化層２４は、吸湿性に優れていることが好ましい。第１平坦化層２４は、吸湿性部材を含む層であってもよい。

　第５実施形態にかかる表示装置１０においては、第１の実施形態と同様の効果を得ることができる。また、第５の実施形態にかかる表示装置１０においては、有機層１４が溝２７Ａの壁部１２７や底面１２８を覆うように形成されていることで、有機層１４とその有機層１４に接する層との界面を伝って水分が侵入する場合や、有機層１４内を伝って水分が侵入する場合にも水分伝達経路を延長することができる。

［６　第６の実施形態］
　第６の実施形態にかかる表示装置１０は、図１１、図１２に示すように、接続端子４３を設けられている。ただし、接続端子４３は、溝又は段差よりも外側に設けられる。図１１、図１２は、第６の実施形態にかかる表示装置１０の一実施例を模式的に示す平面図、断面図である。図１１、図１２に示す第６の実施形態にかかる表示装置１０の一実施例では、第１平坦化層２４の端面１６５の位置が第２のカラーフィルタ２０の端面１６７よりも表示エリア１０Ａに近い位置に形成され、第２のカラーフィルタ２０を第２平坦化層２５で被覆している。第６の実施形態にかかる表示装置１０の一実施例は、第１平坦化層２４、第２平坦化層２５及び接続端子４３の構成を除き、第２の実施形態と同様である。以下、第２の実施形態と同様の構成については、説明が重複するため、説明を省略する。なお、以下、第７実施形態から第１１実施形態については、第６の実施形態の構成に対して新たな構成を設けた場合を例として挙げつつ、説明を続ける。

（接続端子）
　表示装置１０には、接続端子４３が、外側エリア１０Ｂ、且つ、溝又は段差よりも外側（図１１、図１２では＋Ｘ方向側）に形成されている。接続端子４３は、端面コート部４２よりも外側に形成されている。接続端子４３は、基板１１に設けられた各種の回路を別の制御回路基板などの外部機器に電気的に接続するための端子として機能する。接続端子４３は、基板１１に形成されている。接続端子４３は、金属など導電性を有する部材で形成されるパッド部であることが好適である。接続端子４３の周囲には無機絶縁層１２が形成されている。接続端子４３の端面が無機絶縁層１２で被覆されてもよい。接続端子４３のレイアウトは特に限定されないが、図１１の例では、一方向（図１１ではＹ軸方向）に延びている。

（第１平坦化層と第２平坦化層）
　第１平坦化層２４は、第２の実施形態と同様に、上側空間１６１を覆うように形成されている。第１平坦化層２４の端面１６５は、第２保護層１６Ｂの外側端面１６３及び第２のカラーフィルタの端面１６７よりも外側エリア１０Ｂ側（図１２では、－Ｘ方向側）に位置している。第１平坦化層２４の端面１６５が、第２のカラーフィルタ２０で被覆されている。なお、第２平坦化層２５が、第２のカラーフィルタ２０の外端の端面１６７を被覆している。

（封止基板）
　第６の実施形態にかかる表示装置１０においては、充填層２８、シール層２９を被覆するように封止基板２２が設けられている。Ｚ軸方向を視線方向とした場合に、封止基板２２の端面４１Ａの位置は、接続端子４３よりも表示エリア１０Ａ側の位置となっている。封止基板２２の端面４１Ａの位置から内側に向かった所定の部分には、傾斜部４０が形成されている。図１２の例では、傾斜部４０は、傾斜平面を形成している。

　なお、第６の実施形態にかかる表示装置１０においては、傾斜部４０の基端４０Ａの位置よりも、保護層１６の外端面（図１２の例では、第１保護層１６Ａの外側端面１６２）の位置とシール層２９の端面１６４の位置のほうが表示エリア１０Ａ側に位置していることが好ましい。この場合、傾斜部４０の基端４０Ａの直下の部分に端面コート部４２が形成されるようになり、端面コート部４２が第１保護層１６Ａの外側端面１６２とシール層２９の端面１６４を被覆するようになる。そして、図１２の例では、端面コート部４２の下端（第２の面側の端）が無機絶縁層１２に接している。このように端面コート部４２が形成されていることで、外部から保護層１６やカラーフィルタ１８等への水分侵入をより効果的に遮断することが容易となる。

　第６の実施形態にかかる表示装置１０においては、第１保護層１６Ａの外側端面１６２の位置が、溝２７Ａよりも外側（図１２では、＋Ｘ方向側）に存在しており、第１保護層１６Ａは、溝２７Ａの壁部１２７と底面１２８に接し且つ壁部１２７と底面１２８を覆うように形成されているため第１保護層１６Ａと第１保護層１６Ａに接する層との界面を伝う水分侵入経路を延長することができる。第６の実施形態にかかる表示装置１０によれば、表示装置１０の製造時において端面コート部４２を設ける前に第１保護層１６Ａの外端を除去した際に、第１保護層１６Ａから水分が侵入しても、第１保護層１６Ａと第１保護層１６Ａに接する層との界面を伝って表示エリアまで水分が到達しにくくなる。また、第６の実施形態にかかる表示装置１０によれば、水分が第１保護層１６Ａ内を伝って表示エリア１０Ａまで到達しにくくなる。

　第６の実施形態にかかる表示装置１０においては、第２の実施形態と同様に、溝２７Ａの上に形成される被覆部１６０の上面に形成された上側空間１６１が第１平坦化層２４で覆われるため、第１の面側に上側空間１６１による凹状構造が形成されたとしても、第１の面側の平坦性を向上させることができる。したがって、第１平坦化層２４の上（上側空間１６１の上方側）に機能層１０５として第２のカラーフィルタ２０を密接性よく形成することができる。

［７　第７の実施形態］
　第７の実施形態にかかる表示装置１０は、図１３に示すように、第１保護層１６Ａの外側端面１６２がシール層２９で被覆されている。図１３は、第７の実施形態にかかる表示装置１０の一実施例を模式的に示す断面図である。図１３に示す第７の実施形態にかかる表示装置１０の一実施例では、第１保護層１６Ａの外側端面１６２がシール層２９で被覆されている構成を除き、第６の実施形態にかかる表示装置と同様である。以下、第７の実施形態の説明においては、第６の実施形態と同様の構成については、説明が重複するため、説明を省略する。

（第１保護層）
　第１保護層１６Ａは、第６の実施形態と同様に、溝２７Ａを覆うように形成されている。Ｚ軸方向を視線方向とする場合に、第１保護層１６Ａの外側端面１６２は、第２保護層の外側端面１６３よりも外側に位置している。第１保護層１６Ａの外側端面１６２はシール層２９の端面１６４の位置よりも内側（－Ｘ方向側）に位置している。なお、端面１６４はシール層２９で覆われている。

（被覆部）
　なお、保護層１６の被覆部１６０は、第６の実施形態と同様に、第１保護層１６Ａと第２保護層１６Ｂの積層構造を有しており、溝２７Ａの壁部１２７と底面１２８に接し且つ壁部１２７と底面１２８を覆っている。

　第７の実施形態にかかる表示装置によれば、第６の実施形態と同様の効果を得ることができる。

［８　第８の実施形態］
　第８の実施形態にかかる表示装置は、図１４に示すように、保護層１６が３つの層の積層構造を有しており且つ保護層１６の最外端面がシール層２９で被覆されている。図１４は、第８の実施形態にかかる表示装置１０の一実施例を模式的に示す断面図である。図１４に示す第８の実施形態にかかる表示装置１０の一実施例では、保護層１６が３つの層の積層構造を有し且つ保護層１６の外側端面がシール層２９で被覆されている構成を除き、第６の実施形態にかかる表示装置１０と同様である。以下、第６の実施形態と同様の構成については、説明が重複するため、説明を省略する。

（保護層）
　図１４の例では、保護層１６は、発光素子基板１０３に近い方から、順に、第１保護層１６Ａ、第２保護層１６Ｂ及び第３保護層１６Ｃを積層した積層構造を有する。第１保護層１６Ａ、第２保護層１６Ｂ及び第３保護層１６Ｃは、それぞれに無機層、有機層のいずれであってもよい。例えば、第１保護層１６Ａと第３保護層１６Ｃが無機層で、第２保護層１６Ｂが有機層であってもよい。このように保護層１６は、無機層と有機層を積層した構造を有してよい。

（被覆部）
　図１４の例では、保護層１６の被覆部１６０は、第１保護層１６Ａ、第２保護層１６Ｂ及び第３保護層１６Ｃの積層構造を有している。また、被覆部１６０は、溝２７Ａの壁部１２７（第１壁部１２７Ａ及び第２壁部１２７Ｂ）と底面１２８に接し且つ壁部１２７と底面１２８を覆っている。被覆部１６０は、上面側（第１の面側）に、凹状構造を形成しており、凹状構造の内側に上側空間１６１を形成している。

　第１保護層１６Ａの外側端面１６２と第２保護層１６Ｂの外側端面１６３を覆うように第３保護層１６Ｃが形成されており、保護層１６の外側端面は第３保護層１６Ｃで形成されている。第３保護層１６Ｃの外端は、無機絶縁層１２に接するように外側方向（図１４では＋Ｘ方向）に延びている。

（シール層）
　シール層２９は、第３保護層１６Ｃを被覆しており、第３保護層１６Ｃを介して第１保護層１６Ａの外側端面１６２と第２保護層１６Ｂの外側端面１６３を覆っている。

　第８の実施形態にかかる表示装置１０においては、保護層１６が３層の積層構造を有しており、第１保護層１６Ａの外側端面１６２が第３保護層１６Ｃで被覆され、さらに第３保護層１６Ｃの外側がシール層２９で被覆されている。このため、外部から第１保護層１６Ａまで水分が侵入する可能性を抑制することができる。

［９　第９の実施形態］
　第９の実施形態にかかる表示装置１０は、図１５に示すように、保護層１６の被覆部１６０が部分的に第２保護層１６Ｂで形成されている。図１５は、第９の実施形態にかかる表示装置の一実施例を模式的に示す断面図である。図１５に示す第９の実施形態にかかる表示装置の一実施例では、被覆部１６０の構成を除き、第６の実施形態にかかる表示装置と同様でよい。以下、第６の実施形態と同様の構成については、説明が重複するため、説明を省略する。

（溝又は段差）
　第９の実施形態にかかる表示装置１０においては、無機絶縁層１２に溝又は段差が形成されている。図１５の例では、無機絶縁層１２に溝２７Ａが形成されている。溝２７Ａは、発光素子基板１０３の厚み方向を視線方向とした場合に、第２のカラーフィルタ２０の下側に形成されている。溝２７Ａは、第１の実施形態等と同様に、環状に形成されてよい。

（保護層と被覆部）
　図１５の例では、保護層１６は、第１保護層１６Ａと第２保護層１６Ｂを積層した積層構造を有する。保護層１６の被覆部１６０は、第１保護層１６Ａと第２保護層１６Ｂの積層構造を有している部分と第２保護層１６Ｂで形成されている部分（図１５において符号１３２で示す部分）とを有する。被覆部１６０は、溝２７Ａの壁部１２７（第１壁部１２７Ａ及び第２壁部１２７Ｂ）と底面１２８を覆っている。図１５の例では、被覆部１６０のうち第２保護層１６Ｂで形成されている部分１３２は溝２７Ａの第１壁部１２７Ａに沿って第１壁部１２７Ａに接するように形成されている。ただし、これは一例であり、部分１３２は、被覆部１６０のうち第２壁部１２７Ｂや底面１２８を覆っている部分に形成されてもよい。表示装置１０は、被覆部１６０の上面側（第１の面側）に、凹状構造を形成しており、凹状構造の内側に上側空間１６１を形成している。なお、上側空間１６１の開口は、第１平坦化層２４で覆われている。

（補助電極）
　第９の実施形態にかかる表示装置１０においては、補助電極２６は、溝２７Ａよりも表示エリア１０Ａに近い領域（－Ｘ方向側の領域）に形成されている。補助電極２６は、図１５に示すように、溝２７Ａの上端縁まで延びていてもよい。これは、第９の実施形態に限定されず、他の実施形態についても同様である。この場合、補助電極２６は、遮光性を有することが好ましい。補助電極２６が遮光性を有しており、且つ溝２７Ａまで延びていることで、補助電極２６を、無機絶縁層１２の内部に光が入り込むことを抑制する庇部として機能させることができる。

［１０　第１０の実施形態］
　第１０の実施形態にかかる表示装置１０は、図１６に示すように、第２のカラーフィルタ２０よりも外側に溝２７Ａを形成している。図１６は、第１０の実施形態にかかる表示装置１０の一実施例を模式的に示す断面図である。図１６に示す第１０の実施形態にかかる表示装置１０の一実施例では、溝２７Ａの位置が第２のカラーフィルタ２０の外側の所定位置であることを除き、第６の実施形態と同様である。以下、第６の実施形態と同様の構成については、説明が重複するため、説明を省略する。

（溝又は段差）
　第１０の実施形態にかかる表示装置１０においては、無機絶縁層１２に溝又は段差が形成されている。図１６の例では、無機絶縁層１２に溝２７Ａが形成されている。溝２７Ａは、発光素子基板１０３の厚み方向を視線方向とした場合に、第２のカラーフィルタ２０の外側（外側エリア１０Ｂ内の所定位置）に形成されている。ただし、溝２７Ａは、封止基板２２に形成された傾斜部４０の基端４０Ａよりも表示エリア１０Ａに近い位置に形成されている。溝２７Ａは、第１の実施形態等と同様に、環状に形成されてよい。

（保護層）
　図１６の例では、保護層１６は、第１保護層１６Ａと第２保護層１６Ｂを積層した積層構造を有する。第１保護層１６Ａは、表示エリア１０Ａと外側エリア１０Ｂに形成され、第１保護層１６Ａの外側端面１６２の位置は、溝２７Ａの外側の位置（図１６では溝２７Ａよりも＋Ｘ方向側の位置）となっている。第２保護層１６Ｂの外側端面１６３の位置は、溝２７Ａよりも表示エリア１０Ａに近い所定位置（図１６では－Ｘ方向側の位置）となっている。第２保護層１６Ｂの外側端面１６３は、後述する、シール層２９で被覆されている。

（被覆層）
　保護層１６の被覆部１６０は、第１保護層１６Ａで形成されている。被覆部１６０は、溝２７Ａの壁部１２７と底面１２８に接し且つ壁部１２７と底面１２８を覆っている。表示装置１０は、被覆部１６０の上面側（第１の面側）に、第２高低差部１３４である凹状構造を形成しており、凹状構造の内側に上側空間１６１を形成している。

（シール層）
　カラーフィルタ１８の上、発光素子基板１０３と封止基板２２の間には、シール層２９が形成されている。シール層２９は、発光素子基板１０３の平面視上、おおむね外側エリア１０Ｂの領域を覆うように形成されていることが好適である。図１６の例では、シール層２９は、第２平坦化層２５を被覆するように形成されている。また、シール層２９は、外側エリア１０Ｂにおいて第１保護層１６Ａを覆うように形成されており、溝２７Ａを覆う被覆部１６０に形成された第２高低差部１３４の上面側を覆うように形成され、且つ上側空間１６１を埋めるように形成されている。

（端面コート部）
　端面コート部４２は、シール層２９の端面１６４と第１保護層１６Ａの外側端面１６２を被覆する。

　第１０の実施形態にかかる表示装置１０によれば、保護層１６が溝２７Ａの壁部１２７と底面１２８に沿って形成されており、保護層１６と無機絶縁層１２との接触界面の面積が大きくなる。このため、保護層１６内を通って表示エリア１０Ａまで水分を侵入させにくくすることができる。

　また、第１０の実施形態にかかる表示装置１０によれば、上側空間１６１がシール層２９で埋められている。シール層２９は、密着性に優れた材質で形成されていることが多いことから、第１保護層１６Ａとシール層２９の密着性がより高められる。また、上側空間１６１がシール層２９で埋められているため、被覆部１６０の位置で保護層１６とシール層２９との界面の面積が大きくなる（水分侵入経路が延長される）。このため、保護層１６とシール層２９との界面に沿って表示エリア１０Ａまで水分を侵入させにくくすることができ、また、仮に保護層とシール層との界面から水分が侵入することがあっても、その界面を伝って表示エリアまで水分が到達しにくくすることができる。

［１１　第１１の実施形態］
　第１１の実施形態にかかる表示装置は、図１７に示すように、第２のカラーフィルタ２０よりも外側の所定位置に溝２７Ａを形成しており、溝２７Ａの一部（部分１２９Ａ）を端面コート部４２で埋めている。図１７は、第１１の実施形態にかかる表示装置１０の一実施例を模式的に示す断面図である。図１７に示す第１１の実施形態にかかる表示装置１０の一実施例では、溝２７Ａの位置と、溝２７Ａの一部を端面コート部４２で埋めている構成を除き、第６の実施形態と同様である。以下、第６の実施形態と同様の構成については、説明が重複するため、説明を省略する。

（溝又は段差）
　第１１の実施形態にかかる表示装置１０においては、無機絶縁層１２に溝又は段差が形成されている。図１７の例では、無機絶縁層１２に溝２７Ａが形成されている。溝２７Ａは、発光素子基板１０３の厚み方向を視線方向とした場合に、第２のカラーフィルタ２０の外側に形成されている。また、Ｚ軸方向を視線方向とした場合に、封止基板２２に形成された傾斜部４０の基端４０Ａが溝２７Ａの底面１２８に位置している。溝２７Ａは、第１の実施形態等と同様に、環状に形成されてもよい。

（保護層）
　図１７の例では、保護層１６は、第１保護層１６Ａと第２保護層１６Ｂを積層した積層構造を有する。第１保護層１６Ａは、表示エリア１０Ａと外側エリア１０Ｂに形成されている。Ｚ軸方向を視線方向とした場合における第１保護層１６Ａの外側端面１６２の位置は、溝２７Ａの底面１２８内の位置となっている。第２保護層は、その外側端面１６３の位置が溝２７Ａよりも表示エリア１０Ａ側の所定位置となるように形成されている。第２保護層１６Ｂの外側端面１６３は、後述する、シール層２９で被覆されている。

（被覆部）
　保護層１６の被覆部１６０は、第１保護層１６Ａで形成されている。被覆部１６０は、溝２７Ａの壁部１２７（第１壁部１２７Ａ）と、底面１２８の一部を覆っている。表示装置１０は、被覆部１６０の上面側（第１の面側）に、段差状構造を形成しており、段差状構造の位置に上側空間１６１を形成している。

（シール層）
　カラーフィルタ１８の上には、シール層２９が形成されている。シール層２９は、発光素子基板１０３の平面視上、第２平坦化層２５を覆う領域に形成されていることが好適である。図２の例では、シール層２９は、第２平坦化層２５を被覆するように形成されている。また、シール層２９は、溝２７Ａの上方に形成された被覆部１６０の上面側の上側空間１６１を埋めるように形成されている。

（端面コート部）
　端面コート部４２は、シール層２９の端面１６４と第１保護層１６Ａの外側端面１６２を被覆する。また、端面コート部４２は、第１保護層１６Ａとともに溝２７Ａを埋めている（溝内空間１２９の一部（部分１２９Ａ）を埋めている）。端面コート部４２は、溝２７Ａの底面１２８の一部と第２壁部１２７Ｂを覆い、部分１２９Ａを埋めている。

　第１１の実施形態にかかる表示装置１０によれば、溝２７Ａの第１壁部１２７Ａと底面１２８の一部が第１保護層１６Ａで覆われており、第１保護層１６Ａを伝って内部に水分が侵入する際の水分侵入経路が延長される。また、第１１の実施形態にかかる表示装置１０によれば、第１保護層１６Ａの外側端面１６２が端面コート部４２で覆われている。端面コート部４２は、密着性に優れた材質で形成されていることが多いことから、第１保護層１６Ａから表示エリア１０Ａに向かって水分が侵入することを端面コート部４２で効果的に遮断することができる。

［１２．表示装置が共振器構造を有する場合の例］
　表示装置１０に共振器構造が形成されている場合について、第１の実施形態にかかる表示装置１０を例として説明を続ける。第１の実施形態にかかる表示装置１０は、複数の副画素１０１の少なくとも一部にさらに共振器構造を形成したものであってもよい。なお、第１の実施形態を用いて説明した共振器構造は、第２の実施形態から第１１の実施形態に対して適用されてもよい。

（共振器構造）
　表示装置１０には、共振器構造が形成されている。共振器構造は、キャビティ構造であり、有機層１４で生じた光を共振する構造である。表示装置１０において、共振器構造は、発光素子１０４（発光素子１０４Ｒ、１０４Ｂ、１０４Ｇ）に形成されており、共振器構造は、第１の電極１３、有機層１４及び第２の電極１５を含む。有機層１４からの出射光を共振するとは、出射光に含まれる特定波長の光を共振することを示す。

　共振器構造では、有機層１４からの出射光のうち、第１の電極１３と第２の電極１５の間等といった所定の層の間で反射し共振する成分が強調され、表示面Ｄ側（第１の面側）から強調された光が外部に向けて放出される。

　有機層１４は、おおむね副画素１０１の色種に対応した光を出射光としており、共振器構造は、有機層１４からの出射光に含まれる特定波長の光を共振する。このとき、有機層１４からの出射光のうち所定波長の光が強調される。そして、発光素子１０４の第２の電極１５側（すなわち発光面側）から、所定波長の光を強調した状態で、外部に向けて光が放出される。なお、所定波長の光は、予め定められ色種に対応する光であり、副画素１０１に応じて定められる色種に対応する光を示す。表示装置１０では、副画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂに応じた発光素子１０４Ｒ、１０４Ｇ、１０４Ｂを有している。また、それぞれの発光素子１０４Ｒ、１０４Ｇ、１０４Ｂに対応して、それぞれ共振器構造が形成されている。副画素１０１Ｒにおける共振器構造では、有機層１４からの出射光のうち赤色光が共振する。発光素子１０４Ｒの第２の電極１５からは、赤色光をより強調した状態で、外部に向けて光が放出される。したがって、副画素１０１Ｒから色純度に優れた赤色光を放出することができるようになる。副画素１０１Ｇ、１０１Ｂにおける共振器構造については、それぞれ有機層１４からの出射光のうち緑色光、青色光が共振する。副画素１０１Ｇ、１０１Ｂでは、発光素子１０４Ｇ、１０４Ｂの第２の電極１５から、緑色光、青色光をより強調した状態で、外部に向けて光が放出される。したがって、副画素１０１Ｇ、１０１Ｂから色純度に優れたそれぞれ緑色光、青色光を放出することができるようになる。

　このように表示装置１０に共振器構造が形成されていることで、副画素１０１の色純度を向上させることができる。

　表示装置１０が共振器構造を備えた場合の例として第１例から第７例を挙げて、順にさらに説明を続ける。

（共振器構造：第１例）
　図１８Ａは、表示装置１０が共振器構造を有する場合の第１例を説明するための模式的な断面図である。

　第１例において、第１の電極１３の厚みと第２の電極１５の厚みは、副画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂにおいて揃えられている。

　副画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂ（発光素子１０４Ｒ、１０４Ｇ、１０４Ｂ）においては、第１の電極１３の下側（第２の面側）に、光学調整層３１が設けられ、さらに光学調整層３１よりも第２の面側に、反射板３０が配され、反射板３０と第１の電極１３の間に光学調整層３１が形成された状態となっている。反射板３０と第２の電極１５との間に有機層１４が発生する光を共振させる共振器構造が形成される。

　反射板３０の厚みは、副画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂにおいて揃えられている。光学調整層３１の厚みは、副画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂに応じて異なっている。光学調整層３１が副画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂに応じた厚みを有することにより、副画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂに応じた共振を生ずる光学的距離を設定することができる。

　図１８Ａの例では、副画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂに設けられた反射板３０の第１の面の位置は、その上下方向における位置が揃うように配置されている。副画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂにおいて、第２の電極１５の第１の面の位置は、光学調整層３１の厚み差に応じて異なっている。

　反射板３０は、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）等の金属、あるいは、これらを主成分とする合金を用いて形成することができる。

　光学調整層３１は、シリコン窒化物（ＳｉＮｘ）、シリコン酸化物（ＳｉＯｘ）、シリコン酸窒化物（ＳｉＯｘＮｙ）などの無機絶縁材料や、アクリル系樹脂やポリイミド系樹脂などといった有機樹脂材料を用いてから構成することができる。光学調整層３１は単層でも良いし、これら複数の材料の積層膜であってもよい。

　第２の電極１５は、半透過反射膜として機能する層であることが好適である。第２の電極１５は、マグネシウム（Ｍｇ）や銀（Ａｇ）、またはこれらを主成分とするマグネシウム銀合金（ＭｇＡｇ）、さらには、アルカリ金属やアルカリ土類金属を含んだ合金などを用いて形成することができる。第１の電極１３や有機層１４の構成は、上述したことと同様であるので説明を省略する。

（共振器構造：第２例）
　図１８Ｂは、表示装置１０が共振器構造を有する場合の第２例を説明するための模式的な断面図である。第２例は、第２の電極１５と反射板３０の位置が第１例とは異なっていることを除いて、第１例と同様の層構造を有する。

　副画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂ（発光素子１０４Ｒ、１０４Ｇ、１０４Ｂ）において第２の電極１５の上面は、その上下方向における位置が揃うように配置されている。副画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂに設けられた反射板３０は、光学調整層３１の厚み差に応じて上下方向の位置が異なっている。

（共振器構造：第３例）
　図１９Ａは、表示装置１０が共振器構造を有する場合の第３例を説明するための模式的な断面図である。第３例は、反射板３０の厚みが、副画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂ（発光素子１０４Ｒ、１０４Ｇ、１０４Ｂ）に応じて異なっていることを除いて、第１例と同様の層構造を有する。

　副画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂにおいて第２の電極１５の上面は、その上下方向における位置が揃うように配置されている。副画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂに設けられた反射板３０は、その第１の面の位置については光学調整層３１の厚み差に応じて上下方向の位置が異なっているが、副画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂにおいて反射板３０の第２の面の位置については揃えられている。

（共振器構造：第４例）
　図１９Ｂは、表示装置１０が共振器構造を有する場合の第４例を説明するための模式的な断面図である。第４例は、光学調整層３１が省略され、且つ、第１の電極１３の厚みが、副画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂ（発光素子１０４Ｒ、１０４Ｇ、１０４Ｂ）に応じて異なっていることを除いて、第１例と同様である。

　第１の電極１３の厚みについて、副画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂの応じた光の共振を生ずる光学的距離となるように、それぞれの第１の電極１３の厚みが設定される。

（共振器構造：第５例）
　図２０Ａは、表示装置１０が共振器構造を有する場合の第５例を説明するための模式的な断面図である。第５例は、光学調整層３１を省略し、反射板３０の第１の面側（第１の電極１３に向かい合う方の面側）に酸化膜３２を形成した他は、第１例と同様である。

　酸化膜３２の厚みは、副画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂ（発光素子１０４Ｒ、１０４Ｇ、１０４Ｂ）に応じて異なっている。

　酸化膜３２の厚みについて、副画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂの応じた光の共振を生ずる光学的距離となるように、それぞれの酸化膜３２の厚みが設定される。

　酸化膜３２は、反射板３０の表面を酸化した膜であって、例えば、アルミニウム酸化物、タンタル酸化物、チタン酸化物、マグネシウム酸化物、ジルコニウム酸化物などから構成される。酸化膜３２は、反射板３０と第２の電極１５との間の光路長（光学的距離）を調整するための絶縁膜として機能する。

　副画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂに応じた厚みを有する酸化膜３２は、例えば、以下のようにして形成することができる。

　先ず、電解液で満たされた容器に、反射板３０を形成した基板を浸漬し、反射板３０と対向するように電極を配置する。

　そして、電極を基準として正電圧を反射板３０に加えられることで、反射板３０を陽極酸化する。副画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂの反射板３０に対して、得ようとする酸化膜３２の厚みに応じた電圧が印加される。これによって、副画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂの反射板３０に対して厚みの異なる酸化膜３２（副画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂに応じた厚みを有する酸化膜３２）を一括に形成できる。

（共振器構造：第６例）
　図２０Ｂは、表示装置１０が共振器構造を有する場合の第６例を説明するための模式的な断面図である。

　第６例において、表示装置１０の共振器構造は、第１の電極１３と有機層１４と第２の電極１５を積層した構造で形成されている。第６例では、第１の電極１３は、電極と反射板の機能を兼ねるように形成された第１の電極（兼反射板）３３である。第１の電極（兼反射板）３３は、発光素子１０４Ｒ、１０４Ｇ、１０４Ｂの種類に応じて選択された光学定数を有する材料によって形成されている。第１の電極（兼反射板）３３による位相シフトが異なることによって、表示すべき色に応じた光の波長に最適な共振を生ずる光学的距離を設定することができる。

　第１の電極（兼反射板）３３は、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、銅（Ｃｕ）などの単体金属や、これらを主成分とする合金から構成することができる。例えば、副画素１０１Ｒの第１の電極（兼反射板）３３Ｒを銅（Ｃｕ）で形成し、副画素１０１Ｇの第１の電極（兼反射板）３３Ｇと副画素１０１Ｂの第１の電極（兼反射板）３３Ｂとをアルミニウムで形成するといった構成とすることができる。

　第２の電極１５と有機層１４は、第１例と同様であるので、説明を省略する。

（共振器構造：第７例）
　図２１は、表示装置１０が共振器構造を有する場合の第７例を説明するための模式的な断面図である。

　第７例では、副画素１０１Ｒ、１０１Ｇ（発光素子１０４Ｒ、１０４Ｇ）については第６例に示す共振器構造が設けられており、副画素１０１Ｂ（発光素子１０４Ｂ）については第１例に示す共振器構造が設けられている。

［１３　表示装置が波長選択部を有する場合の位置関係の例］
　表示装置１０に波長選択部が形成されている場合の位置関係として、発光部、レンズ部材、波長選択部の相互の位置関係について、第１の実施形態にかかる表示装置１０を例として用いて説明する。第１の実施形態にかかる表示装置１０は、波長選択部としてカラーフィルタを有している。なお、［１３　表示装置が波長選択部を有する場合の位置関係の例］に示すことは、カラーフィルタとレンズ層を有する各実施形態（第２の実施形態から第１１の実施形態）に対して適応されてよい。

（カラーフィルタ、レンズ層）
　第１の実施形態に示す表示装置１０には、図１Ｃに示すように、それぞれの副画素１０１における平坦化層２３の第１の面側に、波長選択部やレンズ部材が設けられている。波長選択部は、第１の実施形態に示す例では、カラーフィルタ１８（第１のカラーフィルタ１９）となっている。例えば、第１の実施形態では、第１のカラーフィルタ１９として、副画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂについて、それぞれ赤色フィルタ１９Ｒ、緑色フィルタ１９Ｇ、青色フィルタ１９Ｂが設けられている。この時、隣り合う第１のカラーフィルタ１９の間には光吸収層が設けられていることが好ましい。光吸収層は、ブラックマトリクス部などを例示することができる。また、第３の実施形態では、カラーフィルタ１８の上に第２平坦化層２５が形成されている。第２平坦化層２５の上に設けられたレンズ２１をレンズ部材として有する。

（発光部、レンズ部材、波長選択部のそれぞれの中心を通る法線の関係）
　以下、発光部の中心を通る法線ＬＮと、レンズ部材の中心を通る法線ＬＮ’と、波長選択部の中心を通る法線ＬＮ”との関係を説明する。ここで、発光部は、例えば、発光素子１０４の発光部分である。レンズ部材は、例えば、レンズ２１である。波長選択部は、例えば、赤色フィルタ１９Ｒ、緑色フィルタ１９Ｇ、青色フィルタ１９Ｂである。

　なお、発光部が出射する光に対応して、波長選択部の大きさを、適宜、変えてもよいし、隣接する発光部の波長選択部の間に光吸収部（例えば、ブラックマトリクス部）が設けられている場合、発光部が出射する光に対応して、光吸収部の大きさを、適宜、変えてもよい。また、波長選択部の大きさを、発光部の中心を通る法線と波長選択部の中心を通る法線との間の距離（オフセット量）ｄ_０に応じて、適宜、変えてもよい。波長選択部の平面形状は、レンズ部材の平面形状と同じであってもよいし、相似であってもよいし、異なっていてもよい。

　以下、図２２Ａ、図２２Ｂ、図２２Ｃ、図２３を参照して、発光部５１（図２の例では発光素子１０４の発光部分に対応する）と、波長選択部５２、レンズ部材５３が、この順序で配置されている場合の各部の中心を通る法線の関係について説明する。

　図２２Ａに示されるように、発光部５１の中心を通る法線ＬＮと、波長選択部５２の中心を通る法線ＬＮ”と、レンズ部材５３の中心を通る法線ＬＮ’とは、一致していてもよい。すなわち、Ｄ_０＝０、ｄ_０＝０であってもよい。但し、Ｄ_０は、発光部５１の中心を通る法線ＬＮとレンズ部材５３の中心を通る法線ＬＮ’との間の距離（オフセット量）を表し、ｄ_０は、発光部５１の中心を通る法線ＬＮと波長選択部５２の中心を通る法線ＬＮ”との間の距離（オフセット量）を表す。

　図２２Ｂに示されるように、発光部５１の中心を通る法線ＬＮと、波長選択部５２の中心を通る法線ＬＮ”とは、一致しているが、発光部５１の中心を通る法線ＬＮおよび波長選択部５２の中心を通る法線ＬＮ”と、レンズ部材５３の中心を通る法線ＬＮ’とは、一致していない構成としてもよい。すなわち、Ｄ_０＞０、ｄ_０＝０であってもよい。

　図２２Ｃに示されるように、発光部５１の中心を通る法線ＬＮと、波長選択部５２の中心を通る法線ＬＮ”およびレンズ部材５３の中心を通る法線ＬＮ’とは、一致しておらず、波長選択部５２の中心を通る法線ＬＮ”と、レンズ部材５３の中心を通る法線ＬＮ’とは、一致している構成としてもよい。すなわち、Ｄ_０＞０、ｄ_０＞０、Ｄ_０＝ｄ_０であってもよい。

　図２３に示されるように、発光部５１の中心を通る法線ＬＮと、波長選択部５２の中心を通る法線ＬＮ”と、レンズ部材５３の中心を通る法線ＬＮ’とがいずれも、一致していない構成としてもよい。すなわち、Ｄ_０＞０、ｄ_０＞０、Ｄ_０≠ｄ_０であってもよい。ここで、発光部５１の中心とレンズ部材５３の中心（図２３において黒丸で示される位置）とを結ぶ直線ＬＬ上に、波長選択部５２の中心（図２３において黒四角で示される位置）が位置することが好ましい。具体的には、発光部５１の中心と波長選択部５２の中心との間の、厚さ方向（図２３中、垂直方向）における距離をＬＬ_１、波長選択部５２の中心とレンズ部材５３の中心との間の、厚さ方向における距離をＬＬ_２としたとき、
　　Ｄ_０＞ｄ_０＞０
であり、製造上のバラツキを考慮した上で、
　　ｄ_０：Ｄ_０＝ＬＬ_１：（ＬＬ_１＋ＬＬ_２）
を満足することが好ましい。
　ここで、厚さ方向とは、発光部５１、波長選択部５２、レンズ部材５３の厚さ方向を表す。

　以下、図２４Ａ、図２４Ｂ、図２５を参照して、発光部５１と、レンズ部材５３、波長選択部５２が、この順序で配置されている場合の各部の中心を通る法線の関係について説明する。

　図２４Ａに示されるように、発光部５１の中心を通る法線ＬＮと、波長選択部５２の中心を通る法線ＬＮ”と、レンズ部材５３の中心を通る法線ＬＮ’とは、一致している構成としてもよい。すなわち、Ｄ_０＞０、ｄ_０＝０であってもよい。

　図２４Ｂに示されるように、発光部５１の中心を通る法線ＬＮと、波長選択部５２の中心を通る法線ＬＮ”およびレンズ部材５３の中心を通る法線ＬＮ’とは、一致しておらず、波長選択部５２の中心を通る法線ＬＮ”と、レンズ部材５３の中心を通る法線ＬＮ’とは、一致している構成としてもよい。すなわち、Ｄ_０＞０、ｄ_０＞０、Ｄ_０＝ｄ_０であってもよい。

　図２５に示されるように、発光部５１の中心を通る法線ＬＮと、波長選択部５２の中心を通る法線ＬＮ”と、レンズ部材５３の中心を通る法線ＬＮ’とがいずれも、一致していない構成としてもよい。ここで、発光部５１の中心と波長選択部５２の中心（図２５において黒四角で示される位置）とを結ぶ直線ＬＬ上に、レンズ部材５３の中心（図２５において黒丸で示される位置）が位置することが好ましい。具体的には、発光部５１の中心とレンズ部材５３の中心との間の、厚さ方向（図２５中、垂直方向）における距離をＬＬ_２、レンズ部材５３の中心と波長選択部５２の中心との間の、厚さ方向における距離をＬＬ_１としたとき、
　　ｄ_０＞Ｄ_０＞０
であり、製造上のバラツキを考慮した上で、
　　Ｄ_０：ｄ_０＝ＬＬ_２：（ＬＬ_１＋ＬＬ_２）
を満足することが好ましい。
　ここで、厚さ方向とは、発光部５１、波長選択部５２、レンズ部材５３の厚さ方向を表す。

［１４　適用例］
（電子機器）
　上述の一実施形態に係る表示装置１０は、種々の電子機器に備えられてもよい。特にビデオカメラや一眼レフカメラの電子ビューファインダまたはヘッドマウント型ディスプレイ等の高解像度が要求され、目の近くで拡大して使用されるものに備えられることが好ましい。上述の一実施形態に係る表示装置１０には、第１の実施形態から第１１の実施形態と変形例に示す表示装置、共振器構造を有する場合の表示装置及び波長選択部を有する場合の位置関係の例で説明した表示装置のいずれも含まれる。

（具体例１）
　図２６Ａは、デジタルスチルカメラ３１０の外観の一例を示す正面図である。図２６Ｂは、デジタルスチルカメラ３１０の外観の一例を示す背面図である。このデジタルスチルカメラ３１０は、レンズ交換式一眼レフレックスタイプのものであり、カメラ本体部（カメラボディ）３１１の正面略中央に交換式の撮影レンズユニット（交換レンズ）３１２を有し、正面左側に撮影者が把持するためのグリップ部３１３を有している。

　カメラ本体部３１１の背面中央から左側にずれた位置には、モニタ３１４が設けられている。モニタ３１４の上部には、電子ビューファインダ（接眼窓）３１５が設けられている。撮影者は、電子ビューファインダ３１５を覗くことによって、撮影レンズユニット３１２から導かれた被写体の光像を視認して構図決定を行うことが可能である。電子ビューファインダ３１５としては、上述の実施形態に係る表示装置１０のいずれかを用いることができる。

（具体例２）
　図２７は、ヘッドマウントディスプレイ３２０の外観の一例を示す斜視図である。ヘッドマウントディスプレイ３２０は、例えば、眼鏡形の表示部３２１の両側に、使用者の頭部に装着するための耳掛け部３２２を有している。表示部３２１としては、上述の実施形態および変形例に係る表示装置１０のいずれかを用いることができる。

（具体例３）
　図２８は、テレビジョン装置３３０の外観の一例を示す斜視図である。このテレビジョン装置３３０は、例えば、フロントパネル３３２およびフィルターガラス３３３を含む映像表示画面部３３１を有しており、この映像表示画面部３３１は、上述の実施形態および変形例に係る表示装置１０のいずれかにより構成される。

（具体例４）
　図２９は、シースルーヘッドマウントディスプレイ３４０の外観の一例を示す。シースルーヘッドマウントディスプレイ３４０は、本体部３４１と、アーム３４２と、鏡筒３４３とを備える。

　本体部３４１は、アーム３４２および眼鏡３５０と接続される。具体的には、本体部３４１の長辺方向の端部はアーム３４２と結合され、本体部３４１の側面の一側は接続部材を介して眼鏡３５０と連結される。なお、本体部３４１は、直接的に人体の頭部に装着されてもよい。

　本体部３４１は、シースルーヘッドマウントディスプレイ３４０の動作を制御するための制御基板や、表示部を内蔵する。アーム３４２は、本体部３４１と鏡筒３４３とを接続させ、鏡筒３４３を支える。具体的には、アーム３４２は、本体部３４１の端部および鏡筒３４３の端部とそれぞれ結合され、鏡筒３４３を固定する。また、アーム３４２は、本体部３４１から鏡筒３４３に提供される画像に係るデータを通信するための信号線を内蔵する。

　鏡筒３４３は、本体部３４１からアーム３４２を経由して提供される画像光を、接眼レンズ３５１を通じて、シースルーヘッドマウントディスプレイ３４０を装着するユーザの目に向かって投射する。このシースルーヘッドマウントディスプレイ３４０において、本体部３４１の表示部は、上記の表示装置１０等のうちいずれかを備える。

（具体例５）
　図３０は、スマートフォン３６０の外観の一例を示す斜視図である。スマートフォン３６０は、図３３に示すように、画素等の情報を表示する表示部３６１、ユーザによる操作入力を受け付けるボタン等から構成される操作部３６２を有する。この表示部３６１は、上述の実施形態および変形例に係る表示装置１０を適用されることができる。

（具体例６）
　上記の表示装置１０等は、乗物に備えられるか各種のディスプレイに備えられてもよい。

　図３１Ａおよび図３１Ｂは、各種のディスプレイが備えられた乗物５００の内部の構成の一例を示す図である。具体的には、図３１Ａは、乗物５００の後方から前方にかけての乗物５００の内部の様子の一例を示す図、図３１Ｂは、乗物５００の斜め後方から斜め前方にかけての乗物５００の内部の様子の一例を示す図である。

　乗物５００は、センターディスプレイ５０１と、コンソールディスプレイ５０２と、ヘッドアップディスプレイ５０３と、デジタルリアミラー５０４と、ステアリングホイールディスプレイ５０５と、リアエンタテイメントディスプレイ５０６とを備える。これらのディスプレイの少なくとも１つが、上記の表示装置１０等のうちいずれかを備える。例えば、これらのディスプレイのすべてが、上記の表示装置１０等のうちいずれかを備えてもよい。

　センターディスプレイ５０１は、運転席５０８および助手席５０９に対向するダッシュボードの部分に配置されている。図３１Ａおよび図３１Ｂでは、運転席５０８側から助手席５０９側まで延びる横長形状のセンターディスプレイ５０１の例を示すが、センターディスプレイ５０１の画面サイズや配置場所は任意である。センターディスプレイ５０１には、種々のセンサで検知された情報を表示可能である。具体的な一例として、センターディスプレイ５０１には、イメージセンサで撮影した撮影画像、ＴｏＦセンサで計測された乗物５００の前方や側方の障害物までの距離画像、赤外線センサで検出された乗客の体温などを表示可能である。センターディスプレイ５０１は、例えば、安全関連情報、操作関連情報、ライフログ、健康関連情報、認証／識別関連情報、およびエンタテイメント関連情報の少なくとも一つを表示するために用いることができる。

　安全関連情報は、居眠り検知、よそ見検知、同乗している子供のいたずら検知、シートベルト装着有無、乗員の置き去り検知などの情報であり、例えばセンターディスプレイ５０１の裏面側に重ねて配置されたセンサにて検知される情報である。操作関連情報は、センサを用いて乗員の操作に関するジェスチャを検知する。検知されるジェスチャは、乗物５００内の種々の設備の操作を含んでいてもよい。例えば、空調設備、ナビゲーション装置、ＡＶ装置、照明装置等の操作を検知する。ライフログは、乗員全員のライフログを含む。例えば、ライフログは、乗車中の各乗員の行動記録を含む。ライフログを取得および保存することで、事故時に乗員がどのような状態であったかを確認できる。健康関連情報は、温度センサなどのセンサを用いて乗員の体温を検知し、検知した体温に基づいて乗員の健康状態を推測する。あるいは、イメージセンサを用いて乗員の顔を撮像し、撮像した顔の表情から乗員の健康状態を推測してもよい。さらに、乗員に対して自動音声で会話を行って、乗員の回答内容に基づいて乗員の健康状態を推測してもよい。認証／識別関連情報は、センサを用いて顔認証を行うキーレスエントリ機能や、顔識別でシート高さや位置の自動調整機能などを含む。エンタテイメント関連情報は、センサを用いて乗員によるＡＶ装置の操作情報を検出する機能や、センサで乗員の顔を認識して、乗員に適したコンテンツをＡＶ装置にて提供する機能などを含む。

　コンソールディスプレイ５０２は、例えば、ライフログ情報の表示に用いることができる。コンソールディスプレイ５０２は、運転席５０８と助手席５０９の間のセンターコンソール５１０のシフトレバー５１１の近くに配置されている。コンソールディスプレイ５０２にも、種々のセンサで検知された情報を表示可能である。また、コンソールディスプレイ５０２には、イメージセンサで撮像された車両周辺の画像を表示してもよいし、車両周辺の障害物までの距離画像を表示してもよい。

　ヘッドアップディスプレイ５０３は、運転席５０８の前方のフロントガラス５１２の奥に仮想的に表示される。ヘッドアップディスプレイ５０３は、例えば、安全関連情報、操作関連情報、ライフログ、健康関連情報、認証／識別関連情報、およびエンタテイメント関連情報の少なくとも一つを表示するために用いることができる。ヘッドアップディスプレイ５０３は、運転席５０８の正面に仮想的に配置されることが多いため、乗物５００の速度や燃料（バッテリ）残量などの乗物５００の操作に直接関連する情報を表示するのに適している。

　デジタルリアミラー５０４は、乗物５００の後方を表示できるだけでなく、後部座席の乗員の様子も表示できるため、デジタルリアミラー５０４の裏面側に重ねてセンサを配置することで、例えばライフログ情報の表示に用いることができる。

　ステアリングホイールディスプレイ５０５は、乗物５００のハンドル５１３の中心付近に配置されている。ステアリングホイールディスプレイ５０５は、例えば、安全関連情報、操作関連情報、ライフログ、健康関連情報、認証／識別関連情報、およびエンタテイメント関連情報の少なくとも一つを表示するために用いることができる。特に、ステアリングホイールディスプレイ５０５は、運転者の手の近くにあるため、運転者の体温等のライフログ情報を表示したり、ＡＶ装置や空調設備等の操作に関する情報などを表示するのに適している。

　リアエンタテイメントディスプレイ５０６は、運転席５０８や助手席５０９の背面側に取り付けられており、後部座席の乗員が視聴するためのものである。リアエンタテイメントディスプレイ５０６は、例えば、安全関連情報、操作関連情報、ライフログ、健康関連情報、認証／識別関連情報、およびエンタテイメント関連情報の少なくとも一つを表示するために用いることができる。特に、リアエンタテイメントディスプレイ５０６は、後部座席の乗員の目の前にあるため、後部座席の乗員に関連する情報が表示される。例えば、ＡＶ装置や空調設備の操作に関する情報を表示したり、後部座席の乗員の体温等を温度センサで計測した結果を表示してもよい。

　表示装置１０等の裏面側に重ねてセンサを配置し、周囲に存在する物体までの距離を計測することができる構成としてもよい。光学的な距離計測の手法には、大きく分けて、受動型と能動型がある。受動型は、センサから物体に光を投光せずに、物体からの光を受光して距離計測を行うものである。受動型には、レンズ焦点法、ステレオ法、および単眼視法などがある。能動型は、物体に光を投光して、物体からの反射光をセンサで受光して距離計測を行うものである。能動型には、光レーダ方式、アクティブステレオ方式、照度差ステレオ法、モアレトポグラフィ法、干渉法などがある。上記の表示装置１０等は、これらのどの方式の距離計測にも適用可能である。上記の表示装置１０等の裏面側に重ねて配置されるセンサを用いることで、上述した受動型又は能動型の距離計測を行うことができる。

　以上、本開示の第１の実施形態から第１１の実施形態及び各変形例にかかる表示装置、及び応用例について具体的に説明したが、本開示は、上述の第１の実施形態から第７の実施形態及び各変形例にかかる表示装置、及び応用例に限定されるものではなく、本開示の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。

　例えば、上述の第１の実施形態から第１１の実施形態及び各変形例にかかる表示装置、及び応用例において挙げた構成、方法、工程、形状、材料および数値等はあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる構成、方法、工程、形状、材料および数値等を用いてもよい。

　上述の第１の実施形態から第１１の実施形態及び各変形例にかかる表示装置、及び応用例の構成、方法、工程、形状、材料および数値等は、本開示の主旨を逸脱しない限り、互いに組み合わせることが可能である。

　上述の第１の実施形態から第１１の実施形態及び各変形例にかかる表示装置、及び応用例に例示した材料は、特に断らない限り、１種を単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。

　また、本開示は以下の構成を採用することもできる。
（１）
　基板の上に、順に、無機絶縁層と発光素子を形成した発光素子基板と、
　前記発光素子基板の上面側を覆う保護層と、を有し
　該保護層の上方側に、平坦化層と、前記平坦化層とは異なる機能層と、を備え、
　前記無機絶縁層は、溝又は段差の少なくとも一方を有し、
　前記保護層は、前記溝又は段差の少なくとも一部を覆う被覆部を有する、
　表示装置。
（２）
　前記発光素子で生じた光を出射させる領域として定められた表示エリアと、該表示エリアの外周縁から外側の領域として定められた外側エリアと、を有し、
　前記無機絶縁層は、前記外側エリアに対応した位置に、前記溝又は段差を有する、
　上記（１）に記載の表示装置。
（３）
　前記溝又は段差の少なくとも一部は、前記平坦化層又は前記機能層の下側に形成されている、
　上記（１）または（２）に記載の表示装置。
（４）
　封止基板をさらに備え、
　前記保護層と前記封止基板の間に、前記平坦化層と前記機能層が形成されており、
　前記溝又は段差が、前記封止基板の端部の下側位置又は前記下側位置よりも前記表示エリア側に向かった位置に形成されている、
　上記（１）から（３）のいずれか１つに記載の表示装置。
（５）
　前記機能層は、カラーフィルタを有し、
　前記カラーフィルタは、前記発光素子で生じた光を入射される第１のカラーフィルタと、前記第１のカラーフィルタよりも外側に形成された第２のカラーフィルタとを備え、
　前記溝又は段差が前記第２のカラーフィルタの下側位置に設けられている、
　上記（１）から（４）のいずれか１つに記載の表示装置。
（６）
　前記第２のカラーフィルタは、遮光性を有する、
　上記（５）に記載の表示装置。
（７）
　前記発光素子は、順に、第１の電極、有機化合物層、第２の電極を積層した構造を有し、
　前記外側エリアに設けられ前記第２の電極に電気的に接続された補助電極を有し、
　前記溝又は段差が、前記補助電極の形成領域に設けられている、
　上記（１）から（６）のいずれか１つに記載の表示装置。
（８）
　前記発光素子は、順に、第１の電極、有機化合物層、第２の電極を積層した構造を有し、
　前記外側エリアに設けられ前記第２の電極に電気的に接続された補助電極を有し、
　前記溝又は段差が、前記補助電極の形成領域よりも前記表示エリア側に近い位置に設けられている、
　上記（１）から（７）のいずれか１つに記載の表示装置。
（９）
　前記外側エリア、且つ、前記溝又は段差よりも外側に、外部機器に対して電気的に接続する接続端子が設けられている、
　上記（１）から（８）のいずれか１つに記載の表示装置。
（１０）
　前記溝又は段差の上方が、前記平坦化層で覆われている、
　上記（１）から（９）のいずれか１つに記載の表示装置。
（１１）
　前記被覆部の上面側に、凹状構造が形成されており、
　前記凹状構造の上方が、前記平坦化層で覆われている、
　上記（１）から（１０）のいずれか１つに記載の表示装置。
（１２）
　前記平坦化層には、吸湿性部材が含まれる、
　上記（１）から（１１）のいずれか１つに記載の表示装置。
（１３）
　前記平坦化層として、下側平坦化層と上側平坦化層を有し、
　前記下側平坦化層は、前記外側エリアに設けられており、
　前記上側平坦化層は、少なくとも前記表示エリアに設けられ且つ前記下側平坦化層を覆っており、
　前記溝又は段差は、前記下側平坦化層の下側に設けられている、
　上記（１）から（１２）のいずれか１つに記載の表示装置。
（１４）
　前記下側平坦化層には、吸湿性部材が含まれる、
　上記（１３）に記載の表示装置。
（１５）
　前記保護層は、無機層と有機層を積層した構造を有する、
　上記（１）から（１４）のいずれか１つに記載の表示装置。
（１６）
　封止基板をさらに備え、
　前記機能層は、シール層を有し、
　前記シール層は、前記発光素子基板と前記封止基板の間、且つ、前記外側エリアに形成されており、
　前記被覆部の上面側に、凹状構造が形成されており、
　前記凹状構造の上方が、前記シール層で覆われている、
　上記（１）から（１５）のいずれか１つに記載の表示装置。
（１７）
　上記（１）から（１６）のいずれか１つに記載の表示装置を備えた、
　電子機器。

１　　　　：表示パネル
１０　　　：表示装置
１０Ａ　　：表示エリア
１０Ｂ　　：外側エリア
１１　　　：基板
１２　　　：無機絶縁層
１２Ａ　　：開口部
１３　　　：第１の電極
１４　　　：有機層
１５　　　：第２の電極
１６　　　：保護層
１６Ａ　　：第１保護層
１６Ｂ　　：第２保護層
１８　　　：カラーフィルタ
１９　　　：第１のカラーフィルタ
２０　　　：第２のカラーフィルタ
２１　　　：レンズ
２２　　　：封止基板
２３　　　：平坦化層
２６　　　：補助電極
２７Ａ　　：溝
２７Ｂ　　：段差
２８　　　：充填層
２９　　　：シール層
４０　　　：傾斜部
４０Ａ　　：基端
４０Ｂ　　：先端
４２　　　：端面コート部
４３　　　：接続端子
１０１　　：副画素
１０３　　：発光素子基板
１０４　　：発光素子
１０５　　：機能層
１１０　　：配線
１２７　　：壁部
１２７Ａ　：第１壁部
１２７Ｂ　：第２壁部
１２８　　：底面
１２９　　：溝内空間
１３０　　：壁部
１３１　　：底面
１６０　　：被覆部
１６１　　：上側空間
１７０　　：空洞部
１７１　　：接続部

Claims

　基板の上に、順に、無機絶縁層と発光素子を形成した発光素子基板と、
　前記発光素子基板の上面側を覆う保護層と、を有し
　該保護層の上方側に、平坦化層と、前記平坦化層とは異なる機能層と、を備え、
　前記無機絶縁層は、溝又は段差の少なくとも一方を有し、
　前記保護層は、前記溝又は段差の少なくとも一部を覆う被覆部を有する、
　表示装置。
　前記発光素子で生じた光を出射させる領域として定められた表示エリアと、該表示エリアの外周縁から外側の領域として定められた外側エリアと、を有し、
　前記無機絶縁層は、前記外側エリアに対応した位置に、前記溝又は段差を有する、
　請求項１に記載の表示装置。
　前記溝又は段差の少なくとも一部は、前記平坦化層又は前記機能層の下側に形成されている、
　請求項２に記載の表示装置。
　封止基板をさらに備え、
　前記保護層と前記封止基板の間に、前記平坦化層と前記機能層が形成されており、
　前記溝又は段差が、前記封止基板の端部の下側位置又は前記下側位置よりも前記表示エリア側に向かった位置に形成されている、
　請求項２に記載の表示装置。
　前記機能層は、カラーフィルタを有し、
　前記カラーフィルタは、前記発光素子で生じた光を入射される第１のカラーフィルタと、前記第１のカラーフィルタよりも外側に形成された第２のカラーフィルタとを備え、
　前記溝又は段差が前記第２のカラーフィルタの下側位置に設けられている、
　請求項２に記載の表示装置。
　前記第２のカラーフィルタは、遮光性を有する、
　請求項５に記載の表示装置。
　前記発光素子は、順に、第１の電極、有機化合物層、第２の電極を積層した構造を有し、
　前記外側エリアに設けられ前記第２の電極に電気的に接続された補助電極を有し、
　前記溝又は段差が、前記補助電極の形成領域に設けられている、
　請求項２に記載の表示装置。
　前記発光素子は、順に、第１の電極、有機化合物層、第２の電極を積層した構造を有し、
　前記外側エリアに設けられ前記第２の電極に電気的に接続された補助電極を有し、
　前記溝又は段差が、前記補助電極の形成領域よりも前記表示エリア側に近い位置に設けられている、
　請求項２に記載の表示装置。
　前記外側エリア、且つ、前記溝又は段差よりも外側に、外部機器に対して電気的に接続する接続端子が設けられている、
　請求項２に記載の表示装置。
　前記溝又は段差の上方が、前記平坦化層で覆われている、
　請求項２に記載の表示装置。
　前記被覆部の上面側に、凹状構造が形成されており、
　前記凹状構造の上方が、前記平坦化層で覆われている、
　請求項２に記載の表示装置。
　前記平坦化層には、吸湿性部材が含まれる、
　請求項２に記載の表示装置。
　前記平坦化層として、下側平坦化層と上側平坦化層を有し、
　前記下側平坦化層は、前記外側エリアに設けられており、
　前記上側平坦化層は、少なくとも前記表示エリアに設けられ且つ前記下側平坦化層を覆っており、
　前記溝又は段差は、前記下側平坦化層の下側に設けられている、
　請求項２に記載の表示装置。
　前記下側平坦化層には、吸湿性部材が含まれる、
　請求項１３に記載の表示装置。
　前記保護層は、無機層と有機層を積層した構造を有する、
　請求項２に記載の表示装置。
　封止基板をさらに備え、
　前記機能層は、シール層を有し、
　前記シール層は、前記発光素子基板と前記封止基板の間、且つ、前記外側エリアに形成されており、
　前記被覆部の上面側に、凹状構造が形成されており、
　前記凹状構造の上方が、前記シール層で覆われている、
　請求項２に記載の表示装置。
　請求項１に記載の表示装置を備えた、
　電子機器。