WO2023199749A1 - 液滴吐出装置、液滴吐出方法および記憶媒体 - Google Patents

液滴吐出装置、液滴吐出方法および記憶媒体 Download PDF

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WO2023199749A1
WO2023199749A1 PCT/JP2023/013044 JP2023013044W WO2023199749A1 WO 2023199749 A1 WO2023199749 A1 WO 2023199749A1 JP 2023013044 W JP2023013044 W JP 2023013044W WO 2023199749 A1 WO2023199749 A1 WO 2023199749A1
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stage
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loading
transport
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陽介 三根
寛 石田
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Tokyo Electron Ltd
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Tokyo Electron Ltd
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C13/00—Means for manipulating or holding work, e.g. for separate articles
    • B05C13/02—Means for manipulating or holding work, e.g. for separate articles for particular articles
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/26—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by applying the liquid or other fluent material from an outlet device in contact with, or almost in contact with, the surface
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials

Definitions

  • the present disclosure relates to a droplet ejection device, a droplet ejection method, and a storage medium.
  • a droplet ejection apparatus that performs drawing on a substrate by discharging functional liquid droplets from above the substrate using an inkjet method while horizontally transporting the substrate levitated by a floating stage. There is.
  • the present disclosure provides technology that can improve productivity.
  • a droplet ejection device includes a floating stage, a transport section, an ejection head, and a control section.
  • the levitation stage extends along the direction in which the substrate is transported, and levitates the substrate using the pressure of ejected gas.
  • the transport section holds the substrate floated by the floating stage and moves it along the floating stage.
  • the ejection head is located above the floating stage and ejects droplets of the functional liquid.
  • the control section controls the transport section and the ejection head.
  • the floating stage has a loading/unloading stage on which substrates are loaded and unloaded.
  • the control unit performs a loading process in which the substrate is transferred to the transport unit on the loading/unloading stage, and then moves the transport unit that holds the substrate to pass under the discharge head while applying droplets of functional liquid from the discharge head to the substrate.
  • a drawing process of ejecting the liquid and then an unloading process of returning the transport unit to the loading/unloading stage and releasing the holding of the substrate by the transport unit are executed.
  • productivity can be improved.
  • FIG. 1 is a schematic perspective view of a droplet ejection device according to an embodiment.
  • FIG. 2 is a schematic plan view of the droplet ejection device according to the embodiment.
  • FIG. 3 is a schematic side view of the droplet ejection device according to the embodiment.
  • FIG. 4 is a schematic plan view of the first conveyance section according to the embodiment.
  • FIG. 5 is a schematic plan view of a holding section included in the first conveyance section according to the embodiment.
  • FIG. 6 is a schematic side view of a holding section included in the first conveyance section according to the embodiment.
  • FIG. 7 is a schematic plan view of the drawing unit according to the embodiment.
  • FIG. 8 is a schematic bottom view of the carriage according to the embodiment.
  • FIG. 9 is a schematic plan view of the maintenance section according to the embodiment.
  • FIG. 10 is a schematic plan view of the periodic flushing section according to the embodiment.
  • FIG. 11 is a schematic side view of the periodic flushing section according to the embodiment.
  • FIG. 12 is a schematic plan view of the inspection section according to the embodiment.
  • FIG. 13 is a schematic side view of the inspection section according to the embodiment.
  • FIG. 14 is a flowchart showing the procedure of processing executed by the droplet ejection device according to the embodiment.
  • FIG. 15 is a schematic diagram showing an example of the operation of the droplet ejection device according to the embodiment.
  • FIG. 16 is a schematic diagram showing an example of the operation of the droplet ejection device according to the embodiment.
  • FIG. 17 is a schematic diagram showing an example of the operation of the droplet ejection device according to the embodiment.
  • FIG. 18 is a schematic diagram showing an example of the operation of the droplet ejection device according to the embodiment.
  • FIG. 19 is a schematic diagram showing an example of the operation of the droplet ejection device according to the embodiment.
  • FIG. 20 is a schematic diagram showing an example of the operation of the droplet ejection device according to the embodiment.
  • FIG. 21 is a schematic diagram showing an example of the operation of the droplet ejection device according to the embodiment.
  • FIG. 22 is a diagram showing an example of the arrangement of the first transfer device and the second transfer device in the first modification.
  • FIG. 23 is a diagram showing another example of the arrangement of the first transfer device and the second transfer device in the first modification.
  • FIG. 24 is a schematic perspective view of a droplet ejection device according to a second modification.
  • each of the drawings referred to below shows an orthogonal coordinate system in which the X-axis direction, Y-axis direction, and Z-axis direction that are orthogonal to each other are defined, and the positive Z-axis direction is the vertically upward direction. There are cases. Further, the direction of rotation about the vertical axis is sometimes referred to as the ⁇ direction.
  • FIG. 1 is a schematic perspective view of a droplet ejection device according to an embodiment.
  • FIG. 2 is a schematic plan view of the droplet ejection device according to the embodiment.
  • FIG. 3 is a schematic side view of the droplet ejection device according to the embodiment. Note that in FIGS. 1 to 3, a part of the configuration of the droplet ejection device may be omitted.
  • the droplet discharge device 100 discharges droplets of functional liquid from above the substrate S while transporting the substrate S in the horizontal direction (here, the Y-axis direction).
  • a predetermined pattern is drawn on the upper surface of the substrate S by discharging it using an inkjet method.
  • the droplet ejection device 100 includes a base 1, a floating stage 2, a first conveyance section 3_1, a second conveyance section 3_2, a drawing section 4, a first pre-drawing flushing section 5_1, and a second A pre-drawing flushing section 5_2 is provided.
  • the droplet ejection apparatus 100 also includes a first particle sensor 6_1, a second particle sensor 6_2, a first imaging section 7_1, a second imaging section 7_2, a maintenance section 8, a regular flushing section 9, and an inspection section. 10.
  • the droplet ejection device 100 also includes a control device 1000.
  • the droplet discharge device 100 includes two transport sections that hold and transport the substrate S (first transport section 3_1 and second transport section 3_2).
  • the droplet ejection apparatus 100 can perform a series of processes on two substrates S (first substrate S1 and second substrate S2) in parallel using these two transport sections.
  • the droplet ejection apparatus 100 may perform alignment processing on the second substrate S2 using the second transport section 3_2 while performing drawing processing on the first substrate S1 using the first transport section 3_1. I can do it. For this reason, the droplet ejection apparatus 100 according to the embodiment can improve productivity.
  • the first substrate S1 and the second substrate S2 are, for example, glass substrates used in flat panel displays. Hereinafter, unless the first substrate S1 and the second substrate S2 are particularly distinguished, they will simply be referred to as a substrate S.
  • the base 1 includes a first base 11, a second base 12, a pair of first guide rails 13, 13, and a pair of second guide rails 14, 14.
  • the first base 11 and the second base 12 extend along the transport direction of the substrate S (here, the Y-axis direction).
  • the upper surfaces of the first base 11 and the second base 12 are horizontal surfaces.
  • the first base 11 is arranged on the upper surface of the second base 12.
  • the first base 11 is narrower than the second base 12 in the direction perpendicular to the transport direction (X-axis direction).
  • a pair of first guide rails 13, 13 are provided on the upper surface of the first base 11.
  • a pair of first guide rails 13, 13 extend along the conveyance direction (Y-axis direction).
  • the pair of first guide rails 13, 13 are arranged at intervals in a direction (X-axis direction) orthogonal to the transport direction.
  • a pair of second guide rails 14, 14 are provided on the upper surface of the second base 12. Specifically, the pair of second guide rails 14, 14 are arranged on both sides of the first base 11 on the upper surface of the second base 12, that is, on the first base in the direction perpendicular to the conveyance direction (X-axis direction). It is provided on the side of 11.
  • the pair of second guide rails 14, 14 extend along the conveyance direction (Y-axis direction).
  • the pair of second guide rails 14, 14 are arranged at intervals in a direction (X-axis direction) orthogonal to the transport direction.
  • the pair of second guide rails 14, 14 are shorter than the pair of first guide rails 13, 13.
  • the first base 11 and the second base 12 are divided into a plurality of base members arranged in the transport direction (Y-axis direction), and cannot be partially removed or replaced with another base member of different length. is possible.
  • the pair of first guide rails 13, 13 are also divided into a plurality of rail members lined up in the transport direction (Y-axis direction), and can be partially removed or replaced with another rail member of different length. It is possible to
  • the floating stage 2 is arranged between a pair of first guide rails 13, 13.
  • the levitation stage 2 ejects gas toward the substrate S from below the substrate S, and levitates the substrate S by the pressure of the ejected gas.
  • the floating stage 2 includes a first loading/unloading stage 21, a second loading/unloading stage 22, a first processing stage 23, a second processing stage 24, a first transport stage 25, a second transport stage 26, and a third processing stage 27. These are the first loading/unloading stage 21, the first processing stage 23, the first transport stage 25, the third processing stage 27, the second transport stage 26, the second processing stage 24, and the second transport stage 24 along the Y-axis positive direction. They are arranged in the order of exit stage 22.
  • the first loading/unloading stage 21 is arranged at one end of the floating stage 2 in the transport direction (Y-axis direction). At the first loading/unloading stage 21, the first substrate S1 is loaded and unloaded.
  • the second loading/unloading stage 22 is arranged at the other end of the floating stage 2 in the transport direction (Y-axis direction). At the second loading/unloading stage 22, the second substrate S2 is loaded and unloaded.
  • the first carry-in/out stage 21, the second carry-in/out stage 22, the first conveyance stage 25, and the second conveyance stage 26 have a plurality of ejection ports that eject compressed gas (for example, air) upward.
  • compressed gas for example, air
  • the first processing stage 23, the second processing stage 24, and the third processing stage 27 are equipped with a plurality of ejection ports that eject compressed gas upward, and a plurality of suction ports that suck the gas.
  • the first processing stage 23, the second processing stage 24, and the third processing stage 27 eject compressed gas toward the lower surface of the substrate S, and at the same time, suck the air between the substrate S and the stages.
  • the flying height can be adjusted with high precision.
  • the first loading/unloading stage 21, the second loading/unloading stage 22, the first processing stage 23, the second processing stage 24, the first transport stage 25, and the second transport stage 26 are arranged in the transport direction (Y-axis direction) of the substrate S. It has a plurality of stage members extending along it. These multiple stage members are arranged at intervals in a direction (X-axis direction) orthogonal to the transport direction of the substrate S.
  • the first transport unit 3_1 holds the first substrate S1 floated by the floating stage 2, and moves the held first substrate S1 along the floating stage 2.
  • the second transport unit 3_2 holds the second substrate S2 floated by the floating stage 2, and moves the held second substrate S2 along the floating stage 2.
  • the first transport unit 3_1 is capable of reciprocating between the first carry-in/out stage 21 and the second transport stage 26. Further, the second transport unit 3_2 is capable of reciprocating between the second carry-in/out stage 22 and the first transport stage 25.
  • first transport section 3_1 and the second transport section 3_2 will be explained. Since the configurations of the first conveyance section 3_1 and the second conveyance section 3_2 are the same, the configuration of the first conveyance section 3_1 will be explained here, and the explanation of the configuration of the second conveyance section 3_2 will be omitted.
  • FIG. 4 is a schematic plan view of the first transport section 3_1 according to the embodiment.
  • the first conveyance section 3_1 includes a plurality of (here, two) moving sections 31 and a plurality of (here, four) holding sections 32.
  • the moving part 31 is provided on the first guide rail 13 and moves along the first guide rail 13.
  • the two moving parts 31 each have a driving part such as a motor, and can each move independently.
  • the drive unit may be provided only on one of the two moving units 31.
  • the four holding parts 32 are provided on the two moving parts 31, respectively, and hold the first substrate S1 from below. Specifically, two of the four holding parts 32 are provided on one of the two moving parts 31, and the remaining two of the four holding parts 32 are provided on the other of the two moving parts 31. provided.
  • the four holding parts 32 attract and hold the four corners of the first substrate S1 from below the first substrate S1.
  • the first substrate S1 is held at its four corners by suction by the four holding sections 32, and is transported by the two moving sections 31 while being floated by the floating stage 2.
  • FIG. 5 is a schematic plan view of a holding section included in the first transport section 3_1 according to the embodiment.
  • FIG. 6 is a schematic side view of a holding section included in the first transport section 3_1 according to the embodiment.
  • the holding section 32 includes a base section 320, a first adjustment section 321, a second adjustment section 322, a rotating section 323, an arm section 324, and a first suction section 325. Equipped with.
  • the first suction section 325 suction-holds the first substrate S1.
  • the first suction section 325 includes a plurality of suction pads 326.
  • the plurality of suction pads 326 are provided side by side in the horizontal direction (here, the Y-axis direction). Note that although an example in which the first suction section 325 includes three suction pads 326 is shown here, the number of suction pads 326 is not limited to three.
  • the first suction unit 325 uses a plurality of suction pads 326 to suction the lower surface of the first substrate S1. As a result, the first substrate S1 is held by the first adsorption section 325.
  • the base portion 320, the first adjustment portion 321, the second adjustment portion 322, the rotating portion 323, and the arm portion 324 are examples of adjustment portions that adjust the relative position of the first suction portion 325 with respect to the moving portion 31.
  • the base part 320 is fixed on the moving part 31.
  • the first adjustment section 321 is provided on the base section 320 and is movable on the base section 320 in a direction (X-axis direction) orthogonal to the conveyance direction.
  • the second adjustment section 322 is provided on the first adjustment section 321 and is movable on the first adjustment section 321 along the conveyance direction (Y-axis direction).
  • the rotating part 323 is provided on the second adjusting part 322 and is rotatable around the vertical axis (Z-axis).
  • the arm portion 324 is a member extending in the horizontal direction, and is supported by the rotating portion 323 at its base end, and supports the first suction portion 325 at its distal end.
  • the holding part 32 moves the first adsorption part 325 in the direction perpendicular to the transport direction (X-axis direction) by moving the first adjustment part 321 in the direction perpendicular to the transport direction (X-axis direction). ). That is, the first adjustment section 321 can adjust the position of the first suction section 325 with respect to the moving section 31 along the direction (X-axis direction) orthogonal to the conveyance direction.
  • the holding section 32 can move the first suction section 325 in the transport direction (Y-axis direction) by moving the second adjustment section 322 along the transport direction (Y-axis direction). That is, the second adjustment section 322 can adjust the position of the first suction section 325 with respect to the moving section 31 along the conveyance direction (Y-axis direction).
  • the adjustment section rotates the first suction section 325 supported by the rotation section 323 via the arm section 324 by rotating the rotation section 323 around the vertical axis (Z axis). ) can be rotated around the That is, the rotating part 323 can adjust the position of the first suction part 325 with respect to the moving part 31 along the circumferential direction centered on the vertical axis (Z-axis direction).
  • the first adjustment section 321 and the second adjustment section 322 each have a drive section such as a motor, and can each move independently.
  • the rotating section 323 is, for example, a bearing, does not have a driving section, and rotates the first suction section 325 so as to follow the movements of the first adjusting section 321 and the second adjusting section 322.
  • the present invention is not limited to this, and the rotating portion 323 may be provided with a driving portion.
  • the first transport section 3_1 and the second transport section 3_2 move along the same first guide rails 13, 13. In this way, by sharing the first guide rails 13, 13 with the first transport section 3_1 and the second transport section 3_2, increases in cost and footprint can be suppressed.
  • the drawing unit 4 is arranged above the floating stage 2. Specifically, the drawing unit 4 is arranged above the third processing stage 27. The drawing unit 4 performs drawing on the upper surface of the substrate S by discharging a functional liquid toward the substrate S from above.
  • FIG. 7 is a schematic plan view of the drawing unit 4 according to the embodiment.
  • FIG. 8 is a schematic bottom view of the carriage according to the embodiment.
  • the drawing section 4 includes a first carriage group 41, a second carriage group 42, and a third carriage group 43.
  • the first carriage group 41, the second carriage group 42, and the third carriage group 43 are arranged along the conveyance direction (Y-axis direction).
  • the first carriage group 41, the second carriage group 42, and the third carriage group 43 each include a plurality of (here, six) carriages 40.
  • the plurality of carriages 40 are arranged in a direction (X-axis direction) perpendicular to the transport direction.
  • the plurality of carriages 40 belonging to the first carriage group 41 are supported horizontally by a first beam section 45 provided in the drawing section 4 (see FIG. 1).
  • the plurality of carriages 40 belonging to the second carriage group 42 are supported horizontally by a second beam section 46 included in the drawing section 4 .
  • the plurality of carriages 40 belonging to the third carriage group 43 are supported horizontally by a third beam section 47 included in the drawing section 4 .
  • the first beam portion 45, the second beam portion 46, and the third beam portion 47 are supported by a pair of pillars 48, 48.
  • the pair of support columns 48, 48 are provided at both ends of the first beam portion 45, the second beam portion 46, and the third beam portion 47 in the direction (X-axis direction) orthogonal to the conveyance direction.
  • the pair of support columns 48, 48 can move up and down the first beam section 45, the second beam section 46, and the third beam section 47. That is, the pair of pillars 48, 48 is an example of a lifting mechanism that raises and lowers the first beam part 45, the second beam part 46, and the third beam part 47.
  • the pair of support columns 48, 48 have a first beam portion 45, a second beam portion 46, and a The third beam portion 47 is raised and lowered.
  • the carriage 40 is, for example, a flat member.
  • the carriage 40 is provided with a plurality of ejection heads 400.
  • a total of 12 ejection heads 400 are provided in the carriage 40 in a matrix along the X-axis direction and the Y-axis direction. Note that although an example in which the carriage 40 is provided with 12 ejection heads 400 is shown here, the number of ejection heads 400 may be greater or less than 12.
  • the ejection head 400 is located above the third processing stage 27 and ejects droplets of the functional liquid.
  • the ejection head 400 is, for example, a piezo type nozzle head.
  • a plurality of nozzles 410 are formed on the lower surface of the ejection head 400 (the surface facing the substrate S).
  • the plurality of nozzles 410 are provided, for example, in a matrix along the X-axis direction and the Y-axis direction.
  • the discharge head 400 has a pump section (not shown).
  • the pump section includes a cavity that stores the functional fluid, a piezoelectric element, a diaphragm, etc. that changes the volume of the cavity, and the volume of the cavity is changed by applying voltage to the piezoelectric element and vibrating the diaphragm. droplets of the functional liquid are ejected from each nozzle 410.
  • the discharge head 400 is provided with a functional liquid introduction part that is connected to the functional liquid tank via a supply tube, a head board that is connected to the control device 1000 (see FIG. 3) via a flexible flat cable, and the like. ing.
  • the plurality of carriages 40 eject functional liquid from the plurality of ejection heads 400 onto the substrate S that is transported along the transport direction (Y-axis positive direction).
  • the functional liquid is, for example, ink.
  • the plurality of ejection heads 400 belonging to the first carriage group 41 eject red (R) ink. Furthermore, the plurality of ejection heads 400 belonging to the second carriage group 42 eject green (G) ink, and the plurality of ejection heads 400 belonging to the third carriage group 43 eject blue (B) ink.
  • the pair of first pre-drawing flushing parts 5_1, 5_1 are arranged at both ends of the first transport part 3_1 in the transport direction (Y-axis direction). In other words, the pair of first pre-drawing flushing parts 5_1, 5_1 are arranged so as to sandwich the first transport part 3_1 in the transport direction (Y-axis direction).
  • the pair of second pre-drawing flushing parts 5_2, 5_2 are arranged at both ends of the second transport part 3_2 in the transport direction (Y-axis direction). In other words, the pair of second pre-drawing flushing parts 5_2, 5_2 are arranged so as to sandwich the second transport part 3_2 in the transport direction (Y-axis direction).
  • each first pre-drawing flushing section 5_1 includes a liquid receiving section 51 that receives the functional liquid discharged from the discharging head 400, and a pair that moves the liquid receiving section 51 in the transport direction (Y-axis direction).
  • the moving parts 52, 52 are provided.
  • the liquid receiver 51 is a long plate-shaped member extending in a direction (X-axis direction) perpendicular to the conveying direction.
  • the liquid receiving portion 51 is formed of a porous material such as porous resin, for example.
  • the pair of moving parts 52, 52 are provided on the pair of first guide rails 13, 13, respectively, and horizontally support the liquid receiving part 51 from below.
  • the pair of moving parts 52, 52 each have a driving part such as a motor, and are movable along the pair of first guide rails 13, 13. That is, the pair of moving parts 52, 52 can move the liquid receiving part 51 integrally with the first transport part 3_1.
  • the drive unit may be provided only on one of the two moving units 52.
  • the pair of moving parts 52 may be configured to be driven by a driving part included in the pair of moving parts 31. In this case, neither of the pair of moving parts 52 may have a driving part.
  • the structure of the second pre-drawing flushing section 5_2 is also similar to the structure of the first pre-drawing flushing section 5_1 shown in FIG. 4.
  • the first particle sensor 6_1 detects particles attached to the upper surface of the first substrate S1.
  • the first particle sensor 6_1 includes a first unit 61 and a second unit 62.
  • the first unit 61 is provided at one end of the first processing stage 23 in a direction (X-axis direction) perpendicular to the transport direction.
  • the second unit 62 is provided at the other end of the first processing stage 23 in the direction (X-axis direction) perpendicular to the transport direction. That is, the first unit 61 and the second unit 62 are arranged to face each other with the first processing stage 23 in between in the direction (X-axis direction) perpendicular to the transport direction.
  • the first particle sensor 6_1 is arranged between the first loading/unloading stage 21 and the ejection head 400 in the transport direction (Y-axis direction). That is, the first particle sensor 6_1 is arranged at a position further in the positive direction of the Y-axis than the first loading/unloading stage 21 and further in the negative direction of the Y-axis than the ejection head 400.
  • the first unit 61 has a light projecting section
  • the second unit 62 has a light receiving section.
  • the light projecting section of the first unit 61 emits laser light horizontally toward the light receiving section of the second unit 62.
  • the light receiving section of the second unit 62 receives the laser beam irradiated from the light projecting section of the first unit 61.
  • the first particle sensor 6_1 outputs the amount of received laser light to a control device 1000, which will be described later.
  • the control device 1000 detects particles attached to the upper surface of the first substrate S1 based on the detection result obtained from the first particle sensor 6_1.
  • the second particle sensor 6_2 detects particles attached to the upper surface of the second substrate S2.
  • the second particle sensor 6_2 includes a first unit 61 and a second unit 62.
  • the first unit 61 is provided at one end of the second processing stage 24 in a direction (X-axis direction) perpendicular to the transport direction.
  • the second unit 62 is provided at the other end of the second processing stage 24 in the direction (X-axis direction) perpendicular to the transport direction. That is, the first unit 61 and the second unit 62 are arranged to face each other with the second processing stage 24 in between in the direction (X-axis direction) orthogonal to the transport direction.
  • the second particle sensor 6_2 is arranged between the second loading/unloading stage 22 and the ejection head 400 in the transport direction (Y-axis direction). That is, the second particle sensor 6_2 is arranged at a position further in the negative Y-axis direction than the second carry-in/out stage 22 and further in the positive Y-axis direction than the ejection head 400.
  • the second particle sensor 6_2 outputs the amount of the received laser light to the control device 1000, which will be described later.
  • the control device 1000 detects particles attached to the upper surface of the second substrate S2 based on the detection result obtained from the second particle sensor 6_2.
  • first unit 61 may include a light receiving section in addition to the light projecting section.
  • second unit 62 may also include a light projecting section in addition to the light receiving section.
  • the first imaging unit 7_1 is arranged above the first transport stage 25, for example. Note that the first imaging unit 7_1 may be arranged above the first processing stage 23. The first imaging unit 7_1 may be disposed at least between the first loading/unloading stage 21 and the ejection head 400. The first imaging unit 7_1 images the upper surface of the first substrate S1 after the functional liquid has been discharged (after drawing). Specifically, the first imaging unit 7_1 images the upper surface of the first substrate S1 that is moving from the third processing stage 27 toward the first loading/unloading stage 21. The image captured by the first imaging unit 7_1 is output to the control device 1000. The control device 1000 determines whether the drawing state of the first substrate S1 is good or bad based on the image captured by the first imaging unit 7_1.
  • the second imaging unit 7_2 is arranged above the second transport stage 26, for example. Note that the second imaging unit 7_2 may be arranged above the second processing stage 24. The second imaging unit 7_2 may be disposed at least between the second loading/unloading stage 22 and the ejection head 400.
  • the second imaging unit 7_2 images the upper surface of the second substrate S2 after the functional liquid has been discharged (after drawing). Specifically, the second imaging unit 7_2 images the upper surface of the second substrate S2 that is moving from the third processing stage 27 toward the second loading/unloading stage 22.
  • the image captured by the second imaging unit 7_2 is output to the control device 1000.
  • the control device 1000 determines whether the drawing state of the second substrate S2 is good or bad based on the image captured by the second imaging unit 7_2.
  • the maintenance section 8, periodic flushing section 9, and inspection section 10 are arranged above the floating stage 2.
  • Each of the maintenance section 8, periodic flushing section 9, and inspection section 10 is horizontally supported at both ends in a direction (X-axis direction) perpendicular to the conveyance direction by a pair of support columns (not shown).
  • This support column is provided on a pair of second guide rails 14, 14, and is movable along the pair of second guide rails 14, 14 by a drive section (not shown). That is, the maintenance section 8, periodic flushing section 9, and inspection section 10 are capable of reciprocating movement along the conveyance direction.
  • the maintenance section 8 and the periodic flushing section 9 wait at a first standby position above the floating stage 2 and between the first loading/unloading stage 21 and the third processing stage 27.
  • the inspection unit 10 waits at a second standby position above the floating stage 2 and between the second loading/unloading stage 22 and the third processing stage 27 .
  • the second standby position may be above the second transport stage 26. That is, the inspection unit 10 may be on standby above the second transport stage 26. By setting this position as the second standby position, it is possible to shorten the time required for the inspection process described later.
  • the maintenance section 8 moves on second guide rails 14, 14 extending along the conveyance direction (Y-axis direction).
  • the maintenance section 8 is arranged at a first standby position between the first loading/unloading stage 21 and the third processing stage 27 when not performing maintenance work.
  • the maintenance section 8 moves from the first standby position to a maintenance position between the third processing stage 27 and the drawing section 4.
  • the maintenance section 8 performs suction processing and wiping processing at the maintenance position.
  • the suction process is a process for forcibly discharging the functional liquid from the ejection head 400 by suctioning the functional liquid remaining in the ejection head 400 from the nozzle 410.
  • the wiping process is a process of wiping the nozzle surface (lower surface) of the ejection head 400 after the suction process.
  • the maintenance section 8 performs suction processing and wiping processing at preset timing. For example, the maintenance section 8 performs suction processing and wiping processing several times a day.
  • FIG. 9 is a schematic plan view of the maintenance section 8 according to the embodiment.
  • the maintenance section 8 includes a plurality of suction sections 81 and a plurality of wiping sections 82.
  • the plurality of suction units 81 are provided, for example, in accordance with the number of carriages 40 in the direction (X-axis direction) orthogonal to the transport direction. That is, the plurality of suction parts 81 are provided corresponding to the plurality of carriages 40.
  • the plurality of suction units 81 may be provided in three rows in the transport direction depending on the number of carriages 40 in the transport direction (Y-axis direction).
  • Each suction unit 81 is movable in the transport direction and in the vertical direction.
  • Each suction unit 81 suctions the functional liquid from the plurality of ejection heads 400 .
  • Each suction section 81 includes a plurality of caps 811.
  • Each cap 811 is provided corresponding to the number of ejection heads 400, and is provided so as to be able to face the ejection heads 400 in the vertical direction.
  • Each cap 811 can be brought into close contact with the corresponding ejection head 400 by moving the suction section 81 in the vertical direction. Each cap 811 comes into close contact with the corresponding ejection head 400 during suction processing, and receives the functional liquid sucked from the corresponding ejection head 400. In the suction process, the functional liquid remaining in the ejection head 400 is suctioned by creating a negative pressure in the cap 811 that is in close contact with the ejection head 400 by a suction mechanism.
  • Each suction unit 81 moves along the conveyance direction (Y-axis direction) with respect to the support stand 80 of the maintenance unit 8. Specifically, each suction unit 81 moves between a retreat position and a suction position along the conveyance direction.
  • the retracted position is a position where each suction section 81 corresponding to the carriage 40 where the wiping process is performed by each wiping section 82 retracts.
  • the retracted position is also the reference position of each suction section 81.
  • the suction position is a position where each cap 811 is below the corresponding ejection head 400 when performing suction processing and wiping processing.
  • the wiping unit 82 performs a wiping process on each ejection head 400 into which the functional liquid has been sucked through the suction process. That is, the wiping section 82 wipes the plurality of ejection heads 400 into which the functional liquid has been sucked by the plurality of suction sections 81 .
  • the wiping parts 82 are provided at both ends of the support base 80 in the direction (X-axis direction) perpendicular to the transport direction. That is, two wiping parts 82 are provided, one wiping part 82 is provided at one end of the support base 80 in the direction perpendicular to the transport direction (X-axis direction), and the other wiping part 82 is provided in the direction perpendicular to the transport direction (X-axis direction). It is provided at the other end of the support base 80 in the orthogonal direction (X-axis direction).
  • Each wiping section 82 is movable along the direction (X-axis direction) orthogonal to the conveyance direction. Each wiping section 82 wipes away the functional liquid adhering to the tip of the ejection head 400 by moving the wiping sheet 821 while rotating it using a roll section.
  • the periodic flushing section 9 is used for periodic flushing processing in which the functional liquid is ejected from the ejection head 400 during a period when the functional liquid is not ejected to the first substrate S1 and the second substrate S2. Periodic flushing processing is executed at preset timing. For example, periodic flushing processing is performed several times a day. The periodic flushing section 9 receives the functional liquid ejected from the ejection head 400 in the periodic flushing process.
  • the inspection unit 10 uses a film to receive the functional liquid ejected from the ejection head 400 in an inspection process executed at a timing different from the periodic flushing process described above, and images the functional liquid with an imaging unit.
  • FIG. 10 is a schematic plan view of the periodic flushing section 9 according to the embodiment.
  • FIG. 11 is a schematic side view of the periodic flushing section 9 according to the embodiment.
  • the periodic flushing section 9 includes a base section 90 and a liquid receiving section 91 arranged on the base section 90.
  • the base portion 90 is supported horizontally by the pair of pillars described above, and is movable along the pair of second guide rails 14, 14.
  • the liquid receiving portion 91 is made of, for example, porous resin, and receives the functional liquid discharged from the plurality of discharge heads 400 .
  • a drain pipe (not shown) is connected to the liquid receiver 91, and the functional fluid received by the liquid receiver 91 is discharged via the drain pipe.
  • FIG. 12 is a schematic plan view of the inspection section 10 according to the embodiment.
  • FIG. 13 is a schematic side view of the inspection section 10 according to the embodiment.
  • the inspection section 10 includes a base section 101, a plurality of (here, three) films 102, and a plurality of third imaging sections 103 (see FIGS. 2 and 3).
  • the base portion 101 is supported horizontally by the pair of pillars described above, and is movable along the pair of second guide rails 14, 14.
  • a plurality of (here, three) films 102 are arranged side by side on the base portion 101 along the conveyance direction (Y-axis direction).
  • the plurality of films 102 correspond to the first carriage group 41, the second carriage group 42, and the third carriage group 43, respectively.
  • the plurality of films 102 may be made of different materials.
  • the plurality of films 102 may be selected from materials suitable for the type of functional fluid to be received (for example, whether or not they are hydrophilic, surface roughness, etc.).
  • the third imaging unit 103 images the functional liquid discharged onto the film 102. As shown in FIGS. 2 and 3, the third imaging section 103 is arranged near the drawing section 4 between the drawing section 4 and the base section 101.
  • the control device 1000 controls the inspection section 10 to place the base section 101 below the drawing section 4. Subsequently, the control device 1000 controls the drawing unit 4 to discharge the functional liquid onto the plurality of films 102. Subsequently, the control device 1000 positions the base section 101 of the inspection section 10 below the third imaging section 103. The control device 1000 then controls the third imaging unit 103 to image the film 102 from above. The imaging result by the third imaging unit 103 is output to the control device 1000, and the control device 1000 determines whether the functional fluid is being discharged normally.
  • the inspection process by the inspection unit 10 is performed, for example, every time the drawing unit 4 finishes the drawing process on the substrate S.
  • the present invention is not limited to this, and the inspection process may be performed, for example, after the drawing process on the first substrate S1 is finished and the subsequent drawing process on the second substrate S2 is finished. Further, the inspection process may be performed, for example, after the drawing process on a plurality of (three or more) substrates S is completed.
  • the droplet ejection device 100 includes a plurality of first pre-alignment mechanisms 15_1 and a plurality of second pre-alignment mechanisms 15_2.
  • the plurality of first pre-alignment mechanisms 15_1 are arranged on the first loading/unloading stage 21. Specifically, the plurality of first pre-alignment mechanisms 15_1 are arranged at the four corners of the first substrate S1 when the first substrate S1 is located on the first loading/unloading stage 21. In the example shown in FIG. 2, two first pre-alignment mechanisms 15_1 are arranged on one side of the first substrate S1. These two first pre-alignment mechanisms 15_1 are arranged around a corner on one side of the first substrate S1.
  • Each first pre-alignment mechanism 15_1 is movable along the horizontal direction (X-axis direction or Y-axis direction). Specifically, the four first pre-alignment mechanisms 15_1 adjacent to the first substrate S1 in the transport direction (Y-axis direction) are horizontally movable along the transport direction. Furthermore, the four first pre-alignment mechanisms 15_1 adjacent to the first substrate S1 in the direction (X-axis direction) perpendicular to the transport direction are horizontally movable along the direction perpendicular to the transport direction. Further, each first pre-alignment mechanism 15_1 is movable up and down.
  • the plurality of second pre-alignment mechanisms 15_2 are arranged on the second loading/unloading stage 22. Specifically, the plurality of second pre-alignment mechanisms 15_2 are arranged at the four corners of the second substrate S2 when the second substrate S2 is located on the second loading/unloading stage 22. In the example shown in FIG. 2, two second pre-alignment mechanisms 15_2 are arranged on one side of the second substrate S2. These two second pre-alignment mechanisms 15_2 are arranged around a corner on one side of the second substrate S2.
  • Each second pre-alignment mechanism 15_2 is movable along the horizontal direction (X-axis direction or Y-axis direction). Specifically, the four second pre-alignment mechanisms 15_2 adjacent to the second substrate S2 in the transport direction (Y-axis direction) are horizontally movable along the transport direction. Further, the four first pre-alignment mechanisms 15_1 adjacent to the second substrate S2 in the direction (X-axis direction) perpendicular to the transport direction are horizontally movable along the direction perpendicular to the transport direction. Further, each second pre-alignment mechanism 15_2 is movable up and down.
  • the plurality of first pre-alignment mechanisms 15_1 are used for pre-alignment processing.
  • the pre-alignment process involves adjusting the position of the first substrate S1 after it is transferred from the first transfer device 17_1 (described later) to the first transport unit 3_1 and before the first substrate S1 is held by the first transport unit 3_1. This is a process of adjusting. Specifically, in the pre-alignment process, the plurality of first pre-alignment mechanisms 15_1 move in the horizontal direction (X-axis direction or Y direction) so as to approach the first substrate S1. The position of the first substrate S1 can be adjusted to some extent.
  • the plurality of second pre-alignment mechanisms 15_2 are used for pre-alignment processing on the second substrate S2.
  • the droplet discharge device 100 includes a plurality of first alignment cameras 16_1 and a plurality of second alignment cameras 16_2.
  • a plurality of (here, two) first alignment cameras 16_1 are arranged below the first loading/unloading stage 21. Specifically, each first alignment camera 16_1 is arranged between two stage members included in the first loading/unloading stage 21 in plan view, and images the first substrate S1 from between these two stage members. .
  • a plurality of (here, two) second alignment cameras 16_2 are arranged below the second loading/unloading stage 22. Specifically, each second alignment camera 16_2 is arranged between two stage members of the second loading/unloading stage 22 in plan view, and images the second substrate S2 from between these two stage members. .
  • the plurality of first alignment cameras 16_1 are used for the main alignment process.
  • This alignment process is a process for accurately adjusting the position of the first substrate S1 held by the first transport unit 3_1 after the pre-alignment process.
  • the plurality of first alignment cameras 16_1 capture images of alignment marks provided on the first substrate S1.
  • the control device 1000 drives the first adjustment section 321 and the second adjustment section 322 of each holding section 32 based on the images captured by the plurality of first alignment cameras 16_1. 1 Adjust the position of the substrate S1.
  • the plurality of second alignment cameras 16_2 are used for the main alignment process for the second substrate S2.
  • the droplet ejection device 100 includes a first transfer device 17_1 and a second transfer device 17_2.
  • the first transfer device 17_1 and the second transfer device 17_2 are, for example, horizontal articulated robots.
  • the first transfer device 17_1 carries the first substrate S1 into and out of the first carry-in/out stage 21.
  • the second transfer device 17_2 carries the second substrate S2 into and out of the second carry-in/out stage 22.
  • the first transfer device 17_1 is arranged at a position adjacent to the first loading/unloading stage 21 (first transfer position of the first loading/unloading stage 21) in the transport direction (Y-axis direction). Ru.
  • the second transfer device 17_2 is arranged at a position adjacent to the second carry-in/out stage 22 (first transfer position of the second carry-in/out stage 22) in the transport direction (Y-axis direction). Note that the installation locations of the first transfer device 17_1 and the second transfer device 17_2 are not limited to the example shown in FIG. 2. This point will be discussed later.
  • the droplet ejection device 100 includes a control device 1000.
  • the control device 1000 is, for example, a computer, and includes a control section 1001 and a storage section 1002.
  • the storage unit 1002 stores a program (an example of a droplet ejection program) that controls various processes executed in the droplet ejection apparatus 100.
  • the control unit 1001 controls the operation of the droplet ejection apparatus 100 by reading and executing a program stored in the storage unit 1002.
  • Such a program may be one that has been recorded on a computer-readable storage medium, and may be one that is installed from the storage medium into the storage unit 1002 of the control device 1000.
  • a computer-readable storage medium is a medium that non-temporarily records the program and data used by the program. Examples of such storage media include hard disks (HD), flexible disks (FD), compact disks (CD), magnet optical disks (MO), and memory cards.
  • FIG. 14 is a flowchart showing the procedure of processing executed by the droplet ejection apparatus 100 according to the embodiment. Further, FIGS. 15 to 21 are schematic diagrams showing operation examples of the droplet ejection apparatus 100 according to the embodiment. Note that each processing procedure shown in FIG. 14 is executed under the control of the control device 1000.
  • a first import process is performed (step S101).
  • the first loading process is a process in which the first substrate S1 is transferred from the first transfer device 17_1 to the first transport unit 3_1 on the first loading/unloading stage 21.
  • the first transport section 3_1 is placed on the first carry-in/out stage 21.
  • the first substrate S1 is transferred from the first transfer device 17_1 to the first transport unit 3_1.
  • the first loading/unloading stage 21 is provided with lifting pins (not shown), and the first transfer device 17_1 places the first substrate S1 on the lifting pins. Thereafter, the elevating pin descends, and the second substrate S2 is transferred from the elevating pin to the holding section 32 of the first transport section 3_1.
  • first pre-alignment processing is performed (step S102).
  • the control device 1000 adjusts the position of the first substrate S1 by driving the plurality of first pre-alignment mechanisms 15_1.
  • a first holding process is performed (step S103).
  • the control device 1000 controls the first transport section 3_1 to cause the first suction section 325 of each holding section 32 to suction and hold the first substrate S1.
  • the first main alignment process is a process of adjusting the attitude of the first substrate S1 in the horizontal plane by controlling the adjustment unit of the first transport unit 3_1 based on the image of the alignment mark captured by the first alignment camera 16_1.
  • the control device 1000 images the alignment mark provided on the first substrate S1 using the plurality of first alignment cameras 16_1. After that, the control device 1000 controls the first adjustment section 321 and the second adjustment section 322 of the plurality of holding sections 32 included in the first transport section 3_1 to adjust the position of the first substrate S1.
  • a first particle detection process is performed (step S105).
  • the control device 1000 controls the moving unit 31 of the first transport unit 3_1 to move the first substrate S1 from the first loading/unloading stage 21 to the first transport stage 25, that is, along the Y axis. Move in the forward direction.
  • the control device 1000 causes the first particle sensor 6_1 to irradiate the first substrate S1 passing through the first processing stage 23 with a laser beam.
  • the control device 1000 detects particles attached to the upper surface of the first substrate S1 based on the amount of laser light received by the light receiving section (see FIG. 16).
  • the first drawing process is a process in which droplets of the functional liquid are ejected from the ejection head 400 onto the first substrate S1 while moving the first transport unit 3_1 holding the first substrate S1 to pass below the ejection head 400. It is.
  • the control device 1000 reciprocates the first transport section 3_1 twice between the first transport stage 25 and the second transport stage 26, and removes droplets of the functional liquid from the drawing section 4 on each of the forward and return passes. (Figs. 17 to 20).
  • the first transport stage 25 is an example of a first position between the first transport stage 21 and the ejection head 400.
  • the second transport stage 26 is an example of a second position between the ejection head 400 and the second carry-in/out stage 22.
  • a second loading process, a second pre-alignment process, a second holding process, a second main alignment process, and a second process are performed on the second substrate S2.
  • Particle detection processing is performed (steps S107 to S111).
  • the second carry-in process (step S107) and the second pre-alignment process (step S108) are similar to the first carry-in process and the first pre-alignment process described above.
  • the second holding process (step S109), the second main alignment process (step S110), and the second particle detection process (step S111) are the same as the first holding process, first main alignment process, and first particle detection process described above. This is the process.
  • the second loading process, the second pre-alignment process, the second holding process, and the second main alignment process for the second substrate S2 are performed during the first reciprocating movement and the second outward movement with respect to the first substrate S1. (See Figures 17 to 19). Then, the subsequent second particle detection process for the second substrate S2 is performed during the second return trip to the first substrate S1. That is, the control device 1000 moves the second transport unit 3_2 in the second particle detection process (and the second drawing process) in synchronization with the movement of the first transport unit 3_1 to the first transport stage 25 in the first drawing process. The movement to the second transport stage 26 is started (see FIG. 20).
  • control device 1000 performs the second pre-alignment process and the second main alignment process in parallel with the first drawing process.
  • control device 1000 may perform the inspection process by the inspection unit 10 after the first drawing process and before the second drawing process.
  • control device 1000 may perform the second export process after the first export process.
  • a first drawing determination process is performed (step S112).
  • the control device 1000 controls the first transport section 3_1 to move the first substrate S1 from the first transport stage 25 to the first loading/unloading stage 21, and controls the first imaging section 7_1. Then, the upper surface of the first substrate S1 that is being moved is imaged. The control device 1000 determines whether the drawing state of the first substrate S1 is good or bad based on the image captured by the first imaging unit 7_1.
  • a first export process is performed (step S113).
  • the first transport unit 3_1 is returned to the first loading/unloading stage 21 to release the holding of the first substrate S1 by the holding unit 32, and in the first unloading process, the control device 1000 3_1 releases the suction and holding of the first substrate S1.
  • the control device 1000 controls the first transfer device 17_1 to receive the first substrate S1 from the first transport unit 3_1 via a lift pin (not shown).
  • a second drawing process is performed on the second substrate S2 in parallel with the first drawing determination process and the first unloading process on the first substrate S1 (step S114).
  • the second drawing process on the second substrate S2 is performed by moving the second conveyance unit 3_2 holding the second substrate S2 and passing the functional liquid from the ejection head 400 onto the second substrate S2. This is a process of ejecting droplets.
  • the second drawing process is similar to the first drawing process for the first substrate S1 described above (see FIG. 21).
  • control device 1000 reciprocates the second transport section 3_2 twice between the second transport stage 26 (an example of the second position) and the first transport stage 25 (an example of the first position), while Droplets of the functional liquid are ejected from the drawing unit 4 on each return trip.
  • a second drawing determination process (step S115) and a second unloading process (step S116) are performed on the second substrate S2, and a series of processes on the first substrate S1 and the second substrate S2 are completed.
  • the second drawing determination process and the second carry-out process for the second substrate S2 are the same as the first drawing judgment process and the first carry-out process for the first substrate S1.
  • the droplet ejection apparatus 100 includes the two transport sections (the first transport section 3_1 and the second transport section 3_2), so that the second substrate can be processed in parallel with the processing on the first substrate S1. Processing for S2 can be performed. Specifically, the droplet ejection apparatus 100 performs a loading process (second loading process) and an alignment process (second printing process) for the second substrate S2 in parallel with the writing process (first writing process) for the first substrate S1. alignment and second main alignment processing). Thereby, the droplet ejection apparatus 100 according to the embodiment can shorten the total processing time when continuously processing a plurality of substrates S. Therefore, according to the droplet ejection apparatus 100 according to the embodiment, productivity can be improved.
  • the arrangement of the first transfer device 17_1 and the second transfer device 17_2 is not limited to the example shown in FIG. 2.
  • FIG. 22 is a diagram showing an example of the arrangement of the first transfer device 17_1 and the second transfer device 17_2 in the first modification.
  • FIG. 23 is a diagram showing another example of the arrangement of the first transfer device 17_1 and the second transfer device 17_2 in the first modification.
  • a position adjacent to each of the first loading/unloading stage 21 and the second loading/unloading stage 22 in the transport direction (Y-axis direction) is defined as a first transfer position P1. Also, one of the two positions adjacent to each other in the direction (X-axis direction) orthogonal to the transport direction when viewed from each of the first loading/unloading stage 21 and the second loading/unloading stage 22 is set as the second transfer position P2, and the other is set as the second loading/unloading position P2. It is set as the third transfer position P3.
  • a transfer position located on the negative side of the X-axis with respect to the first carry-in/out stage 21 and the second carry-in/out stage 22 is referred to as a second transfer position P2, and the first carry-in/out stage 21 and the second carry-in/out stage 22 are A transfer position located on the positive side of the X-axis with respect to the stage 22 is defined as a third transfer position P3.
  • the second transfer device 17_2 it may be arranged at the third transfer position P3 with respect to the second loading/unloading stage 22.
  • the droplet ejecting device 100 is configured such that the second transfer device 17_2 may be arranged at a third transfer position P3 with respect to the second loading/unloading stage 22.
  • the first transfer device 17_1 is arranged at any one of the first transfer position P1, the second transfer position P2, and the third transfer position P3 with respect to the first loading/unloading stage 21.
  • the transfer position may be different from the transfer position where the transfer position is.
  • the present invention is not limited to this.
  • the second transfer device 17_2 when the first transfer device 17_1 is placed at the second transfer position P2 with respect to the first carry-in/out stage 21, the second transfer device 17_2 is also placed in the second transfer position P2 with respect to the second carry-in/out stage 22. It may be placed at the second transfer position P2.
  • the first transfer device 17_1 when the first transfer device 17_1 is placed at the third transfer position P3 with respect to the first carry-in/out stage 21, the second transfer device 17_2 is also placed in the third transfer position P3 with respect to the second carry-in/out stage 22. may be placed in
  • FIG. 24 is a schematic perspective view of a droplet ejection device 100 according to a second modification.
  • a droplet ejection apparatus 100 according to the second modification is obtained by removing the configuration used for processing the first substrate S1 from the droplet ejection apparatus 100 shown in FIG. 1.
  • the droplet ejection device 100 according to the second modification example includes the first loading/unloading stage 21, the first processing stage 23, the first transport section 3_1, and the first drawing from the droplet ejection device 100 shown in FIG. The front flushing part 5_1 has been removed.
  • the droplet ejection apparatus 100 according to the second modification includes the droplet ejection apparatus 100 shown in FIG. 17_1 has been removed.
  • the first base 11 is divided into a plurality of base members, and the base member located below the first loading/unloading stage 21 is also removed from the droplet ejecting device 100.
  • the pair of first guide rails 13, 13 are divided into a plurality of rail members, and the rail members located on the sides of the first loading/unloading stage 21 are also removed from the droplet ejecting device 100.
  • the present invention is not limited to this, and the second loading/unloading stage 22 and the second transport section 3_2 may be detachably attached to the droplet discharge device 100. In this way, even if at least one of the first loading/unloading stage 21 and the first transporting section 3, and the second loading/unloading stage 22 and the second transporting section 3 are detachable from the droplet ejecting device 100, good.
  • the droplet ejection apparatus 100 is configured to include one loading/unloading station (here, the second loading/unloading stage 22) where the substrate S (here, the second substrate S2) is loaded and unloaded. Good too.
  • the droplet ejection device includes a floating stage (the floating stage 2 as an example) and a transport section (as an example the first transport section 3_1 or The second transport unit 3_2), a discharge head (for example, the discharge head 400), and a control unit (for example, the control unit 1001).
  • the floating stage extends along the transport direction of the substrate (for example, the first substrate S1 or the second substrate S2), and levitates the substrate by the pressure of the ejected gas.
  • the transport section holds the substrate floated by the floating stage and moves it along the floating stage.
  • the ejection head is located above the floating stage and ejects droplets of the functional liquid.
  • the control section controls the transport section and the ejection head.
  • the floating stage has a loading/unloading stage (for example, the first loading/unloading stage 21 or the second loading/unloading stage 22) through which substrates are loaded and unloaded.
  • the control unit performs a loading process in which the substrate is transferred to the transport unit on the loading/unloading stage, and then moves the transport unit that holds the substrate to pass below the discharge head while applying droplets of functional liquid from the discharge head to the substrate.
  • a drawing process of ejecting the liquid and then a carrying-out process of returning the carrying unit to the loading/unloading stage and releasing the holding of the substrate by the carrying unit are executed.
  • the droplet ejection device includes a floating stage (the floating stage 2 as an example), a first transport section (the first transport section 3_1 as an example), It includes a second conveyance section (for example, the second conveyance section 3_2) and an ejection head (for example, the ejection head 400).
  • the floating stage extends along the conveyance direction of the first substrate (for example, the first substrate S1) and the second substrate (for example, the second substrate S2). 2. Float the board.
  • the first transport section holds the first substrate floated by the floating stage and moves it along the floating stage.
  • the second transport section holds the second substrate floated by the floating stage and moves it along the floating stage.
  • the ejection head is located above the floating stage and ejects droplets of the functional liquid.
  • the floating stage includes a first loading/unloading stage located at one end in the transport direction, where the first substrate is loaded and unloaded, and a second loading/unloading stage located at the other end in the transporting direction, where the second substrate is loaded and unloaded. Equipped with a loading/unloading stage.
  • productivity can be improved.
  • the present disclosure can also have the following configuration.
  • a levitation stage that extends along the conveyance direction of the substrate and levitates the substrate by the pressure of ejected gas; a transport unit that holds the substrate floated by the floating stage and moves it along the floating stage; an ejection head located above the floating stage and ejecting droplets of functional liquid; a control unit that controls the transport unit and the ejection head;
  • the floating stage has a loading/unloading stage on which the substrate is loaded and unloaded,
  • the control unit includes: a carry-in process of passing the substrate to the transport unit on the carry-in/out stage; after that, a drawing process in which droplets of the functional liquid are ejected from the ejection head onto the substrate while moving the transport unit holding the substrate to pass below the ejection head; Thereafter, the droplet ejecting apparatus performs an unloading process of returning the transporting section to the loading/unloading stage and releasing the holding of the substrate by the transporting section.
  • the levitation stage is a first loading/unloading stage that is located at one end in the transport direction, and where the first substrate is loaded and unloaded; a second loading/unloading stage located at the other end in the transporting direction, on which loading and unloading of the second substrate is performed.
  • a first imaging unit that is disposed between the first loading/unloading stage and the discharge head and photographs the first substrate onto which the functional liquid has been discharged; Any one of (2) to (4), further comprising: a second imaging unit that is disposed between the second loading/unloading stage and the discharge head and photographs the second substrate onto which the functional liquid has been discharged.
  • the droplet ejection device described in . (6) a first particle sensor that is disposed between the first loading/unloading stage and the ejection head and detects particles attached to the upper surface of the first substrate; any one of (2) to (5), further comprising: a second particle sensor that is disposed between the second loading/unloading stage and the ejection head and detects particles attached to the upper surface of the second substrate.
  • the droplet ejection device described in . (7) a maintenance section that performs a suction process to suck the functional liquid from the nozzle of the ejection head and a wiping process to wipe the nozzle surface of the ejection head; Periodic flushing that receives the functional liquid discharged from the discharge head in a periodic flushing process in which the functional liquid is discharged from the discharge head during a period when the functional liquid is not discharged to the first substrate and the second substrate.
  • the inspection unit is configured to handle the liquid according to any one of (2) to (6), which is on standby at a second standby position above the floating stage and between the second loading/unloading stage and the ejection head.
  • Droplet ejection device Droplet ejection device.
  • a first pre-drawing flushing section that is disposed at both ends of the first conveyance section in the conveyance direction, is movable integrally with the first conveyance section, and receives the functional liquid discharged from the discharge head;
  • a second pre-drawing flushing section that is disposed at both ends of the second transport section in the transport direction, is movable integrally with the second transport section, and receives the functional liquid discharged from the discharge head;
  • the droplet ejection device according to any one of (2) to (7), comprising: (9) a first transfer device for loading and unloading the first substrate with respect to the first loading/unloading stage; a second transfer device for loading and unloading the second substrate with respect to the second loading/unloading stage;
  • a first transfer position is a position adjacent to the transport direction when viewed from each of the first carry-in/out stage and the second carry-in/out stage, and a position adjacent to the transport direction when viewed from each of the first carry-in/out stage and the second carry-in/
  • the droplet ejection device according to any one of items 8) to 8). (10) comprising a control unit that controls the first transport unit, the second transport unit, and the ejection head;
  • the control unit includes: a first carrying-in process of passing the first substrate to the first transport unit on the first carrying-in/out stage; a second carrying-in process of passing the second substrate to the second transport section on the second carrying-in/out stage; After the first loading process, droplets of the functional liquid are ejected from the ejection head onto the first substrate while moving the first transport unit holding the first substrate and passing it below the ejection head.
  • a first drawing process to After the first drawing process, a first carrying-out process of returning the first carrying unit to the first loading/unloading stage to release the first substrate from being held by the first carrying unit; After the first unloading process or in parallel with the first unloading process, the second conveyance unit holding the second substrate is moved to pass below the ejection head, and is attached to the second substrate.
  • a second drawing process of ejecting droplets of the functional liquid from the ejection head; After the second drawing process, a second carry-out process is performed in which the second transport unit is returned to the second carry-in/out stage and the holding of the second substrate by the second carry unit is released; (2) to ( 9) The droplet ejection device according to any one of 9).
  • the first drawing process includes drawing the first image between a first position between the first carry-in/out stage and the ejection head and a second position between the ejection head and the second carry-in/out stage. ejecting droplets of the functional liquid from the ejection head to the first substrate while reciprocating the transport unit;
  • the second drawing process includes discharging droplets of the functional liquid from the discharging head onto the second substrate while reciprocating the second transport unit between the second position and the first position.
  • the second transport unit includes an adjustment unit that adjusts the attitude of the held second substrate in a horizontal plane, In parallel with the first drawing process, the control unit controls the adjustment unit based on the image of the alignment mark captured by the alignment camera to adjust the attitude of the second substrate in a horizontal plane.
  • the droplet ejection device according to (10) or (11), which performs alignment processing.
  • Discharge device is any one of (10) to (12)
  • a levitation stage located at one end in the transport direction of a levitation stage that extends along the transport direction of the first and second substrates and levitates the first and second substrates by the pressure of ejected gas;
  • a first transfer unit that holds the first substrate levitated by the floating stage and transfers the first substrate to a first transport unit that moves it along the floating stage.
  • the loading process and A second loading/unloading stage which is located at the other end of the floating stage in the conveying direction and carrying in and out of the second substrate, holds the second substrate floated by the floating stage and transfers it to the floating stage.
  • a second drawing step of ejecting droplets of the functional liquid from the ejection head and a second carrying-out step of returning the second transport section to the second carry-in/out stage to release the second substrate from being held by the second transport section after the second drawing step.
  • a second loading/unloading stage which is located at the other end of the floating stage in the conveying direction and carrying in and out of the second substrate, holds the second substrate floated by the floating stage and transfers it to the floating stage.
  • a first drawing step of ejecting droplets of the functional liquid from the ejection head to one substrate After the first drawing procedure, a first carrying-out procedure of returning the first carrying unit to the first loading/unloading stage to release the holding of the first substrate by the first carrying unit; After the first unloading procedure or in parallel with the first unloading procedure, the second conveyance section holding the second substrate is moved to pass below the ejection head, and the second substrate is moved toward the second substrate.
  • a second drawing step of ejecting droplets of the functional liquid from the ejection head After the second drawing step, a second carrying-out procedure of returning the second carrying section to the second loading/unloading stage and releasing the holding of the second substrate by the second carrying section is implemented.
  • a temporary computer-readable storage medium After the second drawing procedure, a second carrying-out procedure of returning the second carrying section to the second loading/unloading stage and releasing the holding of the second substrate by the second carrying section is implemented.

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Abstract

本開示による液滴吐出装置は、浮上ステージと、搬送部と、吐出ヘッドと、制御部とを備える。浮上ステージは、基板の搬送方向に沿って延在し、噴出する気体の圧力によって基板を浮上させる。搬送部は、浮上ステージによって浮上した基板を保持して浮上ステージに沿って移動させる。吐出ヘッドは、浮上ステージの上方に位置し、機能液の液滴を吐出する。制御部は、搬送部および吐出ヘッドを制御する。浮上ステージは、基板の搬入および搬出が行われる搬入出ステージを有する。制御部は、搬入出ステージにおいて基板を搬送部に渡す搬入処理と、その後、基板を保持した搬送部を移動させて吐出ヘッドの下方を通過させつつ基板に対し吐出ヘッドから機能液の液滴を吐出する描画処理と、その後、搬送部を搬入出ステージに戻して搬送部による基板の保持を解除する搬出処理とを実行する。

Description

液滴吐出装置、液滴吐出方法および記憶媒体
　本開示は、液滴吐出装置、液滴吐出方法および記憶媒体に関する。
　従来、浮上ステージによって浮上させた基板を水平方向に搬送しつつ、基板の上方から機能液の液滴をインクジェット方式で吐出することにより、基板に対して描画を行う液滴吐出装置が知られている。
特開２０１８－１２６７１８号公報
　本開示は、生産性を向上させることができる技術を提供する。
　本開示の一態様による液滴吐出装置は、浮上ステージと、搬送部と、吐出ヘッドと、制御部とを備える。浮上ステージは、基板の搬送方向に沿って延在し、噴出する気体の圧力によって基板を浮上させる。搬送部は、浮上ステージによって浮上した基板を保持して浮上ステージに沿って移動させる。吐出ヘッドは、浮上ステージの上方に位置し、機能液の液滴を吐出する。制御部は、搬送部および吐出ヘッドを制御する。浮上ステージは、基板の搬入および搬出が行われる搬入出ステージを有する。制御部は、搬入出ステージにおいて基板を搬送部に渡す搬入処理と、その後、基板を保持した搬送部を移動させて吐出ヘッドの下方を通過させつつ基板に対し吐出ヘッドから機能液の液滴を吐出する描画処理と、その後、搬送部を搬入出ステージに戻して搬送部による基板の保持を解除する搬出処理とを実行する。
　本開示によれば、生産性を向上させることができる。
図１は、実施形態に係る液滴吐出装置の模式的な斜視図である。 図２は、実施形態に係る液滴吐出装置の模式的な平面図である。 図３は、実施形態に係る液滴吐出装置の模式的な側面図である。 図４は、実施形態に係る第１搬送部の模式的な平面図である。 図５は、実施形態に係る第１搬送部が有する保持部の模式的な平面図である。 図６は、実施形態に係る第１搬送部が有する保持部の模式的な側面図である。 図７は、実施形態に係る描画部の模式的な平面図である。 図８は、実施形態に係るキャリッジの模式的な底面図である。 図９は、実施形態に係るメンテナンス部の模式的な平面図である。 図１０は、実施形態に係る定期フラッシング部の模式的な平面図である。 図１１は、実施形態に係る定期フラッシング部の模式的な側面図である。 図１２は、実施形態に係る検査部の模式的な平面図である。 図１３は、実施形態に係る検査部の模式的な側面図である。 図１４は、実施形態に係る液滴吐出装置が実行する処理の手順を示すフローチャートである。 図１５は、実施形態に係る液滴吐出装置の動作例を示す模式図である。 図１６は、実施形態に係る液滴吐出装置の動作例を示す模式図である。 図１７は、実施形態に係る液滴吐出装置の動作例を示す模式図である。 図１８は、実施形態に係る液滴吐出装置の動作例を示す模式図である。 図１９は、実施形態に係る液滴吐出装置の動作例を示す模式図である。 図２０は、実施形態に係る液滴吐出装置の動作例を示す模式図である。 図２１は、実施形態に係る液滴吐出装置の動作例を示す模式図である。 図２２は、第１変形例における第１移載装置および第２移載装置の配置の一例を示す図である。 図２３は、第１変形例における第１移載装置および第２移載装置の配置の他の一例を示す図である。 図２４は、第２変形例に係る液滴吐出装置の模式的な斜視図である。
　以下に、本開示による液滴吐出装置、液滴吐出方法および記憶媒体を実施するための形態（以下、「実施形態」と記載する）について図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、この実施形態により本開示が限定されるものではない。また、各実施形態は、処理内容を矛盾させない範囲で適宜組み合わせることが可能である。また、以下の各実施形態において同一の部位には同一の符号を付し、重複する説明は省略される。
　また、以下に示す実施形態では、「一定」、「直交」、「垂直」あるいは「平行」といった表現が用いられる場合があるが、これらの表現は、厳密に「一定」、「直交」、「垂直」あるいは「平行」であることを要しない。すなわち、上記した各表現は、たとえば製造精度、設置精度などのずれを許容するものとする。
　また、以下参照する各図面では、説明を分かりやすくするために、互いに直交するＸ軸方向、Ｙ軸方向およびＺ軸方向を規定し、Ｚ軸正方向を鉛直上向き方向とする直交座標系を示す場合がある。また、鉛直軸を回転中心とする回転方向をθ方向と呼ぶ場合がある。
（液滴吐出装置の構成）
　まず、図１～図３を参照して、実施形態に係る液滴吐出装置の構成について説明する。図１は、実施形態に係る液滴吐出装置の模式的な斜視図である。図２は、実施形態に係る液滴吐出装置の模式的な平面図である。図３は、実施形態に係る液滴吐出装置の模式的な側面図である。なお、図１～図３では、液滴吐出装置が備える構成の一部を省略して示している場合がある。
　図１～図３に示すように、実施形態に係る液滴吐出装置１００は、基板Ｓを水平方向（ここでは、Ｙ軸方向）に搬送しつつ、基板Ｓの上方から機能液の液滴をインクジェット方式で吐出することにより基板Ｓの上面に所定パターンの描画を行う。
　実施形態に係る液滴吐出装置１００は、ベース１と、浮上ステージ２と、第１搬送部３＿１と、第２搬送部３＿２と、描画部４と、第１描画前フラッシング部５＿１と、第２描画前フラッシング部５＿２とを備える。また、液滴吐出装置１００は、第１パーティクルセンサ６＿１と、第２パーティクルセンサ６＿２と、第１撮像部７＿１と、第２撮像部７＿２と、メンテナンス部８と、定期フラッシング部９と、検査部１０とを備える。また、液滴吐出装置１００は、制御装置１０００を備える。
　液滴吐出装置１００は、基板Ｓを保持して搬送する搬送部を２つ備えている（第１搬送部３＿１および第２搬送部３＿２）。かかる液滴吐出装置１００は、これら２つの搬送部を用いて２枚の基板Ｓ（第１基板Ｓ１および第２基板Ｓ２）に対する一連の処理を並行して行うことができる。たとえば、液滴吐出装置１００は、第１搬送部３＿１を用いて第１基板Ｓ１に対する描画処理を行っている最中に、第２搬送部３＿２を用いて第２基板Ｓ２のアライメント処理を行うことができる。このようなことから、実施形態に係る液滴吐出装置１００によれば、生産性を高めることができる。
　第１基板Ｓ１および第２基板Ｓ２は、たとえば、フラットパネルディスプレイに用いられるガラス基板である。以下では、第１基板Ｓ１および第２基板Ｓ２を特に区別しない場合、これらを単に基板Ｓと呼称する。
（ベース）
　ベース１は、第１ベース１１と、第２ベース１２と、一対の第１ガイドレール１３，１３と、一対の第２ガイドレール１４，１４とを備える。
　第１ベース１１および第２ベース１２は、基板Ｓの搬送方向（ここでは、Ｙ軸方向）に沿って延在する。第１ベース１１および第２ベース１２の上面は水平面である。第１ベース１１は、第２ベース１２の上面に配置されている。第１ベース１１は、第２ベース１２と比較して、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）に幅狭である。
　一対の第１ガイドレール１３，１３は、第１ベース１１の上面に設けられる。一対の第１ガイドレール１３，１３は、搬送方向（Ｙ軸方向）に沿って延在している。一対の第１ガイドレール１３，１３は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）に間隔をあけて配置される。
　一対の第２ガイドレール１４，１４は、第２ベース１２の上面に設けられる。具体的には、一対の第２ガイドレール１４，１４は、第２ベース１２の上面のうち、第１ベース１１の両側方、すなわち、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）における第１ベース１１の側方に設けられる。一対の第２ガイドレール１４，１４は、搬送方向（Ｙ軸方向）に沿って延在している。一対の第２ガイドレール１４，１４は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）に間隔をあけて配置される。一対の第２ガイドレール１４，１４は、一対の第１ガイドレール１３，１３よりも短い。
　第１ベース１１および第２ベース１２は、搬送方向（Ｙ軸方向）に並ぶ複数のベース部材に分割されており、部分的に取り外したり、長さの異なる別のベース部材に交換したりすることが可能である。同様に、一対の第１ガイドレール１３，１３も、搬送方向（Ｙ軸方向）に並ぶ複数のレール部材に分割されており、部分的に取り外したり、長さの異なる別のレール部材に交換したりすることが可能である。
（浮上ステージ）
　浮上ステージ２は、一対の第１ガイドレール１３，１３の間に配置される。浮上ステージ２は、基板Ｓの下方から基板Ｓに向けて気体を噴出し、噴出する気体の圧力によって基板Ｓを浮上させる。かかる浮上ステージ２は、第１搬入出ステージ２１と、第２搬入出ステージ２２と、第１処理ステージ２３と、第２処理ステージ２４と、第１搬送ステージ２５と、第２搬送ステージ２６と、第３処理ステージ２７とを備える。これらは、Ｙ軸正方向に沿って第１搬入出ステージ２１、第１処理ステージ２３、第１搬送ステージ２５、第３処理ステージ２７、第２搬送ステージ２６、第２処理ステージ２４および第２搬入出ステージ２２の順に配置される。
　第１搬入出ステージ２１は、浮上ステージ２の搬送方向（Ｙ軸方向）における一端に配置される。第１搬入出ステージ２１では、第１基板Ｓ１の搬入および搬出が行われる。第２搬入出ステージ２２は、浮上ステージ２の搬送方向（Ｙ軸方向）における他端に配置される。第２搬入出ステージ２２では、第２基板Ｓ２の搬入および搬出が行われる。
　第１搬入出ステージ２１、第２搬入出ステージ２２、第１搬送ステージ２５および第２搬送ステージ２６は、上方に向けて圧縮された気体（たとえば、空気）を噴出する複数の噴出口を有する。
　第１処理ステージ２３、第２処理ステージ２４、第３処理ステージ２７は、上方に向けて圧縮された気体を噴出する複数の噴出口に加え、気体を吸引する複数の吸引口を備えている。第１処理ステージ２３、第２処理ステージ２４および第３処理ステージ２７は、圧縮された気体を基板Ｓの下面に向けて噴出するとともに、基板Ｓおよびステージ間の空気を吸引することにより、基板Ｓの浮上高を高精度に調整することができる。
　第１搬入出ステージ２１、第２搬入出ステージ２２、第１処理ステージ２３、第２処理ステージ２４、第１搬送ステージ２５および第２搬送ステージ２６は、基板Ｓの搬送方向（Ｙ軸方向）に沿って延在する複数のステージ部材を有している。これら複数のステージ部材は、基板Ｓの搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）に互いに間隔をあけて並べられている。
（第１搬送部および第２搬送部）
　第１搬送部３＿１は、浮上ステージ２によって浮上した第１基板Ｓ１を保持し、保持した第１基板Ｓ１を浮上ステージ２に沿って移動させる。第２搬送部３＿２は、浮上ステージ２によって浮上した第２基板Ｓ２を保持し、保持した第２基板Ｓ２を浮上ステージ２に沿って移動させる。第１搬送部３＿１は、第１搬入出ステージ２１および第２搬送ステージ２６間を往復移動可能である。また、第２搬送部３＿２は、第２搬入出ステージ２２および第１搬送ステージ２５間を往復移動可能である。
　ここで、第１搬送部３＿１および第２搬送部３＿２の構成について説明する。第１搬送部３＿１および第２搬送部３＿２の構成は同様であるため、ここでは第１搬送部３＿１の構成について説明することとし、第２搬送部３＿２の構成の説明については省略する。
　図４は、実施形態に係る第１搬送部３＿１の模式的な平面図である。図４に示すように、第１搬送部３＿１は、複数（ここでは、２つ）の移動部３１と、複数（ここでは、４つ）の保持部３２とを備える。
　移動部３１は、第１ガイドレール１３上に設けられ、第１ガイドレール１３に沿って移動する。２つの移動部３１は、それぞれモータ等の駆動部を有しており、各々独立して移動することが可能である。なお、駆動部は、２つの移動部３１のうち一方にのみ設けられてもよい。
　４つの保持部３２は、２つの移動部３１上にそれぞれ設けられ、第１基板Ｓ１の下方から第１基板Ｓ１を保持する。具体的には、４つの保持部３２のうち２つは、２つの移動部３１のうち一方に設けられ、４つの保持部３２のうち残りの２つは、２つの移動部３１のうち他方に設けられる。４つの保持部３２は、第１基板Ｓ１の四隅を第１基板Ｓ１の下方から吸着保持する。第１基板Ｓ１は、４つの保持部３２によって四隅を吸着保持され、且つ、浮上ステージ２によって浮上した状態で、２つの移動部３１によって搬送される。
　ここで、保持部３２の構成について図５および図６を参照して説明する。図５は、実施形態に係る第１搬送部３＿１が有する保持部の模式的な平面図である。図６は、実施形態に係る第１搬送部３＿１が有する保持部の模式的な側面図である。
　図５および図６に示すように、保持部３２は、ベース部３２０と、第１調整部３２１と、第２調整部３２２と、回動部３２３と、アーム部３２４と、第１吸着部３２５とを備える。
　第１吸着部３２５は、第１基板Ｓ１を吸着保持する。具体的には、第１吸着部３２５は、複数の吸着パッド３２６を備える。複数の吸着パッド３２６は、水平方向（ここでは、Ｙ軸方向）に並んで設けられる。なお、ここでは、第１吸着部３２５が３つの吸着パッド３２６を備える場合の例を示しているが、吸着パッド３２６の数は、３つに限定されない。第１吸着部３２５は、複数の吸着パッド３２６によって、第１基板Ｓ１の下面を吸着する。これにより、第１基板Ｓ１は、第１吸着部３２５に保持される。
　ベース部３２０、第１調整部３２１、第２調整部３２２、回動部３２３およびアーム部３２４は、移動部３１に対する第１吸着部３２５の相対位置を調整する調整部の一例である。
　ベース部３２０は、移動部３１上に固定される。第１調整部３２１は、ベース部３２０上に設けられ、ベース部３２０上を搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）に沿って移動可能である。第２調整部３２２は、第１調整部３２１上に設けられ、第１調整部３２１上を搬送方向（Ｙ軸方向）に沿って移動可能である。回動部３２３は、第２調整部３２２上に設けられ、鉛直軸（Ｚ軸）周りに回転可能である。アーム部３２４は、水平方向に延在する部材であり、基端部において回動部３２３に支持され、先端部において第１吸着部３２５を支持する。
　このように、保持部３２は、第１調整部３２１を搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）に沿って移動させることにより、第１吸着部３２５を搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）に移動させることができる。すなわち、第１調整部３２１は、移動部３１に対する第１吸着部３２５の位置を搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）に沿って調整することができる。
　また、保持部３２は、第２調整部３２２を搬送方向（Ｙ軸方向）に沿って移動させることにより、第１吸着部３２５を搬送方向（Ｙ軸方向）に移動させることができる。すなわち、第２調整部３２２は、移動部３１に対する第１吸着部３２５の位置を搬送方向（Ｙ軸方向）に沿って調整することができる。
　また、調整部は、回動部３２３が鉛直軸（Ｚ軸）まわりに回動することにより、回動部３２３にアーム部３２４を介して支持された第１吸着部３２５を鉛直軸（Ｚ軸）まわりに回動させることができる。すなわち、回動部３２３は、移動部３１に対する第１吸着部３２５の位置を鉛直軸（Ｚ軸方向）を中心とする周方向に沿って調整することができる。
　第１調整部３２１および第２調整部３２２は、それぞれモータ等の駆動部を有しており、各々独立して移動することが可能である。一方、回動部３２３は、たとえば軸受であって、駆動部を有しておらず、第１調整部３２１および第２調整部３２２の動きに追従するように第１吸着部３２５を回動させる。なお、これに限らず、回動部３２３に駆動部が設けられてもよい。
　第１搬送部３＿１および第２搬送部３＿２は、同一の第１ガイドレール１３，１３に沿って移動する。このように、第１搬送部３＿１と第２搬送部３＿２とで第１ガイドレール１３，１３を共用することで、コストの増大やフットプリントの増大を抑えることができる。
（描画部）
　描画部４は、浮上ステージ２の上方に配置される。具体的には、描画部４は、第３処理ステージ２７の上方に配置される。描画部４は、基板Ｓの上方から基板Ｓに向けて機能液を吐出することにより、基板Ｓの上面に描画を行う。
　ここで、描画部４の構成について図７および図８を参照して説明する。図７は、実施形態に係る描画部４の模式的な平面図である。図８は、実施形態に係るキャリッジの模式的な底面図である。
　図７に示すように、描画部４は、第１キャリッジ群４１と、第２キャリッジ群４２と、第３キャリッジ群４３とを備える。第１キャリッジ群４１、第２キャリッジ群４２および第３キャリッジ群４３は、搬送方向（Ｙ軸方向）に沿って並べられる。
　第１キャリッジ群４１、第２キャリッジ群４２および第３キャリッジ群４３は、それぞれ複数（ここでは、６つ）のキャリッジ４０を含む。第１キャリッジ群４１、第２キャリッジ群４２および第３キャリッジ群４３の各々において、複数のキャリッジ４０は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）に並べられている。
　第１キャリッジ群４１に属する複数のキャリッジ４０は、描画部４が備える第１梁部４５によって水平に支持される（図１参照）。第２キャリッジ群４２に属する複数のキャリッジ４０は、描画部４が備える第２梁部４６によって水平に支持される。第３キャリッジ群４３に属する複数のキャリッジ４０は、描画部４が備える第３梁部４７によって水平に支持される。
　第１梁部４５、第２梁部４６および第３梁部４７は、一対の支柱４８，４８によって支持される。一対の支柱４８，４８は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）における第１梁部４５、第２梁部４６および第３梁部４７の両端部に設けられる。一対の支柱４８，４８は、第１梁部４５、第２梁部４６および第３梁部４７を昇降可能である。すなわち、一対の支柱４８，４８は、第１梁部４５、第２梁部４６および第３梁部４７を昇降させる昇降機構の一例である。具体的には、一対の支柱４８，４８は、基板Ｓに対する機能液の吐出が行われる処理位置と、処理位置より上方の退避位置との間で第１梁部４５、第２梁部４６および第３梁部４７を昇降させる。
　図８に示すように、キャリッジ４０は、たとえば平板状の部材である。キャリッジ４０には、複数の吐出ヘッド４００が設けられている。一例として、図８に示す例において、キャリッジ４０には、合計１２個の吐出ヘッド４００がＸ軸方向およびＹ軸方向に沿ってマトリクス状に設けられている。なお、ここでは、キャリッジ４０に１２個の吐出ヘッド４００が設けられる場合の例を示したが、吐出ヘッド４００の個数は、１２個より多くてもよいし少なくてもよい。
　吐出ヘッド４００は、第３処理ステージ２７の上方に位置し、機能液の液滴を吐出する。吐出ヘッド４００は、たとえばピエゾ方式のノズルヘッドである。吐出ヘッド４００の下面（基板Ｓとの対向面）には、複数のノズル４１０が形成される。複数のノズル４１０は、例えばＸ軸方向およびＹ軸方向に沿ってマトリクス状に設けられている。
　吐出ヘッド４００は、図示しないポンプ部を有する。ポンプ部は、機能液を貯めるキャビティ、キャビティの体積を変化させる圧電素子や振動板等を含んで構成され、圧電素子に電圧を印加して振動板を振動させることにより、キャビティの体積を変化させて各ノズル４１０から機能液の液滴を吐出させる。その他、吐出ヘッド４００には、供給チューブを介して機能液タンクに接続される機能液導入部や、フレキシブルフラットケーブルを介して制御装置１０００（図３参照）に接続されるヘッド基板等が設けられている。
　複数のキャリッジ４０は、搬送方向（Ｙ軸正方向）に沿って搬送される基板Ｓに対して複数の吐出ヘッド４００から機能液を吐出する。機能液は、たとえばインクである。　
　実施形態において、第１キャリッジ群４１に属する複数の吐出ヘッド４００は、赤（Ｒ）のインクを吐出する。また、第２キャリッジ群４２に属する複数の吐出ヘッド４００は、緑（Ｇ）のインクを吐出し、第３キャリッジ群４３に属する複数の吐出ヘッド４００は、青（Ｂ）のインクを吐出する。
（第１描画前フラッシング部および第２描画前フラッシング部）
　一対の第１描画前フラッシング部５＿１，５＿１は、搬送方向（Ｙ軸方向）における第１搬送部３＿１の両端部に配置される。言い換えれば、一対の第１描画前フラッシング部５＿１，５＿１は、搬送方向（Ｙ軸方向）において第１搬送部３＿１を挟むように配置される。
　一対の第２描画前フラッシング部５＿２，５＿２は、搬送方向（Ｙ軸方向）における第２搬送部３＿２の両端部に配置される。言い換えれば、一対の第２描画前フラッシング部５＿２，５＿２は、搬送方向（Ｙ軸方向）において第２搬送部３＿２を挟むように配置される。
　図４に示すように、各第１描画前フラッシング部５＿１は、吐出ヘッド４００から吐出された機能液を受ける液受部５１と、液受部５１を搬送方向（Ｙ軸方向）に移動させる一対の移動部５２，５２とを備える。液受部５１は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）に延在する長尺板状の部材である。液受部５１は、たとえば多孔質樹脂等の多孔質体で形成される。
　一対の移動部５２，５２は、一対の第１ガイドレール１３，１３上にそれぞれ設けられており、液受部５１を下方から水平に支持する。一対の移動部５２，５２は、それぞれモータ等の駆動部を有しており、一対の第１ガイドレール１３，１３に沿って移動可能である。すなわち、一対の移動部５２，５２は、液受部５１を第１搬送部３＿１と一体的に移動させることができる。なお、駆動部は、２つの移動部５２のうち一方にのみ設けられてもよい。また、一対の移動部５２は、一対の移動部３１が有する駆動部によって従動的に移動する構成であってもよい。この場合、一対の移動部５２は、いずれも駆動部を有していなくてもよい。
　ここでは、第１描画前フラッシング部５＿１の構成について説明したが、第２描画前フラッシング部５＿２の構成も図４に示す第１描画前フラッシング部５＿１の構成と同様である。
（第１パーティクルセンサおよび第２パーティクルセンサ）
　第１パーティクルセンサ６＿１は、第１基板Ｓ１の上面に付着したパーティクルを検出する。具体的には、第１パーティクルセンサ６＿１は、第１ユニット６１と第２ユニット６２とを備える。第１ユニット６１は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）における第１処理ステージ２３の一端に設けられる。第２ユニット６２は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）における第１処理ステージ２３の他端に設けられる。すなわち、第１ユニット６１および第２ユニット６２は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）において第１処理ステージ２３を挟むように対向配置される。このように、第１パーティクルセンサ６＿１は、搬送方向（Ｙ軸方向）において、第１搬入出ステージ２１と吐出ヘッド４００との間に配置される。すなわち、第１パーティクルセンサ６＿１は、第１搬入出ステージ２１よりもＹ軸正方向かつ吐出ヘッド４００よりもＹ軸負方向の位置に配置される。
　第１ユニット６１は投光部を有し、第２ユニット６２は受光部を有する。第１ユニット６１の投光部は、第２ユニット６２の受光部に向けて水平にレーザ光を照射する。第２ユニット６２の受光部は、第１ユニット６１の投光部から照射されたレーザ光を受光する。第１パーティクルセンサ６＿１は、受光したレーザ光の光量を後述する制御装置１０００へ出力する。制御装置１０００は、第１パーティクルセンサ６＿１から取得した検出結果に基づいて第１基板Ｓ１の上面に付着したパーティクルを検出する。
　第２パーティクルセンサ６＿２は、第２基板Ｓ２の上面に付着したパーティクルを検出する。具体的には、第２パーティクルセンサ６＿２は、第１ユニット６１と、第２ユニット６２とを備える。第１ユニット６１は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）における第２処理ステージ２４の一端に設けられる。第２ユニット６２は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）における第２処理ステージ２４の他端に設けられる。すなわち、第１ユニット６１および第２ユニット６２は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）において第２処理ステージ２４を挟むように対向配置される。このように、第２パーティクルセンサ６＿２は、搬送方向（Ｙ軸方向）において、第２搬入出ステージ２２と吐出ヘッド４００との間に配置される。すなわち、第２パーティクルセンサ６＿２は、第２搬入出ステージ２２よりもＹ軸負方向かつ吐出ヘッド４００よりもＹ軸正方向の位置に配置される。
　第２パーティクルセンサ６＿２は、受光したレーザ光の光量を後述する制御装置１０００へ出力する。制御装置１０００は、第２パーティクルセンサ６＿２から取得した検出結果に基づいて第２基板Ｓ２の上面に付着したパーティクルを検出する。
　なお、第１ユニット６１は、投光部に加えて受光部を備えていてもよい。また、第２ユニット６２も、受光部に加えて投光部を備えていてもよい。
（第１撮像部および第２撮像部）
　第１撮像部７＿１は、たとえば第１搬送ステージ２５の上方に配置される。なお、第１撮像部７＿１は、第１処理ステージ２３の上方に配置されてもよい。第１撮像部７＿１は、少なくとも、第１搬入出ステージ２１と吐出ヘッド４００との間に配置されていればよい。第１撮像部７＿１は、機能液が吐出された後（描画後）の第１基板Ｓ１の上面を撮像する。具体的には、第１撮像部７＿１は、第３処理ステージ２７から第１搬入出ステージ２１に向かって移動中の第１基板Ｓ１の上面を撮像する。第１撮像部７＿１によって撮像された画像は、制御装置１０００に出力される。制御装置１０００は、第１撮像部７＿１によって撮像された画像に基づいて、第１基板Ｓ１の描画状態の良否を判定する。
　第２撮像部７＿２は、たとえば第２搬送ステージ２６の上方に配置される。なお、第２撮像部７＿２は、第２処理ステージ２４の上方に配置されてもよい。第２撮像部７＿２は、少なくとも、第２搬入出ステージ２２と吐出ヘッド４００との間に配置されていればよい。第２撮像部７＿２は、機能液が吐出された後（描画後）の第２基板Ｓ２の上面を撮像する。具体的には、第２撮像部７＿２は、第３処理ステージ２７から第２搬入出ステージ２２に向かって移動中の第２基板Ｓ２の上面を撮像する。第２撮像部７＿２によって撮像された画像は、制御装置１０００に出力される。制御装置１０００は、第２撮像部７＿２によって撮像された画像に基づいて、第２基板Ｓ２の描画状態の良否を判定する。
（メンテナンス部、定期フラッシング部および検査部）
　メンテナンス部８、定期フラッシング部９および検査部１０は、浮上ステージ２の上方に配置される。メンテナンス部８、定期フラッシング部９および検査部１０の各々は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）における両端部を図示しない一対の支柱によって水平に支持されている。この支柱は、一対の第２ガイドレール１４，１４上に設けられており、図示しない駆動部によって一対の第２ガイドレール１４，１４に沿って移動可能である。すなわち、メンテナンス部８、定期フラッシング部９および検査部１０は、搬送方向に沿って往復移動可能である。
　図１に示すように、メンテナンス部８および定期フラッシング部９は、浮上ステージ２の上方かつ第１搬入出ステージ２１と第３処理ステージ２７との間の第１待機位置にて待機する。一方、検査部１０は、浮上ステージ２の上方かつ第２搬入出ステージ２２と第３処理ステージ２７との間の第２待機位置にて待機する。たとえば、第２待機位置は、第２搬送ステージ２６の上方であってもよい。すなわち、検査部１０は、第２搬送ステージ２６の上方にて待機していてもよい。かかる位置を第２待機位置とすることで、後述する検査処理に要する時間を短縮することができる。
　なお、上記の「第１搬入出ステージ２１（第２搬入出ステージ２２）と第３処理ステージ２７との間」は、「第１搬入出ステージ２１（第２搬入出ステージ２２）と吐出ヘッド４００との間」と言い換えてもよい。
　メンテナンス部８は、搬送方向（Ｙ軸方向）に沿って延在する第２ガイドレール１４，１４上を移動する。メンテナンス部８は、メンテナンス作業を行わない場合には、第１搬入出ステージ２１と第３処理ステージ２７との間の第１待機位置に配置されている。一方、メンテナンス部８は、メンテナンス作業を行う場合には、第１待機位置から第３処理ステージ２７と描画部４との間のメンテナンス位置に移動する。
　メンテナンス部８は、メンテナンス位置において、吸引処理およびワイピング処理を行う。吸引処理は、吐出ヘッド４００内に残存する機能液をノズル４１０から吸引することにより、吐出ヘッド４００から機能液を強制的に排出する処理である。ワインピング処理は、吸引処理後、吐出ヘッド４００のノズル面（下面）を払拭する処理である。
　メンテナンス部８は、予め設定されたタイミングで、吸引処理およびワイピング処理を行う。たとえば、メンテナンス部８は、１日に数回、吸引処理およびワイピング処理を行う。
　かかるメンテナンス部８の構成例について図９を参照して説明する。図９は、実施形態に係るメンテナンス部８の模式的な平面図である。図９に示すように、メンテナンス部８は、複数の吸引部８１と、複数のワイピング部８２とを備える。
　複数の吸引部８１は、たとえば搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）におけるキャリッジ４０の数に応じて設けられる。すなわち、複数の吸引部８１は、複数のキャリッジ４０に対応して設けられる。複数の吸引部８１は、搬送方向（Ｙ軸方向）におけるキャリッジ４０の数に応じて搬送方向に３列設けられてもよい。各吸引部８１は、搬送方向および上下方向にそれぞれ移動可能である。各吸引部８１は、複数の吐出ヘッド４００から機能液を吸引する。
　各吸引部８１は、複数のキャップ８１１を備える。各キャップ８１１は、吐出ヘッド４００の数に対応して設けられ、上下方向において吐出ヘッド４００に対向可能となるように設けられる。
　各キャップ８１１は、吸引部８１が上下方向に移動することによって、対応する吐出ヘッド４００に密着可能である。各キャップ８１１は、吸引処理時に、対応する吐出ヘッド４００に密着し、対応する吐出ヘッド４００から吸引される機能液を受ける。吸引処理では、吐出ヘッド４００に密着したキャップ８１１内が吸引機構によって負圧にされることによって、吐出ヘッド４００内に残った機能液が吸引される。
　各吸引部８１は、メンテナンス部８の支持台８０に対し、搬送方向（Ｙ軸方向）に沿ってそれぞれ移動する。具体的には、各吸引部８１は、退避位置と吸引位置との間を搬送方向に沿ってそれぞれ移動する。退避位置は、各ワイピング部８２によってワイピング処理が行われるキャリッジ４０に対応する各吸引部８１が退避する位置である。退避位置は、各吸引部８１の基準位置でもある。吸引位置は、吸引処理およびワイピング処理を行う場合に、各キャップ８１１が、対応する吐出ヘッド４００の下方となる位置である。
　ワイピング部８２は、吸引処理によって機能液が吸引された各吐出ヘッド４００に対しワイピング処理を行う。すなわち、ワイピング部８２は、複数の吸引部８１によって機能液が吸引された複数の吐出ヘッド４００を払拭する。
　ワイピング部８２は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）における支持台８０の両端にそれぞれ設けられる。すなわち、ワイピング部８２は、２つ設けられ、一方のワイピング部８２は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）における支持台８０の一端に設けられ、他方のワイピング部８２は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）における支持台８０の他端に設けられる。
　各ワイピング部８２は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）に沿って移動可能である。各ワイピング部８２は、ロール部によってワイピングシート８２１を回転させながら移動することによって吐出ヘッド４００の先端に付着した機能液を払拭する。
　定期フラッシング部９は、第１基板Ｓ１および第２基板Ｓ２に対する機能液の吐出が行われていない期間において吐出ヘッド４００から機能液を吐出する定期フラッシング処理に用いられる。定期フラッシング処理は、予め設定されたタイミングで実行される。たとえば、定期フラッシング処理は、１日数回行われる。定期フラッシング部９は、定期フラッシング処理において吐出ヘッド４００から吐出された機能液を受ける。
　検査部１０は、上述した定期フラッシング処理とは異なるタイミングで実行される検査処理において吐出ヘッド４００から吐出された機能液をフィルムで受けて撮像部で撮像する。
　かかる検査部１０の構成について図１０および図１１を参照して説明する。図１０は、実施形態に係る定期フラッシング部９の模式的な平面図である。図１１は、実施形態に係る定期フラッシング部９の模式的な側面図である。
　図１０および図１１に示すように、定期フラッシング部９は、ベース部９０と、ベース部９０上に配置された液受部９１とを備える。ベース部９０は、上述した一対の支柱によって水平に支持されており、一対の第２ガイドレール１４，１４に沿って移動可能である。液受部９１は、たとえば多孔質状の樹脂等で構成されており、複数の吐出ヘッド４００から吐出される機能液を受ける。液受部９１には、図示しない排液管が接続されており、液受部９１によって受け止められた機能液は、排液管を介して排出される。　
　図１２は、実施形態に係る検査部１０の模式的な平面図である。図１３は、実施形態に係る検査部１０の模式的な側面図である。検査部１０は、ベース部１０１と、複数（ここでは、３つ）のフィルム１０２と、複数の第３撮像部１０３（図２および図３参照）とを備える。
　ベース部１０１は、上述した一対の支柱によって水平に支持されており、一対の第２ガイドレール１４，１４に沿って移動可能である。複数（ここでは、３つ）のフィルム１０２は、ベース部１０１上に搬送方向（Ｙ軸方向）に沿って並べて配置される。複数のフィルム１０２は、第１キャリッジ群４１、第２キャリッジ群４２および第３キャリッジ群４３にそれぞれ対応している。
　複数のフィルム１０２は、それぞれ材質が異なっていてもよい。たとえば、複数のフィルム１０２は、受ける機能液の種類に適した材質（たとえば、親水性の有無や表面粗さ等）のものが選定されてもよい。
　第３撮像部１０３は、フィルム１０２に吐出された機能液を撮像する。図２および図３に示すように、第３撮像部１０３は、描画部４とベース部１０１との間における描画部４の近傍に配置される。
　制御装置１０００は、検査部１０を制御して、ベース部１０１を描画部４の下方に配置させる。つづいて、制御装置１０００は、描画部４を制御して、複数のフィルム１０２に対して機能液を吐出させる。つづいて、制御装置１０００は、検査部１０のベース部１０１を第３撮像部１０３の下方に位置させる。そして、制御装置１０００は、第３撮像部１０３を制御して、フィルム１０２を上方から撮像する。第３撮像部１０３による撮像結果は、制御装置１０００に出力され、制御装置１０００によって、機能液が正常に吐出されているか否かが判定される。
　検査部１０による検査処理は、たとえば、描画部４によって基板Ｓに対する描画処理が終了する毎に行われる。なお、これに限らず、検査処理は、たとえば、第１基板Ｓ１に対する描画処理が終了し、引き続き行われる第２基板Ｓ２に対する描画処理が終了した後に行われてもよい。また、検査処理は、たとえば、複数の（３枚以上の）基板Ｓに対する描画処理が終了した後に行われてもよい。
（その他の構成）
　液滴吐出装置１００は、複数の第１プリアライメント機構１５＿１と、複数の第２プリアライメント機構１５＿２とを備える。
　複数の第１プリアライメント機構１５＿１は、第１搬入出ステージ２１に配置される。具体的には、複数の第１プリアライメント機構１５＿１は、第１基板Ｓ１が第１搬入出ステージ２１に位置している場合に、かかる第１基板Ｓ１の四隅に配置される。図２に示す例においては、第１基板Ｓ１の１辺に対して第１プリアライメント機構１５＿１が２つ配置されている。これら２つの第１プリアライメント機構１５＿１は、第１基板Ｓ１の１辺における角部の周辺に配置される。
　各第１プリアライメント機構１５＿１は、水平方向（Ｘ軸方向またはＹ軸方向）に沿って移動可能である。具体的には、搬送方向（Ｙ軸方向）において第１基板Ｓ１と隣接する４つの第１プリアライメント機構１５＿１は、搬送方向に沿って水平移動可能である。また、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）において第１基板Ｓ１と隣接する４つの第１プリアライメント機構１５＿１は、搬送方向と直交する方向に沿って水平移動可能である。また、各第１プリアライメント機構１５＿１は、昇降可能である。
　複数の第２プリアライメント機構１５＿２は、第２搬入出ステージ２２に配置される。具体的には、複数の第２プリアライメント機構１５＿２は、第２基板Ｓ２が第２搬入出ステージ２２に位置している場合に、かかる第２基板Ｓ２の四隅に配置される。図２に示す例においては、第２基板Ｓ２の１辺に対して第２プリアライメント機構１５＿２が２つ配置されている。これら２つの第２プリアライメント機構１５＿２は、第２基板Ｓ２の１辺における角部の周辺に配置される。
　各第２プリアライメント機構１５＿２は、水平方向（Ｘ軸方向またはＹ軸方向）に沿って移動可能である。具体的には、搬送方向（Ｙ軸方向）において第２基板Ｓ２と隣接する４つの第２プリアライメント機構１５＿２は、搬送方向に沿って水平移動可能である。また、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）において第２基板Ｓ２と隣接する４つの第１プリアライメント機構１５＿１は、搬送方向と直交する方向に沿って水平移動可能である。また、各第２プリアライメント機構１５＿２は、昇降可能である。
　複数の第１プリアライメント機構１５＿１は、プリアライメント処理に用いられる。プリアライメント処理は、後述する第１移載装置１７＿１から第１搬送部３＿１に移載された後、第１基板Ｓ１が第１搬送部３＿１によって保持される前に、第１基板Ｓ１の位置を整える処理である。具体的には、プリアライメント処理では、複数の第１プリアライメント機構１５＿１が、第１基板Ｓ１に近付くように水平方向（Ｘ軸方向またはＹ方向）に移動することで、第１搬送部３＿１に対する第１基板Ｓ１の位置をある程度整えることができる。複数の第２プリアライメント機構１５＿２は、第２基板Ｓ２に対するプリアライメント処理に用いられる。
　液滴吐出装置１００は、複数の第１アライメントカメラ１６＿１と、複数の第２アライメントカメラ１６＿２とを備える。
　複数（ここでは、２つ）の第１アライメントカメラ１６＿１は、第１搬入出ステージ２１の下方に配置される。具体的には、各第１アライメントカメラ１６＿１は、平面視において、第１搬入出ステージ２１が備える２つのステージ部材の間に配置され、これら２つのステージ部材の間から第１基板Ｓ１を撮像する。
　複数（ここでは、２つ）の第２アライメントカメラ１６＿２は、第２搬入出ステージ２２の下方に配置される。具体的には、各第２アライメントカメラ１６＿２は、平面視において、第２搬入出ステージ２２が備える２つのステージ部材の間に配置され、これら２つのステージ部材の間から第２基板Ｓ２を撮像する。
　複数の第１アライメントカメラ１６＿１は、本アライメント処理に用いられる。本アライメント処理は、プリアライメント処理後、第１搬送部３＿１によって保持された第１基板Ｓ１の位置を精度良く調整する処理である。具体的には、アライメント処理では、複数の第１アライメントカメラ１６＿１が第１基板Ｓ１に設けられたアライメントマークを撮像する。そして、制御装置１０００が、複数の第１アライメントカメラ１６＿１によって撮像された画像に基づいて、各保持部３２の第１調整部３２１および第２調整部３２２を駆動させることにより、移動部３１に対する第１基板Ｓ１の位置を調整する。複数の第２アライメントカメラ１６＿２は、第２基板Ｓ２に対する本アライメント処理に用いられる。
　液滴吐出装置１００は、第１移載装置１７＿１と、第２移載装置１７＿２とを備える。第１移載装置１７＿１および第２移載装置１７＿２は、たとえば水平多関節ロボットである。第１移載装置１７＿１は、第１搬入出ステージ２１に対する第１基板Ｓ１の搬入出を行う。第２移載装置１７＿２は、第２搬入出ステージ２２に対する第２基板Ｓ２の搬入出を行う。
　図２に示す例において、第１移載装置１７＿１は、搬送方向（Ｙ軸方向）において第１搬入出ステージ２１に隣接する位置（第１搬入出ステージ２１の第１移載位置）に配置される。同様に、第２移載装置１７＿２は、搬送方向（Ｙ軸方向）において第２搬入出ステージ２２に隣接する位置（第２搬入出ステージ２２の第１移載位置）に配置される。なお、第１移載装置１７＿１および第２移載装置１７＿２の設置場所は、図２に示す例に限定されない。この点については後述する。
　また、液滴吐出装置１００は、制御装置１０００を備える。制御装置１０００は、たとえばコンピュータであり、制御部１００１と記憶部１００２とを備える。記憶部１００２には、液滴吐出装置１００において実行される各種の処理を制御するプログラム（液滴吐出プログラムの一例）が格納される。制御部１００１は、記憶部１００２に記憶されたプログラムを読み出して実行することによって液滴吐出装置１００の動作を制御する。
　なお、かかるプログラムは、コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体に記録されていたものであって、記憶媒体から制御装置１０００の記憶部１００２にインストールされたものであってもよい。コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体は、上記プログラムおよびかかるプログラムによって使用されるデータなどを非一時的に記録する媒体である。このような記憶媒体としては、たとえばハードディスク（ＨＤ）、フレキシブルディスク（ＦＤ）、コンパクトディスク（ＣＤ）、マグネットオプティカルディスク（ＭＯ）、メモリカードなどがある。
（液滴吐出装置の具体的な動作）
　次に、上述した液滴吐出装置１００の具体的な動作について図１４および図１５～図２１を参照して具体的に説明する。図１４は、実施形態に係る液滴吐出装置１００が実行する処理の手順を示すフローチャートである。また、図１５～図２１は、実施形態に係る液滴吐出装置１００の動作例を示す模式図である。なお、図１４に示す各処理手順は、制御装置１０００による制御に従って実行される。
　図１４に示すように、液滴吐出装置１００では、まず、第１搬入処理が行われる（ステップＳ１０１）。第１搬入処理は、第１搬入出ステージ２１において第１基板Ｓ１を第１移載装置１７＿１から第１搬送部３＿１に渡す処理である。第１搬入処理の開始時において、第１搬送部３＿１は、第１搬入出ステージ２１に配置されている。
　第１搬入処理では、まず、第１移載装置１７＿１から第１搬送部３＿１に第１基板Ｓ１が受け渡される。具体的には、第１搬入出ステージ２１には図示しない昇降ピンが設けられており、第１移載装置１７＿１は、かかる昇降ピンに第１基板Ｓ１を載置する。その後、昇降ピンが降下することにより、昇降ピンから第１搬送部３＿１の保持部３２に第２基板Ｓ２が渡される。
　つづいて、第１プリアライメント処理が行われる（ステップＳ１０２）。第１プリアライメント処理において、制御装置１０００は、複数の第１プリアライメント機構１５＿１を駆動させることにより第１基板Ｓ１の位置を調整する。
　つづいて、第１保持処理が行われる（ステップＳ１０３）。第１保持処理において、制御装置１０００は、第１搬送部３＿１を制御して、各保持部３２の第１吸着部３２５に第１基板Ｓ１を吸着保持させる。
　つづいて、第１本アライメント処理が行われる（ステップＳ１０４）。第１本アライメント処理は、第１アライメントカメラ１６＿１によって撮像されたアライメントマークの画像に基づいて第１搬送部３＿１の調整部を制御して、第１基板Ｓ１の水平面内における姿勢を調整する処理である。第１本アライメント処理において、制御装置１０００は、複数の第１アライメントカメラ１６＿１を用いて第１基板Ｓ１に設けられたアライメントマークを撮像する。その後、制御装置１０００は、第１搬送部３＿１が備える複数の保持部３２の第１調整部３２１および第２調整部３２２を制御して、第１基板Ｓ１の位置を調整する。
　つづいて、第１パーティクル検出処理が行われる（ステップＳ１０５）。第１パーティクル検出処理において、制御装置１０００は、第１搬送部３＿１の移動部３１を制御して、第１基板Ｓ１を第１搬入出ステージ２１から第１搬送ステージ２５に向けて、すなわちＹ軸正方向に移動させる。つづいて、制御装置１０００は、第１処理ステージ２３を通過する第１基板Ｓ１に対して第１パーティクルセンサ６＿１からレーザ光を照射させる。そして、制御装置１０００は、受光部によって受光されたレーザ光の光量に基づいて第１基板Ｓ１の上面に付着したパーティクルを検出する（図１６参照）。
　つづいて、第１描画処理が行われる（ステップＳ１０６）。第１描画処理は、第１基板Ｓ１を保持した第１搬送部３＿１を移動させて吐出ヘッド４００の下方を通過させつつ第１基板Ｓ１に対し吐出ヘッド４００から機能液の液滴を吐出する処理である。実施形態において制御装置１０００は、第１搬送ステージ２５と第２搬送ステージ２６との間で第１搬送部３＿１を２回往復させつつ、往路および復路の各々において描画部４から機能液の液滴を吐出させる（図１７～図２０）。第１搬送ステージ２５は、第１搬入出ステージ２１と吐出ヘッド４００のとの間の第１位置の一例である。第２搬送ステージ２６は、吐出ヘッド４００と第２搬入出ステージ２２との間の第２位置の一例である。
　液滴吐出装置１００では、第１基板Ｓ１に対する第１描画処理と並行して、第２基板Ｓ２に対する第２搬入処理、第２プリアライメント処理、第２保持処理、第２本アライメント処理および第２パーティクル検出処理が行われる（ステップＳ１０７～Ｓ１１１）。第２搬入処理（ステップＳ１０７）および第２プリアライメント処理（ステップＳ１０８）は、上述した第１搬入処理および第１プリアライメント処理と同様の処理である。第２保持処理（ステップＳ１０９）、第２本アライメント処理（ステップＳ１１０）および第２パーティクル検出処理（ステップＳ１１１）は、上述した第１保持処理、第１本アライメント処理および第１パーティクル検出処理と同様の処理である。
　たとえば、第２基板Ｓ２に対する第２搬入処理、第２プリアライメント処理、第２保持処理および第２本アライメント処理は、第１基板Ｓ１に対する１回目の往復移動および２回目の往路の移動中に行われる（図１７～図１９参照）。そして、その後の第２基板Ｓ２に対する第２パーティクル検出処理は、第１基板Ｓ１に対する２回目の復路の移動中に行われる。すなわち、制御装置１０００は、第１描画処理における第１搬送部３＿１の第１搬送ステージ２５への移動と同期して、第２パーティクル検出処理（および第２描画処理）における第２搬送部３＿２の第２搬送ステージ２６への移動を開始させる（図２０参照）。
　このように、制御装置１０００は、第１描画処理と並行して、第２プリアライメント処理および第２本アライメント処理を行う。
　なお、これに限らず、制御装置１０００は、第１描画処理後、第２描画処理前に、検査部１０による検査処理を行ってもよい。この場合、制御装置１０００は、第１搬出処理後に第２搬出処理を行ってもよい。
　つづいて、第１描画判定処理が行われる（ステップＳ１１２）。第１描画判定処理において、制御装置１０００は、第１搬送部３＿１を制御して第１基板Ｓ１を第１搬送ステージ２５から第１搬入出ステージ２１へ移動させつつ、第１撮像部７＿１を制御して移動中の第１基板Ｓ１の上面を撮像する。制御装置１０００は、第１撮像部７＿１によって撮像された画像に基づいて、第１基板Ｓ１の描画状態の良否を判定する。
　つづいて、第１搬出処理が行われる（ステップＳ１１３）。第１搬出処理は、第１搬送部３＿１を第１搬入出ステージ２１に戻して保持部３２による第１基板Ｓ１の保持を解除し、第１搬出処理において、制御装置１０００は、第１搬送部３＿１による第１基板Ｓ１の吸着保持を解除する。その後、制御装置１０００は、第１移載装置１７＿１を制御して、第１搬送部３＿１から図示しない昇降ピン経由で第１基板Ｓ１を受け取る。
　液滴吐出装置１００では、第１基板Ｓ１に対する第１描画判定処理および第１搬出処理と並行して、第２基板Ｓ２に対する第２描画処理が行われる（ステップＳ１１４）。第２基板Ｓ２に対する第２描画処理は、第２基板Ｓ２を保持した第２搬送部３＿２を移動させて吐出ヘッド４００の下方を通過させつつ第２基板Ｓ２に対し吐出ヘッド４００から機能液の液滴を吐出する処理である。第２描画処理は、上述した第１基板Ｓ１に対する第１描画処理と同様である（図２１参照）。すなわち、制御装置１０００は、第２搬送ステージ２６（第２位置の一例）と第１搬送ステージ２５（第１位置の一例）との間で第２搬送部３＿２を２回往復させつつ、往路および復路の各々において描画部４から機能液の液滴を吐出させる。
　その後、第２基板Ｓ２に対する第２描画判定処理（ステップＳ１１５）および第２搬出処理（ステップＳ１１６）が行われて、第１基板Ｓ１および第２基板Ｓ２に対する一連の処理が終了する。なお、第２基板Ｓ２に対する第２描画判定処理および第２搬出処理は、第１基板Ｓ１に対する第１描画判定処理および第１搬出処理と同様である。
　このように、実施形態に係る液滴吐出装置１００は、２つの搬送部（第１搬送部３＿１および第２搬送部３＿２）を備えることで、第１基板Ｓ１に対する処理と並行して第２基板Ｓ２に対する処理を行うことができる。具体的には、液滴吐出装置１００は、第１基板Ｓ１に対する描画処理（第１描画処理）と並行して、第２基板Ｓ２に対する搬入処理（第２搬入処理）およびアライメント処理（第２プリアライメントおよび第２本アライメント処理）を行うことができる。これにより、実施形態にかかる液滴吐出装置１００は、複数の基板Ｓを連続的に処理する場合のトータルの処理時間を短縮することができる。したがって、実施形態に係る液滴吐出装置１００によれば、生産性を向上させることができる。
（第１変形例）
　第１移載装置１７＿１および第２移載装置１７＿２の配置は、図２に示す例に限定されない。図２２は、第１変形例における第１移載装置１７＿１および第２移載装置１７＿２の配置の一例を示す図である。図２３は、第１変形例における第１移載装置１７＿１および第２移載装置１７＿２の配置の他の一例を示す図である。
　図２２および図２３に示すように、第１搬入出ステージ２１および第２搬入出ステージ２２の各々から見て搬送方向（Ｙ軸方向）に隣接する位置を第１移載位置Ｐ１とする。また、第１搬入出ステージ２１および第２搬入出ステージ２２の各々から見て搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）に隣接する２つの位置のうち一方を第２移載位置Ｐ２とし他方を第３移載位置Ｐ３とする。ここでは、第１搬入出ステージ２１および第２搬入出ステージ２２に対してＸ軸負方向側に位置する移載位置を第２移載位置Ｐ２とし、第１搬入出ステージ２１および第２搬入出ステージ２２に対してＸ軸正方向側に位置する移載位置を第３移載位置Ｐ３としている。
　図２２に示すように、液滴吐出装置１００は、第１移載装置１７＿１が第１搬入出ステージ２１に対する第１移載位置Ｐ１に配置されている場合に、第２移載装置１７＿２が第２搬入出ステージ２２に対する第３移載位置Ｐ３に配置されてもよい。
　また、図２３に示すように、液滴吐出装置１００は、第１移載装置１７＿１が第１搬入出ステージ２１に対する第２移載位置Ｐ２に配置されている場合に、第２移載装置１７＿２が第２搬入出ステージ２２に対する第３移載位置Ｐ３に配置されてもよい。
　このように、第１移載装置１７＿１は、第１搬入出ステージ２１に対する第１移載位置Ｐ１、第２移載位置Ｐ２および第３移載位置Ｐ３のうちいずれかの移載位置に配置される場合に、第２移載装置１７は、第２搬入出ステージ２２に対する第１移載位置Ｐ１、第２移載位置Ｐ２および第３移載位置Ｐ３のうち、第１移載装置１７が配置される移載位置とは異なる移載位置に配置されてもよい。
　なお、これに限らず、たとえば、第１移載装置１７＿１が第１搬入出ステージ２１に対する第２移載位置Ｐ２に配置される場合に、第２移載装置１７＿２も第２搬入出ステージ２２に対する第２移載位置Ｐ２に配置されてもよい。同様に、第１移載装置１７＿１が第１搬入出ステージ２１に対する第３移載位置Ｐ３に配置される場合に、第２移載装置１７＿２も第２搬入出ステージ２２に対する第３移載位置Ｐ３に配置されてもよい。
（第２変形例）
　図２４は、第２変形例に係る液滴吐出装置１００の模式的な斜視図である。図２４に示すように、第２変形例に係る液滴吐出装置１００は、図１に示す液滴吐出装置１００から第１基板Ｓ１の処理に用いられる構成を取り外したものである。具体的には、第２変形例に係る液滴吐出装置１００は、図１に示す液滴吐出装置１００から第１搬入出ステージ２１、第１処理ステージ２３、第１搬送部３＿１および第１描画前フラッシング部５＿１が取り外されている。同様に、第２変形例に係る液滴吐出装置１００は、図１に示す液滴吐出装置１００から第１撮像部７＿１、第１プリアライメント機構１５＿１、第１アライメントカメラ１６＿１および第１移載装置１７＿１が取り外されている。
　また、上述したように、第１ベース１１は、複数のベース部材に分割されており、第１搬入出ステージ２１の下方に位置するベース部材も液滴吐出装置１００から取り外されている。同様に、一対の第１ガイドレール１３，１３は複数のレール部材に分割されており、第１搬入出ステージ２１の側方に位置するレール部材も液滴吐出装置１００から取り外されている。
　ここでは、第１搬入出ステージ２１および第１搬送部３＿１が液滴吐出装置１００に対して着脱自在である場合の例を示した。これに限らず、第２搬入出ステージ２２および第２搬送部３＿２が液滴吐出装置１００に対して着脱自在であってもよい。このように、第１搬入出ステージ２１および第１搬送部３、ならびに、第２搬入出ステージ２２および第２搬送部３の少なくとも一方は、液滴吐出装置１００に対して着脱自在であってもよい。言い換えれば、液滴吐出装置１００は、基板Ｓ（ここでは、第２基板Ｓ２）の搬入および搬出が行われる搬入出ステーション（ここでは、第２搬入出ステージ２２）を１つ備える構成であってもよい。
　上述してきたように、実施形態に係る液滴吐出装置（一例として、液滴吐出装置１００）は、浮上ステージ（一例として、浮上ステージ２）と、搬送部（一例として、第１搬送部３＿１または第２搬送部３＿２）と、吐出ヘッド（一例として、吐出ヘッド４００）と、制御部（一例として、制御部１００１）とを備える。浮上ステージは、基板（一例として、第１基板Ｓ１または第２基板Ｓ２）の搬送方向に沿って延在し、噴出する気体の圧力によって基板を浮上させる。搬送部は、浮上ステージによって浮上した基板を保持して浮上ステージに沿って移動させる。吐出ヘッドは、浮上ステージの上方に位置し、機能液の液滴を吐出する。制御部は、搬送部および吐出ヘッドを制御する。浮上ステージは、基板の搬入および搬出が行われる搬入出ステージ（一例として、第１搬入出ステージ２１または第２搬入出ステージ２２）を有する。制御部は、搬入出ステージにおいて基板を搬送部に渡す搬入処理と、その後、基板を保持した搬送部を移動させて吐出ヘッドの下方を通過させつつ基板に対し吐出ヘッドから機能液の液滴を吐出する描画処理と、その後、搬送部を搬入出ステージに戻して搬送部による基板の保持を解除する搬出処理とを実行する。
　また、実施形態に係る液滴吐出装置（一例として、液滴吐出装置１００）は、浮上ステージ（一例として、浮上ステージ２）と、第１搬送部（一例として、第１搬送部３＿１）と、第２搬送部（一例として、第２搬送部３＿２）と、吐出ヘッド（一例として、吐出ヘッド４００）とを備える。浮上ステージは、第１基板（一例として、第１基板Ｓ１）および第２基板（一例として、第２基板Ｓ２）の搬送方向に沿って延在し、噴出する気体の圧力によって第１基板および第２基板を浮上させる。第１搬送部は、浮上ステージによって浮上した第１基板を保持して浮上ステージに沿って移動させる。第２搬送部は、浮上ステージによって浮上した第２基板を保持して浮上ステージに沿って移動させる。吐出ヘッドは、浮上ステージの上方に位置し、機能液の液滴を吐出する。浮上ステージは、搬送方向における一端に位置し、第１基板の搬入および搬出が行われる第１搬入出ステージと、搬送方向における他端に位置し、第２基板の搬入および搬出が行われる第２搬入出ステージとを備える。
　したがって、実施形態に係る液滴吐出装置によれば、生産性を向上させることができる。
　なお、本開示は以下のような構成も取ることができる。
（１）
　基板の搬送方向に沿って延在し、噴出する気体の圧力によって前記基板を浮上させる浮上ステージと、
　前記浮上ステージによって浮上した前記基板を保持して前記浮上ステージに沿って移動させる搬送部と、
　前記浮上ステージの上方に位置し、機能液の液滴を吐出する吐出ヘッドと、
　前記搬送部および前記吐出ヘッドを制御する制御部と
　を備え、
　前記浮上ステージは、前記基板の搬入および搬出が行われる搬入出ステージを有し、
　前記制御部は、
　前記搬入出ステージにおいて前記基板を前記搬送部に渡す搬入処理と、
　その後、前記基板を保持した前記搬送部を移動させて前記吐出ヘッドの下方を通過させつつ前記基板に対し前記吐出ヘッドから前記機能液の液滴を吐出する描画処理と、
　その後、前記搬送部を前記搬入出ステージに戻して前記搬送部による前記基板の保持を解除する搬出処理と
　を実行する、液滴吐出装置。
（２）
　第１基板および第２基板の搬送方向に沿って延在し、噴出する気体の圧力によって前記第１基板および前記第２基板を浮上させる浮上ステージと、
　前記浮上ステージによって浮上した前記第１基板を保持して前記浮上ステージに沿って移動させる第１搬送部と、
　前記浮上ステージによって浮上した前記第２基板を保持して前記浮上ステージに沿って移動させる第２搬送部と、
　前記浮上ステージの上方に位置し、機能液の液滴を吐出する吐出ヘッドと
　を備え、
　前記浮上ステージは、
　前記搬送方向における一端に位置し、前記第１基板の搬入および搬出が行われる第１搬入出ステージと、
　前記搬送方向における他端に位置し、前記第２基板の搬入および搬出が行われる第２搬入出ステージと
　を備える、液滴吐出装置。
（３）
　前記搬送方向に沿って延在するガイドレールを備え、
　前記第１搬送部および前記第２搬送部は、同一の前記ガイドレールに沿って移動する、（１）に記載の液滴吐出装置。
（４）
　前記第１搬入出ステージおよび前記第１搬送部、ならびに、前記第２搬入出ステージおよび前記第２搬送部の少なくとも一方は、前記液滴吐出装置に対して着脱自在である、（２）または（３）に記載の液滴吐出装置。
（５）
　前記第１搬入出ステージと前記吐出ヘッドとの間に配置され、前記機能液が吐出された前記第１基板を撮像する第１撮像部と、
　前記第２搬入出ステージと前記吐出ヘッドとの間に配置され、前記機能液が吐出された前記第２基板を撮像する第２撮像部と
　を備える、（２）～（４）のいずれか一つに記載の液滴吐出装置。
（６）
　前記第１搬入出ステージと前記吐出ヘッドとの間に配置され、前記第１基板の上面に付着したパーティクルを検出する第１パーティクルセンサと、
　前記第２搬入出ステージと前記吐出ヘッドとの間に配置され、前記第２基板の上面に付着したパーティクルを検出する第２パーティクルセンサと
　を備える、（２）～（５）のいずれか一つに記載の液滴吐出装置。
（７）
　前記吐出ヘッドのノズルから前記機能液を吸引する吸引処理および前記吐出ヘッドのノズル面を払拭するワイピング処理を行うメンテナンス部と、
　前記第１基板および前記第２基板に対する前記機能液の吐出が行われていない期間に前記吐出ヘッドから前記機能液を吐出する定期フラッシング処理において前記吐出ヘッドから吐出された前記機能液を受ける定期フラッシング部と、
　前記定期フラッシング処理とは異なるタイミングで実行される検査処理において前記吐出ヘッドから吐出された前記機能液をフィルムで受ける検査部と
　を備え、
　前記メンテナンス部および前記定期フラッシング部は、前記浮上ステージの上方かつ前記第１搬入出ステージと前記吐出ヘッドとの間の第１待機位置にて待機し、
　前記検査部は、前記浮上ステージの上方かつ前記第２搬入出ステージと前記吐出ヘッドとの間の第２待機位置にて待機する、（２）～（６）のいずれか一つに記載の液滴吐出装置。
（８）
　前記搬送方向における前記第１搬送部の両端部に配置され、前記第１搬送部と一体的に移動可能であり、前記吐出ヘッドから吐出された前記機能液を受ける第１描画前フラッシング部と、
　前記搬送方向における前記第２搬送部の両端部に配置され、前記第２搬送部と一体的に移動可能であり、前記吐出ヘッドから吐出された前記機能液を受ける第２描画前フラッシング部と、
　を備える、（２）～（７）のいずれか一つに記載の液滴吐出装置。
（９）
　前記第１搬入出ステージに対する前記第１基板の搬入出を行う第１移載装置と、
　前記第２搬入出ステージに対する前記第２基板の搬入出を行う第２移載装置と
　を備え、
　前記第１搬入出ステージおよび前記第２搬入出ステージの各々から見て前記搬送方向に隣接する位置を第１移載位置とし、前記第１搬入出ステージおよび前記第２搬入出ステージの各々から見て前記搬送方向と直交する方向に隣接する２つの位置のうち一方を第２移載位置とし他方を第３移載位置とした場合に、前記第１移載装置は、前記第１搬入出ステージに対する前記第１移載位置、前記第２移載位置および前記第３移載位置のうちいずれかの移載位置に配置され、前記第２移載装置は、前記第２搬入出ステージに対する前記第１移載位置、前記第２移載位置および前記第３移載位置のうち、前記第１移載装置が配置される移載位置とは異なる移載位置に配置される、（２）～（８）のいずれか一つに記載の液滴吐出装置。
（１０）
　前記第１搬送部、前記第２搬送部および前記吐出ヘッドを制御する制御部を備え、
　前記制御部は、
　前記第１搬入出ステージにおいて前記第１基板を前記第１搬送部に渡す第１搬入処理と、
　前記第２搬入出ステージにおいて前記第２基板を前記第２搬送部に渡す第２搬入処理と、
　前記第１搬入処理後、前記第１基板を保持した前記第１搬送部を移動させて前記吐出ヘッドの下方を通過させつつ前記第１基板に対し前記吐出ヘッドから前記機能液の液滴を吐出する第１描画処理と、
　前記第１描画処理後、前記第１搬送部を前記第１搬入出ステージに戻して前記第１搬送部による前記第１基板の保持を解除する第１搬出処理と、
　前記第１搬出処理後、または、前記第１搬出処理と並行して、前記第２基板を保持した前記第２搬送部を移動させて前記吐出ヘッドの下方を通過させつつ前記第２基板に対し前記吐出ヘッドから前記機能液の液滴を吐出する第２描画処理と、
　前記第２描画処理後、前記第２搬送部を前記第２搬入出ステージに戻して前記第２搬送部による前記第２基板の保持を解除する第２搬出処理と
　を行う、（２）～（９）のいずれか一つに記載の液滴吐出装置。
（１１）
　前記第１描画処理は、前記第１搬入出ステージと前記吐出ヘッドとの間の第１位置と、前記吐出ヘッドと前記第２搬入出ステージとの間の第２位置との間で前記第１搬送部を往復させつつ前記第１基板に対して前記吐出ヘッドから前記機能液の液滴を吐出し、
　前記第２描画処理は、前記第２位置と前記第１位置との間で前記第２搬送部を往復させつつ前記第２基板に対して前記吐出ヘッドから前記機能液の液滴を吐出する、（１０）に記載の液滴吐出装置。
（１２）
　前記第２搬入出ステージに設けられ、前記第２基板に設けられたアライメントマークを撮像するアライメントカメラを備え、
　前記第２搬送部は、保持した前記第２基板の水平面内における姿勢を調整する調整部を備え、
　前記制御部は、前記第１描画処理と並行して、前記アライメントカメラによって撮像された前記アライメントマークの画像に基づいて前記調整部を制御して、前記第２基板の水平面内における姿勢を調整するアライメント処理を行う、（１０）または（１１）に記載の液滴吐出装置。
（１３）
　前記制御部は、前記第１描画処理における前記第１搬送部の移動と同期して前記第２搬送部の移動を開始する、（１０）～（１２）のいずれか一つに記載の液滴吐出装置。
（１４）
　第１基板および第２基板の搬送方向に沿って延在し、噴出する気体の圧力によって前記第１基板および前記第２基板を浮上させる浮上ステージの前記搬送方向における一端に位置し、前記第１基板の搬入および搬出が行われる第１搬入出ステージにおいて、前記浮上ステージによって浮上した前記第１基板を保持して前記浮上ステージに沿って移動させる第１搬送部に前記第１基板を渡す第１搬入工程と、
　前記浮上ステージの前記搬送方向における他端に位置し、前記第２基板の搬入および搬出が行われる第２搬入出ステージにおいて、前記浮上ステージによって浮上した前記第２基板を保持して前記浮上ステージに沿って移動させる第２搬送部に前記第２基板を渡す第２搬入工程と、
　前記第１搬入工程後、前記第１基板を保持した前記第１搬送部を移動させて、前記浮上ステージの上方に位置し機能液の液滴を吐出する吐出ヘッドの下方を通過させつつ前記第１基板に対し前記吐出ヘッドから前記機能液の液滴を吐出する第１描画工程と、
　前記第１描画工程後、前記第１搬送部を前記第１搬入出ステージに戻して前記第１搬送部による前記第１基板の保持を解除する第１搬出工程と、
　前記第１搬出工程後、または、前記第１搬出工程と並行して、前記第２基板を保持した前記第２搬送部を移動させて前記吐出ヘッドの下方を通過させつつ前記第２基板に対し前記吐出ヘッドから前記機能液の液滴を吐出する第２描画工程と、
　前記第２描画工程後、前記第２搬送部を前記第２搬入出ステージに戻して前記第２搬送部による前記第２基板の保持を解除する第２搬出工程と
　を含む、液滴吐出方法。
（１５）
　第１基板および第２基板の搬送方向に沿って延在し、噴出する気体の圧力によって前記第１基板および前記第２基板を浮上させる浮上ステージの前記搬送方向における一端に位置し、前記第１基板の搬入および搬出が行われる第１搬入出ステージにおいて、前記浮上ステージによって浮上した前記第１基板を保持して前記浮上ステージに沿って移動させる第１搬送部に前記第１基板を渡す第１搬入手順と、
　前記浮上ステージの前記搬送方向における他端に位置し、前記第２基板の搬入および搬出が行われる第２搬入出ステージにおいて、前記浮上ステージによって浮上した前記第２基板を保持して前記浮上ステージに沿って移動させる第２搬送部に前記第２基板を渡す第２搬入手順と、
　前記第１搬入手順後、前記第１基板を保持した前記第１搬送部を移動させて、前記浮上ステージの上方に位置し機能液の液滴を吐出する吐出ヘッドの下方を通過させつつ前記第１基板に対し前記吐出ヘッドから前記機能液の液滴を吐出する第１描画手順と、
　前記第１描画手順後、前記第１搬送部を前記第１搬入出ステージに戻して前記第１搬送部による前記第１基板の保持を解除する第１搬出手順と、
　前記第１搬出手順後、または、前記第１搬出手順と並行して、前記第２基板を保持した前記第２搬送部を移動させて前記吐出ヘッドの下方を通過させつつ前記第２基板に対し前記吐出ヘッドから前記機能液の液滴を吐出する第２描画手順と、
　前記第２描画手順後、前記第２搬送部を前記第２搬入出ステージに戻して前記第２搬送部による前記第２基板の保持を解除する第２搬出手順と
　をコンピュータに実現させるプログラムが非一時的に記録された、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
　今回開示された実施形態は全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。実に、上記した実施形態は多様な形態で具現され得る。また、上記の実施形態は、添付の請求の範囲およびその趣旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。
　１　ベース
　２　浮上ステージ
　３＿１　第１搬送部
　３＿２　第２搬送部
　４　描画部
　５＿１　第１描画前フラッシング部
　５＿２　第２描画前フラッシング部
　６＿１　第１パーティクルセンサ
　６＿２　第２パーティクルセンサ
　７＿１　第１撮像部
　７＿２　第２撮像部
　８　メンテナンス部
　９　定期フラッシング部
　１０　検査部
　１３　第１ガイドレール
　１４　第２ガイドレール
　１５＿１　第１プリアライメント機構
　１５＿２　第２プリアライメント機構
　１６＿１　第１アライメントカメラ
　１６＿２　第２アライメントカメラ
　１７＿１　第１移載装置
　１７＿１　第２移載装置
　２１　第１搬入出ステージ
　２２　第２搬入出ステージ
　２３　第１処理ステージ
　２４　第２処理ステージ
　２５　第１搬送ステージ
　２６　第２搬送ステージ
　２７　第３処理ステージ
　３１　移動部
　３２　保持部
　４０　キャリッジ
　４１　第１キャリッジ群
　４２　第２キャリッジ群
　４３　第３キャリッジ群
　１００　液滴吐出装置
　４００　吐出ヘッド
　１０００　制御装置
　１００１　制御部
　１００２　記憶部
　Ｓ１　第１基板
　Ｓ２　第２基板

Claims (15)

  1. 　基板の搬送方向に沿って延在し、噴出する気体の圧力によって前記基板を浮上させる浮上ステージと、
    　前記浮上ステージによって浮上した前記基板を保持して前記浮上ステージに沿って移動させる搬送部と、
    　前記浮上ステージの上方に位置し、機能液の液滴を吐出する吐出ヘッドと、
    　前記搬送部および前記吐出ヘッドを制御する制御部と
    　を備え、
    　前記浮上ステージは、前記基板の搬入および搬出が行われる搬入出ステージを有し、
    　前記制御部は、
    　前記搬入出ステージにおいて前記基板を前記搬送部に渡す搬入処理と、
    　その後、前記基板を保持した前記搬送部を移動させて前記吐出ヘッドの下方を通過させつつ前記基板に対し前記吐出ヘッドから前記機能液の液滴を吐出する描画処理と、
    　その後、前記搬送部を前記搬入出ステージに戻して前記搬送部による前記基板の保持を解除する搬出処理と
    　を実行する、液滴吐出装置。
  2. 　第１基板および第２基板の搬送方向に沿って延在し、噴出する気体の圧力によって前記第１基板および前記第２基板を浮上させる浮上ステージと、
    　前記浮上ステージによって浮上した前記第１基板を保持して前記浮上ステージに沿って移動させる第１搬送部と、
    　前記浮上ステージによって浮上した前記第２基板を保持して前記浮上ステージに沿って移動させる第２搬送部と、
    　前記浮上ステージの上方に位置し、機能液の液滴を吐出する吐出ヘッドと
    　を備え、
    　前記浮上ステージは、
    　前記搬送方向における一端に位置し、前記第１基板の搬入および搬出が行われる第１搬入出ステージと、
    　前記搬送方向における他端に位置し、前記第２基板の搬入および搬出が行われる第２搬入出ステージと
    　を備える、液滴吐出装置。
  3. 　前記搬送方向に沿って延在するガイドレールを備え、
    　前記第１搬送部および前記第２搬送部は、同一の前記ガイドレールに沿って移動する、請求項２に記載の液滴吐出装置。
  4. 　前記第１搬入出ステージおよび前記第１搬送部、ならびに、前記第２搬入出ステージおよび前記第２搬送部の少なくとも一方は、前記液滴吐出装置に対して着脱自在である、請求項２に記載の液滴吐出装置。
  5. 　前記第１搬入出ステージと前記吐出ヘッドとの間に配置され、前記機能液が吐出された前記第１基板を撮像する第１撮像部と、
    　前記第２搬入出ステージと前記吐出ヘッドとの間に配置され、前記機能液が吐出された前記第２基板を撮像する第２撮像部と
    　を備える、請求項２に記載の液滴吐出装置。
  6. 　前記第１搬入出ステージと前記吐出ヘッドとの間に配置され、前記第１基板の上面に付着したパーティクルを検出する第１パーティクルセンサと、
    　前記第２搬入出ステージと前記吐出ヘッドとの間に配置され、前記第２基板の上面に付着したパーティクルを検出する第２パーティクルセンサと
    　を備える、請求項２に記載の液滴吐出装置。
  7. 　前記吐出ヘッドのノズルから前記機能液を吸引する吸引処理および前記吐出ヘッドのノズル面を払拭するワイピング処理を行うメンテナンス部と、
    　前記第１基板および前記第２基板に対する前記機能液の吐出が行われていない期間に前記吐出ヘッドから前記機能液を吐出する定期フラッシング処理において前記吐出ヘッドから吐出された前記機能液を受ける定期フラッシング部と、
    　前記定期フラッシング処理とは異なるタイミングで実行される検査処理において前記吐出ヘッドから吐出された前記機能液をフィルムで受ける検査部と
    　を備え、
    　前記メンテナンス部および前記定期フラッシング部は、前記浮上ステージの上方かつ前記第１搬入出ステージと前記吐出ヘッドとの間の第１待機位置にて待機し、
    　前記検査部は、前記浮上ステージの上方かつ前記第２搬入出ステージと前記吐出ヘッドとの間の第２待機位置にて待機する、請求項２に記載の液滴吐出装置。
  8. 　前記搬送方向における前記第１搬送部の両端部に配置され、前記第１搬送部と一体的に移動可能であり、前記吐出ヘッドから吐出された前記機能液を受ける第１描画前フラッシング部と、
    　前記搬送方向における前記第２搬送部の両端部に配置され、前記第２搬送部と一体的に移動可能であり、前記吐出ヘッドから吐出された前記機能液を受ける第２描画前フラッシング部と、
    　を備える、請求項２に記載の液滴吐出装置。
  9. 　前記第１搬入出ステージに対する前記第１基板の搬入出を行う第１移載装置と、
    　前記第２搬入出ステージに対する前記第２基板の搬入出を行う第２移載装置と
    　を備え、
    　前記第１搬入出ステージおよび前記第２搬入出ステージの各々から見て前記搬送方向に隣接する位置を第１移載位置とし、前記第１搬入出ステージおよび前記第２搬入出ステージの各々から見て前記搬送方向と直交する方向に隣接する２つの位置のうち一方を第２移載位置とし他方を第３移載位置とした場合に、前記第１移載装置は、前記第１搬入出ステージに対する前記第１移載位置、前記第２移載位置および前記第３移載位置のうちいずれかの移載位置に配置され、前記第２移載装置は、前記第２搬入出ステージに対する前記第１移載位置、前記第２移載位置および前記第３移載位置のうち、前記第１移載装置が配置される移載位置とは異なる移載位置に配置される、請求項２に記載の液滴吐出装置。
  10. 　前記第１搬送部、前記第２搬送部および前記吐出ヘッドを制御する制御部を備え、
    　前記制御部は、
    　前記第１搬入出ステージにおいて前記第１基板を前記第１搬送部に渡す第１搬入処理と、
    　前記第２搬入出ステージにおいて前記第２基板を前記第２搬送部に渡す第２搬入処理と、
    　前記第１搬入処理後、前記第１基板を保持した前記第１搬送部を移動させて前記吐出ヘッドの下方を通過させつつ前記第１基板に対し前記吐出ヘッドから前記機能液の液滴を吐出する第１描画処理と、
    　前記第１描画処理後、前記第１搬送部を前記第１搬入出ステージに戻して前記第１搬送部による前記第１基板の保持を解除する第１搬出処理と、
    　前記第１搬出処理後、または、前記第１搬出処理と並行して、前記第２基板を保持した前記第２搬送部を移動させて前記吐出ヘッドの下方を通過させつつ前記第２基板に対し前記吐出ヘッドから前記機能液の液滴を吐出する第２描画処理と、
    　前記第２描画処理後、前記第２搬送部を前記第２搬入出ステージに戻して前記第２搬送部による前記第２基板の保持を解除する第２搬出処理と
    　を行う、請求項２～９のいずれか一つに記載の液滴吐出装置。
  11. 　前記第１描画処理は、前記第１搬入出ステージと前記吐出ヘッドとの間の第１位置と、前記吐出ヘッドと前記第２搬入出ステージとの間の第２位置との間で前記第１搬送部を往復させつつ前記第１基板に対して前記吐出ヘッドから前記機能液の液滴を吐出し、
    　前記第２描画処理は、前記第２位置と前記第１位置との間で前記第２搬送部を往復させつつ前記第２基板に対して前記吐出ヘッドから前記機能液の液滴を吐出する、請求項１０に記載の液滴吐出装置。
  12. 　前記第２搬入出ステージに設けられ、前記第２基板に設けられたアライメントマークを撮像するアライメントカメラを備え、
    　前記第２搬送部は、保持した前記第２基板の水平面内における姿勢を調整する調整部を備え、
    　前記制御部は、前記第１描画処理と並行して、前記アライメントカメラによって撮像された前記アライメントマークの画像に基づいて前記調整部を制御して、前記第２基板の水平面内における姿勢を調整するアライメント処理を行う、請求項１０に記載の液滴吐出装置。
  13. 　前記制御部は、前記第１描画処理における前記第１搬送部の移動と同期して前記第２搬送部の移動を開始する、請求項１０に記載の液滴吐出装置。
  14. 　第１基板および第２基板の搬送方向に沿って延在し、噴出する気体の圧力によって前記第１基板および前記第２基板を浮上させる浮上ステージの前記搬送方向における一端に位置し、前記第１基板の搬入および搬出が行われる第１搬入出ステージにおいて、前記浮上ステージによって浮上した前記第１基板を保持して前記浮上ステージに沿って移動させる第１搬送部に前記第１基板を渡す第１搬入工程と、
    　前記浮上ステージの前記搬送方向における他端に位置し、前記第２基板の搬入および搬出が行われる第２搬入出ステージにおいて、前記浮上ステージによって浮上した前記第２基板を保持して前記浮上ステージに沿って移動させる第２搬送部に前記第２基板を渡す第２搬入工程と、
    　前記第１搬入工程後、前記第１基板を保持した前記第１搬送部を移動させて、前記浮上ステージの上方に位置し機能液の液滴を吐出する吐出ヘッドの下方を通過させつつ前記第１基板に対し前記吐出ヘッドから前記機能液の液滴を吐出する第１描画工程と、
    　前記第１描画工程後、前記第１搬送部を前記第１搬入出ステージに戻して前記第１搬送部による前記第１基板の保持を解除する第１搬出工程と、
    　前記第１搬出工程後、または、前記第１搬出工程と並行して、前記第２基板を保持した前記第２搬送部を移動させて前記吐出ヘッドの下方を通過させつつ前記第２基板に対し前記吐出ヘッドから前記機能液の液滴を吐出する第２描画工程と、
    　前記第２描画工程後、前記第２搬送部を前記第２搬入出ステージに戻して前記第２搬送部による前記第２基板の保持を解除する第２搬出工程と
    　を含む、液滴吐出方法。
  15. 　第１基板および第２基板の搬送方向に沿って延在し、噴出する気体の圧力によって前記第１基板および前記第２基板を浮上させる浮上ステージの前記搬送方向における一端に位置し、前記第１基板の搬入および搬出が行われる第１搬入出ステージにおいて、前記浮上ステージによって浮上した前記第１基板を保持して前記浮上ステージに沿って移動させる第１搬送部に前記第１基板を渡す第１搬入手順と、
    　前記浮上ステージの前記搬送方向における他端に位置し、前記第２基板の搬入および搬出が行われる第２搬入出ステージにおいて、前記浮上ステージによって浮上した前記第２基板を保持して前記浮上ステージに沿って移動させる第２搬送部に前記第２基板を渡す第２搬入手順と、
    　前記第１搬入手順後、前記第１基板を保持した前記第１搬送部を移動させて、前記浮上ステージの上方に位置し機能液の液滴を吐出する吐出ヘッドの下方を通過させつつ前記第１基板に対し前記吐出ヘッドから前記機能液の液滴を吐出する第１描画手順と、
    　前記第１描画手順後、前記第１搬送部を前記第１搬入出ステージに戻して前記第１搬送部による前記第１基板の保持を解除する第１搬出手順と、
    　前記第１搬出手順後、または、前記第１搬出手順と並行して、前記第２基板を保持した前記第２搬送部を移動させて前記吐出ヘッドの下方を通過させつつ前記第２基板に対し前記吐出ヘッドから前記機能液の液滴を吐出する第２描画手順と、
    　前記第２描画手順後、前記第２搬送部を前記第２搬入出ステージに戻して前記第２搬送部による前記第２基板の保持を解除する第２搬出手順と
    　をコンピュータに実現させるプログラムが非一時的に記録された、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
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