JP2023172594A - 基板搬送装置、基板搬送方法および記憶媒体 - Google Patents

Abstract

【課題】複数の搬送機構を備える基板搬送装置において、基板を適切な姿勢で搬送する。【解決手段】実施形態に係る基板搬送装置は、浮上ステージと、第１搬送機構と、第２搬送機構とを備える。浮上ステージは、第１方向に沿って延在し、基板を浮上させる。第１搬送機構は、第１保持部と、第２保持部とを備える。第１方向と直交する第２方向における第１基板および第２基板の両側のうち一方を第１片側とし他方を第２片側とした場合に、第１保持部は、第１基板における第１片側を保持する。第２保持部は、第１基板における第２片側と第１基板の中心との間の位置を保持する。また、第２搬送機構は、第３保持部と、第４保持部とを備える。第３保持部は、第２基板における第２片側を保持する。第４保持部は、第２基板における第１片側と第２基板の中心との間の位置を保持する。【選択図】図１

Description

本開示は、基板搬送装置、基板搬送方法および記憶媒体に関する。

従来、搬送される基板に対して塗布液の液滴をインクジェット方式で塗布する液滴吐出装置が知られている。

特許文献１には、上方に向かって噴出する気体の風圧により基板を所定の高さに浮かせるステージ部と、ステージ部から所定の高さに浮かせた基板に対し、上方から機能液の液滴を滴下する複数の吐出ヘッドとを備えた塗布装置が開示されている。

特許文献２には、基板の基板搬送方向と直交する方向における両側のうち、一方の片側を吸着保持する保持部と、他方の片側を吸着保持する保持部とを備えた塗布膜形成装置が開示されている。特許文献２に記載の塗布膜形成装置によれば、２つの保持部に交互に駆動させることにより、複数の基板を効率良く搬送することができる。

特開２０１８－１２６７１８号公報 特開２００５－２２３１１９号公報

本開示は、複数の搬送機構を備える基板搬送装置において、基板を適切な姿勢で搬送する技術を提供する。

本開示の一態様による基板搬送装置は、浮上ステージと、第１搬送機構と、第２搬送機構とを備える。浮上ステージは、第１方向に沿って延在し、基板を浮上させる。第１搬送機構は、浮上ステージによって浮上した第１基板を保持し、保持した第１基板を第１方向に沿って搬送する。第２搬送機構は、浮上ステージによって浮上した第２基板を保持し、保持した第２基板を第１方向に沿って搬送する。また、第１搬送機構は、第１保持部と、第２保持部とを備える。第１方向と直交する第２方向における第１基板および第２基板の両側のうち一方を第１片側とし他方を第２片側とした場合に、第１保持部は、第１基板における第１片側を保持する。第２保持部は、第１基板における第２片側と第１基板の中心との間の位置を保持する。また、第２搬送機構は、第３保持部と、第４保持部とを備える。第３保持部は、第２基板における第２片側を保持する。第４保持部は、第２基板における第１片側と第２基板の中心との間の位置を保持する。

本開示によれば、複数の搬送機構を備える基板搬送装置において、基板を適切な姿勢で搬送することができる。

図１は、実施形態に係る液滴吐出装置の概略構成を示す平面図である。 図２は、実施形態に係る第１搬送機構の模式的な平面図である。 図３は、実施形態に係る第２搬送機構の模式的な平面図である。 図４は、実施形態に係る第１保持部の模式的な平面図である。 図５は、実施形態に係る第１保持部の模式的な側面図である。 図６は、実施形態に係る液滴吐出装置が実行する処理の手順を示すフローチャートである。 図７は、実施形態に係る液滴吐出装置の動作例を示す模式図である。 図８は、実施形態に係る液滴吐出装置の動作例を示す模式図である。 図９は、実施形態に係る液滴吐出装置の動作例を示す模式図である。 図１０は、実施形態に係る液滴吐出装置の動作例を示す模式図である。 図１１は、実施形態に係る液滴吐出装置の動作例を示す模式図である。 図１２は、実施形態に係る液滴吐出装置の動作例を示す模式図である。

以下に、本開示による基板搬送装置、基板搬送方法および記憶媒体を実施するための形態（以下、「実施形態」と記載する）について図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、この実施形態により本開示が限定されるものではない。また、各実施形態は、処理内容を矛盾させない範囲で適宜組み合わせることが可能である。また、以下の各実施形態において同一の部位には同一の符号を付し、重複する説明は省略される。

また、以下に示す実施形態では、「一定」、「直交」、「垂直」あるいは「平行」といった表現が用いられる場合があるが、これらの表現は、厳密に「一定」、「直交」、「垂直」あるいは「平行」であることを要しない。すなわち、上記した各表現は、例えば製造精度、設置精度などのずれを許容するものとする。

また、以下参照する各図面では、説明を分かりやすくするために、互いに直交するＸ軸方向、Ｙ軸方向およびＺ軸方向を規定し、Ｚ軸正方向を鉛直上向き方向とする直交座標系を示す場合がある。また、鉛直軸を回転中心とする回転方向をθ方向と呼ぶ場合がある。

また、以下に示す実施形態では、搬送される基板の上方から基板に対して液滴を吐出することによって基板の上面に所定のパターンを描画する液滴吐出装置に対して本願の開示する基板搬送装置を適用した場合の例について説明する。これに限らず、本願の開示する基板搬送装置は、たとえば、基板に対して光を照射する処理や除去液を吐出する処理を行うことにより基板の表面を改質又は表層の膜を除去する基板処理装置に対して適用されてもよい。

特許文献１には、上方に向かって噴出する気体の風圧により基板を所定の高さに浮かせるステージ部と、ステージ部から所定の高さに浮かせた基板に対し、上方から機能液の液滴を滴下する複数の吐出ヘッドとを備えた塗布装置が開示されている。また、特許文献１には、上記塗布装置が、ステージ部から所定の高さに浮かせた基板の四隅を下方から吸着保持する複数の基板保持部と、複数の基板保持部を移動させるスライダとを備えることが開示されている。

しかしながら、特許文献１に記載の塗布装置は、基板の四隅を下方から吸着保持する基板保持部を１組しか有しないため、基板の搬送効率が低いという問題があった。

一方、特許文献２には、基板の基板搬送方向と直交する方向における両側のうち、一方の片側を吸着保持する保持部と、他方の片側を吸着保持する保持部とを備えた塗布膜形成装置が開示されている。特許文献２に記載の塗布膜形成装置によれば、２つの保持部に交互に駆動させることにより、複数の基板を効率良く搬送することができる。

しかしながら、特許文献２に記載の塗布膜形成装置には、搬送中の基板の姿勢を適切に保つことが難しいという課題があった。たとえば、特許文献２に記載の塗布膜形成装置は、基板の一方の片側のみを保持部で保持するため、基板の他方の片側が基板の自重等により撓むおそれがある。このように、特許文献２に記載の塗布膜形成装置は、搬送中の基板を水平に保つことが難しかった。言い換えれば、特許文献２に記載の塗布膜形成装置には、搬送中の基板の高さ方向における位置精度を向上させるという点でさらなる改善の余地がある。

本開示にかかる技術は、上記事情に鑑みてなされたものであり、複数の搬送機構を備える基板搬送装置において、基板を適切な姿勢で搬送することができる技術を提供する。

実施形態に係る液滴吐出装置１の構成について図１～図３を参照し説明する。図１は、実施形態に係る液滴吐出装置１の概略構成を示す平面図である。図２は、実施形態に係る第１搬送機構３の模式的な平面図である。図３は、実施形態に係る第２搬送機構４の模式的な平面図である。

液滴吐出装置１は、ワークである基板Ｓを水平方向に搬送しながら、インクジェット方式で基板Ｓに描画を行う。基板Ｓは、例えばフラットパネルディスプレイに用いられるガラス基板である。なお、以下の説明において、第１搬送機構３が搬送する基板Ｓについて第１基板Ｓ１、第２搬送機構４が搬送する基板Ｓについて第２基板Ｓ２と呼ぶ場合がある。また、第１基板Ｓ１および第２基板Ｓ２を区別しない場合には、これらを総称して基板Ｓと呼ぶ場合がある。

液滴吐出装置１は、浮上ステージ２と、第１搬送機構３と、第２搬送機構４と、複数の撮像部５と、塗布部６と、複数の第１移載機構７と、複数の第２移載機構８とを備える。また、液滴吐出装置１は、第１ガイドレール１０１と、第２ガイドレール１０２と、第３ガイドレール１０３と、第４ガイドレール１０４とを備える。

浮上ステージ２は、基板Ｓの搬送方向（第１方向の一例、ここではＹ軸方向）に沿って延在する複数のステージ部材を有している。これら複数のステージ部材は、基板Ｓの搬送方向と直交する方向（第２方向の一例、ここではＸ軸方向）に互いに間隔をあけて並べられている。隣り合うステージ部材の間隙は、基板Ｓの搬送方向に沿ってスリット状に形成される。後述する第２保持部３２および第４保持部４２は、かかる間隙に配置される。

各ステージ部材は、気体を噴出する複数の噴出口（図示せず）を有しており、複数の噴出口から圧縮された気体（たとえば空気）を基板Ｓに向けて噴出することにより、基板Ｓを浮上させる。すなわち、各ステージ部材は、基板Ｓに対して下方から気体を噴出することによって基板Ｓの浮上高を調整する。

なお、塗布部６の下方に位置するステージ部材における基板Ｓの浮上高の範囲は、ステージ部材における基板Ｓの浮上高の範囲よりも狭い。例えば、塗布部６の下方に位置するステージ部材における基板Ｓの浮上高の範囲は、３０～６０μｍである。他のステージ部材における基板Ｓの浮上高の範囲は、２００～２０００μｍである。

例えば、塗布部６の下方に位置するステージ部材は、圧縮された空気を基板Ｓの下面に向けて噴出する複数の噴出口と、基板Ｓとステージ部材との間の空気を吸引する複数の吸引口とを備えていてもよい。かかる構成とすることにより、基板Ｓの浮上高を高精度に調整することができる。

浮上ステージ２は、基板Ｓが搬送される搬送ステージ２０と、基板Ｓが搬入される搬入ステージ２１と、基板Ｓが搬出される搬出ステージ２２とを含む。

搬送ステージ２０は、基板Ｓの搬送方向に沿って延在する。搬送ステージ２０の上方には、後述する塗布部６が配置される。搬入ステージ２１（搬入部の一例）は、基板Ｓの搬送方向における搬送ステージ２０の一端側（Ｙ軸負方向側）に設けられる。搬出ステージ２２（搬出部の一例）は、基板Ｓの搬送方向における搬送ステージ２０の他端側（Ｙ軸正方向側）に設けられる。すなわち、搬送ステージ２０、搬入ステージ２１および搬出ステージ２２は、Ｙ軸正方向に沿って搬入ステージ２１、搬送ステージ２０および搬出ステージ２２の順に配置される。

このように、浮上ステージ２は、搬送方向における一端側に第１基板Ｓ１および第２基板Ｓ２の搬入部である搬入ステージ２１を有し、他端側に第１基板Ｓ１および第２基板Ｓ２の搬出部である搬出ステージ２２を有する。第１基板Ｓ１および第２基板Ｓ２は、搬入ステージ２１に搬入された後、搬送ステージ２０を搬送されて搬出ステージ２２から搬出される。

第１～第４ガイドレール１０１～１０４は、搬送ステージ２０が有する複数のステージ部材と平行に、すなわち、基板Ｓの搬送方向に沿って延在する。液滴吐出装置１を上方から平面視した場合に、第１～第４ガイドレール１０１～１０４は、基板Ｓの搬送方向と直交する方向に、搬送ステージ２０が有する複数のステージ部材とともに並べて配置される。

第１ガイドレール１０１および第３ガイドレール１０３は、搬送ステージ２０が有する複数のステージ部材の外方に配置される。これに対し、第２ガイドレール１０２および第４ガイドレール１０４は、搬送ステージ２０が有する隣り合う２つのステージ部材の間に配置される。

第１～第４ガイドレール１０１～１０４は、Ｘ軸正方向に沿って第１ガイドレール１０１、第４ガイドレール１０４、第２ガイドレール１０２および第３ガイドレール１０３の順に配置される。第２ガイドレール１０２は、搬送方向に沿った直線であって搬送ステージ２０を二等分する中心線Ｌと第３ガイドレール１０３との間に配置される。また、第４ガイドレール１０４は、中心線Ｌと第１ガイドレール１０１との間に配置される。

第２ガイドレール１０２および第４ガイドレール１０４間の距離は、第１ガイドレール１０１および第４ガイドレール１０４間の距離ならびに第２ガイドレール１０２および第３ガイドレール１０３間の距離よりも大きい。すなわち、第２ガイドレール１０２は、第３ガイドレール１０３と第４ガイドレール１０４とで比べた場合に、第３ガイドレール１０３により近い位置に配置される。また、第４ガイドレール１０４は、第１ガイドレール１０１と第２ガイドレール１０２とで比べた場合に、第１ガイドレール１０１により近い位置に配置される。

第１～第４ガイドレール１０１～１０４は、例えば、グラナイトによって構成される。搬送方向（Ｙ軸方向）に直交する第１～第４ガイドレール１０１～１０４の断面は、たとえば矩形状である。

第１搬送機構３は、浮上ステージ２によって浮上した第１基板Ｓ１を保持し、保持した第１基板Ｓ１を搬送方向に沿って搬送する。図２に示すように、第１搬送機構３は、複数（ここでは、２つ）の第１保持部３１と、複数（ここでは、２つ）の第２保持部３２と、２つの第１移動部３３＿１，３３＿２とを備える。

ここで、以下では、基板Ｓの搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）における第１基板Ｓ１および第２基板Ｓ２の両側のうち一方を「第１片側」と称し、他方を「第２片側」と称する。具体的には、第１基板Ｓ１および第２基板Ｓ２の両側のうちＸ軸負方向側の端部を「第１片側」と称し、Ｘ軸正方向側の端部を「第２片側」と称する。すなわち、第１基板Ｓ１の第１片側および第２基板Ｓ２の第１片側は、いずれも同じ側（Ｘ軸負方向側）に位置する。同様に、第１基板Ｓ１の第２片側および第２基板Ｓ２の第２片側は、いずれも同じ側（Ｘ軸正方向側）に位置する。

また、以下では、基板Ｓの搬送方向（Ｙ軸方向）における第１基板Ｓ１および第２基板Ｓ２の両側のうち一方を「第３片側」と称し、他方を「第４片側」と称する。具体的には、第１基板Ｓ１および第２基板Ｓ２の両側のうちＹ軸負方向側の端部を「第３片側」と称し、Ｙ軸正方向側の端部を「第４片側」と称する。

２つの第１保持部３１は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）における搬送ステージ２０の外方に設けられる。具体的には、２つの第１保持部３１は、第１ガイドレール１０１に後述する第１移動部３３＿１を介して設けられる。２つの第１保持部３１は、搬送方向に沿って並んで配置される。各第１保持部３１は、第１基板Ｓ１の第１片側を保持する。具体的には、各第１保持部３１は、第１基板Ｓ１の第１片側の角部を保持する。

２つの第２保持部３２は、浮上ステージ２を構成する複数のステージ部材の間隙（第１間隙の一例）に設けられる。具体的には、２つの第２保持部３２は、第３ガイドレール１０３に後述する第１移動部３３＿２を介して設けられる。２つの第２保持部３２は、搬送方向に沿って並んで配置される。各第２保持部３２は、第１基板Ｓ１の第２片側と、第１基板Ｓ１の中心との間の位置を保持する。具体的には、各第２保持部３２は、第１基板Ｓ１の第２片側と第１基板Ｓ１の中心とで比べた場合に、第１基板Ｓ１の第２片側により近い位置を保持する。なお、第１基板Ｓ１の中心は、上述した搬送ステージ２０の中心線Ｌ上に位置するものとする。

２つの第２保持部３２のうち一方は、第１基板Ｓ１の第３片側を保持する。２つの第２保持部３２のうち他方は、第１基板Ｓ１の第４片側を保持する。

なお、実施形態では、第１搬送機構３が２つの第１保持部３１および２つの第２保持部３２を備える場合の例を示しているが、第１保持部３１および第２保持部３２の数は２つに限定されない。

第１移動部３３＿１は、第１ガイドレール１０１上に設けられ、第１ガイドレール１０１に沿って移動する。２つの第１保持部３１は、第１移動部３３＿１上に設けられる。第１移動部３３＿１は、２つの第１保持部３１を搬送方向に沿って移動させる。

第１移動部３３＿２は、第２ガイドレール１０２上に設けられ、第２ガイドレール１０２に沿って移動する。２つの第２保持部３２は、第１移動部３３＿２上に設けられる。第１移動部３３＿２は、２つの第２保持部３２を搬送方向に沿って移動させる。

このように、第１移動部３３＿１，３３＿２は、第１保持部３１および第２保持部３２を搬送方向に沿って移動させる第１移動部の一例に相当する。

第２搬送機構４は、浮上ステージ２によって浮上した第２基板Ｓ２を保持し、保持した第２基板Ｓ２を搬送方向に沿って搬送する。図３に示すように、第２搬送機構４は、複数（ここでは、２つ）の第３保持部４１と、複数（ここでは、２つ）の第４保持部４２と、２つの第２移動部４３＿１，４３＿２とを備える。

２つの第３保持部４１は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）における搬送ステージ２０の外方に設けられる。具体的には、２つの第３保持部４１は、第３ガイドレール１０３に後述する第２移動部４３＿１を介して設けられる。２つの第３保持部４１は、搬送方向に沿って並んで配置される。各第３保持部４１は、第２基板Ｓ２の第２片側を保持する。具体的には、各第３保持部４１は、第２基板Ｓ２の第２片側の角部を保持する。

２つの第４保持部４２は、浮上ステージ２を構成する複数のステージ部材の間隙（第２間隙の一例）に設けられる。具体的には、２つの第４保持部４２は、第４ガイドレール１０４に後述する第２移動部４３＿２を介して設けられる。２つの第４保持部４２は、搬送方向に沿って並んで配置される。各第４保持部４２は、第２基板Ｓ２の第１片側と、第２基板Ｓ２の中心との間の位置を保持する。具体的には、各第４保持部４２は、第２基板Ｓ２の第１片側と第２基板Ｓ２の中心とで比べた場合に、第２基板Ｓ２の第１片側により近い位置を保持する。なお、第２基板Ｓ２の中心は、上述した搬送ステージ２０の中心線Ｌ上に位置するものとする。

２つの第４保持部４２のうち一方は、第２基板Ｓ２の第３片側を保持する。２つの第４保持部４２のうち他方は、第２基板Ｓ２の第４片側を保持する。

なお、実施形態では、第２搬送機構４が２つの第３保持部４１および２つの第４保持部４２を備える場合の例を示しているが、第３保持部４１および第４保持部４２の数は２つに限定されない。

第２移動部４３＿１は、第３ガイドレール１０３上に設けられ、第３ガイドレール１０３に沿って移動する。２つの第３保持部４１は、第２移動部４３＿１上に設けられる。第２移動部４３＿１は、２つの第３保持部４１を搬送方向に沿って移動させる。

第２移動部４３＿２は、第４ガイドレール１０４上に設けられ、第４ガイドレール１０４に沿って移動する。２つの第４保持部４２は、第２移動部４３＿２上に設けられる。第２移動部４３＿２は、２つの第４保持部４２を搬送方向に沿って移動させる。

このように、第２移動部４３＿１，４３＿２は、第３保持部４１および第４保持部４２を搬送方向に沿って移動させる第２移動部の一例に相当する。

撮像部５は、浮上ステージ２の下方に配置され、基板Ｓを下方から撮像する。具体的には、撮像部５は、基板Ｓに設けられたアライメントマーク（図示せず）を撮像する。撮像部５には、例えばＣＣＤカメラが用いられる。なお、図１では、液滴吐出装置１が３つの撮像部５を備える例を示しているが、撮像部５の数は３つに限定されない。

塗布部６は、浮上ステージ２が有する搬送ステージ２０の上方に配置される。塗布部６は、搬送方向に沿って搬送される基板Ｓの上方から基板Ｓに対して機能液の液滴を吐出することによって、基板Ｓに機能液を塗布する。機能液は、たとえばインクである。

具体的に、塗布部６は、複数の吐出ヘッドを備える。複数の吐出ヘッドは、基板Ｓの搬送方向（Ｙ軸方向）および搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）にマトリスク状に配列されている。なお、複数の吐出ヘッドの数や配列は、図示の例に限定されない。

各吐出ヘッドは、複数のノズルを下面に有しており、これら複数のノズルから機能液の液滴を下方に向けて吐出する。

なお、塗布部６は、基板Ｓの搬送方向と直交する方向に延在する一対のレール６１，６１に沿って移動可能である。一対のレール６１，６１は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）に伸びるように設けられる。一対のレール６１，６１間には、図示しないメンテナンス部が設けられる。塗布部６は、メンテナンス部の上方となる位置と、基板Ｓに機能液を吐出する位置との間で移動可能である。

第１移載機構７は、搬入ステージ２１によって浮上した基板Ｓを保持する。第１移載機構７は、基板Ｓの搬送方向上流の端部（第３片側）を下方から吸着保持する。具体的に、第１移載機構７は、吸着パット（図示せず）を備えている。第１移載機構７は、基板Ｓにおける第３片側の下面を吸着パットに吸着させることにより、基板Ｓを保持する。第１移載機構７は、搬入ステージ２１が有する複数のステージ部材の間を挿通可能であり、保持した基板Ｓを搬入ステージ２１および搬送ステージ２０間で移動させる。

第２移載機構８は、搬出ステージ２２によって浮上した基板Ｓを保持する。第２移載機構８は、基板Ｓの搬送方向下流の端部（第４片側）を下方から吸着保持する。具体的に、第２移載機構８は、吸着パット（図示せず）を備えている。第２移載機構８は、基板Ｓにおける第４片側の下面を吸着パットに吸着させることにより、基板Ｓを保持する。第２移載機構８は、搬出ステージ２２が有する複数のステージ部材の間を挿通可能であり、保持した基板Ｓを搬送ステージ２０および搬出ステージ２２間で移動させる。

また、液滴吐出装置１は、制御装置１００を備える。制御装置１００は、たとえばコンピュータであり、制御部１１０と記憶部１２０とを備える。記憶部１２０には、液滴吐出装置１において実行される各種の処理を制御するプログラムが格納される。制御部１１０は、記憶部１２０に記憶されたプログラムを読み出して実行することによって液滴吐出装置１の動作を制御する。

なお、かかるプログラムは、コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体に記録されていたものであって、記憶媒体から制御装置１００の記憶部１２０にインストールされたものであってもよい。コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体としては、たとえばハードディスク（ＨＤ）、フレキシブルディスク（ＦＤ）、コンパクトディスク（ＣＤ）、マグネットオプティカルディスク（ＭＯ）、メモリカードなどがある。

＜保持部＞
次に、第１保持部３１の構成について図４および図５を参照して説明する。図４は、実施形態に係る第１保持部３１の模式的な平面図である。また、図５は、実施形態に係る第１保持部３１の模式的な側面図である。なお、図４および図５には、一例として第１保持部３１を示しているが、第２保持部３２、第３保持部４１および第４保持部４２の構成も第１保持部３１と同様である。このため、第２保持部３２、第３保持部４１および第４保持部４２の構成については、説明を省略する。

図４および図５に示すように、第１保持部３１は、ベース部５０と、調整部５１，５２と、回動部５３と、アーム部５４と、吸着部５５とを備える。

吸着部５５は、基板Ｓを吸着保持する。具体的には、吸着部５５は、複数の吸着パッド５５１を備える。複数の吸着パッド５５１は、水平方向に並んで設けられる。第１保持部３１および第３保持部４１における複数の吸着パッド５５１は搬送方向（Ｙ軸方向）に並んで配列される。これに対し、第２保持部３２および第４保持部４２における複数の吸着パッド５５１は、搬送方向に直交する方向（Ｘ軸方向）に並んで配列される。

このように、第１～第４保持部３１，３２，４１，４２が有する複数の吸着パッド５５１は、第１～第４保持部３１，３２，４１，４２が保持する基板Ｓの片側（辺）と同じ方向に沿って並べられる。かかる構成とすることで、基板Ｓ上面に形成される画素領域と重なる基板Ｓの下面領域を吸着パッド５５１が吸着することによる画素領域への影響を抑制することができる。

第１保持部３１および第２保持部３２が備える複数の吸着部５５は、第１基板Ｓ１を吸着する第１吸着部の一例である。第３保持部４１および第４保持部４２が備える複数の吸着部５５は、第２基板Ｓ２を吸着する第２吸着部の一例である。

なお、ここでは、吸着部５５が３つの吸着パッド５５１を備える場合の例を示しているが、吸着パッド５５１の数は、３つに限定されない。吸着部５５は、複数の吸着パッド５５１によって、基板Ｓの下面を吸着し、基板Ｓを保持する。

ベース部５０は、第１移動部３３＿１上に固定される。調整部５１は、ベース部５０上に設けられ、ベース部５０上を搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）に沿って移動可能である。調整部５２は、調整部５１上に設けられ、調整部５１上を搬送方向（Ｙ軸方向）に沿って移動可能である。回動部５３は、調整部５２上に設けられ、鉛直軸（Ｚ軸）周りに回転可能である。

このように、第１保持部３１が備えるベース部５０、調整部５１，５２、回動部５３およびアーム部５４は、第１移動部３３＿１に対する吸着部５５（第１吸着部の一例）の相対位置を調整する第１調整部の一例である。同様に、第２保持部３２が備えるベース部５０、調整部５１，５２、回動部５３およびアーム部５４は、第１移動部３３＿２に対する吸着部５５（第１吸着部の一例）の相対位置を調整する第１調整部の一例である。

また、第３保持部４１が備えるベース部５０、調整部５１，５２、回動部５３およびアーム部５４は、第２移動部４３＿１に対する吸着部５５（第２吸着部の一例）の相対位置を調整する第２調整部の一例である。同様に、第４保持部４２が備えるベース部５０、調整部５１，５２、回動部５３およびアーム部５４は、第２移動部４３＿２に対する吸着部５５（第２吸着部の一例）の相対位置を調整する第２調整部の一例である。

回動部５３は、昇降機構を有している。回動部５３は、かかる昇降機構により鉛直方向（Ｚ軸方向）に沿って吸着部５５を昇降させる。具体的には、回動部５３は、第１高さ位置と、第１高さ位置よりも低い第２高さ位置との間で吸着部５５を昇降させる。第１高さ位置は、基板Ｓに対して塗布部６から液滴が吐出される際の高さ位置（処理位置）である。第２高さ位置は、基板Ｓを第２移載機構８に渡した後、搬入位置に戻る際の高さ位置（退避位置）である。

このように、第１保持部３１および第２保持部３２が備える回動部５３は、第１高さ位置と第２高さ位置との間で第１保持部３１および第２保持部３２を昇降させる第１昇降機構の一例である。同様に、第３保持部４１および第４保持部４２が備える回動部５３は、第１高さ位置と第２高さ位置との間で第３保持部４１および第４保持部４２を昇降させる第２昇降機構の一例である。

ここでは、各第１保持部３１および第２保持部３２に昇降機構が設けられる場合の例を示したが、第１搬送機構３は、たとえば、２つの第１保持部３１を一体的に昇降させる昇降機構を備えていてもよい。また、第１搬送機構３は、２つの第２保持部３２を一体的に昇降させる昇降機構を備えていてもよい。同様に、各第３保持部４１および第４保持部４２に昇降機構が設けられる場合の例を示したが、第２搬送機構４は、たとえば、２つの第３保持部４１を一体的に昇降させる昇降機構を備えていてもよい。また、第２搬送機構４は、２つの第４保持部４２を一体的に昇降させる昇降機構を備えていてもよい。

アーム部５４は、水平方向に延在する部材であり、基端部において回動部５３に支持され、先端部において吸着部５５を支持する。

このように、第１保持部３１は、調整部５１を左右方向（Ｘ軸方向）に沿って移動させることにより、吸着部５５を搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）に移動させることができる。すなわち、調整部５１は、第１移動部３３＿１に対する吸着部５５の位置を搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）に沿って調整することができる。

また、第１保持部３１は、調整部５２を前後方向（Ｙ軸方向）に沿って移動させることにより、吸着部５５を前後方向（Ｙ軸方向）に移動させることができる。すなわち、調整部５２は、第１移動部３３＿１に対する吸着部５５の位置を前後方向（Ｙ軸方向）に沿って調整することができる。

また、第１保持部３１は、回動部５３が鉛直軸（Ｚ軸）まわりに回動することにより、回動部５３にアーム部５４を介して支持された吸着部５５を鉛直軸（Ｚ軸）まわりに回動させることができる。すなわち、回動部５３は、第１移動部３３＿１に対する吸着部５５の位置を鉛直軸（Ｚ軸方向）を中心とする周方向に調整することができる。

また、第１保持部３１は、回動部５３を昇降機構により鉛直方向（Ｚ軸方向）に沿って移動させることにより、吸着部５５を鉛直方向（Ｚ軸方向）に移動させることができる。すなわち、回動部５３は、第１移動部３３＿１に対する吸着部５５の位置を鉛直方向（Ｚ軸方向）に沿って調整することができる。

なお、調整部５１，５２は、それぞれモータ等の駆動部を有しており、各々独立して移動することが可能である。一方、回動部５３は、たとえば軸受であって、駆動部を有しておらず、調整部５１，５２の動きに追従するように吸着部５５を回動させる。なお、これに限らず、回動部５３に駆動部が設けられてもよい。

次に、液滴吐出装置１の動作の一例について図６を参照して具体的に説明する。図６は、実施形態に係る液滴吐出装置１が実行する処理の手順を示すフローチャートである。また、図７～図１２は、実施形態に係る液滴吐出装置１の動作例を示す模式図である。なお、図６に示す各処理手順は、制御装置１００による制御に従って実行される。また、以下の説明では、第１搬送機構３が１回目に搬送する基板Ｓを第１基板Ｓ１、２回目に搬送する基板Ｓを第３基板Ｓ３と呼ぶ場合がある。

また、図６には、搬送ステージ２０において基板Ｓを搬送方向上流側（搬入ステージ２１側）から下流側（搬出ステージ２２側）に向かって搬送する場合の例を示している。これに限らず、液滴吐出装置１は、搬送ステージ２０において基板Ｓを往復移動させてもよい。

図６に示す処理は、第１基板Ｓ１が、たとえばロボット（図示せず）で液滴吐出装置１の搬入ステージ２１に搬入されることによって開始される。なお、第１基板Ｓ１は、ロボットに限らず、たとえばコンベア等によって搬入ステージ２１に搬入されてもよい。

まず、液滴吐出装置１では、第１移載処理が行われる（ステップＳ１０１）。具体的には、制御部１１０は、第１移載機構７の吸着パッド（図示せず）に第１基板Ｓ１の下面を吸着させる。このとき、第１基板Ｓ１は、浮上ステージ２によって浮上した状態となっている。その後、制御部１１０は、第１移載機構７を搬送方向下流（Ｙ軸正方向）に移動させる。これにより、第１基板Ｓ１は搬送ステージ２０に進入する。

次に、液滴吐出装置１では、第１保持処理が行われる（ステップＳ１０２）。制御部１１０は、第１移載機構７による第１基板Ｓ１の吸着を解除する。つづいて、制御部１１０は、第１保持部３１および第２保持部３２を、回動部５３の昇降機構により、第１高さ位置に配置させる。そして、制御部１１０は、第１保持部３１および第２保持部３２の吸着パッド５５１に第１基板Ｓ１の下面を吸着させる。これにより、第１基板Ｓ１は、第１保持部３１および第２保持部３２に保持された状態となる。その後、制御部１１０は、第１移載機構７を搬送方向上流（Ｙ軸負方向）に移動させる（図７、図８参照）。また、第２基板Ｓ２が、ロボット等（図示せず）で搬入ステージ２１に搬入される（図７参照）。

次に、液滴吐出装置１では、第１調整処理が行われる（ステップＳ１０３）。具体的には、制御部１１０は、第１基板Ｓ１のアライメントマーク（図示せず）を撮像した画像に基づいて、調整部５１，５２を制御して第１基板Ｓ１の水平方向位置（Ｘ軸方向位置、Ｙ軸方向位置）および回転方向位置（向きの一例）を調整する。

例えば、制御部１１０は、各撮像部５によって撮像されたアライメントマークの位置および向きに基づいて搬送ステージ２０に対する第１基板Ｓ１の位置および向きを検出する。つづいて、制御部１１０は、検出した第１基板Ｓ１の位置および向きと、第１搬送機構３が有する４つの吸着部５５の位置とに基づき、第１基板Ｓ１の位置および向きを予め設定された所望の位置および向きと一致させた場合における各吸着部５５の位置を算出する。そして、制御部１１０は、各吸着部５５の位置が上記算出した位置と一致するように、２つの第１保持部３１および２つの第２保持部３２の各調整部５１，５２を制御して各吸着部５５を移動させる。これにより、搬送ステージ２０に対する第１基板Ｓ１の位置および向きを所望の位置および向きに調整することができる。

次に、液滴吐出装置１では、第１移動処理が行われる（ステップＳ１０４）。具体的には、制御部１１０は、第１搬送機構３を搬送方向下流（Ｙ軸正方向）に移動させる。これにより、第１基板Ｓ１は、搬送方向上流（Ｙ軸負方向）から搬送方向下流（Ｙ軸正方向）に移動する（図７～図９参照）。また、制御部１１０は、塗布部６を制御して、搬送される第１基板Ｓ１に対して機能液の塗布を行う。

次に、液滴吐出装置１では、第２移載処理が行われる（ステップＳ１０５）。制御部１１０は、第１移載機構７の吸着パッド（図示せず）に第２基板Ｓ２の下面を吸着させる。その後、制御部１１０は、第１移載機構７を搬送方向下流（Ｙ軸正方向）に移動させる。これにより、第２基板Ｓ２は搬送ステージ２０に進入する（図８～図１０参照）。

次に、液滴吐出装置１では、第３移載処理が行われる（ステップＳ１０６）。制御部１１０は、第１搬送機構３による第１基板Ｓ１の吸着を解除する。つづいて、制御部１１０は、第２移載機構８の吸着パッド（図示せず）に第１基板Ｓ１の下面を吸着させる。その後、制御部１１０は、第２移載機構８を搬送方向下流（Ｙ軸正方向）に移動させる。これにより、第１基板Ｓ１は搬出ステージ２２に進入する（図９～図１１参照）。

次に、液滴吐出装置１では、第２移動処理が行われる（ステップＳ１０７）。具体的には、制御部１１０は、第１保持部３１および第２保持部３２を、回動部５３の昇降機構により第２高さ位置に配置させる。その後、制御部１１０は、第１搬送機構３を搬送方向上流（Ｙ軸負方向）に移動させる。これにより、第１保持部３１および第２保持部３２は、第２搬送機構４により搬送方向上流（Ｙ軸負方向）から搬送方向下流（Ｙ軸正方向）に移動する第２基板Ｓ２の下方を移動することになる。

このように、液滴吐出装置１は、第２搬送機構４を用いて第２基板Ｓ２を搬送する処理と並行して、第１保持部３１および第２保持部３２を搬送開始位置（次の基板Ｓの受け取り位置）に戻すことができる。このため、液滴吐出装置１によれば、複数の基板Ｓを効率良く搬送することができる。

次に、液滴吐出装置１では、第２保持処理が行われる（ステップＳ１０８）。制御部１１０は、第１移載機構７による第２基板Ｓ２の吸着を解除する。つづいて、制御部１１０は、第１保持部３１および第２保持部３２を、回動部５３の昇降機構により、第１高さ位置に配置させる。そして、制御部１１０は、第３保持部４１および第４保持部４２の吸着パッド５５１に第２基板Ｓ２の下面を吸着させる。これにより、第２基板Ｓ２は、第３保持部４１および第４保持部４２に保持された状態となる。その後、制御部１１０は、第１移載機構７を搬送方向上流（Ｙ軸負方向）に移動させる（図１０、図１１参照）。また、第３基板Ｓ３が、ロボット等（図示せず）で搬入ステージ２１に搬入される（図１０参照）。

次に、液滴吐出装置１では、第２調整処理が行われる（ステップＳ１０９）。具体的には、制御部１１０は、第２基板Ｓ２のアライメントマーク（図示せず）を撮像した画像に基づいて、調整部５１，５２を制御して第２基板Ｓ２の水平方向位置（Ｘ軸方向位置、Ｙ軸方向位置）および回転方向位置（向きの一例）を調整する。

例えば、制御部１１０は、各撮像部５によって撮像されたアライメントマークの位置および向きに基づいて搬送ステージ２０に対する第２基板Ｓ２の位置および向きを検出する。つづいて、制御部１１０は、検出した第２基板Ｓ２の位置および向きと、第２搬送機構４が有する４つの吸着部５５の位置とに基づき、第２基板Ｓ２の位置および向きを予め設定された所望の位置および向きと一致させた場合における各吸着部５５の位置を算出する。そして、制御部１１０は、各吸着部５５の位置が上記算出した位置と一致するように、２つの第３保持部４１および２つの第４保持部４２の各調整部５１，５２を制御して各吸着部５５を移動させる。これにより、搬送ステージ２０に対する第２基板Ｓ２の位置および向きを所望の位置および向きに調整することができる。

次に、液滴吐出装置１では、第３移動処理が行われる（ステップＳ１１０）。具体的には、制御部１１０は、第２搬送機構４を搬送方向下流（Ｙ軸正方向）に移動させる。これにより、第２基板Ｓ２は、搬送方向上流（Ｙ軸負方向）から搬送方向下流（Ｙ軸正方向）に移動する（図１０、図１１参照）。また、制御部１１０は、塗布部６を制御して、搬送される第２基板Ｓ２に対して機能液の塗布を行う。

また、制御部１１０は、第２移載機構８による第１基板Ｓ１の吸着を解除する。その後、第１基板Ｓ１は、ロボット等（図示せず）により搬出ステージ２２から搬出される。第１基板Ｓ１が搬出された後、制御部１１０は、第２移載機構８を搬送方向上流（Ｙ軸負方向）に移動させる。

また、制御部１１０は、第１移載機構７の吸着パッド（図示せず）に第３基板Ｓ３の下面を吸着させる。そして、制御部１１０は、第１移載機構７を搬送方向下流（Ｙ軸正方向）に移動させる。これにより、第３基板Ｓ３は搬送ステージ２０に進入する（図１１～図１２参照）。

次に、液滴吐出装置１では、第４移載処理が行われる（ステップＳ１１１）。制御部１１０は、第２搬送機構４による第２基板Ｓ２の吸着を解除する。つづいて、制御部１１０は、第２移載機構８の吸着パッド（図示せず）に第２基板Ｓ２の下面を吸着させる。その後、制御部１１０は、第２移載機構８を搬送方向下流（Ｙ軸正方向）に移動させる。これにより、第２基板Ｓ２は搬出ステージ２２に進入する。

次に、液滴吐出装置１では、第４移動処理が行われる（ステップＳ１１２）。具体的には、制御部１１０は、第３保持部４１および第４保持部４２を、回動部５３の昇降機構により第２高さ位置に配置させる。その後、第２搬送機構４を搬送方向上流（Ｙ軸負方向）に移動させる。これにより、第３保持部４１および第４保持部４２は、第１搬送機構３により搬送方向上流（Ｙ軸負方向）から搬送方向下流（Ｙ軸正方向）に移動する第３基板Ｓ３の下方を移動することになる（図１２参照）。

上述してきたように、実施形態に係る基板搬送装置（一例として、液滴吐出装置１）は、浮上ステージ（一例として、浮上ステージ２）と、第１搬送機構（一例として、第１搬送機構３）と、第２搬送機構（一例として、第２搬送機構４）とを備える。浮上ステージは、第１方向（一例として、Ｙ軸方向）に沿って延在し、基板（一例として、基板Ｓ）を浮上させる。第１搬送機構は、浮上ステージによって浮上した第１基板（一例として、第１基板Ｓ１）を保持し、保持した第１基板を第１方向に沿って搬送する。第２搬送機構は、浮上ステージによって浮上した第２基板（一例として、第２基板Ｓ２）を保持し、保持した第２基板を第１方向に沿って搬送する。また、第１搬送機構は、第１保持部（一例として、第１保持部３１）と、第２保持部（一例として、第２保持部３２）とを備える。第１方向と直交する第２方向における第１基板および第２基板の両側のうち一方を第１片側とし他方を第２片側とした場合に、第１保持部は、第１基板における第１片側を保持する。第２保持部は、第１基板における第２片側と第１基板の中心との間の位置を保持する。また、第２搬送機構は、第３保持部（一例として、第３保持部４１）と、第４保持部（一例として、第４保持部４２）とを備える。第３保持部は、第２基板における第２片側を保持する。第４保持部は、第２基板における第１片側と第２基板の中心との間の位置を保持する。

特許文献２における塗布膜形成装置は、保持部が、基板を基板搬送方向と直交する方向の片側のみで吸着保持していた。一方、実施形態に係る液滴吐出装置１では、第１保持部が、基板の第１片側を保持し、第２保持部が、基板を第２片側と、基板の中央との間の位置を吸着保持する。すなわち、基板を両側から吸着保持するため、基板を傾きなく搬送することができる。また、上記の場合、第２保持部が、基板の第２片側により近い位置を保持することで、より基板を傾きなく搬送することができる。

また、実施形態に係る液滴吐出装置１では、２つの搬送機構を備え、第２搬送機構を用いて第２基板を搬送する際に、第１保持部および第２保持部を昇降させて、搬送開始位置に戻す。また、実施形態に係る液滴吐出装置１では、第１搬送機構を用いて第１基板を搬送する際に、第３保持部および第４保持部を昇降させて、搬送開始位置に戻す。このため、２つの搬送機構が互いに干渉することなく、複数の基板を効率良く搬送することができる。

このように、実施形態に係る液滴吐出装置１によれば、複数の搬送機構を備える基板搬送装置において、適切な姿勢で基板を搬送することができる。

上述してきた実施形態では、第１基板Ｓ１の第１片側を保持する第１保持部３１と、第１基板Ｓ１の第２片側と、第１基板Ｓ１の中心との間の位置を保持する第２保持部３２とで第１搬送機構３が構成されていたが、第１搬送機構３の構成はかかる構成に限られない。例えば、第１基板の第１片側を保持する第１保持部と、第１基板の第２片側を保持する第２保持部とで第１搬送機構が構成されていてもよい。その場合、第２搬送機構は、第２基板の第１片側と、第２基板の中心との間を保持する第３保持部と、第２基板の第２片側と、第２基板の中心との間を保持する第４保持部とで構成される。

また、上述してきた実施形態では、第１保持部３１および第３保持部４１における複数の吸着パッド５５１は搬送方向（Ｙ軸方向）に並んで配列されるが、配列方向はこれに限らない。例えば、第１保持部３１および第３保持部４１における複数の吸着パッド５５１は、搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）に並んで配列されてもよい。

今回開示された実施形態は全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。実に、上記した実施形態は多様な形態で具現され得る。また、上記の実施形態は、添付の請求の範囲およびその趣旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。

１ 液滴吐出装置
２ 浮上ステージ
３ 第１搬送機構
４ 第２搬送機構
５ 撮像部
６ 塗布部
７ 第１移載機構
８ 第２移載機構
２０ 搬送ステージ
２１ 搬入ステージ
２２ 搬出ステージ
３１ 第１保持部
３２ 第２保持部
３３＿１，３３＿２ 第１移動部
４１ 第３保持部
４２ 第４保持部
４３＿１，４３＿２ 第２移動部
６１ レール
１００ 制御装置
１０１ 第１ガイドレール
１０２ 第２ガイドレール
１０３ 第３ガイドレール
１０４ 第４ガイドレール
１１０ 制御部
１２０ 記憶部

Claims (11)

1. 第１方向に沿って延在し、基板を浮上させる浮上ステージと、
   前記浮上ステージによって浮上した第１基板を保持し、保持した前記第１基板を前記第１方向に沿って搬送する第１搬送機構と、
   前記浮上ステージによって浮上した第２基板を保持し、保持した前記第２基板を前記第１方向に沿って搬送する第２搬送機構と
   を備え、
   前記第１方向と直交する第２方向における前記第１基板および前記第２基板の両側のうち一方を第１片側とし他方を第２片側とした場合に、
   前記第１搬送機構は、
   前記第１基板における前記第１片側を保持する第１保持部と、
   前記第１基板における前記第２片側と前記第１基板の中心との間の位置を保持する第２保持部と
   を備え、
   前記第２搬送機構は、
   前記第２基板における前記第２片側を保持する第３保持部と、
   前記第２基板における前記第１片側と前記第２基板の中心との間の位置を保持する第４保持部と
   を備える、基板搬送装置。
2. 前記浮上ステージは、前記第１方向に沿って形成されたスリット状の第１間隙および第２間隙を備え、
   前記第２保持部は、前記第１間隙に配置され、
   前記第４保持部は、前記第２間隙に配置される、請求項１に記載の基板搬送装置。
3. 前記第１保持部および前記第３保持部は、
   前記第２方向における前記浮上ステージの外方に配置される、請求項１に記載の基板搬送装置。
4. 前記浮上ステージは、前記第１方向における一端側に前記第１基板および前記第２基板の搬入部を有し、他端側に前記第１基板および前記第２基板の搬出部を有する、請求項１に記載の基板搬送装置。
5. 前記第１搬送機構および前記第２搬送機構を制御する制御部を備え、
   前記第１搬送機構は、第１高さ位置と、前記第１高さ位置よりも低い第２高さ位置との間で前記第１保持部および前記第２保持部を昇降させる第１昇降機構を備え、
   前記第２搬送機構は、前記第１高さ位置と、前記第２高さ位置との間で前記第３保持部および前記第４保持部を昇降させる第２昇降機構を備え、
   前記制御部は、
   前記第２搬送機構を制御して、前記第３保持部および前記第４保持部を前記第１高さ位置に配置させた状態で前記第２基板を搬送している間、前記第１搬送機構を制御して、前記第１保持部および前記第２保持部を前記第２高さ位置に配置させた状態で前記搬出部から前記搬入部へ移動させ、
   前記第１搬送機構を制御して、前記第１保持部および前記第２保持部を前記第１高さ位置に配置させた状態で前記第１基板を搬送している間、前記第２搬送機構を制御して、前記第３保持部および前記第４保持部を前記第２高さ位置に配置させた状態で前記搬出部から前記搬入部へ移動させる、請求項４に記載の基板搬送装置。
6. 前記第１搬送機構は、前記第１保持部および前記第２保持部を前記第１方向に沿って移動させる第１移動部を備え、
   前記第２搬送機構は、前記第３保持部および前記第４保持部を前記第１方向に沿って移動させる第２移動部を備え、
   前記第１保持部および前記第２保持部の各々は、
   前記第１基板を吸着する第１吸着部と、
   前記第１移動部に対する前記第１吸着部の相対位置を調整する第１調整部と
   を備え、
   前記第３保持部および前記第４保持部の各々は、
   前記第２基板を吸着する第２吸着部と、
   前記第２移動部に対する前記第２吸着部の相対位置を調整する第２調整部と
   を備える、請求項１に記載の基板搬送装置。
7. 前記第１基板または前記第２基板を撮像する撮像部と、
   前記撮像部によって撮像された前記第１基板の画像に基づいて、前記第１調整部を制御して前記第１基板の位置および向きを調整し、前記撮像部によって撮像された前記第２基板の画像に基づいて、前記第２調整部を制御して前記第２基板の位置および向きを調整する制御部と
   を備え、
   前記制御部は、
   前記第１基板の画像に基づいて前記第１基板の位置および向きを検出し、検出した前記第１基板の位置および向きと、前記第１保持部および前記第２保持部が有する各前記第１吸着部の位置とに基づき、前記第１調整部を制御して前記第１基板の位置および向きを調整し、前記第２基板の画像に基づいて前記第２基板の位置および向きを検出し、検出した前記第２基板の位置および向きと、前記第３保持部および前記第４保持部が有する前記第２吸着部の位置とに基づき、前記第１調整部を制御して前記第２基板の位置および向きを調整する、請求項６に記載の基板搬送装置。
8. 前記第１保持部および前記第２保持部の各々は、前記第１基板を吸着する複数の第１吸着部を備え、
   前記第３保持部および前記第４保持部の各々は、前記第２基板を吸着する複数の第２吸着部を備え、
   前記第１保持部が備える前記複数の第１吸着部および前記第３保持部が備える前記複数の第２吸着部は、前記第１方向に沿って配列され、
   前記第２保持部が備える前記複数の第１吸着部および前記第４保持部が備える前記複数の第２吸着部は、前記第２方向に沿って配列される、請求項１に記載の基板搬送装置。
9. 前記浮上ステージの上方に配置され、前記第１搬送機構によって搬送される前記第１基板または前記第２搬送機構によって搬送される前記第２基板に対して塗布液を吐出する塗布部
   を備える、請求項１に記載の基板搬送装置。
10. 第１方向に沿って延在し、基板を浮上させる浮上ステージを用いて第１基板を浮上させる第１浮上工程と、
    前記浮上ステージを用いて第２基板を浮上させる第２浮上工程と、
    前記第１浮上工程後、第１搬送機構を用いて前記第１基板を保持し、保持した前記第１基板を前記第１方向に沿って搬送する第１搬送工程と、
    前記第２浮上工程後、第２搬送機構を用いて前記第２基板を保持し、保持した前記第２基板を前記第１方向に沿って搬送する第２搬送工程と
    を含み、
    前記第１方向と直交する第２方向における前記第１基板および前記第２基板の両側のうち一方を第１片側とし他方を第２片側とした場合に、
    前記第１搬送工程において前記第１搬送機構は、
    前記第１基板における前記第１片側を保持する第１保持部と、前記第１基板における前記第２片側と前記第１基板の中心との間の位置を保持する第２保持部とを用いて前記第１基板を保持し、
    前記第２搬送工程において前記第２搬送機構は、
    前記第２基板における前記第２片側を保持する第３保持部と、前記第２基板における前記第１片側と前記第２基板の中心との間の位置を保持する第４保持部とを用いて前記第２基板を保持する、基板搬送方法。
11. 第１方向に沿って延在し、基板を浮上させる浮上ステージを用いて第１基板を浮上させる第１浮上手順と、
    前記浮上ステージを用いて第２基板を浮上させる第２浮上手順と、
    前記第１浮上手順後、第１搬送機構を用いて前記第１基板を保持し、保持した前記第１基板を前記第１方向に沿って搬送する第１搬送手順と、
    前記第２浮上手順後、第２搬送機構を用いて前記第２基板を保持し、保持した前記第２基板を前記第１方向に沿って搬送する第２搬送手順と
    をコンピュータに実現させるプログラムが非一時的に記録された、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体であって、
    前記第１方向と直交する第２方向における前記第１基板および前記第２基板の両側のうち一方を第１片側とし他方を第２片側とした場合に、
    前記第１搬送手順において前記第１搬送機構は、
    前記第１基板における前記第１片側を保持する第１保持部と、前記第１基板における前記第２片側と前記第１基板の中心との間の位置を保持する第２保持部とを用いて前記第１基板を保持し、
    前記第２搬送手順において前記第２搬送機構は、
    前記第２基板における前記第２片側を保持する第３保持部と、前記第２基板における前記第１片側と前記第２基板の中心との間の位置を保持する第４保持部とを用いて前記第２基板を保持する、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体。

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