WO2023167080A1 - 接着剤組成物、ならびにこれを含有する接着シート、積層体およびプリント配線板 - Google Patents

接着剤組成物、ならびにこれを含有する接着シート、積層体およびプリント配線板 Download PDF

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WO2023167080A1
WO2023167080A1 PCT/JP2023/006543 JP2023006543W WO2023167080A1 WO 2023167080 A1 WO2023167080 A1 WO 2023167080A1 JP 2023006543 W JP2023006543 W JP 2023006543W WO 2023167080 A1 WO2023167080 A1 WO 2023167080A1
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WO
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compound
adhesive
adhesive composition
resin
polyimide resin
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PCT/JP2023/006543
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English (en)
French (fr)
Inventor
晃一 坂本
哲生 川楠
Original Assignee
東洋紡株式会社
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J179/00Adhesives based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen, with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C09J161/00 - C09J177/00
    • C09J179/04Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C09J179/08Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/30Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
    • C09J7/35Heat-activated

Definitions

  • the present invention relates to adhesive compositions. More particularly, it relates to an adhesive composition used for bonding a resin base material and a resin base material or a metal base material. In particular, it relates to an adhesive composition for flexible printed wiring boards (hereinafter abbreviated as FPC), and adhesive sheets, laminates and printed wiring boards containing the same.
  • FPC flexible printed wiring boards
  • Polyimide is widely used as a raw material for resin compositions used in coating agents, inks, adhesives, etc., and is generally obtained by reacting an acid anhydride with a diamine or diisocyanate.
  • the heat resistance and electrical properties can be freely controlled by selecting the diamine and copolymerizing other components that react with the acid anhydride.
  • Polyimide has excellent adhesion and heat resistance to metals including copper, and has been used in FPCs in combination with epoxy resin. (For example, Patent Document 1).
  • FPC has excellent flexibility, so it can be used for multi-functionality and miniaturization of personal computers (PCs) and smartphones.
  • PCs personal computers
  • electronic devices have become smaller, lighter, denser, and higher in output, and the demand for the performance of wiring boards (electronic circuit boards) has become more and more sophisticated.
  • high-frequency signals are being used to increase the transmission speed in FPC.
  • FPCs are increasingly required to have low dielectric properties (low dielectric constant, low dielectric loss tangent) in a high frequency region. In order to achieve such low dielectric properties, measures have been taken to reduce the dielectric loss of FPC substrates and adhesives.
  • the polyimide described in Patent Document 1 has a high relative permittivity and a high dielectric loss tangent, and does not have the low dielectric characteristics described above, making it unsuitable for FPC in a high frequency region.
  • the adhesive described in Patent Document 2 contains a general epoxy resin such as glycidylamine type epoxy, it generates a large number of hydroxyl groups with high polarity during the curing reaction, so that it also has excellent dielectric properties. Hard to say.
  • an object of the present invention is to provide an adhesive composition having excellent heat resistance, adhesive strength, low dielectric constant and dielectric loss tangent, and excellent dielectric properties, and an adhesive sheet, a laminate and a printed wiring board containing the same. It is to be.
  • the present invention consists of the following configurations.
  • the compound (C) is a compound having an aromatic ring structure or an alicyclic structure as a structural unit.
  • the compound (C) is a polyphenylene ether or a phenol resin having a terminal unsaturated hydrocarbon group.
  • the adhesive composition of the present invention is excellent in dielectric properties, adhesive strength, and solder heat resistance. Therefore, it is suitable for FPC adhesives, adhesive sheets, laminates and printed wiring boards in the high frequency range.
  • the adhesive composition of the present invention is an adhesive composition comprising a polyimide resin (A) and a compound (B) having an epoxy group and a terminal unsaturated hydrocarbon group. Since the compound (B) has an epoxy group and a terminal unsaturated hydrocarbon group, not only the curing reaction between the polyimide resin (A) and the epoxy group of the compound (B), but also the curing reaction by the terminal unsaturated hydrocarbon group can be used, it is possible to cure while suppressing the generation of hydroxyl groups that deteriorate the dielectric properties, and it is possible to achieve both excellent solder heat resistance and dielectric properties.
  • the polyimide resin (A) in the present invention is a polymer having an imide bond in the main chain, and is produced by a method (isocyanate method) from a carboxylic anhydride component and an isocyanate component, or by reacting a polycarboxylic acid component and an amine component to form an amic It is produced by a method such as a method of synthesizing an acid followed by ring closure (direct method), or a method of reacting a compound having a carboxylic anhydride and an acid chloride with a diamine.
  • the direct method is advantageous in view of the large number of choices of monomer components.
  • the polyimide resin (A) in the present invention can also contain bond species generated by reactions other than imidization, such as amide bonds, ester bonds, and urethane bonds. By including these binding species, flexibility can be imparted to the resin, and a flexible cured coating film can be formed.
  • bond species generated by reactions other than imidization such as amide bonds, ester bonds, and urethane bonds.
  • flexibility can be imparted to the resin, and a flexible cured coating film can be formed.
  • imide bonds are advantageous in terms of low dielectric properties due to partial negation of polarity.
  • the total amount of imide bonds, amide bonds, ester bonds and urethane bonds is 100 mol %
  • the amount of imide bonds is 50 mol. % or more, more preferably 70 mol % or more, even more preferably 80 mol % or more, and may be 100 mol %.
  • the carboxylic anhydride component constituting the polyimide resin (A) in the present invention is not particularly limited. 3,3′,4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic dianhydride, 3,3′,4,4′-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 4,4′-oxydiphthalic dianhydride, 1,1, 1,3,3,3-hexafluoro-2,2-bis(2,3- or 3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis(2,3- or 3,4- tetrabasic acid dianhydrides having an aromatic ring such as 2,2-bis[4-(2,3- or 3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]propan
  • trimellitic anhydride ethylene glycol bis-anhydro trimellitate, propylene glycol bis-anhydro trimellitate, alkylene glycol bis-anhydro trimellitate such as 1,4-butanediol bis-anhydro trimellitate, etc.
  • Trimellitic anhydride derivatives may also be used. These may be used alone, or may be used in combination. From the viewpoint of dielectric properties, tetrabasic dianhydrides having aromatic rings and alicyclic tetrabasic dianhydrides are preferred, and 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride is more preferred. 2,2-bis[4-(2,3- or 3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]propane dianhydride (BPADA).
  • BPADA 2,2-bis[4-(2,3- or 3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]propane dianhydride
  • the isocyanate component constituting the polyimide resin (A) in the present invention is not particularly limited, and examples of the diisocyanate having an aromatic ring include tolylene diisocyanate (TDI) and 3,3'-dimethyldiphenylmethane-4,4'-diisocyanate.
  • diphenylmethane-4,4'-diisocyanate MDI
  • 3,3'-dimethylbiphenyl-4,4'-diisocyanate ToDI are preferred from the viewpoint of polymerizability. These may be used singly or in combination.
  • diisocyanate in addition to those having an aromatic ring already mentioned, aliphatic or alicyclic diisocyanates can also be used, for example, diisocyanates obtained by hydrogenating any of the components mentioned in the preceding section. Also included are isophorone diisocyanate, 1,4-cyclohexane diisocyanate, 1,3-cyclohexane diisocyanate, ethylene diisocyanate, propylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate and the like.
  • the amine component constituting the polyimide resin (A) in the present invention is not particularly limited. , 2,5-dimethyl-1,4-phenylenediamine, 2,3,5,6-tetramethyl-1,4-phenylenediamine, and the like. Among them, dimer diamine is preferable from the viewpoint of low dielectric properties.
  • the polyimide resin (A) in the present invention may contain components other than the above carboxylic anhydride component, isocyanate component and amine component.
  • examples include aromatic dicarboxylic acid components, aliphatic dicarboxylic acid components, diol components, and the like.
  • the aromatic dicarboxylic acid component is not particularly limited, but includes terephthalic acid, isophthalic acid, orthophthalic acid, 4,4'-dicarboxybiphenyl, 5-sodiumsulfoisophthalic acid, naphthalenedicarboxylic acid, and esters thereof.
  • the aliphatic dicarboxylic acid is not particularly limited, but dimer acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, tetrahydrophthalic acid, methyltetrahydrophthalic acid, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic acid Acid anhydrides, hydrogenated naphthalenedicarboxylic acids, and the like can be used.
  • dimer acid which can exhibit excellent dielectric properties.
  • the diol component is not particularly limited, but includes decanediol, dimer diol, both hydroxyl-terminated polybutadiene, both hydroxyl-terminated hydrogenated polybutadiene, both hydroxyl-terminated polyisoprene, and both hydroxyl-terminated polyolefins.
  • polybutadiene with hydroxyl groups at both ends is preferred because of its excellent dielectric properties.
  • the number average molecular weight (Mn) of the polyimide resin (A) in the present invention is preferably in the range of 10,000 to 50,000. It is more preferably in the range of 15,000 to 45,000, still more preferably in the range of 20,000 to 40,000. By making it more than the said lower limit, cohesive force becomes favorable and can express the outstanding adhesiveness. Further, when the content is equal to or less than the above upper limit, excellent fluidity and good operability can be obtained.
  • the polyimide resin (A) in the present invention preferably has a carboxy group, and the lower limit of the acid value of the polyimide resin (A) is 10 from the viewpoint of heat resistance and adhesion to resin substrates and metal substrates. It is preferably 100 equivalents/10 6 g or more, more preferably 100 equivalents/10 6 g or more, and still more preferably 150 equivalents/10 6 g or more. When it is at least the above value, the compatibility with the compound (B) is improved, the adhesive strength is improved, and the crosslink density is increased, so that the heat resistance can be improved.
  • the upper limit is preferably 1000 equivalents/10 6 g or less, more preferably 700 equivalents/10 6 g or less, and even more preferably 500 equivalents/10 6 g or less. When it is the above value or less, adhesiveness and low dielectric properties become better.
  • the glass transition temperature of the polyimide resin (A) in the present invention is preferably -20°C or higher. It is more preferably 0° C. or higher, still more preferably 20° C. or higher. Soldering heat resistance can be improved because the glass transition temperature is equal to or higher than the lower limit. Although the upper limit of the glass transition temperature is not particularly limited, it is practically 300° C. or less.
  • the polyimide resin (A) in the present invention preferably has a dielectric constant ( ⁇ c ) of 3.0 or less at a frequency of 10 GHz. It is more preferably 2.8 or less, still more preferably 2.6 or less. Although the lower limit is not particularly limited, it is practically 2.0. Also, the dielectric constant ( ⁇ c ) in the entire frequency range of 1 GHz to 60 GHz is preferably 3.0 or less, more preferably 2.8 or less, and even more preferably 2.6 or less.
  • the polyimide resin (A) in the present invention preferably has a dielectric loss tangent (tan ⁇ ) of 0.005 or less at a frequency of 10 GHz. It is more preferably 0.004 or less, and still more preferably 0.003 or less. Although the lower limit is not particularly limited, it is practically 0.0001 or more. Also, the dielectric loss tangent (tan ⁇ ) in the entire frequency range of 1 GHz to 60 GHz is preferably 0.005 or less, more preferably 0.004 or less, and even more preferably 0.003 or less.
  • the polyimide resin (A) can be obtained, for example, by dissolving a carboxylic anhydride component and an isocyanate component or an amine component in a solvent and heating. At this time, the ratio of the acid anhydride group of the carboxylic acid anhydride component to the isocyanate group of the isocyanate component or the amino group of the amine component is preferably 100:91 to 100:109. If the molecular weight is outside this range, the mechanical strength may be insufficient due to insufficient increase in molecular weight, or gelation may occur during polymerization. Further, 90% or more of the imide ring portion of the polyimide resin (A) is preferably ring-closed from the viewpoint of stability of the resin and resin varnish. For that purpose, it is necessary to sufficiently react during polyimide polymerization, and there are methods such as raising the reaction temperature and adding a catalyst.
  • solvents examples include N-methyl-2-pyrrolidone, ⁇ -butyrolactone, dimethylimidazolidinone, dimethylsulfoxide, dimethylformamide, and N-ethyl-2-pyrrolidone. , dimethylacetamide, cyclohexanone, cyclopentanone, tetrahydrofuran, etc. Among these, cyclohexanone is preferred from the viewpoint of polymerizability. Further, after polymerization, the non-volatile content concentration and solution viscosity can be adjusted by diluting with the solvent used in the polymerization or other low boiling point solvent.
  • Low boiling point solvents include aromatic solvents such as toluene and xylene; aliphatic solvents such as hexane, heptane and octane; alcohol solvents such as methanol, ethanol, propanol, butanol and isopropanol; Ketone solvents such as isobutyl ketone, cyclohexanone and cyclopentanone; ether solvents such as diethyl ether and tetrahydrofuran; and ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate and isobutyl acetate.
  • aromatic solvents such as toluene and xylene
  • aliphatic solvents such as hexane, heptane and octane
  • alcohol solvents such as methanol, ethanol, propanol, butanol and isopropanol
  • Ketone solvents such as isobutyl ketone,
  • alkali metals such as sodium fluoride, potassium fluoride, sodium methoxide, triethylenediamine, triethylamine, diethanolamine, 1,8-diazabicyclo[5,4,0]-7-undecene, 1 ,5-diazabicyclo[4,3,0]-5-nonene and other amines and dibutyltin dilaurate and other catalysts can be used.
  • the compound (B) in the present invention is a compound having an epoxy group and a terminal unsaturated hydrocarbon group.
  • an epoxy group By having an epoxy group, it can be reacted with a polyimide resin (A) or a polycarbodiimide described later, and by having a terminal unsaturated hydrocarbon group, the compound (B) itself or a compound (C) described later. Therefore, by increasing the crosslink density between these compounds, excellent solder heat resistance can be achieved.
  • the compound (B) preferably has a ring structure other than an epoxy group.
  • the heat resistance can be improved and the dielectric properties are also excellent.
  • the ring structure of the compound (B) is preferably an aromatic ring structure or an isocyanuric ring structure.
  • Specific examples of such compound (B) include diallyl monoglycidyl isocyanurate and diglycidyl monoallyl isocyanurate. By using these, the crosslink density can be increased and the solder heat resistance can be improved.
  • the molecular weight of compound (B) is preferably 500 or less. It is more preferably 400 or less. When the molecular weight is the above value or less, the solubility in solvents and the reactivity with the polyimide resin (A), the compound (C), and polycarbodiimide are improved, the crosslink density is increased, and the solder heat resistance is improved. can be done.
  • compound (B) preferably has two or more terminal unsaturated hydrocarbon groups.
  • the content of the compound (B) in the adhesive composition of the present invention is preferably 0.1 parts by mass or more, more preferably 1 part by mass or more, relative to 100 parts by mass of the polyimide resin (A). . Also, it is preferably 50 parts by mass or less, more preferably 20 parts by mass or less. Within the above range, both excellent adhesiveness and soldering heat resistance can be achieved.
  • the content of the compound (B) is preferably 1 equivalent or more of the terminal unsaturated hydrocarbon group with respect to the terminal unsaturated hydrocarbon group of the compound (C). When the amount is 1 equivalent or more, the crosslink density can be increased and excellent solder heat resistance can be exhibited.
  • the adhesive composition of the present invention may contain a compound (C) having a terminal unsaturated hydrocarbon group and a 5% weight loss temperature of 260° C. or higher.
  • the compound (C) has a terminal unsaturated hydrocarbon group, so that the reaction with the compound (B) increases the crosslink density and improves the solder heat resistance.
  • the adhesive can have better dielectric properties. Having two or more terminal unsaturated hydrocarbon groups in one molecule is preferable because the crosslink density can be further increased.
  • the 5% weight loss temperature of compound (C) must be 260°C or higher. It is preferably 270° C. or higher, more preferably 280° C. or higher, and still more preferably 290° C. or higher. When the 5% weight loss temperature is equal to or higher than the above value, soldering can be performed without causing appearance defects even at a temperature exceeding the melting point of solder.
  • the compound (C) preferably has an aromatic ring structure or an alicyclic structure as a structural unit.
  • an aromatic ring structure or an alicyclic structure as a structural unit, the soldering heat resistance can be improved, and the dielectric properties are also excellent.
  • polyphenylene ethers having terminal unsaturated hydrocarbon groups include SA-9000 from SABIC and OPE-2St from Mitsubishi Gas Chemical.
  • the phenolic resin having a terminal unsaturated hydrocarbon group Resitop FTC-809AE manufactured by Gun Ei Chemical Industry Co., Ltd. is exemplified.
  • the number average molecular weight of compound (C) is preferably 500 or more, more preferably 1000 or more. Also, it is preferably 100,000 or less, more preferably 10,000 or less, and even more preferably 5,000 or less. Within the above range, the solubility in a solvent is good, and a uniform adhesive coating film can be formed.
  • the content of the compound (C) in the adhesive composition of the present invention is preferably 1 part by mass or more, more preferably 10 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the polyimide resin (A). Also, it is preferably 100 parts by mass or less, more preferably 50 parts by mass or less. Within the above range, both excellent adhesiveness and soldering heat resistance can be achieved.
  • the adhesive composition of the present invention also preferably contains a radical generator.
  • the adhesive composition of the present invention can react with the compound (B) or the compound (C) by heating, but the radical generated by the radical generator is the terminal unsaturated hydrocarbon of the compound (B) or the compound (C). Soldering heat resistance and dielectric properties can be improved by efficiently reacting the groups and increasing the crosslink density.
  • the radical generator is not particularly limited, it is preferable to use an organic peroxide.
  • organic peroxides include, but are not limited to, di-tert-butyl peroxyphthalate, tert-butyl hydroperoxide, dicumyl peroxide, benzoyl peroxide, tert-butyl peroxybenzoate, tert-butyl peroxy- Peroxides such as 2-ethylhexanoate, tert-butyl peroxypivalate, methyl ethyl ketone peroxide, di-tert-butyl peroxide, lauroyl peroxide; azobisisobutyronitrile, azobisisopropionitrile and the like azonitriles, and the like.
  • the one-minute half-life temperature of the radical generator used in the present invention is preferably 140°C or higher. By setting the temperature to 140° C. or higher, it is possible to prevent radical reaction from starting when the solvent of the adhesive composition varnish is volatilized to prepare an adhesive sheet, and excellent adhesiveness can be exhibited.
  • the blending amount of the radical generator used in the present invention is preferably 0.1 parts by mass or more, more preferably 1 part by mass or more, relative to 100 parts by mass of compound (B). Also, it is preferably 50 parts by mass or less, more preferably 10 parts by mass or less. By setting it within the above range, it is possible to obtain an optimum cross-linking density, and to achieve both adhesion and soldering heat resistance.
  • the adhesive composition of the invention can contain polycarbodiimide.
  • Polycarbodiimide is not particularly limited as long as it has two or more carbodiimide bonds in the molecule.
  • the hydroxyl group of the polyimide resin (A) reacts with the carbodiimide bond, and heat resistance and adhesiveness can be improved.
  • the reaction between the polyimide resin (A) and the compound (B) produces hydroxyl groups to eliminate the hydroxyl groups, thereby contributing to improvement in dielectric properties.
  • the content of polycarbodiimide is preferably 1 part by mass or more, more preferably 3 parts by mass or more, relative to 100 parts by mass of the polyimide resin (A).
  • the content of polycarbodiimide is preferably 1 part by mass or more, more preferably 3 parts by mass or more, relative to 100 parts by mass of the polyimide resin (A).
  • the content of polycarbodiimide is preferably 1 part by mass or more, more preferably 3 parts by mass or more, relative to 100 parts by mass of the polyimide resin (A).
  • the content of polycarbodiimide is preferably 1 part by mass or more, more preferably 3 parts by mass or more, relative to 100 parts by mass of the polyimide resin (A).
  • the adhesive composition of the invention can contain an epoxy resin.
  • the epoxy resin used in the present invention is not particularly limited as long as it has an epoxy group in the molecule, but preferably has two or more epoxy groups in the molecule.
  • N,N,N',N'-tetraglycidyl-m-xylenediamine biphenyl type epoxy resin, novolac type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin and epoxy-modified polybutadiene. More preferred is N,N,N',N'-tetraglycidyl-m-xylenediamine, which can exhibit excellent adhesiveness.
  • the content of the epoxy resin is preferably 0.1 parts by mass or more, more preferably 0.5 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the polyimide resin (A). Yes, more preferably 1 part by mass or more.
  • the content is preferably 10 parts by mass or less, more preferably 5 parts by mass or less.
  • the adhesive composition of the present invention can further contain an organic solvent.
  • the organic solvent used in the present invention is not particularly limited as long as it dissolves the polyimide resin (A), compound (B), compound (C) and the like.
  • aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene
  • aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, octane and decane
  • alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane, cyclohexene, methylcyclohexane and ethylcyclohexane.
  • Halogenated hydrocarbons such as hydrogen, trichlorethylene, dichlorethylene, chlorobenzene, and chloroform
  • alcoholic solvents such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, pentanol, hexanol, propanediol, and phenol, acetone, methyl isobutyl ketone, ketone solvents such as methyl ethyl ketone, pentanone, hexanone, cyclohexanone, isophorone and acetophenone
  • cellosolves such as methyl cellosolve and ethyl cellosolve
  • ester solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl propionate and butyl formate
  • Ethylene glycol mono-n-butyl ether ethylene glycol mono-iso-butyl ether, ethylene glycol mono-tert-butyl ether
  • the organic solvent is preferably in the range of 100 to 1000 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyimide resin (A). By making it more than the said lower limit, liquid state and pot-life property become favorable. Moreover, setting the content to the above upper limit or less is advantageous in terms of manufacturing costs and transportation costs.
  • the adhesive composition of the present invention may further contain other components as necessary.
  • specific examples of such components include flame retardants, tackifiers, fillers, and silane coupling agents.
  • the adhesive composition of the present invention may optionally contain a flame retardant.
  • flame retardants include bromine-based, phosphorus-based, nitrogen-based, and metal hydroxide compounds.
  • phosphorus-based flame retardants are preferable, and known phosphorus-based flame retardants such as phosphate esters such as trimethyl phosphate, triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, etc., phosphates such as aluminum phosphinate, and phosphazenes can be used. . These may be used alone, or may be used in any combination of two or more.
  • the polyimide resin (A), the compound (B) and the compound (C) When containing a flame retardant, the polyimide resin (A), the compound (B) and the compound (C) with respect to a total of 100 parts by weight, it is preferable to contain the flame retardant in the range of 1 to 200 parts by weight, 5 to 150 A range of parts by weight is more preferred, and a range of 10 to 100 parts by weight is most preferred. By setting the content within the above range, it is possible to exhibit flame retardancy while maintaining adhesiveness, solder heat resistance, and electrical properties.
  • a tackifier may be added to the adhesive composition of the present invention, if necessary.
  • tackifiers include polyterpene resins, rosin resins, aliphatic petroleum resins, alicyclic petroleum resins, copolymer petroleum resins, styrene resins and hydrogenated petroleum resins. used in These may be used alone, or may be used in any combination of two or more.
  • the tackifier is contained, it is preferably contained in the range of 1 to 200 parts by mass with respect to the total 100 parts by mass of the polyimide resin (A), the compound (B) and the compound (C), and 5 to 150 parts by mass. is more preferred, and the range of 10 to 100 parts by mass is most preferred.
  • the adhesive composition of the present invention may optionally contain a filler.
  • organic fillers include powders of heat-resistant resins such as polyimide, polyamideimide, fluororesin, and liquid crystal polyester.
  • inorganic fillers include silica (SiO 2 ), alumina (Al 2 O 3 ), titania (TiO 2 ), tantalum oxide (Ta 2 O 5 ), zirconia (ZrO 2 ), silicon nitride (Si 3 N 4 ), boron nitride (BN), calcium carbonate ( CaCO3 ), calcium sulfate (CaSO4), zinc oxide ( ZnO ), magnesium titanate (MgO- TiO2 ), barium sulfate ( BaSO4 ), organic bentonite, clay , mica, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, etc.
  • silica is preferable from the viewpoint of ease of dispersion and effect of improving heat resistance.
  • Hydrophobic silica and hydrophilic silica are generally known as silica, but here, hydrophobic silica treated with dimethyldichlorosilane, hexamethyldisilazane, octylsilane, etc. is used to impart moisture absorption resistance. is good.
  • the blending amount is preferably 0.05 to 30 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of polyimide resin (A), compound (B) and compound (C). Further heat resistance can be expressed by making it more than the said lower limit.
  • the content is equal to or less than the above upper limit, poor dispersion of silica and excessive increase in solution viscosity are suppressed, and workability is improved.
  • a silane coupling agent may be added to the adhesive composition of the present invention, if necessary. Addition of a silane coupling agent is very preferable because it improves adhesion to metals and heat resistance.
  • the silane coupling agent is not particularly limited, examples thereof include those having an unsaturated group, those having an epoxy group, and those having an amino group.
  • epoxy such as ⁇ -glycidoxypropyltrimethoxysilane, ⁇ -(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, and ⁇ -(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltriethoxysilane is used from the viewpoint of heat resistance.
  • a silane coupling agent having a group is more preferred.
  • the blending amount is 0.5 to 20 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the polyimide resin (A), the compound (B) and the compound (C). preferable. Soldering heat resistance and adhesiveness can be improved by setting it in the said range.
  • the laminate of the present invention is obtained by laminating an adhesive composition on a base material (two-layer laminate of base material/adhesive layer), or further laminating a base material (base material/adhesive layer/ A three-layer laminate of substrates).
  • the adhesive layer refers to a layer of the adhesive composition after the adhesive composition of the present invention has been applied to a substrate and dried.
  • the laminate of the present invention can be obtained by applying the adhesive composition of the present invention to various substrates, drying it, and further laminating another substrate according to a conventional method.
  • the substrate is not particularly limited as long as the adhesive composition of the present invention can be applied and dried to form an adhesive layer.
  • Examples include metal substrates such as plates and metal foils, papers, and the like.
  • resin substrates examples include polyester resins, polyamide resins, polyimide resins, polyamideimide resins, liquid crystal polymers, polyphenylene sulfides, syndiotactic polystyrene, polyolefin resins, fluorine resins, and the like.
  • a film-like resin hereinafter also referred to as a base film layer is preferred.
  • any conventionally known conductive material that can be used for circuit boards can be used as the metal base material.
  • materials include various metals such as SUS, copper, aluminum, iron, steel, zinc, and nickel, and their alloys, plated products, and metals treated with other metals such as zinc and chromium compounds.
  • Metal foil is preferred, and copper foil is more preferred.
  • the thickness of the metal foil is not particularly limited, it is preferably 1 ⁇ m or more, more preferably 3 ⁇ m or more, and still more preferably 10 ⁇ m or more. Also, it is preferably 50 ⁇ m or less, more preferably 30 ⁇ m or less, and still more preferably 20 ⁇ m or less. If the thickness is too thin, it may be difficult to obtain sufficient electrical performance of the circuit.
  • Metal foils are usually provided in roll form.
  • the form of the metal foil used in manufacturing the printed wiring board of the present invention is not particularly limited.
  • the length is not particularly limited.
  • the width is not particularly limited, but it is preferably about 250 to 500 cm.
  • the surface roughness of the substrate is not particularly limited, but is preferably 3 ⁇ m or less, more preferably 2 ⁇ m or less, and still more preferably 1.5 ⁇ m or less. Moreover, it is practically preferably 0.3 ⁇ m or more, more preferably 0.5 ⁇ m or more, and still more preferably 0.7 ⁇ m or more.
  • Examples of papers include high-quality paper, kraft paper, roll paper, and glassine paper. Moreover, glass epoxy etc. can be illustrated as a composite material.
  • polyester resin Based on adhesive strength and durability with the adhesive composition, polyester resin, polyamide resin, polyimide resin, polyamideimide resin, liquid crystal polymer, polyphenylene sulfide, syndiotactic polystyrene, polyolefin resin, fluororesin, A SUS steel plate, copper foil, aluminum foil, or glass epoxy is preferred.
  • the adhesive sheet is obtained by laminating the substrate and the release substrate via an adhesive composition.
  • Specific configuration modes include base material/adhesive layer/release base material, or release base material/adhesive layer/base material/adhesive layer/release base material.
  • the release base material By laminating the release base material, it functions as a protective layer for the adhesive layer.
  • the release base material can be released from the adhesive sheet, and the adhesive layer can be transferred to another base material.
  • the adhesive sheet of the present invention can be obtained by coating and drying the adhesive composition of the present invention on various substrates according to a conventional method.
  • a release base material is applied to the adhesive layer after drying, it is possible to wind up the product without set-off to the base material, resulting in excellent workability and preservability due to the protection of the adhesive layer. excellent and easy to use.
  • the adhesive layer itself is applied to a release base material and dried, and if necessary, another release base material is applied, the adhesive layer itself can be transferred to another base material.
  • the release substrate is not particularly limited, but for example, a coated layer of filler such as clay, polyethylene, polypropylene, etc. is applied to both sides of paper such as woodfree paper, kraft paper, roll paper, and glassine paper. and a silicone type, fluorine type or alkyd type release agent is applied on each coating layer.
  • a coated layer of filler such as clay, polyethylene, polypropylene, etc.
  • paper such as woodfree paper, kraft paper, roll paper, and glassine paper.
  • a silicone type, fluorine type or alkyd type release agent is applied on each coating layer.
  • Other examples include various olefin films such as polyethylene, polypropylene, ethylene- ⁇ -olefin copolymer and propylene- ⁇ -olefin copolymer alone, and films such as polyethylene terephthalate coated with the release agent.
  • both sides of high-quality paper are filled with polypropylene and an alkyd-based release agent is used on top of it.
  • an alkyd release agent on polyethylene terephthalate.
  • the method of coating the substrate with the adhesive composition in the present invention is not particularly limited, but includes a comma coater, a reverse roll coater, and the like.
  • an adhesive layer can be provided directly or by a transfer method on the rolled copper foil or polyimide film, which are the constituent materials of the printed wiring board.
  • the thickness of the adhesive layer after drying may be changed as required, but is preferably in the range of 5 to 200 ⁇ m. Sufficient adhesive strength can be obtained by setting the thickness of the adhesive film to 5 ⁇ m or more. Further, by setting the thickness to 200 ⁇ m or less, it becomes easier to control the amount of residual solvent in the drying process, and blisters are less likely to occur during pressing in the manufacture of printed wiring boards.
  • the drying conditions are not particularly limited, but the residual solvent rate after drying is preferably 1% by mass or less. When the amount is 1% by mass or less, foaming of the residual solvent is suppressed during pressing of the printed wiring board, and blisters are less likely to occur.
  • the printed wiring board in the present invention includes, as constituent elements, a laminate formed from a metal foil forming a conductor circuit and a resin base material.
  • a printed wiring board is manufactured, for example, by a conventionally known method such as a subtractive method using a metal-clad laminate. If necessary, so-called flexible circuit boards (FPC), flat cables, tape automated bonding ( It is a general term for circuit boards for TAB).
  • FPC flexible circuit boards
  • TAB tape automated bonding
  • the printed wiring board of the present invention can have any laminated structure that can be employed as a printed wiring board.
  • it can be a printed wiring board composed of four layers: a base film layer, a metal foil layer, an adhesive layer, and a cover film layer.
  • a printed wiring board can be made up of five layers: a base film layer, an adhesive layer, a metal foil layer, an adhesive layer, and a cover film layer.
  • the adhesive composition of the present invention can be suitably used for each adhesive layer of printed wiring boards.
  • the adhesive composition of the present invention when used as an adhesive, it has high adhesiveness not only to conventional polyimides, polyester films, and copper foils constituting printed wiring boards, but also to low-polarity resin substrates such as LCP. , solder reflow resistance can be obtained, and the adhesive layer itself has excellent low dielectric properties. Therefore, it is suitable as an adhesive composition used for coverlay films, laminates, resin-coated copper foils and bonding sheets.
  • any resin film conventionally used as a base material for printed wiring boards can be used as the base film.
  • resins for the base film include polyester resins, polyamide resins, polyimide resins, polyamideimide resins, liquid crystal polymers, polyphenylene sulfides, syndiotactic polystyrene, polyolefin resins, fluorine resins, and the like.
  • it has excellent adhesion even to low-polarity substrates such as liquid crystal polymers, polyphenylene sulfide, syndiotactic polystyrene, and polyolefin resins.
  • any insulating film conventionally known as an insulating film for printed wiring boards can be used.
  • films made from various polymers such as polyimide, polyester, polyphenylene sulfide, polyethersulfone, polyetheretherketone, aramid, polycarbonate, polyarylate, polyamideimide, liquid crystal polymer, syndiotactic polystyrene, and polyolefin resin are used. It is possible. Polyimide films or liquid crystal polymer films are more preferred.
  • the printed wiring board of the present invention can be manufactured using any conventionally known process except for using the materials for each layer described above.
  • a semi-finished product in which an adhesive layer is laminated on a cover film layer (hereinafter referred to as "cover film-side semi-finished product”) is manufactured.
  • a semi-finished product in which a desired circuit pattern is formed by laminating a metal foil layer on a base film layer (hereinafter referred to as a "two-layer semi-finished product on the base film side"), or a semi-finished product in which an adhesive layer is laminated on a base film layer.
  • a semi-finished product in which a desired circuit pattern is formed by laminating a metal foil layer thereon (hereinafter referred to as “base film side 3-layer semi-finished product”) (hereinafter referred to as “base film side 2-layer semi-finished product”). Together with the base film side three-layer semi-finished product, it is referred to as the “base film side semi-finished product”).
  • base film side semi-finished product By laminating the semi-finished product on the cover film side and the semi-finished product on the base film side thus obtained, a printed wiring board having four or five layers can be obtained.
  • the semi-finished product on the substrate film side includes, for example, (A) a step of applying a solution of a resin that will be the substrate film to the metal foil and initially drying the coating film, and (B) the metal foil obtained in (A) and It is obtained by a production method including a process of heat-treating and drying the laminate with the initially dried coating film (hereinafter referred to as "heat-treatment/solvent removal process").
  • a conventionally known method can be used to form a circuit in the metal foil layer.
  • An additive method may be used, or a subtractive method may be used.
  • a subtractive method is preferred.
  • the semi-finished product on the base film side thus obtained may be used as it is for lamination with the semi-finished product on the cover film side. may be used.
  • the semi-finished product on the cover film side is manufactured, for example, by applying an adhesive to the cover film. If desired, a cross-linking reaction in the applied adhesive can be performed. In a preferred embodiment, the adhesive layer is semi-cured.
  • the semi-finished product on the cover film side thus obtained may be used as it is for bonding to the semi-finished product on the base film side. may be used for
  • the semi-finished product on the base film side and the semi-finished product on the cover film side are each stored, for example, in the form of a roll, and then laminated together to manufacture a printed wiring board.
  • Any method can be used as the bonding method, and for example, the bonding can be performed using a press or a roll. Also, both can be bonded together while being heated by a method such as using a hot press or a hot roll device.
  • the semi-finished product on the reinforcing material side for example, in the case of a soft and windable reinforcing material such as a polyimide film, it is preferable to manufacture it by applying an adhesive to the reinforcing material.
  • an adhesive to the reinforcing material.
  • the adhesive applied in advance to the release base material can be transferred and applied. It is preferably manufactured.
  • a cross-linking reaction in the applied adhesive can be carried out as necessary.
  • the adhesive layer is semi-cured.
  • the semi-finished product on the reinforcing material side thus obtained may be used as it is for bonding to the back surface of the printed wiring board, or it may be used for bonding to the semi-finished product on the base film side after being stored after being bonded with a release film. You may
  • the semi-finished product on the base film side, the semi-finished product on the cover film side, and the semi-finished product on the reinforcing material side are all printed wiring board laminates in the present invention.
  • ⁇ Physical property evaluation method> Measurement of glass transition temperature It was measured using a differential scanning calorimeter (DSC-200, SII). 5 mg of the sample was placed in an aluminum lid-type container, sealed, and cooled to -50°C using liquid nitrogen. Then, the temperature is raised to 150 ° C. at a rate of 20 ° C./min, and in the endothermic curve obtained in the heating process, the baseline extension line before the endothermic peak (below the glass transition temperature) and the endothermic peak The glass transition temperature (unit: °C) was defined as the temperature at the intersection with the tangent line (the tangent line indicating the maximum slope from the rising portion of the peak to the apex of the peak).
  • the relative dielectric constant ( ⁇ c ) and dielectric loss tangent (tan ⁇ ) were measured by a cavity resonator perturbation method using a network analyzer (manufactured by Anritsu Corporation) under conditions of a temperature of 23° C. and a frequency of 10 GHz.
  • polyimide resin (a1) Into a four-necked flask equipped with a thermometer, a condenser, and a nitrogen gas inlet tube, 53 g of 3,3′,4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 185.5 g of cyclohexanone, 37.1 g of methylcyclohexane were charged and the solution was heated to 60°C. Then, 85.4 g of dimer diamine (PRIAMINE 1075, manufactured by Croda) was added dropwise, followed by imidization reaction at 140° C. for 1 hour to give a polyimide resin solution (a1, glass transition temperature 70° C., acid value 146 equivalents/ 10 6 g, dielectric constant 2.6, and dielectric loss tangent 0.0019).
  • PRIAMINE 1075 dimer diamine
  • (c1) SA-9000 (manufactured by SABIC, polyphenylene ether having a vinyl group, number average molecular weight of 1700, 5% weight loss temperature of 439°C)
  • Example 1 To the polyimide resin solution (a1) obtained in the above synthesis example, DA-MGIC (manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.), Perbutyl P (manufactured by NOF Corporation), and SA-9000 (manufactured by SABIC) are added to each polyimide resin (a1). 5 parts, 1 part, and 20 parts with respect to 100 parts of the resin content of No., to obtain an adhesive composition (S1). The resulting adhesive composition (S1) was evaluated for dielectric constant, dielectric loss tangent, peel strength, solder heat resistance, varnish stability and adhesive sheet flexibility. The results are listed in Table 1.
  • Adhesive compositions (S2) to (S9) were prepared in the same manner as in Example 1 except that the types and blending amounts of each component were changed as shown in Table 1, and each evaluation was performed. The results are listed in Table 1.
  • Adhesive Composition (Relative permittivity ( ⁇ c ) and dielectric loss tangent (tan ⁇ ))
  • the adhesive composition was applied to a Teflon (registered trademark) sheet having a thickness of 100 ⁇ m so that the thickness after drying was 25 ⁇ m, and dried at 140° C. for 3 minutes. After curing by heat treatment at 170° C. for 3 hours, the Teflon (registered trademark) sheet was peeled off to obtain an adhesive resin sheet for testing.
  • the test adhesive resin sheet thus obtained was cut into strips of 8 cm ⁇ 3 mm to obtain test samples.
  • the relative dielectric constant ( ⁇ c ) and dielectric loss tangent (tan ⁇ ) were measured by a cavity resonator perturbation method using a network analyzer (manufactured by Anritsu Corporation) under conditions of a temperature of 23° C. and a frequency of 10 GHz.
  • the adhesive composition was applied to a 12.5 ⁇ m-thick polyimide film (manufactured by Kaneka Corporation, Apical (registered trademark)) so as to have a thickness of 25 ⁇ m after drying, and dried at 140° C. for 3 minutes.
  • the adhesive film (B stage product) thus obtained was laminated to a 18 ⁇ m thick rolled copper foil (manufactured by Nippon Steel Chemical & Materials Co., Ltd., Espanex series).
  • the bonding was performed by pressing the rolled copper foil so that the glossy surface of the rolled copper foil was in contact with the adhesive layer and pressing for 280 seconds under a pressure of 2 MPa at 170°C.
  • the adhesive composition was applied to a Teflon (registered trademark) sheet having a thickness of 100 ⁇ m so that the thickness after drying was 25 ⁇ m, and dried at 140° C. for 3 minutes. Next, the state of the coating film was checked when the sheet was bent 180°. ⁇ Evaluation Criteria> ⁇ : No cracks ⁇ : Cracks present
  • Examples 1 to 6 are excellent in dielectric properties, peel strength, solder heat resistance, varnish stability and adhesive sheet flexibility.
  • Comparative Example 1 the compatibility between triallyl isocyanurate and the polyimide resin, that is, the varnish stability was poor, and precipitation occurred after blending, so all evaluations could not be made.
  • Comparative Example 2 since the compound (B) did not have an epoxy group, the curing was insufficient and the solder heat resistance was insufficient.
  • Comparative Example 3 since the compound (B) was not used, the dielectric properties were deteriorated, and the soldering heat resistance was insufficient due to insufficient curing. Since Comparative Example 4 did not contain the polyimide resin (A), the adhesive sheet was brittle, and all evaluations could not be performed.
  • the adhesive composition of the present invention is excellent in heat resistance and adhesive strength, has a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent, and has good sheet flexibility. Therefore, it is useful as an adhesive for FPC and an adhesive sheet in a high frequency range.

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Abstract

【課題】 耐熱性、接着強度に優れ、比誘電率および誘電正接の低い、誘電特性に優れた接着剤組成物、並びにそれを含む接着シート、積層体、プリント配線板を提供すること。 【解決手段】  ポリイミド樹脂(A)およびエポキシ基と末端不飽和炭化水素基とを有する化合物(B)を含有する接着剤組成物。

Description

接着剤組成物、ならびにこれを含有する接着シート、積層体およびプリント配線板
 本発明は、接着剤組成物に関する。より詳しくは、樹脂基材と、樹脂基材または金属基材との接着に用いられる接着剤組成物に関する。特にフレキシブルプリント配線板(以下、FPCと略す)用接着剤組成物、並びにそれを含む接着シート、積層体およびプリント配線板に関する。
 ポリイミドはコーティング剤、インキおよび接着剤等に用いられる樹脂組成物の原料として広く使用されており、一般に酸無水物とジアミンまたはジイソシアネートを反応させることで得られる。ジアミンの選択や、酸無水物と反応するその他の成分の共重合によって、耐熱性や電気的特性を自由にコントロールできる。
 ポリイミドは銅を含む金属との接着性や耐熱性に優れており、エポキシ樹脂などと組み合わせてFPCなどにも使用されてきた。(例えば、特許文献1)。
 FPCは、優れた屈曲性を有することから、パソコン(PC)やスマートフォンなどの多機能化、小型化に対応することができ、狭く複雑な内部に電子回路基板を組み込むために多く使用されている。近年、電子機器の小型化、軽量化、高密度化、高出力化が進み、配線板(電子回路基板)の性能に対する要求がますます高度なものとなっている。特に、FPCにおける伝送速度高速化のために、高い周波数の信号が使用されるようになっている。これに伴い、FPCには高周波領域での低誘電特性(低誘電率、低誘電正接)の要求が高まっている。このような低誘電特性を達成するため、FPCの基材や接着剤の誘電体損失を低減する方策がなされており、FPCで用いられる基材については、従来のポリイミド(PI)やポリエチレンテレフタレート(PET)だけでなく、低誘電特性を有する液晶ポリマー(LCP)やシンジオタクチックポリスチレン(SPS)などの基材フィルムが提案されている。また、接着剤としては低極性なジアミンであるダイマージアミンを使用したポリイミド(特許文献2)等の開発が進められている。
特開2000-167979 特開2020-117631
 しかしながら、特許文献1に記載のポリイミドは、比誘電率および誘電正接が高いものであり、上述の低誘電特性を有しておらず高周波領域のFPCに不適である。また、特許文献2に記載の接着剤はグリシジルアミン型エポキシ等の一般的なエポキシ樹脂を含有するため、硬化反応の際に極性が高い水酸基を多く生成することから、同様に誘電特性に優れているとは言い難い。
 本発明は、かかる従来技術課題を背景になされたものである。すなわち、本発明の目的は、耐熱性、接着強度に優れ、比誘電率および誘電正接の低い、誘電特性に優れた接着剤組成物、並びにそれを含む接着シート、積層体およびプリント配線板を提供することである。
 本発明者らは鋭意検討した結果、以下に示す手段により、上記課題を解決できることを見出し、本発明に到達した。
 すなわち、本発明は、以下の構成からなる。
[1] ポリイミド樹脂(A)およびエポキシ基と末端不飽和炭化水素基とを有する化合物(B)を含有する接着剤組成物。
[2] さらに、末端不飽和炭化水素基を有し、かつ5%重量減少温度が260℃以上である化合物(C)を含有する、前記[1]に記載の接着剤組成物。
[3] 前記化合物(C)が構造単位として芳香環構造または脂環構造を有する化合物である、前記[2]に記載の接着剤組成物。
[4] 前記化合物(C)が、末端不飽和炭化水素基を有する、ポリフェニレンエーテルまたはフェノール樹脂である、前記[2]に記載の接着剤組成物。
[5] 前記化合物(B)がイソシアヌル環を有する化合物である、前記[1]~[4]のいずれかに記載の接着剤組成物。
[6] 前記ポリイミド樹脂(A)の誘電正接が0.005以下である、前記[1]~[5]のいずれかに記載の接着剤組成物。
[7] さらにポリカルボジイミドを含んでなる前記[1]~[6]のいずれかに記載の接着剤組成物。
[8] 前記[1]~[7]のいずれかに記載の接着剤組成物からなる接着剤層を有する接着シート。
[9] 前記[1]~[7]のいずれかに記載の接着剤組成物からなる接着剤層を有する積層体。
[10] 前記[9]に記載の積層体を構成要素として含むプリント配線板。
 本発明の接着剤組成物は、誘電特性、接着強度、はんだ耐熱性に優れている。このため、高周波領域のFPC用接着剤、接着シート、積層体およびプリント配線板に好適である。
 以下、本発明の実施の一形態について以下に詳述する。ただし、本発明はこれに限定されるものではなく、既述した範囲内で種々の変形を加えた態様で実施できる。
<接着剤組成物>
 本発明の接着剤組成物はポリイミド樹脂(A)およびエポキシ基と末端不飽和炭化水素基とを有する化合物(B)を含んでなる接着剤組成物である。化合物(B)はエポキシ基と末端不飽和炭化水素基とを有することから、ポリイミド樹脂(A)と化合物(B)のエポキシ基との硬化反応のみならず、末端不飽和炭化水素基による硬化反応を利用できるため、誘電特性を悪化させる水酸基の発生を抑制して硬化でき、優れたはんだ耐熱性と誘電特性を両立することができる。
<ポリイミド樹脂(A)>
 本発明におけるポリイミド樹脂(A)は主鎖にイミド結合を有するポリマーであり,カルボン酸無水物成分とイソシアネート成分から製造する方法(イソシアネート法)、ポリカルボン酸成分とアミン成分とを反応させてアミック酸を合成した後、閉環させる方法(直接法)、カルボン酸無水物および酸塩化物を有する化合物とジアミンを反応させる方法など方法で製造される。モノマー成分の選択肢の多さでは、直接法が有利である。
 本発明におけるポリイミド樹脂(A)は、アミド結合、エステル結合、ウレタン結合などのイミド化以外の反応によって生じる結合種を含むこともできる。これらの結合種を含むことで、樹脂に可撓性を付与することができ、柔軟な硬化塗膜を形成することができる。一方、イミド結合は、その構造の対称性から、極性が一部打ち消されることにより低誘電特性には有利であるため、アミド結合、エステル結合、ウレタン結合などの結合種の含有量は必要最小限にとどめておくことが好ましく、低誘電特性をより良好なものとするためには、イミド結合、アミド結合、エステル結合およびウレタン結合の合計量を100モル%としたとき、イミド結合量は50モル%以上であることが好ましく、70モル%以上がより好ましく、80モル%以上であることがさらに好ましく、100モル%であっても差し支えない。
 本発明におけるポリイミド樹脂(A)を構成するカルボン酸無水物成分としては特に限定されず、例えば、ピロメリット酸二無水物、3,3′,4,4′-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3′,4,4′-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、3,4,9,10-ペリレンテトラカルボン酸二無水物、3,3′,4,4′-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、4,4′-オキシジフタル酸二無水物、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2,2-ビス(2,3-又は3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス(2,3-又は3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス[4-(2,3-又は3,4-ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパン二無水物等の芳香環を有する四塩基酸二無水物、meso-ブタン-1,2,3,4-テトラカルボン酸二無水物、ペンタン-1,2,4,5-テトラカルボン酸二無水物等の脂肪族の四塩基酸二無水物、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、ジシクロヘキシル-3,3′,4,4′-テトラカルボン酸二無水物や、前記芳香環を有する四塩基酸二無水物の水素添加物等の脂環族の四塩基酸二無水物が挙げられる。また、無水トリメリット酸や、エチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、プロピレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、1,4-ブタンジオールビスアンヒドロトリメリテート等のアルキレングリコールビスアンヒドロトリメリテート等の無水トリメリット酸誘導体を用いてもよい。これらは単独で使用しても良いし、複数種を組み合わせても良い。誘電特性の観点から芳香環を有する四塩基酸二無水物および脂環族の四塩基酸二無水物が好ましく、より好ましくは3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス[4-(2,3-又は3,4-ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパン二無水物(BPADA)である。
 本発明におけるポリイミド樹脂(A)を構成するイソシアネート成分としては特に限定されず、芳香環を有するジイソシアネートとして、例えば、トリレンジイソシアネート(TDI)、3,3′-ジメチルジフェニルメタン-4,4′-ジイソシアネートおよびその構造異性体、3,3′-ジエチルジフェニルメタン-4,4′-ジイソシアネートおよびその構造異性体、ジフェニルメタン-4,4′-ジイソシアネート、ジフェニルメタン-3,3′-ジイソシアネート、ジフェニルメタン-3,4′-ジイソシアネート、ジフェニルメタン-2,4′-ジイソシアネート、ジフェニルメタン-2,2′-ジイソシアネート、ジフェニルエーテル-4,4′-ジイソシアネート、ベンゾフェノン-4,4′-ジイソシアネート、ジフェニルスルホン-4,4′-ジイソシアネート、m-キシリレンジイソシアネート、p-キシリレンジイソシアネート、ナフタレン-2,6-ジイソシアネート、3,3′または2,2′-ジメチルビフェニル-4,4′-ジイソシアネート、3,3′-または2,2′-ジエチルビフェニル-4,4′-ジイソシアネート、3,3′-ジメトキシビフェニル-4,4′-ジイソシアネート等が挙げられる。中でも、重合性の観点から好ましくは、ジフェニルメタン-4,4′-ジイソシアネート(MDI)、3,3′-ジメチルビフェニル-4,4′-ジイソシアネート(ToDI)である。これらは単独で使用してもよいし、複数種を組み合わせてもよい。
 ジイソシアネートとして、既に挙げた芳香環を有するものの他に、脂肪族もしくは脂環族のものも用いることができ、例えば、前項で挙げた成分のいずれかを水素添加したジイソシアネートを挙げることができる。また、イソホロンジイソシアネート、1,4-シクロヘキサンジイソシアネート、1,3-シクロヘキサンジイソシアネート、エチレンジイソシアネート、プロピレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートなども挙げられる。
 本発明におけるポリイミド樹脂(A)を構成するアミン成分としては特に限定されず、例えばダイマージアミン、m-フェニレンジアミン、2,5-ジエチル-6-メチル-1,3-ベンゼンジアミン、p-フェニレンジアミン、2,5-ジメチル-1,4-フェニレンジアミン、2,3,5,6-テトラメチル-1,4-フェニレンジアミン等が挙げられる。中でも、低誘電特性の観点から好ましくはダイマージアミンである。
 本発明におけるポリイミド樹脂(A)は、上記のカルボン酸無水物成分、イソシアネート成分、アミン成分以外の成分を含有してもよい。例えば芳香族ジカルボン酸成分、脂肪族ジカルボン酸成分、ジオール成分等が挙げられる。芳香族ジカルボン酸成分としては特に限定されないが、テレフタル酸、イソフタル酸、オルトフタル酸、4,4’-ジカルボキシビフェニル、5-ナトリウムスルホイソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸またはこれらのエステル等が挙げられる。また、脂肪族ジカルボン酸としては特に限定されないが、ダイマー酸、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、1,3-シクロヘキサンジカルボン酸、テトラヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸無水物、メチルテトラヒドロフタル酸無水物、水素添加ナフタレンジカルボン酸などを使用することができる。好ましくは、ダイマー酸であり、優れた誘電特性を発現することができる。ジオール成分としては特に限定されないが、デカンジオール、ダイマージオール、両末端水酸基ポリブタジエン、両末端水酸基水素化ポリブタジエン、両末端水酸基ポリイソプレン、両末端水酸基ポリオレフィンなどが挙げられる。この中でも、誘電特性に優れることから両末端水酸基ポリブタジエンが好ましい。
 本発明におけるポリイミド樹脂(A)の数平均分子量(Mn)は10,000~50,000の範囲であることが好ましい。より好ましくは15,000~45,000の範囲であり、さらに好ましくは20,000~40000の範囲である。前記下限値以上とすることで凝集力が良好となり、優れた接着性を発現することができる。また、前記上限値以下とすることで流動性に優れ、操作性が良好となる。
 本発明におけるポリイミド樹脂(A)はカルボキシ基を有していることが好ましく、ポリイミド樹脂(A)の酸価は耐熱性および樹脂基材や金属基材との接着性の観点から、下限は10当量/10g以上であることが好ましく、より好ましくは100当量/10g以上であり、さらに好ましくは150当量/10g以上である。前記の値以上であることで、化合物(B)との相溶性が上がり、接着強度が向上したり、また架橋密度が上がることで耐熱性も向上できる。上限は1000当量/10g以下であることが好ましく、より好ましくは700当量/10g以下であり、さらに好ましくは500当量/10g以下である。前記の値以下であると、接着性、低誘電特性がより良好となる。
 本発明におけるポリイミド樹脂(A)のガラス転移温度は、-20℃以上であることが好ましい。より好ましくは0℃以上、さらに好ましくは20℃以上である。ガラス転移温度が前記下限値以上であることで、はんだ耐熱性を向上することができる。ガラス転移温度の上限は特に限定されないが、実用上は300℃以下である。
 本発明におけるポリイミド樹脂(A)は、周波数10GHzにおける比誘電率(ε)が3.0以下であることが好ましい。より好ましくは2.8以下であり、さらに好ましくは2.6以下である。下限は特に限定されないが、実用上は2.0である。また、周波数1GHz~60GHzの全領域における比誘電率(ε)が3.0以下であることが好ましく、2.8以下であることがより好ましく、2.6以下であることがさらに好ましい。
 本発明におけるポリイミド樹脂(A)は、周波数10GHzにおける誘電正接(tanδ)が0.005以下であることが好ましい。より好ましくは0.004以下であり、さらにより好ましくは0.003以下である。下限は特に限定されないが、実用上は0.0001以上である。また、周波数1GHz~60GHzの全領域における誘電正接(tanδ)が0.005以下であることが好ましく、0.004以下であることがより好ましく、0.003以下であることがさらに好ましい。
 ポリイミド樹脂(A)は、例えば、溶媒中でカルボン酸無水物成分と、イソシアネート成分またはアミン成分とを溶解させ、加熱することで得られる。このとき、カルボン酸無水物成分の酸無水物基と、イソシアネート成分のイソシアネート基またはアミン成分のアミノ基との比率が100:91~100:109であることが好ましい。この範囲を外れると、分子量が十分に上がらずに機械的強度が不足したり、重合中にゲル化したりする恐れがある。また、ポリイミド樹脂(A)のイミド環部分は樹脂及び樹脂ワニス安定性の面から90%以上閉環していることが好ましい。そのためには、ポリイミド重合時に十分に反応させる必要があり、反応温度を高くしたり触媒を添加したりするといった方法がある。
 本発明におけるポリイミド樹脂(A)の重合に用いることのできる溶剤としては、例えばN-メチル-2-ピロリドン、γ-ブチロラクトン、ジメチルイミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、N-エチル-2-ピロリドン、ジメチルアセトアミド、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、テトラヒドロフランなどが挙げられ、この中では、重合性の観点から、シクロヘキサノンが好ましい。また重合後は重合に用いた溶剤もしくは他の低沸点溶剤で希釈して不揮発分濃度や溶液粘度を調整することができる。
 低沸点溶剤としては、トルエン、キシレン、などの芳香族系溶剤、ヘキサン、へプタン、オクタンなどの脂肪族系溶剤、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソプロパノールなどのアルコール系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノンなどのケトン系溶剤、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチルなどのエステル系溶剤などが挙げられる。
 また、反応を促進するためにフッ化ナトリウム、フッ化カリウム、ナトリウムメトキシド等のアルカリ金属類、トリエチレンジアミン、トリエチルアミン、ジエタノールアミン、1,8-ジアザビシクロ[5,4,0]-7-ウンデセン、1,5-ジアザビシクロ[4,3,0]-5-ノネン等のアミン類やジブチル錫ジラウレート等の触媒を用いることができる。
<化合物(B)>
 本発明における化合物(B)は、エポキシ基と、末端不飽和炭化水素基とを有する化合物である。エポキシ基を有することでポリイミド樹脂(A)や後記のポリカルボジイミドと反応させることができ、末端不飽和炭化水素基を有することで化合物(B)自身や、後記の化合物(C)と反応させることができるため、これらの化合物間でより架橋密度を高めることによって、優れたはんだ耐熱性を実現できる。ここで、末端不飽和炭化水素基とは、例えば、ビニル基、ビニリデン基や、アリル基、アクリル基、メタクリル基、スチレン基など、CH=Cの構造を有する基をいう。
 化合物(B)は、エポキシ基以外の環構造を有していることが好ましい。化合物(B)が環構造を有していると、耐熱性を向上でき、かつ誘電特性にも優れる。化合物(B)の有する環構造としては、芳香環構造またはイソシアヌル環構造であること耐熱性の観点で好ましい。このような化合物(B)の具体例としてはジアリルモノグリシジルイソシアヌレートやジグリシジルモノアリルイソシアヌレートが挙げられる。これらを使用することによって、架橋密度を高め、はんだ耐熱性を向上させることができる。
 化合物(B)の分子量は500以下であることが好ましい。より好ましくは400以下である。分子量が前記値以下であることで、溶剤への溶解性や、ポリイミド樹脂(A)や化合物(C)、ポリカルボジイミドとの反応性が良好となり、架橋密度を高め、はんだ耐熱性を向上させることができる。
 化合物(B)は、末端不飽和炭化水素基を2個以上有していることが化合物(A)との反応性の観点から好ましい。他方、エポキシ基は低誘電特性の観点から、1つ有していればよい。
 本発明の接着剤組成物における化合物(B)の含有量としては、ポリイミド樹脂(A)100質量部に対し、0.1質量部以上であることが好ましく、より好ましくは1質量部以上である。また、50質量部以下であることが好ましく、より好ましくは20質量部以下である。前記の範囲内であると、優れた接着性とはんだ耐熱性を両立することができる。また化合物(B)の含有量は、化合物(C)も配合する場合、化合物(C)の末端不飽和炭化水素基に対し、1当量以上の末端不飽和炭化水素基とすることが好ましい。1当量以上とすることによって、架橋密度を高め、優れたはんだ耐熱性を発現することができる。
<化合物(C)>
 本発明の接着剤組成物は、末端不飽和炭化水素基を有し、かつ5%重量減少温度が260℃以上である化合物(C)を含有してもよい。化合物(C)を含有すると、化合物(C)が末端不飽和炭化水素基を有することで、前記化合物(B)との反応により、架橋密度を高め、はんだ耐熱性を向上することができる。また、反応後に誘電特性を悪化させる水酸基を発生させないため、より優れた誘電特性を有する接着剤とすることができる。末端不飽和炭化水素基は、1分子中に2個以上有することが、より架橋密度を高められるため好ましい。
 化合物(C)の5%重量減少温度は260℃以上であることが必要である。好ましくは270℃以上、より好ましくは280℃以上、さらに好ましくは290℃以上である。5%重量減少温度が前記値以上にあることで、はんだの融点を超える温度でも外観不良を発生させることなく、はんだ付けを行うことが可能となる。
 化合物(C)は、構造単位として芳香環構造または脂環構造を有していることが好ましい。構造単位として芳香環構造または脂環構造を有することではんだ耐熱性を向上でき、かつ誘電特性にも優れる。中でも芳香環構造または脂環構造を化合物(C)の骨格として有することが好ましく、ポリフェニレンエーテルまたはフェノール樹脂であることが好ましい。末端不飽和炭化水素基を有するポリフェニレンエーテルの具体例としては、SABIC社のSA-9000や三菱ガス化学社のOPE-2Stが挙げられる。また、末端不飽和炭化水素基を有するフェノール樹脂としては、群栄化学工業社のレヂトップFTC-809AEが例示される。
 化合物(C)の数平均分子量としては、500以上であることが好ましく、より好ましくは1000以上である。また、100000以下であることが好ましく、より好ましくは10000以下であり、さらに好ましくは5000以下である。前記の範囲内であると、溶剤への溶解性が良好であり、均一な接着剤塗膜を形成することができる。
 本発明の接着剤組成物における化合物(C)の含有量としては、ポリイミド樹脂(A)100質量部に対し、1質量部以上であることが好ましく、より好ましくは10質量部以上である。また、100質量部以下であることが好ましく、より好ましくは50質量部以下である。前記の範囲内であると、優れた接着性とはんだ耐熱性を両立することができる。
<ラジカル発生剤>
 本発明の接着剤組成物はラジカル発生剤を含むことも好ましい。本発明の接着剤組成物は加熱によって化合物(B)や化合物(C)を反応させることもできるが、ラジカル発生剤によって発生したラジカルが化合物(B)や化合物(C)の末端不飽和炭化水素基同士を効率的に反応させ、架橋密度を高めることで、はんだ耐熱性や誘電特性を向上させることができる。ラジカル発生剤としては、特に限定されないが、有機過酸化物を使用することが好ましい。有機過酸化物としては、特に限定されないが、ジ-tert-ブチルパーオキシフタレート、tert-ブチルヒドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、tert-ブチルパーオキシベンゾエート、tert-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、tert-ブチルパーオキシピバレート、メチルエチルケトンパーオキサイド、ジ-tert-ブチルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド等の過酸化物;アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスイソプロピオニトリル等のアゾニトリル類等が挙げられる。
 本発明に用いられるラジカル発生剤の1分間半減期温度としては、140℃以上であることが好ましい。140℃以上にすることで、接着剤組成物ワニスの溶剤を揮発させて接着剤シートを作成する際にラジカル反応が開始することを防ぎ、優れた接着性を発現することができる。
 本発明に用いられるラジカル発生剤の配合量としては、化合物(B)100質量部に対し、0.1質量部以上であることが好ましく、さらに好ましくは1質量部以上である。また、50質量部以下が好ましく、さらに好ましくは10質量部以下である。上記範囲内にすることによって、最適な架橋密度とすることができ、接着性とはんだ耐熱性を両立することができる。
<ポリカルボジイミド>
 本発明の接着剤組成物はポリカルボジイミドを含有することができる。ポリカルボジイミドとしては、分子内にカルボジイミド結合を2個以上有するものであれば特に限定されない。ポリカルボジイミドを使用することによって、ポリイミド樹脂(A)の水酸基とカルボジイミド結合とが反応し、耐熱性や接着性を向上することができる。また、ポリイミド樹脂(A)と化合物(B)との反応で生成する水酸基との反応によって水酸基を消失させることにより、誘電特性の向上にも寄与する。
 本発明の接着剤組成物において、ポリカルボジイミドの含有量は、ポリイミド樹脂(A)100質量部に対して、1質量部以上であることが好ましく、より好ましくは3質量部以上である。前記下限値以上とすることで架橋密度を高めることができ、はんだ耐熱性が良好となる。また、20質量部以下であることが好ましく、より好ましくは10質量部以下である。前記上限値以下とすることで優れたはんだ耐熱性および低誘電特性を発現することができる。すなわち、上記範囲内とすることで、優れたはんだ耐熱性および低誘電特性を有する接着剤組成物を得ることができる。
<エポキシ樹脂>
 本発明の接着剤組成物はエポキシ樹脂を含有することができる。本発明で用いるエポキシ樹脂としては、分子中にエポキシ基を有するものであれば、特に限定されないが、好ましくは分子中に2個以上のエポキシ基を有するものである。具体的には、特に限定されないが、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルパラアミノフェノール、テトラグリシジルビスアミノメチルシクロヘキサノン、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-m-キシレンジアミン、およびエポキシ変性ポリブタジエンからなる群から選択される少なくとも1つを用いることができる。好ましくは、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-m-キシレンジアミン、ビフェニル型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂またはエポキシ変性ポリブタジエンである。より好ましくは、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-m-キシレンジアミンであり、優れた接着性を発現させることができる。
 本発明の接着剤組成物において、エポキシ樹脂の含有量は、ポリイミド樹脂(A)100質量部に対して、0.1質量部以上であることが好ましく、より好ましくは0.5質量部以上であり、さらに好ましくは1質量部以上である。前記下限値以上とすることで、十分な硬化効果が得られ、優れた接着性およびはんだ耐熱性を発現することができる。また、10質量部以下であることが好ましく、より好ましくは5質量部以下である。前記上限値以下とすることで、ポットライフ性および低誘電特性が良好となる。すなわち、上記範囲内とすることで、接着性、はんだ耐熱性およびポットライフ性に加え、優れた低誘電特性を有する接着剤組成物を得ることができる。
 本発明の接着剤組成物は、さらに有機溶剤を含有することができる。本発明で用いる有機溶剤は、ポリイミド樹脂(A)、化合物(B)、化合物(C)等を溶解させるものであれば、特に限定されない。具体的には、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン等の脂肪族系炭化水素、シクロヘキサン、シクロヘキセン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロへキサン等の脂環族炭化水素、トリクロルエチレン、ジクロルエチレン、クロルベンゼン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、プロパンジオール、フェノール等のアルコール系溶剤、アセトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、ペンタノン、ヘキサノン、シクロヘキサノン、イソホロン、アセトフェノン等のケトン系溶剤、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ等のセルソルブ類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、ギ酸ブチル等のエステル系溶剤、エチレングリコールモノn-ブチルエーテル、エチレングリコールモノiso-ブチルエーテル、エチレングリコールモノtert-ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノn-ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノiso-ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノn-ブチルエーテル、テトラエチレングリコールモノn-ブチルエーテル等のグリコールエーテル系溶剤等を使用することができ、これら1種または2種以上を併用することができる。特に作業環境性、乾燥性から、メチルシクロへキサンやトルエンが好ましい。
 有機溶剤は、ポリイミド樹脂(A)100質量部に対して、100~1000質量部の範囲であることが好ましい。前記下限値以上とすることで液状およびポットライフ性が良好となる。また、前記上限値以下とすることで製造コストや輸送コストの面から有利となる。
 また、本発明の接着剤組成物には、さらに他の成分を必要に応じて含有してもよい。このような成分の具体例としては、難燃剤、粘着付与剤、フィラー、シランカップリング剤が挙げられる。
<難燃剤>
 本発明の接着剤組成物には必要に応じて難燃剤を配合しても良い。難燃剤としては、臭素系、リン系、窒素系、水酸化金属化合物等が挙げられる。中でも、リン系難燃剤が好ましく、リン酸エステル、例えば、トリメチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート等、リン酸塩、例えばホスフィン酸アルミニウム等、ホスファゼン等の公知のリン系難燃剤を使用できる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を任意に組み合わせて使用しても良い。難燃剤を含有させる場合、ポリイミド樹脂(A)、化合物(B)および化合物(C)の合計100質量部に対し、難燃剤を1~200質量部の範囲で含有させることが好ましく、5~150質量部の範囲がより好ましく、10~100質量部の範囲が最も好ましい。前記範囲内とすることで接着性、はんだ耐熱性および電気特性を維持しつつ、難燃性を発現することができる。
<粘着付与剤>
 本発明の接着剤組成物には必要に応じて粘着付与剤を配合しても良い。粘着付与剤としては、ポリテルペン樹脂、ロジン系樹脂、脂肪族系石油樹脂、脂環族系石油樹脂、共重合系石油樹脂、スチレン樹脂および水添石油樹脂等が挙げられ、接着強度を向上させる目的で用いられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上を任意に組み合わせて使用しても良い。粘着付与剤を含有させる場合、ポリイミド樹脂(A)、化合物(B)および化合物(C)の合計100質量部に対し、1~200質量部の範囲で含有させることが好ましく、5~150質量部の範囲がより好ましく、10~100質量部の範囲が最も好ましい。前記範囲内とすることで接着性、はんだ耐熱性および電気特性を維持しつつ、粘着付与剤の効果を発現することができる。
<フィラー>
 本発明の接着剤組成物には必要に応じてフィラーを配合しても良い。有機フィラーとしては、耐熱性樹脂であるポリイミド、ポリアミドイミド、フッ素樹脂、液晶ポリエステルなどの粉末が挙げられる。また、無機フィラーとしては、例えば、シリカ(SiO)、アルミナ(Al)、チタニア(TiO)、酸化タンタル(Ta)、ジルコニア(ZrO)、窒化硅素(Si)、窒化ホウ素(BN)、炭酸カルシウム(CaCO)、硫酸カルシウム(CaSO)、酸化亜鉛(ZnO)、チタン酸マグネシウム(MgO・TiO)、硫酸バリウム(BaSO)、有機ベントナイト、クレー、マイカ、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウムなどが挙げられ、この中では分散の容易さや耐熱性向上効果からシリカが好ましい。
 シリカとしては一般に疎水性シリカと親水性シリカが知られているが、ここでは耐吸湿性を付与する上でジメチルジクロロシランやヘキサメチルジシラザン、オクチルシラン等で処理を行った疎水性シリカの方が良い。シリカを配合する場合、その配合量は、ポリイミド樹脂(A)と化合物(B)および化合物(C)の合計100質量部に対し、0.05~30質量部の配合量であることが好ましい。前記下限値以上とすることで更なる耐熱性を発現することができる。また、前記上限値以下とすることでシリカの分散不良や溶液粘度が高くなりすぎることを抑え、作業性が良好となる。
<シランカップリング剤>
 本発明の接着剤組成物には必要に応じてシランカップリング剤を配合しても良い。シランカップリング剤を配合することにより金属への接着性や耐熱性の特性が向上するため非常に好ましい。シランカップリング剤としては特に限定されないが、不飽和基を有するもの、エポキシ基を有するもの、アミノ基を有するものなどが挙げられる。これらのうち耐熱性の観点からγ-グリシドキシプロピルトリメトキシシランやβ-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランやβ-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン等のエポキシ基を有したシランカップリング剤がさらに好ましい。シランカップリング剤を配合する場合、その配合量はポリイミド樹脂(A)、化合物(B)および化合物(C)の合計100質量部に対して0.5~20質量部の配合量であることが好ましい。前記範囲内とすることではんだ耐熱性や接着性を向上することができる。
<積層体>
 本発明の積層体は、基材に接着剤組成物を積層したもの(基材/接着剤層の2層積層体)、または、さらに基材を貼り合わせたもの(基材/接着剤層/基材の3層積層体)である。ここで、接着剤層とは、本発明の接着剤組成物を基材に塗布し、乾燥させた後の接着剤組成物の層をいう。本発明の接着剤組成物を、常法に従い、各種基材に塗布、乾燥すること、およびさらに他の基材を積層することにより、本発明の積層体を得ることができる。
<基材>
 本発明において基材とは、本発明の接着剤組成物を塗布、乾燥し、接着剤層を形成できるものであれば特に限定されるものではないが、フィルム状樹脂等の樹脂基材、金属板や金属箔等の金属基材、紙類等を挙げることができる。
 樹脂基材としては、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、液晶ポリマー、ポリフェニレンスルフィド、シンジオタクチックポリスチレン、ポリオレフィン系樹脂、及びフッ素系樹脂等を例示することができる。好ましくはフィルム状樹脂(以下、基材フィルム層ともいう)である。
 金属基材としては、回路基板に使用可能な任意の従来公知の導電性材料が使用可能である。素材としては、SUS、銅、アルミニウム、鉄、スチール、亜鉛、ニッケル等の各種金属、及びそれぞれの合金、めっき品、亜鉛やクロム化合物など他の金属で処理した金属等を例示することができる。好ましくは金属箔であり、より好ましくは銅箔である。金属箔の厚みについては特に限定はないが、好ましくは1μm以上であり、より好ましくは、3μm以上であり、さらに好ましくは10μm以上である。また、好ましくは50μm以下であり、より好ましくは30μm以下であり、さらに好ましくは20μm以下である。厚さが薄すぎる場合には、回路の充分な電気的性能が得られにくい場合があり、一方、厚さが厚すぎる場合には回路作製時の加工能率等が低下する場合がある。金属箔は、通常、ロール状の形態で提供されている。本発明のプリント配線板を製造する際に使用される金属箔の形態は特に限定されない。リボン状の形態の金属箔を用いる場合、その長さは特に限定されない。また、その幅も特に限定されないが、250~500cm程度であるのが好ましい。基材の表面粗度は特に限定はないが、好ましくは3μm以下であり、より好ましくは2μm以下であり、さらに好ましくは1.5μm以下ある。また実用上好ましくは0.3μm以上であり、より好ましくは、0.5μm以上であり、さらに好ましくは0.7μm以上である。
 紙類として上質紙、クラフト紙、ロール紙、グラシン紙等を例示することができる。また複合素材として、ガラスエポキシ等を例示することができる。
 接着剤組成物との接着力、耐久性から、基材としては、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、液晶ポリマー、ポリフェニレンスルフィド、シンジオタクチックポリスチレン、ポリオレフィン系樹脂、フッ素系樹脂、SUS鋼板、銅箔、アルミ箔、またはガラスエポキシが好ましい。
<接着シート>
 本発明において、接着シートとは、前記基材と離型基材とを接着剤組成物を介して積層したものである。具体的な構成態様としては、基材/接着剤層/離型基材、または離型基材/接着剤層/基材/接着剤層/離型基材が挙げられる。離型基材を積層することで接着剤層の保護層として機能する。また離型基材を使用することで、接着シートから離型基材を離型して、さらに別の基材に接着剤層を転写することができる。
 本発明の接着剤組成物を、常法に従い、各種基材に塗布、乾燥することにより、本発明の接着シートを得ることができる。また乾燥後、接着剤層に離型基材を貼付けると、基材への裏移りを起こすことなく巻き取りが可能になり操業性に優れるとともに、接着剤層が保護されることから保存性に優れ、使用も容易である。また離型基材に塗布、乾燥後、必要に応じて別の離型基材を貼付すれば、接着剤層そのものを他の基材に転写することも可能になる。
<離型基材>
 離型基材としては、特に限定されるものではないが、例えば、上質紙、クラフト紙、ロール紙、グラシン紙などの紙の両面に、クレー、ポリエチレン、ポリプロピレンなどの目止剤の塗布層を設け、さらにその各塗布層の上にシリコーン系、フッ素系、アルキド系の離型剤が塗布されたものが挙げられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン-α-オレフィン共重合体、プロピレン-α-オレフィン共重合体等の各種オレフィンフィルム単独、及びポリエチレンテレフタレート等のフィルム上に上記離型剤を塗布したものも挙げられる。離型基材と接着剤層との離型力、シリコーンが電気特性に悪影響を与える等の理由から、上質紙の両面にポリプロピレン目止処理しその上にアルキド系離型剤を用いたもの、またはポリエチレンテレフタレート上にアルキド系離型剤を用いたものが好ましい。
 なお、本発明において接着剤組成物を基材上にコーティングする方法としては、特に限定されないが、コンマコーター、リバースロールコーター等が挙げられる。もしくは、必要に応じて、プリント配線板構成材料である圧延銅箔、またはポリイミドフィルムに直接もしくは転写法で接着剤層を設けることもできる。乾燥後の接着剤層の厚みは、必要に応じて、適宜変更されるが、好ましくは5~200μmの範囲である。接着フィルム厚を5μm以上とすることで十分な接着強度が得られる。また、200μm以下とすることで乾燥工程の残留溶剤量を制御しやすくなり、プリント配線板製造のプレス時にフクレが生じにくくなる。乾燥条件は特に限定されないが、乾燥後の残留溶剤率は1質量%以下が好ましい。1質量%以下とすることで、プリント配線板プレス時に残留溶剤が発泡することを抑え、フクレが生じにくくなる。
<プリント配線板>
 本発明におけるプリント配線板は、導体回路を形成する金属箔と樹脂基材とから形成された積層体を構成要素として含むものである。プリント配線板は、例えば、金属張積層体を用いてサブトラクティブ法などの従来公知の方法により製造される。必要に応じて、金属箔によって形成された導体回路を部分的、或いは全面的にカバーフィルムやスクリーン印刷インキ等を用いて被覆した、いわゆるフレキシブル回路板(FPC)、フラットケーブル、テープオートメーティッドボンディング(TAB)用の回路板などを総称している。
 本発明のプリント配線板は、プリント配線板として採用され得る任意の積層構成とすることができる。例えば、基材フィルム層、金属箔層、接着剤層、およびカバーフィルム層の4層から構成されるプリント配線板とすることができる。また例えば、基材フィルム層、接着剤層、金属箔層、接着剤層、およびカバーフィルム層の5層から構成されるプリント配線板とすることができる。
 さらに、必要に応じて、上記のプリント配線板を2つもしくは3つ以上積層した構成とすることもできる。
 本発明の接着剤組成物はプリント配線板の各接着剤層に好適に使用することが可能である。特に本発明の接着剤組成物を接着剤として使用すると、プリント配線板を構成する従来のポリイミド、ポリエステルフィルム、銅箔だけでなく、LCPなどの低極性の樹脂基材と高い接着性を有し、耐はんだリフロー性を得ることができ、接着剤層自身が低誘電特性に優れる。そのため、カバーレイフィルム、積層板、樹脂付き銅箔及びボンディングシートに用いる接着剤組成物として好適である。
 本発明のプリント配線板において、基材フィルムとしては、従来からプリント配線板の基材として使用されている任意の樹脂フィルムが使用可能である。基材フィルムの樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、液晶ポリマー、ポリフェニレンスルフィド、シンジオタクチックポリスチレン、ポリオレフィン系樹脂、及びフッ素系樹脂等を例示することができる。特に、液晶ポリマー、ポリフェニレンスルフィド、シンジオタクチックポリスチレン、ポリオレフィン系樹脂等の低極性基材に対しても、優れた接着性を有する。
<カバーフィルム>
 カバーフィルムとしては、プリント配線板用の絶縁フィルムとして従来公知の任意の絶縁フィルムが使用可能である。例えば、ポリイミド、ポリエステル、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、アラミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリアミドイミド、液晶ポリマー、シンジオタクチックポリスチレン、ポリオレフィン系樹脂等の各種ポリマーから製造されるフィルムが使用可能である。より好ましくは、ポリイミドフィルムまたは液晶ポリマーフィルムである。
 本発明のプリント配線板は、上述した各層の材料を用いる以外は、従来公知の任意のプ
ロセスを用いて製造することができる。
 好ましい実施態様では、カバーフィルム層に接着剤層を積層した半製品(以下、「カバーフィルム側半製品」という)を製造する。他方、基材フィルム層に金属箔層を積層して所望の回路パターンを形成した半製品(以下、「基材フィルム側2層半製品」という)または基材フィルム層に接着剤層を積層し、その上に金属箔層を積層して所望の回路パターンを形成した半製品(以下、「基材フィルム側3層半製品」という)を製造する(以下、基材フィルム側2層半製品と基材フィルム側3層半製品とを合わせて「基材フィルム側半製品」という)。このようにして得られたカバーフィルム側半製品と、基材フィルム側半製品とを貼り合わせることにより、4層または5層のプリント配線板を得ることができる。
 基材フィルム側半製品は、例えば、(A)前記金属箔に基材フィルムとなる樹脂の溶液を塗布し、塗膜を初期乾燥する工程、(B)(A)で得られた金属箔と初期乾燥塗膜との積層物を熱処理・乾燥する工程(以下、「熱処理・脱溶剤工程」という)を含む製造法により得られる。
 金属箔層における回路の形成は、従来公知の方法を用いることができる。アディティブ法を用いてもよく、サブトラクティブ法を用いてもよい。好ましくは、サブトラクティブ法である。
 得られた基材フィルム側半製品は、そのままカバーフィルム側半製品との貼り合わせに使用されてもよく、また、離型フィルムを貼り合わせて保管した後にカバーフィルム側半製品との貼り合わせに使用してもよい。
 カバーフィルム側半製品は、例えば、カバーフィルムに接着剤を塗布して製造される。必要に応じて、塗布された接着剤における架橋反応を行うことができる。好ましい実施態様においては、接着剤層を半硬化させる。
 得られたカバーフィルム側半製品は、そのまま基材フィルム側半製品との貼り合わせに使用されてもよく、また、離型フィルムを貼り合わせて保管した後に基材フィルム側半製品との貼り合わせに使用してもよい。
 基材フィルム側半製品とカバーフィルム側半製品とは、それぞれ、例えば、ロールの形態で保管された後、貼り合わされて、プリント配線板が製造される。貼り合わせる方法としては、任意の方法が使用可能であり、例えば、プレスまたはロールなどを用いて貼り合わせることができる。また、加熱プレス、または加熱ロ-ル装置を使用するなどの方法により加熱を行いながら両者を貼り合わせることもできる。
 補強材側半製品は、例えば、ポリイミドフィルムのように柔らかく巻き取り可能な補強材の場合、補強材に接着剤を塗布して製造されることが好適である。また、例えばSUS、アルミ等の金属板、ガラス繊維をエポキシ樹脂で硬化させた板等のように硬く巻き取りできない補強板の場合、予め離型基材に塗布した接着剤を転写塗布することによって製造されることが好適である。また、必要に応じて、塗布された接着剤における架橋反応を行うことができる。好ましい実施態様においては、接着剤層を半硬化させる。
 得られた補強材側半製品は、そのままプリント配線板裏面との貼り合わせに使用されてもよく、また、離型フィルムを貼り合わせて保管した後に基材フィルム側半製品との貼り合わせに使用してもよい。
 基材フィルム側半製品、カバーフィルム側半製品、補強材側半製品はいずれも、本発明におけるプリント配線板用積層体である。
 以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。なお、本実施例および比較例において、単に部とあるのは質量部を示すこととする。
<物性評価方法>
(ガラス転移温度の測定)
 示差走査型熱量計(SII社、DSC-200)を用いて測定した。試料5mgをアルミニウム抑え蓋型容器に入れ密封し、液体窒素を用いて-50℃まで冷却した。次いで150℃まで20℃/分の昇温速度にて昇温させ、昇温過程にて得られる吸熱曲線において、吸熱ピークが出る前(ガラス転移温度以下)のベースラインの延長線と、吸熱ピークに向かう接線(ピークの立ち上がり部分からピークの頂点までの間での最大傾斜を示す接線)との交点の温度をもって、ガラス転移温度(単位:℃)とした。
(5%重量減少温度の測定)
 示差熱・熱重量同時測定装置(株式会社島津製作所、DTG-60)を用いて測定した。アルミニウムパンに入れた5mgの試料を、空気雰囲気下、10℃/分の昇温速度で昇温させ、熱分解によって5%の重量が失われたときの温度を5%重量減少温度(単位:℃)とした。
(酸価の測定)
 ポリイミド樹脂の試料0.2gを40mlのクロロホルムに溶解し、0.01Nの水酸化カリウムエタノール溶液で滴定し、ポリイミド樹脂10gあたりの当量(当量/10g)を求めた。指示薬にはフェノールフタレインを用いた。
(比誘電率(ε)及び誘電正接(tanδ))
 溶剤に溶解したポリイミド樹脂を厚さ100μmのテフロン(登録商標)シートに、乾燥後の厚みが25μmとなるように塗布し、130℃で3分乾燥した後、テフロン(登録商標)シートを剥離して試験用の樹脂シートを得た。その後得られた試験用樹脂シートを8cm×3mmの短冊状にサンプルを裁断し、試験用サンプルを得た。比誘電率(ε)及び誘電正接(tanδ)は、ネットワークアナライザー(アンリツ社製)を使用し、空洞共振器摂動法で、温度23℃、周波数10GHzの条件で測定した。
 以下、本発明に用いるポリイミド樹脂の合成例を示す。
ポリイミド樹脂(a1)の合成例
 温度計、冷却管、窒素ガス導入管のついた4ツ口フラスコに3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物53g、シクロヘキサノン185.5g、メチルシクロヘキサン37.1gを仕込み、溶液を60℃まで加熱した。ついで、ダイマージアミン(PRIAMINE1075、Croda社製)85.4gを滴下した後、140℃で1時間かけてイミド化反応させることにより、ポリイミド樹脂溶液(a1、ガラス転移温度70℃、酸価146当量/10g、比誘電率2.6、誘電正接0.0019)を得た。
 以下、本発明の実施例となる接着剤組成物、および比較例となる接着剤組成物の製造例を示す。
 化合物(B)としては、以下のものを用いた。
(b1):DA-MGIC(四国化成工業社製、ジアリルモノグリシジルイソシアヌレート、分子量265)
(b2):MA-DGIC(四国化成工業社製、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート、分子量281)
 化合物(C)としては、以下のものを用いた。
(c1):SA-9000(SABIC社製、ビニル基を有するポリフェニレンエーテル、数平均分子量1700、5%重量減少温度439℃)
 上記以外のものとして、以下のものを用いた。
(b’3):TAIC(三菱ケミカル社製、トリアリルイソシアヌレート)
(b’4):ジアリルイソシアヌレート(東京化成工業社製)
(b’5):YDCN-700-10:クレゾールノボラック型エポキシ:(日鉄ケミカル&マテリアル社製)
パーブチルP:ラジカル発生剤(日油社製、ビス(1-t-ブチルペルオキシ-1-メチルエチル)ベンゼン、1分間半減期温度175℃)
V-09GB:ポリカルボジイミド(日清紡ケミカル社製)
(実施例1)
 前記の合成例で得たポリイミド樹脂溶液(a1)に、DA-MGIC(四国化成工業社製)、パーブチルP(日油社製)、SA-9000(SABIC社製)をそれぞれポリイミド樹脂(a1)の樹脂分100部に対し5部、1部、20部となるように配合し、接着剤組成物(S1)を得た。
 得られた接着剤組成物(S1)について、比誘電率、誘電正接、ピール強度、はんだ耐熱性、ワニス安定性および接着シート柔軟性の各評価を実施した。結果を表1に記載した。
(実施例2~5、比較例1~4)
 各成分の種類および配合量を表1に示すように変更した以外は実施例1と同様に接着剤組成物(S2)~(S9)を作成し、各評価を実施した。結果を表1に記載した。
<接着剤組成物の評価>
(比誘電率(ε)及び誘電正接(tanδ))
 接着剤組成物を厚さ100μmのテフロン(登録商標)シートに、乾燥後の厚みが25μmとなるように塗布し、140℃で3分乾燥した。次いで170℃で3時間熱処理して硬化させた後、テフロン(登録商標)シートを剥離して試験用の接着剤樹脂シートを得た。その後得られた試験用接着剤樹脂シートを8cm×3mmの短冊状にサンプルを裁断し、試験用サンプルを得た。比誘電率(ε)及び誘電正接(tanδ)は、ネットワークアナライザー(アンリツ社製)を使用し、空洞共振器摂動法で、温度23℃、周波数10GHzの条件で測定した。
<比誘電率の評価基準>
 ○:3.0以下
 ×:3.0を超える  
<誘電正接の評価基準>
 ○:0.003以下
 ×:0.003を超える
(ピール強度(接着性))
 接着剤組成物を厚さ12.5μmのポリイミドフィルム(株式会社カネカ製、アピカル(登録商標))に、乾燥後の厚みが25μmとなるように塗布し、140℃で3分乾燥した。この様にして得られた接着性フィルム(Bステージ品)を厚さ18μmの圧延銅箔(日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製、エスパネックスシリーズ)と貼り合わせた。貼り合わせは、圧延銅箔の光沢面が接着剤層と接する様にして、170℃で2MPaの加圧下に280秒間プレスし、接着した。次いで170℃で3時間熱処理して硬化させ、ピール強度評価用サンプルを得た。ピール強度は、25℃、フィルム引き、引張速度50mm/min、90°剥離の条件で測定した。この試験は常温での接着強度を示すものである。
<評価基準>
 ○:1.0N/mm以上
 ×:1.0N/mm未満
(はんだ耐熱性)
 上記のピール強度測定用と同じ方法で評価用サンプルを作製し、2.0cm×2.0cmのサンプル片を288℃で溶融したはんだ浴に浸漬し、膨れなどの外観変化の有無を確認した。
<評価基準>
 ○:60秒以上膨れ無し
 ×:60秒未満で膨れ有り
(ワニス安定性)
 溶液状態の接着剤組成物を25℃で静置し、配合物が分離することなく、相溶可能な日数を確認した。
<評価基準>
 ○:配合後1日以上分離しない
 ×:配合後1日未満で分離する
(接着シート柔軟性)
 接着剤組成物を厚さ100μmのテフロン(登録商標)シートに、乾燥後の厚みが25μmとなるように塗布し、140℃で3分乾燥した。次いで、そのシートを180°折り曲げた際の塗膜の状態を確認した。
<評価基準>
 ○:ひび割れ無し
 ×:ひび割れ有り
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 表1から明らかなように、実施例1~6は、誘電特性、ピール強度、はんだ耐熱性、ワニス安定性および接着シート柔軟性に優れる。一方、比較例1ではトリアリルイソシアヌレートとポリイミド樹脂の相溶性、すなわちワニス安定性が悪く、配合後沈殿が発生したため、すべての評価をすることが出来なかった。比較例2では、化合物(B)がエポキシ基を有していないために、硬化不十分であり、はんだ耐熱性が不足した。比較例3では化合物(B)を使用していないために、誘電特性が悪化し、さらに硬化不十分であるために、はんだ耐熱性が不足した。比較例4はポリイミド樹脂(A)を含んでいないために接着シートが脆く、すべての評価を実施できなかった。
 本発明の接着剤組成物は、耐熱性、接着強度に優れ、比誘電率および誘電正接が低く、またシートの柔軟性も良好である。そのため、高周波領域のFPC用接着剤や接着シートとして有用である。

 

Claims (10)

  1. ポリイミド樹脂(A)およびエポキシ基と末端不飽和炭化水素基とを有する化合物(B)を含有する接着剤組成物。
  2. さらに、末端不飽和炭化水素基を有し、かつ5%重量減少温度が260℃以上である化合物(C)を含有する、請求項1に記載の接着剤組成物。
  3. 前記化合物(C)が構造単位として芳香環構造または脂環構造を有する化合物である、請求項2に記載の接着剤組成物。
  4. 前記化合物(C)が、末端不飽和炭化水素基を有する、ポリフェニレンエーテルまたはフェノール樹脂である、請求項2に記載の接着剤組成物。
  5. 前記化合物(B)がイソシアヌル環を有する化合物である、請求項1~4のいずれかに記載の接着剤組成物。
  6. 前記ポリイミド樹脂(A)の誘電正接が0.005以下である、請求項1~5のいずれかに記載の接着剤組成物。
  7. さらにポリカルボジイミドを含んでなる請求項1~6のいずれかに記載の接着剤組成物。
  8. 請求項1~7のいずれかに記載の接着剤組成物からなる接着剤層を有する接着シート。
  9. 請求項1~7のいずれかに記載の接着剤組成物からなる接着剤層を有する積層体。
  10. 請求項9に記載の積層体を構成要素として含むプリント配線板。
     

     
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