WO2023095291A1

WO2023095291A1 - ミスト流量測定装置

Info

Publication number: WO2023095291A1
Application number: PCT/JP2021/043422
Authority: WO
Inventors: 孝浩平松; 容征織田
Original assignee: 東芝三菱電機産業システム株式会社
Priority date: 2021-11-26
Filing date: 2021-11-26
Publication date: 2023-06-01
Also published as: JPWO2023095291A1; CN116829912A; JP7309308B1; KR20230098868A; US20240085230A1; TW202325412A

Abstract

本開示は、精度良く原料ミストの流量を求めることができるミスト流量測定装置を提供することを目的とする。そして、本開示のミスト流量測定装置において、上流配管（７）、大径透明配管（３１）及び下流配管（８）の組合せによって外部排出用配管が構成される。大径透明配管（３１）内のミスト流通領域の一部が、ミスト撮像用カメラの撮像対象領域となる。大径透明配管（３１）の内径（Ｄ３１）は、上流配管（７）の内径（Ｄ７）及び下流配管（８）の内径（Ｄ８）より大きい値に設定される。すなわち、大径透明配管（３１）、上流配管（７）及び下流配管（８）は、｛Ｄ３１＞Ｄ７＝Ｄ８｝の内径に関する大小関係を有している。

Description

ミスト流量測定装置

　原料ミストを含むミスト含有ガスが流れる状況下で原料ミストの流量を測定するミスト流量測定装置に関する。

　従来、ミスト含有ガス中に含まれるミストの流量を測定する手法は確立しておらず、ミスト化する前の液体状の原料溶液の消費量を測定することにより、間接的にミストの流量を測定していた。

　図２４は従来の超音波霧化システムの構成（その１）を示す説明図である。図２４に示すように、従来の超音波霧化システム２００１は、超音波霧化装置２０１、原料溶液供給部２０及び流量制御部２７を主要構成要素として有している。

　超音波霧化装置２０１は、霧化用容器１、液面位置検知センサー２５及び超音波振動子２を主要構成要素として含んでいる。

　霧化用容器１内には原料溶液１５が収容される。霧化用容器１の底面に所定数の超音波振動子２（図２４は１個のみ示す）が配設されている。

　このような構成の超音波霧化装置２０１において、超音波振動子２が超音波振動を印加する超音波振動処理を実行すると、超音波の振動エネルギーが霧化用容器１の底面を介して、霧化用容器１内の原料溶液１５に伝達される。

　すると、原料溶液１５は粒径が１０μｍ以下のミストへと移行することにより、霧化用容器１内で原料ミスト３が得られる。

　ガス供給配管４からはキャリアガスＧ４が霧化用容器１内に供給される。キャリアガスＧ４は、原料ミスト３をミストガス用配管２８を介して超音波霧化装置２０１の外部のミスト利用処理部へと搬送するために所定の流量で霧化用容器１内に供給される。

　その結果、ミストガス用配管２８内で原料ミスト３を含むミスト含有ガスＧ３が外部に搬送される。

　霧化用容器１は内部に液面位置検知センサー２５を有している。液面位置検知センサー２５は、原料溶液１５の液面高さ位置を検知することができるセンサーである。液面位置検知センサー２５の一部は、原料溶液１５に浸っている。液面位置検知センサー２５は、原料溶液１５の液面１５ａの位置を検出し、検出した液面１５ａの位置を示すセンサー情報Ｓ２５を得る。

　原料溶液供給部２０は、容器２１、ポンプ２２、流量計２３及び原料溶液供給側配管２４を主要構成要素として含んでいる。容器２１は原料溶液１５を収容している。流量計２３は原料溶液供給側配管２４を流れる流量を測定して、測定した流量を示す測定流量情報Ｓ２３を得る。

　流量制御部２７は、流量計２３より測定流量情報Ｓ２３を受け、液面位置検知センサー２５よりセンサー情報Ｓ２５を受ける。

　流量制御部２７は、測定流量情報Ｓ２３が示す測定流量によって、原料溶液供給側配管２４を流れる流量を常に認識している。

　流量制御部２７は、センサー情報Ｓ２５が示す原料溶液１５の液面１５ａの位置から、霧化用容器１内の原料溶液１５の変化量を常に認識している。

　流量制御部２７は、測定流量情報Ｓ２３及びセンサー情報Ｓ２５に基づき、後述する流量制御条件を満足するように、ポンプ２２の駆動量を指示するポンプ駆動信号Ｓ２７を出力する原料供給制御処理を実行する。

　上述した流量制御条件は、「センサー情報Ｓ２５が示す原料溶液１５の液面１５ａの位置が所定の液面高さから許容範囲内にある」条件となる。

　従来の超音波霧化システム２００１では、液面位置検知センサー２５より得られるセンサー情報Ｓ２５から、霧化用容器１内の原料溶液１５の所定の液面高さからの変化量を認識し、認識した原料溶液１５の変化量から、ミスト含有ガスＧ３に含まれる原料ミスト３の流量を推測するという第１の流量推測法を採用していた。

　図２５は従来の超音波霧化システムの構成（その２）を示す説明図である。図２５に示すように、超音波霧化システム２００２は、超音波霧化装置２０２、原料溶液供給部２０、秤量計２６及び流量制御部２７Ｂを主要構成要素として有している。

　以下、図２４で示した超音波霧化システム２００１と同一の構成要素は同一符号を付すことにより説明を適宜省略し、超音波霧化システム２００２の特徴部分を中心に説明する。

　超音波霧化装置２０２は、霧化用容器１、及び超音波振動子２を主要構成要素として含んでいる。超音波霧化装置２０２は超音波霧化装置２０１と比較して液面位置検知センサー２５を有していない点が異なる。

　原料溶液供給部２０は、容器２１、ポンプ２２、流量計２３及び原料溶液供給側配管２４を主要構成要素として含んでいる。原料溶液供給部２０は超音波霧化装置１００に原料溶液１５を供給している。

　原料溶液供給部２０において、容器２１は原料溶液１５を収容している。流量計２３は原料溶液供給側配管２４を流れる流量を測定して、測定した流量を示す測定流量情報Ｓ２３を得る。

　秤量計２６は容器２１を重量測定可能に支持している。秤量計２６は、原料溶液１５を含む容器２１の重量を測定し重量を示す秤量信号Ｓ２６を出力する。

　流量制御部２７Ｂは、流量計２３より測定流量情報Ｓ２３を受け、秤量計２６より秤量信号Ｓ２６を受ける。

　流量制御部２７Ｂは、測定流量情報Ｓ２３が示す測定流量によって、原料溶液供給側配管２４を流れる流量を常に認識している。

　流量制御部２７Ｂは、秤量信号Ｓ２６が示す容器２１の重量から、容器２１内の原料溶液１５の残存量を常に認識している。

　流量制御部２７Ｂは、測定流量情報Ｓ２３及び秤量信号Ｓ２６に基づき、後述する流量制御条件を満足するように、ポンプ２２の駆動量を指示するポンプ駆動信号Ｓ２７Ｂを出力する原料供給制御処理を実行する。

　上述した流量制御条件は、「秤量信号Ｓ２６が示す重量の単位時間当たりの変化量が許容範囲内にある」条件となる。

　従来の超音波霧化システム２００２では、秤量計２６より得られる秤量信号Ｓ２６から容器２１内の原料溶液１５の変化量を認識している。そして、超音波霧化システム２００２は、容器２１内の原料溶液１５の変化量から、ミスト含有ガスＧ３に含まれる原料ミスト３の流量を推測するという第２の流量推測法を採用していた。

　第２の流量推測法は例えば特許文献１で開示された霧化装置で用いられている。

特許第６１５８３３６号公報

　しかしながら、従来の第１及び第２の流量推測法は、霧化用容器１内の原料溶液１５の変化量または容器２１内の原料溶液１５の変化量に基づき、間接的に原料ミスト３の流量を求めている。

　このため、従来の原料ミスト３の流量測定方法では、以下の推定誤差要因(1)及び(2)が生じてしまう。

　(1) 原料ミスト３を含むミスト含有ガスＧ３の流れと原料溶液１５の消費のタイミングに時間的なズレがある。
　(2) 原料溶液１５から原料ミスト３をミスト化するミスト化効率が設定時より低下すると、その低下分、推定された流量と真の原料ミスト３の流量とのズレが大きくなる。

　このように、第１及び第２の流量推測法を含む、従来の原料ミスト３の流量の測定方法では上述した推定誤差要因があるため、原料ミスト３の流量を正確に測定することができないという問題点があった。

　本開示では、上記のような問題点を解決し、精度良く原料ミストの流量を求めることができるミスト流量測定装置を提供することを目的とする。

　本開示のミスト流量測定装置は、原料ミストを含むミスト含有ガスが流れるミスト流通領域の少なくとも一部を撮像対象領域として撮像処理を実行して撮像情報を取得するミスト撮像用カメラと、前記撮像情報に基づき前記ミスト含有ガスにおける前記原料ミストの流量を求めるミスト流量演算処理を実行するミスト流量演算部と、各々が前記ミスト流通領域を内部に有する第１及び第２のガス供給用配管と、前記ミスト流通領域を内部に有する撮像用配管とを備え、前記第１及び第２のガス供給用配管それぞれの断面形状は内径が一定の円形状であり、前記撮像用配管の断面形状は円形状であり、前記撮像用配管は少なくとも一部に内径が一定の内径一定領域を有し、前記撮像用配管は、前記第１のガス供給用配管と前記第２のガス供給用配管との間に設けられ、構成材料は透明性を有し、前記撮像用配管内の前記ミスト流通領域の一部が前記撮像対象領域となり、前記ミスト含有ガスは、鉛直方向に対向する所定方向に沿って、前記第１のガス供給用配管、前記撮像用配管及び前記第２のガス供給用配管の順に流れ、前記撮像用配管における前記内径一定領域の内径は、前記第１及び第２のガス供給用配管それぞれの内径より大きいことを特徴とする。

　本開示のミスト流量測定装置において、撮像用配管における内径一定領域の内径は、第１及び第２のガス供給用配管それぞれの内径より大きいため、撮像用配管における内径一定領域の内面と第１のガス供給用配管の内面との間に第１の内面差分距離が生じ、撮像用配管における内径一定領域の内面と第２のガス供給用配管の内面との間に第２の内面差分距離が生じる。

　ミスト含有ガスが第１のガス供給用配管から撮像用配管に伝搬される際、上記第１の内面差分距離が生じる分、撮像用配管における内径一定領域の内面にミスト含有ガスが到達する可能性を低減化することができる。

　一方、ミスト含有ガスが撮像用配管から第２のガス供給用配管に伝搬される際、第２のガス供給用配管からミスト含有ガスの一部が跳ね返る可能性がある。しかしながら、上記第２の内面差分距離が生じる分、跳ね返ったミスト含有ガスの一部が撮像用配管における内径一定領域の内面に到達する可能性を低くすることができる。

　その結果、本開示のミスト流量測定装置は、撮像用配管における内径一定領域の内面での結露の発生を抑制してミスト撮像用カメラによる撮像処理を良好に実行することにより、精度良く原料ミストの流量を測定することができる。

　本開示の目的、特徴、局面、および利点は、以下の詳細な説明と添付図面とによって、より明白となる。

本開示の実施の形態１である超音波霧化システムの構成を示す説明図である。図１で示したカメラによる撮像結果の一例を示す説明図である。図１で示したカメラの撮像情報の一例を模式的に示す説明図である。図１で示した上流配管、透明配管及び下流配管の断面構造を示す説明図である。相関パラメータの算出の処理手順を示すフローチャートである。実施の形態１の超音波霧化システムにおける原料溶液の制御方法の処理手順を示すフローチャートである。実施の形態１のミスト流量測定装置によるミスト流量の測定結果の一例を示すグラフである。実施の形態１の変形例による撮像処理及びミスト流量演算処理を示すフローチャートである。本開示の実施の形態２である超音波霧化システムの構成を示す説明図である。本開示の実施の形態３である超音波霧化システムの構成を示す説明図である。本開示の実施の形態４である超音波霧化システムの構成を示す説明図である。本開示の実施の形態５である超音波霧化システムの構成を示す説明図である。図１２で示した上流配管及び下流配管の断面構造を示す説明図である。実施の形態６であるミスト流量測定装置における、上流配管、大径透明配管及び下流配管の断面構造を示す説明図である。図１４で示した大径透明配管及びその周辺全体構造を示す斜視図である。実施の形態７であるミスト流量測定装置における、上流配管、大径透明配管、中間配管及び下流配管の断面構造を示す説明図である。図１６で示した大径透明配管３及び中間配管並びにその周辺の全体構造を示す斜視図である。実施の形態８であるミスト流量測定装置における、上流配管、大径透明配管、中間配管、テーパ状配管及び下流配管の断面構造を示す説明図である。図１８で示した大径透明配管、中間配管、及びテーパ状配管並びにその周辺の全体構造を示す斜視図である。実施の形態９であるミスト流量測定装置における、上流配管、大径透明配管、中間配管及び下流配管の断面構造を示す説明図である。図２０で示した大径透明配管及び中間配管並びにその周辺の全体構造を示す斜視図である。実施の形態１０であるミスト流量測定装置における、上流配管、大径透明配管、中間配管及び下流配管の断面構造を示す説明図である。図２２で示した大径透明配管及び中間配管４５並びにその周辺の全体構造を示す斜視図である。従来の超音波霧化システムの構成（その１）を示す説明図である。従来の超音波霧化システムの構成（その２）を示す説明図である。

　＜実施の形態１＞
　図１は本開示の実施の形態１である超音波霧化システム１００１の構成を示す説明図である。超音波霧化システム１００１は実施の形態１のミスト流量測定装置を含んでいる。実施の形態１のミスト流量測定装置は、カメラ５、光源６、透明配管１０、及びミスト流量演算部１６を主要構成要素として含んでいる。

　図１に示すように、超音波霧化システム１００１は、上述したミスト流量測定装置に加え、超音波霧化装置１００、原料溶液供給部２０、流量制御部１７、上流配管７及び下流配管８を主要構成要素として含んでいる。なお、上流配管７及び下流配管８は、透明配管１０を設けるためのミスト流量測定装置の補助部材としての役割を含んでいる。

　上流配管７、透明配管１０及び下流配管８は互いに連結されており、配管７，１０及び９の組合せによって、ミスト含有ガスＧ３の外部排出用配管が構成される。上流配管７は第１のガス供給用配管となり、下流配管８は第２のガス供給配管となり、透明配管１０は撮像用配管となる。

　超音波霧化装置１００は、霧化用容器１、及び超音波振動子２を主要構成要素として含んでいる。

　霧化用容器１内には原料溶液１５が収容される。霧化用容器１の底面に所定数の超音波振動子２（図１は１個のみ示す）が配設されている。なお、原料溶液１５として、例えば、アルミニウム（Ａｌ）や亜鉛（Ｚｎ）等の金属元素が含まれている材料溶液が考えられる。

　このような構成の超音波霧化装置１００において、超音波振動子２が超音波振動を印加する超音波振動処理を実行すると、超音波の振動エネルギーが霧化用容器１の底面を介して、霧化用容器１内の原料溶液１５に伝達される。

　一方、ガス供給配管４からはキャリアガスＧ４が霧化用容器１内に供給される。霧化用容器１内の原料ミスト３を上流配管７等の外部排出用配管を介して超音波霧化装置１００の外部のミスト利用処理部へと搬送するために、キャリアガスＧ４は所定の流量で霧化用容器１内に供給される。キャリアガスＧ４として、例えば高濃度の不活性ガスを採用することができる。

　その結果、上流配管７、透明配管１０及び下流配管８の組合せからなる外部排出用配管内を原料ミスト３を含むミスト含有ガスＧ３が伝搬し、最終的に外部に供給される。ミスト含有ガスＧ３は原料ミスト３がキャリアガスＧ４によって搬送された状態のガスを意味する。

　前述したように、霧化用容器１から上流配管７、透明配管１０及び下流配管８を介して原料ミスト３を含むミスト含有ガスＧ３が外部に供給されている。上流配管７、透明配管１０及び下流配管８それぞれの内部が、ミスト含有ガスＧ３の流路となる。すなわち、上流配管７及び下流配管８はそれぞれ内部にミスト流通領域を有している。

　このように、超音波霧化装置１００は、原料溶液１５に対し超音波振動子２による超音波振動処理を行い原料ミスト３生成し、キャリアガスＧ４によってミスト含有ガスＧ３をミスト流通領域に流している。

　実施の形態１のミスト流量測定装置において、撮像用配管である透明配管１０内のミスト流通領域の一部が、ミスト撮像用カメラであるカメラ５の撮像対象領域となる。

　光源６は、透明配管１０内の撮像対象領域に入射光Ｌ１を照射する。すると、ミスト含有ガスＧ３の撮像対象領域にて入射光Ｌ１が反射して反射光Ｌ２が得られる。

　そして、ミスト撮像用カメラであるカメラ５は反射光Ｌ２を撮像する撮像処理を実行する。すなわち、カメラ５による撮像処理は、原料ミスト３を含むミスト含有ガスＧ３が流れるミスト流通領域の少なくとも一部を撮像対象領域とした反射光Ｌ２の撮像処理となる。

　カメラ５は撮像処理を実行して撮像情報Ｓ５を取得する。撮像情報Ｓ５は、撮像対象領域に対応する複数の画素における複数の輝度値を示している。

　図２はカメラ５による撮像結果の一例を示す説明図である。図３は撮像情報Ｓ５の一例を模式的に示す説明図である。

　カメラ５が反射光Ｌ２を撮像する撮像処理を実行すると、図２に示すように、撮像対象領域Ｒ５における撮像結果が得られる。撮像対象領域Ｒ５内において、黒色の濃度の濃い領域は黒色の濃度の薄い領域と比較して輝度が高い状態を示している。

　カメラ５は、図２で示すような撮像結果から、内部演算処理を実行して、図３で示すような撮像情報Ｓ５を得る。

　撮像情報Ｓ５において、図３に示すように、Ｎ（≧２）×Ｍ（≧２）でマトリクス配置された複数の画素が撮像対象領域Ｒ５に対応し、複数の画素それぞれが輝度値を有している。図３では画素が示す輝度値が大きい程、より高い輝度であることを示している。

　このように、撮像情報Ｓ５は、複数の画素における複数の輝度値を示す情報となる。なお、図２で示す撮像結果及び図３で示す撮像情報Ｓ５はそれぞれ一例として示したに過ぎず、両者に相関性はない。

　ミスト流量演算部１６は、カメラ５より得られた撮像情報Ｓ５に基づき、ミスト含有ガスＧ３における原料ミスト３の流量を求めるミスト流量演算処理を実行して、原料ミスト３の流量を示すミスト流量情報Ｓ１６を得る。ミスト流量情報Ｓ１６は流量制御部１７に付与される。

　ミスト流量演算部１６によるミスト流量演算処理は、以下の総和値演算処理と流量導出処理とを含んでいる。

　総和値演算処理…撮像情報Ｓ５が示す複数の輝度値の総和である輝度総和値を求める処理
　流量導出処理…総和値演算処理で得た輝度総和値から原料ミスト３の流量を導く処理

　このように、ミスト流量演算部１６は、撮像情報Ｓ５が示す複数の輝度値に基づき、総和値演算処理及び流量導出処理を含むミスト流量演算処理を実行している。

　図４は、上流配管７、透明配管１０及び下流配管８の断面構造を示す説明図である。なお、図４にはＸＹＺ直交座標系を記している。

　同図に示すように、外部排出用配管を構成する上流配管７、透明配管１０及び下流配管８はそれぞれ鉛直方向と平行なＺ方向に沿って配置され、上流配管７と透明配管１０との間、及び透明配管１０と下流配管８との間がそれぞれ連結される。

　したがって、超音波霧化装置１００から供給されるミスト含有ガスＧ３は＋Ｚ方向に沿って、上流配管７、透明配管１０及び下流配管８それぞれの内部を流れる。すなわち、ミスト含有ガスＧ３の流路は、上流配管７、透明配管１０及び下流配管８それぞれの内部に設けられる。また、上流配管７、透明配管１０及び下流配管８それぞれの断面形状は内径が一定の円形状であり、上流配管７、透明配管１０及び下流配管８それぞれの内径は同一に設定される。

　撮像用配管である透明配管１０の構成材料は透明性を有している。さらに、透明配管１０の配管内面Ｓ１０の構成材料は親水性を有している。なお、上流配管７、透明配管１０及び下流配管８それぞれの厚みは任意に設定される。

　図５は原料ミスト３の流量を求めるための相関パラメータの算出の処理手順を示すフローチャートである。相関パラメータの算出処理は、実施の形態１のミスト流量測定装置の実動作に先がけて行われる。

　同図を参照して、ステップＳＴ１１において、原料ミスト３の流量が既知の所定の超音波霧化装置を準備する。ここで、原料ミスト３の流量値をミスト流量ＭＴとする。

　そして、ステップＳＴ１２において、カメラ５による撮像条件を設定する。この撮像条件は、実施の形態１のミスト流量測定装置の実動作時におけるカメラ５の撮像条件と同一内容である。なお、カメラ５は実施の形態１のミスト流量測定装置用のカメラである。

　撮像条件として、例えば、光源６の光量、波長、透明配管１０への入射光Ｌ１の照射角度、カメラ５の撮像位置、撮像対象領域、撮像光種別（反射光、透過光）等が考えられる。なお、所定の超音波霧化装置におけるキャリアガスＧ４の流量は、超音波霧化装置１００におけるキャリアガスＧ４の流量を同一に設定しておくことが望ましい。

　その後、ステップＳＴ１３において、カメラ５による撮像処理を開始し、ステップＳＴ１４において、カメラ５は反射光Ｌ２に対する撮像処理を実行することにより、撮像情報Ｓ５を取得する。

　そして、ステップＳＴ１５において、撮像情報Ｓ５が示す複数の輝度値の総和である輝度総和値を算出する。ここで、輝度総和値ＬＳが算出されたとする。

　その後、ステップＳＴ１６で、相関パラメータＫ１を算出する。ミスト流量ＭＴと輝度総和値ＬＳとは一定の相関関係がある。例えば、ミスト流量ＭＴは、式(1)に示すような輝度総和値ＬＳの一次関数として表される関係があるとする。

　ＭＴ＝Ｋ１・ＬＳ＋ｃ１…(1)
　ｃ１は定数である。

　この場合、式(1)に基づく以下の式(2)から相関パラメータＫ１を算出することができる。

　Ｋ１＝（ＭＴ－ｃ１）／ＬＳ…(2)

　このように、実施の形態１のミスト流量測定装置用に、図５で示すフローで算出できる相関パラメータＫ１を予め準備することができる。

　図６は、図１で示した超音波霧化システム１００１における原料溶液１５の制御方法の処理手順を示すフローチャートである。このフローには、実施の形態１のミスト流量測定装置によるミスト流量測定方法が含まれている。以下、同図を参照して、超音波霧化システム１００１の制御内容を説明する。

　まず、ステップＳＴ１において、実施の形態１のミスト流量測定装置における撮像条件を設定する。ここで、撮像条件は図５で示した相関パラメータＫ１の算出時と同内容である。

　次に、ステップＳＴ２において、ミスト流量演算部１６は相関パラメータＫ１を取得する。相関パラメータＫ１の取得方法として、例えば、図示しない外部記憶装置に相関パラメータＫ１を格納しておき、必要に応じてミスト流量演算部１６が取得する等の方法が考えられる。

　このように、ステップＳＴ２は、複数の輝度値の輝度総和値からミスト流量ＭＦを導くための相関パラメータＫ１を取得するステップとなる。

　その後、ステップＳＴ３において、実施の形態１のミスト流量測定装置はカメラ５による反射光Ｌ２に対する撮像処理を開始し、ステップＳＴ４において、カメラ５は撮像処理を実行することにより、撮像情報Ｓ５を取得する。

　上述したステップＳＴ４は、カメラ５を用いて、ミスト含有ガスＧ３が流れるミスト流通領域の少なくとも一部を撮像対象領域として撮像処理を実行して撮像情報Ｓ５を取得するステップとなる。

　なお、前述したステップＳＴ２の相関パラメータＫ１の取得処理は、ステップＳＴ４の実行後、ステップＳＴ５の実行前に実行するようにしても良い。

　そして、ステップＳＴ５において、ミスト流量演算部１６はミスト流量演算処理を実行してミスト流量ＭＦを算出する。以下、ミスト流量演算処理の詳細を説明する。

　ミスト流量演算部１６は、まず、撮像情報Ｓ５が示す複数の輝度値の総和である輝度総和値を求める総和値演算処理を実行する。その後、ミスト流量演算部１６は、総和値演算処理で得た輝度総和値からミスト流量ＭＦを導く流量導出処理を実行する。

　例えば、総和値演算処理で得た輝度総和値をＬＳとすると、上述した式(1)を適用した以下の式(1A)によってミスト流量ＭＦを求めることができる。

　ＭＦ＝Ｋ１・ＬＳ＋ｃ１…(1A)

　上述したように、ステップＳＴ５の処理は、撮像情報Ｓ５に基づき、相関パラメータＫ１を用いて、複数の輝度値の輝度総和値ＬＳからミスト含有ガスＧ３におけるミスト流量ＭＦを求めるミスト流量演算処理を実行している。

　したがって、実施の形態１のミスト流量測定装置は、ステップＳＴ１～ＳＴ５を含むミスト流量測定方法を実行することにより、撮像情報Ｓ５に基づきミスト流量ＭＦを測定することができる。なお、ミスト流量ＭＦの単位として例えば（Ｌ（リットル）／ｍｉｎ）が考えられる。

　ミスト流量演算部１６が算出したミスト流量ＭＦを示すミスト流量情報Ｓ１６は次段の流量制御部１７に出力される。

　ステップＳＴ６において、超音波霧化システム１００１の流量制御部１７は、原料溶液供給部２０の容器２１から霧化用容器１に供給する原料溶液１５の供給状態を制御する原料供給制御処理を実行する。以下、流量制御部１７によるステップＳＴ６の処理内容の詳細を説明する。

　原料供給制御部である流量制御部１７は、流量計２３より測定流量情報Ｓ２３を受け、ミスト流量演算部１６よりミスト流量情報Ｓ１６を受ける。

　流量制御部１７は、測定流量情報Ｓ２３が示す測定流量によって、原料溶液供給側配管２４を流れる流量を常に認識している。

　流量制御部１７は、ミスト流量情報Ｓ１６が示すミスト流量ＭＦによって、原料ミスト３の流量を常に認識している。

　流量制御部１７は、測定流量情報Ｓ２３及びミスト流量情報Ｓ１６に基づき、後述する流量制御条件を満足するように、ポンプ２２の駆動量を指示するポンプ駆動信号Ｓ１７を出力する原料供給制御処理を実行する。流量制御条件は、例えば、「ミスト流量情報Ｓ１６が示すミスト流量ＭＦが基準ミスト流量から許容範囲内にある」条件となる。

　このように、流量制御部１７は、ミスト流量演算部１６より得られるミスト流量情報Ｓ１６に基づき、超音波霧化装置１００が生成する原料ミスト３の流量を認識し、認識した原料ミスト３の流量が基準ミスト流量から許容範囲内の所定の流量となるように、原料供給制御処理を実行している。

　図７は実施の形態１のミスト流量測定装置によるミスト流量ＭＦの測定結果の一例を示すグラフである。同図において、横軸は経過時間（sec）を示し、縦軸はミスト流量ＭＦに基づく換算流量（値）（任意単位）を示している。

　同図において、換算流量Ｆ１は１個の超音波振動子２に超音波振動処理を実行させた場合を示し、換算流量Ｆ４は４個の超音波振動子２に超音波振動処理を実行させた場合を示している。同図に示すように、換算流量Ｆ４は換算流量Ｆ１より大きく、換算流量Ｆ１及び換算流量Ｆ４はそれぞれ一致の範囲内に収まっており、流量制御部１７による原料供給制御処理が適切に実行されていることがわかる。

　実施の形態１のミスト流量測定装置におけるミスト流量演算部１６は、撮像対象領域Ｒ５に対応する複数の画素における複数の輝度値を示す撮像情報Ｓ５に基づき、ミスト流量演算処理を実行している。

　ミスト流量ＭＦ（原料ミスト３の流量）と複数の輝度値とは一定の相関関係があるため、撮像情報Ｓ５が示す複数の輝度値からミスト流量ＭＦを導くための相関パラメータＫ１を事前に取得することができる（図５参照）。

　その結果、実施の形態１のミスト流量測定装置は、撮像情報Ｓ５に基づき、相関パラメータＫ１を用いたミスト流量演算処理を実行することにより、精度良くミスト流量ＭＦを求めることができる。

　ミスト撮像用カメラであるカメラ５は反射光Ｌ２を撮像する撮像処理を実行することにより、比較的容易に撮像情報Ｓ５を得ることができる。

　ミスト流量演算部１６は、輝度総和値からミスト流量ＭＦを導くことにより、簡単かつ精度の高いミスト流量演算処理を実行することができる。

　実施の形態１のミスト流量測定装置は、ミスト含有ガスＧ３の流路を内部に有する撮像用配管となる透明配管１０を設けることにより、ミスト含有ガスＧ３に含まれる原料ミスト３の拡散を抑制した空間にて、カメラ５による撮像処理を実行することができる。

　加えて、透明配管１０の構成材料は透明性を有するため、透明配管１０の存在がカメラ５による撮像処理に影響を与えることはない。

　撮像用配管となる透明配管１０は鉛直方向（Ｚ方向）に沿って配置されるため、透明配管１０内に結露した液を透明配管１０内に溜めることなく、透明配管１０に対し鉛直方向の下方（－Ｚ方向）に排出することができる。

　このため、実施の形態１のミスト流量測定装置は、透明配管１０内の結露の影響を最小限に抑えて、カメラ５による撮像処理を実行することができる。

　一方、透明配管１０を水平方向に配置した場合、原料ミスト３が透明配管１０内で結露した液が、透明配管１０の下方に溜まってしまう。実施の形態１のミスト流量測定装置では、透明配管１０を鉛直方向に沿って配置するため、上述した現象は生じない。

　透明配管１０の配管内面Ｓ１０の構成材料は親水性を有するため、透明配管１０内に結露が発生しても、結露した液が透明配管１０の配管内面Ｓ１０に水滴として付着する現象を抑制することができる。

　実施の形態１の超音波霧化システム１００１における流量制御部１７（原料供給制御部）は、ミスト流量演算部１６より得られるミスト流量情報Ｓ１６に基づき、ミスト流量ＭＦが所定の流量になるように、原料供給制御処理を実行している。

　このため、実施の形態１の超音波霧化システム１００１は、長期間に亘って、超音波霧化装置１００から生成されるミスト流量ＭＦを所定の流量で安定させることができる。

　実施の形態１のミスト流量測定装置によって実行されるミスト流量測定方法におけるステップＳＴ５（図６参照）は、撮像対象領域Ｒ５に対応する複数の画素における複数の輝度値に基づき、相関パラメータＫ１を用いてミスト流量ＭＦを求めている。

　ミスト流量ＭＦと複数の輝度値とは一定の相関関係があるため、実施の形態１のミスト流量測定方法は、相関パラメータＫ１を用いることにより、精度良くミスト流量ＭＦを求めることができる。

　（変形例）
　図１～図７で示す実施の形態１のミスト流量測定装置では、カメラ５による撮像処理は１回の撮像処理を実行する場合を示したが、連続して複数回の撮像処理を実行する変形例が考えられる。

　例えば、カメラ５が１秒毎に１回の割合で撮像処理を行う性能を有する場合、カメラ５を２０秒間連続して動作させることにより、２０回の撮像処理を行うことができる。

　図８は実施の形態１のミスト流量測定装置の変形例による撮像処理及びミスト流量演算処理を示すフローチャートである。

　同図において、ステップＳＴ４１～ＳＴ４４の処理が図６のステップＳＴ４の処理に対応し、ステップＳＴ５０の処理が図６のステップＳＴ５の処理に対応している。なお、図８のステップＳＴ４１～ＳＴ４４で示す制御は、例えば、ミスト流量演算部１６の制御下で行ったり、カメラ５に内蔵されるＣＰＵ等の制御機構で行ったりすることが考えられる。また、図８で示す例では、Ｋ（≧２）の撮像処理を行う場合を示している。

　図８を参照して、ステップＳＴ４１において、制御パラメータ値ｉを｛ｉ＝１｝に初期設定する。

　そして、ステップＳＴ４２において、カメラ５による１回目の撮像処理を行い、得られた撮像情報Ｓ５を第１の撮像情報として取得する。

　その後、ステップＳＴ４３において、制御パラメータ値ｉに関し、｛ｉ＝Ｋ｝であるか否かが検証される。ここで｛ｉ＝Ｋ｝である場合(YES)、ステップＳＴ５０に移行し、｛ｉ＝Ｋ｝でない場合(NO)、ステップＳＴ４４に移行する。

　ステップＳＴ４４で、制御パラメータ値ｉは“１”増加され｛ｉ＝ｉ＋１｝、ステップＳＴ４２に戻る。以降、ステップＳＴ４３で「ＹＥＳ」と判定されるまで、ステップＳＴ４２～ＳＴ４４の処理が繰り返される。

　ステップＳＴ４３が「ＹＥＳ」になると、Ｋ回（複数回）の撮像処理の実行によって第１～第Ｋの撮像情報（複数の撮像情報）が得られたことになる。なお、第１～第Ｋの撮像情報の一時的記憶機能はカメラ５自身が有していたり、ミスト流量演算部１６に設けたりする態様が考えられる。

　ステップＳＴ４３がＹＥＳの場合に実行されるステップＳＴ５０において、ミスト流量演算部１６は、まず、第１～第Ｋの撮像情報に基づくミスト流量演算処理を実行する。第１～第Ｋの撮像情報が複数回の撮像処理の実行によって得られた複数の撮像情報となる。以下、ステップＳＴ５０の詳細を説明する。

　まず、ミスト流量演算部１６は、第１～第Ｋの撮像情報それぞれに対し総和値演算処理を行い第１～第Ｋの輝度総和値ＬＳ（１）～ＬＳ（Ｋ）（複数の輝度総和値）を求める。

　続いて、ミスト流量演算部１６は、輝度総和値ＬＳ（１）～ＬＳ（Ｋ）の平均値を総和平均値として求め、総和平均値から相関パラメータＫ１を用いてミスト流量ＭＦを求める。

　例えば、総和平均値をＭＳとすると、上述した式(1)を適用した以下の式(1B)によってミスト流量ＭＦを求めることができる。

　ＭＦ＝Ｋ１・ＭＳ＋ｃ１…(1B)

　このように、ミスト流量演算部１６の流量導出処理は、第１～第Ｋの輝度総和値ＬＳ（１）～ＬＳ（Ｋ）からミスト流量ＭＦを導いている。なお、変形例における相関パラメータＫ１の算出する場合、変形例のミスト流量測定装置の実動作時と同様、第１～第Ｋの輝度総和値ＬＳ（１）～ＬＳ（Ｋ）の平均値から、図５で示したフローに沿って算出することが望ましい。

　実施の形態１の変形例は、複数の輝度総和値となる第１～第Ｋの輝度総和値ＬＳ（１）～ＬＳ（Ｋ）の総和平均値ＭＳからミスト流量ＭＦを導くことにより、より精度の高いミスト流量ＭＦを得ることができる。

　＜実施の形態２＞
　図９は本開示の実施の形態２である超音波霧化システム１００２の構成を示す説明図である。超音波霧化システム１００２は実施の形態２のミスト流量測定装置を含んでいる。実施の形態２のミスト流量測定装置は、カメラ５、光源６、透明配管１０、及びミスト流量演算部１６を主要構成要素として含んでいる。

　以下、実施の形態１と同一の構成要素は同一符号を付すことにより説明を適宜省略し、実施の形態２の特徴部分を中心に説明する。

　図９に示すように、超音波霧化システム１００２は、上述したミスト流量測定装置に加え、超音波霧化装置１００、原料溶液供給部２０、流量制御部１７、上流配管７及び下流配管８を主要構成要素として含んでいる。なお、上流配管７及び下流配管８は、透明配管１０を設けるためのミスト流量測定装置の補助部材としての役割を含んでいる。

　図９に示すように、実施の形態２のミスト流量測定装置において、撮像用配管である透明配管１０内のミスト流通領域の一部が、ミスト撮像用カメラであるカメラ５の撮像対象領域となる。

　光源６は、透明配管１０内の撮像対象領域に入射光Ｌ１を照射する。すると、入射光Ｌ１はミスト含有ガスＧ３の撮像対象領域を通過して透過光Ｌ３が得られる。

　ミスト撮像用カメラであるカメラ５は、透明配管１０を挟んで光源６と対向する位置に配置されており、透過光Ｌ３を撮像する撮像処理を実行する。すなわち、カメラ５による撮像処理は、原料ミスト３を含むミスト含有ガスＧ３が流れるミスト流通領域の少なくとも一部を撮像対象領域とした透過光Ｌ３の撮像処理となる。

　カメラ５は撮像処理を実行して撮像情報Ｓ５を取得する。撮像情報Ｓ５は、撮像対象領域に対応する複数の画素における複数の輝度値を含んでいる。

　実施の形態２のミスト流量測定装置におけるミスト流量演算部１６は、透過光Ｌ３に対するカメラ５の撮像処理によって得られた、複数の輝度値を示す撮像情報Ｓ５に基づき、ミスト流量演算処理を実行している。

　したがって、実施の形態２のミスト流量測定装置は、実施の形態１と同様、撮像情報Ｓ５に基づき相関パラメータＫ１を用いてミスト流量演算処理を実行することにより、精度良くミスト流量ＭＦを求めることができる。

　さらに、実施の形態３のミスト流量測定装置のミスト撮像用カメラであるカメラ５は、透過光Ｌ３を撮像する撮像処理を実行することにより、比較的容易に撮像情報Ｓ５を得ることができる。

　＜実施の形態３＞
　図１０は本開示の実施の形態３である超音波霧化システム１００３の構成を示す説明図である。超音波霧化システム１００３は実施の形態３のミスト流量測定装置を含んでいる。実施の形態３のミスト流量測定装置は、カメラ５、光源６、透明配管１０、ヒーター１２、及びミスト流量演算部１６を主要構成要素として含んでいる。

　以下、実施の形態１と同一の構成要素は同一符号を付すことにより説明を適宜省略し、実施の形態３の特徴部分を中心に説明する。

　図１０に示すように、超音波霧化システム１００３は、上述したミスト流量測定装置に加え、超音波霧化装置１００、原料溶液供給部２０、流量制御部１７、上流配管７及び下流配管８を主要構成要素として含んでいる。なお、上流配管７及び下流配管８は、透明配管１０を設けるためのミスト流量測定装置の補助部材としての役割を含んでいる。

　図１０に示すように、実施の形態３のミスト流量測定装置において、撮像用配管である透明配管１０に近接して、透明配管１０の延在方向（Ｚ方向）に沿ってヒーター１２が設けられる。このヒーター１２によって透明配管１０及びその内部を加熱している。

　実施の形態３のミスト流量測定装置におけるミスト流量演算部１６は、実施の形態１と同様、複数の輝度値を示す撮像情報Ｓ５に基づき、ミスト流量演算処理を実行している。

　したがって、実施の形態３のミスト流量測定装置は、実施の形態１と同様、撮像情報Ｓ５に基づき相関パラメータＫ１を用いてミスト流量演算処理を実行することにより、精度良くミスト流量ＭＦを求めることができる。

　さらに、実施の形態３のミスト流量測定装置はヒーター１２をさらに備え、ヒーター１２によって撮像用配管である透明配管１０及び内部を加熱することができるため、透明配管１０内における結露の発生を抑制することができる。

　＜実施の形態４＞
　図１１は本開示の実施の形態４である超音波霧化システム１００４の構成を示す説明図である。超音波霧化システム１００４は実施の形態４のミスト流量測定装置を含んでいる。実施の形態４のミスト流量測定装置は、光源６、透明配管１０、ミスト流量演算部１６、カメラ５１及び５２を主要構成要素として含んでいる。

　以下、実施の形態１と同一の構成要素は同一符号を付すことにより説明を適宜省略し、実施の形態４の特徴部分を中心に説明する。

　図１１に示すように、超音波霧化システム１００４は、上述したミスト流量測定装置に加え、超音波霧化装置１００、原料溶液供給部２０、流量制御部１７、上流配管７及び下流配管８を主要構成要素として有している。なお、上流配管７及び下流配管８は、透明配管１０を設けるためのミスト流量測定装置の補助部材としての役割を含んでいる。

　実施の形態４のミスト流量測定装置において、撮像用配管である透明配管１０内のミスト流通領域の一部が、ミスト撮像用カメラであるカメラ５の撮像対象領域となる。

　光源６は、透明配管１０内の撮像対象領域に入射光Ｌ１を照射する。すると、ミスト含有ガスＧ３の撮像対象領域にて入射光Ｌ１が反射して２つの反射光Ｌ２１及びＬ２２（複数の反射光）が得られる。反射光Ｌ２１及びＬ２２は互いに異なった方向に反射しており、互いに干渉しない関係にある。

　そして、複数の反射光である反射光Ｌ２１及びＬ２２に対して、複数のミスト撮像用カメラであるカメラ５１及び５２が配置される。カメラ５１は反射光Ｌ２１を撮像する撮像処理を実行し、カメラ５２は反射光Ｌ２２を撮像する撮像処理を実行する。

　このように、カメラ５１及び５２による撮像処理は、原料ミスト３を含むミスト含有ガスＧ３が流れるミスト流通領域の少なくとも一部を撮像対象領域とした反射光Ｌ２１及びＬ２２の撮像処理となる。

　カメラ５１は反射光Ｌ２１に対する撮像処理を実行して撮像情報Ｓ５１を取得する。撮像情報Ｓ５１は、撮像対象領域からの反射光Ｌ２１に対応する複数の画素における複数の輝度値を示している。カメラ５２は反射光Ｌ２２に対する撮像処理を実行して撮像情報Ｓ５２を取得する。撮像情報Ｓ５２は、撮像対象領域からの反射光Ｌ２２に対応する複数の画素における複数の輝度値を含んでいる。

　反射光Ｌ２１及びＬ２２は互いに干渉しない関係にあり、複数種の撮像情報となる撮像情報Ｓ５１及びＳ５２は異なる内容の複数の輝度値を示している。

　ミスト流量演算部１６は、複数種の撮像情報である撮像情報Ｓ５１及びＳ５２に基づきミスト含有ガスＧ３における原料ミスト３の流量を求めるミスト流量演算処理を実行して、原料ミスト３の流量を示すミスト流量情報Ｓ１６を得る。

　ミスト流量演算処理は、以下の総和値演算処理と流量導出処理とを含んでいる。

　総和値演算処理…撮像情報Ｓ５１が示す複数の輝度値の総和である第１の輝度総和値と、撮像情報Ｓ５２が示す複数の輝度値の総和である第２の輝度総和値とを求め、第１及び第２の輝度総和値の平均値を輝度総和平均値として得る処理
　流量導出処理…総和値演算処理で得た輝度総和平均値から原料ミスト３の流量を導く処理

　例えば、上述した総和値演算処理で得た輝度総和平均値をＬＭとすると、上述した式(1)を適用した以下の式(1C)によってミスト流量ＭＦを求めることができる。

　ＭＦ＝Ｋ１・ＬＭ＋ｃ１…(1C)

　このように、ミスト流量演算部１６は、撮像情報Ｓ５１及びＳ５２それぞれが示す複数の輝度値に基づき、ミスト流量演算処理を実行している。なお、実施の形態４における相関パラメータＫ１を算出する場合、実施の形態４のミスト流量測定装置の実動作時と同様、第１及び第２の輝度総和値の平均値から、図５で示したフローに沿って算出することが望ましい。

　実施の形態４のミスト流量測定装置におけるミスト流量演算部１６は、各々が複数の輝度値を示す撮像情報Ｓ５１及びＳ５２に基づき、ミスト流量演算処理を実行している。

　したがって、実施の形態４のミスト流量測定装置は、実施の形態１と同様、撮像情報Ｓ５１及びＳ５２に基づき相関パラメータＫ１を用いてミスト流量演算処理を実行することにより、精度良くミスト流量ＭＦを求めることができる。

　ミスト流量演算部１６は、複数のミスト撮像用カメラであるカメラ５１及び５２より得られる、多角的な撮像情報Ｓ５１及びＳ５２（複数種の撮像情報）に基づきミスト流量演算処理を実行している。

　このため、実施の形態４のミスト流量測定装置は、原料ミスト３の流量をより精度良く求めることができる。

　なお、実施の形態４のミスト流量演算部１６は、総和値演算処理を実行する際、第１及び第２の輝度総和値の平均値を求めたが、第１及び第２の輝度総和値間で重みづけを行い、一方の比率を他方の比率より高くしても良い。例えば、第１の輝度総和値と第２の輝度総和値との比率を｛２：１｝になるようにしても良い。

　図１１で示す実施の形態４では、１つの光源６を設けた構成を示したが、光源６の数もカメラ５１及び５２に合わせて２つにする様にしても良い。

　また、実施の形態４では複数のミスト撮像用カメラとして２つのカメラ５１及び５２を示したが、３つ以上のミスト撮像用カメラを用いて３種類以上の撮像情報を得るようにしても良い。

　＜実施の形態５＞
　図１２は本開示の実施の形態５である超音波霧化システム１００５の構成を示す説明図である。超音波霧化システム１００５は実施の形態５のミスト流量測定装置を含んでいる。実施の形態５のミスト流量測定装置は、カメラ５、光源６、上流配管７、下流配管８、配管不在空間９及びミスト流量演算部１６を主要構成要素として含んでいる。

　以下、実施の形態１と同一の構成要素は同一符号を付すことにより説明を適宜省略し、実施の形態５の特徴部分を中心に説明する。

　図１２に示すように、超音波霧化システム１００５は、上述したミスト流量測定装置に加え、超音波霧化装置１００、原料溶液供給部２０、流量制御部１７、上流配管７及び下流配管８を主要構成要素として有している。

　上流配管７及び下流配管８は配管不在空間９を挟んで互いに離散して配置されており、互いに離散した上流配管７及び下流配管８の組合せによって、ミスト含有ガスＧ３の外部排出用配管が構成される。上流配管７は第１のガス供給用配管となり、下流配管８は第２のガス供給配管となり、配管不在空間９は隙間空間となる。

　実施の形態５では、上流配管７（第１のガス供給用配管）及び下流配管８（第２のガス供給用配管）は、配管不在空間９を設けるために不可欠なミスト流量測定装置の主要構成要素としても機能している。

　そして、霧化用容器１から上流配管７、配管不在空間９及び下流配管８を介して原料ミスト３を含むミスト含有ガスＧ３が外部に供給される。

　図１３は上流配管７及び下流配管８の断面構造を示す説明図である。なお、図１３にはＸＹＺ直交座標系を記している。

　図１３に示すように、上流配管７及び下流配管８それぞれの内部が、ミスト含有ガスＧ３の流路となる。すなわち、上流配管７及び下流配管８はそれぞれ内部にミスト流通領域を有している。さらに、上流配管７，下流配管８間に配管不在空間９が隙間空間として存在している。この配管不在空間９内もミスト含有ガスＧ３の流路となる。すなわち、配管不在空間９は内部にミスト流通領域を有している。

　図１３に示すように、上流配管７及び下流配管８は延長方向（＋Ｚ方向）に沿って配置される。

　ミスト含有ガスＧ３はキャリアガスＧ４により一定の流速で搬送されているため、上流配管７から配管不在空間９に流れたミスト含有ガスＧ３は、配管不在空間９から外部に漏れることなく＋Ｚ方向に沿って下流配管８内を流れこむ。

　実施の形態５のミスト流量測定装置において、隙間空間である配管不在空間９内のミスト流通領域の一部が、ミスト撮像用カメラであるカメラ５の撮像対象領域となる。

　光源６は、配管不在空間９内の撮像対象領域に入射光Ｌ１を照射する。すると、ミスト含有ガスＧ３の撮像対象領域で入射光Ｌ１が反射して反射光Ｌ２が得られる。

　そして、ミスト撮像用カメラであるカメラ５は反射光Ｌ２を撮像する撮像処理を実行する。

　カメラ５は撮像処理を実行して撮像情報Ｓ５を取得する。撮像情報Ｓ５は、配管不在空間９内の撮像対象領域に対応する複数の画素における複数の輝度値を含んでいる。

　実施の形態５のミスト流量測定装置におけるミスト流量演算部１６は、実施の形態１と同様、複数の輝度値を示す撮像情報Ｓ５に基づき、ミスト流量演算処理を実行している。

　したがって、実施の形態５のミスト流量測定装置は、実施の形態１と同様、撮像情報Ｓ５に基づき相関パラメータＫ１を用いてミスト流量演算処理を実行することにより、精度良くミスト流量ＭＦを求めることができる。

　ミスト撮像用カメラであるカメラ５の撮像対象領域は、隙間空間となる配管不在空間９内に存在するため、実施の形態５のミスト流量測定装置におけるカメラ５は結露の影響を全く受けることなく反射光Ｌ２に対し精度良く撮像処理を実行することができる。

　＜実施の形態１～実施の形態４の透明配管１０の課題＞
　図４に示したように、実施の形態１～実施の形態４のミスト流量測定装置で用いた撮像用配管である透明配管１０の内径は、上流配管７及び下流配管８それぞれの内径と同一長に設定されていた。このため、透明配管１０内でミスト含有ガスＧ３の結露が発生すると、結露した液体（水滴）が配管内面Ｓ１０に付着する可能性があった。

　透明配管１０の配管内面Ｓ１０に液体が付着する現象は、ミスト撮像用カメラであるカメラ５による撮像処理に影響を与えるため、精度良く撮像情報Ｓ５（Ｓ５１，Ｓ５２）を得ることができないという撮像処理阻害要因となる。

　上述した撮像処理阻害要因の改善を図ったのが以下で述べる実施の形態６～実施の形態１０で示す撮像用配管及びその周辺構造である。

　＜実施の形態６＞
　図１４は、本開示の実施の形態６であるミスト流量測定装置における、上流配管７、大径透明配管３１及び下流配管８の断面構造を示す説明図である。図１５は上流配管７、大径透明配管３１及び下流配管８の全体構造を示す斜視図である。なお、図１４及び図１５それぞれにＸＹＺ直交座標系を記している。

　実施の形態６のミスト流量測定装置において、上流配管７、大径透明配管３１及び下流配管８を含む外部排出用配管以外の構成は、図１～図８で示した実施の形態１のミスト流量測定装置と同様な構成である。ただし、実施の形態６において、上流配管７及び下流配管８は、大径透明配管３１と共にミスト流量測定装置の主要構成要素に含まれる。

　実施の形態６のミスト流量測定装置は、図１で示す撮像用配管となる透明配管１０が大径透明配管３１に置き換わった点で実施の形態１と異なる。

　実施の形態６において、上流配管７、大径透明配管３１及び下流配管８の組合せによって外部排出用配管が構成される。上流配管７は第１のガス供給用配管となり、下流配管８は第２のガス供給配管となり、大径透明配管３１は撮像用配管となる。

　また、超音波霧化システムにおけるミスト流量測定装置を除く構成は、図１で示した実施の形態１の超音波霧化システム１００１と同様な構成となる。

　図１４及び図１５に示すように、外部排出用配管を構成する上流配管７、大径透明配管３１及び下流配管８はそれぞれ鉛直方向と平行なＺ方向に沿って配置され、上流配管７と大径透明配管３１との間、及び大径透明配管３１と下流配管８との間がそれぞれ直接連結される。なお、上流配管７、大径透明配管３１及び下流配管８を一体的に構成しても良い。

　したがって、超音波霧化装置１００（図１参照）から供給されるミスト含有ガスＧ３は所定方向、すなわち、反鉛直方向（＋Ｚ方向）に沿って、上流配管７、大径透明配管３１及び下流配管８の順で流れる。ここで、反鉛直方向は鉛直方向と正反対となる方向である。

　このように、ミスト含有ガスＧ３の流路は、上流配管７、大径透明配管３１及び下流配管８それぞれの内部に設けられる。すなわち、上流配管７、大径透明配管３１及び下流配管８はそれぞれミスト流通領域を内部に有している。

　また、上流配管７、大径透明配管３１及び下流配管８それぞれの断面形状は内径が一定の円形状である。上流配管７は内径Ｄ７を有し、大径透明配管３１は内径Ｄ３１を有し、下流配管８は内径Ｄ８を有している。実施の形態６において、大径透明配管３１の全体が内径Ｄ３１で一定の内径一定領域となっている。また、上流配管７、大径透明配管３１及び下流配管８はそれぞれＺ方向に沿って所定の長さを有している。

　撮像用配管である大径透明配管３１の構成材料は透明性を有している。さらに、大径透明配管３１の配管内面Ｓ３１の構成材料は親水性を有している。実施の形態６では、大径透明配管３１の配管内面Ｓ３１が内径一定領域の内面となる。

　上流配管７の配管内面Ｓ７及び下流配管８の配管内面Ｓ８それぞれの構成材料も親水性を有することが望ましい。一方、上流配管７及び下流配管８は撮像用配管ではないため、透明性を有する必要はない。また、上流配管７、大径透明配管３１及び下流配管８それぞれの厚みは任意に設定される。

　実施の形態６のミスト流量測定装置において、撮像用配管である大径透明配管３１内のミスト流通領域の一部が、ミスト撮像用カメラであるカメラ５の撮像対象領域となる。

　図１５において、白地部分は透明部分であることを示し、斜線ハッチング部分は被透明部分を示している。図１５に示すように、実施の形態６の外部排出用配管は、透明性を有する大径透明配管３１と、透明性を有さない上流配管７及び下流配管８とから構成される。

　実施の形態６の外部排出用配管に関し、第１のガス供給用配管である上流配管７の内径Ｄ７と第２のガス供給用配管である下流配管８の内径Ｄ８とは同一値に設定される。一方、全体が内径一定領域となる大径透明配管３１の内径Ｄ３１は、内径Ｄ７及びＤ８より大きい値に設定される。すなわち、大径透明配管３１、上流配管７及び下流配管８は、｛Ｄ３１＞Ｄ７＝Ｄ８｝の内径に関する大小関係を有している。なお、上流配管７、大径透明配管３１及び下流配管８はそれぞれ平面視して中心位置が一致している。

　実施の形態６のミスト流量測定装置の外部排出用配管に関し、撮像用配管である大径透明配管３１（内径一定領域）の内径Ｄ３１は、第１及び第２のガス供給用配管となる上流配管７及び下流配管８の内径Ｄ７及びＤ８より大きい。

　したがって、大径透明配管３１の配管内面Ｓ３１と上流配管７の配管内面Ｓ７との間に内面差分距離Δ１１（＝（Ｄ３１－Ｄ７）／２）が生じる。同様に、大径透明配管３１の配管内面Ｓ３１と下流配管８の配管内面Ｓ８の配管内面Ｓ３１との間に内面差分距離Δ１２（＝（Ｄ３１－Ｄ８）／２）が生じる。内面差分距離Δ１１が第１の内面差分距離となり、内面差分距離Δ１２が第２の内面差分距離となる。

　ミスト含有ガスＧ３が上流配管７から大径透明配管３１に伝搬される際、第１の内面差分距離となる内面差分距離Δ１１が生じる分、大径透明配管３１の配管内面Ｓ３１にミスト含有ガスＧ３が到達する可能性を低減化することができる。

　一方、ミスト含有ガスＧ３が大径透明配管３１から下流配管８に伝搬される際、図１４に示すように、下流配管８からミスト含有ガスＧ３の一部が跳ね返る、ガス跳ね返り現象Ｐ３０が生じる可能性がある。

　しかしながら、大径透明配管３１と下流配管８との間には第２の内面差分距離である内面差分距離Δ１２が生じる分、下流配管８から跳ね返ったミスト含有ガスＧ３の一部が大径透明配管３１の配管内面Ｓ３１に到達する可能性を低く抑えることができる。

　したがって、大径透明配管３１を有する実施の形態６のミスト流量測定装置は、大径透明配管３１（内径一定領域）の配管内面Ｓ３１での結露の発生を抑制してミスト撮像用カメラであるカメラ５による撮像処理を良好に実行することができる。

　その結果、実施の形態６のミスト流量測定装置は、上述した撮像処理阻害要因を改善することにより、精度良く原料ミストの流量を測定することができる効果を奏する。

　大径透明配管３１は鉛直方向（Ｚ方向）に沿って配置されるため、大径透明配管３１の配管内面Ｓ３１の内面に結露が発生しても、結露した液体を大径透明配管３１内に留まらせることなく、大径透明配管３１に対し鉛直方向の下方に排出することができる。

　このため、実施の形態６のミスト流量測定装置は、大径透明配管３１内の結露の影響を最小限に抑えて、カメラ５による撮像処理を実行することができる。

　加えて、実施の形態６のミスト流量測定装置は、必要最小限の上流配管７、大径透明配管３１及び下流配管８の組合せでミスト含有ガスＧ３用の外部排出用配管を構成することができる。

　また、実施の形態６において、大径透明配管３１の全体が内径Ｄ７で一定の内径一定領域となるため、撮像用配管となる大径透明配管３１を比較的簡単な構造で実現することができる。

　さらに、大径透明配管３１の配管内面Ｓ３１の構成材料は親水性を有するため、大径透明配管３１内に結露が発生しても、結露した液が大径透明配管３１の配管内面Ｓ３１に水滴として付着する現象を抑制することができる。

　なお、内面差分距離Δ１１は、ミスト含有ガスＧ３が上流配管７から大径透明配管３１に伝搬される際、大径透明配管３１の配管内面Ｓ３１にミスト含有ガスＧ３が到達する可能性を実質的に“０”とする長さに設定することが望ましい。

　また、内面差分距離Δ１２は、上述したガス跳ね返り現象Ｐ３０が生じても、ミスト含有ガスＧ３の跳ね返り成分が大径透明配管３１の配管内面Ｓ３１に到達する可能性を実質的に“０”とする長さに設定することが望ましい。

　実施の形態６では、外部排出用配管を除くミスト流量測定装置及び超音波霧化システムの構成として、図１～図８で示した実施の形態１の構成を採用したが、実施の形態１に替えて、図９～図１１で示した実施の形態２～実施の形態４の構成を採用するようにしても良い。

　＜実施の形態７＞
　図１６は、本開示の実施の形態７であるミスト流量測定装置における、上流配管７、大径透明配管３２、中間配管４２及び下流配管８の断面構造を示す説明図である。図１７は上流配管７、大径透明配管３２、中間配管４２及び下流配管８の全体構造を示す斜視図である。なお、図１６及び図１７それぞれにＸＹＺ直交座標系を記している。

　実施の形態７のミスト流量測定装置において、上流配管７、大径透明配管３２、中間配管４２及び下流配管８を含む外部排出用配管以外の構成は、図１～図８で示した実施の形態１のミスト流量測定装置と同様な構成である。ただし、上流配管７、中間配管４２及び下流配管８は、大径透明配管３２と共にミスト流量測定装置の主要構成要素に含まれる。

　実施の形態７のミスト流量測定装置は、図１で示す透明配管１０が大径透明配管３２及び中間配管４２に置き換わった点で実施の形態１と異なる。

　実施の形態７において、上流配管７、大径透明配管３２、中間配管４２及び下流配管８の組合せによって外部排出用配管が構成される。上流配管７は第１のガス供給用配管となり、下流配管８は第２のガス供給配管となり、大径透明配管３２は撮像用配管となり、中間配管４２が第１の撮像補助配管となる。

　図１６及び図１７に示すように、外部排出用配管を構成する上流配管７、大径透明配管３２、中間配管４２及び下流配管８はそれぞれ鉛直方向と平行なＺ方向に沿って配置され、上流配管７と大径透明配管３２との間、大径透明配管３２と中間配管４２との間、及び中間配管４２と下流配管８との間がそれぞれ直接連結される。なお、上流配管７、大径透明配管３２、中間配管４２及び下流配管８を一体的に構成しても良い。

　したがって、超音波霧化装置１００（図１参照）から供給されるミスト含有ガスＧ３は所定方向、すなわち、反鉛直方向（＋Ｚ方向）に沿って、上流配管７、大径透明配管３２、中間配管４２及び下流配管８の順で流れる。

　このように、ミスト含有ガスＧ３の流路は、上流配管７、大径透明配管３２、中間配管４２及び下流配管８それぞれの内部に設けられる。すなわち、上流配管７、大径透明配管３２、中間配管４２及び下流配管８はそれぞれミスト流通領域を内部に有している。

　また、上流配管７、大径透明配管３２、中間配管４２及び下流配管８それぞれの断面形状は内径が一定の円形状である。上流配管７は内径Ｄ７を有し、大径透明配管３２は内径Ｄ３２を有し、中間配管４２は内径Ｄ４２を有し、下流配管８は内径Ｄ８を有している。

　実施の形態７において、大径透明配管３２の全体が内径Ｄ３２で一定の内径一定領域となっている。また、大径透明配管３２及び中間配管４２はそれぞれＺ方向に沿って所定の長さを有している。

　撮像用配管である大径透明配管３２の構成材料は透明性を有している。さらに、大径透明配管３２の配管内面Ｓ３２の構成材料は親水性を有している。実施の形態７では、大径透明配管３２の配管内面Ｓ３２が内径一定領域の内面となる。

　上流配管７の配管内面Ｓ７、中間配管４２の配管内面Ｓ４２及び下流配管８の配管内面Ｓ８それぞれの構成材料も親水性を有することが望ましい。一方、上流配管７、中間配管４２及び下流配管８は撮像用配管ではないため、透明性を有する必要はない。また、上流配管７、大径透明配管３２、中間配管４２及び下流配管８それぞれの厚みは任意に設定される。

　実施の形態７のミスト流量測定装置において、撮像用配管である大径透明配管３２内のミスト流通領域の一部が、ミスト撮像用カメラであるカメラ５の撮像対象領域となる。

　図１７において、白地部分は透明部分であることを示し、斜線ハッチング部分は被透明部分を示している。図１７に示すように、実施の形態７の外部排出用配管は、透明性を有する大径透明配管３２と、透明性を有さない上流配管７、中間配管４２及び下流配管８とから構成される。

　実施の形態７の外部排出用配管に関し、上流配管７の内径Ｄ７と下流配管８の内径Ｄ８とは同一値に設定される。また、中間配管４２の内径Ｄ４２は内径Ｄ７及びＤ８それぞれより大きい値に設定される。すなわち、中間配管４２、上流配管７及び下流配管８は、｛Ｄ４２＞Ｄ８＝Ｄ７｝の内径に関する大小関係を有している。

　一方、全体が内径一定領域となる大径透明配管３２の内径Ｄ３２は、内径Ｄ４２よりより大きい値に設定される。すなわち、大径透明配管３２及び中間配管４２は、｛Ｄ３２＞Ｄ４２（＞Ｄ７＝Ｄ８）｝の内径に関する大小関係を有している。

　なお、上流配管７、大径透明配管３２、中間配管４２及び下流配管８はそれぞれ平面視して中心位置が一致している。

　実施の形態７のミスト流量測定装置の外部排出用配管に関し、撮像用配管である大径透明配管３２（内径一定領域）の内径Ｄ３２は、第１及び第２のガス供給用配管となる上流配管７及び下流配管８の内径Ｄ７及びＤ８より大きい。

　したがって、実施の形態７のミスト流量測定装置は、実施の形態６と同様、大径透明配管３２の配管内面Ｓ３２での結露の発生を抑制してミスト撮像用カメラであるカメラ５による撮像処理を良好に実行することができる。

　その結果、実施の形態７のミスト流量測定装置は、実施の形態６と同様、上述した撮像処理阻害要因を改善することにより、精度良く原料ミストの流量を測定することができる効果を奏する。

　実施の形態７において、第１の撮像補助配管である中間配管４２の内径Ｄ４２は大径透明配管３２（内径一定領域）の内径Ｄ３２より小さいため、中間配管４２の配管内面Ｓ４２と大径透明配管３２の配管内面Ｓ３２との間に内面差分距離Δ１３（＝（Ｄ３２－Ｄ４２）／２）が生じる。中間配管４２の内径Ｄ４２は下流配管８の内径Ｄ８より大きいため、中間配管４２の配管内面Ｓ４２と下流配管８の配管内面Ｓ８との間に内面差分距離Δ１４（＝（Ｄ４２－Ｄ８）／２）が生じる。内面差分距離Δ１３が第３の内面差分距離となり、内面差分距離Δ１４が第４の内面差分距離となる。

　実施の形態７において、ミスト含有ガスＧ３が中間配管４２から下流配管８に伝搬される際、図１６に示すように、下流配管８からミスト含有ガスＧ３の一部が跳ね返る、ガス跳ね返り現象Ｐ４０が生じる。ガス跳ね返り現象Ｐ４０によって、中間配管４２の配管内面Ｓ４２に結露した液体として付着する可能性がある。

　しかしながら、中間配管４２と下流配管８との間には、第４の内面差分距離である内面差分距離Δ１４が生じている分、ガス跳ね返り現象Ｐ４０によって、中間配管４２の配管内面Ｓ４２に結露した液体として付着する可能性を低く抑えることができる。

　仮に中間配管４２の配管内面Ｓ４２に液体（水滴）が付着し、図１６に示す様に、配管内面Ｓ４２に沿って結露した液体Ｋ３が自重落下しても、中間配管４２と大径透明配管３２との間に第３の内面差分距離である内面差分距離Δ１３が生じている分、自重落下した液体の一部が大径透明配管３２の配管内面Ｓ３２に到達する可能性を低く抑えることができる。

　その結果、実施の形態７のミスト流量測定装置は、撮像用配管である大径透明配管３２の配管内面Ｓ３２での結露の発生を効果的に抑制してミスト撮像用カメラであるカメラ５による撮像処理を良好に実行することができる。

　実施の形態７において、大径透明配管３２の全体が内径Ｄ３２で一定の内径一定領域となるため、撮像用配管となる大径透明配管３２を比較的簡単な構造で実現することができる。

　さらに、大径透明配管３２の配管内面Ｓ３２の構成材料は親水性を有するため、大径透明配管３２内に結露が発生しても、結露した液が大径透明配管３２の配管内面Ｓ３２に水滴として付着する現象を抑制することができる。

　なお、内面差分距離Δ１４は、ミスト含有ガスＧ３の跳ね返り現象Ｐ４０が生じても、ミスト含有ガスＧ３の跳ね返り成分が中間配管４２の配管内面Ｓ４２に到達する可能性を十分低くする長さに設定することが望ましい。

　また、内面差分距離Δ１３は、中間配管４２の配管内面Ｓ４２に沿って液体が自重落下した場合でも、自重落下した液体成分が大径透明配管３２の配管内面Ｓ３２に到達する可能性を実質的に“０”とする長さに設定することが望ましい。

　実施の形態７では、外部排出用配管を除くミスト流量測定装置及び超音波霧化システムの構成として、図１～図８で示した実施の形態１の構成を採用したが、実施の形態１に替えて、図９～図１１で示した実施の形態２～実施の形態４の構成を採用するようにしても良い。

　＜実施の形態８＞
　図１８は、本開示の実施の形態８であるミスト流量測定装置における、上流配管７、大径透明配管３３、中間配管４３、テーパ状配管５３及び下流配管８の断面構造を示す説明図である。図１９は上流配管７、大径透明配管３３、中間配管４３、テーパ状配管５３及び下流配管８の全体構造を示す斜視図である。なお、図１８及び図１９それぞれにＸＹＺ直交座標系を記している。

　実施の形態８のミスト流量測定装置において、上流配管７、大径透明配管３３、中間配管４３、テーパ状配管５３及び下流配管８を含む外部排出用配管以外の構成は、図１～図８で示した実施の形態１のミスト流量測定装置と同様な構成である。ただし、上流配管７、中間配管４３、テーパ状配管５３及び下流配管８は、大径透明配管３３と共にミスト流量測定装置の主要構成要素に含まれる。

　実施の形態８のミスト流量測定装置は、図１で示す透明配管１０が大径透明配管３３、中間配管４３及びテーパ状配管５３に置き換わった点で実施の形態１と異なる。

　実施の形態８において、上流配管７、大径透明配管３３、中間配管４３、テーパ状配管５３及び下流配管８の組合せによって外部排出用配管が構成される。上流配管７は第１のガス供給用配管となり、下流配管８は第２のガス供給配管となり、大径透明配管３３は撮像用配管となり、中間配管４３が第１の撮像補助配管となり、テーパ状配管５３が第２の撮像補助配管となる。

　図１８及び図１９に示すように、外部排出用配管を構成する上流配管７、大径透明配管３３、中間配管４３、テーパ状配管５３及び下流配管８はそれぞれ鉛直方向と平行なＺ方向に沿って配置される。そして、上流配管７と大径透明配管３３との間、大径透明配管３３と中間配管４３との間、及び中間配管４３とテーパ状配管５３との間、テーパ状配管５３と下流配管８との間がそれぞれ直接連結される。なお、上流配管７、大径透明配管３３、中間配管４３、テーパ状配管５３及び下流配管８を一体的に構成しても良い。

　したがって、超音波霧化装置１００（図１参照）から供給されるミスト含有ガスＧ３は所定方向、すなわち、反鉛直方向（＋Ｚ方向）に沿って、上流配管７、大径透明配管３３、中間配管４３、テーパ状配管５３及び下流配管８の順で流れる。

　このように、ミスト含有ガスＧ３の流路は、上流配管７、大径透明配管３３、中間配管４３、テーパ状配管５３及び下流配管８それぞれの内部に設けられる。すなわち、上流配管７、大径透明配管３３、中間配管４３、テーパ状配管５３及び下流配管８はそれぞれミスト流通領域を内部に有している。

　また、上流配管７、大径透明配管３３、中間配管４３及び下流配管８それぞれの断面形状は内径が一定の円形状である。テーパ状配管５３の断面形状は円形状である。上流配管７は内径Ｄ７を有し、大径透明配管３３は内径Ｄ３３を有し、中間配管４３は内径Ｄ４３を有し、下流配管８は内径Ｄ８を有している。

　実施の形態８において、大径透明配管３３の全体が内径Ｄ３３で一定の内径一定領域となっている。また、大径透明配管３３及び中間配管４３はそれぞれＺ方向に沿って所定の長さを有している。

　撮像用配管である大径透明配管３３の構成材料は透明性を有している。さらに、大径透明配管３３の配管内面Ｓ３３の構成材料は親水性を有している。実施の形態８では、大径透明配管３３の配管内面Ｓ３３が内径一定領域の内面となる。

　上流配管７の配管内面Ｓ７、中間配管４３の配管内面Ｓ４３、テーパ状配管５３の配管内面Ｓ５３及び下流配管８の配管内面Ｓ８それぞれの構成材料も親水性を有することが望ましい。一方、上流配管７、中間配管４３、テーパ状配管５３及び下流配管８は撮像用配管ではないため、透明性を有する必要はない。また、上流配管７、大径透明配管３３、中間配管４３、テーパ状配管５３及び下流配管８それぞれの厚みは任意に設定される。

　実施の形態８のミスト流量測定装置において、撮像用配管である大径透明配管３３内のミスト流通領域の一部が、ミスト撮像用カメラであるカメラ５の撮像対象領域となる。

　図１９において、白地部分は透明部分であることを示し、斜線ハッチング部分は被透明部分を示している。図１９に示すように、実施の形態８の外部排出用配管は、透明性を有する大径透明配管３３と、透明性を有さない上流配管７、中間配管４３、テーパ状配管５３及び下流配管８とから構成される。

　実施の形態８の外部排出用配管に関し、上流配管７の内径Ｄ７と下流配管８の内径Ｄ８とは同一値に設定される。また、中間配管４３の内径Ｄ４３は内径Ｄ７及びＤ８それぞれより大きい値に設定される。すなわち、中間配管４３、上流配管７及び下流配管８は、｛Ｄ４３＞Ｄ８＝Ｄ７｝の内径に関する大小関係を有している。

　一方、全体が内径一定領域となる大径透明配管３３の内径Ｄ３３は、内径Ｄ４３よりより大きい値に設定される。すなわち、大径透明配管３３及び中間配管４３は、｛Ｄ３３＞Ｄ４３（＞Ｄ７＝Ｄ８）｝の内径に関する大小関係を有している。なお、上流配管７、大径透明配管３３、中間配管４３、テーパ状配管５３及び下流配管８はそれぞれ平面視して中心位置が一致している。

　第２の撮像補助配管であるテーパ状配管５３において、第１の撮像補助配管である中間配管４３との下方接続部となる最下端は、中間配管４３の内径Ｄ４３と同一の内径を有し、第２のガス供給用配管である下流配管８との上方接続部となる最上端は、下流配管８の内径Ｄ８と同一の内径を有している。

　テーパ状配管５３は、鉛直方向（－Ｚ方向）と正反対方向となる反鉛直方向（＋Ｚ方向）に従い内径Ｄ４３から内径Ｄ８にかけて内径が小さくなるテーパ形状を有している。

　実施の形態８のミスト流量測定装置の外部排出用配管に関し、撮像用配管である大径透明配管３３（内径一定領域）の内径Ｄ３３は、第１及び第２のガス供給用配管となる上流配管７及び下流配管８の内径Ｄ７及びＤ８より大きい。

　したがって、実施の形態８のミスト流量測定装置は、実施の形態６と同様、大径透明配管３３の配管内面Ｓ３３での結露の発生を抑制してミスト撮像用カメラであるカメラ５による撮像処理を良好に実行することができる。

　その結果、実施の形態８のミスト流量測定装置は、実施の形態６及び実施の形態７と同様、上述した撮像処理阻害要因を改善することにより、精度良く原料ミストの流量を測定することができる効果を奏する。

　実施の形態８において、第１の撮像補助配管である中間配管４３の内径Ｄ４３は大径透明配管３３（内径一定領域）の内径Ｄ３３より小さいため、中間配管４３の配管内面Ｓ４３と大径透明配管３３の配管内面Ｓ３２との間に内面差分距離Δ２３（＝（Ｄ３３－Ｄ４３）／２）が生じる。中間配管４３の内径Ｄ４３は下流配管８の内径Ｄ８より大きいため、中間配管４３の配管内面Ｓ４３と下流配管８の配管内面Ｓ８との間に内面差分距離Δ２４（＝（Ｄ４３－Ｄ８）／２）が生じる。内面差分距離Δ２３が第３の内面差分距離となり、内面差分距離Δ２４が第４の内面差分距離となる。

　実施の形態８の外部排出用配管は、実施の形態７の内面差分距離Δ１３及びΔ１４と同様、内面差分距離Δ２３及びΔ２４を有するため、実施の形態７と同様、大径透明配管３３の配管内面Ｓ３２での結露の発生を効果的に抑制してミスト撮像用カメラであるカメラ５による撮像処理を良好に実行することができる。

　ミスト含有ガスＧ３が中間配管４３から第２の撮像補助配管であるテーパ状配管５３を介して下流配管８に伝搬される際、第４の内面差分距離である内面差分距離Δ２４が生じる分、下流配管８からミスト含有ガスの一部が跳ね返る。

　しかしながら、中間配管４３と下流配管８との間に存在するテーパ状配管５３は、反鉛直方向（＋Ｚ方向）に従い内径が小さくなるテーパ形状を有しているため、下流配管８からのミスト含有ガスＧ３の跳ね返り量を効果的に抑制することができる。

　その結果、実施の形態８のミスト流量測定装置は、中間配管４３と下流配管８との間にテーパ状配管５３が存在する分、大径透明配管３３の配管内面Ｓ３３での結露の発生を効果的に抑制して、実施の形態７以上に、カメラ５による撮像処理を良好に実行することができる。

　また、実施の形態８において、大径透明配管３３の全体が内径Ｄ３３で一定の内径一定領域となるため、撮像用配管となる大径透明配管３３を比較的簡単な構造で実現することができる。

　さらに、大径透明配管３３の配管内面Ｓ３３の構成材料は親水性を有するため、大径透明配管３３内に結露が発生しても、結露した液が大径透明配管３３の配管内面Ｓ３３に水滴として付着する現象を抑制することができる。

　なお、内面差分距離Δ２４は、ミスト含有ガスＧ３の跳ね返り現象が生じても、ミスト含有ガスＧ３の跳ね返り成分が中間配管４３の配管内面Ｓ４３に到達する可能性を十分低くする長さに設定することが望ましい。

　また、内面差分距離Δ２３は、中間配管４３の配管内面Ｓ４３に沿って液体が自重落下した場合でも、自重落下した液体成分が大径透明配管３３の配管内面Ｓ３３に到達する可能性を実質的に“０”とする長さに設定することが望ましい。

　実施の形態８では、外部排出用配管を除くミスト流量測定装置及び超音波霧化システムの構成として、図１～図８で示した実施の形態１の構成を採用したが、実施の形態１に替えて、図９～図１１で示した実施の形態２～実施の形態４の構成を採用するようにしても良い。

　＜実施の形態９＞
　図２０は、本開示の実施の形態９であるミスト流量測定装置における、上流配管７、大径透明配管３４、中間配管４４及び下流配管８の断面構造を示す説明図である。図２１は上流配管７、大径透明配管３４、中間配管４４及び下流配管８の全体構造を示す斜視図である。なお、図２０及び図２１それぞれにＸＹＺ直交座標系を記している。

　実施の形態９のミスト流量測定装置において、上流配管７、大径透明配管３４、中間配管４４及び下流配管８を含む外部排出用配管以外の構成は、図１～図８で示した実施の形態１のミスト流量測定装置と同様な構成である。ただし、上流配管７、中間配管４４及び下流配管８は、大径透明配管３４と共にミスト流量測定装置の主要構成要素に含まれる。

　実施の形態８のミスト流量測定装置は、図１で示す透明配管１０が大径透明配管３４及び中間配管４４に置き換わった点で実施の形態１と異なる。

　実施の形態９において、上流配管７、大径透明配管３４、中間配管４４及び下流配管８の組合せによって外部排出用配管が構成される。上流配管７は第１のガス供給用配管となり、下流配管８は第２のガス供給配管となり、大径透明配管３４は撮像用配管となり、中間配管４４が第１の撮像補助配管となる。

　図２０及び図２１に示すように、外部排出用配管を構成する上流配管７、大径透明配管３４、中間配管４４及び下流配管８はそれぞれ鉛直方向と平行なＺ方向に沿って配置される。そして、上流配管７と大径透明配管３４との間、大径透明配管３４と中間配管４４との間、及び中間配管４４と下流配管８との間がそれぞれ直接連結される。なお、上流配管７、大径透明配管３４、中間配管４４及び下流配管８を一体的に構成しても良い。

　大径透明配管３４は、撮像用主要部となる配管主要部３４１と撮像用下方補助部となる配管テーパ部３４２とを含んでいる。配管主要部３４１の下方端部が配管テーパ部３４２の上方端部に直接連結され、配管テーパ部３４２の下方端部が上流配管７の上方端部に直接連結される。

　超音波霧化装置１００（図１参照）から供給されるミスト含有ガスＧ３は所定方向、すなわち、反鉛直方向（＋Ｚ方向）に沿って、上流配管７、大径透明配管３４、中間配管４４及び下流配管８の順で流れる。

　このように、ミスト含有ガスＧ３の流路は、上流配管７、大径透明配管３４、中間配管４４及び下流配管８それぞれの内部に設けられる。すなわち、上流配管７、大径透明配管３４、中間配管４４及び下流配管８はそれぞれミスト流通領域を内部に有している。

　また、上流配管７、大径透明配管３４の配管主要部３４１、中間配管４４及び下流配管８それぞれの断面形状は内径が一定の円形状である。大径透明配管３４における配管テーパ部３４２の断面形状は円形状となる。上流配管７は内径Ｄ７を有し、大径透明配管３４における配管主要部３４１は内径Ｄ３４を有し、中間配管４４は内径Ｄ４４を有し、下流配管８は内径Ｄ８を有している。

　したがって、実施の形態９において、大径透明配管３４における配管主要部３４１が内径Ｄ３４で一定の内径一定領域となっている。また、大径透明配管３４及び中間配管４４はそれぞれＺ方向に沿って所定の長さを有している。

　撮像用配管である大径透明配管３４の構成材料は透明性を有している。さらに、大径透明配管３４の配管主要部３４１の主要部内面Ｓ３４１及び配管テーパ部３４２のテーパ部内面Ｓ３４２の構成材料は親水性を有している。実施の形態９では、配管主要部３４１の主要部内面Ｓ３４１が内径一定領域の内面となっている。

　上流配管７の配管内面Ｓ７、中間配管４４の配管内面Ｓ４４及び下流配管８の配管内面Ｓ８それぞれの構成材料も親水性を有することが望ましい。一方、上流配管７、中間配管４４及び下流配管８は撮像用配管ではないため、透明性を有する必要はない。また、上流配管７、大径透明配管３４、中間配管４４及び下流配管８それぞれの厚みは任意に設定される。

　実施の形態９のミスト流量測定装置において、撮像用配管である大径透明配管３４内のミスト流通領域の一部が、ミスト撮像用カメラであるカメラ５の撮像対象領域となる。なお、撮像主要部となる配管主要部３４１内のミスト流通領域の一部がカメラ５の撮像対象領域となることが望ましい。

　図２１において、白地部分は透明部分であることを示し、斜線ハッチング部分は被透明部分を示している。図２１に示すように、実施の形態９の外部排出用配管は、透明性を有する大径透明配管３４（配管主要部３４１＋配管テーパ部３４２）と、透明性を有さない上流配管７、中間配管４４及び下流配管８とから構成される。

　実施の形態９の外部排出用配管に関し、上流配管７の内径Ｄ７と下流配管８の内径Ｄ８とは同一値に設定される。また、中間配管４４の内径Ｄ４４は内径Ｄ７及びＤ８それぞれより大きい値に設定される。すなわち、中間配管４４、上流配管７及び下流配管８は、｛Ｄ４４＞Ｄ８＝Ｄ７｝の内径に関する大小関係を有している。

　一方、大径透明配管３４における配管主要部３４１（内径一定領域）の内径Ｄ３４は、内径Ｄ４４よりより大きい値に設定される。すなわち、撮像用主要部となる配管主要部３４１と中間配管４４とは、｛Ｄ３４＞Ｄ４４（＞Ｄ７＝Ｄ８）｝の内径に関する大小関係を有している。なお、上流配管７、大径透明配管３４における配管主要部３４１及び配管テーパ部３４２、中間配管４４並びに下流配管８はそれぞれ平面視して中心位置が一致している。

　大径透明配管３４の配管テーパ部３４２において、配管主要部３４１との上方接続部となる最上端は、配管主要部３４１の内径Ｄ３４と同一の内径を有し、第１のガス供給用配管となる上流配管７との下方接続部となる最下端は、上流配管７の内径Ｄ７と同一の内径を有している。

　撮像用下方補助部となる配管テーパ部３４２は、鉛直方向（－Ｚ方向）に従い内径Ｄ３４から内径Ｄ７にかけて内径が小さくなるテーパ形状を有している。すなわち、配管テーパ部３４２は、内側に向かうに従い鉛直方向（－Ｚ方向）側に傾く鉛直方向凸構造を有している。

　実施の形態９のミスト流量測定装置の外部排出用配管に関し、撮像用配管である大径透明配管３４における配管主要部３４１（内径一定領域）の内径Ｄ３４は、第１及び第２のガス供給用配管となる上流配管７及び下流配管８の内径Ｄ７及びＤ８より大きい。

　したがって、実施の形態９のミスト流量測定装置は、実施の形態６～実施の形態８と同様、大径透明配管３４における配管主要部３４１の主要部内面Ｓ３４１での結露の発生を抑制してミスト撮像用カメラであるカメラ５による撮像処理を良好に実行することができる。

　その結果、実施の形態９のミスト流量測定装置は、実施の形態６～実施の形態８と同様、上述した撮像処理阻害要因を改善することにより、精度良く原料ミストの流量を測定することができる。

　実施の形態９において、第１の撮像補助配管である中間配管４４の内径Ｄ４４は大径透明配管３４における配管主要部３４１（内径一定領域）の内径Ｄ３４より小さいため、中間配管４４の配管内面Ｓ４４と配管主要部３４１の主要部内面Ｓ３４１との間に内面差分距離Δ３３（＝（Ｄ３４－Ｄ４４）／２）が生じる。中間配管４４の内径Ｄ４４は下流配管８の内径Ｄ８より大きいため、中間配管４４の配管内面Ｓ４４と下流配管８の配管内面Ｓ８との間に内面差分距離Δ３４（＝（Ｄ４４－Ｄ８）／２）が生じる。内面差分距離Δ３３が第３の内面差分距離となり、内面差分距離Δ３４が第４の内面差分距離となる。

　実施の形態９の外部排出用配管は、実施の形態７の内面差分距離Δ１３及びΔ１４と同様、内面差分距離Δ３３及びΔ３４を有するため、実施の形態７と同様、大径透明配管３４における配管主要部３４１の主要部内面Ｓ３４１での結露の発生を効果的に抑制してミスト撮像用カメラであるカメラ５による撮像処理を良好に実行することができる。

　また、ミスト含有ガスＧ３が中間配管４４から下流配管８に伝搬される際、第４の内面差分距離となる内面差分距離Δ３４が生じる分、下流配管８からミスト含有ガスＧ３の一部が跳ね返る。

　しかしながら、下流配管８からミスト含有ガスＧ３の一部が跳ね返って落下し、大径透明配管３４のテーパ部内面Ｓ３４２に結露した液体として一時的に付着しても、配管テーパ部３４２は鉛直方向凸構造を有するため、時間経過と共にテーパ部内面Ｓ３４２から上流配管７側に液体が流れ込む。したがって、テーパ部内面Ｓ３４２上で結露した液体が残存したり、テーパ部内面Ｓ３４２から主要部内面Ｓ３４１に結露した液体が流れたりすることはない。

　その結果、実施の形態９のミスト流量測定装置は、大径透明配管３４の主要部内面Ｓ３４１及びテーパ部内面Ｓ３４２での結露の発生を効果的に抑制してカメラ５による撮像処理を良好に実行することができる。

　さらに、大径透明配管３４の主要部内面Ｓ３４１及びテーパ部内面Ｓ３４２の構成材料は親水性を有するため、大径透明配管３４内に結露が発生しても、結露した液が大径透明配管３４の主要部内面Ｓ３４１及びテーパ部内面Ｓ３４２に水滴として付着する現象を抑制することができる。

　なお、内面差分距離Δ３４は、ミスト含有ガスＧ３の下流配管８からの跳ね返り現象が生じても、ミスト含有ガスＧ３の跳ね返り成分が中間配管４４の配管内面Ｓ４４に到達する可能性を十分低くする長さに設定することが望ましい。

　また、内面差分距離Δ３３は、中間配管４４の配管内面Ｓ４４に沿って液体が自重落下した場合でも、自重落下した液体成分が大径透明配管３４における配管主要部３４１の主要部内面Ｓ３４１に直接到達する可能性を実質的に“０”とする長さに設定することが望ましい。

　実施の形態９では、外部排出用配管を除くミスト流量測定装置及び超音波霧化システムの構成として、図１～図８で示した実施の形態１の構成を採用したが、実施の形態１に替えて、図９～図１１で示した実施の形態２～実施の形態４の構成を採用するようにしても良い。

　＜実施の形態１０＞
　図２２は、本開示の実施の形態１０であるミスト流量測定装置における、上流配管７、大径透明配管３５、中間配管４５及び下流配管８の断面構造を示す説明図である。図２３は上流配管７、大径透明配管３５、中間配管４５及び下流配管８の全体構造を示す斜視図である。なお、図２２及び図２３それぞれにＸＹＺ直交座標系を記している。

　実施の形態１０のミスト流量測定装置において、上流配管７、大径透明配管３５、中間配管４５及び下流配管８を含む外部排出用配管以外の構成は、図１～図８で示した実施の形態１のミスト流量測定装置と同様な構成である。ただし、上流配管７、中間配管４５及び下流配管８は、大径透明配管３５と共にミスト流量測定装置の主要構成要素に含まれる。

　実施の形態１０のミスト流量測定装置は、図１で示す透明配管１０が大径透明配管３５及び中間配管４５に置き換わった点で実施の形態１と異なる。

　実施の形態１０において、上流配管７、大径透明配管３５、中間配管４５及び下流配管８の組合せによって外部排出用配管が構成される。上流配管７は第１のガス供給用配管となり、下流配管８は第２のガス供給配管となり、大径透明配管３５は撮像用配管となり、中間配管４５が第１の撮像補助配管となる。

　図２２及び図２３に示すように、外部排出用配管を構成する上流配管７、大径透明配管３５、中間配管４５及び下流配管８はそれぞれ鉛直方向と平行なＺ方向に沿って配置される。そして、上流配管７と大径透明配管３５との間、大径透明配管３５と中間配管４５との間、及び中間配管４５と下流配管８との間がそれぞれ直接連結される。なお、上流配管７、大径透明配管３５、中間配管４５及び下流配管８を一体的に構成しても良い。

　大径透明配管３５は、撮像用主要部となる配管主要部３５１と撮像用下方補助部となる配管テーパ部３５２と撮像用上方補助部となる配管テーパ部３５３とを含んでいる。

　配管主要部３５１の上方端部が配管テーパ部３５３の上方端部に連結され、配管テーパ部３５３の下方端部が中間配管４５の下方端部に連結される。配管主要部３５１の下方端部が配管テーパ部３５２の上方端部に連結され、配管テーパ部３５２の下方端部が上流配管７の上方端部に連結される。

　超音波霧化装置１００（図１参照）から供給されるミスト含有ガスＧ３は所定方向、すなわち、反鉛直方向（＋Ｚ方向）に沿って、上流配管７、大径透明配管３５、中間配管４５及び下流配管８の順で流れる。

　このように、ミスト含有ガスＧ３の流路は、上流配管７、大径透明配管３５、中間配管４５及び下流配管８それぞれの内部に設けられる。すなわち、上流配管７、大径透明配管３５、中間配管４５及び下流配管８はそれぞれミスト流通領域を内部に有している。

　また、上流配管７、大径透明配管３５の配管主要部３５１、中間配管４５及び下流配管８それぞれの断面形状は内径が一定の円形状である。一方、大径透明配管３５の配管テーパ部３５２及び３５３それぞれの断面形状は円形状である。上流配管７は内径Ｄ７を有し、大径透明配管３５における配管主要部３５１は内径Ｄ３５を有し、中間配管４５は内径Ｄ４５を有し、下流配管８は内径Ｄ８を有している。

　実施の形態１０において、大径透明配管３５における配管主要部３５１が内径Ｄ３５で一定の内径一定領域となっている。また、大径透明配管３５及び中間配管４５はそれぞれＺ方向に沿って所定の長さを有している。

　撮像用配管である大径透明配管３５の構成材料は透明性を有している。さらに、大径透明配管３５の配管主要部３５１の主要部内面Ｓ３５１、配管テーパ部３５２のテーパ部内面Ｓ３５２及び配管テーパ部３５３のテーパ部内面Ｓ３５３それぞれの構成材料は親水性を有している。実施の形態１０では、配管主要部３５１の主要部内面Ｓ３５１が内径一定領域の内面となる。

　上流配管７の配管内面Ｓ７、中間配管４５の配管内面Ｓ４５及び下流配管８の配管内面Ｓ８それぞれの構成材料も親水性を有することが望ましい。一方、上流配管７、中間配管４５及び下流配管８は撮像用配管ではないため、透明性を有する必要はない。また、上流配管７、大径透明配管３５、中間配管４５及び下流配管８それぞれの厚みは任意に設定される。

　実施の形態１０のミスト流量測定装置において、撮像用配管である大径透明配管３５内のミスト流通領域の一部が、ミスト撮像用カメラであるカメラ５の撮像対象領域となる。なお、撮像用主要部である配管主要部３５１内のミスト流通領域の一部がカメラ５の撮像対象領域となることが望ましい。

　図２３において、白地部分は透明部分であることを示し、斜線ハッチング部分は被透明部分を示している。図２３に示すように、実施の形態１０の外部排出用配管は、透明性を有する大径透明配管３５と、透明性を有さない上流配管７、中間配管４５及び下流配管８とから構成される。

　実施の形態１０の外部排出用配管に関し、上流配管７の内径Ｄ７と下流配管８の内径Ｄ８とは同一値に設定される。また、中間配管４５の内径Ｄ４５は内径Ｄ７及びＤ８それぞれより大きい値に設定される。すなわち、中間配管４５、上流配管７及び下流配管８は、｛Ｄ４５＞Ｄ８＝Ｄ７｝の内径に関する大小関係を有している。

　一方、大径透明配管３５の配管主要部３５１（内径一定領域）における内径Ｄ３５は、内径Ｄ４５より大きい値に設定される。すなわち、撮像用主要部となる配管主要部３５１と中間配管４５とは、｛Ｄ３５＞Ｄ４５（＞Ｄ７＝Ｄ８）｝の内径に関する大小関係を有している。なお、上流配管７、大径透明配管３５における配管主要部３５１、配管テーパ部３５２及び３５３、中間配管４５並びに下流配管８はそれぞれ平面視して中心位置が一致している。

　大径透明配管３５における配管テーパ部３５２において、配管主要部３５１との上方接続部となる最上端は、配管主要部３５１の内径Ｄ３５と同一の内径を有し、第１のガス供給用配管となる上流配管７との下方接続部となる最下端は、上流配管７の内径Ｄ７と同一の内径を有している。

　撮像用下方補助部となる配管テーパ部３５２は、鉛直方向（－Ｚ方向）に従い内径Ｄ３５から内径Ｄ７にかけて内径が小さくなるテーパ形状を有している。すなわち、配管テーパ部３５２は、内側に向かうに従い鉛直方向（－Ｚ方向）側に傾く鉛直方向凸構造を有している。

　実施の形態５において、配管主要部３５１と中間配管４５とは、配管主要部３５１の最上端が中間配管４５の最下端より高くなる位置関係を有している。

　大径透明配管３５における配管テーパ部３５３において、配管主要部３５１との上方接続部となる最上端は、配管主要部３５１の内径Ｄ３５と同一の内径を有し、中間配管４５との下方接続部となる最下端は、中間配管４５の内径Ｄ４５と同一の内径を有している。

　撮像用上方補助部となる配管テーパ部３５３は、鉛直方向（－Ｚ方向）に従い内径Ｄ３５から内径Ｄ４５にかけて内径が小さくなるテーパ形状を有している。すなわち、配管テーパ部３５３は、内側に向かうに従い鉛直方向（－Ｚ方向）側に傾く鉛直方向凸構造を有している。

　実施の形態１０のミスト流量測定装置の外部排出用配管に関し、撮像用配管である大径透明配管３５における配管主要部３５１（内径一定領域）の内径Ｄ３５は、第１及び第２のガス供給用配管となる上流配管７及び下流配管８の内径Ｄ７及びＤ８より大きい。

　したがって、実施の形態１０のミスト流量測定装置は、実施の形態６～実施の形態９と同様、大径透明配管３５の配管主要部３５１における主要部内面Ｓ３５１での結露の発生を抑制してミスト撮像用カメラであるカメラ５による撮像処理を良好に実行することができる。

　その結果、実施の形態１０のミスト流量測定装置は、実施の形態６～実施の形態９と同様、上述した撮像処理阻害要因を改善することにより、精度良く原料ミストの流量を測定することができる。

　実施の形態１０において、第１の撮像補助配管である中間配管４５の内径Ｄ４５は大径透明配管３５における配管主要部３５１（内径一定領域）の内径Ｄ３５より小さいため、中間配管４５の配管内面Ｓ４５と大径透明配管３５における配管主要部３５１の主要部内面Ｓ３５１との間に内面差分距離Δ４３（＝（Ｄ３５－Ｄ４５）／２）が生じる。中間配管４５の内径Ｄ４５は下流配管８の内径Ｄ８より大きいため、中間配管４５の配管内面Ｓ４５と下流配管８の配管内面Ｓ８との間に内面差分距離Δ４４（＝（Ｄ４５－Ｄ８）／２）が生じる。内面差分距離Δ４３が第３の内面差分距離となり、内面差分距離Δ４４が第４の内面差分距離となる。

　実施の形態１０の外部排出用配管は、実施の形態７の内面差分距離Δ１３及びΔ１４と同様、内面差分距離Δ４３及びΔ４４を有するため、実施の形態７と同様、大径透明配管３５における配管主要部３５１の主要部内面Ｓ３５１での結露の発生を効果的に抑制してミスト撮像用カメラであるカメラ５による撮像処理を良好に実行することができる。

　また、ミスト含有ガスＧ３が中間配管４５から下流配管８に伝搬される際、第４の内面差分距離となる内面差分距離Δ４４が生じる分、下流配管８からミスト含有ガスＧ３の一部が跳ね返る。

　下流配管８からミスト含有ガスＧ３の一部が跳ね返って落下するガス跳ね返り現象Ｐ４０が生じ、大径透明配管３５のテーパ部内面Ｓ３５２に結露した液体として一時的に付着する可能性がある。しかしながら、テーパ部内面Ｓ３５２の液体が付着しても、配管テーパ部３５２は鉛直方向凸構造を有するため、時間経過と共にテーパ部内面Ｓ３５２から第１のガス供給用配管である上流配管７側に液体が流れ込む。したがって、テーパ部内面Ｓ３５２上で結露した液体が残存したり、テーパ部内面Ｓ３５２から主要部内面Ｓ３５１に結露した液体が流れたりすることはない。

　その結果、実施の形態１０のミスト流量測定装置は、実施の形態９と同様、大径透明配管３５の主要部内面Ｓ３５１及びテーパ部内面Ｓ３５２での結露の発生を効果的に抑制してミスト撮像用カメラによる撮像処理を良好に実行することができる。

　さらに、ミスト含有ガスＧ３が中間配管４５から下流配管８に伝搬される際、第４の内面差分距離となる内面差分距離Δ４４が生じる分、下流配管８からミスト含有ガスＧ３の一部が跳ね返る。この際、中間配管４５の配管内面Ｓ４５から、撮像用上方補助部である配管テーパ部３５３のテーパ部内面Ｓ３５３を経由して撮像用主要部である配管主要部３５１の主要部内面Ｓ３５１に至る内面伝達経路が存在する。

　一方、配管テーパ部３５３は鉛直方向凸構造を有するため、上記内面伝達経路の一部となるテーパ部内面Ｓ３５３が反鉛直方向成分（＋Ｚ方向成分）となる。このため、上記内面伝達経路を結露した液体が流れる可能性を効果的に低下させることができる。

　なぜなら、テーパ部内面Ｓ３５３から主要部内面Ｓ３５１に液体が流れる際、上記内面伝達経路にテーパ部内面Ｓ３５３による反鉛直方向成分が含まれるため、テーパ部内面Ｓ３５３に一時的に付着した液体が自重落下する可能性が高くなるからである。したがって、テーパ部内面Ｓ３５３から主要部内面Ｓ３５１に結露した液体が流れる現象を実質的に“０”にすることができる。

　その結果、実施の形態１０のミスト流量測定装置は、大径透明配管３５の主要部内面Ｓ３５１、テーパ部内面Ｓ３５２及びＳ３５３での結露の発生を効果的に抑制してミスト撮像用カメラによる撮像処理を良好に実行することができる。

　さらに、大径透明配管３５の主要部内面Ｓ３５１、テーパ部内面Ｓ３５２及びＳ３５３の構成材料は親水性を有するため、大径透明配管３５内に結露が発生しても、結露した液が大径透明配管３５の主要部内面Ｓ３５１、テーパ部内面Ｓ３５２及びＳ３５３に水滴として付着する現象を抑制することができる。

　なお、内面差分距離Δ４４は、ミスト含有ガスＧ３の下流配管８からの跳ね返り現象が生じても、ミスト含有ガスＧ３の跳ね返り成分が中間配管４５の配管内面Ｓ４５に到達する可能性を十分低くする長さに設定することが望ましい。

　また、内面差分距離Δ４３は、中間配管４５の配管内面Ｓ４５に沿って液体が自重落下した場合でも、自重落下した液体成分が大径透明配管３５における配管主要部３５１の主要部内面Ｓ３５１に直接到達する可能性を実質的に“０”とする長さに設定することが望ましい。

　実施の形態１０では、外部排出用配管を除くミスト流量測定装置及び超音波霧化システムの構成として、図１～図８で示した実施の形態１の構成を採用したが、実施の形態１に替えて、図９～図１１で示した実施の形態２～実施の形態４の構成を採用するようにしても良い。

　＜その他＞
　本開示は詳細に説明されたが、上記した説明は、すべての局面において、例示であって、本開示がそれに限定されるものではない。例示されていない無数の変形例が、本開示の範囲から外れることなく想定され得るものと解される。

　また、本開示は、その開示の範囲内において、各実施の形態を自由に組み合わせたり、各実施の形態を適宜、変形、省略したりすることが可能である。

　例えば、実施の形態３で用いたヒーター１２を実施の形態２，実施の形態４及び実施の形態５でも用いたり、実施の形態２～実施の形態４における透明配管１０を有する構造を実施の形態５で示した配管不在空間９を設ける構造に変更したりすることができる。

　また、実施の形態１０の大径透明配管３５における配管テーパ部３５２及び３５３に相当する構成部を、実施の形態８の大径透明配管３３の下方及び上方に設けるようにしても良い。

　１　霧化用容器
　２　超音波振動子
　３　原料ミスト
　４　ガス供給配管
　５，５１，５２　カメラ
　６　光源
　７　上流配管
　８　下流配管
　９　配管不在空間
　１０　透明配管
　１２　ヒーター
　１６　ミスト流量演算部
　１７　流量制御部
　２０　原料溶液供給部
　３１～３５　大径透明配管
　４２～４５　中間配管
　５３　テーパ状配管
　３４１，３５１　配管主要部
　３４２，３５２，３５３　配管テーパ部
　１００１～１００５　超音波霧化システム
　Ｄ７，Ｄ８，Ｄ３１～Ｄ３５，Ｄ４２～Ｄ４５　内径
　Ｌ１　入射光
　Ｌ２，Ｌ２１，Ｌ２２　反射光
　Ｌ３　透過光

Claims

　原料ミストを含むミスト含有ガスが流れるミスト流通領域の少なくとも一部を撮像対象領域として撮像処理を実行して撮像情報を取得するミスト撮像用カメラと、
　前記撮像情報に基づき前記ミスト含有ガスにおける前記原料ミストの流量を求めるミスト流量演算処理を実行するミスト流量演算部と、
　各々が前記ミスト流通領域を内部に有する第１及び第２のガス供給用配管と、
　前記ミスト流通領域を内部に有する撮像用配管とを備え、
　前記第１及び第２のガス供給用配管それぞれの断面形状は内径が一定の円形状であり、
　前記撮像用配管の断面形状は円形状であり、前記撮像用配管は少なくとも一部に内径が一定の内径一定領域を有し、
　前記撮像用配管は、前記第１のガス供給用配管と前記第２のガス供給用配管との間に設けられ、構成材料は透明性を有し、
　前記撮像用配管内の前記ミスト流通領域の一部が前記撮像対象領域となり、
　前記ミスト含有ガスは、鉛直方向に対向する所定方向に沿って、前記第１のガス供給用配管、前記撮像用配管及び前記第２のガス供給用配管の順に流れ、
　前記撮像用配管における前記内径一定領域の内径は、前記第１及び第２のガス供給用配管それぞれの内径より大きいことを特徴とする、
ミスト流量測定装置。
　請求項１記載のミスト流量測定装置であって、
　前記撮像用配管は鉛直方向に沿って配置され、
　前記所定方向は鉛直方向と正反対となる反鉛直方向である、
ミスト流量測定装置。
　請求項１または請求項２記載のミスト流量測定装置であって、
　前記撮像用配管の断面形状は内径が一定の円形状であり、前記撮像用配管の全体が前記内径一定領域となり、
　前記撮像用配管は前記第１及び第２のガス供給用配管それぞれと直接連結される、
ミスト流量測定装置。
　請求項２記載のミスト流量測定装置であって、
　前記ミスト流通領域を内部に有する第１の撮像補助配管をさらに備え、
　前記第１の撮像補助配管は、前記撮像用配管と前記第２のガス供給用配管との間に設けられ、
　前記第１の撮像補助配管の断面形状は内径が一定の円形状であり、
　前記第１の撮像補助配管は鉛直方向に沿って配置され、
　前記ミスト含有ガスは、前記反鉛直方向に沿って、前記第１のガス供給用配管、前記撮像用配管、前記第１の撮像補助配管及び前記第２のガス供給用配管の順に流れ、
　前記第１の撮像補助配管の内径は、前記撮像用配管における内径一定領域の内径より小さく、前記第２のガス供給用配管の内径より大きいことを特徴とする、
ミスト流量測定装置。
　請求項４記載のミスト流量測定装置であって、
　前記ミスト流通領域を内部に有する第２の撮像補助配管をさらに備え、
　前記第２の撮像補助配管は、前記第１の撮像補助配管と前記第２のガス供給用配管との間に設けられ、
　前記第２の撮像補助配管の断面形状は円形状であり、
　前記ミスト含有ガスは、前記反鉛直方向に沿って、前記第１のガス供給用配管、前記撮像用配管、前記第１の撮像補助配管、前記第２の撮像補助配管及び前記第２のガス供給用配管の順に流れ、
　前記第２の撮像補助配管において、前記第１の撮像補助配管との下方接続部は前記第１の撮像補助配管と同一の内径を有し、前記第２のガス供給用配管との上方接続部は前記第２のガス供給用配管と同一の内径を有し、
　前記第２の撮像補助配管は、前記反鉛直方向に従い内径が小さくなるテーパ形状を有することを特徴とする、
ミスト流量測定装置。
　請求項４または請求項５記載のミスト流量測定装置であって、
　前記撮像用配管の断面形状は内径が一定の円形状であり、
　前記撮像用配管の全体が前記内径一定領域となる、
ミスト流量測定装置。
　請求項４記載のミスト流量測定装置であって、
　前記撮像用配管は、
　撮像用主要部と、
　撮像用下方補助部とを含み、
　前記撮像用主要部は前記撮像用下方補助部を介して前記第１のガス供給用配管と連結され、
　前記撮像用主要部の断面形状は内径が一定の円形状であり、前記撮像用主要部が前記内径一定領域となり、
　前記撮像用下方補助部は、内側に向かうに従い鉛直方向側に傾く鉛直方向凸構造を有することを特徴とする、
ミスト流量測定装置。
　請求項７記載のミスト流量測定装置であって、
　前記撮像用配管は、
　撮像用上方補助部をさらに含み、
　前記撮像用主要部は前記撮像用上方補助部を介して前記第１の撮像補助配管と連結され、
　前記撮像用上方補助部は、内側に向かうに従い鉛直方向側に傾く鉛直方向凸構造を有することを特徴とする、
ミスト流量測定装置。
　請求項１から請求項８のうち、いずれか１項に記載のミスト流量測定装置であって、
　前記撮像用配管の内面の構成材料は親水性を有する、
ミスト流量測定装置。