WO2023090336A1 - ハロビニルイミダゾール化合物の製造方法 - Google Patents

ハロビニルイミダゾール化合物の製造方法 Download PDF

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WO2023090336A1
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group
formula
compound
reaction
groups
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PCT/JP2022/042473
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English (en)
French (fr)
Inventor
直人 江住
太輝 多田隈
Original Assignee
日本曹達株式会社
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D233/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings
    • C07D233/54—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D233/64—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms, e.g. histidine

Definitions

  • the present invention relates to a method for producing a halovylimidazole compound.
  • This application claims priority based on Japanese Patent Application No. 2021-188984 filed in Japan on November 19, 2021, the content of which is incorporated herein.
  • Nitrogen-containing heterocycles are the main partial structures (building blocks) that make up compounds that serve as active ingredients for pharmaceuticals and agricultural chemicals.
  • Patent Document 1 discloses a compound represented by formula (A).
  • Patent Document 2 discloses a method characterized by dehydrogenating a compound selected from the group consisting of 2-alkylimidazoles and 2-alkylimidazolines in the presence of a dehydrogenation catalyst to produce 2-alkenylimidazoles. is disclosed.
  • Patent Document 3 discloses a method for producing a 1-vinylimidazole derivative, characterized in that a 2-hydroxyethylimidazole derivative is dehydrated in the liquid phase in the presence of an alkali metal hydroxide or alcoholate. .
  • Patent Document 4 a hydroxyethyl group-containing imidazole compound is subjected to a dehydration reaction in the presence of a dehydrating agent in a solvent having a boiling point at normal pressure higher than the boiling point of the vinylimidazole compound at normal pressure by 30°C or more. discloses a method for producing a vinylimidazole compound.
  • An object of the present invention is to provide a method for producing a halovylimidazole compound, which is one of the building blocks.
  • Formula (2) including chemically reacting a compound represented by formula (1) (hereinafter sometimes referred to as compound (1)) with sodium hyposulfite in the presence of a base A method for producing the represented compound (hereinafter sometimes referred to as compound (2)).
  • R 1 represents a C1-6 alkyl group
  • Q represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted pyridyl group
  • X represents a halogeno group
  • R a represents a C1- 6 alkyl groups.
  • a compound represented by formula (3) (hereinafter sometimes referred to as compound (3)) and a compound represented by formula (4) (hereinafter sometimes referred to as compound (4)) are chemically reacting in the presence of a base or metal alkoxide, and chemically reacting the product of the chemical reaction with a compound represented by formula (5) (hereinafter sometimes referred to as compound (5))
  • the production method according to [1] further comprising obtaining the compound represented by the formula (1) by a method comprising
  • R 1 represents a C1-6 alkyl group
  • Q represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted pyridyl group.
  • R a represents a C1-6 alkyl group.
  • R 1 represents a C1-6 alkyl group.
  • the compound represented by formula (2) can be obtained in high yield.
  • the term "unsubstituted” means that only a base group is used. When only the name of the mother nucleus group is described without the description of "substituted”, it means “unsubstituted” unless otherwise specified.
  • the term “substituted” means that any hydrogen atom in a mother nucleus group is replaced with a group (substituent) having the same or different structure as that of the mother nucleus.
  • a “substituent” is another group attached to a scaffold group.
  • the number of substituents may be one, or two or more. Two or more substituents may be the same or different.
  • C1-6 indicates that the number of carbon atoms in the mother nucleus group is from 1 to 6, and the like. This number of carbon atoms does not include the number of carbon atoms in substituent groups.
  • a butyl group having an ethoxy group as a substituent is classified as a C2 alkoxy C4 alkyl group.
  • a "substituent” is not particularly limited as long as it is chemically acceptable and has the effects of the present invention.
  • C1-6 such as methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, s-butyl group, i-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group alkyl group; vinyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group (allyl group), 1-butenyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, 1-methyl-2-propenyl group, 2-methyl-2-propenyl group, etc.
  • C3-6 cycloalkyl groups such as cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group; phenyl group; a 3- to 6-membered heterocyclyl group;
  • C1-6 alkoxy groups such as methoxy, ethoxy, n-propoxy, i-propoxy, n-butoxy, s-butoxy, i-butoxy and t-butoxy; C6-10 aryloxy groups such as phenoxy group and naphthoxy group; 5- to 6-membered heteroaryloxy groups such as a thiazolyloxy group and a pyridyloxy group;
  • C1-6 alkoxycarbonyl groups such as methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propoxycarbonyl group, i-propoxycarbonyl group, n-butoxycarbonyl group, t-butoxycarbonyl group;
  • Halogeno groups such as fluoro, chloro, bromo and iodo groups; C1-6 haloalkyl groups such as chloromethyl group, chloroethyl group, trifluoromethyl group, 1,2-dichloro-n-propyl group, 1-fluoro-n-butyl group, perfluoro-n-pentyl group; C1-6 haloalkoxy groups such as trifluoromethoxy group, 2-chloro-n-propoxy group, 2,3-dichlorobutoxy group;
  • C1-6 alkylcarbonylamino groups such as acetylamino group, propanoylamino group, butyrylamino group, i-propylcarbonylamino group
  • C1-6 alkoxycarbonylamino groups such as methoxycarbonylamino group, ethoxycarbonylamino group, n-propoxycarbonylamino group, i-propoxycarbonylamino group
  • unsubstituted or substituted aminocarbonyl group such as aminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, phenylaminocarbonyl group, N-phenyl-N-methylaminocarbonyl group;
  • C1-6 alkylthio groups such as methylthio, ethylthio, n-propylthio, i-propylthio, n-butylthio, i-butylthio, s-butylthio and t-butylthio; C1-6 haloalkylthio groups such as a trifluoromethylthio group and a 2,2,2-trifluoroethylthio group; C1-6 alkylsulfonyl groups such as a methylsulfonyl group, an ethylsulfonyl group, and a t-butylsulfonyl group; C1-6 haloalkylsulfonyl groups such as a trifluoromethylsulfonyl group and a 2,2,2-trifluoroethylsulfonyl group;
  • any hydrogen atom in these "substituents" may be substituted with a group having a different structure.
  • Substituents in that case include a C1-6 alkyl group, a C1-6 haloalkyl group, a C1-6 alkoxy group, a C1-6 haloalkoxy group, a halogeno group, a cyano group and a nitro group.
  • the above-mentioned "3- to 6-membered heterocyclyl group” contains 1 to 4 heteroatoms selected from the group consisting of nitrogen, oxygen and sulfur atoms as ring-constituting atoms.
  • Heterocyclyl groups can be either monocyclic or polycyclic. As long as at least one ring of the polycyclic heterocyclyl group is a heterocyclic ring, the remaining rings may be saturated alicyclic, unsaturated alicyclic or aromatic rings.
  • the "3- to 6-membered heterocyclyl group” includes a 3- to 6-membered saturated heterocyclyl group, a 5- to 6-membered heteroaryl group, a 5- to 6-membered partially unsaturated heterocyclyl group, and the like.
  • the 3- to 6-membered saturated heterocyclyl groups include aziridinyl, epoxy, pyrrolidinyl, tetrahydrofuranyl, thiazolidinyl, piperidyl, piperazinyl, morpholinyl, dioxolanyl and dioxanyl groups.
  • Five-membered heteroaryl groups include pyrrolyl, furyl, thienyl, imidazolyl, pyrazolyl, oxazolyl, isoxazolyl, thiazolyl, isothiazolyl, triazolyl, oxadiazolyl, thiadiazolyl, and tetrazolyl groups. be able to.
  • 6-membered heteroaryl groups include pyridyl, pyrazinyl, pyrimidinyl, pyridazinyl, and triazinyl groups.
  • Five-membered partially unsaturated heterocyclyl groups include pyrrolinyl, dihydrofuranyl, imidazolinyl, pyrazolinyl, oxazolinyl, and isoxazolinyl groups.
  • a dihydropyranyl group etc. can be mentioned as a 6-membered partially unsaturated heterocyclyl group.
  • the method for producing compound (2) of the present invention includes chemically reacting compound (1) and sodium hyposulfite in the presence of a base (hereinafter sometimes referred to as the third reaction).
  • the compound (1) is represented by the following formula (1).
  • R 1 represents a C1-6 alkyl group.
  • the C1-6 alkyl group for R 1 may be linear or branched.
  • the C1-6 alkyl group for R 1 includes methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, i-propyl group, i-butyl group, s-butyl group, t-butyl group, i-pentyl group, neopentyl group, 2-methylbutyl group, 2,2-dimethylpropyl group, i-hexyl group and the like.
  • Q represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted pyridyl group.
  • Q is preferably a hydrogen atom.
  • substituents on the "pyridyl group" in Q include halogeno groups such as fluoro, chloro, bromo, and iodo groups; methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, n-butyl, C1-6 alkyl groups such as s-butyl group, i-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group; difluoromethyl group, trifluoromethyl group, perfluoroethyl group, 1,2, C1-6 haloalkyl groups such as 2,3,3,3-hexafluoropropyl group, perfluoropropyl group, 1,2,3,3,3-pentafluoro-2-(trifluoromethyl)propyl group; cyclopropyl C3-6 cycloalkyl groups such as cyclobutyl groups; methoxy groups, ethoxy groups, n-propoxy groups,
  • X represents a halogeno group.
  • halogeno group examples include a fluoro group, a chloro group, a bromo group and an iodo group.
  • Preferred examples of X include a chloro group and a bromo group.
  • R a represents a C1-6 alkyl group.
  • Examples of the “C1-6 alkyl group” for R a are the same as those for R 1 .
  • the compound (1) used in the present invention may be synthesized by oneself by a known method, or may be synthesized by another person by some method and marketed.
  • the compound (1) used in the present invention is obtained, for example, by chemically reacting the compound (3) and the compound (4) in the presence of a base or a metal alkoxide (hereinafter sometimes referred to as the first reaction). and chemical reaction (hereinafter sometimes referred to as second reaction) between the first reaction product and compound (5).
  • first reaction a base or a metal alkoxide
  • second reaction chemical reaction
  • R 1 represents a C1-6 alkyl group
  • Q represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted pyridyl group.
  • Examples of the compound (3) include 1-methyl-1H-imidazole-5-carbaldehyde.
  • X represents a halogeno group.
  • Examples of the compound (4) include 2,2-dichloro-1,1,1-trifluoroethane (HCFC-123), 2-bromo-2-chloro-1,1,1-trifluoroethane (halothane ) and the like, preferably 2-bromo-2-chloro-1,1,1-trifluoroethane.
  • R a represents a C1-6 alkyl group.
  • examples of the compound (5) include acetic anhydride and propionic anhydride.
  • the compound (3), compound (4), and compound (5) used in the first reaction or the second reaction may be synthesized by oneself by a known method, or synthesized by another person by some method. It may be commercially available.
  • the amount of compound (4) in the first reaction is, for example, 1.0 to 5.0 mol, preferably 1.2 to 2.0 mol, per 1 mol of compound (3).
  • Examples of the base to be present in the first reaction include inorganic bases such as sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium hydride, potassium hydride; triethylamine, tetra Methylethylenediamine, N,N-diisopropylamine, N,N-dimethylaniline, N,N-diethylaniline, 4-methylmorpholine, 1-azabicyclo[2.2.2]octane, 1,4-diazabicyclo[2.2 .2] octane (abbreviation: DABCO), 1,8-diazabicyclo[5.4.0]undec-7-ene, 1,5-diazabicyclo[4.3.0]non-5-ene, pyridine, 4 Organic bases such as -(dimethylamino)pyridine and 2,6-dimethylpyridine can be mentioned.
  • inorganic bases such as sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate,
  • the amount of the base used is, for example, 1.0 to 5.0 mol, preferably 1.5 to 2.0 mol, per 1 mol of the compound (3).
  • Examples of the metal alkoxide to be present in the first reaction include sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium t-butoxide, etc. Potassium t-butoxide is preferably used.
  • the amount of the metal alkoxide used is, for example, 1.0 to 5.0 mol, preferably 1.2 to 2.0 mol, per 1 mol of the compound (3).
  • the first reaction can be carried out in the absence of solvent or in a solvent. Considering operability, the first reaction is preferably carried out in an organic solvent.
  • organic solvents include ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, diethylene glycol dimethyl ether (product name: diglyme) and tetrahydrofuran (abbreviation: THF); dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane (abbreviation: DCE) and the like.
  • Halogenated hydrocarbons Aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane, cyclohexane, heptane and octane; Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; N,N-dimethylformamide (abbreviation: DMF), N, Aprotic polar solvents such as N'-dimethylpropylene urea (abbreviation: DMPU), hexamethylphosphoric acid triamide (abbreviation: HMPA); and acetonitrile can be mentioned, and ethers such as tetrahydrofuran are preferably used.
  • the amount of the organic solvent used is preferably 10 to 2000 parts by weight with respect to 1 part by weight of the compound (3).
  • the order of addition of the compound (3), the compound (4), the metal alkoxide or base, and the optionally used organic solvent used in the first reaction to the reaction site is not particularly limited.
  • the temperature during mixing is preferably -70°C to 0°C, more preferably -70°C to -50°C. When mixing, it is preferable to mix under stirring. It is preferable to add the metal alkoxide or the base gradually in small amounts by dropwise addition or the like.
  • the temperature in the first reaction is preferably -70°C to 0°C, more preferably -70°C to -50°C.
  • the pressure in the first reaction is not particularly limited, and is normal pressure, for example.
  • the reaction time in the first reaction is, for example, 5 minutes to 24 hours, more preferably 5 minutes to 1 hour.
  • the first reaction is preferably performed under an inert gas atmosphere.
  • the liquid containing the first reaction product can be directly used for the second reaction.
  • the liquid containing the first reaction product may be subjected to post-treatment and, if necessary, purification.
  • the post-treatment can be, for example, an operation such as extraction with an organic solvent and drying and concentration of the resulting organic layer. Purification can be, for example, operations such as recrystallization, chromatography, and the like.
  • the amount of compound (5) in the second reaction is, for example, 1.0 to 5.0 mol, preferably 1.2 to 3.0 mol, per 1 mol of compound (3).
  • the temperature in the second reaction is preferably -70°C to 0°C, more preferably -70°C to -50°C.
  • the pressure in the second reaction is not particularly limited, and is normal pressure, for example.
  • the reaction time in the second reaction is, for example, 0.5 hours to 24 hours, preferably 0.5 hours to 2 hours.
  • the second step is preferably performed in an inert gas atmosphere.
  • the liquid containing compound (1) can be used as it is for the third reaction.
  • the liquid containing compound (1) may be post-treated and, if necessary, purified.
  • the post-treatment can be, for example, an operation such as extraction with an organic solvent and drying and concentration of the resulting organic layer.
  • Purification can be, for example, operations such as recrystallization, chromatography, and the like.
  • the sodium hyposulfite can be obtained by electrolytically reducing sodium hydrogen sulfite. Alternatively, it can be obtained by metal zinc-mediated reaction of sulfur dioxide with sodium salt and purification. Sodium hyposulfite has a strong reducing power.
  • the amount of sodium hyposulfite to be used is, for example, 1.0 to 5.0 mol, preferably 1.1 to 3.0 mol, per 1 mol of compound (1).
  • Examples of the base to be present in the third reaction include inorganic bases such as sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium hydride, potassium hydride; triethylamine, tetra Methylethylenediamine, N,N-diisopropylamine, N,N-dimethylaniline, N,N-diethylaniline, 4-methylmorpholine, 1-azabicyclo[2.2.2]octane, 1,4-diazabicyclo[2.2 .2] octane (abbreviation: DABCO), 1,8-diazabicyclo[5.4.0]undec-7-ene, 1,5-diazabicyclo[4.3.0]non-5-ene, pyridine, 4 Organic bases such as -(dimethylamino)pyridine and 2,6-dimethylpyridine can be mentioned, and inorganic bases such as sodium hydrogen carbonate are preferably used. The
  • the third reaction can be carried out in the absence of solvent or in a solvent. Considering operability, the reaction is preferably carried out in a solvent. Since sodium hyposulfite is used, it is preferable to use a mixed solvent of water and an organic solvent.
  • organic solvents include alcohols such as methanol and ethanol; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, diethylene glycol dimethyl ether (product name: diglyme) and tetrahydrofuran (abbreviation: THF); Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; N,N-dimethylformamide (abbreviation: DMF), N,N'-dimethylpropylene urea (abbreviation: DMPU), hexamethylphosphoric triamide (abbreviation: HMPA) aprotic polar solvents such as acetonitrile, etc., and keto
  • the order of addition of compound (1), sodium hyposulfite, a base, and optionally a solvent used in the third reaction to the reaction site is not particularly limited.
  • compound (1) is added to a solvent or no solvent in a container, sodium hyposulfite and a base are added to obtain a mixture, and the mixture is stirred to complete the chemical reaction. Including. Mixing is preferably carried out under stirring. Each substance may be added all at once or gradually in small amounts.
  • the temperature in the third reaction is not particularly limited, and is, for example, 0°C to the boiling point of the solvent, such as about 20°C to 30°C.
  • the pressure in the third reaction is, for example, 0.1-1 MPa, preferably 0.1-0.5 MPa.
  • the reaction time in the third reaction is not particularly limited, and is, for example, 0.5 hours to 24 hours.
  • the third reaction is preferably carried out under an inert gas atmosphere.
  • the third reaction is preferably quenched by adding a saturated aqueous solution of sodium bicarbonate or the like. After completion of the third reaction, post-treatment such as drying and concentration of the organic layer obtained by extraction with an organic solvent can be performed.
  • the product of the third reaction may be purified by operations such as recrystallization and chromatography.
  • the compound (2) obtained by the production method of the present invention is represented by formula (2).
  • R 1 and Q are the same as those in formula (1) above.
  • Stereoisomers can be separated and purified by operations such as chromatography.
  • compounds represented by the following formula (2a1), formula (2a2), or formula (2a3) are novel compounds, intermediates for the production of pharmaceuticals and agricultural chemicals, and , as a monomer for polymer production.
  • R 1 represents a C1-6 alkyl group, preferably a methyl group. Specifically, the following compounds are preferable as the compound represented by the formula (2a1), formula (2a2), or formula (2a3).
  • the production method of the present invention can efficiently obtain a halovylimidazole compound, which is a main partial structure constituting a compound that is the active ingredient of pharmaceuticals and agricultural chemicals.

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Abstract

式(1)（式中、Ｒ1はＣ１～６アルキル基を示し、Ｑは水素原子または置換若しくは無置換のピリジル基を示し、Ｘはハロゲノ基を示し、ＲａはＣ１～６アルキル基を示す）で表される化合物と、次亜硫酸ナトリウムとを、塩基の存在下に化学反応させることを含む、式(2)（式中、Ｒ1およびＱは、式(1)中のそれらと同じものを示す）で表される化合物の製造方法が提供される。

Description

ハロビニルイミダゾール化合物の製造方法
　本発明は、ハロビニルイミダゾール化合物の製造方法に関する。
　本願は、２０２１年１１月１９日に、日本に出願された特願２０２１－１８８９８４号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
　含窒素ヘテロ環は医薬及び農薬の原体となる化合物を構成する主要な部分構造（ビルディングブロック）である。近年、イミダゾール環、ピリジン環などを有する有害節足動物防除剤の開発が盛んに行われている。例えば、特許文献１は、式（Ａ）で表される化合物を示している。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
　ビニルイミダゾール化合物は、ポリマー製造に使用する単量体としても有用である。例えば、特許文献２は、２－アルキルイミダゾール類および２－アルキルイミダゾリン類より成る群から選ばれる化合物を脱水素触媒の存在下において脱水素し２－アルケニルイミダゾール類を生成せしめることを特徴とする方法を開示している。
　特許文献３は、２－ヒドロキシエチルイミダゾール誘導体をアルカリ金属の水酸化物またはアルコラートの存在下で、液相にて脱水することを特徴とする、１－ビニルイミダゾール誘導体の製造方法を開示している。
　特許文献４は、ヒドロキシエチル基含有イミダゾール系化合物を、脱水剤の共存下で、常圧における沸点が前記ビニルイミダゾール系化合物の常圧における沸点よりも３０℃以上高い溶媒中で脱水反応に付して、ビニルイミダゾール系化合物を製造する方法を開示している。
ＷＯ　２０２０／０９０５８５　Ａ 特開昭５８－２１００６７号公報 特開平４－２１６７２号公報 特開２０１１－１２１９１３号公報
　本発明の目的は、ビルディングブロックの一つである、ハロビニルイミダゾール化合物の製造方法を提供することである。
　上記目的を達成するために検討を重ねた結果、以下の態様を包含する本発明を完成するに至った。
〔１〕式（１）で表される化合物（以下、化合物（１）ということがある。）と次亜硫酸ナトリウムとを、塩基の存在下に化学反応させること、を含む、式（２）で表される化合物（以下、化合物（２）ということがある。）の製造方法。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 　（式（１）中、Ｒ１は、Ｃ１～６アルキル基を示し、Ｑは、水素原子、または置換若しくは無置換のピリジル基を示し、Ｘは、ハロゲノ基を示し、Ｒａは、Ｃ１～６アルキル基を示す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 　（式（２）中、Ｒ１、およびＱは、式（１）中のそれらと同じものを示す）の製造方法。
〔２〕　式（３）で表される化合物（以下、化合物（３）ということがある）と、式（４）で表される化合物（以下、化合物（４）ということがある）とを、塩基若しくは金属アルコキシドの存在下で化学反応させること、および　前記の化学反応の生成物と、式（５）で表わされる化合物（以下、化合物（５）ということがある）とを、化学反応させることを含む、方法によって、前記式（１）で表される化合物を得ることを、さらに含む、〔１〕に記載の製造方法。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
 　（式（３）中、Ｒ１は、Ｃ１～６アルキル基を示し、Ｑは、水素原子、または置換若しくは無置換のピリジル基を示す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 　（式(４)中、Ｘは、ハロゲノ基を示す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 　（式（５）中、Ｒａは、Ｃ１～６アルキル基を示す。）
〔３〕　式（２ａ１）、式（２ａ２）、または式（２ａ３）で表される化合物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 　（式（２ａ１）、式（２ａ２）、または式（２ａ３）中、Ｒ１は、Ｃ１～６アルキル基を示す。）
　本発明の製造方法によれば、式（２）で表される化合物を高収率で得ることができる。
　本発明において、「無置換」の用語は、母核となる基のみであることを意味する。「置換」との記載がなく母核となる基の名称のみで記載しているときは、別段の断りがない限り「無置換」の意味である。
　一方、「置換」の用語は、母核となる基のいずれかの水素原子が、母核と同一または異なる構造の基（置換基）で置換されていることを意味する。従って、「置換基」は、母核となる基に結合した他の基である。置換基は１つであってもよいし、２つ以上であってもよい。２つ以上の置換基は同一であってもよいし、異なるものであってもよい。
　「Ｃ１～６」などの用語は、母核となる基の炭素原子数が１～６個などであることを表している。この炭素原子数には、置換基の中に在る炭素原子の数を含まない。例えば、置換基としてエトキシ基を有するブチル基は、Ｃ２アルコキシＣ４アルキル基に分類する。
　「置換基」は化学的に許容され、本発明の効果を有する限りにおいて特に制限されない。
　以下に「置換基」となり得る基を例示する。
　メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｓ－ブチル基、ｉ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基などのＣ１～６アルキル基；
　ビニル基、１－プロペニル基、２－プロペニル基（アリル基）、１－ブテニル基、２－ブテニル基、３－ブテニル基、１－メチル－２－プロペニル基、２－メチル－２－プロペニル基などのＣ２～６アルケニル基；
　エチニル基、１－プロピニル基、２－プロピニル基、１－ブチニル基、２－ブチニル基、３－ブチニル基、１－メチル－２－プロピニル基などのＣ２～６アルキニル基；
　シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのＣ３～６シクロアルキル基；
　フェニル基；
　３～６員のヘテロシクリル基；
　メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓ－ブトキシ基、ｉ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基などのＣ１～６アルコキシ基；
　フェノキシ基、ナフトキシ基などのＣ６～１０アリールオキシ基；
　チアゾリルオキシ基、ピリジルオキシ基などの５～６員のヘテロアリールオキシ基；
　メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ－プロポキシカルボニル基、ｉ－プロポキシカルボニル基、ｎ－ブトキシカルボニル基、ｔ－ブトキシカルボニル基などのＣ１～６アルコキシカルボニル基；
　フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、イオド基などのハロゲノ基；
　クロロメチル基、クロロエチル基、トリフルオロメチル基、１，２－ジクロロ－ｎ－プロピル基、１－フルオロ－ｎ－ブチル基、パーフルオロ－ｎ－ペンチル基などのＣ１～６ハロアルキル基；
　トリフルオロメトキシ基、２－クロロ－ｎ－プロポキシ基、２，３－ジクロロブトキシ基などのＣ１～６ハロアルコキシ基；
　ホルミルアミノ基；
　アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、ブチリルアミノ基、ｉ－プロピルカルボニルアミノ基などのＣ１～６アルキルカルボニルアミノ基；
　メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｎ－プロポキシカルボニルアミノ基、ｉ－プロポキシカルボニルアミノ基などのＣ１～６アルコキシカルボニルアミノ基；
　アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、Ｎ－フェニル－Ｎ－メチルアミノカルボニル基などの無置換もしくは置換基を有するアミノカルボニル基；
　メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ－プロピルチオ基、ｉ－プロピルチオ基、ｎ－ブチルチオ基、ｉ－ブチルチオ基、ｓ－ブチルチオ基、ｔ－ブチルチオ基などのＣ１～６アルキルチオ基；
　トリフルオロメチルチオ基、２，２，２－トリフルオロエチルチオ基などのＣ１～６ハロアルキルチオ基；
　メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｔ－ブチルスルホニル基などのＣ１～６アルキルスルホニル基；
　トリフルオロメチルスルホニル基、２，２，２－トリフルオロエチルスルホニル基などのＣ１～６ハロアルキルスルホニル基；
　シアノ基；ニトロ基。
　また、これらの「置換基」は、当該置換基中のいずれかの水素原子が、異なる構造の基で置換されていてもよい。その場合の置換基としては、Ｃ１～６アルキル基、Ｃ１～６ハロアルキル基、Ｃ１～６アルコキシ基、Ｃ１～６ハロアルコキシ基、ハロゲノ基、シアノ基、ニトロ基などを挙げることができる。
　また、上記の「３～６員のヘテロシクリル基」とは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選ばれる１～４個のヘテロ原子を環の構成原子として含むものである。ヘテロシクリル基は、単環および多環のいずれであってもよい。多環ヘテロシクリル基は、少なくとも一つの環がヘテロ環であれば、残りの環が飽和脂環、不飽和脂環または芳香環のいずれであってもよい。「３～６員のヘテロシクリル基」としては、３～６員の飽和ヘテロシクリル基、５～６員のヘテロアリール基、５～６員の部分不飽和ヘテロシクリル基などを挙げることができる。
　３～６員の飽和ヘテロシクリル基としては、アジリジニル基、エポキシ基、ピロリジニル基、テトラヒドロフラニル基、チアゾリジニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル基などを挙げることができる。
　５員のヘテロアリール基としては、ピロリル基、フリル基、チエニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、テトラゾリル基などを挙げることができる。
　６員のヘテロアリール基としては、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、トリアジニル基などを挙げることができる。
　５員の部分不飽和へテロシクリル基としては、ピロリニル基、ジヒドロフラニル基、イミダゾリニル基、ピラゾリニル基、オキサゾリニル基、イソオキサゾリニル基などを挙げることができる。
　６員の部分不飽和ヘテロシクリル基としては、ジヒドロピラニル基などを挙げることができる。
　本発明の化合物（２）の製造方法は、化合物（１）と次亜硫酸ナトリウムとを塩基の存在下に化学反応（以下、第三反応と呼ぶことがある）させることを含む。
　前記化合物（１）は、下記式（１）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
　前記式（１）中、Ｒ１は、Ｃ１～６アルキル基を示す。
　Ｒ１におけるＣ１～６アルキル基は、直鎖であってもよいし、分岐鎖であってもよい。Ｒ１におけるＣ１～６アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｉ－プロピル基、ｉ－ブチル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｉ－ペンチル基、ネオペンチル基、２－メチルブチル基、２，２－ジメチルプロピル基、ｉ－ヘキシル基などを挙げることができる。
　前記式（１）中、Ｑは、水素原子、または置換若しくは無置換のピリジル基を示す。Ｑは、水素原子であることが好ましい。
　Ｑにおける「ピリジル基」上の置換基としては、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、イオド基などのハロゲノ基；　メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｓ－ブチル基、ｉ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基などのＣ１～６アルキル基；　ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、１，２，２，３，３，３－ヘキサフルオロプロピル基、パーフルオロプロピル基、１，２，３，３，３－ペンタフルオロ－２－（トリフルオロメチル）プロピル基などのＣ１～６ハロアルキル基；　シクロプロピル基、シクロブチル基などのＣ３～６シクロアルキル基；　メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓ－ブトキシ基、ｉ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基などのＣ１～６アルコキシ基；　ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基などのＣ１～６ハロアルコキシ基；　メチルチオ基、エチルチオ基などのＣ１～６アルキルチオ基；　メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基などのＣ１～６アルキルスルフィニル基；　メチルスルホニル基、エチルスルホニル基などのＣ１～６アルキルスルホニル基；　フェニル基；　ハロゲノ基、Ｃ１～６アルキル基、Ｃ１～６ハロアルキル基、またはＣ１～６ハロアルコキシ基で置換されたフェニル基；　トリアゾリル基、ピリミジニル基などの５～６員のヘテロアリール基；　ハロゲノ基、Ｃ１～６アルキル基、Ｃ１～６ハロアルキル基、またはＣ１～６ハロアルコキシ基で置換された５～６員のヘテロアリール基；またはシアノ基を挙げることができる。
　前記式（１）中、Ｘは、ハロゲノ基を示す。
　Ｘにおける「ハロゲノ基」としては、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、イオド基などを挙げることができる。
　好ましいＸとしては、クロロ基、ブロモ基を挙げることができる。
　前記式（１）中、Ｒａは、Ｃ１～６アルキル基を示す。
　Ｒａにおける「Ｃ１～６アルキル基」は、Ｒ１におけるそれと同じものを挙げることができる。
　本発明に用いられる化合物（１）は、公知の方法で自ら合成したものであってもよいし、他の者が何らかの方法で合成し市販しているものであってもよい。
　本発明に用いられる化合物（１）は、例えば、化合物（３）と、化合物（４）とを、塩基若しくは金属アルコキシドの存在下で化学反応（以下、第一反応と呼ぶことがある。）させること、および　前記第一反応の生成物と、化合物（５）とを、化学反応（以下、第二反応と呼ぶことがある。）させることを含む、方法によって、得ることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
　前記式（３）中、Ｒ１は、Ｃ１～６アルキル基を示し、Ｑは、水素原子、または置換若しくは無置換のピリジル基を示す。
　前記化合物（３）としては、例えば、１－メチル－１Ｈ－イミダゾール－５－カルバルデヒドなどを挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
　前記式（４）中、Ｘは、ハロゲノ基を示す。
　前記化合物（４）としては、例えば、２，２－ジクロロ－１，１，１－トリフルオロエタン（HCFC-123）、２－ブロモ－２－クロロ－１，１，１－トリフルオロエタン（ハロタン）などを挙げることができ、好ましくは２－ブロモ－２－クロロ－１，１，１－トリフルオロエタンである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
　前記式（５）中、Ｒａは、Ｃ１～６アルキル基を示す。
　前記化合物（５）としては、例えば、無水酢酸、無水プロピオン酸などを挙げることができる。
　第一反応または第二反応に用いられる化合物（３）、化合物（４）、化合物（５）は、公知の方法で自ら合成したものであってもよいし、他の者が何らかの方法で合成し市販しているものであってもよい。
　前記第一反応における、前記化合物（４）の量は、前記化合物（３）１モルに対して、例えば、１．０～５．０モル、好ましくは１．２～２．０モルである。
　前記第一反応において存在させる塩基としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどの無機塩基；トリエチルアミン、テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ－ジエチルアニリン、４－メチルモルホリン、１－アザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（略名：ＤＡＢＣＯ）、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ－７－エン、１，５－ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ－５－エン、ピリジン、４－（ジメチルアミノ）ピリジン、２，６－ジメチルピリジンなどの有機塩基を挙げることができる。
　前記塩基の使用量は、前記化合物（３）１モルに対して、例えば、１．０～５．０モル、好ましくは１．５～２．０モルである。
　前記第一反応において存在させる金属アルコキシドとしては、例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ－ブトキシドなどを挙げることができ、好ましくはカリウムｔ－ブトキシドが用いられる。
　前記金属アルコキシドの使用量は、前記化合物（３）１モルに対して、例えば、１．０～５．０モル、好ましくは１．２～２．０モルである。
　前記第一反応は、無溶媒若しくは溶媒中で行うことができる。操作性を考慮すると、前記第一反応は有機溶媒中で行うことが好ましい。
　有機溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル（製品名：ジグライム）、テトラヒドロフラン（略名：ＴＨＦ）などのエーテル類；　ジクロロメタン、クロロホルム、１，２－ジクロロエタン（略名：ＤＣＥ）などのハロゲン化炭化水素類；　ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタンなどの脂肪族炭化水素類；　トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；　Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（略名：ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ’－ジメチルプロピレンウレア（略名：ＤＭＰＵ）、ヘキサメチルリン酸トリアミド（略名：ＨＭＰＡ）；アセトニトリルなどの非プロトン極性溶媒を挙げることができ、テトラヒドロフランなどのエーテル類が好ましく用いられる。
　前記有機溶媒の使用量は、前記化合物（３）１重量部に対して、好ましくは、１０～２０００重量部である。
　前記第一反応に用いられる、化合物（３）と、化合物（４）と、金属アルコキシドまたは塩基と、必要に応じて用いられる有機溶媒との、反応の場への添加順序は、特に制限されない。例えば、反応容器に溶媒を入れた後、化合物（３）および化合物（４）を加え、次いで金属アルコキシドまたは塩基を加えることが好ましい。
　混合させるときの温度は、－７０℃～０℃であることが好ましく、－７０℃～－５０℃がより好ましい。
　混合させる際は、撹拌下で混合することが好ましい。
　金属アルコキシドまたは塩基の添加は、滴下等により少量を徐々に添加することが好ましい。
　前記第一反応における温度は、－７０℃～０℃であることが好ましく、－７０℃～－５０℃であることがより好ましい。
　前記第一反応における圧力は、特に制限されず、例えば常圧である。
　前記第一反応における反応時間は、例えば、５分間～２４時間であり、より好ましくは５分間～１時間である。
　前記第一反応は不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。
　前記第一反応終了後は、第一反応生成物を含む液を、そのまま、第二反応に用いることができる。あるいは、第一反応終了後に、第一反応生成物を含む液に、後処理、さらに必要に応じて精製を、施してもよい。後処理は、例えば、有機溶媒で抽出し、得られる有機層を乾燥、濃縮するなどの操作であることができる。精製は、例えば、再結晶、クロマトグラフィーなどの操作であることができる。
　前記第二反応における、前記化合物（５）の量は、前記化合物（３）１モルに対して、例えば、１．０～５．０モル、好ましくは１．２～３．０モルである。
　前記第二反応における温度は、－７０℃～０℃であることが好ましく、－７０℃～－５０℃であることがより好ましい。
　前記第二反応における圧力は、特に制限されず、例えば常圧である。
　前記第二反応における反応時間は、例えば、０．５時間～２４時間であり、好ましくは０．５時間～２時間である。
　前記第二反は不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。
　前記第二反応終了後は、化合物（１）を含む液を、そのまま、第三反応に用いることができる。あるいは、第二反応終了後に、化合物（１）を含む液に、後処理、さらに必要に応じて精製を、施してもよい。後処理は、例えば、有機溶媒で抽出し、得られる有機層を乾燥、濃縮するなどの操作であることができる。精製は、例えば、再結晶、クロマトグラフィーなどの操作であることができる。
　前記次亜硫酸ナトリウムは、亜硫酸水素ナトリウムを電解還元することにより得ることができる。または、金属亜鉛を仲介した二酸化硫黄とナトリウム塩の反応、および精製によって得ることができる。次亜硫酸ナトリウムは、強い還元力をもっている。
　前記次亜硫酸ナトリウムの使用量は、前記化合物（１）１モルに対して、例えば、１．０～５．０モル、好ましくは、１．１～３．０モルである。
　前記第三反応において存在させる塩基としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどの無機塩基；トリエチルアミン、テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ－ジエチルアニリン、４－メチルモルホリン、１－アザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（略名：ＤＡＢＣＯ）、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ－７－エン、１，５－ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ－５－エン、ピリジン、４－（ジメチルアミノ）ピリジン、２，６－ジメチルピリジンなどの有機塩基を挙げることができ、炭酸水素ナトリウムなどの無機塩基が好ましく用いられる。
　前記塩基の使用量は、前記化合物（１）１モルに対して、例えば、１．０～５．０モル、好ましくは１．１～３．０モルである。
　前記第三反応は、無溶媒若しくは溶媒中で行うことができる。操作性を考慮すると、反応は溶媒中で行うことが好ましい。次亜硫酸ナトリウムを用いることから、水と有機溶媒の混合溶媒を用いることが好ましい。有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノールなどのアルコール類；　アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類；　ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル（製品名：ジグライム）、テトラヒドロフラン（略名：ＴＨＦ）などのエーテル類；　トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；　Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（略名：ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ’－ジメチルプロピレンウレア（略名：ＤＭＰＵ）、ヘキサメチルリン酸トリアミド（略名：ＨＭＰＡ）などの非プロトン極性溶媒；アセトニトリルなどを挙げることができ、アセトン等のケトン類が好ましく用いられる。
　前記溶媒の使用量は、前記化合物（１）１重量部に対して、好ましくは２～１００重量部である。
　前記第三反応に用いられる、化合物（１）と、次亜硫酸ナトリウムと、塩基と、必要に応じて用いられる溶媒との、反応の場への添加順序は、特に制限されない。
　一つの実施態様は、容器に入れられた溶媒若しくは無溶媒中に化合物（１）を加え、次亜硫酸ナトリウムと塩基を加えて混合液を得、この混合液を攪拌しながら、化学反応を完了させることを含む。混合は、撹拌下で行うことが好ましい。
　各物質の添加は、全量を一気に若しくは少量を徐々に、それぞれ行ってもよい。
　前記第三反応における温度は、特に制限されず、例えば、０℃～溶媒沸点であり、例えば２０℃～３０℃程度である。
　前記第三反応における圧力は、例えば、０．１～１ＭＰａ、好ましくは０．１～０．５ＭＰａである。
　前記第三反応における反応時間は、特に限定されず、例えば、０．５時間～２４時間である。
　前記第三反応は不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。
　前記第三反応は炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液等を添加することによりクエンチさせることが好ましい。
　前記第三反応終了後は、有機溶媒で抽出し、得られる有機層を乾燥、濃縮するなどの後処理をすることができる。さらに、必要に応じて、再結晶、クロマトグラフィーなどの操作により第三反応の生成物を精製してもよい。
　本発明の製造方法で得られる化合物（２）は、式（２）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
　前記式（２）中、Ｒ１、およびＱは、前記式（１）中のそれらと同じものを示す。
　化学式中の下記表記は、立体的配置が定まっていない二重結合（undefined double stereo bond）である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
　クロマトグラフィーなどの操作により立体異性体は分離精製することができる。
　本発明の製造方法で得られる化合物（２）のうち、下記式（２ａ１）、式（２ａ２）、または式（２ａ３）で表される化合物は、新規化合物であり、医農薬の製造中間体や、ポリマー製造用の単量体などとして特に有用である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
　前記式（２ａ１）、式（２ａ２）、または式（２ａ３）中、Ｒ１は、Ｃ１～６アルキル基を示し、好ましくはメチル基を示す。
　前記式（２ａ１）、式（２ａ２）、または式（２ａ３）で示される化合物として、具体的には以下の化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
　以下に、実施例を示して、本発明をより具体的に説明する。なお、本発明は、下記の実施例によって限定されるものではない。
〔実施例１〕
　以下の手順にて、（ＥＺ）－５－（２－クロロ－３，３，３－トリフルオロプロパ－１－エン－１－イル）－１－メチル－１Ｈ－イミダゾールを製造した。
（工程１）
　２－ブロモ－２－クロロ－３，３，３－トリフルオロ－１－（１－メチル－１Ｈ－イミダゾール－５－イル）プロピルアセタートの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
　１－メチル－１Ｈ－イミダゾール－５－カルバルデヒド（３７ｇ）とハロタン（９２．８ｇ、１．４ｅｑ．）をテトラヒドロフラン（１１００ｍＬ）に溶解させ、－７０℃まで冷却した。そこに、攪拌操作を行いながら、テトラヒドロフラン（７００ｍＬ）で希釈したカリウムｔ－ブトキシド（４９．０ｇ、１．３ｅｑ．）をゆっくりと滴下し、その後、５分間撹拌を継続した。続いて、無水酢酸（５４．８ｇ、１．６ｅｑ．）を添加し、－７０℃で１時間撹拌した。その後、室温に戻した。得られた液に飽和重曹水を加えてクエンチした。次いで、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を減圧濃縮して粗製物１０７．９ｇ（粗収率９２％）を得た。
（工程２）
（ＥＺ）－５－（２－クロロ－３，３，３－トリフルオロプロパ－１－エン－１－イル）－１－メチル－１Ｈ－イミダゾールの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
　工程１で得られた粗製物（２－ブロモ－２－クロロ－３，３，３－トリフルオロ－１－（１－メチル－１Ｈ－イミダゾール－５－イル）プロピルアセタート（２４．３ｇ）と次亜硫酸ナトリウム、（２４．２ｇ、２ｅｑ．）と重曹（１１．７ｇ、２ｅｑ．）をアセトン（１４０ｍＬ）に混和させ、室温で撹拌した。そこに水（２７ｍＬ）を攪拌しながら滴下した。その後、４０℃に昇温し、２時間撹拌した。室温に戻した後、飽和重曹水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を減圧濃縮し、濃縮物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、目的物１２．８ｇ（収率８８％、Ｅ／Ｚ＝２０／８０）を得た。
　（ＥＺ）－５－（２－クロロ－３，３，３－トリフルオロプロパ－１－エン－１－イル）－１－メチル－１Ｈ－イミダゾールのＮＭＲシグナルを以下に示す。
　1H-NMR (400 MHz, CDCl3)：
　Z体 δ 7.97 (s, 1H), 7.58 (s, 1H), 7.10 (s, 1H), 3.70 (s, 3H).
　E体 δ 7.52 (s, 1H), 7.37 (s, 1H), 6.86 (s, 1H), 3.65 (s, 3H).
　19F-NMR (376 MHz, CDCl3)：
　Z体 δ -67.9 (s).
　E体 δ -63.2 (s).
　本発明の製造方法は、医薬及び農薬の原体となる化合物を構成する主要な部分構造などである、ハロビニルイミダゾール化合物を、効率的に得ることができる。

Claims (3)

  1. 　式（１）で表される化合物：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     　（式（１）中、Ｒ１は、Ｃ１～６アルキル基を示し、Ｑは、水素原子、または置換若しくは無置換のピリジル基を示し、Ｘは、ハロゲノ基を示し、Ｒａは、Ｃ１～６アルキル基を示す）と、
    　次亜硫酸ナトリウムとを、
    塩基の存在下に化学反応させることを含む、
    式（２）で表される化合物：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     　（式（２）中、Ｒ１、およびＱは、式（１）中のそれらと同じものを示す）
    の製造方法。
  2. 　式（３）で表される化合物：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
     　（式（３）中、Ｒ１は、Ｃ１～６アルキル基を示し、Ｑは、水素原子、または置換若しくは無置換のピリジル基を示す）と、
    　式（４）で表される化合物：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
     　（式（４）中、Ｘは、ハロゲノ基を示す）とを、
    塩基若しくは金属アルコキシドの存在下で化学反応させること、および
    　前記の化学反応の生成物と、
    　式（５）で表わされる化合物：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
     　（式（５）中、Ｒａは、Ｃ１～６アルキル基を示す）とを、
    化学反応させることを含む、方法によって、前記式（１）で表される化合物を得ることを、さらに含む、請求項１に記載の製造方法。
  3. 　式（２ａ１）、式（２ａ２）、または式（２ａ３）で表される化合物：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
     　（式（２ａ１）、式（２ａ２）、または式（２ａ３）中、Ｒ１は、Ｃ１～６アルキル基を示す）。
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