WO2022249788A1 - シクロアルキルブロミドの製造方法 - Google Patents

シクロアルキルブロミドの製造方法 Download PDF

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WO2022249788A1
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崚佑 加藤
隆浩 木村
創一 伊藤
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住友化学株式会社
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    • C07C2601/04—Systems containing only non-condensed rings with a four-membered ring

Definitions

  • the present invention relates to a method for producing cycloalkylbromide.
  • Cycloalkyl bromides are useful compounds that can be converted into various compounds such as cycloalkylmagnesium bromides and cycloalkylboronic acid compounds that are used as intermediates for active ingredient compounds in the agricultural and pharmaceutical fields.
  • Patent Documents 1 and 2 describe synthesis examples of pharmaceuticals using cyclopropylmagnesium bromide and cyclopropylboronic acid.
  • a method for synthesizing cycloalkyl bromide a method using a stoichiometric amount of heavy metal is known.
  • An object of the present invention is to provide a method for producing cycloalkyl bromide without using heavy metals or the like.
  • the present inventors have investigated a method for producing a cycloalkyl bromide, and found that the desired cycloalkyl bromide can be produced by using a potassium salt of a cycloalkylcarboxylic acid without using heavy metals or the like. That is, the present invention is as follows. [1] Formula (1) [In the formula, R represents an optionally substituted C3-C4 cycloalkyl group, and M represents an alkali metal. ] Formula (2) by reacting the compound and bromine represented by the presence of a radical initiator or under light irradiation [In the formula, R represents the same meaning as described above.
  • a method for producing a compound represented by [2] The production method according to [1], wherein in the compound represented by formula (1), R is a cyclopropyl group or a cyclobutyl group.
  • R is a cyclopropyl group or a cyclobutyl group.
  • M is potassium or cesium.
  • the production method according to [5] using a halogenated hydrocarbon, nitrile, or ester as the solvent.
  • aryl chloride, C1-C3 alkylnitrile, benzonitrile, or C1-C6 alkyl acetate is used as the solvent.
  • cycloalkyl bromide can be synthesized without using heavy metals or the like.
  • C1-C6 means 1 to 6 carbon atoms.
  • Examples of C1-C6 alkyl groups include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, 1,1-dimethylpropyl group, 1,2-dimethylpropyl group, 1-ethylpropyl group, butyl group and sec-butyl. tert-butyl, pentyl, and hexyl groups.
  • Examples of C1-C6 alkoxy groups include methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, tert-butoxy, pentyloxy, and hexyloxy groups.
  • Examples of C2-C7 alkylcarbonyl groups include acetyl, propanoyl, butanoyl, 2-methylpropanoyl, pentanoyl, hexanoyl, and heptanoyl groups.
  • Examples of C2-C7 alkoxycarbonyl groups include methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, isopropyloxycarbonyl, butoxycarbonyl, pentyloxycarbonyl, and hexyloxycarbonyl groups.
  • C1-C6 alkylthio groups include methylthio, ethylthio, propylthio, isopropylthio, butylthio, pentylthio, and hexylthio groups.
  • C1-C6 alkylsulfinyl groups include methanesulfinyl, ethanesulfinyl, propanesulfinyl, propan-2-ylsulfinyl, butansulfinyl, pentansulfinyl, and hexanesulfinyl groups.
  • C1-C6 alkylsulfonyl groups include methanesulfonyl, ethanesulfonyl, propanesulfonyl, propan-2-ylsulfonyl, butanesulfonyl, pentanesulfonyl, and hexanesulfonyl groups.
  • the di(C1-C6 alkyl)aminocarbonyl group includes, for example, a dimethylaminocarbonyl group, an ethylmethylaminocarbonyl group, a diisopropylcarbonyl group, and a dihexylaminocarbonyl group.
  • Examples of the (C2-C7 alkylcarbonyl optionally substituted with one or more halogen atoms)(C1-C6 alkyl)amino group include N-methylacetamino group, N-methyl-2,2,2-tri fluoroacetamino group and N-hexylheptanoylamino group.
  • a halogen atom means a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.
  • Aryl groups include, for example, phenyl, naphthyl, indanyl, and tetrahydronaphthyl groups.
  • Heteroaryl groups include, for example, pyrrolyl group, furyl group, thienyl group, pyrazolyl group, imidazolyl group, triazolyl group, tetrazolyl group, oxazolyl group, isoxazolyl group, thiazolyl group, isothiazolyl group, oxadiazolyl group, thiadiazolyl group, pyridyl group, Examples include pyridazinyl, pyrimidinyl, pyrazinyl, triazinyl, and tetrazinyl groups.
  • each of those halogen atoms or substituents may be the same or different.
  • substituents that the C3-C4 cycloalkyl group represented by R in formula (1) may have include one or more substituents selected from group A.
  • Group A a C1-C6 alkyl group optionally substituted with one or more substituents selected from Group B, a C3-C7 cycloalkyl group optionally substituted with one or more substituents selected from Group C, an aryl group optionally substituted with one or more substituents selected from Group D, a heteroaryl group optionally substituted with one or more substituents selected from Group D, OR 1 , OS(O) m R 1 , OC(O) R1 , NR1R2 , NR1NR2R3 , NR2OR1, NR2C ( O ) R1 , NR2NR3C (O) R1 , NR2C ( O) OR1 , NR2NR3C (O) OR1 , NR1C ( O) NR2R3 , NR2S (O) 2R1 , C ( O ) R1 , C(O) OR1 , C(O)NR 1 R 2 , C(O)NR 2
  • Group E C1-C6 alkyl group optionally substituted by one or more halogen atoms, C1-C6 alkoxy group optionally substituted by one or more halogen atoms, optionally substituted by one or more halogen atoms C2-C7 alkylcarbonyl group optionally substituted with one or more halogen atoms, C2-C7 alkoxycarbonyl group optionally substituted with one or more halogen atoms, C1-C6 alkylthio group optionally substituted with one or more halogen atoms, one or more halogen atoms A group consisting of a C1-C6 alkylsulfinyl group optionally substituted with, a C1-C6 alkylsulfonyl group optionally substituted with one or more halogen atoms, a cyano group, a nitro group, and a halogen atom.
  • the substituent which the C3-C4 cycloalkyl group represented by R may have includes one or more substituents selected from group F.
  • Group F a C1-C6 alkyl group optionally substituted with one or more substituents selected from Group G, a C3-C7 cycloalkyl group optionally substituted with one or more substituents selected from Group H, A group consisting of an aryl group optionally substituted with one or more substituents selected from group H, OR 1 , S(O) m R 1 , or a halogen atom.
  • Group G C3-C7 cycloalkyl group optionally substituted with one or more halogen atoms, C1-C6 alkoxy group optionally substituted with one or more halogen atoms, aryl group, aryloxy group ⁇ the aryl group and the aryloxy group may be substituted with one or more substituents selected from the group consisting of a C1-C6 alkyl group optionally substituted with one or more halogen atoms, and a halogen atom], and halogen A group of atoms.
  • Group H C1-C6 alkyl group optionally substituted by one or more halogen atoms, C3-C7 cycloalkyl group optionally substituted by one or more halogen atoms, substituted by one or more halogen atoms a C1-C6 alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group ⁇ the aryl group and the aryloxy group are a C1-C6 alkyl group optionally substituted with one or more halogen atoms, and a halogen atom from the group consisting of optionally substituted with one or more selected substituents ⁇ and a group consisting of a halogen atom.
  • the substituents that the C3-C4 cycloalkyl group represented by R may have include a C1-C6 alkyl group optionally substituted with one or more halogen atoms, one or more halogen atoms an aryl group optionally substituted with, a C3-C7 cycloalkyl group optionally substituted with one or more halogen atoms, a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with one or more halogen atoms, and a halogen atom C3-C4 cycloalkyl groups optionally substituted with one or more substituents selected from the group consisting of More preferably, R is a C3-C4 cycloalkyl group.
  • Alkali metals represented by M in formula (1) include lithium, sodium, potassium, rubidium, and cesium, preferably potassium and cesium, and more preferably potassium.
  • examples of the solvent include halogenated hydrocarbons such as alkyl chlorides, aryl chlorides, alkyl bromides, and aryl bromides; nitriles such as C1-C3 alkylnitriles and aromatic nitriles; esters such as C1-C6 alkyl acetate and C1-C6 alkyl benzoate; ethers such as tetrahydrofuran, 2-methyltetrahydrofuran, cyclopentyl methyl ether, diethyl ether and polyethylene glycol; and dimethyl carbonate, diethyl carbonate, ethylene carbonate and propylene carbonate.
  • a carbonate ester is mentioned.
  • alkyl chlorides include dichloromethane, chloroform, etc.
  • aryl chlorides include monochlorobenzene, o-dichlorobenzene, p-dichlorobenzene, etc.
  • alkyl bromides include bromomethane, etc., and aryl bromides.
  • C1-C3 alkyl nitriles include acetonitrile, propionitrile and the like.
  • aromatic nitriles include benzonitrile and the like.
  • acetic acid C1-C6 alkyl esters examples include acetic acid Examples thereof include ethyl, isopropyl acetate, and butyl acetate, and examples of benzoic acid C1-C6 alkyl esters include methyl benzoate, ethyl benzoate, butyl benzoate, and the like.
  • Preferred solvents are halogenated hydrocarbons, nitriles and esters, more preferably aryl chlorides, C1-C3 alkylnitriles, benzonitrile and acetic acid C1-C6 alkyl esters, more preferably monochlorobenzene, acetonitrile, benzo
  • the nitrile and butyl acetate solvents may be of a single kind, or may be used in combination of a plurality of solvents.
  • the amount of solvent used is 0.1 to 100 parts by weight, preferably 0.5 to 10 parts by weight, per 1 part by weight of the compound represented by formula (1) (hereinafter referred to as compound (1)).
  • the amount of bromine used is generally 0.5 to 10 mol, preferably 0.8 to 2.0 mol, per 1 mol of compound (1).
  • radical initiator is generally 0.001 to 1.0 mol, preferably 0.01 to 0.1 mol, per 1 mol of compound (1).
  • Radical initiators include azobisisobutyronitrile (AIBN), 2,2′-azobis(4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile (V-70), 2,2′-azobis[2-(2 - azo compounds such as imidazolin-2-yl)propane]dihydrochloride (VA-044), 2,2′-azobis(2-methylpropionamidine)dihydrochloride (V-50); tert-butyl hydroperoxide, Examples include peroxides such as benzoyl peroxide, preferably azo compounds, more preferably azobisisobutyronitrile.
  • the light source includes, for example, a high-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, and an incandescent lamp, preferably a high-pressure mercury lamp.
  • a radical initiator and light irradiation can also be used together.
  • the reaction temperature is usually in the range of 0°C to 200°C, preferably 30°C to 100°C, more preferably 60°C to 80°C.
  • the reaction time is usually 0.1 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.
  • the method of mixing the raw materials in this reaction includes, for example, a batch method in which all the raw materials are added to one container, and a flow method using a flow reactor.
  • a batch type mixing method for example, a radical initiator is added to a mixed solution of compound (1) and a solvent, and then bromine is added dropwise, or compound (1) and a solvent are added to a mixed solution of solvent and radical initiator.
  • a method of dropping the mixed solution and bromine at the same time may be mentioned.
  • the mixed solution of compound (1) and solvent may be treated by concentrating or by adding a dehydrating agent to remove moisture.
  • a method of adding dropwise bromine to a mixed solution of compound (1) and a solvent while irradiating with light may be used.
  • bromine may be added as it is or after being diluted with a solvent.
  • the dropping time of bromine is usually 0.1 to 100 hours, preferably 0.1 to 24 hours.
  • a method of passing compound (1), a mixed solution of a radical initiator and a solvent, and bromine through a flow reactor can be used.
  • a method of passing a mixed solution of compound (1) and a solvent and bromine through a flow reactor irradiated with light can be used.
  • reaction mixture After completion of the reaction, the reaction mixture is distilled; After mixing the reaction mixture with neutral or weakly basic water, extraction is performed with an organic solvent, and the resulting organic layer is dried or distilled; Compound (2) can be isolated by manipulation. The isolated compound (2) can be further purified by distillation, recrystallization or chromatography.
  • Compound (1) may be a commercially available compound or one synthesized by a known method. Synthesis of compound (1) includes, for example, a corresponding carboxylic acid and an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, cesium hydroxide; sodium methoxide, sodium ethoxide, sodium t-butoxide, potassium alkali metal alkoxides such as methoxide, potassium ethoxide and potassium tert-butoxide; alkali metal carbonates such as sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium carbonate, potassium hydrogen carbonate and cesium carbonate; trisodium hydrogen phosphate, disodium hydrogen phosphate , alkali metal phosphates such as sodium dihydrogen phosphate, tripotassium phosphate, dipotassium hydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate; alkali metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride; sodium amide, potassium amide alkali metal amides such as; sodium hex
  • the amount of moisture in the reaction system is preferably 1.0% by weight or less, more preferably 0.2% by weight or less, relative to compound (1). Therefore, it is preferable to remove moisture from the compound (1).
  • the water concentration of compound (1) is preferably 1.0% by weight or less, more preferably 0.2% by weight or less.
  • Methods for removing water from compound (1) include, for example, a method of acting with a dehydrating agent such as anhydrous sodium sulfate, anhydrous magnesium sulfate, and molecular sieves; or a method of removing by concentration.
  • a dehydrating agent such as anhydrous sodium sulfate, anhydrous magnesium sulfate, and molecular sieves
  • (1) synthesized from a corresponding carboxylic acid and an alkali metal hydroxide can be dehydrated by azeotropic dehydration after the neutralization reaction.
  • the compound (1) suitable for the reaction can be obtained by concentrating the alcohol generated by the neutralization reaction.
  • an alkali metal carbonate, alkali metal phosphate, alkali metal hydride, or alkali metal amide is used as the base, the solution after the neutralization reaction is directly used in this reaction without isolating compound (1).
  • Example 1 In a nitrogen atmosphere, a mixture of 7.5 g of potassium cyclopropanecarboxylate obtained in Reference Example 1, 0.496 g of AIBN, and 22.5 g of monochlorobenzene was added with a mixture of 9.65 g of bromine and 15 g of monochlorobenzene at 70° C. for 2 hours. dripped over. The resulting mixture was analyzed by gas chromatography internal standard method and confirmed to contain 4.90 g of cyclopropyl bromide. (Yield 67.6%)
  • Example 2 Under a nitrogen atmosphere, a mixture of 7.5 g of potassium cyclopropanecarboxylate obtained in Reference Example 1 and 45 g of acetonitrile was irradiated with light (light source: 400 W high pressure mercury lamp) at 70° C., and a mixture of 9.65 g of bromine and 30 g of acetonitrile was added. was added dropwise over 2 hours. After stirring for 2 hours, the resulting mixture was analyzed by gas chromatography internal standard method and confirmed to contain 4.82 g of cyclopropyl bromide. (Yield 65.9%)
  • Example 3 The procedure of Example 1 was repeated except that acetonitrile was used instead of monochlorobenzene as a solvent, and cyclopropyl bromide was obtained with a yield of 54.5%.
  • Example 4 The procedure of Example 1 was repeated except that benzonitrile was used instead of monochlorobenzene as a solvent, and cyclopropyl bromide was obtained with a yield of 52.1%.
  • Example 5 The procedure of Example 1 was repeated except that butyl acetate was used instead of monochlorobenzene as the solvent, and cyclopropyl bromide was obtained with a yield of 50.3%.
  • Example 6 In a nitrogen atmosphere, a mixture of 0.5 g of potassium cyclobutanecarboxylate obtained in Reference Example 2, 0.03 g of AIBN, and 3.0 g of monochlorobenzene was added with a mixture of 0.58 g of bromine and 2.0 g of monochlorobenzene at 70°C. It dripped over time. The resulting mixture was analyzed by gas chromatography internal standard method and confirmed to contain 0.36 g of cyclobutyl bromide. (Yield 75.0%)
  • Example 7 Under a nitrogen atmosphere, 5.0 g of cyclopropanecarboxylic acid, 0.477 g of AIBN, 6.16 g of tripotassium phosphate, and 30 g of acetonitrile were mixed at room temperature to obtain a mixture containing potassium cyclopropanecarboxylate. A mixture of 9.28 g of bromine and 20 g of acetonitrile was then added dropwise to the mixture at 70° C. over 2 hours. After stirring for 3 hours, the resulting mixture was analyzed by gas chromatography internal standard method and confirmed to contain 3.82 g of cyclopropyl bromide. (Yield 54.3%)
  • Example 8 Under a nitrogen atmosphere, 5.0 g of cyclopropanecarboxylic acid, 6.16 g of tripotassium phosphate, and 30 g of acetonitrile were mixed at room temperature to obtain a mixture containing potassium cyclopropanecarboxylate. Then, a mixture of 9.28 g of bromine and 20 g of acetonitrile was added dropwise to the mixture at 70° C. over 2 hours under irradiation with light (light source: 400 W high pressure mercury lamp). After stirring for 4 hours, the resulting solution was analyzed by gas chromatography internal standard method and confirmed to contain 4.61 g of cyclopropyl bromide. (Yield 65.7%)
  • Reference example 3 In a nitrogen atmosphere, 11.2 g of sodium methoxide was added to a mixture of 5 g of cyclopropanecarboxylic acid and 50 g of methanol at 20°C, and the mixture was stirred at 50°C for 1 hour. The obtained mixture was concentrated to obtain 6.97 g of sodium cyclopropanecarboxylate having a water concentration of 0.29 wt %.
  • Example 9 Under a nitrogen atmosphere, a mixture of 0.74 g of bromine and 2.0 g of acetonitrile was added dropwise at 70° C. to a mixture of 0.5 g of sodium cyclopropanecarboxylate, 0.038 g of AIBN, and 3.0 g of acetonitrile over 2 hours. After stirring at the same temperature for 4 hours, the resulting mixture was analyzed by gas chromatography internal standard method and confirmed to contain 0.14 g of cyclopropyl bromide. (Yield 24.1%)
  • Example 10 Cyclopropyl bromide was obtained in a yield of 31.3% in the same manner as in Example 1, except that potassium cyclopropanecarboxylate with a water concentration of 0.99 wt% was used.
  • Example 11 Cyclopropyl bromide was obtained in a yield of 56.3% in the same manner as in Example 1, except that potassium cyclopropylcarboxylate with a water concentration of 0.010 wt % was used.
  • Example 12 Under a nitrogen atmosphere, a mixture of 7.33 g of bromine and 10 g of chlorobenzene was added dropwise at 70° C. to a mixture of 10 g of cesium cyclopropanecarboxylate, 0.377 g of AIBN, and 40 g of chlorobenzene over 2 hours. After stirring at the same temperature for 4 hours, the resulting mixture was analyzed by gas chromatography internal standard method and confirmed to contain 3.77 g of cyclopropyl bromide. (Yield 68.0%) [GC analysis conditions]
  • cycloalkyl bromide which is a compound useful as a raw material for producing active ingredient compounds in the agricultural and pharmaceutical fields, can be synthesized without using heavy metals or the like.

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Abstract

本発明は、重金属等を用いることなくシクロアルキルブロミドを製造する方法を提供することを目的とする。　本発明は式（１）〔式中、Ｒは置換されていてもよいＣ３－Ｃ４シクロアルキル基を表し、Ｍはアルカリ金属を表す。〕　で示される化合物と臭素とを、ラジカル開始剤存在下、又は光照射下で反応させることによる式（２）〔式中、Ｒは前記と同じ意味を表す。〕 で示される化合物の製造方法、を提供する。

Description

シクロアルキルブロミドの製造方法
本発明はシクロアルキルブロミドの製造方法に関する。
　シクロアルキルブロミドは農医薬分野の有効成分化合物の中間体として用いられるシクロアルキルマグネシウムブロミドやシクロアルキルボロン酸化合物をはじめとする様々な化合物への変換が可能な有用な化合物である。
　例えば特許文献１および特許文献２にはシクロプロピルマグネシウムブロミド、シクロプロピルボロン酸を用いた医薬品の合成例が記載されている。
　シクロアルキルブロミドの合成法としては、化学量論量の重金属を用いる方法が知られている。例えば特許文献３及び非特許文献１。
ＷＯ２００６／２６３５６ ＷＯ２０１１／０４２９１８ ＣＮ１０７９１５６８９
Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ａｍｅｒｉｃａｎ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｓｏｃｉｅｔｙ，１９５１年，３１７６頁
　本発明の目的は、重金属等を用いることなく、シクロアルキルブロミドを製造する方法を提供することである。
　本発明者らは、シクロアルキルブロミドを製造する方法について検討した結果、シクロアルキルカルボン酸のカリウム塩を用いることで、重金属等を用いることなく目的のシクロアルキルブロミドを製造できることを見出した。すなわち本発明は、以下の通りである。
［１］　式（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000003
〔式中、Ｒは置換されていてもよいＣ３－Ｃ４シクロアルキル基を表し、Ｍはアルカリ金属を表す。〕
　で示される化合物と臭素とを、ラジカル開始剤存在下、又は光照射下で反応させることによる式（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000004
〔式中、Ｒは前記と同じ意味を表す。〕
で示される化合物の製造方法。
［２］式（１）で示される化合物において、Ｒがシクロプロピル基、又はシクロブチル基である、［１］に記載の製造方法。
［３］式（１）で示される化合物において、Ｍがカリウム、又はセシウムである［１］または［２］に記載の製造方法。
［４］ラジカル開始剤がアゾ化合物である［１］～［３］のいずれかに記載の製造方法。
［５］溶媒の存在下で実施する［１］～［４］のいずれかに記載の製造方法。
［６］溶媒としてハロゲン化炭化水素、ニトリル、又はエステルを用いる［５］に記載の製造方法。
［７］溶媒として塩化アリール、C１－C３アルキルニトリル、ベンゾニトリル、又は酢酸C１－C６アルキルエステルを用いる［５］または[６]に記載の製造方法。
　本発明により、重金属等を用いることなくシクロアルキルブロミドを合成することができる。
　本発明における置換基について説明する。
　本明細書における「ＣＹ－ＣＺ」との表記は、炭素原子数がＹ乃至Ｚであることを意味する。例えば「Ｃ１－Ｃ６」の表記は、炭素原子数が１乃至６であることを意味する。
　Ｃ１－Ｃ６アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、１，１－ジメチルプロピル基、１，２－ジメチルプロピル基、１－エチルプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、及びヘキシル基が挙げられる。
　Ｃ１－Ｃ６アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基、ペンチルオキシ基、及びヘキシルオキシ基が挙げられる。
　Ｃ２－Ｃ７アルキルカルボニル基としては、例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブタノイル基、２－メチルプロパノイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、及びヘプタノイル基が挙げられる。
　Ｃ２－Ｃ７アルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、及びヘキシルオキシカルボニル基が挙げられる。
　Ｃ１－Ｃ６アルキルチオ基としては、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、及びヘキシルチオ基が挙げられる。
　Ｃ１－Ｃ６アルキルスルフィニル基としては、例えば、メタンスルフィニル基、エタンスルフィニル基、プロパンスルフィニル基、プロパン－２－イルスルフィニル基、ブタンスルフィニル基、ペンタンスルフィニル基、及びヘキサンスルフィニル基が挙げられる。
　Ｃ１－Ｃ６アルキルスルホニル基としては、例えば、メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、プロパンスルホニル基、プロパン－２－イルスルホニル基、ブタンスルホニル基、ペンタンスルホニル基、及びヘキサンスルホニル基が挙げられる。
　ジ（Ｃ１－Ｃ６アルキル）アミノカルボニル基としては、例えば、ジメチルアミノカルボニル基、エチルメチルアミノカルボニル基、ジイソプロピルカルボニル基、及びジヘキシルアミノカルボニル基が挙げられる。
　（１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ２－Ｃ７アルキルカルボニル）（Ｃ１－Ｃ６アルキル）アミノ基としては、例えば、Ｎ－メチルアセトアミノ基、Ｎ－メチル－２，２，２－トリフルオロアセトアミノ基、及びＮ－ヘキシルヘプタノイルアミノ基が挙げられる。
　ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を意味する。
　アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、インダニル基、及びテトラヒドロナフチル基が挙げられる。
　ヘテロアリール基としては、例えば、ピロリル基、フリル基、チエニル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、及びテトラジニル基が挙げられる。
　置換基が２以上のハロゲン原子又は置換基で置換されている場合、それらのハロゲン原子又は置換基は、各々同一でも異なっていてもよい。
　式（１）においてＲで表されるＣ３－Ｃ４シクロアルキル基が有していてもよい置換基としては、群Ａより選ばれる１以上の置換基が挙げられる。
　群Ａ：群Ｂより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６アルキル基、群Ｃより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ３－Ｃ７シクロアルキル基、群Ｄより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいアリール基、群Ｄより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいヘテロアリール基、ＯＲ1、ＯＳ（Ｏ）mＲ1、ＯＣ（Ｏ）Ｒ1、ＮＲ1Ｒ2、ＮＲ1ＮＲ2Ｒ3、ＮＲ2ＯＲ1、ＮＲ2Ｃ（Ｏ）Ｒ1、ＮＲ2ＮＲ3Ｃ（Ｏ）Ｒ1、ＮＲ2Ｃ（Ｏ）ＯＲ1、ＮＲ2ＮＲ3Ｃ（Ｏ）ＯＲ1、ＮＲ1Ｃ（Ｏ）ＮＲ2Ｒ3、ＮＲ2Ｓ（Ｏ）2Ｒ1、Ｃ（Ｏ）Ｒ1、Ｃ（Ｏ）ＯＲ1、Ｃ（Ｏ）ＮＲ1Ｒ2、Ｃ（Ｏ）ＮＲ2Ｓ（Ｏ）2Ｒ1、ＣＲ2＝ＮＯＲ1、Ｓ（Ｏ）mＲ1、シアノ基、ニトロ基、ホルミル基、又はハロゲン原子からなる群。
　Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3は、同一又は相異なり、群Ｂより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６アルキル基、群Ｃより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ３－Ｃ７シクロアルキル基、又は群Ｄより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいアリール基を表し、
　ｍは０、１、又は２を表す。
　群Ｂ：群Ｃより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ３－Ｃ７シクロアルキル基、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６アルコキシ基、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ２－Ｃ７アルキルカルボニル基、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ２－Ｃ７アルコキシカルボニル基、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６アルキルチオ基、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６アルキルスルフィニル基、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６アルキルスルホニル基、ジ（Ｃ１－Ｃ６アルキル）アミノカルボニル基、（１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ２－Ｃ７アルキルカルボニル）（Ｃ１－Ｃ６アルキル）アミノ基、群Ｅより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいアリール基、群Ｅより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいアリールオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ホルミル基、及びハロゲン原子からなる群。
　群Ｃ：１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６アルキル基、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６アルコキシ基、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ２－Ｃ７アルキルカルボニル基、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ２－Ｃ７アルコキシカルボニル基、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６アルキルチオ基、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６アルキルスルフィニル基、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６アルキルスルホニル基、ジ（Ｃ１－Ｃ６アルキル）アミノカルボニル基、（１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ２－Ｃ７アルキルカルボニル）（Ｃ１－Ｃ６アルキル）アミノ基、群Ｅより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいアリール基、群Ｅより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいアリールオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ホルミル基、及びハロゲン原子からなる群。
　群Ｄ：群Ｅより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ３－Ｃ７シクロアルキル基、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６アルキル基、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６アルコキシ基、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ２－Ｃ７アルキルカルボニル基、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ２－Ｃ７アルコキシカルボニル基、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６アルキルチオ基、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６アルキルスルフィニル基、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６アルキルスルホニル基、ジ（Ｃ１－Ｃ６アルキル）アミノカルボニル基、（１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ２－Ｃ７アルキルカルボニル）（Ｃ１－Ｃ６アルキル）アミノ基、群Ｅより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいアリール基、群Ｅより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいアリールオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ホルミル基、及びハロゲン原子からなる群。
　群Ｅ：１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６アルキル基、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６アルコキシ基、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ２－Ｃ７アルキルカルボニル基、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ２－Ｃ７アルコキシカルボニル基、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６アルキルチオ基、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６アルキルスルフィニル基、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６アルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、及びハロゲン原子からなる群。
　好ましくは、Ｒで表されるＣ３－Ｃ４シクロアルキル基が有していてもよい置換基としては、群Ｆより選ばれる１以上の置換基があげられる。
　群Ｆ：群Ｇより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６アルキル基、群Ｈより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ３－Ｃ７シクロアルキル基、群Ｈより選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいアリール基、ＯＲ1、Ｓ（Ｏ）mＲ1、又はハロゲン原子からなる群。
　群Ｇ：１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３－Ｃ７シクロアルキル基、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基｛該アリール基及び該アリールオキシ基は、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６アルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝、及びハロゲン原子からなる群。
　群Ｈ：１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６アルキル基、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３－Ｃ７シクロアルキル基、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基｛該アリール基及び該アリールオキシ基は、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６アルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよい｝、及びハロゲン原子からなる群。
　より好ましくは、Ｒで表されるＣ３－Ｃ４シクロアルキル基が有していてもよい置換基としては、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６アルキル基、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいアリール基、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３－Ｃ７シクロアルキル基、１以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１－Ｃ６アルコキシ基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいＣ３－Ｃ４シクロアルキル基があげられ、
さらに好ましくは、ＲはＣ３－Ｃ４シクロアルキル基である。
　式（１）においてＭで表されるアルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウムが挙げられ、好ましくはカリウム、セシウムであり、より好ましくはカリウムである。
　本反応について説明する。
　本反応を溶媒の存在下で行う場合、該溶媒としては例えば、塩化アルキル、塩化アリール、臭化アルキル、臭化アリール等のハロゲン化炭化水素；Ｃ１－Ｃ３アルキルニトリル、芳香族ニトリル等のニトリル；酢酸Ｃ１－Ｃ６アルキル、安息香酸Ｃ１－Ｃ６アルキル等のエステル；テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、ポリエチレングリコール等のエーテル；及び炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸エチレン、炭酸プロピレン等の炭酸エステルが挙げられる。塩化アルキルとして例えば、ジクロロメタン、クロロホルム等が挙げられ、塩化アリールとして例えば、モノクロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン、ｐ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、臭化アルキルとして例えば、ブロモメタン等が挙げられ、臭化アリールとして例えばブロモベンゼン等が挙げられ、Ｃ１－Ｃ３アルキルニトリルとして例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル等が挙げられ、芳香族ニトリルとして例えば、ベンゾニトリル等が挙げられ、酢酸Ｃ１－Ｃ６アルキルエステルとして例えば、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等が挙げられ、安息香酸Ｃ１－Ｃ６アルキルエステルとして例えば、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸ブチル等が挙げられる。
好ましい溶媒は、ハロゲン化炭化水素、ニトリル、及びエステルであり、さらに好ましくは塩化アリール、Ｃ１－Ｃ３アルキルニトリル、ベンゾニトリル、及び酢酸Ｃ１－Ｃ６アルキルエステルであり、より好ましくはモノクロロベンゼン、アセトニトリル、ベンゾニトリル、及び酢酸ブチルである
溶媒は単一種のみであってもよく、複数の溶媒を組み合わせて用いてもよい。
　溶媒の使用量は、式（１）で示される化合物（以下化合物（１）と記す）１重量部に対し、０．１～１００重量部、好ましくは０．５～１０重量部である。
　臭素の使用量は、化合物（１）１モルに対して通常０．５～１０モルの割合、好ましくは０．８～２．０モルの割合である。
　ラジカル開始剤の使用量は、化合物（１）１モルに対し、通常０．００１～１．０モルの割合、好ましくは０．０１～０．１モルの割合である。
　ラジカル開始剤としてはアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、２，２’－アゾビス（４－メトキシ－２，４－ジメチルバレロニトリル（Ｖ－７０）、２，２’－アゾビス［２－（２－イミダゾリン－２－イル）プロパン］二塩酸塩（ＶＡ－０４４）、２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオンアミジン）ニ塩酸塩（Ｖ－５０）等のアゾ化合物；tert-ブチルヒドロペルオキシド、過酸化ベンゾイル等の過酸化物が挙げられ、好ましくはアゾ化合物であり、さらに好ましくはアゾビスイソブチロニトリルである。
　本反応を光照射下で行う場合、光源としては、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、及び白熱電球が挙げられ、好ましくは高圧水銀ランプである。
ラジカル開始剤及び光照射を併用することもできる。
　反応温度は、通常０℃～２００℃の範囲であり、好ましくは３０℃～１００℃、より好ましくは６０～８０℃である。
　反応時間は、通常０．１～１００時間、好ましくは０．５～１０時間である。
　本反応における原料の混合方法は、例えば、一つの容器にすべての原料を加えるバッチ式、及びフロー反応装置を用いたフロー形式が挙げられる。
　バッチ式の混合方法として例えば、化合物（１）及び溶媒の混合溶液にラジカル開始剤を加えたのち、臭素を滴下する方法、又は溶媒とラジカル開始剤との混合溶液に化合物（１）及び溶媒の混合溶液と臭素を同時に滴下する方法が挙げられる。必要に応じ、化合物（１）と溶媒の混合溶液を濃縮又は脱水剤添加による水分除去操作により処理しておいてもよい。ラジカル開始剤が光照射によって行われる場合、化合物（１）及び溶媒の混合溶液に光照射しながら臭素を滴下する方法が挙げられる。いずれの場合も、臭素はそのまま加えてもよく、溶媒で希釈して加えても良い。臭素の滴下時間としては、通常０．１～１００時間、好ましくは０．１～２４時間である。フロー形式の場合、化合物（１）と、ラジカル開始剤及び溶媒の混合溶液と、臭素とをフロー反応装置に通液する方法が挙げられる。ラジカル開始剤が光照射によって行われる場合、化合物（１）及び溶媒の混合溶液と臭素とを光照射されたフロー反応装置に通液する方法が挙げられる。
　反応終了後は、反応混合物を蒸留する；反応混合物と中性又は弱塩基性の水とを混合した後、有機溶媒で抽出を行い、得られた有機層を乾燥又は蒸留する；等の後処理操作を行うことにより、化合物（２）を単離することができる。
　また単離した化合物（２）をさらに蒸留、再結晶又はクロマトグラフィー等の方法により精製することもできる。
　化合物（１）は市販の化合物を用いてもいいし、既知の方法で合成したものを用いてもよい。化合物（１）の合成法として、例えば、対応するカルボン酸と、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等のアルカリ金属水酸化物；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムｔ－ブトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド；炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩；リン酸三ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸二水素カリウム等のアルカリ金属リン酸塩；水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物；ナトリウムアミド、カリウムアミド等のアルカリ金属アミド；ナトリウムヘキサメチルジシラジド、カリウムヘキサメチルジシラジド；等の塩基と、式（１）におけるＭが水素原子であるカルボン酸とを中和反応させることによって得ることができる。
　本反応は水分の影響を受けるため、反応系の水分量は化合物（１）に対し１．０重量％以下が好ましく、０．２重量％以下がより好ましい。そのため、化合物（１）は水分を除去したほうが好ましい。化合物（１）の水分濃度は、好ましくは１．０重量％以下、より好ましくは０．２重量％以下である。化合物（１）の水分除去の方法は、例えば、無水硫酸ナトリウム、無水硫酸マグネシウム、モレキュラーシーブス等の脱水剤と作用させる方法；又は濃縮によって除く方法が挙げられる。例えば、対応するカルボン酸とアルカリ金属水酸化物によって合成した（１）は、中和反応後に共沸脱水を行うことでその水分を除去することができる。アルカリ金属アルコキシドを使用した場合、中和反応によって発生するアルコールを濃縮することによって、反応に適した化合物（１）を得ることができる。塩基としてアルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属水素化物、又はアルカリ金属アミドを用いた場合は、化合物（１）を単離せずに、中和反応後の溶液をそのまま本反応に用いることもできる。
　以下、本発明を実施例に基づいて説明する。尚、化合物（１）及び化合物（２）の含有量は、市販品を標品として、それぞれガスクロマトグラフィにより内部標準法によって求めた。
参考例１
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000005
　窒素雰囲気下、シクロプロパンカルボン酸２０ｇ及びエタノール２００ｇの混合物に、２０℃でｔｅｒｔ－ブトキシカリウム２６．０７ｇを加え、５０℃で１時間撹拌した。得られた混合物を濃縮し、水分濃度０．００６４ｗｔ％のシクロプロパンカルボン酸カリウム２７．２６ｇを得た。
実施例１
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000006
　窒素雰囲気下、参考例１で得られたシクロプロパンカルボン酸カリウム７．５ｇ、ＡＩＢＮ０．４９６ｇ、及びモノクロロベンゼン２２．５ｇの混合物に、７０℃で臭素９．６５ｇ及びモノクロロベンゼン１５ｇの混合物を２時間かけて滴下した。得られた混合物をガスクロマトグラフィ内部標準法により分析し、シクロプロピルブロミド４．９０ｇを含有することを確認した。（収率６７．６％）
実施例２
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000007
　窒素雰囲気下、参考例１で得られたシクロプロパンカルボン酸カリウム７．５ｇ及びアセトニトリル４５ｇの混合物に、７０℃で光（光源：４００Ｗ高圧水銀ランプ）照射下、臭素９．６５ｇ及びアセトニトリル３０ｇの混合物を２時間かけて滴下した。２時間撹拌後、得られた混合物をガスクロマトグラフィ内部標準法により分析し、シクロプロピルブロミド４．８２ｇを含有することを確認した。（収率６５．９％）
実施例３
　溶媒としてモノクロロベンゼンの代わりにアセトニトリルを用いた以外は実施例１と同様に行い、シクロプロピルブロミドが収率５４．５％で得られた。
実施例４
　溶媒としてモノクロロベンゼンの代わりにベンゾニトリルを用いた以外は実施例１と同様に行い、シクロプロピルブロミドが収率５２．１％で得られた。
実施例５
　溶媒としてモノクロロベンゼンの代わりに酢酸ブチルを用いた以外は実施例１と同様に行い、シクロプロピルブロミドが収率５０．３％で得られた。
参考例２
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000008
　窒素雰囲気下、シクロブタンカルボン酸２ｇ及びエタノール２０ｇの混合物に、２０℃でｔｅｒｔ－ブトキシカリウム２．２４ｇを加え、５０℃で１時間撹拌した。得られた混合物を濃縮し、水分濃度０．２０ｗｔ％のシクロブタンカルボン酸カリウム２．５４ｇを得た。
実施例６
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000009
　窒素雰囲気下、参考例２で得られたシクロブタンカルボン酸カリウム０．５ｇ、ＡＩＢＮ０．０３ｇ、及びモノクロロベンゼン３．０ｇの混合物に、７０℃で臭素０．５８ｇ及びモノクロロベンゼン２．０ｇの混合物を２時間かけて滴下した。得られた混合物をガスクロマトグラフィ内部標準法により分析し、シクロブチルブロミド０．３６ｇを含有することを確認した。（収率７５．０％）
実施例７
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000010
　窒素雰囲気下、シクロプロパンカルボン酸５．０ｇ、ＡＩＢＮ０．４７７ｇ、リン酸三カリウム６．１６ｇ、及びアセトニトリル３０ｇを室温で混合し、シクロプロパンカルボン酸カリウムを含む混合物を得た。次いで該混合物に７０℃で臭素９．２８ｇ及びアセトニトリル２０ｇの混合物を２時間かけて滴下した。３時間撹拌後、得られた混合物をガスクロマトグラフィ内部標準法により分析し、シクロプロピルブロミド３．８２ｇを含有することを確認した。（収率５４．３％）
実施例８
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000011
　窒素雰囲気下、シクロプロパンカルボン酸５．０ｇ、リン酸三カリウム６．１６ｇ、及びアセトニトリル３０ｇを室温で混合し、シクロプロパンカルボン酸カリウムを含む混合物を得た。次いで該混合物に７０℃で光（光源：４００Ｗ高圧水銀ランプ）照射下、臭素９．２８ｇ及びアセトニトリル２０ｇの混合物を２時間かけて滴下した。４時間撹拌後、得られた溶液をガスクロマトグラフィ内部標準法により分析し、シクロプロピルブロミド４．６１ｇを含有することを確認した。（収率６５．７％）
参考例３
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000012
　窒素雰囲気下、シクロプロパンカルボン酸５ｇ及びメタノール５０ｇの混合物に、２０℃でナトリウムメトキシド１１．２ｇを加え、５０℃で１時間撹拌した。得られた混合物を濃縮し、水分濃度０．２９ｗｔ％のシクロプロパンカルボン酸ナトリウム６．９７ｇを得た。
実施例９
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000013
　窒素雰囲気下、シクロプロパンカルボン酸ナトリウム０．５ｇ、ＡＩＢＮ０．０３８ｇ、及びアセトニトリル３．０ｇの混合物に、７０℃で臭素０．７４ｇ及びアセトニトリル２．０ｇの混合物を２時間かけて滴下した。同温で４時間撹拌後、得られた混合物をガスクロマトグラフィ内部標準法により分析し、シクロプロピルブロミド０．１４ｇを含有することを確認した。（収率２４．１％）
参考例４
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000014
　窒素雰囲気下、シクロペンタンカルボン酸カリウム０．５ｇ、ＡＩＢＮ　０．０３ｇ、及びモノクロロベンゼン３．０ｇの混合物に、７０℃で臭素０．５２ｇ及びモノクロロベンゼン２．０ｇの混合物を２時間かけて滴下した。得られた混合物をガスクロマトグラフィ内部標準法により分析し、シクロペンチルブロミド０．１ｇを含有することを確認した。（収率２０．７％）
実施例１０
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000015
　水分濃度０．９９ｗｔ％のシクロプロパンカルボン酸カリウムを使用した以外は実施例１と同様に行い、シクロプロピルブロミドを収率３１．３％で得た。
実施例１１
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000016
　水分濃度０．０１０ｗｔ％のシクロプロピルカルボン酸カリウムを使用した以外は実施例１と同様に行い、シクロプロピルブロミドを収率５６．３％で得た。
参考例５
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000017
　窒素雰囲気下、シクロプロパンカルボン酸１０ｇ及びエタノール５０ｇの混合物に、２０℃で炭酸セシウム１８．９ｇを加え、５０℃で１時間撹拌した。得られた混合物を減圧下溶媒留去した。得られたシクロプロパンカルボン酸セシウムをクロロベンゼン中で還流脱水したのち、溶媒を減圧留去することで、水分濃度０．００９ｗｔ％のシクロプロパンカルボン酸セシウム２３．８８ｇを得た。
実施例１２
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000018
　窒素雰囲気下、シクロプロパンカルボン酸セシウム１０ｇ、ＡＩＢＮ０．３７７ｇ、及びクロロベンゼン４０ｇの混合物に、７０℃で臭素７．３３ｇ及びクロロベンゼン１０ｇの混合物を２時間かけて滴下した。同温で４時間撹拌後、得られた混合物をガスクロマトグラフィ内部標準法により分析し、シクロプロピルブロミド３．７７ｇを含有することを確認した。（収率６８．０％）
［ＧＣ分析条件］　
カラム：ＤＢ－ＷＡＸ（０．２５μｍ×０．２５ｍｍΦ×３０ｍ　）
注入口温度：２５０℃　
検出器：ＦＩＤ、２５０℃　
制御モード：線速度　圧力：１８８．２ｋＰａ　線速度：５５．７ｃｍ／ｓｅｃ　キャリアガス：ヘリウム　
流量：３．２３ｍＬ／ｍｉｎ　
注入量：１．０μＬ　（スプリット比５０：１）　
オーブン温度：４０℃（２０ｍｉｎ）→２０℃／ｍｉｎ→２５０℃（２０ｍｉｎ）
　本発明によれば、農医薬分野の有効成分化合物の製造原料として有用な化合物であるシクロアルキルブロミドを、重金属等を用いることなく合成することができる。

Claims (7)

  1. 式（１）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-I000001
    〔式中、Ｒは置換されていてもよいＣ３－Ｃ４シクロアルキル基を表し、Ｍはアルカリ金属を表す。〕
    　で示される化合物と臭素とを、ラジカル開始剤存在下、又は光照射下で反応させることによる式（２）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-I000002
    〔式中、Ｒは前記と同じ意味を表す。〕
    で示される化合物の製造方法。
  2. 　式（１）で示される化合物において、Ｒがシクロプロピル基、又はシクロブチル基である、請求項１に記載の製造方法。
  3. 　式（１）で示される化合物において、Ｍがカリウム、又はセシウムである請求項１または請求項２に記載の製造方法。
  4. 　ラジカル開始剤がアゾ化合物である請求項１～３のいずれかに記載の製造方法。
  5. 溶媒の存在下で実施する請求項１～４のいずれかに記載の製造方法。
  6. 　溶媒としてハロゲン化炭化水素、ニトリル、又はエステルを用いる請求項５に記載の製造方法。
  7. 溶媒として塩化アリール、C１－C３アルキルニトリル、ベンゾニトリル、又は酢酸C１－C６アルキルエステルを用いる請求項５または請求項６に記載の製造方法。
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