WO2022163191A1 - 樹脂被覆超薄板ガラス - Google Patents

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WO2022163191A1
WO2022163191A1 PCT/JP2021/046480 JP2021046480W WO2022163191A1 WO 2022163191 A1 WO2022163191 A1 WO 2022163191A1 JP 2021046480 W JP2021046480 W JP 2021046480W WO 2022163191 A1 WO2022163191 A1 WO 2022163191A1
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thin glass
organic film
ultra
coated ultra
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宇田川敬造
大橋逹也
井上欣彦
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東レ株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to resin-coated ultra-thin glass.
  • the cover glass that protects the display and housing needs to be thin enough to bend, and the thickness of the glass must be ultra-thin to about 0.1 mm or less.
  • a thickness of 0.1 mm or less may be referred to as ultra-thin. Since the strength of a glass substrate largely depends on its thickness, an ultra-thin glass substrate with a thin glass has a problem of reduced impact resistance and breaking with a slight impact. On the other hand, if the thickness of the ultra-thin glass substrate is increased in order to improve the impact resistance, there is a problem that the bending resistance deteriorates, and it has been difficult to achieve both impact resistance and bending resistance.
  • a tempered glass substrate represented by Corning's "Gorilla Glass (registered trademark)" is known. This is a technique of treating a glass substrate with a chemical solution or the like to provide compressive stress layers on both sides of the glass, thereby increasing the strength of the glass compared to ordinary glass.
  • a film on the glass substrate For example, a composite comprising a glass substrate having microcracks on its surface and a resin layer disposed on the glass substrate, wherein the resin of the resin layer enters at least part of the interior of the microcracks.
  • Patent Document 1 a glass protective film produced using a composition containing a polyfunctional epoxy (meth)acrylate compound, a polyfunctional thiol compound, and a radical polymerization initiator (see, for example, Patent Document 2) , a glass reinforced substrate having a cured film containing siloxane resin and silica particles on at least one side of the reinforced glass substrate (see, for example, Patent Document 3), a glass film having a thickness of between 10 ⁇ m and 500 ⁇ m, glass- In a plastic composite film, a glass-plastic composite film in which a polymer layer having a thickness between 1 ⁇ m and 200 ⁇ m is directly attached to at least one side of the glass film (see, for example, Patent Document 4), etc. is proposed.
  • the object of the present invention is to provide a resin-coated ultra-thin glass having high impact resistance, good bending resistance, and high transparency.
  • the present invention provides a three-layer resin-coated ultra-thin glass (A) having a thickness of 10 ⁇ m or more and 100 ⁇ m or less, in which an organic film (B) is formed on one side and an organic film (C) is formed on the other side.
  • the ultra-thin glass (A) in the present invention must have a thickness of 10 ⁇ m or more and 100 ⁇ m or less. From the viewpoint of impact resistance of the resin-coated ultra-thin glass, the thickness is required to be 10 ⁇ m or more, preferably 20 ⁇ m or more, and more preferably 30 ⁇ m or more. From the viewpoint of bending resistance of the resin-coated ultra-thin sheet glass, the thickness must be 100 ⁇ m or less, and 80 ⁇ m or less is more preferable.
  • the ultra-thin glass (A) in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include aluminosilicate glass, soda glass, and alkali-free glass. Preferably.
  • the tempered glass referred to here refers to a tempered glass substrate, and preferably has a compressive stress layer on the glass surface.
  • Examples of methods for forming a compressive stress layer include a physical strengthening method that utilizes expansion and contraction of glass by heating and cooling, a chemical strengthening method that exchanges alkali ions in glass with other alkali ions having a larger ionic radius, and the like.
  • a physical strengthening method that utilizes expansion and contraction of glass by heating and cooling
  • a chemical strengthening method that exchanges alkali ions in glass with other alkali ions having a larger ionic radius, and the like.
  • All of these methods are known, and any method can be selected.
  • glass tempered by a chemical strengthening method so-called chemically tempered glass, is preferable.
  • chemically strengthened glasses aluminosilicate chemically strengthened glass, soda lime chemically strengthened glass, etc. are more preferable.
  • Examples of the unstrengthened ultra-thin glass (A) include “AF32 (registered trademark)” eco series (manufactured by Schott), “Corning (registered trademark)", and “Willow (registered trademark)” Glass series (manufactured by CORNING). ), “G-Leaf (registered trademark)” series (manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd.), and “SPOOL (registered trademark)” series (manufactured by AGC Corporation).
  • ultra-thin glass for example, "Xensation (registered trademark)” series (manufactured by Schott), “Corning (registered trademark)”, “Gorilla (registered trademark)” Glass series (manufactured by CORNING ), “Dinorex (registered trademark)” series (manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd.), “Dragontrail (registered trademark)” (manufactured by AGC Corporation) series, and the like.
  • Organic film (B) The present invention has an organic film (B) formed from a composition containing a thermoplastic resin (D) having a weight average molecular weight of 1,000 to 70,000 on one side of an ultra-thin glass (A).
  • a thermoplastic resin (D) having a weight average molecular weight of 1,000 to 70,000 on one side of an ultra-thin glass (A).
  • the organic film (B) is preferably a buffer film (b).
  • the buffer film (b) is an organic film that softens an external impact on the resin-coated ultra-thin glass plate to improve impact resistance.
  • the film thickness of the organic film (B) is preferably 10 ⁇ m or more and 100 ⁇ m or less. From the viewpoint of further improving the impact resistance of the resin-coated ultra-thin glass of the present invention, the thickness is preferably 10 ⁇ m or more, more preferably 15 ⁇ m or more, and even more preferably 30 ⁇ m or more. From the viewpoint of further improving the bending resistance of the resin-coated ultra-thin glass of the present invention, the thickness is preferably 100 ⁇ m or less, more preferably 70 ⁇ m or less, and even more preferably 50 ⁇ m or less.
  • the organic film (B) in the present invention has a yellowness index (YI) of transmitted light from a CIE standard D65 light source defined in JISK7373:2006
  • a hard coat layer is preferably laminated on the surface of the organic film (B) that is not on the ultra-thin glass (A) side.
  • the thickness of the hard coat layer is preferably 1 ⁇ m or more and 20 ⁇ m or less. From the viewpoint of further improving the surface hardness and impact resistance of the resin-coated ultra-thin glass of the present invention, the thickness is preferably 1 ⁇ m or more, more preferably 5 ⁇ m or more.
  • the surface hardness refers to hardness determined in a pencil hardness test (load of 750 g) according to JIS K5600-5-4 (1999). From the viewpoint of further improving the bending resistance of the resin-coated ultra-thin glass, the thickness is preferably 20 ⁇ m or less, more preferably 15 ⁇ m or less.
  • the hard coat layer can be formed of a thermosetting resin, a resin having a radically polymerizable group, or the like, but since it can be cured with ultraviolet rays, it preferably contains a resin having a radically polymerizable group from the viewpoint of productivity.
  • a resin having a radically polymerizable group a vinyl group, an allyl group, an acrylic group, a methacrylic group, and the like are preferable.
  • the resin having a radically polymerizable group include monomers having a radically polymerizable group and high molecular weight polymers having a radically polymerizable group.
  • one type of resin having a radically polymerizable group may be used alone, or two or more types may be mixed and used at the same time.
  • resins having these radically polymerizable groups include photoradical initiators, photosensitizers, surfactants, thermosetting resins, metal oxides, fine particles and ultrafine particles composed of solvents, acrylic components, etc.
  • One or two or more third components may be added and used.
  • a resin composition suitable for the organic film (B) in the present invention preferably contains a thermoplastic resin (D) as an essential component and contains a solvent from the viewpoint of coatability.
  • Thermoplastic resin (D) in the present invention should have a weight average molecular weight of 1,000 to 70,000.
  • the weight average molecular weight is required to be 1,000 or more, more preferably 5,000 or more, and even more preferably 10,000 or more.
  • the weight average molecular weight must be 70,000 or less, more preferably 35,000 or less, and even more preferably 25,000 or less.
  • the weight average molecular weight refers to a standard polystyrene conversion value determined by gel permeation chromatography.
  • the glass transition temperature (Tg) of the thermoplastic resin (D) in the present invention is preferably 40°C to 110°C. From the viewpoint of further improving the impact resistance of the resin-coated ultra-thin glass, the temperature is preferably 40°C or higher, more preferably 50°C or higher, and even more preferably 60°C or higher. From the viewpoint of further improving the impact resistance of the resin-coated ultra-thin glass, the temperature is preferably 110° C. or lower, more preferably 100° C. or lower, and even more preferably 75° C. or lower.
  • the glass transition temperature (Tg) means the glass transition temperature measured by differential scanning calorimetry (DSC).
  • the thermoplastic resin (D) in the present invention includes polyester resins, (meth)acrylic acid ester resins, polyester urethane resins, urethane resins, silicone resins, cellulose resins, polyolefin resins, epoxy resins, and vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resins. etc. are preferably mentioned.
  • polyester resins and (meth)acrylic acid ester resins are preferred from the viewpoint of impact resistance and transparency of the resin-coated ultra-thin glass of the present invention. These can be used alone or in combination of two or more.
  • polyester resin examples include "Vylon (registered trademark)" 200 (weight average molecular weight: 17000, Tg: 67°C), “Vylon” 220 (weight average molecular weight: 3000, Tg: 53°C), and "Vylon” 226.
  • the organic film (B) preferably contains a thermosetting resin.
  • the organic film (B) is formed from a composition containing a thermoplastic resin (D) having a weight average molecular weight of 1000 to 70000, and the composition containing the thermoplastic resin (D) is It is preferable to contain a thermosetting resin from the viewpoint of further improving the surface hardness.
  • Thermosetting resins include (meth)acrylate compounds, epoxy compounds, and melamine compounds, but (meth)acrylate compounds are preferred from the viewpoint of stability over time.
  • As the (meth)acrylate compound a urethane (meth)acrylate compound is preferable from the viewpoint of achieving both bending resistance and surface hardness of the organic film (B).
  • the content of the urethane (meth)acrylate compound is preferably 5 to 35% by weight based on the total solid content of the organic film (B). From the viewpoint of further improving the surface hardness and impact resistance of the organic film (B), it is preferably 5% by weight or more. From the viewpoint of further improving the bending resistance and yellowness of the organic film (B), it is preferably 35% by weight or less, more preferably 25% by weight or less, and even more preferably 15% by weight or less.
  • the total solid content refers to all components other than the solvent in the organic film (B).
  • the urethane (meth)acrylate of the present invention preferably has a double bond equivalent weight of 100 to 600 g/mol.
  • the bending resistance of the organic film (B) it is preferably 100 g/mol or more. From the viewpoint of further improving the surface hardness of the resin-coated ultra-thin glass, it is preferably 600 g/mol or less, more preferably 250 g/mol or less, and even more preferably 150 g/mol or less.
  • a composition containing a thermoplastic resin (D) preferably contains a solvent from the viewpoint of coating properties.
  • solvents include ester-based solvents, ether-based solvents, acetate-based solvents, alcohol-based solvents, ketone-based solvents, and lactone-based solvents. You may contain 2 or more types of these. Solvents such as xylene, ethylbenzene, and solvent naphtha may also be used in combination.
  • ester solvents examples include benzyl acetate, ethyl benzoate, ⁇ -butyrolactone, methyl benzoate, diethyl malonate, 2-ethylhexyl acetate, 2-butoxyethyl acetate, 3-methoxy-3-methyl-butyl acetate, and diethyl oxalate.
  • ethyl acetoacetate 3-methoxy-butyl acetate, methyl acetoacetate, ethyl-3-ethoxypropionate, 2-ethylbutyl acetate, isopentyl propionate, propylene glycol monomethyl ether propionate, propylene glycol monoethyl ether Acetate, pentyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, ethyl acetate, butyl acetate, isopentyl acetate and the like.
  • 3-methoxy-3-methyl-butyl acetate acetic acid ester solvents such as propylene glycol monoethyl ether acetate, propionic acid ester solvents such as propylene glycol monomethyl ether propionate are preferable, and 3-methoxy-butyl More preferred are acetate and propylene glycol monomethyl ether acetate.
  • ether-based solvents examples include propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol tertiary butyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, and dipropylene glycol monomethyl ether.
  • alcoholic solvents examples include butanol, 3-methyl-2-butanol, and 3-methyl-3-methoxybutanol.
  • ketone-based solvents examples include cyclopentanone and cyclohexanone.
  • lactone solvents examples include ⁇ -butyrolactone, ⁇ -valerolactone, ⁇ -valerolactone and the like.
  • composition containing the thermoplastic resin (D) may contain other additives.
  • Other additives include, for example, adhesion improvers, surfactants, polymerization inhibitors, antioxidants, and the like.
  • Adhesion improvers include, for example, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris(2-methoxyethoxy)silane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-(2-amino ethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyl trimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane
  • surfactants include fluorine-based surfactants; silicone-based surfactants; fluorine-containing thermally decomposable surfactants; polyether-modified siloxane-based surfactants; polyalkylene oxide-based surfactants; Acrylate-based surfactants; anionic surfactants such as ammonium lauryl sulfate and triethanolamine polyoxyethylene alkyl ether sulfate; cationic surfactants such as stearylamine acetate and lauryltrimethylammonium chloride; lauryldimethylamine oxide and laurylcarboxymethyl amphoteric surfactants such as hydroxyethylimidazolium betaine; and nonionic surfactants such as polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether and sorbitan monostearate. You may contain 2 or more types of these.
  • fluorine-based surfactants silicone-based surfactants, and fluorine-containing thermally decomposable interfaces are used from the viewpoint of suppressing poor coating properties such as repellency and reducing surface tension to suppress unevenness during drying of the coating film.
  • the active agent is preferably a polyether-modified siloxane-based surfactant, more preferably a fluorine-containing thermally decomposable surfactant.
  • fluorosurfactants include, for example, "Megafac (registered trademark)” F142D, F172, F173, F183, F445, F470, F475, F477 (manufactured by DIC Corporation). ), NBX-15, FTX-218 (manufactured by Neos Co., Ltd.) and the like.
  • silicone surfactants include "BYK (registered trademark)” -333, BYK-301, BYK-331, BYK-345, BYK-307 (manufactured by BYK-Chemie Japan Co., Ltd.). be done.
  • fluorine-containing thermally decomposable surfactants include, for example, “Megafac (registered trademark)” DS-21 (manufactured by DIC Corporation).
  • polyether-modified siloxane surfactants include, for example, “BYK (registered trademark)”-345, BYK-346, BYK-347, BYK-348, BYK-349 (manufactured by BYK-Chemie Japan Co., Ltd.).
  • Polymerization inhibitors include, for example, hydroquinone-based and catechol-based polymerization inhibitors.
  • hydroquinone-based polymerization inhibitors include hydroquinone, tert-butylhydroquinone, 2,5-bis(1,1,3,3-tetramethylbutyl)hydroquinone, and 2,5-bis(1,1-dimethylbutyl). hydroquinone and the like.
  • catechol-based polymerization inhibitors include catechol and tert-butyl catechol.
  • Antioxidants include phenol antioxidants, phosphorus antioxidants, sulfur antioxidants, and the like. You may contain 2 or more types of these.
  • thermoplastic resin (D) the method for producing the composition containing the thermoplastic resin (D) will be explained below.
  • thermoplastic resin (D) As a method for producing a composition containing a thermoplastic resin (D), the thermoplastic resin (D) is heated and stirred in a solvent to prepare a solution of the thermoplastic resin (D).
  • a method of mixing a predetermined amount of other raw materials such as a solvent, a thermosetting resin, an adhesion improver, a surfactant, a polymerization inhibitor, an antioxidant, etc. with the solution of the thermoplastic resin (D) and stirring as necessary. Common.
  • Organic film (C) The side of the ultra-thin glass (A) of the present invention on which the organic film (B) is not formed has an organic film (C) formed from a composition containing a siloxane resin (E).
  • the organic film (C) is preferably a reinforced film (c).
  • the reinforcing film (c) is an organic film that prevents cracks in the bent portion of the resin-coated ultra-thin glass and improves the bending resistance of the resin-coated ultra-thin glass.
  • the organic film (C) in the present invention is preferably a cured film of a composition containing the siloxane resin (E).
  • the organic film (C) is a “cured film” because the siloxane resin in the composition is crosslinked by a condensation reaction of silanol groups (thermal crosslinking) or a radical addition reaction of radically polymerizable groups (photocrosslinking). Point to what you did.
  • thermal crosslinking thermal crosslinking
  • photocrosslinking radical addition reaction of radically polymerizable groups
  • the film thickness of the organic film (C) is preferably 1 ⁇ m or more and 20 ⁇ m or less. From the viewpoint of further improving the glass strength of the resin-coated ultra-thin glass, the thickness is preferably 1 ⁇ m or more, more preferably 2 ⁇ m or more, and even more preferably 3 ⁇ m or more. From the viewpoint of further improving the bending resistance of the resin-coated ultra-thin sheet glass, the thickness is preferably 20 ⁇ m or less, preferably 15 ⁇ m or less, and more preferably 10 ⁇ m or less.
  • a transparent adhesive layer is preferably laminated on the surface of the organic film (C) that is not on the ultra-thin glass (A) side.
  • the transparent adhesive layer include OCR (Optically Clear Resin), OCA (Optical Clear Adhesive), LOCA (Liquid Optically Clear Adhesives), and the like.
  • the thickness of the transparent adhesive layer is preferably 10 ⁇ m or more and 200 ⁇ m or less. From the viewpoint of further improving adhesive strength, the thickness is preferably 10 ⁇ m or more, more preferably 15 ⁇ m or more, and even more preferably 20 ⁇ m or more. From the viewpoint of further improving the bending resistance of the resin-coated ultra-thin sheet glass, the thickness is preferably 200 ⁇ m or less, more preferably 100 ⁇ m or less, and even more preferably 30 ⁇ m or less.
  • the total light transmittance of the transparent adhesive layer is preferably 90% or more. From the viewpoint of further improving the brightness of the display, it is preferably 90% or more, more preferably 95% or more, and even more preferably 98% or more.
  • the total light transmittance referred to here refers to a value measured according to JIS K7361-1.
  • the haze value of the transparent adhesive layer is preferably 10% or less. From the viewpoint of further improving the transparency of the display, it is preferably 10% or less, more preferably 5% or less, and even more preferably 3% or less.
  • the haze value referred to here refers to a value measured according to JIS K7136.
  • the storage elastic modulus of the transparent adhesive layer at 25°C is preferably 0.05 MPa or more and 1.5 MPa or less.
  • the pressure is preferably 0.05 Mpa or more, more preferably 0.10 Mpa or more, and even more preferably 0.15 Mpa or more.
  • the pressure is preferably 1.5 Mpa or less, more preferably 1.0 Mpa or less, and even more preferably 0.5 Mpa or less.
  • resins that make up the transparent adhesive layer include (meth)acrylic resins, silicone resins, and urethane resins, but (meth)acrylic resins are preferred from the viewpoint of transparency and stability in the visible light range.
  • one type of resin may be used alone, or two or more types may be mixed and used at the same time.
  • these resins contain one or more third components such as monomers, cross-linking agents, solvents, silane coupling agents, antistatic agents, tackifiers, antioxidants, ultraviolet absorbers, and leveling agents. It can be added and used.
  • Siloxane resin (E) A resin composition suitable for the organic film (C) in the present invention preferably contains the siloxane resin (E) as an essential component and contains a solvent from the viewpoint of coatability.
  • the siloxane resin (E) in the present invention refers to a polymer having repeating units having a siloxane skeleton, and is preferably a hydrolyzed condensate of an organosilane compound.
  • siloxane resin (E) when it has an oxetanyl group, it shall be classified as a "siloxane compound having an oxetanyl group" described later.
  • the weight average molecular weight of the siloxane resin (E) in the present invention is preferably 2,000 to 7,000 from the viewpoint of improving coatability.
  • the phenyl group content of the siloxane resin (E) in the present invention is preferably 5 to 60 mol% relative to Si atoms.
  • the content of phenyl groups in the siloxane resin (E) is preferably 5 mol % or more relative to Si atoms.
  • the amount is preferably 60 mol % or less.
  • the siloxane resin (E) in the present invention preferably has a radically polymerizable group.
  • a radical photopolymerization initiator to be described later, the degree of crosslinking of the organic film (C) in the present invention is increased by the progress of radical polymerization reaction by radicals generated by light irradiation, and the resin-coated ultra-thin sheet glass is obtained.
  • the bending resistance of the can be further improved.
  • radically polymerizable groups examples include vinyl groups, ⁇ -methylvinyl groups, allyl groups, styryl groups, and (meth)acryloyl groups.
  • a (meth)acryloyl group is preferred from the viewpoint of further increasing the degree of cross-linking of the organic film (C) in the present invention.
  • the siloxane resin having a radically polymerizable group a hydrolytic condensate of an organosilane compound having a radically polymerizable group is preferred.
  • a hydrolytic condensate of an organosilane compound having a radically polymerizable group and another organosilane compound may also be used.
  • Organosilane compounds having a radically polymerizable group include, for example, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriisopropoxysilane, vinyltri(2-methoxyethoxy)silane, vinyltriacetoxysilane, vinylmethyldimethoxysilane, vinyl methyldiethoxysilane, allyltrimethoxysilane, allyltriethoxysilane, allylmethyldimethoxysilane, allylmethyldiethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, p-styryltriethoxysilane, p-styrylmethyldimethoxysilane, p-styryl methyldiethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-acryloxypropylmethyldiethoxys
  • 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane and 3-methacryloxypropyltriethoxysilane are preferred.
  • organosilane compounds include, for example, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltriisopropoxysilane, methyltributoxysilane, methyltriphenoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, Ethyltrimethoxysilane, Ethyltriethoxysilane, Diethyldimethoxysilane, n-Propyltrimethoxysilane, Isopropyltrimethoxysilane, Diisopropyldimethoxysilane, n-Butyltrimethoxysilane, Isobutyltrimethoxysilane, Isobutyltriethoxysilane, Diisobutyldimethoxysilane , n-hexyltrimethoxysilane, n-hexyltriethoxysilane,
  • the siloxane resin (E) in the present invention can be obtained by hydrolytic condensation of an organosilane compound.
  • it can be obtained by hydrolyzing an organosilane compound and then subjecting the obtained silanol compound to a condensation reaction in the presence or absence of a solvent.
  • Various conditions for the hydrolysis reaction can be appropriately set in consideration of the reaction scale, the size and shape of the reaction vessel, and so on. For example, it is preferable to add an acid catalyst and water to an organosilane compound in a solvent over 1 to 180 minutes, and then react the mixture at room temperature to 110° C. for 1 to 180 minutes. By carrying out the hydrolysis reaction under such conditions, a rapid reaction can be suppressed.
  • the reaction temperature is more preferably 30-105°C.
  • the hydrolysis reaction is preferably carried out in the presence of an acid catalyst.
  • an acid catalyst an acidic aqueous solution containing formic acid, acetic acid and phosphoric acid is preferred.
  • the amount of the acid catalyst to be added is preferably 0.1 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of all the organosilane compounds used in the hydrolysis reaction. By setting the amount of the acid catalyst within the above range, the hydrolysis reaction can proceed more efficiently.
  • the reaction solution After obtaining the silanol compound by the hydrolysis reaction of the organosilane compound, it is preferable to heat the reaction solution as it is at 50°C or higher and below the boiling point of the solvent for 1 to 100 hours to carry out the condensation reaction. Further, reheating or addition of a base catalyst may be performed in order to increase the degree of polymerization of the polysiloxane.
  • the solvent used for the hydrolysis reaction of the organosilane compound and the condensation reaction of the silanol compound include methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, isobutanol, t-butanol, pentanol, and 4-methyl-2-pentanol.
  • ethylene glycol, Glycols such as propylene glycol; ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene ethers such as glycol dibutyl ether and diethyl ether; ketones such as methyl ethyl ketone, acetylacetone, methyl propyl ketone, methyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone and 2-heptanone;
  • a solvent When a solvent is generated by the hydrolysis reaction, it is possible to hydrolyze without a solvent. After completion of the reaction, it is also preferable to adjust the concentration to be suitable for the composition by further adding a solvent. Further, depending on the purpose, after hydrolysis, an appropriate amount of the alcohol produced may be distilled off under heating and/or under reduced pressure, and then a suitable solvent may be added.
  • the amount of solvent used in the hydrolysis reaction is preferably 80 to 500 parts by weight with respect to 100 parts by weight of all organosilane compounds. By setting the amount of the solvent within the above range, the hydrolysis reaction can proceed more efficiently.
  • the water used for the hydrolysis reaction is preferably ion-exchanged water.
  • the amount of water is preferably 1.0 to 4.0 mol per 1 mol of silane atoms.
  • the content of the siloxane resin (E) in the composition containing the siloxane resin (E) is preferably 15% by weight or more based on the total solid content from the viewpoint of further improving the bending resistance and transparency of the resin-coated ultra-thin glass. , more preferably 25% by weight or more.
  • the content of the siloxane resin is preferably 90% by weight or less, more preferably 80% by weight or less, based on the total solid content.
  • the composition containing the siloxane resin (E) preferably contains a solvent from the viewpoint of coatability.
  • a solvent By containing a solvent, each component can be uniformly dissolved.
  • solvents include aliphatic hydrocarbons, carboxylic acid esters, ketones, ethers, and alcohols. You may contain 2 or more types of these.
  • a compound having an alcoholic hydroxyl group and a cyclic compound having a carbonyl group are preferable from the viewpoint of uniformly dissolving each component and improving the transparency of the resulting coating film.
  • Examples of compounds having an alcoholic hydroxyl group include acetol, 3-hydroxy-3-methyl-2-butanone, 4-hydroxy-3-methyl-2-butanone, 5-hydroxy-2-pentanone, 4-hydroxy-4 -methyl-2-pentanone (diacetone alcohol), ethyl lactate, butyl lactate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, propylene glycol mono-t-butyl ether , 3-methoxy-1-butanol, 3-methyl-3-methoxy-1-butanol, and the like.
  • diacetone alcohol and 3-methyl-3-methoxy-1-butanol are preferred from the viewpoint of storage stability.
  • cyclic compounds having a carbonyl group include ⁇ -butyrolactone, ⁇ -valerolactone, ⁇ -valerolactone, propylene carbonate, N-methylpyrrolidone, cyclohexanone and cycloheptanone.
  • ⁇ -butyrolactone is particularly preferably used.
  • aliphatic hydrocarbons examples include xylene, ethylbenzene, and solvent naphtha.
  • carboxylic acid esters examples include benzyl acetate, ethyl benzoate, ⁇ -butyrolactone, methyl benzoate, diethyl malonate, 2-ethylhexyl acetate, 2-butoxyethyl acetate, 3-methoxy-3-methyl-butyl acetate, and diethyl oxalate.
  • ethyl acetoacetate cyclohexyl acetate, 3-methoxy-butyl acetate, methyl acetoacetate, ethyl-3-ethoxypropionate, 2-ethylbutyl acetate, isopentyl propionate, propylene glycol monomethyl ether propionate, propylene glycol Monoethyl ether acetate, ethyl acetate, butyl acetate, isopentyl acetate, pentyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate and the like.
  • Ketones include, for example, cyclopentanone and cyclohexanone.
  • ethers include aliphatic ethers such as propylene glycol derivatives such as propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol tertiary butyl ether, and dipropylene glycol monomethyl ether.
  • propylene glycol derivatives such as propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol tertiary butyl ether, and dipropylene glycol monomethyl ether.
  • the boiling point under atmospheric pressure is 150 ° C. or higher. It is preferable to contain a solvent having a temperature of 250° C. or less and a solvent having a boiling point of less than 150° C. under atmospheric pressure.
  • the boiling point of the solvent having a boiling point of 150° C. or higher and 250° C. or lower under atmospheric pressure is more preferably 150° C. or higher and 200° C. or lower.
  • Solvents having a boiling point of 150° C. or higher and 250° C. or lower under atmospheric pressure include, for example, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone (diacetone alcohol), ethyl lactate, butyl lactate, propylene glycol mono-t-butyl ether, 3 -Methoxy-1-butanol, 3-methyl-3-methoxy-1-butanol, benzyl acetate, ethyl benzoate, methyl benzoate, diethyl malonate, 2-ethylhexyl acetate, 2-butoxyethyl acetate, 3-methoxy-3-methyl -butyl acetate, diethyl oxalate, ethyl acetoacetate, cyclohexyl acetate, 3-methoxy-butyl acetate, methyl acetoacetate, ethyl-3-ethoxypropionate, isopentyl propionate, propylene glyco
  • 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone diacetone alcohol
  • 3-methyl-3-methoxy-1-butanol 3-methoxy-3-methyl-butyl acetate
  • 3-methoxy-butyl acetate 3-methoxy-butyl acetate
  • ⁇ -butyrolactone are particularly preferably used.
  • Solvents having a boiling point of less than 150° C. under atmospheric pressure include, for example, methyl acetate, ethyl acetate, isopropyl acetate, n-propyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether, Propylene glycol monomethyl ether, Propylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol ethyl ether, ethylene glycol methyl ether, butanol, isobutanol, n-propyl alcohol, ethyl acetate and the like.
  • propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monomethyl ether are particularly preferably used.
  • the composition containing the siloxane resin (E) preferably contains silica particles and may further contain other components. By containing silica particles, the composition containing the siloxane resin (E) can achieve both bending resistance and transparency of the resin-coated ultra-thin glass at a high level.
  • the composition containing the siloxane resin preferably has a silica particle content of 10% by weight or more and 40% by weight or less based on the total solids.
  • the total solid content refers to all components other than the solvent in the composition containing the siloxane resin (E).
  • the silica particle content By setting the silica particle content to 10% by weight or more in the total solid content, the silanol condensation reaction between the siloxane resin (E) and the silica particles promotes cross-linking, and the degree of cross-linking of the organic film (C) in the present invention is increased. It is possible to further improve the bending resistance of the resin-coated ultra-thin sheet glass. In addition, the difference in refractive index between the ultra-thin plate glass (A) and the organic film (C) can be reduced, and unevenness caused by film thickness variations of the organic film (C) can be reduced. By setting the silica particle content to 40% by weight or less in the total solid content, an organic film (C) having good bending resistance and adhesion can be obtained.
  • the average particle size of the silica particles is preferably 1 to 200 nm, more preferably 1 to 70 nm.
  • the average particle size of silica particles can be determined by a dynamic light scattering method. Specifically, a dispersion liquid having a silica particle concentration of 10 to 30% by weight is irradiated with light having a wavelength of 780 nm by a semiconductor laser, and after measuring the scattered light, frequency analysis is performed by the FFT-heterodyne method. Particle size can be determined.
  • silica particles examples include sicastar (manufactured by Corefront Co., Ltd.) and "Reolosil (registered trademark)" (manufactured by Tokuyama Corporation). These may be pulverized or dispersed using a dispersing machine such as a bead mill.
  • Silica particle dispersions include, for example, IPA-ST, MIBK-ST, IPA-ST-L, IPA-ST-ZL, PGM-ST, PMA-ST (all manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), " Oscar (registered trademark)” 101, “Oscar” 105, “Oscar” 106, “Cataloid (registered trademark)”-S (all manufactured by Nikki Shokubai Kasei Co., Ltd.), “Quatron (registered trademark)” PL-1- IPA, PL-1-TOL, PL-2L-PGME, PL-2L-MEK, PL-2L, GP-2L (all manufactured by Fuso Chemical Industry Co., Ltd.) and the like. You may contain 2 or more types of these.
  • the composition containing the siloxane resin (E) preferably contains a radical photopolymerization initiator, and is combined with the siloxane resin (E) having a radically polymerizable group to crosslink the organic film (C) in the present invention. It is possible to further improve the bending resistance of the resin-coated ultra-thin glass by increasing the strength of the resin-coated ultra-thin sheet glass.
  • the content of the radical photopolymerization initiator in the composition containing the siloxane resin (E) is determined from the viewpoint of sufficiently advancing the reaction of the radically polymerizable groups and further improving the bending resistance of the resin-coated ultra-thin glass. , preferably 0.5% by weight or more, more preferably 1% by weight or more, based on the total solid content.
  • the content of the radical photopolymerization initiator is preferably 20% by weight or less, more preferably 10% by weight or less, based on the total solid content from the viewpoint of further improving the transparency of the organic film (C) in the present invention.
  • photoradical polymerization initiators include alkylphenone photoradical polymerization initiators such as ⁇ -aminoalkylphenone photoradical polymerization initiators and ⁇ -hydroxyalkylphenone photoradical polymerization initiators; acylphosphine oxide photoradicals; Polymerization initiator; oxime ester-based photoradical polymerization initiator; benzophenone-based photoradical polymerization initiator; oxanthone-based photoradical polymerization initiator; imidazole-based photoradical polymerization initiator; benzothiazole-based photoradical polymerization initiator; Radical polymerization initiator; carbazole-based radical photopolymerization initiator; triazine-based photoradical polymerization initiator; benzoic acid ester-based photoradical polymerization initiator; phosphorus-based photoradical polymerization initiator; is mentioned. You may contain 2 or more types of these.
  • ⁇ -aminoalkylphenone-based photoradical polymerization initiators and acylphosphine oxide-based photopolymerization initiators are used from the viewpoint of increasing the degree of cross-linking of the organic film (C) in the present invention and further improving the bending resistance of the resin-coated ultra-thin glass plate.
  • a radical polymerization initiator, an oxime ester photoradical polymerization initiator, a benzophenone photoradical polymerization initiator having an amino group, and a benzoic acid ester photoradical polymerization initiator having an amino group are preferred.
  • Examples of ⁇ -aminoalkylphenone photoradical polymerization initiators include 2-methyl-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one, 2-dimethylamino-2-(4-methyl benzyl)-1-(4-morpholin-4-yl-phenyl)-butan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butanone-1 and the like .
  • acylphosphine oxide photoradical polymerization initiators include 2,4,6-trimethylbenzoylphenylphosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide, bis(2,6-dimethoxy benzoyl)-(2,4,4-trimethylpentyl)-phosphine oxide and the like.
  • oxime ester photoradical polymerization initiators include 1-phenyl-1,2-propanedione-2-(o-ethoxycarbonyl)oxime, 1,2-octanedione, 1-[4-(phenylthio)- 2-(O-benzoyloxime)], 1-phenyl-1,2-butadione-2-(o-methoxycarbonyl)oxime, 1,3-diphenylpropanetrione-2-(o-ethoxycarbonyl)oxime, ethanone, 1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)-9H-carbazol-3-yl]-, 1-(0-acetyloxime) and the like.
  • Benzophenone photoradical polymerization initiators having an amino group include, for example, 4,4-bis(dimethylamino)benzophenone and 4,4-bis(diethylamino)benzophenone.
  • Benzoic acid ester photoradical polymerization initiators having an amino group include, for example, ethyl p-dimethylaminobenzoate, 2-ethylhexyl-p-dimethylaminobenzoate, and ethyl p-diethylaminobenzoate.
  • the composition containing the siloxane resin (E) preferably further contains a compound having two or more radically polymerizable groups.
  • a compound having two or more radically polymerizable groups By containing a compound having two or more radically polymerizable groups, the degree of crosslinking of the organic film (C) in the present invention is increased by a radical polymerization reaction with the radically polymerizable groups contained in the siloxane resin (E). It is possible to further improve the bending resistance of the resin-coated ultra-thin glass.
  • Examples of the radically polymerizable group include those exemplified as the radically polymerizable group possessed by the siloxane resin.
  • a polyfunctional (meth)acrylate is preferable as the compound having two or more radically polymerizable groups.
  • Polyfunctional (meth)acrylate refers to a compound having two or more (meth)acrylate groups, for example, 2,2-[9H-fluorene-9,9-diylbis(1,4-phenylene)bisoxy]diethanol Di(meth)acrylate, ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, dimethyloltricyclodecane di(meth)acrylate, ethoxylated bisphenol A di(meth)acrylate , glycerin di(meth)acrylate, tripropylene glycol di(meth)acrylate, 1,3-butanediol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, 1,4-butanediol di(meth)acrylate,
  • the content of the compound having two or more radically polymerizable groups in the composition containing the siloxane resin (E) increases the degree of cross-linking of the organic film (C) and further improves the bending resistance of the resin-coated ultra-thin glass. From a viewpoint, 5 weight% or more is preferable in a total solid content, and 10 weight% or more is more preferable. On the other hand, from the viewpoint of further improving the flexibility of the organic film (C), the content of the compound having two or more radically polymerizable groups is preferably 50% by weight or less, more preferably 30% by weight or less, based on the total solid content. .
  • the composition containing the siloxane resin (E) may contain a siloxane compound having an oxetanyl group.
  • a siloxane compound having an oxetanyl group By containing the siloxane compound having an oxetanyl group, the stress of the organic film (C) is relieved by the ring-opening reaction of the oxetane ring, and the adhesion between the ultra-thin glass plate (A) and the organic film (C) is improved. can be done.
  • siloxane compounds having an oxetanyl group include compounds represented by the following general formula (1).
  • R 1 to R 4 each represent a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, or a group represented by general formula (2) below. However, at least one of R 1 to R 4 is a group represented by the following general formula (2). w represents an integer of 1-10. From the viewpoint of reactivity, the alkyl group preferably has 1 to 6 carbon atoms, and the cycloalkyl group preferably has 3 to 6 carbon atoms.
  • R 5 to R 9 each represent a hydrogen atom, a fluorine atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group or a perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • p represents an integer of 1 to 6;
  • the siloxane compound represented by the general formula (1) can be obtained by hydrolyzing an alkoxysilane compound having an oxetanyl group, optionally together with an alkoxysilane compound having no oxetanyl group.
  • alkoxysilane compounds having an oxetanyl group examples include (oxetan-3-yl)methyltrimethoxysilane, (oxetan-3-yl)methyltriethoxysilane, (oxetan-3-yl)methyltri-n-propyloxysilane.
  • alkoxysilane compounds having no oxetanyl group include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltriisopropoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyl triethoxysilane, propyltriethoxysilane, butyltrimethoxysilane, cyclohexyltrimethoxysilane, cyclohexyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diethyldimethoxysilane, diethyldi Ethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, methylphenyl
  • siloxane compound having an oxetanyl group for example, "Aron Oxetane (registered trademark)" OXT-191 (trade name, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) (R 1 to R 4 in general formula (1) are (3-ethyl -3-oxetanyl)methyl group, w averages 5), and compounds represented by the following general formula (3) or (6). You may contain 2 or more types of these.
  • R 10 and R 12 are a hydrogen atom, a fluorine atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, represents a furyl group or a thienyl group.
  • R 11 represents a group represented by the following general formula (4).
  • d represents an integer of 0 to 3; Examples of alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group and hexyl group.
  • the fluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms includes, for example, a trifluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group and the like.
  • Examples of the aryl group having 6 to 18 carbon atoms include phenyl group and naphthyl group.
  • R 13 , R 15 , R 16 and R 18 represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms and an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, and R 14 and R 17 each have 1 carbon atom. to 4 alkyl groups, aryl groups having 6 to 18 carbon atoms, or groups represented by the following general formula (5).
  • u represents an integer from 0 to 200; When u is 2 or more, multiple R 14 and R 17 may be the same or different.
  • R 19 to R 23 each represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an aryl group having 6 to 18 carbon atoms.
  • Z represents an integer from 0 to 100; When z is 2 or more, multiple R 19 and R 23 may be the same or different.
  • R 24 is a hydrogen atom, a fluorine atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, a furyl group, or represents a thienyl group
  • R 25 represents a 3- to 10-valent organic group. Examples thereof include linear, branched or cage-like polysiloxane-containing groups represented by any of the following general formulas (7) to (9).
  • j represents an integer of 3 to 10 equal to the valence of R25 .
  • siloxane compound having a cage-shaped oxetanyl group represented by the general formula (9) examples include, for example, silsesquioxane derivatives OX-SQ TX-100 and OX-SQ SI-20 (trade names, Toagosei Co., Ltd.) and the like.
  • those having a plurality of oxetanyl groups are preferred.
  • the stress relaxation effect of the organic film (C) due to the ring-opening reaction of the oxetane ring is improved, and the adhesion to the glass substrate can be further improved.
  • the content of the siloxane compound having an oxetanyl group in the composition containing the siloxane resin (E) is 0.1 in the total solid content from the viewpoint of further relaxing the stress of the organic film (C) and further improving adhesion. % by weight or more is preferable, and 0.5% by weight or more is more preferable.
  • the content of the siloxane compound having an oxetanyl group is preferably 10% by weight or less in the total solid content from the viewpoint of improving the stress of the organic film (C) and further improving the bending resistance of the resin-coated ultra-thin glass. 6% by weight or less is more preferable.
  • the composition containing the siloxane resin (E) may contain a metal chelate compound represented by the following general formula (10). Since the metal chelate compound acts as a catalyst for the silanol condensation reaction of the siloxane resin (E), the degree of cross-linking of the organic film (C) increases, and the bending resistance of the resin-coated ultra-thin glass can be further improved.
  • M represents a metal atom
  • R26 represents hydrogen, an alkyl group, an aryl group or an alkenyl group
  • R27 and R28 each independently represents a hydrogen, alkyl group, aryl group or alkenyl group. or represents an alkoxy group.
  • the alkyl group, aryl group, alkenyl group or alkoxy group may be substituted with a substituent.
  • e represents the valence of the metal atom M
  • f represents an integer from 0 to e. From the viewpoint of reactivity, ef is preferably 0.
  • the metal atom M is preferably titanium, zirconium, aluminum, zinc, cobalt, molybdenum, lanthanum, barium, strontium, magnesium, or calcium, and more preferably zirconium or aluminum.
  • R 26 examples include hydrogen, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n- octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-octadecyl group, phenyl group, vinyl group, allyl group, oleyl group and the like.
  • R 27 and R 28 include hydrogen, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, phenyl group, vinyl group, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, sec-butoxy group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-octadecyl group, benzyloxy group and the like.
  • Zirconium chelate compounds in which the metal atom M is zirconium include, for example, zirconium tetra-n-propoxide, zirconium tetra-n-butoxide, zirconium tetra-sec-butoxide, zirconium tetraphenoxide, zirconium tetraacetylacetonate, zirconium tetra(2, 2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionate), zirconium tetramethylacetoacetate, zirconium tetraethylacetoacetate, zirconium tetramethylmalonate, zirconium tetraethylmalonate, zirconium tetrabenzoylacetonate, zirconium tetradibenzoyl methanate, zirconium mono n-butoxyacetylacetonate bis(ethylacetoacetate), zirconium mono n
  • Aluminum chelate compounds in which the metal atom M is aluminum include, for example, aluminum tris isopropoxide, aluminum tris n-propoxide, aluminum tris sec-butoxide, aluminum tris n-butoxide, aluminum trisphenoxide, aluminum tris acetylacetonate, aluminum Tris (2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionate), aluminum trisethylacetoacetate, aluminum trismethylacetoacetate, aluminum trismethylmalonate, aluminum trisethylmalonate, aluminum ethylacetate di (isopropoxide), aluminum acetylacetonate) di(isopropoxide), aluminum methylacetoacetate di(isopropoxide), aluminum octadecylacetoacetate di(isopropylate), aluminum monoacetylacetonate bis(ethylacetoacetate) etc.
  • the content of the metal chelate compound in the composition containing the siloxane resin (E) is the total solid content from the viewpoint of further improving the degree of crosslinking of the organic film (C) and further improving the bending resistance of the resin-coated ultra-thin glass. 0.1% by weight or more is preferable, and 0.5% by weight or more is more preferable.
  • the content of the metal chelate compound is preferably 10% by weight or less, more preferably 7% by weight or less, based on the total solid content, from the viewpoint of the stability of the composition containing the siloxane resin (E) over time.
  • the composition containing the siloxane resin (E) may contain an adhesion improver.
  • an adhesion improver By containing the adhesion improver, the adhesion between the organic film (C) and the ultra-thin plate glass (A) can be further improved.
  • adhesion improvers include silane coupling agents having functional groups such as vinyl groups, epoxy groups, styryl groups, (meth)acryloxy groups, and amino groups.
  • functional groups such as vinyl groups, epoxy groups, styryl groups, (meth)acryloxy groups, and amino groups.
  • the content of the adhesion improver in the composition containing the siloxane resin (E) is 0.1 wt. % or more is preferable, and 0.5% by weight or more is more preferable. On the other hand, from the viewpoint of stability over time of the composition containing the siloxane resin (E), it is preferably 10% by weight or less, more preferably 5% by weight or less, of the total solid content.
  • the composition containing the siloxane resin (E) may contain various cross-linking agents to promote or facilitate cross-linking.
  • cross-linking agents include nitrogen-containing organic substances, silicone resin cross-linking agents, isocyanate compounds and their polymers, methylolated melamine derivatives, and methylolated urea derivatives. You may contain 2 or more types of these. Among them, a methylolated melamine derivative and a methylolated urea derivative are preferably used from the viewpoint of crosslinkability and stability over time.
  • the composition containing the siloxane resin (E) may contain a curing catalyst such as a thermal acid generator or a photoacid generator.
  • thermal acid generators include SI-60, SI-80, SI-100, SI-110, SI-145, SI-150, SI-60L, SI-80L, SI-100L, SI-110L, SI -145L, SI-150L, SI-160L, SI-180L (manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.), 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium trifluoromethanesulfonate, benzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium trifluoromethanesulfonate , 2-methylbenzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium trifluoromethanesulfonate, 4-acetoxyphenyldimethylsulfonium trifluoromethanesulfonate, 4-acetoxyphenyldimethylsulfonium trifluoromethanes
  • photoacid generators examples include SI-100, SI-101, SI-105, SI-106, SI-109, PI-105, PI-106, PI-109, NAI-100, NAI-1002, NAI -1003, NAI-1004, NAI-101, NAI-105, NAI-106, NAI-109, NDI-101, NDI-105, NDI-106, NDI-109, PAI-01, PAI-101, PAI-106 , PAI-1001 (manufactured by Midori Chemical Co., Ltd.), SP-077, SP-082 (manufactured by ADEKA Co., Ltd.), TPS-PFBS (manufactured by Toyo Gosei Co., Ltd.), MDT (manufactured by , Heraeus), WPAG-281, WPAG-336, WPAG-339, WPAG-342, WPAG-344, WPAG-350, WPAG-370, WPAG-3
  • the content of a curing catalyst such as a thermal acid generator or a photoacid generator in the composition containing the siloxane resin (E) improves the degree of crosslinking of the organic film (C) and increases the bending resistance of the resin-coated ultra-thin glass. From the viewpoint of further improvement, it is preferably 0.1% by weight or more, more preferably 0.3% by weight or more, in the total solid content. On the other hand, from the viewpoint of the stability over time of the composition containing the siloxane resin (E), the content of the curing catalyst such as a thermal acid generator or a photoacid generator is preferably 5% by weight or less in the total solid content. Weight % or less is more preferable.
  • the composition containing the siloxane resin (E) may contain a polymerization inhibitor. Stability over time can be improved by containing a polymerization inhibitor.
  • polymerization inhibitors include phenol, catechol, resorcinol, hydroquinone, 4-t-butylcatechol, 2,6-di(t-butyl)-p-cresol, phenothiazine, and 4-methoxyphenol.
  • the content of the polymerization inhibitor in the composition containing the siloxane resin (E) is preferably 0.01% by weight or more, more preferably 0.1% by weight or more, based on the total solid content.
  • it is preferably 5% by weight or less, more preferably 1% by weight or less, based on the total solid content.
  • the composition containing the siloxane resin (E) may contain an ultraviolet absorber.
  • an ultraviolet absorber By containing an ultraviolet absorber, the light resistance of the organic film (C) can be improved.
  • Benzotriazole-based compounds, benzophenone-based compounds, and triazine-based compounds are preferably used as the ultraviolet absorber in terms of transparency and non-coloring properties.
  • benzotriazole compounds include 2-(2H benzotriazol-2-yl)phenol, 2-(2H-benzotriazol-2-yl)-4,6-t-pentylphenol, 2-(2H benzotriazole -2-yl)-4-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)phenol, 2(2H-benzotriazol-2-yl)-6-dodecyl-4-methylphenol, 2-(2'- hydroxy-5′-methacryloxyethylphenyl)-2H-benzotriazole and the like.
  • Benzophenone-based compounds include, for example, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone.
  • triazine compounds examples include 2-(4,6-diphenyl-1,3,5 triazin-2-yl)-5-[(hexyl)oxy]-phenol and the like.
  • the content of the ultraviolet absorber in the composition containing the siloxane resin (E) is 10% by weight or less in the total solid content from the viewpoint of improving the adhesion between the organic film (C) and the ultra-thin glass plate (A). Preferably, 5% by weight or less is more preferable.
  • the composition containing the siloxane resin (E) may contain a surfactant.
  • a surfactant By containing a surfactant, it is possible to improve flowability during application.
  • surfactants include fluorine-based surfactants; silicone-based surfactants; fluorine-containing thermally decomposable surfactants; polyether-modified siloxane-based surfactants; polyalkylene oxide-based surfactants; Acrylate-based surfactants; anionic surfactants such as ammonium lauryl sulfate and triethanolamine polyoxyethylene alkyl ether sulfate; cationic surfactants such as stearylamine acetate and lauryltrimethylammonium chloride; lauryldimethylamine oxide and laurylcarboxymethyl amphoteric surfactants such as hydroxyethylimidazolium betaine; and nonionic surfactants such as polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether and sorbitan
  • fluorine-based surfactants silicone-based surfactants, and fluorine-containing thermally decomposable interfaces are used from the viewpoint of suppressing poor coating properties such as repellency and reducing surface tension to suppress unevenness during drying of the coating film.
  • the active agent is preferably a polyether-modified siloxane-based surfactant, more preferably a fluorine-containing thermally decomposable surfactant.
  • fluorosurfactants include, for example, "Megafac (registered trademark)” F142D, F172, F173, F183, F445, F470, F475, F477 (manufactured by DIC Corporation). ), NBX-15, FTX-218 (manufactured by Neos Co., Ltd.) and the like.
  • silicone surfactants include "BYK (registered trademark)” -333, BYK-301, BYK-331, BYK-345, BYK-307 (manufactured by BYK-Chemie Japan Co., Ltd.). be done.
  • fluorine-containing thermally decomposable surfactants include, for example, “Megafac (registered trademark)” DS-21 (manufactured by DIC Corporation).
  • polyether-modified siloxane surfactants include, for example, “BYK (registered trademark)”-345, BYK-346, BYK-347, BYK-348, BYK-349 (manufactured by BYK-Chemie Japan Co., Ltd.).
  • a method of mixing predetermined amounts of raw materials and stirring them is common.
  • an organic film having hardness different from that of the organic film (B) and the hard coat layer may be formed between the organic film (B) and the hard coat layer.
  • the resin-coated ultra-thin glass of the present invention can be suitably used for display devices such as smartphones and tablet PCs, vehicle-mounted displays, and instrument panel cover glasses with the organic buffer film (B) on the surface side.
  • the front side is the side that is located on the user's side and can be touched by fingers when the resin-coated ultra-thin sheet glass is used as the cover glass on the front side of the display device.
  • the back side is the side that cannot be touched by the user when the resin-coated ultra-thin glass is used as the cover glass on the front side of the display device.
  • OCA (trade name “OPTERIA (registered trademark)” MO-3017; manufactured by Lintec Corporation) with a thickness of 50 ⁇ m is placed on the upper side of the organic film (C) side (back side) formed on the ultra-thin plate glass (A). pasted.
  • OCA trade name “OPTERIA (registered trademark)” MO-3017; manufactured by Lintec Corporation
  • the upper side of the OCA was attached to a SUS304 plate having a thickness of 10 mm, and the ultra-thin glass plate (A) was placed so that the SUS304 was on the lower side.
  • a ball-point pen with a weight of 5.7 g and a core diameter of 0.7 mm was dropped from a predetermined height on the organic film (B) side (surface side) of the ultra-thin glass (A) to prevent cracking of the ultra-thin glass. observed whether or not When no cracking was observed, the same evaluation was performed by increasing the drop height of the ballpoint pen, and the minimum height (PT1) at which the ultra-thin plate glass cracked was measured and evaluated according to the following criteria. ⁇ : 15 ⁇ PT1 ⁇ : 5 ⁇ PT1 ⁇ 15 ⁇ : PT1 ⁇ 5.
  • the transmittance was measured at a measurement wavelength of 380 nm to 780 nm using an ultraviolet-visible spectrophotometer UV-2600 (manufactured by Shimadzu Corporation). From the measured transmittance, the yellowness index (YI) of the transmitted light under the D65 light source was obtained. It can be said that the smaller the value, the better the yellowness index (YI).
  • Resin-coated glass obtained in each example and comparative example was produced by using alkali-free glass with a thickness of 0.5 mm instead of ultra-thin glass. Using a pencil hardness tester, trace the organic film (B) side (surface side) of the non-alkali glass with a pencil having a predetermined hardness at a load of 750 g and an angle of 45 degrees, and observe the presence or absence of scratches. was measured.
  • a phosphoric acid aqueous solution in which 0.391 g of phosphoric acid (0.2 parts by weight based on the charged monomer) was dissolved was added over 10 minutes using a dropping funnel. After stirring at 40° C. for 1 hour, the temperature of the oil bath was set to 70° C., stirring was continued for 1 hour, and the temperature of the oil bath was increased to 115° C. over 30 minutes. After 1 hour from the start of heating, the internal temperature of the solution reached 100° C., and the solution was heated and stirred for 2 hours (internal temperature: 100 to 110° C.). A total of 120 g of methanol and water, which are by-products, were distilled during the reaction.
  • Mw weight average molecular weight
  • a phosphoric acid aqueous solution was prepared by dissolving 0.535 g of phosphoric acid (0.3 parts by weight with respect to the charged monomer) in 54.0 g of water. was added via a dropping funnel over 10 minutes. After stirring at 40° C. for 1 hour, the temperature of the oil bath was set to 70° C., stirring was continued for 1 hour, and the temperature of the oil bath was increased to 115° C. over 30 minutes. After 1 hour from the start of heating, the internal temperature of the solution reached 100° C., and the solution was heated and stirred for 2 hours (internal temperature: 100 to 110° C.). A total of 120 g of methanol and water, which are by-products, were distilled during the reaction.
  • a siloxane resin (PS-2) solution was added to the obtained DAA solution of the siloxane resin so that the polymer concentration was 40% by weight to obtain a siloxane resin (PS-2) solution.
  • the Mw of the obtained siloxane resin (PS-2) was measured by GPC and found to be 5,000 (converted to polystyrene).
  • composition (GR-1) containing siloxane resin) Under a yellow light, 1.52 g of phenylbis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide (trade name “Omnirad (registered trademark)” 819; manufactured by IGM) and zirconium tetraacetylacetonate (trade name "Orgatics (registered trademark)"ZC-150"; manufactured by Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd.) 1.30 g, DAA 23.96 g, propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter, "PGMEA”) 1.53 g, 3-methyl- 3-Methoxy-1-butanol (hereinafter, "MMB”) was dissolved in a mixed solvent of 14.80 g, and a siloxane compound having an oxetanyl group ""Aron oxetane (registered trademark)"OXT-191"; manufactured by Toagosei Co.
  • thermoplastic polyester resin trade name “Vylon (registered trademark)” 200; manufactured by Toyobo Co., Ltd. (hereinafter referred to as “Vylon 200”) and 84.90 g of PGMEA at 60°C. , and mixed and stirred until Vylon 200 was dissolved.
  • a PGMEA 5% by weight solution (equivalent to a concentration of 50 ppm) of a fluorine-containing pyrolytic surfactant (trade name “DS-21”; manufactured by DIC Corporation) was added, Stirred. Then, the mixture was filtered through a 1.00 ⁇ m filter to prepare a composition (GB-1) containing a thermoplastic resin with a solid concentration of 15% by weight.
  • a fluorine-containing pyrolytic surfactant trade name “DS-21”; manufactured by DIC Corporation
  • Example 1 A spray coating device ( Using a product name ““rCoater (registered trademark)” ES1533 (manufactured by Asahi Sunac Co., Ltd.), a composition containing a siloxane resin (GR-1) was spray-coated, and then using a hot plate at 100 ° C. It was pre-baked for 2 minutes to obtain a pre-baked film. After that, using an exposure machine “XG-5000” manufactured by Dainippon Screen Co., Ltd., exposure was performed at 500 mJ/cm 2 (converted to i-line), and curing was performed using a hot air oven at 180° C. for 40 minutes to obtain an organic film having a film thickness of 5 ⁇ m. A film (C-1) was obtained.
  • a composition (GB-1) containing a thermoplastic resin was spray-coated using a spray coating device on the side (surface side) of the ultra-thin glass on which the organic film (C-1) was not formed. After that, it was pre-baked for 6 minutes using a hot plate at 90° C. to obtain a pre-baked film. Next, it was cured in a hot air oven at 210° C. for 40 minutes to obtain an organic film (B-1) with a film thickness of 20 ⁇ m.
  • a hard coat material (trade name “Riodulas (registered trademark)” LCH2391; manufactured by Toyochem Co., Ltd.) was spray-coated, and then a hot plate at 80° C. was used. and prebaked for 1 minute to obtain a prebaked film. After that, exposure was performed at 1500 mJ using an exposure machine "UVC-1212S1WF01" manufactured by Ushio Inc. to prepare a 7 ⁇ m hard coat layer (H-1), thereby obtaining resin-coated ultra-thin glass (SG-1). rice field. Table 2 shows the results of evaluation by the method described above.
  • Example 2 A resin-coated ultra-thin glass (SG-2) was produced in the same manner as in Example 1, except that the hard coat layer was not formed. Table 2 shows the results of evaluation by the method described above.
  • Example 3 Resin-coated ultra-thin glass (SG-3) was prepared in the same manner as in Example 1, except that the composition (GR-2) containing a siloxane resin was used to prepare an organic film (C-2) having a thickness of 5 ⁇ m. made. Table 2 shows the results of evaluation by the method described above.
  • Example 4 An organic film (B-2) having a film thickness of 40 ⁇ m was obtained by adjusting the spray speed and discharge amount during the preparation of the organic film (B-1). A resin-coated ultra-thin glass plate (SG-4) was produced in the same manner as in Example 1, except that the film thickness of the organic film (B-1) was changed. Table 2 shows the results of evaluation by the method described above.
  • Example 5 A composition containing a thermoplastic resin (GB-2) was prepared.
  • a resin-coated ultra-thin glass (SG-5) was produced in the same manner as in Example 1, except that the obtained GB-2 was used to produce an organic film (B-3).
  • Table 2 shows the results of evaluation by the method described above.
  • Example 6 In the same manner as GB-1, except that Vylon 200 was changed to a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin (trade name “Solbin (registered trademark)” TA-5R; manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd.). A composition (GB-3) containing a thermoplastic resin was prepared.
  • a resin-coated ultra-thin glass (SG-6) was produced in the same manner as in Example 1, except that the obtained GB-3 was used to produce an organic film (B-4).
  • Table 2 shows the results of evaluation by the method described above.
  • Example 7 Thermoplastic resin was used in the same manner as GB-1, except that Vylon 200 was changed to (meth) acrylic acid ester resin (trade name “Hyper (registered trademark) M-4006”; manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.). A containing composition (GB-4) was prepared.
  • a resin-coated ultra-thin glass (SG-7) was produced in the same manner as in Example 1, except that the obtained GB-4 was used to produce an organic film (B-5).
  • Table 2 shows the results of evaluation by the method described above.
  • Example 8 A composition containing a thermoplastic resin in the same manner as GB-1 except that Vylon 200 was changed to a thermoplastic polyester resin (trade name “Vylon (registered trademark)” GK-360; manufactured by Toyobo Co., Ltd.) Product (GB-6) was prepared.
  • a resin-coated ultra-thin glass (SG-12) was produced in the same manner as in Example 1, except that the obtained GB-6 was used to produce an organic film (B-8).
  • Table 2 shows the results of evaluation by the method described above.
  • Example 9 A composition containing a thermoplastic resin ( GB-7) was prepared.
  • a resin-coated ultra-thin glass (SG-13) was produced in the same manner as in Example 1, except that the obtained GB-7 was used to produce an organic film (B-9).
  • Table 2 shows the results of evaluation by the method described above.
  • Example 10 A composition containing a thermoplastic resin in the same manner as GB-1, except that Vylon 200 was changed to a thermoplastic polyester resin (trade name “Vylon (registered trademark)” GK-880; manufactured by Toyobo Co., Ltd.) Product (GB-8) was prepared.
  • Vylon registered trademark
  • GK-880 thermoplastic polyester resin
  • a resin-coated ultra-thin glass (SG-14) was produced in the same manner as in Example 1, except that the obtained GB-8 was used to produce an organic film (B-10).
  • Table 2 shows the results of evaluation by the method described above.
  • thermosetting urethane acrylate (trade name “NK Oligo (registered trademark)” U-6LPA; manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) (double bond equivalent: 127 g / mol) (hereinafter , “U-6LPA”) was changed to 1.50 g, in the same manner as GB-1, to prepare a composition (GB-9) containing a thermoplastic resin.
  • a resin-coated ultra-thin glass (SG-15) was produced in the same manner as in Example 1, except that the resulting GB-9 was used to produce an organic film (B-11).
  • Table 2 shows the results of evaluation by the method described above.
  • Example 12 A resin-coated ultra-thin glass (SG-16) was produced in the same manner as in Example 11, except that the hard coat layer was not formed. Table 2 shows the results of evaluation by the method described above.
  • Example 13 A composition containing a thermoplastic resin (GB-10) was prepared in the same manner as GB-1, except that Vylon 200 was changed to 12.00 g and U-6LPA to 3.00 g.
  • a resin-coated ultra-thin glass (SG-17) was produced in the same manner as in Example 1, except that the obtained GB-10 was used to produce an organic film (B-12).
  • Table 2 shows the results of evaluation by the method described above.
  • Example 14 A composition containing a thermoplastic resin (GB-11) was prepared in the same manner as GB-1 except that Vylon 200 was changed to 10.50 g and U-6LPA to 4.50 g.
  • a resin-coated ultra-thin glass (SG-18) was produced in the same manner as in Example 1, except that the obtained GB-11 was used to produce an organic film (B-13).
  • Table 2 shows the results of evaluation by the method described above.
  • thermosetting urethane acrylate (trade name “NK Oligo (registered trademark)” UA-122P; manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) (double bond equivalent: 550 g / mol)
  • GB-12 thermoplastic resin
  • a resin-coated ultra-thin glass (SG-19) was produced in the same manner as in Example 1, except that the obtained GB-12 was used to produce an organic film (B-14).
  • Table 2 shows the results of evaluation by the method described above.
  • Example 16 Except for changing U-6LPA to a thermosetting urethane acrylate (trade name “NK Oligo (registered trademark)” U-2HA; manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) (double bond equivalent: 200 g / mol) , GB-9, a composition containing a thermoplastic resin (GB-13) was prepared.
  • a thermosetting urethane acrylate trade name “NK Oligo (registered trademark)” U-2HA; manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.
  • a resin-coated ultra-thin glass (SG-20) was produced in the same manner as in Example 1, except that the resulting GB-13 was used to produce an organic film (B-15).
  • Table 2 shows the results of evaluation by the method described above.
  • Table 2 shows the results of evaluating the organic film (B), the organic film (C), and the ultra-thin glass without forming the hard coat layer by the method described above.
  • Example 2 A resin-coated ultra-thin glass plate (SG-8) was produced in the same manner as in Example 1, except that the organic film (B-1) was not formed. Table 2 shows the results of evaluation by the method described above.
  • Example 4 A resin-coated ultra-thin sheet glass (SG-10) was produced in the same manner as in Example 1, except that the organic film (C-1) was not formed. Table 2 shows the results of evaluation by the method described above.
  • a resin-coated ultra-thin glass (SG-11) was produced in the same manner as in Example 1, except that the obtained GB-5 was used to produce an organic film (B-7).
  • Table 2 shows the results of evaluation by the method described above.
  • the resin-coated ultra-thin glass of the present invention has high impact resistance, good bending resistance, and high transparency, so it can be used as a flexible cover glass for display devices.

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Abstract

衝撃耐性が高く、折り曲げ耐性が良好で、高い透明性を有する樹脂被覆超薄板ガラスを提供することを目的とする。厚みが１０μｍ以上１００μｍ以下の超薄板ガラス（Ａ）の片側面に有機膜（Ｂ）が、他方の面に有機膜（Ｃ）が形成された３層からなる樹脂被覆超薄板ガラスであって、前記有機膜（Ｂ）が重量平均分子量１０００～７００００である熱可塑性樹脂（Ｄ）を含有する組成物から形成されており、前記有機膜（Ｃ）がシロキサン樹脂（Ｅ）を含有する組成物から形成されている、樹脂被覆超薄板ガラスである。

Description

樹脂被覆超薄板ガラス
　本発明は、樹脂被覆超薄板ガラスに関する。
　近年、ウェアラブル端末、スマートフォン、タブレットなどの各種表示端末は、液晶表示装置や有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置などの表示パネルの技術の進展に伴い、ディスプレイやカバーガラスの形状に特徴のあるデザインが強く望まれている。
　その中でも、フレキシブル性を有し、折り畳みが可能なフォルダブルデバイスの検討が盛んに行われている。
　ところが、フォルダブルデバイスは、ディスプレイや筐体を保護するためのカバーガラスを湾曲可能な程度に薄型化する必要があり、ガラスの板厚をおよそ０．１ｍｍ以下まで超薄板化する必要がある（以下、０．１ｍｍ以下を超薄ということがある）。ガラス基板の強度は板厚に大きく依存しているため、ガラスの厚さが薄い超薄板ガラス基板は、衝撃耐性が低下して少しの衝撃でガラスが割れる問題があった。一方、衝撃耐性を改善するため、超薄板ガラス基板を厚くすると、折り曲げ耐性が悪化するという問題があり、衝撃耐性と折り曲げ耐性の両立が困難であった。
　ガラス強度を向上させる技術として、コーニング社の“ゴリラガラス（登録商標）”に代表される強化ガラス基板が知られている。これは、ガラス基板を薬液などで処理することによりガラスの両面に圧縮応力層を設けて、通常のガラスに比べてガラス強度を高める技術である。
　ガラス強度を向上させる別の技術として、ガラス基板に膜を形成する技術が知られている。例えば、表面にマイクロクラックが存在するガラス基板と、ガラス基板上に配置された樹脂層とを備える複合体であって、マイクロクラック内部の少なくとも一部に前記樹脂層の樹脂が入り込んでいる複合体（例えば、特許文献１参照）、多官能エポキシ（メタ）アクリレート化合物、多官能チオール化合物、及びラジカル重合開始剤を含有する組成物を用いて作製されるガラス保護膜（例えば、特許文献２参照）、強化ガラス基板の少なくとも片面に、シロキサン樹脂およびシリカ粒子を含有する硬化膜を有するガラス強化基板（例えば、特許文献３参照）、１０μｍから５００μｍの間の厚さを有するガラスフィルムを備え、ガラス－プラスチック複合フィルムにおいて、１μｍから２００μｍの間の厚さを有するポリマー層が、前記ガラスフィルムの各側面のうちの少なくとも一方に直接貼付されているガラス－プラスチック複合フィルム（例えば、特許文献４参照）などが提案されている。
国際公開第２０１５／１９４３２４号 特開２０１６－３１６０号公報 特開２０１９－２１４４９２号公報 特表２００２－５４２９７１号公報
　強化ガラス基板や特許文献１～４に記載の技術により、ガラス強度を向上させることができるものの、タッチパネルの実装などにより、フォルダブルデバイスの衝撃耐性と折り曲げ耐性の両立に関する要求が高まっており、課題となっていた。
　本発明は、かかる従来技術の課題に鑑み、衝撃耐性が高く、折り曲げ耐性が良好で、高い透明性を有する樹脂被覆超薄板ガラスを提供することを目的とする。
　本発明者らは、従来技術の課題を解決するために鋭意検討した結果、以下の構成が極めて有効であることを見出し、本発明を完成した。
　すなわち本発明は、厚みが１０μｍ以上１００μｍ以下の超薄板ガラス（Ａ）の片側面に有機膜（Ｂ）が、他方の面に有機膜（Ｃ）が形成された３層からなる樹脂被覆超薄板ガラスであって、前記有機膜（Ｂ）が重量平均分子量１０００～７００００である熱可塑性樹脂（Ｄ）を含有する組成物から形成されており、前記有機膜（Ｃ）がシロキサン樹脂（Ｅ）を含有する組成物から形成されている、樹脂被覆超薄板ガラスである。
　本発明によれば、衝撃耐性が高く、折り曲げ耐性が良好で、高い透明性を有する樹脂被覆超薄板ガラスを提供することができる。
　本発明を更に詳細に説明する。
　超薄板ガラス（Ａ）
　本発明における超薄板ガラス（Ａ）は、厚み１０μｍ以上１００μｍ以下であることが必要である。樹脂被覆超薄板ガラスの衝撃耐性の観点から、１０μｍ以上が必要であり、２０μｍ以上が好ましく、３０μｍ以上がより好ましい。樹脂被覆超薄板ガラスの折り曲げ耐性の観点から、１００μｍ以下が必要であり、８０μｍ以下がより好ましい。
　本発明における超薄板ガラス（Ａ）は、特に限定はされず、例えば、アルミノシリケートガラス、ソーダガラス、無アルカリガラスなどが挙げられるが、樹脂被覆超薄板ガラスの折り曲げ耐性の観点から、強化ガラスであることが好ましい。
　ここでいう強化ガラスとは、強化処理されたガラス基板を指し、ガラス表面に圧縮応力層を有することが好ましい。
　圧縮応力層の形成方法としては、例えば、加熱と冷却によるガラスの膨張と収縮を利用する物理強化法、ガラス中のアルカリイオンをよりイオン半径の大きな他のアルカリイオンと交換する化学強化法などが知られている。これらの方法はいずれも公知であり、任意の方法を選択することができる。タッチパネルのカバーガラスなどの薄い強化ガラス基板の場合、化学強化法により強化処理されたガラス、いわゆる化学強化ガラスが好ましい。
　化学強化ガラスの中でも、アルミノシリケート化学強化ガラス、ソーダライム化学強化ガラスなどがより好ましい。
　非強化の超薄板ガラス（Ａ）としては、例えば、“ＡＦ３２（登録商標）”ｅｃｏシリーズ（Ｓｃｈｏｔｔ社製）、“Ｃｏｒｎｉｎｇ（登録商標）”、“Ｗｉｌｌｏｗ（登録商標）”Ｇｌａｓｓシリーズ（ＣＯＲＮＩＮＧ社製）、“Ｇ－Ｌｅａｆ（登録商標）”シリーズ（日本電気硝子（株）製）、“ＳＰＯＯＬ（登録商標）”シリーズ（ＡＧＣ（株）製）などが挙げられる。
　化学強化された超薄板ガラス（Ａ）としては、例えば、“Ｘｅｎｓａｔｉｏｎ（登録商標）”シリーズ（Ｓｃｈｏｔｔ社製）、“Ｃｏｒｎｉｎｇ（登録商標）”、“Ｇｏｒｉｌｌａ（登録商標）”Ｇｌａｓｓシリーズ（ＣＯＲＮＩＮＧ社製）、“Ｄｉｎｏｒｅｘ（登録商標）”シリーズ（日本電気硝子（株）製）、“Ｄｒａｇｏｎｔｒａｉｌ（登録商標）”（ＡＧＣ（株）製）シリーズなどが挙げられる。
　有機膜（Ｂ）
　本発明は、超薄板ガラス（Ａ）の片面側に重量平均分子量１０００～７００００である熱可塑性樹脂（Ｄ）を含有する組成物から形成された有機膜（Ｂ）を有する。
　有機膜（Ｂ）として好適な樹脂組成物について、以下に説明する。有機膜（Ｂ）は緩衝膜（ｂ）であることが好ましい。緩衝膜（ｂ）とは、樹脂被覆超薄板ガラスに対する外部からの衝撃を和らげて衝撃耐性を向上させる有機膜である。
　有機膜（Ｂ）の膜厚は１０μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましい。本発明の樹脂被覆超薄板ガラスの衝撃耐性をより向上させる観点から、１０μｍ以上であることが好ましく、１５μｍ以上であることがより好ましく、３０μｍ以上であることがさらに好ましい。本発明の樹脂被覆超薄板ガラスの折り曲げ耐性をより向上させる観点から、１００μｍ以下であることが好ましく、７０μｍ以下であることがより好ましく、５０μｍ以下であることがさらに好ましい。
　本発明における有機膜（Ｂ）は、ディスプレイの色再現性と透明性の観点から、ＣＩＥ標準のＤ６５光源からの透過光のＪＩＳＫ７３７３：２００６に規定された黄色度（ＹＩ）が|ＹＩ|＜２０であることが好ましく、|ＹＩ|＜５であることがより好ましく、|ＹＩ|＜２であることがさらに好ましい。
　有機膜（Ｂ）の超薄板ガラス（Ａ）側でない面には、ハードコート層が積層されていることが好ましい。ハードコート層の膜厚は１μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましい。本発明の樹脂被覆超薄板ガラスの表面硬度と衝撃耐性をより向上させる観点から、１μｍ以上が好ましく、５μｍ以上がより好ましい。ここでいう、表面硬度とはＪＩＳ　Ｋ５６００－５－４（１９９９）による鉛筆硬度試験（荷重７５０ｇ）において求めた硬度を指す。樹脂被覆超薄板ガラスの折り曲げ耐性をより向上させる観点から、２０μｍ以下が好ましく、１５μｍ以下がより好ましい。
　ハードコート層は、熱硬化性樹脂やラジカル重合性基を有する樹脂などで形成することができるが、紫外線硬化できることから、ラジカル重合性基を有する樹脂を含有することが、生産性の観点から好ましい。ラジカル重合性基としては、ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基などが好ましい。ラジカル重合性基を有する樹脂としては、ラジカル重合性基を有するモノマー、またラジカル重合性基を有する高分子重合体などが挙げられる。ハードコート層は、ラジカル重合性基を有する樹脂を１種単独、又は２種以上混合して同時に用いてもよい。さらに、これらのラジカル重合性基を有する樹脂には、光ラジカル開始剤、光増感剤、界面活性剤、熱硬化性樹脂、金属酸化物、溶媒やアクリル成分などから成る微粒子や超微粒子などの第三成分を１種又は２種以上を添加して用いることができる。
　本発明における有機膜（Ｂ）として好適な樹脂組成物としては、熱可塑性樹脂（Ｄ）を必須成分とし、塗布性の観点から溶媒を含有することが好ましい。
　熱可塑性樹脂（Ｄ）
　本発明における熱可塑性樹脂（Ｄ）は、重量平均分子量が１０００～７００００であることが必要である。本発明の樹脂被覆超薄板ガラスの衝撃耐性の観点から、重量平均分子量が１０００以上であることが必要であり、５０００以上がより好ましく、１００００以上がさらに好ましい。一方、本発明の有機膜（Ｂ）の折り曲げ耐性の観点から、重量平均分子量が７００００以下であることが必要であり、３５０００以下であることがより好ましく、２５０００以下であることがさらに好ましい。ここで、重量平均分子量とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより求めた標準ポリスチレン換算値を指す。
　本発明における熱可塑性樹脂（Ｄ）のガラス転移温度（Ｔｇ）は４０℃～１１０℃が好ましい。樹脂被覆超薄板ガラスの衝撃耐性をより向上させる観点から、４０℃以上が好ましく、５０℃以上がより好ましく、６０℃以上がさらに好ましい。樹脂被覆超薄板ガラスの衝撃耐性をより向上させる観点から、１１０℃以下が好ましく、１００℃以下がより好ましく、７５℃以下がさらに好ましい。ここでガラス転移温度（Ｔｇ）とは、示差走査熱量分析（ＤＳＣ）によって測定したガラス転移温度のことを示す。
　本発明における熱可塑性樹脂（Ｄ）としては、ポリエステル樹脂、（メタ）アクリル酸エステル樹脂、ポリエステルウレタン樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、セルロース樹脂、ポリオレフィン樹脂、エポキシ樹脂、塩化ビニル－酢酸ビニル共重合樹脂などが好ましく挙げられる。これらの中でも、本発明の樹脂被覆超薄板ガラスの衝撃耐性と透明性の観点から、ポリエステル樹脂、（メタ）アクリル酸エステル樹脂が好ましい。これらは、単独又は２種以上を混合して用いることができる。
　前記ポリエステル樹脂としては、例えば、“バイロン（登録商標）”２００（重量平均分子量：１７０００、Ｔｇ：６７℃）、“バイロン”２２０（重量平均分子量：３０００、Ｔｇ：５３℃）、“バイロン”２２６（重量平均分子量：８０００、Ｔｇ：６５℃）、“バイロン”２４０（重量平均分子量１５０００：、Ｔｇ：６０℃）、“バイロン”２７０（重量平均分子量２３０００：、Ｔｇ：６７℃）、“バイロン”２９０（重量平均分子量：２２０００、Ｔｇ：７２℃）、“バイロン”６６０（重量平均分子量：８０００、Ｔｇ：５５℃）、“バイロン”８０２（重量平均分子量：３０００、Ｔｇ：６０℃）、“バイロン”８８２（重量平均分子量：１５０００、Ｔｇ：６８℃）、“バイロン”８８５（重量平均分子量：８０００、Ｔｇ：７９℃）、“バイロン”ＧＫ－２５０（重量平均分子量：１００００、Ｔｇ：６０℃）、“バイロン”ＧＫ－３６０（重量平均分子量：１６０００、Ｔｇ：５６℃）、“バイロン”ＧＫ－８８０（重量平均分子量：１８０００、Ｔｇ：８４℃）、“バイロン”１０３（重量平均分子量：２３０００、Ｔｇ：４７℃）、“バイロン”６００（重量平均分子量：１６０００、Ｔｇ：４７℃）、“バイロン”ＧＫ－８００（重量平均分子量：２７０００、Ｔｇ：５０℃）、“バイロン”ＧＫ－８１０（重量平均分子量：６０００、Ｔｇ：４６℃）（以上、商品名、東洋紡（株）製）などが挙げられる。前記（メタ）アクリル酸エステル樹脂としては、例えば、“ハイパール（登録商標）”Ｍ－４００６（重量平均分子量：３５０００、Ｔｇ：１０５℃）などが挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。
　本発明において、有機膜（Ｂ）は熱硬化性樹脂を含有することが好ましい。
　本発明において、有機膜（Ｂ）は、重量平均分子量１０００～７００００である熱可塑性樹脂（Ｄ）を含有する組成物から形成されており、その熱可塑性樹脂（Ｄ）を含有する組成物は、表面硬度をより向上させる観点から熱硬化性樹脂を含有することが好ましい。
　熱硬化性樹脂としては、（メタ）アクレート系化合物、エポキシ系化合物、メラミン系化合物などが挙げられるが、経時安定性の観点から（メタ）アクリレート系化合物が好ましい。（メタ）アクレート系化合物としては、有機膜（Ｂ）の折り曲げ耐性と表面硬度を両立させる観点から、ウレタン（メタ）アクリレート化合物が好ましい。
　ウレタン（メタ）アクリレート化合物の含有量は、有機膜（Ｂ）の全固形分中５～３５重量％含有することが好ましい。有機膜（Ｂ）の表面硬度と衝撃耐性をより向上させる観点から、５重量％以上好ましい。有機膜（Ｂ）の折り曲げ耐性と黄色度をより向上させる観点から、３５重量％以下が好ましく、２５重量％以下がより好ましく、１５重量％以下がさらに好ましい。ここで、全固形分とは、有機膜（Ｂ）における、溶媒以外の全成分をいう。本発明のウレタン（メタ）アクリレートの二重結合当量は１００～６００ｇ／ｍｏｌであることが好ましい。有機膜（Ｂ）の折り曲げ耐性をより向上させる観点から、１００ｇ／ｍｏｌ以上であることが好ましい。樹脂被覆超薄板ガラスの表面硬度をより向上させる観点から、６００ｇ／ｍｏｌ以下が好ましく、２５０ｇ／ｍｏｌ以下がより好ましく、１５０ｇ／ｍｏｌ以下がさらに好ましい。
　熱可塑性樹脂（Ｄ）を含有する組成物は、塗布性の観点から溶媒を含有することが好ましい。溶媒としては、エステル系溶媒、エーテル系溶媒、アセテート系溶媒、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、ラクトン系溶媒などが挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。また、キシレン、エチルベンゼン、ソルベントナフサなどの溶媒を併用してもよい。
　エステル系溶媒としては、例えば、ベンジルアセテート、エチルベンゾエート、γ－ブチロラクトン、メチルベンゾエート、マロン酸ジエチル、２－エチルヘキシルアセテート、２－ブトキシエチルアセテート、３－メトキシ－３－メチル－ブチルアセテート、シュウ酸ジエチル、アセト酢酸エチル、３－メトキシ－ブチルアセテート、アセト酢酸メチル、エチル－３－エトキシプロピオネート、２－エチルブチルアセテート、イソペンチルプロピオネート、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、酢酸ペンチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソペンチルなどが挙げられる。これらの中でも、３－メトキシ－３－メチル－ブチルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどの酢酸エステル系溶媒、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネートなどのプロピオン酸エステル系溶媒が好ましく、３－メトキシ－ブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートがより好ましい。
　エーテル系溶媒としては、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールターシャリーブチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルなどが挙げられる。
　アルコール系溶媒としては、例えば、ブタノール、３－メチル－２－ブタノール、３－メチル－３－メトキシブタノールなどが挙げられる。
　ケトン系溶媒としては、例えば、シクロペンタノン、シクロヘキサノンが挙げられる。
　ラクトン系溶媒としては、例えば、γ－ブチロラクトン、γ－バレロラクトン、δ－バレロラクトンなどが挙げられる。
　熱可塑性樹脂（Ｄ）を含有する組成物は、その他の添加剤を含有しても構わない。その他の添加剤としては、例えば、密着改良剤、界面活性剤、重合禁止剤、酸化防止剤などが挙げられる。
　密着改良剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２－メトキシエトキシ）シラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３－クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３－クロロプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤などが挙げられる。
　界面活性剤としては、例えば、フッ素系界面活性剤；シリコーン系界面活性剤；含フッ素熱分解性界面活性剤；ポリエーテル変性シロキサン系界面活性剤；ポリアルキレンオキシド系界面活性剤；ポリ（メタ）アクリレート系界面活性剤；ラウリル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸トリエタノールアミンなどの陰イオン界面活性剤；ステアリルアミンアセテート、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライドなどの陽イオン界面活性剤；ラウリルジメチルアミンオキサイド、ラウリルカルボキシメチルヒドロキシエチルイミダゾリウムベタインなどの両性界面活性剤；ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ソルビタンモノステアレートなどの非イオン界面活性剤などが挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。
　これらの中でも、はじき等の塗布性不良を抑制するとともに、表面張力を低減し塗膜乾燥時のムラを抑制する観点から、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、含フッ素熱分解性界面活性剤、ポリエーテル変性シロキサン系界面活性剤が好ましく、含フッ
素熱分解性界面活性剤がより好ましい。
　フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、“メガファック（登録商標）”Ｆ１４２Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１８３、同Ｆ４４５、同Ｆ４７０、同Ｆ４７５、同Ｆ４７７（以上、ＤＩＣ（株）製）、ＮＢＸ－１５、ＦＴＸ－２１８（（株）ネオス製）などが挙げられる。シリコーン系界面活性剤の市販品としては、例えば、“ＢＹＫ（登録商標）”－３３３、ＢＹＫ－３０１、ＢＹＫ－３３１、ＢＹＫ－３４５、ＢＹＫ－３０７（ビックケミー・ジャパン（株）製）などが挙げられる。含フッ素熱分解性界面活性剤の市販品としては、例えば、“メガファック（登録商標）”ＤＳ－２１（ＤＩＣ（株）製）などが挙げられる。ポリエーテル変性シロキサン系界面活性剤の市販品としては、例えば、“ＢＹＫ（登録商標）”－３４５、ＢＹＫ－３４６、ＢＹＫ－３４７、ＢＹＫ－３４８、ＢＹＫ－３４９（以上、ビックケミー・ジャパン（株）製）、“シルフェイス（登録商標）”ＳＡＧ００２、同ＳＡＧ００５、同ＳＡＧ０５０３Ａ、同ＳＡＧ００８（以上、日信化学工業（株）製）などが挙げられる。
　重合禁止剤としては、例えば、ヒドロキノン系またはカテコール系の重合禁止剤が挙げられる。ヒドロキノン系重合禁止剤としては、例えば、ヒドロキノン、ｔｅｒｔ－ブチルヒドロキノン、２，５－ビス（１，１，３，３－テトラメチルブチル）ヒドロキノン、２，５－ビス（１，１－ジメチルブチル）ヒドロキノンなどが挙げられる。カテコール系重合禁止剤としては、例えば、カテコール、ｔｅｒｔ－ブチルカテコールなどが挙げられる。
　酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤などが挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。
　次に、熱可塑性樹脂（Ｄ）を含有する組成物の製造方法について、以下に説明する。
　熱可塑性樹脂（Ｄ）を含有する組成物の製造方法としては、熱可塑性樹脂（Ｄ）を溶剤に加温攪拌して熱可塑性樹脂（Ｄ）の溶解液を作製する。熱可塑性樹脂（Ｄ）の溶解液に、必要に応じて溶媒、熱硬化性樹脂、密着改良剤、界面活性剤、重合禁止剤、酸化防止剤などその他原料を所定量混合し、攪拌する方法が一般的である。
　有機膜（Ｃ）
　本発明における超薄板ガラス（Ａ）の有機膜（Ｂ）が形成されていない側には、シロキサン樹脂（Ｅ）を含有する組成物から形成されている有機膜（Ｃ）を有する。
　本発明における有機膜（Ｃ）として好適な樹脂組成物について、以下に説明する。有機膜（Ｃ）は強化膜（ｃ）であることが好ましい。強化膜（ｃ）とは樹脂被覆超薄板ガラスの折り曲げ部のひび割れを防止し、樹脂被覆超薄板ガラスの折り曲げ耐性を向上させる有機膜である。
　本発明における有機膜（Ｃ）はシロキサン樹脂（Ｅ）を含有する組成物の硬化膜であることが好ましい。本発明における有機膜（Ｃ）が「硬化膜」であるとは、組成物中のシロキサン樹脂が、シラノール基の縮合反応（熱架橋）やラジカル重合性基のラジカル付加反応（光架橋）により架橋したものを指す。なお、硬化膜をＩＲ分析することにより、シラノール基や二重結合のピークの有無大小から、架橋しているか否かを判断することができる。
　有機膜（Ｃ）の膜厚は、１μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましい。樹脂被覆超薄板ガラスのガラス強度をより向上させる観点から、１μｍ以上が好ましく、２μｍ以上がより好ましく、３μｍ以上がさらに好ましい。樹脂被覆超薄板ガラスの折り曲げ耐性をより向上させる観点から、２０μｍ以下が好ましく、１５μｍ以下が好ましく、１０μｍ以下がさらに好ましい。
　有機膜（Ｃ）の超薄板ガラス（Ａ）側でない面には透明粘着層が積層されていることが好ましい。透明粘着層としては、ＯＣＲ(Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ　Ｃｌｅａｒ　Ｒｅｓｉｎ)、ＯＣＡ（Ｏｐｔｉｃａｌ　Ｃｌｅａｒ　Ａｄｈｅｓｉｖｅ）またはＬＯＣＡ(Ｌｉｑｕｉｄ　Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ　Ｃｌｅａｒ　Ａｄｈｅｓｉｖｅｓ)等が挙げられる。透明粘着層の厚みは１０μｍ以上２００μｍ以下であることが好ましい。粘着力をより向上させる観点から、１０μｍ以上が好ましく、１５μｍ以上がより好ましく、２０μｍ以上がさらに好ましい。樹脂被覆超薄板ガラスの折り曲げ耐性をより向上させる観点から、２００μｍ以下が好ましく、１００μｍ以下がより好ましく、３０μｍ以下がさらに好ましい。
　透明粘着層の全光線透過率は９０％以上であることが好ましい。ディスプレイの輝度をより向上させる観点から、９０％以上が好ましく、９５％以上がより好ましく、９８％以上がさらに好ましい。ここでいう、全光線透過率とはＪＩＳ　Ｋ７３６１－１に準じて測定した値を指す。
　透明粘着層のヘイズ値は１０％以下であることが好ましい。ディスプレイの透明性をより向上させる観点から、１０％以下が好ましく、５％以下がより好ましく、３％以下がさらに好ましい。ここでいう、ヘイズ値はＪＩＳ　Ｋ７１３６に準じて測定した値を指す。
　透明粘着層の２５℃における貯蔵弾性率は０．０５ＭＰａ以上１．５Ｍｐａ以下であることが好ましい。樹脂被覆超薄板ガラスの衝撃耐性をより向上させる観点から、０．０５Ｍｐａ以上が好ましく、０．１０Ｍｐａ以上がより好ましく、０．１５Ｍｐａ以上がさらに好ましい。粘着力をより向上させる観点から、１．５Ｍｐａ以下が好ましく、１．０Ｍｐａ以下がより好ましく、０．５Ｍｐａ以下がさらに好ましい。
　透明粘着層を構成する樹脂としては、（メタ）アクリル樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられるが、可視光域における透明性や安定性の観点から（メタ）アクリル樹脂が好ましい。透明粘着層は、樹脂を１種単独、又は２種以上混合して同時に用いてもよい。さらにこれらの樹脂には、モノマー、架橋剤、溶媒、シランカップリング剤、帯電防止剤、粘着付与剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、レベリング剤などの第三成分を１種又は２種以上を添加して用いることができる。
　シロキサン樹脂（Ｅ）
　本発明における有機膜（Ｃ）として好適な樹脂組成物としては、シロキサン樹脂（Ｅ）を必須成分とし、塗布性の観点から溶媒を含有することが好ましい。
　本発明におけるシロキサン樹脂（Ｅ）とは、シロキサン骨格を有する繰り返し単位を有するポリマーを言い、オルガノシラン化合物の加水分解縮合物が好ましい。ただし、シロキサン樹脂（Ｅ）がオキセタニル基を有する場合は、後述する「オキセタニル基を有するシロキサン化合物」に分類するものとする。
　本発明におけるシロキサン樹脂（Ｅ）の重量平均分子量は、塗布性を向上させる観点から、２，０００～７，０００が好ましい。
　本発明におけるシロキサン樹脂（Ｅ）のフェニル基の含有率はＳｉ原子に対して５～６０モル％であることが好ましい。膜ストレスを緩和し、樹脂被覆超薄板ガラスの折り曲げ耐性をより向上させる観点から、シロキサン樹脂（Ｅ）中のフェニル基の含有率がＳｉ原子に対して５モル％以上であることが好ましい。有機膜（Ｃ）の架橋度を高め、樹脂被覆超薄板ガラスの折り曲げ耐性をより向上させることができる観点から、６０モル％以下であることが好ましい。　
　本発明におけるシロキサン樹脂（Ｅ）は、ラジカル重合性基を有することが好ましい。後述する光ラジカル重合開始剤とともにラジカル重合性基を有することにより、光照射により発生するラジカルによるラジカル重合反応の進行により、本発明における有機膜（Ｃ）の架橋度を高め、樹脂被覆超薄板ガラスの折り曲げ耐性をより向上させることができる。
　ラジカル重合性基としては、例えば、ビニル基、α－メチルビニル基、アリル基、スチリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。本発明における有機膜（Ｃ）の架橋度をより高める観点から、（メタ）アクリロイル基が好ましい。ラジカル重合性基を有するシロキサン樹脂としては、ラジカル重合性基を有するオルガノシラン化合物の加水分解縮合物が好ましい。ラジカル重合性基を有するオルガノシラン化合物と、その他のオルガノシラン化合物との加水分解縮合物でもよい。ラジカル重合性基を有するオルガノシラン化合物としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリ（２－メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、アリルメチルジメトキシシラン、アリルメチルジエトキシシラン、ｐ－スチリルトリメトキシシラン、ｐ－スチリルトリエトキシシラン、ｐ－スチリルメチルジメトキシシラン、ｐ－スチリルメチルジエトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３－アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシランなどが挙げられる。これらを２種以上用いてもよい。これらのうち、有機膜（Ｃ）の架橋度をより高めて、樹脂被覆超薄板ガラスの折り曲げ耐性をより向上させる観点から、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリエトキシシランが好ましい。
　その他のオルガノシラン化合物としては、例えば、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチルトリフェノキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ｎ－プロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、ジイソプロピルジメトキシシラン、ｎ－ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ジイソブチルジメトキシシラン、ｎ－ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ－ヘキシルトリエトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリエトキシシラン、ｎ－オクチルトリメトキシシラン、ｎ－オクチルトリエトキシシラン、ｎ－デシルトリメトキシシラン、ｎ－デシルトリエトキシシラン、トリフルオロメチルトリメトキシシラン、トリフルオロメチルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－トリエトキシシリル－Ｎ－（１，３－ジメチル－ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ－（１，３－ジメチルブチリデン）－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３－メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３－ウレイドプロピルトリメトキシシラン、３－ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３－イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、３－イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、トリス（トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート、ビス（３－（トリエトキシシリル）プロピル）ジスルフィド、ビス（３－（トリエトキシシリル）プロピル）テトラスルフィド、３－トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物、３－トリエトキシシリルプロピルコハク酸無水物などが挙げられる。これらを２種以上用いてもよい。
　本発明におけるシロキサン樹脂（Ｅ）は、オルガノシラン化合物を加水分解縮合することにより得ることができる。例えば、オルガノシラン化合物を加水分解した後、得られるシラノール化合物を溶媒の存在下または無溶媒で縮合反応させることによって得ることができる。
　加水分解反応の各種条件は、反応スケール、反応容器の大きさ、形状などを考慮して適宜設定することができる。例えば、溶媒中、オルガノシラン化合物に酸触媒および水を１～１８０分間かけて添加した後、室温～１１０℃で１～１８０分間反応させることが好ましい。このような条件で加水分解反応を行うことにより、急激な反応を抑制することができる。反応温度は、より好ましくは３０～１０５℃である。
　加水分解反応は、酸触媒の存在下で行うことが好ましい。酸触媒としては、蟻酸、酢酸、リン酸を含む酸性水溶液が好ましい。酸触媒の添加量は、加水分解反応時に使用される全オルガノシラン化合物１００重量部に対して、０．１～５重量部が好ましい。酸触媒の量を上記範囲とすることにより、加水分解反応をより効率的に進めることができる。
　オルガノシラン化合物の加水分解反応によりシラノール化合物を得た後、反応液をそのまま５０℃以上、溶媒の沸点以下で１～１００時間加熱し、縮合反応を行うことが好ましい。また、ポリシロキサンの重合度を上げるために、再加熱または塩基触媒添加を行ってもよい。オルガノシラン化合物の加水分解反応およびシラノール化合物の縮合反応に用いられる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、ｔ－ブタノール、ペンタノール、４－メチル－２－ペンタノール、３－メチル－２－ブタノール、３－メトキシ－１－ブタノール、３－メチル－３－メトキシ－１－ブタノール、１－ｔ－ブトキシ－２－プロパノール、ダイアセトンアルコールなどのアルコール類；エチレングリコール、プロピレングリコールなどのグリコール類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチルエーテルなどのエーテル類；メチルエチルケトン、アセチルアセトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、２－ヘプタノンなどのケトン類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類；エチルアセテート、プロピルアセテート、ブチルアセテート、イソブチルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシブチルアセテート、３－メチル－３－メトキシブチルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチルなどのアセテート類；トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサンなどの芳香族あるいは脂肪族炭化水素、γ－ブチロラクトン、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、ジメチルスルホキシドなどを挙げることができる。有機膜（Ｃ）の透過率、耐クラック性などをより向上させる観点から、ダイアセトンアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノｔ－ブチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、γ－ブチロラクトンなどが好ましく用いられる。
　加水分解反応によって溶媒が生成する場合には、無溶媒で加水分解させることも可能である。反応終了後に、さらに溶媒を添加することにより、組成物として適切な濃度に調整することも好ましい。また、目的に応じて加水分解後に、生成アルコールなどを加熱および／または減圧下にて適量を留出、除去し、その後好適な溶媒を添加してもよい。
　加水分解反応において使用する溶媒の量は、全オルガノシラン化合物１００重量部に対して８０～５００重量部が好ましい。溶媒の量を上記範囲とすることにより、加水分解反応をより効率的に進めることができる。
　また、加水分解反応に用いる水は、イオン交換水が好ましい。水の量は、シラン原子１モルに対して、１．０～４．０モルが好ましい。
　シロキサン樹脂（Ｅ）を含有する組成物中におけるシロキサン樹脂（Ｅ）の含有量は、樹脂被覆超薄板ガラスの折り曲げ耐性と透明性をより向上させる観点から、全固形分中１５重量％以上が好ましく、２５重量％以上がより好ましい。一方、有機膜（Ｃ）の屈曲性をより向上させる観点から、シロキサン樹脂の含有量は、全固形分中９０重量％以下が好ましく、８０重量％以下がより好ましい。
　シロキサン樹脂（Ｅ）を含有する組成物は、塗布性の観点から、溶媒を含有することが好ましい。溶媒を含有することにより、各成分を均一に溶解することができる。溶媒としては、例えば、脂肪族炭化水素、カルボン酸エステル、ケトン、エーテル、アルコール類などが挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。各成分を均一に溶解し、得られる塗布膜の透明性を向上させる観点から、アルコール性水酸基を有する化合物、カルボニル基を有する環状化合物が好ましい。
　アルコール性水酸基を有する化合物としては、例えば、アセトール、３－ヒドロキシ－３－メチル－２－ブタノン、４－ヒドロキシ－３－メチル－２－ブタノン、５－ヒドロキシ－２－ペンタノン、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン（ダイアセトンアルコール）、乳酸エチル、乳酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノｎ－プロピルエーテル、プロピレングリコールモノｎ－ブチルエーテル、プロピレングリコールモノｔ－ブチルエーテル、３－メトキシ－１－ブタノール、３－メチル－３－メトキシ－１－ブタノールなどが挙げられる。これらの中でも、保存安定性の観点から、ダイアセトンアルコール、３－メチル－３－メトキシ－１－ブタノールが好ましい。
　カルボニル基を有する環状化合物の具体例としては、γ－ブチロラクトン、γ－バレロラクトン、δ－バレロラクトン、炭酸プロピレン、Ｎ－メチルピロリドン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノンなどが挙げられる。これらの中でも、γ－ブチロラクトンが特に好ましく用いられる。
　脂肪族炭化水素としては、例えば、キシレン、エチルベンゼン、ソルベントナフサなどが挙げられる。
　カルボン酸エステルとしては、例えば、ベンジルアセテート、エチルベンゾエート、γ－ブチロラクトン、メチルベンゾエート、マロン酸ジエチル、２－エチルヘキシルアセテート、２－ブトキシエチルアセテート、３－メトキシ－３－メチル－ブチルアセテート、シュウ酸ジエチル、アセト酢酸エチル、シクロヘキシルアセテート、３－メトキシ－ブチルアセテート、アセト酢酸メチル、エチル－３－エトキシプロピオネート、２－エチルブチルアセテート、イソペンチルプロピオネート、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソペンチル、酢酸ペンチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどが挙げられる。
　ケトンとしては、例えば、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどが挙げられる。
　エーテルとしては、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールターシャリーブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのプロピレングリコール誘導体などの脂肪族エーテル類などが挙げられる。
　シロキサン樹脂（Ｅ）を含有する組成物を超薄板ガラス（Ａ）に塗布する際の揮発性および乾燥特性を適度に調整し、塗布性を向上させる観点から、大気圧下における沸点が１５０℃以上２５０℃以下の溶媒と、大気圧下における沸点が１５０℃未満の溶媒を含有することが好ましい。大気圧下における沸点が１５０℃以上２５０℃以下の溶媒の沸点は、１５０℃以上２００℃以下がより好ましい。
　大気圧下における沸点が１５０℃以上２５０℃以下の溶媒としては、例えば、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン（ダイアセトンアルコール）、乳酸エチル、乳酸ブチル、プロピレングリコールモノｔ－ブチルエーテル、３－メトキシ－１－ブタノール、３－メチル－３－メトキシ－１－ブタノール、ベンジルアセテート、エチルベンゾエート、メチルベンゾエート、マロン酸ジエチル、２－エチルヘキシルアセテート、２－ブトキシエチルアセテート、３－メトキシ－３－メチル－ブチルアセテート、シュウ酸ジエチル、アセト酢酸エチル、シクロヘキシルアセテート、３－メトキシ－ブチルアセテート、アセト酢酸メチル、エチル－３－エトキシプロピオネート、イソペンチルプロピオネート、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、γ－ブチロラクトン、γ－バレロラクトン、δ－バレロラクトン、炭酸プロピレン、Ｎ－メチルピロリドン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノンなどが挙げられる。これらの中でも、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン（ダイアセトンアルコール）、３－メチル－３－メトキシ－１－ブタノール、３－メトキシ－３－メチル－ブチルアセテート、３－メトキシ－ブチルアセテート、γ－ブチロラクトンが特に好ましく用いられる。
　大気圧下における沸点が１５０℃未満の溶媒としては、例えば、メチルアセテート、エチルアセテート、イソプロピルアセテート、ｎ－プロピルアセテート、ブチルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールメチルエーテル、ブタノール、イソブタノール、ｎ－プロピルアルコール、酢酸エチルなどが挙げられる。これらの中でも、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルが特に好ましく用いられる。
　シロキサン樹脂（Ｅ）を含有する組成物は、シリカ粒子を含有することが好ましく、さらに他の成分を含有してもよい。シロキサン樹脂（Ｅ）を含有する組成物は、シリカ粒子を含有することにより、樹脂被覆超薄板ガラスの折り曲げ耐性と透明性を高いレベルで両立することができる。シロキサン樹脂を含有する組成物は、シリカ粒子の含有率が、全固形中１０重量％以上４０重量％以下であることが好ましい。ここで、全固形分とは、シロキサン樹脂（Ｅ）を含有する組成物中における、溶媒以外の全成分をいう。シリカ粒子の含有率を全固形分中１０重量％以上とすることにより、シロキサン樹脂（Ｅ）とシリカ粒子とのシラノール縮合反応により架橋を促進し、本発明における有機膜（Ｃ）の架橋度を高め、樹脂被覆超薄板ガラスの折り曲げ耐性をより向上させることができる。また、超薄板ガラス（Ａ）と有機膜（Ｃ）との屈折率差を低減し、有機膜（Ｃ）の膜厚バラツキに起因するムラを軽減することができる。シリカ粒子の含有率を全固形分中４０重量％以下とすることにより、折り曲げ耐性と密着性が良好な有機膜（Ｃ）を得ることができる。
　シリカ粒子の平均粒子径は、本発明における有機膜（Ｃ）の透明性をより向上させる観点から、１～２００ｎｍが好ましく、１～７０ｎｍがより好ましい。ここで、シリカ粒子の平均粒子径は、動的光散乱法によって求めることができる。具体的には、シリカ粒子濃度１０～３０重量％の分散液に対して、半導体レーザーにより波長７８０ｎｍの光を照射し、散乱光を測定した後、ＦＦＴ－ヘテロダイン法によって周波数解析することにより、平均粒子径を求めることができる。
　シリカ粒子としては、例えば、ｓｉｃａｓｔａｒ（コアフロント（株）製）、“レオロシール（登録商標）”（（株）トクヤマ製）などが挙げられる。これらを、ビーズミル等の分散機を用いて粉砕または分散させて用いてもよい。シリカ粒子の分散液としては、例えば、ＩＰＡ－ＳＴ、ＭＩＢＫ－ＳＴ、ＩＰＡ－ＳＴ－Ｌ、ＩＰＡ－ＳＴ－ＺＬ、ＰＧＭ－ＳＴ、ＰＭＡ－ＳＴ（いずれも日産化学工業（株）製）、“オスカル（登録商標）”１０１、“オスカル”１０５、“オスカル”１０６、“カタロイド（登録商標）”－Ｓ（いずれも日揮触媒化成（株）製）、“クォートロン（登録商標）”ＰＬ－１－ＩＰＡ、ＰＬ－１－ＴＯＬ、ＰＬ－２Ｌ－ＰＧＭＥ、ＰＬ－２Ｌ－ＭＥＫ、ＰＬ－２Ｌ、ＧＰ－２Ｌ（いずれも扶桑化学工業（株）製）などが挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。
　シロキサン樹脂（Ｅ）を含有する組成物は、光ラジカル重合開始剤を含有することが好ましく、ラジカル重合性基を有するシロキサン樹脂（Ｅ）と組み合わせることで、本発明における有機膜（Ｃ）の架橋度を光ラジカル重合反応により高め、樹脂被覆超薄板ガラスの折り曲げ耐性をより向上させることができる。
　この場合、シロキサン樹脂（Ｅ）を含有する組成物中における光ラジカル重合開始剤の含有量は、ラジカル重合性基の反応を十分に進めて樹脂被覆超薄板ガラスの折り曲げ耐性をより向上させる観点から、全固形分中０．５重量％以上が好ましく、１重量％以上がより好ましい。一方、光ラジカル重合開始剤の含有量は、本発明における有機膜（Ｃ）の透明性をより向上させる観点から、全固形分中２０重量％以下が好ましく、１０重量％以下がより好ましい。
　光ラジカル重合開始剤としては、例えば、α－アミノアルキルフェノン系光ラジカル重合開始剤やα－ヒドロキシアルキルフェノン系光ラジカル重合開始剤などのアルキルフェノン系光ラジカル重合開始剤；アシルホスフィンオキサイド系光ラジカル重合開始剤；オキシムエステル系光ラジカル重合開始剤；ベンゾフェノン系光ラジカル重合開始剤；オキサントン系光ラジカル重合開始剤；イミダゾール系光ラジカル重合開始剤；ベンゾチアゾール系光ラジカル重合開始剤；ベンゾオキサゾール系光ラジカル重合開始剤；カルバゾール系光ラジカル重合開始剤；トリアジン系光ラジカル重合開始剤；安息香酸エステル系光ラジカル重合開始剤；リン系光ラジカル重合開始剤；チタネート等の無機系光ラジカル重合開始剤などが挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。
　これらのうち、本発明における有機膜（Ｃ）の架橋度を高めて樹脂被覆超薄板ガラスの折り曲げ耐性をより向上させる観点から、α－アミノアルキルフェノン系光ラジカル重合開始剤、アシルホスフィンオキサイド系光ラジカル重合開始剤、オキシムエステル系光ラジカル重合開始剤、アミノ基を有するベンゾフェノン系光ラジカル重合開始剤、アミノ基を有する安息香酸エステル系光ラジカル重合開始剤が好ましい。
　α－アミノアルキルフェノン系光ラジカル重合開始剤としては、例えば、２－メチル－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルフォリノプロパン－１－オン、２－ジメチルアミノ－２－（４－メチルベンジル）－１－（４－モルフォリン－４－イル－フェニル）－ブタン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタノン－１などが挙げられる。アシルホスフィンオキサイド系光ラジカル重合開始剤としては、例えば、２，４，６－トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－（２，４，４－トリメチルペンチル）－フォスフィンオキサイドなどが挙げられる。オキシムエステル系光ラジカル重合開始剤としては、例えば、１－フェニル－１，２－プロパンジオン－２－（ｏ－エトキシカルボニル）オキシム、１，２－オクタンジオン，１－［４－（フェニルチオ）－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］、１－フェニル－１，２－ブタジオン－２－（ｏ－メトキシカルボニル）オキシム、１，３－ジフェニルプロパントリオン－２－（ｏ－エトキシカルボニル）オキシム、エタノン,１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（０－アセチルオキシム）などが挙げられる。アミノ基を有するベンゾフェノン系光ラジカル重合開始剤としては、例えば、４，４－ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンなどが挙げられる。アミノ基を有する安息香酸エステル系光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチル、２－エチルヘキシル－ｐ－ジメチルアミノベンゾエート、ｐ－ジエチルアミノ安息香酸エチルなどが挙げられる。
　シロキサン樹脂（Ｅ）を含有する組成物は、さらに、ラジカル重合性基を２個以上有する化合物を含有することが好ましい。ラジカル重合性基を２個以上有する化合物を含有することにより、シロキサン樹脂（Ｅ）に含有されるラジカル重合性基とのラジカル重合反応により、本発明における有機膜（Ｃ）の架橋度を高めて樹脂被覆超薄板ガラスの折り曲げ耐性をより向上させることができる。
　ラジカル重合性基としては、シロキサン樹脂が有するラジカル重合性基として例示したものが挙げられる。
　ラジカル重合性基を２個以上有する化合物としては、多官能（メタ）アクリレートが好ましい。多官能（メタ）アクリレートとは、２つ以上の（メタ）アクリレート基を有する化合物をいい、例えば、２，２－［９Ｈ－フルオレン－９，９－ジイルビス（１，４－フェニレン）ビスオキシ］ジエタノールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレートなどの２つの（メタ）アクリレート基を有する化合物；トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌル酸のアクリル酸エステル、グリセリントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールノナ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、ペンタペンタエリスリトールウンデカ（メタ）アクリレート、ペンタペンタエリスリトールドデカ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。
　シロキサン樹脂（Ｅ）を含有する組成物中のラジカル重合性基を２個以上有する化合物の含有量は、有機膜（Ｃ）の架橋度を高めて樹脂被覆超薄板ガラスの折り曲げ耐性をより向上させる観点から、全固形分中５重量％以上が好ましく、１０重量％以上がより好ましい。一方、ラジカル重合性基を２個以上有する化合物の含有量は、有機膜（Ｃ）の屈曲性をより向上させる観点から、全固形分中５０重量％以下が好ましく、３０重量％以下がより好ましい。
　シロキサン樹脂（Ｅ）を含有する組成物は、オキセタニル基を有するシロキサン化合物を含有してもよい。オキセタニル基を有するシロキサン化合物を含有することにより、オキセタン環の開環反応により有機膜（Ｃ）の応力が緩和され、超薄板ガラス（Ａ）と有機膜（Ｃ）との密着性を向上させることができる。
　オキセタニル基を有するシロキサン化合物としては、例えば下記一般式（１）で示される化合物等が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　上記一般式（１）中、Ｒ１～Ｒ４は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基または下記一般式（２）で表される基を表す。ただし、Ｒ１～Ｒ４の少なくとも１つは下記一般式（２）で表される基である。ｗは１～１０の整数を表す。反応性の観点から、アルキル基の炭素数は１～６が好ましく、シクロアルキル基の炭素数は３～６が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
　上記一般式（２）中、Ｒ５～Ｒ９は水素原子、フッ素原子、炭素数１～４のアルキル基、フェニル基または炭素数１～４のパーフルオロアルキル基を表す。ｐは１～６の整数を表す。
　前記一般式（１）で示されるシロキサン化合物は、オキセタニル基を有するアルコキシシラン化合物を、必要に応じてオキセタニル基を有しないアルコキシシラン化合物とともに加水分解することにより得ることができる。
　オキセタニル基を有するアルコキシシラン化合物としては、例えば、（オキセタン－３－イル）メチルトリメトキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルトリエトキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルトリ－ｎ－プロピルオキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルトリ－ｉ－プロピルオキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルトリアセトキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルメチルジメトキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルメチルジエトキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルメチルジ－ｎ－プロピルオキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルメチルジ－ｉ－プロピルオキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルメチルジアセトキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルエチルジメトキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルエチルジエトキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルエチルジ－ｎ－プロピルオキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルエチルジ－ｉ－プロピルオキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルエチルジアセトキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルフェニルジメトキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルフェニルジエトキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルフェニルジ－ｎ－プロピルオキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルフェニルジ－ｉ－プロピルオキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルフェニルジアセトキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルジメトキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルジエトキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルジ－ｎ－プロピルオキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルジ－ｉ－プロピルオキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルジアセトキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルメチルメトキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルメチルエトキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルメチル－ｎ－プロピルオキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルメチル－ｉ－プロピルオキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルメチルアセトキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルエチルメトキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルエチルエトキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルエチル－ｎ－プロピルオキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルエチル－ｉ－プロピルオキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルエチルアセトキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルフェニルメトキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルフェニルエトキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルフェニル－ｎ－プロピルオキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルフェニル－ｉ－プロピルオキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルフェニルアセトキシシラン、トリ（オキセタン－３－イル）メチルメトキシシラン、トリ（オキセタン－３－イル）メチルエトキシシラン、トリ（オキセタン－３－イル）メチル－ｎ－プロピルオキシシラン、トリ（オキセタン－３－イル）メチル－ｉ－プロピルオキシシラン、トリ（オキセタン－３－イル）メチルアセトキシシランなどが挙げられる。これらを２種以上用いてもよい。
　また、オキセタニル基を有しないアルコキシシラン化合物としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メチルフェニルジエトキシシラン、トリメチルシラノール、トリエチルシラノール、トリプロピルシラノール、トリブチルシラノール、トリフェニルシラノール、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリエチルメトキシシラン、トリエチルエトキシシラン、トリプロピルメトキシシラン、トリプロピルエトキシシラン、トリメチルシリルアセテート、トリメチルシリルベンゾエート、トリエチルシリルアセテート、トリエチルシリルベンゾエート、ベンジルジメチルメトキシシラン、ベンジルジメチルエトキシシラン、ジフェニルメトキシメチルシラン、ジフェニルエトキシメチルシラン、アセチルトリフェニルシラン、エトキシトリフェニルシラン、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジメチルジシロキサン、ヘキサプロピルジシロキサン、１，３－ジブチル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン、１，３－ジフェニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン、１，３－ジメチル－１，１，３，３－テトラフェニルジシロキサンなどが挙げられる。これらを２種以上用いてもよい。
　オキセタニル基を有するシロキサン化合物としては、例えば、“アロンオキセタン（登録商標）”ＯＸＴ－１９１（商品名、東亞合成（株）製）（一般式（１）におけるＲ１～Ｒ４が（３－エチル－３－オキセタニル）メチル基、ｗが平均５）や、下記一般式（３）または（６）で示される化合物などが挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
　前記一般式（３）中、Ｒ１０およびＲ１２は水素原子、フッ素原子、炭素数１～６個のアルキル基、炭素数１～６個のフルオロアルキル基、炭素数６～１８のアリール基、フリル基またはチエニル基を表す。Ｒ１１は下記一般式（４）で示される基を表す。ｄは０～３の整数を表す。炭素数１～６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基などが挙げられる。炭素数１～６のフルオロアルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基などが挙げられる。炭素数６～１８のアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　上記一般式（４）中、Ｒ１３、Ｒ１５、Ｒ１６およびＲ１８は、炭素数１～４のアルキル基、炭素数６～１８のアリール基を表し、Ｒ１４およびＲ１７は炭素数１～４のアルキル基、炭素数６～１８のアリール基または下記一般式（５）で表される基を表す。ｕは、０～２００の整数を表す。ｕが２以上の場合、複数のＲ１４およびＲ１７は、同じでも異なってもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
　上記一般式（５）中、Ｒ１９～Ｒ２３は、炭素数１～４のアルキル基または炭素数６～１８のアリール基を表す。Ｚは、０～１００の整数を表す。ｚが２以上の場合、複数のＲ１９およびＲ２３は、同じでも異なってもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
　前記一般式（６）中、Ｒ２４は水素原子、フッ素原子、炭素数１～６個のアルキル基、炭素数１～６個のフルオロアルキル基、炭素数６～１８のアリール基、フリル基またはチエニル基を表し、Ｒ２５は、３～１０価の有機基を表す。例えば、下記一般式（７）～（９）のいずれかで表される線状、分枝状またはかご状ポリシロキサン含有基等が挙げられる。一般式（６）中、ｊは、Ｒ２５の価数に等しい３～１０の整数を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
　前記一般式（９）で表されるかご状のオキセタニル基を有するシロキサン化合物としては、例えば、シルセスキオキサン誘導体ＯＸ－ＳＱ　ＴＸ－１００、ＯＸ－ＳＱ　ＳＩ－２０（以上、商品名、東亞合成（株）製）などが挙げられる。
　これらの中でも、オキセタニル基を複数有するものが好ましい。オキセタニル基を複数有することにより、オキセタン環の開環反応による有機膜（Ｃ）の応力緩和効果が向上し、ガラス基板との密着性をより向上させることができる。
　シロキサン樹脂（Ｅ）を含有する組成物におけるオキセタニル基を有するシロキサン化合物の含有量は、有機膜（Ｃ）の応力をより緩和して密着性をより向上させる観点から、全固形分中０．１重量％以上が好ましく、０．５重量％以上がより好ましい。一方、オキセタニル基を有するシロキサン化合物の含有量は、有機膜（Ｃ）の応力を向上させて樹脂被覆超薄板ガラスの折り曲げ耐性をより向上させる観点から、全固形分中１０重量％以下が好ましく、６重量％以下がより好ましい。
　シロキサン樹脂（Ｅ）を含有する組成物は、下記一般式（１０）で表される金属キレート化合物を含有してもよい。金属キレート化合物がシロキサン樹脂（Ｅ）のシラノール縮合反応の触媒として働くことから、有機膜（Ｃ）の架橋度が高くなり、樹脂被覆超薄板ガラスの折り曲げ耐性をより向上させることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
　上記一般式（１０）中、Ｍは金属原子を表す、Ｒ２６は水素、アルキル基、アリール基またはアルケニル基を表し、Ｒ２７およびＲ２８はそれぞれ独立に水素、アルキル基、アリール基、アルケニル基またはアルコキシ基を表す。ただし、アルキル基、アリール基、アルケニル基またはアルコキシ基は、置換基により置換されていてもよい。ｅは金属原子Ｍの原子価を表し、ｆは０～ｅの整数を表す。反応性の観点から、ｅ－ｆは０が好ましい。
　金属原子Ｍとしては有機膜（Ｃ）の透明性の観点から、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、亜鉛、コバルト、モリブデン、ランタン、バリウム、ストロンチウム、マグネシウム、カルシウムが好ましく、ジルコニウム、アルミニウムがより好ましい。
　Ｒ２６としては、例えば、水素、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基、ｎ－オクタデシル基、フェニル基、ビニル基、アリル基、オレイル基などが挙げられる。
　Ｒ２７およびＲ２８としては、例えば、水素、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、フェニル基、ビニル基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓｅｃ－ブトキシ基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基、ｎ－オクタデシル基、ベンジルオキシ基などが挙げられる。
　金属原子Ｍがジルコニウムであるジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムテトラｎ－プロポキシド、ジルコニウムテトラｎ－ブトキシド、ジルコニウムテトラ－ｓｅｃ－ブトキシド、ジルコニウムテトラフェノキシド、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムテトラ（２，２，６，６－テトラメチル－３，５－ヘプタンジオネート）、ジルコニウムテトラメチルアセトアセテート、ジルコニウムテトラエチルアセトアセテート、ジルコニウムテトラメチルマロネート、ジルコニウムテトラエチルマロネート、ジルコニウムテトラベンゾイルアセトネート、ジルコニウムテトラジベンゾイルメタネート、ジルコニウムモノｎ－ブトキシアセチルアセトネートビス（エチルアセトアセテート）、ジルコニウムモノｎ－ブトキシエチルアセトアセテートビス（アセチルアセトネート）、ジルコニウムモノｎ－ブトキシトリス（アセチルアセトネート）、ジルコニウムモノｎ－ブトキシトリス（アセチルアセトネート）、ジルコニウムジ（ｎ－ブトキシ）ビス（エチルアセトアセテート）、ジルコニウムジ（ｎ－ブトキシ）ビス（アセチルアセトネート）、ジルコニウムジ（ｎ－ブトキシ）ビス（エチルマロネート）、ジルコニウムジ（ｎ－ブトキシ）ビス（ベンゾイルアセトネート）、ジルコニウムジ（ｎ－ブトキシ）ビス（ジベンゾイルメタネート）などが挙げられる。
　金属原子Ｍがアルミニウムであるアルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムトリスイソプロポキシド、アルミニウムトリスｎ－プロポキサイド、アルミニウムトリスｓｅｃ－ブトキシド、アルミニウムトリスｎ－ブトキシド、アルミニウムトリスフェノキシド、アルミニウムトリスアセチルアセトネート、アルミニウムトリス（２，２，６，６－テトラメチル－３，５－ヘプタンジオネート）、アルミニウムトリスエチルアセトアセテート、アルミニウムトリスメチルアセトアセテート、アルミニウムトリスメチルマロネート、アルミニウムトリスエチルマロネート、アルミニウムエチルアセテートジ（イソプロポキシド）、アルミニウムアセチルアセトネート）ジ（イソプロポキシド）、アルミニウムメチルアセトアセテートジ（イソプロポキシド）、アルミニウムオクタデシルアセトアセテートジ（イソプロピレート）、アルミニウムモノアセチルアセトネートビス（エチルアセトアセテート）などが挙げられる。
　これらの中でも、各種溶媒への溶解性や化合物の安定性の観点から、ジルコニウムテトラノルマルプロポキシド、ジルコニウムテトラノルマルブトキシド、ジルコニウムテトラフェノキシド、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムテトラ（２，２，６，６－テトラメチル－３，５－ヘプタンジオネート）、ジルコニウムテトラメチルマロネート、ジルコニウムテトラエチルマロネート、ジルコニウムテトラエチルアセトアセテート、ジルコニウムジノルマルブトキシビス（エチルアセトアセテート）、ジルコニウムモノノルマルブトキシアセチルアセトネートビス（エチルアセトアセテート）、アルミニウムトリスアセチルアセトネート、アルミニウムトリス（２，２，６，６－テトラメチル－３，５－ヘプタンジオネート）、アルミニウムトリスエチルアセトアセテート、アルミニウムトリスメチルアセトアセテート、アルミニウムトリスメチルマロネート、アルミニウムトリスエチルマロネート、アルミニウムエチルアセテートジ（イソプロポキシド）、アルミニウムアセチルアセトネート）ジ（イソプロポキシド）、アルミニウムメチルアセトアセテートジ（イソプロポキシド）、アルミニウムオクタデシルアセトアセテートジ（イソプロピレート）、アルミニウムモノアセチルアセトネートビス（エチルアセトアセテート）が好ましい。
　シロキサン樹脂（Ｅ）を含有する組成物における金属キレート化合物の含有量は、有機膜（Ｃ）の架橋度をより向上させて樹脂被覆超薄板ガラスの折り曲げ耐性をより向上させる観点から、全固形分中０．１重量％以上が好ましく、０．５重量％以上がより好ましい。一方、金属キレート化合物の含有量は、シロキサン樹脂（Ｅ）を含有する組成物の経時安定性の観点から、全固形分中１０重量％以下が好ましく、７重量％以下がより好ましい。
　シロキサン樹脂（Ｅ）を含有する組成物は、密着改良剤を含有してもよい。密着改良剤を含有することにより、有機膜（Ｃ）と超薄板ガラス（Ａ）との密着性をより向上させることができる。
　密着改良剤としては、例えば、ビニル基、エポキシ基、スチリル基、（メタ）アクリロキシ基、アミノ基等の官能基を有するシランカップリング剤が挙げられる。具体的には、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２－メトキシエトキシ）シラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、ｐ－スリチルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－トリエトキシシリル－Ｎ－（１，３－ジメチル－ブチリデン）プロピルアミン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３－ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３－イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、ｐ－スリチルトリメトキシシランなどが好ましい。
　シロキサン樹脂（Ｅ）を含有する組成物における密着改良剤の含有量は、有機膜（Ｃ）と超薄板ガラス（Ａ）との密着性をより向上させる観点から、全固形分中０．１重量％以上が好ましく、０．５重量％以上がより好ましい。一方、シロキサン樹脂（Ｅ）を含有する組成物の経時安定性の観点から、全固形分中１０重量％以下が好ましく、５重量％以下がより好ましい。
　シロキサン樹脂（Ｅ）を含有する組成物は、各種の架橋剤を含有してもよく、架橋を促進または容易にすることができる。架橋剤としては、例えば、窒素含有有機物、シリコーン樹脂架橋剤、イソシアネート化合物やその重合体、メチロール化メラミン誘導体、メチロール化尿素誘導体などが挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。なかでも、架橋性と経時安定性の観点から、メチロール化メラミン誘導体、メチロール化尿素誘導体が好ましく用いられる。
　シロキサン樹脂（Ｅ）は酸により硬化が促進されるので、シロキサン樹脂（Ｅ）を含有する組成物に熱酸発生剤や光酸発生剤などの硬化触媒を含有してもよい。熱酸発生剤としては、例えば、ＳＩ－６０、ＳＩ－８０、ＳＩ－１００、ＳＩ－１１０、ＳＩ－１４５、ＳＩ－１５０、ＳＩ－６０Ｌ、ＳＩ－８０Ｌ、ＳＩ－１００Ｌ、ＳＩ－１１０Ｌ、ＳＩ－１４５Ｌ、ＳＩ－１５０Ｌ、ＳＩ－１６０Ｌ、ＳＩ－１８０Ｌ（以上、三新化学工業（株）製）、４－ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、ベンジル－４－ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、２－メチルベンジル－４－ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４－アセトキシフェニルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４－アセトキシフェニルベンジルメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４－メトキシカルボニルオキシフェニルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、ベンジル－４－メトキシカルボニルオキシフェニルメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナートなどが挙げられる。
　光酸発生剤としては、例えば、ＳＩ－１００、ＳＩ－１０１、ＳＩ－１０５、ＳＩ－１０６、ＳＩ－１０９、ＰＩ－１０５、ＰＩ－１０６、ＰＩ－１０９、ＮＡＩ－１００、ＮＡＩ－１００２、ＮＡＩ－１００３、ＮＡＩ－１００４、ＮＡＩ－１０１、ＮＡＩ－１０５、ＮＡＩ－１０６、ＮＡＩ－１０９、ＮＤＩ－１０１、ＮＤＩ－１０５、ＮＤＩ－１０６、ＮＤＩ－１０９、ＰＡＩ－０１、ＰＡＩ－１０１、ＰＡＩ－１０６、ＰＡＩ－１００１（以上、みどり化学（株）製）、ＳＰ－０７７、ＳＰ－０８２（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＴＰＳ－ＰＦＢＳ（以上、東洋合成工業（株）製）、ＭＤＴ（以上、ヘレウス社製）、ＷＰＡＧ－２８１、ＷＰＡＧ－３３６、ＷＰＡＧ－３３９、ＷＰＡＧ－３４２、ＷＰＡＧ－３４４、ＷＰＡＧ－３５０、ＷＰＡＧ－３７０、ＷＰＡＧ－３７２、ＷＰＡＧ－４４９、ＷＰＡＧ－４６９、ＷＰＡＧ－５０５、ＷＰＡＧ－５０６（以上、和光純薬工業（株）製）などが挙げられる。
　シロキサン樹脂（Ｅ）を含有する組成物における熱酸発生剤や光酸発生剤などの硬化触媒の含有量は、有機膜（Ｃ）の架橋度を向上させて樹脂被覆超薄板ガラスの折り曲げ耐性をより向上させる観点から、全固形分中０．１重量％以上が好ましく、０．３重量％以上がより好ましい。一方、シロキサン樹脂（Ｅ）を含有する組成物の経時安定性の観点から、熱酸発生剤や光酸発生剤などの硬化触媒の含有量は、全固形分中５重量％以下が好ましく、３重量％以下がより好ましい。
　シロキサン樹脂（Ｅ）を含有する組成物は、重合禁止剤を含有してもよい。重合禁止剤を含有することにより、経時安定性を向上させることができる。重合禁止剤としては、例えば、フェノール、カテコール、レゾルシノール、ハイドロキノン、４－ｔ－ブチルカテコール、２，６－ジ（ｔ－ブチル）－ｐ－クレゾール、フェノチアジン、４－メトキシフェノールなどが挙げられる。
　シロキサン樹脂（Ｅ）を含有する組成物における重合禁止剤の含有量は、全固形分中０．０１重量％以上が好ましく、０．１重量％以上がより好ましい。一方、有機膜（Ｃ）の架橋を阻害しない観点から、全固形分中５重量％以下が好ましく、１重量％以下がより好ましい。
　シロキサン樹脂（Ｅ）を含有する組成物は、紫外線吸収剤を含有してもよい。紫外線吸収剤を含有することにより、有機膜（Ｃ）の耐光性を向上させることができる。紫外線吸収剤としては、透明性、非着色性の面から、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物が好ましく用いられる。
　ベンゾトリアゾール系化合物としては、例えば、２－（２Ｈベンゾトリアゾール－２－イル）フェノール、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４，６－ｔ－ペンチルフェノール、２－（２Ｈベンゾトリアゾール－２－イル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェノール、２（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－６－ドデシル－４－メチルフェノール、２－（２’－ヒドロキシ－５’－メタクリロキシエチルフェニル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。
　ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、２－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。
　トリアジン系化合物としては、例えば、２－（４，６－ジフェニル－１，３，５トリアジン－２－イル）－５－［（ヘキシル）オキシ］－フェノールなどが挙げられる。
　シロキサン樹脂（Ｅ）を含有する組成物における紫外線吸収剤の含有量は、有機膜（Ｃ）と超薄板ガラス（Ａ）との密着性を向上させる観点から、全固形分中１０重量％以下が好ましく、５重量％以下がより好ましい。
　シロキサン樹脂（Ｅ）を含有する組成物は、界面活性剤を含有してもよい。界面活性剤を含有することにより、塗布時のフロー性を向上させることができる。界面活性剤としては、例えば、フッ素系界面活性剤；シリコーン系界面活性剤；含フッ素熱分解性界面活性剤；ポリエーテル変性シロキサン系界面活性剤；ポリアルキレンオキシド系界面活性剤；ポリ（メタ）アクリレート系界面活性剤；ラウリル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸トリエタノールアミンなどの陰イオン界面活性剤；ステアリルアミンアセテート、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライドなどの陽イオン界面活性剤；ラウリルジメチルアミンオキサイド、ラウリルカルボキシメチルヒドロキシエチルイミダゾリウムベタインなどの両性界面活性剤；ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ソルビタンモノステアレートなどの非イオン界面活性剤などが挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。
　これらの中でも、はじき等の塗布性不良を抑制するとともに、表面張力を低減し塗膜乾燥時のムラを抑制する観点から、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、含フッ素熱分解性界面活性剤、ポリエーテル変性シロキサン系界面活性剤が好ましく、含フッ素熱分解性界面活性剤がより好ましい。
　フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、“メガファック（登録商標）”Ｆ１４２Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１８３、同Ｆ４４５、同Ｆ４７０、同Ｆ４７５、同Ｆ４７７（以上、ＤＩＣ（株）製）、ＮＢＸ－１５、ＦＴＸ－２１８（（株）ネオス製）などが挙げられる。シリコーン系界面活性剤の市販品としては、例えば、“ＢＹＫ（登録商標）”－３３３、ＢＹＫ－３０１、ＢＹＫ－３３１、ＢＹＫ－３４５、ＢＹＫ－３０７（ビックケミー・ジャパン（株）製）などが挙げられる。含フッ素熱分解性界面活性剤の市販品としては、例えば、“メガファック（登録商標）”ＤＳ－２１（ＤＩＣ（株）製）などが挙げられる。ポリエーテル変性シロキサン系界面活性剤の市販品としては、例えば、“ＢＹＫ（登録商標）”－３４５、ＢＹＫ－３４６、ＢＹＫ－３４７、ＢＹＫ－３４８、ＢＹＫ－３４９（以上、ビックケミー・ジャパン（株）製）、“シルフェイス（登録商標）”ＳＡＧ００２、同ＳＡＧ００５、同ＳＡＧ０５０３Ａ、同ＳＡＧ００８（以上、日信化学工業（株）製）などが挙げられる。
　次に、シロキサン樹脂（Ｅ）を含有する組成物の製造方法について、以下に説明する。
　シロキサン樹脂（Ｅ）を含有する組成物の製造方法としては、シロキサン樹脂（Ｅ）と、必要に応じて、シリカ粒子、光ラジカル重合開始剤、ラジカル重合性を２個以上有する化合物、溶媒などのその他原料を所定量混合し、撹拌する方法が一般的である。
　また、有機膜（Ｂ）とハードコート層の間には、有機膜（Ｂ）やハードコート層とは異なる硬さを持つ有機膜を形成しても良い。
　本発明の樹脂被覆超薄板ガラスは、有機緩衝膜（Ｂ）を表面側としてスマートフォンやタブレットＰＣ等の表示デバイス、車載ディスプレイやインパネのカバーガラスに好適に利用できる。
　表面側とは、樹脂被覆超薄板ガラスを表示装置のフロントサイド側のカバーガラスに用いた場合、使用者側に位置して手指などが触ることができる面である。
　裏面側とは、樹脂被覆超薄板ガラスを表示装置のフロントサイド側のカバーガラスに用いた場合、使用者が触ることができない面である。
　以下、実施例および比較例を用いて、本発明を更に詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
　（評価方法）
　＜衝撃耐性＞
　超薄板ガラス（Ａ）に形成した有機膜（Ｃ）側（裏面側）の上側に、厚さ５０μｍのＯＣＡ（商品名「“ＯＰＴＥＲＩＡ（登録商標）”ＭＯ－３０１７；リンテック（株）製」）を貼り付けた。次に、ＯＣＡの上側を厚さ１０ｍｍのＳＵＳ３０４の板に貼り付け、ＳＵＳ３０４が下側になるように超薄板ガラス（Ａ）を置いた。
　次に、超薄板ガラス（Ａ）の有機膜（Ｂ）側（表面側）に、所定の高さから重さ５．７ｇ、芯径０．７ｍｍのボールペンを落下させ、超薄板ガラスの割れの有無を観察した。割れが認められない場合、ボールペンの落下高さを高くして同様の評価を行い、超薄板ガラスが割れる最小高さ（ＰＴ１）を測定し、以下の基準で評価した。
◎：１５≦ＰＴ１
○：５≦ＰＴ１＜１５
×：ＰＴ１＜５。
　＜折り曲げ耐性＞
　超薄板ガラス（Ａ）に形成した有機膜（Ｃ）側が下側になるようにして、耐久試験機ＤＭＬＨＢ（ユアサシステム機器（株）製）を用いて、曲率半径（Ｒ）２ｍｍにおけるガラスや有機膜に割れ又はひびが発生する回数（ＢＴ１）を測定した。最大試験回数は１００００回であり、以下の基準で評価した。
◎：ＢＴ１＝１００００（ガラスや有機膜に割れ又はひびの発生無し）
〇：１０００≦ＢＴ１＜１００００
×：ＢＴ１＜１０００。
　＜膜の黄色度＞
　超薄板ガラスの替わりに、厚さ０．５ｍｍの無アルカリガラスを用いて、各実施例および比較例に記載の有機膜（Ｂ）を作製した。
　無アルカリガラス上の有機膜（Ｂ）について、紫外－可視分光光度計ＵＶ－２６００（（株）島津製作所製）を用いて、測定波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍにおける透過率を測定した。測定した透過率から、Ｄ６５光源のときの透過光の黄色度（ＹＩ）を求めた。値が小さいほど黄色度（ＹＩ）が良好であるといえる。
　＜鉛筆硬度＞
　超薄板ガラスの替わりに、厚さ０．５ｍｍの無アルカリガラスを用いて、各実施例および比較例により得られた樹脂被覆ガラスを作製した。無アルカリガラスの有機膜（Ｂ）側（表面側）に、鉛筆硬度試験器を用いて、所定硬度の鉛筆により、荷重７５０ｇ、角度４５度でなぞり、傷の有無を観察することにより、鉛筆硬度を測定した。
　（シロキサン樹脂（ＰＳ－１）の合成）
　５００ｍＬの三口フラスコにメチルトリメトキシシラン４７．６７ｇ（０．３５ｍｏｌ）、フェニルトリメトキシシラン３９．６６ｇ（０．２０ｍｏｌ）、３－トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物２６．２３ｇ（０．１０ｍｏｌ）、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン８２．０４ｇ（０．３５ｍｏｌ）、ダイアセトンアルコール（以下、「ＤＡＡ」）１８２．８８ｇを仕込み、４０℃のオイルバスに漬けて撹拌しながら、水５５．８ｇにリン酸０．３９１ｇ（仕込みモノマーに対して０．２重量部）を溶かしたリン酸水溶液を滴下ロートで１０分間かけて添加した。４０℃で１時間撹拌した後、オイルバス温度を７０℃に設定して１時間撹拌し、さらにオイルバスを３０分間かけて１１５℃まで昇温した。昇温開始１時間後に溶液の内温が１００℃に到達し、そこから２時間加熱撹拌した（内温は１００～１１０℃）。反応中に副生成物であるメタノール及び水が合計１２０ｇ留出した。得られたシロキサン樹脂のＤＡＡ溶液に、ポリマー濃度が４０重量％となるようにＤＡＡを加えてシロキサン樹脂（ＰＳ－１）溶液を得た。なお、得られたシロキサン樹脂（ＰＳ－１）の重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」）をＧＰＣにより測定したところ５，０００（ポリスチレン換算）であった。
　（シロキサン樹脂（ＰＳ－２）の合成）
　５００ｍＬの三口フラスコにメチルトリメトキシシラン５４．４８ｇ（０．４０ｍｏｌ）、フェニルトリメトキシシラン９９．１５ｇ（０．５０ｍｏｌ）、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン２４．６４ｇ（０．１０ｍｏｌ）、ＤＡＡ１６３．３５ｇを仕込み、４０℃のオイルバスに漬けて撹拌しながら、水５４．０ｇにリン酸０．５３５ｇ（仕込みモノマに対して０．３重量部）を溶かしたリン酸水溶液を滴下ロートで１０分間かけて添加した。４０℃で１時間撹拌した後、オイルバス温度を７０℃に設定して１時間撹拌し、さらにオイルバスを３０分間かけて１１５℃まで昇温した。昇温開始１時間後に溶液の内温が１００℃に到達し、そこから２時間加熱撹拌した（内温は１００～１１０℃）。反応中に副生成物であるメタノール及び水が合計１２０ｇ留出した。得られたシロキサン樹脂のＤＡＡ溶液に、ポリマー濃度が４０重量％となるようにＤＡＡを加えてシロキサン樹脂（ＰＳ－２）溶液を得た。なお、得られたシロキサン樹脂（ＰＳ－２）のＭｗをＧＰＣにより測定したところ５，０００（ポリスチレン換算）であった。
　（シロキサン樹脂を含有する組成物（ＧＲ－１）の調製）
　黄色灯下にてフェニルビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド（商品名「“Ｏｍｎｉｒａｄ（登録商標）”８１９」；ＩＧＭ社製）１．５２ｇと、ジルコニウムテトラアセチルアセトナート（商品名「“オルガチックス（登録商標）”ＺＣ－１５０」；マツモトファインケミカル（株）製）１．３０ｇを、ＤＡＡ２３．９６ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（以下、「ＰＧＭＥＡ」）１．５３ｇ、３－メチル－３－メトキシ－１－ブタノール（以下、「ＭＭＢ」）１４．８０ｇの混合溶媒に溶解させ、オキセタニル基を有するシロキサン化合物「“アロンオキセタン（登録商標）”ＯＸＴ－１９１」；東亞合成（株）製）０．９８ｇ、３－アミノプロピルトリメトキシシラン（商品名「ＫＢＭ－９０３」；信越化学工業（株）製）０．４３ｇ、トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌル酸のアクリル酸エステル（商品名「“アロニックス（登録商標）”Ｍ－３１５」；東亞合成（株）製）４．３５ｇ、シリカ粒子のＰＧＭＥＡ３０重量％分散液（平均粒子径＝２０～３０ｎｍ、商品名「ＰＭＡ－ＳＴ」；日産化学工業（株）製）２８．９９ｇ、シロキサン樹脂（ＰＳ－１）溶液２１．７４ｇ、含フッ素熱分解性界面活性剤（商品名「ＤＳ－２１」；ＤＩＣ（株）製）のＰＧＭＥＡ５重量％溶液０．２０ｇ（濃度１００ｐｐｍに相当）、シリコーン変性アクリル系界面活性剤（商品名「“ＢＹＫ（登録商標）”－３５５０」；ビックケミー社製）のＰＧＭＥＡ５重量％溶液０．２０ｇ（濃度１００ｐｐｍに相当）を加え、撹拌した。次いで１．００μｍのフィルターでろ過を行い、固形分濃度２６重量％のシロキサン樹脂を含有する組成物（ＧＲ－１）を調製した。
　（シロキサン樹脂を含有する組成物（ＧＲ－２）の調製）
　黄色灯下にてトリフルオロメタンスルホン酸エステル（商品名「ＭＤＴ」；ヘレウス社製）０．３６ｇを、ＤＡＡ４．００ｇ、ＰＧＭＥＡ８．８０ｇ、３－メトキシ－３－メチル－１－ブチルアセテート（沸点＝１８８℃）２２．２０ｇの混合溶媒に溶解させ、シラン変性イソシアヌル酸エステル系化合物（商品名「ＫＢＭ－９６５９」；信越化学工業（株）製）０．５４ｇ、シリカ粒子のＰＧＭＥＡ３０重量％分散液（平均粒子径＝２０～３０ｎｍ、商品名「ＰＭＡ－ＳＴ」；日産化学工業（株）製）２３．８９ｇ、シロキサン樹脂（ＰＳ－２）溶液３９．８２ｇ、含フッ素熱分解性界面活性剤（商品名「ＤＳ－２１」；ＤＩＣ（株）製）のＰＧＭＥＡ５重量％溶液０．２０ｇ（濃度１００ｐｐｍに相当）、シリコーン変性アクリル系界面活性剤（商品名「“ＢＹＫ（登録商標）”－３５５０」；ビックケミー社製）のＰＧＭＥＡ５重量％溶液０．２０ｇ（濃度１００ｐｐｍに相当）を加え、撹拌した。次いで１．００μｍのフィルターでろ過を行い、固形分濃度２６重量％のシロキサン樹脂を含有する組成物（ＧＲ－２）を調製した。
　（熱可塑性樹脂を含有する組成物（ＧＢ－１）の調製）
　５００ｍＬの三口フラスコに熱可塑性ポリエステル樹脂（商品名「“バイロン（登録商標）”２００」；東洋紡（株）製）（以下、「バイロン２００」）１５．００ｇ、ＰＧＭＥＡを８４．９０ｇ仕込み、６０℃のオイルバスにつけて、バイロン２００が溶解するまで混合攪拌した。得られたバイロン２００のＰＧＭＥＡ溶液に、含フッ素熱分解性界面活性剤（商品名「ＤＳ－２１」；ＤＩＣ（株）製）のＰＧＭＥＡ５重量％溶液０．１０ｇ（濃度５０ｐｐｍに相当）を加え、攪拌した。次いで１．００μｍのフィルターでろ過を行い、固形分濃度１５重量％の熱可塑性樹脂を含有する組成物（ＧＢ－１）を調製した。
　（実施例１）
　基板である厚さ５０μｍの化学強化された超薄板ガラス（商品名「“Ｄｉｎｏｒｅｘ（登録商標）”Ｔ２Ｘ－１」；日本電気硝子（株）製）の一方（裏面側）に、スプレー塗布装置（商品名「“ｒＣｏａｔｅｒ（登録商標）”ＥＳ１５３３」；旭サナック（株）製）を用いて、シロキサン樹脂を含有する組成物（ＧＲ－１）をスプレー塗布した後、１００℃のホットプレートを用いて２分間プリベイクし、プリベイク膜を得た。その後、大日本スクリーン（株）製露光機“ＸＧ－５０００”を用いて５００ｍＪ／ｃｍ２（ｉ線換算）で露光し、１８０℃の熱風オーブンを用いて４０分間キュアし、膜厚５μｍの有機膜（Ｃ－１）を得た。
　次に、超薄板ガラスの有機膜（Ｃ－１）が形成されていない側（表面側）に、スプレー塗布装置を用いて、熱可塑性樹脂を含有する組成物（ＧＢ－１）をスプレー塗布した後、９０℃のホットプレートを用いて６分間プリベイクし、プリベイク膜を得た。次に、２１０℃の熱風オーブンを用いて４０分間キュアし、膜厚２０μｍの有機膜（Ｂ－１）を得た。
　次に、有機膜（Ｂ－１）の上に、ハードコート材料（商品名「“リオデュラス（登録商標）”ＬＣＨ２３９１」；トーヨーケム（株）製）をスプレー塗布した後、８０℃のホットプレートを用いて１分間プリベイクし、プリベイク膜を得た。その後、ウシオ電機（株）製露光機“ＵＶＣ－１２１２Ｓ１ＷＦ０１”を用いて１５００ｍＪ露光し、７μｍのハードコート層（Ｈ－１）を作製することにより、樹脂被覆超薄板ガラス（ＳＧ－１）を得た。前述の方法により評価した結果を表２に示す。
　（実施例２）
　ハードコート層を製膜しない以外は、実施例１と同様にして樹脂被覆超薄板ガラス（ＳＧ－２）を作製した。前述の方法により評価した結果を表２に示す。
　（実施例３）
　シロキサン樹脂を含有する組成物（ＧＲ－２）を用いて膜厚５μｍの有機膜（Ｃ－２）を作製した以外は、実施例１と同様にして樹脂被覆超薄板ガラス（ＳＧ－３）を作製した。前述の方法により評価した結果を表２に示す。
　（実施例４）
　有機膜（Ｂ－１）作製時のスプレー速度と吐出量を調整することにより、膜厚４０μｍの有機膜（Ｂ－２）を得た。有機膜（Ｂ－１）の膜厚を変更した以外は、実施例１と同様にして樹脂被覆超薄板ガラス（ＳＧ－４）を作製した。前述の方法により評価した結果を表２に示す。
　（実施例５）
　バイロン２００を熱可塑性ポリエステル樹脂（商品名「“バイロン（登録商標）”６００」；東洋紡（株）製）に変更した以外は、ＧＢ－１と同様にして、熱可塑性樹脂を含有する組成物（ＧＢ－２）を調製した。
　得られたＧＢ－２を用いて有機膜（Ｂ－３）を作製した以外は、実施例１と同様にして樹脂被覆超薄板ガラス（ＳＧ－５）を作製した。前述の方法により評価した結果を表２に示す。
　（実施例６）
　バイロン２００を塩化ビニル－酢酸ビニル共重合樹脂（商品名「“ソルバイン（登録商標）”ＴＡ－５Ｒ」；日信化学工業（株）製）に変更した以外は、ＧＢ－１と同様にして、熱可塑性樹脂を含有する組成物（ＧＢ－３）を調製した。
　得られたＧＢ－３を用いて有機膜（Ｂ－４）を作製した以外は、実施例１と同様にして樹脂被覆超薄板ガラス（ＳＧ－６）を作製した。前述の方法により評価した結果を表２に示す。
　（実施例７）
　バイロン２００を（メタ）アクリル酸エステル樹脂（商品名「“ハイパール（登録商標）Ｍ－４００６」；根上工業（株）製）に変更した以外は、ＧＢ－１と同様にして、熱可塑性樹脂を含有する組成物（ＧＢ－４）を調製した。
　得られたＧＢ－４を用いて有機膜（Ｂ－５）を作製した以外は、実施例１と同様にして樹脂被覆超薄板ガラス（ＳＧ－７）を作製した。前述の方法により評価した結果を表２に示す。
　（実施例８）
　バイロン２００を熱可塑性ポリエステル樹脂（商品名「“バイロン（登録商標）”ＧＫ－３６０」；東洋紡（株）製）に変更した以外は、ＧＢ－１と同様にして、熱可塑性樹脂を含有する組成物（ＧＢ－６）を調製した。
　得られたＧＢ－６を用いて有機膜（Ｂ－８）を作製した以外は、実施例１と同様にして樹脂被覆超薄板ガラス（ＳＧ－１２）を作製した。前述の方法により評価した結果を表２に示す。
　（実施例９）
　バイロン２００を熱可塑性ポリエステル樹脂（商品名「“バイロン（登録商標）”２７０」；東洋紡（株）製）に変更した以外は、ＧＢ－１と同様にして、熱可塑性樹脂を含有する組成物（ＧＢ－７）を調製した。
　得られたＧＢ－７を用いて有機膜（Ｂ－９）を作製した以外は、実施例１と同様にして樹脂被覆超薄板ガラス（ＳＧ－１３）を作製した。前述の方法により評価した結果を表２に示す。
　（実施例１０）
　バイロン２００を熱可塑性ポリエステル樹脂（商品名「“バイロン（登録商標）”ＧＫ－８８０」；東洋紡（株）製）に変更した以外は、ＧＢ－１と同様にして、熱可塑性樹脂を含有する組成物（ＧＢ－８）を調製した。
　得られたＧＢ－８を用いて有機膜（Ｂ－１０）を作製した以外は、実施例１と同様にして樹脂被覆超薄板ガラス（ＳＧ－１４）を作製した。前述の方法により評価した結果を表２に示す。
　（実施例１１）
　バイロン２００を１３．５０ｇ、熱硬化性ウレタンアクリレート（商品名「“ＮＫオリゴ（登録商標）”Ｕ－６ＬＰＡ」；新中村化学工業（株）製）（二重結合当量：１２７ｇ／ｍｏｌ）（以下、「Ｕ－６ＬＰＡ」）を１．５０ｇに変更した以外は、ＧＢ－１と同様にして、熱可塑性樹脂を含有する組成物（ＧＢ－９）を調製した。
　得られたＧＢ－９を用いて有機膜（Ｂ－１１）を作製した以外は、実施例１と同様にして樹脂被覆超薄板ガラス（ＳＧ－１５）を作製した。前述の方法により評価した結果を表２に示す。
　（実施例１２）
　ハードコート層を製膜しない以外は、実施例１１と同様にして樹脂被覆超薄板ガラス（ＳＧ－１６）を作製した。前述の方法により評価した結果を表２に示す。
　（実施例１３）
　バイロン２００を１２．００ｇ、Ｕ－６ＬＰＡを３．００ｇに変更した以外は、ＧＢ－１と同様にして、熱可塑性樹脂を含有する組成物（ＧＢ－１０）を調製した。
　得られたＧＢ－１０を用いて有機膜（Ｂ－１２）を作製した以外は、実施例１と同様にして樹脂被覆超薄板ガラス（ＳＧ－１７）を作製した。前述の方法により評価した結果を表２に示す。
　（実施例１４）
　バイロン２００を１０．５０ｇ、Ｕ－６ＬＰＡを４．５０ｇに変更した以外は、ＧＢ－１と同様にして、熱可塑性樹脂を含有する組成物（ＧＢ－１１）を調製した。
　得られたＧＢ－１１を用いて有機膜（Ｂ－１３）を作製した以外は、実施例１と同様にして樹脂被覆超薄板ガラス（ＳＧ－１８）を作製した。前述の方法により評価した結果を表２に示す。
　（実施例１５）
　Ｕ－６ＬＰＡを熱硬化性ウレタンアクリレート（商品名「“ＮＫオリゴ（登録商標）”ＵＡ－１２２Ｐ」；新中村化学工業（株）製）（二重結合当量：５５０ｇ／ｍｏｌ）に変更した以外は、ＧＢ－９と同様にして、熱可塑性樹脂を含有する組成物（ＧＢ－１２）を調製した。
　得られたＧＢ－１２を用いて有機膜（Ｂ－１４）を作製した以外は、実施例１と同様にして樹脂被覆超薄板ガラス（ＳＧ－１９）を作製した。前述の方法により評価した結果を表２に示す。
　（実施例１６）
　Ｕ－６ＬＰＡを熱硬化性ウレタンアクリレート（商品名「“ＮＫオリゴ（登録商標）”Ｕ－２ＨＡ」；新中村化学工業（株）製）（二重結合当量：２００ｇ／ｍｏｌ）に変更した以外は、ＧＢ－９と同様にして、熱可塑性樹脂を含有する組成物（ＧＢ－１３）を調製した。
　得られたＧＢ－１３を用いて有機膜（Ｂ－１５）を作製した以外は、実施例１と同様にして樹脂被覆超薄板ガラス（ＳＧ－２０）を作製した。前述の方法により評価した結果を表２に示す。
　（比較例１）
　有機膜（Ｂ）、有機膜（Ｃ）、ハードコート層を製膜しない超薄板ガラスについて、前述の方法により評価した結果を表２に示す。
　（比較例２）
　有機膜（Ｂ－１）を製膜しない以外は、実施例１と同様にして樹脂被覆超薄板ガラス（ＳＧ－８）を作製した。前述の方法により評価した結果を表２に示す。
　（比較例３）
　有機膜（Ｃ－１）と同様の方法で、超薄板ガラスの表面側に、膜厚５μｍのシロキサン樹脂を含有する組成物（ＧＲ－１）の有機膜（Ｂ－６）を作製した。Ｂ－６以外は、実施例１と同様にして樹脂被覆超薄板ガラス（ＳＧ－９）を作製した。前述の方法により評価した結果を表２に示す。
　（比較例４）
　有機膜（Ｃ－１）を製膜しない以外は、実施例１と同様にして樹脂被覆超薄板ガラス（ＳＧ－１０）を作製した。前述の方法により評価した結果を表２に示す。
　（比較例５）
　バイロン２００を（メタ）アクリル酸エステル樹脂（商品名「“オプティマス（登録商標）”７５００」；三菱ガス化学（株）製）に変更した以外は、ＧＢ－１と同様にして、熱可塑性樹脂を含有する組成物（ＧＢ－５）を調整した。
　得られたＧＢ－５を用いて有機膜（Ｂ－７）を作製した以外は、実施例１と同様にして樹脂被覆超薄板ガラス（ＳＧ－１１）を作製した。前述の方法により評価した結果を表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000010
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000011
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000012
　本発明の樹脂被覆超薄板ガラスは、衝撃耐性が高く、折り曲げ耐性が良好で、高い透明性を有することから、フレキシブル性を有する表示デバイス向けのカバーガラスに利用可能である。

Claims (16)

  1. 厚みが１０μｍ以上１００μｍ以下の超薄板ガラス（Ａ）の片側面に有機膜（Ｂ）が、他方の面に有機膜（Ｃ）が形成された３層からなる樹脂被覆超薄板ガラスであって、前記有機膜（Ｂ）が重量平均分子量１０００～７００００である熱可塑性樹脂（Ｄ）を含有する組成物から形成されており、前記有機膜（Ｃ）がシロキサン樹脂（Ｅ）を含有する組成物から形成されている、樹脂被覆超薄板ガラス。
  2. 前記有機膜（Ｂ)が緩衝膜（ｂ)であり、前記有機膜（Ｃ）が強化膜（ｃ)であり、かつ、前記超薄板ガラス（Ａ）の厚みが２０μｍ以上１００μｍ以下である請求項１に記載の樹脂被覆超薄板ガラス。
  3. 前記有機膜（Ｂ）の膜厚が１０μｍ以上１００μｍ以下である請求項１または２に記載の樹脂被覆超薄板ガラス。
  4. 前記有機膜（Ｃ）の膜厚が１μｍ以上２０μｍ以下である請求項１～３のいずれか一項に記載の樹脂被覆超薄板ガラス。
  5. 前記シロキサン樹脂（Ｅ）中にあるフェニル基の含有率がＳｉ原子に対して５～６０モル％である請求項１～４のいずれか一項に記載の樹脂被覆超薄板ガラス。
  6. 前記熱可塑性樹脂（Ｄ）のガラス転移温度が４０℃～１１０℃である請求項１～５のいずれか一項に記載の樹脂被覆超薄板ガラス。
  7. 前記熱可塑性樹脂（Ｄ）がポリエステル樹脂または（メタ）アクリル酸エステル樹脂である請求項１～６のいずれか一項に記載の樹脂被覆超薄板ガラス。
  8. 前記有機膜（Ｂ）が熱硬化性樹脂を含有する請求項１～７のいずれか一項に記載の樹脂被覆超薄板ガラス。
  9. 前記熱硬化性樹脂がウレタン（メタ）アクリレート化合物である請求項１～８のいずれか一項に記載の樹脂被覆超薄板ガラス。
  10. 前記ウレタン（メタ）アクリレート化合物を、前記有機膜（Ｂ）の全固形中５～３５重量％含有する請求項１～９のいずれか一項に記載の樹脂被覆超薄板ガラス。
  11. 前記ウレタン（メタ）アクリレートの二重結合当量が１００～６００ｇ／ｍｏｌである請求項１～１０のいずれか一項に記載の樹脂被覆超薄板ガラス。
  12. 前記有機膜（Ｂ）の黄色度（ＹＩ）が|ＹＩ|＜２０である請求項１～１１のいずれか一項に記載の樹脂被覆超薄板ガラス。
  13. 前記シロキサン樹脂（Ｅ）がラジカル重合性基を有する請求項１～１２のいずれか一項に記載の樹脂被覆超薄板ガラス。
  14. 前記超薄板ガラス（Ａ）が化学強化されている請求項１～１３のいずれか一項に記載の樹脂被覆超薄板ガラス。
  15. 前記有機膜（Ｂ）の超薄板ガラス（Ａ）側でない面にハードコート層が積層されている請求項１～１４のいずれか一項に記載の樹脂被覆超薄板ガラス。
  16. 請求項１～１５のいずれか一項に記載の樹脂被覆超薄板ガラスを具備する表示デバイスであって、有機膜（Ｂ）を表面側にしている表示デバイス。
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