WO2022145137A1

WO2022145137A1 - 化粧シート、及び化粧シートの製造方法

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Publication number: WO2022145137A1
Application number: PCT/JP2021/041624
Authority: WO
Inventors: 絵理佳阿久津
Original assignee: 凸版印刷株式会社
Priority date: 2020-12-28
Filing date: 2021-11-11
Publication date: 2022-07-07
Also published as: US20230025597A1; EP4101640A4; CN115243889A; JPWO2022145137A1; KR20230127867A; EP4101640A1

Abstract

低光沢である優れた意匠性を有し、かつ、耐指紋性と高度な耐久性（特に耐傷性や耐汚染性）と加工性とを有する化粧シートを提供する。本実施形態に係る化粧シート（１）は、原反層（２）と、原反層（２）の一方の表面に設けられた表面保護層（５）と、を備え、表面保護層（５）は、その表面に、畝状に突出して設けられた畝状部を有し、凹凸形状が形成されており、表面保護層（５）の凹凸形状のＲＳｍ／Ｒａは、１０以上３００以下の範囲内であり、表面保護層（５）は、主材料が電離放射線硬化性樹脂であり、その電離放射線硬化性樹脂は、主成分が繰り返し構造を含む３官能のアクリル樹脂であり、その繰り返し構造は、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ε－カプロラクトン構造のうちいずれかであり、その繰り返し構造の繰り返し回数は、３以上である。

Description

化粧シート、及び化粧シートの製造方法

　本発明は、建築物の内外装、建具、家具、造作材、床材等の表面化粧等に使用される化粧シート、及びその化粧シートの製造方法に関する。

　化粧シートは前述の建築物において、その表面に意匠性や耐久性を付与するため、木材、木質ボード、金属板、不燃ボード、紙質基板、あるいは樹脂基板などの表面に接着剤などを介して貼り合わせて化粧板とすることで、一般に広く用いられている。
　意匠性の付与については、木目や石目といった柄を各種印刷方法を用いて形成したものから、柄の無い無地表面まで、要求や用途に応じて選択される。また同様に、表面の光沢感も意匠性として重要な項目であり、鏡面のような高光沢から映り込みの全くない低光沢まで、要求や用途に応じて選択されるものである。

　また、前述の通り、意匠性と並んで重要な化粧シートの機能として、耐久性の付与が挙げられる。耐久性とは耐傷性や耐汚染性、さらにそれらが長期間継続して担保されるかを総合的に評価したものであり、化粧シートが使用される環境や状況により、要求は異なってくるが、常に高い性能を有する化粧シートが求められている。
　耐久性の付与には、化粧シートにおける最表面に表面保護層を形成するのが一般的である。また、前述の光沢感を調整するため、特に低光沢を達成するために、表面保護層中に艶調整剤（艶消し添加剤）を添加することが一般的である。

　さらに、化粧シートには、化粧板や化粧材を形成するために、切削や曲げといった加工が施されるのが一般的なため、これらに耐え得る加工性を有することが好ましい。
　このように、意匠性（低光沢）、耐傷性、耐汚染性が考慮された化粧シートとして、例えば特許文献１に記載の化粧シートがある。

特開２０１９－１１９１３８号公報

　近年、化粧シートを用いた化粧板の用途の拡大や、消費者の品質に対する意識の益々の高度化のため、低光沢で、耐指紋性、耐傷性、耐汚染性、曲げ加工性の両立が求められている。
　以上の要求に対し、低光沢化については、艶調整剤を高濃度で添加し表面を粗くする方法があるが、多量に添加することで、以下に示すような不具合を生じる。（１）指紋汚れが落ちにくくなり、耐指紋性が低下する。（２）耐傷性試験で艶調整剤が脱離してしまい、耐傷性が低下する。（３）汚れが落ちにくくなり、耐汚染性が低下する。（４）曲げ加工する際に艶調整剤をきっかけとして白化が起き、曲げ加工性が低下する。

　本発明は、上記課題を解決するために、低光沢である優れた意匠性を有し、かつ、耐指紋性と高度な耐久性（特に耐傷性や耐汚染性）と加工性とを有する化粧シートを提供することを目的とする。

　本発明者は、低光沢を達成するために表面保護層の凹凸形状を最適化し、さらに表面保護層に用いられる材料について、必要な構造的要素を見出すために実験を重ねることで、低光沢かつ耐指紋性と高度な耐久性（特に耐傷性や耐汚染性）と加工性とが発現される化粧シートを提供できることを見出した。

　課題を解決するために、本発明の一態様に係る化粧シートは、原反層と、前記原反層の一方の表面に設けられた表面保護層と、を備え、前記表面保護層は、その表面に、畝状に突出して設けられた畝状部を有し、凹凸形状が形成されており、前記表面保護層の前記凹凸形状のＲＳｍ／Ｒａは、１０以上３００以下の範囲内であり、前記表面保護層は、主材料が電離放射線硬化性樹脂であり、前記電離放射線硬化性樹脂は、主成分が繰り返し構造を含む３官能のアクリル樹脂であり、前記繰り返し構造は、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、及びε－カプロラクトンの各構造のうちいずれかであり、前記繰り返し構造の繰り返し回数は、３以上であることを要旨とする。

　本発明の一態様によれば、低光沢で、耐指紋性、耐傷性、耐汚染性、曲げ加工性を両立した化粧シートを提供することができる。

本発明の実施形態に係る化粧シートの構成を説明する概略断面図である。本発明の実施形態に係る化粧シートの表面保護層の一構成を説明する概略断面図である。本発明の実施形態に係る化粧シートの表面保護層の表面の一構成例を示す平面写真である。本発明の実施形態に係る畝状部の断面形状を説明する概略断面図である。本発明の実施形態に係る化粧シートの製造工程における各照射光の照射光量の時間変化を説明する概略図である。

　以下に、本発明の実施形態に係る化粧シートの構成について図面を参照して説明する。
　ここで、図面は模式的なものであり、厚さと平面寸法との関係、各層の厚さの比率等は現実のものとは異なる。また、以下に示す実施形態は、本発明の技術的思想を具体化するための構成を例示するものであって、本発明の技術的思想は、特許請求の範囲に記載された請求項が規定する技術的範囲内において、様々の変更を加えることができる。

　（構成）
　本実施形態の化粧シート１は、図１に示すように、原反層（基材層）２の一方の面である表面側に、絵柄層３、接着層７（感熱接着層、アンカーコート層、ドライラミ接着剤層）、透明樹脂層４及び表面保護層５がこの順に積層されて構成される。また、原反層２の他方の面である裏面側に、隠蔽層８及びプライマ層６が設けられている。絵柄層３及び接着層７、透明樹脂層４、隠蔽層８、プライマ層６は省略してもよい。
　そして、本実施形態の化粧シート１は、図１に示すように、基板Ｂに貼り合わされることで化粧材１１を構成する。基板Ｂは、特に限定はないが、例えば、木質ボード類、無機質ボード類、金属板、複数の材料からなる複合版などから構成される。

　＜原反層２＞
　原反層２としては、例えば紙、合成樹脂、あるいは合成樹脂の発泡体、ゴム、不織布、合成紙、金属箔等から任意に選定したものが使用可能である。紙としては、薄葉紙、チタン紙、樹脂含浸紙等が例示できる。合成樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアミド、エチレン－酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアルコール、アクリル等が例示できる。ゴムとしては、エチレン－プロピレン共重合ゴム、エチレン－プロピレン－ジエン共重合ゴム、スチレン－ブタジエン共重合ゴム、スチレン－イソプレン－スチレンブロック共重合ゴム、スチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合ゴム、ポリウレタン等が例示できる。不織布としては、有機系や無機系の不織布が使用できる。金属箔の金属としては、アルミニウム、鉄、金、銀等が例示できる。

　原反層２としてオレフィン系の樹脂を用いる場合には、原反層２の表面が不活性な状態であることが多いので、原反層２と基材Ｂとの間に、プライマ層６を設けることが好ましい。この他にも、オレフィン系材料からなる原反層２と基材Ｂとの接着性を向上させるために、原反層２に対して、例えば、コロナ処理、プラズマ処理、オゾン処理、電子線処理、紫外線処理、重クロム酸処理等の表面改質処理を施してもよい。
　プライマ層６としては、後述の絵柄層３と同じ材料を用いることができる。プライマ層６は、化粧シート１の裏面に施されることから、化粧シート１がウエブ状に巻取りされることを考慮すると、ブロッキングを避けて且つ接着剤との密着を高めるために、プライマ層６に無機充填剤を添加させてもよい。無機充填剤としては、シリカ、アルミナ、マグネシア、酸化チタン、硫酸バリウム等が例示できる。
　原反層２の層厚は、印刷作業性やコストなどを考慮すれば、２０μｍ以上２５０μｍ以下の範囲内が好ましい。

　＜絵柄層３＞
　絵柄層３は、原反層２に対してインキを用いて施された絵柄印刷の層である。インキのバインダとしては、例えば、硝化綿、セルロース、塩化ビニル－酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、ポリウレタン、アクリル、ポリエステル系等の単独若しくは各変性物の中から適宜選定して用いることができる。バインダは、水性、溶剤系、エマルジョンタイプのいずれでもよく、また１液タイプでも硬化剤を使用した２液タイプでもよい。更に、硬化性のインキを使用し、紫外線や電子線等の照射によりインキを硬化させる方法を用いてもよい。中でも最も一般的な方法は、ウレタン系のインキを用いるもので、イソシアネートによって硬化させる方法である。絵柄層３に対し、バインダ以外には、例えば、通常のインキに含まれている顔料、染料等の着色剤、体質顔料、溶剤、各種添加剤などが添加されている。汎用性の高い顔料としては、例えば、縮合アゾ、不溶性アゾ、キナクリドン、イソインドリン、アンスラキノン、イミダゾロン、コバルト、フタロシアニン、カーボン、酸化チタン、酸化鉄、雲母等のパール顔料等が挙げられる。

　また、インキの塗布とは別に各種金属の蒸着やスパッタリングで、絵柄層３に意匠を施すことも可能である。特に、上記インキに対して光安定剤が添加されていることが好ましく、これにより、インキの光劣化から生じる化粧シート１自体の劣化を抑制し、化粧シート１の寿命を長くすることができる。

　＜接着層７＞
　接着層７は、感熱接着層、アンカーコート層、ドライラミ接着剤層とも呼ばれる層である。
　接着層７の樹脂材料は特に限定されるものではないが、例えば、アクリル系、ポリエステル系、ポリウレタン系、エポキシ系などの樹脂材料から適宜選択して用いることができる。また、接着層７の樹脂材料として、例えば、エチレン－酢酸ビニル共重合樹脂系接着剤も用いることができる。塗工方法は接着剤の粘度などに応じて適宜選択することができるが、一般的には、グラビアコートが用いられ、絵柄層３の上面に対してグラビアコートによって塗布された後、透明樹脂層４とラミネートするようにされている。なお、接着層７は、透明樹脂層４と絵柄層３との接着強度が十分に得られる場合には、省略することができる。

　＜透明樹脂層４＞
　透明樹脂層４の樹脂材料としては、オレフィン系樹脂が好適に用いられる。オレフィン系樹脂としては、例えば、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブテンなどの他に、αオレフィン（例えば、プロピレン、１－ブテン、１－ペンテン、１－ヘキセン、１－ヘプテン、１－オクテン、１－ノネン、１－デセン、１－ウンデセン、１－ドデセン、トリデセン、１－テトラデセン、１－ペンタデセン、１－ヘキサデセン、１－ヘプタデセン、１－オクタデセン、１－ノナデセン、１－エイコセン、３－メチル－１－ブテン、３－メチル－１－ペンテン、３－エチル－１－ペンテン、４－メチル－１－ペンテン、４－メチル－１－ヘキセン、４，４－ジメチル－１－ペンテン、４－エチル－１－ヘキセン、３－エチル－１－ヘキセン、９－メチル－１－デセン、１１－メチル－１－ドデセン、１２－エチル－１－テトラデセンなど）を単独重合あるいは二種類以上共重合させたものや、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・ビニルアルコール共重合体、エチレン・メチルメタクリレート共重合体、エチレン・エチルメタクリレート共重合体、エチレン・ブチルメタクリレート共重合体、エチレン・メチルアクリレート共重合体、エチレン・エチルアクリレート共重合体、エチレン・ブチルアクリレート共重合体などのように、エチレン又はαオレフィンとそれ以外のモノマーとを共重合させたものが挙げられる。

　また、化粧シート１の表面強度の向上を図るために、透明樹脂層４の樹脂として、高結晶性のポリプロピレンを用いることが好ましい。なお、透明樹脂層４には、必要に応じて、例えば、熱安定剤、光安定剤、ブロッキング防止剤、触媒捕捉剤、着色剤、光散乱剤、及び艶調整剤等の各種添加剤を添加することもできる。熱安定剤としては、フェノール系、硫黄系、リン系、ヒドラジン系等を、光安定剤としては、ヒンダードアミン系等を、それぞれ任意の組合せで添加するのが一般的である。

　＜表面保護層５＞
　表面保護層５は、コア部５Ａとコア部５Ａの一方の面から畝状に突出して設けられた畝状部５Ｂとを有している。これにより、表面保護層５の表面には、凹凸形状が形成されている。
　ここで、本実施形態に係る化粧シート１において、「畝状」とは、細長く盛り上がり、平面視で線状に連なった形状であることをいう。畝状部５Ｂは、平面視で曲線状であっても直線状であっても良いが、化粧シート１表面の耐指紋性の観点から曲線状であることが好ましい。また、本開示において、畝状部５Ｂは、例えば、表面保護層５の表面に設けられた凹凸形状の最も低い部分から先端までの部分であり、コア部５Ａは表面保護層５の畝状部５Ｂを除く部分をいうものとする。

　図２は、表面保護層５の畝状部５Ｂの断面（表面保護層５の厚さ方向における断面）を模式的に示す断面図であり、図３は、表面保護層５の表面の構成を示す平面写真である。ここで、図３は、レーザ顕微鏡（オリンパス製　ＯＬＳ－４０００）により得た平面写真である。
　畝状部５Ｂは、図３の平面写真に示すように、細長く盛り上がり、平面視で線状に連なった形状となっている。畝状部５Ｂは、後述するように、電離放射線硬化性樹脂の表面に対して特定波長の光を照射して、電離放射線硬化性樹脂の表面を収縮させることにより形成される。

　このような畝状部５Ｂの形状は、横方向（表面保護層５の平面方向であって、図２においては左右方向）の表面粗さの指標ＲＳｍ（μｍ）と縦方向（畝状部５Ｂの深さ方向、表面保護層５の厚さ方向であって、図２においては上下方向）の表面粗さの指標Ｒａ（μｍ）の比ＲＳｍ／Ｒａで示すことができ、ＲＳｍ／Ｒａは、１０以上３００以下であることが好ましい。より好ましくは、１０以上２５０以下である。ＲＳｍ／Ｒａが１０未満の場合、畝状部５Ｂの形状が細かすぎるため、汚れをふき取りにくくなり、耐汚染性が悪くなる。ＲＳｍ／Ｒａが３００より大きい場合、畝形状の間隔が広すぎるため、低光沢にならない。

　また、ＲＳｍ／Ｒａは、さらに好ましくは、５０以上２００以下である。ＲＳｍ／Ｒａがこの数値範囲内であれば、畝形状の間隔が適度に広いため、水または洗浄剤（界面活性剤やアルコールを含んだ水）に対する親和性が向上する。そのため、ＲＳｍ／Ｒａが当該数値範囲内にある化粧シートであれば、仮に化粧シート表面が汚れた場合であっても、水または洗浄剤を用いて汚れをふき取ることが容易となる。
　また、ＲＳｍ／Ｒａは、最も好ましくは、８０以上１５０以下である。ＲＳｍ／Ｒａがこの数値範囲内であれば、一般的に市販されている洗浄用スポンジが畝形状の間に侵入しやすくなり、仮に化粧シート表面が汚れた場合であっても、一般的に市販されている洗浄用スポンジを用いて汚れをふき取ることが容易となる。
　ここで、Ｒａ及びＲＳｍは、線粗さ計を用いて測定した場合の測定値である（ＪＩＳ　Ｂ０６０１に準拠）。

　畝状部５Ｂの表面保護層５の厚さ方向における断面形状は、正弦波形状であってもよい。
　ここで、「正弦波形状」とは、図４に示すように、畝状部５Ｂの最も低い位置Ｃから最も高い位置（頂点）Ｄに至る線を正弦波で表現可能な形状をいう。
　また、隣り合う畝状部５Ｂ同士の間（谷間）の形状は、凹状の湾曲形状であってもよい。つまり、畝状部５Ｂの最も低い位置Ｃの形状は、凹状の湾曲形状であってもよい。

　以下、畝状部５Ｂが形成されるメカニズムについて説明する。
　アクリレートに、第１の照射光として波長２００ｎｍ以下の光を照射すると、アクリレートは自己励起することが可能である。したがって、アクリレートに２００ｎｍ以下の光を照射することにより、アクリレートを架橋させることが可能となる。２００ｎｍ以下の光は、アクリレートにおいて数十～数百ｎｍ程度の深さまで到達する。そのため、表面のみ架橋し、その下の部分が流動性を持つため、折畳みシワの様な波状に連なる微細な凹凸形状が生じる。
　２００ｎｍ以下の光は、大気中の酸素に吸収され大きく減衰する。そのため、アクリレートを処理する際には、窒素ガスを導入して反応雰囲気を制御する必要がある。反応雰囲気中の残留酸素濃度は、２０００ｐｐｍ以下に抑えることが好ましい。より好ましくは、反応雰囲気中の残留酸素濃度が１０００ｐｐｍ以下である。

　第１の照射光である波長２００ｎｍ以下の光により凹凸形状を生じさせるためには、第１の照射光の積算光量を０．５ｍＪ／ｃｍ^２以上２００ｍＪ／ｃｍ^２以下とすることが好ましい。より好ましくは、積算光量が１ｍＪ／ｃｍ^２以上１００ｍＪ／ｃｍ^２以下である。さらに好ましくは、積算光量が３ｍＪ／ｃｍ^２以上５０ｍＪ／ｃｍ^２以下である。最も好ましくは、積算光量が５ｍＪ／ｃｍ^２以上３０ｍＪ／ｃｍ^２以下である。積算光量が０．５ｍＪ／ｃｍ^２より少ない場合、硬化収縮反応が弱く、凹凸形状が十分に形成されないため、光沢が下がらない。積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ^２より多い場合、硬化収縮反応が強くなり過ぎて表面状態が悪くなる。

　第１の照射光である波長２００ｎｍ以下の光は、エキシマＶＵＶ光により取り出すことができる。エキシマＶＵＶ光は希ガスや希ガスハライド化合物のランプから生み出すことができる。希ガスや希ガスハライド化合物のガスが封じられたランプに外部から高いエネルギーを有する電子を与えると放電プラズマ（誘電体バリア放電）が多数発生する。このプラズマ放電により、放電ガス（希ガス）の原子が励起され、瞬間的にエキシマ状態となる。このエキシマ状態から基底状態に戻るときに、そのエキシマ特有の波長領域の光を発する。

　エキシマランプに用いるガスは、２００ｎｍ以下の光を発するものであれば、従来用いられたいずれのガスであってもよい。ガスとしては、Ｘｅ、Ａｒ、Ｋｒ等の希ガスや、ＡｒＢｒ、ＡｒＦ等の希ガスとハロゲンガスとの混合ガスを用いることができる。エキシマランプは、ガスによって波長（中心波長）が異なり、例えば約１７２ｎｍ（Ｘｅ）、約１２６ｎｍ（Ａｒ）、約１４６ｎｍ（Ｋｒ）、約１６５ｎｍ（ＡｒＢｒ）、約１９３ｎｍ（ＡｒＦ）等の波長を有する。
　しかしながら、得られる光子エネルギーの大きさや、波長と、有機物の結合エネルギーとの差を考慮すると、中心波長が１７２ｎｍのエキシマ光を発するキセノンランプを光源として用いることが好ましい。また、設備維持にかかるコストや材料の入手等も併せて考慮すると、キセノンランプを光源として用いることが好ましい。

　第１の照射光である波長２００ｎｍ以下の光は、アクリレートにおいて、最表面から数十～数百ｎｍ程度の深さにしか到達しないため、２００ｎｍ以下の光が照射されて形成された畝状部５Ｂを有する表面保護層５の内部は流動性があり、さらに硬化反応を進めなくてはならない。２００ｎｍ以下の光を照射した後に表面保護層５を硬化するには、第２の照射光として、電離放射線や第１の照射光である波長２００ｎｍ以下の光よりも波長が長いＵＶ光を用いることができる。
　なお、本実施形態では、例えば、第２の照射光の照射後に、第３の照射光として、第２の照射光とは異なる種類の電離放射線や第２の照射光よりも波長が長いＵＶ光を照射してもよいが、第１の照射光及び第２の照射光の２種類の光の照射のみで畝状部５Ｂを有する表面保護層５を形成することが好ましい。ここで、第３の照射光は、第２の照射光の照射のみでは表面保護層５の強度が十分でない場合に照射してもよい。

　第２の照射光の照射により表面保護層５全体を硬化させるためには、第２の照射光の積算光量を１０ｍＪ／ｃｍ^２以上５００ｍＪ／ｃｍ^２以下とすることが好ましい。より好ましくは、積算光量が５０ｍＪ／ｃｍ^２以上４００ｍＪ／ｃｍ^２以下である。さらに好ましくは、積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ^２以上３００ｍＪ／ｃｍ^２以下である。積算光量が１０ｍＪ／ｃｍ^２より少ない場合、硬化反応が弱く、表面保護層５全体に十分に強度を付与できないため、耐傷性が低下する傾向がある。また、積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ^２より多い場合、硬化反応が強くなり過ぎて表面状態が悪くなる傾向がある。

　また、第２の照射光の積算光量は、第１の照射光の積算光量よりも大きいことが好ましい。第２の照射光の積算光量は、第１の照射光の積算光量の１．１倍以上５０．０倍以下が好ましく、５．０倍以上３０．０倍以下がより好ましい。第２の照射光の積算光量が第１の照射光の積算光量の１．１倍未満であると、硬化反応が弱く、表面保護層５全体に十分に強度を付与できないことがある。また、第２の照射光の積算光量が第１の照射光の積算光量の５０．０倍超であると、表面保護層５全体に対する硬化反応が強くなり過ぎて、畝状部５Ｂの形状が変形することがある。

　以下、第１の照射光の照射光量の時間変化、及び第２の照射光の照射光量の時間変化について、図５を参照しつつ説明する。
　図５は、第１の照射光の照射光量の時間変化、及び第２の照射光の照射光量の時間変化を模式的に示した図である。
　図５（ａ）、（ｃ）、（ｅ）、（ｇ）及び（ｉ）は、第１の照射光の照射光量の時間変化を模式的に示した図である。また、図５（ｂ）、（ｄ）、（ｆ）、（ｈ）及び（ｊ）は、第２の照射光の照射光量の時間変化を模式的に示した図である。

　第１の照射光の照射光量は、図５（ａ）に示すように、照射時間の経過とともに徐々に高くなり、その後照射時間の経過とともに徐々に低くなってもよい。また、第１の照射光の照射光量は、図５（ｃ）に示すように、照射時間の経過とともに徐々に低くなってもよい。また、第１の照射光の照射光量は、図５（e）に示すように、照射時間の経過とともに徐々に高くなってもよい。また、第１の照射光の照射光量は、図５（ｇ）に示すように、照射時間の経過とともに徐々に低くなり、その後照射時間の経過とともに徐々に高くなってもよい。また、第１の照射光の照射光量は、図５（ｉ）に示すように、照射開始から照射終了まで一定であってもよい。

　第２の照射光の照射光量は、図５（ｂ）に示すように、照射時間の経過とともに徐々に高くなり、その後照射時間の経過とともに徐々に低くなってもよい。また、第２の照射光の照射光量は、図５（ｄ）に示すように、照射時間の経過とともに徐々に低くなってもよい。また、第２の照射光の照射光量は、図５（ｆ）に示すように、照射時間の経過とともに徐々に高くなってもよい。また、第２の照射光の照射光量は、図５（ｈ）に示すように、照射時間の経過とともに徐々に低くなり、その後照射時間の経過とともに徐々に高くなってもよい。また、第２の照射光の照射光量は、図５（ｊ）に示すように、照射開始から照射終了まで一定であってもよい。

　また、本実施形態においては、図５（ａ）、（ｃ）、（ｅ）、（ｇ）及び（ｉ）に示した第１の照射光の照射形態と、図５（ｂ）、（ｄ）、（ｆ）、（ｈ）及び（ｊ）に示した第２の照射光の照射形態とを、適宜組み合わせて用いることができる。例えば、図５（ａ）に示した第１の照射光の照射形態と、図５（ｆ）に示した第２の照射光の照射形態とを組み合わせて用いてもよい。また、図５（ｇ）に示した第１の照射光の照射形態と、図５（ｆ）に示した第２の照射光の照射形態とを組み合わせて用いてもよい。なお、ＲＳｍ／Ｒａの値を、より好ましい範囲である１０以上３００以下に設定する場合には、図５（c）に示した第１の照射光の照射形態と、図５（f）に示した第２の照射光の照射形態とを組み合わせて用いるとよい。

　以上のように、２００ｎｍ以下の光照射により形成された畝状部５Ｂは、表面保護層５の表面にエンボス加工等の機械的な加工により形成された凹凸形状と比較して、微細な構造となっている。表面保護層５の表面にこのような微細な凹凸形状が形成されることにより、化粧シート１表面のマット感を維持しながら耐指紋性を向上させることが可能となる。
　表面保護層５の層厚は、２μｍ以上２０μｍ以下の範囲とすることが好ましい。より好ましくは、表面保護層５の層厚が３μｍ以上２０μｍ以下の範囲である。さらに好ましくは、表面保護層５の層厚が５μｍ以上１５μｍ以下の範囲である。最も好ましくは、表面保護層５の層厚が５μｍ以上１２μｍ以下の範囲である。表面保護層５の層厚を２μｍ未満とした場合、真空紫外光による賦形が深く入らず、低光沢化できない。また、表面保護層５の層厚を２０μｍより厚くした場合、加工性が低下し折り曲げ時に白化してしまう。

　また、表面保護層５の層厚は、畝状部５Ｂの層厚とコア部５Ａの層厚との比率（畝状部５Ｂの層厚／コア部５Ａの層厚）が０．０１以上２．０以下となるように設定することが好ましく、０．１以上１．０以下となるように設定すれば、より好ましい。
　ここで、絵柄層３と表面保護層５は、例えば、グラビア印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法、静電印刷法、インクジェット印刷法等の各種印刷方法によって形成することができる。また、表面保護層５は、原反層２の表面側の面の全面を被覆しているため、例えば、ロールコート法、ナイフコート法、マイクログラビアコート法、ダイコート法等の各種コーティング法によっても形成することができる。これらの印刷方法、あるいはコーティング方法は、形成する層によって別々に選択してもよいし、同じ方法を選択して一括加工してもよい。

　絵柄層３と表面保護層５は、意匠性の観点から同調させても良い。同調させる場合は、絵柄層３を形成した後に表面保護層５を一括形成する必要があるため、グラビア印刷法を用いることが好ましい。また、グラビア印刷法は比較的高速対応が可能なことから、コスト面でも有利であり好ましい。ここで、同調とは、表面保護層５が形成された部分の５０％以上、好ましくは７０％以上、最も好ましくは９０％以上が絵柄層３の絵柄部分と平面視で重なっていることを意味する。

　表面保護層５の層厚を調整するには、前述の印刷方法及びコーティング方法において塗布量を調整すればよい。塗布量は、各種印刷方法及びコーティング方法において、基材（原反層）に表面保護層を形成したものと、しないものとを作成し、その質量差から算出することができる。
　表面保護層５は、主材料が電離放射線硬化性樹脂である。ここで、主材料とは、表面保護層１００質量部に対し６０質量部以上、より好ましくは７０質量部以上、最も好ましくは８０質量部以上含むことを指す。表面保護層５を構成する電離放射線硬化性樹脂としては、各種モノマーや市販されているオリゴマーなど、公知のものを用いることができ、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹脂を使用できる。電離放射線硬化性樹脂は、水系樹脂又は非水系（有機溶剤系）樹脂の何れであっても良い。

　表面保護層５を構成する電離放射線硬化性樹脂の主成分は、繰り返し構造を含む３官能のアクリレート樹脂とする。３官能のアクリレート樹脂としては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、グリセリントリアクリレート、イソシアヌレートトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートなどを用いることができる。
　ここで、主成分とは、構成する樹脂成分１００質量部に対し６０質量部以上、より好ましくは７０質量部以上、最も好ましくは８０質量部以上含むことを指す。２官能のアクリレート樹脂の場合、架橋度が不足し、耐傷性が低下するため好ましくない。４官能以上のアクリレート樹脂の場合、架橋度が高くなり過ぎるため、加工性が低下し好ましくない。

　電離放射線硬化性樹脂は、塗工方式としてグラビア印刷法を用いる場合、好適粘度範囲は１０～５００ｍＰａ・ｓであり、最適粘度範囲は５０～３００ｍＰａ・ｓである。そのため、３官能のアクリレート樹脂としては、トリメチロールプロパントリアクリレートや、グリセリントリアクリレートを用いると、好適粘度範囲あるいは最適粘度範囲におさめることが可能であり好ましい。水素結合やπ－πスタッキングを引き起こす骨格を有する樹脂は、５００ｍＰａ・ｓ以上の高粘度である場合が多く好ましくない。また、粘度調整をするために、有機溶剤や粘度の低い２官能アクリレート樹脂を添加することができる。しかし、有機溶剤は環境負荷の観点から、使用しない方が好ましい。２官能アクリレート樹脂は、添加量が多いと耐傷性が低下するため好ましくない。そのため、２官能アクリレート樹脂を３官能アクリレート樹脂に添加して使用する場合、２官能アクリレート樹脂の含有量は、３官能アクリレート樹脂の含有量(質量)の１０質量％以上３０質量％以下の範囲内が好ましく、１５質量％以上２０質量％以下の範囲内がより好ましい。

　上記繰り返し構造は、エチレンオキサイド（ＥＯ）構造、プロピレンオキサイド（ＰＯ）構造、及びε－カプロラクトン（ＣＬ）構造のうちいずれかである。より好ましくは、繰り返し構造が、エチレンオキサイド、または、プロピレンオキサイドである。エチレンオキサイド構造、プロピレンオキサイド構造、及びε－カプロラクトン構造は、分子が自由回転可能で柔軟性が高いため、２００ｎｍ以下の光により分子が折りたたまれやすく、微細な凹凸形状が形成されやすいため好ましい。また、この繰り返し構造の繰り返し回数は、３以上とする。より好ましくは、３以上３０以下、最も好ましくは、３以上２０以下である。繰り返し回数が２以下の場合、真空紫外光（ＶＵＶ光）を照射した場合に、表面保護層５を構成する電離放射線硬化性樹脂が十分に収縮せず、表面保護層５が低光沢にならない。繰り返し回数が３０より大きい場合、架橋密度が低下し表面保護層５の耐傷性が悪くなる。

　上記繰り返し構造の繰り返し回数は、ＭＡＬＤＩ－ＴＯＦ－ＭＳを使用することで分析可能である。電離放射線硬化性樹脂は、分子量分布を持つ場合がある。分子量分布がある場合、前記繰り返し回数は、ＭＡＬＤＩ－ＴＯＦ－ＭＳのマススペクトルの最も強いピークを持つ分子量に相当する繰り返し回数とする。
　表面保護層５は、粒子を含んでいてもよい。最適な粒径及び最適な含有量の粒子を添加することで、均一な面を形成することができる。粒子としては、例えば、ＰＥワックス、ＰＰワックス、樹脂ビーズなどの有機材料、あるいは、シリカ、ガラス、アルミナ、チタニア、ジルコニア、炭酸カルシウム、硫酸バリウムなどの無機材料を用いることができる。

　粒子の平均粒径は、１０μｍ以下であることが好ましい。より好ましくは、１μｍ以上８μｍ以下であり、さらに好ましくは、２μｍ以上６μｍ以下であり、最も好ましくは、３μｍ以上５μｍ以下である。１０μｍより大きい場合、粒子脱落による耐傷性の低下が起きるため好ましくない。１μｍ未満の場合、面を均一化する効果が小さいため好ましくない。
　また、粒子の添加量は、電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対して０．５質量部以上１０質量部以下であることが好ましい。より好ましくは、粒子の添加量が２質量部以上８質量部以下であり、さらに好ましくは、２質量部以上６質量部以下であり、最も好ましくは、４質量部以上５質量部以下である。表面保護層５は、上述した添加量の粒子を含有することにより、均一な面状態を形成することができ、好ましい。

　ここで、「粒径（平均粒子径）」とは、用いる粒子の粒度分布測定により得られる値（平均値）としてもよいし、得られた化粧材の断面観察から、複数の粒子の粒径を実測して平均化した値であってもよい。両者は互いに測定手法は異なっているが、得られる粒径の値は実質的に同じものとなる。例えば、表面保護層５に添加される粒子の平均粒子径は、レーザ回折／散乱式粒子径分布測定装置で測定されたメジアン径（Ｄ５０）であってもよい。

　表面保護層５全体をＵＶ光により硬化させる場合には、表面保護層５に光開始剤を添加する必要がある。光開始剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、ベンゾフェノン系、アセトフェノン系、ベンゾインエーテル系、チオキサントン系等があげられる。
　表面保護層５は、要求される機能を付与するために抗菌剤、防カビ剤等の機能性添加剤の添加も任意に行うことができる。また、表面保護層５には、必要に応じて紫外線吸収剤、光安定剤を添加することもできる。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系、ベンゾフェノン系、トリアジン系等を、また光安定剤としては、例えば、ヒンダードアミン系等を、任意の組み合わせで添加するのが一般的である。

　このような化粧シート１は、艶調整剤（艶消し添加剤）を含有していないにも拘らず、光沢度が５．０以下となり、光沢度が極めて低い化粧シートとなる。従来の化粧シートにおいて、表面保護層を有する化粧シートの光沢度が８以下となった場合、表面保護層内における艶調整剤の含有率が高く、表面保護層が白濁してしまう。このため、着色絵柄層の色彩、絵柄が鮮明に発現しなかったり、化粧シートの意匠性が低下してしまったりするおそれがあった。さらに、光沢度が０に近い化粧シートを得ようとする場合、表面保護層内における艶調整剤の含有率がさらに高いため、表面保護層の形成時にスジやムラ等を発生させずに表面が平滑な表面保護層を形成することが困難であった。

　化粧シート１は、２０以上の光沢度を有する化粧シートと同程度の性能を維持したまま、光沢度が５．０以下の低光沢度の化粧シートを得ることができる。ここで、「光沢度」は、ＪＩＳ　Ｚ８７４１に準拠した光沢度計を用いて入射角６０度で測定した場合の測定値である。

　＜隠蔽層８＞
　また、化粧シート１に基材Ｂに対する隠蔽性を付与したい場合には、原反層２に着色シートを用いることや、別途不透明な隠蔽層８を設けることで対応可能である。隠蔽層８としては、基本的には絵柄層３と同じ材料から構成することができるが、隠蔽性を目的としているので、顔料としては、例えば不透明な顔料、酸化チタン、酸化鉄等を使用することが好ましい。また隠蔽性を上げるために、例えば、金、銀、銅、アルミ等の金属を添加することも可能である。一般的にはフレーク状のアルミを添加させることが多い。

（製造方法）
　化粧シート１の製造例について説明する。
　原反層２として樹脂フィルムを用い、原反層２の上面に表面保護層５を印刷によって成形する。表面保護層５は、塗布された電離放射線硬化性樹脂の表面に対して波長２００ｎｍ以下の光（第１の照射光）を照射して電離放射線硬化性樹脂の表面を収縮させる。続いて、収縮させた電離放射線硬化性樹脂を硬化させるため、電離放射線または第１の照射光である波長２００ｎｍ以下の光よりも波長が長いＵＶ光を照射する。以上により、コア部５Ａとコア部５Ａの一方の面（上面）から畝状に突出して設けられた畝状部５Ｂとを有する表面保護層５を備える化粧シート１が形成される。

　なお、本実施形態は、上述した実施形態に限定されるものではなく、例えば、収縮させた電離放射線硬化性樹脂を硬化させるため、電離放射線、または第１の照射光である波長２００ｎｍ以下の光よりも波長が長いＵＶ光を１回だけ照射してもよい。また、その際、第１の照射光である波長２００ｎｍ以下の光の積算光量を０．５ｍＪ／ｃｍ^２以上２００ｍＪ／ｃｍ^２以下としてもよい。

（作用その他）
　本実施形態に係る化粧シート１は、表面に凹凸形状が形成された表面保護層５を備えている。この構成によれば、表面保護層に艶調整剤（艶消し添加剤）を含まなくても、表面保護層の艶（光沢度）を調整することができる。艶調整剤は、樹脂材料により形成した層の撥油性を低下させるため、指紋が付きやすくなる。本実施形態に係る表面保護層５は、艶調整剤を含まないため、油を吸収せず相対的に撥油性が向上する。このため、現場施工時や家具組立て時、居住者の日常生活時の様々な場面において、表面保護層５を有する化粧シート１には、指紋が付着しにくくなる。

　さらに、表面に凹凸形状が形成された表面保護層５の構成によれば、表面保護層５の撥油性が向上し、化粧シート１表面への油染みや汚染物質の吸着を抑制することが可能となる。
　また、艶調整剤を含まない表面保護層５の構成によれば、化粧シート１の表面を引っ掻いた際に艶調整剤の粒子が脱落せず、化粧シート１表面の艶変化や引っ掻き傷を生じにくくすることが可能である。

　本実施形態では、表面保護層５を一層で形成していたが、このような構成に限定されるものではない。例えば、表面保護層５を多層とした構成であっても良い。すなわち、表面保護層５は、同一の電離放射線硬化性樹脂を複数層積層したり、異なる電離放射線硬化性樹脂を複数層積層したりして、表面に凹凸形状を形成しても良い。異なる電離放射線硬化性樹脂を複数層積層する場合には、例えば、表面保護層５の最表層は、主材料が電離放射線硬化性樹脂であり、その電離放射線硬化性樹脂は、主成分が繰り返し構造を含む３官能のアクリル樹脂であり、その繰り返し構造はエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、及びε－カプロラクトンの各構造のうちいずれかであり、その繰り返し構造の繰り返し回数は３以上であり、表面保護層５の原反層２側に位置する層（即ち、表面保護層５の最表層の下層に位置する層）は、特に限定されない。

［実施例］
　以下に、本発明に基づく実施例について説明する。
　＜実施例１＞
　厚さ５５μｍのオレフィンフィルム（リケンテクノス社製）を原反層とし、原反層の一方の面にコロナ処理を施し、その一方の面に対して、下記の表面保護層用塗液を塗布した。表面保護層用塗液の層厚は、５μｍとした。その後、表面保護層用塗液の表面に対して波長１７２ｎｍのＸｅエキシマランプを積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ^２となるように照射し表面を収縮させた。続いて、電離放射線を１００ｋＧｙ照射し、表面保護層用塗液を硬化することで、表面保護層５を形成し、総厚６０μｍからなる実施例１の化粧シートを得た。

　（表面保護層用塗液）
　表面保護層用塗液は、下記の電離放射線硬化性樹脂に、下記の粒子を配合して構成した。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：トリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレート（ＥＯ６モル付加）
　品名：Ｍｉｒａｍｅｒ　Ｍ３１６０（Ｍｉｗｏｎ社製）
　配合：１００質量部
・粒子
　品名：サイリシア２５０Ｎ（富士シリシア化学社製）
　粒径：５μｍ
　配合：０．５質量部

　＜実施例２＞
　実施例１の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て実施例１と同様にして実施例２の化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：トリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレート（ＥＯ１５モル付加）
　品名：ＳＲ９０３５（Ｓａｒｔｏｍｅｒ社製）
　＜実施例３＞
　実施例１の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て実施例１と同様にして実施例３の化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：トリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレート（ＥＯ３モル付加）
　品名：Ｍｉｒａｍｅｒ　Ｍ３１３０（Ｍｉｗｏｎ社製）

　＜実施例４＞
　実施例１の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て実施例１と同様にして実施例４の化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：トリメチロールプロパンＰＯ変性トリアクリレート（ＰＯ６モル付加）
　品名：ＮＫエステルＡ－ＴＭＰＴ－６ＰＯ（新中村化学社製）
　＜実施例５＞
　実施例１の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て実施例１と同様にして実施例５の化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：カプロラクトン変性トリスー（２－アクリロキシエチル）イソシアヌレート（カプロラクトン（ＣＬ）３モル付加）
　品名：ＮＫエステルＡ－９３００－３ＣＬ（新中村化学社製）

　＜実施例６＞
　実施例１の表面保護層用塗液の層厚を１μｍとした以外は、全て実施例１と同様にして、総厚５６μｍからなる実施例６の化粧シートを得た。
　＜実施例７＞
　実施例１の表面保護層用塗液の層厚を２μｍとした以外は、全て実施例１と同様にして、総厚５７μｍからなる実施例７の化粧シートを得た。

　＜実施例８＞
　実施例１の表面保護層用塗液の層厚を２０μｍとした以外は、全て実施例１と同様にして、総厚７５μｍからなる実施例８の化粧シートを得た。
　＜実施例９＞
　実施例１の表面保護層用塗液の層厚を２５μｍとした以外は、全て実施例１と同様にして、総厚８０μｍからなる実施例９の化粧シートを得た。

　＜実施例１０＞
　実施例９の粒子を配合なしとした以外は、全て実施例９と同様にして実施例１０の化粧シートを得た。
　＜実施例１１＞
　実施例３の粒子を配合なしとした以外は、全て実施例３と同様にして実施例１１の化粧シートを得た。

　＜実施例１２＞
　実施例１の粒子を下記に置き換えた以外は、全て実施例１と同様にして実施例１２の化粧シートを得た。
・粒子
　品名：サイリシア４５０（富士シリシア化学社製）
　粒径：８．０μｍ
　配合：０．５質量部

　＜実施例１３＞
　実施例１の粒子を下記に置き換えた以外は、全て実施例１と同様にして実施例１３の化粧シートを得た。
・粒子
　品名：サイリシア７８０（富士シリシア化学社製）
　粒径：１１．３μｍ
　配合：０．５質量部

　＜実施例１４＞
　実施例１の粒子の配合量を１０質量部とした以外は、全て実施例１と同様にして実施例１４の化粧シートを得た。
　＜実施例１５＞
　実施例１の粒子の配合量を１１質量部とした以外は、全て実施例１と同様にして実施例１５の化粧シートを得た。
　＜実施例１６＞
　実施例１の表面保護層用塗液の層厚を１μｍとし、粒子をなしとした以外は、全て実施例１と同様にして、総厚５６μｍからなる実施例１６の化粧シートを得た。

　＜比較例１＞
　実施例１のエキシマランプ照射をなくし、粒子の配合量を１５質量部とした以外は、全て実施例１と同様にして比較例１の化粧シートを得た。
　＜比較例２＞
　実施例１の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て実施例１と同様にして比較例２の化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：エチレングリコールジアクリレート（ＥＯ９モル付加）
　品名：ライトアクリレート９ＥＧ－Ａ（共栄社化学社製）

　＜比較例３＞
　実施例１の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て実施例１と同様にして比較例３の化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＥＯ３５モル付加）
　品名：ＮＫエステルＡＴＭ－３５Ｅ（新中村化学社製）
　＜比較例４＞
　実施例１の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て実施例１と同様にして比較例４の化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：トリメチロールプロパントリアクリレート
　品名：ＮＫエステルＡ－ＴＭＰＴ（新中村化学社製）

（評価）
　上記の方法により得られた実施例１～１６及び比較例１～４の化粧シートについて評価を行った。
　本実施例において「○」及び「△」の評価であれば、実際に使用する上で問題がないため、合格とした。

　＜面状態＞
　面状態は、目視にて、面の均一性を評価した。
　評価基準は下記のとおりとした。
　〇：均一な面状態
　△：一部に、不均一な部分あり
　×：全面不均一な面状態

　＜光沢度＞
　光沢度は、Ｒｈｏｐｏｉｎｔ　ＩＱ（コニカミノルタ社製）を用いて、６０度の光沢度を測定した。
　なお、光沢度が１５以下であれば、十分に低光沢と視認されるため、本実施例では「１５以下」を合格とした。

　＜耐指紋性：拭き取り性評価＞
　耐指紋性評価として、指紋のふき取り性評価を実施した。
　各化粧シートの表面の６０度の光沢度を測定して、［初期光沢度］とした。続いて、表面保護層上に耐指紋評価液を付着させた後、化粧シート表面に付着した耐指紋評価液を拭き取った。その後、耐指紋評価液を拭き取った部分の６０度の光沢度を測定して、［拭き取り後光沢度］とした。ここで、耐指紋評価液として、高級脂肪酸を用いた。
　指紋拭き取り率は、下記のとおり算出した。
　指紋拭き取り率（％）＝（拭き取り後光沢度／初期光沢度）×１００
　評価基準は、下記の通りとした。
　〇：７０％以上２５０％未満
　△：５０％以上７０％未満、もしくは２５０％以上３００％未満
　×：５０％未満、もしくは３００％以上

　＜耐汚染性＞
　耐汚染性評価として、日本農林規格（JAS：Japanese Agricultural Standards）に規定する汚染Ａ試験により、青色インキ、黒色速乾性インキ及び赤色クレヨンでそれぞれ幅１０ｍｍの線を引き、４時間放置した後、エタノールを布に含ませて青色インキ、黒色速乾性インキ及び赤色クレヨンの線を拭き取り、インキによる耐汚染性を評価した。
　評価基準は、下記の通りとした。
　〇：各色の線を容易に拭き取ることができた
　△：各色の線の一部を拭き取ることができるが、一部に汚れが残る
　×：各色の線を拭き取ることができない

　＜耐傷性試験：スチールウールラビング試験＞
　得られた化粧シートをウレタン系の接着剤を用いて木質基板Ｂに貼り付けた後、耐傷性評価として、スチールウールラビング試験を実施した。スチールウールに１００ｇの荷重をかけて２０往復擦り、化粧シート表面に生じた傷や光沢の変化を目視にて確認した。
　評価基準は、下記の通りとした。
　〇：表面に傷や光沢の変化が発生しない
　△：表面に軽微な傷や光沢の変化が発生した
　×：表面に著しい傷や光沢の変化が発生した

　＜曲げ加工性試験＞
　得られた化粧シートを、原反層側の面（即ち、化粧シートの裏面）が木質基板Ｂ側を向くようにして、ウレタン系の接着剤を用いて木質基板Ｂに貼り付けた後、化粧シートに傷がつかないようにＶ型の溝を木質基板Ｂと化粧シート１とを貼り合わせている境界まで入れる。
　次に、化粧シートの表面保護層側の面（即ち、化粧シートの表面）が山折りとなるように木質基板Ｂを当該Ｖ型の溝に沿って９０度まで曲げ、化粧シートの表面の折れ曲がった部分に白化や亀裂が生じていないかを光学顕微鏡を用いて観察し、曲げ加工性の状態について評価を行った。
　評価基準は、下記のとおりとした。
　〇：白化や亀裂が見られない
　△：一部に白化が見られる
　×：全面に白化が見られるか、一部に亀裂が見られる
　評価結果を、表１及び表２に示す。

　表１に示すように、実施例１～１６の化粧シートであれば、低光沢でありながら、耐指紋性、耐傷性、耐汚染性、曲げ加工性を両立した化粧シートを提供することができる。表面保護層の表面形状及び表面保護層の樹脂組成以外にも、表面保護層の層厚や、配合する粒子の粒径及び添加量を最適化することで、さらなる性能向上が可能となる。

１　　　化粧シート
２　　　原反層
３　　　絵柄層
４　　　透明樹脂層
５　　　表面保護層
６　　　プライマ層
７　　　接着層
８　　　隠蔽層
１１　　化粧材
Ｂ　　　基板

Claims

　原反層と、前記原反層の一方の表面に設けられた表面保護層と、を備え、
　前記表面保護層は、その表面に、畝状に突出して設けられた畝状部を有し、凹凸形状が形成されており、
　前記表面保護層の前記凹凸形状のＲＳｍ／Ｒａは、１０以上３００以下の範囲内であり、
　前記表面保護層は、主材料が電離放射線硬化性樹脂であり、
　前記電離放射線硬化性樹脂は、主成分が繰り返し構造を含む３官能のアクリル樹脂であり、
　前記繰り返し構造は、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、及びε－カプロラクトンの各構造のうちいずれかであり、
　前記繰り返し構造の繰り返し回数は、３以上であることを特徴とする化粧シート。
　前記表面保護層の厚さは、２μｍ以上２０μｍ以下の範囲内であることを特徴とする請求項１に記載の化粧シート。
　前記表面保護層は、平均粒径が１０μｍ以下の粒子を含むことを特徴とする請求項２に記載の化粧シート。
　前記粒子の添加量が、前記電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対して、０．５質量部以上１０質量部以下の範囲内であることを特徴とする請求項３に記載の化粧シート。
　前記表面保護層の光沢度は、５．０以下であることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載の化粧シート。
　前記表面保護層は、コア部と、前記コア部上に形成された前記畝状部とを備え、
　前記畝状部の層厚と、前記コア部の層厚との比率（畝状部の層厚／コア部の層厚）は、０．０１以上２．０以下の範囲内であることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれかに記載の化粧シート。
　前記表面保護層は、コア部と、前記コア部上に形成された前記畝状部とを備え、
　前記畝状部の層厚と、前記コア部の層厚との比率（畝状部の層厚／コア部の層厚）は、０．１以上１．０以下の範囲内であることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれかに記載の化粧シート。
　前記表面保護層の前記凹凸形状のＲＳｍ／Ｒａは、８０以上１５０以下の範囲内であることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれかに記載の化粧シート。
　前記畝状部の前記表面保護層の厚さ方向における断面形状は、正弦波形状であることを特徴とする請求項１から請求項８のいずれかに記載の化粧シート。
　前記３官能のアクリル樹脂は、グリセリントリアクリレート、イソシアヌレートトリアクリレート、またはペンタエリスリトールトリアクリレートで構成された樹脂であることを特徴とする請求項１から請求項８のいずれかに記載の化粧シート。
　塗布された電離放射線硬化性樹脂の表面に対して、波長２００ｎｍ以下の光を照射した後に、電離放射線、または前記波長２００ｎｍ以下の光よりも波長が長いＵＶ光を照射することで、
　畝状に突出した畝状部を有する表面保護層を形成することを特徴とする化粧シートの製造方法。
　前記波長２００ｎｍ以下の光は、波長１７２ｎｍであることを特徴とする請求項１１に記載の化粧シートの製造方法。
　塗布された電離放射線硬化性樹脂の表面に対して、波長２００ｎｍ以下の光を照射した後に、電離放射線、または前記波長２００ｎｍ以下の光よりも波長が長いＵＶ光を１回照射することのみで、
　畝状に突出した畝状部を有する表面保護層を形成し、
　前記波長２００ｎｍ以下の光の積算光量を０．５ｍＪ／ｃｍ^２以上２００ｍＪ／ｃｍ^２以下の範囲内とすることを特徴とする請求項１１または請求項１２に記載の化粧シートの製造方法。
　前記波長２００ｎｍ以下の光よりも波長が長いＵＶ光の積算光量を１０ｍＪ／ｃｍ^２以上５００ｍＪ／ｃｍ^２以下の範囲内とすることを特徴とする請求項１１から請求項１３のいずれか１項に記載の化粧シートの製造方法。
　塗布された電離放射線硬化性樹脂の表面に対して、波長２００ｎｍ以下の光を照射した後に、電離放射線を照射することで、
　畝状に突出した畝状部を有する表面保護層を形成することを特徴とする請求項１１または請求項１２に記載の化粧シートの製造方法。
　粘度範囲が１０ｍＰａ・ｓ以上５００ｍＰａ・ｓ以下である前記電離放射線硬化性樹脂を塗布することを特徴とする請求項１１から請求項１５のいずれか１項に記載の化粧シートの製造方法。