WO2023282295A1 - 化粧シート、及び化粧シートの製造方法 - Google Patents

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WO2023282295A1
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surface protective
light
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絵理佳 阿久津
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凸版印刷株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to a decorative sheet used for surface decoration of interiors and exteriors of buildings, fittings, furniture, fitting materials, flooring materials, etc., and a method for manufacturing the decorative sheet.
  • Decorative sheets are attached to the surface of wood, wooden boards, metal plates, non-combustible boards, paper substrates, or resin substrates via adhesives, etc., in order to give design and durability to the surfaces of the above-mentioned buildings. By combining them into a decorative board, they are generally widely used.
  • a pattern such as wood grain or stone grain is formed using various printing methods, or a plain surface without a pattern is selected according to the requirements and application.
  • surface glossiness is also an important item in terms of design, and is selected according to requirements and applications, ranging from high glossiness like a mirror surface to low glossiness with no glare.
  • the imparting of durability is mentioned as an important function of the decorative sheet along with the design.
  • Durability is a comprehensive evaluation of scratch resistance, stain resistance, and whether they can be guaranteed over a long period of time.
  • For imparting durability it is common to form a surface protective layer on the outermost surface of the decorative sheet.
  • a glossiness adjusting agent matrix additive
  • the decorative sheet is generally subjected to processing such as cutting and bending in order to form a decorative plate or decorative material, it is preferable that the decorative sheet have workability that can withstand such processing.
  • a decorative sheet considering designability (low gloss), scratch resistance, and stain resistance, there is a decorative sheet described in Patent Document 1, for example.
  • the present invention provides a decorative sheet having low gloss and excellent design properties, and having fingerprint resistance and high durability (especially scratch resistance and stain resistance) and its
  • the object is to provide a manufacturing method.
  • the present inventor optimized the uneven shape of the surface protective layer in order to achieve low gloss, and repeated experiments to find the necessary structural elements for the material used for the surface protective layer.
  • the present inventors have found that it is possible to provide a decorative sheet exhibiting fingerprint resistance and high durability (especially scratch resistance and stain resistance).
  • a decorative sheet includes a raw fabric layer and a surface protective layer provided on one surface of the raw fabric layer, the surface protective layer
  • the surface has a ridge-shaped portion protruding in a ridge-like shape, and an uneven shape is formed, and the RSm/Ra of the uneven shape of the surface protective layer is in the range of 10 or more and 300 or less
  • the main material of the surface protective layer is an ionizing radiation-curable resin
  • the ionizing radiation-curable resin is an acrylic resin containing a repeating structure as a main component
  • the acrylic resin has a dipentaerythritol skeleton
  • the repeating structure is one of ethylene oxide, propylene oxide, and ⁇ -caprolactone structures, and the number of repetitions of the repeating structure is 12 or more.
  • a decorative sheet that is low in gloss and has both fingerprint resistance, scratch resistance, and stain resistance.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating one configuration of a surface protective layer of a decorative sheet according to an embodiment of the present invention
  • FIG. 1 is a plan photograph showing one configuration example of the surface of a surface protective layer of a decorative sheet according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 is a schematic diagram illustrating temporal changes in irradiation light amounts of each irradiation light in the manufacturing process of the decorative sheet according to the embodiment of the present invention.
  • FIG. 1 A configuration of a decorative sheet according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
  • the drawings are schematic, and the relationship between the thickness and the planar dimension, the ratio of the thickness of each layer, and the like are different from the actual ones.
  • the embodiments shown below are examples of configurations for embodying the technical idea of the present invention. Various modifications can be made within the technical scope.
  • the decorative sheet 1 of the present embodiment includes a pattern layer 3 and an adhesive layer 7 (a heat-sensitive adhesive layer, an anchor coat layer) on the surface side, which is one surface of a raw fabric layer (base material layer) 2. , dry laminate adhesive layer), a transparent resin layer 4 and a surface protective layer 5 are laminated in this order.
  • a concealing layer 8 and a primer layer 6 are provided on the back surface side, which is the other surface of the raw fabric layer 2 .
  • the pattern layer 3, the adhesive layer 7, the transparent resin layer 4, the concealing layer 8, and the primer layer 6 may be omitted.
  • the decorative sheet 1 of the present embodiment constitutes a decorative material 11 by being attached to a substrate B, as shown in FIG.
  • the substrate B is not particularly limited, but is composed of, for example, wooden boards, inorganic boards, metal plates, composite plates made of a plurality of materials, and the like.
  • a material selected arbitrarily from paper, synthetic resin, synthetic resin foam, rubber, non-woven fabric, synthetic paper, metal foil, and the like can be used.
  • paper include thin paper, titanium paper, and resin-impregnated paper.
  • synthetic resins include polyethylene, polypropylene, polybutylene, polystyrene, polycarbonate, polyester, polyamide, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl alcohol, and acrylic.
  • Examples of rubber include ethylene-propylene copolymer rubber, ethylene-propylene-diene copolymer rubber, styrene-butadiene copolymer rubber, styrene-isoprene-styrene block copolymer rubber, styrene-butadiene-styrene block copolymer rubber, polyurethane, and the like.
  • Organic or inorganic nonwoven fabrics can be used as the nonwoven fabric.
  • Examples of the metal of the metal foil include aluminum, iron, gold, and silver.
  • the surface of the raw fabric layer 2 is often in an inactive state. It is preferable to provide in order to improve the adhesiveness between the raw fabric layer 2 made of an olefin-based material and the base material B, the raw fabric layer 2 may be treated with, for example, corona treatment, plasma treatment, ozone treatment, or electron beam treatment. , ultraviolet treatment, dichromic acid treatment, or other surface modification treatment may be applied.
  • the primer layer 6 the same material as the pattern layer 3, which will be described later, can be used.
  • the primer layer 6 is applied to the back surface of the decorative sheet 1, considering that the decorative sheet 1 is wound in a web shape, the primer layer 6 is applied to avoid blocking and to enhance adhesion to the adhesive. 6 may be added with an inorganic filler.
  • inorganic fillers include silica, alumina, magnesia, titanium oxide, and barium sulfate.
  • the layer thickness of the raw fabric layer 2 is preferably in the range of 20 ⁇ m or more and 250 ⁇ m or less in consideration of printing workability, cost, and the like.
  • the pattern layer 3 is a pattern-printed layer applied to the raw fabric layer 2 using ink.
  • the binder for the ink for example, nitrocellulose, cellulose, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral, polyurethane, acrylic, polyester, and the like can be used alone or modified from among them.
  • the binder may be of water-based, solvent-based or emulsion type, and may be of one-liquid type or two-liquid type using a curing agent.
  • a method of using curable ink and curing the ink by irradiation with ultraviolet rays, electron beams, or the like may be used.
  • urethane-based ink and cure it with isocyanate.
  • coloring agents such as pigments and dyes contained in ordinary ink, extender pigments, solvents, and various additives are added to the pattern layer 3 .
  • highly versatile pigments include condensed azo, insoluble azo, quinacridone, isoindoline, anthraquinone, imidazolone, cobalt, phthalocyanine, carbon, titanium oxide, iron oxide, and pearl pigments such as mica.
  • ink In addition to the application of ink, it is also possible to design the pattern layer 3 by vapor deposition or sputtering of various metals. In particular, it is preferable to add a light stabilizer to the ink, so that deterioration of the decorative sheet 1 itself caused by light deterioration of the ink can be suppressed and the life of the decorative sheet 1 can be extended.
  • the adhesive layer 7 is a layer also called a heat-sensitive adhesive layer, an anchor coat layer, or a dry laminate adhesive layer.
  • the resin material of the adhesive layer 7 is not particularly limited, but can be appropriately selected and used from, for example, acrylic, polyester, polyurethane, epoxy, and other resin materials.
  • the coating method can be appropriately selected depending on the viscosity of the adhesive, etc., but generally gravure coating is used, and after coating the upper surface of the pattern layer 3 by gravure coating, the transparent resin layer is applied. 4 and laminated.
  • the adhesive layer 7 can be omitted if sufficient adhesive strength can be obtained between the transparent resin layer 4 and the pattern layer 3 .
  • olefin resin As the resin material for the transparent resin layer 4, an olefin resin is preferably used.
  • olefinic resins include polypropylene, polyethylene, polybutene, ⁇ -olefins (eg, propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-heptene, 1-octene, 1-nonene, 1 -decene, 1-undecene, 1-dodecene, tridecene, 1-tetradecene, 1-pentadecene, 1-hexadecene, 1-heptadecene, 1-octadecene, 1-nonadecene, 1-eicosene, 3-methyl-1-butene, 3 -methyl-1-pentene, 3-ethyl-1-pentene, 4-methyl-1-pentene, 4-methyl-1-hexene, 4,4-dimethyl-1-pentene, 4-ethyl
  • the resin of the transparent resin layer 4 in order to improve the surface strength of the decorative sheet 1, it is preferable to use highly crystalline polypropylene as the resin of the transparent resin layer 4.
  • Various additives such as heat stabilizers, light stabilizers, antiblocking agents, catalyst scavengers, coloring agents, light scattering agents, and luster modifiers are added to the transparent resin layer 4 as necessary. You can also As heat stabilizers, phenol, sulfur, phosphorus, hydrazine, etc., and as light stabilizers, hindered amines, etc. are generally added in arbitrary combinations.
  • the surface protective layer 5 has a core portion 5A and a ridged portion 5B protruding from one surface of the core portion 5A. As a result, the surface of the surface protective layer 5 is formed with an uneven shape.
  • the term “ridged” refers to a shape in which the ridges are elongated and linearly connected in a plan view.
  • the ridges 5B may be curved or linear in plan view, but are preferably curved from the viewpoint of fingerprint resistance of the surface of the decorative sheet 1 .
  • the ridged portion 5B is, for example, the portion from the lowest portion of the uneven shape provided on the surface of the surface protective layer 5 to the tip, and the core portion 5A is the ridged portion of the surface protective layer 5. It shall refer to the portion excluding 5B.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing the cross section of the ridged portion 5B of the surface protective layer 5 (the cross section in the thickness direction of the surface protective layer 5), and FIG. It is a plane photograph showing.
  • FIG. 3 is a plane photograph obtained by a laser microscope (OLS-4000 manufactured by Olympus).
  • OLS-4000 manufactured by Olympus
  • the ridge-shaped portion 5B is elongated and rises, and has a linear shape in a plan view.
  • the ridges 5B are formed by irradiating the surface of the ionizing radiation curable resin with light of a specific wavelength to shrink the surface of the ionizing radiation curable resin.
  • the shape of such ridges 5B is determined by the surface roughness index RSm ( ⁇ m) in the horizontal direction (the horizontal direction in FIG. 2, which is the plane direction of the surface protective layer 5) and the vertical direction (the ridges 5B) and the thickness direction of the surface protective layer 5 (vertical direction in FIG. 2). It is preferably 10 or more and 300 or less. More preferably, it is 10 or more and 250 or less. If RSm/Ra is less than 10, the shape of the ridges 5B is too fine, making it difficult to wipe off stains, resulting in poor stain resistance. If RSm/Ra is greater than 300, the ridges are too widely spaced to provide low gloss.
  • RSm/Ra is more preferably 50 or more and 200 or less. If RSm/Ra is within this numerical range, the ridge-shaped intervals are appropriately wide, so the affinity for water or detergent (water containing surfactant or alcohol) is improved. Therefore, if the decorative sheet has RSm/Ra within this numerical range, even if the surface of the decorative sheet becomes dirty, it is easy to wipe off the dirt with water or a cleaning agent. Also, RSm/Ra is most preferably 80 or more and 150 or less. If RSm/Ra is within this numerical range, a commonly available cleaning sponge can easily penetrate between the ridges. It becomes easy to wipe off the dirt using the cleaning sponge provided.
  • Ra and RSm are measured values when measured using a line roughness meter (based on JIS B0601).
  • the cross-sectional shape of the ridge portion 5B in the thickness direction of the surface protective layer 5 may be sinusoidal.
  • the "sine wave shape” means a shape that can represent a line from the lowest position C to the highest position (apex) D of the ridge 5B with a sine wave, as shown in FIG.
  • the shape between adjacent ridge-shaped portions 5B may be a concave curved shape. That is, the shape of the lowest position C of the ridge portion 5B may be a concave curved shape.
  • the mechanism by which the ridged portion 5B is formed will be described below.
  • acrylate When acrylate is irradiated with light having a wavelength of 200 nm or less as the first irradiation light, acrylate can be self-excited. Therefore, the acrylate can be crosslinked by irradiating the acrylate with light of 200 nm or less. Light of 200 nm or less reaches a depth of several tens to several hundred nm in acrylate. As a result, only the surface is crosslinked, and the portion below it has fluidity, so that a fine uneven shape that continues in a wavy shape like folding wrinkles occurs.
  • the core portions 5A and the ridged portions 5B are formed in an integrally continuous state.
  • Light of 200 nm or less is absorbed by oxygen in the atmosphere and greatly attenuated. Therefore, when treating acrylate, it is necessary to introduce nitrogen gas to control the reaction atmosphere.
  • the residual oxygen concentration in the reaction atmosphere is preferably suppressed to 2000 ppm or less. More preferably, the residual oxygen concentration in the reaction atmosphere is 1000 ppm or less.
  • the integrated light quantity of the first irradiation light is 0.5 mJ/cm 2 or more and 200 mJ/cm 2 or less. More preferably, the integrated amount of light is 1 mJ/cm 2 or more and 100 mJ/cm 2 or less. More preferably, the integrated amount of light is 3 mJ/cm 2 or more and 50 mJ/cm 2 or less. Most preferably, the integrated amount of light is 5 mJ/cm 2 or more and 30 mJ/cm 2 or less.
  • the curing shrinkage reaction is weak and the uneven shape is not sufficiently formed, so the gloss does not decrease. If the cumulative amount of light is more than 200 mJ/cm 2 , the curing shrinkage reaction becomes too strong and the surface condition deteriorates.
  • Excimer VUV light can be produced from noble gas or noble gas halide compound lamps.
  • a gas such as a rare gas or a rare gas halide compound is sealed
  • a large number of discharge plasmas dielectric barrier discharge
  • Atoms of the discharge gas rare gas
  • the excimer emits light in a wavelength range peculiar to that excimer.
  • the gas used for the excimer lamp may be any conventionally used gas as long as it emits light of 200 nm or less.
  • a rare gas such as Xe, Ar, or Kr
  • a mixed gas of a rare gas such as ArBr or ArF and a halogen gas
  • the excimer lamp has different wavelengths (central wavelengths) depending on the gas, such as about 172 nm (Xe), about 126 nm (Ar), about 146 nm (Kr), about 165 nm (ArBr), and about 193 nm (ArF).
  • a xenon lamp that emits excimer light with a central wavelength of 172 nm as the light source. Also, taking into account the cost of equipment maintenance and availability of materials, it is preferable to use a xenon lamp as the light source.
  • UV light having a longer wavelength than ionizing radiation or light of 200 nm or less, which is the first irradiation light, should be used as the second irradiation light. can be done.
  • the third irradiation light ionizing radiation of a type different from the second irradiation light or UV light having a longer wavelength than the second irradiation light may be irradiated, but it is preferable to form the surface protective layer 5 having the ridged portions 5B only by irradiation with two kinds of light, the first irradiation light and the second irradiation light.
  • the third irradiation light may be applied when the intensity of the surface protective layer 5 is not sufficient only by irradiation with the second irradiation light.
  • the integrated light quantity of the second irradiation light is 10 mJ/cm 2 or more and 500 mJ/cm 2 or less. More preferably, the integrated amount of light is 50 mJ/cm 2 or more and 400 mJ/cm 2 or less. More preferably, the integrated amount of light is 100 mJ/cm 2 or more and 300 mJ/cm 2 or less. If the integrated amount of light is less than 10 mJ/cm 2 , the curing reaction is weak and sufficient strength cannot be imparted to the entire surface protective layer 5, so the scratch resistance tends to decrease. On the other hand, if the cumulative amount of light is more than 200 mJ/cm 2 , the curing reaction tends to be too strong and the surface condition tends to deteriorate.
  • the integrated light intensity of the second irradiation light is preferably larger than the integrated light intensity of the first irradiation light.
  • the integrated amount of light of the second irradiation light is preferably 1.1 times or more and 50.0 times or less, more preferably 5.0 times or more and 30.0 times or less, of the accumulated amount of light of the first irradiation light. If the cumulative light quantity of the second irradiation light is less than 1.1 times the cumulative light quantity of the first irradiation light, the curing reaction may be weak and the surface protective layer 5 as a whole may not be sufficiently strong.
  • the integrated light amount of the second irradiation light is more than 50.0 times the integrated light amount of the first irradiation light, the curing reaction for the entire surface protective layer 5 becomes too strong, and the shape of the ridged portion 5B is deformed. It may deform.
  • FIG. 5 is a diagram schematically showing temporal changes in the irradiation light intensity of the first irradiation light and temporal changes in the irradiation light intensity of the second irradiation light.
  • FIGS. 5(a), (c), (e), (g) and (i) are diagrams schematically showing temporal changes in the irradiation light intensity of the first irradiation light.
  • 5(b), (d), (f), (h) and (j) are diagrams schematically showing temporal changes in the amount of irradiation light of the second irradiation light.
  • the irradiation light amount of the first irradiation light may gradually increase as the irradiation time elapses and then gradually decrease as the irradiation time elapses, as shown in FIG. 5(a). Further, the irradiation light amount of the first irradiation light may gradually decrease as the irradiation time elapses, as shown in FIG. 5(c). Further, the irradiation light amount of the first irradiation light may gradually increase as the irradiation time elapses, as shown in FIG. 5(e).
  • the irradiation light amount of the first irradiation light may gradually decrease as the irradiation time elapses, and then gradually increase as the irradiation time elapses, as shown in FIG. 5(g). Further, the irradiation light amount of the first irradiation light may be constant from the start of irradiation to the end of irradiation, as shown in FIG. 5(i).
  • the irradiation light amount of the second irradiation light may gradually increase as the irradiation time elapses and then gradually decrease as the irradiation time elapses, as shown in FIG. 5(b). Also, the irradiation light amount of the second irradiation light may gradually decrease as the irradiation time elapses, as shown in FIG. 5(d). Further, the irradiation light amount of the second irradiation light may gradually increase as the irradiation time elapses, as shown in FIG. 5(f). Moreover, as shown in FIG.
  • the irradiation light amount of the second irradiation light may gradually decrease as the irradiation time elapses and then gradually increase as the irradiation time elapses. Further, the irradiation light amount of the second irradiation light may be constant from the start of irradiation to the end of irradiation, as shown in FIG. 5(j).
  • the first irradiation modes shown in FIGS. 5(a), (c), (e), (g) and (i) and FIGS. ), (f), (h), and (j) can be used in appropriate combination with the irradiation modes of the second irradiation light.
  • the irradiation mode of the first irradiation light shown in FIG. 5A and the irradiation mode of the second irradiation light shown in FIG. 5F may be used in combination.
  • the irradiation mode of the first irradiation light shown in FIG. 5(g) and the irradiation mode of the second irradiation light shown in FIG. 5(f) may be used in combination.
  • the irradiation form of the first irradiation light shown in FIG. It is preferable to use it in combination with the irradiation form of the second irradiation light.
  • the ridges 5B formed by irradiation with light having a wavelength of 200 nm or less have a finer structure and a finer structure than an uneven shape formed on the surface of the surface protective layer 5 by mechanical processing such as embossing. It's becoming By forming such fine irregularities on the surface of the surface protective layer 5, it is possible to improve fingerprint resistance while maintaining the matte feel of the surface of the decorative sheet 1.
  • the layer thickness of the surface protective layer 5 is preferably in the range of 2 ⁇ m or more and 20 ⁇ m or less. More preferably, the layer thickness of the surface protective layer 5 is in the range of 3 ⁇ m or more and 20 ⁇ m or less. More preferably, the layer thickness of the surface protective layer 5 is in the range of 5 ⁇ m or more and 15 ⁇ m or less. Most preferably, the layer thickness of the surface protective layer 5 is in the range of 5 ⁇ m or more and 12 ⁇ m or less. If the layer thickness of the surface protective layer 5 is less than 2 ⁇ m, the shaping by vacuum ultraviolet light cannot be deepened, and the glossiness cannot be reduced.
  • the layer thickness of the surface protective layer 5 is such that the ratio of the layer thickness of the ridged portion 5B to the layer thickness of the core portion 5A (layer thickness of the ridged portion 5B/layer thickness of the core portion 5A) is 0.01 or more and 2 It is preferably set to 0.0 or less, and more preferably set to 0.1 or more and 1.0 or less.
  • the pattern layer 3 and the surface protective layer 5 can be formed by various printing methods such as gravure printing, offset printing, screen printing, electrostatic printing, and inkjet printing.
  • the surface protective layer 5 covers the entire surface of the raw fabric layer 2 on the surface side, it can be coated by various coating methods such as roll coating, knife coating, micro gravure coating, and die coating. can be formed. These printing methods or coating methods may be selected separately depending on the layers to be formed, or the same method may be selected for collective processing.
  • the pattern layer 3 and the surface protective layer 5 may be synchronized from the viewpoint of design.
  • it is preferable to use the gravure printing method because it is necessary to collectively form the surface protective layer 5 after forming the pattern layer 3 .
  • the gravure printing method is advantageous in terms of cost and is preferable because it can handle relatively high speeds.
  • the alignment means that 50% or more, preferably 70% or more, and most preferably 90% or more of the portion where the surface protective layer 5 is formed overlaps with the pattern portion of the pattern layer 3 in plan view. do.
  • the coating amount may be adjusted in the above-described printing method and coating method.
  • the coating amount can be calculated from the difference in mass between a base material (original fabric layer) with and without a surface protective layer formed in various printing methods and coating methods.
  • the main material of the surface protective layer 5 is an ionizing radiation curable resin.
  • the main material refers to a material containing 60 parts by mass or more, more preferably 70 parts by mass or more, and most preferably 80 parts by mass or more based on 100 parts by mass of the surface protective layer.
  • the ionizing radiation curable resin constituting the surface protective layer 5 known ones such as various monomers and commercially available oligomers can be used.
  • (meth)acrylic resin silicone resin, polyester resin , urethane-based resins, amide-based resins, and epoxy-based resins
  • the ionizing radiation-curable resin may be either a water-based resin or a non-aqueous (organic solvent-based) resin.
  • the main component of the ionizing radiation-curable resin that constitutes the surface protective layer 5 is an acrylate resin that includes a repeating structure and has a dipentaerythritol skeleton.
  • the ionizing radiation-curable resin constituting the surface protective layer 5 is an acrylate resin (acrylic resin) whose main component is a repeating structure, and the acrylate resin has a dipentaerythritol skeleton. Since the acrylate resin has a dipentaerythritol skeleton, the degree of cross-linking of the acrylate resin increases and a three-dimensional structure can be easily obtained. As a result, the strength of the surface protective layer 5 can be improved.
  • acrylate resins having a dipentaerythritol skeleton include dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate.
  • the main component refers to a component containing 60 parts by mass or more, more preferably 70 parts by mass or more, and most preferably 80 parts by mass or more based on 100 parts by mass of the constituent resin component.
  • the acrylic resin having a dipentaerythritol skeleton is preferably pentafunctional or hexafunctional. More specifically, the number of acryloyl groups provided on the dipentaerythritol skeleton is preferably 5 or 6.
  • the degree of cross-linking is lowered and the scratch resistance is lowered, which is not preferable.
  • the number of acryloyl groups in the dipentaerythritol skeleton is 4 or less, the degree of cross-linking of the acrylate resin (acrylic resin) is lowered and the scratch resistance is lowered, which is not preferable.
  • the ionizing radiation curable resin has a suitable viscosity range of 10 to 500 mPa ⁇ s and an optimum viscosity range of 50 to 300 mPa ⁇ s when gravure printing is used as the coating method.
  • an organic solvent or a low-viscosity bi- to tetra-functional acrylate resin can be added.
  • organic solvents Di- to tetra-functional acrylate resins are not preferred because if the amount added is large, the scratch resistance will decrease.
  • the content of the di- to tetra-functional acrylate resin is the content of the acrylate resin having a dipentaerythritol skeleton (mass ) is preferably in the range of 10% by mass or more and 30% by mass or less, more preferably in the range of 15% by mass or more and 25% by mass or less.
  • the bi- to tetra-functional acrylate resin mentioned above refers to an acrylate resin having 2 to 4 acryloyl groups.
  • the repeating structure is any one of an ethylene oxide (EO) structure, a propylene oxide (PO) structure, and an ⁇ -caprolactone (CL) structure. More preferably, the repeating structure is an ethylene oxide structure or a propylene oxide structure.
  • the ethylene oxide structure, propylene oxide structure, and ⁇ -caprolactone structure are preferred because the molecules can rotate freely and have high flexibility, so that the molecules are easily folded by light of 200 nm or less, and fine irregularities are easily formed.
  • the number of repetitions of this repetition structure is set to 12 or more. It is more preferably 12 or more and 50 or less, and most preferably 16 or more and 50 or less.
  • the ionizing radiation curable resin constituting the surface protective layer 5 does not sufficiently shrink when irradiated with vacuum ultraviolet light (VUV light), and the surface protective layer 5 does not become low gloss.
  • VUV light vacuum ultraviolet light
  • the number of repetitions of the repeating structure can be analyzed by using MALDI-TOF-MS.
  • Ionizing radiation curable resins may have a molecular weight distribution. When there is a molecular weight distribution, the number of repetitions is the number of repetitions corresponding to the molecular weight having the strongest peak in the mass spectrum of MALDI-TOF-MS.
  • the surface protective layer 5 may contain particles.
  • a uniform surface can be formed by adding particles of optimum particle size and optimum content.
  • the particles for example, organic materials such as PE wax, PP wax, and resin beads, or inorganic materials such as silica, glass, alumina, titania, zirconia, calcium carbonate, and barium sulfate can be used.
  • the average particle size (D50) of the particles is preferably 10 ⁇ m or less. It is more preferably 1 ⁇ m or more and 8 ⁇ m or less, still more preferably 2 ⁇ m or more and 6 ⁇ m or less, and most preferably 3 ⁇ m or more and 5 ⁇ m or less. If it is larger than 10 ⁇ m, the scratch resistance is lowered due to particle shedding, which is not preferable. If the thickness is less than 1 ⁇ m, the effect of making the surface uniform is small, which is not preferable.
  • the amount of the particles to be added is preferably 0.5 parts by mass or more and 10 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the ionizing radiation-curable resin. More preferably, the amount of particles added is 2 to 8 parts by mass, more preferably 2 to 6 parts by mass, and most preferably 4 to 5 parts by mass.
  • the surface protective layer 5 can form a uniform surface state by containing the particles in the above-mentioned amount, which is preferable.
  • the "particle diameter (average particle diameter)" may be a value (average value) obtained by measuring the particle size distribution of the particles used, or the particle diameters of a plurality of particles obtained by observing the cross section of the obtained decorative material. may be a value obtained by actually measuring and averaging.
  • the obtained particle size values are substantially the same.
  • the average particle size of the particles added to the surface protective layer 5 may be the median size (D50) measured with a laser diffraction/scattering particle size distribution analyzer.
  • the photoinitiator is not particularly limited, examples thereof include benzophenone-based, acetophenone-based, benzoin ether-based, and thioxanthone-based initiators. Functional additives such as antibacterial agents and antifungal agents may optionally be added to the surface protective layer 5 in order to impart required functions. Moreover, an ultraviolet absorber and a light stabilizer can be added to the surface protective layer 5 as necessary. It is common to add UV absorbers such as benzotriazole, benzoate, benzophenone, and triazine, and light stabilizers such as hindered amines in any combination.
  • Such a decorative sheet 1 has a glossiness of 5.0 or less, even though it does not contain a glossiness adjusting agent (matting additive), and is a decorative sheet with extremely low glossiness.
  • a glossiness adjusting agent such additive
  • the content of the gloss modifier in the surface protective layer is high and the surface protective layer becomes cloudy. For this reason, there is a risk that the colors and patterns of the colored pattern layer will not be clearly expressed, or that the design of the decorative sheet will be deteriorated.
  • the content of the gloss modifier in the surface protective layer is even higher, so that the surface can be smoothed without causing streaks, unevenness, etc.
  • the decorative sheet 1 can provide a low glossiness decorative sheet with a glossiness of 5.0 or less while maintaining the same level of performance as a decorative sheet having a glossiness of 20 or more.
  • glossiness is a value measured at an incident angle of 60 degrees using a gloss meter conforming to JIS Z8741.
  • the concealing layer 8 can basically be made of the same material as the pattern layer 3. However, since the concealing property is intended, for example, an opaque pigment, titanium oxide, iron oxide, or the like is used as the pigment. is preferred. Moreover, in order to improve hiding power, it is also possible to add metals such as gold, silver, copper and aluminum. In general, flaky aluminum is often added.
  • a manufacturing example of the decorative sheet 1 will be described.
  • a resin film is used as the original fabric layer 2, and the surface protective layer 5 is formed on the upper surface of the original fabric layer 2 by printing.
  • the surface protective layer 5 irradiates the surface of the applied ionizing radiation curable resin with light having a wavelength of 200 nm or less (first irradiation light) to shrink the surface of the ionizing radiation curable resin.
  • first irradiation light ionizing radiation or UV light having a longer wavelength than light having a wavelength of 200 nm or less, which is the first irradiation light
  • the decorative sheet 1 including the surface protective layer 5 having the core portion 5A and the ridged portion 5B protruding from one surface (upper surface) of the core portion 5A is formed.
  • the present embodiment is not limited to the above-described embodiments. UV light with a longer wavelength may be applied only once. Further, at that time, the integrated amount of light having a wavelength of 200 nm or less, which is the first irradiation light, may be set to 0.5 mJ/cm 2 or more and 200 mJ/cm 2 or less.
  • the decorative sheet 1 according to this embodiment includes a surface protective layer 5 having an uneven surface.
  • the luster (glossiness) of the surface protective layer can be adjusted even if the surface protective layer does not contain a glossiness adjusting agent (matting additive). Since the luster modifier reduces the oil repellency of the layer formed of the resin material, fingerprints tend to stick to it. Since the surface protective layer 5 according to the present embodiment does not contain a luster adjusting agent, it does not absorb oil and has relatively improved oil repellency. Therefore, fingerprints are less likely to adhere to the decorative sheet 1 having the surface protective layer 5 in various situations during site construction, furniture assembly, and residents' daily lives.
  • the oil repellency of the surface protective layer 5 is improved, and it is possible to suppress oil stains and adsorption of contaminants on the surface of the decorative sheet 1.
  • the structure of the surface protective layer 5 that does not contain the glossiness adjusting agent when the surface of the decorative sheet 1 is scratched, the particles of the glossiness adjusting agent do not come off, and the glossiness of the surface of the decorative sheet 1 changes and scratches occur. It is possible to make it harder.
  • the surface protective layer 5 is formed of a single layer in this embodiment, it is not limited to such a structure.
  • a structure in which the surface protective layer 5 is multi-layered may be used. That is, the surface protective layer 5 may be formed by laminating a plurality of layers of the same ionizing radiation curable resin or laminating a plurality of layers of different ionizing radiation curable resins to form an uneven shape on the surface.
  • the outermost layer of the surface protective layer 5 is made of an ionizing radiation-curable resin as a main material, and the ionizing radiation-curable resin has a repeating structure as a main component.
  • An acrylic resin having a dipentaerythritol skeleton containing The layer positioned on the raw fabric layer 2 side of the surface protective layer 5 (that is, the layer positioned below the outermost layer of the surface protective layer 5) is not particularly limited.
  • Example 1 A 55 ⁇ m-thick olefin film (manufactured by Riken Technos Co., Ltd.) was used as a base layer, one side of the base layer was subjected to corona treatment, and the following surface protective layer coating liquid was applied to one side.
  • the layer thickness of the coating liquid for the surface protective layer was set to 5 ⁇ m.
  • the surface of the surface protective layer coating liquid was irradiated with a Xe excimer lamp having a wavelength of 172 nm so that the integrated amount of light was 100 mJ/cm 2 to shrink the surface.
  • 100 kGy of ionizing radiation was applied to cure the surface protective layer coating liquid, thereby forming the surface protective layer 5 and obtaining a decorative sheet of Example 1 having a total thickness of 60 ⁇ m.
  • the surface protective layer coating liquid was prepared by blending the following particles with the following ionizing radiation curable resin.
  • ⁇ Ionizing radiation curable resin Type Ethoxylated dipentaerythritol hexaacrylate (30 moles of EO added)
  • Composition 100 parts by mass/particle
  • Product name Silysia 250N (manufactured by Fuji Silysia Chemical Co., Ltd.)
  • Particle size 5 ⁇ m
  • Compounding 0.5 parts by mass
  • Example 2 A decorative sheet of Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1, except that the ionizing radiation-curable resin of Example 1 was replaced with the following.
  • ⁇ Ionizing radiation curable resin Type Ethoxylated dipentaerythritol pentaacrylate (30 moles of EO added)
  • Example 3 A decorative sheet of Example 3 was obtained in the same manner as in Example 1, except that the ionizing radiation-curable resin of Example 1 was replaced with the following.
  • ⁇ Ionizing radiation curable resin Type Ethoxylated dipentaerythritol hexaacrylate (50 moles of EO added)
  • Example 4 A decorative sheet of Example 4 was obtained in the same manner as in Example 1, except that the ionizing radiation-curable resin of Example 1 was replaced with the following.
  • ⁇ Ionizing radiation curable resin Type ethoxylated dipentaerythritol hexaacrylate (with EO 12 moles added)
  • ⁇ Ionizing radiation curable resin Type Propoxylated dipentaerythritol hexaacrylate (addition of 30 moles of PO)
  • Example 6> A decorative sheet of Example 6 was obtained in the same manner as in Example 1, except that the ionizing radiation-curable resin of Example 1 was replaced with the following.
  • ⁇ Ionizing radiation curable resin Type Caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate (30 moles of CL added)
  • Example 7> A decorative sheet of Example 7 having a total thickness of 56 ⁇ m was obtained in the same manner as in Example 1, except that the layer thickness of the surface protective layer coating liquid of Example 1 was changed to 1 ⁇ m.
  • Example 8> A decorative sheet of Example 8 having a total thickness of 57 ⁇ m was obtained in the same manner as in Example 1 except that the layer thickness of the surface protective layer coating liquid of Example 1 was changed to 2 ⁇ m.
  • Example 9> A decorative sheet of Example 9 having a total thickness of 75 ⁇ m was obtained in the same manner as in Example 1, except that the layer thickness of the surface protective layer coating liquid of Example 1 was changed to 20 ⁇ m.
  • Example 10> A decorative sheet of Example 10 having a total thickness of 80 ⁇ m was obtained in the same manner as in Example 1, except that the layer thickness of the surface protective layer coating liquid of Example 1 was changed to 25 ⁇ m.
  • Example 11> A decorative sheet of Example 11 was obtained in the same manner as in Example 10, except that the particles of Example 10 were not blended.
  • Example 12> A decorative sheet of Example 12 was obtained in the same manner as in Example 1, except that the particles of Example 1 were not blended.
  • Example 13> A decorative sheet of Example 13 was obtained in the same manner as in Example 1, except that the particles of Example 1 were replaced with the following.
  • ⁇ Example 14> A decorative sheet of Example 14 was obtained in the same manner as in Example 1, except that the particles of Example 1 were replaced with the following.
  • Example 15 A decorative sheet of Example 15 was obtained in the same manner as in Example 1, except that the amount of the particles of Example 1 was changed to 10 parts by mass.
  • ⁇ Comparative Example 1> A decorative sheet of Comparative Example 1 was obtained in the same manner as in Example 1, except that the excimer lamp irradiation of Example 1 was omitted and the amount of the particles was changed to 15 parts by mass.
  • ⁇ Comparative Example 2> A decorative sheet of Comparative Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1, except that the ionizing radiation-curable resin of Example 1 was replaced with the following.
  • ⁇ Ionizing radiation curable resin Type Ethoxylated pentaerythritol tetraacrylate (35 moles of EO added)
  • Comparative Example 3> A decorative sheet of Comparative Example 3 was obtained in the same manner as in Example 1, except that the ionizing radiation-curable resin of Example 1 was replaced with the following.
  • ⁇ Ionizing radiation curable resin Type Dipentaerythritol hexaacrylate
  • ⁇ Fingerprint resistance evaluation of wiping property>
  • a fingerprint wiping off evaluation was performed.
  • the 60-degree glossiness of the surface of each decorative sheet was measured and defined as [initial glossiness].
  • the anti-fingerprint evaluation liquid adhering to the surface of the decorative sheet was wiped off.
  • the 60-degree glossiness of the portion from which the anti-fingerprint evaluation liquid was wiped off was measured and referred to as [glossiness after wiping].
  • a higher fatty acid was used as the anti-fingerprint evaluation liquid.
  • the fingerprint wiping rate was calculated as follows.
  • Fingerprint wiping rate (%) (glossiness after wiping/initial glossiness) x 100
  • the evaluation criteria were as follows. ⁇ : 70% or more and less than 250% ⁇ : 50% or more and less than 70%, or 250% or more and less than 300% ⁇ : Less than 50%, or 300% or more
  • ⁇ Scratch resistance test steel wool rubbing test> After the obtained decorative sheet was attached to the wooden substrate B using a urethane-based adhesive, a steel wool rubbing test was carried out as a scratch resistance evaluation. A load of 500 g was applied to steel wool, and the sheet was rubbed back and forth 20 times, and scratches on the surface of the decorative sheet and changes in gloss were visually observed. The evaluation criteria were as follows. ⁇ : No scratches or change in gloss on the surface ⁇ : Slight scratches or change in gloss on the surface ⁇ : Significant scratches or change in gloss on the surface
  • the decorative sheets of Examples 1 to 18 it is possible to provide a decorative sheet having both anti-fingerprint, anti-scratch and anti-staining properties while having low gloss.
  • the layer thickness of the surface protective layer and the particle size and addition amount of the particles to be blended can be optimized to further improve performance.

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Abstract

低光沢である優れた意匠性を有し、かつ、耐指紋性と高度な耐久性（特に耐傷性や耐汚染性）とを有する化粧シート及びその製造方法を提供する。本実施形態に係る化粧シート（１）は、原反層（２）と、原反層（２）の一方の表面に設けられた表面保護層（５）と、を備え、表面保護層（５）は、その表面に、畝状に突出して設けられた畝状部を有し、凹凸形状が形成されており、表面保護層（５）の凹凸形状のＲＳｍ／Ｒａは、１０以上３００以下の範囲内であり、表面保護層（５）は、主材料が電離放射線硬化性樹脂であり、その電離放射線硬化性樹脂は、主成分が繰り返し構造を含むアクリル樹脂であり、そのアクリル樹脂は、ジペンタエリスリトール骨格を有し、その繰り返し構造は、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、及びε－カプロラクトン構造のうちいずれかであり、その繰り返し構造の繰り返し回数は、１２以上である。

Description

化粧シート、及び化粧シートの製造方法
　本発明は、建築物の内外装、建具、家具、造作材、床材等の表面化粧等に使用される化粧シート、及びその化粧シートの製造方法に関する。
　化粧シートは前述の建築物において、その表面に意匠性や耐久性を付与するため、木材、木質ボード、金属板、不燃ボード、紙質基板、あるいは樹脂基板などの表面に接着剤などを介して貼り合わせて化粧板とすることで、一般に広く用いられている。
　意匠性の付与については、木目や石目といった柄を、各種印刷方法を用いて形成したものから、柄の無い無地表面まで、要求や用途に応じて選択される。また同様に、表面の光沢感も意匠性として重要な項目であり、鏡面のような高光沢から映り込みの全くない低光沢まで、要求や用途に応じて選択されるものである。
　また、前述の通り、意匠性と並んで重要な化粧シートの機能として、耐久性の付与が挙げられる。耐久性とは耐傷性や耐汚染性、さらにそれらが長期間継続して担保されるかを総合的に評価したものであり、化粧シートが使用される環境や状況により、要求は異なってくるが、常に高い性能を有する化粧シートが求められている。
　耐久性の付与には、化粧シートにおける最表面に表面保護層を形成するのが一般的である。また、前述の光沢感を調整するため、特に低光沢を達成するために、表面保護層中に艶調整剤（艶消し添加剤）を添加することが一般的である。
　さらに、化粧シートには、化粧板や化粧材を形成するために、切削や曲げといった加工が施されるのが一般的なため、これらに耐え得る加工性を有することが好ましい。
　このように、意匠性（低光沢）、耐傷性、耐汚染性が考慮された化粧シートとして、例えば特許文献１に記載の化粧シートがある。
特開２０１９－１１９１３８号公報
　近年、化粧シートを用いた化粧板の用途の拡大や、消費者の品質に対する意識の益々の高度化のため、低光沢で、耐指紋性、耐傷性、耐汚染性の両立が求められている。特に、床等に使用する際にはより優れた耐傷性が必要となる。
　以上の要求に対し、低光沢化については、艶調整剤を高濃度で添加し表面を粗くする方法があるが、多量に添加することで、以下に示すような不具合を生じる。（１）指紋汚れが落ちにくくなり、耐指紋性が低下する。（２）耐傷性試験で艶調整剤が脱離してしまい、耐傷性が低下する。（３）汚れが落ちにくくなり、耐汚染性が低下する。
　本発明は、上記課題を解決するために、低光沢である優れた意匠性を有し、かつ、耐指紋性と高度な耐久性（特に耐傷性や耐汚染性）とを有する化粧シート及びその製造方法を提供することを目的とする。
　本発明者は、低光沢を達成するために表面保護層の凹凸形状を最適化し、さらに表面保護層に用いられる材料について、必要な構造的要素を見出すために実験を重ねることで、低光沢かつ耐指紋性と高度な耐久性（特に耐傷性や耐汚染性）とが発現される化粧シートを提供できることを見出した。
　課題を解決するために、本発明の一態様に係る化粧シートは、原反層と、前記原反層の一方の表面に設けられた表面保護層と、を備え、前記表面保護層は、その表面に、畝状に突出して設けられた畝状部を有し、凹凸形状が形成されており、前記表面保護層の前記凹凸形状のＲＳｍ／Ｒａは、１０以上３００以下の範囲内であり、前記表面保護層は、主材料が電離放射線硬化性樹脂であり、前記電離放射線硬化性樹脂は、主成分が繰り返し構造を含むアクリル樹脂であり、前記アクリル樹脂は、ジペンタエリスリトール骨格を有し、前記繰り返し構造は、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、及びε－カプロラクトンの各構造のうちいずれかであり、前記繰り返し構造の繰り返し回数は、１２以上であることを要旨とする。
　本発明の一態様によれば、低光沢で、耐指紋性、耐傷性、耐汚染性を両立した化粧シートを提供することができる。
本発明の実施形態に係る化粧シートの構成を説明する概略断面図である。 本発明の実施形態に係る化粧シートの表面保護層の一構成を説明する概略断面図である。 本発明の実施形態に係る化粧シートの表面保護層の表面の一構成例を示す平面写真である。 本発明の実施形態に係る畝状部の断面形状を説明する概略断面図である。 本発明の実施形態に係る化粧シートの製造工程における各照射光の照射光量の時間変化を説明する概略図である。
　以下に、本発明の実施形態に係る化粧シートの構成について図面を参照して説明する。
　ここで、図面は模式的なものであり、厚さと平面寸法との関係、各層の厚さの比率等は現実のものとは異なる。また、以下に示す実施形態は、本発明の技術的思想を具体化するための構成を例示するものであって、本発明の技術的思想は、特許請求の範囲に記載された請求項が規定する技術的範囲内において、様々の変更を加えることができる。
　（構成）
　本実施形態の化粧シート１は、図１に示すように、原反層（基材層）２の一方の面である表面側に、絵柄層３、接着層７（感熱接着層、アンカーコート層、ドライラミ接着剤層）、透明樹脂層４及び表面保護層５がこの順に積層されて構成される。また、原反層２の他方の面である裏面側に、隠蔽層８及びプライマ層６が設けられている。絵柄層３及び接着層７、透明樹脂層４、隠蔽層８、プライマ層６は省略してもよい。
　そして、本実施形態の化粧シート１は、図１に示すように、基板Ｂに貼り合わされることで化粧材１１を構成する。基板Ｂは、特に限定はないが、例えば、木質ボード類、無機質ボード類、金属板、複数の材料からなる複合板などから構成される。
　＜原反層２＞
　原反層２としては、例えば紙、合成樹脂、あるいは合成樹脂の発泡体、ゴム、不織布、合成紙、金属箔等から任意に選定したものが使用可能である。紙としては、薄葉紙、チタン紙、樹脂含浸紙等が例示できる。合成樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアミド、エチレン－酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアルコール、アクリル等が例示できる。ゴムとしては、エチレン－プロピレン共重合ゴム、エチレン－プロピレン－ジエン共重合ゴム、スチレン－ブタジエン共重合ゴム、スチレン－イソプレン－スチレンブロック共重合ゴム、スチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合ゴム、ポリウレタン等が例示できる。不織布としては、有機系や無機系の不織布が使用できる。金属箔の金属としては、アルミニウム、鉄、金、銀等が例示できる。
　原反層２としてオレフィン系の樹脂を用いる場合には、原反層２の表面が不活性な状態であることが多いので、原反層２と基材Ｂとの間に、プライマ層６を設けることが好ましい。この他にも、オレフィン系材料からなる原反層２と基材Ｂとの接着性を向上させるために、原反層２に対して、例えば、コロナ処理、プラズマ処理、オゾン処理、電子線処理、紫外線処理、重クロム酸処理等の表面改質処理を施してもよい。
　プライマ層６としては、後述の絵柄層３と同じ材料を用いることができる。プライマ層６は、化粧シート１の裏面に施されることから、化粧シート１がウエブ状に巻取りされることを考慮すると、ブロッキングを避けて且つ接着剤との密着を高めるために、プライマ層６に無機充填剤を添加させてもよい。無機充填剤としては、シリカ、アルミナ、マグネシア、酸化チタン、硫酸バリウム等が例示できる。
　原反層２の層厚は、印刷作業性やコストなどを考慮すれば、２０μｍ以上２５０μｍ以下の範囲内が好ましい。
　＜絵柄層３＞
　絵柄層３は、原反層２に対してインキを用いて施された絵柄印刷の層である。インキのバインダとしては、例えば、硝化綿、セルロース、塩化ビニル－酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、ポリウレタン、アクリル、ポリエステル系等の単独若しくは各変性物の中から適宜選定して用いることができる。バインダは、水性、溶剤系、エマルジョンタイプのいずれでもよく、また１液タイプでも硬化剤を使用した２液タイプでもよい。更に、硬化性のインキを使用し、紫外線や電子線等の照射によりインキを硬化させる方法を用いてもよい。中でも最も一般的な方法は、ウレタン系のインキを用いるもので、イソシアネートによって硬化させる方法である。絵柄層３に対し、バインダ以外には、例えば、通常のインキに含まれている顔料、染料等の着色剤、体質顔料、溶剤、各種添加剤などが添加されている。汎用性の高い顔料としては、例えば、縮合アゾ、不溶性アゾ、キナクリドン、イソインドリン、アンスラキノン、イミダゾロン、コバルト、フタロシアニン、カーボン、酸化チタン、酸化鉄、雲母等のパール顔料等が挙げられる。
　また、インキの塗布とは別に各種金属の蒸着やスパッタリングで、絵柄層３に意匠を施すことも可能である。特に、上記インキに対して光安定剤が添加されていることが好ましく、これにより、インキの光劣化から生じる化粧シート１自体の劣化を抑制し、化粧シート１の寿命を長くすることができる。
　＜接着層７＞
　接着層７は、感熱接着層、アンカーコート層、ドライラミ接着剤層とも呼ばれる層である。
　接着層７の樹脂材料は特に限定されるものではないが、例えば、アクリル系、ポリエステル系、ポリウレタン系、エポキシ系などの樹脂材料から適宜選択して用いることができる。また、接着層７の樹脂材料として、例えば、エチレン－酢酸ビニル共重合樹脂系接着剤も用いることができる。塗工方法は接着剤の粘度などに応じて適宜選択することができるが、一般的には、グラビアコートが用いられ、絵柄層３の上面に対してグラビアコートによって塗布された後、透明樹脂層４とラミネートするようにされている。なお、接着層７は、透明樹脂層４と絵柄層３との接着強度が十分に得られる場合には、省略することができる。
　＜透明樹脂層４＞
　透明樹脂層４の樹脂材料としては、オレフィン系樹脂が好適に用いられる。オレフィン系樹脂としては、例えば、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブテンなどの他に、αオレフィン（例えば、プロピレン、１－ブテン、１－ペンテン、１－ヘキセン、１－ヘプテン、１－オクテン、１－ノネン、１－デセン、１－ウンデセン、１－ドデセン、トリデセン、１－テトラデセン、１－ペンタデセン、１－ヘキサデセン、１－ヘプタデセン、１－オクタデセン、１－ノナデセン、１－エイコセン、３－メチル－１－ブテン、３－メチル－１－ペンテン、３－エチル－１－ペンテン、４－メチル－１－ペンテン、４－メチル－１－ヘキセン、４，４－ジメチル－１－ペンテン、４－エチル－１－ヘキセン、３－エチル－１－ヘキセン、９－メチル－１－デセン、１１－メチル－１－ドデセン、１２－エチル－１－テトラデセンなど）を単独重合あるいは二種類以上共重合させたものや、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・ビニルアルコール共重合体、エチレン・メチルメタクリレート共重合体、エチレン・エチルメタクリレート共重合体、エチレン・ブチルメタクリレート共重合体、エチレン・メチルアクリレート共重合体、エチレン・エチルアクリレート共重合体、エチレン・ブチルアクリレート共重合体などのように、エチレン又はαオレフィンとそれ以外のモノマーとを共重合させたものが挙げられる。
　また、化粧シート１の表面強度の向上を図るために、透明樹脂層４の樹脂として、高結晶性のポリプロピレンを用いることが好ましい。なお、透明樹脂層４には、必要に応じて、例えば、熱安定剤、光安定剤、ブロッキング防止剤、触媒捕捉剤、着色剤、光散乱剤、及び艶調整剤等の各種添加剤を添加することもできる。熱安定剤としては、フェノール系、硫黄系、リン系、ヒドラジン系等を、光安定剤としては、ヒンダードアミン系等を、それぞれ任意の組合せで添加するのが一般的である。
　＜表面保護層５＞
　表面保護層５は、コア部５Ａとコア部５Ａの一方の面から畝状に突出して設けられた畝状部５Ｂとを有している。これにより、表面保護層５の表面には、凹凸形状が形成されている。
　ここで、本実施形態に係る化粧シート１において、「畝状」とは、細長く盛り上がり、平面視で線状に連なった形状であることをいう。畝状部５Ｂは、平面視で曲線状であっても直線状であっても良いが、化粧シート１表面の耐指紋性の観点から曲線状であることが好ましい。また、本開示において、畝状部５Ｂは、例えば、表面保護層５の表面に設けられた凹凸形状の最も低い部分から先端までの部分であり、コア部５Ａは表面保護層５の畝状部５Ｂを除く部分をいうものとする。
　図２は、表面保護層５の畝状部５Ｂの断面（表面保護層５の厚さ方向における断面）を模式的に示す断面図であり、図３は、表面保護層５の表面の構成を示す平面写真である。ここで、図３は、レーザ顕微鏡（オリンパス製　ＯＬＳ－４０００）により得た平面写真である。
　畝状部５Ｂは、図３の平面写真に示すように、細長く盛り上がり、平面視で線状に連なった形状となっている。畝状部５Ｂは、後述するように、電離放射線硬化性樹脂の表面に対して特定波長の光を照射して、電離放射線硬化性樹脂の表面を収縮させることにより形成される。
　このような畝状部５Ｂの形状は、横方向（表面保護層５の平面方向であって、図２においては左右方向）の表面粗さの指標ＲＳｍ（μｍ）と縦方向（畝状部５Ｂの深さ方向、表面保護層５の厚さ方向であって、図２においては上下方向）の表面粗さの指標Ｒａ（μｍ）の比ＲＳｍ／Ｒａで示すことができ、ＲＳｍ／Ｒａは、１０以上３００以下であることが好ましい。より好ましくは、１０以上２５０以下である。ＲＳｍ／Ｒａが１０未満の場合、畝状部５Ｂの形状が細かすぎるため、汚れをふき取りにくくなり、耐汚染性が悪くなる。ＲＳｍ／Ｒａが３００より大きい場合、畝形状の間隔が広すぎるため、低光沢にならない。
　また、ＲＳｍ／Ｒａは、さらに好ましくは、５０以上２００以下である。ＲＳｍ／Ｒａがこの数値範囲内であれば、畝形状の間隔が適度に広いため、水または洗浄剤（界面活性剤やアルコールを含んだ水）に対する親和性が向上する。そのため、ＲＳｍ／Ｒａが当該数値範囲内にある化粧シートであれば、仮に化粧シート表面が汚れた場合であっても、水または洗浄剤を用いて汚れをふき取ることが容易となる。
　また、ＲＳｍ／Ｒａは、最も好ましくは、８０以上１５０以下である。ＲＳｍ／Ｒａがこの数値範囲内であれば、一般的に市販されている洗浄用スポンジが畝形状の間に侵入しやすくなり、仮に化粧シート表面が汚れた場合であっても、一般的に市販されている洗浄用スポンジを用いて汚れをふき取ることが容易となる。
　ここで、Ｒａ及びＲＳｍは、線粗さ計を用いて測定した場合の測定値である（ＪＩＳ　Ｂ０６０１に準拠）。
　畝状部５Ｂの表面保護層５の厚さ方向における断面形状は、正弦波形状であってもよい。
　ここで、「正弦波形状」とは、図４に示すように、畝状部５Ｂの最も低い位置Ｃから最も高い位置（頂点）Ｄに至る線を正弦波で表現可能な形状をいう。
　また、隣り合う畝状部５Ｂ同士の間（谷間）の形状は、凹状の湾曲形状であってもよい。つまり、畝状部５Ｂの最も低い位置Ｃの形状は、凹状の湾曲形状であってもよい。
　以下、畝状部５Ｂが形成されるメカニズムについて説明する。
　アクリレートに、第１の照射光として波長２００ｎｍ以下の光を照射すると、アクリレートは自己励起することが可能である。したがって、アクリレートに２００ｎｍ以下の光を照射することにより、アクリレートを架橋させることが可能となる。２００ｎｍ以下の光は、アクリレートにおいて数十～数百ｎｍ程度の深さまで到達する。そのため、表面のみ架橋し、その下の部分が流動性を持つため、折畳みシワの様な波状に連なる微細な凹凸形状が生じる。
　このようにして形成した表面保護層５においては、コア部５Ａと畝状部５Ｂとの間に界面はなく、コア部５Ａと畝状部５Ｂとは一体的に連続した状態で形成されている。
　２００ｎｍ以下の光は、大気中の酸素に吸収され大きく減衰する。そのため、アクリレートを処理する際には、窒素ガスを導入して反応雰囲気を制御する必要がある。反応雰囲気中の残留酸素濃度は、２０００ｐｐｍ以下に抑えることが好ましい。より好ましくは、反応雰囲気中の残留酸素濃度が１０００ｐｐｍ以下である。
　第１の照射光である波長２００ｎｍ以下の光により凹凸形状を生じさせるためには、第１の照射光の積算光量を０．５ｍＪ／ｃｍ２以上２００ｍＪ／ｃｍ２以下とすることが好ましい。より好ましくは、積算光量が１ｍＪ／ｃｍ２以上１００ｍＪ／ｃｍ２以下である。さらに好ましくは、積算光量が３ｍＪ／ｃｍ２以上５０ｍＪ／ｃｍ２以下である。最も好ましくは、積算光量が５ｍＪ／ｃｍ２以上３０ｍＪ／ｃｍ２以下である。積算光量が０．５ｍＪ／ｃｍ２より少ない場合、硬化収縮反応が弱く、凹凸形状が十分に形成されないため、光沢が下がらない。積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ２より多い場合、硬化収縮反応が強くなり過ぎて表面状態が悪くなる。
　第１の照射光である波長２００ｎｍ以下の光は、エキシマＶＵＶ光により取り出すことができる。エキシマＶＵＶ光は希ガスや希ガスハライド化合物のランプから生み出すことができる。希ガスや希ガスハライド化合物のガスが封じられたランプに外部から高いエネルギーを有する電子を与えると放電プラズマ（誘電体バリア放電）が多数発生する。このプラズマ放電により、放電ガス（希ガス）の原子が励起され、瞬間的にエキシマ状態となる。このエキシマ状態から基底状態に戻るときに、そのエキシマ特有の波長領域の光を発する。
　エキシマランプに用いるガスは、２００ｎｍ以下の光を発するものであれば、従来用いられたいずれのガスであってもよい。ガスとしては、Ｘｅ、Ａｒ、Ｋｒ等の希ガスや、ＡｒＢｒ、ＡｒＦ等の希ガスとハロゲンガスとの混合ガスを用いることができる。エキシマランプは、ガスによって波長（中心波長）が異なり、例えば約１７２ｎｍ（Ｘｅ）、約１２６ｎｍ（Ａｒ）、約１４６ｎｍ（Ｋｒ）、約１６５ｎｍ（ＡｒＢｒ）、約１９３ｎｍ（ＡｒＦ）等の波長を有する。
　しかしながら、得られる光子エネルギーの大きさや、波長と、有機物の結合エネルギーとの差を考慮すると、中心波長が１７２ｎｍのエキシマ光を発するキセノンランプを光源として用いることが好ましい。また、設備維持にかかるコストや材料の入手等も併せて考慮すると、キセノンランプを光源として用いることが好ましい。
　第１の照射光である波長２００ｎｍ以下の光は、アクリレートにおいて、最表面から数十～数百ｎｍ程度の深さにしか到達しないため、２００ｎｍ以下の光が照射されて形成された畝状部５Ｂを有する表面保護層５の内部は流動性があり、さらに硬化反応を進めなくてはならない。２００ｎｍ以下の光を照射した後に表面保護層５を硬化するには、第２の照射光として、電離放射線や第１の照射光である波長２００ｎｍ以下の光よりも波長が長いＵＶ光を用いることができる。
　なお、本実施形態では、例えば、第２の照射光の照射後に、第３の照射光として、第２の照射光とは異なる種類の電離放射線や第２の照射光よりも波長が長いＵＶ光を照射してもよいが、第１の照射光及び第２の照射光の２種類の光の照射のみで畝状部５Ｂを有する表面保護層５を形成することが好ましい。ここで、第３の照射光は、第２の照射光の照射のみでは表面保護層５の強度が十分でない場合に照射してもよい。
　第２の照射光の照射により表面保護層５全体を硬化させるためには、第２の照射光の積算光量を１０ｍＪ／ｃｍ２以上５００ｍＪ／ｃｍ２以下とすることが好ましい。より好ましくは、積算光量が５０ｍＪ／ｃｍ２以上４００ｍＪ／ｃｍ２以下である。さらに好ましくは、積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２以上３００ｍＪ／ｃｍ２以下である。積算光量が１０ｍＪ／ｃｍ２より少ない場合、硬化反応が弱く、表面保護層５全体に十分に強度を付与できないため、耐傷性が低下する傾向がある。また、積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ２より多い場合、硬化反応が強くなり過ぎて表面状態が悪くなる傾向がある。
　また、第２の照射光の積算光量は、第１の照射光の積算光量よりも大きいことが好ましい。第２の照射光の積算光量は、第１の照射光の積算光量の１．１倍以上５０．０倍以下が好ましく、５．０倍以上３０．０倍以下がより好ましい。第２の照射光の積算光量が第１の照射光の積算光量の１．１倍未満であると、硬化反応が弱く、表面保護層５全体に十分に強度を付与できないことがある。また、第２の照射光の積算光量が第１の照射光の積算光量の５０．０倍超であると、表面保護層５全体に対する硬化反応が強くなり過ぎて、畝状部５Ｂの形状が変形することがある。
　以下、第１の照射光の照射光量の時間変化、及び第２の照射光の照射光量の時間変化について、図５を参照しつつ説明する。
　図５は、第１の照射光の照射光量の時間変化、及び第２の照射光の照射光量の時間変化を模式的に示した図である。
　図５（ａ）、（ｃ）、（ｅ）、（ｇ）及び（ｉ）は、第１の照射光の照射光量の時間変化を模式的に示した図である。また、図５（ｂ）、（ｄ）、（ｆ）、（ｈ）及び（ｊ）は、第２の照射光の照射光量の時間変化を模式的に示した図である。
　第１の照射光の照射光量は、図５（ａ）に示すように、照射時間の経過とともに徐々に高くなり、その後照射時間の経過とともに徐々に低くなってもよい。また、第１の照射光の照射光量は、図５（ｃ）に示すように、照射時間の経過とともに徐々に低くなってもよい。また、第１の照射光の照射光量は、図５（e）に示すように、照射時間の経過とともに徐々に高くなってもよい。また、第１の照射光の照射光量は、図５（ｇ）に示すように、照射時間の経過とともに徐々に低くなり、その後照射時間の経過とともに徐々に高くなってもよい。また、第１の照射光の照射光量は、図５（ｉ）に示すように、照射開始から照射終了まで一定であってもよい。
　第２の照射光の照射光量は、図５（ｂ）に示すように、照射時間の経過とともに徐々に高くなり、その後照射時間の経過とともに徐々に低くなってもよい。また、第２の照射光の照射光量は、図５（ｄ）に示すように、照射時間の経過とともに徐々に低くなってもよい。また、第２の照射光の照射光量は、図５（ｆ）に示すように、照射時間の経過とともに徐々に高くなってもよい。また、第２の照射光の照射光量は、図５（ｈ）に示すように、照射時間の経過とともに徐々に低くなり、その後照射時間の経過とともに徐々に高くなってもよい。また、第２の照射光の照射光量は、図５（ｊ）に示すように、照射開始から照射終了まで一定であってもよい。
　また、本実施形態においては、図５（ａ）、（ｃ）、（ｅ）、（ｇ）及び（ｉ）に示した第１の照射光の照射形態と、図５（ｂ）、（ｄ）、（ｆ）、（ｈ）及び（ｊ）に示した第２の照射光の照射形態とを、適宜組み合わせて用いることができる。例えば、図５（ａ）に示した第１の照射光の照射形態と、図５（ｆ）に示した第２の照射光の照射形態とを組み合わせて用いてもよい。また、図５（ｇ）に示した第１の照射光の照射形態と、図５（ｆ）に示した第２の照射光の照射形態とを組み合わせて用いてもよい。なお、ＲＳｍ／Ｒａの値を、より好ましい範囲である１０以上３００以下に設定する場合には、図５（c）に示した第１の照射光の照射形態と、図５（f）に示した第２の照射光の照射形態とを組み合わせて用いるとよい。
　以上のように、２００ｎｍ以下の光照射により形成された畝状部５Ｂは、表面保護層５の表面にエンボス加工等の機械的な加工により形成された凹凸形状と比較して、微細な構造となっている。表面保護層５の表面にこのような微細な凹凸形状が形成されることにより、化粧シート１表面のマット感を維持しながら耐指紋性を向上させることが可能となる。
　表面保護層５の層厚は、２μｍ以上２０μｍ以下の範囲とすることが好ましい。より好ましくは、表面保護層５の層厚が３μｍ以上２０μｍ以下の範囲である。さらに好ましくは、表面保護層５の層厚が５μｍ以上１５μｍ以下の範囲である。最も好ましくは、表面保護層５の層厚が５μｍ以上１２μｍ以下の範囲である。表面保護層５の層厚を２μｍ未満とした場合、真空紫外光による賦形が深く入らず、低光沢化できない。また、表面保護層５の層厚を２０μｍより厚くした場合、加工性が低下し折り曲げ時に白化してしまう。
　また、表面保護層５の層厚は、畝状部５Ｂの層厚とコア部５Ａの層厚との比率（畝状部５Ｂの層厚／コア部５Ａの層厚）が０．０１以上２．０以下となるように設定することが好ましく、０．１以上１．０以下となるように設定すれば、より好ましい。
　ここで、絵柄層３と表面保護層５は、例えば、グラビア印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法、静電印刷法、インクジェット印刷法等の各種印刷方法によって形成することができる。また、表面保護層５は、原反層２の表面側の面の全面を被覆しているため、例えば、ロールコート法、ナイフコート法、マイクログラビアコート法、ダイコート法等の各種コーティング法によっても形成することができる。これらの印刷方法、あるいはコーティング方法は、形成する層によって別々に選択してもよいし、同じ方法を選択して一括加工してもよい。
　絵柄層３と表面保護層５は、意匠性の観点から同調させても良い。同調させる場合は、絵柄層３を形成した後に表面保護層５を一括形成する必要があるため、グラビア印刷法を用いることが好ましい。また、グラビア印刷法は比較的高速対応が可能なことから、コスト面でも有利であり好ましい。ここで、同調とは、表面保護層５が形成された部分の５０％以上、好ましくは７０％以上、最も好ましくは９０％以上が絵柄層３の絵柄部分と平面視で重なっていることを意味する。
　表面保護層５の層厚を調整するには、前述の印刷方法及びコーティング方法において塗布量を調整すればよい。塗布量は、各種印刷方法及びコーティング方法において、基材（原反層）に表面保護層を形成したものと、しないものとを作成し、その質量差から算出することができる。
　表面保護層５は、主材料が電離放射線硬化性樹脂である。ここで、主材料とは、表面保護層１００質量部に対し６０質量部以上、より好ましくは７０質量部以上、最も好ましくは８０質量部以上含む材料を指す。表面保護層５を構成する電離放射線硬化性樹脂としては、各種モノマーや市販されているオリゴマーなど、公知のものを用いることができ、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹脂を使用できる。電離放射線硬化性樹脂は、水系樹脂又は非水系（有機溶剤系）樹脂の何れであっても良い。
　表面保護層５を構成する電離放射線硬化性樹脂の主成分は、繰り返し構造を含む、ジペンタエリスリトール骨格を有するアクリレート樹脂とする。換言すると、表面保護層５を構成する電離放射線硬化性樹脂は、主成分が繰り返し構造を含むアクリレート樹脂（アクリル樹脂）であり、そのアクリレート樹脂は、ジペンタエリスリトール骨格を有している。アクリレート樹脂がジペンタエリスリトール骨格を有するため、アクリレート樹脂の架橋度が高まり、３次元構造が容易に得られる。その結果、表面保護層５の強度を向上させることができる。
　ジペンタエリスリトール骨格を有するアクリレート樹脂としては、例えば、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートやジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどを用いることができる。ここで、主成分とは、構成する樹脂成分１００質量部に対し６０質量部以上、より好ましくは７０質量部以上、最も好ましくは８０質量部以上含む成分を指す。
　ジペンタエリスリトール骨格を有するアクリル樹脂は、５官能または６官能であることが好ましい。より具体的には、ジペンタエリスリトール骨格に備わるアクリロイル基の数は、５または６であることが好ましい。４官能以下の樹脂の場合、架橋度が低下し、耐傷性が低下するため好ましくない。つまり、ジペンタエリスリトール骨格に備わるアクリロイル基の数が４以下であると、アクリレート樹脂（アクリル樹脂）の架橋度が低下し、耐傷性が低下するため好ましくない。
　電離放射線硬化性樹脂は、塗工方式としてグラビア印刷法を用いる場合、好適粘度範囲は１０～５００ｍＰａ・ｓであり、最適粘度範囲は５０～３００ｍＰａ・ｓである。粘度調整をするために、有機溶剤や粘度の低い２～４官能アクリレート樹脂を添加することができる。しかし、有機溶剤は環境負荷の観点から、使用しない方が好ましい。２～４官能アクリレート樹脂は、添加量が多いと耐傷性が低下するため好ましくない。そのため、２～４官能アクリレート樹脂を、ジペンタエリスリトール骨格を有するアクリレート樹脂に添加して使用する場合、２～４官能アクリレート樹脂の含有量は、ジペンタエリスリトール骨格を有するアクリレート樹脂の含有量(質量)の１０質量％以上３０質量％以下の範囲内が好ましく、１５質量％以上２５質量％以下の範囲内がより好ましい。なお、上述した２～４官能アクリレート樹脂とは、アクリロイル基の数が２～４であるアクリレート樹脂を指す。
　上記繰り返し構造は、エチレンオキサイド（ＥＯ）構造、プロピレンオキサイド（ＰＯ）構造、及びε－カプロラクトン（ＣＬ）構造のうちいずれかである。より好ましくは、繰り返し構造が、エチレンオキサイド構造、または、プロピレンオキサイド構造である。エチレンオキサイド構造、プロピレンオキサイド構造、及びε－カプロラクトン構造は、分子が自由回転可能で柔軟性が高いため、２００ｎｍ以下の光により分子が折りたたまれやすく、微細な凹凸形状が形成されやすいため好ましい。また、この繰り返し構造の繰り返し回数は、１２以上とする。より好ましくは、１２以上５０以下、最も好ましくは、１６以上５０以下である。繰り返し回数が１１以下の場合、真空紫外光（ＶＵＶ光）を照射した場合に、表面保護層５を構成する電離放射線硬化性樹脂が十分に収縮せず、表面保護層５が低光沢にならない。繰り返し回数が５０より大きい場合、架橋密度が低下し表面保護層５の耐傷性が悪くなる。
　上記繰り返し構造の繰り返し回数は、ＭＡＬＤＩ－ＴＯＦ－ＭＳを使用することで分析可能である。電離放射線硬化性樹脂は、分子量分布を持つ場合がある。分子量分布がある場合、前記繰り返し回数は、ＭＡＬＤＩ－ＴＯＦ－ＭＳのマススペクトルの最も強いピークを持つ分子量に相当する繰り返し回数とする。
　表面保護層５は、粒子を含んでいてもよい。最適な粒径及び最適な含有量の粒子を添加することで、均一な面を形成することができる。粒子としては、例えば、ＰＥワックス、ＰＰワックス、樹脂ビーズなどの有機材料、あるいは、シリカ、ガラス、アルミナ、チタニア、ジルコニア、炭酸カルシウム、硫酸バリウムなどの無機材料を用いることができる。
　粒子の平均粒径（Ｄ５０）は、１０μｍ以下であることが好ましい。より好ましくは、１μｍ以上８μｍ以下であり、さらに好ましくは、２μｍ以上６μｍ以下であり、最も好ましくは、３μｍ以上５μｍ以下である。１０μｍより大きい場合、粒子脱落による耐傷性の低下が起きるため好ましくない。１μｍ未満の場合、面を均一化する効果が小さいため好ましくない。
　また、粒子の添加量は、電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対して０．５質量部以上１０質量部以下であることが好ましい。より好ましくは、粒子の添加量が２質量部以上８質量部以下であり、さらに好ましくは、２質量部以上６質量部以下であり、最も好ましくは、４質量部以上５質量部以下である。表面保護層５は、上述した添加量の粒子を含有することにより、均一な面状態を形成することができ、好ましい。
　ここで、「粒径（平均粒子径）」とは、用いる粒子の粒度分布測定により得られる値（平均値）としてもよいし、得られた化粧材の断面観察から、複数の粒子の粒径を実測して平均化した値であってもよい。両者は互いに測定手法は異なっているが、得られる粒径の値は実質的に同じものとなる。例えば、表面保護層５に添加される粒子の平均粒子径は、レーザ回折／散乱式粒子径分布測定装置で測定されたメジアン径（Ｄ５０）であってもよい。
　表面保護層５全体をＵＶ光により硬化させる場合には、表面保護層５に光開始剤を添加する必要がある。光開始剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、ベンゾフェノン系、アセトフェノン系、ベンゾインエーテル系、チオキサントン系等があげられる。
　表面保護層５は、要求される機能を付与するために抗菌剤、防カビ剤等の機能性添加剤の添加も任意に行うことができる。また、表面保護層５には、必要に応じて紫外線吸収剤、光安定剤を添加することもできる。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系、ベンゾフェノン系、トリアジン系等を、また光安定剤としては、例えば、ヒンダードアミン系等を、任意の組み合わせで添加するのが一般的である。
　このような化粧シート１は、艶調整剤（艶消し添加剤）を含有していないにも拘らず、光沢度が５．０以下となり、光沢度が極めて低い化粧シートとなる。従来の化粧シートにおいて、表面保護層を有する化粧シートの光沢度が８以下となった場合、表面保護層内における艶調整剤の含有率が高く、表面保護層が白濁してしまう。このため、着色絵柄層の色彩、絵柄が鮮明に発現しなかったり、化粧シートの意匠性が低下してしまったりするおそれがあった。さらに、光沢度が０に近い化粧シートを得ようとする場合、表面保護層内における艶調整剤の含有率がさらに高いため、表面保護層の形成時にスジやムラ等を発生させずに表面が平滑な表面保護層を形成することが困難であった。
　化粧シート１は、２０以上の光沢度を有する化粧シートと同程度の性能を維持したまま、光沢度が５．０以下の低光沢度の化粧シートを得ることができる。ここで、「光沢度」は、ＪＩＳ　Ｚ８７４１に準拠した光沢度計を用いて入射角６０度で測定した場合の測定値である。
　＜隠蔽層８＞
　また、化粧シート１に基材Ｂに対する隠蔽性を付与したい場合には、原反層２に着色シートを用いることや、別途不透明な隠蔽層８を設けることで対応可能である。隠蔽層８としては、基本的には絵柄層３と同じ材料から構成することができるが、隠蔽性を目的としているので、顔料としては、例えば不透明な顔料、酸化チタン、酸化鉄等を使用することが好ましい。また隠蔽性を上げるために、例えば、金、銀、銅、アルミ等の金属を添加することも可能である。一般的にはフレーク状のアルミを添加させることが多い。
（製造方法）
　化粧シート１の製造例について説明する。
　原反層２として樹脂フィルムを用い、原反層２の上面に表面保護層５を印刷によって成形する。表面保護層５は、塗布された電離放射線硬化性樹脂の表面に対して波長２００ｎｍ以下の光（第１の照射光）を照射して電離放射線硬化性樹脂の表面を収縮させる。続いて、収縮させた電離放射線硬化性樹脂を硬化させるため、電離放射線または第１の照射光である波長２００ｎｍ以下の光よりも波長が長いＵＶ光を照射する。以上により、コア部５Ａとコア部５Ａの一方の面（上面）から畝状に突出して設けられた畝状部５Ｂとを有する表面保護層５を備える化粧シート１が形成される。
　なお、本実施形態は、上述した実施形態に限定されるものではなく、例えば、収縮させた電離放射線硬化性樹脂を硬化させるため、電離放射線、または第１の照射光である波長２００ｎｍ以下の光よりも波長が長いＵＶ光を１回だけ照射してもよい。また、その際、第１の照射光である波長２００ｎｍ以下の光の積算光量を０．５ｍＪ／ｃｍ２以上２００ｍＪ／ｃｍ２以下としてもよい。
（作用その他）
　本実施形態に係る化粧シート１は、表面に凹凸形状が形成された表面保護層５を備えている。この構成によれば、表面保護層に艶調整剤（艶消し添加剤）を含まなくても、表面保護層の艶（光沢度）を調整することができる。艶調整剤は、樹脂材料により形成した層の撥油性を低下させるため、指紋が付きやすくなる。本実施形態に係る表面保護層５は、艶調整剤を含まないため、油を吸収せず相対的に撥油性が向上する。このため、現場施工時や家具組立て時、居住者の日常生活時の様々な場面において、表面保護層５を有する化粧シート１には、指紋が付着しにくくなる。
　さらに、表面に凹凸形状が形成された表面保護層５の構成によれば、表面保護層５の撥油性が向上し、化粧シート１表面への油染みや汚染物質の吸着を抑制することが可能となる。
　また、艶調整剤を含まない表面保護層５の構成によれば、化粧シート１の表面を引っ掻いた際に艶調整剤の粒子が脱落せず、化粧シート１表面の艶変化や引っ掻き傷を生じにくくすることが可能である。
　本実施形態では、表面保護層５を一層で形成していたが、このような構成に限定されるものではない。例えば、表面保護層５を多層とした構成であっても良い。すなわち、表面保護層５は、同一の電離放射線硬化性樹脂を複数層積層したり、異なる電離放射線硬化性樹脂を複数層積層したりして、表面に凹凸形状を形成しても良い。異なる電離放射線硬化性樹脂を複数層積層する場合には、例えば、表面保護層５の最表層は、主材料が電離放射線硬化性樹脂であり、その電離放射線硬化性樹脂は、主成分が繰り返し構造を含む、ジペンタエリスリトール骨格を有するアクリル樹脂であり、その繰り返し構造はエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、及びε－カプロラクトンの各構造のうちいずれかであり、その繰り返し構造の繰り返し回数は１２以上であり、表面保護層５の原反層２側に位置する層（即ち、表面保護層５の最表層の下層に位置する層）は、特に限定されない。
［実施例］
　以下に、本発明に基づく実施例について説明する。
　＜実施例１＞
　厚さ５５μｍのオレフィンフィルム（リケンテクノス社製）を原反層とし、原反層の一方の面にコロナ処理を施し、その一方の面に対して、下記の表面保護層用塗液を塗布した。表面保護層用塗液の層厚は、５μｍとした。その後、表面保護層用塗液の表面に対して波長１７２ｎｍのＸｅエキシマランプを積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２となるように照射し表面を収縮させた。続いて、電離放射線を１００ｋＧｙ照射し、表面保護層用塗液を硬化することで、表面保護層５を形成し、総厚６０μｍからなる実施例１の化粧シートを得た。
　（表面保護層用塗液）
　表面保護層用塗液は、下記の電離放射線硬化性樹脂に、下記の粒子を配合して構成した。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：エトキシ化ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＥＯ３０モル付加）
　配合：１００質量部
・粒子
　品名：サイリシア２５０Ｎ（富士シリシア化学社製）
　粒径：５μｍ
　配合：０．５質量部
　＜実施例２＞
　実施例１の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て実施例１と同様にして実施例２の化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：エトキシ化ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＥＯ３０モル付加）
　＜実施例３＞
　実施例１の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て実施例１と同様にして実施例３の化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：エトキシ化ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＥＯ５０モル付加）
　＜実施例４＞
　実施例１の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て実施例１と同様にして実施例４の化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：エトキシ化ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＥＯ１２モル付加）
　＜実施例５＞
　実施例１の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て実施例１と同様にして実施例５の化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：プロポキシ化ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＰＯ３０モル付加）
　＜実施例６＞
　実施例１の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て実施例１と同様にして実施例６の化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＣＬ３０モル付加）
　＜実施例７＞
　実施例１の表面保護層用塗液の層厚を１μｍとした以外は、全て実施例１と同様にして、総厚５６μｍからなる実施例７の化粧シートを得た。
　＜実施例８＞
　実施例１の表面保護層用塗液の層厚を２μｍとした以外は、全て実施例１と同様にして、総厚５７μｍからなる実施例８の化粧シートを得た。
　＜実施例９＞
　実施例１の表面保護層用塗液の層厚を２０μｍとした以外は、全て実施例１と同様にして、総厚７５μｍからなる実施例９の化粧シートを得た。
　＜実施例１０＞
　実施例１の表面保護層用塗液の層厚を２５μｍとした以外は、全て実施例１と同様にして、総厚８０μｍからなる実施例１０の化粧シートを得た。
　＜実施例１１＞
　実施例１０の粒子を配合なしとした以外は、全て実施例１０と同様にして実施例１１の化粧シートを得た。
　＜実施例１２＞
　実施例１の粒子を配合なしとした以外は、全て実施例１と同様にして実施例１２の化粧シートを得た。
　＜実施例１３＞
　実施例１の粒子を下記に置き換えた以外は、全て実施例１と同様にして実施例１３の化粧シートを得た。
・粒子
　品名：サイリシア４５０（富士シリシア化学社製）
　粒径：８．０μｍ
　配合：０．５質量部
　＜実施例１４＞
　実施例１の粒子を下記に置き換えた以外は、全て実施例１と同様にして実施例１４の化粧シートを得た。
・粒子
　品名：サイリシア７８０（富士シリシア化学社製）
　粒径：１１．３μｍ
　配合：０．５質量部
　＜実施例１５＞
　実施例１の粒子の配合量を１０質量部とした以外は、全て実施例１と同様にして実施例１５の化粧シートを得た。
　＜実施例１６＞
　実施例１の粒子の配合量を１１質量部とした以外は、全て実施例１と同様にして実施例１６の化粧シートを得た。
　＜実施例１７＞
　実施例１の表面保護層用塗液の層厚を１μｍとし、粒子をなしとした以外は、全て実施例１と同様にして、総厚５６μｍからなる実施例１７の化粧シートを得た。
　＜実施例１８＞
　実施例３の表面保護層用塗液の層厚を２５μｍとした以外は、全て実施例３と同様にして、総厚８０μｍからなる実施例１８の化粧シートを得た。
　＜比較例１＞
　実施例１のエキシマランプ照射をなくし、粒子の配合量を１５質量部とした以外は、全て実施例１と同様にして比較例１の化粧シートを得た。
　＜比較例２＞
　実施例１の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て実施例１と同様にして比較例２の化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＥＯ３５モル付加）
　＜比較例３＞
　実施例１の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て実施例１と同様にして比較例３の化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（評価）
　上記の方法により得られた実施例１～１８及び比較例１～３の化粧シートについて評価を行った。
　本実施例において「○」及び「△」の評価であれば、実際に使用する上で問題がないため、合格とした。
　＜面状態＞
　面状態は、目視にて、面の均一性を評価した。
　評価基準は下記のとおりとした。
　〇：均一な面状態
　△：一部に、不均一な部分あり
　×：全面不均一な面状態
　＜光沢度＞
　光沢度は、Ｒｈｏｐｏｉｎｔ　ＩＱ（コニカミノルタ社製）を用いて、６０度光沢度を測定した。表１及び表２では、この６０度光沢度を「６０°光沢値」としてそれぞれ表記した。
　なお、光沢度が１５以下であれば、十分に低光沢と視認されるため、本実施例では「１５以下」を合格とした。
　＜耐指紋性：拭き取り性評価＞
　耐指紋性評価として、指紋のふき取り性評価を実施した。
　各化粧シートの表面の６０度光沢度を測定して、［初期光沢度］とした。続いて、表面保護層上に耐指紋評価液を付着させた後、化粧シート表面に付着した耐指紋評価液を拭き取った。その後、耐指紋評価液を拭き取った部分の６０度光沢度を測定して、［拭き取り後光沢度］とした。ここで、耐指紋評価液として、高級脂肪酸を用いた。
　指紋拭き取り率は、下記のとおり算出した。
　指紋拭き取り率（％）＝（拭き取り後光沢度／初期光沢度）×１００
　評価基準は、下記の通りとした。
　〇：７０％以上２５０％未満
　△：５０％以上７０％未満、もしくは２５０％以上３００％未満
　×：５０％未満、もしくは３００％以上
　＜耐汚染性＞
　耐汚染性評価として、日本農林規格（JAS：Japanese Agricultural Standards）に規定する汚染Ａ試験により、青色インキ、黒色速乾性インキ及び赤色クレヨンでそれぞれ幅１０ｍｍの線を引き、４時間放置した後、エタノールを布に含ませて青色インキ、黒色速乾性インキ及び赤色クレヨンの線を拭き取り、インキによる耐汚染性を評価した。
　評価基準は、下記の通りとした。
　〇：各色の線を容易に拭き取ることができた
　△：各色の線の一部を拭き取ることができるが、一部に汚れが残る
　×：各色の線を拭き取ることができない
　＜耐傷性試験：スチールウールラビング試験＞
　得られた化粧シートをウレタン系の接着剤を用いて木質基板Ｂに貼り付けた後、耐傷性評価として、スチールウールラビング試験を実施した。スチールウールに５００ｇの荷重をかけて２０往復擦り、化粧シート表面に生じた傷や光沢の変化を目視にて確認した。
　評価基準は、下記の通りとした。
　〇：表面に傷や光沢の変化が発生しない
　△：表面に軽微な傷や光沢の変化が発生した
　×：表面に著しい傷や光沢の変化が発生した
　＜耐傷性試験：鉛筆硬度試験＞
　得られた化粧シートをウレタン系の接着剤を用いて木質基板Ｂに貼り付けた後、耐傷性評価として、鉛筆硬度試験を実施した。試験方法はＪＩＳ－Ｋ５６００に準拠し、４Ｂ、３Ｂ、２Ｂ、Ｂ、ＨＢ、Ｆ、Ｈ、２Ｈ、３Ｈの鉛筆を用い、化粧シートに対して鉛筆の角度を４５±１°に固定して、当該鉛筆に７５０ｇの荷重を負荷した状態でスライドさせて、化粧シートに傷が形成されるか否かの目視にて確認した。評価結果として、表１には、化粧シートの表面に傷が付かない最高硬度の鉛筆硬度を表示した。
　なお、最高硬度が「Ｈ」、「２Ｈ」、「３Ｈ」であれば合格とした。
　評価結果を、表１及び表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　表１に示すように、実施例１～１８の化粧シートであれば、低光沢でありながら、耐指紋性、耐傷性、耐汚染性を両立した化粧シートを提供することができる。表面保護層の表面形状及び表面保護層の樹脂組成以外にも、表面保護層の層厚や、配合する粒子の粒径及び添加量を最適化することで、さらなる性能向上が可能となる。
１　　　化粧シート
２　　　原反層
３　　　絵柄層
４　　　透明樹脂層
５　　　表面保護層
６　　　プライマ層
７　　　接着層
８　　　隠蔽層
１１　　化粧材
Ｂ　　　基板

Claims (16)

  1. 　原反層と、前記原反層の一方の表面に設けられた表面保護層と、を備え、
    　前記表面保護層は、その表面に、畝状に突出して設けられた畝状部を有し、凹凸形状が形成されており、
    　前記表面保護層の前記凹凸形状のＲＳｍ／Ｒａは、１０以上３００以下の範囲内であり、
    　前記表面保護層は、主材料が電離放射線硬化性樹脂であり、
    　前記電離放射線硬化性樹脂は、主成分が繰り返し構造を含むアクリル樹脂であり、
    　前記アクリル樹脂は、ジペンタエリスリトール骨格を有し、
    　前記繰り返し構造は、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、及びε－カプロラクトンの各構造のうちいずれかであり、
    　前記繰り返し構造の繰り返し回数は、１２以上であることを特徴とする化粧シート。
  2. 　前記表面保護層の厚さは、２μｍ以上２０μｍ以下の範囲内であることを特徴とする請求項１に記載の化粧シート。
  3. 　前記表面保護層は、平均粒径が１０μｍ以下の粒子を含むことを特徴とする請求項２に記載の化粧シート。
  4. 　前記粒子の添加量が、前記電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対して、０．５質量部以上１０質量部以下の範囲内であることを特徴とする請求項３に記載の化粧シート。
  5. 　前記ジペンタエリスリトール骨格に備わるアクリロイル基の数が５または６であることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載の化粧シート。
  6. 　前記表面保護層の光沢度は、５．０以下であることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれかに記載の化粧シート。
  7. 　前記表面保護層は、コア部と、前記コア部上に形成された前記畝状部とを備え、
    　前記畝状部の層厚と、前記コア部の層厚との比率（畝状部の層厚／コア部の層厚）は、０．０１以上２．０以下の範囲内であることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれかに記載の化粧シート。
  8. 　前記表面保護層は、コア部と、前記コア部上に形成された前記畝状部とを備え、
    　前記畝状部の層厚と、前記コア部の層厚との比率（畝状部の層厚／コア部の層厚）は、０．１以上１．０以下の範囲内であることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれかに記載の化粧シート。
  9. 　前記表面保護層の前記凹凸形状のＲＳｍ／Ｒａは、８０以上１５０以下の範囲内であることを特徴とする請求項１から請求項８のいずれかに記載の化粧シート。
  10. 　前記畝状部の前記表面保護層の厚さ方向における断面形状は、正弦波形状であることを特徴とする請求項１から請求項９のいずれかに記載の化粧シート。
  11. 　塗布された電離放射線硬化性樹脂の表面に対して、波長２００ｎｍ以下の光を照射した後に、電離放射線、または前記波長２００ｎｍ以下の光よりも波長が長いＵＶ光を照射することで、
    　畝状に突出した畝状部を有する表面保護層を形成することを特徴とする化粧シートの製造方法。
  12. 　前記波長２００ｎｍ以下の光は、波長１７２ｎｍであることを特徴とする請求項１１に記載の化粧シートの製造方法。
  13. 　塗布された電離放射線硬化性樹脂の表面に対して、波長２００ｎｍ以下の光を照射した後に、電離放射線、または前記波長２００ｎｍ以下の光よりも波長が長いＵＶ光を１回照射することのみで、
    　畝状に突出した畝状部を有する表面保護層を形成し、
    　前記波長２００ｎｍ以下の光の積算光量を０．５ｍＪ／ｃｍ２以上２００ｍＪ／ｃｍ２以下の範囲内とすることを特徴とする請求項１１または請求項１２に記載の化粧シートの製造方法。
  14. 　前記波長２００ｎｍ以下の光よりも波長が長いＵＶ光の積算光量を１０ｍＪ／ｃｍ２以上５００ｍＪ／ｃｍ２以下の範囲内とすることを特徴とする請求項１１から請求項１３のいずれか１項に記載の化粧シートの製造方法。
  15. 　塗布された電離放射線硬化性樹脂の表面に対して、波長２００ｎｍ以下の光を照射した後に、電離放射線を照射することで、
    　畝状に突出した畝状部を有する表面保護層を形成することを特徴とする請求項１１または請求項１２に記載の化粧シートの製造方法。
  16. 　粘度範囲が１０ｍＰａ・ｓ以上５００ｍＰａ・ｓ以下である前記電離放射線硬化性樹脂を塗布することを特徴とする請求項１１から請求項１５のいずれか１項に記載の化粧シートの製造方法。
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