WO2021253727A1 - Procédé de préparation d'une microsphère creuse de silice à faible constante diélectrique - Google Patents

Procédé de préparation d'une microsphère creuse de silice à faible constante diélectrique Download PDF

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郑海涛
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Abstract

L'invention concerne un procédé de préparation d'une microsphère creuse de silice à faible constante diélectrique. Dans le procédé, du polystyrène est utilisé en tant que matrice de la microsphère creuse et un comonomère cationique, c'est-à-dire du chlorure d'acryloyloxyéthyltriméthylammonium (DAC) est ajouté pour introduire des groupes chargés positivement dans des chaînes polymères de manière à préparer des sphères de polystyrène chargées positivement. Le présent procédé ne nécessite pas d'ajout d'activateur, de telle sorte que la surface des sphères peut être chargée positivement en elle-même pour attirer une source de silicium à revêtir uniformément sur la matrice. Grâce à ce procédé de calcination, une structure sphérique dense peut être obtenue. La microsphère préparée par le procédé à matrice pour préparer une microsphère de silice présente une vitesse de conglomération élevée, est dense et difficile à casser et présente une faible constante diélectrique et un module de substrat et une résistance à la chaleur améliorés, ce qui la rend particulièrement appropriée pour les besoins de l'industrie des tôles plaquées de cuivre.
PCT/CN2020/131907 2020-06-18 2020-11-26 Procédé de préparation d'une microsphère creuse de silice à faible constante diélectrique WO2021253727A1 (fr)

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