WO2021215402A1

WO2021215402A1 - フィルム及びその製造方法

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Publication number: WO2021215402A1
Application number: PCT/JP2021/015893
Authority: WO
Inventors: 有賀　広志; 樋口　義明; 雄矢堀口; 順悦中村
Original assignee: Ａｇｃ株式会社
Priority date: 2020-04-22
Filing date: 2021-04-19
Publication date: 2021-10-28
Also published as: EP4141052A1; CN115605532B; JPWO2021215402A1; KR20220155598A; JP7511118B2; CN115605532A; US20230065010A1; EP4141052A4

Abstract

テトラフルオロエチレンに基づく単位とエチレンに基づく単位とを有する共重合体を含み、ヘイズが１．２～８．０％であり、紫外線反射率が１７．０％未満であり、厚さが２５０～４００μｍであることを特徴とする、フィルム。

Description

フィルム及びその製造方法

　本発明は、フィルム及びその製造方法に関する。

　エチレン－テトラフルオロエチレン共重合体フィルムは、軽量で、耐候性、機械的強度等に優れることから、膜構造物を構成する膜構造用フィルムとして使用されている。膜構造物は、膜構造用フィルムで屋根や外壁が構成された構造物であり、様々な施設で採用されている。特に近年は、アメリカンフットボールやサッカーの競技場、ショッピングセンター等の大型施設での採用が進んでいる。

　膜構造用フィルムの設置方法としては、クッション方式とテンション方式がある。クッション方式では、複数枚の膜構造用フィルムを骨材に固定して複層膜とし、それらの間に空気を供給する。テンション方式では、１枚の膜構造用フィルムを骨材に固定する。クッション方式は、フィルム間の骨材のスパンが広いこと、断熱性が良好であることが特徴である。テンション方式は安価であること、空気供給設備が不要であることが特徴である。近年、膜構造物の大型化に伴い、設置コストの安いテンション方式が増加してきている。

　膜構造物用フィルムには、耐候性、機械的強度のほか、透明性が求められることがある。
　特許文献１には、厚さが２００μｍで、ヘイズが１０．８％又は１２．５％のエチレン－テトラフルオロエチレン共重合体フィルムが記載されている。

特許第４６７７７１２号公報

　しかし、本発明者らの知見によれば、特許文献１のエチレン－テトラフルオロエチレン共重合体フィルムは、透明とはいってもガラスに比べてヘイズが高く乳白色を帯びている。クッション方式では、フィルムを２枚以上使用するため、複層膜全体としては透明性の低い乳白色になる。テンション方式では、クッション方式よりも透明性は高くなるものの、フィルムを通して背景等を見たときに、その色調や輪郭が不鮮明になり、フィルム越しの意匠性に劣る。
　一方で、ヘイズの低い透明なフィルムは、フィルムの加工時や取り付け時に擦り傷が付いたときに、擦り傷が目立ちやすい。

　また、本発明者らの知見によれば、従来のエチレン－テトラフルオロエチレン共重合体フィルムは、ガラスに比べ、可視光線反射率は低いが、紫外線（以下、「ＵＶ」とも記す。）反射率が高い。反射率が高いと、目の角膜が炎症を起こし、強い痛みや充血といった症状が出ることがある。
　クッション方式では、多くの場合、フィルム形状は円弧状であり、上空の太陽光を受けての反射光は、入射角がバラバラであるから、反射角もバラバラとなり、反射光は分散されやすく、強い反射光にはなりにくい。しかし、テンション方式では、フィルム形状が平面状であることが多いため、反射光は分散されにくく、強い反射光になる角度や時間帯がある。

　本発明は、フィルム越しの意匠性に優れ、擦り傷が付いても目立ちにくく、目に優しいフィルム及びその製造方法を提供することを目的とする。

　本発明は、以下の［１］～［１１］の構成を有する、フィルム及びその製造方法を提供する。
　［１］テトラフルオロエチレンに基づく単位とエチレンに基づく単位とを有する共重合体を含み、
　ヘイズが１．２～８．０％であり、
　紫外線反射率が１７．０％未満であり、
　厚さが２５０～４００μｍであることを特徴とする、フィルム。
　［２］２３℃における寸法を基準とし、１５０℃で１０分間加熱し、その後２３℃まで冷却した際のＭＤ及びＴＤ各々の寸法変化率が－３．５～－１．０％である、前記［１］のフィルム。
　［３］ＭＤ及びＴＤ各々の１０％伸び時の応力が、８０℃において３．０ＭＰａ以上である、前記［１］又は［２］のフィルム。
　［４］前記共重合体の含有量が、前記フィルムの総質量に対して９０質量％以上である、前記［１］～［３］のいずれかのフィルム。
　［５］前記共重合体が、テトラフルオロエチレン及びエチレン以外の他の単量体に基づく単位を有し、
　前記他の単量体に基づく単位の合計含有量が、前記テトラフルオロエチレンに基づく単位と前記エチレンに基づく単位との合計に対して１～７モル％である、前記［１］～［４］のいずれかのフィルム。
　［６］膜構造用である、前記［１］～［５］のいずれかのフィルム。
　［７］前記［１］～［６］のいずれかのフィルムの製造方法であって、
　前記共重合体を溶融させて溶融物を得て、前記溶融物を、シート状に賦形するダイを通して連続的に押し出し、対になった２つのロールの間を通過させて冷却し、
　前記２つのロールはそれぞれ熱媒により表面温度を調節可能であり、
　前記２つのロールの一方が剛体ロールで、他方が弾性ロールであり、
　前記２つのロールが０．１～１，０００Ｎ／ｃｍの線圧で押し付けられており、
　前記２つのロールの間を通過する直前の前記溶融物の温度が２００～３３０℃であり、
　前記２つのロールそれぞれの熱媒温度の平均が４０～１８０℃であることを特徴とする、フィルムの製造方法。
　［８］　前記２つのロールの間を通過させて冷却した後、後段に配置される後段ロールに接触させて更に冷却し、
　前記後段ロールは熱媒により表面温度を調節可能であり、
　前記後段ロールの熱媒温度が１００℃以下である、前記［７］のフィルムの製造方法。
　［９］　前記［１］～［６］のいずれかのフィルムの製造方法であって、
　前記共重合体を溶融させて溶融物を得て、前記溶融物を、シート状に賦形するダイを通して連続的に押し出し、剛体ロール又は弾性ロールと後段に配置される後段ロールとに接触させて冷却し、
　前記剛体ロール又は弾性ロール、及び前記後段ロールはそれぞれ熱媒により表面温度を調節可能であり、
　前記剛体ロール又は弾性ロールに接触する直前の前記溶融物の温度が２００～３３０℃であり、
　前記剛体ロール又は弾性ロールの熱媒温度と前記後段ロールの熱媒温度との平均が４０～１８０℃であることを特徴とするフィルムの製造方法。
　［１０］　前記後段ロールの熱媒温度が１００℃以下である、前記［９］のフィルムの製造方法。
　［１１］　前記［１］～［６］のいずれかのフィルムの製造方法であって、
　前記共重合体を溶融させて溶融物を得て、前記溶融物を、シート状に賦形するダイを通して連続的に押し出し、対になった剛体ロールと弾性ロールとの間を通過させて冷却するか、又は、剛体ロール若しくは弾性ロールと後段に配置される後段ロールとに接触させて冷却し、
　前記剛体ロール、弾性ロール及び後段ロールはそれぞれ熱媒により表面温度を調節可能であり、
　前記剛体ロールと前記弾性ロールの間を通過する直前、又は前記剛体ロール若しくは前記弾性ロールに接触する直前の前記溶融物の温度が２００～３３０℃であり、
　前記共重合体の融点Ｍが２００℃以上であり、
　前記剛体ロールの熱媒温度と前記弾性ロールの熱媒温度との平均、又は、前記剛体ロール若しくは弾性ロールの熱媒温度と前記後段ロールの熱媒温度との平均をＴ（℃）としたとき、Ｔ×Ｍが３１，０００以下であることを特徴とするフィルムの製造方法。

　本発明のフィルムは、フィルム越しの意匠性に優れ、擦り傷がついても目立ちにくく、目に優しい。
　本発明のフィルムの製造方法によれば、フィルム越しの意匠性に優れ、擦り傷がついても目立ちにくく、目に優しいフィルムを製造できる。

成形方法１を説明する概略図である。成形方法２を説明する概略図である。

　本発明における以下の用語の意味は以下の通りである。
　「単量体に基づく単位」は、単量体１分子が重合して直接形成される原子団と、前記原子団の一部を化学変換して得られる原子団との総称である。本明細書においては、単量体に基づく単位を、単に、単量体単位とも記す。
　「単量体」は、重合性炭素－炭素二重結合等の重合性不飽和結合を有する化合物を意味する。
　「融点」は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）法で測定した、樹脂の融解ピークの最大値に対応する温度である。
　「ＭＤ」は、流れ方向（Ｍａｃｈｉｎｅ　Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）を意味し、「ＴＤ」は、ＭＤと直交する方向（Ｔｒａｎｓｖｅｒｓｅ　Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）を意味する。
　「ヘイズ」は、ＪＩＳ　Ｋ７１３６：２０００に準拠して測定される値である。
　「可視光線透過率」は、ＤＩＮ　ＥＮ　４１０：１９９８に準拠して測定される値である。
　「紫外線反射率」（ＵＶ反射率）は、ＤＩＮ　ＥＮ　４１０：１９９８に準拠して測定される値である。
　「寸法変化率」は、ＪＩＳ　Ｋ７１３３：１９９９に準拠して測定される値である。
　「１０％伸び時の応力」は、ＪＩＳ　Ｋ７１２７：１９９９に準拠して測定される値である。
　「フィルム越しの意匠性に優れる」とは、フィルムを通して背景等を見たときの背景等の色調や輪郭が明瞭であること、つまりフィルムを通さずに直接背景等を見たときとの差が少ないことを示す。
　「剛体ロール」は、ロールの圧胴部最外層材質のヤング率が５×１０^４ＭＰａ以上で肉厚２ｍｍ以上の円筒からなるロールを意味する。
　「弾性ロール」は、ロールの圧胴部最外層材質のヤング率が５×１０^４ＭＰａ未満の円筒からなるロール、又は前記ヤング率が５×１０^４ＭＰａ以上で肉厚が２ｍｍ未満の円筒からなるロールを意味する。
　「２つのロールの間を通過する直前」とは、２つのロールの間の最も狭いところから上流方向（ダイ方向）に１０ｍｍ離れた位置を意味する。
　数値範囲を示す「～」は、その前後に記載された数値を下限値及び上限値として含むことを意味する。
　図１～２における寸法比は、説明の便宜上、実際のものとは異なったものである。

〔フィルム〕
　本発明のフィルム（以下、「本フィルム」とも記す。）は、テトラフルオロエチレン（以下、「ＴＦＥ」とも記す。）に基づく単位とエチレン（以下、「Ｅ」とも記す。）に基づく単位とを有する共重合体（以下、「ＥＴＦＥ」とも記す。）を含み、ヘイズが１．２～８．０％であり、紫外線反射率が１７．０％未満であり、厚さが２５０～４００μｍであるフィルムである。
　本フィルムは、性能を損なわない範囲で、ＥＴＦＥ以外の他の成分を更に含んでいてもよい。

　ＥＴＦＥにおいて、ＴＦＥ単位とＥ単位とのモル比（以下、「ＴＦＥ／Ｅ比」とも記す。）は、ＥＴＦＥの融点の高さから、４０／６０～６０／４０が好ましく、４５／５５～５６／４４が特に好ましい。

　ＥＴＦＥは、ＴＦＥ及びＥ以外の他の単量体に基づく単位を有することが好ましい。他の単量体単位を有することで、ＥＴＦＥの結晶性が低くなり、フィルムのヘイズが低くなる。また、ＵＶ反射率も低くなる。
　他の単量体としては、ＴＦＥ及びＥと共重合可能であればよく、例えば、フルオロアルキル基を有するビニル単量体；プロピレン、ブテン等のオレフィン（ただし、Ｅを除く。）；フッ化ビニリデン、フッ化ビニル、トリフルオロエチレン等の不飽和基に水素原子を有するフルオロオレフィン；クロロトリフルオロエチレン等の不飽和基に水素原子を有しないフルオロオレフィン（ただし、ＴＦＥを除く。）；ペルフルオロ（プロピルビニルエーテル）等のペルフルオロ（アルキルビニルエーテル）；アルキルビニルエーテル、（フルオロアルキル）ビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、メチルビニロキシブチルカーボネート等のビニルエーテル；酢酸ビニル、クロロ酢酸ビニル、ブタン酸ビニル、ピバル酸ビニル、安息香酸ビニル、クロトン酸ビニル等のビニルエステル；（ポリフルオロアルキル）アクリレート、（ポリフルオロアルキル）メタクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル；等が挙げられる。これら他の単量体は１種を単独で用いてもよく２種以上を併用してもよい。

　他の単量体の少なくとも一部は、ＥＴＦＥが耐熱性、燃料バリア性、耐ストレスクラック性に優れる点から、下式１で表される含フッ素ビニル単量体であることが好ましい。式１で表される含フッ素ビニル単量体とその他の単量体とを併用してもよい。
　ＣＨ_２＝ＣＸ－Ｒ^ｆ　　　式１
　ただし、Ｘは水素原子又はフッ素原子を表し、Ｒ^ｆはフルオロアルキル基を表す。
　Ｘとしては、重合性に優れる点から、水素原子が好ましい。
　Ｒ^ｆとしては、炭素数１～８のフルオロアルキル基が好ましく、炭素数１～８のペルフルオロアルキル基がより好ましく、炭素数２～６のペルフルオロアルキル基が特に好ましい。Ｒ^ｆは、直鎖状でも分岐状でもよい。Ｒ^ｆの具体例としては、ペンタフルオロエチル基、ノナフルオロブチル基、トリデカフルオロヘキシル基が挙げられる。

　他の単量体単位の合計含有量は、ＴＦＥ単位とＥ単位との合計に対して１～７モル％が好ましく、１．４～６モル％がより好ましく、１．５～６モル％が更に好ましく、２～４モル％が特に好ましい。他の単量体単位の含有量が前記下限値以上であれば、ＥＴＦＥの結晶性が低くなり、ヘイズとＵＶ反射率の低いフィルムが得られやすい。他の単量体単位の含有量が前記上限値以下であれば、ＥＴＦＥの融点が高く、８０℃等の高温域での１０％伸び時の応力の高いフィルムが得られやすい。

　ＥＴＦＥの融点は、２００℃以上が好ましく、２１０℃以上がより好ましく、２２５℃以上が更に好ましく、２４０℃以上が特に好ましい。融点が２００℃以上であれば、本フィルムを様々な地域で膜構造用フィルムとして使用できる。融点が２００℃未満であっても膜構造用フィルムとして使用できるが、使用できる地域が、例えば年間の最高気温が３０℃未満の地域に限られるおそれがある。
　ＥＴＦＥの融点の上限は、特に限定されないが、例えば２７０℃である。
　ＥＴＦＥの融点は、ＴＦＥ／Ｅ比、他の単量体単位の含有量により調整できる。例えば、他の単量体単位の含有量がＴＦＥ単位とＥ単位との合計に対して２．５モル％を超える場合、ＥＴＦＥの融点は２５０℃を下回ることが多い。

　ＥＴＦＥの容量流速（以下、「Ｑ値」とも記す。）は、１～５０ｍｍ^３／秒が好ましく、２～３０ｍｍ^３／秒が特に好ましい。Ｑ値が前記範囲内であれば、厚さが均一なフィルムを製造しやすい。
　Ｑ値は、フローテスタを用いて、シリンダー面積１ｃｍ^２、温度２９７℃、荷重７ｋｇの条件で測定される。

　ＥＴＦＥは１種を単独で用いてもよく、ヘイズ、ＵＶ反射率等の調整のために、組成（ＴＦＥ／Ｅ比、他の単量体単位の含有量等）が異なる２種以上を併用してもよい。

　本フィルムにおいて、ＥＴＦＥの含有量は、本フィルムの総質量に対して７０質量％以上が好ましく、８５質量％以上がより好ましく、９０質量％以上が更に好ましく、９５質量％が特に好ましい。ＥＴＦＥの含有量の上限は特に限定されず、１００質量％であってもよい。ＥＴＦＥの含有量が前記下限値以上であれば、フィルムの耐候性、機械的強度がより優れる。

　他の成分としては、例えば、ＥＴＦＥ以外の樹脂、添加剤が挙げられる。
　ＥＴＦＥ以外の樹脂としては、ＥＴＦＥ以外のフッ素樹脂、非フッ素樹脂等が挙げられる。ＥＴＦＥ以外のフッ素樹脂としては、ポリフッ化ビニリデン、エチレン－クロロトリフルオロエチレン系共重合体、フルオロオレフィン単位を有し、水酸基、カルボキシ基、アミド基及びグリシジル基からなる群から選ばれる少なくとも１種の極性基を有するフルオロオレフィン系重合体（ただし、ＥＴＦＥを除く。）等が挙げられる。非フッ素樹脂としては、ナイロン６、ナイロン１２等が挙げられる。
　添加剤としては、顔料、ＵＶ吸収剤、酸化防止剤、帯電防止剤等が挙げられる。

　フィルムを着色したり、可視光線又はＵＶ透過率を制御したりするために、本フィルムに顔料を配合できる。
　顔料としては、公知の無機顔料や有機顔料を使用でき、例えば酸化チタン（白）、酸化亜鉛（白）、アルミ・コバルトの複合酸化物（青）、カーボンブラック（黒）、錫・亜鉛・チタンの複合酸化物（オレンジ）、酸化鉄（赤）、コバルト・ニッケル・亜鉛・チタンの複合酸化物（緑）、コバルト・マグネシウム・チタンの複合酸化物（緑）、バナジン酸ビスマス複合酸化物（黄）、ニッケル・アンチモン・チタンの複合酸化物（黄）、チタン・アンチモン・ニッケルの複合酸化物（黄）、亜鉛・鉄の複合酸化物（茶）、コバルト・ニッケル・ケイ素の複合酸化物（紫）、コバルト・リチウム・リンの複合酸化物（紫）、マンガン酸化物（紫）、フタロシアニン（青、緑）、キナクリドン（赤、紫）が挙げられる。これらの顔料は１種を単独で用いてもよく２種以上を併用してもよい。
　顔料の含有量は、例えば、樹脂の質量に対し０．０００１～２質量％である。

　本フィルムにＵＶ吸収剤を含有させることで、本フィルムのＵＶ反射率、及びＵＶ透過率を低減できる。
　ＵＶ吸収剤としては、無機ＵＶ吸収剤、有機ＵＶ吸収剤等が挙げられる。
　無機ＵＶ吸収剤としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウム、酸化鉄等の無機粒子；前記無機粒子の表面にシリカ、アルミナ、ジルコニア等の無機物をコーティングした無機複合体粒子等が挙げられる。
　有機ＵＶ吸収剤としては、トリアジン系ＵＶ吸収剤、ベンゾフェノン系ＵＶ吸収剤等が挙げられ、トリアジン系ＵＶ吸収剤が好ましい。なかでも、２－（２－ヒドロキシ－４－［１－オクチルオキシカルボニルエトキシ］フェニル）－４，６－ビス（４－フェニルフェニル）－１，３，５－トリアジン（例えば、ＢＡＳＦジャパン社製の商品名：ＴＩＮＵＶＩＮ　４７９）、２，４－ビス［２－ヒドロキシ－４－ブトキシフェニル］－６－（２，４－ジブトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン（例えば、ＢＡＳＦジャパン社製の商品名：ＴＩＮＵＶＩＮ　４６０）、２－［４－［（２－ヒドロキシ－３－（２’－エチル）ヘキシルオキシ］－２－ヒドロキシフェニル］－４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン（例えば、ＢＡＳＦジャパン社製の商品名：ＴＩＮＵＶＩＮ　４０５）等のヒドロキシフェニルトリアジン系ＵＶ吸収剤が好ましい。
　これらのＵＶ吸収剤は１種を単独で用いてもよく２種以上を併用してもよい。

　本フィルムがＵＶ吸収剤等の他の成分として粒子状のもの（以下、「粒子成分」とも記す。）を含む場合、粒子径が０．２μｍを超える粒子成分は、本フィルムに入射した光を散乱し、ヘイズを大きくするおそれがある。
　本フィルムは、粒子径０．２μｍ超の粒子成分の含有量が少ないほど好ましく、粒子径０．２μｍ超の粒子成分を含まないことが特に好ましい。
　本フィルム中での粒子成分の粒子径は、ＥＴＦＥに配合する粒子成分の粒子径、粒子成分の分散のための表面処理方法等により調整できる。

　本フィルムは単層でもよく多層でもよい。溶融したフィルムの熱冷却速度の制御については、層間剥離も配慮しなければならない多層フィルムよりも、単層フィルムの方が容易であるため、単層であることが好ましい。
　本フィルムが多層である場合、本フィルムは、複数のＥＴＦＥ層が積層されたものであってもよく、ＥＴＦＥ層と他の層とが積層されたものであってもよい。
　ＥＴＦＥ層は、ＥＴＦＥを含む層であり、他の成分（ＵＶ吸収剤等）を含んでいてもよい。ＥＴＦＥ層は、ＥＴＦＥのみからなることが好ましい。
　他の層は、他の成分を含み、ＥＴＦＥを含まない層である。

　本フィルムが多層である場合の本フィルムの好ましい一態様として、ＥＴＦＥ層と、前記ＥＴＦＥ層の少なくとも一方の表面に積層されたＵＶ吸収剤層とを有する多層フィルムが挙げられる。ＵＶ吸収剤層は、ＵＶ吸収剤を含み、必要に応じて、樹脂、ＵＶ吸収剤以外の添加剤等を更に含んでいてもよい。
　ＵＶ吸収剤層は、ＵＶ吸収剤を含むコーティング層であることが好ましい。コーティング層は、例えば、ＥＴＦＥ層（ＥＴＦＥフィルム）の表面に、ＵＶ吸収剤、液状媒体、必要に応じて樹脂やＵＶ吸収剤以外の添加剤を含むコーティング剤を塗布し、乾燥することにより形成される。ＥＴＦＥ層の表面はコロナ放電等の表面処理が行われていることが好ましい。

　ＵＶ吸収剤層の樹脂としては、耐候性、表面処理を行ったＥＴＦＥ層表面への密着性に優れる点から、フルオロオレフィン単位を有し、水酸基、カルボキシ基、アミド基及びグリシジル基からなる群から選ばれる少なくとも１種の極性基を有するフルオロオレフィン系重合体が好ましい。
　フルオロオレフィンは、不飽和基に水素原子を有するものでもよく、不飽和基に水素原子を有しないものでもよい。具体例としては、前記と同様のものが挙げられる。
　フルオロオレフィン系重合体は、フルオロオレフィン単位以外の他の単量体単位を有していてもよい。他の単量体としては、例えば、ＥＴＦＥにおける他の単量体（ただし、フルオロオレフィンを除く。）、エチレンが挙げられる。
　フルオロオレフィン系重合体は、前記極性基を含む主鎖末端基を有していてもよく、前記極性基を含む単量体単位を有していてもよい。

　フルオロオレフィン系重合体は市販品を使用できる。市販品の例としては、ルミフロン（登録商標）シリーズ（ＬＦ２００、ＬＦ１００、ＬＦ７１０、ＬＦ６００等）（ＡＧＣ製）、ゼッフル（登録商標）ＧＫシリーズ（ＧＫ－５００、ＧＫ－５１０、ＧＫ－５５０、ＧＫ－５７０、ＧＫ－５８０等）（ダイキン工業社製）、フルオネート（登録商標）シリーズ（Ｋ－７００、Ｋ－７０２、Ｋ－７０３、Ｋ－７０４、Ｋ－７０５、Ｋ－７０７等）（ＤＩＣ社製）、ＥＴＥＲＦＬＯＮシリーズ（４１０１、４１０１１、４１０２、４１０２１、４２６１Ａ、４２６２Ａ、４２６３１、４１０２Ａ、４１０４１、４１１１１、４２６１Ａ等）（Ｅｔｅｒｎａｌ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製）等が挙げられる。

　本フィルムのヘイズは１．２～８．０％であり、３．０～５．０％が特に好ましい。ヘイズが前記下限値以上であれば、フィルムに擦り傷、折れしわ、打痕等がついても目立ちにくく、前記上限値以下であれば、フィルム越しの意匠性に優れる。
　従来、透明なフィルムを加工して膜構造物等を製造する際に発生する擦り傷、折れしわ、打痕等やフィルム同士をつなぎ合わせたヒートシールラインは、フィルムの強度に全く影響を与えないにも関わらず、目立ちやすく外観不良の対象になりやすいため、フィルム加工時及び設置時に非常に注意を要する原因となっていた。それらが目立ちにくいことで、膜構造物等の生産性が向上する。
　ヘイズを調整する方法は後で詳しく説明する。

　本フィルムの可視光線透過率は、８５％以上が好ましく、９０％以上が特に好ましい。可視光線透過率が前記下限値以上であれば、フィルム越しの意匠性がより優れる。
　可視光線透過率は高いほど好ましく、その上限は特に限定されない。

　本フィルムのＵＶ反射率は、１７．０％未満であり、１５．０％以下が好ましく、１０.０％未満が特に好ましい。ＵＶ反射率が前記上限値以下であれば、本フィルムに太陽光等が当たったときに発生する反射光を、ＵＶ強度が低く目に優しいものにできる。
　ＵＶ反射率は低いほど好ましく、その下限は特に限定されない。
　ＵＶ反射率を調整する方法は後で詳しく説明する。

　本フィルムの１０％伸び時の応力は、ＭＤ及びＴＤ各々、８０℃において３．０ＭＰａ以上が好ましく、４．０ＭＰａ以上がより好ましく、７．０ＭＰａ以上が特に好ましい。１０％伸び時の応力の上限は特に限定されないが、例えば１２．０ＭＰａである。
　膜構造用フィルムとしてＥＴＦＥフィルムを用いた膜構造物においては一般的に、膜構造用フィルムに１．５～３ＭＰａの応力がかかるような設計になっている。膜構造物の実環境における膜構造用フィルムの温度は、真夏の晴天時に金属フレームに接している部分の温度が最高温度であり、最大８０℃程度である。８０℃での１０％伸び時の応力が前記下限値以上であれば、膜構造物の実環境においてフィルムが長時間にわたり応力を受けても、フィルムが極端に弛むことを抑制できる。
　また、膜構造用フィルムは、機械的強度の観点から、１～１０％伸び時の応力が高いことが好ましい。８０℃での１０％伸び時の応力が前記下限値以上であれば、フィルムの機械的強度に優れ、フィルム間の骨材のスパンを長くでき、視覚的な解放感が得られやすい。
　一方、８０℃での１０％伸び時の応力が前記下限値未満である場合、膜構造用フィルムをテンション方式（単層）で設置する場合に、フィルムの展張方法について、多くの注意を必要とする。クッション方式では、設置後に層間に空気を導入して雨や雪に対応する張力を導入できるため、窪みが発生してその部分に雨が堆積するようなポンディングが防げる。しかし、テンション方式においては通常、導入される張力は初期に導入される張力が全てであり、設置後にフィルムが緩んできたときに改めて張力を付与する操作を行うことは想定されていない。よって、設置時に如何にフィルムを上下左右に伸ばして張力を導入できるかが重要である。張力を導入する方法としては、上下左右の４辺のうちの１辺を固定し、残りの３辺を人力で引っ張りながら固定化する方法や、４辺を固定化した後に、円弧状の突出しポールを挿入してフィルムに膨らみを持たせる方法が用いられる。設置の簡便さやフィルムの破れを抑える観点からは、クッション方式が好ましい。

　本フィルムの２３℃における寸法を基準とし、１５０℃で１０分間加熱し、その後２３℃まで冷却した際のＭＤ及びＴＤ各々の寸法変化率（以下、「熱寸法変化率」とも記す。）は、－３．５～－１．０％が好ましく、－２．５～－１．５％が特に好ましい。
　一般的なＥＴＦＥの融点は２５０～２７０℃であるので、ＥＴＦＥフィルムは通常、火災時に発生する煙の温度が２００℃以下、特に１５０℃以下となる部分でのみ使用される。そのため、最大使用温度として１５０℃を設定して熱寸法変化率を測定している。
　膜構造物の実環境における膜構造用フィルムの温度は、前記したように、最大８０℃程度である。プラスチックは熱が上がると熱膨張する。ＥＴＦＥの線膨張係数をおおよそ１×１０^－４と仮定すれば、２３℃のフィルムが仮に８０℃になったとすれば、０．６％ほど膨張すると考えられる。熱寸法変化率がマイナスの値であるフィルムは、熱を受けると収縮する。例えばＭＤ及びＴＤ各々の寸法変化率が－２％であるフィルムは、仮に寸法変化率が温度に比例するとすれば、２３℃から８０℃の熱変化で約０．６～１％程度の収縮が予想され、２３℃から８０℃の温度域ではフィルムが緩むことはないと考えられる。　このように、ＭＤ及びＴＤ各々の熱寸法変化率が前記上限値以下であれば、膜構造物の実環境において、展張された膜構造用フィルムが緩むことを抑制できるので、フィルムを伸ばしながら展張する必要がない。また、展張した後に、ドライヤー等の熱風供給機により６０℃～１５０℃程度の熱風を与えることにより、瞬時に張力を導入することが可能である。一方、ＭＤ及びＴＤの少なくとも一方の熱寸法変化率が－１．０％よりも大きいフィルムの場合は、フィルムを伸ばしながら展張しないと、膜構造物の実環境、特に夏期においてフィルムが緩くなるおそれがある。
　ＭＤ及びＴＤ各々の熱寸法変化率が前記下限値以上であれば、フィルム同士をヒートシールにより接合する際に、フィルムにシワが発生しにくく、予定した寸法通りの形状になりやすい。

　フィルムのＭＤ及びＴＤ各々の熱寸法変化率を調整する方法としては、例えば、フィルム成形後に、フィルムのエッジにテンターを付けて横方向に延伸したり、引き取りロールの速度比を変えて縦方向に延伸したりする方法がある。しかし、最も容易な方法は、フィルム成形時に、ダイから押し出された溶融物を急速冷却する方法である。ダイから押し出された溶融物を急速冷却すれば、本来の温度変化による収縮が完了する前に、フィルム形状が整えられて固定化される。このとき、収縮する力がフィルム内部に留まったままになるので、フィルムの温度が高くなりフィルムの動きが自由になれば、フィルムが本来の寸法変化により収縮する。

　本フィルムの厚さは、２５０～４００μｍであり、２５０～３００μｍが好ましい。厚さが前記下限値以上であれば、風や雪に対する耐力に優れ、また木片や小石等の衝突によるフィルムの破れは皆無となる。厚さが前記上限値以下であれば、フィルムの透明性に優れ、フィルム越しの意匠性に優れる。また、ＵＶ反射率が低く、目に優しい。

　本フィルムは、膜構造用フィルムとして好適であり、なかでもテンション方式の膜構造用フィルムとして好適である。
　膜構造用フィルムは、膜構造物を構成する膜材として用いられる。膜構造物は、屋根、外壁等の少なくとも一部を膜材で構成した建築物である。膜構造物としては、例えば、スポーツ施設（プール、体育館、テニスコート、サッカー場、アメリカンフットボールの競技場等）、倉庫、集会場、展示場、園芸施設（園芸ハウス、農業用ハウス等）、ショッピングセンター、駐車場、駐輪場、動物園、畜舎が挙げられる。
　本フィルムは、膜構造用フィルムのほか、例えば野外劇場のスクリーン、ヨットの帆布、道路標識、離型フィルムに使用できる。

〔フィルムの製造方法〕
　ヘイズが１．２～８．０％、ＵＶ反射率が１７．０％未満、厚さが２５０～４００μｍのフィルムを製造するにあたっては、（１）ＥＴＦＥの組成からのアプローチ、（２）フィルムの成形方法からのアプローチ、（３）（１）～（２）の双方からのアプローチがある。

　ＥＴＦＥのフィルムは、例えば、ＥＴＦＥを溶融させ、得られた溶融物を、所定の厚さのシート状に賦形するダイを通して連続的に押し出し、冷却して成形される。溶融物を冷却する際には、ダイの直下に配置され、所定の熱媒温度に調整されたロールに溶融物を接触させる。
　このようにして成形されるフィルムのヘイズやＵＶ反射率は、フィルムを構成するＥＴＦＥの組成や成形時の冷却速度により変化する。ＥＴＦＥの組成はＥＴＦＥの結晶性に影響する。先述したＴＦＥ／Ｅのモル比を１からずらす、あるいは他の単量体を重合させる等によって、ＴＦＥとＥの交互共重合性から逸脱させた場合、ＥＴＦＥの結晶性が低くなり、フィルムのヘイズとＵＶ反射率が低くなる。ＥＴＦＥの結晶性が高い場合でも、フィルム成形時に、より急速冷却することで、ＥＴＦＥの結晶成長が抑制され、フィルムのヘイズとＵＶ反射率が低くなる。また、フィルム表面を平滑に成形できれば、ヘイズがより低くなる。

　（１）のアプローチでは、ＥＴＦＥとして、結晶性の低い組成を用いる。
　例えば、ＥＴＦＥ中の他の単量体単位の含有量が多くなると、ＥＴＦＥの結晶性が低くなり、後述する成形方法２（一般的な成形方法）でＥＴＦＥを成形した場合でも、前記したヘイズとＵＶ反射率を満たすフィルムを製造できる。
　成形方法２によって前記したヘイズとＵＶ反射率を満たすフィルムを製造する場合、他の単量体単位の合計含有量は、ＴＦＥ単位とＥ単位との合計１００モル％に対して２．５モル％超が好ましく、３モル％以上が特に好ましい。
　他の単量体単位の合計含有量は、ＴＦＥ単位とＥ単位との合計１００モル％に対して７モル％以下が好ましく、６モル％以下がより好ましく、４モル％以下が特に好ましい。

　（２）のアプローチでは、ＥＴＦＥの溶融物を急速冷却する。この場合、使用するＥＴＦＥの他の単量体単位の合計含有量が、ＴＦＥ単位とＥ単位との合計１００モル％に対して２．５モル％以下の場合でも、前記したヘイズとＵＶ反射率を満たすフィルムを製造できる。
　溶融物を急速冷却するには、例えば、後述する成形方法１でＥＴＦＥを成形する。成形方法１では、溶融物を、対になった２つのロールの間を通過させるので、急速冷却が可能である。成形方法２の場合、溶融物の一方の面のみがロールと接触するため、急速冷却が難しい。
　急速冷却する際、ＥＴＦＥの結晶化温度の±２０℃の領域における降温速度は、５℃／秒以上が好ましく、１０℃／秒以上が特に好ましい。

　（１）～（３）のいずれかのアプローチに加えて、ＵＶ吸収剤を使用することもできる。ＥＴＦＥにＵＶ吸収剤を配合してフィルムを成形するか、又はＥＴＦＥフィルム上にＵＶ吸収剤層を設けることにより、ＵＶ反射率をより低くできる。
　以下に、成形方法１、２についてより詳しく説明する。

（成形方法１）
　成形方法１では、ＥＴＦＥを溶融させて溶融物を得て、前記溶融物を、シート状に賦形するダイを通して連続的に押し出し、対になった２つのロールの間を通過させて冷却する。これによりフィルムが得られる。
　２つのロールの一方は剛体ロールで、他方は弾性ロールである。
　一般的には、２つのロールの一方が溶融物を引き取る引取ロール（以下、「Ｃ１ロール」とも記す。）であり、他方のロールが、Ｃ１ロールに溶融物を押し付ける押付ロール（以下、「Ｃ０ロール」とも記す。）である。Ｃ１ロールが剛体ロールで、Ｃ０ロールが弾性ロールであってもよく、Ｃ１ロールが弾性ロールで、Ｃ０ロールが剛体ロールであってもよい。なお、Ｃ０ロールはバックアップロールとも言われる。
　Ｃ１ロール、Ｃ０ロールはそれぞれ熱媒により表面温度を調節可能である。
　必要に応じて、Ｃ１ロールの後段にＣ２ロールを設け、Ｃ１ロールに沿って移動し冷却された溶融物（フィルム）をＣ１ロールから剥離させ、更にＣ２ロールにて冷却する。Ｃ２ロールも熱媒により表面温度を調節可能である。Ｃ２ロールは、フィルムをＣ１ロールから剥離させると共に、フィルムの冷却速度を幅方向に均一とさせる働きがあるため、温度調節機能を持たせている。

　＜成形装置＞
　図１は、成形方法１で用いる成形装置の一実施形態を示す概略図である。
　この成形装置１０は、押出機１１と、押出機１１に接続されたダイ１３と、対になったＣ１ロール１５及びＣ０ロール１７と、Ｃ２ロール１９と、巻取機（図示略）とを備える。
　Ｃ１ロール１５及びＣ０ロール１７は、それらの間に、ダイ１３からシート状に押し出された溶融物１が通過できるように配置されている。

　押出機１１は、ＥＴＦＥを溶融させ、ダイ１３から任意の押出速度で連続的に押し出す。押出機１１としては、特に限定されず、単軸押出機、二軸押出機等の公知の押出機を用いてもよい。
　ダイ１３は、押出機１１で溶融させたＥＴＦＥをシート状に賦形する。ダイ１３としては、たとえばフラットダイ（「Ｔダイ」ともいう。）が挙げられる。

　本実施形態においてＣ１ロール１５は剛体ロールである。剛体ロールとしては、熱媒温度を調節できるものであればよく、冷却ロール等として公知のものを使用できる。
　剛体ロールの一例として、回転軸に取り付けられた内筒と、内筒の外側に配置された外筒とを備え、内筒と外筒との間に熱媒（冷媒）を流通又は保持するように構成されたロールが挙げられる。かかる剛体ロールにおいては、任意の温度に加熱又は冷却された熱媒を内筒と外筒との間に流通させることにより、又は内筒と外筒との間に保持された熱媒を任意の温度に加熱又は冷却することにより、外筒の表面温度、つまり剛体ロールの表面温度を制御できるようになっている。

　外筒の肉厚は、２ｍｍ以上が好ましく、３～３０ｍｍがより好ましく、５～２０ｍｍが特に好ましい。肉厚が前記範囲の下限値以上であれば、弾性ロール等で加圧された場合に、剛体ロールが変形しにくい。肉厚が前記範囲の上限値以下であれば、熱媒との温度交換性が良好である。また、外筒の重量を抑えられる。

　剛体ロール（外筒、内筒等）の材料としては、ヤング率が５×１０^４ＭＰａ以上の材料が好ましい。また、高温のＥＴＦＥの溶融物と接触することから、耐熱性の高い材料が好ましい。耐熱性の高い材料としては、例えば金属、セラミックス等が挙げられ、加工性の点から、金属が好ましい。金属としては、鉄鋼、ステンレス鋼、アルミ合金、ニッケル合金等が挙げられる。
　剛体ロールが金属製の場合、剛体ロールの表面は、硬さを増すために、セラミックコーティング、セラミック焼結、セラミック蒸着、超硬金属溶射、メッキ、浸炭、窒化等の表面改質を施されていてもよい。

　Ｃ１ロール１５の表面粗さは小さいほど好ましい。表面粗さが小さいほど、フィルム表面が平滑仕上がりになり、フィルムのヘイズが低くなる。表面粗さが大きいと、シート状の溶融物１をＣ１ロール１５に接触させた際に、Ｃ１ロール１５表面の凹凸形状が溶融物の表面に転写され、フィルムのヘイズが高くなることがある。
　Ｃ１ロール１５の表面粗さは、算術平均粗さＲａ及び最大高さＲｙのどちらかで管理される。Ｒａは、ＪＩＳ　Ｂ０６０１：２００１に準拠して測定される。Ｒｙは、ＪＩＳ　Ｂ０６０１：１９９４に準拠して測定される。
　Ｃ１ロール１５表面のＲａは、０．８μｍ以下が好ましく、０．５μｍ以下が特に好ましく、０．３μｍ以下が特に好ましい。
　Ｃ１ロール１５表面のＲｙは、１ｓ以下が好ましく、０．３ｓ未満が特に好ましい。

　本実施形態においてＣ０ロール１７は弾性ロールである。弾性ロールとしては、表面温度を調節できるものであればよく、ゴム、エラストマー及びプラスチックからなる群から選ばれる材料からなる被覆を表面に有する被覆ロール、可撓性金属ロール等が挙げられる。

　被覆ロールとしては、例えば、回転軸に取り付けられた内筒と、内筒の外側に配置された外筒と、外筒の外周面を被覆する前記被覆とを備え、内筒と外筒との間に熱媒（冷媒）を流通または保持するように構成されたロールが挙げられる。
　外筒、内筒はそれぞれ、剛体ロールで挙げたものと同様であってよい。

　被覆を構成するゴムとしては、シリコーンゴム、エチレンプロピレンゴム（ＥＰＤＭ）、ネオプレンゴム、フッ素ゴム等が挙げられる。エラストマーとしては、ポリエステル系、ウレタン系、ポリアミド系等が挙げられる。プラスチックとしては、フッ素樹脂、ポリスルフォン、ポリアミド等が挙げられる。
　被覆を構成する材料（ゴム、エラストマー、プラスチック）のヤング率（＝引張弾性率）は、１～５×１０^４ＭＰａが好ましく、３～５×１０^３ＭＰａが特に好ましい。

　被覆の肉厚は、０．２５ｍｍ以上が好ましく、０．５～３０ｍｍがより好ましく、１～２０ｍｍが特に好ましい。肉厚が前記範囲の下限値以上であれば、ＥＴＦＥの溶融物が剛ロールと弾性ロールとの間を通過する際に、弾性ロールが充分に変形し、内部ひずみが生じにくい。肉厚が前記範囲の上限値以下であれば、熱媒との温度交換性に優れる。

　可撓性金属ロールとしては、例えば、金属製の可撓性の外筒と、外筒の内側に外筒に隣接して配置された軟質下地とを有するロールが挙げられる。かかるロールにおいては、最外層の外筒が可撓性を有することから、表面が剛体ロール等で加圧された場合に変形する。
　可撓性金属ロールとしては、更に軟質下地の内側に熱媒（冷媒）を流通又は保持するように構成されたロールが好ましい。
　外筒は、剛体ロールで挙げたものと同様であってよい。例えば、ニッケル合金の外側にクロムメッキしたものが挙げられる。

　可撓性の外筒の肉厚は、１．０ｍｍ未満が好ましく、０．０５～０．７ｍｍがより好ましく、０．０７～０．５ｍｍが特に好ましい。肉厚が前記の上限値以下であれば、たわみ性が確保でき、下限値以上であれば、耐久性に優れる。

　軟質下地としては、ゴム（シリコーン等）、エラストマー、液体等が挙げられる。ゴム、エラストマーとしてはそれぞれ前記と同様のものが挙げられる。軟質下地が液体からなる場合、液体として熱媒を用いてもよい。
　軟質下地がゴム又はエラストマーである場合、軟質下地の厚さは、０．５ｍｍ以上が好ましく、１～３０ｍｍがより好ましく、２～２０ｍｍが特に好ましい。軟質下地の厚さが前記範囲の下限値以上であれば、溶融物１が剛体ロールと弾性ロールとの間を通過する際に、弾性ロールが充分に変形し、内部ひずみが生じにくい。軟質下地の厚さが前記範囲の上限値以下であれば、熱媒との温度交換性に優れる。

　Ｃ０ロール１７の表面粗さ（被覆ロールの被覆の表面粗さ、可撓性金属ロールの可撓性の外筒の表面粗さ）は、Ｃ１ロール１５の表面粗さと同様に、小さいほど好ましい。
　Ｃ０ロール１７の表面粗さは、Ｃ１ロール１５の表面粗さと同様に、算術平均粗さＲａ及び最大高さＲｙのどちらかで管理される。
　Ｃ０ロール１７表面のＲａは、０．８μｍ以下が好ましく、０．５μｍ以下が特に好ましく、０．３μｍ以下が特に好ましい。
　Ｃ０ロール１７表面のＲｙは、１ｓ以下が好ましく、０．３ｓ未満が特に好ましい。

　Ｃ２ロール１９は、Ｃ１ロールに沿って移動し冷却された溶融物１、すなわちフィルムを、Ｃ１ロール１５から剥離させ、巻取機（図示略）へと移送する。
　Ｃ２ロール１９としては、特に制限はなく、例えば前記した剛体ロール、弾性ロール等を使用できる。

　＜成形方法＞
　成形装置１０を用いたフィルムの成形方法について説明する。
　ＥＴＦＥを押出機１１に供給し、押出機１１内で溶融させる。押出機１１に供給するＥＴＦＥに予め他の成分が配合されていてもよく、押出機１１にＥＴＦＥとともに他の成分を供給してもよい。
　次いで、押出機１１内の溶融物を連続的にダイ１３に供給してシート状に押し出す。押し出された溶融物１を、ダイ１３の下方に配置され、Ｃ１ロール１５とＣ０ロール１７との間に通過させる。Ｃ１ロール１５とＣ０ロール１７とは、所定の線圧で押し付けられており、それらの間を溶融物が通過する際、溶融物１がＣ０ロール１７によってＣ１ロール１５の表面に密着する。また、Ｃ１ロール１５及びＣ０ロール１７によって溶融物１が両面から冷却される。
　Ｃ１ロール１５とＣ０ロール１７との間を通過した溶融物１は、所定の速度で回転するＣ１ロール１５に沿って移動しながら更に冷却される。冷却された溶融物１（フィルム）は、Ｃ２ロール１９によって、Ｃ１ロール１５から剥離され、必要に応じて更に冷却され、巻取機（図示略）へと移送される。

　ＥＴＦＥとしては、市販のものを用いてもよく、公知の製造方法により製造したものを用いてもよい。ＥＴＦＥの製造方法は、特に限定されず、ラジカル重合開始剤を用いる重合方法が挙げられる。重合方法は、特に限定されず、塊状重合、溶液重合、懸濁重合、乳化重合等が挙げられる。

　押出機１１内の温度は、ＥＴＦＥを溶融させるために、ＥＴＦＥの融点以上であり、（融点＋１０℃）～（融点＋１５０℃）が好ましく、（融点＋２０℃）～（融点＋１００℃）が特に好ましい。押出機１１内の温度が前記下限値以上であれば、均質な溶融物を得られるので安定した押出成形が可能であり、前記上限値以下であれば、熱分解に伴う材料の劣化を抑えられる。
　ダイ１３内の温度の好ましい範囲も同様である。
　ダイ１３の吐出口の隙間は、得られるフィルムの厚さが２５０～４００μｍとなるように設定される。

　Ｃ１ロール１５とＣ２ロール１７との間の線圧は、０．１～１，０００Ｎ／ｃｍであり、５～１，０００Ｎ／ｃｍが好ましく、１０～５００Ｎ／ｃｍがより好ましく、３０～３００Ｎ／ｃｍが特に好ましい。線圧が前記下限値以上であれば、溶融物１がＣ１ロール１５に良好に密着し、押し付けムラによる欠陥の発生を低減できる。線圧が前記上限値以下であれば、溶融物１がＣ１ロール１５とＣ０ロール１７との間を通過する際に溶融物１の内部で回転、横流れ等が生じにくく、内部ゆがみが小さいフィルムが得られやすい。また、弾性ロールであるＣ０ロール１７の耐久性が良好である。

　Ｃ１ロール１５の熱媒温度とＣ０ロール１７の熱媒温度との平均（以下、「平均熱媒温度」ともいう。）は、４０～１８０℃であり、６０～１７０℃が好ましく、７０～１５０℃が特に好ましい。平均熱媒温度が前記範囲の上限値以下であれば、溶融物１がＣ１ロール１５とＣ０ロール１７との間を通過する際に急速冷却され、ＥＴＦＥの結晶化度が低くなり、得られるフィルムのヘイズ、ＵＶ反射率が低くなる。平均熱媒温度が前記範囲の下限値以上であれば、ロールへの溶融物１の密着性に優れる。

　Ｃ１ロール１５の熱媒温度は、４０～１８０℃が好ましく、５０～１５０℃が特に好ましい。また、Ｃ１ロール１５の熱媒温度は、４０～１２０℃であってもよく、４０～１００℃であってもよく、５０～１００℃であってもよく、６０～９０℃であってもよい。Ｃ１ロール１５の熱媒温度が前記下限値以上であれば、Ｃ１ロール１５への溶融物１の密着性に優れ、前記上限値以下であれば、溶融物１がＣ１ロール１５とＣ０ロール１７との間を通過する際に急速冷却され、ＥＴＦＥの結晶化度が低くなり、得られるフィルムのヘイズ、及びＵＶ反射率が低くなる。
　成形時のＣ１ロール１５の表面温度は通常、熱媒温度よりも高く、溶融物１の温度よりは低くなる。

　Ｃ０ロール１７の熱媒温度は、Ｃ０ロール１７の表面の材質によっても異なるが、４０～１８０℃が好ましく、５０～１５０℃が特に好ましい。また、Ｃ０ロール１７の熱媒温度は、４０～１２０℃であってもよく、４０～１００℃であってもよく、５０～１００℃であってもよく、６０～９０℃であってもよい。Ｃ０ロール１７の熱媒温度が前記下限値以上であれば、特殊な冷却方法を用いる必要がなく操作性に優れ、前記上限値以下であれば、溶融物１がＣ１ロール１５とＣ０ロール１７との間を通過する際に急速冷却され、ＥＴＦＥの結晶化度が低くなり、得られるフィルムのヘイズ、及びＵＶ反射率が低くなるとともに弾性ロールの寿命が延びる。
　成形時のＣ０ロール１７の表面温度は通常、熱媒温度よりも高く、溶融物１の温度よりは低くなる。

　Ｃ１ロール１５とＣ０ロール１７との間を通過する直前の溶融物１の温度は、２００～３３０℃であり、２２０～３２０℃が好ましく、２４０～３１０℃が特に好ましい。溶融物１の温度が前記下限値以上であれば、Ｃ１ロール１５とＣ０ロール１７との間を通過する際に急速冷却され、ＥＴＦＥの結晶化度が低くなり、得られるフィルムのヘイズ、ＵＶ反射率が低くなる。溶融物１の温度が前記上限値以下であれば、熱分解に伴う材料の劣化を抑えられる。
　Ｃ１ロール１５とＣ０ロール１７との間を通過する直前の溶融物１の温度は、ダイ１３内の温度、エアギャップ等により調整できる。エアギャップは、ダイ１３の出口から冷却点までの距離である。冷却点は、ダイから押し出された溶融物１が最初にロール（２つのロールの一方または両方）と接する位置である。
　エアギャップは、２００ｍｍ以下が好ましく、１５０ｍｍ以下が特に好ましい。

　Ｃ１ロール１５の引取速度（周速度）は、０．３～５０ｍ／分が好ましく、０．５～２０ｍ／分が特に好ましい。Ｃ１ロール１５の周速度が前記下限値以上であれば、フィルムの生産性が優れ、前記上限値以下であれば、フィルムの物性を担保しやすい。

　Ｃ２ロール１９の熱媒温度は、例えば１００℃以下であり、４０～１００℃であってもよい。
　成形時のＣ２ロール１９の表面温度は通常、熱媒温度よりも高く、フィルム温度よりは低くなる。

　Ｃ１ロール１５の引取速度（ｍ／分）に対するＣ２ロール１９の引取速度（ｍ／分）の比（以下、「Ｃ２／Ｃ１引取速度比」とも記す。）は、例えば１．００～１．０４であり、１．００～１．０２が好ましい。Ｃ２／Ｃ１引取速度比が１．００よりも大きくなるにつれて、溶融物１が引き延ばされ、１５０℃で１０分間加熱したときの収縮率が大きくなる傾向がある。Ｃ２／Ｃ１引取速度比が好ましい範囲内であれば、前記した熱寸法変化率を好ましい範囲内としやすい。

（成形方法２）
　成形方法２では、ＥＴＦＥを溶融させて溶融物を得て、前記溶融物を、シート状に賦形するダイを通して連続的に押し出し、その片面をＣ１ロールに接触させて冷却する。必要に応じて、Ｃ１ロールの後段にＣ２ロールを設け、Ｃ１ロールに沿って移動し冷却された溶融物（フィルム）をＣ１ロールから剥離させ、更にＣ２ロールにて冷却する。これによりフィルムが得られる。

　＜成形装置＞
　図２は、成形方法２で用いる成形装置の一実施形態を示す概略図である。
　この成形装置２０は、押出機１１と、押出機１１に接続されたダイ１３と、Ｃ１ロール１５と、Ｃ２ロール１９と、巻取機（図示略）とを備える。
　成形装置２０は、Ｃ０ロール１７を備えていない以外は、図１の成形装置１０と同様である。

　＜成形方法＞
　成形装置２０を用いたフィルムの成形方法について説明する。
　ＥＴＦＥを押出機１１に供給し、押出機１１内で溶融させる。押出機１１に供給するＥＴＦＥに予め他の成分が配合されていてもよく、押出機１１にＥＴＦＥとともに他の成分を供給してもよい。
　次いで、押出機１１内の溶融物を連続的にダイ１３に供給してシート状に押し出す。押し出された溶融物１を、ダイ１３の下方に配置されたＣ１ロール１５で引き取る。この際、Ｃ１ロール１５によって溶融物１が片面から冷却される。
　Ｃ１ロール１５で引き取られた溶融物１は、所定の速度で回転するＣ１ロール１５に沿って移動しながら更に冷却される。冷却された溶融物１（フィルム）は、Ｃ２ロール１９によって、Ｃ１ロール１５から剥離され、必要に応じて更に冷却され、巻取機（図示略）へと移送される。

　Ｃ１ロール１５の熱媒温度は、例えば１００～２５０℃である。
　成形時のＣ１ロール１５の表面温度は通常、熱媒温度よりも高い温度となる。
　Ｃ１ロール１５の表面温度以外の条件は、成形方法１と同様であってよい。

　Ｃ１ロール１５の熱媒温度とＣ２ロール１９の熱媒温度との平均は、４０～１８０℃であり、６０～１７０℃が好ましく、７０～１５０℃が特に好ましい。この平均熱媒温度が前記範囲であれば、溶融物１がＣ１ロール１５通過する際に冷却され、その後Ｃ２ロール１９によって更に冷却されることにより、ＥＴＦＥの結晶化度が低くなり、得られるフィルムのヘイズ、ＵＶ反射率が低くなる。

　上記成形方法１又は成形方法２により成形したフィルムに、ＵＶ吸収剤層を形成してもよい。

（成形方法１及び２）
　上述の通り、結晶性の低い組成のＥＴＦＥを用いる（１）のアプローチではＣ１ロール１５及びＣ０ロール１７の熱媒温度を比較的高く設定でき、冷却速度の許容範囲が広くなる。他方、急速冷却を行う（２）のアプローチでは、ＥＴＦＥの組成についての許容範囲が広くなる。
　よって、Ｃ１ロール１５の熱媒温度とＣ０ロール１７の熱媒温度との平均、又はＣ０ロール１７を用いない場合にはＣ１ロール１５の熱媒温度とＣ２ロール１９の熱媒温度との平均をＴ（℃）とし、ＥＴＦＥの融点をＭ（℃）としたとき、ＴとＭとの積であるＴ×Ｍが３１，０００以下であることが好ましく、３０，０００以下であることがより好ましい。また、Ｔ×Ｍは１０，０００以上であることが好ましく、１２，０００以上であることがより好ましく、１３，０００以上であることが更に好ましく、１４，０００以上であることが特に好ましい。

　以下に実施例を用いて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。以下においてＰＦＢＥはＣＨ_２＝ＣＨ（ＣＦ_２）_４Ｆを意味する。例７～１９は実施例であり、例１～６、２０は比較例である。

〔評価方法〕
（光学特性）
　ヘイズは、日本電色工業社製　濁度計　ＮＤＨ－５０００を用い、ＪＩＳ　Ｋ７１３６：２０００に準拠して測定した。
　ＵＶ反射率及び可視光線透過率は、島津製作所社製の紫外可視分光光度計ＵＶ－３６００ＰＣを用い、ＤＩＮ　ＥＮ　４１０：１９９８に準拠して測定した。
　ＵＶ吸収剤層を形成したフィルムは、ＵＶ吸収剤層を形成した側とは反対側（ＥＴＦＥ面）から光が入射する方向にて光学特性を測定した。

　なお、参考として、市販のフロートガラス（厚さ２．８ｍｍ、ＡＧＣ社製、商品名ＦＬ３）及びＬｏｗ－Ｅ複層ガラス（厚さ２４ｍｍ、ＡＧＣ社製、商品名サンバランスピュアクリア（ＳＢＰ６＋Ａ１２＋ＦＬ６））の光学特性を上記測定方法により測定した。結果を以下に示す。
　フロートガラス：ヘイズ０．８％、ＵＶ反射率７．４％、可視光線透過率９１．７％。　Ｌｏｗ－Ｅ複層ガラス：ヘイズ１．２％、ＵＶ反射率１８．２％、可視光線透過率７７．２％。

（熱寸法変化率）
　熱寸法変化率は、ＪＩＳ　Ｋ７１３３：１９９９「プラスチック－フィルム及びシート－加熱寸法変化測定方法」に準拠して測定した。加熱条件は１５０℃で１０分間とし、フィルムのＭＤとＴＤについて測定した。

（１０％伸び時応力）
　１０％伸び時応力は、８０℃おける１０％伸び時の応力であり、ＪＩＳ　Ｋ７１２７：１９９９「プラスチック－引張特性の試験方法－第３部：フィルム及びシートの試験条件」に準拠して測定した。サンプル形状はダンベル型のタイプ５とし、引っ張り速度を２００ｍｍ／分とし、フィルムのＭＤとＴＤについて測定した。なお、測定温度は８０℃である。

（融点）
　融点は、走査型示差熱分析計（セイコーインスツルメンツ社製、型式ＤＳＣ７０３０）を用いて測定した。

（フィルムの厚さ）
　フィルムの厚さは、デジタルマイクロメーター（Ｐｒｅｃｉｓｉｏｎ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ　Ｉｎｃ．製、型式Ｍ－３０）を用いて測定した。

（フィルム越しの意匠性）
　フィルムを地面に対し垂直に設置した。別途、フィルムからフィルム表面に対して垂直方向に２０ｃｍ離れた地点の地面に、半径１０ｃｍの黒色の円を描いた画用紙を垂直に設置した。その後、フィルムから画用紙とは反対の方向に１ｍ離れた地点から、フィルムを介して画用紙を観察し、黒色の円の視認性を評価した。視認性は、（１）黒色の円の輪郭が明瞭に見えるか否かと、（２）黒色に見えるかグレイ色に見えるか、の２つの指標にて判断した。円の輪郭が明瞭に見え、かつ黒色と判定できるものＡとし、輪郭は明瞭に見えるが、グレイ色に見えるものをＢとし、Ａ及びＢのいずれにも当てはまらないものをＣとした。Ａのみ使用可能である。

（擦り傷の目立ちにくさ）
　ロータリーアブレージョンテスタ（東洋精機製作所製）を用い、摩耗輪にてフィルムの表面に擦り傷をつけた。摩耗輪はＣＳ１０を用い、４．９Ｎで１００回の回転をさせた。その後、フィルムを１ｍ又は３ｍ離れた所から目視で観察し、擦り傷が見えるかどうかを評価した。擦り傷が３ｍ離れた地点から確認できるフィルムをＣ、１ｍからは確認できるが、３ｍでは確認できないフィルムをＢ、１ｍでも確認できないフィルムをＡとした。ＢとＡが使用可能である。

（６０℃放置後のたわみ）
　１辺が５０ｃｍの正方形のアルミニウム製枠体を２つ用意した。双方の枠体に、両面粘着テープを貼り、その上に厚さ１ｍｍのブチルゴムを固定した。その後、一方の枠体のブチルゴム上に両面粘着テープを張り付け、その上にフィルムを載せ、更に他方の枠体を、フィルム側にブチルゴムが接するように載せて、４つの角を締めつけた。こうして、フィルムを枠体で挟み込んだ試験体を作製した。この際、フィルムが自重でたわまないように注意した。
　次いで、試験体を６０℃の高温槽に５分間入れ、その後、２５℃で１日放置した。その後、フィルムを指で押した際のフィルムの反発力の強さにより、フィルムに残る張力の大きさを判断した。フィルムが５ｍｍ超凹んだ場合はＣとし、フィルムが０ｍｍ超５ｍｍ以下凹んだ場合はＢとし、フィルムが全く凹まなかった場合をＡとした。凹む量が少ないほど、フィルムに残る張力が大きく、フィルムがたわみにくいため好ましい。なお、厚さ２５０μｍのフィルムには１０Ｎ、厚さ４００μｍのフィルムには１５Ｎの力を指先より押し込んだ。ＡとＢが使用可能である。

〔ＥＴＦＥの製造例〕
（製造例１）
　容積が４３０Ｌのジャケット付きステンレス製重合槽を脱気し、１－ヒドロトリデカフルオロヘキサンの４３８ｋｇ、メタノールの３．３５ｋｇ、ＰＦＢＥの２．２８ｋｇを仕込み、ＴＦＥとＥとを８４／１６（モル比）となるような比率で１．５ＭＰａ（ゲージ圧）まで圧入した。重合槽内を６６℃に昇温し、ラジカル重合開始剤として２質量％のｔｅｒｔ－ブチルペルオキシピバレートの１－ヒドロトリデカフルオロヘキサン溶液の１．７３Ｌを仕込み、重合を開始した。重合中は、圧力が一定になるようにＴＦＥ／Ｅ＝５４／４６（モル比）の混合ガスを連続的に仕込み、この混合ガスに対して１．４モル％となるようにＰＦＢＥを連続的に仕込んだ。重合開始から１９７分後、混合ガスの３４．７ｋｇを仕込んだ時点で、重合槽内を２５℃まで降温するとともに常圧までパージした。得られたスラリーを８５０Ｌの造粒槽に移送し、水の３４０Ｌを加え、加熱しながら溶媒を除去し、ＥＴＦＥ１の３７ｋｇを得た。ＥＴＦＥ１の組成はＴＦＥ単位／Ｅ単位／ＰＦＢＥ単位＝５４／４６／１．４（モル比）、融点は２６２℃、Ｑ値は５．４ｍｍ^３／秒であった。

（製造例２）
　重合槽内を昇温する前の１－ヒドロトリデカフルオロヘキサンの仕込み量を４３６ｋｇ、メタノールの仕込み量を２．９２ｋｇ、ＰＦＢＥの仕込み量を２．７７ｋｇとしたこと、昇温後の２質量％のｔｅｒｔ－ブチルペルオキシピバレートの１－ヒドロトリデカフルオロヘキサン溶液の仕込み量を２．１０Ｌ、ＰＦＢＥの仕込み量を混合ガスに対して１．７モル％としたこと、重合開始から１８５分後、混合ガスの３４．２ｋｇを仕込んだ時点で重合槽内を降温したこと以外は製造例１と同様にして、ＥＴＦＥ２の３６ｋｇを得た。ＥＴＦＥ２の組成はＴＦＥ単位／Ｅ単位／ＰＦＢＥ単位＝５４／４６／１．７（モル比）、融点は２５８℃、Ｑ値は５．４ｍｍ^３／秒であった。

（製造例３）
　重合槽内を昇温する前の１－ヒドロトリデカフルオロヘキサンの仕込み量を４３６ｋｇ、メタノールの仕込み量を２．９ｋｇ、ＰＦＢＥの仕込み量を４．８９ｋｇ、ＴＦＥ／Ｅのモル比を７５／２５としたこと、昇温後の２質量％のｔｅｒｔ－ブチルペルオキシピバレートの１－ヒドロトリデカフルオロヘキサン溶液の仕込み量を３．８０Ｌ、混合ガスのＴＦＥ／Ｅのモル比を５１／４９、ＰＦＢＥの仕込み量を混合ガスに対して３．０モル％としたこと、重合開始から１８９分後、混合ガスの３４．７ｋｇを仕込んだ時点で重合槽内を降温したこと以外は製造例１と同様にして、ＥＴＦＥ３の３６．５ｋｇを得た。ＥＴＦＥ３の組成は、ＴＦＥ単位／Ｅ単位／ＰＦＢＥ由来の単位＝５１／４９／３．０（モル比）、融点は２４６℃、Ｑ値は５．４ｍｍ^３／秒であった。

（製造例４）
　重合槽内を昇温する前の１－ヒドロトリデカフルオロヘキサンの仕込み量を４３６ｋｇ、メタノールの仕込み量を１．８ｋｇ、ＰＦＢＥの仕込み量を５．３ｋｇとしたこと、昇温後の２質量％のｔｅｒｔ－ブチルペルオキシピバレートの１－ヒドロトリデカフルオロヘキサン溶液の仕込み量を５．７０Ｌ、ＰＦＢＥの仕込み量を混合ガスに対して３．０モル％としたこと、重合開始から１９０分後、混合ガスの３５．７ｋｇを仕込んだ時点で重合槽内を降温したこと以外は製造例１と同様にして、ＥＴＦＥ４の３５．９ｋｇを得た。ＥＴＦＥ４の組成は、ＴＦＥ単位／Ｅ単位／ＰＦＢＥ単位＝５４／４６／３．０（モル比）、融点は２４４℃、Ｑ値は６．４ｍｍ^３／秒であった。

（製造例５）
　重合槽内を昇温する前の１－ヒドロトリデカフルオロヘキサンの仕込み量を４３６ｋｇ、メタノールの仕込み量を１．３２ｋｇ、ＰＦＢＥの仕込み量を５．０ｋｇ、ＴＦＥ／Ｅのモル比を８９／１１としたこと、昇温後の２質量％のｔｅｒｔ－ブチルペルオキシピバレートの１－ヒドロトリデカフルオロヘキサン溶液の仕込み量を５．３４Ｌ、混合ガスのＴＦＥ／Ｅのモル比を６０／４０、ＰＦＢＥの仕込み量を混合ガスに対して３．０モル％としたこと、重合開始から１９０分後、混合ガスの３６．２ｋｇを仕込んだ時点で重合槽内を降温したこと以外は製造例１と同様にして、ＥＴＦＥ５の３６．２ｋｇを得た。ＥＴＦＥ５の組成は、ＴＦＥ単位／Ｅ単位／ＰＦＢＥ単位＝６０／４０／３．３（モル比）、融点は２２６℃、Ｑ値は１２．４ｍｍ^３／秒であった。

（製造例６）
　重合槽内を昇温する前の１－ヒドロトリデカフルオロヘキサンの仕込み量を４３６ｋｇ、メタノールの仕込み量を０．８ｋｇ、ＰＦＢＥの仕込み量を８．５ｋｇ、ＴＦＥ／Ｅのモル比を８９／１１としたこと、昇温後の２質量％のｔｅｒｔ－ブチルペルオキシピバレートの１－ヒドロトリデカフルオロヘキサン溶液の仕込み量を９．８６Ｌ、混合ガスのＴＦＥ／Ｅのモル比を６０／４０、ＰＦＢＥの仕込み量を混合ガスに対して５．０モル％としたこと、重合開始から１９７分後、混合ガスの３６．０ｋｇを仕込んだ時点で重合槽内を降温したこと以外は製造例１と同様にして、ＥＴＦＥ６の３５．９ｋｇを得た。ＥＴＦＥ６の組成は、ＴＦＥ単位／Ｅ単位／ＰＦＢＥ単位＝６０／４０／５．０（モル比）、融点は２１０℃、Ｑ値は１６．４ｍｍ^３／秒であった。

（製造例７）
　重合槽内を昇温する前の１－ヒドロトリデカフルオロヘキサンの仕込み量を４３９ｋｇ、メタノールの仕込み量を０．５９ｋｇ、ＰＦＢＥの仕込み量を１３．６ｋｇとしたこと、昇温後の２質量％のｔｅｒｔ－ブチルペルオキシピバレートの１－ヒドロトリデカフルオロヘキサン溶液の仕込み量を１５．８Ｌ、ＰＦＢＥの仕込み量を混合ガスに対して８．０モル％としたこと、重合開始から１９１分後、混合ガスの３６．３ｋｇを仕込んだ時点で重合槽内を降温したこと以外は製造例１と同様にして、ＥＴＦＥ７の３６．１ｋｇを得た。ＥＴＦＥ７の組成は、ＴＦＥ単位／Ｅ単位／ＰＦＢＥ単位＝５４／４６／８．０（モル比）、融点は１９１℃、Ｑ値は２２．０ｍｍ^３／秒であった。

〔実施例及び比較例〕
（例１）
　透明な膜構造用ＥＴＦＥフィルムであるＮＯＷＯＦＬＯＮ　ＥＴ　６２３５Ｚ　２５０（ＮＯＷＯＦＯＬ社製、厚さ２５０μｍ）を例１のフィルムとした。

（例２）
　透明な膜構造用ＥＴＦＥフィルムであるＦｌｕｏｎ　ＥＴＦＥ　ＦＩＬＭ　２５０ＮＪ（ＡＧＣ社製、厚さ２５０μｍ）を例２のフィルムとした。

（例３）
　乳白色で片面がマット超で乳白色の膜構造用ＥＴＦＥフィルムであるＦｌｕｏｎ　ＥＴＦＥ　ＦＩＬＭ　２５０ＨＪ（ＡＧＣ社製、厚さ２６０μｍ）を例３のフィルムとした。

（例４）
　製造例１で得たＥＴＦＥ１を、外径３２ｍｍ、長さ１，４４５ｍｍのセグメント式スクリューを持つ同方向回転二軸押出機（テクノベル社製）を用いて、温度２８０℃でスクリュー回転数７５ｒｐｍ、押出量３０ｋｇ／時間で混錬し、外径２．５±０．５ｍｍのストランドを押し出し、水冷し、その後ペレタイザーを用いて長さ２～３ｍｍにカットしてペレットを成形した。なお、ｒｐｍは１分間あたりの回転数を示す。
　ＥＴＦＥ１のペレットを、図２に示した、Ｃ０ロールを使用しない成形方法２によりフィルムに成形した。具体的な成形手順を以下に示した。
　外径６５ｍｍ、長さ１，９５０ｍｍのスクリューを持つ単軸押出機の先端に、幅７００ｍｍで吐出口の隙間を０．５ｍｍに設定したフィルム形成用ダイを取り付け、材料投入口に真空ホッパー（マツボー社製）を取り付け、真空ホッパー内を０．０５ＭＰａ以下に保持した。ＥＴＦＥ１のペレットを材料投入口に投入し、押出機先端とフィルム形成用ダイの温度を３３０℃とし、押出量３７ｋｇ／時間でＥＴＦＥ１をフィルム形成用ダイから押出し、フィルム形成用ダイ直下に配置されたＣ１ロールに沿わせて冷却し、更にＣ２ロールで引き取り、２５℃まで冷却することでフィルムを成形した。Ｃ１ロールは、表面にハードクロムメッキ（Ｒｙ：０．２ｓ）が施された金属製ロールを使用し、熱媒温度を１５０℃に設定し、引取速度を５ｍ／分とした。Ｃ２ロールもハードクロムメッキ（Ｒｙ：０．２ｓ）が施された金属製ロールを使用し、熱媒温度を９０℃に設定し、引取速度を５ｍ／分（Ｃ２／Ｃ１引取速度比１）とした。

（例５）
　ＵＶ吸収剤として疎水化処理されたシリカ被覆酸化セリウム（シリカ被覆酸化セリウム粒子をメチルハイドロジェンポリシロキサンにて表面疎水化処理した粒子、大東化成工業社製、商品名　ＳＩ０１－５　セリガードＳＣ６８３２）の１００ｇを、ＥＴＦＥ１の１９００ｇと混合した。得られた混合物を、同方向回転二軸押出機を用いて、シリンダー温度３１０℃、ヘッド温度３２０℃で混錬し、外径２．５±０．５ｍｍのストランドを押し出し、水冷し、その後ペレタイザーを用いて長さ２～３ｍｍにカットして、ＵＶ吸収剤を含有するマスターバッチのペレット（ＵＶ吸収剤の含有量：マスターバッチの総質量に対して５質量％）を成形した。
　このマスターバッチと、例１と同様に製造したＥＴＦＥ１のペレットとを、マスターバッチ：ＥＴＦＥ１＝１：９（質量比）で混合した。
　得られた混合物をＥＴＦＥ１のペレットの代わりに用いた以外は例４と同様にしてフィルム（ＵＶ吸収剤の含有量：フィルムの総質量に対して０．５質量％）を成形した。

（例６）
　水酸基を有する含フッ素重合体のキシレン溶液（ＡＧＣ社製、商品名ＬＦ２００、水酸基価３１ｍｇ（ＫＯＨ）／ｇ、含フッ素重合体の固形分６０質量％、含フッ素重合体のガラス転移温度２５℃）に、トルエンと、ＵＶ吸収剤としてヒドロキシフェニルトリアジン系ＵＶ吸収剤（ＢＡＳＦジャパン社製、ＴＩＮＵＶＩＮ　４７９）を添加し、固形分３５質量％のコーティング液を調製した。ＵＶ吸収剤の添加量は、含フッ素重合体の１００質量部に対して１３質量部とした。トルエンの添加量は、グラビア版にてグラビア印刷を行うため、３番のザーンカップ粘度が２５秒となる量とした。
　続いて、例４で成形したフィルムの一方の表面にコロナ放電処理した後、そのコロナ処理面に上記コーティング液を、乾燥後の厚さが２μｍとなるようにグラビアロールにて塗布し、１００℃で１０秒間乾燥してＵＶ吸収剤層を形成した。これにより、ＵＶ吸収剤層を有するフィルムを得た。

（例７）
　ＥＴＦＥ１を、例４と同じ方法によりペレット化し、図１に示した成形方法１（Ｃ０ロールを使用する方法）によりフィルムに成形した。具体的な成形手順は、ロール構成と熱媒の温度以外は、例４と同様である。Ｃ１ロールは例４と同じものを用い、熱媒の温度を９０℃とした。Ｃ０ロールは、シリコンゴムロール（持田商工株式会社製、ＭＷミラーロール）を用い、Ｃ０ロールの熱媒温度も９０℃とした。エアギャップは１００ｍｍとした。Ｃ１ロールとＣ０ロールとの間を通過する直前の溶融物１の温度は２８０℃であった。Ｃ１ロールとＣ０ロールとのニップ圧は、線圧で１４０Ｎ／ｃｍであった。

（例８）
　例５と同様にして、マスターバッチとＥＴＦＥ１のペレットとの混合物を得た。得られた混合物をＥＴＦＥ１のペレットの代わりに用いた以外は例７と同様にしてフィルム（ＵＶ吸収剤の含有量：フィルムの総質量に対して０．５質量％）を成形した。

（例９）
　例７で成形したフィルムの一方の表面に、例４と同様にしてコロナ放電処理し、ＵＶ吸収剤層を形成した。これにより、ＵＶ吸収剤層を有するフィルムを得た。

（例１０～１３、１５～１９）
　ＥＴＦＥ１の代わりに表１に示すＥＴＦＥを用い、成形条件（各ロールの熱媒温度、Ｃ２／Ｃ１引取速度比）、成形するフィルムの厚さを表１に示すようにした以外は例７と同様にしてフィルムを成形した。厚さ４００μｍのフィルムを成形する例１３、１８及び１９の場合、フィルム形成用ダイの吐出口の隙間は０．８ｍｍに設定した。また、例１７、１８及び１９は、樹脂の融点が低いため、ペレット化する際の押出機の温度を２６０℃（例４は２８０℃）、押出機先端とフィルム形成用ダイの温度を３００℃（例４は３３０℃）に設定した。Ｃ１ロールとＣ０ロールとの間を通過する直前の溶融物の温度は、例１３は３００℃、例１７は２６０℃、例１８及び１９は２８０℃であった。

（例１４）
　ＥＴＦＥ１の代わりにＥＴＦＥ４を用いた以外は例４と同様にしてフィルムを成形した。

（例２０）
　ＥＴＦＥ１の代わりにＥＴＦＥ７を用い、成形条件（各ロールの熱媒温度）を表１に示すようにした以外は、例４と同様にしてフィルムを成形した。例２０では、樹脂の融点が低いため、ペレット化する際の押出機の温度を２６０℃（例４は２８０℃）、押出機先端とフィルム形成用ダイの温度を２９０℃（例４は３３０℃）に設定した。Ｃ１ロールとＣ０ロールとの間を通過する直前の溶融物の温度は、２７０℃であった。

　各例で使用したＥＴＦＥの組成（ＴＦＥ／Ｅ、ＰＦＢＥ）と融点を表１に示す。表１中、ＥＴＦＥの組成における「ＴＦＥ／Ｅ」は、ＴＦＥ単位とＥ単位とのモル比を示し、「ＰＦＢＥ」は、ＴＦＥ単位とＥ単位との合計１００モルに対するＰＦＢＥの割合（モル）を示す。
　各例のフィルムの光学特性、熱寸法変化率、８０℃における１０％伸び時の応力を表２に示す。また、フィルム越しの意匠性、擦り傷の目立ちにくさ、及び６０℃放置後のたわみの評価結果を表２に示す。

　表１中の「熱媒温度の平均Ｔ（℃）」は、Ｃ１ロール１５の熱媒温度とＣ０ロール１７の熱媒温度との平均、又はＣ０ロール１７を用いない場合にはＣ１ロール１５の熱媒温度とＣ２ロール１９の熱媒温度との平均を表す。

　例７～１９のフィルムは、ヘイズが１．２～８．０％であるので、フィルム越しの意匠性に優れ、かつ擦り傷が目立ちにくかった。また、ＵＶ反射率が１７．０％未満であるので、目に優しいものであった。
　一方、市販の膜構造用ＥＴＦＥフィルムである例１～３のフィルムは、ヘイズが８．０％を超えており、フィルム越しの意匠性に劣っていた。また、ＵＶ反射率が１７．０％を超えていた。
　例４～６のフィルムは、ヘイズが８．０％を超えており、フィルム越しの意匠性に劣っていた。特に例４のフィルムは、ＵＶ反射率が１７．０％を超えていた。
　例２０のフィルムは、ヘイズが１．２％未満であるので、擦り傷が目立ちやすかった。

　本発明のフィルムは、フィルム越しの意匠性に優れ、擦り傷が付いても目立ちにくく、目に優しい。
　本発明のフィルムによれば、透明でクリア感に優れ、目に優しい膜構造物を容易に展張できる。

　日本国特許出願２０２０－０７６２４３号の開示は、その全体が参照により本開示に取り込まれる。
　本開示における全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本開示中に参照により取り込まれる。

　１…溶融物、１０…成形装置、１１…押出機、１３…ダイ、１５…ロール（Ｃ１ロール）、１７…ロール（Ｃ０ロール）、１９…ロール（Ｃ２ロール）、２０…成形装置

Claims

　テトラフルオロエチレンに基づく単位とエチレンに基づく単位とを有する共重合体を含み、
　ヘイズが１．２～８．０％であり、
　紫外線反射率が１７．０％未満であり、
　厚さが２５０～４００μｍであることを特徴とするフィルム。
　２３℃における寸法を基準とし、１５０℃で１０分間加熱し、その後２３℃まで冷却した際のＭＤ及びＴＤ各々の寸法変化率が－３．５～－１．０％である、請求項１に記載のフィルム。
　ＭＤ及びＴＤ各々の１０％伸び時の応力が、８０℃において３．０ＭＰａ以上である、請求項１又は２に記載のフィルム。
　前記共重合体の含有量が、前記フィルムの総質量に対して９０質量％以上である、請求項１～３のいずれか一項に記載のフィルム。
　前記共重合体が、テトラフルオロエチレン及びエチレン以外の他の単量体に基づく単位を有し、
　前記他の単量体に基づく単位の合計含有量が、前記テトラフルオロエチレンに基づく単位と前記エチレンに基づく単位との合計に対して１～７モル％である、請求項１～４のいずれか一項に記載のフィルム。
　膜構造用である、請求項１～５のいずれか一項に記載のフィルム。
　請求項１～６のいずれか一項に記載のフィルムの製造方法であって、
　前記共重合体を溶融させて溶融物を得て、前記溶融物を、シート状に賦形するダイを通して連続的に押し出し、対になった２つのロールの間を通過させて冷却し、
　前記２つのロールはそれぞれ熱媒により表面温度を調節可能であり、
　前記２つのロールの一方が剛体ロールで、他方が弾性ロールであり、
　前記２つのロールが０．１～１，０００Ｎ／ｃｍの線圧で押し付けられており、
　前記２つのロールの間を通過する直前の前記溶融物の温度が２００～３３０℃であり、
　前記２つのロールそれぞれの熱媒温度の平均が４０～１８０℃であることを特徴とするフィルムの製造方法。
　前記２つのロールの間を通過させて冷却した後、後段に配置される後段ロールに接触させて更に冷却し、
　前記後段ロールは熱媒により表面温度を調節可能であり、
　前記後段ロールの熱媒温度が１００℃以下である、請求項７に記載のフィルムの製造方法。
　請求項１～６のいずれか一項に記載のフィルムの製造方法であって、
　前記共重合体を溶融させて溶融物を得て、前記溶融物を、シート状に賦形するダイを通して連続的に押し出し、剛体ロール又は弾性ロールと後段に配置される後段ロールとに接触させて冷却し、
　前記剛体ロール又は弾性ロール、及び前記後段ロールはそれぞれ熱媒により表面温度を調節可能であり、
　前記剛体ロール又は弾性ロールに接触する直前の前記溶融物の温度が２００～３３０℃であり、
　前記剛体ロール又は弾性ロールの熱媒温度と前記後段ロールの熱媒温度との平均が４０～１８０℃であることを特徴とするフィルムの製造方法。
　前記後段ロールの熱媒温度が１００℃以下である、請求項９に記載のフィルムの製造方法。
　請求項１～６のいずれか一項に記載のフィルムの製造方法であって、
　前記共重合体を溶融させて溶融物を得て、前記溶融物を、シート状に賦形するダイを通して連続的に押し出し、対になった剛体ロールと弾性ロールとの間を通過させて冷却するか、又は、剛体ロール若しくは弾性ロールと後段に配置される後段ロールとに接触させて冷却し、
　前記剛体ロール、弾性ロール及び後段ロールはそれぞれ熱媒により表面温度を調節可能であり、
　前記剛体ロールと前記弾性ロールの間を通過する直前、又は前記剛体ロール若しくは前記弾性ロールに接触する直前の前記溶融物の温度が２００～３３０℃であり、
　前記共重合体の融点Ｍが２００℃以上であり、
　前記剛体ロールの熱媒温度と前記弾性ロールの熱媒温度との平均、又は、前記剛体ロール若しくは弾性ロールの熱媒温度と前記後段ロールの熱媒温度との平均をＴ（℃）としたとき、Ｔ×Ｍが３１，０００以下であることを特徴とするフィルムの製造方法。