WO2021182166A1 - 含フッ素エーテル化合物及びその製造方法、化合物及びその製造方法、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、並びに物品及びその製造方法 - Google Patents

含フッ素エーテル化合物及びその製造方法、化合物及びその製造方法、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、並びに物品及びその製造方法 Download PDF

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弘毅 渡邉
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Definitions

  • the present invention relates to a fluorinated ether compound and a method for producing the same, a novel compound suitable for producing the fluorinated ether compound and the like, a method for producing the same, a fluorinated ether composition, a coating liquid, and an article and a method for producing the same.
  • a fluorine-containing ether compound having a perfluoropolyether chain and a hydrolyzable silyl group can form a surface layer exhibiting high lubricity, water repellency, oil repellency, etc. on the surface of a base material, and is therefore preferably used as a surface treatment agent. ..
  • the surface treatment agent containing a fluorine-containing ether compound has a performance that the water and oil repellency does not easily decrease even if the surface layer is repeatedly rubbed with a finger (friction resistance) and a performance that can easily remove fingerprints attached to the surface layer by wiping.
  • Patent Documents 1 and 2 As a fluorine-containing ether compound capable of forming a surface layer having excellent abrasion resistance and fingerprint stain removal property on the surface of a base material, a fluorine-containing ether compound having a perfluoropolyether chain and a hydrolyzable silyl group has been proposed (as a fluorine-containing ether compound having a perfluoropolyether chain and a hydrolyzable silyl group).
  • the surface treatment agent is required to be applicable not only to the display surface of smartphones, tablet terminals, etc., but also to the surface treatment of various materials. Further improvement in the durability of the surface treatment agent is required.
  • An object of the present invention is to provide a fluorine-containing ether compound capable of forming a surface layer having excellent durability, a fluorine-containing ether composition and a coating liquid, and an article having a surface layer having excellent durability.
  • the present invention provides a fluorine-containing ether compound having the following constitutions [1] to [15] and a method for producing the same, a compound and a method for producing the same, a fluorine-containing composition, a coating liquid, and an article and a method for producing the same.
  • R f O- (R f1 O) m- R 1- L 1- R 2- Q 1 (-T) n formula (A1) (T-) n Q 1- R 2- L 1- R 1- O- (R f1 O) m- R 1- L 1- R 2- Q 1 (-T) n equation (A2)
  • R f is a fluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
  • n is an integer from 0 to 210 and n is an integer of 2 to 20, and when there are a plurality of n, the n may be the same or different.
  • [2] The fluorine-containing ether compound according to [1], wherein R 1 has 1 to 6 carbon atoms.
  • [3] The fluorine-containing ether compound according to [1] or [2], wherein R 2 has 1 to 10 carbon atoms.
  • [4] The description in any one of [1] to [3], wherein -Q 1 (-T) n is -Q 2 [(-R 3 -T) a (-R 4 ) 3-a]. Fluorine-containing ether compound.
  • Q 2 is a carbon atom or a silicon atom
  • the Q 2 is may be the same or different and R 3 represents a single bond, or have a fluorine atom is an alkylene group which may have an ether bond between even better carbon atoms, when there are a plurality of R 3, the R 3 may be the same May be different, R 4 is an alkyl group that may have a hydrogen atom, a fluorine atom, a fluorine atom, or an ether bond between carbon atoms, or -R 5- Q 2 [(-R 3- T).
  • R 4 may be the same or different and R 5 represents a single bond, or a fluorine atom an alkylene group which may have an ether bond between at best carbon atoms have, if R 5 is more, the R 5 are the same May be different, R 6 is an alkyl group that may have a hydrogen atom, a fluorine atom, a fluorine atom, or an ether bond between carbon atoms, or -R 5- Q 2 [(-R 3- T).
  • R 6 is more, the R 6 may be identical or different
  • R 7 is a hydrogen atom, a fluorine atom, or an alkyl group which may have an ether bond between at best carbon atoms have a fluorine atom, if R 7 is more, the R 7 are the same Can be different
  • a is an integer from 0 to 3 and b is an integer of 0 to 3, and when there are a plurality of b, the b may be the same or different.
  • c is an integer of 0 to 3, and when there are a plurality of c, the c may be the same or different.
  • the sum of a, b, and c is n.
  • T is a bromine atom, an iodine atom, a hydroxyl group, an amino group, a carboxy group, an aldehyde group, an epoxy group, a thiol group, a phosphoric acid group, a phosphonic acid group, an unsaturated hydrocarbon group, an aryl group, and -Si ( R 21 )
  • R 21 is an alkyl group and L 21 is a hydrolyzable group or a hydroxyl group, and a plurality of L 21 may be the same or different.
  • d is 2 or 3.
  • R f is a fluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
  • R 6 is more, the R 6 may be identical or different
  • R 7 is a hydrogen atom, a fluorine atom, or an alkyl group which may have an ether bond between at best carbon atoms have a fluorine atom, if R 7 is more, the R 7 are the same Can be different
  • a is an integer from 0 to 3 and b is an integer of 0 to 3, and when there are a plurality of b, the b may be the same or different.
  • c is an integer of 0 to 3, and when there are a plurality of c, the c may be the same or different.
  • the sum of a, b, and c is n.
  • R f is a fluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
  • B12) R f O- (R f1 O) m- R 1- L 11- R 2- Q 1 (-T) n formula (A11) (T-) n Q 1- R 2- L 11- R 1- O- (R f1 O) m- R 1- L 11- R 2- Q 1 (-T) n equation (A12)
  • R f is a fluoroalkyl group having
  • R f is a fluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
  • n is an integer from 0 to 210 and n is an integer of 2 to 20, and when there are a plurality of n, the n may be the same or different.
  • a coating liquid containing a liquid medium is an integer from 0 to 210 and n is an integer of 2 to 20, and when there are a plurality of n, the n may be the same or different.
  • the surface of the base material has a surface layer formed from the fluorine-containing ether compound according to any one of [1] to [6] or the fluorine-containing ether composition according to [11] or [12]. , Goods. [15] Using the fluorine-containing ether compound according to any one of [1] to [6], the fluorine-containing ether composition according to [11] or [12], or the coating liquid according to [13]. A method for producing an article, which forms a surface layer by a dry coating method or a wet coating method.
  • a fluorine-containing ether compound capable of forming a surface layer having excellent durability, a fluorine-containing ether composition and a coating liquid, an article having a surface layer having excellent durability, and a compound useful as a raw material for a fluorine-containing ether compound.
  • the compound represented by the formula (A1) is referred to as a compound (A1).
  • Compounds and the like represented by other formulas are also similar to these.
  • the meanings of the following terms in the present specification are as follows.
  • the "reactive silyl group” is a general term for a hydrolyzable silyl group and a silanol group (Si—OH).
  • the reactive silyl group is, for example, T in the formula (A1) or the formula (A2), that is, ⁇ Si (R) 3-c (L) c .
  • the "hydrolyzable silyl group” means a group capable of hydrolyzing to form a silanol group.
  • “Surface layer” means a layer formed on the surface of a substrate.
  • the "molecular weight" of the polyfluoropolyether chain is determined by 1 H-NMR and 19 F-NMR. It is a number average molecular weight calculated by obtaining the number (average value) of fluoroalkylene units.
  • Fluorine-containing ether compound if the chain length of the polyfluoropolyether chain is a single fluorine-containing ether compounds, "molecular weight" of polyfluoropolyether chain, the R f by 1 H-NMR and 19 F-NMR It is the molecular weight calculated by determining the structure. “ ⁇ ” Indicating a numerical range means that the numerical values described before and after the numerical range are included as the lower limit value and the upper limit value.
  • the fluorine-containing ether compound of the present invention (hereinafter, also referred to as “the present compound”) is a fluorine-containing ether compound represented by the following formula (A1) or formula (A2).
  • R f is a fluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
  • m is an integer from 0 to 210 and n is an integer of 2
  • the present compound contains a polyfluoropolyether chain [R f- O- (R f1 O) m- R 1 ] or [O- (R f1 O) m- R 1 ], an adhesive group [T], and an adhesive group [T]. It has a specific linking group [-L 1- R 2- Q 1 ] that links the polyfluoropolyether chain and the adhesive group.
  • Compound (A1) is a compound having a structure of "monovalent polyfluoropolyether chain-linking group-adhesive group”
  • compound (A2) is "adhesive group-linking group-adhesive group-polyfluoro”. It is a compound having a structure of "polyether chain-linking group-adhesive group”.
  • This compound has a polyfluoropolyether chain.
  • This compound having a polyfluoropolyether chain is excellent in fingerprint stain removing property of the surface layer.
  • this compound has at least two or more adhesive groups at one end.
  • This compound, which has two or more adhesive groups at the ends has excellent abrasion resistance of the surface layer because it is strongly chemically bonded to the base material.
  • the present inventors have found that by having the substituent L 1, and found to be excellent in durability against the substrate surface of the present compounds, and completed the present invention. For effect of improved durability by the substituent also unclear part, but when the compound was applied to the substrate surface, the compound is aligned on the surface layer by the interaction of the L 1 between It is presumed that it will be easier and the durability will be improved as a result. Also, going through the Q 1 between L 1 and adhesive group T, intramolecular reaction between L 1 and T, which may be caused by a combination been suppressed sufficiently adhesion adhesive group T is to the substrate It is presumed to contribute. As described above, the surface layer formed by the present compound has excellent durability such as abrasion resistance, chemical resistance, and light resistance, and is particularly excellent in abrasion resistance.
  • R f is a fluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms
  • the surface layer has further excellent abrasion resistance and fingerprint stain removing property.
  • the number of carbon atoms of the fluoroalkyl group of R f is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 4, and particularly preferably 1 to 3 from the viewpoint of further excellent abrasion resistance and fingerprint stain removing property of the surface layer.
  • a perfluoroalkyl group is preferable from the viewpoint of further excellent abrasion resistance of the surface layer and fingerprint stain removing property.
  • Compound 1A in which R f is a perfluoroalkyl group has a terminal CF 3- .
  • a surface layer having a low surface energy can be formed, so that the surface layer has further excellent abrasion resistance and fingerprint stain removing property.
  • the fluoroalkyl group of R f include CF 3- , CF 3 CF 2- , CF 3 CF 2 CF 2- , CF 3 CF 2 CF 2 CF 2- , CF 3 CF 2 CF 2 CF 2- , CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2- , CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2- , CF 3 CF (CF 3 )-.
  • R f1 O a structure represented by the following formula (R f1-1 ) is preferable from the viewpoint of further excellent abrasion resistance and fingerprint stain removing property of the surface layer.
  • R f11 O m1 (R f12 O) m2 (R f13 O) m3 (R f14 O) m4 (R f15 O) m5 (R f16 O) m6 formula (R f1-1 )
  • R f11 is a fluoroalkylene group having 1 carbon atom.
  • R f12 is a fluoroalkylene group having 2 carbon atoms.
  • R f13 is a fluoroalkylene group having 3 carbon atoms.
  • R f14 is a fluoroalkylene group having 4 carbon atoms.
  • R f15 is a fluoroalkylene group having 5 carbon atoms.
  • R f16 is a fluoroalkylene group having 6 carbon atoms.
  • m1, m2, m3, m4, m5, m6 each independently represent 0 or an integer of 1 or more, m1 + m2 + m3 + m4 + m5 + m6 is an integer of from 1 to 210, if the R f11 ⁇ R f16 is more, the plurality of R f11 ⁇ R f16 may be the same or different.
  • binding sequence of the formula in (R f1 -1) (R f11 O) ⁇ (R f16 O) is optional.
  • M1 ⁇ m6 of the formula (R-1), respectively, (R f11 O) is intended to represent the number of ⁇ (R f16 O), it does not represent the arrangement.
  • (R f15 O) m5 indicates that the number of (R f15 O) is m5, and does not represent the block arrangement structure of (R f5 O) m5.
  • (R f11 O) wherein the order of ⁇ (R f16 O) does not represent a binding order of the respective units.
  • the fluoroalkylene group having 3 to 6 carbon atoms may be a linear fluoroalkylene group, or may be a fluoroalkylene group having a branched or ring structure.
  • R f11 include CHF and CF 2 .
  • R f12 include CF 2 CF 2 , CF 2 CHF, and CF 2 CH 2 .
  • R f13 include CF 2 CF 2 CF 2 , CF 2 CF 2 CHF, CF 2 CHF CF 2 , CF 2 CHF CF 2 , CF 2 CH 2 CF 2 , CF (CF 3 ) CF 2. Be done.
  • R f14 is, CF 2 CF 2 CF 2 CF 2, CF 2 CF 2 CF 2 CH 2, CHFCF 2 CF 2 CF 2, CF 2 CH 2 CF 2 CF 2, CF (CF 3) CF 2 CF 2.
  • R f15 is, CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2, CF 2 CF 2 CF 2 CH 2, CHFCF 2 CF 2 CF 2 CF 2, CF 2 CF 2 CH 2 CF 2 CF 2 , etc. Can be mentioned.
  • R f16 examples include CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 , CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 , CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CHF and the like.
  • R 1 is an alkylene group which may have a fluorine atom.
  • R 1 is preferably a fluoroalkylene group from the viewpoint of further excellent abrasion resistance of the surface layer and fingerprint stain removing property.
  • the alkylene group of R 1 is preferably a linear fluoroalkylene group.
  • the alkylene group of R 1 preferably has 1 to 6 carbon atoms.
  • R 2 is an alkylene group which may have a single bond or a fluorine atom.
  • L 1- R 2- Q 1 can also be expressed as L 1- Q 1.
  • R 2 is preferably a single bond or an alkylene group from the viewpoint of synthesizing the present compound.
  • the alkylene group of R 2 is preferably a linear fluoroalkylene group.
  • the number of carbon atoms in the alkylene group R 2 is preferably 1 to 10, 1 to 6 is more preferred.
  • R 2 is preferably a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms from the viewpoint of synthesis of this compound.
  • R 2 is preferably a single bond or an alkylene group having 1 to 9 carbon atoms from the viewpoint of synthesis of this compound, and a single bond or an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms is preferable. More preferred.
  • Q 1 is a 1 + n-valent linking group, connecting the n-number of adhesive groups in polyfluoropolyether chain.
  • Q 1 is a group having a branch point, and examples of the branch point include a tertiary carbon atom, a quaternary carbon atom, a silicon atom, and a ring structure.
  • the ring structure constituting the branch point is a 3- to 8-membered aliphatic ring, 6 to 8 from the viewpoint of easy production of this compound and durability such as abrasion resistance, chemical resistance and light resistance of the surface layer.
  • Examples thereof include an 8-membered aromatic ring, a 3- to 8-membered heterocycle, and a condensed ring composed of two or more of these rings, such as abrasion resistance, chemical resistance, and light resistance of the surface layer.
  • a ring structure selected from a 3- to 8-membered aliphatic ring, a 6 to 8-membered aromatic ring, and a fused ring thereof is preferable.
  • Examples of the ring structure constituting the branch point include the ring structure shown in the following equation.
  • the following ring structure may be substituted with a fluorine atom.
  • the ring structure may have an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, an allyl group or the like which may have a halogen atom as a substituent.
  • -Q 1 (-T) n is represented by -Q 2 [(-R 3 -T) a (-R 4 ) 3-a ] from the viewpoint of ease of synthesis and durability of the surface layer. It is preferably a structure.
  • Q 2 is a carbon atom or a silicon atom
  • the Q 2 is may be the same or different and R 3 represents a single bond, or have a fluorine atom is an alkylene group which may have an ether bond between even better carbon atoms, when there are a plurality of R 3, the R 3 may be the same May be different, R 4 is an alkyl group that may have a hydrogen atom, a fluorine atom, a fluorine atom, or an ether bond between carbon atoms, or -R 5- Q 2 [(-R 3- T).
  • R 4 may be the same or different and R 5 represents a single bond, or a fluorine atom an alkylene group which may have an ether bond between at best carbon atoms have, if R 5 is more, the R 5 are the same May be different, R 6 is an alkyl group that may have a hydrogen atom, a fluorine atom, a fluorine atom, or an ether bond between carbon atoms, or -R 5- Q 2 [(-R 3- T).
  • R 6 is more, the R 6 may be identical or different
  • R 7 is a hydrogen atom, a fluorine atom, or an alkyl group which may have an ether bond between at best carbon atoms have a fluorine atom, if R 7 is more, the R 7 are the same Can be different
  • a is an integer from 0 to 3 and b is an integer of 0 to 3, and when there are a plurality of b, the b may be the same or different.
  • c is an integer of 0 to 3, and when there are a plurality of c, the c may be the same or different.
  • the sum of a, b, and c is n.
  • Q 2 represents a carbon atom or a silicon atom as a branch point.
  • R 3 is a single bond, an adhesive group T is attached directly to Q 2, it can also be expressed as Q 2 -T.
  • R 3 is preferably an alkylene group which may have a fluorine atom having 2 to 10 carbon atoms or may have an ether bond between carbon atoms.
  • Examples of the alkyl group in R 4 , R 6 and R 7 include an alkyl group which may have a fluorine atom having 1 to 6 carbon atoms and may have an ether bond between carbon atoms.
  • an alkylene group which may have a fluorine atom having 2 to 10 carbon atoms or an ether bond between carbon atoms is preferable.
  • Examples of the alkyl group in the above include alkyl groups which may have a fluorine atom having 1 to 6 carbon atoms and may have an ether bond between carbon atoms.
  • a, b, and c are independently integers of 0 to 3, and the sum of a, b, and c is n. When there are a plurality of b and c, the total of the plurality of b and c and a is n.
  • n is an integer of 2 to 20, preferably 2 to 10.
  • T is a group that is arranged on the surface side of the base material when the surface layer is formed and exhibits adhesion to the base material. T may form a chemical bond with the surface of the base material or the like, or may be chemically adsorbed or physically adsorbed on the surface of the base material. From the viewpoint of durability, T is preferably one that chemically bonds with the surface of the base material.
  • the adhesive group T includes a bromine atom, an iodine atom, a hydroxyl group, an amino group, a carboxy group, an aldehyde group, an epoxy group, a thiol group, a phosphoric acid group, a phosphonic acid group, an unsaturated hydrocarbon group, an aryl group, and -Si ( Examples thereof include R 21 ) 3-d (L 21 ) d, and it is preferable to appropriately select the material according to the material of the base material to be applied.
  • the amino group in the adhesive group T include -NR 8 R 9 (R 8 and R 9 are independently hydrogen atoms or alkyl groups), and -NH 2 is particularly preferable from the viewpoint of surface layer durability. ..
  • the unsaturated hydrocarbon group in the adhesive group T include an acryloyl group, a methacryloyl group, and a vinyl group.
  • Examples of the aryl group in the adhesive group T include a phenyl group, a naphthyl group, an anthracenyl group and the like. Further, -Si (R 21 ) 3-d (L 21 ) d in the adhesive group T represents a reactive silyl group.
  • a reactive silyl group is a group in which either one or both of a hydrolyzable group and a hydroxyl group are bonded to a silicon atom.
  • a hydrolyzable group is a group that becomes a hydroxyl group by a hydrolyzing reaction. That is, the hydrolyzable silyl group becomes a silanol group (Si—OH) by the hydrolysis reaction.
  • the silanol group further undergoes a dehydration condensation reaction between the molecules to form a Si—O—Si bond. Further, the silanol group undergoes a dehydration condensation reaction with a hydroxyl group (base material-OH) on the surface of the base material to form a chemical bond (base material-O-Si).
  • the hydrolyzable group include an alkoxy group, a halogen atom, an acyl group, and an isocyanate group.
  • the alkoxy group an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms is preferable.
  • the halogen atom a chlorine atom is preferable.
  • an alkoxy group or a halogen atom is preferable from the viewpoint that the present compound can be easily produced.
  • an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms is preferable because there is little outgassing at the time of application and the storage stability of this compound is excellent.
  • the hydrolyzable group is preferable.
  • the ethoxy group is particularly preferable, and the methoxy group is particularly preferable when the reaction time after coating is short.
  • the number of carbon atoms of the alkyl group of R 21 is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 3, and particularly preferably 1 to 2 from the viewpoint of easy production of the present compound.
  • d is preferably 2 or 3 and more preferably 3 from the viewpoint of strengthening the adhesion between the surface layer and the base material.
  • a suitable combination of the adhesive group T and the base material and the material is exemplified in the form of "adhesive group T-base material".
  • this compound examples include the compounds of the following formulas.
  • the compound of the following formula is industrially easy to manufacture and handle, and has further excellent water and oil repellency, abrasion resistance, fingerprint stain removal property, lubricity, chemical resistance, light resistance and chemical resistance of the surface layer. Further, from the viewpoint of durability, this compound preferably has a weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn) of 1.2 or less.
  • n1 to n5 are adjusted so that m in the formula (A1) or the formula (A2) is 0 to 210.
  • the following compound (B1) and compound (B2) are compounds in which the adhesive group T corresponds to an unsaturated hydrocarbon group in the present compound, and in order to synthesize the compound (A1) and the compound (A2). It is a useful compound.
  • R f , R f1 , R 1 , R 2 , L 1 , m and n are the same as those in the above formulas (A1) and (A2), and the preferred embodiments are also the same.
  • R 23 -CH CH 2 is a group that becomes R 3 in the compound (A1) and the compound (A2) after the introduction of the adhesive group.
  • R 24 , R 25 , R 26 , and R 27 are groups that become R 4 , R 5 , R 6 , and R 7 in the compound (A1) and the compound (A2) after the introduction of the adhesive group.
  • Examples of the compound (B1) and the compound (B2) include the compounds of the following formulas.
  • n6 to n10 are adjusted so that m in the formula (B1) or the formula (B2) is 0 to 210.
  • Method for producing compound (B1), compound (B2), etc. As a method for producing the compound (B11) and the compound (B12) containing the compound (B1) and the compound (B2), the compound represented by the following formula (C1) or the formula (C2) and the compound represented by the following formula (D1) are represented. Examples thereof include a method for producing a compound having a step of reacting the compound with the compound.
  • R f , R f1 , R 1 , R 2 , Q 11 , m, and n are as described above, and the preferred embodiments are also the same.
  • R 11 is a leaving group, preferably an alkyl group, and more preferably a methyl group. If there are a plurality of R 11 s, the R 11 may be different even in the same.
  • X is a halogen atom, preferably a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.
  • the only difference between the compound (B11) and the compound (B12) is that the portion (L 11 ) of the compound (B1) and the compound (B2) corresponding to L 1 may be -CH 2-.
  • a known oxidizing agent such as Dess-Martin reagent can be used.
  • Compound (C1) and compound (C2) can be synthesized by referring to, for example, International Publication No. 2013/121984.
  • the compound (D1) can be produced, for example, by a method of reacting the following compound (D2) with metallic magnesium.
  • ((CH 2 CH-) n Q 11- R 2- X equation (D2)
  • R 2 , Q 11 , X and n in the formula are the same as those of compound (D1).
  • the above reaction is usually carried out in a solvent.
  • the solvent can be appropriately selected from the solvents that can dissolve the compound (C1), the compound (C2) and the compound (D1).
  • the solvent may be a mixed solvent of one type alone or a combination of two or more types.
  • the solvent may be a solvent inert to the reaction.
  • the solvent inert to the reaction ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane are preferable, and tetrahydrofuran is more preferable.
  • the compound (C1) or the compound (C2) is a compound having a relatively high fluorine atom content
  • a mixed solvent in which the ether solvent and the fluorine solvent are combined is preferable.
  • the fluorocarbon solvent include hydrofluorocarbons (1H, 4H-perfluorobutane, 1H-perfluorohexane, 1,1,1,3,3-pentafluorobutane, 1,1,2,2,3,3).
  • Method for producing compound (A11) and compound (A12) As a method for producing the compound (A11) and the compound (A12) containing the compound (A1) and the compound (A2), a compound having a step of introducing an adhesive group T into the compound (B11) or the compound (B12). A manufacturing method can be mentioned.
  • R f O- (R f1 O) m- R 1- L 11- R 2- Q 1 (-T) n formula (A11) (T-) n Q 1- R 2- L 11- R 1- O- (R f1 O) m- R 1- L 11- R 2- Q 1 (-T) n equation (A12)
  • R f , R f1 , R 1 , R 2 , L 11 , Q 1 , Q 11 , m, and n are as described above, and the preferred embodiments are also the same.
  • the adhesive group T is ⁇ Si (R 21 ) 3-d by allowing the following compound (E1) to act on the double bond of the compound (B11) or the compound (B12) to cause a hydrosilylation reaction.
  • (L 21 ) The compound (A11) or compound (A12) of d is obtained.
  • R 21 , L 21 , and d are as described above, and the preferred embodiments are also the same.
  • the adhesive group T becomes an epoxy group by reacting the double bond of the compound (B11) or the compound (B12) with a peracid such as metachloroperbenzoic acid, peracetic acid, or potassium hydrogenpersulfate to epoxidize the compound.
  • a peracid such as metachloroperbenzoic acid, peracetic acid, or potassium hydrogenpersulfate to epoxidize the compound.
  • Compound (A11) or compound (A12) is obtained.
  • the double bond of the compound (B11) or the compound (B12) is ozonolyzed to form ozonide, which is then oxidized with hydrogen peroxide or the like to form the compound (A11) having a carboxy group as the adhesive group T.
  • Compound (A12) is obtained. Further, by reducing the ozonide with a reducing agent such as zinc, dimethyl sulfide, or thiourea, a compound (A11) or a compound (A12) having an aldehyde group as an adhesive group T can be obtained.
  • Organic borane ((R 22 ) 3 B; where R 22 is a hydrogen atom or an organic group) is added to the double bond of the compound (B11) or the compound (B12) to form a hydroboronized product, which is then basic.
  • R 22 is a hydrogen atom or an organic group
  • a compound (A11) or a compound (A12) having an adhesive group T of a bromine atom or an iodine atom can be obtained.
  • hydrolysis is performed using hydrochloric acid or the like to change the adhesive group T into phosphones.
  • the acid compound (A11) or compound (A12) is obtained.
  • hydrogen peroxide is reacted with the hydroboride under basic conditions, a compound (A11) or a compound (A12) having a hydroxy group as an adhesive group T can be obtained.
  • the adhesive group T is an amino group compound by reacting an amine with a compound (A11) or a compound (A12) having an aldehyde group to form an imine or an iminium ion, and then reducing the hydride. (A11) or compound (A12) is obtained.
  • the fluorine-containing compound-containing composition of the present invention may contain a compound (A1) and a compound (A2), and the compound ( It may contain one or more selected from A1) and compound (A2) and another fluorine-containing ether compound.
  • the composition does not contain a liquid medium described later.
  • fluorine-containing ether compounds examples include a fluorine-containing ether compound produced as a by-product in the manufacturing process of this compound (hereinafter, also referred to as “by-product fluorine-containing ether compound”), and known compounds used for the same purposes as this compound. Fluorine-containing ether compounds and fluorine-containing oils can be mentioned. As the other fluorine-containing compound, a compound that is less likely to deteriorate the properties of this compound is preferable.
  • fluorine-containing oil examples include polytetrafluoroethylene (PTFE), ethylene-chlorotrifluoroethylene copolymer (ECTFE), polyvinylidene fluoride (PVDF), polyvinyl fluoride (PVF), and polychlorotrifluoroethylene (PCTFE).
  • PTFE polytetrafluoroethylene
  • ECTFE ethylene-chlorotrifluoroethylene copolymer
  • PVDF polyvinylidene fluoride
  • PVF polyvinyl fluoride
  • PCTFE polychlorotrifluoroethylene
  • Examples of the by-product fluorine-containing compound include unreacted fluorine-containing compounds at the time of synthesis of this compound.
  • the purification step for removing the by-product fluorine-containing compound or reducing the amount of the by-product fluorine-containing compound can be simplified.
  • fluorine-containing compounds examples include those described in the following documents.
  • Perfluoropolyether-modified aminosilane described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-029585 Silicon-containing organic fluorine-containing polymer described in Japanese Patent No. 2874715.
  • Organosilicon compounds described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-144097 Perfluoropolyether-modified aminosilane described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-327772, Fluorinated siloxane described in Japanese Patent Publication No. 2002-506887, Organic silicone compounds described in Japanese Patent Publication No. 2008-534696, Fluorinated modified hydrogen-containing polymer described in Japanese Patent No. 4138936, Compounds described in U.S.
  • the proportion of the compound in the composition is less than 100% by mass, preferably 60% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, still more preferably 80% by mass or more.
  • the ratio of the other fluorine-containing compounds to the total of the present compound and the other fluorine-containing compounds in the composition is preferably 40% by mass or less, preferably 30% by mass or less. More preferably, it is more preferably 20% by mass or less.
  • the total ratio of the present compound and other fluorine-containing compounds in the present composition is preferably 80% by mass or more, more preferably 85% by mass or more.
  • the surface layer is excellent in water and oil repellency, abrasion resistance, fingerprint stain removing property, lubricity, and appearance.
  • the coating liquid of the present invention includes the present compound or the present composition and a liquid medium.
  • the coating liquid may be a liquid, a solution, or a dispersion.
  • the coating liquid may contain the present compound or the present composition, and may contain impurities such as by-products produced in the manufacturing process of the present compound.
  • the concentration of the compound or the composition is preferably 0.001 to 40% by mass, preferably 0.01 to 20% by mass, and more preferably 0.1 to 10% by mass in the coating liquid.
  • an organic solvent is preferable.
  • the organic solvent may be a fluorine-based organic solvent, a non-fluorine-based organic solvent, or both solvents.
  • fluorinated organic solvent examples include fluorinated alkanes, fluorinated aromatic compounds, fluoroalkyl ethers, fluorinated alkylamines, fluoroalcohols and the like.
  • fluorinated alkane a compound having 4 to 8 carbon atoms is preferable.
  • Commercially available products include, for example, C 6 F 13 H (AGC, Asahi Clean (registered trademark) AC-2000), C 6 F 13 C 2 H 5 (AGC, Asahi Clean (registered trademark) AC-6000). , C 2 F 5 CHFC CHFCF 3 (manufactured by The Chemours Company, Bertrel® XF) and the like.
  • fluorinated aromatic compound examples include hexafluorobenzene, trifluoromethylbenzene, perfluorotoluene, and bis (trifluoromethyl) benzene.
  • fluoroalkyl ether a compound having 4 to 12 carbon atoms is preferable.
  • Commercially available products include, for example, CF 3 CH 2 OCF 2 CF 2 H (AGC, Asahiclean® AE-3000), C 4 F 9 OCH 3 (3M, Novec® 7100), Examples include C 4 F 9 OC 2 H 5 (3M, Novec® 7200), C 2 F 5 CF (OCH 3 ) C 3 F 7 (3M, Novec® 7300), and the like. ..
  • Examples of the fluorinated alkylamine include perfluorotripropylamine and perfluorotributylamine.
  • Examples of the fluoroalcohol include 2,2,3,3-tetrafluoropropanol, 2,2,2-trifluoroethanol, hexafluoroisopropanol and the like.
  • the non-fluorine-based organic solvent a compound consisting only of hydrogen atoms and carbon atoms and a compound consisting only of hydrogen atoms, carbon atoms and oxygen atoms are preferable, and hydrocarbon-based organic solvents, alcohol-based organic solvents, ketone-based organic solvents, etc. Examples thereof include ether-based organic solvents and ester-based organic solvents.
  • the coating liquid preferably contains 75 to 99.99% by mass of a liquid medium, and preferably 85 to 99.99% by mass. It is particularly preferable to contain 90 to 99.9% by mass.
  • the present coating liquid may contain other components other than the present compound or the present composition and the liquid medium as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • other components include known additives such as an acid catalyst and a basic catalyst that promote the hydrolysis and condensation reaction of the hydrolyzable silyl group.
  • the content of other components in this coating liquid is preferably 10% by mass or less, more preferably 1% by mass or less.
  • the total concentration of the compound and other components in the coating liquid or the total concentration of the composition and other components is preferably 0.001 to 40% by mass, preferably 0.01 to. 20% by mass is preferable, 0.01 to 10% by mass is more preferable, and 0.01 to 1% by mass is more preferable.
  • the solid content concentration of the coating liquid is a value calculated from the mass of the coating liquid before heating and the mass after heating in a convection dryer at 120 ° C. for 4 hours.
  • the article of the present invention (hereinafter, also referred to as "the present article") has a surface layer formed from the present compound or the present composition on the surface of the base material.
  • the surface layer may be formed on a part of the surface of the base material or on all the surfaces of the base material.
  • the surface layer may spread in a film shape on the surface of the base material, or may be scattered in a dot shape.
  • the surface layer contains the present compound in a state where a part or all of the hydrolyzable silyl groups of the present compound are hydrolyzed and the silanol groups are dehydrated and condensed.
  • the thickness of the surface layer is preferably 1 to 100 nm, and particularly preferably 1 to 50 nm. When the thickness of the surface layer is 1 nm or more, the effect of the surface treatment can be sufficiently obtained. When the thickness of the surface layer is 100 nm or less, the utilization efficiency is high.
  • the thickness of the surface layer is calculated from the vibration period of the interference pattern by obtaining the interference pattern of reflected X-rays by the X-ray reflectivity method using an X-ray diffractometer for thin film analysis (ATX-G manufactured by RIGAKU). can.
  • the base material examples include a base material that is required to be provided with water and oil repellency. For example, it is placed on another article (for example, a stylus), a base material that may be used by touching human fingers, a base material that may be held by human fingers during operation, or another article (for example, a mounting table). Examples include base materials that may be used. Examples of the material of the base material include metal, resin, glass, sapphire, ceramic, stone, and composite materials thereof. The glass may be chemically strengthened. A base film such as a SiO 2 film may be formed on the surface of the base material. More specifically, the base material mentioned in the adhesive group T can be referred to.
  • a touch panel base material As the base material, a touch panel base material, a display base material, and a spectacle lens are preferable, and a touch panel base material is particularly suitable.
  • a material of the base material for the touch panel glass or transparent resin is preferable.
  • glass or a resin film used for an exterior portion (excluding a display portion) of a device such as a mobile phone (for example, a smartphone), a mobile information terminal (for example, a tablet terminal), a game machine, or a remote controller is also preferable.
  • This article can be produced, for example, by the following method.
  • Examples of the dry coating method include methods such as vacuum deposition, CVD, and sputtering.
  • the vacuum vapor deposition method is preferable from the viewpoint of suppressing the decomposition of the compound A1 or the compound A2 and the simplicity of the apparatus.
  • a pellet-like substance obtained by impregnating a metal porous body such as iron or steel with the present compound or the present composition may be used.
  • a metal porous body such as iron or steel may be impregnated with the present coating liquid, the liquid medium may be dried, and a pellet-like substance impregnated with the compound A1 or the compound A2 or the present composition may be used.
  • wet coating method examples include a spin coating method, a wipe coating method, a spray coating method, a squeegee coating method, a dip coating method, a die coating method, an inkjet method, a flow coating method, a roll coating method, a casting method, and a Langmuir Brodget method.
  • the gravure coat method can be mentioned.
  • an operation for promoting the reaction between the present compound and the base material may be carried out, if necessary.
  • the operation include heating, humidification, and light irradiation.
  • a hydrolyzable group is hydrolyzed, a hydroxyl group on the surface of the base material reacts with a silanol group, or a silanol group is condensed. Reactions such as the formation of siloxane bonds can be promoted.
  • the compounds in the surface layer that are not chemically bonded to other compounds or the base material may be removed if necessary. Specific methods include, for example, a method of pouring a solvent over the surface layer, a method of wiping with a cloth soaked with the solvent, and the like.
  • Example 1 Synthesis of fluorine-containing ether compound (1-3)] Toluene solution of AC2000 (1.8 g), the above compound (1-2) (0.300 g), platinum / 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane complex (platinum content 3%) , 12.9 mg), aniline (2.6 mg), and trimethoxysilane (45.5 mg) were added, and the mixture was stirred at 40 ° C. and then the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain the following fluorine-containing ether compound (1-3). 0.291 g was obtained.
  • Example 2 Synthesis of fluorine-containing ether compound (2-2)] Toluene solution of AC6000 (2.0 g), the above compound (2-1) (0.280 g), platinum / 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane complex (platinum content 3%) , 6.7 mg), aniline (2.0 mg), and trimethoxysilane (37.0 mg), and the mixture was stirred at 40 ° C. and then the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain the following fluorine-containing ether compound (2-2). Was obtained in an amount of 0.286 g.
  • Example 3 Synthesis of fluorine-containing ether compound (3-2)] Toluene solution of AC2000 (3.1 g), the compound (3-1) (0.524 g), platinum / 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane complex (platinum content 3%) , 17.3 mg), aniline (7.0 mg), and trimethoxysilane (69.1 mg) were added, and the mixture was stirred at 40 ° C. and then the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain the following fluorine-containing ether compound (3-2). Was obtained in an amount of 0.514 g.
  • Example 4 Synthesis of fluorine-containing ether compound (4-5)] Toluene solution of AC2000 (1.4 g), the compound (4-4) (0.216 g), platinum / 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane complex (platinum content 3%) , 13.6 mg), aniline (12.4 mg), and trimethoxysilane (92.7 mg) were added, and the mixture was stirred at 40 ° C. and then the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain the following fluorine-containing ether compound (4-5). 0.211 g was obtained.
  • Example 5 Synthesis of compound (5-2)] Toluene solution of AC2000 (1.8 g), the above compound (5-1) (0.320 g), platinum / 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane complex (platinum content 3%) , 13.5 mg), aniline (2.8 mg), and trimethoxysilane (45.5 mg) were added, and the mixture was stirred at 40 ° C., and then the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain the following compound (5-2). 313g was obtained.
  • Example 6 Synthesis of compound (6-2)] Toluene solution of AC2000 (1.8 g), the above compound (6-1) (0.351 g), platinum / 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane complex (platinum content 3%) , 14.5 mg), aniline (3.1 mg), and trimethoxysilane (45.5 mg) were added, and the mixture was stirred at 40 ° C., and then the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain the following compound (6-2). 333 g was obtained.
  • Example 7 Preparation of fluorine-containing ether composition
  • the compound (1-2) and the compound (1-3) were mixed at a ratio of 80:20 (mass ratio) to obtain the fluorine-containing ether composition of Example 7.
  • Example 8 Preparation of fluorine-containing ether composition
  • the compound (2-1) and the compound (2-2) were mixed at a ratio of 75:25 (mass ratio) to obtain the fluorine-containing ether composition of Example 8.
  • Example 9 Preparation of fluorine-containing ether composition
  • the compound (2-1) and the compound (2-2) were mixed at a ratio of 85:15 (mass ratio) to obtain the fluorine-containing ether composition of Example 9.
  • Example 10 Preparation of fluorine-containing ether composition
  • the compound (6-1) and the compound (6-2) were mixed at a ratio of 80:20 (mass ratio) to obtain the fluorine-containing ether composition of Example 10.
  • Examples 11 to 16 Manufacture and evaluation of goods
  • the base material was surface-treated with the compounds obtained in Examples 1 to 6 and the compositions obtained in Examples 7 to 10 to obtain the articles of Examples 11 to 20.
  • the surface treatment method the following dry coating method and wet coating method were used for each example. Chemically tempered glass was used as the base material.
  • the obtained articles were evaluated by the following methods. The results are shown in Tables 1 and 2.
  • the dry coating was performed using a vacuum vapor deposition apparatus (VTR350M manufactured by ULVAC, Inc.) (vacuum vapor deposition method).
  • VTR350M vacuum vapor deposition apparatus
  • 0.5 g of each compound was filled in a molybdenum boat in the vacuum vapor deposition apparatus, and the inside of the vacuum vapor deposition apparatus was exhausted to 1 ⁇ 10 -3 Pa or less.
  • the boat on which the compound is placed is heated at a heating rate of 10 ° C./min or less, and when the vapor deposition rate by the crystal oscillation type film thickness meter exceeds 1 nm / sec, the shutter is opened to form a film on the surface of the substrate.
  • VTR350M vacuum vapor deposition apparatus manufactured by ULVAC, Inc.
  • the shutter was closed to complete the film formation on the surface of the base material.
  • the base material on which the compound was deposited was heat-treated at 200 ° C. for 30 minutes and washed with dichloropentafluoropropane (AK-225 manufactured by AGC) to obtain an article having a surface layer on the surface of the base material. ..
  • ⁇ Initial contact angle> For the surface layer, the initial water contact angle and the initial n-hexadecane contact angle were measured by the above-mentioned measuring method. The evaluation criteria are as follows. Initial water contact angle: ⁇ (excellent): 115 degrees or more. ⁇ (Good): 105 degrees or more and less than 115 degrees. ⁇ (impossible): Less than 105 degrees.
  • ⁇ Abrasion resistance (steel wool)> For the surface layer, a steel wool bonster (# 0000) was pressed with a steel wool bonster (# 0000) in accordance with JIS L0849: 2013 (ISO 105-X12: 2001) using a reciprocating traverse tester (manufactured by KNT), pressure: 98.07 kPa, speed: 320 cm. After reciprocating 10,000 times at / minute, the water contact angle was measured by the above method. The smaller the decrease in water repellency (water contact angle) after rubbing, the smaller the decrease in performance due to friction, and the better the friction resistance. The evaluation criteria are as follows. ⁇ (Excellent): The change in water contact angle after 10,000 round trips is 5 degrees or less.
  • ⁇ Light resistance> For the surface layer, a tabletop xenon arc lamp type accelerated light resistance tester (product name: SUNTEST XLS +, manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.) was used, and a light beam (650 W / m 2 , 300) was used at a black panel temperature of 63 ° C. After irradiating with ( ⁇ 700 nm) for 500 hours, the water contact angle was measured by the above method.
  • the evaluation criteria are as follows. ⁇ (excellent): The change in water contact angle after the accelerated light resistance test is 5 degrees or less. ⁇ (Good): The change in water contact angle after the accelerated light resistance test is more than 5 degrees and 10 degrees or less. ⁇ (impossible): The change in water contact angle after the accelerated light resistance test is more than 10 degrees.
  • the articles of Examples 15 and 16 using the compounds of Examples 5 and 6 also had good initial contact angles and light resistance, but particularly the water contact angles after the friction test. A decrease was confirmed.
  • the article having a surface layer using the fluorine-containing ether composition of Examples 17 to 19 containing the fluorine-containing ether compounds of Examples 1 to 4 is water even after the friction test and the light resistance test. It was shown that the decrease in contact angle was suppressed and that it had excellent durability. Further, according to the comparison between Examples 11 and 17, the fluorine-containing ether compound (1-3) having a hydrolyzable silyl group and the fluorine-containing ether compound (1-2) having an unsaturated hydrocarbon group are combined. It was shown that the abrasion resistance was further improved by using the above.

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Abstract

耐久性に優れた表面層を形成できる含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物及びコーティング液、及び耐久性に優れた表面層を有する物品を提供する。　下式（Ａ１）又は式（Ａ２）で表される含フッ素エーテル化合物である。　ＲｆＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｌ１－Ｒ２－Ｑ１（－Ｔ）ｎ　式（Ａ１）　（Ｔ－）ｎＱ１－Ｒ２－Ｌ１－Ｒ１－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｌ１－Ｒ２－Ｑ１（－Ｔ）ｎ　式（Ａ２）　ただし、式中の各符号は明細書に記載のとおりである。

Description

含フッ素エーテル化合物及びその製造方法、化合物及びその製造方法、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、並びに物品及びその製造方法
　本発明は、含フッ素エーテル化合物及びその製造方法、当該含フッ素エーテル化合物等の製造に適した新規化合物及びその製造方法、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、並びに物品及びその製造方法に関する。
　ペルフルオロポリエーテル鎖と加水分解性シリル基とを有する含フッ素エーテル化合物は、高い潤滑性、撥水撥油性等を示す表面層を基材の表面に形成できるため、表面処理剤に好適に用いられる。含フッ素エーテル化合物を含む表面処理剤は、表面層が指で繰り返し摩擦されても撥水撥油性が低下しにくい性能（耐摩擦性）及び拭き取りによって表面層に付着した指紋を容易に除去できる性能（指紋汚れ除去性）が長期間維持されることが求められる用途、例えば、タッチパネルの指で触れる面を構成する部材、メガネレンズ、ウェアラブル端末のディスプレイの表面処理剤として用いられる。
　耐摩擦性及び指紋汚れ除去性に優れる表面層を基材の表面に形成できる含フッ素エーテル化合物としては、ペルフルオロポリエーテル鎖と加水分解性シリル基とを有する含フッ素エーテル化合物が提案されている（特許文献１～２）。
特開２０１５－１９６７２３号公報 特開２０１６－２０４６５６号公報
　上記表面処理剤は、例えば、スマートフォン、タブレット端末等のディスプレイ面だけでなく、様々な材質の表面処理に適用可能なものが求められている。表面処理剤の耐久性のより一層の向上が求められている。
　本発明は、耐久性に優れた表面層を形成できる含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物及びコーティング液、及び耐久性に優れた表面層を有する物品の提供を目的とする。
　本発明は、下記［１］～［１５］の構成を有する含フッ素エーテル化合物及びその製造方法、化合物及びその製造方法、含フッ素組成物、コーティング液、並びに物品及びその製造方法を提供する。
［１］　下式（Ａ１）又は式（Ａ２）で表される含フッ素エーテル化合物。
　ＲｆＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｌ１－Ｒ２－Ｑ１（－Ｔ）ｎ　　式（Ａ１）
　（Ｔ－）ｎＱ１－Ｒ２－Ｌ１－Ｒ１－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｌ１－Ｒ２－Ｑ１（－Ｔ）ｎ　　式（Ａ２）
　ただし、
　Ｒｆは、炭素数１～２０のフルオロアルキル基であり、
　Ｒｆ１は、炭素数１～６のフルオロアルキレン基であって、Ｒｆ１が複数ある場合、当該Ｒｆ１は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ１は、フッ素原子を有していてもよいアルキレン基であって、Ｒ１が複数ある場合、当該Ｒ１は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ２は、単結合、又はフッ素原子を有していてもよいアルキレン基であって、Ｒ２が複数ある場合、当該Ｒ２は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｌ１は、－ＣＨ（ＯＨ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－ＣＨ＝ＣＨ－であって、Ｌ１が複数ある場合、当該Ｌ１は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｑ１は、１＋ｎ価の連結基であって、Ｑ１が複数ある場合、当該Ｑ１は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｔは、密着性基であって、複数あるＴは同一であっても異なっていてもよく、
　ｍは、０～２１０の整数であり、
　ｎは、２～２０の整数であって、ｎが複数ある場合、当該ｎは同一であっても異なっていてもよい。
［２］　Ｒ１の炭素数が１～６である、［１］に記載の含フッ素エーテル化合物。
［３］　Ｒ２の炭素数が１～１０である、［１］又は［２］に記載の含フッ素エーテル化合物。
［４］　－Ｑ１（－Ｔ）ｎが、－Ｑ２［（－Ｒ３－Ｔ）ａ（－Ｒ４）３－ａ］である、［１］～［３］のいずれかに記載の含フッ素エーテル化合物。
　ただし、
　Ｑ２は、炭素原子またはケイ素原子であり、Ｑ２が複数ある場合、当該Ｑ２は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ３は、単結合、又はフッ素原子を有していてもよく炭素原子間にエーテル結合を有していてもよいアルキレン基であり、Ｒ３が複数ある場合、当該Ｒ３は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ４は、水素原子、フッ素原子、フッ素原子を有してもよく炭素原子間にエーテル結合を有していてもよいアルキル基、又は、－Ｒ５－Ｑ２［（－Ｒ３－Ｔ）ｂ（－Ｒ６）３－ｂ］であって、Ｒ４が複数ある場合、当該Ｒ４は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ５は、単結合、又はフッ素原子を有してもよく炭素原子間にエーテル結合を有していてもよいアルキレン基であって、Ｒ５が複数ある場合、当該Ｒ５は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ６は、水素原子、フッ素原子、フッ素原子を有してもよく炭素原子間にエーテル結合を有していてもよいアルキル基、又は、－Ｒ５－Ｑ２［（－Ｒ３－Ｔ）ｃ（－Ｒ７）３－ｃ］であって、Ｒ６が複数ある場合、当該Ｒ６は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ７は、水素原子、フッ素原子、又はフッ素原子を有してもよく炭素原子間にエーテル結合を有していてもよいアルキル基であって、Ｒ７が複数ある場合、当該Ｒ７は同一であっても異なっていてもよく、
　ａは０～３の整数であり、
　ｂは０～３の整数であって、ｂが複数ある場合、当該ｂは同一であっても異なっていてもよく、
　ｃは０～３の整数であって、ｃが複数ある場合、当該ｃは同一であっても異なっていてもよく、
　ａとｂとｃの合計がｎである。
［５］　Ｒ３の炭素数が２～７である、［４］に記載の含フッ素エーテル化合物。
［６］　Ｔが、臭素原子、ヨウ素原子、水酸基、アミノ基、カルボキシ基、アルデヒド基、エポキシ基、チオール基、リン酸基、ホスホン酸基、不飽和炭化水素基、アリール基、及び－Ｓｉ（Ｒ２１）３－ｄ（Ｌ２１）ｄより選択される１種以上である、［１］～［５］のいずれかに記載の含フッ素エーテル化合物。
　ただし、
　Ｒ２１は、アルキル基であり、
　Ｌ２１は、加水分解性基又は水酸基であり、複数あるＬ２１は同一であっても異なっていてもよく、
　ｄは、２又は３である。
［７］　下式（Ｂ１）又は式（Ｂ２）で表される化合物。
　ＲｆＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｌ１－Ｒ２－Ｑ１１（－ＣＨ＝ＣＨ２）ｎ　　式（Ｂ１）
　（ＣＨ２＝ＣＨ－）ｎＱ１１－Ｒ２－Ｌ１－Ｒ１－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｌ１－Ｒ２－Ｑ１１（－ＣＨ＝ＣＨ２）ｎ　　式（Ｂ２）
　ただし、
　Ｒｆは、炭素数１～２０のフルオロアルキル基であり、
　Ｒｆ１は、炭素数１～６のフルオロアルキレン基であって、Ｒｆ１が複数ある場合、当該Ｒｆ１は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ１は、フッ素原子を有していてもよいアルキレン基であって、Ｒ１が複数ある場合、当該Ｒ１は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ２は、単結合、又はフッ素原子を有していてもよいアルキレン基であって、Ｒ２が複数ある場合、当該Ｒ２は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｌ１は、－ＣＨ（ＯＨ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－ＣＨ＝ＣＨ－であって、Ｌ１が複数ある場合、当該Ｌ１は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｑ１１は、１＋ｎ価の連結基であって、Ｑ１１が複数ある場合、当該Ｑ１１は同一であっても異なっていてもよく、
　ｍは、０～２１０の整数であり、
　ｎは、２～２０の整数であって、ｎが複数ある場合、当該ｎは同一であっても異なっていてもよい。
［８］　－Ｑ１１（－ＣＨ＝ＣＨ２）ｎが、－Ｑ２［（－Ｒ３－ＣＨ＝ＣＨ２）ａ（－Ｒ４）３－ａ］である、［７］に記載の化合物。
　ただし、
　Ｑ２は、炭素原子またはケイ素原子であり、Ｑ２が複数ある場合、当該Ｑ２は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ３は、単結合、又はフッ素原子を有していてもよく炭素原子間にエーテル結合を有していてもよいアルキレン基であり、Ｒ３が複数ある場合、当該Ｒ３は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ４は、水素原子、フッ素原子、フッ素原子を有してもよく炭素原子間にエーテル結合を有していてもよいアルキル基、又は、－Ｒ５－Ｑ２［（－Ｒ３－ＣＨ＝ＣＨ２）ｂ（－Ｒ６）３－ｂ］であって、Ｒ４が複数ある場合、当該Ｒ４は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ５は、単結合、又はフッ素原子を有してもよく炭素原子間にエーテル結合を有していてもよいアルキレン基であって、Ｒ５が複数ある場合、当該Ｒ５は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ６は、水素原子、フッ素原子、フッ素原子を有してもよく炭素原子間にエーテル結合を有していてもよいアルキル基、又は、－Ｒ５－Ｑ２［（－Ｒ３－ＣＨ＝ＣＨ２）ｃ（－Ｒ７）３－ｃ］であって、Ｒ６が複数ある場合、当該Ｒ６は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ７は、水素原子、フッ素原子、又はフッ素原子を有してもよく炭素原子間にエーテル結合を有していてもよいアルキル基であって、Ｒ７が複数ある場合、当該Ｒ７は同一であっても異なっていてもよく、
　ａは０～３の整数であり、
　ｂは０～３の整数であって、ｂが複数ある場合、当該ｂは同一であっても異なっていてもよく、
　ｃは０～３の整数であって、ｃが複数ある場合、当該ｃは同一であっても異なっていてもよく、
　ａとｂとｃの合計がｎである。
［９］　下式（Ｃ１）又は式（Ｃ２）で表される化合物と、下式（Ｄ１）で表される化合物とを反応させる工程を有する、下式（Ｂ１１）又は式（Ｂ１２）で表される化合物の製造方法。
　ＲｆＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲ１１　　式（Ｃ１）
　Ｒ１１Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ１－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲ１１　　式（Ｃ２）
　（ＣＨ２＝ＣＨ－）ｎＱ１１－Ｒ２－ＭｇＸ　　式（Ｄ１）
　ＲｆＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｌ１１－Ｒ２－Ｑ１１（－ＣＨ＝ＣＨ２）ｎ　　式（Ｂ１１）
　（ＣＨ２＝ＣＨ－）ｎＱ１１－Ｒ２－Ｌ１１－Ｒ１－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｌ１１－Ｒ２－Ｑ１１（－ＣＨ＝ＣＨ２）ｎ　　式（Ｂ１２）
　ただし、
　Ｒｆは、炭素数１～２０のフルオロアルキル基であり、
　Ｒｆ１は、炭素数１～６のフルオロアルキレン基であって、Ｒｆ１が複数ある場合、当該Ｒｆ１は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ１は、フッ素原子を有していてもよいアルキレン基であって、Ｒ１が複数ある場合、当該Ｒ１は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ２は、単結合、又はフッ素原子を有していてもよいアルキレン基であって、Ｒ２が複数ある場合、当該Ｒ２は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｌ１１は、－ＣＨ（ＯＨ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＣＨ＝ＣＨ－、又は－ＣＨ２－であって、Ｌ１１が複数ある場合、当該Ｌ１１は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｑ１１は、１＋ｎ価の連結基であって、Ｑ１１が複数ある場合、当該Ｑ１１は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｘは、ハロゲン原子であり、
　ｍは、０～２１０の整数であり、
　ｎは、２～２０の整数であって、ｎが複数ある場合、当該ｎは同一であっても異なっていてもよい。
［１０］　下式（Ｂ１１）又は式（Ｂ１２）で表される化合物に、密着性基Ｔを導入する工程を有する、下式（Ａ１１）又は式（Ａ１２）で表される含フッ素エーテル化合物の製造方法。
　ＲｆＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｌ１１－Ｒ２－Ｑ１１（－ＣＨ＝ＣＨ２）ｎ　　式（Ｂ１１）
　（ＣＨ２＝ＣＨ－）ｎＱ１１－Ｒ２－Ｌ１１－Ｒ１－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｌ１１－Ｒ２－Ｑ１１（－ＣＨ＝ＣＨ２）ｎ　　式（Ｂ１２）
　ＲｆＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｌ１１－Ｒ２－Ｑ１（－Ｔ）ｎ　　式（Ａ１１）
　（Ｔ－）ｎＱ１－Ｒ２－Ｌ１１－Ｒ１－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｌ１１－Ｒ２－Ｑ１（－Ｔ）ｎ　　式（Ａ１２）
　ただし、
　Ｒｆは、炭素数１～２０のフルオロアルキル基であり、
　Ｒｆ１は、炭素数１～６のフルオロアルキレン基であって、Ｒｆ１が複数ある場合、当該Ｒｆ１は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ１は、フッ素原子を有していてもよいアルキレン基であって、Ｒ１が複数ある場合、当該Ｒ１は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ２は、単結合、又はフッ素原子を有していてもよいアルキレン基であって、Ｒ２が複数ある場合、当該Ｒ２は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｌ１１は、－ＣＨ（ＯＨ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＣＨ＝ＣＨ－、又は－ＣＨ２－であって、Ｌ１１が複数ある場合、当該Ｌ１１は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｑ１は、１＋ｎ価の連結基であって、Ｑ１が複数ある場合、当該Ｑ１は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｑ１１は、１＋ｎ価の連結基であって、Ｑ１１が複数ある場合、当該Ｑ１１は同一であっても異なっていてもよく、
　ｍは、０～２１０の整数であり、
　ｎは、２～２０の整数であって、ｎが複数ある場合、当該ｎは同一であっても異なっていてもよい。
［１１］　下式（Ａ１）で表される含フッ素エーテル化合物と、下式（Ａ２）で表される含フッ素エーテル化合物とを含有する、含フッ素エーテル組成物。
　ＲｆＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｌ１－Ｒ２－Ｑ１（－Ｔ）ｎ　　式（Ａ１）
（Ｔ－）ｎＱ１－Ｒ２－Ｌ１－Ｒ１－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｌ１－Ｒ２－Ｑ１（－Ｔ）ｎ　　式（Ａ２）
　ただし、
　Ｒｆは、炭素数１～２０のフルオロアルキル基であり、
　Ｒｆ１は、炭素数１～６のフルオロアルキレン基であって、Ｒｆ１が複数ある場合、当該Ｒｆ１は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ１は、フッ素原子を有していてもよいアルキレン基であって、Ｒ１が複数ある場合、当該Ｒ１は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ２は、単結合、又はフッ素原子を有していてもよいアルキレン基であって、Ｒ２が複数ある場合、当該Ｒ２は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｌ１は、－ＣＨ（ＯＨ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－ＣＨ＝ＣＨ－であって、Ｌ１が複数ある場合、当該Ｌ１は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｑ１は、１＋ｎ価の連結基であって、Ｑ１が複数ある場合、当該Ｑ１は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｔは、密着性基であって、複数あるＴは同一であっても異なっていてもよく、
　ｍは、０～２１０の整数であり、
　ｎは、２～２０の整数であって、ｎが複数ある場合、当該ｎは同一であっても異なっていてもよい。
［１２］　［１］～［６］のいずれかに記載の含フッ素エーテル化合物の１種以上と、他の含フッ素エーテル化合物とを含有する、含フッ素エーテル組成物。
［１３］　［１］～［６］のいずれかに記載の含フッ素エーテル化合物、若しくは［１１］又は［１２］に記載の含フッ素エーテル組成物と、
　液状媒体とを含有する、コーティング液。
［１４］　［１］～［６］のいずれかに記載の含フッ素エーテル化合物、若しくは［１１］又は［１２］に記載の含フッ素エーテル組成物から形成された表面層を基材の表面に有する、物品。
［１５］　［１］～［６］のいずれかに記載の含フッ素エーテル化合物、［１１］又は［１２］に記載の含フッ素エーテル組成物、若しくは［１３］に記載のコーティング液を用いて、ドライコーティング法又はウェットコーティング法により、表面層を形成する、物品の製造方法。
　本発明により、耐久性に優れた表面層を形成できる含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物及びコーティング液、耐久性に優れた表面層を有する物品、ならびに含フッ素エーテル化合物の原料として有用な化合物が提供される。
　本明細書において、式（Ａ１）で表される化合物を化合物（Ａ１）と記す。他の式で表される化合物等もこれらに準ずる。
　本明細書における以下の用語の意味は、以下の通りである。
　「反応性シリル基」とは、加水分解性シリル基及びシラノール基（Ｓｉ－ＯＨ）の総称である。反応性シリル基は、例えば式（Ａ１）又は式（Ａ２）中のＴ、すなわち－Ｓｉ（Ｒ）３－ｃ（Ｌ）ｃである。
　「加水分解性シリル基」とは、加水分解反応してシラノール基を形成し得る基を意味する。
　「表面層」とは、基材の表面に形成される層を意味する。
　含フッ素エーテル化合物が、ポリフルオロポリエーテル鎖の鎖長が異なる複数の含フッ素エーテル化合物の混合物である場合、ポリフルオロポリエーテル鎖の「分子量」は、１Ｈ－ＮＭＲ及び１９Ｆ－ＮＭＲによってオキシフルオロアルキレン単位の数（平均値）を求めて算出される数平均分子量である。
　含フッ素エーテル化合物が、ポリフルオロポリエーテル鎖の鎖長が単一の含フッ素エーテル化合物である場合、ポリフルオロポリエーテル鎖の「分子量」は、１Ｈ－ＮＭＲ及び１９Ｆ－ＮＭＲによってＲｆの構造を決定して算出される分子量である。
　数値範囲を示す「～」は、その前後に記載された数値を下限値及び上限値として含むことを意味する。
［含フッ素エーテル化合物］
　本発明の含フッ素エーテル化合物（以下、「本化合物」とも記す。）は、下式（Ａ１）又は式（Ａ２）で表される含フッ素エーテル化合物である。
　ＲｆＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｌ１－Ｒ２－Ｑ１（－Ｔ）ｎ　　式（Ａ１）
　（Ｔ－）ｎＱ１－Ｒ２－Ｌ１－Ｒ１－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｌ１－Ｒ２－Ｑ１（－Ｔ）ｎ　　式（Ａ２）
　ただし、
　Ｒｆは、炭素数１～２０のフルオロアルキル基であり、
　Ｒｆ１は、炭素数１～６のフルオロアルキレン基であって、Ｒｆ１が複数ある場合、当該Ｒｆ１は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ１は、フッ素原子を有していてもよいアルキレン基であって、Ｒ１が複数ある場合、当該Ｒ１は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ２は、単結合、又はフッ素原子を有していてもよいアルキレン基であって、Ｒ２が複数ある場合、当該Ｒ２は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｌ１は、－ＣＨ（ＯＨ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－ＣＨ＝ＣＨ－であって、Ｌ１が複数ある場合、当該Ｌ１は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｑ１は、１＋ｎ価の連結基であって、Ｑ１が複数ある場合、当該Ｑ１は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｔは、密着性基であって、複数あるＴは同一であっても異なっていてもよく、
　ｍは、０～２１０の整数であり、
　ｎは、２～２０の整数であって、ｎが複数ある場合、当該ｎは同一であっても異なっていてもよい。
　上記本化合物は、ポリフルオロポリエーテル鎖［Ｒｆ－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１］又は［Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１］と、密着性基［Ｔ］と、前記ポリフルオロポリエーテル鎖と前記密着性基とを連結する特定の連結基［－Ｌ１－Ｒ２－Ｑ１］とを有する。
　化合物（Ａ１）は、「１価のポリフルオロポリエーテル鎖－連結基－密着性基」の構造を有する化合物であり、化合物（Ａ２）は、「密着性基－連結基－２価のポリフルオロポリエーテル鎖－連結基－密着性基」の構造を有する化合物である。
　本化合物は、ポリフルオロポリエーテル鎖を有する。ポリフルオロポリエーテル鎖を有する本化合物は、表面層の指紋汚れ除去性に優れる。また、本化合物は、少なくとも片側の末端に２個以上の密着性基を有する。末端に２個以上の密着性基を有する本化合物は、基材と強固に化学結合するため、表面層の耐摩擦性に優れる。更に本化合物は、前記連結基において、ポリフルオロポリエーテル鎖と、分岐構造を有するＱ１との間にＬ１、即ち、－ＣＨ（ＯＨ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－ＣＨ＝ＣＨ－を有する。本発明者らは、当該置換基Ｌ１を有することにより、本化合物の基材表面に対する耐久性に優れることを見出して、本発明を完成させた。当該置換基により耐久性が向上する作用については未解明な部分もあるが、本化合物を基材表面に塗布した際に、当該Ｌ１同士の相互作用により表面層上に本化合物が整列配置されやすくなり、その結果耐久性が向上するものと推測される。また、Ｌ１と密着性基Ｔとの間にＱ１を介することで、組み合わせによって生じ得るＬ１とＴとの分子内反応が抑制され、密着性基Ｔが基材に対する密着性に十分に寄与するものと推測される。
　このように、本化合物により形成された表面層は、耐摩擦性、耐薬品性、耐光性などの耐久性に優れ、特に耐摩擦性に優れているという特徴を有する。
　Ｒｆは、炭素数１～２０のフルオロアルキル基であることにより、表面層の耐摩擦性及び指紋汚れ除去性がさらに優れる。Ｒｆのフルオロアルキル基の炭素数は、表面層の耐摩擦性及び指紋汚れ除去性がさらに優れる点から、１～６が好ましく、１～４がより好ましく、１～３が特に好ましい。
　Ｒｆのフルオロアルキル基としては、表面層の耐摩擦性及び指紋汚れ除去性がさらに優れる点から、ペルフルオロアルキル基が好ましい。Ｒｆがペルフルオロアルキル基である化合物１Ａは、末端がＣＦ３－となる。末端がＣＦ３－である化合物１Ａによれば、低表面エネルギーの表面層を形成できるため、表面層の耐摩擦性及び指紋汚れ除去性がさらに優れる。
　Ｒｆのフルオロアルキル基としては、例えば、ＣＦ３－、ＣＦ３ＣＦ２－、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２－、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、ＣＦ３ＣＦ（ＣＦ３）－が挙げられる。
　（Ｒｆ１Ｏ）ｍとしては、表面層の耐摩擦性及び指紋汚れ除去性がさらに優れる点から、下式（Ｒｆ１－１）で表される構造が好ましい。
　（Ｒｆ１１Ｏ）ｍ１（Ｒｆ１２Ｏ）ｍ２（Ｒｆ１３Ｏ）ｍ３（Ｒｆ１４Ｏ）ｍ４（Ｒｆ１５Ｏ）ｍ５（Ｒｆ１６Ｏ）ｍ６　式（Ｒｆ１－１）
　ただし、
　Ｒｆ１１は、炭素数１のフルオロアルキレン基であり、
　Ｒｆ１２は、炭素数２のフルオロアルキレン基であり、
　Ｒｆ１３は、炭素数３のフルオロアルキレン基であり、
　Ｒｆ１４は、炭素数４のフルオロアルキレン基であり、
　Ｒｆ１５は、炭素数５のフルオロアルキレン基であり、
　Ｒｆ１６は、炭素数６のフルオロアルキレン基であり、
　ｍ１、ｍ２、ｍ３、ｍ４、ｍ５、ｍ６は、それぞれ独立に０又は１以上の整数を表し、ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４＋ｍ５＋ｍ６は１～２１０の整数であり、Ｒｆ１１～Ｒｆ１６が複数ある場合、当該複数あるＲｆ１１～Ｒｆ１６は同一であっても異なっていてもよい。
　なお、式（Ｒｆ１－１）における（Ｒｆ１１Ｏ）～（Ｒｆ１６Ｏ）の結合順序は任意である。式（Ｒ－１）のｍ１～ｍ６は、それぞれ、（Ｒｆ１１Ｏ）～（Ｒｆ１６Ｏ）の個数を表すものであり、配置を表すものではない。例えば、（Ｒｆ１５Ｏ）ｍ５は、（Ｒｆ１５Ｏ）の数がｍ５個であることを表し、（Ｒｆ５Ｏ）ｍ５のブロック配置構造を表すものではない。同様に、（Ｒｆ１１Ｏ）～（Ｒｆ１６Ｏ）の記載順は、それぞれの単位の結合順序を表すものではない。
　また、炭素数３～６のフルオロアルキレン基は、直鎖フルオロアルキレン基であってもよく、分岐、又は環構造を有するフルオロアルキレン基であってもよい。
　Ｒｆ１１の具体例としては、ＣＨＦ、ＣＦ２が挙げられる。Ｒｆ１２の具体例としては、ＣＦ２ＣＦ２、ＣＦ２ＣＨＦ、ＣＦ２ＣＨ２などが挙げられる。Ｒｆ１３の具体例としては、ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２、ＣＦ２ＣＦ２ＣＨＦ、ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２、ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２、ＣＦ２ＣＨ２ＣＦ２、ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２などが挙げられる。Ｒｆ１４の具体例としては、ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２、ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２、ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２、ＣＦ２ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２、ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２、ペルフルオロシクロブタン－１，２－ジイル基などが挙げられる。Ｒｆ１５の具体例としては、ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２、ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２、ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２、ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２などが挙げられる。Ｒｆ１６の具体例としては、ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２、ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２、ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨＦなどが挙げられる。
　Ｒ１は、フッ素原子を有していてもよいアルキレン基である。Ｒ１は、表面層の耐摩擦性及び指紋汚れ除去性がさらに優れる点からフルオロアルキレン基が好ましい。Ｒ１のアルキレン基は、直鎖フルオロアルキレン基が好ましい。またＲ１のアルキレン基の炭素数は１～６が好ましい。
　Ｒ２は、単結合、又はフッ素原子を有していてもよいアルキレン基である。Ｒ２が単結合の場合、Ｌ１－Ｒ２－Ｑ１はＬ１－Ｑ１と表すこともできる。Ｒ２は、本化合物の合成の観点から単結合又はアルキレン基が好ましい。Ｒ２のアルキレン基は、直鎖フルオロアルキレン基が好ましい。またＲ２のアルキレン基の炭素数は１～１０が好ましく、１～６がより好ましい。
　中でも、Ｌ１が、－ＣＨ（ＯＨ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－の場合、本化合物の合成の観点から、Ｒ２は単結合又は炭素数が１～１０のアルキレン基が好ましく、単結合又は炭素数が１～６のアルキレン基がより好ましい。また、Ｌ１が、－ＣＨ＝ＣＨ－の場合、本化合物の合成の観点から、Ｒ２は単結合又は炭素数が１～９のアルキレン基が好ましく、単結合又は１～５のアルキレン基がより好ましい。
　Ｌ１は、－ＣＨ（ＯＨ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－ＣＨ＝ＣＨ－であり、本化合物を用いた表面層の耐久性が向上する。
　Ｑ１は、１＋ｎ価の連結基であり、ポリフルオロポリエーテル鎖にｎ個の密着性基を連結する。Ｑ１は分岐点を有する基であり、当該分岐点としては、第３級炭素原子、第４級炭素原子、ケイ素原子、環構造が挙げられる。
　分岐点を構成する環構造としては、本化合物を製造やすい点、表面層の耐摩擦性、耐薬品性、耐光性などの耐久性の点から、３～８員環の脂肪族環、６～８員環の芳香族環、３～８員環のヘテロ環、及びこれらの環のうちの２つ以上からなる縮合環などが挙げられ、表面層の耐摩擦性、耐薬品性、耐光性などの耐久性の点から、３～８員環の脂肪族環、６～８員環の芳香族環、及びこれらの縮合環より選択される環構造が好ましい。分岐点を構成する環構造としては、下式に示す環構造などが挙げられる。下記環構造は、フッ素原子により置換されていてもよい。また環構造は、置換基として、ハロゲン原子を有していてもよいアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリル基等を有してもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　本化合物においてＱ１を構成する分岐点は、本化合物の合成容易性の点、及び表面層の耐久性の点から、第３級炭素原子、第４級炭素原子、又はケイ素原子が好ましい。中でも、合成容易性及び表面層の耐久性の点から、－Ｑ１（－Ｔ）ｎが、－Ｑ２［（－Ｒ３－Ｔ）ａ（－Ｒ４）３－ａ］で表される構造であることが好ましい。
　ただし、
　Ｑ２は、炭素原子またはケイ素原子であり、Ｑ２が複数ある場合、当該Ｑ２は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ３は、単結合、又はフッ素原子を有していてもよく炭素原子間にエーテル結合を有していてもよいアルキレン基であり、Ｒ３が複数ある場合、当該Ｒ３は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ４は、水素原子、フッ素原子、フッ素原子を有してもよく炭素原子間にエーテル結合を有していてもよいアルキル基、又は、－Ｒ５－Ｑ２［（－Ｒ３－Ｔ）ｂ（－Ｒ６）３－ｂ］であって、Ｒ４が複数ある場合、当該Ｒ４は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ５は、単結合、又はフッ素原子を有してもよく炭素原子間にエーテル結合を有していてもよいアルキレン基であって、Ｒ５が複数ある場合、当該Ｒ５は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ６は、水素原子、フッ素原子、フッ素原子を有してもよく炭素原子間にエーテル結合を有していてもよいアルキル基、又は、－Ｒ５－Ｑ２［（－Ｒ３－Ｔ）ｃ（－Ｒ７）３－ｃ］であって、Ｒ６が複数ある場合、当該Ｒ６は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ７は、水素原子、フッ素原子、又はフッ素原子を有してもよく炭素原子間にエーテル結合を有していてもよいアルキル基であって、Ｒ７が複数ある場合、当該Ｒ７は同一であっても異なっていてもよく、
　ａは０～３の整数であり、
　ｂは０～３の整数であって、ｂが複数ある場合、当該ｂは同一であっても異なっていてもよく、
　ｃは０～３の整数であって、ｃが複数ある場合、当該ｃは同一であっても異なっていてもよく、
　ａとｂとｃの合計がｎである。
　上記Ｑ２は分岐点となる炭素原子又はケイ素原子を表す。
　Ｒ３が単結合の場合、密着性基ＴはＱ２に直接結合し、Ｑ２－Ｔとも表すことができる。Ｒ３は合成容易性の点から、炭素数２～１０のフッ素原子を有してもよく炭素原子間にエーテル結合を有していてもよいアルキレン基が好ましい。
　Ｒ４、Ｒ６及びＲ７におけるアルキル基としては、炭素数１～６のフッ素原子を有してもよく炭素原子間にエーテル結合を有していてもよいアルキル基が挙げられる。
　Ｒ５におけるアルキレン基としては、炭素数２～１０のフッ素原子を有してもよく炭素原子間にエーテル結合を有していてもよいアルキレン基が好ましい。
　におけるアルキル基としては、炭素数１～６のフッ素原子を有してもよく炭素原子間にエーテル結合を有していてもよいアルキル基が挙げられる。
　ａ、ｂ、ｃは各々独立に０～３の整数であり、ａとｂとｃの合計がｎである。ｂ及びｃが複数ある場合、複数あるｂ及びｃと、ａとの総計がｎとなる。ｎは、２～２０の整数であり、２～１０が好ましい。
　Ｔは、表面層形成時において基材面側に配置されて基材との密着性を示す基である。Ｔは基材表面等と化学結合を形成するものであってもよく、基材表面に化学吸着又は物理吸着するものであってもよい。耐久性の点からは、Ｔは基材表面と化学結合するものが好ましい。
　密着性基Ｔとしては、臭素原子、ヨウ素原子、水酸基、アミノ基、カルボキシ基、アルデヒド基、エポキシ基、チオール基、リン酸基、ホスホン酸基、不飽和炭化水素基、アリール基、－Ｓｉ（Ｒ２１）３－ｄ（Ｌ２１）ｄなどが挙げられ、適用する基材の材質に応じて適宜選択することが好ましい。
　密着性基Ｔにおけるアミノ基としては、－ＮＲ８Ｒ９　（Ｒ８、Ｒ９は各々独立に水素原子又はアルキル基）が挙げられ、表面層の耐久性の点から、中でも－ＮＨ２が好ましい。
　密着性基Ｔにおけるリン酸基としては、－ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＲ１０）２　（Ｒ１０は水素原子又はアルキル基であって複数あるＲ１０は同一であっても異なっていてもよい）が挙げられ、表面層の耐久性の点から、中でも－ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）２が好ましい。
　密着性基Ｔにおけるホスホン酸基としては、－Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ１０）２　（Ｒ１０は上記と同様である）が挙げられ、表面層の耐久性の点から、中でも－Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）２が好ましい。
　密着性基Ｔにおける不飽和炭化水素基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基などが挙げられる。
　密着性基Ｔにおけるアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基などが挙げられる。
　また、密着性基Ｔにおける－Ｓｉ（Ｒ２１）３－ｄ（Ｌ２１）ｄは反応性シリル基を表す。
　反応性シリル基は、加水分解性基及び水酸基のいずれか一方又は両方がケイ素原子に結合した基である。
　加水分解性基は、加水分解反応によって水酸基となる基である。すなわち、加水分解性シリル基は、加水分解反応によってシラノール基（Ｓｉ－ＯＨ）となる。シラノール基は、さらに分子間で脱水縮合反応してＳｉ－Ｏ－Ｓｉ結合を形成する。また、シラノール基は、基材の表面の水酸基（基材－ＯＨ）と脱水縮合反応して、化学結合（基材－Ｏ－Ｓｉ）を形成する。
　加水分解性基としては、例えば、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基、イソシアナート基が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数１～６のアルコキシ基が好ましい。
ハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。
　加水分解性基としては、本化合物を製造しやすい点から、アルコキシ基又はハロゲン原子が好ましい。加水分解性基としては、塗布時のアウトガスが少なく、本化合物の保存安定性に優れる点から、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましく、本化合物の長期の保存安定性が必要な場合にはエトキシ基が特に好ましく、コーティング後の反応時間を短時間とする場合にはメトキシ基が特に好ましい。
　Ｒ２１のアルキル基の炭素数は、本化合物を製造しやすい点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が特に好ましい。
　ｄは、表面層と基材との密着性がより強固になる点から、２又は３が好ましく、３がより好ましい。
　密着性基Ｔと、基材と材質との好適な組み合わせを「密着性基Ｔ－基材」の形式で例示する。
　臭素原子－窒化シリコン、水素終端化窒化シリコン、
　ヨウ素原子－水素終端化ダイヤモンド、
　水酸基－水素終端化シリコン、ハロゲン化シリコン、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）、
　アミノ基－酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、マイカ、
　カルボキシ基－Ａｌ２Ｏ３、酸化銀（ＡｇＯ）、酸化銅（ＣｕＯ）、ジルコニウム修飾酸化アルミニウム（Ｚｒ／Ａｌ２Ｏ３）、アミン末端酸化物（NH2-terminated oxide）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、
　アルデヒド基、エポキシ基－水素終端化シリコン、ハロゲン化シリコン、
　チオール基－金（Ａｕ）、
　リン酸基、ホスホン酸基－酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、Ａｌ２Ｏ３、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、Ｚｒ／Ａｌ２Ｏ３、
　不飽和炭化水素基－水素終端化ダイヤモンド、水素終端化シリコン、ハロゲン化シリコン、窒化シリコン、水素終端化窒化シリコン、ポリイミド（ＰＩ）、アクリル、
　アリール基－Ａｌ２Ｏ３、ＤＬＣ、
　反応性シリル基－ガラス、Ａｕ、マイカ、ＳｉＯ２、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化ゲルマニウム（ＧｅＯ２）、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＩＴＯ、ステンレス（ＳＵＳ）、チタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）。
　ただしこれらの組み合わせに限定されるものではなく、本化合物は種々の基材と組み合わせて用いることができる。
　本化合物としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。下式の化合物は、工業的に製造しやすく、取扱いやすく、表面層の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性、潤滑性、耐薬品性、耐光性及び耐薬品性がさらに優れる。また、本化合物は、耐久性の点から、重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）が１．２以下であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
 ｎ１～ｎ５は、式（Ａ１）又は式（Ａ２）におけるｍが０～２１０となるように調整される。
［下式（Ｂ１）又は式（Ｂ２）で表される化合物］
　下記化合物（Ｂ１）及び化合物（Ｂ２）は、前記本化合物において密着性基Ｔが不飽和炭化水素基に該当する化合物であり、また、前記化合物（Ａ１）及び化合物（Ａ２）を合成するために有用な化合物である。
　ＲｆＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｌ１－Ｒ２－Ｑ１１（－ＣＨ＝ＣＨ２）ｎ　　式（Ｂ１）
　（ＣＨ２＝ＣＨ－）ｎＱ１１－Ｒ２－Ｌ１－Ｒ１－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｌ１－Ｒ２－Ｑ１１（－ＣＨ＝ＣＨ２）ｎ　　式（Ｂ２）
　ただし、
　Ｒｆ、Ｒｆ１、Ｒ１、Ｒ２、Ｌ１、ｍ及びｎは前記式（Ａ１）及び式（Ａ２）におけるものと同様であり、好ましい態様も同様である。
　式（Ｂ１）及び式（Ｂ２）中の（－ＣＨ＝ＣＨ２）を密着性基Ｔとする場合には、Ｑ１１は、前記式（Ａ１）及び式（Ａ２）におけるＱ１と同様である。また、化合物（Ｂ１）又は化合物（Ｂ２）に他の密着性基Ｔを導入する場合には、Ｑ１１（－ＣＨ＝ＣＨ２）は、反応後にＱ１となる１＋ｎ価の連結基である。
　化合物（Ｂ１）及び化合物（Ｂ２）においては、－Ｑ１１（－ＣＨ＝ＣＨ２）ｎが、－Ｑ２［（－Ｒ２３－ＣＨ＝ＣＨ２）ａ（－Ｒ２４）３－ａ］であることが好ましい。
　ただし、
　Ｑ２、ａ、ｂ、及びｃは、前記化合物（Ａ１）及び化合物（Ａ２）におけるものと同様であり、好ましい態様も同様であり、
　Ｒ２３は、単結合、又はフッ素原子を有していてもよく炭素原子間にエーテル結合を有していてもよいアルキレン基であり、Ｒ２３が複数ある場合、当該Ｒ２３は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ２４は、水素原子、フッ素原子、フッ素原子を有してもよく炭素原子間にエーテル結合を有していてもよいアルキル基、又は、－Ｒ２５－Ｑ２［（－Ｒ２３－ＣＨ＝ＣＨ２）ｂ（－Ｒ２６）３－ｂ］であって、Ｒ２４が複数ある場合、当該Ｒ２４は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ２５は、単結合、又はフッ素原子を有してもよく炭素原子間にエーテル結合を有していてもよいアルキレン基であって、Ｒ２５が複数ある場合、当該Ｒ２５は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ２６は、水素原子、フッ素原子、フッ素原子を有してもよく炭素原子間にエーテル結合を有していてもよいアルキル基、又は、－Ｒ２５－Ｑ２［（－Ｒ２３－ＣＨ＝ＣＨ２）ｃ（－Ｒ２７）３－ｃ］であって、Ｒ２６が複数ある場合、当該Ｒ２６は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ２７は、水素原子、フッ素原子、又はフッ素原子を有してもよく炭素原子間にエーテル結合を有していてもよいアルキル基であって、Ｒ２７が複数ある場合、当該Ｒ２７は同一であっても異なっていてもよい。
　Ｒ２３－ＣＨ＝ＣＨ２は、密着性基導入後に前記化合物（Ａ１）及び化合物（Ａ２）におけるＲ３となる基である。
　また、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６、及びＲ２７は密着性基導入後に、前記化合物（Ａ１）及び化合物（Ａ２）におけるＲ４、Ｒ５、Ｒ６、及びＲ７となる基である。
　化合物（Ｂ１）及び化合物（Ｂ２）としては、例えば、下式の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 ｎ６～ｎ１０は、式（Ｂ１）又は式（Ｂ２）におけるｍが０～２１０となるように調整される。
（化合物（Ｂ１）、化合物（Ｂ２）等の製造方法）
　前記化合物（Ｂ１）及び化合物（Ｂ２）を含む化合物（Ｂ１１）及び化合物（Ｂ１２）の製造方法として、下式（Ｃ１）又は式（Ｃ２）で表される化合物と、下式（Ｄ１）で表される化合物とを反応させる工程を有する化合物の製造方法が挙げられる。
　ＲｆＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲ１１　　式（Ｃ１）
　Ｒ１１Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ１－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲ１１　　式（Ｃ２）
　（ＣＨ２＝ＣＨ－）ｎＱ１１－Ｒ２－ＭｇＸ　　式（Ｄ１）
　ＲｆＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｌ１１－Ｒ２－Ｑ１１（－ＣＨ＝ＣＨ２）ｎ　　式（Ｂ１１）
　（ＣＨ２＝ＣＨ－）ｎＱ１１－Ｒ２－Ｌ１１－Ｒ１－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｌ１１－Ｒ２－Ｑ１１（－ＣＨ＝ＣＨ２）ｎ　　式（Ｂ１２）
　ただし、
　Ｒｆ、Ｒｆ１、Ｒ１、Ｒ２、Ｑ１１、ｍ、ｎは、前述のとおりであり、好ましい態様も同様である。
　Ｒ１１は、脱離基であり、アルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。Ｒ１１が複数ある場合、当該Ｒ１１は同一であっても異なっていてもよい。
　Ｌ１１は、－ＣＨ（ＯＨ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＣＨ＝ＣＨ－、又は－ＣＨ２－であって、Ｌ１１が複数ある場合、当該Ｌ１１は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｘは、ハロゲン原子であり、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子が好ましい。
　なお、化合物（Ｂ１１）及び化合物（Ｂ１２）は、化合物（Ｂ１）及び化合物（Ｂ２）のＬ１に対応する部分（Ｌ１１）が－ＣＨ２－であってもよい点が異なるのみである。
　例えば、化合物（Ｃ１）又は（Ｃ２）のエステルに対し、２当量の化合物（Ｄ１）を反応させて酸処理することにより、Ｌ１１が－ＣＨ（ＯＨ）－、又は、－Ｃ（＝Ｏ）－の化合物（Ｂ１１）又は（Ｂ１２）が得られる。上記反応においては、反応時間を長くするにつれて、Ｌ１１が－ＣＨ（ＯＨ）－の化合物が優位に生成される。
　前記Ｌ１１が－ＣＨ（ＯＨ）－の化合物（Ｂ１１）又は（Ｂ１２）を酸化することでＬ１１が－Ｃ（＝Ｏ）－の化合物（Ｂ１１）又は（Ｂ１２）が得られる。当該酸化反応における酸化剤としては、デス・マーチン試薬など、公知の酸化剤を用いることができる。
　一方、前記Ｌ１１が－Ｃ（＝Ｏ）－の化合物（Ｂ１１）又は（Ｂ１２）を還元することで、Ｌ１１が－ＣＨ（ＯＨ）－の化合物（Ｂ１１）又は（Ｂ１２）が得られる。当該還元反応における還元剤としては、水素化アルミニウムリチウムなど、公知の還元剤を用いることができる。
　前記Ｌ１１が－ＣＨ（ＯＨ）－の化合物（Ｂ１１）又は（Ｂ１２）を、トリフェニルホスフィンなどを用いて脱水することで、Ｌ１１が－ＣＨ＝ＣＨ－の化合物（Ｂ１１）又は（Ｂ１２）が得られる。
　また、前記Ｌ１１が－ＣＨ（ＯＨ）－の化合物（Ｂ１１）又は（Ｂ１２）を、ヒドリドやラジカルにより脱ＯＨすることで、Ｌ１１が－ＣＨ２－の化合物（Ｂ１１）又は（Ｂ１２）が得られる。
　化合物（Ｃ１）及び化合物（Ｃ２）は、例えば、国際公開第２０１３／１２１９８４号などを参照して合成することができる。
　化合物（Ｄ１）は、例えば、下記化合物（Ｄ２）と金属マグネシウムを反応させる方法により製造できる。
　　（（ＣＨ２＝ＣＨ－）ｎＱ１１－Ｒ２－Ｘ　　　　式（Ｄ２）
　ただし、式中のＲ２、Ｑ１１、Ｘ及びｎは化合物（Ｄ１）と同様である。
　化合物（Ｄ２）の好適な具体例として、下記のものなどが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　上記反応は、通常、溶媒中で行われる。溶媒は、前記化合物（Ｃ１）、化合物（Ｃ２）及び化合物（Ｄ１）溶解し得る溶媒の中から適宜選択して用いることができる。溶媒は、１種単独で又は２種以上を組み合わせた混合溶媒であってもよい。
　例えば、化合物（Ｃ１）又は化合物（Ｃ２）が比較的フッ素原子含有量（化合物分子の分子量に占めるフッ素原子の割合）の低い化合物である場合には、溶媒としては反応に不活性な溶媒であれば特に限定されない。反応に不活性な溶媒としては、中でも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒が好ましく、テトラヒドロフランがより好ましい。
　また、化合物（Ｃ１）又は化合物（Ｃ２）が比較的フッ素原子含有量の高い化合物である場合には、前記エーテル系溶媒と、フッ素系溶媒とを組み合わせた混合溶媒が好ましい。
　フッ素系溶媒としては、例えば、ハイドロフルオロカーボン類（１Ｈ，４Ｈ－ペルフルオロブタン、１Ｈ－ペルフルオロヘキサン、１，１，１，３，３－ペンタフルオロブタン、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、２Ｈ，３Ｈ－ペルフルオロペンタン等）、ハイドロクロロフルオロカーボン類（３，３－ジクロロ－１，１，１，２，２－ペンタフルオロプロパン、１，３－ジクロロ－１，１，２，２，３－ペンタフルオロプロパン（ＨＣＦＣ－２２５ｃｂ）等）、ハイドロフルオロエーテル類（ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ（ＡＥ３０００）、（ペルフルオロブトキシ）メタン、（ペルフルオロブトキシ）エタン等）、ハイドロクロロフルオロオレフィン類（（Ｚ）－１－クロロ－２，３，３，４，４，５，５－ヘプタフルオロ－１－ペンテン（ＨＣＦＯ－１４３７ｄｙｃｃ（Ｚ）体）、（Ｅ）－１－クロロ－２，３，３，４，４，５，５－ヘプタフルオロ－１－ペンテン（ＨＣＦＯ－１４３７ｄｙｃｃ（Ｅ）体）、（Ｚ）－１－クロロ－２，３，３－トリフルオロ－１－プロペン（ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）体）、（Ｅ）－１－クロロ－２，３，３－トリフルオロ－１－プロペン（ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｅ）体）等）、含フッ素芳香族化合物類（ペルフルオロベンゼン、ｍ－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（ＳＲ－ソルベント）、ｐ－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン等）等が挙げられる。
（化合物（Ａ１１）及び化合物（Ａ１２）の製造方法）
　前記化合物（Ａ１）及び化合物（Ａ２）を含む化合物（Ａ１１）及び化合物（Ａ１２）の製造方法として、前記化合物（Ｂ１１）又は化合物（Ｂ１２）に、密着性基Ｔを導入する工程を有する化合物の製造方法が挙げられる。
　ＲｆＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｌ１１－Ｒ２－Ｑ１（－Ｔ）ｎ　　式（Ａ１１）
　（Ｔ－）ｎＱ１－Ｒ２－Ｌ１１－Ｒ１－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｌ１１－Ｒ２－Ｑ１（－Ｔ）ｎ　　式（Ａ１２）
　ただし、
　Ｒｆ、Ｒｆ１、Ｒ１、Ｒ２、Ｌ１１、Ｑ１、Ｑ１１、ｍ、及びｎは前述のとおりであり、好ましい態様も同様である。
　以下、各密着性基Ｔを導入する方法について一例をあげて説明するが、以下の方法に限定されるものではない。
　例えば、前記化合物（Ｂ１１）又は化合物（Ｂ１２）が有する二重結合に、下記化合物（Ｅ１）を作用させて、ヒドロシリル化反応させることにより、密着性基Ｔが－Ｓｉ（Ｒ２１）３－ｄ（Ｌ２１）ｄの化合物（Ａ１１）又は化合物（Ａ１２）が得られる。
　ＨＳｉ（Ｒ２１）３－ｄ（Ｌ２１）ｄ　式（Ｅ１）
　ただし、Ｒ２１、Ｌ２１、及びｄは前述のとおりであり、好ましい態様も同様である。
　前記化合物（Ｂ１１）又は化合物（Ｂ１２）が有する二重結合に、メタクロロ過安息香酸、過酢酸、過硫酸水素カリウムなどの過酸を作用させてエポキシ化することにより、密着性基Ｔがエポキシ基の化合物（Ａ１１）又は化合物（Ａ１２）が得られる。
　前記化合物（Ｂ１１）又は化合物（Ｂ１２）が有する二重結合をオゾン酸化してオゾニドとした後、例えば過酸化水素などにより酸化処理することで、密着性基Ｔがカルボキシ基の化合物（Ａ１１）又は化合物（Ａ１２）が得られる。
　また、前記オゾニドに、例えば亜鉛、ジメチルスルフィド、チオウレアなどの還元剤で還元処理することで、密着性基Ｔがアルデヒド基の化合物（Ａ１１）又は化合物（Ａ１２）が得られる。
　前記化合物（Ｂ１１）又は化合物（Ｂ１２）が有する二重結合に有機ボラン（（Ｒ２２）３Ｂ；ただしＲ２２は水素原子又は有機基）を付加してヒドロホウ素化物としたのち、塩基性下で臭素（Ｂｒ２）又はヨウ素（Ｉ２）を反応させることで、密着性基Ｔが臭素原子又はヨウ素原子の化合物（Ａ１１）又は化合物（Ａ１２）が得られる。更に、密着性基Ｔが臭素原子又はヨウ素原子の化合物（Ａ１１）又は化合物（Ａ１２）に亜リン酸エステルを作用させたのち、塩酸などを用いて加水分解を行うことで密着性基Ｔがホスホン酸の化合物（Ａ１１）又は化合物（Ａ１２）が得られる。
　前記ヒドロホウ素化物に塩基性下で過酸化水素を反応させると密着性基Ｔがヒドロキシ基の化合物（Ａ１１）又は化合物（Ａ１２）が得られる。更に、密着性基Ｔがヒドロキシ基の化合物（Ａ１１）又は化合物（Ａ１２）に、塩化ホスホリルなど活性化されたリン酸を作用させることで、密着性基Ｔがリン酸の化合物（Ａ１１）又は化合物（Ａ１２）が得られる。
　また前記密着性基Ｔがアルデヒド基の化合物（Ａ１１）又は化合物（Ａ１２）に、アミンを反応させてイミン又はイミニウムイオンとした後、ヒドリド還元することで、密着性基Ｔがアミノ基の化合物（Ａ１１）又は化合物（Ａ１２）が得られる。
　本発明の含フッ素化合物含有組成物（含フッ素エーテル組成物、以下、「本組成物」とも記す。）は、化合物（Ａ１）と化合物（Ａ２）を含有するものであってもよく、化合物（Ａ１）及び化合物（Ａ２）より選択される１種以上と、他の含フッ素エーテル化合物とを含有するものであってもよい。なお、本組成物は、後述する液状媒体を含まない。
　他の含フッ素エーテル化合物としては、例えば、本化合物の製造工程で副生する含フッ素エーテル化合物（以下、「副生含フッ素エーテル化合物」とも記す。）、本化合物と同様の用途に用いられる公知の含フッ素エーテル化合物、含フッ素オイルが挙げられる。他の含フッ素化合物としては、本化合物の特性を低下させるおそれが少ない化合物が好ましい。
　含フッ素オイルとしては、例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、エチレン－クロロトリフルオロエチレン共重合体（ＥＣＴＦＥ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリフッ化ビニル（ＰＶＦ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）が挙げられる。
　副生含フッ素化合物としては、本化合物の合成時における未反応の含フッ素化合物等が挙げられる。本組成物が副生含フッ素化合物を含む場合、該副生含フッ素化合物を除去、もしくは該副生含フッ素化合物量を低減させるための精製工程を簡略化することができる。
　公知の含フッ素化合物としては、例えば、下記の文献に記載のものが挙げられる。
　日本特開平１１－０２９５８５号公報に記載のパーフルオロポリエーテル変性アミノシラン、
　日本特許第２８７４７１５号公報に記載のケイ素含有有機含フッ素ポリマー、
　日本特開２０００－１４４０９７号公報に記載の有機ケイ素化合物、
　日本特開２０００－３２７７７２号公報に記載のパーフルオロポリエーテル変性アミノシラン、
　日本特表２００２－５０６８８７号公報に記載のフッ素化シロキサン、
　日本特表２００８－５３４６９６号公報に記載の有機シリコーン化合物、
　日本特許第４１３８９３６号公報に記載のフッ素化変性水素含有重合体、
　米国特許出願公開第２０１０／０１２９６７２号明細書、国際公開第２０１４／１２６０６４号、日本特開２０１４－０７０１６３号公報に記載の化合物、
　国際公開第２０１１／０６００４７号、国際公開第２０１１／０５９４３０号に記載のオルガノシリコン化合物、
　国際公開第２０１２／０６４６４９号に記載の含フッ素オルガノシラン化合物、
　日本特開２０１２－７２２７２号公報に記載のフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー、
　国際公開第２０１３／０４２７３２号、国際公開第２０１３／１２１９８４号、国際公開第２０１３／１２１９８５号、国際公開第２０１３／１２１９８６号、国際公開第２０１４／１６３００４号、日本特開２０１４－０８０４７３号公報、国際公開第２０１５／０８７９０２号、国際公開第２０１７／０３８８３０号、国際公開第２０１７／０３８８３２号、国際公開第２０１７／１８７７７５号に記載の含フッ素エーテル化合物、
　日本特開２０１４－２１８６３９号公報、国際公開第２０１７／０２２４３７号、国際公開第２０１８／０７９７４３号、国際公開第２０１８／１４３４３３号に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル含有シラン化合物、
　日本特開２０１５－１９９９０６号公報、日本特開２０１６－２０４６５６号公報、日本特開２０１６－２１０８５４号公報、日本特開２０１６－２２２８５９号公報に記載のフルオロポリエーテル基含有ポリマー変性シラン、
　国際公開第２０１８／２１６６３０号、国際公開第２０１９／０３９２２６号、国際公開第２０１９／０３９３４１号、国際公開第２０１９／０３９１８６号、国際公開第２０１９／０４４４７９号、日本特開２０１９－４４１５８号公報、国際公開２０１９／１６３２８２に記載の含フッ素エーテル化合物。
　また、含フッ素化合物の市販品としては、信越化学工業社製のＫＹ－１００シリーズ（ＫＹ－１７８、ＫＹ－１８５、ＫＹ－１９５等）、ＡＧＣ社製のＡｆｌｕｉｄ（登録商標）Ｓ５５０、ダイキン工業社製のオプツール（登録商標）ＤＳＸ、オプツール（登録商標）ＡＥＳ、オプツール（登録商標）ＵＦ５０３、オプツール（登録商標）ＵＤ５０９等が挙げられる。
　本組成物中の本化合物の割合は、１００質量％未満であり、６０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましく、８０質量％以上が更に好ましい。
　本組成物が他の含フッ素化合物を含む場合、本組成物中の本化合物及び他の含フッ素化合物の合計に対する他の含フッ素化合物の割合は、４０質量％以下が好ましく、３０質量％以下がより好ましく、２０質量％以下が更に好ましい。
　本組成物中の本化合物及び他の含フッ素化合物の合計の割合は、８０質量％以上が好ましく、８５質量％以上がより好ましい。
　本化合物及び他の含フッ素化合物の含有量が前記範囲内であれば、表面層の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性、潤滑性、外観に優れる。
［コーティング液］
　本発明のコーティング液（以下、本コーティング液ともいう。）は、本化合物又は本組成物と液状媒体とを含む。本コーティング液は、液状であればよく、溶液であってもよく、分散液であってもよい。
　本コーティング液は、本化合物又は本組成物を含んでいればよく、本化合物の製造工程で生成した副生物等の不純物を含んでもよい。
　本化合物又は本組成物の濃度は、本コーティング液中、０．００１～４０質量％が好ましく、０．０１～２０質量％が好ましく、０．１～１０質量％がより好ましい。
　液状媒体としては、有機溶媒が好ましい。有機溶媒は、フッ素系有機溶媒であってもよく、非フッ素系有機溶媒であってもよく、両溶媒を含んでもよい。
　フッ素系有機溶媒としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、フルオロアルコール等が挙げられる。
　フッ素化アルカンとしては、炭素数４～８の化合物が好ましい。市販品としては、たとえばＣ６Ｆ１３Ｈ（ＡＧＣ社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＣ－２０００）、Ｃ６Ｆ１３Ｃ２Ｈ５（ＡＧＣ社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００）、Ｃ２Ｆ５ＣＨＦＣＨＦＣＦ３（ケマーズ社製、バートレル（登録商標）ＸＦ）等が挙げられる。
　フッ素化芳香族化合物としては、たとえばヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン等が挙げられる。
　フルオロアルキルエーテルとしては、炭素数４～１２の化合物が好ましい。市販品としては、たとえばＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ（ＡＧＣ社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００）、Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７１００）、Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７２００）、Ｃ２Ｆ５ＣＦ（ＯＣＨ３）Ｃ３Ｆ７（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７３００）等が挙げられる。
　フッ素化アルキルアミンとしては、たとえばペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミン等が挙げられる。
　フルオロアルコールとしては、たとえば２，２，３，３－テトラフルオロプロパノール、２，２，２－トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノール等が挙げられる。
　非フッ素系有機溶媒としては、水素原子及び炭素原子のみからなる化合物と、水素原子、炭素原子及び酸素原子のみからなる化合物が好ましく、炭化水素系有機溶媒、アルコール系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒が挙げられる。
　本コーティング液は、液状媒体を７５～９９．９９９質量％含むことが好ましく、８５～９９．９９質量％含むことが好ましく。９０～９９．９質量％含むことが特に好ましい。
　本コーティング液は、本化合物又は本組成物と液状媒体の他に、本発明の効果を損なわない範囲で、それら以外の他の成分を含んでいてもよい。
　他の成分としては、たとえば、加水分解性シリル基の加水分解と縮合反応を促進する酸触媒や塩基性触媒等の公知の添加剤が挙げられる。
　本コーティング液における、他の成分の含有量は、１０質量％以下が好ましく、１質量％以下がより好ましい。
　本コーティング液の本化合物と他の成分の合計又は本組成物と他の成分の合計の濃度（以下、固形分濃度ともいう。）は、０．００１～４０質量％が好ましく、０．０１～２０質量％が好ましく、０．０１～１０質量％がより好ましく、０．０１～１質量％がより好ましい。コーティング液の固形分濃度は、加熱前のコーティング液の質量と、１２０℃の対流式乾燥機にて４時間加熱した後の質量とから算出する値である。
［物品］
　本発明の物品（以下、「本物品」とも記す。）は、本化合物又は本組成物から形成された表面層を基材の表面に有する。表面層は、基材の表面の一部に形成されてもよく、基材のすべての表面に形成されてもよい。表面層は、基材の表面に膜状に拡がってもよく、ドット状に点在してもよい。
　表面層は、本化合物を、本化合物の加水分解性シリル基の一部又は全部が加水分解反応し、かつシラノール基が脱水縮合反応した状態で含む。
　表面層の厚さは、１～１００ｎｍが好ましく、１～５０ｎｍが特に好ましい。表面層の厚さが１ｎｍ以上であれば、表面処理による効果が充分に得られやすい。表面層の厚さが１００ｎｍ以下であれば、利用効率が高い。表面層の厚さは、薄膜解析用Ｘ線回折計（ＲＩＧＡＫＵ社製、ＡＴＸ－Ｇ）を用いて、Ｘ線反射率法によって反射Ｘ線の干渉パターンを得て、干渉パターンの振動周期から算出できる。
　基材としては、撥水撥油性の付与が求められている基材が挙げられる。例えば、他の物品（例えばスタイラス）や人の手指を接触させて使用することがある基材、操作時に人の手指で持つことがある基材、他の物品（例えば載置台）の上に置くことがある基材が挙げられる。
　基材の材料としては、金属、樹脂、ガラス、サファイア、セラミック、石、これらの複合材料が挙げられる。ガラスは化学強化されていてもよい。基材の表面にはＳｉＯ２膜等の下地膜が形成されていてもよい。より具体的には、前記密着性基Ｔにおいて挙げられた基材を参照できる。
　基材としては、タッチパネル用基材、ディスプレイ用基材、メガネレンズが好適であり、タッチパネル用基材が特に好適である。タッチパネル用基材の材料としては、ガラス又は透明樹脂が好ましい。
　また、基材としては、携帯電話（例えばスマートフォン）、携帯情報端末（例えばタブレット端末）、ゲーム機、リモコン等の機器における外装部分（表示部を除く）に使用する、ガラス又は樹脂フィルムも好ましい。
［物品の製造方法］
　本物品は、例えば、下記の方法で製造できる。
　・本化合物又は本組成物を用いたドライコーティング法によって基材の表面を処理して、本化合物又は本組成物から形成された表面層を基材の表面に形成する方法。
　・ウェットコーティング法によって本コーティング液を基材の表面に塗布し、乾燥させて、本化合物又は本組成物から形成された表面層を基材の表面に形成する方法。
　ドライコーティング法としては、真空蒸着、ＣＶＤ、スパッタリング等の手法が挙げられる。ドライコーティング法としては、化合物Ａ１又は化合物Ａ２の分解を抑える点、及び装置の簡便さの点から、真空蒸着法が好ましい。真空蒸着時には、鉄、鋼等の金属多孔体に本化合物又は本組成物を含浸させたペレット状物質を用いてもよい。本コーティング液を鉄、鋼等の金属多孔体に含浸させ、液状媒体を乾燥させて、化合物Ａ１もしくは化合物Ａ２又は本組成物が含浸したペレット状物質を用いてもよい。
　ウェットコーティング法としては、例えば、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法、グラビアコート法が挙げられる。
　表面層の耐摩擦性を向上させるために、必要に応じて、本化合物と基材との反応を促進するための操作を行ってもよい。該操作としては、加熱、加湿、光照射等が挙げられる。
たとえば、水分を有する大気中で表面層が形成された基材を加熱して、加水分解性基の加水分解反応、基材の表面の水酸基等とシラノール基との反応、シラノール基の縮合反応によるシロキサン結合の生成、等の反応を促進できる。
　表面処理後、表面層中の化合物であって他の化合物や基材と化学結合していない化合物は、必要に応じて除去してもよい。具体的な方法としては、たとえば、表面層に溶媒をかけ流す方法、溶媒をしみ込ませた布でふき取る方法等が挙げられる。
　以下に実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。以下において「％」は特に断りのない限り「質量％」である。なお、例１～４、７～９、１１～１４及び１７～１９が実施例であり、例５～６、１０、１５～１６及び２０が比較例である。
［合成例１：化合物（１）の合成］
　ＤｉｅｔｈｙｌＤｉａｌｌｙｌｍａｌｏｎａｔｅ（６０．０ｇ）、塩化リチウム（２３．７ｇ）、水（６．４５ｇ）、ジメチルスルホキシド（２６３ｇ）を加え、１６０℃で撹拌した。室温まで冷却した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。ヘキサンを有機層に加え、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、溶媒を留去することで、下記化合物（１）を３９．５ｇ得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
［合成例２：化合物（２）の合成］
　ＴＨＦ（２６０ｍＬ）、ジイソプロピルアミン（４１．６ｍＬ）を加えた後、溶液を－７８℃まで冷却した。ｎ－ブチルリチウムヘキサン溶液（２．７６Ｍ，９６．６ｍＬ）を加え、０℃まで昇温した。撹拌した後、－７８℃まで冷却し、リチウムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）のＴＨＦ溶液を調製した。上記化合物（１）（３９．５ｇ）をＴＨＦ溶液に加え、撹拌した後、臭化アリル（２４．１ｍＬ）を加えた。０℃に昇温し、１Ｍ塩酸を加え、ＴＨＦを減圧留去した。ジクロロメタンで抽出した後、硫酸ナトリウムを加えた。ろ過後、溶媒を留去し、シリカゲルを用いたフラッシュカラムクロマトグラフィーを行うことで、化合物（２）を４５．０ｇ得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
［合成例３：化合物（３）の合成］
　上記化合物（２）（４５．０ｇ）をＴＨＦに溶解させ、０℃に冷却した。水素化リチウムアルミニウムのＴＨＦ溶液（１０４ｍＬ，２６０ｍｍｏｌ）を加え、撹拌した。水、１５％水酸化ナトリウム水溶液を加え、室温で撹拌した後、ジクロロメタンで希釈した。ろ過後、溶媒を留去し、シリカゲルを用いたフラッシュカラムクロマトグラフィーを行うことで、下記化合物（３）を３１．３ｇ得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
＜化合物（３）の別の合成方法＞
［合成例３－１：化合物（２ａ）の合成］
　ＴＨＦ（２６０ｍＬ）、ジイソプロピルアミン（４１．６ｍＬ，２９４ｍｍｏｌ）を加えた後、溶液を－７８℃まで冷却した。ｎ－ブチルリチウムヘキサン溶液（２．７６Ｍ，９６．６ｍＬ，２６７ｍｍｏｌ）を加え、０℃まで昇温し、リチウムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）のＴＨＦ溶液を調製した。
　ｔｅｒｔ－Ｂｕｔｙｌ　Ａｃｅｔａｔｅ（９．２９ｇ）にＴＨＦ（５０ｍＬ）を加え、－７８℃に冷却したのち、ＬＤＡのＴＨＦ溶液（１３０ｍＬ）を加えた。臭化アリル（１０．９ｇ）を加え、０℃に昇温した。３０分後、－７８℃に冷却したのち、ＬＤＡ（１３０ｍＬ）と臭化アリル（１０．９ｇ）を加え、０℃に昇温した。再び、－７８℃に冷却したのち、ＬＤＡ（１３０ｍＬ）と臭化アリル（１０．９ｇ）を加え、０℃に昇温した。３０分撹拌した後、１Ｍ塩酸（１００ｍＬ）を加え、ＴＨＦを減圧留去した。ジクロロメタンで抽出した後、硫酸ナトリウムを加えた。ろ過後、溶媒を留去し、シリカゲルを用いたフラッシュカラムクロマトグラフィーを行うことで、下記化合物（２ａ）を９．４５ｇ得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
［合成例３－２：化合物（３）の合成］
　上記化合物（２ａ）（９．４５ｇ）をＴＨＦ（１００ｍＬ）に溶解させ、０℃に冷却した。水素化リチウムアルミニウムのＴＨＦ溶液（４０ｍＬ，１００ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で撹拌した。１Ｍ塩酸（１００ｍＬ）を０℃で加えた後、ジクロロメタンで抽出した。溶媒を留去し、シリカゲルを用いたフラッシュカラムクロマトグラフィーを行うことで、前記化合物（２－３）を５．９９ｇ得た。
［合成例４：化合物（４）の合成］
　アセトニトリル（３８０ｍＬ）、前記化合物（３）（３１．３ｇ）、トリフェニルホスフィン（６４．３ｇ）、四塩化炭素（３３．９ｇ）を加え、９０℃で撹拌した。濃縮後、酢酸エチル／ヘキサンを加え撹拌した。ろ過、濃縮後、蒸留（７０℃，３ｈＰａ）によって、下記化合物（４）を２８．２ｇ得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
［合成例５：化合物（５）の合成］
　マグネシウム（２．３６ｇ）にＴＨＦ（３５ｍＬ）、ヨウ素（０．１８０ｇ）を加えて、室温で撹拌した。前記化合物（４）（１４．０ｇ）のＴＨＦ（３５ｍＬ）溶液を加え、２時間加熱還流することで、下記化合物（５）の溶液（０．８０Ｍ）を調製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
［合成例６：化合物（１－１）の合成］
　国際公開第２０１３／１２１９８４号の実施例６に記載の方法に従い、下記化合物（１－１）を得た。
　ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ３　・・・式（１－１）
　単位数ｘ１の平均値：１４
［合成例７：化合物（１－２）の合成］
　前記化合物（１－１）（１０．０ｇ）、１，３－ビストリフルオロメチルベンゼン（３１ｍＬ）を加えた後、前記化合物（５）溶液（１１．０ｍＬ）を加えた。６０℃で２０時間撹拌した後、１Ｍ塩酸を加えた。ＡＥ３０００で抽出したのち、硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、溶媒を留去し、シリカゲルを用いたフラッシュカラムクロマトグラフィーを行うことで、下記化合物（１－２）を１．１５ｇ得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 単位数ｘ１の平均値：１４
　化合物（１－２）のＮＭＲスペクトル；
　１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：５．９２～５．７４（ｍ，３Ｈ），５．１３～４．９７（ｍ，６Ｈ），４．４０（ｓ，１Ｈ），２．２４～２．０２（ｍ，６Ｈ），１．９０（ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，１Ｈ），１．７７（ｄ，Ｊ＝１５．２Ｈｚ，１Ｈ），１．６１（ｄｄ，Ｊ＝１５．３，１０．１Ｈｚ，１Ｈ）．　１９Ｆ－ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：－５５．２４，－８２．８１，－８７．６３～－８８．３８（ｍ），－８９．９９～－９０．３６（ｍ），－１１７．６１～－１１７．８４（ｍ），－１１８．３５～－１１８．５８（ｍ），－１２３．１３～－１２３．３０（ｍ），－１２４．４９～－１２４．６６（ｍ），－１２５．２４，－１２７．５７～－１２７．７７（ｍ）．
［例１：含フッ素エーテル化合物（１－３）の合成］
　ＡＣ２０００（１．８ｇ）、上記化合物（１－２）（０．３００ｇ）、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液（白金含有量３％，１２．９ｍｇ）、アニリン（２．６ｍｇ）、トリメトキシシラン（４５．５ｍｇ）を加え、４０℃で撹拌した後、溶媒を減圧留去することで、下記含フッ素エーテル化合物（１－３）を０．２９１ｇ得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 単位数ｘ１の平均値：１４
　含フッ素エーテル化合物（１－３）のＮＭＲスペクトル；
　１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：４．８２～４．６５（ｍ，１Ｈ），３．７０～３．５１（ｍ，２７Ｈ），２．０２～１．１３（ｍ，１５Ｈ），０．８５～０．５９（ｍ，６Ｈ）．
　１９Ｆ－ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：－５５．２７，－８２．８５，－８８．０７，－９０．１９，－１１７．５６，－１２２．２５～－１２２．８６（ｍ），－１２５．２６．
［合成例８：化合物（２－１）の合成］
　前記合成例７で得られた化合物（１－２）（０．３５０ｇ）、１，３－ビストリフルオロメチルベンゼン（３ｍＬ）、デス・マーチン試薬（０．３５０ｇ）を加え、３５℃で２時間撹拌した。メタノールを加えた後、ＡＣ６０００で抽出した。溶媒を留去し、シリカゲルを用いたフラッシュカラムクロマトグラフィーを行うことで、下記化合物（２－１）を０．２８０ｇ得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 単位数ｘ１の平均値：１４
　化合物（２－１）のＮＭＲスペクトル；
　１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：５．９９～５．８０（ｍ，３Ｈ），５．２２～５．１１（ｍ，６Ｈ），２．８１（ｓ，２Ｈ），２．３２（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，６Ｈ）．
　１９Ｆ－ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：－５４．７４，－８１．５０～－８１．６７（ｍ），－８２．１９，－８７．１５～－８７．７１（ｍ），－８９．５６，－１１８．５０，－１２４．３５，－１２４．５９．
［例２：含フッ素エーテル化合物（２－２）の合成］
　ＡＣ６０００（２．０ｇ）、上記化合物（２－１）（０．２８０ｇ）、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液（白金含有量３％，６．７ｍｇ）、アニリン（２．０ｍｇ）、トリメトキシシラン（３７．０ｍｇ）を加え、４０℃で撹拌した後、溶媒を減圧留去することで、下記含フッ素エーテル化合物（２－２）を０．２８６ｇ得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 単位数ｘ１の平均値：１４
　含フッ素エーテル化合物（２－２）のＮＭＲスペクトル；
　１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：３．５８（ｓ，２７Ｈ），２．７０（ｓ，２Ｈ），１．５６～１．４１（ｍ，１２Ｈ），０．６１（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，６Ｈ）．
　１９Ｆ－ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：－５５．１２，－８１．９６，－８２．６１，－８７．５１～－８７．９７（ｍ），－８９．９８，－１１９．０４，－１２４．７２，－１２５．０３．
［合成例９：化合物（３－１）の合成］
　１，３－ビストリフルオロメチルベンゼン（７．５ｍＬ）、前記合成例７で得られた化合物（１－２）（０．７５０ｇ）、トリフェニルホスフィン（０．４０６ｇ）、四塩化炭素（０．３１０ｇ）を加え、１００℃で２時間撹拌した。ろ過後、溶媒を留去し、シリカゲルを用いたフラッシュカラムクロマトグラフィーを行うことで、下記化合物（３－１）を０．５２４ｇ得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 単位数ｘ１の平均値：１４
　化合物（３－１）のＮＭＲスペクトル；
　１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：６．３４（ｄｔ，Ｊ＝１６．３，２．１Ｈｚ，１Ｈ），５．６８（ｄｄｔ，Ｊ＝１７．７，１０．４，７．４Ｈｚ，３Ｈ），５．５９～５．４４（ｍ，１Ｈ），５．０７～４．９７（ｍ，６Ｈ），２．１３（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，６Ｈ）．
　１９Ｆ－ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：－５５．３１，－８１．７９～－８２．０３（ｍ），－８２．９２，－８７．７５～－８８．４０（ｍ），－９０．２４（ｑ，Ｊ＝８．２，７．８Ｈｚ），－１１０．９６（ｑ，Ｊ＝９．９Ｈｚ），－１２５．３５，－１２６．２６．
［例３：含フッ素エーテル化合物（３－２）の合成］
　ＡＣ２０００（３．１ｇ）、前記化合物（３－１）（０．５２４ｇ）、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液（白金含有量３％，１７．３ｍｇ）、アニリン（７．０ｍｇ）、トリメトキシシラン（６９．１ｍｇ）を加え、４０℃で撹拌した後、溶媒を減圧留去することで、下記含フッ素エーテル化合物（３－２）を０．５１４ｇ得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 単位数ｘ１の平均値：１４
　含フッ素エーテル化合物（３－２）のＮＭＲスペクトル；
　１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：６．３４（ｄｄ，Ｊ＝１６．３，２．０Ｈｚ，１Ｈ），５．６１（ｄｔ，Ｊ＝１６．３，１１．７Ｈｚ，１Ｈ），３．５９（ｓ，２７Ｈ），１．５７～１．３０（ｍ，１２Ｈ），０．６６（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，６Ｈ）．
　１９Ｆ－ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：－５５．２７，－８１．６４～－８１．９１（ｍ），－８２．８５，－８７．６６～－８８．３１（ｍ），－９０．１８（ｑ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），－１１０．５０（ｑ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ），－１２５．２６，－１２５．９６．
［合成例１０：化合物（４－１）の合成］
　Ｆｌｕｏｒｏｌｉｎｋ　Ｄ４０００（ＳＯＬＶＡＹ製、１５．０ｇ）、１，３－ビストリフルオロメチルベンゼン（５０ｍｌ）、アセトニトリル（３０ｍｌ）を加えた後、次亜塩素酸ナトリウム溶液（３０ｍｌ）、ＴＥＭＰＯ（１ｇ）、ＫＢｒ（１ｇ）の順に加えた。６０℃で５時間撹拌した後、希硫酸を加えた。ＡＥ３０００で抽出したのち、溶媒を留去することで、下記化合物（４－１）を１５．０ｇ得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
 ｐ：２２，　ｑ：２５
［合成例１１：化合物（４－２）の合成］
　上記化合物（４－１）（１５．０ｇ）、１，３－ビストリフルオロメチルベンゼン（５０ｍｌ）、メタノール（５０ｍｌ）を加えた後、濃硫酸１ｇを加えた。加熱還流した後、濃縮した。濃縮物をフラッシュカラムクロマトグラフィーを用いて精製することで、下記化合物（４－２）を１４．５ｇ得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
 ｐ：２２，　ｑ：２５
　化合物（４－２）のＮＭＲスペクトル；
　１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：３．８４（ｓ，６Ｈ）．
［合成例１２：化合物（４－３）の合成］
　前記化合物（４－２）（６．２７ｇ）、１，３－ビストリフルオロメチルベンゼン（４４ｍＬ）を加えた後、前記化合物（５）溶液（１１．０ｍＬ）を加えた。６０℃で１時間撹拌した後、１Ｍ塩酸を加えた。ＡＥ３０００で抽出したのち、硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、溶媒を留去し、シリカゲルを用いたフラッシュカラムクロマトグラフィーを行うことで、下記化合物（４－３）を２．９５ｇ得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 ｐ：２２，　ｑ：２５
　化合物（４－３）のＮＭＲスペクトル；
　１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：５．８２～５．６９（ｍ，６Ｈ），５．１３～５．０３（ｍ，１２Ｈ），２．６４（ｓ，４Ｈ），２．１９（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１２Ｈ）．
［合成例１３：化合物（４－４）の合成］
　前記化合物（４－３）（２．９５ｇ）をＡＥ３０００（２０ｍＬ）に溶解させ、０℃に冷却した。水素化リチウムアルミニウムのＴＨＦ溶液（１．７ｍＬ，４．３ｍｍｏｌ）を加え、撹拌した。１Ｍ塩酸を加え、ＡＥ３０００で抽出したのち、硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、溶媒を留去し、シリカゲルを用いたフラッシュカラムクロマトグラフィーを行うことで、下記化合物（４－４）を０．２１６ｇ得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
 ｐ：２２，　ｑ：２５
　化合物（４－４）のＮＭＲスペクトル；
　１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：５．９０～５．７５（ｍ，６Ｈ），５．１３～５．０１（ｍ，１２Ｈ），４．２７～４．０７（ｍ，２Ｈ），２．３４～１．６０（ｍ，１６Ｈ）．
［例４：含フッ素エーテル化合物（４－５）の合成］
　ＡＣ２０００（１．４ｇ）、前記化合物（４－４）（０．２１６ｇ）、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液（白金含有量３％，１３．６ｍｇ）、アニリン（１２．４ｍｇ）、トリメトキシシラン（９２．７ｍｇ）を加え、４０℃で撹拌した後、溶媒を減圧留去することで、下記含フッ素エーテル化合物（４－５）を０．２１１ｇ得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
 ｐ：２２，　ｑ：２５
　化合物（４－４）のＮＭＲスペクトル；
　１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：４．６７～４．４４（ｍ，２Ｈ），３．７２～３．５４（ｍ，５４Ｈ），２．０６～１．３５（ｍ，３０Ｈ），０．７８～０．５７（ｍ，１２Ｈ）．
［合成例１４：前記化合物（２－１）の別の合成例］
　前記化合物（１－１）（１０．０ｇ）、１，３－ビストリフルオロメチルベンゼン（３１ｍＬ）を加えた後、前記化合物（５）の溶液（１１．０ｍＬ）を加えた。６０℃で３時間撹拌した後、１Ｍ塩酸を加えた。ＡＥ３０００で抽出したのち、硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、溶媒を留去し、ヘキサンで洗浄した後、シリカゲルを用いたフラッシュカラムクロマトグラフィーを行うことで、前記化合物（２－１）を７．２８ｇ得た。
［合成例１５：前記化合物（１－２）の別の合成例］
　前記化合物（２－１）（７．１５ｇ）をＡＥ３０００（３６ｍＬ）に溶解させ、０℃に冷却した。水素化リチウムアルミニウムのＴＨＦ溶液（１．７ｍＬ）を加え、撹拌した。水、１５％水酸化ナトリウム水溶液を加え、室温で撹拌した。ＡＥ３０００で抽出したのち、硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、溶媒を留去し、シリカゲルを用いたフラッシュカラムクロマトグラフィーを行うことで、前記化合物（１－２）を５．２７ｇ得た。
［合成例１６：化合物（５－１）の合成］
　前記化合物（１－１）（１０．０ｇ）、１，３－ビストリフルオロメチルベンゼン（３１ｍＬ）を加えた後、アリルマグネシウムブロミド（１０．０ｍＬ，０．７Ｍ，７．０ｍｍｏｌ）を加えた。室温で２０時間撹拌した後、１Ｍ塩酸を加えた。ＡＥ３０００で抽出したのち、硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、溶媒を留去し、シリカゲルを用いたフラッシュカラムクロマトグラフィーを行うことで、下記化合物（５－１）を５．５７ｇ得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
 単位数ｘ１の平均値：１４
　化合物（５－１）のＮＭＲスペクトル；
　１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：６．０３～５．８７（ｍ，２Ｈ），５．４０～５．２１（ｍ，４Ｈ），２．７１～２．５０（ｍ，４Ｈ），２．３９（ｓ，１Ｈ）．
　１９Ｆ－ＮＭＲｆ（３７６ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：－５４．８７（ｔ，Ｊ＝９．２Ｈｚ），－８２．１７（ｐ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），－８６．９０～－８７．６７（ｍ），－８９．５７（ｑ，Ｊ＝９．１Ｈｚ），－１１５．８３～－１１６．１７（ｍ），－１２１．４７（ｑ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），－１２４．５２ｆ．
［例５：化合物（５－２）の合成］
　ＡＣ２０００（１．８ｇ）、上記化合物（５－１）（０．３２０ｇ）、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液（白金含有量３％，１３．５ｍｇ）、アニリン（２．８ｍｇ）、トリメトキシシラン（４５．５ｍｇ）を加え、４０℃で撹拌した後、溶媒を減圧留去することで、下記化合物（５－２）を０．３１３ｇ得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
 単位数ｘ１の平均値：１４
　化合物（５－２）のＮＭＲスペクトル；
　１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：３．６８～３．５６（ｍ，１８Ｈ），２．２７～１．１１（ｍ，９Ｈ），０．８７～０．６０（ｍ，４Ｈ）．
　１９Ｆ－ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：－５４．８４（ｔ，Ｊ＝９．１Ｈｚ），－８２．１５（ｄｄ，Ｊ＝１８．３，９．３Ｈｚ），－８６．２０，－８７．０９～－８７．５９（ｍ），－８９．５５（ｑ，Ｊ＝９．４Ｈｚ），－１１４．４６～－１１６．３９（ｍ），－１２０．８２～－１２０．９９（ｍ），－１２４．５０．
［合成例１７：化合物（６－１）の合成］
　上記化合物（５－１）（０．９９０ｇ）、水酸化カリウム（０．０７９ｇ）、テトラブチルアンモニウムヨージド（０．００９ｇ）、アリルブロミド（１．２１ｇ）を加えたのち、８０℃で２０時間撹拌した。１Ｍ塩酸を加え、ＡＥ３０００で抽出したのち、硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過後、溶媒を留去し、シリカゲルを用いたフラッシュカラムクロマトグラフィーを行うことで、下記化合物（６－１）を０．３５１ｇ得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
 単位数ｘ１の平均値：１４
　化合物（６－１）のＮＭＲスペクトル；
　１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：５．９５～５．７８（ｍ，３Ｈ），５．３３～５．０３（ｍ，６Ｈ），４．１７（ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，２Ｈ），２．８２～２．４２（ｍ，４Ｈ）．
　１９Ｆ－ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：－５４．８８（ｔ，Ｊ＝９．２Ｈｚ），－８２．１９，－８７．００～－８７．８３（ｍ），－８９．５９（ｑ，Ｊ＝９．５Ｈｚ），－１０９．８２～－１１１．３７（ｍ），－１２１．７０～－１２２．５３（ｍ），－１２４．５５．
［例６：化合物（６－２）の合成］
　ＡＣ２０００（１．８ｇ）、上記化合物（６－１）（０．３５１ｇ）、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液（白金含有量３％，１４．５ｍｇ）、アニリン（３．１ｍｇ）、トリメトキシシラン（４５．５ｍｇ）を加え、４０℃で撹拌した後、溶媒を減圧留去することで、下記化合物（６－２）を０．３３３ｇ得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
 単位数ｘ１の平均値：１４
　化合物（６－２）のＮＭＲスペクトル；
　１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：３．７８～３．３１（ｍ，２９Ｈ），２．０７～１．２１（ｍ，１０Ｈ），０．９０～０．５５（ｍ，６Ｈ）．
　１９Ｆ－ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ－ｄ）　δ（ｐｐｍ）：－５４．９７（ｔ，Ｊ＝９．１Ｈｚ），－８２．２２，－８７．１４～－８７．９９（ｍ），－８９．６４（ｑ，Ｊ＝９．５Ｈｚ），－１０９．８９～－１１１．６７（ｍ），－１２１．８７～－１２２．７３（ｍ），－１２４．７５．
［例７：含フッ素エーテル組成物の調製］
　前記化合物（１－２）と、前記化合物（１－３）とを８０：２０（質量比）の比率で混合し、例７の含フッ素エーテル組成物を得た。
［例８：含フッ素エーテル組成物の調製］
　前記化合物（２－１）と、前記化合物（２－２）とを７５：２５（質量比）の比率で混合し、例８の含フッ素エーテル組成物を得た。
［例９：含フッ素エーテル組成物の調製］
　前記化合物（２－１）と、前記化合物（２－２）とを８５：１５（質量比）の比率で混合し、例９の含フッ素エーテル組成物を得た。
［例１０：含フッ素エーテル組成物の調製］
　前記化合物（６－１）と、前記化合物（６－２）とを８０：２０（質量比）の比率で混合し、例１０の含フッ素エーテル組成物を得た。
［例１１～１６：物品の製造及び評価］
　例１～６で得た各化合物及び例７～例１０で得た組成物を用いて基材を表面処理し、例１１～２０の物品を得た。表面処理方法として、各例について下記のドライコーティング法及びウェットコーティング法をそれぞれ用いた。基材としては化学強化ガラスを用いた。得られた物品について、下記の方法で評価した。結果を表１及び表２に示す。
（ドライコーティング法）
　ドライコーティングは、真空蒸着装置（ＵＬＶＡＣ社製、ＶＴＲ３５０Ｍ）を用いて行った（真空蒸着法）。各化合物の０．５ｇを真空蒸着装置内のモリブデン製ボートに充填し、真空蒸着装置内を１×１０－３Ｐａ以下に排気した。化合物を配置したボートを昇温速度１０℃／分以下の速度で加熱し、水晶発振式膜厚計による蒸着速度が１ｎｍ／秒を超えた時点でシャッターを開けて基材の表面への製膜を開始させた。膜厚が約５０ｎｍとなった時点でシャッターを閉じて基材の表面への製膜を終了させた。化合物が堆積された基材を、２００℃で３０分間加熱処理し、ジクロロペンタフルオロプロパン（ＡＧＣ社製、ＡＫ－２２５）にて洗浄して、基材の表面に表面層を有する物品を得た。
（ウェットコーティング法）
　各化合物と、媒体としてのＣ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７２００）とを混合して、固形分濃度０．０５％のコーティング液を調製した。コーティング液に基材をディッピングし、３０分間放置後、基材を引き上げた（ディップコート法）。塗膜を２００℃で３０分間乾燥させ、ＡＫ－２２５にて洗浄して、基材の表面に表面層を有する物品を得た。
（評価方法）
　＜接触角の測定方法＞
　表面層の表面に置いた約２μＬの蒸留水又はｎ－ヘキサデカンの接触角を、接触角測定装置（協和界面科学社製、ＤＭ－５００）を用いて測定した。表面層の表面における異なる５箇所で測定し、その平均値を算出した。接触角の算出には２θ法を用いた。
　＜初期接触角＞
　表面層について、初期水接触角及び初期ｎ－ヘキサデカン接触角を前記測定方法で測定した。評価基準は下記のとおりである。
　初期水接触角：
　◎（優）　：１１５度以上。
　〇（良）　：１０５度以上１１５度未満。
　×（不可）：１０５度未満。
　＜耐摩擦性（スチールウール）＞
　表面層について、ＪＩＳ　Ｌ０８４９：２０１３（ＩＳＯ　１０５－Ｘ１２：２００１）に準拠して往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、スチールウールボンスター（♯００００）を圧力：９８．０７ｋＰａ、速度：３２０ｃｍ／分で１万回往復させた後、前記方法により水接触角を測定した。摩擦後の撥水性（水接触角）の低下が小さいほど摩擦による性能の低下が小さく、耐摩擦性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
　◎（優）　：１万回往復後の水接触角の変化が５度以下。
　〇（良）　：１万回往復後の水接触角の変化が５度超８度以下。
　△（可）　：１万回往復後の水接触角の変化が８度超１０度以下。
　×（不可）：１万回往復後の水接触角の変化が１０度超。
　＜耐光性＞
　表面層に対して、卓上型キセノンアークランプ式促進耐光性試験機（製品名：ＳＵＮＴＥＳＴ　ＸＬＳ＋、東洋精機社製）を用いて、ブラックパネル温度：６３℃にて、光線（６５０Ｗ／ｍ２、３００～７００ｎｍ）を５００時間照射した後、前記方法により水接触角を測定した。評価基準は下記のとおりである。
　◎（優）　：促進耐光性試験後の水接触角の変化が５度以下である。
　○（良）　：促進耐光性試験後の水接触角の変化が５度超１０度以下である。
　×（不可）：促進耐光性試験後の水接触角の変化が１０度超である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000026
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000027
　表１に示される通り、例５及び例６の化合物を用いた例１５及び例１６の物品であっても初期接触角や耐光性は良好であったが、特に摩擦試験後における水接触角の低下が確認された。一方、ポリフルオロポリエーテル鎖と分岐構造との間に－ＣＨ（ＯＨ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－ＣＨ＝ＣＨ－を有する、例１～例４の含フッ素エーテル化合物を用いた表面層を有する例１１～例１４の物品は、摩擦試験後及び耐光試験後においても水接触角の低下が抑制されており、優れた耐久性を有することが示された。
　また、表２に示される通り、例１～例４の含フッ素エーテル化合物を含む例１７～１９の含フッ素エーテル組成物を用いた表面層を有する物品は摩擦試験後及び耐光試験後においても水接触角の低下が抑制されており、優れた耐久性を有することが示された。更に、例１１と例１７の比較によれば、加水分解性シリル基を有する含フッ素エーテル化合物（１－３）と、不飽和炭化水素基を有する含フッ素エーテル化合物（１－２）とを組み合わせて用いることにより、耐摩擦性が更に向上することが示された。
　この出願は、２０２０年３月９日に出願された日本出願特願２０２０－３９９７５を基礎とする優先権を主張し、その開示の全てをここに取り込む。

Claims (15)

  1. 　下式（Ａ１）又は式（Ａ２）で表される含フッ素エーテル化合物。
    　ＲｆＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｌ１－Ｒ２－Ｑ１（－Ｔ）ｎ　　式（Ａ１）
    　（Ｔ－）ｎＱ１－Ｒ２－Ｌ１－Ｒ１－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｌ１－Ｒ２－Ｑ１（－Ｔ）ｎ　　式（Ａ２）
    　ただし、
    　Ｒｆは、炭素数１～２０のフルオロアルキル基であり、
    　Ｒｆ１は、炭素数１～６のフルオロアルキレン基であって、Ｒｆ１が複数ある場合、当該Ｒｆ１は同一であっても異なっていてもよく、
    　Ｒ１は、フッ素原子を有していてもよいアルキレン基であって、Ｒ１が複数ある場合、当該Ｒ１は同一であっても異なっていてもよく、
    　Ｒ２は、単結合、又はフッ素原子を有していてもよいアルキレン基であって、Ｒ２が複数ある場合、当該Ｒ２は同一であっても異なっていてもよく、
    　Ｌ１は、－ＣＨ（ＯＨ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－ＣＨ＝ＣＨ－であって、Ｌ１が複数ある場合、当該Ｌ１は同一であっても異なっていてもよく、
    　Ｑ１は、１＋ｎ価の連結基であって、Ｑ１が複数ある場合、当該Ｑ１は同一であっても異なっていてもよく、
    　Ｔは、密着性基であって、複数あるＴは同一であっても異なっていてもよく、
    　ｍは、０～２１０の整数であり、
    　ｎは、２～２０の整数であって、ｎが複数ある場合、当該ｎは同一であっても異なっていてもよい。
  2. 　Ｒ１の炭素数が１～６である、請求項１に記載の含フッ素エーテル化合物。
  3. 　Ｒ２の炭素数が１～１０である、請求項１又は２に記載の含フッ素エーテル化合物。
  4. 　－Ｑ１（－Ｔ）ｎが、－Ｑ２［（－Ｒ３－Ｔ）ａ（－Ｒ４）３－ａ］である、請求項１～３のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物。
    　ただし、
    　Ｑ２は、炭素原子またはケイ素原子であり、Ｑ２が複数ある場合、当該Ｑ２は同一であっても異なっていてもよく、
    　Ｒ３は、単結合、又はフッ素原子を有していてもよく炭素原子間にエーテル結合を有していてもよいアルキレン基であり、Ｒ３が複数ある場合、当該Ｒ３は同一であっても異なっていてもよく、
    　Ｒ４は、水素原子、フッ素原子、フッ素原子を有してもよく炭素原子間にエーテル結合を有していてもよいアルキル基、又は、－Ｒ５－Ｑ２［（－Ｒ３－Ｔ）ｂ（－Ｒ６）３－ｂ］であって、Ｒ４が複数ある場合、当該Ｒ４は同一であっても異なっていてもよく、
    　Ｒ５は、単結合、又はフッ素原子を有してもよく炭素原子間にエーテル結合を有していてもよいアルキレン基であって、Ｒ５が複数ある場合、当該Ｒ５は同一であっても異なっていてもよく、
    　Ｒ６は、水素原子、フッ素原子、フッ素原子を有してもよく炭素原子間にエーテル結合を有していてもよいアルキル基、又は、－Ｒ５－Ｑ２［（－Ｒ３－Ｔ）ｃ（－Ｒ７）３－ｃ］であって、Ｒ６が複数ある場合、当該Ｒ６は同一であっても異なっていてもよく、
    　Ｒ７は、水素原子、フッ素原子、又はフッ素原子を有してもよく炭素原子間にエーテル結合を有していてもよいアルキル基であって、Ｒ７が複数ある場合、当該Ｒ７は同一であっても異なっていてもよく、
    　ａは０～３の整数であり、
    　ｂは０～３の整数であって、ｂが複数ある場合、当該ｂは同一であっても異なっていてもよく、
    　ｃは０～３の整数であって、ｃが複数ある場合、当該ｃは同一であっても異なっていてもよく、
    　ａとｂとｃの合計がｎである。
  5. 　Ｒ３の炭素数が２～７である、請求項４に記載の含フッ素エーテル化合物。
  6. 　Ｔが、臭素原子、ヨウ素原子、水酸基、アミノ基、カルボキシ基、アルデヒド基、エポキシ基、チオール基、リン酸基、ホスホン酸基、不飽和炭化水素基、アリール基、及び－Ｓｉ（Ｒ２１）３－ｄ（Ｌ２１）ｄより選択される１種以上である、請求項１～５のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物。
    　ただし、
    　Ｒ２１は、アルキル基であり、
    　Ｌ２１は、加水分解性基又は水酸基であり、複数あるＬ２１は同一であっても異なっていてもよく、
    　ｄは、２又は３である。
  7. 　下式（Ｂ１）又は式（Ｂ２）で表される化合物。
    　ＲｆＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｌ１－Ｒ２－Ｑ１１（－ＣＨ＝ＣＨ２）ｎ　　式（Ｂ１）
    　（ＣＨ２＝ＣＨ－）ｎＱ１１－Ｒ２－Ｌ１－Ｒ１－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｌ１－Ｒ２－Ｑ１１（－ＣＨ＝ＣＨ２）ｎ　　式（Ｂ２）
    　ただし、
    　Ｒｆは、炭素数１～２０のフルオロアルキル基であり、
    　Ｒｆ１は、炭素数１～６のフルオロアルキレン基であって、Ｒｆ１が複数ある場合、当該Ｒｆ１は同一であっても異なっていてもよく、
    　Ｒ１は、フッ素原子を有していてもよいアルキレン基であって、Ｒ１が複数ある場合、当該Ｒ１は同一であっても異なっていてもよく、
    　Ｒ２は、単結合、又はフッ素原子を有していてもよいアルキレン基であって、Ｒ２が複数ある場合、当該Ｒ２は同一であっても異なっていてもよく、
    　Ｌ１は、－ＣＨ（ＯＨ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－ＣＨ＝ＣＨ－であって、Ｌ１が複数ある場合、当該Ｌ１は同一であっても異なっていてもよく、
    　Ｑ１１は、１＋ｎ価の連結基であって、Ｑ１１が複数ある場合、当該Ｑ１１は同一であっても異なっていてもよく、
    　ｍは、０～２１０の整数であり、
    　ｎは、２～２０の整数であって、ｎが複数ある場合、当該ｎは同一であっても異なっていてもよい。
  8. 　－Ｑ１１（－ＣＨ＝ＣＨ２）ｎが、－Ｑ２［（－Ｒ２３－ＣＨ＝ＣＨ２）ａ（－Ｒ２４）３－ａ］である、請求項７に記載の化合物。
    　ただし、
    　Ｑ２は、炭素原子またはケイ素原子であり、Ｑ２が複数ある場合、当該Ｑ２は同一であっても異なっていてもよく、
    　Ｒ２３は、単結合、又はフッ素原子を有していてもよく炭素原子間にエーテル結合を有していてもよいアルキレン基であり、Ｒ２３が複数ある場合、当該Ｒ２３は同一であっても異なっていてもよく、
    　Ｒ２４は、水素原子、フッ素原子、フッ素原子を有してもよく炭素原子間にエーテル結合を有していてもよいアルキル基、又は、－Ｒ２５－Ｑ２［（－Ｒ２３－ＣＨ＝ＣＨ２）ｂ（－Ｒ２６）３－ｂ］であって、Ｒ２４が複数ある場合、当該Ｒ２４は同一であっても異なっていてもよく、
    　Ｒ２５は、単結合、又はフッ素原子を有してもよく炭素原子間にエーテル結合を有していてもよいアルキレン基であって、Ｒ２５が複数ある場合、当該Ｒ２５は同一であっても異なっていてもよく、
    　Ｒ２６は、水素原子、フッ素原子、フッ素原子を有してもよく炭素原子間にエーテル結合を有していてもよいアルキル基、又は、－Ｒ２５－Ｑ２［（－Ｒ２３－ＣＨ＝ＣＨ２）ｃ（－Ｒ２７）３－ｃ］であって、Ｒ２６が複数ある場合、当該Ｒ２６は同一であっても異なっていてもよく、
    　Ｒ２７は、水素原子、フッ素原子、又はフッ素原子を有してもよく炭素原子間にエーテル結合を有していてもよいアルキル基であって、Ｒ２７が複数ある場合、当該Ｒ２７は同一であっても異なっていてもよく、
    　ａは０～３の整数であり、
    　ｂは０～３の整数であって、ｂが複数ある場合、当該ｂは同一であっても異なっていてもよく、
    　ｃは０～３の整数であって、ｃが複数ある場合、当該ｃは同一であっても異なっていてもよく、
    　ａとｂとｃの合計がｎである。
  9. 　下式（Ｃ１）又は式（Ｃ２）で表される化合物と、下式（Ｄ１）で表される化合物とを反応させる工程を有する、下式（Ｂ１１）又は式（Ｂ１２）で表される化合物の製造方法。
    　ＲｆＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲ１１　　式（Ｃ１）
    　Ｒ１１Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ１－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲ１１　　式（Ｃ２）
    　（ＣＨ２＝ＣＨ－）ｎＱ１１－Ｒ２－ＭｇＸ　　式（Ｄ１）
    　ＲｆＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｌ１１－Ｒ２－Ｑ１１（－ＣＨ＝ＣＨ２）ｎ　　式（Ｂ１１）
    　（ＣＨ２＝ＣＨ－）ｎＱ１１－Ｒ２－Ｌ１１－Ｒ１－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｌ１１－Ｒ２－Ｑ１１（－ＣＨ＝ＣＨ２）ｎ　　式（Ｂ１２）
    　ただし、
    　Ｒｆは、炭素数１～２０のフルオロアルキル基であり、
    　Ｒｆ１は、炭素数１～６のフルオロアルキレン基であって、Ｒｆ１が複数ある場合、当該Ｒｆ１は同一であっても異なっていてもよく、
    　Ｒ１は、フッ素原子を有していてもよいアルキレン基であって、Ｒ１が複数ある場合、当該Ｒ１は同一であっても異なっていてもよく、
    　Ｒ２は、単結合、又はフッ素原子を有していてもよいアルキレン基であって、Ｒ２が複数ある場合、当該Ｒ２は同一であっても異なっていてもよく、
    　Ｒ１１は、アルキル基であって、Ｒ１１が複数ある場合、当該Ｒ１１は同一であっても異なっていてもよく、
    　Ｌ１１は、－ＣＨ（ＯＨ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＣＨ＝ＣＨ－、又は－ＣＨ２－であって、Ｌ１１が複数ある場合、当該Ｌ１１は同一であっても異なっていてもよく、
    　Ｑ１１は、１＋ｎ価の連結基であって、Ｑ１１が複数ある場合、当該Ｑ１１は同一であっても異なっていてもよく、
    　Ｘは、ハロゲン原子であり、
    　ｍは、０～２１０の整数であり、
    　ｎは、２～２０の整数であって、ｎが複数ある場合、当該ｎは同一であっても異なっていてもよい。
  10. 　下式（Ｂ１１）又は式（Ｂ１２）で表される化合物に、密着性基Ｔを導入する工程を有する、下式（Ａ１１）又は式（Ａ１２）で表される含フッ素エーテル化合物の製造方法。
    　ＲｆＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｌ１１－Ｒ２－Ｑ１１（－ＣＨ＝ＣＨ２）ｎ　　式（Ｂ１１）
    　（ＣＨ２＝ＣＨ－）ｎＱ１１－Ｒ２－Ｌ１１－Ｒ１－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｌ１１－Ｒ２－Ｑ１１（－ＣＨ＝ＣＨ２）ｎ　　式（Ｂ１２）
    　ＲｆＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｌ１１－Ｒ２－Ｑ１（－Ｔ）ｎ　　式（Ａ１１）
    　（Ｔ－）ｎＱ１－Ｒ２－Ｌ１１－Ｒ１－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｌ１１－Ｒ２－Ｑ１（－Ｔ）ｎ　　式（Ａ１２）
    　ただし、
    　Ｒｆは、炭素数１～２０のフルオロアルキル基であり、
    　Ｒｆ１は、炭素数１～６のフルオロアルキレン基であって、Ｒｆ１が複数ある場合、当該Ｒｆ１は同一であっても異なっていてもよく、
    　Ｒ１は、フッ素原子を有していてもよいアルキレン基であって、Ｒ１が複数ある場合、当該Ｒ１は同一であっても異なっていてもよく、
    　Ｒ２は、単結合、又はフッ素原子を有していてもよいアルキレン基であって、Ｒ２が複数ある場合、当該Ｒ２は同一であっても異なっていてもよく、
    　Ｌ１１は、－ＣＨ（ＯＨ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＣＨ＝ＣＨ－、又は－ＣＨ２－であって、Ｌ１１が複数ある場合、当該Ｌ１１は同一であっても異なっていてもよく、
    　Ｑ１は、１＋ｎ価の連結基であって、Ｑ１が複数ある場合、当該Ｑ１は同一であっても異なっていてもよく、
    　Ｑ１１は、１＋ｎ価の連結基であって、Ｑ１１が複数ある場合、当該Ｑ１１は同一であっても異なっていてもよく、
    　ｍは、０～２１０の整数であり、
    　ｎは、２～２０の整数であって、ｎが複数ある場合、当該ｎは同一であっても異なっていてもよい。
  11. 　下式（Ａ１）で表される含フッ素エーテル化合物と、下式（Ａ２）で表される含フッ素エーテル化合物とを含有する、含フッ素エーテル組成物。
    　ＲｆＯ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｌ１－Ｒ２－Ｑ１（－Ｔ）ｎ　　式（Ａ１）
    （Ｔ－）ｎＱ１－Ｒ２－Ｌ１－Ｒ１－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒ１－Ｌ１－Ｒ２－Ｑ１（－Ｔ）ｎ　　式（Ａ２）
    　ただし、
    　Ｒｆは、炭素数１～２０のフルオロアルキル基であり、
    　Ｒｆ１は、炭素数１～６のフルオロアルキレン基であって、Ｒｆ１が複数ある場合、当該Ｒｆ１は同一であっても異なっていてもよく、
    　Ｒ１は、フッ素原子を有していてもよいアルキレン基であって、Ｒ１が複数ある場合、当該Ｒ１は同一であっても異なっていてもよく、
    　Ｒ２は、単結合、又はフッ素原子を有していてもよいアルキレン基であって、Ｒ２が複数ある場合、当該Ｒ２は同一であっても異なっていてもよく、
    　Ｌ１は、－ＣＨ（ＯＨ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－ＣＨ＝ＣＨ－であって、Ｌ１が複数ある場合、当該Ｌ１は同一であっても異なっていてもよく、
    　Ｑ１は、１＋ｎ価の連結基であって、Ｑ１が複数ある場合、当該Ｑ１は同一であっても異なっていてもよく、
    　Ｔは、密着性基であって、複数あるＴは同一であっても異なっていてもよく、
    　ｍは、０～２１０の整数であり、
    　ｎは、２～２０の整数であって、ｎが複数ある場合、当該ｎは同一であっても異なっていてもよい。
  12. 　請求項１～６のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物の１種以上と、他の含フッ素エーテル化合物とを含有する、含フッ素エーテル組成物。
  13. 　請求項１～６のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物、若しくは請求項１１又は１２に記載の含フッ素エーテル組成物と、
    　液状媒体とを含有する、コーティング液。
  14. 　請求項１～６のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物、若しくは請求項１１又は１２に記載の含フッ素エーテル組成物から形成された表面層を基材の表面に有する、物品。
  15. 　請求項１～６のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物、請求項１１又は１２に記載の含フッ素エーテル組成物、若しくは請求項１３に記載のコーティング液を用いて、ドライコーティング法又はウェットコーティング法により、表面層を形成する、物品の製造方法。
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