WO2021181946A1 - ケチミン構造を有する有機ケイ素化合物の製造方法 - Google Patents
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Definitions
- the present invention relates to a method for producing an organosilicon compound having a ketimine structure.
- the silane coupling agent is a compound having a part having reactivity with an inorganic substance (a hydrolyzable group bonded to a Si atom) and a part having a high reactivity and solubility with an organic substance in one molecule, and is a resin modification. Widely used as an agent. Among them, a silane coupling agent having a ketimine structure has been studied as a modifier of a conjugated diene copolymer (Patent Document 1). On the other hand, Patent Documents 2 and 3 disclose methods for producing a silane coupling agent having a ketimine structure, but these methods have insufficient recovery yields of the target product. Therefore, there is a demand for a production method capable of recovering an organosilicon compound having a ketimine structure in a high yield.
- the present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a production method capable of recovering an organosilicon compound having a ketimine structure in a high yield.
- the present inventors have obtained a high yield of an organosilicon compound having a ketimine structure by reacting an amino group-containing organosilicon compound with a carbonyl compound in the presence of an inorganic adsorbent.
- the present invention was completed by finding that it can be recovered in the above.
- a method for producing an organosilicon compound represented by the following formula (1) An organic having a ketimine structure, which comprises a step of reacting an amino group-containing organosilicon compound represented by the following formula (2) with a carbonyl compound represented by the following formula (3) in the presence of an inorganic adsorbent.
- Method for producing silicon compounds (In the formula, R 1 independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms.
- R 2 independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms.
- R 3 and R 4 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms.
- n represents an integer of 1 to 3
- m represents an integer of 1 to 12.
- Method of producing compound 4. Any of 1 to 3 in which R 1 is a methyl group or an ethyl group, R 3 is an isobutyl group, R 4 is a methyl group, and m and n are both 3.
- a method for producing an organosilicon compound having a ketimine structure is provided.
- an organosilicon compound having a ketimine structure can be obtained in a high yield.
- the method for producing an organosilicon compound having a ketimine structure represented by the following formula (1) according to the present invention includes an amino group-containing organosilicon compound represented by the following formula (2) and the following formula in the presence of an inorganic adsorbent. It has a step of reacting the carbonyl compound represented by (3).
- R 1 independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms
- R 2 independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. It represents a group or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms
- R 3 and R 4 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms.
- the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms may be linear, cyclic or branched, and specific examples thereof include methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, n-butyl, isobutyl and s.
- aryl group having 6 to 10 carbon atoms include phenyl, ⁇ -naphthyl, ⁇ -naphthyl group and the like.
- R 1 and R 2 a linear alkyl group is preferable, and a methyl group and an ethyl group are more preferable.
- R 3 and R 4 a hydrogen atom and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms are preferable, and a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group and an isobutyl group are more preferable, and a methyl group and an isobutyl group are more preferable.
- Groups are even more preferred, and combinations of methyl and isobutyl groups are even more preferred.
- n represents an integer of 1 to 3, 2 or 3 is preferable, and 3 is more preferable.
- m represents an integer of 1 to 12, 2 or 3 is preferable, and 3 is more preferable.
- an organosilicon compound represented by the following formula (4) or (5) is preferable.
- R 2 and n have the same meanings as above, Me means a methyl group, and Et means an ethyl group.
- amino group-containing organosilicon compound represented by the formula (2) used in the reaction include 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyldimethoxymethylsilane, 3-aminopropyltriethoxysilane and the like. Be done.
- specific examples of the carbonyl compound represented by the formula (3) include dimethyl ketone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, acetaldehyde, benzaldehyde, propionaldehyde and the like.
- the reaction between the amino group-containing organosilicon compound and the carbonyl compound is preferably carried out under the condition that the carbonyl compound is excessive in terms of molar ratio.
- This reaction proceeds without a solvent, but a solvent can also be used.
- the solvent that can be used include hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, cyclohexane, heptane, isooctane, benzene, toluene, and xylene, and toluene is preferable.
- the solvent one type may be used alone, or two or more types may be mixed and used.
- the method for removing water is not particularly limited, but a method of distilling off a carbonyl compound or solvent excessively present in the system by refluxing using a Dean-Stark apparatus or the like is preferable.
- the reaction temperature is not particularly limited as long as water can be distilled off, but is preferably 100 to 200 ° C.
- the amino group-containing organosilicon compound represented by the above formula (2) is reacted with the carbonyl compound represented by the above formula (3) in the presence of an inorganic adsorbent.
- an inorganic adsorbent is not used, side reactions proceed at the same time.
- the organosilicon compound of the formula (7) the organosilicon compounds represented by the formulas (8) to (11) are produced, and the target product is produced. The recovery rate decreases. Further, in order to increase the purity, it is preferable to distill and purify the obtained compound represented by the formula (1).
- Examples of the inorganic adsorbent include silica, aluminum hydroxide, hydrotalcite, magnesium silicate, aluminum silicate, aluminum oxide, magnesium oxide, aluminum oxide / magnesium oxide solid solution, and the like, and these may be used alone. Two or more types may be used in combination.
- These inorganic adsorbents can be obtained, for example, as commercially available Kyowa Chemical Industry Co., Ltd. Kyoward series (Kyoward 100, 200, 300, 500, 600, 700, 2000). Of these, Kyoward 500 (Mg 6 Al 2 (OH) 16 CO 3 ⁇ mH 2 O), which is a synthetic hydrotalcite, is particularly preferable from the viewpoint of treatment efficiency.
- the amount of the inorganic adsorbent used enhances the treatment efficiency and facilitates the removal of the inorganic adsorbent after the treatment
- the amount of the inorganic adsorbent used is 0. It is preferably 005 to 5.0 parts by mass, more preferably 0.01 to 0.2 parts by mass.
- the yield shown below is a value calculated from the following formula (I). (Final recovery amount of organosilicon compound having ketimine structure (g)) / (molecular weight of organosilicon compound having ketimine structure (g / mol) ⁇ amount of substance of amino group-containing organosilicon compound used in reaction (mol)) ... (I)
- Example 2 An organosilicon compound represented by the above formula (6) was produced in the same manner as in Example 1 except that Kyoward 200 having the same mass part was used instead of Kyoward 100.
- Example 3 An organosilicon compound represented by the above formula (6) was produced in the same manner as in Example 1 except that Kyoward 300 having the same mass part was used instead of Kyoward 100.
- Example 4 An organosilicon compound represented by the above formula (6) was produced in the same manner as in Example 1 except that Kyoward 500 having the same mass part was used instead of Kyoward 100.
- Example 5 An organosilicon compound represented by the above formula (6) was produced in the same manner as in Example 1 except that Kyoward 600 having the same mass part was used instead of Kyoward 100.
- Example 6 An organosilicon compound represented by the above formula (6) was produced in the same manner as in Example 1 except that Kyoward 700 having the same mass part was used instead of Kyoward 100.
- Example 7 An organosilicon compound represented by the above formula (6) was produced in the same manner as in Example 1 except that Kyoward 2000 having the same mass part was used instead of Kyoward 100.
- Example 9 An organosilicon compound represented by the above formula (7) was produced in the same manner as in Example 9 except that Kyoward 200 having the same mass part was used instead of Kyoward 100.
- Example 10 The same operation as in Example 9 was performed except that the Kyoward 300 having the same mass part was used instead of the Kyoward 100.
- Example 11 An organosilicon compound represented by the above formula (7) was produced in the same manner as in Example 9 except that Kyoward 500 having the same mass part was used instead of Kyoward 100.
- Example 12 An organosilicon compound represented by the above formula (7) was produced in the same manner as in Example 9 except that Kyoward 600 having the same mass part was used instead of Kyoward 100.
- Example 13 An organosilicon compound represented by the above formula (7) was produced in the same manner as in Example 9 except that Kyoward 700 having the same mass part was used instead of Kyoward 100.
- Example 14 An organosilicon compound represented by the above formula (7) was produced in the same manner as in Example 9 except that Kyoward 2000 having the same mass part was used instead of Kyoward 100.
- the yield of the organosilicon compound of each example obtained by the production method of the present invention is 90% or more, and it can be seen that the recovery rate is good.
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Abstract
無機吸着剤の存在下、式（２）で表されるアミノ基含有有機ケイ素化合物と式（３）で表されるカルボニル化合物を反応させる工程を有する、式（１）で表されるケチミン構造を有する有機ケイ素化合物の製造方法によれば、ケチミン構造を有する有機ケイ素化合物を高収率で回収できる。 （式中、Ｒ1は、それぞれ独立して、炭素数１～１０のアルキル基または炭素数６～１０のアリール基を表し、Ｒ2は、それぞれ独立して、炭素数１～１０のアルキル基または炭素数６～１０のアリール基を表し、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基または炭素数６～１０のアリール基を表し、ｎは、１～３の整数、ｍは、１～１２の整数を表す。） （式中、Ｒ1～Ｒ4、ｎおよびｍは、前記と同じ。）
Description
本発明は、ケチミン構造を有する有機ケイ素化合物の製造方法に関する。
シランカップリング剤は、無機物に対する反応性を有する部分（Ｓｉ原子に結合した加水分解性基）と、有機物に対する反応性や溶解性に富む部分とを１分子内に併せ持つ化合物であり、樹脂改質剤として広く利用されている。
中でも、ケチミン構造を有するシランカップリング剤は、共役ジエン共重合体の変性剤として検討されている（特許文献１）。
一方、特許文献２および３には、ケチミン構造を有するシランカップリング剤の製造方法が開示されているが、これらの方法は目的物の回収収率が不十分であった。
このため、ケチミン構造を有する有機ケイ素化合物を高収率で回収できる製造方法が求められている。
中でも、ケチミン構造を有するシランカップリング剤は、共役ジエン共重合体の変性剤として検討されている（特許文献１）。
一方、特許文献２および３には、ケチミン構造を有するシランカップリング剤の製造方法が開示されているが、これらの方法は目的物の回収収率が不十分であった。
このため、ケチミン構造を有する有機ケイ素化合物を高収率で回収できる製造方法が求められている。
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、ケチミン構造を有する有機ケイ素化合物を高収率で回収できる製造方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、無機吸着剤の存在下でアミノ基含有有機ケイ素化合物とカルボニル化合物を反応させることで、ケチミン構造を有する有機ケイ素化合物を高収率で回収できることを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は、
１． 下記式（１）で表される有機ケイ素化合物を製造する方法であって、
無機吸着剤の存在下、下記式（２）で表されるアミノ基含有有機ケイ素化合物と下記式（３）で表されるカルボニル化合物を反応させる工程を有することを特徴とするケチミン構造を有する有機ケイ素化合物の製造方法、
（式中、Ｒ1は、それぞれ独立して、炭素数１～１０のアルキル基または炭素数６～１０のアリール基を表し、
Ｒ2は、それぞれ独立して、炭素数１～１０のアルキル基または炭素数６～１０のアリール基を表し、
Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基または炭素数６～１０のアリール基を表し、
ｎは、１～３の整数、ｍは、１～１２の整数を表す。）
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、ｎおよびｍは、前記と同じ意味を表す。）
２． 蒸留精製により前記式（１）で表される有機ケイ素化合物を取り出す工程を有する１のケチミン構造を有する有機ケイ素化合物の製造方法、
３． 前記無機吸着剤が、シリカ、水酸化アルミニウム、ハイドロタルサイト、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸アルミニウム、酸化アルミニウムおよび酸化マグネシウムから選ばれる１種または２種以上である１または２のケチミン構造を有する有機ケイ素化合物の製造方法、
４． 前記Ｒ1が、メチル基またはエチル基であり、前記Ｒ3が、イソブチル基であり、前記Ｒ4が、メチル基であり、前記ｍおよびｎがいずれも３である１～３のいずれかのケチミン構造を有する有機ケイ素化合物の製造方法
を提供する。
１． 下記式（１）で表される有機ケイ素化合物を製造する方法であって、
無機吸着剤の存在下、下記式（２）で表されるアミノ基含有有機ケイ素化合物と下記式（３）で表されるカルボニル化合物を反応させる工程を有することを特徴とするケチミン構造を有する有機ケイ素化合物の製造方法、
Ｒ2は、それぞれ独立して、炭素数１～１０のアルキル基または炭素数６～１０のアリール基を表し、
Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基または炭素数６～１０のアリール基を表し、
ｎは、１～３の整数、ｍは、１～１２の整数を表す。）
２． 蒸留精製により前記式（１）で表される有機ケイ素化合物を取り出す工程を有する１のケチミン構造を有する有機ケイ素化合物の製造方法、
３． 前記無機吸着剤が、シリカ、水酸化アルミニウム、ハイドロタルサイト、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸アルミニウム、酸化アルミニウムおよび酸化マグネシウムから選ばれる１種または２種以上である１または２のケチミン構造を有する有機ケイ素化合物の製造方法、
４． 前記Ｒ1が、メチル基またはエチル基であり、前記Ｒ3が、イソブチル基であり、前記Ｒ4が、メチル基であり、前記ｍおよびｎがいずれも３である１～３のいずれかのケチミン構造を有する有機ケイ素化合物の製造方法
を提供する。
本発明の製造方法によれば、ケチミン構造を有する有機ケイ素化合物を高収率で得ることができる。
以下、本発明について具体的に説明する。
本発明に係る下記式（１）で表されるケチミン構造を有する有機ケイ素化合物の製造方法は、無機吸着剤の存在下、下記式（２）で表されるアミノ基含有有機ケイ素化合物と下記式（３）で表されるカルボニル化合物を反応させる工程を有するものである。
本発明に係る下記式（１）で表されるケチミン構造を有する有機ケイ素化合物の製造方法は、無機吸着剤の存在下、下記式（２）で表されるアミノ基含有有機ケイ素化合物と下記式（３）で表されるカルボニル化合物を反応させる工程を有するものである。
上記各式において、Ｒ1は、それぞれ独立して、炭素数１～１０のアルキル基または炭素数６～１０のアリール基を表し、Ｒ2は、それぞれ独立して、炭素数１～１０のアルキル基または炭素数６～１０のアリール基を表し、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基または炭素数６～１０のアリール基を表す。
炭素数１～１０のアルキル基としては、直鎖状、環状、分枝状のいずれでもよく、その具体例としては、メチル、エチル、ｎ－プロピル、ｉ－プロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓ－ブチル、ｔ－ブチル、ｎ－ペンチル、ネオペンチル、ｎ－ヘキシル、ｎ－ヘプチル、ｎ－オクチル、ｎ－ノニル、ｎ－デシル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル基等が挙げられる。
炭素数６～１０のアリール基の具体例としては、フェニル、α－ナフチル、β－ナフチル基等が挙げられる。
これらの中でも、Ｒ1およびＲ2としては、直鎖のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基がより好ましい。
また、Ｒ3およびＲ4としては、水素原子、炭素数１～６のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基がより好ましく、メチル基、イソブチル基がより一層好ましく、メチル基およびイソブチル基の組み合わせがさらに好ましい。
炭素数６～１０のアリール基の具体例としては、フェニル、α－ナフチル、β－ナフチル基等が挙げられる。
これらの中でも、Ｒ1およびＲ2としては、直鎖のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基がより好ましい。
また、Ｒ3およびＲ4としては、水素原子、炭素数１～６のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基がより好ましく、メチル基、イソブチル基がより一層好ましく、メチル基およびイソブチル基の組み合わせがさらに好ましい。
ｎは１～３の整数を表すが、２または３が好ましく、３がより好ましい。
ｍは１～１２の整数を表すが、２または３が好ましく、３がより好ましい。
ｍは１～１２の整数を表すが、２または３が好ましく、３がより好ましい。
特に、本発明においては、下記式（４）または（５）で表される有機ケイ素化合物が好ましい。
反応時に用いられる式（２）で表されるアミノ基含有有機ケイ素化合物の具体例としては、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルジメトキシメチルシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
一方、式（３）で表されるカルボニル化合物の具体例としては、ジメチルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、プロピオンアルデヒド等が挙げられる。
一方、式（３）で表されるカルボニル化合物の具体例としては、ジメチルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、プロピオンアルデヒド等が挙げられる。
反応時において、上記アミノ基含有有機ケイ素化合物と上記カルボニル化合物の反応は、モル比にしてカルボニル化合物が過剰の条件で行うことが好ましい。
この反応は無溶媒でも進行するが、溶媒を用いることもできる。使用可能な溶媒の具体例としては、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、イソオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒などが挙げられるが、中でもトルエンが好ましい。なお、溶媒は、１種を単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。
この反応は無溶媒でも進行するが、溶媒を用いることもできる。使用可能な溶媒の具体例としては、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、イソオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒などが挙げられるが、中でもトルエンが好ましい。なお、溶媒は、１種を単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。
反応時は、アミノ基含有有機ケイ素化合物とカルボニル化合物の反応により生成する水を反応系内から除く必要がある。
水を除く方法は、特に限定されるものではないが、系内に過剰に存在するカルボニル化合物または溶媒を、Ｄｅａｎ－Ｓｔａｒｋ装置等を用いて還流することにより留去する方法が好ましい。
反応温度は、水を留去できる限りに特に限定されるものではないが、１００～２００℃が好ましい。
水を除く方法は、特に限定されるものではないが、系内に過剰に存在するカルボニル化合物または溶媒を、Ｄｅａｎ－Ｓｔａｒｋ装置等を用いて還流することにより留去する方法が好ましい。
反応温度は、水を留去できる限りに特に限定されるものではないが、１００～２００℃が好ましい。
本発明の製造方法では、無機吸着剤の存在下で、上記式（２）で表されるアミノ基含有有機ケイ素化合物と上記式（３）で表されるカルボニル化合物を反応させる。
無機吸着剤を使用しない場合、副反応が同時に進行し、例えば、式（７）の有機ケイ素化合物の場合、式（８）～（１１）で表される有機ケイ素化合物が生成し、目的物の回収率が低下する。
また、純度を高めるために、得られた式（１）で表される化合物を蒸留精製することが好ましい。
無機吸着剤を使用しない場合、副反応が同時に進行し、例えば、式（７）の有機ケイ素化合物の場合、式（８）～（１１）で表される有機ケイ素化合物が生成し、目的物の回収率が低下する。
また、純度を高めるために、得られた式（１）で表される化合物を蒸留精製することが好ましい。
無機吸着剤としては、例えば、シリカ、水酸化アルミニウム、ハイドロタルサイト、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸アルミニウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム・酸化マグネシウム固溶体等が挙げられ、これらは単独で用いても、２種以上組み合わせて用いてもよい。
これらの無機吸着剤は、例えば、市販の協和化学工業（株）製キョーワードシリーズ（キョーワード１００、２００、３００、５００、６００、７００、２０００）として入手できる。中でも、処理効率の観点から、合成ハイドロタルサイトであるキョーワード５００（Ｍｇ6Ａｌ2（ＯＨ）16ＣＯ3・ｍＨ2Ｏ）が特に好ましい。
これらの無機吸着剤は、例えば、市販の協和化学工業（株）製キョーワードシリーズ（キョーワード１００、２００、３００、５００、６００、７００、２０００）として入手できる。中でも、処理効率の観点から、合成ハイドロタルサイトであるキョーワード５００（Ｍｇ6Ａｌ2（ＯＨ）16ＣＯ3・ｍＨ2Ｏ）が特に好ましい。
無機吸着剤の使用量は、処理効率を高めるとともに、処理後の無機吸着剤の除去を容易にすることを考慮すると、式（３）で表される有機ケイ素化合物１００質量部に対し、０．００５～５．０質量部が好ましく、０．０１～０．２質量部がより好ましい。
以下、実施例および比較例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
なお、以下に示す収率は下記式（Ｉ）から計算した値である。
（ケチミン構造を有する有機ケイ素化合物の最終回収量（ｇ））／（ケチミン構造を有する有機ケイ素化合物の分子量（ｇ／ｍｏｌ）×反応に用いたアミノ基含有有機ケイ素化合物の物質量（ｍｏｌ））・・・（Ｉ）
なお、以下に示す収率は下記式（Ｉ）から計算した値である。
（ケチミン構造を有する有機ケイ素化合物の最終回収量（ｇ））／（ケチミン構造を有する有機ケイ素化合物の分子量（ｇ／ｍｏｌ）×反応に用いたアミノ基含有有機ケイ素化合物の物質量（ｍｏｌ））・・・（Ｉ）
［実施例１］有機ケイ素化合物（６）の製造
撹拌機、還流冷却器、滴下ロートおよび温度計を備えた５Ｌセパラブルフラスコに、メチルイソブチルケトン２０２８ｇ（１８．４モル）とキョーワード１００（協和化学工業（株）製、以下同様）１．２ｇ（メチルイソブチルケトンに対して０．０６質量％）を納め、３－アミノプロピルトリメトキシシラン５４０ｇ（３．０１モル）を内温１０５～１１０℃で１時間かけて滴下した後、１１５℃で８時間撹拌した。滴下中および熟成中は、生成する水をメチルイソブチルケトンと共に還流させることによって抜き出した。ガスクロマトグラフで分析した結果、３－アミノプロピルトリメトキシシランのピークが消滅しており、熟成後に１４００ｇの淡黄色透明液体が得られた。得られた溶液を１０Ｔｏｒｒ、１７０℃の条件下で蒸留精製し、無色透明液体７２０ｇ（収率９１．５％）を得た。1Ｈ－ＮＭＲにより、上記式（６）で表される有機ケイ素化合物であることを確認した。
［実施例２］
キョーワード１００に代えて同質量部のキョーワード２００を使用した以外は、実施例１と同様にして上記式（６）で表される有機ケイ素化合物を製造した。
キョーワード１００に代えて同質量部のキョーワード２００を使用した以外は、実施例１と同様にして上記式（６）で表される有機ケイ素化合物を製造した。
［実施例３］
キョーワード１００に代えて同質量部のキョーワード３００を使用した以外は、実施例１と同様にして上記式（６）で表される有機ケイ素化合物を製造した。
キョーワード１００に代えて同質量部のキョーワード３００を使用した以外は、実施例１と同様にして上記式（６）で表される有機ケイ素化合物を製造した。
［実施例４］
キョーワード１００に代えて同質量部のキョーワード５００を使用した以外は、実施例１と同様にして上記式（６）で表される有機ケイ素化合物を製造した。
キョーワード１００に代えて同質量部のキョーワード５００を使用した以外は、実施例１と同様にして上記式（６）で表される有機ケイ素化合物を製造した。
［実施例５］
キョーワード１００に代えて同質量部のキョーワード６００を使用した以外は、実施例１と同様にして上記式（６）で表される有機ケイ素化合物を製造した。
キョーワード１００に代えて同質量部のキョーワード６００を使用した以外は、実施例１と同様にして上記式（６）で表される有機ケイ素化合物を製造した。
［実施例６］
キョーワード１００に代えて同質量部のキョーワード７００を使用した以外は、実施例１と同様にして上記式（６）で表される有機ケイ素化合物を製造した。
キョーワード１００に代えて同質量部のキョーワード７００を使用した以外は、実施例１と同様にして上記式（６）で表される有機ケイ素化合物を製造した。
［実施例７］
キョーワード１００に代えて同質量部のキョーワード２０００を使用した以外は、実施例１と同様にして上記式（６）で表される有機ケイ素化合物を製造した。
キョーワード１００に代えて同質量部のキョーワード２０００を使用した以外は、実施例１と同様にして上記式（６）で表される有機ケイ素化合物を製造した。
［比較例１］
キョーワード１００使用をしなかったこと以外は、実施例１と同様にして上記式（６）で表される有機ケイ素化合物を製造した。
キョーワード１００使用をしなかったこと以外は、実施例１と同様にして上記式（６）で表される有機ケイ素化合物を製造した。
［比較例２］
撹拌機、還流冷却器、滴下ロートおよび温度計を備えた５Ｌセパラブルフラスコに、メチルイソブチルケトン２０２８ｇ（１８．４モル）を納め、塩素原子含有量が５ｐｐｍである３－アミノプロピルトリメトキシシラン５４０ｇ（３．０１モル）を内温１０５～１１０℃で１時間かけて滴下した後、１１５℃で６時間撹拌した。滴下中および熟成中は、生成する水をメチルイソブチルケトンと共に還流させることによって抜き出した。ガスクロマトグラフで分析した結果、３－アミノプロピルトリメトキシシランのピークが消滅しており、熟成後に１６６０ｇの淡黄色透明液体が得られた。
得られた溶液に、キョーワード１００ １．２ｇ（メチルイソブチルケトンに対して０．０６質量％）を添加し、窒素雰囲気下、室温で６時間撹拌した後、得られた溶液から加圧濾過によりキョーワード１００を除いた。得られた溶液を１０Ｔｏｒｒ、１７０℃の条件下で蒸留精製し、無色透明液体６９３ｇを得た。1Ｈ－ＮＭＲにより、上記式（６）で表される有機ケイ素化合物であることを確認した。
撹拌機、還流冷却器、滴下ロートおよび温度計を備えた５Ｌセパラブルフラスコに、メチルイソブチルケトン２０２８ｇ（１８．４モル）を納め、塩素原子含有量が５ｐｐｍである３－アミノプロピルトリメトキシシラン５４０ｇ（３．０１モル）を内温１０５～１１０℃で１時間かけて滴下した後、１１５℃で６時間撹拌した。滴下中および熟成中は、生成する水をメチルイソブチルケトンと共に還流させることによって抜き出した。ガスクロマトグラフで分析した結果、３－アミノプロピルトリメトキシシランのピークが消滅しており、熟成後に１６６０ｇの淡黄色透明液体が得られた。
得られた溶液に、キョーワード１００ １．２ｇ（メチルイソブチルケトンに対して０．０６質量％）を添加し、窒素雰囲気下、室温で６時間撹拌した後、得られた溶液から加圧濾過によりキョーワード１００を除いた。得られた溶液を１０Ｔｏｒｒ、１７０℃の条件下で蒸留精製し、無色透明液体６９３ｇを得た。1Ｈ－ＮＭＲにより、上記式（６）で表される有機ケイ素化合物であることを確認した。
［実施例８］有機ケイ素化合物（７）の製造
撹拌機、還流冷却器、滴下ロートおよび温度計を備えた５Ｌセパラブルフラスコに、メチルイソブチルケトン２０２８ｇ（１８．４モル）とキョーワード１００ １．２ｇ（メチルイソブチルケトンに対して０．０６質量％）を納め、塩素原子含有量が５ｐｐｍである３－アミノプロピルトリエトキシシラン６６７ｇ（３．０１モル）を内温１０５～１１０℃で１時間かけて滴下した後、１１５℃で８時間撹拌した。滴下中および熟成中は、生成する水をメチルイソブチルケトンと共に還流させることによって抜き出した。ガスクロマトグラフで分析した結果、３－アミノプロピルトリエトキシシランのピークが消滅しており、熟成後に１５５０ｇの淡黄色透明液体が得られた。得られた溶液を１０Ｔｏｒｒ、１７０℃の条件下で蒸留精製し、無色透明液体８３５ｇ（収率９１．４％）を得た。1Ｈ－ＮＭＲにより、上記式（７）で表される有機ケイ素化合物であることを確認した。
［実施例９］
キョーワード１００に代えて同質量部のキョーワード２００を使用した以外は、実施例９と同様にして上記式（７）で表される有機ケイ素化合物を製造した。
キョーワード１００に代えて同質量部のキョーワード２００を使用した以外は、実施例９と同様にして上記式（７）で表される有機ケイ素化合物を製造した。
［実施例１０］
キョーワード１００に代えて同質量部のキョーワード３００を使用した以外は、実施例９と同様の操作を行った。
キョーワード１００に代えて同質量部のキョーワード３００を使用した以外は、実施例９と同様の操作を行った。
［実施例１１］
キョーワード１００に代えて同質量部のキョーワード５００を使用した以外は、実施例９と同様にして上記式（７）で表される有機ケイ素化合物を製造した。
キョーワード１００に代えて同質量部のキョーワード５００を使用した以外は、実施例９と同様にして上記式（７）で表される有機ケイ素化合物を製造した。
［実施例１２］
キョーワード１００に代えて同質量部のキョーワード６００を使用した以外は、実施例９と同様にして上記式（７）で表される有機ケイ素化合物を製造した。
キョーワード１００に代えて同質量部のキョーワード６００を使用した以外は、実施例９と同様にして上記式（７）で表される有機ケイ素化合物を製造した。
［実施例１３］
キョーワード１００に代えて同質量部のキョーワード７００を使用した以外は、実施例９と同様にして上記式（７）で表される有機ケイ素化合物を製造した。
キョーワード１００に代えて同質量部のキョーワード７００を使用した以外は、実施例９と同様にして上記式（７）で表される有機ケイ素化合物を製造した。
［実施例１４］
キョーワード１００に代えて同質量部のキョーワード２０００を使用した以外は、実施例９と同様にして上記式（７）で表される有機ケイ素化合物を製造した。
キョーワード１００に代えて同質量部のキョーワード２０００を使用した以外は、実施例９と同様にして上記式（７）で表される有機ケイ素化合物を製造した。
［比較例３］
キョーワード１００使用をしなかったこと以外は、実施例８と同様にして上記式（７）で表される有機ケイ素化合物を製造した。
キョーワード１００使用をしなかったこと以外は、実施例８と同様にして上記式（７）で表される有機ケイ素化合物を製造した。
［比較例４］
撹拌機、還流冷却器、滴下ロートおよび温度計を備えた５Ｌセパラブルフラスコに、メチルイソブチルケトン２０２８ｇ（１８．４モル）を納め、塩素原子含有量が５ｐｐｍである３－アミノプロピルトリエトキシシラン６６７ｇ（３．０１モル）を内温１０５～１１０℃で１時間かけて滴下した後、１１５℃で６時間撹拌した。滴下中および熟成中は、生成する水をメチルイソブチルケトンと共に還流させることによって抜き出した。ガスクロマトグラフで分析した結果、３－アミノプロピルトリエトキシシランのピークが消滅しており、熟成後に２０７０ｇの淡黄色透明液体が得られた。
得られた溶液にキョーワード１００ １．２ｇ（メチルイソブチルケトンに対して０．０６質量％）を添加し、窒素雰囲気下、室温で６時間撹拌した後、得られた溶液から加圧濾過によりキョーワード１００を除いた。
得られた溶液を１０Ｔｏｒｒ、１７０℃の条件下で蒸留精製し、無色透明液体８０２ｇ（収率８７．８％）を得た。1Ｈ－ＮＭＲにより、上記式（７）で表される有機ケイ素化合物であることを確認した。
撹拌機、還流冷却器、滴下ロートおよび温度計を備えた５Ｌセパラブルフラスコに、メチルイソブチルケトン２０２８ｇ（１８．４モル）を納め、塩素原子含有量が５ｐｐｍである３－アミノプロピルトリエトキシシラン６６７ｇ（３．０１モル）を内温１０５～１１０℃で１時間かけて滴下した後、１１５℃で６時間撹拌した。滴下中および熟成中は、生成する水をメチルイソブチルケトンと共に還流させることによって抜き出した。ガスクロマトグラフで分析した結果、３－アミノプロピルトリエトキシシランのピークが消滅しており、熟成後に２０７０ｇの淡黄色透明液体が得られた。
得られた溶液にキョーワード１００ １．２ｇ（メチルイソブチルケトンに対して０．０６質量％）を添加し、窒素雰囲気下、室温で６時間撹拌した後、得られた溶液から加圧濾過によりキョーワード１００を除いた。
得られた溶液を１０Ｔｏｒｒ、１７０℃の条件下で蒸留精製し、無色透明液体８０２ｇ（収率８７．８％）を得た。1Ｈ－ＮＭＲにより、上記式（７）で表される有機ケイ素化合物であることを確認した。
表１に示されるように、本発明の製造方法で得られた各実施例の有機ケイ素化合物の収率は９０％以上であり、その回収率が良好であることがわかる。
Claims (4)
- 下記式（１）で表される有機ケイ素化合物を製造する方法であって、
無機吸着剤の存在下、下記式（２）で表されるアミノ基含有有機ケイ素化合物と下記式（３）で表されるカルボニル化合物を反応させる工程を有することを特徴とするケチミン構造を有する有機ケイ素化合物の製造方法。
Ｒ2は、それぞれ独立して、炭素数１～１０のアルキル基または炭素数６～１０のアリール基を表し、
Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基または炭素数６～１０のアリール基を表し、
ｎは、１～３の整数、ｍは、１～１２の整数を表す。）
- 蒸留精製により前記式（１）で表される有機ケイ素化合物を取り出す工程を有する請求項１記載のケチミン構造を有する有機ケイ素化合物の製造方法。
- 前記無機吸着剤が、シリカ、水酸化アルミニウム、ハイドロタルサイト、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸アルミニウム、酸化アルミニウムおよび酸化マグネシウムから選ばれる１種または２種以上である請求項１または２記載のケチミン構造を有する有機ケイ素化合物の製造方法。
- 前記Ｒ1が、メチル基またはエチル基であり、前記Ｒ3が、イソブチル基であり、前記Ｒ4が、メチル基であり、前記ｍおよびｎがいずれも３である請求項１～３のいずれか１項記載のケチミン構造を有する有機ケイ素化合物の製造方法。
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| TSUGE, 0 ET AL.: "Synthetic versatility of N- (silylmethyl)imines. Water-induced generation of N-protonated azomethine ylides of nonstabilized type and fluoride-induced generation of 2-azaallyl anions", BULLETIN OF THE CHEMICAL SOCIETY OF JAPAN, vol. 59, no. 8, 1986, pages 2537 - 2545, XP001012740 * |
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