WO2021060559A1 - 表示装置用前面板、フレキシブル有機エレクトロルミネッセンス表示装置、表示装置用積層体、および積層体 - Google Patents

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篤弘 小林
洋介 高坂
貴之 福田
和也 本田
佳奈 山本
善正 小川
佐藤　純
玄 古井
慶祐 山田
紗緒里 川口
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    • C08J2333/04—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters
    • C08J2333/06—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters of esters containing only carbon, hydrogen, and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C08J2333/08—Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K2102/00—Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
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    • H10K2102/311—Flexible OLED
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
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    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549—Organic PV cells

Definitions

  • the present disclosure relates to a front plate for a display device, a flexible organic electroluminescence display device, a laminate for a display device, and a laminate.
  • the front plate protects the display device from impacts and scratches, and is required to have strength, impact resistance, scratch resistance, etc. Further, the front plate for a flexible display is also required to have flexibility such as foldability (foldable), windability (rollable), and bendability (bendable). Therefore, in the front plate for a flexible display, the thickness of the base material layer tends to be reduced. However, if the thickness of the base material layer is reduced, the impact resistance may decrease. Therefore, it has been proposed to laminate a shock absorbing layer on the base material layer (for example, Patent Document 1).
  • the optical adhesive sheet has a hard layer having a shear elastic modulus within a predetermined range and a shear elastic modulus in order to improve the bending resistance of the optical adhesive sheet.
  • an optical filling bonding material having a soft layer in which is within a predetermined range Patent Document 2.
  • the shock resistance can be improved, but further improvement in the shock resistance is required.
  • the present disclosure has been made in view of the above circumstances, and includes a front plate for a display device having excellent impact resistance, a flexible organic electroluminescence display device provided with the front plate, a laminate for a display device used thereto, and a laminate.
  • the main purpose is to provide.
  • One embodiment of the present disclosure has a base material layer, an A layer, a shock absorbing layer, and a B layer in this order, and the A layer and the B layer are subjected to shear storage at a frequency of 950 Hz and a temperature of 23 ° C.
  • a front plate for a display device having an elastic modulus of 20 MPa or less, the shock absorbing layer having a tensile storage elastic modulus of 200 MPa or more and 5000 MPa or less at a frequency of 950 Hz and a temperature of 23 ° C., and a glass transition temperature of 50 ° C. or more.
  • the ratio of the tensile storage elastic modulus of the shock absorbing layer to the tensile storage elastic modulus of the base material layer at a frequency of 950 Hz and a temperature of 23 ° C. is 1.5 or more. Is preferable.
  • the base material layer is a polyimide resin base material or a glass base material.
  • the shock absorbing layer contains a urethane resin or a polyethylene terephthalate resin.
  • Another embodiment of the present disclosure comprises a flexible organic electroluminescence display device comprising an organic electroluminescence display panel and a front panel for the display device arranged on the observer side of the organic electroluminescence display panel.
  • Another embodiment of the present disclosure is a laminate for a display device used for a front plate for a display device, which has an A layer, a shock absorbing layer, and a B layer in this order, and the A layer and the above.
  • the shear storage elastic modulus at a frequency of 950 Hz and a temperature of 23 ° C. is 20 MPa or less
  • the shock absorbing layer the tensile storage elastic modulus at a frequency of 950 Hz and a temperature of 23 ° C. is 200 MPa or more and 5000 MPa or less
  • the glass transition temperature is Provided is a laminate for a display device having a temperature of 50 ° C. or higher.
  • Another embodiment of the present disclosure has an A layer, a shock absorbing layer, and a B layer in this order, and the A layer and the B layer have a shear storage elastic modulus of 20 MPa at a frequency of 950 Hz and a temperature of 23 ° C.
  • the shock absorbing layer contains a urethane resin, and the shock absorbing layer has a tensile storage elastic modulus of 200 MPa or more and 5000 MPa or less at a frequency of 950 Hz and a temperature of 23 ° C., and a glass transition temperature of 50 ° C. or more.
  • Provide a laminate Provide a laminate.
  • the member when expressing the mode of arranging another member on a certain member, when simply expressing “above” or “below”, unless otherwise specified, the member is in contact with the certain member. Including the case where another member is arranged directly above or directly below, and the case where another member is arranged above or below a certain member via another member. Further, in the present specification, when expressing the mode of arranging another member on the surface of a certain member, when simply expressing "on the surface side" or “on the surface”, unless otherwise specified, the certain member is used. It includes both the case where another member is arranged directly above or directly below the member so as to be in contact with each other, and the case where another member is arranged above or below one member via another member.
  • the front plate for the display device the flexible organic electroluminescence display device, the laminate for the display device, and the laminate in the present disclosure will be described in detail.
  • the front plate for display device in the present disclosure has a base material layer, an A layer, a shock absorbing layer, and a B layer in this order, and the A layer and the B layer have a frequency of 950 Hz.
  • the shear storage elastic modulus at a temperature of 23 ° C. is 20 MPa or less, and in the shock absorbing layer, the tensile storage elastic modulus at a frequency of 950 Hz and a temperature of 23 ° C. is 200 MPa or more and 5000 MPa or less, and the glass transition temperature is 50 ° C. or more.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a front plate for a display device in the present disclosure.
  • the display device front plate 1 has a base material layer 2, an A layer 3, a shock absorbing layer 4, and a B layer 5 in this order.
  • the A layer 3 and the B layer 5 have a predetermined shear storage elastic modulus
  • the shock absorbing layer 4 has a predetermined tensile storage elastic modulus and a glass transition temperature.
  • the shock absorbing layer absorbs the shock when a shock is applied to the front plate for the display device, and the shock resistance can be enhanced.
  • the base material layer is a glass base material, cracking of the glass base material can be suppressed.
  • the display device surface plate of the present disclosure is used for a rollable display, in addition to the above effects, the shear stress generated between the inside and the outside of the display device when wound is relaxed. This has the effect of making it difficult for various problems during winding due to the shear stress to occur.
  • the method for measuring the tensile storage elastic modulus is in the range of 0.01 GPa to 5 GPa. It is suitable for measuring the dynamic storage elastic modulus of the above, and it is said that it can measure up to about 10 GPa.
  • the method for measuring the shear storage elastic modulus is in the range of 0.1 MPa to 50 MPa.
  • the dynamic storage elastic modulus It is suitable for measuring the dynamic storage elastic modulus, and it is said that it is possible to measure a material having an elastic modulus of 50 MPa or more. That is, the tensile storage elastic modulus is suitable for a relatively hard layer, and the shear storage elastic modulus is suitable for a relatively soft layer.
  • the shear storage elastic modulus is specified for the A layer and the B layer, and the tensile storage elastic modulus is specified for the shock absorbing layer, and the A layer and the B layer are relatively soft layers. It can be said that the shock absorbing layer is a relatively hard layer.
  • the dynamic storage elastic modulus of the shock absorbing layer which is a relatively hard layer, is compared in the front plate for the display device in the present disclosure. It is self-evident that it is larger than the dynamic storage elastic modulus of the A layer and the B layer, which are soft layers. Therefore, it can be said that the A layer and the B layer are softer than the shock absorbing layer.
  • the impact resistance can be further improved by arranging the shock absorbing layer between the A layer and the B layer, which are softer than the shock absorbing layer. This is because the A layer and the B layer are softer than the shock absorbing layer and are easily deformed. Therefore, when an impact is applied to the front plate for the display device, the A layer and the B layer do not suppress the deformation of the shock absorbing layer. Since the shock absorbing layer is easily deformed, it is considered that a larger shock absorbing effect is exhibited.
  • the front plate for the display device in the present disclosure is excellent in impact resistance, the thickness of the base material layer can be reduced, and high flexibility can be realized. Therefore, the front plate for a display device in the present disclosure can be used as a front plate in a flexible display such as a foldable display, a rollable display, and a bendable display.
  • the glass transition temperature of the shock absorbing layer when the glass transition temperature of the shock absorbing layer is equal to or higher than a predetermined value, the state of the material contained in the shock absorbing layer does not suddenly change at the environmental temperature. Nevertheless, excellent impact resistance and flexibility can be maintained.
  • the shock absorbing layer in the present disclosure is a member having a predetermined tensile storage elastic modulus and a glass transition temperature, arranged between the A layer and the B layer, having shock absorbing properties, and having transparency. ..
  • the tensile storage elastic modulus of the shock absorbing layer at a frequency of 950 Hz and a temperature of 23 ° C. is 200 MPa or more and 5000 MPa or less, preferably 250 MPa or more and 4000 MPa or less, more preferably 300 MPa or more and 2000 MPa or less, and particularly preferably 300 MPa or more and 1000 MPa or less. Can be done. If the tensile storage elastic modulus of the shock absorbing layer is too large, the shock absorbing layer becomes hard, and when a shock is applied to the front plate for the display device, the shock absorbing layer becomes difficult to absorb the shock, and the shock absorbing performance deteriorates. There is a risk.
  • the shock absorbing layer becomes too soft and the shock absorbing layer is easily deformed when a shock is applied to the front plate for the display device, which is sufficient.
  • the thickness of the shock absorbing layer is increased in order to maintain the strength, the thickness of the entire front plate for the display device is increased, and the flexibility may be impaired.
  • the tensile storage elastic modulus of the shock absorbing layer at a frequency of 950 Hz and a temperature of 23 ° C. is obtained by measuring the tensile storage elastic modulus at a frequency of 950 Hz and a temperature of 23 ° C. three times and using the arithmetic mean value of the three measured values.
  • the frequency of 950 Hz is included in the frequency range in which the surface of the front plate for the display device is deformed by several ⁇ m to several tens of ⁇ m when the object is freely dropped from a height of several cm. This is because it is included in the frequency range that damages members such as the display panel arranged inside the front plate for the display device in the display device.
  • the tensile storage elastic modulus E'of the shock absorbing layer can be measured by a dynamic viscoelasticity measuring device (DMA).
  • DMA dynamic viscoelasticity measuring device
  • the shock absorbing layer is punched into a rectangular shape of 40 mm ⁇ 5 mm to obtain a measurement sample.
  • this measurement sample is attached to the tensile measurement jig of the dynamic viscoelasticity measuring device.
  • the measuring jig is provided with chuck jigs for sandwiching the film on the upper and lower sides, and one of the ends of the rectangular measurement sample is attached to the upper chuck and the other is attached to the lower chuck.
  • the pulling direction is the longitudinal direction of the measurement sample.
  • the distance between the chucks is 20 mm, and the measurement sample is adjusted and fixed so that there is no slack and the measurement sample is not pulled too much.
  • a tensile load static load
  • a longitudinal vibration having a frequency of 950 Hz is applied by a tensile method (sine wave strain, tension mode, strain amount: automatic strain) to obtain a tensile storage elastic modulus E. 'Measure.
  • a tensile load static load
  • a longitudinal vibration having a frequency of 950 Hz is applied by a tensile method (sine wave strain, tension mode, strain amount: automatic strain) to obtain a tensile storage elastic modulus E. 'Measure.
  • the dynamic viscoelasticity measuring device for example, Rheogel-E4000 manufactured by UBM can be used. The specific measurement conditions in the above method are shown below.
  • the base material layer, the A layer, and the B layer shall be peeled off from the shock absorbing layer before the measurement.
  • the base material layer, the A layer, and the B layer can be peeled off as follows, for example. First, the front plate for the display device is heated with a dryer, the cutting edge of the cutter is inserted into a portion that seems to be the interface between the shock absorbing layer and another layer, and the display device is slowly peeled off. By repeating such heating and peeling, the base material layer, the A layer, and the B layer can be peeled from the shock absorbing layer. Even if there is such a peeling step, it does not have a great influence on the measurement.
  • the glass transition temperature of the shock absorbing layer can be 50 ° C. or higher, preferably 60 ° C. or higher, and more preferably 80 ° C. or higher.
  • the glass transition temperature of the shock absorbing layer can be, for example, 200 ° C. or lower. Since the glass transition temperature of the shock absorbing layer is within the above range, the state of the material contained in the shock absorbing layer does not change suddenly at the environmental temperature, so that excellent flexibility is maintained regardless of the environmental temperature. be able to.
  • the glass transition temperature of the shock absorbing layer means a value measured by a method (DMA method) based on the peak top value of the tensile loss tangent (tan ⁇ ).
  • DMA method a method based on the peak top value of the tensile loss tangent (tan ⁇ ).
  • the shock absorbing layer is 40 mm ⁇ 5 mm.
  • a measurement sample is obtained by punching in a rectangular shape. Then, the measurement sample is attached to a tensile measurement jig of a dynamic viscoelasticity measuring device.
  • a tool is provided, and one end of the rectangular measurement sample is fixed to the upper chuck and the other end to the lower chuck so that the pulling direction is the longitudinal direction of the measurement sample.
  • the distance between the chucks is 20 mm, and the measurement sample is adjusted and fixed so that there is no slack and the measurement sample is not pulled too much.
  • a tensile load static load
  • vibration with a frequency of 1 Hz is applied, dynamic viscoelasticity measurement is performed in the range of -50 ° C or higher and 200 ° C or lower, and tensile storage of the shock absorbing layer at each temperature is performed.
  • the elastic modulus E', the tensile loss elastic modulus E', and the tensile loss tangent tan ⁇ are measured.
  • the glass transition temperature of the shock absorbing layer is the temperature at which the tensile loss tangent tan ⁇ peaks in the range of -50 ° C or higher and 200 ° C or lower.
  • the frequency is set to 1 Hz in order to confirm the damage of the flexible display by the folding test because the folding operation of the flexible display is an operation in this frequency range.
  • a dynamic viscoelasticity measuring device For example, Rheogel-E4000 manufactured by UBM can be used. Specific measurement conditions in the above method are shown below.
  • the shock absorbing layer has transparency.
  • the total light transmittance of the shock absorbing layer is, for example, preferably 85% or more, more preferably 88% or more, and further preferably 90% or more. Due to the high total light transmittance as described above, a front plate for a display device having good transparency can be obtained.
  • the total light transmittance of the shock absorbing layer can be measured in accordance with JIS K7361-1, and can be measured by, for example, a haze meter HM150 manufactured by Murakami Color Technology Research Institute.
  • the haze of the shock absorbing layer is, for example, preferably 5% or less, more preferably 2% or less, and further preferably 1% or less. Due to such low haze, it is possible to obtain a front plate for a display device having good transparency.
  • the haze of the shock absorbing layer can be measured in accordance with JIS K-7136, and can be measured by, for example, a haze meter HM150 manufactured by Murakami Color Technology Research Institute.
  • the material of the shock absorbing layer is not particularly limited as long as it satisfies the above-mentioned tensile storage elastic modulus and glass transition temperature and has transparency, and examples thereof include urethane-based resin and polyethylene terephthalate-based resin. Be done. Of these, urethane-based resins are preferable.
  • the urethane resin By using the urethane resin, the tensile storage elastic modulus and the shear storage elastic modulus of the shock absorbing layer can be reduced within the above ranges, that is, the shock absorbing layer can be easily deformed, and the shock absorbing performance can be reduced. This is because it can be enhanced.
  • Urethane-based resin is a resin containing urethane bonds.
  • the urethane-based resin include a cured product of an ionizing radiation-curable urethane-based resin composition and a cured product of a thermosetting urethane-based resin composition.
  • a cured product of an ionizing radiation curable urethane resin composition is preferable from the viewpoint of obtaining high hardness, fast curing speed, and excellent mass productivity.
  • the thermosetting urethane resin composition can contain, for example, a polyol compound and an isocyanate compound.
  • the polyol compound and the isocyanate compound may be any of a monomer, an oligomer, and a prepolymer.
  • the ionizing radiation curable urethane resin composition can contain, for example, urethane (meth) acrylate.
  • the urethane (meth) acrylate may be any of a monomer, an oligomer, and a prepolymer.
  • the number of (meth) acryloyl groups (number of functional groups) in the urethane (meth) acrylate is, for example, preferably 2 or more and 4 or less, and more preferably 2 or more and 3 or less. If the number of (meth) acryloyl groups in the urethane (meth) acrylate is small, the hardness may decrease. Further, if the number of (meth) acryloyl groups in the urethane (meth) acrylate is large, the curing shrinkage becomes large, the shock absorbing layer is curled, and the shock absorbing layer may be cracked at the time of bending.
  • (meth) acrylate means including both “acrylate” and “methacrylate”
  • (meth) acryloyl group includes both “acryloyl group” and “methacryloyl group”. Meaning.
  • the weight average molecular weight of urethane (meth) acrylate is, for example, preferably 1500 or more and 20000 or less, and more preferably 2000 or more and 15000 or less. If the weight average molecular weight of the urethane (meth) acrylate is too small, the impact resistance may decrease. Further, if the weight average molecular weight of the urethane (meth) acrylate is too large, the viscosity of the ionizing radiation curable urethane resin composition may increase and the coatability may deteriorate.
  • the weight average molecular weight of urethane (meth) acrylate refers to a value obtained in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC).
  • the urethane-based resin is a cured product of an ionizing radiation-curable urethane-based resin composition and the ionizing radiation-curable urethane-based resin composition contains urethane (meth) acrylate
  • the urethane-based resin is derived from urethane (meth) acrylate. It has a repeating unit with a structure. Examples of the repeating unit having a structure derived from urethane (meth) acrylate include a structure represented by the following general formulas (1), (2), (3) or (4).
  • R 1 represents a branched alkyl group
  • R 2 represents a branched alkyl group or a saturated cyclic aliphatic group
  • R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group. It represents a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group
  • m represents an integer of 0 or more
  • x represents an integer of 0 to 3.
  • R 1 represents a branched alkyl group
  • R 2 represents a branched alkyl group or a saturated cyclic aliphatic group
  • R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group. It represents a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group
  • n represents an integer of 1 or more
  • x represents an integer of 0 to 3.
  • R 1 represents a branched alkyl group
  • R 2 represents a branched alkyl group or a saturated cyclic aliphatic group
  • R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group. It represents a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group
  • m represents an integer of 0 or more
  • x represents an integer of 0 to 3.
  • R 1 represents a branched alkyl group
  • R 2 represents a branched alkyl group or a saturated cyclic aliphatic group
  • R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group. It represents a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group
  • n represents an integer of 1 or more
  • x represents an integer of 0 to 3.
  • the structure of the polymer chain (repeating unit) in which the resin constituting the shock absorption layer is formed is determined by, for example, pyrolysis gas chromatography-mass spectrometry (GC-MS) and Fourier transform infrared spectroscopy. It can be determined by analyzing the shock absorbing layer by the method (FT-IR). In particular, thermal decomposition GC-MS is useful because it can detect a monomer unit contained in the shock absorbing layer as a monomer component.
  • GC-MS pyrolysis gas chromatography-mass spectrometry
  • FT-IR Fourier transform infrared spectroscopy
  • the shock absorbing layer may contain, for example, an ultraviolet absorber, a spectral transmittance adjusting agent, an antifouling agent, inorganic particles, a leveling agent, a polymerization initiator and the like, if necessary.
  • the thickness of the shock absorbing layer is not particularly limited as long as it can exhibit shock absorbing performance, and is preferably, for example, 50 ⁇ m or more and 150 ⁇ m or less, more preferably 70 ⁇ m or more and 120 ⁇ m or less, and further. It can be preferably 80 ⁇ m or more and 100 ⁇ m or less. If the thickness of the shock absorbing layer is too thin, sufficient shock absorbing performance may not be obtained. Further, if the shock absorbing layer is too thick, the flexibility may be impaired.
  • the thickness of the shock absorbing layer is measured from a cross section in the thickness direction of the front plate for a display device observed by a transmission electron microscope (TEM), a scanning electron microscope (SEM), or a scanning transmission electron microscope (STEM). It can be the average value of the thicknesses of any 10 points obtained in the above. The same can be applied to the method for measuring the thickness of other layers of the front plate for a display device.
  • TEM transmission electron microscope
  • SEM scanning electron microscope
  • STEM scanning transmission electron microscope
  • shock absorbing layer for example, a film-shaped shock absorbing layer may be used. Further, for example, the shock absorbing layer composition may be applied onto the support to form the shock absorbing layer.
  • Layers A and B are members having a predetermined shear storage elastic modulus, arranged on both sides of the shock absorbing layer, respectively, and having transparency.
  • the shear storage elastic modulus of the A layer and the B layer at a frequency of 950 Hz and a temperature of 23 ° C. can be 20 MPa or less, preferably 18 MPa or less, and more preferably 15 MPa or less.
  • the layer can be made softer than the shock absorbing layer. Therefore, when an impact is applied to the front plate for the display device, the impact absorbing layer can be easily deformed, and the impact resistance can be improved.
  • the shear storage elastic modulus of the A layer and the B layer is, for example, preferably 0.05 MPa or more, more preferably 0.5 MPa or more, and further preferably 3 MPa or more.
  • the shear storage elastic modulus of the A layer and the B layer is in the above range, and the impact absorption can be enhanced by having a certain degree of hardness.
  • the shear storage elastic moduli of the A layer and the B layer may be the same or different from each other.
  • the shear storage elastic modulus of the A layer and the B layer at a frequency of 950 Hz and a temperature of 23 ° C. is the arithmetic mean value of the three measured values obtained by measuring the shear storage elastic modulus at a frequency of 950 Hz and a temperature of 23 ° C. three times. To do.
  • the shear storage elastic modulus G'of the A layer and the B layer can be measured by a dynamic viscoelasticity measuring device (DMA).
  • DMA dynamic viscoelasticity measuring device
  • the A layer or the B layer is punched into a rectangular shape of 10 mm ⁇ 5 mm, and a measurement sample is obtained. To get.
  • two measurement samples are prepared and attached to the solid shear jig of the dynamic viscoelasticity measuring device.
  • the solid shear jig has three plates in the vertical direction, that is, one metal middle plate having a thickness of 1 mm, and two L-shaped plates arranged on both sides of the middle plate.
  • the metal outer plate of the above is provided, one measurement sample is sandwiched between the middle plate and one outer plate, and the other measurement sample is sandwiched between the middle plate and the other outer plate. Then, a solid shearing jig is installed in the dynamic viscoelasticity measuring device at a distance between chucks of 20 mm, and in an environment of a temperature of 23 ° C. A longitudinal vibration with a frequency of 950 Hz is applied to the plate, and the shear storage elastic modulus G'is measured.
  • the dynamic viscoelasticity measuring device for example, Rheogel-E4000 manufactured by UBM can be used. The specific measurement conditions in the above method are shown below.
  • the glass transition temperature of the A layer and the B layer is preferably 0 ° C. or higher, particularly preferably 35 ° C. or higher, particularly 55 ° C. or higher.
  • the glass transition temperature of the A layer and the B layer can be, for example, 120 ° C. or lower. Since the glass transition temperature of the A layer and the B layer is in the above range, the state of the material contained in the A layer and the B layer does not change suddenly at the environmental temperature, so that it is excellent in flexibility regardless of the environmental temperature. Can maintain sex.
  • the glass transition temperature of the A layer and the B layer is a value measured by a method (DMA method) based on the peak top value of the shear loss tangent (tan ⁇ ).
  • DMA method dynamic viscoelasticity measuring device
  • the solid shear jig has three plates in the vertical direction, that is, one metal middle plate having a thickness of 1 mm, and two L-shaped plates arranged on both sides of the middle plate.
  • the metal outer plate of the above is provided, one measurement sample is sandwiched between the middle plate and one outer plate, and the other measurement sample is sandwiched between the middle plate and the other outer plate.
  • a solid shearing jig is installed in the dynamic viscoelasticity measuring device at a distance between chucks of 20 mm, and the strain amount is 1% on the two outer plates while fixing the pulling plate in the range of -50 ° C or higher and 200 ° C or lower.
  • a longitudinal vibration with a frequency of 1 Hz is applied to the outer plate to perform dynamic viscoelasticity measurement, and the shear storage elastic modulus G'at each temperature is measured.
  • the dynamic viscoelasticity measuring device for example, Rheogel-E4000 manufactured by UBM can be used. The specific measurement conditions in the above method are shown below.
  • the materials of the A layer and the B layer are not particularly limited as long as they satisfy the above-mentioned shear storage elastic modulus and have transparency, but among them, a pressure-sensitive adhesive, that is, a pressure-sensitive adhesive (PSA) is used. It is preferable to have. Since the pressure-sensitive adhesive is relatively soft, the shear storage elastic modulus of the A layer and the B layer can be reduced as in the above range by using the pressure-sensitive adhesive.
  • PSA pressure-sensitive adhesive
  • the materials of the A layer and the B layer may be the same or different from each other.
  • the pressure-sensitive adhesive used for the A layer is particularly limited as long as it is a pressure-sensitive adhesive that satisfies the above-mentioned shear storage elasticity, has transparency, and can bond the above-mentioned shock absorbing layer and the base material layer.
  • an acrylic pressure-sensitive adhesive, a silicone-based pressure-sensitive adhesive, a rubber-based pressure-sensitive adhesive, a urethane-based pressure-sensitive adhesive, and the like can be mentioned, and are appropriately selected according to the materials of the shock absorbing layer and the base material layer. can do.
  • acrylic adhesives and silicone adhesives are preferable. This is because it has excellent transparency, weather resistance, durability, heat resistance, and low cost.
  • the adhesive is not particularly limited as long as it can adhere to the layers of the above, and examples thereof include acrylic adhesives, silicone adhesives, rubber adhesives, urethane adhesives and the like.
  • the material of the above-mentioned shock absorbing layer and any layer can be appropriately selected. Of these, acrylic adhesives and silicone adhesives are preferable. This is because it has excellent transparency, weather resistance, durability, heat resistance, and low cost.
  • the thickness of the A layer and the B layer is, for example, preferably 10 ⁇ m or more and 100 ⁇ m or less, more preferably 25 ⁇ m or more and 80 ⁇ m or less, and further preferably 40 ⁇ m or more and 60 ⁇ m or less. If the thicknesses of the A layer and the B layer are too thin, the effect of easily deforming the shock absorbing layer when an impact is applied to the front plate for the display device may not be sufficiently obtained. Further, if the thickness of the A layer and the B layer is too thick, the flexibility may be impaired.
  • the thicknesses of the A layer and the B layer may be the same or different from each other.
  • a layer and the B layer for example, film-shaped A layer and B layer may be used. Further, for example, the A layer composition or the B layer composition may be applied on the support or the shock absorbing layer to form the A layer or the B layer.
  • the base material layer in the present disclosure is a transparent member that supports the above-mentioned A layer, shock absorbing layer and B layer.
  • the ratio of the tensile storage elastic modulus at the frequency of the base material layer of 950 Hz and the temperature of 23 ° C. to the tensile storage elastic modulus at the frequency of the shock absorbing layer of 950 Hz and the temperature of 23 ° C. is preferably 1.5 or more, more preferably 3 or more, and further preferably 5 or more.
  • the ratio of the tensile storage elastic modulus is preferably 70 or less, for example. Since the shock absorbing layer is softer than the base material layer so that the ratio of the tensile storage elastic modulus is in the above range, the shock absorbing layer is deformed when a shock is applied to the front plate for the display device. The impact can be absorbed and the impact resistance can be improved. Further, since the base material layer is harder than the shock absorbing layer so that the ratio of the tensile storage elastic modulus is in the above range, the base material layer having high hardness can be obtained.
  • the tensile storage elastic modulus of the base material layer is not particularly limited as long as it satisfies the ratio of the tensile storage elastic modulus.
  • the tensile storage elastic modulus of the resin base material at a frequency of 950 Hz and a temperature of 23 ° C. can be 5000 MPa or more and 7500 MPa or less.
  • the glass base material generally has a much higher tensile storage elastic modulus than the resin base material, for example, the frequency of the glass base material is 950 Hz and the temperature is 23.
  • the tensile storage elastic modulus at ° C. is about tens of thousands of MPa.
  • the tensile storage elastic modulus of the base material layer at a frequency of 950 Hz and a temperature of 23 ° C. is obtained by measuring the tensile storage elastic modulus at a frequency of 950 Hz and a temperature of 23 ° C. three times and using the arithmetic mean value of the three measured values.
  • the method for measuring the tensile storage elastic modulus of the base material layer can be the same as the method for measuring the tensile storage elastic modulus of the shock absorbing layer described above.
  • the base material layer is not particularly limited as long as it satisfies the above-mentioned tensile storage elastic modulus and has transparency.
  • a resin base material, a glass base material, or the like can be used. Can be mentioned.
  • the resin constituting the resin base material is not particularly limited as long as it can satisfy the above-mentioned tensile storage elastic modulus and obtain a transparent resin base material, for example.
  • Polyimide-based resin, polyamide-based resin, polyester-based resin and the like examples include polyimide, polyamide-imide, polyetherimide, polyesterimide and the like.
  • the polyester resin include polyethylene terephthalate, polypropylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate and the like.
  • a polyimide resin, a polyamide resin, or a mixture thereof is preferable, and a polyimide resin is more preferable, because it has bending resistance and excellent hardness and transparency.
  • the polyimide-based resin is not particularly limited as long as it satisfies the above-mentioned tensile storage elastic modulus and has transparency, but among the above, polyimide and polyamide-imide are preferably used.
  • Polyimide is obtained by reacting a tetracarboxylic acid component with a diamine component.
  • the polyimide is not particularly limited as long as it satisfies the above-mentioned tensile storage elastic modulus and has transparency, but for example, from the viewpoint of having excellent transparency and excellent rigidity, the following general formula (5) ) And at least one structure selected from the group consisting of the structures represented by the following general formula (7).
  • R 5 is a tetravalent group which is a tetracarboxylic acid residue
  • R 6 is a trans-cyclohexanediamine residue, trans-1,4-bismethylenecyclohexanediamine residue, 4,4.
  • R 7 and R 8 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or a perfluoroalkyl group.
  • R 9 is a cyclohexanetetracarboxylic acid residue, a cyclopentanetetracarboxylic acid residue, a dicyclohexane-3,4,3', 4'-tetracarboxylic acid residue, and 4,4'.
  • -At least one tetravalent group selected from the group consisting of (hexafluoroisopropyridene) diphthalic acid residues R 10 represents a divalent group which is a diamine residue.
  • n' represents the number of repeating units and is 1 or more.
  • tetracarboxylic acid residue refers to a residue obtained by removing four carboxyl groups from the tetracarboxylic acid, and has the same structure as the residue obtained by removing the acid dianhydride structure from the tetracarboxylic dianhydride. Represent. Further, the "diamine residue” refers to a residue obtained by removing two amino groups from a diamine.
  • R 5 is a tetracarboxylic acid residue, and can be a residue obtained by removing the acid dianhydride structure from the tetracarboxylic dianhydride.
  • examples of the tetracarboxylic dianhydride include those described in International Publication No. 2018/070523.
  • the R 5 in formula (5) among others, to improve transparency, and from the viewpoint of rigidity is improved, 4,4 '- (hexafluoro isopropylidene) diphthalic acid residue, 3,3', 4 , 4'-biphenyltetracarboxylic acid residue, pyromellitic acid residue, 2,3', 3,4'-biphenyltetracarboxylic acid residue, 3,3', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic acid residue , 3,3', 4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic acid residue, 4,4'-oxydiphthalic acid residue, cyclohexanetetracarboxylic acid residue, and cyclopentanetetracarboxylic acid residue.
  • 4,4 '- (hexafluoro isopropylidene) diphthalic acid residue 3,3', 4 , 4'-biphenyltetracarboxylic acid residue,
  • these preferred residues in total preferably contains more than 50 mol%, preferably contains more than 70 mol%, it is preferable to include even more than 90 mol%.
  • R 5 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid residue, 3,3', from the group consisting of 4,4'-benzophenone tetracarboxylic acid residue and a pyromellitic acid residue
  • the content ratio of the tetracarboxylic dian residue group (group A) suitable for improving the rigidity and the tetracarboxylic dian residue group (group B) suitable for improving the transparency is , 1 mol of tetracarboxylic dian residue group (group B) suitable for improving transparency, 0.05 mol of tetracarboxylic dian residue group (group A) suitable for improving rigidity. It is preferably 9 mol or more, more preferably 0.1 mol or more and 5 mol or less, and further preferably 0.3 mol or more and 4 mol or less.
  • the R 6 in formula (5) among others, to improve transparency, and from the viewpoint of rigidity is improved, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone residue, 3,4'-diaminodiphenyl sulfone residue, It is preferable that it is at least one divalent group selected from the group consisting of the divalent group represented by the above general formula (6), and further, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone residue, 3, At least one divalent group selected from the group consisting of a 4'-diaminodiphenyl sulfone residue and a divalent group represented by the above general formula (6) in which R 7 and R 8 are perfluoroalkyl groups. It is preferably a group.
  • the R 9 in the general formula (7) among others, to improve transparency, and from the viewpoint of rigidity is improved, 4,4 '- (hexafluoro isopropylidene) diphthalic acid residue, 3,3', 4 , 4'-Diphenylsulfonetetracarboxylic acid residue, and oxydiphthalic acid residue are preferably included.
  • these suitable residues are preferably contained in an amount of 50 mol% or more, more preferably 70 mol% or more, and further preferably 90 mol% or more.
  • R 10 in the above general formula (7) is a diamine residue, and can be a residue obtained by removing two amino groups from the diamine.
  • Examples of the diamine include those described in International Publication No. 2018/070523.
  • the R 10 in the general formula (7) among others, to improve transparency, and from the viewpoint of rigidity is improved, 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine residues, bis [4- (4- Aminophenoxy) phenyl] sulfone residue, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone residue, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane residue, bis [4- (3-amino) Phenoxy) phenyl] sulfone residue, 4,4'-diamino-2,2'-bis (trifluoromethyl) diphenyl ether residue, 1,4-bis [4-amino-2- (trifluoromethyl) phen
  • It preferably contains a divalent group of species, plus 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine residues, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone residues, and 4,4'. It preferably contains at least one divalent group selected from the group consisting of -diaminodiphenyl sulfone residues.
  • the total content of these suitable residues is preferably 50 mol% or more, more preferably 70 mol% or more, still more preferably 90 mol% or more.
  • R 10 a bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone residue, a 4,4'-diaminobenzanilide residue, an N, N'-bis (4-aminophenyl) terephthalamide residue,
  • a group of diamine residues suitable for improving rigidity such as at least one selected from the group consisting of paraphenylenediamine residues, metaphenylenediamine residues, and 4,4'-diaminodiphenylmethane residues.
  • the content ratio of the diamine residue group (group C) suitable for improving the rigidity and the diamine residue group (group D) suitable for improving the transparency determines the transparency.
  • the diamine residue group (group C) suitable for improving rigidity should be 0.05 mol or more and 9 mol or less with respect to 1 mol of the diamine residue group (group D) suitable for improvement. It is preferable, more preferably 0.1 mol or more and 5 mol or less, and more preferably 0.3 mol or more and 4 mol or less.
  • n and n'independently represent the number of repeating units and are 1 or more.
  • the number of repeating units n in the polyimide may be appropriately selected depending on the structure, and is not particularly limited.
  • the average number of repeating units can be, for example, 10 or more and 2000 or less, and preferably 15 or more and 1000 or less.
  • the polyimide may contain a polyamide structure as a part thereof.
  • the polyamide structure examples include a polyamide-imide structure containing a tricarboxylic acid residue such as trimellitic anhydride and a polyamide structure containing a dicarboxylic acid residue such as terephthalic acid.
  • tetravalent groups which are tetracarboxylic acid residues of R 5 and R 9
  • divalent groups which are diamine residues of R 6 and R 10
  • At least one of the groups contains an aromatic ring, and (i) a fluorine atom, (ii) an aliphatic ring, and (iii) an aromatic ring may be substituted with a sulfonyl group or fluorine. It is preferable to include at least one selected from the group consisting of the structures connected by.
  • the polyimide contains at least one selected from a tetracarboxylic acid residue having an aromatic ring and a diamine residue having an aromatic ring
  • the molecular skeleton becomes rigid, the orientation is enhanced, and the surface hardness is improved, but the polyimide is rigid.
  • the aromatic ring skeleton tends to have an absorption wavelength extending to a long wavelength, and the transmittance in the visible light region tends to decrease.
  • the polyimide contains (i) a fluorine atom, the transparency is improved in that the electronic state in the polyimide skeleton can be made difficult to transfer charges.
  • the transparency is improved in that the transfer of charges in the skeleton can be inhibited by breaking the conjugate of the ⁇ electrons in the polyimide skeleton.
  • the polyimide contains a structure in which (iii) aromatic rings are linked to each other with an alkylene group which may be substituted with a sulfonyl group or fluorine, the ⁇ -electron conjugation in the polyimide skeleton is cut off to charge the charge in the skeleton. Transparency is improved in that movement can be hindered.
  • a tetravalent group which is a tetracarboxylic acid residue of R 5 and R 9 and a diamine residue of R 6 and R 10 are 2 from the viewpoint of improving transparency and surface hardness.
  • At least one of the valent groups preferably contains an aromatic ring and a fluorine atom
  • the divalent group which is a diamine residue of R 6 and R 10 may contain an aromatic ring and a fluorine atom. preferable.
  • polyimide examples include those having a specific structure described in International Publication No. 2018/070523.
  • Polyimide can be synthesized by a known method. Further, as the polyimide, a commercially available one may be used. Examples of commercially available polyimide products include Neoprim (registered trademark) manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company.
  • the weight average molecular weight of the polyimide is, for example, preferably 3,000 or more and 500,000 or less, more preferably 5,000 or more and 300,000 or less, and further preferably 10,000 or more and 200,000 or less. If the weight average molecular weight is too small, sufficient strength may not be obtained, and if the weight average molecular weight is too large, the viscosity increases and the solubility decreases. It may not be obtained.
  • the weight average molecular weight of polyimide can be measured by gel permeation chromatography (GPC). Specifically, polyimide is used as an N-methylpyrrolidone (NMP) solution having a concentration of 0.1% by mass, and a 30 mmol% LiBr-NMP solution having a water content of 500 ppm or less is used as a developing solvent. 8120, column used: GPC LF-804 manufactured by SHODEX), measurement is performed under the conditions of a sample injection amount of 50 ⁇ L, a solvent flow rate of 0.4 mL / min, and 37 ° C. The weight average molecular weight is determined based on a polystyrene standard sample having the same concentration as the sample.
  • the polyamide-imide is not particularly limited as long as it satisfies the above-mentioned tensile storage elastic modulus and has transparency.
  • a constituent unit derived from dianhydride and a constituent unit derived from diamine can be used. Examples thereof include a first block containing a first block containing a structural unit derived from an aromatic dicarbonyl compound and a second block containing a structural unit derived from an aromatic diamine.
  • the dianhydride can include, for example, biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) and 2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropane dianhydride (6FDA).
  • the diamine can contain bistrifluoromethylbenzidine (TFDB). That is, the above-mentioned polyamide-imide comprises a first block in which a monomer containing dianehydride and a diamine is copolymerized and a second block in which a monomer containing an aromatic dicarbonyl compound and an aromatic diamine is copolymerized. It has a structure in which the polyamide-imide precursor to have is imidized.
  • the polyamide-imide has a first block containing an imide bond and a second block containing an amide bond
  • the polyamide-imide is excellent not only in optical properties but also in thermal and mechanical properties.
  • TFDB bistrifluoromethylbenzidine
  • thermal stability and optical properties can be improved.
  • BPDA biphenyltetracarboxylic dianhydride
  • the dianhydrides forming the first block contain two types of dianhydrides, namely 6FDA and BPDA.
  • the first block may contain a polymer in which TFDB and 6FDA are bound and a polymer in which TFDB and BPDA are bound, respectively, separately based on different repeating units, and may be contained within the same repeating unit. It may be regularly arranged in, or it may be completely randomly arranged and included.
  • BPDA and 6FDA are contained as dianhydrides in a molar ratio of 1: 3 to 3: 1. This is because not only the optical characteristics can be ensured, but also the deterioration of the mechanical characteristics and the heat resistance can be suppressed, and excellent birefringence can be obtained.
  • the molar ratio of the first block and the second block is preferably 5: 1 to 1: 1. If the content of the second block is extremely low, the effect of improving the thermal stability and mechanical properties of the second block may not be sufficiently obtained. Further, when the content of the second block is further higher than the content of the first block, the thermal stability and mechanical properties can be improved, but the optical properties such as yellowness and transmittance are lowered. , The birefringence characteristic may also be enhanced.
  • the first block and the second block may be random copolymers or block copolymers. The repeating unit of the block is not particularly limited.
  • aromatic dicarbonyl compound forming the second block examples include terephthaloyl chloride (TPC), terephthalic acid, isophthaloyl dichloride and 4,4.
  • TPC terephthaloyl chloride
  • terephthalic acid terephthalic acid
  • isophthaloyl dichloride 4,4.
  • One or more species selected from the group consisting of'-benzoyl dichloride (4,4'-benzoyl chloride) can be mentioned.
  • it may be one or more selected from terephthaloyl chloride (TPC) and isophthaloyl dichloride (Iso-phthaloyl chloride).
  • Examples of the amine forming the second block include 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) hexafluoropropane (HFBAPP) and bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) sulfone (BAPS).
  • HFBAPP 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) hexafluoropropane
  • BAPS bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) sulfone
  • BAPSM Bis (4- (3-aminophenoxy) phenyl) sulfone
  • BAPSM 4,4'-diaminodiphenylsulfone
  • 3DDS 3,3'-diaminodiphenylsulfone
  • BAPP 4,4'-diaminodiphenylpropane
  • 6HDA 4,4'-diaminodiphenylpropane
  • BABP 4,4'-bis (4-amino-2-trifluoromethylphenoxy) biphenyl
  • DABS 3,3- Diamino-4,4-dihydroxydiphenylsulfone
  • DABS 3,3- Diamino-4,4-dihydroxydiphenylsulfone
  • the diamines are bis (4- (3-aminophenoxy) phenyl) sulfone (BAPSM), 4,4'-diaminodiphenyl sulfone (4DDS) and 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy).
  • Phenyl) Hexafluoropropane is more preferably one or more diamines selected.
  • a diamine having a long flexible group length and a substituent position at the meta position such as BASPM, can exhibit an excellent birefringence.
  • the copolymerized first block and the polyamideimide precursor containing the second block in which the aromatic dicarbonyl compound and the aromatic diamine are copolymerized in the molecular structure have a weight average molecular weight of, for example, 200 as measured by GPC. It is preferably 000 or more and 215,000 or less, and the viscosity is preferably, for example, 2400 poise or more and 2600 poise or less.
  • Polyamideimide can be obtained by imidizing a polyamide-imide precursor. Further, a polyamide-imide film can be obtained by using polyamide-imide. For a method of imidizing a polyamide-imide precursor and a method of producing a polyamide-imide film, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2018-506611 can be referred to.
  • the glass constituting the glass base material is not particularly limited as long as it satisfies the above-mentioned tensile storage elastic modulus and has transparency.
  • silicate glass and silica glass and so on.
  • borosilicate glass, aluminosilicate glass, and aluminoborosilicate glass are preferable, and non-alkali glass is more preferable.
  • commercially available glass base materials include ultra-thin glass G-Leaf manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd. and ultra-thin glass manufactured by Matsunami Glass Industry Co., Ltd.
  • the glass constituting the glass base material is chemically tempered glass.
  • Chemically tempered glass is preferable because it has excellent mechanical strength and can be made thinner accordingly.
  • Chemically tempered glass is typically glass whose mechanical properties have been strengthened by a chemical method by partially exchanging ionic species such as replacing sodium with potassium in the vicinity of the surface of the glass. It has a compressive stress layer.
  • Examples of the glass constituting the chemically strengthened glass base material include aluminosilicate glass, soda lime glass, borosilicate glass, lead glass, alkaline barium glass, and aluminoborosilicate glass.
  • Examples of commercially available products of the chemically strengthened glass base material include Corning's Gorilla Glass and AGC's Dragontrail.
  • the base material layer is preferably a polyimide resin base material containing a polyimide resin or a glass base material. This is because the base material layer has bending resistance and has excellent hardness and transparency.
  • the thickness of the base material layer is not particularly limited as long as it can have flexibility, and is appropriately selected depending on the type of the base material layer and the like.
  • the thickness of the resin base material is, for example, preferably 10 ⁇ m or more and 100 ⁇ m or less, and more preferably 25 ⁇ m or more and 80 ⁇ m or less.
  • the thickness of the resin base material is within the above range, good flexibility can be obtained and sufficient hardness can be obtained.
  • curling of the front plate for the display device can be suppressed. Further, it is preferable in terms of weight reduction of the front plate for the display device.
  • the thickness of the glass substrate is, for example, preferably 200 ⁇ m or less, more preferably 15 ⁇ m or more and 100 ⁇ m or less, further preferably 20 ⁇ m or more and 90 ⁇ m or less, and more preferably 25 ⁇ m or more and 80 ⁇ m or less. Especially preferable.
  • the thickness of the glass base material is within the above range, good flexibility can be obtained and sufficient hardness can be obtained.
  • curling of the front plate for the display device can be suppressed. Further, it is preferable in terms of weight reduction of the front plate for the display device.
  • the display device front plate in the present disclosure may have other layers, if necessary, in addition to the above-mentioned layers.
  • Examples of other layers include a hard coat layer, a shatterproof layer, and the like.
  • the front plate for a display device in the present disclosure may be the A layer 3 of the base material layer (resin base material) 2 as shown in FIG. 2, for example.
  • the hard coat layer is a member for increasing the surface hardness. By arranging the hard coat layer, scratch resistance can be improved.
  • the hard coat layer contains a cured product of a resin composition containing a polymerizable compound.
  • a cured product of the resin composition containing the polymerizable compound can be obtained by subjecting the polymerizable compound to a polymerization reaction by a known method using a polymerization initiator, if necessary.
  • the polymerizable compound has at least one polymerizable functional group in the molecule.
  • the polymerizable compound for example, at least one of a radical polymerizable compound and a cationically polymerizable compound can be used.
  • a radically polymerizable compound is a compound having a radically polymerizable group.
  • the radically polymerizable group contained in the radically polymerizable compound may be a functional group capable of causing a radical polymerization reaction, and is not particularly limited, and examples thereof include a group containing a carbon-carbon unsaturated double bond. Examples thereof include a vinyl group and a (meth) acryloyl group.
  • these radically polymerizable groups may be the same or different from each other.
  • the number of radically polymerizable groups contained in one molecule of the radically polymerizable compound is preferably two or more, and more preferably three or more, from the viewpoint of improving the hardness of the hard coat layer.
  • (meth) acryloyl represents each of acryloyl and methacryloyl.
  • a cationically polymerizable compound is a compound having a cationically polymerizable group.
  • the cationically polymerizable group contained in the cationically polymerizable compound may be a functional group capable of causing a cationic polymerization reaction, and is not particularly limited, and examples thereof include an epoxy group, an oxetanyl group, and a vinyl ether group.
  • these cationically polymerizable groups may be the same or different from each other.
  • the number of cationically polymerizable groups contained in one molecule of the cationically polymerizable compound is preferably two or more, and more preferably three or more, from the viewpoint of improving the hardness of the hard coat layer.
  • the above resin composition may contain a polymerization initiator, if necessary.
  • a radical polymerization initiator, a cationic polymerization initiator, a radical, a cationic polymerization initiator and the like can be appropriately selected and used.
  • These polymerization initiators are decomposed by at least one of light irradiation and heating to generate radicals or cations to promote radical polymerization and cation polymerization. In some cases, the polymerization initiator is completely decomposed and does not remain in the hard coat layer.
  • the hard coat layer can further contain additives as needed.
  • the additive is appropriately selected according to the function to be imparted to the hard coat layer, and is not particularly limited.
  • a filler an ultraviolet absorber, an infrared absorber, an antifouling agent, an antiglare agent, an antistatic agent, and a leveling agent.
  • the thickness of the hard coat layer may be appropriately selected depending on the function of the hard coat layer and the application of the front plate for the display device.
  • the thickness of the hard coat layer is, for example, preferably 2 ⁇ m or more and 50 ⁇ m or less, more preferably 3 ⁇ m or more and 30 ⁇ m or less, further preferably 5 ⁇ m or more and 20 ⁇ m or less, and particularly preferably 6 ⁇ m or more and 10 ⁇ m or less. preferable. When the thickness of the hard coat layer is within the above range, sufficient hardness can be obtained as the hard coat layer.
  • Examples of the method for forming the hard coat layer include a method in which a curable resin composition for a hard coat layer containing the above-mentioned polymerizable compound and the like is applied onto the above-mentioned base material layer and cured.
  • the front plate for a display device in the present disclosure is, for example, as shown in FIG. 3, the surface side of the base material layer 2 opposite to the A layer 3.
  • the material used for the shatterproof layer is not particularly limited as long as it can obtain the shatterproof effect of glass and has transparency.
  • a polyimide resin a polyamide resin, or a polyester resin.
  • Acrylic resin and the like examples of the polyimide-based resin include polyimide, polyamide-imide, polyetherimide, polyesterimide and the like.
  • the polyester resin examples include polyethylene terephthalate, polypropylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate and the like.
  • the shatterproof layer can further contain additives, if necessary.
  • the additive is appropriately selected according to the function to be imparted to the shatterproof layer, and is not particularly limited, and examples thereof include a filler and the like.
  • the thickness of the shatterproof layer may be appropriately selected depending on the function of the shatterproof layer and the application of the front plate for the display device.
  • the thickness of the shatterproof layer is, for example, preferably 5 ⁇ m or more and 150 ⁇ m or less, and more preferably 10 ⁇ m or more and 100 ⁇ m or less. When the thickness of the shatterproof layer is within the above range, a sufficient shatterproof effect and transparency can be obtained.
  • the shatterproof layer for example, a film-like shatterproof layer can be used, and the shatterproof layer can be arranged on the base material layer via an adhesive layer or an adhesive layer. Further, for example, the shatterproof layer composition may be used, and the shatterproof layer composition may be applied onto the base material layer and cured to form the shatterproof layer.
  • the front plate for display device in the present disclosure has a total light transmittance of, for example, preferably 85% or more, more preferably 88% or more, and more preferably 90% or more. More preferred. Due to the high total light transmittance as described above, a front plate for a display device having good transparency can be obtained.
  • the total light transmittance of the front plate for the display device can be measured in accordance with JIS K7361-1, and can be measured by, for example, a haze meter HM150 manufactured by Murakami Color Technology Research Institute.
  • the haze of the front plate for a display device in the present disclosure is, for example, preferably 5% or less, more preferably 2% or less, and further preferably 1% or less. Due to such low haze, it is possible to obtain a front plate for a display device having good transparency.
  • the haze of the front plate for the display device can be measured in accordance with JIS K-7136, and can be measured by, for example, the haze meter HM150 manufactured by Murakami Color Technology Research Institute.
  • the front plate for a display device in the present disclosure can be used as a member arranged on the observer side of the display panel in the display device.
  • the front plate for a display device in the present disclosure can be used, for example, as a front plate in a display device such as a smartphone, a tablet terminal, a wearable terminal, a personal computer, a television, a digital signage, a public information display (PID), or an in-vehicle display. ..
  • the front plate for a display device in the present disclosure can be suitably used as a front plate in a flexible display such as a foldable display, a rollable display, and a bendable display.
  • the display device using the display device front plate in the present disclosure can include a display panel and a display device front plate arranged on the observer side of the display panel.
  • FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing an example of the display device in the present disclosure.
  • the display device 20 includes a display panel 21 and a display device front plate 1 arranged on the observer side of the display panel 21.
  • the base material layer is arranged on the outside and the B layer is arranged on the display panel side.
  • the method of arranging the front plate for the display device on the surface of the display device in the present disclosure is not particularly limited, and for example, when the B layer is an adhesive layer, a method via a B layer (adhesive layer) and the like can be mentioned. Be done.
  • Examples of the display panel in the present disclosure include display panels used in display devices such as organic EL display devices and liquid crystal display devices.
  • the display device in the present disclosure may have a touch panel member between the display panel and the front plate for the display device.
  • the display device in the present disclosure is preferably a flexible display. Since the display device in the present disclosure has the above-mentioned front plate for the display device, it is suitable as a flexible display.
  • the flexible organic electroluminescence display device includes an organic electroluminescence display panel and a front plate for the display device arranged on the observer side of the organic electroluminescence display panel. ..
  • electroluminescence may be abbreviated as EL.
  • FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing an example of the flexible organic EL display device in the present disclosure.
  • the flexible organic EL display device 30 includes an organic EL display panel 31 and a display device front plate 1 arranged on the observer side of the organic EL display panel 31.
  • the flexible organic EL display device 30 for example, when the B layer 5 in the front plate 1 for the display device is an adhesive layer, the front plate 1 for the display device and the organic EL display panel 31 are the B of the front plate 1 for the display device. It can be bonded via the layer 5 (adhesive layer).
  • the front plate for the display device in the present disclosure can be the same as the front plate for the display device described above.
  • the organic EL display panel in the present disclosure can be the same as the configuration of a general organic EL display device.
  • the flexible organic EL display device in the present disclosure can have a touch panel member between the organic EL display panel and the front plate for the display device.
  • the laminated body for display device in the present disclosure is a laminated body for display device used for the front plate for display device, and has an A layer, a shock absorbing layer, and a B layer in this order.
  • the shear storage elastic modulus at a frequency of 950 Hz and a temperature of 23 ° C. is 20 MPa or less
  • the shock absorbing layer the tensile storage elastic modulus at a frequency of 950 Hz and a temperature of 23 ° C. is 200 MPa or more and 5000 MPa or less.
  • the glass transition temperature is 50 ° C. or higher.
  • FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing an example of the laminated body for a display device in the present disclosure.
  • the display device laminate 10 has an A layer 3, a shock absorbing layer 4, and a B layer 5 in this order.
  • the A layer 3 and the B layer 5 have a predetermined shear storage elastic modulus
  • the shock absorbing layer 4 has a predetermined tensile storage elastic modulus and a glass transition temperature.
  • the shock absorbing layer is arranged between the A layer and the B layer, which are softer than the shock absorbing layer, as described in the above-mentioned "A. Front plate for display device”. Therefore, the impact resistance can be improved.
  • the state of the material contained in the shock absorbing layer does not suddenly change at the environmental temperature. Nevertheless, excellent impact resistance and flexibility can be maintained.
  • the display device laminate of the present disclosure is used for a rollable display, the shear stress at the time of winding the display can be relaxed by using the display device laminate, and the winding can be performed. It is possible to suppress the occurrence of various problems at the time.
  • shock absorbing layer The shock absorbing layer, the A layer, and the B layer constituting the display device laminate in the present disclosure have been described in detail in the above-mentioned "A. Display device front plate” section, and thus the description thereof will be omitted here.
  • the laminated body for a display device in the present disclosure preferably has a total light transmittance of, for example, 85% or more, more preferably 88% or more, and further preferably 90% or more. Due to the high total light transmittance as described above, a laminated body for a display device having good transparency can be obtained.
  • the haze of the display device laminate in the present disclosure is, for example, preferably 5% or less, more preferably 2% or less, and further preferably 1% or less. With such a low haze, it is possible to obtain a laminated body for a display device having good transparency.
  • the method for measuring the total light transmittance and haze of the display device laminate can be the same as the method for measuring the total light transmittance and haze of the display device front plate described above.
  • the display device laminate in the present disclosure is used for the above-mentioned display device front plate, and can be used as a member to be laminated on the base material layer in the display device front plate.
  • the laminate for display devices in the present disclosure can be used, for example, as a front plate in display devices such as smartphones, tablet terminals, wearable terminals, personal computers, televisions, digital signage, public information displays (PIDs), and in-vehicle displays. ..
  • the laminate for a display device in the present disclosure can be suitably used for a front plate in a flexible display such as a foldable display, a rollable display, and a bendable display.
  • the laminated body in the present disclosure has an A layer, a shock absorbing layer, and a B layer in this order, and the A layer and the B layer have a shear storage elastic modulus of 20 MPa at a frequency of 950 Hz and a temperature of 23 ° C.
  • the shock absorbing layer contains a urethane resin, and the shock absorbing layer has a tensile storage elastic modulus of 200 MPa or more and 5000 MPa or less at a frequency of 950 Hz and a temperature of 23 ° C., and a glass transition temperature of 50 ° C. or more. is there.
  • FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing an example of the laminated body in the present disclosure.
  • the laminated body 40 has an A layer 3, a shock absorbing layer 4, and a B layer 5 in this order.
  • the A layer 3 and the B layer 5 have a predetermined shear storage elastic modulus
  • the shock absorbing layer 4 contains a urethane resin
  • the shock absorbing layer is arranged between the A layer and the B layer which are softer than the shock absorbing layer. Thereby, the impact resistance can be improved.
  • the glass transition temperature of the shock absorbing layer when the glass transition temperature of the shock absorbing layer is equal to or higher than a predetermined value, the state of the material contained in the shock absorbing layer does not suddenly change at the environmental temperature. Nevertheless, excellent impact resistance and flexibility can be maintained.
  • shock absorbing layer The shock absorbing layer, the A layer, and the B layer constituting the laminated body in the present disclosure are described in detail in the above-mentioned "A. Front plate for display device", and thus the description thereof is omitted here.
  • the laminated body in the present disclosure preferably has a total light transmittance of, for example, 85% or more, more preferably 88% or more, and further preferably 90% or more. Due to the high total light transmittance as described above, a laminated body having good transparency can be obtained.
  • the haze of the laminate in the present disclosure is, for example, preferably 5% or less, more preferably 2% or less, and further preferably 1% or less. Due to the low haze as described above, a laminated body having good transparency can be obtained.
  • the method for measuring the total light transmittance and haze of the laminated body can be the same as the method for measuring the total light transmittance and haze of the front plate for the display device described above.
  • the laminate in the present disclosure can be used, for example, as a member for a display device.
  • the laminate in the present disclosure can be used for display devices such as smartphones, tablet terminals, wearable terminals, personal computers, televisions, digital signage, public information displays (PIDs), and in-vehicle displays.
  • display devices such as smartphones, tablet terminals, wearable terminals, personal computers, televisions, digital signage, public information displays (PIDs), and in-vehicle displays.
  • PIDs public information displays
  • the laminate in the present disclosure can be suitably used for a flexible display such as a foldable display, a rollable display, and a bendable display.
  • Example 1 (Preparation of base material layer and formation of hard coat layer)
  • a base material layer a polyimide base material having a thickness of 80 ⁇ m was prepared.
  • the following composition 1 for a hard coat layer was applied to one surface of the polyimide base material with a bar coater to form a coating film.
  • the coating film is heated at 70 ° C. for 1 minute to evaporate the solvent in the coating film, and an ultraviolet irradiation device (Fusion UV System Japan Co., Ltd., light source H valve) is used to convert the ultraviolet rays into oxygen concentration.
  • the coating film was cured by irradiating under the condition of 200 ppm or less so that the integrated light amount was 200 mJ / cm 2.
  • a hard coat layer having a thickness of 5 ⁇ m was formed on the polyimide base material.
  • ⁇ Composition 1 for hard coat layer> ⁇ Mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (product name “M403”, manufactured by Toa Synthetic Co., Ltd.): 25 parts by mass ⁇ Dipentaerythritol EO modified hexaacrylate (product name “A-DPH-6E”) , Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.): 25 parts by mass, deformed silica particles (average particle diameter 25 nm, manufactured by JGC Catalysts and Chemicals Co., Ltd.): 50 parts by mass (100% solid content conversion value) -Photopolymerization initiator (1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, product name "Omnirad 184", manufactured by IGM Resins BV): 4 parts by mass-Fluorine-based leveling agent (product name "F568", manufactured by DIC Co., Ltd.): 0.2 parts by
  • shock absorbing layer 1 The polyethylene terephthalate material was melted at 290 ° C., extruded into a sheet through a film forming die, and cooled by being brought into close contact with a water-cooled rotary quenching drum to prepare an unstretched film.
  • This unstretched film is preheated at 120 ° C. for 1 minute in a biaxial stretching test device (manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.), then stretched at 120 ° C. at a stretching ratio of 4.5 times, and the stretching direction is 90 ° C.
  • a shock absorbing layer 1 having a thickness of 80 ⁇ m was obtained by stretching in the direction of 1 at a stretching ratio of 1.5 times.
  • the shock absorbing layer 1 was bonded to the surface of the polyimide base material opposite to the hard coat layer via a layer A (acrylic pressure-sensitive adhesive film having a thickness of 50 ⁇ m, manufactured by 3M, 8146-2).
  • a front plate was prepared by laminating a layer B (an acrylic pressure-sensitive adhesive film having a thickness of 50 ⁇ m, manufactured by 3M, 8146-2) on the surface of the shock absorbing layer 1 opposite to the layer A.
  • the separators arranged on both sides of the acrylic pressure-sensitive adhesive film were peeled off and used.
  • Example 2 A front plate was produced in the same manner as in Example 1 except that the following shock absorbing layer 2 was used instead of the shock absorbing layer 1.
  • shock absorbing layer 2 As a release film, a polyethylene terephthalate base material having a thickness of 50 ⁇ m (product name “Cosmo Shine (registered trademark) A4100”, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) was prepared. The following composition 1 for a shock absorbing layer was applied to the untreated surface side of the polyethylene terephthalate base material with a bar coater to form a coating film so that the thickness after curing was 80 ⁇ m. Then, the solvent in the coating film is evaporated by heating the coating film at 70 ° C. for 1 minute, and the ultraviolet rays are put into the air using an ultraviolet irradiation device (Fusion UV Systems Japan Co., Ltd., light source H bulb). The coating film was cured by irradiating the film so that the integrated light intensity was 500 mJ / cm 2 , and the cured coating film was peeled off from the polyethylene terephthalate substrate to obtain a shock absorbing layer 2.
  • Example 3 A front plate was produced in the same manner as in Example 2 except that the thickness of the polyimide base material was 50 ⁇ m in Example 2.
  • Example 4 In Example 2, a front plate was produced in the same manner as in Example 2 except that the acrylic pressure-sensitive adhesive film MHM-FWV50 having a thickness of 50 ⁇ m manufactured by Niei Kako Co., Ltd. was used as the A layer and the B layer.
  • Example 5 In Example 2, the front plate was produced in the same manner as in Example 1 except that the following shock absorbing layer 3 was used instead of the shock absorbing layer 2.
  • the shock absorbing layer 3 was prepared in the same manner as in the production of the shock absorbing layer 2 of Example 2 except that the following composition 2 for the shock absorbing layer was used.
  • Example 1 A front plate was produced in the same manner as in Example 1 except that the shock absorbing layer and the A layer were not arranged in Example 1.
  • Example 2 the front plate was used in the same manner as in Example 1 except that the polyimide base material having a thickness of 80 ⁇ m used as the base material layer in Example 1 was used instead of the shock absorbing layer 1 as the shock absorbing layer. Made.
  • Example 3 In Example 1, the front plate was used in the same manner as in Example 1 except that a urethane resin film (manufactured by Seadam, DUS270-CER) having a thickness of 100 ⁇ m was used as the shock absorbing layer instead of the shock absorbing layer 1. Made.
  • a urethane resin film manufactured by Seadam, DUS270-CER
  • the shock absorbing layer composition 1 used in Example 2 was applied to the surface of the polyimide base material opposite to the hard coat layer, and the coating film was coated so that the thickness after curing was 80 ⁇ m. Was formed. Then, the solvent in the coating film is evaporated by heating the coating film at 70 ° C. for 1 minute, and the ultraviolet rays are put into the air using an ultraviolet irradiation device (Fusion UV Systems Japan Co., Ltd., light source H bulb). The coating film was cured by irradiating the film so that the integrated light intensity was 500 mJ / cm 2, and a shock absorbing layer was formed directly on the polyimide substrate.
  • an ultraviolet irradiation device Fusion UV Systems Japan Co., Ltd., light source H bulb
  • a layer B (acrylic pressure-sensitive adhesive film having a thickness of 50 ⁇ m, manufactured by 3M, 8146-2) was attached to the surface of the shock absorbing layer opposite to the polyimide base material to prepare a front plate.
  • the separators arranged on both sides of the acrylic pressure-sensitive adhesive film were peeled off and used.
  • Example 5 the front plate was used in the same manner as in Example 1 except that a urethane resin film (manufactured by Seadam, DUS 312-CD) having a thickness of 100 ⁇ m was used as the shock absorbing layer instead of the shock absorbing layer 1. Made.
  • a urethane resin film manufactured by Seadam, DUS 312-CD
  • the composition 1 for the shock absorbing layer used in Example 2 was applied to the surface of the polyimide base material opposite to the hard coat layer, and a coating film was formed so that the thickness after curing was 30 ⁇ m. .. Then, the solvent in the coating film is evaporated by heating the coating film at 70 ° C. for 1 minute, and the ultraviolet rays are put into the air using an ultraviolet irradiation device (Fusion UV Systems Japan Co., Ltd., light source H valve). The coating film was cured by irradiating it so that the integrated light amount was 500 mJ / cm 2, and a urethane resin layer was formed as the A layer on the polyimide base material.
  • an ultraviolet irradiation device Fusion UV Systems Japan Co., Ltd., light source H valve
  • the shock absorbing layer composition 1 used in Example 2 was applied to the surface of the layer A opposite to the polyimide base material, and a coating film was applied so that the thickness after curing was 70 ⁇ m. Formed. Then, the solvent in the coating film is evaporated by heating the coating film at 70 ° C. for 1 minute, and the ultraviolet rays are put into the air using an ultraviolet irradiation device (Fusion UV Systems Japan Co., Ltd., light source H bulb). The coating film was cured by irradiating the film so that the integrated light intensity was 500 mJ / cm 2 , and a shock absorbing layer was formed on the A layer.
  • an ultraviolet irradiation device Fusion UV Systems Japan Co., Ltd., light source H bulb
  • a front plate was prepared by laminating a layer B (an acrylic pressure-sensitive adhesive film having a thickness of 50 ⁇ m, manufactured by 3M, 8146-2) on the surface of the shock absorbing layer opposite to the layer A.
  • a layer B an acrylic pressure-sensitive adhesive film having a thickness of 50 ⁇ m, manufactured by 3M, 8146-2
  • the separators arranged on both sides of the acrylic pressure-sensitive adhesive film were peeled off and used.
  • Example 6 (Formation of hard coat layer)
  • the composition 1 for the hard coat layer used in Example 1 was applied to one surface of a polyethylene terephthalate base material having a thickness of 50 ⁇ m (product name “Cosmo Shine (registered trademark) A4300”, manufactured by Toyobo Co., Ltd.).
  • a coating film was formed.
  • the coating film is heated at 70 ° C. for 1 minute to evaporate the solvent in the coating film, and an ultraviolet irradiation device (Fusion UV System Japan Co., Ltd., light source H valve) is used to convert the ultraviolet rays into oxygen concentration.
  • an ultraviolet irradiation device Fusion UV System Japan Co., Ltd., light source H valve
  • the coating film was cured by irradiating under the condition of 200 ppm or less so that the integrated light amount was 200 mJ / cm 2. As a result, a hard coat layer having a thickness of 5 ⁇ m was formed on the polyethylene terephthalate base material.
  • Example 1 (Making the front plate) A chemically reinforced glass base material having a thickness of 70 ⁇ m was prepared, and the glass base material and the surface of the polyethylene terephthalate base material opposite to the hard coat layer were formed into an adhesive layer (adhesive film having a thickness of 25 ⁇ m, 3M). Manufactured by 8146-1). Next, the shock absorption used in Example 1 was passed through a layer A (acrylic pressure-sensitive adhesive film having a thickness of 50 ⁇ m, manufactured by 3M Co., Ltd., 8146-2) on the surface opposite to the pressure-sensitive adhesive film of the glass base material. Layer 1 was laminated.
  • a layer B (acrylic pressure-sensitive adhesive film having a thickness of 50 ⁇ m, manufactured by 3M, 8146-2) was attached to the surface of the shock absorbing layer 1 opposite to the layer A to prepare a front plate.
  • the pressure-sensitive adhesive layer, the layer A, and the layer B, the separators arranged on both sides of the pressure-sensitive adhesive film were peeled off and used.
  • Example 7 A front plate was produced in the same manner as in Example 6 except that the shock absorbing layer 2 used in Example 2 was used instead of the shock absorbing layer 1.
  • Example 7 A front plate was produced in the same manner as in Example 6 except that the shock absorbing layer and the A layer were not arranged in Example 6.
  • Example 6 a front plate was produced in the same manner as in Example 6 except that a urethane resin film (manufactured by Seadam, DUS270-CER) having a thickness of 100 ⁇ m was used as the shock absorbing layer.
  • a urethane resin film manufactured by Seadam, DUS270-CER
  • Example 8 In Example 1, a front plate was produced in the same manner as in Example 1 except that MHM-SI50, a silicone-based pressure-sensitive adhesive film having a thickness of 50 ⁇ m manufactured by Niei Kako Co., Ltd., was used as the A layer and the B layer.
  • MHM-SI50 a silicone-based pressure-sensitive adhesive film having a thickness of 50 ⁇ m manufactured by Niei Kako Co., Ltd.
  • Example 9 In Example 2, a front plate was produced in the same manner as in Example 2 except that MHM-SI50, a silicone-based pressure-sensitive adhesive film having a thickness of 50 ⁇ m manufactured by Niei Kako Co., Ltd., was used as the A layer and the B layer.
  • MHM-SI50 a silicone-based pressure-sensitive adhesive film having a thickness of 50 ⁇ m manufactured by Niei Kako Co., Ltd.
  • Example 10 In Example 5, a front plate was produced in the same manner as in Example 5 except that MHM-SI50, a silicone-based pressure-sensitive adhesive film having a thickness of 50 ⁇ m manufactured by Niei Kako Co., Ltd., was used as the A layer and the B layer.
  • MHM-SI50 a silicone-based pressure-sensitive adhesive film having a thickness of 50 ⁇ m manufactured by Niei Kako Co., Ltd.
  • the measuring jig is provided with chuck jigs for sandwiching the film on the upper and lower sides, and one of the ends of the rectangular measurement sample is attached to the upper chuck and the other is attached to the lower chuck. It was fixed so that the pulling direction was the longitudinal direction of the measurement sample. At this time, the distance between the chucks was 20 mm, and the measurement sample was adjusted and fixed so as not to be slack and not to be pulled too much.
  • a tensile load (static load) is applied, and a longitudinal vibration with a frequency of 950 Hz is applied by a tensile method (sine wave strain, tension mode, strain amount: automatic strain) to obtain a tensile storage elastic modulus. It was measured. Further, this measurement was repeated three times, and the arithmetic mean value of the three times was taken as the tensile storage elastic modulus at a frequency of 950 Hz and a temperature of 23 ° C.
  • the dynamic viscoelasticity measuring device Rheogel-E4000 manufactured by UBM was used. The measurement conditions were as follows. The results are shown in Table 1.
  • the shear elastic storage elastic modulus at a frequency of 950 Hz and a temperature of 23 ° C. is measured by a dynamic viscoelasticity measuring device (DMA).
  • DMA dynamic viscoelasticity measuring device
  • the A layer and the B layer were punched into a rectangular shape of 10 mm ⁇ 5 mm, respectively, to obtain a measurement sample.
  • two measurement samples were prepared and attached to the solid shear jig of the dynamic viscoelasticity measuring device.
  • the solid shear jig is composed of three plates in the vertical direction, that is, one metal middle plate having a thickness of 1 mm, and two L-shaped plates arranged on both sides of the middle plate.
  • a metal outer plate is provided, one measurement sample is sandwiched between the middle plate and one outer plate, and the other measurement sample is sandwiched between the middle plate and the other outer plate.
  • a solid shearing jig is installed in the dynamic viscoelasticity measuring device at a distance between chucks of 20 mm, and in an environment of a temperature of 23 ° C.
  • the plate was subjected to longitudinal vibration at a frequency of 950 Hz, and the shear storage elastic modulus was measured. Further, this measurement was repeated three times, and the arithmetic mean value of the three times was taken as the shear storage elastic modulus at a frequency of 950 Hz and a temperature of 23 ° C.
  • Rheogel-E4000 manufactured by UBM was used as the dynamic viscoelasticity measuring device. The measurement conditions were as follows. The results are shown in Table 1.
  • the pulling direction was the longitudinal direction of the measurement sample.
  • the distance between the chucks was 20 mm, and the measurement sample was adjusted and fixed so as not to be slack and not to be pulled too much.
  • a tensile load static load
  • vibration with a frequency of 1 Hz is applied
  • dynamic viscoelasticity measurement is performed in the range of -50 ° C or higher and 200 ° C or lower
  • tensile storage of the shock absorbing layer at each temperature is performed.
  • the elastic modulus E', the tensile loss elastic modulus E', and the tensile loss tangent tan ⁇ were measured.
  • the glass transition temperature of the shock absorbing layer was the temperature at which the tensile loss tangent tan ⁇ peaked in the range of -50 ° C or higher and 200 ° C or lower.
  • As the dynamic viscoelasticity measuring device Rheogel-E4000 manufactured by UBM Co., Ltd. was used. The measurement conditions were as follows. The results are shown in Table 1.
  • the glass transition temperature was measured by a method (DMA method) based on the peak top value of shear loss tangent (tan ⁇ ). did.
  • DMA method shear loss tangent
  • the A layer or the B layer was punched into a rectangular shape of 10 mm ⁇ 5 mm to obtain a measurement sample.
  • two measurement samples were prepared and attached to the solid shear jig of the dynamic viscoelasticity measuring device.
  • the solid shear jig has three plates in the vertical direction, that is, one metal middle plate having a thickness of 1 mm, and two L-shaped plates arranged on both sides of the middle plate.
  • the metal outer plate of the above is provided, one measurement sample is sandwiched between the middle plate and one outer plate, and the other measurement sample is sandwiched between the middle plate and the other outer plate.
  • a solid shearing jig is installed in the dynamic viscoelasticity measuring device at a distance between chucks of 20 mm, and the strain amount is 1% on the two outer plates while fixing the pulling plate in the range of -50 ° C or higher and 200 ° C or lower.
  • a longitudinal vibration with a frequency of 1 Hz was applied to the outer plate to perform dynamic viscoelasticity measurement, and the shear storage elastic modulus G'at each temperature was measured.
  • Rheogel-E4000 manufactured by UBM was used as the dynamic viscoelasticity measuring device. The measurement conditions were as follows. The results are shown in Table 1.
  • Folding resistance A continuous folding test was performed on the front plates of Examples and Comparative Examples to evaluate the folding resistance. Specifically, first, a measurement sample having a size of 30 mm ⁇ 100 mm was cut out from the front plate. Then, as shown in FIG. 8A, the two opposing short side portions 50C and 50D of the front plate (measurement sample) 50 are arranged in parallel with each other in a folding durability tester (for example, the product name “U-shaped expansion / contraction”). Fix each with the fixing part 51 of "Testing machine DLDMLH-FS", manufactured by Yuasa System Co., Ltd., IEC62715-6-1), and front so that the front plate (measurement sample) 50 is folded in a U shape in the long side direction.
  • a folding durability tester for example, the product name “U-shaped expansion / contraction”. Fix each with the fixing part 51 of "Testing machine DLDMLH-FS", manufactured by Yuasa System Co., Ltd., IEC62715-6-1), and front so that the front
  • the face plate (measurement sample) 50 was set. After that, as shown in FIGS. 8A to 8C, the minimum distance ⁇ between the two opposing short side portions 50C and 50D of the front plate (measurement sample) 50 is 10 mm, and the front plate (measurement sample) 50 A continuous folding test of folding at 180 ° was performed 100,000 times under the following conditions so that the hard coat layer side of the front plate (measurement sample) 50 was not deformed, cracked or broken at the bent portion 50E of the front plate (measurement sample) 50. I checked. The continuous folding test was performed in a room temperature environment (23 ° C.) and a relative humidity of 50%, and in a low temperature environment of ⁇ 20 ° C. and ⁇ 40 ° C., respectively.
  • the evaluation criteria were as follows. A: In the continuous folding test, no deformation, cracking or breakage occurred in the bent portion. B: In the continuous folding test, it was confirmed that the bent portion was deformed at a level that did not cause any problem in practical use, but no crack or break occurred. C: In the continuous folding test, deformation was clearly confirmed at the bent portion, but no crack or break occurred. D: In the continuous folding test, the bent portion was cracked or broken.
  • the tensile storage elastic modulus of the shock absorbing layer and the shear storage elastic modulus of the A layer and the B layer are within a predetermined range, and the shock absorbing layer is softer than the shock absorbing layer A. Since it is arranged between the layers and the B layer, it has excellent impact resistance. Further, in Examples 8 to 10, since the glass transition temperature of the A layer and the B layer was high, the folding resistance at ⁇ 40 ° C. was excellent.
  • the front plates of Comparative Examples 1 and 7 were inferior in impact resistance because they did not have an impact absorbing layer.
  • the impact resistance was inferior because the tensile storage elastic modulus of the impact absorbing layer was large.
  • the impact resistance was inferior.
  • the impact resistance was not sufficient because the tensile storage elastic modulus of the impact absorbing layer was small.
  • the impact resistance was not sufficient because the shear storage elastic modulus of the layer A was large.

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Abstract

本開示は、基材層と、Ａ層と、衝撃吸収層と、Ｂ層と、をこの順に有し、上記Ａ層および上記Ｂ層では、周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃におけるせん断貯蔵弾性率が２０ＭＰａ以下であり、上記衝撃吸収層では、周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃における引張貯蔵弾性率が２００ＭＰａ以上５０００ＭＰａ以下であり、ガラス転移温度が５０℃以上である、表示装置用前面板を提供する。

Description

表示装置用前面板、フレキシブル有機エレクトロルミネッセンス表示装置、表示装置用積層体、および積層体
　本開示は、表示装置用前面板、フレキシブル有機エレクトロルミネッセンス表示装置、表示装置用積層体、および積層体に関する。
　近年、フォルダブルディスプレイ、ローラブルディスプレイ、ベンダブルディスプレイ等のフレキシブルディスプレイに用いられる前面板の開発が盛んに進められている。
　前面板は、表示装置を衝撃や傷から保護するものであり、強度、耐衝撃性、耐傷性等が求められる。さらに、フレキシブルディスプレイ用の前面板には、折り畳み性（フォルダブル）、巻き取り性（ローラブル）、曲げ性（ベンダブル）等のフレキシブル性も求められる。そのため、フレキシブルディスプレイ用の前面板においては、基材層の厚みを薄くする傾向がある。しかしながら、基材層の厚みを薄くすると、耐衝撃性が低下するおそれがある。そこで、基材層に衝撃吸収層を積層することが提案されている（例えば特許文献１）。
　また、フレキシブルディスプレイにおいては、前面板ではないが、光学用粘着シートについて、光学用粘着シートの耐屈曲性の向上のために、せん断弾性率が所定の範囲内である硬い層と、せん断弾性率が所定の範囲内である柔らかい層とを有する光学用充填接合材が提案されている（特許文献２）。
特開２０１９－５３２３５６号公報 特開２０１９－６５２８７号公報
　基材層に衝撃吸収層が積層された前面板においては、耐衝撃性を高めることができるが、さらなる耐衝撃性の向上が求められている。
　本開示は、上記実情に鑑みてなされたものであり、耐衝撃性に優れる表示装置用前面板、これを備えるフレキシブル有機エレクトロルミネッセンス表示装置、これに用いられる表示装置用積層体、および積層体を提供することを主目的とする。
　上記課題を解決するために、本開示の発明者らは鋭意検討を行った結果、前面板を構成する層の硬さに着目した。そして、衝撃吸収層よりも柔らかい層を用い、基材層と柔らかい層と衝撃吸収層と柔らかい層とをこの順に積層することにより、耐衝撃性を向上させることができることを見出した。さらに、本開示の発明者らは検討を重ね、衝撃吸収層のガラス転移温度を所定の範囲とすることにより、環境温度によらず高い耐衝撃性およびフレキシブル性を維持することができることを見出した。本開示はこのような知見に基づくものである。
　本開示の一実施形態は、基材層と、Ａ層と、衝撃吸収層と、Ｂ層と、をこの順に有し、上記Ａ層および上記Ｂ層では、周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃におけるせん断貯蔵弾性率が２０ＭＰａ以下であり、上記衝撃吸収層では、周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃における引張貯蔵弾性率が２００ＭＰａ以上５０００ＭＰａ以下であり、ガラス転移温度が５０℃以上である、表示装置用前面板を提供する。
　本開示における表示装置用前面板においては、上記衝撃吸収層の上記引張貯蔵弾性率に対する、上記基材層の周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃における引張貯蔵弾性率の比が、１．５以上であることが好ましい。
　また、本開示における表示装置用前面板においては、上記基材層がポリイミド系樹脂基材またはガラス基材であることが好ましい。
　また、本開示における表示装置用前面板においては、上記衝撃吸収層がウレタン系樹脂またはポリエチレンテレフタレート系樹脂を含有することが好ましい。
　本開示の他の実施形態は、有機エレクトロルミネッセンス表示パネルと、上記有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの観察者側に配置された、上述の表示装置用前面板と、を備える、フレキシブル有機エレクトロルミネッセンス表示装置を提供する。
　本開示の他の実施形態は、表示装置用前面板に用いられる表示装置用積層体であって、Ａ層と、衝撃吸収層と、Ｂ層と、をこの順に有し、上記Ａ層および上記Ｂ層では、周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃におけるせん断貯蔵弾性率が２０ＭＰａ以下であり、上記衝撃吸収層では、周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃における引張貯蔵弾性率が２００ＭＰａ以上５０００ＭＰａ以下であり、ガラス転移温度が５０℃以上である、表示装置用積層体を提供する。
　本開示の他の実施形態は、Ａ層と、衝撃吸収層と、Ｂ層と、をこの順に有し、上記Ａ層および上記Ｂ層では、周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃におけるせん断貯蔵弾性率が２０ＭＰａ以下であり、上記衝撃吸収層は、ウレタン系樹脂を含有し、上記衝撃吸収層では、周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃における引張貯蔵弾性率が２００ＭＰａ以上５０００ＭＰａ以下であり、ガラス転移温度が５０℃以上である、積層体を提供する。
　本開示においては、耐衝撃性に優れる表示装置用前面板を提供することができるという効果を奏する。
本開示における表示装置用前面板を例示する概略断面図である。 本開示における表示装置用前面板を例示する概略断面図である。 本開示における表示装置用前面板を例示する概略断面図である。 本開示における表示装置を例示する概略断面図である。 本開示におけるフレキシブル有機エレクトロルミネッセンス表示装置を例示する概略断面図である。 本開示における表示装置用積層体を例示する概略断面図である。 本開示における積層体を例示する概略断面図である。 連続折り畳み試験を説明する模式図である。
　下記に、図面等を参照しながら本開示の実施の形態を説明する。ただし、本開示は多くの異なる態様で実施することが可能であり、下記に例示する実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。また、図面は説明をより明確にするため、実際の形態に比べ、各部の幅、厚み、形状等について模式的に表わされる場合があるが、あくまで一例であって、本開示の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。
　本明細書において、ある部材の上に他の部材を配置する態様を表現するにあたり、単に「上に」、あるいは「下に」と表記する場合、特に断りの無い限りは、ある部材に接するように、直上、あるいは直下に他の部材を配置する場合と、ある部材の上方、あるいは下方に、さらに別の部材を介して他の部材を配置する場合との両方を含むものとする。また、本明細書において、ある部材の面に他の部材を配置する態様を表現するにあたり、単に「面側に」または「面に」と表記する場合、特に断りの無い限りは、ある部材に接するように、直上、あるいは直下に他の部材を配置する場合と、ある部材の上方、あるいは下方に、さらに別の部材を介して他の部材を配置する場合との両方を含むものとする。
　以下、本開示における表示装置用前面板、フレキシブル有機エレクトロルミネッセンス表示装置、表示装置用積層体、および積層体について詳細に説明する。
Ａ．表示装置用前面板
　本開示における表示装置用前面板は、基材層と、Ａ層と、衝撃吸収層と、Ｂ層と、をこの順に有し、上記Ａ層および上記Ｂ層では、周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃におけるせん断貯蔵弾性率が２０ＭＰａ以下であり、上記衝撃吸収層では、周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃における引張貯蔵弾性率が２００ＭＰａ以上５０００ＭＰａ以下であり、ガラス転移温度が５０℃以上である。
　図１は、本開示における表示装置用前面板の一例を示す概略断面図である。図１に示すように、表示装置用前面板１は、基材層２と、Ａ層３と、衝撃吸収層４と、Ｂ層５と、をこの順に有する。Ａ層３およびＢ層５は所定のせん断貯蔵弾性率を有し、衝撃吸収層４は所定の引張貯蔵弾性率およびガラス転移温度を有する。
　本開示における表示装置用表面板は、衝撃吸収層を有することにより、表示装置用前面板に衝撃が加わった際に、衝撃吸収層が衝撃を吸収し、耐衝撃性を高めることができる。
　また、基材層がガラス基材である場合には、ガラス基材の割れを抑制することができる。
　さらに、本開示の表示装置用表面板がローラブルディスプレイに用いられた場合は、上記効果に加えて、巻き取った際の上記表示装置の内側と外側との間に生じる剪断応力を緩和することが可能となり、上記剪断応力に起因する巻き取りの際の種々の問題が生じ難くするという効果を有する。
　ここで、ＪＩＳ　Ｋ７２４４－４：１９９９（プラスチック－動的機械特性の試験方法　第４部：引張振動－非共振法）によれば、引張貯蔵弾性率の測定方法は、０．０１ＧＰａ～５ＧＰａの範囲の動的貯蔵弾性率の測定に適しており、１０ＧＰａぐらいまで測定可能であるとされている。一方、ＪＩＳ　Ｋ７２４４－６：１９９９（プラスチック－動的機械特性の試験方法　第６部：せん断振動－非共振法）によれば、せん断貯蔵弾性率の測定方法は、０．１ＭＰａ～５０ＭＰａの範囲の動的貯蔵弾性率の測定に適しており、５０ＭＰａ以上の弾性率の材料についても測定可能であるとされている。すなわち、比較的硬い層の場合には引張貯蔵弾性率、比較的柔らかい層の場合にはせん断貯蔵弾性率が適している。
　本開示における表示装置用前面板においては、Ａ層およびＢ層についてはせん断貯蔵弾性率、衝撃吸収層については引張貯蔵弾性率を規定しており、Ａ層およびＢ層は比較的柔らかい層であり、衝撃吸収層は比較的硬い層であるといえる。
　また、比較的柔らかい層であるＡ層およびＢ層のせん断貯蔵弾性率と、比較的硬い層である衝撃吸収層の引張貯蔵弾性率とを、直接的に比較することはできないが、一般に、引張貯蔵弾性率Ｅ’およびせん断貯蔵弾性率Ｇ’の関係は下記式（１）で表される。
　　　Ｅ’＝２（１＋ν）Ｇ’　　　（１）
（ここで、上記式（１）中、νはポアソン比を表す。）
ポアソン比νは、フィルム・プラスチック類の場合は０．３～０．４であることから、下記の関係式が成り立つ。
　　　Ｅ’≧２（１＋０．３）Ｇ’＞２Ｇ’
　引張貯蔵弾性率Ｅ’はせん断貯蔵弾性率Ｇ’の２倍以上となるため、本開示における表示装置用前面板においては、比較的硬い層である衝撃吸収層の動的貯蔵弾性率が、比較的柔らかい層であるＡ層およびＢ層の動的貯蔵弾性率よりも大きくなることは自明である。したがって、Ａ層およびＢ層は衝撃吸収層よりも柔らかい層であるといえる。
　本開示によれば、衝撃吸収層が、衝撃吸収層よりも柔らかいＡ層およびＢ層の間に配置されていることにより、耐衝撃性をさらに向上させることができる。これは、Ａ層およびＢ層が衝撃吸収層よりも柔らかく、変形しやすいことにより、表示装置用前面板に衝撃が加わった際に、Ａ層およびＢ層によって衝撃吸収層の変形が抑制されず、衝撃吸収層が変形しやすくなるため、より大きな衝撃吸収効果が発揮されるものと考えられる。
　また、本開示における表示装置用前面板においては、耐衝撃性に優れるため、基材層の厚みを薄くすることが可能であり、高いフレキシブル性を実現することができる。そのため、本開示における表示装置用前面板は、例えば、フォルダブルディスプレイ、ローラブルディスプレイ、ベンダブルディスプレイ等のフレキシブルディスプレイにおける前面板として使用することができる。
　さらに、本開示においては、衝撃吸収層のガラス転移温度が所定の値以上であることにより、環境温度において衝撃吸収層に含有される材料の状態が急激に変化することがないため、環境温度によらず優れた耐衝撃性およびフレキシブル性を維持することができる。
　以下、本開示における表示装置用前面板の各構成について説明する。
１．衝撃吸収層
　本開示における衝撃吸収層は、所定の引張貯蔵弾性率およびガラス転移温度を有し、Ａ層およびＢ層の間に配置され、衝撃吸収性を有し、透明性を有する部材である。
　衝撃吸収層の周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃における引張貯蔵弾性率は、２００ＭＰａ以上５０００ＭＰａ以下であり、好ましくは２５０ＭＰａ以上４０００ＭＰａ以下、より好ましくは３００ＭＰａ以上２０００ＭＰａ以下、特に好ましくは、３００ＭＰａ以上１０００ＭＰａ以下とすることができる。衝撃吸収層の上記引張貯蔵弾性率が大きすぎると、衝撃吸収層が硬くなり、表示装置用前面板に衝撃が加わった際に衝撃吸収層が衝撃を吸収しにくくなり、衝撃吸収性能が低下するおそれがある。
　また、衝撃吸収層の上記引張貯蔵弾性率が小さすぎると、衝撃吸収層が柔らかくなりすぎて、表示装置用前面板に衝撃が加わった際に衝撃吸収層が容易に変形してしまうため、十分に衝撃を吸収しきる前に、表示装置において表示装置用前面板よりも内側に配置される表示パネル等の部材に損傷を与えてしまうおそれがある。そのため、強度を保つために衝撃吸収層の厚みが厚くなり、表示装置用前面板全体の厚みが増大し、フレキシブル性が損なわれるおそれがある。
　ここで、衝撃吸収層の周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃における引張貯蔵弾性率は、周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃における引張貯蔵弾性率の測定を３回行い、３回の測定値の算術平均値とする。
　なお、９５０Ｈｚの周波数としたのは、この周波数が、数ｃｍの高さから物体を自由落下させたときに、表示装置用前面板の表面が数μｍから数十μｍ変形する周波数域に含まれており、かつ、表示装置において表示装置用前面板よりも内側に配置される表示パネル等の部材に損傷を与える周波数域に含まれているからである。
　ここで、衝撃吸収層の引張貯蔵弾性率Ｅ’は、動的粘弾性測定装置（ＤＭＡ）によって測定することができる。動的粘弾性測定装置（ＤＭＡ）によって、衝撃吸収層の引張貯蔵弾性率Ｅ’を測定する際には、まず、衝撃吸収層を４０ｍｍ×５ｍｍの長方形状に打ち抜いて、測定サンプルを得る。そして、この測定サンプルを、動的粘弾性測定装置の引張測定治具に取り付ける。具体的には、測定治具は、上下にそれぞれフィルムを挟むチャック治具を備えており、上記の長方形状の測定サンプルの端部の一方を上側のチャックに、他方を下側のチャックに、引っ張り方向が測定サンプルの長手方向になるように固定する。
　この際、チャック間距離が２０ｍｍで、測定サンプルに弛みの無いように、また引っ張りすぎないように調整して固定する。その後、温度２３℃の環境下で、引張り荷重（静荷重）をかけ、引張法（正弦波歪み、引張モード、歪み量：自動歪み）で周波数９５０Ｈｚの縦振動を与えて、引張貯蔵弾性率Ｅ’を測定する。動的粘弾性測定装置としては、例えば、ユービーエム社製のＲｈｅｏｇｅｌ－Ｅ４０００を用いることができる。なお、上記方法における具体的な測定条件を下記に示す。
（引張貯蔵弾性率の測定条件）
・測定サンプル：４０ｍｍ×５ｍｍの矩形
・測定治具：引っ張り
・チャック間距離（チャック間測定試料長さ）：２０ｍｍ
・歪み波形：正弦波
・歪み制御：自動調整
・周波数：９５０Ｈｚ
・温度：２３℃
・静荷重制御：５０ｇ（静荷重一定）、ただし荷重印加時にチャック間距離が２ｍｍ以上延びる場合は、荷重を小さくして１０ｇ（静荷重一定）または５ｇ（静荷重一定）とする。
　また、衝撃吸収層の引張貯蔵弾性率を測定するに際しては、衝撃吸収層から基材層、Ａ層、Ｂ層を剥離してから測定を行うものとする。基材層、Ａ層、Ｂ層の剥離は、例えば、以下のようにして行うことができる。まず、表示装置用前面板をドライヤーで加熱し、衝撃吸収層と他の層との界面と思われる部位にカッターの刃先を入れて、ゆっくりと剥離していく。このような加熱と剥離を繰り返すことで、衝撃吸収層から基材層、Ａ層、Ｂ層を剥離することができる。なお、このような剥離工程があったとしても、測定には大きな影響はない。
　衝撃吸収層のガラス転移温度は、５０℃以上であり、好ましくは６０℃以上、より好ましくは８０℃以上とすることができる。また、衝撃吸収層のガラス転移温度は、例えば２００℃以下とすることができる。衝撃吸収層のガラス転移温度が上記範囲であることにより、環境温度において衝撃吸収層に含有される材料の状態が急激に変化することがないため、環境温度によらず優れたフレキシブル性を維持することができる。
　ここで、衝撃吸収層のガラス転移温度は、引張損失正接（ｔａｎδ）のピークトップの値に基づく方法（ＤＭＡ法）により測定された値を意味する。動的粘弾性測定装置（ＤＭＡ）によって、衝撃吸収層の引張貯蔵弾性率Ｅ’、引張損失弾性率Ｅ”および引張損失正接ｔａｎδを測定する際には、まず、衝撃吸収層を４０ｍｍ×５ｍｍの長方形状に打ち抜いて、測定サンプルを得る。そして、この測定サンプルを、動的粘弾性測定装置の引張測定治具に取り付ける。具体的には、測定治具は、上下にそれぞれフィルムを挟むチャック治具を備えており、上記の長方形状の測定サンプルの端部の一方を上側のチャックに、他方を下側のチャックに、引っ張り方向が測定サンプルの長手方向になるように固定する。
　この際、チャック間距離が２０ｍｍで、測定サンプルに弛みの無いように、また引っ張りすぎないように調整して固定する。その後、引張り荷重（静荷重）をかけながら、周波数１Ｈｚの振動を与えて、－５０℃以上２００℃以下の範囲での動的粘弾性測定を行い、それぞれの温度での衝撃吸収層の引張貯蔵弾性率Ｅ’、引張損失弾性率Ｅ”および引張損失正接ｔａｎδを測定する。衝撃吸収層のガラス転移温度は、－５０℃以上２００℃以下の範囲での引張損失正接ｔａｎδがピークとなる温度とする。なお、周波数を１Ｈｚとしたのは、フレキシブルディスプレイの折り畳み操作がこの周波数域の動作であるため、折り畳み試験によるフレキシブルディスプレイの損傷を確認するためである。動的粘弾性測定装置としては、例えば、ユービーエム社製のＲｈｅｏｇｅｌ－Ｅ４０００を用いることができる。なお、上記方法における具体的な測定条件を下記に示す。
（ガラス転移温度の測定条件）
・測定サンプル：４０ｍｍ×５ｍｍの矩形
・測定治具：引っ張り
・チャック間距離（チャック間測定試料長さ）：２０ｍｍ
・測定モード：温度依存性（温度範囲：－５０℃～２００℃、ステップ温度：１℃、昇温速度：２℃／ｍｉｎ）
・歪み波形：正弦波
・歪み制御：自動調整
・周波数：１Ｈｚ（連続加振）
・静荷重制御：５０ｇ（静荷重一定）、ただし荷重印加時にチャック間距離が２ｍｍ以上延びる場合は、荷重を小さくして１０ｇ（静荷重一定）または５ｇ（静荷重一定）とする。
　衝撃吸収層は、透明性を有する。具体的には、衝撃吸収層の全光線透過率は、例えば８５％以上であることが好ましく、８８％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。このように全光線透過率が高いことにより、透明性が良好な表示装置用前面板とすることができる。
　ここで、衝撃吸収層の全光線透過率は、ＪＩＳ　Ｋ７３６１－１に準拠して測定することができ、例えば村上色彩技術研究所製のヘイズメーターＨＭ１５０により測定することができる。
　また、衝撃吸収層のヘイズは、例えば５％以下であることが好ましく、２％以下であることがより好ましく、１％以下であることがさらに好ましい。このようにヘイズが低いことにより、透明性が良好な表示装置用前面板とすることができる。
　ここで、衝撃吸収層のヘイズは、ＪＩＳ　Ｋ－７１３６に準拠して測定することができ、例えば村上色彩技術研究所製のヘイズメーターＨＭ１５０により測定することができる。
　衝撃吸収層の材料としては、上述の引張貯蔵弾性率およびガラス転移温度を満たし、透明性を有する材料であれば特に限定されるものではなく、例えば、ウレタン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂等が挙げられる。中でも、ウレタン系樹脂が好ましい。ウレタン系樹脂を用いることにより、衝撃吸収層の上記引張貯蔵弾性率および上記せん断貯蔵弾性率を上記範囲の中でも小さくすることができ、すなわち衝撃吸収層を変形しやすくすることができ、衝撃吸収性能を高めることができるからである。
　ウレタン系樹脂は、ウレタン結合を含む樹脂である。ウレタン系樹脂としては、電離放射線硬化性ウレタン系樹脂組成物の硬化物や熱硬化性ウレタン系樹脂組成物の硬化物等が挙げられる。これらの中でも、高硬度が得られ、硬化速度も早く量産性に優れる観点から、電離放射線硬化性ウレタン系樹脂組成物の硬化物が好ましい。
　熱硬化性ウレタン系樹脂組成物は、例えば、ポリオール化合物と、イソシアネート化合物とを含むことができる。ポリオール化合物およびイソシアネート化合物は、モノマー、オリゴマー、およびプレポリマーのいずれであってもよい。
　電離放射線硬化性ウレタン系樹脂組成物は、例えば、ウレタン（メタ）アクリレートを含むことができる。ウレタン（メタ）アクリレートは、モノマー、オリゴマー、およびプレポリマーのいずれであってもよい。
　ウレタン（メタ）アクリレート中の（メタ）アクリロイル基の数（官能基数）は、例えば、２以上４以下であることが好ましく、２以上３以下であることがより好ましい。ウレタン（メタ）アクリレート中の（メタ）アクリロイル基の数が少ないと、硬度が低くなるおそれがある。また、ウレタン（メタ）アクリレート中の（メタ）アクリロイル基の数が多いと、硬化収縮が大きくなり、衝撃吸収層がカールしてしまい、また折り曲げ時に衝撃吸収層にクラックが入るおそれがある。
　なお、「（メタ）アクリレート」とは、「アクリレート」および「メタクリレート」の両方を含む意味であり、また「（メタ）アクリロイル基」とは、「アクリロイル基」および「メタクリロイル基」の両方を含む意味である。
　ウレタン（メタ）アクリレートの重量平均分子量は、例えば、１５００以上２００００以下であることが好ましく、２０００以上１５０００以下であることがより好ましい。ウレタン（メタ）アクリレートの重量平均分子量が小さすぎると、耐衝撃性が低下するおそれがある。また、ウレタン（メタ）アクリレートの重量平均分子量が大きすぎると、電離放射線硬化性ウレタン系樹脂組成物の粘度が上昇し、塗工性が悪化するおそれがある。なお、ウレタン（メタ）アクリレートの重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定されたポリスチレン換算で求められる値をいう。
　ウレタン系樹脂が電離放射線硬化性ウレタン系樹脂組成物の硬化物であり、電離放射線硬化性ウレタン系樹脂組成物がウレタン（メタ）アクリレートを含む場合、ウレタン系樹脂は、ウレタン（メタ）アクリレート由来の構造を有する繰り返し単位を有する。ウレタン（メタ）アクリレート由来の構造を有する繰り返し単位としては、例えば、下記一般式（１）、（２）、（３）または（４）で表される構造等が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　上記一般式（１）中、Ｒ１は分岐鎖状アルキル基を示し、Ｒ２は分岐鎖状アルキル基または飽和環状脂肪族基を示し、Ｒ３は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ４は水素原子、メチル基またはエチル基を示し、ｍは０以上の整数を示し、ｘは０～３の整数を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
　上記一般式（２）中、Ｒ１は分岐鎖状アルキル基を示し、Ｒ２は分岐鎖状アルキル基または飽和環状脂肪族基を示し、Ｒ３は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ４は水素原子、メチル基またはエチル基を示し、ｎは１以上の整数を示し、ｘは０～３の整数を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
　上記一般式（３）中、Ｒ１は分岐鎖状アルキル基を示し、Ｒ２は分岐鎖状アルキル基または飽和環状脂肪族基を示し、Ｒ３は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ４は水素原子、メチル基またはエチル基を示し、ｍは０以上の整数を示し、ｘは０～３の整数を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　上記一般式（４）中、Ｒ１は分岐鎖状アルキル基を示し、Ｒ２は分岐鎖状アルキル基または飽和環状脂肪族基を示し、Ｒ３は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ４は水素原子、メチル基またはエチル基を示し、ｎは１以上の整数を示し、ｘは０～３の整数を示す。
　なお、衝撃吸収層を構成する樹脂が、どのような構造の高分子鎖（繰り返し単位）によって形成されているかは、例えば、熱分解ガスクロマトグラフ質量分析法（ＧＣ－ＭＳ）およびフーリエ変換赤外分光法（ＦＴ－ＩＲ）によって衝撃吸収層を分析することによって判断可能である。特に、熱分解ＧＣ－ＭＳは、衝撃吸収層に含まれる単量体単位をモノマー成分として検知できるため有用である。
　衝撃吸収層は、必要に応じて、例えば、紫外線吸収剤、分光透過率調整剤、防汚剤、無機粒子、レベリング剤、重合開始剤等を含んでいてもよい。
　衝撃吸収層の厚みは、衝撃吸収性能を発揮することが可能な厚みであれば特に限定されるものではなく、例えば、５０μｍ以上１５０μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは７０μｍ以上１２０μｍ以下、さらに好ましくは８０μｍ以上１００μｍ以下とすることができる。衝撃吸収層の厚みが薄すぎると、十分な衝撃吸収性能が得られない場合がある。また、衝撃吸収層の厚みが厚すぎると、フレキシブル性が損なわれる場合がある。
　ここで、衝撃吸収層の厚みは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）又は走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）により観察される表示装置用前面板の厚み方向の断面から測定して得られた任意の１０箇所の厚みの平均値とすることができる。なお、表示装置用前面板が有する他の層の厚みの測定方法についても同様とすることができる。
　衝撃吸収層としては、例えば、フィルム状の衝撃吸収層を用いてもよい。また、例えば、支持体上に衝撃吸収層用組成物を塗布して、衝撃吸収層を形成してもよい。
２．Ａ層およびＢ層
　本開示におけるＡ層およびＢ層は、所定のせん断貯蔵弾性率を有し、上記衝撃吸収層の両面にそれぞれ配置され、透明性を有する部材である。
　Ａ層およびＢ層の周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃におけるせん断貯蔵弾性率は、２０ＭＰａ以下であり、好ましくは１８ＭＰａ以下、より好ましくは１５ＭＰａ以下とすることができる。Ａ層およびＢ層の上記せん断貯蔵弾性率が上記範囲であることにより、上記衝撃吸収層よりも柔らかい層とすることができる。そのため、表示装置用前面板に衝撃が加わった際に、衝撃吸収層を変形しやすくすることができ、耐衝撃性を向上させることができる。また、Ａ層およびＢ層の上記せん断貯蔵弾性率は、例えば、０．０５ＭＰａ以上であることが好ましく、０．５ＭＰａ以上であることがより好ましく、３ＭＰａ以上であることがさらに好ましい。Ａ層およびＢ層の上記せん断貯蔵弾性率が上記範囲であり、ある程度の硬さを有することにより、衝撃吸収性を高めることができる。
　Ａ層およびＢ層の上記せん断貯蔵弾性率は、同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。
　ここで、Ａ層およびＢ層の周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃におけるせん断貯蔵弾性率は、周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃におけるせん断貯蔵弾性率の測定を３回行い、３回の測定値の算術平均値とする。
　ここで、Ａ層およびＢ層のせん断貯蔵弾性率Ｇ’は、動的粘弾性測定装置（ＤＭＡ）によって測定することができる。動的粘弾性測定装置（ＤＭＡ）によって、Ａ層またはＢ層のせん断貯蔵弾性率Ｇ’を測定する際には、まず、Ａ層またはＢ層を１０ｍｍ×５ｍｍの長方形状に打ち抜いて、測定サンプルを得る。そして、この測定サンプルを２枚準備し、動的粘弾性測定装置の固体せん断治具に取り付ける。具体的には、固体せん断治具は、垂直方向に３枚の板、すなわち、厚み１ｍｍの１枚の金属製の中板、および、この中板の両側に配置された２枚のＬ字形状の金属製の外板を備えており、中板と一方の外板との間に一方の測定サンプルを挟み、かつ、中板と他方の外板との間に他方の測定サンプルを挟む。そして、動的粘弾性測定装置に、固体せん断治具をチャック間距離２０ｍｍで設置し、温度２３℃の環境下で、引中板を固定しながら２枚の外板に歪み量１％かつ外板に周波数９５０Ｈｚの縦振動を与えて、せん断貯蔵弾性率Ｇ’を測定する。動的粘弾性測定装置としては、例えば、ユービーエム社製のＲｈｅｏｇｅｌ－Ｅ４０００を用いることができる。なお、上記方法における具体的な測定条件を下記に示す。
（せん断貯蔵弾性率の測定条件）
・測定サンプル：１０ｍｍ×５ｍｍの矩形（２枚）
・測定治具：固体せん断
・歪み波形：正弦波
・歪制御：自動調整
・周波数：９５０Ｈｚ
・温度：２３℃
　また、Ａ層およびＢ層のガラス転移温度は、０℃以上であることが好ましく、中でも３５℃以上、特に５５℃以上とすることが好ましい。また、Ａ層およびＢ層のガラス転移温度は、例えば１２０℃以下とすることができる。Ａ層およびＢ層のガラス転移温度が上記範囲であることにより、環境温度においてＡ層およびＢ層に含有される材料の状態が急激に変化することがないため、環境温度によらず優れたフレキシブル性を維持することができる。
　ここで、Ａ層およびＢ層のガラス転移温度は、せん断損失正接（ｔａｎδ）のピークトップの値に基づく方法（ＤＭＡ法）により測定された値とする。動的粘弾性測定装置（ＤＭＡ）によって、Ａ層またはＢ層のせん断貯蔵弾性率Ｇ’を測定する際には、まず、Ａ層またはＢ層を１０ｍｍ×５ｍｍの長方形状に打ち抜いて、測定サンプルを得る。そして、この測定サンプルを２枚準備し、動的粘弾性測定装置の固体せん断治具に取り付ける。具体的には、固体せん断治具は、垂直方向に３枚の板、すなわち、厚み１ｍｍの１枚の金属製の中板、および、この中板の両側に配置された２枚のＬ字形状の金属製の外板を備えており、中板と一方の外板との間に一方の測定サンプルを挟み、かつ、中板と他方の外板との間に他方の測定サンプルを挟む。そして、動的粘弾性測定装置に、固体せん断治具をチャック間距離２０ｍｍで設置し、－５０℃以上２００℃以下の範囲で引中板を固定しながら２枚の外板に歪み量１％かつ外板に周波数１Ｈｚの縦振動を与えて動的粘弾性測定を行い、それぞれの温度でのせん断貯蔵弾性率Ｇ’を測定する。動的粘弾性測定装置としては、例えば、ユービーエム社製のＲｈｅｏｇｅｌ－Ｅ４０００を用いることができる。なお、上記方法における具体的な測定条件を下記に示す。
（ガラス転移温度の測定条件）
・測定サンプル：１０ｍｍ×５ｍｍの矩形（２枚）
・測定治具：固体せん断
・歪み波形：正弦波
・歪制御：自動調整
・周波数：１Ｈｚ
・測定モード：温度依存性（温度範囲：－５０℃～２００℃、ステップ温度：１℃、昇温速度：２℃／ｍｉｎ）
　Ａ層およびＢ層の材料としては、上述のせん断貯蔵弾性率を満たし、透明性を有する材料であれば特に限定されるものではないが、中でも、粘着剤、すなわち感圧接着剤（ＰＳＡ）であることが好ましい。粘着剤は比較的柔らかいため、粘着剤を用いることにより、Ａ層およびＢ層の上記せん断貯蔵弾性率を上記範囲のように小さくすることができる。
　Ａ層およびＢ層の材料は、同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。
　Ａ層に用いられる粘着剤としては、上述のせん断貯蔵弾性率を満たし、透明性を有し、上記の衝撃吸収層と基材層とを接着することが可能な粘着剤であれば特に限定されるものではなく、例えば、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ゴム系粘着剤、ウレタン系粘着剤等を挙げることができ、上記の衝撃吸収層および基材層の材料等に応じて適宜選択することができる。中でも、アクリル系粘着剤やシリコーン系粘着剤が好ましい。透明性、耐候性、耐久性、耐熱性に優れ、低コストだからである。
　また、Ｂ層に用いられる粘着剤としては、上述のせん断貯蔵弾性率を満たし、透明性を有し、上記衝撃吸収層と、上記Ｂ層の衝撃吸収層とは反対の面に配置される任意の層とを接着することが可能な粘着剤であれば特に限定されるものではなく、例えば、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ゴム系粘着剤、ウレタン系粘着剤等を挙げることができ、上記の衝撃吸収層および任意の層の材料等に応じて適宜選択することができる。中でも、アクリル系粘着剤やシリコーン系粘着剤が好ましい。透明性、耐候性、耐久性、耐熱性に優れ、低コストだからである。
　Ａ層およびＢ層の厚みは、例えば、１０μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは２５μｍ以上８０μｍ以下、さらに好ましくは４０μｍ以上６０μｍ以下とすることができる。Ａ層およびＢ層の厚みが薄すぎると、表示装置用前面板に衝撃が加わった際に、衝撃吸収層を変形させやすくする効果が十分に得られない場合がある。また、Ａ層およびＢ層の厚みが厚すぎると、フレキシブル性が損なわれる場合がある。
　Ａ層およびＢ層の厚みは、同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。
　Ａ層およびＢ層としては、例えば、フィルム状のＡ層およびＢ層を用いてもよい。また、例えば、支持体上または衝撃吸収層上にＡ層用組成物またはＢ層用組成物を塗布して、Ａ層またはＢ層を形成してもよい。
３．基材層
　本開示における基材層は、上記のＡ層、衝撃吸収層およびＢ層を支持し、透明性を有する部材である。
（１）基材層の特性
　基材層においては、上記衝撃吸収層の周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃における引張貯蔵弾性率に対する、基材層の周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃における引張貯蔵弾性率の比が、例えば、１．５以上であることが好ましく、３以上であることがより好ましく、５以上であることがさらに好ましい。また、上記引張貯蔵弾性率の比は、例えば、７０以下であることが好ましい。上記引張貯蔵弾性率の比が上記範囲であるように、衝撃吸収層が基材層よりも柔らかいことにより、表示装置用前面板に衝撃が加わった際に、衝撃吸収層が変形することで、衝撃を吸収することができ、耐衝撃性を高めることができる。また、上記引張貯蔵弾性率の比が上記範囲であるように、基材層が衝撃吸収層よりも硬いことにより、高い硬度を有する基材層とすることができる。
　基材層の上記引張貯蔵弾性率としては、上記引張貯蔵弾性率の比を満たしていれば特に限定されない。例えば、後述するように基材層が樹脂基材である場合、樹脂基材の周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃における引張貯蔵弾性率は、５０００ＭＰａ以上、７５００ＭＰａ以下とすることができる。一方、例えば、後述するように基材層がガラス基材である場合、一般的にガラス基材は樹脂基材よりも引張貯蔵弾性率がはるかに大きく、例えばガラス基材の周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃における引張貯蔵弾性率は数万ＭＰａ程度である。
　ここで、基材層の周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃における引張貯蔵弾性率は、周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃における引張貯蔵弾性率の測定を３回行い、３回の測定値の算術平均値とする。
　また、基材層の引張貯蔵弾性率の測定方法は、上述の衝撃吸収層の引張貯蔵弾性率の測定方法と同様とすることができる。
（２）基材層の材料
　基材層としては、上述の引張貯蔵弾性率を満たし、透明性を有するものであれば特に限定されるものではなく、例えば、樹脂基材、ガラス基材等が挙げられる。
（ａ）樹脂基材
　樹脂基材を構成する樹脂としては、上述の引張貯蔵弾性率を満たし、透明性を有する樹脂基材を得ることができるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂等が挙げられる。ポリイミド系樹脂としては、例えば、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド等が挙げられる。ポリエステル系樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等が挙げられる。中でも、屈曲耐性を有し、優れた硬度および透明性を有することから、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、あるいはこれらの混合物が好ましく、ポリイミド系樹脂がより好ましい。
　ポリイミド系樹脂としては、上述の引張貯蔵弾性率を満たし、透明性を有するものであれば特に限定されるものではないが、上記の中でも、ポリイミド、ポリアミドイミドが好ましく用いられる。
（ｉ）ポリイミド
　ポリイミドは、テトラカルボン酸成分とジアミン成分とを反応させて得られるものである。ポリイミドとしては、上述の引張貯蔵弾性率を満たし、透明性を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えば、優れた透明性および優れた剛性を有する点から、下記一般式（５）および下記一般式（７）で表される構造からなる群から選ばれる少なくとも１種の構造を有することが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
　上記一般式（５）において、Ｒ５はテトラカルボン酸残基である４価の基、Ｒ６は、ｔｒａｎｓ－シクロヘキサンジアミン残基、ｔｒａｎｓ－１，４－ビスメチレンシクロヘキサンジアミン残基、４，４’－ジアミノジフェニルスルホン残基、３，４’－ジアミノジフェニルスルホン残基、および下記一般式（６）で表される２価の基からなる群から選ばれる少なくとも１種の２価の基を表す。ｎは繰り返し単位数を表し、１以上である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
　上記一般式（６）において、Ｒ７およびＲ８はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、またはパーフルオロアルキル基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
　上記一般式（７）において、Ｒ９はシクロヘキサンテトラカルボン酸残基、シクロペンタンテトラカルボン酸残基、ジシクロヘキサン－３，４，３’，４’－テトラカルボン酸残基、および４，４'－（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸残基からなる群から選ばれる少なくとも１種の４価の基、Ｒ１０は、ジアミン残基である２価の基を表す。ｎ’は繰り返し単位数を表し、１以上である。
　なお、「テトラカルボン酸残基」とは、テトラカルボン酸から、４つのカルボキシル基を除いた残基をいい、テトラカルボン酸二無水物から酸二無水物構造を除いた残基と同じ構造を表す。また、「ジアミン残基」とは、ジアミンから２つのアミノ基を除いた残基をいう。
　上記一般式（５）における、Ｒ５はテトラカルボン酸残基であり、テトラカルボン酸二無水物から酸二無水物構造を除いた残基とすることができる。テトラカルボン酸二無水物としては、例えば国際公開第２０１８／０７０５２３号に記載のものを挙げることができる。上記一般式（５）におけるＲ５としては、中でも、透明性が向上し、かつ剛性が向上する点から、４，４’－（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸残基、３，３’，４，４’－ビフェニルテトラカルボン酸残基、ピロメリット酸残基、２，３’，３，４’－ビフェニルテトラカルボン酸残基、３，３’，４，４’－ベンゾフェノンテトラカルボン酸残基、３，３’，４，４’－ジフェニルスルホンテトラカルボン酸残基、４，４'-オキシジフタル酸残基、シクロヘキサンテトラカルボン酸残基、およびシクロペンタンテトラカルボン酸残基からなる群から選択される少なくとも１種を含むことが好ましく、さらに、４，４’－（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸残基、４，４’－オキシジフタル酸残基、および３，３’，４，４’－ジフェニルスルホンテトラカルボン酸残基からなる群から選択される少なくとも１種を含むことが好ましい。
　Ｒ５において、これらの好適な残基を合計で、５０モル％以上含むことが好ましく、さらに７０モル％以上含むことが好ましく、よりさらに９０モル％以上含むことが好ましい。
　また、Ｒ５として、３，３’，４，４’－ビフェニルテトラカルボン酸残基、３，３’，４，４’－ベンゾフェノンテトラカルボン酸残基、およびピロメリット酸残基からなる群から選択される少なくとも１種のような剛直性を向上するのに適したテトラカルボン酸残基群（グループＡ）と、４，４’－（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸残基、２，３’，３，４’－ビフェニルテトラカルボン酸残基、３，３’，４，４’－ジフェニルスルホンテトラカルボン酸残基、４，４'－オキシジフタル酸残基、シクロヘキサンテトラカルボン酸残基、およびシクロペンタンテトラカルボン酸残基からなる群から選択される少なくとも１種のような透明性を向上するのに適したテトラカルボン酸残基群（グループＢ）とを混合して用いることも好ましい。
　この場合、上記の剛直性を向上するのに適したテトラカルボン酸残基群（グループＡ）と、透明性を向上するのに適したテトラカルボン酸残基群（グループＢ）との含有比率は、透明性を向上するのに適したテトラカルボン酸残基群（グループＢ）１モルに対して、剛直性を向上するのに適したテトラカルボン酸残基群（グループＡ）が０．０５モル以上９モル以下であることが好ましく、さらに０．１モル以上５モル以下であることが好ましく、よりさらに０．３モル以上４モル以下であることが好ましい。
　上記一般式（５）におけるＲ６としては、中でも、透明性が向上し、かつ剛性が向上する点から、４，４’－ジアミノジフェニルスルホン残基、３，４’－ジアミノジフェニルスルホン残基、および上記一般式（６）で表される２価の基からなる群から選ばれる少なくとも１種の２価の基であることが好ましく、さらに、４，４’－ジアミノジフェニルスルホン残基、３，４’－ジアミノジフェニルスルホン残基、ならびに、Ｒ７およびＲ８がパーフルオロアルキル基である上記一般式（６）で表される２価の基からなる群から選ばれる少なくとも１種の２価の基であることが好ましい。
　上記一般式（７）におけるＲ９としては、中でも、透明性が向上し、かつ剛性が向上する点から、４，４'－（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸残基、３，３’，４，４’－ジフェニルスルホンテトラカルボン酸残基、およびオキシジフタル酸残基を含むことが好ましい。
　Ｒ９において、これらの好適な残基を、５０モル％以上含むことが好ましく、さらに７０モル％以上含むことが好ましく、よりさらに９０モル％以上含むことが好ましい。
　上記一般式（７）におけるＲ１０はジアミン残基であり、ジアミンから２つのアミノ基を除いた残基とすることができる。ジアミンとしては、例えば国際公開第２０１８／０７０５２３号に記載のものを挙げることができる。上記一般式（７）におけるＲ１０としては、中でも、透明性が向上し、かつ剛性が向上する点から、２，２’－ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン残基、ビス［４－（４－アミノフェノキシ）フェニル］スルホン残基、４，４’－ジアミノジフェニルスルホン残基、２，２－ビス［４－（４－アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン残基、ビス［４－（３－アミノフェノキシ）フェニル］スルホン残基、４，４’－ジアミノ－２，２’－ビス（トリフルオロメチル）ジフェニルエーテル残基、１，４－ビス［４－アミノ－２－（トリフルオロメチル）フェノキシ］ベンゼン残基、２，２－ビス［４－（４－アミノ－２－トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン残基、４，４’－ジアミノ－２－（トリフルオロメチル）ジフェニルエーテル残基、４，４’－ジアミノベンズアニリド残基、Ｎ，Ｎ’－ビス（４－アミノフェニル）テレフタルアミド残基、および９，９－ビス（４－アミノフェニル）フルオレン残基からなる群から選ばれる少なくとも１種の２価の基を含むことが好ましく、さらに、２，２’－ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン残基、ビス［４－（４－アミノフェノキシ）フェニル］スルホン残基、および４，４’－ジアミノジフェニルスルホン残基からなる群から選ばれる少なくとも１種の２価の基を含むことが好ましい。
　Ｒ１０において、これらの好適な残基を合計で、５０モル％以上含むことが好ましく、さらに７０モル％以上含むことが好ましく、よりさらに９０モル％以上含むことが好ましい。
　また、Ｒ１０として、ビス［４－（４－アミノフェノキシ）フェニル］スルホン残基、４，４’－ジアミノベンズアニリド残基、Ｎ，Ｎ’－ビス（４－アミノフェニル）テレフタルアミド残基、パラフェニレンジアミン残基、メタフェニレンジアミン残基、および４，４’－ジアミノジフェニルメタン残基からなる群から選択される少なくとも１種のような剛直性を向上するのに適したジアミン残基群（グループＣ）と、２，２’－ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン残基、４，４’－ジアミノジフェニルスルホン残基、２，２－ビス［４－（４－アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン残基、ビス［４－（３－アミノフェノキシ）フェニル］スルホン残基、４，４’－ジアミノ－２，２’－ビス（トリフルオロメチル）ジフェニルエーテル残基、１，４－ビス［４－アミノ－２－（トリフルオロメチル）フェノキシ］ベンゼン残基、２，２－ビス［４－（４－アミノ－２－トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン残基、４，４’－ジアミノ－２－（トリフルオロメチル）ジフェニルエーテル残基、および９，９－ビス（４－アミノフェニル）フルオレン残基からなる群から選択される少なくとも１種のような透明性を向上するのに適したジアミン残基群（グループＤ）と、を混合して用いることも好ましい。
　この場合、上記の剛直性を向上するのに適したジアミン残基群（グループＣ）と、透明性を向上するのに適したジアミン残基群（グループＤ）との含有比率は、透明性を向上するのに適したジアミン残基群（グループＤ）１モルに対して、剛直性を向上するのに適したジアミン残基群（グループＣ）が０．０５モル以上９モル以下であることが好ましく、さらに０．１モル以上５モル以下であることが好ましく、０．３モル以上４モル以下であることがより好ましい。
　上記一般式（５）および上記一般式（７）で表される構造において、ｎおよびｎ’はそれぞれ独立に、繰り返し単位数を表し、１以上である。ポリイミドにおける繰り返し単位数ｎは、構造に応じて適宜選択されれば良く、特に限定されない。平均繰り返し単位数は、例えば１０以上２０００以下とすることができ、１５以上１０００以下であることが好ましい。
　また、ポリイミドは、その一部にポリアミド構造を含んでいても良い。含んでいても良いポリアミド構造としては、例えば、トリメリット酸無水物のようなトリカルボン酸残基を含むポリアミドイミド構造や、テレフタル酸のようなジカルボン酸残基を含むポリアミド構造が挙げられる。
　透明性を向上させ、且つ、表面硬度を向上させる点から、Ｒ５およびＲ９のテトラカルボン酸残基である４価の基、及び、Ｒ６およびＲ１０のジアミン残基である２価の基の少なくとも１つは、芳香族環を含み、且つ、（ｉ）フッ素原子、（ｉｉ）脂肪族環、及び（ｉｉｉ）芳香族環同士をスルホニル基又はフッ素で置換されていてもよいアルキレン基で連結した構造、からなる群から選択される少なくとも１つを含むことが好ましい。ポリイミドが、芳香族環を有するテトラカルボン酸残基及び芳香族環を有するジアミン残基から選ばれる少なくとも一種を含むことにより、分子骨格が剛直となり配向性が高まり、表面硬度が向上するが、剛直な芳香族環骨格は吸収波長が長波長に伸びる傾向があり、可視光領域の透過率が低下する傾向がある。一方で、ポリイミドが（ｉ）フッ素原子を含むと、ポリイミド骨格内の電子状態を電荷移動し難くすることができる点から透明性が向上する。また、ポリイミドが（ｉｉ）脂肪族環を含むと、ポリイミド骨格内のπ電子の共役を断ち切ることで骨格内の電荷の移動を阻害することができる点から透明性が向上する。また、ポリイミドが（ｉｉｉ）芳香族環同士をスルホニル基又はフッ素で置換されていてもよいアルキレン基で連結した構造を含むと、ポリイミド骨格内のπ電子の共役を断ち切ることで骨格内の電荷の移動を阻害することができる点から透明性が向上する。
　中でも、透明性を向上させ、且つ、表面硬度を向上させる点から、Ｒ５およびＲ９のテトラカルボン酸残基である４価の基、及び、Ｒ６およびＲ１０のジアミン残基である２価の基の少なくとも１つは、芳香族環とフッ素原子とを含むことが好ましく、Ｒ６およびＲ１０のジアミン残基である２価の基が、芳香族環とフッ素原子とを含むことが好ましい。
　このようなポリイミドの具体例としては、国際公開第２０１８／０７０５２３号に記載の特定の構造を有するものが挙げられる。
　ポリイミドは、公知の方法により合成することができる。また、ポリイミドは、市販のものを用いても良い。ポリイミドの市販品としては、例えば、三菱ガス化学社製のネオプリム（登録商標）等が挙げられる。
　ポリイミドの重量平均分子量は、例えば、３０００以上５０万以下であることが好ましく、５０００以上３０万以下であることがより好ましく、１万以上２０万以下であることがさらに好ましい。重量平均分子量が小さすぎると、充分な強度が得られない場合があり、重量平均分子量が大きすぎると、粘度が上昇し、溶解性が低下するため、表面が平滑で厚み均一な基材層が得られない場合がある。
　なお、ポリイミドの重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定できる。具体的には、ポリイミドを０．１質量％の濃度のＮ－メチルピロリドン（ＮＭＰ）溶液とし、展開溶媒は、含水量５００ｐｐｍ以下の３０ｍｍｏｌ％ＬｉＢｒ－ＮＭＰ溶液を用い、東ソー製ＧＰＣ装置（ＨＬＣ－８１２０、使用カラム：ＳＨＯＤＥＸ製ＧＰＣ　ＬＦ－８０４）を用い、サンプル打ち込み量５０μＬ、溶媒流量０．４ｍＬ／分、３７℃の条件で測定を行う。重量平均分子量は、サンプルと同濃度のポリスチレン標準サンプルを基準に求める。
（ｉｉ）ポリアミドイミド
　ポリアミドイミドとしては、上述の引張貯蔵弾性率を満たし、透明性を有するものであれば特に限定されるものではなく、例えば、ジアンヒドリド由来の構成単位およびジアミン由来の構成単位を含む第１ブロックと、芳香族ジカルボニル化合物由来の構成単位および芳香族ジアミン由来の構成単位を含む第２ブロックと、を有するものを挙げることができる。上記ポリアミドイミドにおいて、上記ジアンヒドリドは、例えば、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）および２－ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物（６ＦＤＡ）を含むことができる。また、上記ジアミンは、ビストリフルオロメチルベンジジン（ＴＦＤＢ）を含むことができる。すなわち、上記ポリアミドイミドは、ジアンヒドリドおよびジアミンを含む単量体が共重合された第１ブロックと、芳香族ジカルボニル化合物および芳香族ジアミンを含む単量体が共重合された第２ブロックとを有するポリアミドイミド前駆体をイミド化させた構造を有するものである。上記ポリアミドイミドは、イミド結合を含む第１ブロックとアミド結合を含む第２ブロックとを有することにより、光学特性だけでなく、熱的、機械的特性に優れたものとなる。特に、第１ブロックを形成するジアミンとして、ビストリフルオロメチルベンジジン（ＴＦＤＢ）を使用することにより、熱安定性および光学特性を向上させることができる。また、第１ブロックを形成するジアンヒドリドとして、２－ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物（６ＦＤＡ）およびビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）を使用することにより、複屈折の向上および耐熱性の確保を図ることができる。
　第１ブロックを形成するジアンヒドリドは、２種類のジアンヒドリド、すなわち、６ＦＤＡおよびＢＰＤＡを含む。第１ブロックには、ＴＦＤＢおよび６ＦＤＡが結合された重合体とＴＦＤＢおよびＢＰＤＡが結合された重合体とが、別途の繰り返し単位を基準にそれぞれ区分されて含まれていてもよく、同じ繰り返し単位内に規則的に配列されていてもよく、あるいは完全にランダムに配列されて含まれていてもよい。
　第１ブロックを形成する単量体のうち、ジアンヒドリドとして、ＢＰＤＡおよび６ＦＤＡが１：３～３：１のモル比で含まれることが好ましい。光学的特性の確保だけでなく、機械的特性及び耐熱性の低下を抑制することができ、優れた複屈折を有することができるからである。
　第１ブロックおよび第２ブロックのモル比は、５：１～１：１であることが好ましい。
第２ブロックの含有量が著しく低い場合、第２ブロックによる熱的安定性及び機械的特性の向上の効果が十分に得られない場合がある。また、第２ブロックの含有量が第１ブロックの含有量よりもさらに高い場合、熱的安定性及び機械的特性は向上できるものの、黄色度や透過度等が低下する等、光学特性が悪くなり、複屈折特性も高まる場合がある。なお、第１ブロックおよび第２ブロックは、ランダム共重合体であってもよく、ブロック共重合体であってもよい。ブロックの繰り返し単位は特に限定されない。
　第２ブロックを形成する芳香族ジカルボニル化合物としては、例えば、テレフタロイルクロリド（ｐ－Ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌｏｙｌ　ｃｈｌｏｒｉｄｅ、ＴＰＣ）、テレフタル酸（Ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌｉｃ　ａｃｉｄ）、イソフタロイルジクロリド（Ｉｓｏ－ｐｈｔｈａｌｏｙｌ　ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ）及び４，４’－ベンゾイルジクロリド（４，４’－ｂｅｎｚｏｙｌ　ｃｈｌｏｒｉｄｅ）からなる群から選択される１種以上を挙げることができる。好ましくは、テレフタロイルクロリド（ｐ－Ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌｏｙｌ　ｃｈｌｏｒｉｄｅ、ＴＰＣ）及びイソフタロイルジクロリド（Ｉｓｏ－ｐｈｔｈａｌｏｙｌ　ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ）の中から選択される１種以上とすることができる。
　第２ブロックを形成するジアミンとしては、例えば、２，２－ビス（４－（４－アミノフェノキシ）フェニル）ヘキサフルオロプロパン（ＨＦＢＡＰＰ）、ビス（４－（４－アミノフェノキシ）フェニル）スルホン（ＢＡＰＳ）、ビス（４－（３－アミノフェノキシ）フェニル）スルホン（ＢＡＰＳＭ）、４，４’－ジアミノジフェニルスルホン（４ＤＤＳ）、３，３’－ジアミノジフェニルスルホン（３ＤＤＳ）、２，２－ビス（４－（４－アミノフェノキシ）フェニルプロパン（ＢＡＰＰ）、４，４’－ジアミノジフェニルプロパン（６ＨＤＡ）、１，３－ビス（４－アミノフェノキシ）ベンゼン（１３４ＡＰＢ）、１，３－ビス（３－アミノフェノキシ）ベンゼン（１３３ＡＰＢ）、１，４－ビス（４－アミノフェノキシ）ビフェニル（ＢＡＰＢ）、４，４’－ビス（４－アミノ－２－トリフルオロメチルフェノキシ）ビフェニル（６ＦＡＰＢＰ）、３，３－ジアミノ－４，４－ジヒドロキシジフェニルスルホン（ＤＡＢＳ）、２，２－ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシロキシフェニル）プロパン（ＢＡＰ）、４，４’－ジアミノジフェニルメタン（ＤＤＭ）、４，４’－オキシジアニリン（４－ＯＤＡ）及び３，３’－オキシジアニリン（３－ＯＤＡ）からなる群から選択される１種以上の柔軟基を有するジアミンを挙げることができる。
　芳香族ジカルボニル化合物を使用する場合、高い熱安定性及び機械的物性を実現するには容易であるが、分子構造内のベンゼン環によって高い複屈折を示すことがある。そのため、第２ブロックによる複屈折の低下を抑制するために、ジアミンは、分子構造に柔軟基が導入されたものを使用することが好ましい。具体的には、ジアミンは、ビス（４－（３－アミノフェノキシ）フェニル）スルホン（ＢＡＰＳＭ）、４，４’－ジアミノジフェニルスルホン（４ＤＤＳ）及び２，２－ビス（４－（４－アミノフェノキシ）フェニル）ヘキサフルオロプロパン（ＨＦＢＡＰＰ）の中から選択される１種以上のジアミンであることがより好ましい。特に、ＢＡＰＳＭのように柔軟基の長さが長く、置換基の位置がメタ位にあるジアミンであるほど、優れた複屈折率を示すことができる。
　ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）および２－ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物（６ＦＤＡ）を含むジアンヒドリドと、ビストリフルオロメチルベンジジン（ＴＦＤＢ）を含むジアミンとが共重合された第１ブロック、ならびに、芳香族ジカルボニル化合物と芳香族ジアミンとが共重合された第２ブロックを分子構造内に含むポリアミドイミド前駆体は、ＧＰＣによって測定した重量平均分子量が例えば２００，０００以上２１５，０００以下であることが好ましく、粘度が例えば２４００ｐｏｉｓｅ以上２６００ｐｏｉｓｅ以下であることが好ましい。
　ポリアミドイミドは、ポリアミドイミド前駆体をイミド化することにより得ることができる。また、ポリアミドイミドを用いてポリアミドイミドフィルムを得ることができる。
ポリアミドイミド前駆体をイミド化する方法およびポリアミドイミドフィルムの製造方法については、例えば、特表２０１８－５０６６１１号公報を参照することができる。
（ｂ）ガラス基材
　ガラス基材を構成するガラスとしては、上述の引張貯蔵弾性率を満たし、透明性を有するものであれば特に限定されるものではなく、例えば、ケイ酸塩ガラス、シリカガラス等が挙げられる。中でも、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸塩ガラス、アルミノホウケイ酸ガラスが好ましく、無アルカリガラスがより好ましい。ガラス基材の市販品としては、例えば、日本電気硝子社の超薄板ガラスＧ－Ｌｅａｆや、松浪硝子工業社の極薄膜ガラス等が挙げられる。
　また、ガラス基材を構成するガラスは、化学強化ガラスであることも好ましい。化学強化ガラスは機械的強度に優れており、その分薄くできる点で好ましい。化学強化ガラスは、典型的には、ガラスの表面近傍について、ナトリウムをカリウムに代える等、イオン種を一部交換することで、化学的な方法によって機械的物性を強化したガラスであり、表面に圧縮応力層を有する。
　化学強化ガラス基材を構成するガラスとしては、例えば、アルミノケイ酸塩ガラス、ソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、鉛ガラス、アルカリバリウムガラス、アルミノホウケイ酸ガラス等が挙げられる。
　化学強化ガラス基材の市販品としては、例えば、コーニング社のＧｏｒｉｌｌａ　Ｇｌａｓｓ（ゴリラガラス）や、ＡＧＣ社のＤｒａｇｏｎｔｒａｉｌ（ドラゴントレイル）等が挙げられる。
　基材層としては、上述の中でも、ポリイミド系樹脂を含有するポリイミド系樹脂基材、またはガラス基材であることが好ましい。屈曲耐性を有し、優れた硬度および透明性を有する基材層とすることができるからである。
（３）基材層の構成
　基材層の厚みとしては、柔軟性を有することが可能な厚みであれば特に限定されるものではなく、基材層の種類等に応じて適宜選択される。
　樹脂基材の厚みは、例えば、１０μｍ以上、１００μｍ以下であることが好ましく、２５μｍ以上、８０μｍ以下であることがより好ましい。樹脂基材の厚みが上記範囲内であることにより、良好な柔軟性を得ることができるともに、十分な硬度を得ることができる。また、表示装置用前面板のカールを抑制することもできる。さらに、表示装置用前面板の軽量化の面で好ましい。
　ガラス基材の厚みは、例えば、２００μｍ以下であることが好ましく、１５μｍ以上、１００μｍ以下であることがより好ましく、２０μｍ以上、９０μｍ以下であることがさらに好ましく、２５μｍ以上、８０μｍ以下であることが特に好ましい。ガラス基材の厚みが上記範囲内であることにより、良好な柔軟性を得ることができるともに、十分な硬度を得ることができる。また、表示装置用前面板のカールを抑制することもできる。さらに、表示装置用前面板の軽量化の面で好ましい。
４．その他の構成
　本開示における表示装置用前面板は、上記の各層の他に、必要に応じて他の層を有していてもよい。他の層としては、例えば、ハードコート層、飛散防止層等が挙げられる。
（１）ハードコート層
　上記基材層が樹脂基材である場合、本開示における表示装置用前面板は、例えば図２に示すように、基材層（樹脂基材）２のＡ層３とは反対の面側にハードコート層６をさらに有することができる。ハードコート層は、表面硬度を高めるための部材である。ハードコート層が配置されていることにより、耐傷性を向上させることができる。
　ハードコート層は、重合性化合物を含む樹脂組成物の硬化物を含む。重合性化合物を含む樹脂組成物の硬化物は、重合性化合物を、必要に応じて重合開始剤を用い、公知の方法で重合反応させることにより得ることができる。
　重合性化合物は、分子内に重合性官能基を少なくとも１つ有するものである。重合性化合物としては、例えば、ラジカル重合性化合物およびカチオン重合性化合物の少なくとも１種を用いることができる。
　ラジカル重合性化合物とは、ラジカル重合性基を有する化合物である。ラジカル重合性化合物が有するラジカル重合性基としては、ラジカル重合反応を生じ得る官能基であればよく、特に限定されないが、例えば、炭素－炭素不飽和二重結合を含む基などが挙げられ、具体的には、ビニル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。なお、ラジカル重合性化合物が２個以上のラジカル重合性基を有する場合、これらのラジカル重合性基はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。
　ラジカル重合性化合物が１分子中に有するラジカル重合性基の数は、ハードコート層の硬度が向上する点から、２つ以上であることが好ましく、さらに３つ以上であることが好ましい。
　なお、本明細書において、（メタ）アクリロイルとは、アクリロイル及びメタクリロイルの各々を表す。
　カチオン重合性化合物とは、カチオン重合性基を有する化合物である。カチオン重合性化合物が有するカチオン重合性基としては、カチオン重合反応を生じ得る官能基であればよく、特に限定されないが、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルエーテル基などが挙げられる。なお、カチオン重合性化合物が２個以上のカチオン重合性基を有する場合、これらのカチオン重合性基はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。
　カチオン重合性化合物が１分子中に有するカチオン重合性基の数は、ハードコート層の硬度が向上する点から、２つ以上であることが好ましく、さらに３つ以上であることが好ましい。
　上記樹脂組成物は、必要に応じて重合開始剤を含有していてもよい。重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル及びカチオン重合開始剤等を適宜選択して用いることができる。これらの重合開始剤は、光照射及び加熱の少なくとも一種により分解されて、ラジカルもしくはカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。なお、ハードコート層中には、重合開始剤が全て分解されて残留していない場合もある。
　ハードコート層は、必要に応じて、添加剤をさらに含有することができる。添加剤としては、ハードコート層に付与する機能に応じて適宜選択され、特に限定されないが、例えば、フィラー、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、防汚剤、防眩剤、帯電防止剤、レベリング剤、界面活性剤、易滑剤、各種増感剤、難燃剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、光安定化剤、表面改質剤等が挙げられる。
　ハードコート層の厚みは、ハードコート層が有する機能及び表示装置用前面板の用途により適宜選択されればよい。ハードコート層の厚みは、例えば、２μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、３μｍ以上３０μｍ以下であることがより好ましく、５μｍ以上２０μｍ以下であることがさらに好ましく、６μｍ以上１０μｍ以下であることが特に好ましい。ハードコート層の厚みが上記範囲内であれば、ハードコート層として十分な硬度を得ることができる。
　ハードコート層の形成方法としては、例えば、上記基材層上に、上記重合性化合物等を含むハードコート層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させる方法が挙げられる。
（２）飛散防止層
　上記基材層がガラス基材である場合、本開示における表示装置用前面板は、例えば図３に示すように、基材層２のＡ層３とは反対の面側に飛散防止層７を有することができる。
飛散防止層が配置されていることにより、ガラス基材が割れたときのガラスの飛散を抑制することができる。
　飛散防止層に用いられる材料としては、ガラスの飛散防止効果を得ることができ、透明性を有するものであれば特に限定されるものではなく、例えば、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂等が挙げられる。ポリイミド系樹脂としては、例えば、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド等が挙げられる。ポリエステル系樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等が挙げられる。
　飛散防止層は、必要に応じて、添加剤をさらに含有することができる。添加剤としては、飛散防止層に付与する機能に応じて適宜選択され、特に限定されないが、例えば、フィラー等が挙げられる。
　飛散防止層の厚みは、飛散防止層が有する機能及び表示装置用前面板の用途により適宜選択されればよい。飛散防止層の厚みは、例えば、５μｍ以上１５０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以上１００μｍ以下であることがより好ましい。飛散防止層の厚みが上記範囲内であれば、十分な飛散防止効果および透明性を得ることができる。
　飛散防止層としては、例えば、フィルム状の飛散防止層を用い、粘着層または接着層を介して上記基材層上に飛散防止層を配置することができる。また、例えば、飛散防止層用組成物を用い、上記基材層上に飛散防止層用組成物を塗布し、硬化させて、飛散防止層を形成してもよい。
５．表示装置用前面板の特性
　本開示における表示装置用前面板は、全光線透過率が、例えば８５％以上であることが好ましく、８８％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。このように全光線透過率が高いことにより、透明性が良好な表示装置用前面板とすることができる。
　ここで、表示装置用前面板の全光線透過率は、ＪＩＳ　Ｋ７３６１－１に準拠して測定することができ、例えば村上色彩技術研究所製のヘイズメーターＨＭ１５０により測定することができる。
　本開示における表示装置用前面板のヘイズは、例えば５％以下であることが好ましく、２％以下であることがより好ましく、１％以下であることがさらに好ましい。このようにヘイズが低いことにより、透明性が良好な表示装置用前面板とすることができる。
　ここで、表示装置用前面板のヘイズは、ＪＩＳ　Ｋ－７１３６に準拠して測定することができ、例えば村上色彩技術研究所製のヘイズメーターＨＭ１５０により測定することができる。
６．表示装置用前面板の用途
　本開示における表示装置用前面板は、表示装置において、表示パネルよりも観察者側に配置される部材として用いることができる。本開示における表示装置用前面板は、例えば、スマートフォン、タブレット端末、ウェアラブル端末、パーソナルコンピュータ、テレビジョン、デジタルサイネージ、パブリックインフォメーションディスプレイ（ＰＩＤ）、車載ディスプレイ等の表示装置における前面板に用いることができる。中でも、本開示における表示装置用前面板は、例えば、フォルダブルディスプレイ、ローラブルディスプレイ、ベンダブルディスプレイ等のフレキシブルディスプレイにおける前面板に好適に用いることができる。
　本開示における表示装置用前面板を用いた表示装置は、表示パネルと、上記表示パネルの観察者側に配置された表示装置用前面板と、を備えることができる。
　図４は、本開示における表示装置の一例を示す概略断面図である。図４に示すように、表示装置２０は、表示パネル２１と、表示パネル２１の観察者側に配置された表示装置用前面板１と、を備える。
　本開示における表示装置用前面板を表示装置の表面に配置する場合には、基材層が外側、Ｂ層が表示パネル側になるように配置することが好ましい。
　本開示における表示装置用前面板を表示装置の表面に配置する方法としては、特に限定されないが、例えば上記Ｂ層が粘着層である場合には、Ｂ層（粘着層）を介する方法等が挙げられる。
　本開示における表示パネルとしては、例えば、有機ＥＬ表示装置、液晶表示装置等の表示装置に用いられる表示パネルを挙げることができる。
　本開示における表示装置は、表示パネルと表示装置用前面板との間にタッチパネル部材を有することができる。
　本開示における表示装置は、フレキシブルディスプレイであることが好ましい。本開示における表示装置は、上述の表示装置用前面板を有することから、フレキシブルディスプレイとして好適である。
Ｂ．フレキシブル有機エレクトロルミネッセンス表示装置
　本開示におけるフレキシブル有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、有機エレクトロルミネッセンス表示パネルと、上記有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの観察者側に配置された、上述の表示装置用前面板と、を備える。なお、以下、エレクトロルミネッセンスをＥＬと略称する場合がある。
　図５は、本開示におけるフレキシブル有機ＥＬ表示装置の一例を示す概略断面図である。図５に示すように、フレキシブル有機ＥＬ表示装置３０は、有機ＥＬ表示パネル３１と、有機ＥＬ表示パネル３１の観察者側に配置された表示装置用前面板１と、を備える。フレキシブル有機ＥＬ表示装置３０においては、例えば表示装置用前面板１におけるＢ層５が粘着層である場合、表示装置用前面板１と有機ＥＬ表示パネル３１とは、表示装置用前面板１のＢ層５（粘着層）を介して貼り合わせることができる。
　本開示における表示装置用前面板については、上述の表示装置用前面板と同様とすることができる。
　本開示における有機ＥＬ表示パネルとしては、一般的な有機ＥＬ表示装置の構成と同様とすることができる。
　本開示におけるフレキシブル有機ＥＬ表示装置は、有機ＥＬ表示パネルと表示装置用前面板との間にタッチパネル部材を有することができる。
Ｃ．表示装置用積層体
　本開示における表示装置用積層体は、表示装置用前面板に用いられる表示装置用積層体であって、Ａ層と、衝撃吸収層と、Ｂ層と、をこの順に有し、上記Ａ層および上記Ｂ層では、周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃におけるせん断貯蔵弾性率が２０ＭＰａ以下であり、上記衝撃吸収層では、周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃における引張貯蔵弾性率が２００ＭＰａ以上５０００ＭＰａ以下であり、ガラス転移温度が５０℃以上である。
　図６は、本開示における表示装置用積層体の一例を示す概略断面図である。図６に示すように、表示装置用積層体１０は、Ａ層３と、衝撃吸収層４と、Ｂ層５と、をこの順に有する。Ａ層３およびＢ層５は所定のせん断貯蔵弾性率を有し、衝撃吸収層４は所定の引張貯蔵弾性率およびガラス転移温度を有する。
　本開示における表示装置用積層体においては、上述の「Ａ．表示装置用前面板」の項に記載したように、衝撃吸収層が、衝撃吸収層よりも柔らかいＡ層およびＢ層の間に配置されていることにより、耐衝撃性を向上させることができる。
　また、本開示においては、衝撃吸収層のガラス転移温度が所定の値以上であることにより、環境温度において衝撃吸収層に含有される材料の状態が急激に変化することがないため、環境温度によらず優れた耐衝撃性およびフレキシブル性を維持することができる。
　さらに、本開示の表示装置用積層体をローラブルディスプレイに用いた場合は、上記表示装置用積層体を用いることにより、ディスプレイの巻き取りの際の剪断応力を緩和させることが可能となり、巻き取り時の種々の問題の発生を抑えることが可能となる。
　本開示における表示装置用積層体を構成する衝撃吸収層、Ａ層およびＢ層については、上述の「Ａ．表示装置用前面板」の項に詳しく記載したので、ここでの説明は省略する。
　本開示における表示装置用積層体は、全光線透過率が、例えば８５％以上であることが好ましく、８８％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。このように全光線透過率が高いことにより、透明性が良好な表示装置用積層体とすることができる。
　本開示における表示装置用積層体のヘイズは、例えば５％以下であることが好ましく、２％以下であることがより好ましく、１％以下であることがさらに好ましい。このようにヘイズが低いことにより、透明性が良好な表示装置用積層体とすることができる。
　ここで、表示装置用積層体の全光線透過率およびヘイズの測定方法は、上述の表示装置用前面板の全光線透過率およびヘイズの測定方法と同様とすることができる。
　本開示における表示装置用積層体は、上述の表示装置用前面板に用いられるものであり、表示装置用前面板において、基材層に積層される部材として用いることができる。本開示における表示装置用積層体は、例えば、スマートフォン、タブレット端末、ウェアラブル端末、パーソナルコンピュータ、テレビジョン、デジタルサイネージ、パブリックインフォメーションディスプレイ（ＰＩＤ）、車載ディスプレイ等の表示装置における前面板に用いることができる。中でも、本開示における表示装置用積層体は、例えば、フォルダブルディスプレイ、ローラブルディスプレイ、ベンダブルディスプレイ等のフレキシブルディスプレイにおける前面板に好適に用いることができる。
Ｄ．積層体
　本開示における積層体は、Ａ層と、衝撃吸収層と、Ｂ層と、をこの順に有し、上記Ａ層および上記Ｂ層では、周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃におけるせん断貯蔵弾性率が２０ＭＰａ以下であり、上記衝撃吸収層は、ウレタン系樹脂を含有し、上記衝撃吸収層では、周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃における引張貯蔵弾性率が２００ＭＰａ以上５０００ＭＰａ以下であり、ガラス転移温度が５０℃以上である。
　図７は、本開示における積層体の一例を示す概略断面図である。図７に示すように、積層体４０は、Ａ層３と、衝撃吸収層４と、Ｂ層５と、をこの順に有する。Ａ層３およびＢ層５は所定のせん断貯蔵弾性率を有し、衝撃吸収層４はウレタン系樹脂を含み、所定の引張貯蔵弾性率およびガラス転移温度を有する。
　本開示における積層体においては、上述の「Ａ．表示装置用前面板」の項に記載したように、衝撃吸収層が、衝撃吸収層よりも柔らかいＡ層およびＢ層の間に配置されていることにより、耐衝撃性を向上させることができる。
　また、本開示においては、衝撃吸収層のガラス転移温度が所定の値以上であることにより、環境温度において衝撃吸収層に含有される材料の状態が急激に変化することがないため、環境温度によらず優れた耐衝撃性およびフレキシブル性を維持することができる。
　本開示における積層体を構成する衝撃吸収層、Ａ層およびＢ層については、上述の「Ａ．表示装置用前面板」の項に詳しく記載したので、ここでの説明は省略する。
　本開示における積層体は、全光線透過率が、例えば８５％以上であることが好ましく、８８％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。このように全光線透過率が高いことにより、透明性が良好な積層体とすることができる。
　本開示における積層体のヘイズは、例えば５％以下であることが好ましく、２％以下であることがより好ましく、１％以下であることがさらに好ましい。このようにヘイズが低いことにより、透明性が良好な積層体とすることができる。
　ここで、積層体の全光線透過率およびヘイズの測定方法は、上述の表示装置用前面板の全光線透過率およびヘイズの測定方法と同様とすることができる。
　本開示における積層体は、例えば、表示装置用部材として用いることができる。本開示における積層体は、例えば、スマートフォン、タブレット端末、ウェアラブル端末、パーソナルコンピュータ、テレビジョン、デジタルサイネージ、パブリックインフォメーションディスプレイ（ＰＩＤ）、車載ディスプレイ等の表示装置に用いることができる。中でも、本開示における積層体は、例えば、フォルダブルディスプレイ、ローラブルディスプレイ、ベンダブルディスプレイ等のフレキシブルディスプレイに好適に用いることができる。
　なお、本開示は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本開示の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本開示の技術的範囲に包含される。
　以下、実施例および比較例を示し、本開示をさらに説明する。
［実施例１］
（基材層の準備およびハードコート層の形成）
　基材層として、厚み８０μｍのポリイミド基材を準備した。上記ポリイミド基材の一方の面に、バーコーターで下記のハードコート層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。その後、塗膜に対して、７０℃、１分間加熱することにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を酸素濃度が２００ｐｐｍ以下の条件下にて積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させた。これにより、ポリイミド基材上に厚み５μｍのハードコート層を形成した。
＜ハードコート層用組成物１＞
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとの混合物（製品名「Ｍ４０３」、東亜合成株式会社製）：２５質量部
・ジペンタエリスリトールＥＯ変性ヘキサアクリレート（製品名「Ａ－ＤＰＨ－６Ｅ」、新中村化学工業株式会社製）：２５質量部
・異形シリカ粒子（平均粒子径２５ｎｍ、日揮触媒化成株式会社製）：５０質量部（固形分１００％換算値）
・光重合開始剤（１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１８４」、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製）：４質量部
・フッ素系レベリング剤（製品名「Ｆ５６８」、ＤＩＣ株式会社製）：０．２質量部（固形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン：１５０質量部
（衝撃吸収層１の作製）
　ポリエチレンテレフタレート材料を２９０℃で溶融して、フィルム形成ダイを通して、シート状に押出し、水冷冷却した回転急冷ドラム上に密着させて冷却し、未延伸フィルムを作製した。この未延伸フィルムを二軸延伸試験装置（東洋精機製）にて、１２０℃にて１分間予熱した後、１２０℃にて、延伸倍率４．５倍に延伸し、その延伸方向とは９０度の方向に延伸倍率１．５倍に延伸し、厚み８０μｍの衝撃吸収層１を得た。
（前面板の作製）
　上記ポリイミド基材のハードコート層とは反対の面に、Ａ層（厚み５０μｍのアクリル系粘着剤フィルム、３Ｍ社製、８１４６－２）を介して上記衝撃吸収層１を貼り合わせた。次に、上記衝撃吸収層１のＡ層とは反対の面に、Ｂ層（厚み５０μｍのアクリル系粘着剤フィルム、３Ｍ社製、８１４６－２）を貼り合わせることで、前面板を作製した。なお、上記のＡ層およびＢ層としては、アクリル系粘着剤フィルムの両面に配置されているセパレータを剥がして用いた。
［実施例２］
　実施例１において、衝撃吸収層１に代えて下記の衝撃吸収層２を用いたこと以外は、実施例１と同様にして前面板を作製した。
（衝撃吸収層２の作製）
　離型フィルムとして、厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレート基材（製品名「コスモシャイン（登録商標）Ａ４１００」、東洋紡社製）を準備した。ポリエチレンテレフタレート基材の未処理面側に、バーコーターで下記の衝撃吸収層用組成物１を塗布して、硬化後の厚みが８０μｍとなるよう塗膜を形成した。そして、塗膜に対して、７０℃、１分間加熱することにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムズジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を空気中にて積算光量が５００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させ、硬化した塗膜をポリエチレンテレフタレート基材から剥離することにより、衝撃吸収層２を得た。
＜衝撃吸収層用組成物１＞
・ウレタンアクリレート（製品名「ＵＶ－３３１０Ｂ」、三菱ケミカル株式会社製）：４０質量部
・エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート（製品名「ＡＴＭ－３５Ｅ」、新中村化学工業株式会社製）：５質量部
・フェノキシエチルアクリレート（製品名「ビスコート＃１９２」、大阪有機化学工業社製）：５質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレートおよびペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ　ＰＥＴ－３０」、日本化薬株式会社製）：５０質量部
・重合開始剤（１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１８４」、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製）：５質量部
・メチルイソブチルケトン：１０質量部
［実施例３］
　実施例２において、ポリイミド基材の厚みを５０μｍとしたこと以外は、実施例２と同様にして前面板を作製した。
［実施例４］
　実施例２において、Ａ層およびＢ層として、日栄化工株式会社製の厚み５０μｍのアクリル系粘着剤フィルム　ＭＨＭ－ＦＷＶ５０を用いたこと以外は、実施例２と同様にして前面板を作製した。
［実施例５］
　実施例２において、衝撃吸収層２に代えて下記の衝撃吸収層３を用いたこと以外は、実施例１と同様にして前面板を作製した。
（衝撃吸収層３の作製）
　下記の衝撃吸収層用組成物２を用いたこと以外は、実施例２の衝撃吸収層２の作製と同様にして、衝撃吸収層３を作製した。
＜衝撃吸収層用組成物２＞
・ウレタンアクリレート（製品名「ＵＶ－３３１０Ｂ」、三菱ケミカル株式会社製）：１５質量部
・エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート（製品名「ＡＴＭ－３５Ｅ」、新中村化学工業株式会社製）：３０質量部
・ジシクロペンタニルアクリレ－ト（製品名「ＦＡ－５１３ＡＳ」、日立化成株式会社製）：５質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ」、日本化薬株式会社製）：５０質量部
・重合開始剤（１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１８４」、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製）：５質量部
・メチルイソブチルケトン：１０質量部
［比較例１］
　実施例１において、衝撃吸収層およびＡ層を配置しなかったこと以外は、実施例１と同様にして前面板を作製した。
［比較例２］
　実施例１において、衝撃吸収層として、衝撃吸収層１に代えて実施例１で基材層として用いた厚み８０μｍのポリイミド基材を用いたこと以外は、実施例１と同様にして前面板を作製した。
［比較例３］
　実施例１において、衝撃吸収層として、衝撃吸収層１に代えて厚み１００μｍのウレタン系樹脂フィルム（シーダム社製、ＤＵＳ２７０－ＣＥＲ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして前面板を作製した。
［比較例４］
（基材層の準備およびハードコート層の形成）
　実施例１と同様にして、基材層として厚み８０μｍのポリイミド基材を用い、このポリイミド基材上に厚み５μｍのハードコート層を形成した。
（衝撃吸収層の形成）
　次に、上記ポリイミド基材のハードコート層とは反対の面に、バーコーターで実施例２で用いた衝撃吸収層用組成物１を塗布して、硬化後の厚みが８０μｍとなるよう塗膜を形成した。そして、塗膜に対して、７０℃、１分間加熱することにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムズジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を空気中にて積算光量が５００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させ、上記ポリイミド基材上に直接衝撃吸収層を形成した。
（前面板の作製）
　次に、上記衝撃吸収層のポリイミド基材とは反対の面に、Ｂ層（厚み５０μｍのアクリル系粘着剤フィルム、３Ｍ社製、８１４６－２）を貼り合わせて、前面板を作製した。なお、上記のＢ層としては、アクリル系粘着剤フィルムの両面に配置されているセパレータを剥がして用いた。
［比較例５］
　実施例１において、衝撃吸収層として、衝撃吸収層１に代えて厚み１００μｍのウレタン系樹脂フィルム（シーダム社製、ＤＵＳ３１２－ＣＤ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして前面板を作製した。
［比較例６］
（基材層の準備およびハードコート層の形成）
　実施例１と同様にして、基材層として厚み８０μｍのポリイミド基材を用い、このポリイミド基材上に厚み５μｍのハードコート層を形成した。
（Ａ層の形成）
　上記ポリイミド基材のハードコート層とは反対の面に、バーコーターで実施例２で用いた衝撃吸収層用組成物１を塗布して、硬化後の厚みが３０μｍとなるよう塗膜を形成した。そして、塗膜に対して、７０℃、１分間加熱することにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムズジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を空気中にて積算光量が５００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させ、上記ポリイミド基材上にＡ層としてウレタン系樹脂層を形成した。
（衝撃吸収層の形成）
　次に、上記Ａ層のポリイミド基材とは反対の面に、バーコーターで実施例２で用いた衝撃吸収層用組成物１を塗布して、硬化後の厚みが７０μｍとなるよう塗膜を形成した。そして、塗膜に対して、７０℃、１分間加熱することにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムズジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を空気中にて積算光量が５００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させ、上記Ａ層上に衝撃吸収層を形成した。
（前面板の作製）
　次に、上記衝撃吸収層のＡ層とは反対の面に、Ｂ層（厚み５０μｍのアクリル系粘着剤フィルム、３Ｍ社製、８１４６－２）を貼り合わせることで、前面板を作製した。なお、上記のＢ層としては、アクリル系粘着剤フィルムの両面に配置されているセパレータを剥がして用いた。
［実施例６］
（ハードコート層の形成）
　厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレート基材（製品名「コスモシャイン（登録商標）Ａ４３００」、東洋紡社製）の一方の面に、バーコーターで実施例１で用いたハードコート層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。その後、塗膜に対して、７０℃、１分間加熱することにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を酸素濃度が２００ｐｐｍ以下の条件下にて積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させた。これにより、ポリエチレンテレフタレート基材上に厚み５μｍのハードコート層を形成した。
（前面板の作製）
　厚さ７０μｍの化学強化されたガラス基材を準備し、上記ガラス基材と、上記ポリエチレンテレフタレート基材のハードコート層とは反対の面とを、粘着層（厚み２５μｍの粘着剤フィルム、３Ｍ社製、８１４６－１）を介して貼り合わせた。次に、上記ガラス基材の粘着剤フィルムとは反対の面に、Ａ層（厚み５０μｍのアクリル系粘着剤フィルム、３Ｍ社製、８１４６－２）を介して、実施例１で用いた衝撃吸収層１を貼り合わせた。さらに、上記衝撃吸収層１のＡ層とは反対の面に、Ｂ層（厚み５０μｍのアクリル系粘着剤フィルム、３Ｍ社製、８１４６－２）を貼り合わせて、前面板を作製した。なお、上記の粘着層、Ａ層およびＢ層としては、粘着剤フィルムの両面に配置されているセパレータを剥がして用いた。
［実施例７］
　実施例６において、衝撃吸収層１に代えて実施例２で用いた衝撃吸収層２を用いたこと以外は、実施例６と同様にして前面板を作製した。
［比較例７］
　実施例６において、衝撃吸収層およびＡ層を配置しなかったこと以外は、実施例６と同様にして前面板を作製した。
［比較例８］
　実施例６において、衝撃吸収層として、厚み１００μｍのウレタン系樹脂フィルム（シーダム社製、ＤＵＳ２７０－ＣＥＲ）を用いたこと以外は、実施例６と同様にして前面板を作製した。
［実施例８］
　実施例１において、Ａ層およびＢ層として、日栄化工株式会社製の厚み５０μｍのシリコーン系粘着剤フィルム　ＭＨＭ－ＳＩ５０を用いたこと以外は、実施例１と同様にして前面板を作製した。
［実施例９］
　実施例２において、Ａ層およびＢ層として、日栄化工株式会社製の厚み５０μｍのシリコーン系粘着剤フィルム　ＭＨＭ－ＳＩ５０を用いたこと以外は、実施例２と同様にして前面板を作製した。
［実施例１０］
　実施例５において、Ａ層およびＢ層として、日栄化工株式会社製の厚み５０μｍのシリコーン系粘着剤フィルム　ＭＨＭ－ＳＩ５０を用いたこと以外は、実施例５と同様にして前面板を作製した。
［評価］
（１）引張貯蔵弾性率
　実施例および比較例の前面板を構成する衝撃吸収層およびポリイミド基材について、周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃における引張弾性貯蔵弾性率を、動的粘弾性測定装置（ＤＭＡ）によって測定した。まず、衝撃吸収層およびポリイミド基材をそれぞれ４０ｍｍ×５ｍｍの長方形状に打ち抜いて、測定サンプルを得た。そして、この測定サンプルを、動的粘弾性測定装置の引張測定治具に取り付けた。具体的には、測定治具は、上下にそれぞれフィルムを挟むチャック治具を備えており、上記の長方形状の測定サンプルの端部の一方を上側のチャックに、他方を下側のチャックに、引っ張り方向が測定サンプルの長手方向になるように固定した。この際、チャック間距離が２０ｍｍで、測定サンプルに弛みの無いように、また引っ張りすぎないように調整して固定した。その後、温度２３℃の環境下で、引張り荷重（静荷重）をかけ、引張法（正弦波歪み、引張モード、歪み量：自動歪み）で周波数９５０Ｈｚの縦振動を与えて、引張貯蔵弾性率を測定した。さらに、この測定を３回繰り返し、３回の算術平均値を、周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃における引張貯蔵弾性率とした。動的粘弾性測定装置としては、ユービーエム社製のＲｈｅｏｇｅｌ－Ｅ４０００を用いた。測定条件は下記の通りとした。結果を表１に示す。
（引張貯蔵弾性率の測定条件）
・測定サンプル：４０ｍｍ×５ｍｍの矩形
・測定治具：引っ張り
・チャック間距離（チャック間測定試料長さ）：２０ｍｍ
・歪み波形：正弦波
・歪み制御：自動調整
・周波数：９５０Ｈｚ
・温度：２３℃
・静荷重制御：５０ｇ（静荷重一定）、ただし荷重印加時にチャック間距離が２ｍｍ以上延びた場合は、荷重を小さくして１０ｇ（静荷重一定）または５ｇ（静荷重一定）とした。
（２）せん断貯蔵弾性率
　実施例および比較例の前面板を構成するＡ層およびＢ層について、周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃におけるせん断弾性貯蔵弾性率を、動的粘弾性測定装置（ＤＭＡ）によって測定した。まず、Ａ層およびＢ層をそれぞれ１０ｍｍ×５ｍｍの長方形状に打ち抜いて、測定サンプルを得た。そして、この測定サンプルをそれぞれ２枚準備し、動的粘弾性測定装置の固体せん断治具に取り付けた。具体的には、固体せん断治具は、垂直方向に３枚の板、すなわち厚み１ｍｍの１枚の金属製の中板、および、この中板の両側に配置された２枚のＬ字形状の金属製の外板を備えており、中板と一方の外板との間に一方の測定サンプルを挟み、かつ、中板と他方の外板との間に他方の測定サンプルを挟んだ。そして、動的粘弾性測定装置に、固体せん断治具をチャック間距離２０ｍｍで設置し、温度２３℃の環境下で、引中板を固定しながら２枚の外板に歪み量１％かつ外板に周波数９５０Ｈｚの縦振動を与えて、せん断貯蔵弾性率を測定した。さらに、この測定を３回繰り返し、３回の算術平均値を、周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃におけるせん断貯蔵弾性率とした。動的粘弾性測定装置としては、ユービーエム社製のＲｈｅｏｇｅｌ－Ｅ４０００を用いた。測定条件は下記の通りとした。結果を表１に示す。
（せん断貯蔵弾性率の測定条件）
・測定サンプル：１０ｍｍ×５ｍｍの矩形（２枚）
・測定治具：固体せん断
・歪み波形：正弦波
・歪制御：自動調整
・周波数：９５０Ｈｚ
・温度：２３℃
（３）ガラス転移温度
ａ）衝撃吸収層
　実施例および比較例の前面板を構成する衝撃吸収層について、ガラス転移温度を、引張損失正接（ｔａｎδ）のピークトップの値に基づく方法（ＤＭＡ法）により測定した。まず、衝撃吸収層を４０ｍｍ×５ｍｍの長方形状に打ち抜いて、測定サンプルを得た。そして、この測定サンプルを、動的粘弾性測定装置の引張測定治具に取り付けた。具体的には、測定治具は、上下にそれぞれフィルムを挟むチャック治具を備えており、上記の長方形状の測定サンプルの端部の一方を上側のチャックに、他方を下側のチャックに、引っ張り方向が測定サンプルの長手方向になるように固定した。この際、チャック間距離が２０ｍｍで、測定サンプルに弛みの無いように、また引っ張りすぎないように調整して固定した。その後、引張り荷重（静荷重）をかけながら、周波数１Ｈｚの振動を与えて、－５０℃以上２００℃以下の範囲での動的粘弾性測定を行い、それぞれの温度での衝撃吸収層の引張貯蔵弾性率Ｅ’、引張損失弾性率Ｅ”および引張損失正接ｔａｎδを測定した。衝撃吸収層のガラス転移温度は、－５０℃以上２００℃以下の範囲での引張損失正接ｔａｎδがピークとなる温度とした。動的粘弾性測定装置としては、ユービーエム社製のＲｈｅｏｇｅｌ－Ｅ４０００を用いた。測定条件は下記の通りとした。結果を表１に示す。
（ガラス転移温度の測定条件）
・測定サンプル：４０ｍｍ×５ｍｍの矩形
・測定治具：引っ張り
・チャック間距離（チャック間測定試料長さ）：２０ｍｍ
・測定モード：温度依存性（温度範囲：－５０℃～２００℃、ステップ温度：１℃、昇温速度：２℃／ｍｉｎ）
・歪み波形：正弦波
・歪み制御：自動調整
・周波数：１Ｈｚ（連続加振）
・静荷重制御：５０ｇ（静荷重一定）、ただし荷重印加時にチャック間距離が２ｍｍ以上延びる場合は、荷重を小さくして１０ｇ（静荷重一定）または５ｇ（静荷重一定）とした。
ｂ）Ａ層およびＢ層
　実施例および比較例の前面板を構成するＡ層およびＢ層について、ガラス転移温度を、せん断損失正接（ｔａｎδ）のピークトップの値に基づく方法（ＤＭＡ法）により測定した。まず、Ａ層またはＢ層を１０ｍｍ×５ｍｍの長方形状に打ち抜いて、測定サンプルを得た。そして、この測定サンプルを２枚準備し、動的粘弾性測定装置の固体せん断治具に取り付けた。具体的には、固体せん断治具は、垂直方向に３枚の板、すなわち、厚み１ｍｍの１枚の金属製の中板、および、この中板の両側に配置された２枚のＬ字形状の金属製の外板を備えており、中板と一方の外板との間に一方の測定サンプルを挟み、かつ、中板と他方の外板との間に他方の測定サンプルを挟む。そして、動的粘弾性測定装置に、固体せん断治具をチャック間距離２０ｍｍで設置し、－５０℃以上２００℃以下の範囲で引中板を固定しながら２枚の外板に歪み量１％かつ外板に周波数１Ｈｚの縦振動を与えて動的粘弾性測定を行い、それぞれの温度でのせん断貯蔵弾性率Ｇ’を測定した。動的粘弾性測定装置としては、ユービーエム社製のＲｈｅｏｇｅｌ－Ｅ４０００を用いた。測定条件は下記の通りとした。結果を表１に示す。
（ガラス転移温度の測定条件）
・測定サンプル：１０ｍｍ×５ｍｍの矩形（２枚）
・測定治具：固体せん断
・歪み波形：正弦波
・歪制御：自動調整
・周波数：１Ｈｚ
・測定モード：温度依存性（温度範囲：－５０℃～２００℃、ステップ温度：１℃、昇温速度：２℃／ｍｉｎ）
（４）衝撃試験
　実施例および比較例の前面板について衝撃試験を行った。まず、前面板のＢ層の面に、厚さ５０μｍのＰＥＴ基材（製品名「コスモシャイン（登録商標）Ａ４３００」、東洋紡社製）を貼り合わせて、測定用積層体を得た。次いで、平滑な表面を持つ石板上に厚み１００μｍのアルミニウム板（福田金属箔粉工業株式会社製、Ａ１Ｎ３０Ｈ－Ｈ１８）を置き、上記測定用積層体のＰＥＴ基材の面がアルミニウム板に接するように、アルミニウム板上に上記測定用積層体を置いた。次に、試験高さより、ペン（ＢＩＣ社製、Ｅａｓｙ　ＥＬＩＴＥ　５ｇ　ペン先φ０．７ｍｍ）をその先端を下にして前面板上に落下させ、白色干渉顕微鏡（Ｚｙｇｏ社製、Ｎｅｗ　Ｖｉｅｗ７３００）を用いてアルミニウム板の凹みを測定した。この際、ペンの落下点を下記条件にて観察し、最も深い位置の高さと、概ね平坦となる高さとの差を凹みとした。そして、アルミニウム板の凹みが６μｍ未満となる最大の試験高さを評価した。また、実施例６～７および比較例７～８の前面板については、ガラス基材の割れについても観察し、ガラス基材が割れない最大の試験高さを評価した。結果を表２および表３に示す。
（アルミニウム板の凹みの測定条件）
・対物レンズ：１０倍
・Ａｃｑｕｉｓｉｔｉｏｎ　Ｍｏｄｅ：Ｓｃａｎ
・Ｓｃａｎ　Ｔｙｐｅ：Ｂｉｐｏｌａｒ
・Ｃａｍｅｒａ　Ｍｏｄｅ：９９２ｘ９９２　４８Ｈｚ
・Ｚｏｏｍ：０．５倍
・Ｓｃａｎ　Ｌｅｎｇｔｈ：２０μｍ　ｂｉｐｏｌａｒ
（アルミニウム板の凹みの解析条件）
・Ｒｅｍｏｖｅ：Ｐｌａｎｅ
・Ｆｉｌｔｅｒ：Ｏｆｆ
（５）耐折り畳み性
　実施例および比較例の前面板に対して連続折り畳み試験を行い、耐折り畳み性を評価した。具体的には、まず、前面板から３０ｍｍ×１００ｍｍの大きさの測定サンプルを切り出した。そして、図８（ａ）に示すように、前面板（測定サンプル）５０の対向する２つの短辺部５０Ｃ、５０Ｄを、平行に配置された折り畳み耐久試験機（例えば、製品名「Ｕ字伸縮試験機ＤＬＤＭＬＨ－ＦＳ」、ユアサシステム機器株式会社製、ＩＥＣ６２７１５－６－１準拠）の固定部５１でそれぞれ固定し、前面板（測定サンプル）５０が長辺方向にＵ字に折り畳まれるように前面板（測定サンプル）５０をセットした。その後、図８（ａ）～（ｃ）に示すように、前面板（測定サンプル）５０の対向する２つの短辺部５０Ｃ、５０Ｄの最小間隔φが１０ｍｍとなり、かつ前面板（測定サンプル）５０のハードコート層側が内側となるように、以下の条件で１０万回、１８０°に折り畳む連続折り畳み試験を行い、前面板（測定サンプル）５０の屈曲部５０Ｅに変形や割れまたは破断が生じていないか調べた。連続折り畳み試験は、室温（２３℃）、相対湿度５０％の室温環境下と、－２０℃および－４０℃の低温環境下でそれぞれ行った。評価基準は、以下の通りとした。
　Ａ：連続折り畳み試験において、屈曲部に変形や割れまたは破断が生じていなかった。
　Ｂ：連続折り畳み試験において、屈曲部に実用上問題ないレベルの変形が確認されたが、割れまたは破断は生じていなかった。
　Ｃ：連続折り畳み試験において、屈曲部に変形が明確に確認されたが、割れまたは破断は生じていなかった。
　Ｄ：連続折り畳み試験において、屈曲部に割れまたは破断が生じていた。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000010
　実施例１～７の前面板では、衝撃吸収層の引張貯蔵弾性率、ならびにＡ層およびＢ層のせん断貯蔵弾性率が所定の範囲内にあり、衝撃吸収層が、衝撃吸収層よりも柔らかいＡ層およびＢ層の間に配置されているため、耐衝撃性に優れていた。また、実施例８～１０は、Ａ層およびＢ層のガラス転移温度が高いことから、－４０℃における耐折り畳み性に優れたものとなった。
　一方、比較例１、７の前面板は、衝撃吸収層を有さないため、耐衝撃性に劣っていた。
　比較例２の前面板では、衝撃吸収層の引張貯蔵弾性率が大きいため、耐衝撃性に劣っていた。比較例４の前面板では、ポリイミド基材上に直接衝撃吸収層が配置されているため、耐衝撃性に劣っていた。比較例５の前面板では、衝撃吸収層の引張貯蔵弾性率が小さいため、耐衝撃性が十分ではなかった。比較例６の前面板では、Ａ層のせん断貯蔵弾性率が大きいため、耐衝撃性が十分ではなかった。また、比較例３の前面板では、衝撃吸収層のガラス転移温度が低いため、低温環境下での耐折り畳み性に劣っていた。比較例８の前面板でも、衝撃吸収層のガラス転移温度が低いため、比較例３と同様に、低温環境下での耐折り畳み性に劣ると考えられる。
　１　…　表示装置用前面板
　２　…　基材層
　３　…　Ａ層
　４　…　衝撃吸収層
　５　…　Ｂ層
　６　…　ハードコート層
　７　…　飛散防止層
　１０　…　表示装置用積層体
　２０　…　表示装置
　２１　…　表示パネル
　３０　…　フレキシブル有機ＥＬ表示装置
　３１　…　有機ＥＬ表示パネル
　４０　…　積層体

Claims (7)

  1. 　基材層と、Ａ層と、衝撃吸収層と、Ｂ層と、をこの順に有し、
    　前記Ａ層および前記Ｂ層では、周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃におけるせん断貯蔵弾性率が２０ＭＰａ以下であり、
    　前記衝撃吸収層では、周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃における引張貯蔵弾性率が２００ＭＰａ以上５０００ＭＰａ以下であり、ガラス転移温度が５０℃以上である、表示装置用前面板。
  2. 　前記衝撃吸収層の前記引張貯蔵弾性率に対する、前記基材層の周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃における引張貯蔵弾性率の比が、１．５以上である、請求項１に記載の表示装置用前面板。
  3. 　前記基材層がポリイミド系樹脂基材またはガラス基材である、請求項１または請求項２に記載の表示装置用前面板。
  4. 　前記衝撃吸収層がウレタン系樹脂またはポリエチレンテレフタレート系樹脂を含有する、請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載の表示装置用前面板。
  5. 　有機エレクトロルミネッセンス表示パネルと、
    　前記有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの観察者側に配置された、請求項１から請求項４までのいずれかの請求項に記載の表示装置用前面板と、
    　を備える、フレキシブル有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
  6. 　表示装置用前面板に用いられる表示装置用積層体であって、
    　Ａ層と、衝撃吸収層と、Ｂ層と、をこの順に有し、
    　前記Ａ層および前記Ｂ層では、周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃におけるせん断貯蔵弾性率が２０ＭＰａ以下であり、
    　前記衝撃吸収層では、周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃における引張貯蔵弾性率が２００ＭＰａ以上５０００ＭＰａ以下であり、ガラス転移温度が５０℃以上である、表示装置用積層体。
  7. 　Ａ層と、衝撃吸収層と、Ｂ層と、をこの順に有し、
    　前記Ａ層および前記Ｂ層では、周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃におけるせん断貯蔵弾性率が２０ＭＰａ以下であり、
    　前記衝撃吸収層は、ウレタン系樹脂を含有し、
    　前記衝撃吸収層では、周波数９５０Ｈｚ、温度２３℃における引張貯蔵弾性率が２００ＭＰａ以上５０００ＭＰａ以下であり、ガラス転移温度が５０℃以上である、積層体。
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