WO2020220445A1 - Oled显示面板及其制备方法 - Google Patents

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周思思
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Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
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    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
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    • H10K59/80—Constructional details
    • H10K59/88—Dummy elements, i.e. elements having non-functional features

Definitions

  • This application relates to the field of display technology, in particular to an OLED display panel and a preparation method thereof.
  • the non-display area on the display panel is compressed smaller and smaller.
  • Figure 1 shows a common display screen on the market.
  • the display screen includes a panel frame 1 and a display area 2 from the outside to the inside, which are packaged by pressure welding technology.
  • the outer frame is the panel shape
  • the inner frame is the display area.
  • a gap is provided at the upper end of the display area 2 for setting devices such as a front camera and earpiece.
  • OLED display technology has self-luminous characteristics. It uses very thin organic material coatings and glass substrates. When current passes through, these organic materials emit light.
  • the OLED display screen has a large viewing angle and can save power.
  • the transmittance of the cathode of the OLED display is only 40%, and the transmittance of the thin-film encapsulation layer is less than 90%, the light-transmitting area needs to avoid the organic electroluminescent device and the thin-film encapsulation layer. If the light-transmitting area needs to be cut, the thin film encapsulation layer of the OLED display screen also needs to be avoided at the cut.
  • both the cathode and the thin film encapsulation layer are vapor-deposited by a common mask, and holes are opened on the display area mask. How to avoid the light-transmitting area when the film layer is vaporized is a problem that needs to be solved at present.
  • the purpose of this application is to provide an OLED display panel, which guarantees the regularity and integrity of the display area without increasing the screen-to-body ratio, and realizes the full-screen display of electronic devices.
  • Another purpose of the present application is to provide a manufacturing method for producing the above-mentioned display panel, so as to solve the problem that the light-transmitting area is difficult to avoid when the organic electroluminescent device and the thin film encapsulation layer are vapor-deposited in the prior art.
  • the present application provides a display panel including a display area, wherein the display area includes:
  • the light-transmitting area can be arranged at any position of the display area.
  • the shape of the display area is a circle, a rectangle, a polygon, or other irregular shapes.
  • the shape of the display area is a circular wearable display.
  • the shape of the light-transmitting area is a circle, a rectangle, a polygon, an ellipse or other special shapes.
  • the organic electroluminescent device and the thin-film encapsulation layer of the common layer are formed of conventional materials in the art through conventional processes in the art.
  • the application also provides a preparation method for producing the display panel, and the preparation method includes:
  • a shield is set in the light-transmitting area.
  • the barrier and the center point of the light-transmitting area are aligned or overlapped.
  • the shape of the shield is 50um-300um larger on one side than the shape of the light-transmitting area.
  • the shielding object is any material shielding mask.
  • the shield is removed, and the film layer deposited on the shield is also removed.
  • the public mask and the shielding mask described in this application are formed from conventional materials in the field through conventional processes in the field.
  • a shield is provided during the evaporation of the organic electroluminescent device and the thin film encapsulation layer to avoid the light-transmitting area.
  • the shield since the shield is set before evaporation, the light-transmitting area can be set at any position in the display area, and the shape is not limited. Experiments show that the transmittance of the light-transmitting area in this application is good.
  • the beneficial effect of the present application is that it not only solves the problem that the light-transmitting area is difficult to avoid when evaporating organic light-emitting devices and thin-film packaging layers in the prior art, but also ensures the regularity of the display area without reducing the screen ratio of electronic equipment. And completeness, realizing the full-screen display of the electronic device, so that the display panel described in this application has a better display effect.
  • Figure 1 is a schematic structural diagram of an existing display screen
  • FIG. 2 is a schematic diagram of the front view of the structure of the display panel of Embodiment 1 of the present application;
  • FIG. 3 is a schematic diagram of a rear view of the display panel of Embodiment 1 of the present application.
  • Example 4 is a schematic flow chart of the method for manufacturing the display panel of Example 1 of the present application.
  • FIG. 5 is a schematic structural flow diagram of a manufacturing method of a display panel corresponding to FIG. 4;
  • FIG. 6 is a schematic diagram of the front structure of the display panel of Embodiment 2;
  • FIG. 7 is a schematic diagram of the front structure of the display panel of the third embodiment.
  • a mobile phone OLED display panel is provided.
  • the display area 110 of the display panel 100 is provided with a light-transmitting area 111.
  • the display panel 100 includes a display area 110 and an outer frame 120.
  • the display area 110 includes a light-transmitting area 111, a display area 112 surrounding the light-transmitting area, and a common layer disposed on the display area 112 113; wherein, the common layer 113 includes an organic electroluminescent device and a thin film encapsulation layer, and the light-transmitting area 111 is not provided with a common layer 113.
  • the light-transmitting area 111 is provided in the upper left area of the display area 110, which conforms to most users' right-handed use habits.
  • the display area 110 is in the shape of a conventional mobile phone display screen, and may also be in a shape such as a circle, a square, a polygon, and a polygon.
  • the light-transmitting area 111 is not provided with a common layer including the organic electroluminescent device and the thin-film encapsulation layer, the transmittance of the light-transmitting area is improved. If the light-transmitting area is cut out, it can be Avoid the common layer of the organic electroluminescent device and the thin film encapsulation layer on the cutting line to avoid water vapor intrusion. On the basis of not reducing the screen-to-body ratio of the electronic device, the regularity and integrity of the display area 110 are guaranteed, and full-screen display of the electronic device is realized, so that the display panel 100 described in the present application has a better display effect.
  • the organic electroluminescent device and the thin film encapsulation layer of the common layer 113 are formed of conventional materials in the art through conventional processes in the art.
  • a manufacturing method is provided for manufacturing the above-mentioned display panel 100.
  • the preparation method includes:
  • step S100 before evaporating the OLED common mask, the FMM mask and the thin film encapsulation layer, a shield is arranged in the light-transmitting area.
  • the shield 21 is aligned with the center point of the transparent region 111.
  • the shape of the shield 21 is about 300 um on one side of the shape of the transparent region 111.
  • the shield 21 is a shielding mask.
  • the common mask 22 and the shielding mask are formed of conventional materials in the art through conventional processes in the art.
  • the preparation method also includes other known processes such as pressure welding packaging, etc., which will not be repeated here.
  • a circular wearable OLED display panel 100' is provided, and the display panel 100' includes a display area 110' and an outer frame 120'.
  • the display area 110' of the display panel 100' is provided with a circular light-transmitting area 111'.
  • the display area 110' includes: a light-transmitting area 111', a display area 112' surrounding the light-transmitting area 111', and a common layer (not shown in the figure) disposed on the display area 112';
  • the common layer includes an organic electroluminescent device and a thin film encapsulation layer, and the light-transmitting region 111' is not provided with a common layer.
  • the light-transmitting area 111' is arranged in the upper left area or the center of the display area 110'.
  • a manufacturing method is provided for producing the above-mentioned display panel 100'.
  • the preparation method is similar to Example 1, and includes:
  • step S100 before evaporating the OLED common mask, the FMM mask and the thin film encapsulation layer, a shield is arranged in the light-transmitting area.
  • the barrier overlaps the center point of the light-transmitting area 111'.
  • the shape of the shield is 50um larger on one side than the shape of the light-transmitting area 111'.
  • the shield is any known material and serves as a shielding mask.
  • the common mask and the shielding mask are formed of conventional materials in the art through conventional processes in the art.
  • a rectangular OLED display panel 100'' is provided.
  • the display panel 100'' includes a display area 110'' and an outer frame 120''.
  • the display area 110'' of the display panel 100'' is provided with a light-transmitting area 111''.
  • the display area 110" is rectangular and includes: an elliptical light-transmitting area 111", a display area 112" surrounding the light-transmitting area 111", and A common layer (not shown in the figure) of the display area 112"; wherein the common layer includes an organic electroluminescent device and a thin film encapsulation layer, and the light-transmitting area 111" is not provided with a common layer.
  • the light-transmitting area 111'' is arranged at the center of the display area 110''.
  • a manufacturing method is provided for producing the above-mentioned display panel 100''.
  • the preparation method is similar to Example 1, and includes:
  • step S100 before evaporating the OLED common mask, the FMM mask and the thin film encapsulation layer, a shield is arranged in the light-transmitting area.
  • the barrier overlaps the center point of the light-transmitting area 111''.
  • the shape of the shield is 80um larger on one side than the shape of the light-transmitting area 111''.
  • the shield is any known material and serves as a shielding mask.
  • the common mask and the shielding mask are formed of conventional materials in the art through conventional processes in the art.
  • the subject of this application can be manufactured and used in industry and has industrial applicability.

Landscapes

  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

一种OLED显示面板，包括显示区域，所述显示区域包括：透光区；与围绕所述透光区的显示区；以及，设置于所述显示区的公共层；其中，所述公共层包括有机电致发光器件和薄膜封装层，所述透光区不设置公共层。

Description

OLED显示面板及其制备方法 技术领域
本申请涉及显示技术领域，特别涉及一种OLED显示面板及其制备方法。
 背景技术
为了提高电子产品的屏占比，显示面板上的非显示区域被压缩得越来越小。为了尽量压缩手机显示屏中的非显示区域，已经出现在显示区域上端设置缺口（异形区），将手机的前置摄像头和听筒等装置设置在缺口中的技术。
图1所示的是一种市面上常见的显示屏。如图1所示，该显示屏由外至内依次包括面板外框1，与显示区域2，通过压焊技术封装。该显示屏为了压缩非显示区域，外框为panel外形，内框为显示区域。其中，显示区域2上端设置缺口，用于设置前置摄像头和听筒等装置。
OLED显示技术具有自发光的特性，采用非常薄的有机材料涂层和玻璃基板，当有电流通过时，这些有机材料就会发光，而且OLED显示屏幕可视角度大，并且能够节省电能。
 技术问题
然而，在显示区域设置缺口即影响了显示区域的规则性和完整性，也无法实现电子设备的全屏显示。同时，由于OLED显示屏阴极透过率只有40%，薄膜封装层的透过率不到90%，因此透光区需要避开有机电致发光器件和薄膜封装层。若透光区需要切除，OLED显示屏的薄膜封装层在切割处也需要避开。目前，阴极和薄膜封装层都是采用公共掩膜蒸镀，在显示区域掩膜上开孔，如何在蒸镀膜层时避开透光区是目前需要解决的问题。
因此，有必要提供一种新的显示面板，在前置摄像头对应显示区域内的区域设置透光区，以克服上述缺陷。此外，还有必要提供一种用于生产显示面板的制备方法，以克服上述缺陷。
 技术解决方案
本申请的目的在于提供一种OLED显示面板，在不提高屏占比的同时，保障显示区域的规则性和完整性，实现电子设备的全屏显示。
本申请的另一目的在于提供一种制备方法，用于生产上述显示面板，以解决现有技术在蒸镀有机电致发光器件和薄膜封装层时难以避开透光区的问题。
为了达到上述目的，本申请提供一种显示面板，包括显示区域，其中，所述显示区域包括：
透光区；
与围绕所述透光区的显示区；以及，
设置于所述显示区的公共层；其中，所述公共层包括有机电致发光器件和薄膜封装层，所述透光区不设置公共层。
在上述方案基础上，所述透光区可以设置在所述显示区域的任意位置。
在上述方案基础上，所述显示区域的形状为圆形、矩形、多边形或其他异形。
优选地，所述显示区域的形状为圆形可穿戴显示。
在上述方案基础上，所述透光区的形状为圆形、矩形、多边形、椭圆形或其他异形。
本领域技术人员可以理解的是，如无特殊说明，所述公共层的有机电致发光器件和薄膜封装层由本领域常规材料通过本领域常规工艺形成。
本申请还提供了一种制备方法，用于生产所述显示面板，该制备方法包括：
在透光区设置遮挡物；
在显示区域设置公共掩膜版；
在显示区域蒸镀形成公共层；
去除遮挡物及公共层覆盖在遮挡物上的区域。
其中，在蒸镀OLED 公共掩膜版、FMM 掩膜版和薄膜封装层前，在透光区设置遮挡物。
在上述方案基础上，所述遮挡物和透光区中心点对齐，或重叠。
在上述方案基础上，所述遮挡物的形状比透光区的形状单边大50um～300um。
在上述方案基础上，所述遮挡物为任意材料遮挡掩膜版。
进一步的，做完薄膜封装后再去除掉遮挡物，且遮挡物上所沉积的膜层一并被去除。
本领域技术人员可以理解的是，如无特殊说明，本申请所述公共掩膜版和所述遮挡掩膜版由本领域常规材料通过本领域常规工艺形成。
在本申请中，通过在蒸镀有机电致发光器件和薄膜封装层时设置遮挡物，以避开透光区。此外，由于遮挡物是在蒸镀前设置，所述透光区可以设置在显示区域的任意位置，且形状不受限。由实验表明，本申请中所述透光区透过率良好。
 有益效果
本申请有益效果是，不但解决现有技术在蒸镀有机发光器件和薄膜封装层时难以避开透光区的问题，在不降低电子设备屏占比的基础上，保障了显示区域的规则性和完整性，实现电子设备的全屏显示，使得本申请所述的显示面板具有更好的显示效果。
 附图说明
图1是一现有显示屏的结构示意图；
图2是本申请实施例1的显示面板的主视结构示意图；
图3是本申请实施例1的显示面板的后视结构示意图；
图4是本申请实施例1的显示面板的制备方法的流程示意图；
图5是与图4对应的显示面板的制备方法的结构流程示意图；
图6是实施例2显示面板的主视结构示意图；
图7是实施例3显示面板的主视结构示意图。
 本发明的实施方式
以下，结合具体实施方式，对本申请的技术进行详细描述。应当知道的是，以下具体实施方式仅用于帮助本领域技术人员理解本申请，而非对本申请的限制。
以下实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本申请可用以实施的特定实施例。本申请所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「顶」、「底」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本申请，而非用以限制本申请。
实施例1
如图2显示面板的主视结构示意图和图3显示面板的后视结构示意图所示，提供了一种手机OLED显示面板。
在本实施例中，如图2和图3所示，该显示面板100的显示区域110设置有透光区111。所述显示面板100包括显示区域110和外框120，所述显示区域110包括：透光区111，与围绕所述透光区的显示区112，以及，设置于所述显示区112的公共层113；其中，所述公共层113包括有机电致发光器件和薄膜封装层，所述透光区111不设置公共层113。
在本实施例中，所述透光区111设置在所述显示区域110的左上区域，契合大多数用户惯用手为右手的使用习惯。
在本实施例中，所述显示区域110为常规手机显示屏的形状，也可以为圆形、方形、以及多边形、多角等异形。
因此，在本实施例中，由于透光区111未设置包括有机电致发光器件和薄膜封装层的公共层，提高了透光区的透过率，若切掉透光区区域时，也可避免切割线上存在有机电致发光器件和薄膜封装层的公共层，避免水汽入侵。在不降低电子设备屏占比的基础上，保障了显示区域110的规则性和完整性，实现电子设备的全屏显示，使得本申请所述的显示面板100具有更好的显示效果。
本领域技术人员可以理解的是，所述公共层113的有机电致发光器件和薄膜封装层由本领域常规材料通过本领域常规工艺形成。
在本实施例中，提供一种制备方法，用于生产上述显示面板100。
如图4和图5所示，该制备方法包括：
S100：在透光区111设置遮挡物21；
S200：在显示区域110设置公共掩膜版22；
S300：在显示区域110蒸镀形成公共层113；
S400：去除遮挡物21及公共层113覆盖在遮挡物上的区域。
在本实施例中，步骤S100在蒸镀OLED 公共掩膜版、FMM 掩膜版和薄膜封装层前，在透光区设置遮挡物。
所述遮挡物21和透光区111中心点对齐。
在本实施例中，所述遮挡物21的形状比透光区111的形状单边大约300um。
在本实施例中，所述遮挡物21为遮挡掩膜版。
本领域技术人员可以理解的是，所述公共掩膜版22和所述遮挡掩膜版由本领域常规材料通过本领域常规工艺形成。
当然，所述制备方法还包括其他诸如压焊封装等的已知工艺，在此不再赘述。
实施例2
如图6所示，提供了一种圆形可穿戴式OLED显示面板100’，所述显示面板100’包括显示区域110’和外框120’。该显示面板100’的显示区域110’设置有圆形透光区111’。
所述的显示区域110’包括：透光区111’，与围绕所述透光区111’的显示区112’，以及，设置于所述显示区112’的公共层（图中未示）；其中，所述公共层包括有机电致发光器件和薄膜封装层，所述透光区111’不设置公共层。
在本实施例中，所述透光区111’设置在所述显示区域110’的左上区域，或中心位置。
在本实施例中，提供一种制备方法，用于生产上述显示面板100’。
该制备方法与实施例1相近，包括：
S100：在透光区111’设置遮挡物；
S200：在显示区域110’设置公共掩膜版；
S300：在显示区域110’蒸镀形成公共层；
S400：去除遮挡物及公共层覆盖在遮挡物上的区域。
在本实施例中，步骤S100在蒸镀OLED 公共掩膜版、FMM 掩膜版和薄膜封装层前，在透光区设置遮挡物。
所述遮挡物和透光区111’中心点重叠。
在本实施例中，所述遮挡物的形状比透光区111’的形状单边大50um。
在本实施例中，所述遮挡物为任意已知材料，作为遮挡掩膜版。
本领域技术人员可以理解的是，所述公共掩膜版和所述遮挡掩膜版由本领域常规材料通过本领域常规工艺形成。
实施例3
如图7所示，提供了一种矩形OLED显示面板100’’，所述显示面板100’’包括显示区域110’’和外框120’’。该显示面板100’’的显示区域110’’设置有透光区111’’。
本实施例中，所述的显示区域110’’为矩形，包括：椭圆形透光区111’’，与围绕所述透光区111’’的显示区112’’，以及，设置于所述显示区112’’的公共层（图中未示）；其中，所述公共层包括有机电致发光器件和薄膜封装层，所述透光区111’’不设置公共层。
在本实施例中，所述透光区111’’设置在所述显示区域110’’的中心位置。
在本实施例中，提供一种制备方法，用于生产上述显示面板100’’。
该制备方法与实施例1相近，包括：
S100：在透光区111’’设置遮挡物；
S200：在显示区域110’’设置公共掩膜版；
S300：在显示区域110’’蒸镀形成公共层；
S400：去除遮挡物及公共层覆盖在遮挡物上的区域。
在本实施例中，步骤S100在蒸镀OLED 公共掩膜版、FMM 掩膜版和薄膜封装层前，在透光区设置遮挡物。
所述遮挡物和透光区111’’中心点重叠。
在本实施例中，所述遮挡物的形状比透光区111’’的形状单边大80um。
在本实施例中，所述遮挡物为任意已知材料，作为遮挡掩膜版。
本领域技术人员可以理解的是，所述公共掩膜版和所述遮挡掩膜版由本领域常规材料通过本领域常规工艺形成。
本申请已由上述相关实施例加以描述，然而上述实施例仅为实施本申请的范例。必需指出的是，已公开的实施例并未限制本申请的范围。相反地，包含于权利要求书的精神及范围的修改及均等设置均包括于本申请的范围内。
 工业实用性
本申请的主题可以在工业中制造和使用，具备工业实用性。

Claims (12)

  1. 一种OLED显示面板，包括显示区域，其中，所述显示区域包括：
    透光区；
    与围绕所述透光区的显示区；以及，
    设置于所述显示区的公共层；其中，所述公共层包括有机电致发光器件和薄膜封装层，所述透光区不设置公共层。
  2. 如权利要求1所述的OLED显示面板，其中，所述透光区设置在所述显示区域的任意位置。
  3. 如权利要求1或2所述的OLED显示面板，其中，所述显示区域的形状为圆形、矩形、多边形或其他异形。
  4. 如权利要求3所述的OLED显示面板，其中，所述透光区的形状为圆形、矩形、多边形或椭圆形。
  5. 一种OLED显示面板的制备方法，其中，所述OLED显示面板具有一包括一透光区和一围绕所述透光区的显示区的显示区域，所述制备方法包括：
    在所述透光区设置遮挡物的步骤；
    在显示区域设置公共掩膜版的步骤；
    在显示区域蒸镀形成公共层的步骤；以及，
    去除遮挡物及公共层覆盖在遮挡物上的区域的步骤，使得所述公共层形成于所述显示区内而不形成于所述透光区内；
    其中，所述公共层包括有机电致发光器件和薄膜封装层。
  6. 如权利要求5所述的制备方法，其中，所述透光区设置在所述显示区域的任意位置。
  7. 如权利要求5所述的制备方法，其中，所述遮挡物的形状为圆形、矩形、多边形或椭圆形。
  8. 如权利要求5所述的制备方法，其中，在设置所述公共掩膜版、一FMM 掩膜版或一薄膜封装层前，在所述透光区内设置遮挡物。
  9. 如权利要求5所述的制备方法，其中，所述遮挡物和透光区中心点对齐。
  10. 如权利要求5所述的制备方法，其中，所述遮挡物的形状比透光区的形状单边大50um～300um。
  11. 如权利要求5所述的制备方法，其中，所述遮挡物为任意材料的遮挡掩膜版。
  12. 如权利要求5所述的制备方法，其中，做完薄膜封装后再去除掉遮挡物，且遮挡物上所沉积的膜层一并被去除。
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