WO2020209264A1 - 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、硬化物、積層体及び物品 - Google Patents
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Definitions
- the active energy ray-curable resin composition of the present invention uses the urethane (meth) acrylate resin (A), the (meth) acrylate compound (B), and the (meth) acrylate compound (C) as essential components. Any other active energy ray-curable resin component may be used in combination as long as the effect of the present invention is not impaired.
- Examples of commercially available products of the other photopolymerization initiator include “Omnirad-1173”, “Omnirad-184", “Omnirad-127”, “Omnirad-2959”, “Omnirad-369”, and “Omnirad-379".
- the organic beads include, for example, polymethyl methacrylate beads, polycarbonate beads, polystyrene beads, polyacrylic styrene beads, silicone beads, glass beads, acrylic beads, benzoguanamine resin beads, melamine resin beads, and polyolefin resin beads.
- examples thereof include polyester resin beads, polyamide resin beads, polyimide resin beads, polyfluoroethylene resin beads, and polyethylene resin beads. Each of these may be used alone, or two or more types may be used in combination.
- the average particle size of these organic beads is preferably in the range of 1 to 10 ⁇ m.
- Quaternary compounds such as SnPbSSe, SnPbSeTe, SnPbSTe and the like can be mentioned.
- the group I-III-VI semiconductor compound for example, CuInS 2, CuInSe 2, CuInTe 2, CuGaS 2, CuGaSe 2, CuGaSe 2, AgInS 2, AgInSe 2, AgInTe 2, AgGaSe 2, AgGaTe 2 etc.
- Examples of the Group IV element or a compound containing the same include C, Si, Ge, SiC, SiGe and the like.
- the quantum dots may be composed of a single semiconductor compound, or may have a core-shell structure composed of a plurality of semiconductor compounds. Further, the surface thereof may be modified with an organic compound.
- the sheet bonding method is a resin layer in which a base sheet of a protective layer forming sheet prepared in advance and a molded product are bonded to each other and then heat-cured by heating to form a B-stage.
- H6XDI indicates hydrogenated xylylene diisocyanate.
- the obtained active energy ray-curable resin composition (1) was applied on an acrylic film having a thickness of 40 ⁇ m with a bar coater, and dried at 90 ° C. for 1 minute.
- ultraviolet rays were irradiated at 50 mJ / cm 2 with an 80 W high-pressure mercury lamp to obtain a laminate (L1) having a cured coating film having a film thickness of 5 ⁇ m on an acrylic film.
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Abstract
Description
カラム ; 東ソー株式会社製ガードカラムHXL-H
+東ソー株式会社製 TSKgel G5000HXL
+東ソー株式会社製 TSKgel G4000HXL
+東ソー株式会社製 TSKgel G3000HXL
+東ソー株式会社製 TSKgel G2000HXL
検出器 ; RI(示差屈折計)
データ処理:東ソー株式会社製 SC-8010
測定条件: カラム温度 40℃
溶媒 テトラヒドロフラン
流速 1.0ml/分
標準 ;ポリスチレン
試料 ;樹脂固形分換算で0.4質量%のテトラヒドロフラン溶液をマイクロフィルターでろ過したもの(100μl)
四つ口フラスコに、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート及びペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物(東亞合成株式会社製「アロニックスM-305」、水酸基価110mgKOH/g)510質量部、ジブチル錫ジラウレート0.22質量部、およびハイドロキノン0.22質量部を加え、均一溶液とした。フラスコの内温が50℃になるまで加温し、次いで、イソホロンジイソシアネート(エボニックジャパン社製「VESTANAT IPDI」)111質量部を約1時間かけて分割投入した。80℃で3時間反応させ、赤外吸収スペクトルにてイソシアネート基の消失を確認した後、酢酸ブチルを用いて不揮発分を80%に調整し、ウレタン(メタ)アクリレート樹脂(A-1)を得た。このウレタン(メタ)アクリレート樹脂(A-1)の重量平均分子量(Mw)は1,800であり、仕込みの原料から算出されるアクリロイル基当量は115g/当量であった。
表1に示す配合比率で合成例1と同様の方法にて、ウレタン(メタ)アクリレート樹脂(A-2)~(A-9)を得た。
攪拌装置、冷却管、滴下ロートおよび窒素導入管を備えた反応装置に、メチルイソブチルケトンを33.3質量部仕込み、攪拌しながら系内温度が110℃になるまで加熱した。ついで、メタクリル酸グリシジル100質量部、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート(日油株式会社製「パーブチルO」)4質量部、メチルイソブチルケトン36質量部からなる混合液を4時間かけて滴下した。滴下後、110℃で10時間撹拌を続け、不揮発分60質量%のアクリル樹脂中間体(1)溶液を得た。アクリル樹脂中間体(1)のエポキシ基当量は148g/当量であった。
合成例1で得た不揮発分80質量%のウレタン(メタ)アクリレート樹脂(A-1)50質量部(固形分として40質量部)、ポリエチレングリコールモノアクリレート(日油株式会社製「AE-90U」)35質量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(東亞合成株式会社製「アロニックスM-450」)25質量部、光重合開始剤(IGM社製「Omnirad-184」8質量部、メチルエチルケトン140質量部を混合し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(1)を得た。
表2及び3に示す組成及び配合比率で実施例1と同様の方法にて、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(2)~(25)を得た。また、得られた活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を用いて実施例1と同様の方法にて積層体(L2)~(L25)を得た。
表4に示す組成及び配合比率で実施例1と同様の方法にて、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(C1)~(C5)を得た。また、得られた活性エネルギー線硬化性組成物を用いて実施例1と同様の方法にて積層体(L26)~(L30)を得た。
実施例及び比較例で得られた積層体について、JIS K5600-5-4(1999)に準拠し、塗膜表面の鉛筆硬度を500g荷重条件下で測定した。1つの硬度につき5回測定を行い、傷が付かなかった測定が4回以上あった硬度を硬化塗膜の硬度とし、以下の基準に従い評価した。
B:鉛筆硬度が、H以上2H未満であった。
C:鉛筆硬度が、H未満であった。
スチールウール(日本スチールウール株式会社製「ボンスター#0000」)0.5gで直径2.4センチメートルの円盤状の圧子を包み、該圧子に500g重の荷重をかけて、実施例及び比較例で得られた積層体の塗装表面を10往復させる磨耗試験を行った。磨耗試験前後の積層フィルムのヘーズ値をスガ試験機株式会社製「ヘーズコンピュータHZ-2」を用いて測定し、それらの差の値(dH)を用いて、以下の基準に従い評価した。なお、差の値(dH)が小さいほど、擦傷に対する耐性が高い。
B:dHが、1.0超~3.0以下であった。
C:dHが、3.0超~5.0以下であった。
D:dHが、5.0超~10以下であった。
E:dHが、10超であった。
実施例及び比較例で得られた積層体の硬化塗膜表面にカッターナイフで切れ目を入れて、1mm×1mmの碁盤目を100個作成し、その上からセロハン粘着テープを貼着した後、急速に剥がす操作を行い、剥離せずに残存した碁盤目の数を数え、以下の基準に従い評価した。
B:碁盤目の残存数が50個以上80個未満であった。
C:碁盤目の残存数が30個以上50未満であった。
D:碁盤目の残存数が30個未満であった。
実施例及び比較例で得られた積層体を、スガ試験機株式会社製フェードメーター「U48AU」(63℃、湿度50%)で50時間光照射した。その後、上述の基材密着性(初期)と同様の方法にて行い、以下の基準に従い評価した。
B:碁盤目の残存数が50個以上80個未満であった。
C:碁盤目の残存数が30個以上50未満であった。
D:碁盤目の残存数が30個未満であった。
Claims (12)
- ウレタン(メタ)アクリレート樹脂(A)と、
一分子中に1以上2以下の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレート化合物(B)と、
一分子中に3以上の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレート化合物(C)と、を含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物であって、
前記ウレタン(メタ)アクリレート樹脂(A)の重量平均分子量が、1,500~30,000の範囲であり、
前記(メタ)アクリレート化合物(B)の含有量が、前記ウレタン(メタ)アクリレート樹脂(A)、前記(メタ)アクリレート化合物(B)、及び前記(メタ)アクリレート化合物(C)の合計質量中10~50質量%の範囲であることを特徴とする活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。 - 前記ウレタン(メタ)アクリレート樹脂(A)の含有量が、前記ウレタン(メタ)アクリレート樹脂(A)、前記(メタ)アクリレート化合物(B)、及び前記(メタ)アクリレート化合物(C)の合計質量中20~80質量%の範囲である請求項1記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
- 前記ウレタン(メタ)アクリレート樹脂(A)の(メタ)アクリロイル基当量が、90~500g/当量の範囲である請求項1記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
- 前記(メタ)アクリレート化合物(B)が、アルキレンオキサイド鎖を有するものである請求項1記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
- 前記アルキレンオキサイド鎖の平均繰り返し数が、4以下である請求項4記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
- 前記(メタ)アクリレート化合物(C)の含有量が、前記ウレタン(メタ)アクリレート樹脂(A)、前記(メタ)アクリレート化合物(B)、及び前記(メタ)アクリレート化合物(C)の合計質量中、5~50質量%の範囲である請求項1記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
- 前記(メタ)アクリレート化合物(C)が、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、及びジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートからなる群より選ばれる1種以上を含有するものである請求項1記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
- 請求項1~7のいずれか1項記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化反応物であることを特徴とする硬化物。
- 基材の片面または両面に請求項1~7のいずれか1項記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化塗膜を有することを特徴とする積層体。
- 前記基材が、アクリル系基材である請求項9記載の積層体。
- 前記基材が、フィルム状である請求項9または10記載の積層体。
- 請求項9~11のいずれか1項記載の積層体を表面に有することを特徴とする物品。
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