WO2020189458A1 - 組成物、膜、光学フィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、赤外線センサ、並びに、カメラモジュール - Google Patents

組成物、膜、光学フィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、赤外線センサ、並びに、カメラモジュール Download PDF

Info

Publication number
WO2020189458A1
WO2020189458A1 PCT/JP2020/010665 JP2020010665W WO2020189458A1 WO 2020189458 A1 WO2020189458 A1 WO 2020189458A1 JP 2020010665 W JP2020010665 W JP 2020010665W WO 2020189458 A1 WO2020189458 A1 WO 2020189458A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
group
composition
mass
film
present disclosure
Prior art date
Application number
PCT/JP2020/010665
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
賢 鮫島
季彦 松村
Original Assignee
富士フイルム株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 富士フイルム株式会社 filed Critical 富士フイルム株式会社
Priority to JP2021507250A priority Critical patent/JP7195407B2/ja
Publication of WO2020189458A1 publication Critical patent/WO2020189458A1/ja

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L101/00Compositions of unspecified macromolecular compounds
    • C08L101/02Compositions of unspecified macromolecular compounds characterised by the presence of specified groups, e.g. terminal or pendant functional groups
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/22Absorbing filters

Definitions

  • the present disclosure relates to a composition, a film, an optical filter and a method for manufacturing the same, a solid-state image sensor, an infrared sensor, and a camera module.
  • color filters are colored photosensitive by containing a polyfunctional monomer, a photopolymerization initiator, an alkali-soluble resin and other components in a pigment dispersion composition such as a curable composition in which an organic pigment or an inorganic pigment is dispersed. It is used as a composition and is produced by a photolitho method or the like. It is known that a squarylium compound having a dihydroperimidine skeleton is used as the pigment. Examples of conventional squarylium compounds having a dihydroperimidine skeleton include those described in Patent Documents 1 and 2 below.
  • Patent Document 1 at least 8.6 °, 12.4 °, 17 having a Bragg angle of 2 ⁇ ( ⁇ 0.2 °) in the X-ray diffraction pattern represented by the following general formula (1) and using CuK ⁇ rays.
  • a dihydroperimidine type squarylium dye [A] having diffraction peaks at .5 °, 20.2 °, 22.2 ° and 25.4 ° has been described.
  • R 1 to R 5 independently represent a hydrogen atom, a sulfo group or a halogen atom.
  • X 1 to X 8 each independently have a hydrogen atom and a substituent. May have an alkyl group, an alkenyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent, an alkoxy group which may have a substituent, Aryloxy group, hydroxyl group, amino group, -NR 6 R 7 , sulfo group, -SO 2 NR 8 R 9 , -COOR 10 , -CONR 11 R 12 , nitro group, cyano group, which may have substituents.
  • R 6 to R 12 may independently have a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, and a substituent.
  • R 6 and R 7 , R 8 and R 9 and R 11 and R 12 may be bonded to each other to form a ring.
  • Patent Document 2 describes a laser marking composition containing a near-infrared absorbing dye [A], a coloring agent [B], a developing agent [C], and a resin [D], which is a near-infrared absorbing dye [A].
  • a near-infrared absorbing dye [A] a coloring agent [B]
  • a developing agent [C] a developing agent [C]
  • a resin [D] which is a near-infrared absorbing dye [A].
  • Compositions for laser marking are described.
  • R1 to R5 each independently have a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, an alkoxy group which may have a substituent, and a substituent. It may represent an aryloxy group, a sulfo group, SO 3 - Ma + , -SO 2 NR 6 R 7 , -COOR 8 , -CONR 9 R 10 , a nitro group, a cyano group or a halogen atom.
  • Each of X 1 to X 10 independently contains a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an alkenyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, and a substituent.
  • substituents may be bonded to each other to form a ring.
  • Ma + represents an inorganic or organic cation
  • R 6 to R 15 each independently represent an alkyl group which may have a hydrogen atom or a substituent.
  • Y represents a heterocycle which may have a substituent.
  • R 16 to R 20 independently have a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, an alkoxy group which may have a substituent, and a substituent.
  • Mb + represents an inorganic or organic cation
  • R 21 to R 25 represent an alkyl group which may independently have a hydrogen atom or a substituent.
  • Q 1 , Q 4 , Q 5 and Q 8 each independently represent a carbon atom or a nitrogen atom. If Q 1 , Q 4 , Q 5 or Q 8 are nitrogen atoms, it is assumed that there are no X 11 , X 14 , X 15 or X 18 attached to them.
  • R 26 to R 30 independently represent a hydrogen atom, a sulfo group, -SO 3 - Mc + or a halogen atom. Mc + represents an inorganic or organic cation.
  • X 11 to X 18 independently have a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an alkenyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, and a substituent.
  • Aralkyl group which may have, alkoxy group which may have substituent, aryloxy group which may have substituent, hydroxyl group, amino group, -NR 31 R 32 , sulfo group, -SO 2 NR 33 R 34, -COOR 35, -CONR 36 R 3 7, a nitro group, a cyano group or a halogen atom.
  • substituents may be bonded to each other to form a ring.
  • R 31 to R 37 independently have a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, and an acyl group or a substituent which may have a substituent. Represents a pyridinyl group that may have. R 31 and R 32 , R 3 3 .
  • Patent Document 3 describes a filter for a plasma display panel, which comprises a layer containing a squarylium compound represented by the following general formula (I) on a transparent substrate.
  • R 1 , R 2 , and R 3 each independently have a hydrogen atom, an alkyl group that may have a substituent, a cycloalkyl group that may have a substituent, and a substituent. It represents an aryl group or a heteroaryl group which may have, and R 1 and R 2 or R 2 and R 3 may be linked to each other to form a 5- or 6-membered ring or a part of the ring.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Application Laid-Open No. 6322837
  • Patent Document 2 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2018-193516
  • Patent Document 3 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-162431
  • a squarylium compound having a dihydroperimidine skeleton As a dye used in the formation of a member such as a color filter, a squarylium compound having a dihydroperimidine skeleton is known. However, as a result of diligent studies, the present inventors have found that a squarylium compound having a dihydroperimidine skeleton may not sufficiently suppress foreign matter adhesion during pattern formation in a film containing the above compound.
  • An object to be solved by one embodiment of the present disclosure is to provide a composition excellent in suppressing foreign matter adhesion during pattern formation in the obtained film.
  • Another object to be solved by another embodiment of the present disclosure is to provide a film using the above composition, an optical filter and a method for manufacturing the same, a solid-state image sensor, an infrared sensor, and a camera module.
  • Means for solving the above problems include the following aspects. ⁇ 1> The dye represented by the following formula (1) or formula (2) and A composition comprising at least one compound selected from the group consisting of a binder polymer and a curable compound.
  • X 1A , X 1B , Y 1A , and Y 1B each independently represent a ring structure, except that X 1A and X 1B and Y 1A and Y 1B have different ring structures.
  • R 1A and R 1B each independently represent a substituent
  • n1A and n1B each independently represent an integer of 0 to 5
  • X 2A and X 2B are independent of each other.
  • Z A and Z B each independently represent an alkylene group, an alkynylene group, or a ring structure
  • R 2A and R 2B each independently represent a substituent
  • n2A and n2B respectively Independently represents an integer from 0 to 5.
  • ⁇ 3> The composition according to ⁇ 1> or ⁇ 2>, wherein in the above formula (1) or (2), the above X 1 and X 2 are independently phenyl groups or naphthyl groups, respectively.
  • ⁇ 4> The composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 3>, wherein the maximum absorption wavelength of the dye represented by the above formula (1) or (2) is 650 nm or more.
  • ⁇ 5> The composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 4>, wherein the dye represented by the above formula (1) or (2) is a pigment.
  • ⁇ 6> The composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 5>, which contains the curable compound.
  • ⁇ 7> The composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 6>, which contains the binder polymer.
  • ⁇ 8> The composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 7>, further comprising a photopolymerization initiator.
  • ⁇ 9> A film comprising the composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 8> or obtained by curing the above composition.
  • ⁇ 11> The optical filter according to ⁇ 10>, which is an infrared cut filter or an infrared transmission filter.
  • ⁇ 12> A solid-state image sensor having the film according to ⁇ 9>.
  • ⁇ 13> An infrared sensor having the film according to ⁇ 9>.
  • ⁇ 14> A step of applying the composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 8> on a support to form a composition layer, and The step of exposing the composition layer in a pattern and A method for manufacturing an optical filter, which includes a step of developing and removing an unexposed portion to form a pattern.
  • ⁇ 15> A step of applying the composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 8> on a support to form a composition layer, and then curing to form a layer.
  • a step of forming a photoresist layer on the above layer A step of patterning the photoresist layer by exposure and development to obtain a resist pattern, and A method for manufacturing an optical filter, which comprises a step of dry etching the layer using the resist pattern as an etching mask.
  • a composition which is excellent in suppressing foreign matter adhesion during pattern formation in the obtained film. Further, according to another embodiment of the present disclosure, a film using the above composition, an optical filter and a method for manufacturing the same, a solid-state image sensor, an infrared sensor, and a camera module are provided.
  • total solid content refers to the total mass of the components excluding the solvent from the total composition of the composition.
  • solid content is a component excluding the solvent as described above, and may be, for example, a solid or a liquid at 25 ° C.
  • the notation not describing substitution and non-substitution includes those having no substituent as well as those having a substituent.
  • alkyl group includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
  • the term "exposure” as used herein includes not only exposure using light but also drawing using particle beams such as an electron beam and an ion beam. Further, as the light used for exposure, generally, the emission line spectrum of a mercury lamp, far ultraviolet rays typified by an excima laser, extreme ultraviolet rays (EUV light), X-rays, active rays such as electron beams, or radiation can be mentioned.
  • EUV light extreme ultraviolet rays
  • X-rays active rays
  • (meth) acrylate” represents both acrylate and methacrylate, or either
  • (meth) acrylic” represents both acrylic and methacrylic, or either.
  • Acryloyl represents both acryloyl and / or methacrylic.
  • Me in the chemical formula is a methyl group
  • Et is an ethyl group
  • Pr is a propyl group
  • Bu is a butyl group
  • Ac is an acetyl group
  • Bn is a benzyl group
  • Ph is a phenyl group.
  • the term "process” is included in this term not only as an independent process but also as long as the desired action of the process is achieved even if it cannot be clearly distinguished from other processes. ..
  • “% by mass” and “% by weight” are synonymous, and “parts by mass” and “parts by weight” are synonymous.
  • a combination of two or more preferred embodiments is a more preferred embodiment.
  • the transmittance in the present disclosure is the transmittance at 25 ° C. unless otherwise specified.
  • the weight average molecular weight and the number average molecular weight are defined as polystyrene-equivalent values measured by gel permeation chromatography (GPC).
  • composition is at least one selected from the group consisting of a dye represented by the following formula (1) or formula (2) (hereinafter, also referred to as "specific dye"), a binder polymer and a curable compound. Includes seed compounds.
  • X 1A , X 1B , Y 1A , and Y 1B each independently represent a ring structure, except that X 1A and X 1B and Y 1A and Y 1B have different ring structures.
  • R 1A and R 1B each independently represent a substituent
  • n1A and n1B each independently represent an integer of 0 to 5
  • X 2A and X 2B are independent of each other.
  • Z A and Z B each independently represent an alkylene group, an alkynylene group, or a ring structure
  • R 2A and R 2B each independently represent a substituent
  • n2A and n2B respectively Independently represents an integer from 0 to 5.
  • the composition according to the present disclosure By using the composition according to the present disclosure, a film excellent in suppressing foreign matter adhesion during pattern formation can be obtained.
  • the conventional squarylium compounds having a dihydroperimidine skeleton described in Patent Documents 1 to 3 may not sufficiently suppress the adhesion of foreign substances during pattern formation in the film containing the above compounds. Further, even in the composition containing the conventional squarylium compound having a dihydroperimidine skeleton described in Patent Documents 1 to 3, which does not contain a curable compound, when a film is formed, the suppression of foreign matter adhesion during pattern formation is sufficient. In some cases it was not.
  • the conventional squarylium dye having a dihydroperimidine skeleton has the same ring structure of the substituents of the dihydroperimidine skeleton, or the substituents of the dihydroperimidine skeleton have an aliphatic hydrocarbon group. Therefore, it is easy to agglomerate, aggregates (foreign matter) are generated, foreign matter defects are likely to occur, and foreign matter is likely to adhere during pattern formation. Therefore, as a result of diligent studies by the present inventors, by using the specific dye in a composition containing the above-mentioned specific dye and at least one compound selected from the group consisting of a binder polymer and a curable compound, foreign matter adheres during pattern formation.
  • the specific dye according to the present disclosure does not easily aggregate even in the composition, it is presumed that the obtained film is excellent in suppressing foreign matter adhesion during pattern formation (hereinafter, also referred to as "foreign matter adhesion inhibitory property"). are doing. Further, as described above, the specific dye is less likely to aggregate and is likely to have excellent development residue inhibitory properties.
  • the dye represented by the above formula (1) or (2) absorbs less in the wavelength range of 450 nm to 600 nm in the solution than the conventional squarylium dye having a dihydroperimidine skeleton, but at the time of film formation.
  • the present inventors have found that there is a problem of spectroscopic broadening and a decrease in visible transparency. As a result of diligent studies by the present inventors, it has been found that a film having excellent spectral characteristics (visible transparency) can be obtained in the above embodiment. It is estimated that the inclusion of the specific dye and the curable compound or binder polymer sharpens the absorption spectrum (absorption band) in the film and narrows the width of the absorption spectrum (absorption band) in the film.
  • the absorption in the visible light region becomes small, the spectroscopic broadening due to film formation can be suppressed, and the spectral characteristics (visible transparency) are also excellent. Further, in the above aspect, although the details are unknown, the light resistance of the obtained film is likely to be excellent.
  • the specific dye used in the present disclosure is a dye represented by the above formula (1) or the above formula (2).
  • the specific dye can be suitably used as an infrared absorbing dye.
  • the specific dye is a dye (also referred to as a "colorant"), preferably a pigment or a dye, and more preferably a pigment.
  • the pigment means a dye that is insoluble in a solvent.
  • the dye refers to a dye that dissolves in a solvent.
  • the pigment used in the present disclosure preferably has, for example, a dissolution amount in 100 g of propylene glycol monomethyl ether acetate at 25 ° C.
  • the dye used in the present disclosure preferably has at least one of a dissolved amount in 100 g of propylene glycol monomethyl ether acetate at 25 ° C. and a dissolved amount in 100 g of water at 25 ° C. exceeding 0.1 g and 1 g or more. More preferably, it is more preferably 5 g or more.
  • the dye (specific dye) represented by the above formula (1) or formula (2) is, for example, the position of the ortho position with respect to the position where the nitrogen atom of the dihydroperimidine ring structure shown below is bonded.
  • any resonance structure shown below may be used.
  • the compounds shown below represent the same compounds except that the notation positions of the resonance structures of cations and anions are different.
  • X 1A , X 1B , Y 1A , and Y 1B each independently represent a ring structure, except that X 1A and X 1B and Y 1A and Y 1B have different ring structures.
  • R 1A and R 1B each independently represent a substituent, and n1A and n1B each independently represent an integer of 0-5.
  • the above X 1A , X 1B , Y 1A , and Y 1 may have a substituent.
  • Examples of the ring structure represented by X 1A , X 1B , Y 1A , and Y 1B include a ring structure such as an aromatic ring, an aliphatic ring, an aromatic heterocycle, and an aliphatic heterocycle. Further, the ring structure may be a monocyclic structure, and at least one ring selected from the group consisting of an aromatic ring, an aliphatic ring, an aromatic heterocycle, an aliphatic heterocycle and the like is condensed. It may be a polycyclic structure formed in the above.
  • any one of X 1A , X 1B , Y 1A , and Y 1B in the formula (1) is , Aromatic ring structure or heterocyclic structure, more preferably aromatic ring structure or aromatic heterocyclic structure, and any one of X 1A , X 1B , Y 1A , and Y 1B is It is more preferably an aromatic ring.
  • the total carbon numbers of X 1A , X 1B , Y 1A , and Y 1B in the formula (1) are independent of each other from the viewpoints of inhibition of foreign matter adhesion, heat resistance, light resistance, and spectral characteristics of the obtained film. , 8 to 60, more preferably 10 to 40, and particularly preferably 10 to 30.
  • the substituents in X 1A , X 1B , Y 1A , and Y 1B in the formula (1) may have a molecular weight larger than that of the hydrogen atom, and may be an alkyl group, a halogen atom, a carboxy group, an acyl group, and the like.
  • X 1A and Y 1A and X 1B and Y 1B in the formula (1) may have the same structure, and X 1A and Y 1A and X 1B and Y 1B may have different structures, respectively. From the viewpoints of suppressing foreign matter adhesion, heat resistance, light resistance, and developing residue suppressing property of the obtained film, X 1A and Y 1A and X 1B and Y 1B in the formula (1) have the same structure. It is preferable to have.
  • R 1A and R 1B in the formula (1) are independently alkyl group, aryl group, heteroaryl group, halogen atom, carboxy group, hydroxy group, alkoxy group, allyloxy group, nitro group, cyano group, or sulfo group.
  • alkyl group preferably an alkyl group, a halogen atom, a carboxy group, a hydroxy group, an alkoxy group, a nitro group, a cyano group, or a sulfo group, and more preferably an alkyl group, a halogen atom, a hydroxy group, an alkoxy group, It is more preferably a nitro group or a sulfo group, and particularly preferably a halogen atom, a hydroxy group, an alkoxy group, a dialkylaminoalkoxy group, a nitro group or a sulfo group.
  • n1A and n1B in the formula (1) are preferably integers of 0 to 2, and more preferably 0 or 1. Further, it is preferable that n1A and n1B in the formula (1) have the same value. Further, when n1A and n1B in the formula (1) have the same value, it is preferable that the bonding positions of R 1A and R 1B in the formula (1) are the same positions in each dihydroperimidine ring structure, respectively.
  • the ring structures represented by X 1A , X 1B , Y 1A , and Y 1B are independently aromatic rings. It is preferably a structure, an aliphatic ring structure, or a heterocyclic structure, and more preferably an aromatic ring structure, a 5-membered ring or a 6-membered ring, or an aromatic heterocyclic structure. It is more preferable to have a group ring structure or an aromatic heterocyclic structure.
  • the aromatic ring may be a monocyclic ring or a condensed polycyclic aromatic ring having two or more rings in which an aromatic compound is condensed.
  • the aromatic ring include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a tetracene ring, a phenanthrene ring, a chrysene ring, a pyrene ring and the like.
  • a benzene ring or a naphthalene ring is preferable from the viewpoint of suppressing foreign matter adhesion, heat resistance, light resistance, and developing residue suppressing property of the obtained film.
  • the substituent is preferably an alkyl group, more preferably an alkyl group having 2 to 30 carbon atoms, and an alkyl group having 3 to 20 carbon atoms. Is more preferable, and an alkyl group having 6 to 14 carbon atoms is particularly preferable.
  • the alkyl group may be a linear or branched saturated or unsaturated alkyl group.
  • the number of substituents is preferably 1 to 5, more preferably 1 to 3, and even more preferably 1.
  • the position of the substituent is preferably the para position with respect to the aromatic ring bonded to the carbon atom adjacent to the nitrogen atom of the dihydroperimidine ring structure.
  • the aromatic heterocycle may be a monocyclic ring or a condensed polycyclic aromatic heterocycle having two or more rings fused with the aromatic heterocycle, but is a monocyclic aromatic heterocycle. It is preferable, and it is more preferable that it is a monocyclic aromatic heterocycle having no substituent.
  • the complex atom contained in the aromatic heterocycle is a group consisting of a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom from the viewpoints of suppressing foreign matter adhesion, heat resistance, light resistance, and developing residue suppressing property of the obtained film.
  • At least one complex atom selected from the above is preferably at least one complex atom selected from the above, more preferably at least one complex atom selected from the above consisting of a nitrogen atom and a sulfur atom, further preferably a nitrogen atom or a sulfur atom. It is particularly preferably a sulfur atom.
  • the number of ring members in the aromatic heterocycle is not particularly limited, but is preferably a 5-membered ring to an 8-membered ring, and more preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring.
  • aromatic heterocycle examples include a thiophene ring, a furan ring, a pyran ring, a pyrrole ring, an imidazole ring, a pyrazole ring, an isothiazole ring, an isoxazole ring, a pyridine ring, a pyrazine ring, a pyrimidine ring, a pyridazine ring, and a benzothiophene ring.
  • a thiophene ring, a furan ring, a pyrrole ring, or a pyridine ring is preferable, from the viewpoint of suppressing foreign matter adhesion, heat resistance, light resistance, and developing residue suppressing property of the obtained film, and thiophene is preferable. More preferably, it is a ring, a furan ring, or a pyridine ring.
  • X 1 in the formula (1) is preferably a phenyl group or a naphthyl group.
  • X 1 in the formula (1) is obtained from the viewpoints of suppressing foreign matter adhesion, heat resistance, light resistance, and developing residue suppressing property of the obtained film.
  • the dye having the structure represented by the above formula (1) is a compound having point symmetry from the viewpoints of suppressing foreign matter adhesion, heat resistance, light resistance, and developing residue suppressing property of the obtained film. Is preferable.
  • the aliphatic ring may be a monocyclic ring or a condensed polycyclic aliphatic ring having two or more rings in which the aliphatic ring is condensed.
  • the aliphatic ring may be a saturated aliphatic ring or an unsaturated aliphatic ring.
  • the number of ring members in the aliphatic ring is not particularly limited, but is preferably a 5-membered ring to an 8-membered ring, and more preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring.
  • the aliphatic ring include a cyclopropane ring, a cyclobutane ring, a cyclopentane ring, a cyclopentene ring, a cyclohexane ring, a cyclohexene ring and the like.
  • X 2A and X 2B each independently represent a ring structure
  • Z A and Z B represent each independently an alkylene group, an alkynylene group, or a cyclic structure
  • R 2A and R 2B independently represents a substituent
  • n2A and n2B each independently represent an integer of 0 to 5.
  • the above X 2A , X 2B , Z A , and Z B may have a substituent.
  • X 2A and X 2B in the formula (2) represent that they are bonded to each other with the aliphatic ring in the formula (2) to form a ring.
  • Z A and Z B in Formula (2) represents a ring structure
  • Z A and Z B expressed that bind together an aliphatic ring in formula (2) forms a ring There is.
  • X 2A in the formula (2), X 2B, Z A, and the total number of carbon atoms of Z B are each independently, inhibitory adhesion of foreign materials resulting film, heat resistance, light resistance, and development residue ⁇ system of From the viewpoint of the above, it is preferably 8 to 60, more preferably 10 to 40, and particularly preferably 10 to 30.
  • the alkylene group and the alkynylene group preferably have 1 to 5 carbon atoms, more preferably 1 to 3 carbon atoms, and even more preferably 1 or 2 carbon atoms.
  • the ring structure in Z A and Z B in the formula (2) is synonymous with the ring structure in X 1A , X 1B , Y 1A , and Y 1B in the above formula (1), and the preferred embodiment is also the same. is there.
  • the substituents in Z A and Z B in the formula (2) may independently have a larger molecular weight than the hydrogen atom, and may be an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, a carboxy group, an acyl group, or an acyloxy group.
  • alkoxycarbonyl group alkoxycarbonyl group, allyloxycarbonyl group, hydroxy group, alkoxy group, allyloxy group, primary amino group, secondary amino group, tertiary amino group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, nitro group
  • the ring structures in X 2A and X 2B are synonymous with the ring structures represented by X 1A , X 1B , Y 1A , and Y 1B in the above formula (1), and a preferred embodiment is also used. The same is true.
  • X 2A and Z A and X 2B and Z B in Formula (2) is, may be the same structure, and the X 2A and Z A and X 2B and Z B may have different structures respectively , suppression of adhesion of foreign materials resulting film, heat resistance, light resistance, and, from the viewpoint of development residue ⁇ system properties, the X 2A and Z a and X 2B and Z B in formula (2), with the same structure It is preferable to have.
  • the dye having the structure represented by the above formula (2) is a compound having point symmetry from the viewpoints of suppressing foreign matter adhesion, heat resistance, light resistance, and developing residue suppressing property of the obtained film. Is preferable.
  • X 2A and X 2B each independently have an aromatic heterocyclic structure or an aromatic ring structure.
  • the formula (2) is a dye represented by the following formula (3) or the following formula (4). Is preferable.
  • Z 3C and Z 3D each independently represent an alkylene group, an alkynylene group, or a ring structure.
  • Z 3C and Z 3D in the formula (3) are synonymous with the alkylene group, the alkynylene group, or the ring structure represented by Z A or Z B in the above formula (2), and the preferred embodiment is also the same.
  • Z 3C and Z 3D in the formula (3) may have the same structure or different structures, but the obtained film has a foreign substance adhesion inhibitory property, heat resistance, light resistance, and development. From the viewpoint of residue inhibitory property, it is preferable that Z 3C and Z 3D in the formula (3) have the same structure.
  • the dye having the structure represented by the above formula (3) is a compound having point symmetry from the viewpoints of suppressing foreign matter adhesion, heat resistance, light resistance, and developing residue suppressing property of the obtained film. Is preferable.
  • Z 4C and Z 4D each independently represent an alkylene group, an alkynylene group, or a ring structure
  • X 4C and X 4D each independently represent a complex atom
  • Z 4C and Z 4D in the formula (4) are synonymous with the alkylene group, the alkynylene group, or the ring structure represented by Z 3C and Z 3D in the above formula (3), and the preferred embodiment is also the same. Is.
  • the group containing Z 4C and X 4C and the group containing Z 4D and X 4C in the formula (4) may have the same structure or different structures, but foreign matter adhered to the obtained film.
  • the group containing Z 4C and X 4C and the group containing Z 4D and X 4C in the formula (4) have the same structure from the viewpoints of inhibitory property, heat resistance, light resistance, and development residue inhibitory property. Is preferable.
  • the dye having the structure represented by the above formula (4) is a compound having point symmetry from the viewpoints of suppressing foreign matter adhesion, heat resistance, light resistance, and developing residue suppressing property of the obtained film. Is preferable.
  • the maximum absorption wavelength of the specific dye is preferably 650 nm or more, more preferably in the wavelength range of 700 nm to 1,100 nm, and further preferably in the wavelength range of 760 nm to 950 nm.
  • the maximum absorption wavelength is measured using a Cary5000 UV-Vis-NIR spectrophotometer (manufactured by Agilent Technologies, Inc.).
  • the half-value width of the peak wavelength at the maximum absorption wavelength is preferably 2,000 cm -1 or less, more preferably 1,400Cm -1 or less, 1,350Cm - 1 or less is more preferable.
  • the lower limit of the half width is not particularly limited, but is preferably 500 cm -1 or more.
  • the full width at half maximum is measured by using a Cary5000 UV-Vis-NIR spectrophotometer (manufactured by Agilent Technologies, Inc.).
  • the molar extinction coefficient of the specific dye at the maximum absorption wavelength is preferably 1.0 ⁇ 10 5 L / (mol ⁇ cm) or more, and preferably 1.5 ⁇ 10 5 L / (mol ⁇ cm) or more. More preferred.
  • the molar extinction coefficient is measured by using a Cary5000 UV-Vis-NIR spectrophotometer (manufactured by Agilent Technologies, Inc.).
  • the specific dye is preferably in a state of being dispersed in the form of particles. In the state of being dispersed in the form of particles, there is an advantage that the durability of the obtained film is improved. Further, in the case of the above-mentioned particulate and dispersed state, the specific dye is preferably a pigment.
  • the composition according to the present disclosure preferably contains particles of a specific dye having a number average particle size of 1 nm to 500 nm, more preferably contains particles of a specific dye having a number average particle size of 10 nm to 200 nm, and has a number average particle size of 10 nm.
  • the average particle size of particles shall be measured by arithmetic mean (number average) using MICROTRAC UPA 150 manufactured by Nikkiso Co., Ltd.
  • the content of the specific dye in the composition according to the present disclosure is preferably 10% by mass to 70% by mass, more preferably 15% by mass to 60% by mass, and 20% by mass to 50% by mass, based on the total solid content of the composition. Is more preferable.
  • two or more kinds of specific dyes may be used in combination. When two or more kinds of specific dyes are contained, the total amount is preferably in the above range.
  • SQ-A-1 to SQ-A-20, SQ-B-1, and SQ-B-2 which are specific examples of specific dyes, are shown, but the present invention is not limited thereto.
  • the method for producing the specific dye is not particularly limited, and can be appropriately produced by referring to a known production method.
  • a method of reacting a diaminonaphthalene compound with a ketone compound to obtain a dihydroperimidine compound and reacting 2 molar equivalents of the dihydroperimidine compound with 1 molar equivalent of squaric acid (squaric acid) is preferably mentioned.
  • a method for adjusting the crystal form of the specific dye (squarylium dye) according to the present disclosure will be described.
  • Examples of the method for adjusting the crystal form include a method in which a specific dye is brought into contact with an organic solvent such as N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, tetrahydrofuran and 1,4-dioxane. At that time, heating or cooling may be performed to adjust the particle size of the specific dye, or another solvent may be added before filtering.
  • an organic solvent such as N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, tetrahydrofuran and 1,4-dioxane.
  • the composition according to the present disclosure is preferably a compound from which a film can be obtained, and preferably a curable composition from which a cured film can be finally obtained by curing. Further, the composition according to the present disclosure is preferably, for example, a composition capable of forming a pattern of a cured film by pattern exposure. That is, the composition according to the present disclosure is preferably a negative type composition. When the composition according to the present disclosure is a negative type composition, it is preferable to include, for example, a polymerization initiator, a polymerizable compound, and an alkali-soluble resin.
  • composition according to the present disclosure is a positive composition
  • a photoacid generator for example, a photoacid generator, a polymer having a structural unit having an acid group protected by an acid-degradable group, and a crosslink.
  • examples thereof include a polymer having a structural unit having a sex group.
  • each component contained in the embodiment in which the composition according to the present disclosure is a negative type composition will be described.
  • each component contained in the embodiment in which the composition according to the present disclosure is a positive composition each component described in International Publication No. 2014/003111 can be mentioned, and the preferred embodiment is also the same.
  • compositions according to the present disclosure contain at least one compound selected from the group consisting of binder polymers or curable compounds. From the viewpoint of obtaining a film having excellent light resistance and heat resistance, it is preferable to contain a curable compound.
  • the curable compound that can be used in the present disclosure is preferably a polymerizable compound, more preferably an ethylenically unsaturated compound, and particularly preferably a compound having a terminal ethylenically unsaturated group.
  • known compounds can be used without particular limitation. They have chemical forms such as, for example, monomers, prepolymers, ie dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof.
  • Examples of the monomer and its copolymer include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters thereof, and amides, which are preferable. Is an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, and an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound.
  • unsaturated carboxylic acids for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.
  • esters thereof for example, esters thereof, and amides, which are preferable. Is an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, and an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound.
  • a dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used.
  • an unsaturated carboxylic acid ester having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group
  • An unsaturated carboxylic acid ester having a desorbing substituent such as a tosyloxy group or a substitution reaction product of amides with monofunctional or polyfunctional alcohols, amines and thiols is also suitable. Further, as another example, it is also possible to use a compound group in which unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like is replaced with unsaturated carboxylic acid.
  • the monomer of the ester of the aliphatic polyhydric alcohol compound and the unsaturated carboxylic acid include ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol as acrylic acid esters.
  • methacrylic acid esters examples include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylpropantrimethacrylate, trimethylol ethanetrimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, and 1,3-butanediol dimethacrylate.
  • a urethane-based addition-polymerizable compound produced by using an addition reaction of an isocyanate group and a hydroxy group is also suitable, and specific examples thereof are described in, for example, Japanese Patent Publication No. 48-41708.
  • Two or more polymerizable vinyl groups are contained in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxy group represented by the following general formula (I) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule. Examples thereof include vinyl urethane compounds.
  • CH 2 C (R) COOCH 2 CH (R') OH (I) (However, R and R'indicate H or CH 3. )
  • urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, Toku-Kohei 2-32293, Toku-Kohei 2-16765, Toku-Kosho 58-49860, Toku-Kosho 56-176654, and Toku-Kosho Urethane compounds having an ethylene oxide-based skeleton described in Kosho 62-39417 and Tokusho 62-39418 are also suitable.
  • addition-polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule which are described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238, A composition having a very high photosensitive speed can be obtained.
  • examples of the polymerizable compound include the compounds described in paragraphs 0178 to 0190 of JP-A-2007-277514. Further, as the polymerizable compound, the epoxy compound described in JP-A-2015-187211 may be used.
  • the content of the curable compound in the composition is preferably 1% by mass to 90% by mass, more preferably 5% by mass to 80% by mass, based on the total solid content of the composition. It is more preferably 10% by mass to 70% by mass.
  • the content of the polymerizable compound is within the above range, the curability of the composition is excellent.
  • the content is preferably 5% by mass to 50% by mass, and 7% by mass to 40% by mass in the above content range. More preferably, it is more preferably 10% by mass to 35% by mass.
  • the composition according to the present disclosure preferably further contains a polymerization initiator, and more preferably further contains a photopolymerization initiator.
  • the photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it has the ability to initiate the polymerization of the polymerizable compound, and can be appropriately selected from known photopolymerization initiators.
  • a compound having photosensitivity to light rays in the ultraviolet region to the visible region is preferable.
  • it may be a compound that produces an active radical by causing some action with a photoexcited sensitizer.
  • the photopolymerization initiator is preferably a photoradical polymerization initiator.
  • the photopolymerization initiator examples include halogenated hydrocarbon derivatives (for example, compounds having a triazine skeleton, compounds having an oxadiazole skeleton, etc.), acylphosphine compounds, hexaarylbiimidazole, oxime compounds, organic peroxides, and the like.
  • halogenated hydrocarbon derivatives for example, compounds having a triazine skeleton, compounds having an oxadiazole skeleton, etc.
  • acylphosphine compounds examples include hexaarylbiimidazole, oxime compounds, organic peroxides, and the like.
  • oxime compounds examples include thio compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, ⁇ -hydroxyketone compounds and ⁇ -aminoketone compounds.
  • the photopolymerization initiator includes trihalomethyltriazine compound, benzyldimethylketal compound, ⁇ -hydroxyketone compound, ⁇ -aminoketone compound, acylphosphine compound, phosphine oxide compound, metallocene compound, oxime compound, and triarylimidazole.
  • Dimer, onium compounds, benzothiazole compounds, benzophenone compounds, acetophenone compounds, cyclopentadiene-benzene-iron complexes, halomethyloxaziazole compounds and 3-aryl substituted coumarin compounds are preferred, oxime compounds, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ - A compound selected from an aminoketone compound and an acylphosphine compound is more preferable, and an oxime compound is further preferable.
  • the descriptions in paragraphs 0065 to 0111 of JP-A-2014-130173 and paragraphs 0274 to 0306 of JP-A-2013-29760 can be referred to, and these contents are incorporated in the present disclosure.
  • Examples of commercially available ⁇ -hydroxyketone compounds include IRGACURE-184, DAROCUR-1173, IRGACURE-500, IRGACURE-2959, and IRGACURE-127 (all manufactured by BASF).
  • Examples of commercially available ⁇ -aminoketone compounds include IRGACURE-907, IRGACURE-369, IRGACURE-379, and IRGACURE-379EG (all manufactured by BASF).
  • Examples of commercially available acylphosphine compounds include IRGACURE-819 and DAROCUR-TPO (all manufactured by BASF).
  • Examples of the oxime compound include the compounds described in JP-A-2001-233842, the compounds described in JP-A-2000-80068, and the compounds described in JP-A-2006-342166.
  • 2-acetoxyimino-1-phenylpropane-1-one 2-benzoyloxyimino-1-phenylpropane-1-one, 3- (4-toluenesulfonyloxy) iminobutane-2-one, and 2-ethoxy Examples thereof include carbonyloxyimino-1-phenylpropan-1-one.
  • IRGACURE-OXE01, IRGACURE-OXE02, IRGACURE-OXE03, and IRGACURE-OXE04 are also preferably used.
  • TRONLY TR-PBG-304 TRONLY TR-PBG-309
  • TRONLY TR-PBG-305 manufactured by Changzhou Powerful Electronic New Materials Co., Ltd. (CHANGZHOU TRONLY NEW ELECTRONIC MATERIALS CO., LTD)
  • ADEKA Arkuru ADEKA PUTMER N-1919 (Photopolymerization Initiator 2 of JP2012-14052A) (all manufactured by ADEKA Corporation).
  • an oxime compound having a fluorene ring can also be used as the photopolymerization initiator.
  • Specific examples of the oxime compound having a fluorene ring include the compounds described in JP-A-2014-137466. This content is incorporated in this disclosure.
  • an oxime compound having a benzofuran skeleton can also be used as a photopolymerization initiator.
  • Specific examples thereof include compounds OE-01 to OE-75 described in International Publication No. 2015/036910.
  • an oxime compound having a skeleton in which at least one benzene ring of the carbazole ring is a naphthalene ring can also be used.
  • Specific examples of such an oxime compound include the compounds described in International Publication No. 2013/083505.
  • an oxime compound having a fluorine atom can also be used as the photopolymerization initiator.
  • Specific examples of the oxime compound having a fluorine atom are described in the compounds described in JP-A-2010-262028, the compounds 24, 36-40 described in JP-A-2014-500852, and JP-A-2013-164471.
  • Compound (C-3) and the like This content is incorporated in this disclosure.
  • an oxime compound having a nitro group can be used as a photopolymerization initiator.
  • the oxime compound having a nitro group is also preferably a dimer.
  • Specific examples of the oxime compound having a nitro group include the compounds described in paragraphs 0031 to 0047 of JP2013-114249A, paragraphs 0008 to 0012 and 0070 to 0079 of JP2014-137466, and Patent No. 4223071. Examples thereof include the compounds described in paragraphs 0007 to 0025 of the publication, ADEKA ARKULS NCI-831 (manufactured by ADEKA Corporation) and the like.
  • the oxime compound is preferably a compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength region of 350 nm to 500 nm, and more preferably a compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength region of 360 nm to 480 nm. Further, the oxime compound is preferably a compound having a large absorbance at wavelengths of 365 nm and 405 nm.
  • the molar extinction coefficient of the oxime compound at a wavelength of 365 nm or 405 nm is preferably 1,000 to 300,000, more preferably 2,000 to 300,000, and 5,000 to 200. It is particularly preferably 000.
  • the molar extinction coefficient of a compound can be measured using a known method. For example, it is preferable to measure at a concentration of 0.01 g / L using an ethyl acetate solvent with an ultraviolet-visible spectrophotometer (Cary-5 spectrophotometer manufactured by Varian).
  • a bifunctional or trifunctional or higher functional photopolymerization initiator may be used as the photopolymerization initiator.
  • Specific examples of such a photopolymerization initiator include paragraphs 0417 to 0412 of JP-A-2010-527339, JP-A-2011-524436, International Publication No. 2015/004565, and JP-A-2016-532675.
  • the polymerization initiator may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the polymerization initiator in the composition is preferably 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.5 to 30% by mass, and particularly preferably 0.5 to 30% by mass, based on the total solid content of the composition. Is 1 to 20% by mass. In this range, good sensitivity and pattern formation can be obtained.
  • the composition according to the present disclosure contains at least one compound selected from the group consisting of a binder polymer or a curable compound, and preferably contains a binder polymer.
  • Preferred examples of the binder polymer include alkali-soluble resins used in negative-type compositions.
  • the alkali-soluble resin may be used alone or in combination of two or more.
  • the composition according to the present disclosure preferably contains at least one alkali-soluble resin.
  • the alkali-soluble resin is a polymer polymer having at least one group (for example, a molecule having an acrylic copolymer or a styrene copolymer as a main chain) that promotes alkali solubility in the molecule (preferably a molecule having an acrylic copolymer or a styrene copolymer as a main chain).
  • Carboxy group, phosphoric acid group, sulfonic acid group, etc. can be appropriately selected from the alkali-soluble resins.
  • it is soluble in an organic solvent and can be developed with a weak alkaline aqueous solution.
  • a known radical polymerization method For the production of the alkali-soluble resin, for example, a known radical polymerization method can be applied. Polymerization conditions such as temperature, pressure, type and amount of radical initiator, type of solvent, etc. when producing an alkali-soluble resin by a radical polymerization method can be easily set by those skilled in the art, and the conditions are experimentally determined. You can also do it.
  • a polymer polymer a polymer having a carboxylic acid in the side chain is preferable. For example, in JP-A-59-44615, Toku-Kosho 54-34327, Toku-Kosho 58-125777, Toku-Kosho 54-25957, JP-A-59-53836, and JP-A-59-71048.
  • Methacrylic acid copolymers acrylic acid copolymers, itaconic acid copolymers, crotonic acid copolymers, maleic acid copolymers, partially esterified maleic acid copolymers, etc., as described, and side chains.
  • examples thereof include an acidic cellulose derivative having a carboxylic acid, a polymer having a hydroxy group and an acid anhydride added thereto, and a polymer polymer having a (meth) acryloyl group in the side chain is also preferable.
  • a copolymer of (meth) acrylic acid and another monomer copolymerizable therewith is particularly preferable.
  • Other monomers copolymerizable with the above (meth) acrylic acid include (meth) acrylic acid esters, crotonic acid esters, vinyl esters, maleic acid diesters, fumaric acid diesters, and itaconic acid diesters. , (Meta) acrylamides, styrenes, vinyl ethers, vinyl ketones, olefins, maleimides, (meth) acrylonitrile and the like.
  • (meth) acrylic acid esters examples include methyl (meth) acrylic acid, ethyl (meth) acrylic acid, n-propyl (meth) acrylic acid, isopropyl (meth) acrylic acid, and n-butyl (meth) acrylic acid.
  • the weight average molecular weight of the alkali-soluble resin that can be used in the present disclosure is preferably 5,000 or more, more preferably 10,000 to 300,000, and the number average molecular weight is preferably 1,000 or more. Yes, more preferably in the range of 2,000 to 250,000.
  • the degree of polydispersity is preferably in the range of 1.1 to 10, and more preferably in the range of 1.2 to 5.
  • These alkali-soluble resins may be any of a random polymer, a block polymer, a graft polymer and the like.
  • the alkali-soluble resin is also preferably an alkali-soluble resin having a polymerizable group.
  • the polymerizable group include a (meth) allyl group and a (meth) acryloyl group.
  • the alkali-soluble resin having a polymerizable group is preferably a resin containing a repeating unit having a polymerizable group in the side chain and a repeating unit having an acid group in the side chain.
  • the alkali-soluble resin is a monomer component containing a compound represented by the following formula (ED1) and / or a compound represented by the following formula (ED2) (hereinafter, these compounds may be referred to as "ether dimer”). It is also preferable to include the derived repeating unit.
  • R ED1 or R ED2 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a hydrogen atom or a substituent.
  • R ED3 represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms.
  • the description in JP-A-2010-168539 can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • alkali-soluble resin examples include the compounds described in paragraphs 0162 to 0175 of JP-A-2007-277514.
  • the content of the alkali-soluble resin in the composition is preferably 1% by mass to 20% by mass, more preferably 2% by mass to 15% by mass, and particularly preferably 3 with respect to the total solid content of the composition. It is from mass% to 12% by mass.
  • the composition according to the present disclosure may contain a chromatic colorant.
  • the chromatic colorant means a colorant other than the white colorant and the black colorant.
  • the chromatic colorant is preferably a colorant having absorption in a wavelength range of 400 nm or more and less than 650 nm.
  • the chromatic colorant examples include a red colorant, a green colorant, a blue colorant, a yellow colorant, a purple colorant, and an orange colorant.
  • the chromatic colorant may be a pigment or a dye. Pigments and dyes may be used in combination. Further, the pigment may be either an inorganic pigment or an organic pigment. Further, as the pigment, an inorganic pigment or a material in which a part of the organic-inorganic pigment is replaced with an organic chromophore can be used. Hue design can be facilitated by replacing inorganic pigments and organic-inorganic pigments with organic chromophores.
  • the average primary particle size of the pigment is preferably 1 nm to 200 nm.
  • the lower limit is more preferably 5 nm or more, further preferably 10 nm or more.
  • the upper limit is more preferably 180 nm or less, further preferably 150 nm or less, and particularly preferably 100 nm or less.
  • the primary particle size of the pigment can be determined from an image photograph obtained by observing the primary particles of the pigment with a transmission electron microscope. Specifically, the projected area of the primary particles of the pigment is obtained, and the corresponding circle-equivalent diameter is calculated as the primary particle diameter of the pigment.
  • the average primary particle diameter in the present disclosure is an arithmetic mean value of the primary particle diameter for the primary particles of 400 pigments.
  • the primary particles of the pigment refer to independent particles without aggregation.
  • the chromatic colorant preferably contains a pigment.
  • the content of the pigment in the chromatic colorant is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, further preferably 80% by mass or more, and 90% by mass or more. Is particularly preferred. Examples of the pigment include those shown below.
  • a green pigment halogenation having an average number of halogen atoms in one molecule of 10 to 14, an average number of bromine atoms of 8 to 12, and an average number of chlorine atoms of 2 to 5.
  • Zinc phthalocyanine pigments can also be used. Specific examples include the compounds described in International Publication No. 2015/118720. Further, as the green pigment, the compound described in Chinese Patent Application No. 106909027, the phthalocyanine compound having a phosphoric acid ester described in International Publication No. 2012/10395 as a ligand, and the like can also be used.
  • an aluminum phthalocyanine compound having a phosphorus atom can also be used. Specific examples include the compounds described in paragraphs 0022 to 0030 of JP2012-247591A and paragraphs 0047 of JP2011-157478A.
  • the yellow pigment the pigment described in JP-A-2008-074985, the compound described in JP-A-2008-074987, the quinophthalone compound described in JP-A-2013-061622, and the like.
  • the compound described in JP-A-2018-062644 can also be used. This compound can also be used as a pigment derivative.
  • red pigment a diketopyrrolopyrrole compound in which at least one bromine atom is substituted in the structure described in JP-A-2017-201384, a diketopyrrolopyrrole compound described in paragraphs 0016 to 0022 of Patent No. 6248838, international It is also possible to use the diketopyrrolopyrrole compound described in Publication No. 2012/102399, the diketopyrrolopyrrole compound described in International Publication No. 2012/117956, the naphthol azo compound described in JP2012-229344A, and the like. ..
  • red pigment a compound having a structure in which an aromatic ring group having an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom bonded to the aromatic ring is bonded to a diketopyrrolopyrrole skeleton can also be used. it can.
  • a dye can also be used as the colorant.
  • the dye is not particularly limited, and a known dye can be used.
  • pyrazole azo system anilino azo system, triarylmethane system, anthraquinone system, anthrapyridone system, benzylidene system, oxonol system, pyrazolotriazole azo system, pyridone azo system, cyanine system, phenothiazine system, pyrrolopyrazole azomethine system, xanthene system
  • Examples thereof include phthalocyanine-based, benzopyran-based, indigo-based, and pyrromethene-based dyes.
  • the thiazole compound described in JP2012-158649A, the azo compound described in JP2011-184493, and the azo compound described in JP2011-145540 can also be preferably used.
  • the yellow dye the quinophthalone compounds described in paragraphs 0011 to 0034 of JP2013-054339A, the quinophthalone compounds described in paragraphs 0013 to 0058 of JP2014-026228, and the like can also be used.
  • the content of the chromatic colorant is preferably 1% by mass to 50% by mass with respect to the total solid content of the composition.
  • the total amount thereof is preferably within the above range.
  • the composition according to the present disclosure is also referred to as a colorant that transmits near infrared rays (light having a wavelength in the near infrared region) and blocks visible light (light having a wavelength in the visible region) (hereinafter, also referred to as a colorant that blocks visible light). It can also contain).
  • a composition containing a colorant that blocks visible light is preferably used as a composition for forming a near-infrared transmission filter.
  • the colorant that blocks visible light is preferably a colorant that absorbs light in the violet to red wavelength range. Further, in the present disclosure, the colorant that blocks visible light is preferably a colorant that blocks light in the wavelength region of 450 nm to 650 nm. Further, the colorant that blocks visible light is preferably a colorant that transmits light having a wavelength of 900 nm to 1300 nm. In the present disclosure, the colorant that blocks visible light preferably satisfies at least one of the following requirements (A) and (B).
  • B Contains an organic black colorant.
  • Examples of the chromatic colorant include those described above.
  • Examples of the organic black colorant include bisbenzofuranone compounds, azomethine compounds, perillene compounds, and azo compounds, and bisbenzofuranone compounds and perillene compounds are preferable.
  • Examples of the bisbenzofuranone compound include the compounds described in JP-A-2010-534726, JP-A-2012-515233, and JP-A-2012-515234.
  • Examples of the perillene compound include the compounds described in paragraphs 0016 to 0020 of JP-A-2017-226821, C.I. I. Pigment Black 31, 32 and the like can be mentioned.
  • Examples of the azomethine compound include the compounds described in JP-A No. 01-170601 and JP-A-02-0346664, and are available as, for example, "Chromofine Black A1103" manufactured by Dainichiseika Kogyo Co., Ltd.
  • Examples of the combination of chromatic colorants when black is formed by the combination of two or more kinds of chromatic colorants include the following. (1) An embodiment containing a yellow colorant, a blue colorant, a purple colorant, and a red colorant. (2) An embodiment containing a yellow colorant, a blue colorant, and a red colorant. (3) An embodiment containing a yellow colorant, a purple colorant, and a red colorant. (4) An embodiment containing a yellow colorant and a purple colorant. (5) An embodiment containing a green colorant, a blue colorant, a purple colorant, and a red colorant. (6) An embodiment containing a purple colorant and an orange colorant. (7) An embodiment containing a green colorant, a purple colorant, and a red colorant. (8) An embodiment containing a green colorant and a red colorant.
  • the ratio (mass ratio) of each colorant is preferably, for example, the following ratio.
  • the yellow colorant is more preferably 0.1 to 0.3, the blue colorant is more preferably 0.1 to 0.5, and the purple colorant is more preferably 0.01 to 0.2.
  • the red colorant is more preferably 0.1 to 0.5.
  • the yellow colorant is more preferably 0.1 to 0.3, the blue colorant is more preferably 0.1 to 0.5, and the red colorant is more preferably 0.1 to 0.5. ..
  • the composition may contain only one type of visible colorant, or may contain two or more types.
  • the content of the visible colorant is preferably 0.1% by mass to 70% by mass, more preferably 0.5% by mass to 60% by mass, and 1% by mass with respect to the total mass of the composition. It is more preferably to 50% by mass.
  • the composition can contain a pigment derivative.
  • the pigment derivative include compounds in which at least one group selected from the group consisting of an acid group, a basic group and a hydrogen-bonding group is bonded to the pigment skeleton.
  • the acid group include a sulfo group, a carboxyl group, a phosphoric acid group, a boronic acid group, a sulfonimide group, a sulfonamide group and salts thereof, and a desalted structure of these salts.
  • alkali metal ions Li + , Na + , K +, etc.
  • alkaline earth metal ions Ca 2+ , Mg 2+, etc.
  • ammonium ions imidazolium ions, pyridinium ions, etc.
  • examples of the desalting structure of the salt include groups in which atoms or atomic groups forming a salt are eliminated from the salt.
  • desalting structure of Salts of a carboxyl group, carboxylate group - is (-COO).
  • the basic group include an amino group, a pyridinyl group and salts thereof, and a desalted structure of these salts.
  • Examples of the atom or atomic group constituting the salt include hydroxide ion, halogen ion, carboxylic acid ion, sulfonic acid ion, and phenoxide ion.
  • examples of the desalting structure of the salt include groups in which atoms or atomic groups forming a salt are eliminated from the salt.
  • a hydrogen-bonding group is a group that interacts with a hydrogen atom. Specific examples of the hydrogen-bonding group include an amide group, a hydroxy group, -NHCONHR, -NHCOOR, and -OCONHR.
  • R is preferably an alkyl group and an aryl group.
  • Examples of the pigment derivative include a compound represented by the formula (B1).
  • P represents the dye skeleton
  • L represents a single bond or a linking group
  • X represents an acid group, a basic group or a hydrogen bonding group
  • m represents an integer of 1 or more
  • n represents an integer of 1 or more. It represents an integer of 1 or more, and when m is 2 or more, a plurality of Ls and Xs may be different from each other, and when n is 2 or more, a plurality of Xs may be different from each other.
  • the pigment skeleton represented by P is a squarylium pigment structure, a pyrolopyrrolop pigment skeleton, a diketopyrrolopyrrole pigment skeleton, a quinacridone pigment skeleton, an anthraquinone pigment skeleton, a dianthraquinone pigment skeleton, a benzoisoindole pigment skeleton, and a thiazineindigo pigment skeleton.
  • azo pigment skeleton From azo pigment skeleton, quinophthalone pigment skeleton, phthalocyanine pigment skeleton, naphthalocyanine pigment skeleton, dioxazine pigment skeleton, perylene pigment skeleton, perinone pigment skeleton, benzoimidazolone pigment skeleton, benzothiazole pigment skeleton, benzoimidazole pigment skeleton and benzoxazole pigment skeleton
  • At least one selected is preferable, and at least one selected from a squarylium pigment structure, a pyrolopyrrolop pigment skeleton, a diketopyrrolopyrrole pigment skeleton, a quinacridone pigment skeleton, and a benzoimidazolone pigment skeleton is more preferable, and a squarylium pigment structure is particularly preferable. preferable.
  • the linking group represented by L consists of 1 to 100 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms, 1 to 200 hydrogen atoms, and 0 to 20 sulfur atoms.
  • the group is preferable, it may be unsubstituted, and it may further have a substituent. Examples of the substituent include a substituent T described later.
  • Substituents T include halogen atom, cyano group, nitro group, alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, heteroaryl group, -ORt 1 , -CORt 1 , -COORt 1 , -OCORt 1 , -NRt 1 Rt 2 , -NHCORt 1 , -CONRt 1 Rt 2 , -NHCONRT 1 Rt 2 , -NHCOORt 1 , -SRt 1 , -SO 2 Rt 1 , -SO 2 ORt 1 , -NHSO 2 Rt 1 or SO 2 NRt 1 Rt 2 can be mentioned.
  • Rt 1 and Rt 2 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group or a heteroaryl group, respectively. Rt 1 and Rt 2 may be combined to form a ring.
  • Examples of the acid group, basic group, and hydrogen-bonding group represented by X include the above-mentioned groups.
  • the pigment derivative When a pigment-type compound is used as the near-infrared absorbing dye, the pigment derivative preferably has a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 700 nm to 1,200 nm, and a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 700 nm to 1,100 nm. It is also preferable that the compound has a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 700 nm to 1,000 nm.
  • a pigment derivative having a maximum absorption wavelength in the above wavelength range can easily have the spread of the ⁇ plane close to that of the near-infrared absorbing dye, improve the adsorptivity of the near-infrared absorbing dye, and easily obtain more excellent dispersion stability.
  • the pigment derivative is preferably a compound containing an aromatic ring, and more preferably a compound containing a structure in which two or more aromatic rings are condensed. Further, the pigment derivative is preferably a compound having a ⁇ -conjugated plane, and more preferably a compound having a ⁇ -conjugated plane having the same structure as the ⁇ -conjugated plane contained in the near-infrared absorbing dye. Further, the number of ⁇ electrons contained in the ⁇ -conjugated plane of the pigment derivative is preferably 8 to 100. The upper limit is preferably 90 or less, and more preferably 80 or less. The lower limit is preferably 10 or more, and more preferably 12 or more. Further, the pigment derivative is preferably a compound having a ⁇ -conjugated plane containing a partial structure represented by the following formula (SQ-a).
  • the pigment derivative is also preferably a compound represented by the following formula (Syn1).
  • Rsy 1 and Rsy 2 each independently represent an organic group
  • L 1 represents a single bond or a p1 + 1 valent group
  • a 1 is a sulfo group, a carboxyl group, a phosphoric acid group, and a boronic acid group.
  • p1 and q1 each independently represent an integer of 1 or more. If p1 is 2 or more, a plurality of A 1 may be the same or different. If q1 is 2 or more, a plurality of L 1 and A 1 may be the same or different.
  • Examples of the organic group represented by Rsy 1 and Rsy 2 of the formula (Syn1) include an aryl group, a heteroaryl group, and a group represented by the following formula (R1).
  • X 11 represents a ring structure
  • a 11 represents O or NR 51
  • R 46 to R 51 represent hydrogen atoms or substituents independently of each other
  • R 47 and R 48 are bonded to each other.
  • * represents a bond.
  • the p1 + 1 valent groups represented by L 1 in the formula (Syn1) include hydrocarbon groups, heterocyclic groups, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -SO 2 -,-.
  • RL represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.
  • the hydrocarbon group may be an aliphatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group.
  • Examples of the hydrocarbon group include an alkylene group, an arylene group, or a group obtained by removing one or more hydrogen atoms from these groups.
  • the alkylene group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 15 carbon atoms, and even more preferably 1 to 10 carbon atoms.
  • the alkylene group may be linear, branched or cyclic.
  • the cyclic alkylene group may be either monocyclic or polycyclic.
  • the number of carbon atoms in the arylene group is preferably 6 to 18, more preferably 6 to 14, and even more preferably 6 to 10.
  • the heterocyclic group is preferably a single ring or a condensed ring having 2 to 4 condensation numbers.
  • the number of heteroatoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 1 to 3.
  • the hetero atom constituting the ring of the heterocyclic group is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom.
  • the number of carbon atoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 3 to 30, more preferably 3 to 18, and even more preferably 3 to 12.
  • the hydrocarbon group and the heterocyclic group may have a substituent. Examples of the substituent include the groups listed in the above-mentioned Substituent T.
  • the alkyl group represented by RL preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 15 carbon atoms, and even more preferably 1 to 8 carbon atoms.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched, more preferably linear.
  • the alkyl group represented by RL may further have a substituent. Examples of the substituent include the above-mentioned substituent T.
  • the number of carbon atoms of the aryl group represented by RL is preferably 6 to 30, more preferably 6 to 20, and even more preferably 6 to 12.
  • the aryl group represented by RL may further have a substituent. Examples of the substituent include the above-mentioned substituent T.
  • pigment derivative examples include compounds having the following structures, JP-A-56-118462, JP-A-63-264674, JP-A-1-2170777, JP-A-3-9961 and JP-A-3. -26767, Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-153780, Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-455662, Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-285669, JP-A-6-145546, JP-A-6-212088, JP-A-6-24158 No., Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-30063, Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-195326, Paragraphs 0083 to 098 of International Publication No.
  • the content of the pigment derivative is preferably 1 part by mass to 30 parts by mass, and 3 parts by mass to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the pigment among the specific dye and the colorant. Is more preferable. Only one kind of pigment derivative may be used, or two or more kinds may be used in combination.
  • pigment derivatives preferably used in the present disclosure are shown below, but the present disclosure is not limited thereto.
  • the composition according to the present disclosure may contain a specific dye and a dispersant for dispersing the pigment added as needed.
  • the dispersant is not particularly limited, and a known dispersant can be used as the dispersant for the pigment.
  • dispersant examples include polymer dispersants [for example, polyamide amine and its salt, polycarboxylic acid and its salt, high molecular weight unsaturated acid ester, modified polyurethane, modified polyester, modified poly (meth) acrylate, (meth). Acrylic copolymer, naphthalene sulfonic acid formalin condensate], polyoxyethylene alkyl phosphate, polyoxyethylene alkyl amine, alkanol amine and the like.
  • polymer dispersants for example, polyamide amine and its salt, polycarboxylic acid and its salt, high molecular weight unsaturated acid ester, modified polyurethane, modified polyester, modified poly (meth) acrylate, (meth).
  • Acrylic copolymer, naphthalene sulfonic acid formalin condensate] polyoxyethylene alkyl phosphate, polyoxyethylene alkyl amine, alkanol amine and the like.
  • Polymer dispersants can be further classified into linear polymers, terminally modified polymers, graft-type polymers, and block-type polymers based on their structures.
  • the polymer dispersant acts on the surface of the pigment to prevent reaggregation. Therefore, a terminal-modified polymer, a graft polymer, and a block polymer having an anchor site on the pigment surface can be mentioned as preferable structures.
  • the dispersant described in paragraphs 0028 to 0124 of JP2011-070156 and the dispersant described in JP2007-277514 are also preferably used. These contents are incorporated in the present specification.
  • the resin used as the dispersant is preferably a resin having a structure in which a plurality of polymer chains are bonded to the core portion.
  • resins include dendrimers (including star-shaped polymers).
  • specific examples of the dendrimer include polymer compounds C-1 to C-31 described in paragraphs 0196 to 0209 of JP2013-043962.
  • the polymer dispersant is a graft copolymer. Since the graft copolymer has an affinity with a solvent due to the graft chain, it is excellent in the dispersibility of the pigment and the dispersion stability after aging.
  • the description in paragraphs 0025 to 0094 of JP2012-255128A can be referred to, and the content thereof is incorporated in the present specification.
  • examples of the graft copolymer include the resins described in paragraphs 0072 to 0094 of JP2012-255128A, the contents of which are incorporated in the present specification.
  • a polymer dispersant having an ethylenically unsaturated group may be used as the polymer dispersant.
  • the ethylenically unsaturated group include a vinyl group, a vinyloxy group, an allyl group, a metallicyl group, a (meth) acryloyl group, a vinylphenyl group, a cinnamoyl group and a maleimide group, and from the viewpoint of reactivity, a (meth) acryloyl group , Vinylphenyl group and maleimide group are preferable, (meth) acryloyl group is more preferable, and acryloyl group is particularly preferable.
  • the dispersant is preferably an acidic dispersant (acidic resin) or a basic dispersant (basic resin).
  • the acidic dispersant (acidic resin) represents a resin in which the amount of acid groups is larger than the amount of basic groups.
  • the acidic dispersant (acidic resin) is preferably a resin in which the amount of acid groups accounts for 70 mol% or more when the total amount of the amount of acid groups and the amount of basic groups is 100 mol%, and is substantially an acid. A resin consisting only of groups is more preferable.
  • the acid group contained in the acidic dispersant (acidic resin) is preferably a carboxyl group.
  • the basic dispersant represents a resin in which the amount of basic groups is larger than the amount of acid groups.
  • the basic dispersant (basic resin) is preferably a resin in which the amount of basic groups exceeds 50 mol% when the total amount of the amount of acid groups and the amount of basic groups is 100 mol%.
  • Examples of the basic dispersant include resins having a tertiary amino group and a quaternary ammonium base.
  • a resin having a tertiary amino group and a quaternary ammonium base is preferably used as a dispersant for a specific dye.
  • the resin having a tertiary amino group and a quaternary ammonium base is preferably a resin having a constituent repeating unit having a tertiary amino group and a constituent repeating unit having a quaternary ammonium base.
  • the resin having a tertiary amino group and a quaternary ammonium base may have a structural repeating unit further having an acid group.
  • the resin having a tertiary amino group and a quaternary ammonium base preferably has a block structure.
  • the resin having a tertiary amino group and a quaternary ammonium base preferably has an amine value of 10 mgKOH / g to 250 mgKOH / g and a quaternary ammonium salt value of 10 mgKOH / g to 90 mgKOH / g. It is more preferable that the amine value is 50 mgKOH / g to 200 mgKOH / g and the quaternary ammonium salt value is 10 mgKOH / g to 50 mgKOH / g.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the resin having a tertiary amino group and a quaternary ammonium base is preferably 3,000 to 300,000, more preferably 5,000 to 30,000.
  • Resins having a tertiary amino group and a quaternary ammonium base include an ethylenically unsaturated compound having a tertiary amino group, an ethylenically unsaturated compound having a quaternary ammonium base, and other ethylenically as necessary. It can be produced by copolymerizing an unsaturated compound.
  • Examples of the ethylenically unsaturated compound having a tertiary amino group and the ethylenically unsaturated compound having a quaternary ammonium base include those described in Paragraphs 0150 to 0170 of International Publication No. 2018/230486. The content is incorporated herein by reference.
  • the resin contains a nitrogen atom in the main chain.
  • This resin is also preferably used as a dispersant.
  • Resins containing a nitrogen atom in the main chain are poly (lower alkyleneimine) -based constituent repeating units, polyallylamine-based constituent repeating units, polydialylamine-based constituent repeating units, and metaxylene diamine-epichlorohydrin weights. It preferably contains a structural repeating unit having at least one nitrogen atom selected from the group consisting of a condensate-based structural repeating unit and a polyvinylamine-based structural repeating unit.
  • oligoimine-based resin a structural repeating unit having a partial structure X having a functional group of pKa14 or less and a structural repeating unit having a side chain containing an oligomer chain or a polymer chain Y having 40 to 10,000 atoms are included. It is preferably a resin having.
  • the oligoimine-based resin may further have a structural repeating unit having an acid group.
  • the description in paragraphs 0102 to 0166 of JP2012-255128A can be referred to, and this content is incorporated in the present specification.
  • a commercially available product can also be used as the dispersant.
  • the product described in paragraph 0129 of JP2012-137564A can also be used as a dispersant.
  • Disperbyk-111 manufactured by BYK Chemie
  • the resin described as the dispersant can also be used for purposes other than the dispersant. For example, it can also be used as a binder.
  • the dispersant may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the dispersant may be appropriately adjusted according to the pigment used, but is preferably 1 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total content of the specific dye and the pigment.
  • the lower limit is preferably 5 parts by mass or more, and more preferably 10 parts by mass or more.
  • the upper limit is preferably 150 parts by mass or less, and more preferably 100 parts by mass or less.
  • the composition according to the present disclosure preferably contains a polymerization inhibitor from the viewpoint of storage stability.
  • the polymerization inhibitor is not particularly limited, and a known polymerization inhibitor can be used.
  • examples of the polymerization inhibitor include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), and the like.
  • the polymerization inhibitor may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the polymerization inhibitor is preferably 0.1 ppm to 1,000 ppm, more preferably 1 ppm to 500 ppm, and 1 ppm to 1 ppm, based on the total solid content of the composition. It is particularly preferably 100 ppm.
  • the composition according to the present disclosure may contain a solvent.
  • the solvent include esters such as ethyl acetate, -n-butyl acetate, isobutyl acetate, amyl formate, isoamyl acetate, isobutyl acetate, butyl propionate, isopropyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate, alkyl esters, methyl lactate, and lactic acid.
  • Ethyl methyl oxyacetate, ethyl oxyacetate, butyl oxyacetate, methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, methyl ethoxyacetate, ethyl ethoxyacetate, and methyl 3-oxypropionate and ethyl 3-oxypropionate, etc.
  • 3-Oxypropionic acid alkyl esters eg, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate
  • 2-Oxypropionic acid alkyl esters such as ethyl 2-oxypropionate and propyl 2-oxypropionate (eg, methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, propyl 2-methoxypropionate, 2- Methyl ethoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate, methyl 2-oxy-2-methylpropionate, ethyl 2-oxy-2-methylpropionate, methyl 2-methoxy-2-methylpropionate, 2-ethoxy-2 -Ethyl propionate), as well as methyl pyruvate, ethyl pyruvate, propyl pyruvate,
  • Ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl.
  • aromatic hydrocarbons benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, etc.
  • organic solvents for environmental reasons (for example, 50 mass by mass with respect to the total mass of the organic solvent). It can be ppm (parts per million) or less, 10 mass ppm or less, or 1 mass ppm or less).
  • methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2-heptanone, cyclohexanone, ethylcarbitol acetate, butyl Carbitol acetate, propylene glycol methyl ether acetate and the like are suitable.
  • the solvent may be used alone or in combination of two or more.
  • an organic solvent having a low metal content it is preferable to use an organic solvent having a low metal content, and the metal content of the organic solvent is preferably, for example, 10 mass ppb (parts per parts) or less. If necessary, an organic solvent at the mass ppt (parts per fraction) level may be used, and such an organic solvent is provided by, for example, Toyo Gosei Co., Ltd. (The Chemical Daily, November 2015). 13th).
  • Examples of the method for removing impurities such as metals from the organic solvent include distillation (molecular distillation, thin film distillation, etc.) and filtration using a filter.
  • the filter pore diameter of the filter used for filtration is preferably 10 ⁇ m or less, more preferably 5 ⁇ m or less, and even more preferably 3 ⁇ m or less.
  • the filter material is preferably polytetrafluoroethylene, polyethylene or nylon.
  • the organic solvent may contain isomers (compounds having the same number of atoms but different structures). Further, only one kind of isomer may be contained, or a plurality of kinds may be contained.
  • the content of peroxide in the organic solvent is preferably 0.8 mmol / L or less, and more preferably substantially free of peroxide.
  • the total solid content of the composition according to the present disclosure varies depending on the coating method and the presence or absence of a solvent, but is preferably 1% by mass to 100% by mass, for example.
  • the lower limit is more preferably 10% by mass or more.
  • the composition according to the present disclosure may contain a sensitizer for the purpose of improving the radical generation efficiency of the radical initiator and lengthening the photosensitive wavelength.
  • a sensitizer for the purpose of improving the radical generation efficiency of the radical initiator and lengthening the photosensitive wavelength.
  • the sensitizer that can be used in the present disclosure it is preferable that the above-mentioned photopolymerization initiator is sensitized by an electron transfer mechanism or an energy transfer mechanism.
  • Examples of the sensitizer that can be used in the present disclosure include those that belong to the compounds listed below and have an absorption wavelength in the wavelength range of 300 nm to 450 nm.
  • Examples of preferable sensitizers include those belonging to the following compounds and having an absorption wavelength in the wavelength range of 330 nm to 450 nm.
  • polynuclear aromatics eg, phenanthrene, anthracene, pyrene, perylene, triphenylene, 9,10-dialkoxyanthracene
  • xanthenes eg, fluoressein, eosin, erythrosin, rhodamine B, rosebenzene
  • thioxanthones eg, fluoressein, eosin, erythrosin, rhodamine B, rosebenzene
  • the sensitizer may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the sensitizer in the composition according to the present disclosure is 0.1% by mass to 20% by mass with respect to the total solid content of the composition from the viewpoint of the light absorption efficiency to the deep part and the initial decomposition efficiency. It is preferable, and 0.5% by mass to 15% by mass is more preferable.
  • the composition according to the present disclosure may contain a cosensitizer.
  • the co-sensitizer has an action of further improving the sensitivity of the sensitizing dye or the initiator to active radiation, or suppressing the polymerization inhibition of the polymerizable compound by oxygen.
  • examples of the co-sensitizer include the compounds described in paragraphs 0233 to 0241 of JP-A-2007-277514.
  • the content of these cosensitizers is in the range of 0.1% by mass to 30% by mass with respect to the mass of the total solid content of the composition from the viewpoint of improving the curing rate by balancing the polymerization growth rate and the chain transfer.
  • the range of 0.5% by mass to 25% by mass is more preferable, and the range of 1% by mass to 20% by mass is further preferable.
  • compositions according to the present disclosure include, if necessary, fluoroorganic compounds, thermal polymerization inhibitors, photopolymerization initiators, other fillers, polymer compounds other than alkali-soluble resins and dispersants, surfactants, and adhesions. It can contain various additives such as an accelerator, an antioxidant, an ultraviolet absorber, and an antioxidant.
  • Examples of other components include the compounds described in paragraphs 0238 to 0249 of JP-A-2007-277514.
  • the composition according to the present disclosure can be prepared by mixing each of the above-mentioned components. Further, it is preferable to filter with a filter for the purpose of removing foreign substances and reducing defects.
  • the filter can be used without particular limitation as long as it has been conventionally used for filtration purposes and the like.
  • a fluororesin such as polytetrafluoroethylene (PTFE), a polyamide resin such as nylon (for example, nylon-6, nylon-6,6), and a polyolefin resin such as polyethylene and polypropylene (PP) (high density, ultrahigh molecular weight). ) Etc.) and the like.
  • PTFE polytetrafluoroethylene
  • nylon for example, nylon-6, nylon-6,6)
  • PP polypropylene
  • Etc. polypropylene (including high-density polypropylene) or nylon is preferable.
  • the pore size of the filter is preferably 0.01 ⁇ m to 7.0 ⁇ m, more preferably 0.01 ⁇ m to 3.0 ⁇ m, and even more preferably 0.05 ⁇ m to 0.5 ⁇ m. Within this range, it is possible to reliably remove fine foreign substances that hinder the preparation of uniform and smooth compositions in the subsequent step.
  • a squid-shaped filter medium examples include polypropylene fiber, nylon fiber, glass fiber and the like. Specifically, SBP type series (SBP008, etc.) and TPR type series (TPR002, TPR002, etc.) manufactured by Loki Techno Co., Ltd.
  • TPR005, etc. SHPX type series (SHPX003, etc.) filter cartridges can be used.
  • filters different filters may be combined. At that time, the filtration with the first filter may be performed only once or twice or more. Further, first filters having different pore diameters within the above-mentioned range may be combined.
  • the nominal value of the filter manufacturer can be referred to.
  • a commercially available filter for example, it can be selected from various filters provided by Nippon Paul Co., Ltd. (DFA4201NXEY, etc.), Advantech Toyo Co., Ltd., Entegris Japan Co., Ltd., KITZ Micro Filter Co., Ltd., and the like. ..
  • the composition according to the present disclosure can be liquid, for example, a film can be easily produced by applying the composition according to the present disclosure to a substrate or the like and drying it.
  • the viscosity of the composition according to the present disclosure is preferably 1 mPa ⁇ s to 100 mPa ⁇ s from the viewpoint of coatability.
  • the lower limit is more preferably 2 mPa ⁇ s or more, and further preferably 3 mPa ⁇ s or more.
  • the upper limit is more preferably 50 mPa ⁇ s or less, further preferably 30 mPa ⁇ s or less, and particularly preferably 15 mPa ⁇ s or less.
  • composition according to the present disclosure is not particularly limited.
  • it can be preferably used for forming an infrared cut filter or the like.
  • it is preferably used as an infrared cut filter on the light receiving side of the solid-state image sensor (for example, for an infrared cut filter for a wafer level lens), an infrared cut filter on the back surface side of the solid-state image sensor (opposite the light receiving side), and the like.
  • it can.
  • it can be preferably used as an infrared cut filter on the light receiving side of the solid-state image sensor.
  • an infrared transmission filter capable of transmitting infrared rays having a specific wavelength or higher can be formed.
  • an infrared transmission filter capable of transmitting infrared rays having a wavelength of 850 nm or more by blocking light from a wavelength of 400 nm to 850 nm.
  • composition according to the present disclosure is preferably stored in a storage container.
  • a storage container for the purpose of preventing impurities from being mixed into raw materials and compositions, a multi-layer bottle in which the inner wall of the container is composed of 6 types and 6 layers of resin or a bottle in which 6 types of resin is composed of 7 layers may be used. preferable. Examples of these containers include the containers described in JP-A-2015-123351.
  • the film according to the present disclosure is a film made of the composition according to the present disclosure or obtained by curing the above composition. If the composition contains a solvent, it may be dried.
  • the film according to the present disclosure can be preferably used as an infrared cut filter. It can also be used as a heat ray shielding filter or an infrared ray transmitting filter.
  • the film according to the present disclosure may be used by being laminated on a support, or may be peeled off from the support and used.
  • the film according to the present disclosure may have a pattern or may be a film having no pattern (flat film).
  • the solvent may be removed, and it is not necessary to completely remove the solvent, and the amount of the solvent removed can be set as desired. Further, the above-mentioned curing may be performed as long as the hardness of the film is improved, but curing by polymerization is preferable.
  • the thickness of the film according to the present disclosure can be appropriately adjusted according to the purpose.
  • the thickness of the film is preferably 20 ⁇ m or less, more preferably 10 ⁇ m or less, and even more preferably 5 ⁇ m or less.
  • the lower limit of the film thickness is preferably 0.1 ⁇ m or more, more preferably 0.2 ⁇ m or more, and even more preferably 0.3 ⁇ m or more.
  • the film according to the present disclosure preferably has a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 650 nm to 1,500 nm, more preferably has a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 680 nm to 1,300 nm, and has a wavelength range of 700 nm to 850 nm. It is more preferable to have a maximum absorption wavelength.
  • the film according to the present disclosure preferably satisfies at least one of the following (1) to (4), and the above (1) to (4). It is more preferable that all the conditions are satisfied.
  • the transmittance at a wavelength of 400 nm is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, further preferably 85% or more, and particularly preferably 90% or more.
  • the transmittance at a wavelength of 500 nm is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, further preferably 90% or more, and particularly preferably 95% or more.
  • the transmittance at a wavelength of 600 nm is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, further preferably 90% or more, and particularly preferably 95% or more.
  • the transmittance at a wavelength of 650 nm is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, further preferably 90% or more, and particularly preferably 95% or more.
  • the film according to the present disclosure can also be used in combination with a color filter containing a chromatic colorant.
  • the color filter can be produced by using a coloring composition containing a chromatic colorant.
  • the chromatic colorant include the chromatic colorant described in the section of the composition according to the present disclosure.
  • the coloring composition can further contain a resin, a polymerizable compound, a polymerization initiator, a surfactant, a solvent, a polymerization inhibitor, an ultraviolet absorber and the like. For these details, the above-mentioned materials can be mentioned, and these can be used.
  • the color filter is arranged on the optical path of the film according to the present disclosure.
  • the film and the color filter according to the present disclosure can be laminated and used as a laminated body.
  • the film and the color filter according to the present disclosure may or may not be adjacent to each other in the thickness direction.
  • the film according to the present disclosure may be formed on a support different from the support on which the color filter is formed.
  • Other members for example, a microlens, a flattening layer, etc. constituting the solid-state image sensor may be interposed between the film and the color filter according to the disclosure.
  • the infrared cut filter means a filter that transmits light having a wavelength in the visible region (visible light) and blocks at least a part of light having a wavelength in the near infrared region (infrared light).
  • the infrared cut filter may transmit all the light having a wavelength in the visible region, and among the light having a wavelength in the visible region, the light having a specific wavelength region is passed through and the light having a specific wavelength region is blocked. It may be a thing.
  • the color filter means a filter that passes light in a specific wavelength region and blocks light in a specific wavelength region among light having a wavelength in the visible region.
  • the infrared transmission filter means a filter that blocks visible light and transmits at least a part of infrared rays.
  • the film according to the present disclosure can be used for solid-state imaging devices such as CCD (charge coupling element) and CMOS (complementary metal oxide semiconductor), and various devices such as infrared sensors and image display devices.
  • CCD charge coupling element
  • CMOS complementary metal oxide semiconductor
  • ⁇ Membrane manufacturing method> Next, a method for producing a film according to the present disclosure will be described.
  • the film according to the present disclosure can be produced through a step of applying the composition according to the present disclosure.
  • the composition is applied on a support.
  • the support include a substrate made of a material such as silicon, non-alkali glass, soda glass, Pyrex (registered trademark) glass, and quartz glass.
  • An organic film, an inorganic film, or the like may be formed on these substrates.
  • the material of the organic film include the above-mentioned resin.
  • a substrate made of the above-mentioned resin can also be used.
  • the support may be formed with a charge coupling element (CCD), a complementary metal oxide semiconductor (CMOS), a transparent conductive film, or the like.
  • the support may be formed with a black matrix that separates each pixel.
  • the support may be provided with an undercoat layer for improving the adhesion with the upper layer, preventing the diffusion of substances, or flattening the surface of the substrate.
  • an undercoat layer for improving the adhesion with the upper layer, preventing the diffusion of substances, or flattening the surface of the substrate.
  • a known method can be used as a method for applying the composition.
  • a dropping method drop casting
  • a slit coating method for example, a spray method; a roll coating method; a rotary coating method (spin coating); a casting coating method; a slit and spin method; a pre-wet method (for example, JP-A-2009-145395).
  • Methods described in the publication Inkjet (for example, on-demand method, piezo method, thermal method), ejection system printing such as nozzle jet, flexographic printing, screen printing, gravure printing, reverse offset printing, metal mask printing, etc.
  • Various printing methods; transfer method using a mold or the like; nanoimprint method and the like can be mentioned.
  • the application method for inkjet is not particularly limited, and for example, the method shown in "Expandable / Usable Inkjet-Infinite Possibilities Seen in Patents-, Published in February 2005, Sumi Betechno Research" (especially from page 115). (Page 133), and the methods described in JP-A-2003-262716, JP-A-2003-185831, JP-A-2003-261827, JP-A-2012-126830, JP-A-2006-169325, and the like. Can be mentioned.
  • the composition layer formed by applying the composition may be dried (prebaked). Prebaking may not be required if the pattern is formed by a low temperature process.
  • the prebaking temperature is preferably 150 ° C. or lower, more preferably 120 ° C. or lower, and even more preferably 110 ° C. or lower.
  • the lower limit is, for example, preferably 50 ° C. or higher, and more preferably 80 ° C. or higher.
  • the prebaking time is preferably 10 seconds to 3,000 seconds, more preferably 40 seconds to 2,500 seconds, and even more preferably 80 seconds to 220 seconds. Drying can be performed on a hot plate, an oven, or the like.
  • the film manufacturing method according to the present disclosure may further include a step of forming a pattern.
  • the pattern forming method include a pattern forming method using a photolithography method and a pattern forming method using a dry etching method.
  • the film according to the present disclosure is used as a flat film, it is not necessary to perform the step of forming the pattern.
  • the process of forming the pattern will be described in detail.
  • the pattern forming method in the photolithography method includes a step of exposing the composition layer formed by applying the composition according to the present disclosure in a pattern (exposure step) and developing and removing the composition layer of the unexposed portion. It is preferable to include a step of forming a pattern (development step). If necessary, a step of baking the developed pattern (post-baking step) may be provided. Hereinafter, each step will be described.
  • the composition layer is exposed in a pattern.
  • the composition layer can be pattern-exposed by exposing the composition layer through a mask having a predetermined mask pattern using an exposure device such as a stepper.
  • the exposed portion can be cured.
  • the radiation (light) that can be used for exposure ultraviolet rays such as g-ray and i-line are preferable, and i-ray is more preferable.
  • Irradiation dose (exposure dose) for example, preferably 0.03J / cm 2 ⁇ 2.5J / cm 2, more preferably 0.05J / cm 2 ⁇ 1.0J / cm 2, 0.08J / cm 2 ⁇ 0.5 J / cm 2 is particularly preferable.
  • the oxygen concentration at the time of exposure can be appropriately selected, and in addition to the operation in the atmosphere, for example, in a low oxygen atmosphere having an oxygen concentration of 19% by volume or less (for example, 15% by volume, 5% by volume, substantially anoxic). ), Or in a high oxygen atmosphere where the oxygen concentration exceeds 21% by volume (for example, 22% by volume, 30% by volume, 50% by volume).
  • the exposure intensity is can be set appropriately, preferably 1,000W / m 2 ⁇ 100,000W / m 2 ( e.g., 5,000W / m 2, 15,000W / m 2, 35,000W / It can be selected from the range of m 2 ).
  • Oxygen concentration and exposure illuminance may appropriately combined conditions, for example, illuminance 10,000 W / m 2 at an oxygen concentration of 10 vol%, oxygen concentration of 35 vol% can be such illuminance 20,000W / m 2.
  • the composition layer in the unexposed portion of the composition layer after exposure is developed and removed to form a pattern.
  • the development and removal of the composition layer in the unexposed portion can be performed using a developing solution.
  • the composition layer of the unexposed portion in the exposure step is eluted in the developing solution, and only the photocured portion remains on the support.
  • the developing solution an alkaline developing solution that does not damage the underlying solid-state image sensor or circuit is desirable.
  • the temperature of the developing solution is preferably, for example, 20 ° C to 30 ° C.
  • the development time is preferably 20 seconds to 180 seconds. Further, in order to improve the residue removability, the steps of shaking off the developing solution every 60 seconds and further supplying a new developing solution may be repeated several times.
  • alkaline agent used in the developing solution examples include aqueous ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, diglycolamine, diethanolamine, hydroxyamine, ethylenediamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, and tetrapropylammonium hydroxide.
  • Organic alkalinity such as tetrabutylammonium hydroxide, benzyltrimethylammonium hydroxide, dimethylbis (2-hydroxyethyl) ammonium hydroxide, choline, pyrrol, piperidine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene.
  • Examples thereof include compounds and inorganic alkaline compounds such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydrogencarbonate, sodium silicate and sodium metasilicate.
  • an alkaline aqueous solution obtained by diluting these alkaline agents with pure water is preferably used.
  • the concentration of the alkaline agent in the alkaline aqueous solution is preferably 0.001% by mass to 10% by mass, more preferably 0.01% by mass to 1% by mass.
  • the surfactant include the surfactant described in the above-mentioned composition, and a nonionic surfactant is preferable.
  • the developer may be once produced as a concentrated solution and diluted to a concentration required for use.
  • the dilution ratio is not particularly limited, but can be set in the range of, for example, 1.5 by 100 times.
  • a developer composed of such an alkaline aqueous solution it is preferable to wash (rinse) it with pure water after development.
  • post-baking is a post-development heat treatment to complete the curing of the film.
  • the post-baking temperature is preferably, for example, 100 ° C. to 240 ° C. From the viewpoint of film hardening, 200 ° C. to 230 ° C. is more preferable.
  • the post-bake temperature is preferably 150 ° C. or lower, more preferably 120 ° C. or lower. It is preferably 100 ° C. or lower, more preferably 90 ° C.
  • Post-baking should be performed on the developed film in a continuous or batch manner using a heating means such as a hot plate, a convection oven (hot air circulation dryer), or a high-frequency heater so that the above conditions are met. Can be done. Further, when the pattern is formed by the low temperature process, post-baking may not be performed, and a step of re-exposure (post-exposure step) may be added.
  • a heating means such as a hot plate, a convection oven (hot air circulation dryer), or a high-frequency heater
  • the composition layer formed by applying the composition on a support or the like is cured to form a cured product layer, and then the photoresist layer patterned on the cured product layer is formed. Then, using the patterned photoresist layer as a mask, the cured product layer can be dry-etched with an etching gas.
  • the description in paragraphs 0010 to 0067 of JP2013-64993A can be referred to, and this content is incorporated in the present specification.
  • the optical filter according to the present disclosure has a film according to the present disclosure.
  • the optical filter according to the present disclosure can be preferably used as at least one optical filter selected from the group consisting of an infrared cut filter and an infrared transmission filter, and can be more preferably used as an infrared cut filter.
  • a mode having a film according to the present disclosure and a pixel selected from the group consisting of red, green, blue, magenta, yellow, cyan, black and colorless is also a preferable mode of the optical filter according to the present disclosure.
  • the laminate according to the present disclosure is a laminate having a film according to the present disclosure and a color filter containing a chromatic colorant.
  • the infrared cut filter according to the present disclosure has a film according to the present disclosure.
  • the infrared cut filter according to the present disclosure may be a filter that cuts only infrared rays having a wavelength of a part of the infrared region, or a filter that cuts the entire infrared region.
  • Examples of the filter that cuts only infrared rays having a wavelength of a part of the infrared region include a near-infrared ray cut filter.
  • Examples of near-infrared rays include infrared rays having a wavelength of 750 nm to 2,500 nm.
  • the infrared cut filter according to the present disclosure is preferably a filter that cuts infrared rays in the wavelength range of 750 nm to 1,000 nm, and more preferably a filter that cuts infrared rays in the wavelength range of 750 nm to 1,200 nm. It is preferable that the filter cuts infrared rays having a wavelength of 750 nm to 1,500 nm.
  • the infrared cut filter according to the present disclosure may further have a copper-containing layer, a dielectric multilayer film, an ultraviolet absorbing layer, and the like, in addition to the above film.
  • the infrared cut filter according to the present disclosure further has at least a copper-containing layer or a dielectric multilayer film, it is easy to obtain an infrared cut filter having a wide viewing angle and excellent infrared shielding property. Further, the infrared cut filter according to the present disclosure can be made into an infrared cut filter having excellent ultraviolet shielding property by further having an ultraviolet absorbing layer.
  • the ultraviolet absorbing layer for example, the absorbing layers described in paragraphs 0040 to 0070 and 0119 to 0145 of International Publication No. 2015/09960 can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the description in paragraphs 0255 to 0259 of JP2014-413118A can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • a glass base material made of copper-containing glass (copper-containing glass base material) or a layer containing a copper complex (copper complex-containing layer) can also be used.
  • the copper-containing glass base material include copper-containing phosphate glass and copper-containing fluoride glass.
  • commercially available copper-containing glass products include NF-50 (manufactured by AGC Techno Glass Co., Ltd.), BG-60, BG-61 (all manufactured by Schott AG), CD5000 (manufactured by HOYA Corporation), and the like.
  • the infrared cut filter according to the present disclosure can be used for solid-state imaging devices such as CCD (charge coupling element) and CMOS (complementary metal oxide semiconductor), and various devices such as infrared sensors and image display devices.
  • CCD charge coupling element
  • CMOS complementary metal oxide semiconductor
  • the infrared cut filter according to the present disclosure is selected from at least a group consisting of film pixels (patterns) obtained by using the composition according to the present disclosure, red, green, blue, magenta, yellow, cyan, black and colorless.
  • a mode having one type of pixel (pattern) is also a preferred mode.
  • the method for producing the optical filter according to the present disclosure is not particularly limited, but a step of applying the composition according to the present disclosure on a support to form a composition layer and exposing the composition layer in a pattern. It is preferable that the method includes a step of forming a pattern by developing and removing an unexposed portion. Further, as a method for producing an optical filter according to the present disclosure, a step of applying the composition according to the present disclosure on a support to form a composition layer and curing to form a layer, a photoresist on the layer.
  • the method includes a step of forming a layer, a step of patterning the photoresist layer by exposure and development to obtain a resist pattern, and a step of dry etching the layer using the resist pattern as an etching mask. ..
  • a step in the method for manufacturing an optical filter according to the present disclosure each step in the method for manufacturing a film according to the present disclosure can be referred to.
  • the solid-state image sensor according to the present disclosure has the film according to the present disclosure.
  • the configuration of the solid-state image sensor is not particularly limited as long as it has a film according to the present disclosure and functions as a solid-state image sensor. For example, the following configuration can be mentioned.
  • a transfer electrode made of a plurality of photodiodes and polysilicon or the like constituting the light receiving area of the solid-state image sensor is provided, and light shielding made of tungsten or the like in which only the light receiving portion of the photodiode is opened on the photodiode and the transfer electrode.
  • a configuration having a film, a device protective film made of silicon nitride or the like formed on the light-shielding film so as to cover the entire surface of the light-shielding film and a photodiode light-receiving portion, and a film according to the present disclosure on the device protective film. Is.
  • a structure having a condensing means for example, a microlens or the like; the same applies hereinafter
  • the color filter used in the solid-state image sensor may have a structure in which a film forming each pixel is embedded in a space partitioned by a partition wall, for example, in a grid pattern.
  • the partition wall in this case preferably has a lower refractive index than each pixel. Examples of the imaging device having such a structure include the devices described in JP-A-2012-227478 and JP-A-2014-179757.
  • the image display device has a film according to the present disclosure.
  • the image display device include a liquid crystal display device and an organic electroluminescence (organic EL) display device.
  • organic EL organic electroluminescence
  • the image display device for example, “Electronic Display Device (Akio Sasaki, Kogyo Chosakai Co., Ltd., 1990)", “Display Device (Junaki Ibuki, Sangyo Tosho Co., Ltd., 1989)” ) ”And so on.
  • the liquid crystal display device is described in, for example, “Next Generation Liquid Crystal Display Technology (edited by Tatsuo Uchida, published by Kogyo Chosakai Co., Ltd. in 1994)".
  • the liquid crystal display device applicable to the present disclosure is not particularly limited, and can be applied to, for example, various types of liquid crystal display devices described in the above-mentioned "next-generation liquid crystal display technology".
  • the image display device may have a white organic EL element.
  • the white organic EL element preferably has a tandem structure.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-45676 supervised by Akiyoshi Mikami, "Forefront of Organic EL Technology Development-High Brightness, High Precision, Long Life, Know-how Collection-", Technical Information Association, It is described on pages 326-328, 2008 and the like.
  • the spectrum of white light emitted by the organic EL element preferably has a strong maximum emission peak in the blue region (430 nm-485 nm), the green region (530 nm-580 nm), and the yellow region (580 nm-620 nm). In addition to these emission peaks, those having a maximum emission peak in the red region (650 nm-700 nm) are more preferable.
  • the infrared sensor according to the present disclosure has a film according to the present disclosure.
  • the configuration of the infrared sensor is not particularly limited as long as it functions as an infrared sensor.
  • an embodiment of the infrared sensor according to the present disclosure will be described with reference to the drawings.
  • reference numeral 110 is a solid-state image sensor.
  • the image pickup region provided on the solid-state image sensor 110 includes an infrared cut filter 111 and an infrared transmission filter 114. Further, a color filter 112 is laminated on the infrared cut filter 111.
  • a microlens 115 is arranged on the incident light h ⁇ side of the color filter 112 and the infrared transmission filter 114.
  • the flattening layer 116 is formed so as to cover the microlens 115.
  • the infrared cut filter 111 can be formed by using the composition according to the present disclosure.
  • the spectral characteristics of the infrared cut filter 111 are selected according to the emission wavelength of the infrared light emitting diode (infrared LED) used.
  • the color filter 112 is a color filter on which pixels that transmit and absorb light of a specific wavelength in the visible region are formed, and is not particularly limited, and a conventionally known color filter for pixel formation can be used.
  • a color filter in which red (R), green (G), and blue (B) pixels are formed is used.
  • R red
  • G green
  • B blue
  • the description in paragraphs 0214 to 0263 of JP2014-43556A can be referred to, and this content is incorporated in the present specification.
  • the characteristics of the infrared transmission filter 114 are selected according to the emission wavelength of the infrared LED used.
  • the infrared transmittance filter 114 preferably has a maximum value of the light transmittance in the film thickness direction in the wavelength range of 400 nm to 650 nm of 30% or less. It is more preferably% or less, further preferably 10% or less, and particularly preferably 0.1% or less. It is preferable that the transmittance satisfies the above conditions in the entire range of the wavelength range of 400 nm to 650 nm.
  • the infrared transmittance filter 114 preferably has a minimum value of the light transmittance in the film thickness direction in the wavelength range of 800 nm or more (preferably 800 nm to 1,300 nm) of 70% or more, preferably 80% or more. More preferably, it is more preferably 90% or more.
  • the above-mentioned transmittance preferably satisfies the above condition in a part of the wavelength range of 800 nm or more, and more preferably the above-mentioned condition at a wavelength corresponding to the emission wavelength of the infrared LED.
  • the film thickness of the infrared transmission filter 114 is preferably 100 ⁇ m or less, more preferably 15 ⁇ m or less, further preferably 5 ⁇ m or less, and particularly preferably 1 ⁇ m or less.
  • the lower limit is preferably 0.1 ⁇ m.
  • the film thickness is measured by using a stylus type surface shape measuring device (DEKTAK150 manufactured by ULVAC) on the dried substrate having the film.
  • the spectral characteristics of the film are values obtained by measuring the transmittance in the wavelength range of 300 nm to 1,300 nm using an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer (U-4100 manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation).
  • the infrared transmittance filter 114 has a maximum value of the light transmittance in the film thickness direction in the wavelength range of 450 nm to 650 nm of 20% or less, and the film.
  • the transmittance of light having a wavelength of 835 nm in the thickness direction of the film is 20% or less, and the minimum value of the transmittance of light in the thickness direction of the film in the wavelength range of 1,000 nm to 1,300 nm is 70% or more. Is preferable.
  • an infrared cut filter (another infrared cut filter) different from the infrared cut filter 111 may be further arranged on the flattening layer 116.
  • examples of other infrared cut filters include those having a copper-containing layer or at least a dielectric multilayer film. These details include those described above.
  • a dual bandpass filter may be used as another infrared cut filter.
  • the absorption wavelengths of the infrared transmission filter and the infrared cut filter used in the present disclosure are appropriately combined and used according to the light source used and the like.
  • the camera module according to the present disclosure includes a solid-state image sensor and an infrared cut filter according to the present disclosure. Further, it is preferable that the camera module according to the present disclosure further includes a lens and a circuit for processing an image pickup obtained from the solid-state image sensor.
  • the solid-state image sensor used in the camera module according to the present disclosure may be the solid-state image sensor according to the present disclosure or a known solid-state image sensor.
  • the lens used in the camera module according to the present disclosure and the circuit for processing the image pickup obtained from the solid-state image sensor known ones can be used.
  • the camera modules described in JP-A-2016-6476 or JP-A-2014-197190 can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the film according to the present disclosure can be used as a heat shield material or a heat storage material.
  • the composition according to the present disclosure can also be used for paints, inkjet inks, security inks and the like.
  • the compound according to the present disclosure is a compound having a structure represented by the following formula (1) or formula (2).
  • the compound according to the present disclosure can be suitably used as a dye, and can be more preferably used as an infrared absorbing dye.
  • X 1A , X 1B , Y 1A , and Y 1B each independently represent a ring structure, except that X 1A and X 1B and Y 1A and Y 1B have different ring structures.
  • R 1A and R 1B each independently represent a substituent
  • n1A and n1B each independently represent an integer of 0 to 5
  • X 2A and X 2B are independent of each other.
  • Z A and Z B each independently represent an alkylene group, an alkynylene group, or a ring structure
  • R 2A and R 2B each independently represent a substituent
  • n2A and n2B respectively Independently represents an integer from 0 to 5.
  • the compound represented by the formula (1) or the formula (2) in the compound according to the present disclosure is the same as the dye represented by the above-mentioned formula (1) or the formula (2) in the composition according to the present disclosure.
  • the preferred embodiment is similar.
  • % and “parts” mean “mass%” and “parts by mass”, respectively, unless otherwise specified.
  • the molecular weight is the weight average molecular weight (Mw), and the ratio of the constituent units is the molar percentage, except for those specified specifically.
  • the weight average molecular weight (Mw) is a value measured as a polystyrene-equivalent value by a gel permeation chromatography (GPC) method.
  • -1 to C-14 are SQ-A-1 to SQ-A-36, SQ-B-1 to SQ-B-6, B-1 to B-18, C-1 to C- in the above specific examples. It is synonymous with 14.
  • ⁇ Manufacturing of dye dispersion 10 parts by mass of the dye shown in Table 1 below, 3 parts by mass of the pigment derivative shown in Table 1 below, 7.8 parts by mass of the dispersant (dispersed resin) shown in Table 1 below, propylene glycol methyl ether acetate (PGMEA). ) 150 parts by mass and 230 parts by mass of zirconia beads having a diameter of 0.3 mm were mixed and dispersed for 5 hours using a paint shaker. Then, filtration was performed using DFA4201NXEY (0.45 ⁇ m nylon filter) manufactured by Nippon Pole Co., Ltd., and the beads were separated by filtration to produce dispersions 1-36. The following evaluation was performed on the obtained dispersion. The evaluation results are shown in Table 1.
  • C Exceeds 30 mPa ⁇ s.
  • ⁇ Particle size The average particle size of the dye in the dispersion obtained above was measured on a volume basis using MICROTRACUPA 150 manufactured by Nikkiso Co., Ltd.
  • composition 1 Dispersion liquid shown in Table 2: 55 parts by mass Resin (binder polymer) shown in Table 2: 7.0 parts by mass Polymerizable compound (monomer) shown in Table 2: 4.5 parts by mass Light shown in Table 2.
  • Ultraviolet absorber product name: UV-503, manufactured by Daito Kagaku Co., Ltd.
  • Solvent 31 parts by mass
  • the dye solution 1 to the dye solution 6 were produced by mixing 2.34 parts by mass of the dye shown in Table 1 below and 72.2 parts by mass of the solvent shown in Table 1.
  • ⁇ Composition 2 >> Dye solution shown in Table 2 or Table 3: 74.5 parts by mass Resin shown in Table 2 or Table 3 (30% cyclopentanone solution): 20.1 parts by mass Polymerizable compound shown in Table 2 or Table 3. 1.3 parts by mass Photopolymerization initiator shown in Table 2 or 3: 1.4 parts by mass Polymerization inhibitor (p-methoxyphenol): 0.001 parts by mass Megafuck RS-72-K (surface active agent, DIC Co., Ltd.): 2.6 parts by mass
  • Residual rate (%) ⁇ (absorbance after light irradiation) ⁇ (absorbance before light irradiation) ⁇ x 100 -Evaluation criteria-
  • Example 101 to 154 and Comparative Examples 4 to 6 Using the curable compositions of Examples 101 to 154 and Comparative Examples 4 to 6, a 2 ⁇ m square pattern (infrared cut filter) was formed by the following method.
  • ⁇ Formation Method 1 Pattern Formation Methods of Examples 101 to 136, Example 137, Example 142, Comparative Examples 4 and 5 >> The curable compositions of Examples 101 to 136, 137, 142, 4 and 5 are spun on a silicon wafer so that the film thickness after film formation is 1.0 ⁇ m. It was applied by the coating method. Then, using a hot plate, it was heated at 100 ° C. for 2 minutes. Next, using an i-line stepper exposure apparatus FPA-3000i5 + (manufactured by Canon Inc.), exposure was performed at 1,000 mJ / cm 2 through a mask with a 2 ⁇ m square dot pattern. Then, paddle development was carried out at 23 ° C.
  • FPA-3000i5 + manufactured by Canon Inc.
  • TMAH tetramethylammonium hydroxide
  • ⁇ Formation Method 2 Pattern Formation Methods of Examples 138 to 141, Examples 143 to 154, and Comparative Example 6 >> The curable compositions of Examples 138 to 141, 143 to 154, and Comparative Example 6 were spin-coated on a silicon wafer so that the film thickness after film formation was 1.0 ⁇ m. It was applied. Then, using a hot plate, it was heated at 100 ° C. for 2 minutes. It was then heated at 200 ° C. for 5 minutes using a hot plate. Next, a 2 ⁇ m square pattern (infrared cut filter) was formed by a dry etching method.
  • the comparative compounds SQ-C-1, SQ-C-2, and SQ-D-1 in Table 1 are the following compounds.
  • the numerical value added to the main chain represents the molar ratio of the repeating unit.
  • the numerical value added to the side chain represents the molar ratio of the repeating unit.
  • the numerical value added to the main chain represents the molar ratio of the repeating unit, and the numerical value added to the side chain represents the number of repeating units.
  • Binder polymer> Acribase FF-426 (manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd., alkali-soluble resin)
  • E-2 ARTON F4520 (manufactured by JSR Corporation)
  • C-16 CPI-100P (manufactured by Sun Appro Co., Ltd.)
  • ⁇ Polymerizable compound> M-1 Aronix M-305 (manufactured by Toagosei Co., Ltd., a mixture of the following compounds. Triacrylate content is 55% by mass to 63% by mass)
  • M-2 KAYARAD RP-1040 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
  • M-3 Aronix M-510 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
  • F-1 Random polymer with glycidyl methacrylate skeleton (manufactured by NOF CORPORATION, Marproof G-0150M, weight average molecular weight: 10,000)
  • F-2 EPICLON HP-4700 (manufactured by DIC Corporation)
  • F-3 JER1031S (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
  • F-4 EHPE3150 (manufactured by Daicel Corporation)
  • F-5 Denacol EX-611 (manufactured by Nagase ChemteX Corporation)
  • G-1 Trimellitic acid
  • G-2 Pyromellitic anhydride
  • G-3 N, N-dimethyl-4-aminopyridine
  • G-4 Pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate)
  • the curable compositions of Examples 101 to 154 which are the compositions according to the present disclosure, are obtained more cured than the compositions of Comparative Examples 4 to 6. It is clear that it is excellent in suppressing foreign matter adhesion when forming a film pattern. Further, it can be seen that the curable compositions of Examples 101 to 154, which are the compositions according to the present disclosure, are also excellent in heat resistance, light resistance, and development residue inhibitory property in the obtained cured film.
  • Example 155 Using the curable compositions of Examples 101 to 154, 2 ⁇ m square patterns (infrared cut filters) were formed by the following methods.
  • Patterns of the curable compositions of Examples 101 to 136, 137, and 142 were prepared by the following methods.
  • the curable compositions of Examples 101 to 136, 137, and 142 were applied by a spin coating method so that the film thickness after film formation was 1.0 ⁇ m. Then, using a hot plate, it was heated at 100 ° C. for 2 minutes. Next, using an i-line stepper exposure apparatus FPA-3000i5 + (manufactured by Canon Inc.), exposure was performed at 1,000 mJ / cm 2 through a mask with a 2 ⁇ m square dot pattern. Then, paddle development was carried out at 23 ° C.
  • TMAH tetramethylammonium hydroxide
  • TMAH tetramethylammonium hydroxide
  • Patterns of the curable compositions of Examples 138 to 141 and 143 to 154 were prepared by the following methods.
  • the curable compositions of Examples 138 to 141 and 143 to 154 were applied onto a silicon wafer by a spin coating method so that the film thickness after film formation was 1.0 ⁇ m.
  • using a hot plate it was heated at 100 ° C. for 2 minutes. It was then heated at 200 ° C. for 5 minutes using a hot plate.
  • a 2 ⁇ m square pattern (infrared cut filter) was formed by a dry etching method.
  • the Red composition was applied onto the pattern of the infrared cut filter by a spin coating method so that the film thickness after film formation was 1.0 ⁇ m. Then, using a hot plate, it was heated at 100 ° C. for 2 minutes. Next, using an i-line stepper exposure apparatus FPA-3000i5 + (manufactured by Canon Inc.), exposure was performed at 1,000 mJ / cm 2 through a mask with a 2 ⁇ m square dot pattern. Then, paddle development was carried out at 23 ° C. for 60 seconds using a 0.3% by mass aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide (TMAH). Then, it was rinsed with a spin shower and further washed with pure water.
  • TMAH tetramethylammonium hydroxide
  • the Red composition was then patterned on the infrared cut filter pattern by heating at 200 ° C. for 5 minutes using a hot plate.
  • the Green composition and the Blue composition were sequentially patterned to form red, green and blue coloring patterns (Bayer patterns).
  • the Bayer pattern is a red element, two green elements, and one blue element, as disclosed in US Pat. No. 3,971,065.
  • Elements and a 2 ⁇ 2 array of filter elements having one infrared transmission filter element were repeated to form a Bayer pattern.
  • composition for forming an infrared transmission filter (the following composition 100 or composition 101) was applied onto the patterned film by a spin coating method so that the film thickness after film formation was 2.0 ⁇ m. Then, using a hot plate, it was heated at 100 ° C. for 2 minutes. Next, using an i-line stepper exposure apparatus FPA-3000i5 + (manufactured by Canon Inc.), exposure was performed at 1,000 mJ / cm 2 through a 2 ⁇ m square Bayer pattern mask. Then, paddle development was carried out at 23 ° C. for 60 seconds using a 0.3% by mass aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide (TMAH).
  • TMAH tetramethylammonium hydroxide
  • the infrared transmission filter was patterned in the missing portion of the Bayer pattern of the infrared cut filter in which the coloring pattern was not formed.
  • the obtained solid-state image sensor was irradiated with infrared rays by an infrared light emitting diode (infrared LED) in a low illuminance environment (0.001 lux), and an image was captured to evaluate the image performance.
  • infrared LED infrared light emitting diode
  • the Red composition, Green composition, Blue composition, and composition for forming an infrared transmission filter used for the above patterning are as follows.
  • Red pigment dispersion 51.7 parts by mass Resin 4 (40% by mass PGMEA solution): 0.6 parts by mass Polymerizable compound 4: 0.6 parts by mass Photopolymerization initiator 1: 0.3 parts by mass Surfactant 1 : 4.2 parts by mass PGMEA: 42.6 parts by mass
  • Green pigment dispersion 73.7 parts by mass Resin 4 (40% by mass PGMEA solution): 0.3 parts by mass Polymerizable compound 1: 1.2 parts by mass Photopolymerization initiator 1: 0.6 parts by mass Surface active agent 1 : 4.2 parts by mass UV absorber (UV-503, manufactured by Daito Kagaku Co., Ltd.): 0.5 parts by mass PGMEA: 19.5 parts by mass
  • Blue pigment dispersion 44.9 parts by mass Resin 4 (40% by mass PGMEA solution): 2.1 parts by mass Polymerizable compound 1: 1.5 parts by mass Polymerizable compound 4: 0.7 parts by mass Photoinitiator 1 : 0.8 parts by mass Surfactant 1: 4.2 parts by mass PGMEA: 45.8 parts by mass
  • composition for forming an infrared transmission filter The components having the following composition were mixed, stirred, and then filtered through a nylon filter (manufactured by Nippon Pole Co., Ltd.) having a pore size of 0.45 ⁇ m to prepare a composition for forming an infrared transmission filter.
  • Pigment dispersion 2-1 1,000 parts by mass Polymerizable compound (dipentaerythritol hexaacrylate): 50 parts by mass Resin: 17 parts by mass Photopolymerization initiator (1- [4- (phenylthio) phenyl] -1,2 -Octandion-2- (O-benzoyloxime)): 10 parts by mass PGMEA: 179 parts by mass Alkali-soluble polymer 1:17 parts by mass (solid content concentration 35 parts by mass)
  • ⁇ Synthesis example of alkali-soluble polymer 1> In a reaction vessel, 14 parts of benzyl methacrylate, 12 parts of N-phenylmaleimide, 15 parts of 2-hydroxyethyl methacrylate, 10 parts of styrene and 20 parts of methacrylic acid are dissolved in 200 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate, and further 2,2'-. 3 parts of azoisobutyronitrile and 5 parts of ⁇ -methylstyrene dimer were added. After purging the inside of the reaction vessel with nitrogen, the mixture was heated at 80 ° C.
  • This polymer had a polystyrene-equivalent weight average molecular weight of 9,700, a number average molecular weight of 5,700, and a Mw / Mn of 1.70.
  • the raw materials used for the Red composition, the Green composition, the Blue composition, and the composition for forming an infrared transmission filter are as follows.
  • a high-pressure disperser with a decompression mechanism NANO-3000-10 (manufactured by Nippon BEE Co., Ltd.) was used to perform dispersion treatment at a flow rate of 500 g / min under a pressure of 2,000 kg / cm 3 . This dispersion treatment was repeated 10 times to obtain a Red pigment dispersion.
  • -Green pigment dispersion C. I. Pigment Green 36 at 6.4 parts by mass
  • C.I. I. A mixed solution consisting of 5.3 parts by mass of Pigment Yellow 150, 5.2 parts by mass of a dispersant (Disperbyk-161, manufactured by BYK Chemie), and 83.1 parts by mass of PGMEA, bead mill (zirconia beads 0.3 mm diameter).
  • a pigment dispersion was prepared by mixing and dispersing for 3 hours. After that, a high-pressure disperser with a decompression mechanism NANO-3000-10 (manufactured by Nippon BEE Co., Ltd.) was used to perform dispersion treatment at a flow rate of 500 g / min under a pressure of 2,000 kg / cm 3 . This dispersion treatment was repeated 10 times to obtain a Green pigment dispersion.
  • Pigment dispersion 1-1 The mixed solution having the following composition is mixed and dispersed for 3 hours with a bead mill (high pressure disperser NANO-3000-10 with decompression mechanism (manufactured by Nippon BEE Co., Ltd.)) using zirconia beads having a diameter of 0.3 mm.
  • a pigment dispersion liquid 1-1 To prepare a pigment dispersion liquid 1-1.
  • Pigment dispersion 1-2 The mixed solution having the following composition is mixed and dispersed for 3 hours with a bead mill (high pressure disperser NANO-3000-10 with decompression mechanism (manufactured by Nippon BEE Co., Ltd.)) using zirconia beads having a diameter of 0.3 mm.
  • the pigment dispersion liquid 1-2 was prepared.
  • -Polymerizable compound 1 KAYARAD DPHA (mixture of dipentaerythritol hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
  • -Polymerizable compound 4 The following structure
  • Polymerizable compound 5 The following structure (a mixture of the left compound and the right compound having a molar ratio of 7: 3)
  • -Silane coupling agent A compound having the following structure.
  • Et represents an ethyl group.
  • Example 201 The following compositions were mixed, stirred, and then filtered through a nylon filter (manufactured by Nippon Pole Co., Ltd.) having a pore size of 0.45 ⁇ m to prepare the pattern-forming composition of Example 201.
  • light resistance and heat resistance are similar to those of Example 101.
  • the cured film obtained by using the pattern forming composition of Example 201 blocks light having a wavelength in the visible region and transmits at least a part of light having a wavelength in the near infrared region (near infrared ray). I was able to.
  • Example 202 The following compositions were mixed, stirred, and then filtered through a nylon filter (manufactured by Nippon Pole Co., Ltd.) having a pore size of 0.45 ⁇ m to prepare the pattern-forming composition of Example 202.
  • Curable composition of Example 105 36.99 parts by mass Pigment dispersion 1-1: 46.5 parts by mass Pigment dispersion 1-2: 37.1 parts by mass Using the pattern-forming composition of Example 202
  • the light resistance, heat resistance, pattern foreign matter suppressing property, and developing residue suppressing property were evaluated in the same manner as in Example 101, the same effect as in Example 101 was obtained.
  • the cured film obtained by using the pattern forming composition of Example 202 shields light having a wavelength in the visible region and transmits at least a part of light having a wavelength in the near infrared region (near infrared ray). I was able to.
  • Example 301 Example 101 except that the curable compositions of Examples 101 to 154 were used and changed to other substrates (changed to a silicon wafer in the case of a glass substrate and changed to a glass substrate in the case of a silicon wafer). When evaluated in the same manner as in, the same effect as in Examples 101 to 154 can be obtained.
  • Example 302 The pattern-forming composition obtained in Example 201 or Example 202 was used and changed to another substrate (in the case of a glass substrate, changed to a silicon wafer, and in the case of a silicon wafer, changed to a glass substrate).
  • the evaluation is performed in the same manner as in Example 101, the same effects as those in Examples 101 to 154 can be obtained.
  • Example 401 The pattern-forming composition was used in the same manner as in Example 201, except that the curable composition of Example 105 used in Example 201 was replaced with the curable composition of Examples 101 to 104 and 106 to 154.
  • the same effects as in Example 201 were obtained.
  • the cured film obtained by using the pattern forming composition of Example 401 blocks light having a wavelength in the visible region and transmits at least a part of light having a wavelength in the near infrared region (near infrared ray). I was able to.
  • Example 402 A pattern-forming composition was prepared in the same manner as in Example 202 except that the curable composition of Example 105 used in Example 202 was replaced with the curable compositions of Examples 101 to 104 and 106 to 154. Then, when the light resistance, heat resistance, pattern foreign matter suppressing property, and developing residue suppressing property were evaluated in the same manner as in Example 202, the same effect as in Example 202 was obtained. Further, the cured film obtained by using the pattern forming composition of Example 402 blocks light having a wavelength in the visible region and transmits at least a part of light having a wavelength in the near infrared region (near infrared ray). I was able to.
  • 110 Solid-state image sensor
  • 111 Infrared cut filter
  • 112 Color filter
  • 114 Infrared transmission filter
  • 115 Microlens
  • 116 Flattening layer

Abstract

下記式(1)又は式(2)で表される色素と、バインダーポリマー及び硬化性化合物よりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物と、を含む組成物、並びに、上記組成物を用いた膜、光学フィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、赤外線センサ、並びに、カメラモジュール。式(1)中、X1A、X1B、Y1A、Y1B、R1A、R1B、n1A、n1B、Z、Z、R2A、R2B、n2A、及び、n2Bの詳細は、それぞれ明細書中に示す。

Description

組成物、膜、光学フィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、赤外線センサ、並びに、カメラモジュール
 本開示は、組成物、膜、光学フィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、赤外線センサ、並びに、カメラモジュールに関する。
 カラーフィルタ等の部材は、有機顔料や無機顔料を分散させた硬化性組成物等の顔料分散組成物に、多官能モノマー及び光重合開始剤、アルカリ可溶性樹脂及びその他成分を含有して着色感光性組成物とし、これを用いてフォトリソ法などにより製造されている。
 上記顔料として、ジヒドロペリミジン骨格を有するスクアリリウム化合物を用いることが知られている。
 従来のジヒドロペリミジン骨格を有するスクアリリウム化合物の例としては、下記特許文献1及び特許文献2に記載のものが挙げられる。
 特許文献1には、下記一般式(1)で表され、かつCuKα線によるX線回折パターンにおいて、少なくとも、ブラッグ角2θ(±0.2°)の8.6°、12.4°、17.5°、20.2°、22.2°及び25.4°に回折ピークを有するジヒドロペリミジン型スクアリリウム色素[A]が記載されている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
([一般式(1)中、R~Rは、それぞれ独立に、水素原子、スルホ基又はハロゲン原子を表す。X~Xは、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、ヒドロキシル基、アミノ基、-NR、スルホ基、-SONR、-COOR10、-CONR1112、ニトロ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。R~R12は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアシル基又は置換基を有してもよいピリジニル基を表す。RとR、RとR及びR11とR12は、互いに結合して環を形成してもよい。]
 特許文献2には、近赤外線吸収色素[A]、発色剤[B]、顕色剤[C]及び樹脂[D]を含有するレーザーマーキング用組成物であって、近赤外線吸収色素[A]が、下記一般式(1)で表される化合物、下記一般式(2)で表される化合物及び下記一般式(3)で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物を含有するレーザーマーキング用組成物が記載されている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
[一般式(1)中、
R1~R5は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、スルホ基、SO Ma、-SONR、-COOR、-CONR10、ニトロ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。X~X10は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、アミノ基、置換アミノ基、スルホ基、-SONR1112、-COOR13、-CONR1415、ニトロ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。X~X10は、置換基同士が結合して環を形成してもよい。Maは、無機又は有機のカチオンを表し、R~R15は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を有してもよいアルキル基を表す。]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
[一般式(2)中、Yは、置換基を有してもよい複素環を表す。R16~R20は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、スルホ基、SO Mb、-SONR2122、-COOR23、-CONR2425、ニトロ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。Mbは、無機又は有機のカチオンを表し、R21~R25は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を有してもよいアルキル基を表す。]
一般式(3)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
[一般式(3)中、Q、Q、Q及びQは、それぞれ独立に、炭素原子又は窒素原子を表す。Q、Q、Q又はQが窒素原子の場合、それぞれに結合するX11、X14、X15又はX18はないものとする。R26~R30は、それぞれ独立に、水素原子、スルホ基、-SO Mc又はハロゲン原子を表す。Mcは、無機又は有機のカチオンを表す。X11~X18は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、ヒドロキシル基、アミノ基、-NR3132、スルホ基、-SONR3334、-COOR35、-CONR367、ニトロ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。X11~X18は、置換基同士が結合して環を形成してもよい。R31~R37は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアシル基又は置換基を有してもよいピリジニル基を表す。R31とR32、R
 特許文献3には、透明基板上に、下記一般式(I)で表されるスクアリリウム系化合物を含有する層を有することを特徴とするプラズマディスプレイパネル用フィルターが記載されている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 (式中、R、R、Rは、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していても良いシクロアルキル基、置換基を有していても良いアリール基又はヘテロアリール基を表し、RとR或いはRとRは互いに連結して5又は6員の環又は環の1部を形成しても良い。)
  特許文献1:特許第6322837号公報
  特許文献2:特開2018-193516号公報
  特許文献3:特開2000-162431号公報
 カラーフィルタ等の部材の形成において用いられる色素として、ジヒドロペリミジン骨格を有するスクアリリウム化合物が知られている。
 しかし、本発明者らは、鋭意検討した結果、ジヒドロペリミジン骨格を有するスクアリリウム化合物は、上記化合物を含む膜において、パターン形成時の異物付着の抑制が十分でない場合があることを見出した。
 本開示の一実施形態が解決しようとする課題は、得られる膜において、パターン形成時の異物付着の抑制に優れる組成物を提供することである。
 また、本開示の他の実施形態が解決しようとする課題は、上記組成物を用いた膜、光学フィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、赤外線センサ、並びに、カメラモジュールを提供することである。
 上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
<1> 下記式(1)又は式(2)で表される色素と、
 バインダーポリマー及び硬化性化合物よりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物と、を含む
 組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
 式(1)中、X1A、X1B、Y1A、及び、Y1Bは、それぞれ独立に、環構造を表し、但し、X1A及びX1BとY1A及びY1Bとが、互いに異なる環構造を表し、R1A及びR1Bはそれぞれ独立に、置換基を表し、n1A及びn1Bはそれぞれ独立に、0~5の整数を表し、式(2)中、X2A及びX2Bは、それぞれ独立に、環構造を表し、Z及びZは、それぞれ独立に、アルキレン基、アルキニレン基、又は、環構造を表し、R2A及びR2Bはそれぞれ独立に、置換基を表し、n2A及びn2Bはそれぞれ独立に、0~5の整数を表す。
<2> 上記式(1)又は(2)において、上記X及びXが、それぞれ独立に、芳香族環構造、又は、複素環構造を有する、<1>に記載の組成物。
<3> 上記式(1)又は(2)において、上記X及びXが、それぞれ独立に、フェニル基、又は、ナフチル基である、<1>又は<2>に記載の組成物。
<4> 上記式(1)又は(2)で表される色素の極大吸収波長が、650nm以上である、<1>~<3>のいずれか1つに記載の組成物。
<5> 上記式(1)又は(2)で表される色素が顔料である、<1>~<4>のいずれか1つに記載の組成物。
<6> 上記硬化性化合物を含む、<1>~<5>のいずれか1つに記載の組成物。
<7> 上記バインダーポリマーを含む、<1>~<6>のいずれか1つに記載の組成物。
<8> 光重合開始剤を更に含む、<1>~<7>のいずれか1つに記載の組成物。
<9> <1>~<8>のいずれか1つに記載の組成物からなる又は上記組成物を硬化してなる膜。
<10> <9>に記載の膜を有する、光学フィルタ。
<11> 赤外線カットフィルタ又は赤外線透過フィルタである、<10>に記載の光学フィルタ。
<12> <9>に記載の膜を有する固体撮像素子。
<13> <9>に記載の膜を有する赤外線センサ。
<14> <1>~<8>のいずれか1つに記載の組成物を支持体上に適用して組成物層を形成する工程と、
 上記組成物層をパターン状に露光する工程と、
 未露光部を現像除去してパターンを形成する工程と、を含む
 光学フィルタの製造方法。
<15> <1>~<8>のいずれか1つに記載の組成物を支持体上に適用して組成物層を形成し、硬化して層を形成する工程、
 上記層上にフォトレジスト層を形成する工程、
 露光及び現像することにより上記フォトレジスト層をパターニングしてレジストパターンを得る工程、並びに、
 上記レジストパターンをエッチングマスクとして上記層をドライエッチングする工程を含む
 光学フィルタの製造方法。
<16> 固体撮像素子と、<10>に記載の光学フィルタとを有するカメラモジュール。
 本開示の一実施形態によれば、得られる膜において、パターン形成時の異物付着の抑制に優れる組成物が提供される。
 また、本開示の他の実施形態によれば、上記組成物を用いた膜、光学フィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、赤外線センサ、並びに、カメラモジュールが提供される。
本開示に係る赤外線センサの一実施形態を示す概略図である。
 以下において、本開示の内容について詳細に説明する。
 本明細書において「全固形分」とは、組成物の全組成から溶剤を除いた成分の総質量をいう。また、「固形分」とは、上述のように、溶剤を除いた成分であり、例えば、25℃において固体であっても、液体であってもよい。
 本明細書における基(原子団)の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものとともに置換基を有するものをも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含するものである。
 本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も含む。また、露光に用いられる光としては、一般的に、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザに代表される遠紫外線、極紫外線(EUV光)、X線、電子線等の活性光線又は放射線が挙げられる。
 本明細書において、「(メタ)アクリレート」は、アクリレート及びメタクリレートの双方、又は、いずれかを表し、「(メタ)アクリル」は、アクリル及びメタクリルの双方、又は、いずれかを表し、「(メタ)アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルの双方、又は、いずれかを表す。
 本明細書において、化学式中のMeはメチル基を、Etはエチル基を、Prはプロピル基を、Buはブチル基を、Acはアセチル基を、Bnはベンジル基を、Phはフェニル基をそれぞれ示す。
 本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
 また、本開示において、「質量%」と「重量%」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
 更に、本開示において、2以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
 また、本開示における透過率は、特に断りのない限り、25℃における透過率である。
 本明細書において、重量平均分子量及び数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)により測定したポリスチレン換算値として定義される。
(組成物)
 本開示に係る組成物は、下記式(1)又は式(2)で表される色素(以下、「特定色素」ともいう。)と、バインダーポリマー及び硬化性化合物よりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物と、を含む。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 式(1)中、X1A、X1B、Y1A、及び、Y1Bは、それぞれ独立に、環構造を表し、但し、X1A及びX1BとY1A及びY1Bとが、互いに異なる環構造を表し、R1A及びR1Bはそれぞれ独立に、置換基を表し、n1A及びn1Bはそれぞれ独立に、0~5の整数を表し、式(2)中、X2A及びX2Bは、それぞれ独立に、環構造を表し、Z及びZは、それぞれ独立に、アルキレン基、アルキニレン基、又は、環構造を表し、R2A及びR2Bはそれぞれ独立に、置換基を表し、n2A及びn2Bはそれぞれ独立に、0~5の整数を表す。
 本開示に係る組成物を用いることにより、パターン形成時の異物付着の抑制に優れる膜が得られる。
 上述の通り、特許文献1~3に記載の従来のジヒドロペリミジン骨格を有するスクアリリウム化合物は、上記化合物を含む膜において、パターン形成時の異物付着の抑制が十分でない場合があった。
 また、硬化性化合物を含まない、特許文献1~3に記載の従来のジヒドロペリミジン骨格を有するスクアリリウム化合物を含む組成物においても、膜を形成した場合、パターン形成時の異物付着の抑制が十分でない場合があった。
 従来のジヒドロペリミジン骨格を有するスクアリリウム色素は、ジヒドロペリミジン骨格が有する置換基の環構造が全て同一の構造であるか、又は、ジヒドロペリミジン骨格の置換基が、脂肪族炭化水素基を有するため凝集しやすく、凝集体(異物)が生じ、異物欠陥が発生しやすく、パターン形成時の異物付着も発生しやすい。
 そこで、本発明者らが鋭意検討した結果、上記特定色素と、バインダーポリマー及び硬化性化合物よりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物とを含む組成物に用いることにより、パターン形成時の異物付着の抑制性に優れた膜が得られることを見出した。
 上記効果が得られる理由は不明であるが、上記特定色素を含むことにより、その機構の詳細は不明であるが、従来のジヒドロペリミジン骨格を有するスクアリリウム色素等に比べ、式(1)中のジヒドロペリミジン骨格において、X1A及びX1BとY1A及びY1Bとがそれぞれ独立に互いに異なる環構造であるか、又は、式(2)中のX2A及びX2Bが環構造であることにより、本開示に係る特定色素は組成物中においても凝集しにくいので、得られる膜において、パターン形成時の異物付着の抑制性(以下、「異物付着の抑制性」ともいう。)に優れると推定している。また、特定色素は、上記のとおり、凝集しにくく、現像残渣抑制性にも優れやすい。
 また、上記式(1)又は式(2)で表される色素は、従来のジヒドロペリミジン骨格を有するスクアリリウム色素と比較し、溶液では450nm~600nmの波長範囲の吸収が少ないが、成膜時に分光ブロード化し、可視透明性が低下する問題があることを本発明者らは見出した。
 本発明者らが鋭意検討した結果、上記態様であると、分光特性(可視透明性)にも優れる膜が得られることを見出した。上記特定色素と、硬化性化合物又はバインダーポリマーを含むことにより、膜における吸収スペクトル(吸収帯)がシャープになり、上記膜における吸収スペクトル(吸収帯)の幅が狭くなると推定している。その結果、可視光領域の吸収は小さくなり、膜形成時による分光ブロード化を抑えることができ、分光特性(可視透明性)にも優れると推定している。
 また、上記態様であると、詳細は不明であるが、得られる膜の耐光性が優れやすい。
 上記式(1)又は式(2)で表されるスクアリリウム色素と、バインダーポリマー及び硬化性化合物よりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物とを含む組成物に用いることにより、その機構の詳細は不明であるが、従来のジヒドロペリミジン骨格を有するスクアリリウム色素等と、バインダーポリマー、硬化性化合物等とを含む組成物に比べ、得られる膜において、耐熱性にも優れやすいと推定している。
 以下、本開示に係る組成物に含まれる各成分の詳細を説明する。
<特定色素>
 本開示において用いられる特定色素は、上記式(1)又は上記式(2)で表される色素である。特定色素は、赤外線吸収色素として好適に用いることができる。
 また、特定色素は、色素(「着色剤」ともいう。)であり、顔料又は染料であることが好ましく、顔料であることがより好ましい。なお、本開示において、顔料とは、溶剤に不溶性の色素を意味する。また、染料とは、溶剤に溶解する色素を指す。
 本開示に用いられる顔料は、例えば、25℃のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ-ト100gに対する溶解量、及び、25℃の水100gに対する溶解量がいずれも0.1g以下であることが好ましく、0.05g以下であることがより好ましく、0.01g以下であることが更に好ましい。また、本開示に用いられる染料は、25℃のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート100gに対する溶解量、及び、25℃の水100gに対する溶解量の少なくとも一方が0.1gを超えることが好ましく、1g以上であることがより好ましく、5g以上であることが更に好ましい。
 また、上記式(1)又は式(2)で表される色素(特定色素)は、例えば、下記に示すジヒドロペリミジン環構造の窒素原子が結合している位置に対して、オルト位の位置にスクアリリウム構造が結合する場合、下記に示すいずれの共鳴構造の表記で表してもよい。下記に示す化合物は、カチオン及びアニオンの共鳴構造の表記位置が異なるだけで同一の化合物を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
<式(1)で表される色素>
 式(1)中、X1A、X1B、Y1A、及び、Y1Bは、それぞれ独立に、環構造を表し、但し、X1A及びX1BとY1A及びY1Bとが、互いに異なる環構造を表し、R1A及びR1Bはそれぞれ独立に、置換基を表し、n1A及びn1Bはそれぞれ独立に、0~5の整数を表す。上記X1A、X1B、Y1A、及び、Yは、置換基を有していてもよい。
 X1A、X1B、Y1A、及び、Y1Bで表される環構造としては、芳香族環、脂肪族環、芳香族複素環、脂肪族複素環等の環構造が挙げられる。また、上記環構造は、単環構造であってもよく、芳香族環、脂肪族環、芳香族複素環、及び、脂肪族複素環等よりなる群から選択される少なくとも1種の環が縮合して形成される多環構造であってもよい。
 得られる膜の異物付着の抑制性、耐熱性、耐光性、及び、現像残渣抑制性の観点から、式(1)におけるX1A、X1B、Y1A、及び、Y1Bのいずれか1つは、芳香環構造又は複素環構造であることが好ましく、芳香環構造又は芳香族複素環構造であることがより好ましく、X1A、X1B、Y1A、及び、Y1Bのいずれか1つは、芳香環であることが更に好ましい。
 式(1)におけるX1A、X1B、Y1A、及び、Y1Bの合計炭素数はそれぞれ独立に、得られる膜の異物付着の抑制性、耐熱性、耐光性、及び、分光特性の観点から、8~60であることが好ましく、10~40であることがより好ましく、10~30であることが特に好ましい。
 式(1)中のX1A、X1B、Y1A、及び、Y1Bにおける置換基としては、水素原子よりも分子量が大きいものであればよく、アルキル基、ハロゲン原子、カルボキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第三級アミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、ニトロ基、シアノ基、スルホ基、第一級~第三級アミド基、及び、第一級~第三級アミノカルボニル基が挙げられる。また、上記置換基は、上記置換基又はオキソ基(=O)により更に置換されていてもよいし、2つ以上の上記置換基が結合し環を形成していてもよい。
 式(1)におけるX1A及びY1AとX1B及びY1Bとが、同一の構造であってもよく、X1A及びY1AとX1B及びY1Bとがそれぞれ異なる構造であってもよいが、得られる膜の異物付着の抑制性、耐熱性、耐光性、及び、現像残渣抑制性の観点から、式(1)におけるX1A及びY1AとX1B及びY1Bとは、同一の構造であることが好ましい。
 式(1)におけるR1A及びR1Bはそれぞれ独立に、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン原子、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ニトロ基、シアノ基、又は、スルホ基であることが好ましく、アルキル基、ハロゲン原子、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、又は、スルホ基であることがより好ましく、アルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、ニトロ基、又は、スルホ基であることが更に好ましく、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、ジアルキルアミノアルコキシ基、ニトロ基、又は、スルホ基であることが特に好ましい。
 式(1)におけるn1A及びn1Bはそれぞれ独立に、0~2の整数であることが好ましく、0又は1であることがより好ましい。
 また、式(1)におけるn1A及びn1Bは、同じ値であることが好ましい。
 更に、式(1)におけるn1A及びn1Bが同じ値である場合、式(1)におけるR1A及びR1Bの結合位置はそれぞれ、各ジヒドロペリミジン環構造の同じ位置であることが好ましい。
 得られる膜の異物付着の抑制性、耐熱性、及び、耐光性の観点から、X1A、X1B、Y1A、及び、Y1Bで表される環構造としては、それぞれ独立に、芳香族環構造、脂肪族環構造、又は、複素環構造であることが好ましく、芳香族環構造、5員環若しくは6員環の脂肪族環、又は、芳香族複素環構造であることがより好ましく、芳香族環構造、又は、芳香族複素環構造であることがより好ましい。
 上記芳香族環は、単環であっても、芳香族化合物が縮合した2以上の環を有する縮合多環芳香族環であってもよい。
 上記芳香族環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、テトラセン環、フェナントレン環、クリセン環、ピレン環等が挙げられる。
 これらの中でも、得られる膜の異物付着の抑制性、耐熱性、耐光性、及び、現像残渣抑制性の観点から、ベンゼン環、又は、ナフタレン環であることが好ましい。
 芳香族環が置換基を有する場合、置換基としては、アルキル基が好ましく、炭素数2~炭素数30のアルキル基であることがより好ましく、炭素数3~炭素数20のアルキル基であることが更に好ましく、炭素数6~炭素数14のアルキル基であることが特に好ましい。上記アルキル基は、直鎖若しくは分岐状の飽和又は不飽和のアルキル基であってもよい。置換基の数は1~5であることが好ましく、1~3であることがより好ましく、1であることが更に好ましい。上記置換基の位置は、ジヒドロペリミジン環構造の窒素原子と隣接する炭素原子と結合している芳香族環に対して、パラ位であることが好ましい。
 上記芳香族複素環は、単環であっても、芳香族複素環が縮合した2以上の環を有する縮合多環芳香族複素環であってもよいが、単環の芳香族複素環であることが好ましく、置換基を有さない単環の芳香族複素環であることがより好ましい。
 芳香族複素環に含まれる複素原子としては、得られる膜の異物付着の抑制性、耐熱性、耐光性、及び、現像残渣抑制性の観点から、窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の複素原子であることが好ましく、窒素原子及び硫黄原子からなるより選ばれる少なくとも1種の複素原子であることがより好ましく、窒素原子又は硫黄原子であることが更に好ましく、硫黄原子であることが特に好ましい。
 芳香族複素環における環員数は、特に制限はないが、5員環~8員環であることが好ましく、5員環又は6員環であることがより好ましい。
 芳香族複素環としては、例えば、チオフェン環、フラン環、ピラン環、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、イソチアゾール環、イソオキサゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、ベンゾチオフェン環、ベンゾフラン環、インドール環、キノリン環、カルバゾール環等が挙げられる。
 これらの中でも、得られる膜の異物付着の抑制性、耐熱性、耐光性、及び、現像残渣抑制性の観点から、チオフェン環、フラン環、ピロール環、又は、ピリジン環であることが好ましく、チオフェン環、フラン環、又は、ピリジン環であることがより好ましい。
 また、得られる膜の異物付着の抑制性、耐熱性、耐光性、及び、分光特性の観点から、式(1)におけるXは、フェニル基、又は、ナフチル基であることが好ましい。
 また、式(1)で表される色素が染料として用いる場合、得られる膜の異物付着の抑制性、耐熱性、耐光性、及び、現像残渣抑制性の観点から、式(1)におけるXは、置換基を有するフェニル基、又は、置換基を有するナフチル基であることが好ましく、置換基を有するフェニル基であることがより好ましく、炭素数3~炭素数20のアルキル基を有するフェニル基であることが更に好ましく、炭素数6~炭素数14のアルキル基を1つ有するフェニル基であることが特に好ましい。
 また、上記式(1)で表される構造である色素は、得られる膜の異物付着の抑制性、耐熱性、耐光性、及び、現像残渣抑制性の観点から、点対称を有する化合物であることが好ましい。
 上記脂肪族環は、単環であっても、脂肪族環が縮合した2以上の環を有する縮合多環脂肪族環であってもよい。脂肪族環は、飽和脂肪族環であってもよく、不飽和脂肪族環であってもよい。
 脂肪族環における環員数は、特に制限はないが、5員環~8員環であることが好ましく、5員環又は6員環であることがより好ましい。
 脂肪族環としては、例えば、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロペンテン環、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環等が挙げられる。
<式(2)で表される色素>
 上記式(2)中、X2A及びX2Bは、それぞれ独立に、環構造を表し、Z及びZは、それぞれ独立に、アルキレン基、アルキニレン基、又は、環構造を表し、R2A及びR2Bはそれぞれ独立に、置換基を表し、n2A及びn2Bはそれぞれ独立に、0~5の整数を表す。上記X2A、X2B、Z、及び、Zは、置換基を有していてもよい。
 式(2)におけるX2A及びX2Bは、式(2)中の脂肪族環と互いに結合して環を形成していることを表している。また、式(2)におけるZ及びZが環構造を表す場合、Z及びZは、式(2)中の脂肪族環と互いに結合して環を形成していることを表している。
 式(2)におけるX2A、X2B、Z、及び、Zの合計炭素数は、それぞれ独立に、得られる膜の異物付着の抑制性、耐熱性、耐光性、及び、現像残渣抑制性の観点から、8~60であることが好ましく、10~40であることがより好ましく、10~30であることが特に好ましい。
 アルキレン基及びアルキニレン基の炭素数としては、炭素数1~5であることが好ましく、炭素数1~3であることがより好ましく、炭素数1又は2であることが更に好ましい。
 式(2)中のZ及びZにおける環構造としては、上記式(1)中のX1A、X1B、Y1A、及び、Y1Bにおける環構造と同義であり、好ましい態様も同様である。
 式(2)におけるR2A及びR2B並びにn2A及びn2B、上記式(1)中のR1A及びR1B並びにn1A及びn1Bと同義であり、好ましい態様も同様である。
 式(2)中のZ及びZにおける置換基としては、それぞれ独立に、水素原子よりも分子量が大きいものであればよく、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、カルボキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第三級アミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ニトロ基、シアノ基、スルホ基、第一級~第三級アミド基、及び、第一級~第三級アミノカルボニル基が挙げられる。また、上記置換基は、上記置換基又はオキソ基(=O)により更に置換されていてもよいし、2つ以上の上記置換基が結合し環を形成していてもよい。
 上記式(2)において、得られる膜の異物付着の抑制性、耐熱性、耐光性、及び、現像残渣抑制性の観点から、Z及びZは、それぞれ独立に、アルキレン基、又は、芳香族複素環であることが好ましく、炭素数1~5のアルキレン基、又は、硫黄原子若しくは酸素原子を有する芳香族複素環であることがより好ましく、炭素数1~3のアルキレン基、オキソ基(=O)を有する炭素数1~3のアルキレン基、又は、硫黄原子若しくは酸素原子を有する5員環の芳香族複素環であることが更に好ましい。
 式(2)中、X2A及びX2Bにおける環構造は、上記式(1)中のX1A、X1B、Y1A、及び、Y1Bで表される環構造を同義であり、好ましい態様も同様である。
 式(2)におけるX2A及びZとX2B及びZとが、同一の構造であってもよく、X2A及びZとX2B及びZとがそれぞれ異なる構造であってもよいが、得られる膜の異物付着の抑制性、耐熱性、耐光性、及び、現像残渣抑制性の観点から、式(2)におけるX2A及びZとX2B及びZとは、同一の構造であることが好ましい。
 また、上記式(2)で表される構造である色素は、得られる膜の異物付着の抑制性、耐熱性、耐光性、及び、現像残渣抑制性の観点から、点対称を有する化合物であることが好ましい。
 式(2)は、X2A及びX2Bがそれぞれ独立に、芳香族複素環構造、又は、芳香族環構造を有することが好ましい。得られる膜の異物付着の抑制性、耐熱性、耐光性、及び、現像残渣抑制性の観点から、式(2)は、下記式(3)又は下記式(4)で表される色素であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 式(3)中、Z3C及びZ3Dは、それぞれ独立に、アルキレン基、アルキニレン基、又は、環構造を表す。なお、式(3)におけるZ3C及びZ3Dは、上記式(2)中のZ又はZで表される、アルキレン基、アルキニレン基、又は、環構造と同義であり、好ましい態様も同様である。
 式(3)におけるZ3C及びZ3Dは、同一の構造であってもよく、それぞれ異なる構造であってもよいが、得られる膜の異物付着の抑制性、耐熱性、耐光性、及び、現像残渣抑制性の観点から、式(3)におけるZ3C及びZ3Dは、同一の構造であることが好ましい。
 また、上記式(3)で表される構造である色素は、得られる膜の異物付着の抑制性、耐熱性、耐光性、及び、現像残渣抑制性の観点から、点対称を有する化合物であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 式(4)中、Z4C及びZ4Dは、それぞれ独立に、アルキレン基、アルキニレン基、又は、環構造を表し、X4C及びX4Dはそれぞれ独立に複素原子を表す。なお、式(4)におけるZ4C及びZ4Dは、上記式(3)中のZ3C及びZ3Dで表される、アルキレン基、アルキニレン基、又は、環構造と同義であり、好ましい態様も同様である。
 X4C及びX4Dにおける複素原子としては、得られる膜の異物付着の抑制性、耐熱性、耐光性、及び、現像残渣抑制性の観点から、酸素原子、窒素原子、又は、硫黄原子であることが好ましく、酸素原子、又は、硫黄原子であることが好ましい。
 式(4)におけるZ4C及びZ4Dは、得られる膜の異物付着の抑制性、耐熱性、耐光性、及び、現像残渣抑制性の観点から、炭素数1~5のアルキレン基であることがより好ましく、炭素数1~3のアルキレン基、オキソ基(=O)を有する炭素数1~3のアルキレン基であることがより好ましい。
 式(4)におけるZ4C及びX4Cを含む基とZ4D及びX4Cを含む基とは、同一の構造であってもよく、それぞれ異なる構造であってもよいが、得られる膜の異物付着の抑制性、耐熱性、耐光性、及び、現像残渣抑制性の観点から、式(4)におけるZ4C及びX4Cを含む基とZ4D及びX4Cを含む基とは、同一の構造であることが好ましい。
 また、上記式(4)で表される構造である色素は、得られる膜の異物付着の抑制性、耐熱性、耐光性、及び、現像残渣抑制性の観点から、点対称を有する化合物であることが好ましい。
〔極大吸収波長〕
 特定色素の極大吸収波長は、650nm以上であることが好ましく、700nm~1,100nmの波長範囲内にあることがより好ましく、760nm~950nmの波長範囲内にあることが更に好ましい。
 上記極大吸収波長は、Cary5000 UV-Vis-NIR分光光度計(アジレント・テクノロジー(株)製)を用いて測定される。
〔半値幅〕
 上記極大吸収波長の測定において得られた波長-吸光度曲線において、極大吸収波長における波長ピークの半値幅は、2,000cm-1以下が好ましく、1,400cm-1以下がより好ましく、1,350cm-1以下が更に好ましい。
 上記半値幅の下限は、特に限定されないが、500cm-1以上であることが好ましい。
 上記半値幅は、Cary5000 UV-Vis-NIR分光光度計(アジレント・テクノロジー(株)製)を用いてにより測定される。
〔モル吸光係数〕
 特定色素の極大吸収波長におけるモル吸光係数は、1.0×10L/(mol・cm)以上であることが好ましく、1.5×10L/(mol・cm)以上であることがより好ましい。
 上記モル吸光係数は、Cary5000 UV-Vis-NIR分光光度計(アジレント・テクノロジー(株)製)を用いてにより測定される。
〔分散状態〕
 本開示に係る組成物において、特定色素は、粒子状で分散された状態であることが好ましい。粒子状で分散された状態であると、得られる膜の耐久性が向上するメリットがある。
 また、上記粒子状で分散された状態である場合、特定色素は、顔料であることが好ましい。
 本開示に係る組成物は、数平均粒径1nm~500nmの特定色素の粒子を含むことが好ましく、数平均粒径10nm~200nmの特定色素の粒子を含むことがより好ましく、数平均粒径10nm~100nmの特定色素の粒子を含むことが特に好ましい。粒子の数平均粒径が1nm以上であると、粒子の表面エネルギーが小さくなるため凝集しにくくなり、粒子分散が容易になると共に、分散状態を安定に保つのが容易になるため好ましい。また、粒子の数平均粒径が200nm以下であれば、粒子散乱の影響が少なくなり、吸収スペクトルがシャープになるため好ましい。
 本開示において、特段の記載がない限り、粒子の平均粒径は、日機装(株)製のMICROTRAC UPA 150を用いて、算術平均(数平均)で測定するものとする。
〔含有量〕
 本開示に係る組成物における、特定色素の含有量は、組成物の全固形分に対し、10質量%~70質量%が好ましく15質量%~60質量%がより好ましく20質量%~50質量%が更に好ましい。本開示に係る組成物における、特定色素は2種以上を組み合わせて使用しても良い。特定色素を2種以上含む場合、合計量が上記範囲であることが好ましい。
 以下、特定色素の具体例であるSQ-A-1~SQ-A-20、SQ-B-1、及び、SQ-B-2を示すが、これに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
 特定色素の製造方法としては、特に制限はなく、公知の製造方法を参照し適宜製造することができる。
 例えば、ジアミノナフタレン化合物とケトン化合物とを反応させ、ジヒドロペリミジン化合物とし、2モル当量のジヒドロペリミジン化合物と1モル当量のスクアリン酸(四角酸)とを反応させる方法が好適に挙げられる。
 また、本開示に係る特定色素(スクアリリウム色素)の結晶形を調整する方法について説明する。結晶形の調整方法としては、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等の有機溶剤に特定色素を接触させる方法が挙げられる。その際、特定色素の粒子径の調整のために加熱又は冷却を行ってもよいし、濾別する前に別の溶媒を加えてもよい。
<他の成分>
 本開示に係る組成物は、膜が得られる化合物であることが好ましく、最終的に硬化することにより硬化膜が得られる硬化性組成物であることが好ましい。
 また、本開示に係る組成物は、例えば、パターン露光により硬化膜のパターンを形成することができる組成物であることが好ましい。すなわち、本開示に係る組成物はネガ型の組成物であることが好ましい。
 本開示に係る組成物がネガ型の組成物である場合、例えば、重合開始剤と、重合性化合物と、アルカリ可溶性樹脂と、を含む態様が好ましい。
 また、本開示に係る組成物がポジ型の組成物である場合、例えば、光酸発生剤と、酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位を有する重合体、及び、架橋性基を有する構成単位を有する重合体、を含む態様が挙げられる。
 以下、本開示に係る組成物がネガ型の組成物である態様において含まれる各成分物について記載する。
 本開示に係る組成物がポジ型の組成物である態様において含まれる各成分については、国際公開第2014/003111号に記載の各成分が挙げられ、好ましい態様も同様である。
<硬化性化合物>
 本開示に係る組成物は、バインダーポリマー又は硬化性化合物よりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物を含有する。耐光性及び耐熱性に優れる膜を得る観点から、硬化性化合物を含有することが好ましい。
 本開示に用いることができる硬化性化合物としては、重合性化合物であることが好ましく、エチレン性不飽和化合物であることがより好ましく、末端エチレン性不飽和基を有する化合物であることが特に好ましい。
 このような化合物群としては、公知のものを特に限定なく用いることができる。
 これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物並びにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマー及びその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物、及び単官能若しくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
 脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3-ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4-シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー、イソシアヌール酸EO変性トリアクリレート等がある。
 メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3-ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p-(3-メタクリルオキシ-2-ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス-〔p-(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。
 また、イソシアネート基とヒドロキシ基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48-41708号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式(I)で示されるヒドロキシ基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
 CH=C(R)COOCHCH(R’)OH  (I)
(ただし、R及びR’は、H又はCHを示す。)
 また、特開昭51-37193号、特公平2-32293号、特公平2-16765号に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58-49860号、特公昭56-17654号、特公昭62-39417号、特公昭62-39418号記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭63-277653号、特開昭63-260909号、特開平1-105238号に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた組成物を得ることができる。
 その他、重合性化合物としては、例えば、特開2007-277514号公報の段落0178~0190に記載の化合物が挙げられる。
 また、重合性化合物としては、特開2015-187211号公報に記載のエポキシ化合物を用いてもよい
 硬化性化合物の組成物中における含有量としては、組成物の全固形分に対して、1質量%~90質量%であることが好ましく、5質量%~80質量%であることがより好ましく、10質量%~70質量%であることが更に好ましい。重合性化合物の含有量が上記範囲内であると、組成物の硬化性に優れる。
 特に、本開示に係る組成物をカラーフィルタの着色パターン形成に使用する場合には上記含有量の範囲において、5質量%~50質量%であることが好ましく、7質量%~40質量%であることがより好ましく、10質量%~35質量%であることが更に好ましい。
<重合開始剤>
 本開示に係る組成物は、重合開始剤を更に含むことが好ましく、光重合開始剤を更に含むことがより好ましい。
 光重合開始剤としては、重合性化合物の重合を開始する能力を有する限り、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができる。例えば、紫外線領域から可視領域の光線に対して感光性を有する化合物が好ましい。また、光励起された増感剤と何らかの作用を生じ、活性ラジカルを生成する化合物であってもよい。光重合開始剤は光ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
 光重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体(例えば、トリアジン骨格を有する化合物、オキサジアゾール骨格を有する化合物など)、アシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、α-ヒドロキシケトン化合物、α-アミノケトン化合物などが挙げられる。光重合開始剤は、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α-ヒドロキシケトン化合物、α-アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、ホスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、トリアリールイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物、シクロペンタジエン-ベンゼン-鉄錯体、ハロメチルオキサジアゾール化合物及び3-アリール置換クマリン化合物が好ましく、オキシム化合物、α-ヒドロキシケトン化合物、α-アミノケトン化合物、及び、アシルホスフィン化合物から選ばれる化合物がより好ましく、オキシム化合物が更に好ましい。光重合開始剤については、特開2014-130173号公報の段落0065~0111、特開2013-29760号公報の段落0274~0306の記載を参酌でき、これらの内容は本開示に組み込まれる。
 α-ヒドロキシケトン化合物の市販品としては、IRGACURE-184、DAROCUR-1173、IRGACURE-500、IRGACURE-2959、IRGACURE-127(以上、BASF社製)などが挙げられる。α-アミノケトン化合物の市販品としては、IRGACURE-907、IRGACURE-369、IRGACURE-379、及び、IRGACURE-379EG(以上、BASF社製)などが挙げられる。アシルホスフィン化合物の市販品としては、IRGACURE-819、DAROCUR-TPO(以上、BASF社製)などが挙げられる。
 オキシム化合物としては、例えば、特開2001-233842号公報に記載の化合物、特開2000-80068号公報に記載の化合物、特開2006-342166号公報に記載の化合物、J.C.S.Perkin II(1979年、pp.1653-1660)に記載の化合物、J.C.S.Perkin II(1979年、pp.156-162)に記載の化合物、Journal of Photopolymer Science and Technology(1995年、pp.202-232)に記載の化合物、特開2000-66385号公報に記載の化合物、特開2000-80068号公報に記載の化合物、特表2004-534797号公報に記載の化合物、特開2006-342166号公報に記載の化合物、特開2017-19766号公報に記載の化合物、特許第6065596号公報に記載の化合物、国際公開第2015/152153号に記載の化合物、国際公開第2017/051680号に記載の化合物などがあげられる。オキシム化合物の具体例としては、例えば、3-ベンゾイルオキシイミノブタン-2-オン、3-アセトキシイミノブタン-2-オン、3-プロピオニルオキシイミノブタン-2-オン、2-アセトキシイミノペンタン-3-オン、2-アセトキシイミノ-1-フェニルプロパン-1-オン、2-ベンゾイルオキシイミノ-1-フェニルプロパン-1-オン、3-(4-トルエンスルホニルオキシ)イミノブタン-2-オン、及び2-エトキシカルボニルオキシイミノ-1-フェニルプロパン-1-オンなどが挙げられる。オキシム化合物の市販品としては、IRGACURE-OXE01、IRGACURE-OXE02、IRGACURE-OXE03、IRGACURE-OXE04(以上、BASF社製)も好適に用いられる。また、TRONLY TR-PBG-304、TRONLY TR-PBG-309、TRONLY TR-PBG-305(常州強力電子新材料有限公司(CHANGZHOU TRONLY NEW ELECTRONIC MATERIALS CO.,LTD)製)、アデカアークルズNCI-930、アデカオプトマーN-1919(特開2012-14052号公報の光重合開始剤2)(以上、(株)ADEKA製)が挙げられる。
 また上記以外のオキシム化合物として、カルバゾール環のN位にオキシムが連結した特表2009-519904号公報に記載の化合物、ベンゾフェノン部位にヘテロ置換基が導入された米国特許第7626957号明細書に記載の化合物、色素部位にニトロ基が導入された特開2010-15025号公報及び米国特許公開第2009-292039号明細書に記載の化合物、国際公開第2009/131189号明細書に記載のケトオキシム化合物、トリアジン骨格とオキシム骨格を同一分子内に含有する米国特許第7556910号明細書に記載の化合物、405nmに吸収極大を有し、g線光源に対して良好な感度を有する特開2009-221114号公報に記載の化合物などを用いてもよい。
 本開示は、光重合開始剤として、フルオレン環を有するオキシム化合物を用いることもできる。フルオレン環を有するオキシム化合物の具体例としては、特開2014-137466号公報に記載の化合物が挙げられる。この内容は本開示に組み込まれる。
 本開示は、光重合開始剤として、ベンゾフラン骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。具体例としては、国際公開第2015/036910号に記載の化合物OE-01~OE-75が挙げられる。
 本開示は、光重合開始剤として、カルバゾール環の少なくとも1つのベンゼン環がナフタレン環となった骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。そのようなオキシム化合物の具体例としては、国際公開第2013/083505号に記載の化合物が挙げられる。
 本開示は、光重合開始剤として、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開2010-262028号公報に記載の化合物、特表2014-500852号公報に記載の化合物24、36~40、特開2013-164471号公報に記載の化合物(C-3)などが挙げられる。この内容は本開示に組み込まれる。
 本開示は、光重合開始剤として、ニトロ基を有するオキシム化合物を用いることができる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開2013-114249号公報の段落0031~0047、特開2014-137466号公報の段落0008~0012、0070~0079に記載の化合物、特許第4223071号公報の段落0007~0025に記載の化合物、アデカアークルズNCI-831((株)ADEKA製)などが挙げられる。
 本開示において好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
 オキシム化合物は、350nm~500nmの波長領域に極大吸収波長を有する化合物が好ましく、360nm~480nmの波長領域に極大吸収波長を有する化合物がより好ましい。また、オキシム化合物は、波長365nm及び405nmの吸光度が大きい化合物が好ましい。
 オキシム化合物の波長365nm又は405nmにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、1,000~300,000であることが好ましく、2,000~300,000であることがより好ましく、5,000~200,000であることが特に好ましい。化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いて測定することができる。例えば、紫外可視分光光度計(Varian社製Cary-5 spectrophotometer)にて、酢酸エチル溶媒を用い、0.01g/Lの濃度で測定することが好ましい。
 本開示は、光重合開始剤として、2官能あるいは3官能以上の光重合開始剤を用いてもよい。そのような光重合開始剤の具体例としては、特表2010-527339号公報、特表2011-524436号公報、国際公開第2015/004565号、特表2016-532675号公報の段落0417~0412、国際公開第2017/033680号の段落0039~0055に記載されているオキシム化合物の2量体や、特表2013-522445号公報に記載されている化合物(E)及び化合物(G)、国際公開第2016/034963号に記載されているCmpd1~7などが挙げられる。
 重合開始剤は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用して用いてもよい。
 重合開始剤の組成物中における含有量としては、上記組成物の全固形分に対して、0.1~50質量%であることが好ましく、より好ましくは0.5~30質量%、特に好ましくは1~20質量%である。この範囲で、良好な感度とパターン形成性が得られる。
<バインダーポリマー>
 本開示に係る組成物は、バインダーポリマー又は硬化性化合物よりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物を含有し、好ましくは、バインダーポリマーを含有する。バインダーポリマーとしては、ネガ型の組成物に用いられるアルカリ可溶性樹脂が好ましく挙げられる。
 上記アルカリ可溶性樹脂は、1種であってもよいし、2種以上を併用してもよい。
<<アルカリ可溶性樹脂>>
 本開示に係る組成物は、アルカリ可溶性樹脂の少なくとも1種を含有することが好ましい。
 アルカリ可溶性樹脂としては、高分子重合体であって、分子(好ましくは、アクリル系共重合体、スチレン系共重合体を主鎖とする分子)中に少なくとも1つのアルカリ可溶性を促進する基(例えば、カルボキシ基、リン酸基、スルホン酸基など)を有するアルカリ可溶性樹脂の中から適宜選択することができる。このうち、更に好ましくは、有機溶剤に可溶で弱アルカリ水溶液により現像可能なものである。
 アルカリ可溶性樹脂の製造には、例えば公知のラジカル重合法による方法を適用することができる。ラジカル重合法でアルカリ可溶性樹脂を製造する際の温度、圧力、ラジカル開始剤の種類及びその量、溶媒の種類等々の重合条件は、当業者において容易に設定可能であり、実験的に条件を定めるようにすることもできる。
 上記の高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸を有するポリマーが好ましい。例えば、特開昭59-44615号、特公昭54-34327号、特公昭58-12577号、特公昭54-25957号、特開昭59-53836号、特開昭59-71048号の各公報に記載されているような、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等、並びに側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体、ヒドロキシ基を有するポリマーに酸無水物を付加させたもの等が挙げられ、更に側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する高分子重合体も好ましいものとして挙げられる。
 アルカリ可溶性樹脂として具体的には、特に(メタ)アクリル酸と、これと共重合可能な他の単量体と、の共重合体が好適である。
 上記(メタ)アクリル酸と共重合可能な他の単量体としては、(メタ)アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類、ビニルエステル類、マレイン酸ジエステル類、フマル酸ジエステル類、イタコン酸ジエステル類、(メタ)アクリルアミド類、スチレン類、ビニルエーテル類、ビニルケトン類、オレフィン類、マレイミド類、(メタ)アクリロニトリルなどが挙げられる。
 (メタ)アクリル酸エステル類の例としては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n-プロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸n-ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸t-ブチル、(メタ)アクリル酸アミル、(メタ)アクリル酸n-ヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸t-ブチルシクロヘキシル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸t-オクチル、(メタ)アクリル酸ドデシル、(メタ)アクリル酸オクタデシル、(メタ)アクリル酸アセトキシエチル、(メタ)アクリル酸フェニル、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸-2-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸-3-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸-4-ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸2-メトキシエチル、(メタ)アクリル酸2-エトキシエチル、(メタ)アクリル酸2-(2-メトキシエトキシ)エチル、(メタ)アクリル酸3-フェノキシ-2-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸-2-クロロエチル、(メタ)アクリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸-3,4-エポキシシクロヘキシルメチル、(メタ)アクリル酸ビニル、(メタ)アクリル酸-2-フェニルビニル、(メタ)アクリル酸-1-プロペニル、(メタ)アクリル酸アリル、(メタ)アクリル酸-2-アリロキシエチル、(メタ)アクリル酸プロパルギル、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸ジエチレングリコールモノメチルエーテル、(メタ)アクリル酸ジエチレングリコールモノエチルエーテル、(メタ)アクリル酸トリエチレングリコールモノメチルエーテル、(メタ)アクリル酸トリエチレングリコールモノエチルエーテル、(メタ)アクリル酸ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、(メタ)アクリル酸ポリエチレングリコールモノエチルエーテル、(メタ)アクリル酸β-フェノキシエトキシエチル、(メタ)アクリル酸ノニルフェノキシポリエチレングリコール、(メタ)アクリル酸ジシクロペンテニル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンテニルオキシエチル、(メタ)アクリル酸トリフルオロエチル、(メタ)アクリル酸オクタフルオロペンチル、(メタ)アクリル酸パーフルオロオクチルエチル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンタニル、(メタ)アクリル酸トリブロモフェニル、(メタ)アクリル酸トリブロモフェニルオキシエチル、(メタ)アクリル酸-γ-ブチロラクトンなどが挙げられる。
 本開示で使用しうるアルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量としては、好ましくは5,000以上であり、更に好ましくは1万~30万の範囲であり、数平均分子量については好ましくは1,000以上であり、更に好ましくは2,000~25万の範囲である。多分散度(重量平均分子量/数平均分子量)は1.1~10の範囲が好ましく、更に好ましくは1.2~5の範囲である。
 これらのアルカリ可溶性樹脂は、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等いずれでもよい。
 アルカリ可溶性樹脂は、重合性基を有するアルカリ可溶性樹脂であることも好ましい。 重合性基としては、(メタ)アリル基、(メタ)アクリロイル基等が挙げられる。重合性基を有するアルカリ可溶性樹脂は、側鎖に重合性基を有する繰り返し単位と、側鎖に酸基を有する繰り返し単位とを含む樹脂であることが好ましい。
 アルカリ可溶性樹脂は、下記式(ED1)で示される化合物及び/又は下記式(ED2)で表される化合物(以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」と称することもある。)を含むモノマー成分に由来する繰り返し単位を含むことも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
式(ED1)中、RED1又はRED2はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1~25の炭化水素基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
 式(ED2)中、RED3は、水素原子又は炭素数1~30の有機基を表す。式(ED2)の詳細については、特開2010-168539号公報の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
 エーテルダイマーの具体例としては、例えば、特開2013-029760号公報の段落0317の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
 その他、アルカリ可溶性樹脂としては、例えば、特開2007-277514号公報の段落0162~0175に記載の化合物が挙げられる。
 アルカリ可溶性樹脂の組成物中における含有量としては、組成物の全固形分に対して、1質量%~20質量%が好ましく、より好ましくは2質量%~15質量%であり、特に好ましくは3質量%~12質量%である。
<有彩色着色剤>
 本開示に係る組成物は、有彩色着色剤を含有することができる。本開示において、有彩色着色剤とは、白色着色剤及び黒色着色剤以外の着色剤を意味する。有彩色着色剤は、波長400nm以上650nm未満の範囲に吸収を有する着色剤が好ましい。
 有彩色着色剤としては、赤色着色剤、緑色着色剤、青色着色剤、黄色着色剤、紫色着色剤及びオレンジ色着色剤が挙げられる。有彩色着色剤は、顔料であってもよく、染料であってもよい。顔料と染料とを併用してもよい。また、顔料は、無機顔料、有機顔料のいずれでもよい。また、顔料には、無機顔料又は有機-無機顔料の一部を有機発色団で置換した材料を用いることもできる。無機顔料や有機-無機顔料を有機発色団で置換することで、色相設計をしやすくできる。
 顔料の平均一次粒子径は、1nm~200nmが好ましい。下限は5nm以上がより好ましく、10nm以上が更に好ましい。上限は、180nm以下がより好ましく、150nm以下が更に好ましく、100nm以下が特に好ましい。顔料の平均一次粒子径が上記範囲であれば、組成物中における顔料の分散安定性が良好である。なお、本開示において、顔料の一次粒子径は、顔料の一次粒子を透過型電子顕微鏡により観察し、得られた画像写真から求めることができる。具体的には、顔料の一次粒子の投影面積を求め、それに対応する円相当径を顔料の一次粒子径として算出する。また、本開示における平均一次粒子径は、400個の顔料の一次粒子についての一次粒子径の算術平均値とする。また、顔料の一次粒子とは、凝集のない独立した粒子をいう。
 有彩色着色剤は、顔料を含むものであることが好ましい。有彩色着色剤中における顔料の含有量は、50質量%以上であることが好ましく、70質量%以上であることがより好ましく、80質量%以上であることが更に好ましく、90質量%以上であることが特に好ましい。顔料としては以下に示すものが挙げられる。
 カラーインデックス(C.I.)Pigment Yellow 1,2,3,4,5,6,10,11,12,13,14,15,16,17,18,20,24,31,32,34,35,35:1,36,36:1,37,37:1,40,42,43,53,55,60,61,62,63,65,73,74,77,81,83,86,93,94,95,97,98,100,101,104,106,108,109,110,113,114,115,116,117,118,119,120,123,125,126,127,128,129,137,138,139,147,148,150,151,152,153,154,155,156,161,162,164,166,167,168,169,170,171,172,173,174,175,176,177,179,180,181,182,185,187,188,193,194,199,213,214,215,228,231,232(メチン系),233(キノリン系)等(以上、黄色顔料)、
 C.I.Pigment Orange 2,5,13,16,17:1,31,34,36,38,43,46,48,49,51,52,55,59,60,61,62,64,71,73等(以上、オレンジ色顔料)、
 C.I.Pigment Red 1,2,3,4,5,6,7,9,10,14,17,22,23,31,38,41,48:1,48:2,48:3,48:4,49,49:1,49:2,52:1,52:2,53:1,57:1,60:1,63:1,66,67,81:1,81:2,81:3,83,88,90,105,112,119,122,123,144,146,149,150,155,166,168,169,170,171,172,175,176,177,178,179,184,185,187,188,190,200,202,206,207,208,209,210,216,220,224,226,242,246,254,255,264,270,272,279,294(キサンテン系、Organo Ultramarine、Bluish Red),295(アゾ系),296(アゾ系)等(以上、赤色顔料)、
 C.I.Pigment Green 7,10,36,37,58,59,62,63等(以上、緑色顔料)、
 C.I.Pigment Violet 1,19,23,27,32,37,42,60(トリアリールメタン系),61(キサンテン系)等(以上、紫色顔料)、
 C.I.Pigment Blue 1,2,15,15:1,15:2,15:3,15:4,15:6,16,22,29,60,64,66,79,80,87(モノアゾ系),88(メチン系)等(以上、青色顔料)。
 また、緑色顔料として、1分子中のハロゲン原子数が平均10個~14個であり、臭素原子数が平均8個~12個であり、塩素原子数が平均2個~5個であるハロゲン化亜鉛フタロシアニン顔料を用いることもできる。具体例としては、国際公開第2015/118720号に記載の化合物が挙げられる。また、緑色顔料として中国特許出願第106909027号明細書に記載の化合物、国際公開第2012/102395号に記載のリン酸エステルを配位子として有するフタロシアニン化合物などを用いることもできる。
 また、青色顔料として、リン原子を有するアルミニウムフタロシアニン化合物を用いることもできる。具体例としては、特開2012-247591号公報の段落0022~0030、特開2011-157478号公報の段落0047に記載の化合物が挙げられる。
 また、黄色顔料として、特開2008-074985号公報に記載されている顔料、特開2008-074987号公報に記載されている化合物、特開2013-061622号公報に記載されているキノフタロン化合物、特開2013-181015号公報に記載されているキノフタロン化合物、特開2014-085565号公報に記載されている着色剤、特開2016-145282号公報に記載されている顔料、特開2017-201003号公報に記載されている顔料、特開2017-197719号公報に記載されている顔料、特開2017-171912号公報の段落0011~0062、0137~0276に記載されている顔料、特開2017-171913号公報の段落0010~0062、0138~0295に記載されている顔料、特開2017-171914号公報の段落0011~0062、0139~0190に記載されている顔料、特開2017-171915号公報の段落0010~0065、0142~0222に記載されている顔料、特開2017-197640号公報に記載されているキノフタロン化合物、特開2018-040835号公報に記載されているキノフタロン系顔料、特開2018-203798号公報に記載されている顔料、特開2018-062578号公報に記載されている顔料、特開2018-155881号公報に記載されているキノフタロン系黄色顔料、特開2018-062644号公報に記載されている化合物、特許6432077号公報に記載されているキノフタロン化合物、特許6443711号公報に記載されている顔料、を用いることもできる。
 また、黄色顔料として、特開2018-062644号公報に記載の化合物を用いることもできる。この化合物は顔料誘導体としても使用可能である。
 赤色顔料として、特開2017-201384号公報に記載の構造中に少なくとも1つ臭素原子が置換したジケトピロロピロール化合物、特許第6248838号の段落0016~0022に記載のジケトピロロピロール化合物、国際公開第2012/102399号に記載のジケトピロロピロール化合物、国際公開第2012/117965号に記載のジケトピロロピロール化合物、特開2012-229344号公報に記載のナフトールアゾ化合物などを用いることもできる。また、赤色顔料として、芳香族環に対して、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子が結合した基が導入された芳香族環基がジケトピロロピロール骨格に結合した構造を有する化合物を用いることもできる。
 本開示において、着色剤には染料を用いることもできる。染料としては特に制限はなく、公知の染料が使用できる。例えば、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、トリアリールメタン系、アントラキノン系、アントラピリドン系、ベンジリデン系、オキソノール系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系、キサンテン系、フタロシアニン系、ベンゾピラン系、インジゴ系、ピロメテン系等の染料が挙げられる。また、特開2012-158649号公報に記載のチアゾール化合物、特開2011-184493号公報に記載のアゾ化合物、特開2011-145540号公報に記載のアゾ化合物も好ましく用いることができる。また、黄色染料として、特開2013-054339号公報の段落0011~0034に記載のキノフタロン化合物、特開2014-026228号公報の段落0013~0058に記載のキノフタロン化合物などを用いることもできる。
 本開示に係る組成物が、有彩色着色剤を含有する場合、有彩色着色剤の含有量は、組成物の全固形分に対し、1質量%~50質量%が好ましい。本開示に係る組成物が、有彩色着色剤を2種以上含む場合、それらの合計量が上記範囲内であることが好ましい。
<近赤外線を透過させて可視光を遮光する着色剤> 
 本開示に係る組成物は、近赤外線(近赤外領域の波長の光)を透過させて可視光(可視領域の波長の光)を遮光する着色剤(以下、可視光を遮光する着色剤ともいう)を含有することもできる。可視光を遮光する着色剤を含む組成物は、近赤外線透過フィルタ形成用の組成物として好ましく用いられる。
 本開示において、可視光を遮光する着色剤は、紫色から赤色の波長領域の光を吸収する着色剤であることが好ましい。また、本開示において、可視光を遮光する着色剤は、波長450nm~650nmの波長領域の光を遮光する着色剤であることが好ましい。また、可視光を遮光する着色剤は、波長900nm~1300nmの光を透過する着色剤であることが好ましい。本開示において、可視光を遮光する着色剤は、以下の(A)及び(B)の少なくとも一方の要件を満たすことが好ましい。
(A):2種類以上の有彩色着色剤を含み、2種以上の有彩色着色剤の組み合わせで黒色を形成している。
(B):有機系黒色着色剤を含む。
 有彩色着色剤としては、上述したものが挙げられる。有機系黒色着色剤としては、例えば、ビスベンゾフラノン化合物、アゾメチン化合物、ペリレン化合物、アゾ化合物などが挙げられ、ビスベンゾフラノン化合物、ペリレン化合物が好ましい。ビスベンゾフラノン化合物としては、特表2010-534726号公報、特表2012-515233号公報、特表2012-515234号公報などに記載の化合物が挙げられ、例えば、BASF社製の「Irgaphor Black」として入手可能である。ペリレン化合物としては、特開2017-226821号公報の段落0016~0020に記載の化合物、C.I.Pigment Black 31、32などが挙げられる。アゾメチン化合物としては、特開平01-170601号公報、特開平02-034664号公報などに記載の化合物が挙げられ、例えば、大日精化工業(株)製の「クロモファインブラックA1103」として入手できる。
 2種以上の有彩色着色剤の組み合わせで黒色を形成する場合の、有彩色着色剤の組み合わせとしては、例えば以下が挙げられる。
(1)黄色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤及び赤色着色剤を含有する態様。
(2)黄色着色剤、青色着色剤及び赤色着色剤を含有する態様。
(3)黄色着色剤、紫色着色剤及び赤色着色剤を含有する態様。
(4)黄色着色剤及び紫色着色剤を含有する態様。
(5)緑色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤及び赤色着色剤を含有する態様。
(6)紫色着色剤及びオレンジ色着色剤を含有する態様。
(7)緑色着色剤、紫色着色剤及び赤色着色剤を含有する態様。
(8)緑色着色剤及び赤色着色剤を含有する態様。
 各着色剤の比率(質量比)としては例えば以下の比率であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
 上記No.1において、黄色着色剤は0.1~0.3がより好ましく、青色着色剤は0.1~0.5がより好ましく、紫色着色剤は0.01~0.2であることがより好ましく、赤色着色剤は0.1~0.5であることがより好ましい。上記No.2において、黄色着色剤は0.1~0.3がより好ましく、青色着色剤は0.1~0.5がより好ましく、赤色着色剤は0.1~0.5であることがより好ましい。
 組成物は、可視着色剤を1種のみ含んでいてもよく、2種以上含んでいてもよい。
 可視着色剤の含有量は、組成物の全質量に対し、0.1質量%~70質量%であることが好ましく、0.5質量%~60質量%であることがより好ましく、1質量%~50質量%であることが更に好ましい。
<顔料誘導体>
 組成物は、顔料誘導体を含有することができる。顔料誘導体としては、色素骨格に、酸基、塩基性基及び水素結合性基よりなる群から選ばれる少なくとも1種の基が結合した化合物が挙げられる。酸基としては、スルホ基、カルボキシル基、リン酸基、ボロン酸基、スルホンイミド基、スルホンアミド基及びこれらの塩、並びにこれらの塩の脱塩構造が挙げられる。塩を構成する原子又は原子団としては、アルカリ金属イオン(Li、Na、Kなど)、アルカリ土類金属イオン(Ca2+、Mg2+など)、アンモニウムイオン、イミダゾリウムイオン、ピリジニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。また、上記塩の脱塩構造としては上記の塩から塩を形成する原子又は原子団が脱離した基が挙げられる。例えば、カルボキシル基の塩の脱塩構造は、カルボキシラート基(-COO)である。塩基性基としては、アミノ基、ピリジニル基及びこれらの塩、並びにこれらの塩の脱塩構造が挙げられる。塩を構成する原子又は原子団としては、水酸化物イオン、ハロゲンイオン、カルボン酸イオン、スルホン酸イオン、フェノキシドイオンなどが挙げられる。また、上記塩の脱塩構造としては上記の塩から塩を形成する原子又は原子団が脱離した基が挙げられる。水素結合性基とは、水素原子を介して相互作用する基のことである。水素結合性基の具体例としては、アミド基、ヒドロキシ基、-NHCONHR、-NHCOOR、-OCONHRなどが挙げられる。Rはアルキル基及びアリール基であることが好ましい。
 顔料誘導体としては、式(B1)で表される化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
 式(B1)中、Pは色素骨格を表し、Lは単結合又は連結基を表し、Xは酸基、塩基性基又は水素結合性基を表し、mは1以上の整数を表し、nは1以上の整数を表し、mが2以上の場合は複数のL及びXは互いに異なっていてもよく、nが2以上の場合は複数のXは互いに異なっていてもよい。
 上記Pが表す色素骨格としては、スクアリリウム色素構造、ピロロピロール色素骨格、ジケトピロロピロール色素骨格、キナクリドン色素骨格、アントラキノン色素骨格、ジアントラキノン色素骨格、ベンゾイソインドール色素骨格、チアジンインジゴ色素骨格、アゾ色素骨格、キノフタロン色素骨格、フタロシアニン色素骨格、ナフタロシアニン色素骨格、ジオキサジン色素骨格、ペリレン色素骨格、ペリノン色素骨格、ベンゾイミダゾロン色素骨格、ベンゾチアゾール色素骨格、ベンゾイミダゾール色素骨格及びベンゾオキサゾール色素骨格から選ばれる少なくとも1種が好ましく、スクアリリウム色素構造、ピロロピロール色素骨格、ジケトピロロピロール色素骨格、キナクリドン色素骨格、及び、ベンゾイミダゾロン色素骨格から選ばれる少なくとも1種が更に好ましく、スクアリリウム色素構造が特に好ましい。
 Lが表す連結基としては、1~100個の炭素原子、0~10個の窒素原子、0~50個の酸素原子、1~200個の水素原子、及び0~20個の硫黄原子から成り立つ基が好ましく、無置換であってもよく、置換基を更に有していてもよい。置換基としては、後述の置換基Tが挙げられる。
-置換基T-
 置換基Tとしては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、-ORt、-CORt、-COORt、-OCORt、-NRtRt、-NHCORt、-CONRtRt、-NHCONRtRt、-NHCOORt、-SRt、-SORt、-SOORt、-NHSORt又はSONRtRtが挙げられる。Rt及びRtは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又はヘテロアリール基を表す。RtとRtが結合して環を形成してもよい。
 Xが表す酸基、塩基性基、及び、水素結合性基としては、上述した基が挙げられる。
 近赤外線吸収色素として顔料タイプの化合物を用いる場合は、顔料誘導体は波長700nm~1,200nmの範囲に極大吸収波長を化合物であることも好ましく、波長700nm~1,100nmの範囲に極大吸収波長を有する化合物であることも好ましく、波長700nm~1,000nmの範囲に極大吸収波長を有する化合物であることも好ましい。上記波長の範囲に極大吸収波長を有する顔料誘導体は、π平面の広がりが近赤外線吸収色素と近づけやすくでき、近赤外線吸収色素の吸着性が向上し、より優れた分散安定性が得られやすい。また、顔料誘導体は、芳香族環を含む化合物であることも好ましく、2以上の芳香族環が縮合した構造を含む化合物であることもより好ましい。また、顔料誘導体はπ共役平面を有する化合物であることも好ましく、近赤外線吸収色素に含まれるπ共役平面と同一の構造のπ共役平面を有する化合物であることもより好ましい。また、顔料誘導体のπ共役平面に含まれるπ電子の数は8個~100個であることが好ましい。上限は、90個以下であることが好ましく、80個以下であることがより好ましい。下限は10個以上であることが好ましく、12個以上であることがより好ましい。また、顔料誘導体は、下記式(SQ-a)で表される部分構造を含むπ共役平面を有する化合物であることも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
 上記式(SQ-a)中、波線は結合手を表す。
 顔料誘導体は、下記式(Syn1)で表される化合物であることも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
 式(Syn1)中、Rsy及びRsyはそれぞれ独立して有機基を表し、Lは単結合又はp1+1価の基を表し、Aはスルホ基、カルボキシル基、リン酸基、ボロン酸基、スルホンイミド基、スルホンアミド基、アミノ基、ピリジニル基、これらの塩又はこれらの脱塩構造から選ばれる基を表し、p1及びq1はそれぞれ独立して1以上の整数を表す。p1が2以上の場合、複数のAは同一であってもよく、異なっていてもよい。q1が2以上の場合、複数のL及びAは同一であってもよく、異なっていてもよい。
 式(Syn1)のRsy及びRsyが表す有機基としては、アリール基、ヘテロアリール基、下記式(R1)で表される基が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
 式(R1)中、X11は環構造を表し、A11はO又はNR51を表し、R46~R51は互いに独立して、水素原子又は置換基を表し、R47とR48は、互いに結合して環を形成してもよく、*は結合手を表す。
 式(Syn1)のLが表すp1+1価の基としては、炭化水素基、複素環基、-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-SO-、-NR-、-NRCO-、-CONR-、-NRSO-、-SONR-及びこれらの組み合わせからなる基が挙げられる。Rは水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。炭化水素基は脂肪族炭化水素基であってもよく、芳香族炭化水素基であってもよい。炭化水素基としては、アルキレン基、アリーレン基、又はこれらの基から水素原子を1個以上除いた基が挙げられる。アルキレン基の炭素数は、1~30が好ましく、1~15がより好ましく、1~10がさらに好ましい。アルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよい。また、環状のアルキレン基は、単環、多環のいずれであってもよい。アリーレン基の炭素数は、6~18が好ましく、6~14がより好ましく、6~10がさらに好ましい。複素環基は、単環又は縮合数が2~4の縮合環が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子の数は1~3が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子が好ましい。複素環基の環を構成する炭素原子の数は3~30が好ましく、3~18がより好ましく、3~12がより好ましい。炭化水素基及び複素環基は置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基Tで挙げた基が挙げられる。また、Rが表すアルキル基の炭素数は1~20が好ましく、1~15がより好ましく、1~8が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖又は分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。Rが表すアルキル基はさらに置換基を有していてもよい。置換基としては上述した置換基Tが挙げられる。Rが表すアリール基の炭素数は、6~30が好ましく、6~20がより好ましく、6~12が更に好ましい。Rが表すアリール基はさらに置換基を有していてもよい。置換基としては上述した置換基Tが挙げられる。
 顔料誘導体の具体例としては、下記構造の化合物、特開昭56-118462号公報、特開昭63-264674号公報、特開平1-217077号公報、特開平3-9961号公報、特開平3-26767号公報、特開平3-153780号公報、特開平3-45662号公報、特開平4-285669号公報、特開平6-145546号公報、特開平6-212088号公報、特開平6-240158号公報、特開平10-30063号公報、特開平10-195326号公報、国際公開第2011/024896号の段落0086~0098、国際公開第2012/102399号の段落0063~0094等に記載の化合物が挙げられる。
 組成物が顔料誘導体を含有する場合、顔料誘導体の含有量は、特定色素及び上記着色剤のうちの顔料100質量部に対し、1質量部~30質量部が好ましく、3質量部~20質量部が更に好ましい。顔料誘導体は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
 本開示において好ましく使用される顔料誘導体の具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
<分散剤>
 本開示に係る組成物は、特定色素、及び、必要に応じて添加される顔料を分散するための分散剤を含有してもよい。
 分散剤としては、特に限定されず、顔料の分散剤として公知の分散剤を用いることができる。
 分散剤としては、例えば、高分子分散剤〔例えば、ポリアミドアミンとその塩、ポリカルボン酸とその塩、高分子量不飽和酸エステル、変性ポリウレタン、変性ポリエステル、変性ポリ(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル系共重合体、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物〕、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルカノールアミン等が挙げられる。
 高分子分散剤は、その構造から更に直鎖状高分子、末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子に分類することができる。高分子分散剤は、顔料の表面に吸着し、再凝集を防止するように作用する。そのため、顔料表面へのアンカー部位を有する末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子を好ましい構造として挙げることができる。また、特開2011-070156号公報の段落0028~0124に記載の分散剤や特開2007-277514号公報に記載の分散剤も好ましく用いられる。これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、分散剤として用いる樹脂は、コア部に複数個のポリマー鎖が結合した構造の樹脂であることも好ましい。このような樹脂としては、例えばデンドリマー(星型ポリマーを含む)が挙げられる。また、デンドリマーの具体例としては、特開2013-043962号公報の段落0196~0209に記載された高分子化合物C-1~C-31などが挙げられる。
 高分子分散剤は、グラフト共重合体であることも好ましい。グラフト共重合体は、グラフト鎖によって溶剤との親和性を有するために、顔料の分散性、及び、経時後の分散安定性に優れる。グラフト共重合体の詳細は、特開2012-255128号公報の段落0025~0094の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、グラフト共重合体としては特開2012-255128号公報の段落0072~0094に記載の樹脂が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
 また、高分子分散剤としては、エチレン性不飽和基を有する高分子分散剤を用いてもよい。エチレン性不飽和基としては、ビニル基、ビニロキシ基、アリル基、メタリル基、(メタ)アクリロイル基、ビニルフェニル基、シンナモイル基及びマレイミド基が挙げられ、反応性の観点から、(メタ)アクリロイル基、ビニルフェニル基、マレイミド基が好ましく、(メタ)アクリロイル基がより好ましく、アクリロイル基が特に好ましい。
 分散剤は、酸性分散剤(酸性樹脂)又は塩基性分散剤(塩基性樹脂)であることが好ましい。ここで、酸性分散剤(酸性樹脂)とは、酸基の量が塩基性基の量よりも多い樹脂を表す。酸性分散剤(酸性樹脂)は、酸基の量と塩基性基の量の合計量を100モル%としたときに、酸基の量が70モル%以上を占める樹脂が好ましく、実質的に酸基のみからなる樹脂がより好ましい。酸性分散剤(酸性樹脂)が有する酸基は、カルボキシル基が好ましい。また、塩基性分散剤(塩基性樹脂)とは、塩基性基の量が酸基の量よりも多い樹脂を表す。塩基性分散剤(塩基性樹脂)は、酸基の量と塩基性基の量の合計量を100モル%としたときに、塩基性基の量が50モル%を超える樹脂が好ましい。
 塩基性分散剤としては、第三級アミノ基と第四級アンモニウム塩基とを有する樹脂が挙げられる。第三級アミノ基と第四級アンモニウム塩基とを有する樹脂は特定色素の分散剤として好ましく用いられる。第三級アミノ基と第四級アンモニウム塩基とを有する樹脂は、第三級アミノ基を有する構成繰り返し単位と第四級アンモニウム塩基を有する構成繰り返し単位とを有する樹脂であることが好ましい。また、第三級アミノ基と第四級アンモニウム塩基とを有する樹脂は更に酸基を有する構成繰り返し単位を有していてもよい。第三級アミノ基と第四級アンモニウム塩基とを有する樹脂は、ブロック構造を有していることも好ましい。第三級アミノ基と第四級アンモニウム塩基とを有する樹脂は、そのアミン価が、10mgKOH/g~250mgKOH/g、且つ第四級アンモニウム塩価が10mgKOH/g~90mgKOH/gであるものが好ましく、アミン価が50mgKOH/g~200mgKOH/g、且つ第四級アンモニウム塩価が10mgKOH/g~50mgKOH/gであるものがより好ましい。第三級アミノ基と第四級アンモニウム塩基とを有する樹脂の重量平均分子量(Mw)は3,000~300,000であることが好ましく、5,000~30,000であることがより好ましい。第三級アミノ基と第四級アンモニウム塩基を有する樹脂は、第三級アミノ基を有するエチレン性不飽和化合物、第四級アンモニウム塩基を有するエチレン性不飽和化合物、及び必要に応じてその他エチレン性不飽和化合物を共重合して製造できる。第三級アミノ基を有するエチレン性不飽和化合物、第四級アンモニウム塩基を有するエチレン性不飽和化合物については、国際公開第2018/230486号の段落0150~0170に記載されたものが挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
 また、塩基性分散剤としては、主鎖に窒素原子を含む樹脂であることも好ましい。この樹脂も分散剤として好ましく用いられる。主鎖に窒素原子を含む樹脂(以下、オリゴイミン系樹脂ともいう)は、ポリ(低級アルキレンイミン)系構成繰り返し単位、ポリアリルアミン系構成繰り返し単位、ポリジアリルアミン系構成繰り返し単位、メタキシレンジアミン-エピクロルヒドリン重縮合物系構成繰り返し単位、及びポリビニルアミン系構成繰り返し単位よりなる群から選択される少なくとも1種の窒素原子を有する構成繰り返し単位を含むことが好ましい。また、オリゴイミン系樹脂としては、pKa14以下の官能基を有する部分構造Xを有する構成繰り返し単位と、原子数40~10,000のオリゴマー鎖又はポリマー鎖Yを含む側鎖を有する構成繰り返し単位とを有する樹脂であることが好ましい。オリゴイミン系樹脂は更に酸基を有する構成繰り返し単位を有していてもよい。オリゴイミン系樹脂については、特開2012-255128号公報の段落0102~0166の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
 分散剤としては市販品を用いることもできる。例えば、特開2012-137564号公報の段落0129に記載された製品を分散剤として用いることもできる。例えば、Disperbyk-111(BYKChemie社製)などが挙げられる。なお、上記分散剤として説明した樹脂は、分散剤以外の用途で使用することもできる。例えば、バインダーとして用いることもできる。
 本開示において、分散剤は1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
 分散剤の含有量は、使用する顔料に応じて適宜調整すればよいが、特定色素及び顔料の合計含有量100質量部に対して1~200質量部が好ましい。下限は、5質量部以上が好ましく、10質量部以上がより好ましい。上限は、150質量部以下が好ましく、100質量部以下がより好ましい。
<重合禁止剤>
 本開示に係る組成物は、保存安定性の観点から、重合禁止剤を含むことが好ましい。
 重合禁止剤としては、特に限定されず、公知の重合禁止剤を用いることができる。
 重合禁止剤としては、ハイドロキノン、p-メトキシフェノール、ジ-t-ブチル-p-クレゾール、ピロガロール、t-ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’-チオビス(3-メチル-6-t-ブチルフェノール)、2,2’-メチレンビス(4-メチル-6-t-ブチルフェノール)、N-ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩(アンモニウム塩、第一セリウム塩等)、2,2,6,6-テトラメチルピペリジン-1-オキシル等が挙げられる。なお、重合禁止剤は、酸化防止剤として機能することもある。
 重合禁止剤は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用して用いてもよい。
 重合禁止剤の含有量は、保存安定性の観点から、組成物の全固形分に対して、0.1ppm~1,000ppmであることが好ましく、1ppm~500ppmであることがより好ましく、1ppm~100ppmであることが特に好ましい。
<溶剤>
 本開示に係る組成物は、溶剤を含有してもよい。
 溶剤としては、エステル類、例えば酢酸エチル、酢酸-n-ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、アルキルエステル類、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、並びに、3-オキシプロピオン酸メチル及び3-オキシプロピオン酸エチルなどの3-オキシプロピオン酸アルキルエステル類(例えば、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル)、並びに、2-オキシプロピオン酸メチル、2-オキシプロピオン酸エチル、及び2-オキシプロピオン酸プロピルなどの2-オキシプロピオン酸アルキルエステル類(例えば、2-メトキシプロピオン酸メチル、2-メトキシプロピオン酸エチル、2-メトキシプロピオン酸プロピル、2-エトキシプロピオン酸メチル、2-エトキシプロピオン酸エチル、2-オキシ-2-メチルプロピオン酸メチル、2-オキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、2-メトキシ-2-メチルプロピオン酸メチル、2-エトキシ-2-メチルプロピオン酸エチル)、並びに、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2-オキソブタン酸メチル、2-オキソブタン酸エチル等;
 エーテル類、例えばジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート等;ケトン類、例えばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、3-ヘプタノン等;芳香族炭化水素類、例えばトルエン、キシレン、等が挙げられる。ただし、有機溶剤としての芳香族炭化水素類(ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等)は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある(例えば、有機溶剤の全質量に対して、50質量ppm(parts per million)以下とすることもでき、10質量ppm以下とすることもでき、1質量ppm以下とすることもできる。)。
 これらのうち、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、2-ヘプタノン、シクロヘキサノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート等が好適である。
 溶剤は、単独で用いる以外に2種以上を組み合わせて用いてもよい。
 本開示においては、金属含有量の少ない有機溶剤を用いることが好ましく、有機溶剤の金属含有量は、例えば10質量ppb(parts per billion)以下であることが好ましい。必要に応じて質量ppt(parts per trillion)レベルの有機溶剤を用いてもよく、そのような有機溶剤は、例えば、東洋合成工業(株)が提供している(化学工業日報、2015年11月13日)。
 有機溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留(分子蒸留や薄膜蒸留等)やフィルタを用いたろ過を挙げることができる。ろ過に用いるフィルタのフィルタ孔径としては、10μm以下が好ましく、5μm以下がより好ましく、3μm以下が更に好ましい。フィルタの材質は、ポリテトラフロロエチレン、ポリエチレン又はナイロンが好ましい。
 有機溶剤は、異性体(原子数が同じであるが構造が異なる化合物)が含まれていてもよい。また、異性体は、1種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。
 有機溶剤中の過酸化物の含有率が0.8mmol/L以下であることが好ましく、過酸化物を実質的に含まないことがより好ましい。
 本開示に係る組成物の全固形分は、塗布方法及び溶剤の有無により変更されるが、例えば、1質量%~100質量%であることが好ましい。下限は10質量%以上がより好ましい。
<増感剤>
 本開示に係る組成物は、ラジカル開始剤のラジカル発生効率の向上、感光波長の長波長化の目的で、増感剤を含有していてもよい。本開示に用いることができる増感剤としては、上記した光重合開始剤に対し、電子移動機構又はエネルギー移動機構で増感させるものが好ましい。
 本開示に用いることができる増感剤としては、以下に列挙する化合物類に属しており、且つ波長300nm~波長450nmの波長領域に吸収波長を有するものが挙げられる。
 好ましい増感剤の例としては、以下の化合物類に属しており、かつ波長330nm~波長450nm域に吸収波長を有するものを挙げることができる。
 例えば、多核芳香族類(例えば、フェナントレン、アントラセン、ピレン、ペリレン、トリフェニレン、9,10-ジアルコキシアントラセン)、キサンテン類(例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンB、ローズベンガル)、チオキサントン類(イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、クロロチオキサントン)、シアニン類(例えばチアカルボシアニン、オキサカルボシアニン)、メロシアニン類(例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン)、フタロシアニン類、チアジン類(例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー)、アクリジン類(例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン)、アントラキノン類(例えば、アントラキノン)、スクアリウム類(例えば、スクアリウム)、アクリジンオレンジ、クマリン類(例えば、7-ジエチルアミノ-4-メチルクマリン)、ケトクマリン、フェノチアジン類、フェナジン類、スチリルベンゼン類、アゾ化合物、ジフェニルメタン、トリフェニルメタン、ジスチリルベンゼン類、カルバゾール類、ポルフィリン、スピロ化合物、キナクリドン、インジゴ、スチリル、ピリリウム化合物、ピロメテン化合物、ピラゾロトリアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、バルビツール酸誘導体、チオバルビツール酸誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトンなどの芳香族ケトン化合物、N-アリールオキサゾリジノンなどのヘテロ環化合物などが挙げられる。等が挙げられ、更に欧州特許第568,993号明細書、米国特許第4,508,811号明細書、同5,227,227号明細書、特開2001-125255号公報、特開平11-271969号公報等に記載の化合物等などが挙げられる。
 増感剤は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
 本開示に係る組成物中における増感剤の含有量は、深部への光吸収効率と開始分解効率の観点から、組成物の全固形分に対し、0.1質量%~20質量%であることが好ましく、0.5質量%~15質量%がより好ましい。
<共増感剤>
 本開示に係る組成物は、共増感剤を含有してもよい。共増感剤は、増感色素や開始剤の活性放射線に対する感度を一層向上させる、あるいは酸素による重合性化合物の重合阻害を抑制する等の作用を有する。
 その他、共増感剤としては、例えば、特開2007-277514号公報の段落0233~0241に記載の化合物が挙げられる。
 これら共増感剤の含有量は、重合成長速度と連鎖移動のバランスによる硬化速度の向上の観点から、組成物の全固形分の質量に対し、0.1質量%~30質量%の範囲が好ましく、0.5質量%~25質量%の範囲がより好ましく、1質量%~20質量%の範囲が更に好ましい。
<その他成分>
 本開示に係る組成物には、必要に応じて、フッ素系有機化合物、熱重合防止剤、光重合開始剤、その他充填剤、アルカリ可溶性樹脂及び分散剤以外の高分子化合物、界面活性剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤などの各種添加物を含有することができる。
 その他成分としては、例えば、特開2007-277514号公報の段落0238~0249に記載の化合物が挙げられる。
(組成物の調製)
 本開示に係る組成物は、上述した各成分を混合することによって調製することができる。また、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、フィルタでろ過することが好ましい。フィルタとしては、従来からろ過用途等に用いられているものであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)等のフッ素樹脂、ナイロン(例えばナイロン-6、ナイロン-6,6)等のポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン(PP)等のポリオレフィン樹脂(高密度、超高分子量を含む)等を用いたフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン(高密度ポリプロピレンを含む)又はナイロンが好ましい。
 フィルタの孔径は、0.01μm~7.0μmが好ましく、0.01μm~3.0μmがより好ましく、0.05μm~0.5μmが更に好ましい。この範囲とすることにより、後工程において均一及び平滑な組成物の調製を阻害する、微細な異物を確実に除去することが可能となる。又はイバ状のろ材を用いることも好ましく、ろ材としては例えばポリプロピレンファイバ、ナイロンファイバ、グラスファイバ等が挙げられ、具体的にはロキテクノ社製のSBPタイプシリーズ(SBP008など)、TPRタイプシリーズ(TPR002、TPR005など)、SHPXタイプシリーズ(SHPX003など)のフィルタカートリッジを用いることができる。
 フィルタを使用する際、異なるフィルタを組み合わせてもよい。その際、第1のフィルタでのろ過は、1回のみでもよいし、2回以上行ってもよい。
 また、上述した範囲内で異なる孔径の第1のフィルタを組み合わせてもよい。ここでの孔径は、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。市販のフィルタとしては、例えば、日本ポール(株)(DFA4201NXEYなど)、アドバンテック東洋(株)、日本インテグリス(株)又は(株)キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタの中から選択することができる。
(組成物の用途)
 本開示に係る組成物は、液状とすることができるため、例えば、本開示に係る組成物を基材などに付与し、乾燥させることにより膜を容易に製造できる。
 本開示に係る組成物の粘度は、塗布により膜を形成する場合は、塗布性の観点から、1mPa・s~100mPa・sであることが好ましい。下限は、2mPa・s以上がより好ましく、3mPa・s以上が更に好ましい。上限は、50mPa・s以下がより好ましく、30mPa・s以下が更に好ましく、15mPa・s以下が特に好ましい。
 本開示に係る組成物の用途は、特に限定されない。例えば、赤外線カットフィルタなどの形成に好ましく用いることができる。例えば、固体撮像素子の受光側における赤外線カットフィルタ(例えば、ウエハーレベルレンズに対する赤外線カットフィルタ用など)、固体撮像素子の裏面側(受光側とは反対側)における赤外線カットフィルタなどに好ましく用いることができる。特に、固体撮像素子の受光側における赤外線カットフィルタとして好ましく用いることができる。また、本開示に係る組成物に対し、更に、可視光を遮光する着色剤を含有させることで、特定の波長以上の赤外線を透過可能な赤外線透過フィルタを形成することもできる。例えば、波長400nm~850nmまでを遮光し、波長850nm以上の赤外線を透過可能な赤外線透過フィルタを形成することもできる。
 また、本開示に係る組成物は、収納容器に保管されることが好ましい。
 収納容器として、原材料や組成物中への不純物の混入防止を目的に、容器内壁を6種6層の樹脂で構成する多層ボトルや6種の樹脂を7層構造にしたボトルを使用することも好ましい。これらの容器としては、例えば、特開2015-123351号公報に記載の容器が挙げられる。
<膜>
 本開示に係る膜は、本開示に係る組成物からなる又は上記組成物を硬化してなる膜である。また、組成物が溶剤を含む場合には、乾燥を行ってもよい。本開示に係る膜は、赤外線カットフィルタとして好ましく用いることができる。また、熱線遮蔽フィルタや赤外線透過フィルタとして用いることもできる。本開示に係る膜は、支持体上に積層して用いてもよく、支持体から剥離して用いてもよい。本開示に係る膜は、パターンを有していてもよく、パターンを有さない膜(平坦膜)であってもよい。
 本開示における「乾燥」は、溶剤を少なくとも一部除去すればよく、溶剤を完全に除去する必要はなく、所望に応じて、溶剤の除去量を設定することができる。
 また、上記硬化は、膜の硬さが向上していればよいが、重合による硬化が好ましい。
 本開示に係る膜の厚さは、目的に応じて適宜調整できる。膜の厚さは20μm以下が好ましく、10μm以下がより好ましく、5μm以下が更に好ましい。膜の厚さの下限は0.1μm以上が好ましく、0.2μm以上がより好ましく、0.3μm以上が更に好ましい。
 本開示に係る膜は、波長650nm~1,500nmの範囲に極大吸収波長を有することが好ましく、波長680nm~1,300nmの範囲に極大吸収波長を有することがより好ましく、波長700nm~850nmの範囲に極大吸収波長を有することが更に好ましい。
 本開示に係る膜を赤外線カットフィルタとして用いる場合は、本開示に係る膜は以下の(1)~(4)のうちの少なくとも1つの条件を満たすことが好ましく、(1)~(4)の全ての条件を満たすことが更に好ましい。
(1)波長400nmでの透過率は70%以上が好ましく、80%以上がより好ましく、85%以上が更に好ましく、90%以上が特に好ましい。
(2)波長500nmでの透過率は70%以上が好ましく、80%以上がより好ましく、90%以上が更に好ましく、95%以上が特に好ましい。
(3)波長600nmでの透過率は70%以上が好ましく、80%以上がより好ましく、90%以上が更に好ましく、95%以上が特に好ましい。
(4)波長650nmでの透過率は70%以上が好ましく、80%以上がより好ましく、90%以上が更に好ましく、95%以上が特に好ましい。
 本開示に係る膜は、有彩色着色剤を含むカラーフィルタと組み合わせて用いることもできる。カラーフィルタは、有彩色着色剤を含む着色組成物を用いて製造できる。有彩色着色剤としては、本開示に係る組成物の欄で説明した有彩色着色剤が挙げられる。着色組成物は、樹脂、重合性化合物、重合開始剤、界面活性剤、溶剤、重合禁止剤、紫外線吸収剤などを更に含有することができる。これらの詳細については、上述した材料が挙げられ、これらを用いることができる。
 本開示に係る膜とカラーフィルタとを組み合わせて用いる場合、本開示に係る膜の光路上にカラーフィルタが配置されていることが好ましい。例えば、本開示に係る膜とカラーフィルタとを積層して積層体として用いることができる。積層体においては、本開示に係る膜とカラーフィルタとは、両者が厚み方向で隣接していてもよく、隣接していなくてもよい。本開示に係る膜とカラーフィルタとが厚み方向で隣接していない場合は、カラーフィルタが形成された支持体とは別の支持体に、本開示に係る膜が形成されていてもよく、本開示に係る膜とカラーフィルタとの間に、固体撮像素子を構成する他の部材(例えば、マイクロレンズ、平坦化層など)が介在していてもよい。
 なお、本開示において、赤外線カットフィルタとは、可視領域の波長の光(可視光)を透過させ、近赤外領域の波長の光(赤外線)の少なくとも一部を遮光するフィルタを意味する。赤外線カットフィルタは、可視領域の波長の光をすべて透過するものであってもよく、可視領域の波長の光のうち、特定の波長領域の光を通過させ、特定の波長領域の光を遮光するものであってもよい。また、本開示において、カラーフィルタとは、可視領域の波長の光のうち、特定の波長領域の光を通過させ、特定の波長領域の光を遮光するフィルタを意味する。また、本開示において、赤外線透過フィルタとは、可視光を遮光し、赤外線の少なくとも一部を透過させるフィルタを意味する。
 本開示に係る膜は、CCD(電荷結合素子)やCMOS(相補型金属酸化膜半導体)などの固体撮像素子や、赤外線センサ、画像表示装置などの各種装置に用いることができる。
<膜の製造方法>
 次に、本開示に係る膜の製造方法について説明する。本開示に係る膜は、本開示に係る組成物を塗布する工程を経て製造できる。
 本開示に係る膜の製造方法において、組成物は支持体上に塗布することが好ましい。支持体としては、例えば、シリコン、無アルカリガラス、ソーダガラス、パイレックス(登録商標)ガラス、石英ガラスなどの材質で構成された基板が挙げられる。これらの基板には、有機膜や無機膜など形成されていてもよい。有機膜の材料としては、例えば上述した樹脂が挙げられる。また、支持体としては、上述した樹脂で構成された基板を用いることもできる。また、支持体には、電荷結合素子(CCD)、相補型金属酸化膜半導体(CMOS)、透明導電膜などが形成されていてもよい。また、支持体には、各画素を隔離するブラックマトリクスが形成されている場合もある。また、支持体には、必要により、上部の層との密着性改良、物質の拡散防止或いは基板表面の平坦化のために下塗り層を設けてもよい。また、支持体としてガラス基板を用いる場合においては、ガラス基板上に無機膜を形成したり、ガラス基板を脱アルカリ処理して用いることが好ましい。この態様によれば、より異物の発生が抑制された膜を製造し易い。
 組成物の塗布方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、滴下法(ドロップキャスト);スリットコート法;スプレー法;ロールコート法;回転塗布法(スピンコーティング);流延塗布法;スリットアンドスピン法;プリウェット法(たとえば、特開2009-145395号公報に記載されている方法);インクジェット(例えばオンデマンド方式、ピエゾ方式、サーマル方式)、ノズルジェット等の吐出系印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷、メタルマスク印刷法などの各種印刷法;金型等を用いた転写法;ナノインプリント法などが挙げられる。インクジェットでの適用方法としては、特に限定されず、例えば「広がる・使えるインクジェット-特許に見る無限の可能性-、2005年2月発行、住ベテクノリサーチ」に示された方法(特に115ページ~133ページ)や、特開2003-262716号公報、特開2003-185831号公報、特開2003-261827号公報、特開2012-126830号公報、特開2006-169325号公報などに記載の方法が挙げられる。
 組成物を塗布して形成した組成物層は、乾燥(プリベーク)してもよい。低温プロセスによりパターンを形成する場合は、プリベークを行わなくてもよい。プリベークを行う場合、プリベーク温度は、150℃以下が好ましく、120℃以下がより好ましく、110℃以下が更に好ましい。下限は、例えば、50℃以上とすることが好ましく、80℃以上とすることがより好ましい。プリベーク温度を150℃以下で行うことにより、例えば、イメージセンサの光電変換膜を有機素材で構成した場合において、これらの特性をより効果的に維持することができる。
 プリベーク時間は、10秒~3,000秒が好ましく、40秒~2,500秒がより好ましく、80秒~220秒が更に好ましい。乾燥は、ホットプレート、オーブン等で行うことができる。
 本開示に係る膜の製造方法においては、更にパターンを形成する工程を含んでいてもよい。パターン形成方法としては、フォトリソグラフィ法を用いたパターン形成方法や、ドライエッチング法を用いたパターン形成方法が挙げられる。なお、本開示に係る膜を平坦膜として用いる場合には、パターンを形成する工程を行わなくてもよい。以下、パターンを形成する工程について詳細に説明する。
-フォトリソグラフィ法でパターン形成する場合-
 フォトリソグラフィ法でのパターン形成方法は、本開示に係る組成物を塗布して形成した組成物層に対しパターン状に露光する工程(露光工程)と、未露光部の組成物層を現像除去してパターンを形成する工程(現像工程)と、を含むことが好ましい。必要に応じて、現像されたパターンをベークする工程(ポストベーク工程)を設けてもよい。以下、各工程について説明する。
<<露光工程>>
 露光工程では組成物層をパターン状に露光する。例えば、組成物層に対し、ステッパー等の露光装置を用いて、所定のマスクパターンを有するマスクを介して露光することで、組成物層をパターン露光することができる。これにより、露光部分を硬化することができる。露光に際して用いることができる放射線(光)としては、g線、i線等の紫外線が好ましく、i線がより好ましい。照射量(露光量)は、例えば、0.03J/cm2~2.5J/cm2が好ましく、0.05J/cm2~1.0J/cm2がより好ましく、0.08J/cm2~0.5J/cm2が特に好ましい。露光時における酸素濃度については適宜選択することができ、大気下で行う他に、例えば酸素濃度が19体積%以下の低酸素雰囲気下(例えば、15体積%、5体積%、実質的に無酸素)で露光してもよく、酸素濃度が21体積%を超える高酸素雰囲気下(例えば、22体積%、30体積%、50体積%)で露光してもよい。また、露光照度は適宜設定することが可能であり、好ましくは1,000W/m2~100,000W/m2(例えば、5,000W/m2、15,000W/m2、35,000W/m2)の範囲から選択することができる。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度10体積%で照度10,000W/m2、酸素濃度35体積%で照度20,000W/m2などとすることができる。
<<現像工程>>
 次に、露光後の組成物層における未露光部の組成物層を現像除去してパターンを形成する。未露光部の組成物層の現像除去は、現像液を用いて行うことができる。これにより、露光工程における未露光部の組成物層が現像液に溶出し、光硬化した部分だけが支持体上に残る。現像液としては、下地の固体撮像素子や回路などにダメージを与えない、アルカリ現像液が望ましい。現像液の温度は、例えば、20℃~30℃が好ましい。現像時間は、20秒~180秒が好ましい。また、残渣除去性を向上するため、現像液を60秒ごとに振り切り、更に新たに現像液を供給する工程を数回繰り返してもよい。
 現像液に用いるアルカリ剤としては、例えば、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、ジグリコールアミン、ジエタノールアミン、ヒドロキシアミン、エチレンジアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ジメチルビス(2-ヒドロキシエチル)アンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの無機アルカリ性化合物が挙げられる。現像液は、これらのアルカリ剤を純水で希釈したアルカリ性水溶液が好ましく使用される。アルカリ性水溶液のアルカリ剤の濃度は、0.001質量%~10質量%が好ましく、0.01質量%~1質量%がより好ましい。また、現像液には、界面活性剤を用いてもよい。界面活性剤の例としては、上述した組成物で説明した界面活性剤が挙げられ、ノニオン系界面活性剤が好ましい。現像液は、移送や保管の便宜などの観点より、一旦濃縮液として製造し、使用時に必要な濃度に希釈してもよい。希釈倍率は特に限定されないが、例えば1.5バイ~100倍の範囲に設定することができる。なお、このようなアルカリ性水溶液からなる現像液を使用した場合には、現像後純水で洗浄(リンス)することが好ましい。
 現像後、乾燥を施した後に加熱処理(ポストベーク)を行うこともできる。ポストベークは、膜の硬化を完全なものとするための現像後の加熱処理である。ポストベークを行う場合、ポストベーク温度は、例えば100℃~240℃が好ましい。膜硬化の観点から、200℃~230℃がより好ましい。また、発光光源として有機エレクトロルミネッセンス(有機EL)素子を用いた場合や、イメージセンサの光電変換膜を有機素材で構成した場合は、ポストベーク温度は、150℃以下が好ましく、120℃以下がより好ましく、100℃以下が更に好ましく、90℃以下が特に好ましい。下限は、例えば、50℃以上とすることができる。ポストベークは、現像後の膜に対して、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン(熱風循環式乾燥機)、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式あるいはバッチ式で行うことができる。また、低温プロセスによりパターンを形成する場合は、ポストベークは行わなくてもよく、再度露光する工程(後露光工程)を追加してもよい。
-ドライエッチング法でパターン形成する場合-
 ドライエッチング法でのパターン形成は、組成物を支持体上などに塗布して形成した組成物層を硬化して硬化物層を形成し、次いで、この硬化物層上にパターニングされたフォトレジスト層を形成し、次いで、パターニングされたフォトレジスト層をマスクとして硬化物層に対してエッチングガスを用いてドライエッチングするなどの方法で行うことができる。フォトレジスト層の形成においては、更にプリベーク処理を施すことが好ましい。特に、フォトレジストの形成プロセスとしては、露光後の加熱処理、現像後の加熱処理(ポストベーク処理)を実施する形態が望ましい。ドライエッチング法でのパターン形成については、特開2013-64993号公報の段落0010~0067の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
<光学フィルタ、及び、積層体>
 本開示に係る光学フィルタは、本開示に係る膜を有する。
 本開示に係る光学フィルタは、赤外線カットフィルタ及び赤外線透過フィルタよりなる群から選ばれた少なくとも1種の光学フィルタとして好ましく用いることができ、赤外線カットフィルタとしてより好ましく用いることができる。
 また、本開示に係る膜と、赤、緑、青、マゼンタ、黄、シアン、黒及び無色よりなる群から選ばれる画素とを有する態様も本開示に係る光学フィルタの好ましい態様である。
 また、本開示に係る積層体は、本開示に係る膜と、有彩色着色剤を含むカラーフィルタとを有する積層体である。
 本開示に係る赤外線カットフィルタは、本開示に係る膜を有する。
 なお、本開示に係る赤外線カットフィルタは、赤外線領域の一部の波長の赤外線のみをカットするフィルタであっても、赤外線領域の全体をカットするフィルタであってもよい。赤外線領域の一部の波長の赤外線のみをカットするフィルタとしては、例えば、近赤外線カットフィルタが挙げられる。なお、近赤外線としては、波長750nm~2,500nmの赤外線が挙げられる。
 また、本開示に係る赤外線カットフィルタは、波長750nm~1,000nmの範囲の赤外線をカットするフィルタであることが好ましく、波長750nm~1,200nmの範囲の赤外線をカットするフィルタであることがより好ましく、波長750nm~1,500nmの赤外線をカットするフィルタであることが更に好ましい。
 本開示に係る赤外線カットフィルタは、上記膜の他に、更に、銅を含有する層、誘電体多層膜、紫外線吸収層などを有していてもよい。本開示に係る赤外線カットフィルタが、更に、銅を含有する層、又は、誘電体多層膜を少なくとも有することで、視野角が広く、赤外線遮蔽性に優れた赤外線カットフィルタが得られ易い。また、本開示に係る赤外線カットフィルタが、更に、紫外線吸収層を有することで、紫外線遮蔽性に優れた赤外線カットフィルタとすることができる。紫外線吸収層としては、例えば、国際公開第2015/099060号の段落0040~0070及び0119~0145に記載の吸収層を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。誘電体多層膜としては、特開2014-41318号公報の段落0255~0259の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。銅を含有する層としては、銅を含有するガラスで構成されたガラス基材(銅含有ガラス基材)や、銅錯体を含む層(銅錯体含有層)を用いることもできる。銅含有ガラス基材としては、銅を含有する燐酸塩ガラス、銅を含有する弗燐酸塩ガラスなどが挙げられる。銅含有ガラスの市販品としては、NF-50(AGCテクノグラス(株)製)、BG-60、BG-61(以上、ショット社製)、CD5000(HOYA(株)製)等が挙げられる。
 本開示に係る赤外線カットフィルタは、CCD(電荷結合素子)やCMOS(相補型金属酸化膜半導体)などの固体撮像素子や、赤外線センサ、画像表示装置などの各種装置に用いることができる。
 本開示に係る赤外線カットフィルタは、本開示に係る組成物を用いて得られる膜の画素(パターン)と、赤、緑、青、マゼンタ、黄、シアン、黒及び無色よりなる群から選ばれる少なくとも1種の画素(パターン)とを有する態様も好ましい態様である。
 本開示に係る光学フィルタの製造方法としては、特に制限はないが、本開示に係る組成物を支持体上に適用して組成物層を形成する工程と、上記組成物層をパターン状に露光する工程と、未露光部を現像除去してパターンを形成する工程と、を含む方法であることが好ましい。
 また、本開示に係る光学フィルタの製造方法としては、本開示に係る組成物を支持体上に適用して組成物層を形成し、硬化して層を形成する工程、上記層上にフォトレジスト層を形成する工程、露光及び現像することにより上記フォトレジスト層をパターニングしてレジストパターンを得る工程、並びに、上記レジストパターンをエッチングマスクとして上記層をドライエッチングする工程を含む方法であることも好ましい。
 本開示に係る光学フィルタの製造方法における各工程としては、本開示に係る膜の製造方法における各工程を参照することができる。
<固体撮像素子>
 本開示に係る固体撮像素子は、本開示に係る膜を有する。固体撮像素子の構成としては、本開示に係る膜を有する構成であり、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はない。例えば、以下のような構成が挙げられる。
 支持体上に、固体撮像素子の受光エリアを構成する複数のフォトダイオード及びポリシリコン等からなる転送電極を有し、フォトダイオード及び転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口したタングステン等からなる遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面及びフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、本開示に係る膜を有する構成である。更に、デバイス保護膜上であって、本開示に係る膜の下(支持体に近い側)に集光手段(例えば、マイクロレンズ等。以下同じ)を有する構成や、本開示に係る膜上に集光手段を有する構成等であってもよい。また、固体撮像素子に用いられるカラーフィルタは、隔壁により例えば格子状に仕切られた空間に、各画素を形成する膜が埋め込まれた構造を有していてもよい。この場合の隔壁は各画素よりも低屈折率であることが好ましい。このような構造を有する撮像装置の例としては、特開2012-227478号公報、特開2014-179577号公報に記載の装置が挙げられる。
<画像表示装置>
 本開示に係る画像表示装置は、本開示に係る膜を有する。画像表示装置としては、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス(有機EL)表示装置などが挙げられる。画像表示装置の定義や詳細については、例えば「電子ディスプレイデバイス(佐々木 昭夫著、(株)工業調査会 1990年発行)」、「ディスプレイデバイス(伊吹 順章著、産業図書(株)平成元年発行)」などに記載されている。また、液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術(内田 龍男編集、(株)工業調査会 1994年発行)」に記載されている。本開示に適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。画像表示装置は、白色有機EL素子を有するものであってもよい。白色有機EL素子としては、タンデム構造であることが好ましい。有機EL素子のタンデム構造については、特開2003-45676号公報、三上明義監修、「有機EL技術開発の最前線-高輝度・高精度・長寿命化・ノウハウ集-」、技術情報協会、326-328ページ、2008年などに記載されている。有機EL素子が発光する白色光のスペクトルは、青色領域(430nm-485nm)、緑色領域(530nm-580nm)及び黄色領域(580nm-620nm)に強い極大発光ピークを有するものが好ましい。これらの発光ピークに加え更に赤色領域(650nm-700nm)に極大発光ピークを有するものがより好ましい。
<赤外線センサ>
 本開示に係る赤外線センサは、本開示に係る膜を有する。赤外線センサの構成としては、赤外線センサとして機能する構成であれば特に限定はない。以下、本開示に係る赤外線センサの一実施形態について、図面を用いて説明する。
 図1において、符号110は、固体撮像素子である。固体撮像素子110上に設けられている撮像領域は、赤外線カットフィルタ111と、赤外線透過フィルタ114とを有する。また、赤外線カットフィルタ111上には、カラーフィルタ112が積層している。カラーフィルタ112及び赤外線透過フィルタ114の入射光hν側には、マイクロレンズ115が配置されている。マイクロレンズ115を覆うように平坦化層116が形成されている。
 赤外線カットフィルタ111は、本開示に係る組成物を用いて形成することができる。赤外線カットフィルタ111の分光特性は、使用する赤外発光ダイオード(赤外LED)の発光波長に応じて選択される。
 カラーフィルタ112は、可視領域における特定波長の光を透過及び吸収する画素が形成されたカラーフィルタであって、特に限定はなく、従来公知の画素形成用のカラーフィルタを用いることができる。例えば、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の画素が形成されたカラーフィルタなどが用いられる。例えば、特開2014-43556号公報の段落0214~0263の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる
 赤外線透過フィルタ114は、使用する赤外LEDの発光波長に応じてその特性が選択される。例えば、赤外LEDの発光波長が850nmである場合、赤外線透過フィルタ114は、膜の厚み方向における光透過率の、波長400nm~650nmの範囲における最大値が30%以下であることが好ましく、20%以下であることがより好ましく、10%以下であることが更に好ましく、0.1%以下であることが特に好ましい。この透過率は、波長400nm~650nmの範囲の全域で上記の条件を満たすことが好ましい。
 赤外線透過フィルタ114は、膜の厚み方向における光透過率の、波長800nm以上(好ましくは800nm~1,300nm)の範囲における最小値が70%以上であることが好ましく、80%以上であることがより好ましく、90%以上であることが更に好ましい。上記の透過率は、波長800nm以上の範囲の一部で上記の条件を満たすことが好ましく、赤外LEDの発光波長に対応する波長で上記の条件を満たすことがより好ましい。
 赤外線透過フィルタ114の膜厚は、100μm以下が好ましく、15μm以下がより好ましく、5μm以下が更に好ましく、1μm以下が特に好ましい。下限値は、0.1μmが好ましい。膜厚が上記範囲であれば、上述した分光特性を満たす膜とすることができる。
 赤外線透過フィルタ114の分光特性、膜厚等の測定方法を以下に示す。
 膜厚は、膜を有する乾燥後の基板を、触針式表面形状測定器(ULVAC社製DEKTAK150)を用いて測定する。
 膜の分光特性は、紫外可視近赤外分光光度計((株)日立ハイテクノロジーズ製U-4100)を用いて、波長300nm~1,300nmの範囲において透過率を測定した値である。
 また、例えば、赤外LEDの発光波長が940nmである場合、赤外線透過フィルタ114は、膜の厚み方向における光の透過率の、波長450nm~650nmの範囲における最大値が20%以下であり、膜の厚み方向における、波長835nmの光の透過率が20%以下であり、膜の厚み方向における光の透過率の、波長1,000nm~1,300nmの範囲における最小値が70%以上であることが好ましい。
 図1に示す赤外線センサにおいて、平坦化層116上には、赤外線カットフィルタ111とは別の赤外線カットフィルタ(他の赤外線カットフィルタ)が更に配置されていてもよい。他の赤外線カットフィルタとしては、銅を含有する層、又は、誘電体多層膜を少なくとも有するものなどが挙げられる。これらの詳細については、上述したものが挙げられる。また、他の赤外線カットフィルタとしては、デュアルバンドパスフィルタを用いてもよい。
 また、本開示に用いられる赤外線透過フィルタ及び赤外線カットフィルタの吸収波長は、使用光源等に合わせて適宜組み合わせて用いられる。
(カメラモジュール)
 本開示に係るカメラモジュールは、固体撮像素子と、本開示に係る赤外線カットフィルタとを有する。
 また、本開示に係るカメラモジュールは、レンズ、及び、上記固体撮像素子から得られる撮像を処理する回路を更に有することが好ましい。
 本開示に係るカメラモジュールに用いられる固体撮像素子としては、上記本開示に係る固体撮像素子であってもよいし、公知の固体撮像素子であってもよい。
 また、本開示に係るカメラモジュールに用いられるレンズ、及び、上記固体撮像素子から得られる撮像を処理する回路としては、公知のものを用いることができる。
 カメラモジュールの例としては、特開2016-6476号公報、又は、特開2014-197190号公報に記載のカメラモジュールを参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
 本開示に係る膜は遮熱材料又は蓄熱材料として用いることができる。また、本開示に係る組成物は、塗料、インクジェットインク、セキュリティインク等にも用いることができる。
(化合物)
 本開示に係る化合物は、下記式(1)又は式(2)で表される構造を有する化合物である。
 本開示に係る化合物は、色素として好適に用いることができ、赤外線吸収色素としてより好適に用いることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
  式(1)中、X1A、X1B、Y1A、及び、Y1Bは、それぞれ独立に、環構造を表し、但し、X1A及びX1BとY1A及びY1Bとが、互いに異なる環構造を表し、R1A及びR1Bはそれぞれ独立に、置換基を表し、n1A及びn1Bはそれぞれ独立に、0~5の整数を表し、式(2)中、X2A及びX2Bは、それぞれ独立に、環構造を表し、Z及びZは、それぞれ独立に、アルキレン基、アルキニレン基、又は、環構造を表し、R2A及びR2Bはそれぞれ独立に、置換基を表し、n2A及びn2Bはそれぞれ独立に、0~5の整数を表す。
 本開示に係る化合物における式(1)又は式(2)で表される化合物は、本開示に係る組成物において上述した式(1)又は式(2)で表される色素と同様であり、好ましい態様も同様である。
 以下、実施例により本開示を詳細に説明するが、本開示はこれらに限定されるものではない。
 本実施例において、「%」、「部」とは、特に断りのない限り、それぞれ「質量%」、「質量部」を意味する。なお、高分子化合物において、特別に規定したもの以外は、分子量は重量平均分子量(Mw)であり、構成単位の比率はモル百分率である。
 重量平均分子量(Mw)は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)法によるポリスチレン換算値として測定した値である。
 また、本実施例中、特定色素であるSQ-A-1~SQ-A-36、SQ-B-1~SQ-B-6、顔料誘導体B-1~B-18、光重合開始剤C-1~C-14は、上記具体例におけるSQ-A-1~SQ-A-36、SQ-B-1~SQ-B-6、B-1~B-18、C-1~C-14とそれぞれ同義である。
<色素分散液の製造>
 下記表1に記載の色素10質量部、下記表1に記載の顔料誘導体:3質量部、下記表1に記載の分散剤(分散樹脂):7.8質量部、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート(PGMEA)150質量部、及び、直径0.3mmのジルコニアビーズ230質量部を混合し、ペイントシェーカーを用いて5時間分散処理を行った。その後、日本ポール(株)製DFA4201NXEY(0.45μmナイロンフィルター)を用いてろ過を行い、ビーズをろ過で分離して分散液1~36を製造した。
 得られた分散液について下記の評価を行った。評価結果を表1に示す。
<分散性の評価>
〔粘度〕
 上記で得られた分散液の25℃における粘度(mPa・s)を、E型粘度計を用いて、回転数1,000rpm(revolutions per minute)の条件で測定し、下記基準で評価した。
 A:1mPa・s以上15mPa・s以下である。
 B:15mPa・sを超え30mPa・s以下である。
 C:30mPa・sを超える。
〔粒子径〕
 上記で得られた分散液中における色素の平均粒子径を、日機装(株)製のMICROTRACUPA 150を用いて、体積基準で測定した。
 A:顔料の平均粒子径が1nm以上50nm以下である。
 B:顔料の平均粒子径が50nmを超え100nm以下である。
 C:顔料の平均粒子径が100nmを超える。
<硬化性組成物の製造>
 下記の組成1~3に示す原料を混合し、撹拌した後、孔径0.45μmのナイロン製フィルタ(日本ポール(株)製)を用いてろ過して、硬化性組成物を調製した。
<<組成1>>
 表2に記載の分散液:55質量部
 表2に記載の樹脂(バインダーポリマー):7.0質量部
 表2に記載の重合性化合物(モノマー):4.5質量部
 表2に記載の光重合開始剤:0.8質量部
 重合禁止剤(p-メトキシフェノール):0.001質量部
 界面活性剤(下記混合物(Mw=14000)。下記の式中、繰り返し単位の割合を示す%はモル比である。):0.03質量部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
 紫外線吸収剤(製品名:UV-503、大東化学(株)製):1.3質量部
 溶剤:31質量部
<色素溶液の調製>
 下記表1に記載の色素2.34質量部、及び、表1に記載の溶剤72.2質量部を混合して色素溶液1~色素溶液6を製造した。
<<組成物2>>
 表2又は表3に記載の色素溶液:74.5質量部
 表2又は表3に記載の樹脂(30%シクロペンタノン溶液):20.1質量部
 表2又は表3記載の重合性化合物:1.3質量部
 表2又は表3に記載の光重合開始剤:1.4質量部
 重合禁止剤(p-メトキシフェノール):0.001質量部
 メガファックRS-72-K(界面活性剤、DIC(株)製):2.6質量部
<<組成物3>>
 表2又は表3に記載の色素溶液:74.5質量部
 表2又は表3に記載のエポキシ樹脂(30%シクロペンタノン溶液):20.1質量部
 表2又は表3に記載のエポキシ硬化剤:0.05質量部
<硬化膜の作製>
<<作製例1:組成1の硬化性組成物を用いた硬化膜の作製方法>>
 各硬化性組成物をガラス基板(コーニング社製1737)上にスピンコート法で塗布し、その後ホットプレートを用いて100℃で2分間加熱して組成物層を得た。得られた組成物層を、i線ステッパー露光装置FPA-3000i5+(キヤノン(株)製)を用い、500mJ/cmの露光量にて露光した。次いで、露光後の組成物層に対してホットプレートを用いて220℃で5分間硬化処理を行い、厚さ0.7μmの硬化膜を得た。
<<作製例2:組成2及び組成3の硬化性組成物を用いた膜の作製方法>>
 上記で調製した各硬化性組成物を、ガラス基板(コーニング社製1737)上にスピンコート法で塗布し、その後ホットプレートを用いて80℃で10分間加熱処理(プリベーク)を行い、次いで、150℃で3時間加熱処理(ポストベーク)を行い、厚さ0.7μmの膜を得た。
<耐熱性の評価>
 上記で得られた膜を、ホットプレートを用いて、260℃で300秒加熱処理を行った。加熱処理前後における膜の極大吸収波長の吸光度(Absλmax)を分光光度計(U-4100、(株)日立ハイテクノロジーズ製)を用いて測定し、特定色素の残存率を下記式から算出し、下記基準で残存率を評価した。
 特定色素の残存率(%)={(加熱後の吸光度)÷(加熱前の吸光度)}×100
-評価基準-
 A:特定色素の残存率が95%を超え100%以下である。
 B:特定色素の残存率が80%を超え95%以下である。
 C:特定色素の残存率が80%以下である。
<耐光性の評価>
 上記で得られた膜に対し、キセノン(Xe)ランプにて紫外線カットフィルタを通して10万ルクスの光を50時間照射した。次に、光照射前後における膜の極大吸収波長の吸光度(Absλmax)を分光光度計(U-4100、(株)日立ハイテクノロジーズ製)を用いて測定し、特定色素の残存率を下記式から算出し、下記基準で残存率を評価した。
 残存率(%)={(光照射後の吸光度)÷(光照射前の吸光度)}×100
-評価基準-
 A:特定色素の残存率が95%を超え100%以下である。
 B:特定色素の残存率が80%を超え95%以下である。
 C:特定色素の残存率が80%以下である。
<パターン形成方法>
(実施例101~154及び比較例4~6)
 実施例101~実施例154及び比較例4~6の硬化性組成物を用い、下記手法にて2μm四方のパターン(赤外線カットフィルタ)をそれぞれ形成した。
<<形成法1:実施例101~実施例136、実施例137、実施例142、比較例4及び5のパターン形成方法>>
 実施例101~実施例136、実施例137、実施例142、比較例4、及び、比較例5の硬化性組成物を製膜後の膜厚が1.0μmになるようにシリコンウェハ上にスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用いて、100℃で2分間加熱した。次いで、i線ステッパー露光装置FPA-3000i5+(キヤノン(株)製)を用い、1,000mJ/cmで2μm四方のドットパターンのマスクを介して露光した。次いで、水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)0.3質量%水溶液を用い、23℃で60秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにてリンスを行い、更に純水にて水洗した。次いで、ホットプレートを用いて、200℃で5分間加熱することで、2μm四方のパターン(赤外線カットフィルタ)を形成した。
<<形成法2:実施例138~実施例141、実施例143~実施例154、及び、比較例6のパターン形成方法>>
 実施例138~実施例141、実施例143~実施例154、及び、比較例6の硬化性組成物を製膜後の膜厚が1.0μmになるように、シリコンウェハ上にスピンコート法で塗布した。その後ホットプレートを用いて、100℃で2分間加熱した。次いで、ホットプレートを用いて、200℃で5分間加熱した。次いでドライエッチング法により2μm四方のパターン(赤外線カットフィルタ)を形成した。
<パターン形成時の異物付着の抑制(パターン異物抑制)の評価>
 上記で作製した赤外線カットフィルタのパターンの形成領域(露光部、及び、未エッチング部)を走査式電子顕微鏡を用いて、倍率30,000倍にて観察し、下記評価基準に従ってパターン形成時の異物付着の抑制について評価を行った。
-評価基準-
 A:パターン形成領域外(未露光部、及び、未エッチング部)に異物の形成が全く確認されなかった。
 B:パターン形成領域外(未露光部、及び、未エッチング部)に、異物の形成がわずかに確認されたが、実用上問題のない程度であった。
 C:パターン形成領域外(未露光部、及び、未エッチング部)に異物の形成が著しく確認された。
<現像残渣抑制性(現像残渣)の評価>
 上記で作製した赤外線カットフィルタのパターンの形成領域外(未露光部、及び、エッチング部)を走査式電子顕微鏡を用いて、倍率30,000倍にて観察し、下記評価基準に従って、現像残渣抑制性について評価した。
-評価基準-
 A:パターン形成領域外(未露光部、エッチング部)には残渣が全く確認されなかった。
 B:パターン形成領域外(未露光部、エッチング部)に、残渣がわずかに確認されたが、実用上問題のない程度であった。
 C:パターン形成領域外(未露光部、エッチング部)に残渣が著しく確認された。
 評価結果を表2及び表3にまとめて示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000040
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000041
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000042
 表1~表3中の「-」は、該当する成分を含まないこと、又は、対応する評価を行っていないことを意味する。
 表2及び表3中、「重合性化合物」の欄の「M-1/M-2=1/1」とは、M-1及びM-2の組成比(質量比)が1:1であることを意味する。同様に、「樹脂」の欄の「E-1/E-2=2/1」とは、E-1及びE-2の組成比(質量比)が2:1であることを意味する。同様に、「光重合開始剤」の欄の「C-7/C-8=1/1」とは、C-7及びC-8の組成比(質量比)が1:1であることを意味する。
 表1における比較化合物SQ-C-1、SQ-C-2、及び、SQ-D-1は、以下の化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
 表1~表3に記載の化合物の詳細は以下のとおりである。
<分散樹脂>
D-1:下記構造のブロック型樹脂(アミン価=90mgKOH/g、4級アンモニウム塩価=30mgKOH/g、重量平均分子量=9800)。主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比を表す。
D-2:下記構造の樹脂。(主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。Mw=21,000、酸価=36.0mgKOH/g、アミン価47.0mgKOH/g)
D-3:下記構造の樹脂(酸価=43mgKOH/g、重量平均分子量=9000)。側鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比を表す。
D-4:下記構造の樹脂。(主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。Mw=38,000、酸価=99.1mgKOH/g)
D-5:下記構造の樹脂(酸価=85.0mgKOH/g、重量平均分子量=22000)。主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比を表し、側鎖に付記した数値は、繰り返し単位の数を表す
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
<樹脂:バインダーポリマー>
 E-1:アクリベースFF-426(藤倉化成(株)製、アルカリ可溶性樹脂)
 E-2:ARTON F4520(JSR(株)製)
 E-3:下記構造の樹脂(Mw=40,000、酸価100mgKOH/g、主鎖に付記した数値は、繰り返し単位の質量比を表す。アルカリ可溶性樹脂)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
<光重合開始剤>
 C-15:下記式で表される化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
 C-16:CPI-100P(サンアプロ(株)製)
<重合性化合物>
 M-1:アロニックスM-305(東亜合成(株)製、下記化合物の混合物。トリアクリレートの含有量が55質量%~63質量%)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
 M-2:KAYARAD RP-1040(日本化薬(株)製)
 M-3:アロニックスM-510(東亜合成(株)製)
<溶剤>
 PGMEA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
 PGME:プロピレングリコールモノメチルエーテル
 CYP:シクロペンタノン
(エポキシ樹脂)
 F-1:メタクリル酸グリシジル骨格ランダムポリマー(日油(株)製、マープルーフG-0150M、重量平均分子量:10,000)
 F-2:EPICLON HP-4700(DIC(株)製)
 F-3:JER1031S(三菱ケミカル(株)製)
 F-4:EHPE3150((株)ダイセル製)
 F-5:デナコールEX-611(ナガセケムテックス(株)製)
(エポキシ硬化剤)
 G-1:トリメリット酸
 G-2:ピロメリット酸無水物
 G-3:N,N-ジメチル-4-アミノピリジン
 G-4:ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトプロピオネート)
 表2又は表3に記載の結果から、本開示に係る組成物である実施例101~実施例154の硬化性組成物は、比較例4~比較例6の組成物に比べて、得られる硬化膜のパターン形成時の異物付着の抑制に優れることが明らかである。更に、本開示に係る組成物である実施例101~実施例154の硬化性組成物は、得られる硬化膜における、耐熱性、耐光性、及び、現像残渣抑制性にも優れることがわかる。
 実施例101において、重合禁止剤を除いて同様に評価した場合も同様の結果が得られる。実施例101において、界面活性剤を除いて同様に評価した場合も同様の結果が得られる。実施例101において、紫外線吸収剤を除いて同様に評価した場合も同様の結果が得られる。
(実施例155)
 実施例101~実施例154の硬化性組成物を用い、下記手法にて2μm四方のパターン(赤外線カットフィルタ)をそれぞれ形成した。
 実施例101~実施例136、実施例137、実施例142の硬化性組成物は下記方法でパターンを作成した。
 実施例101~実施例136、実施例137、実施例142の硬化性組成物を製膜後の膜厚が1.0μmになるようにスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用いて、100℃で2分間加熱した。次いで、i線ステッパー露光装置FPA-3000i5+(キヤノン(株)製)を用い、1,000mJ/cmで2μm四方のドットパターンのマスクを介して露光した。次いで、水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)0.3質量%水溶液を用い、23℃で60秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにてリンスを行い、更に純水にて水洗した。次いで、ホットプレートを用いて、200℃で5分間加熱することで、2μm四方のパターン(赤外線カットフィルタ)を形成した。
 実施例138~実施例141、実施例143~実施例154の硬化性組成物は下記方法でパターンを作成した。
 実施例138~実施例141、実施例143~実施例154の硬化性組成物を製膜後の膜厚が1.0μmになるように、シリコンウェハ上にスピンコート法で塗布した。その後ホットプレートを用いて、100℃で2分間加熱した。次いで、ホットプレートを用いて、200℃で5分間加熱した。次いでドライエッチング法により2μm四方のパターン(赤外線カットフィルタ)を形成した。
 次に、赤外線カットフィルタのパターン上に、Red組成物を製膜後の膜厚が1.0μmになるようにスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用いて、100℃で2分間加熱した。次いで、i線ステッパー露光装置FPA-3000i5+(キヤノン(株)製)を用い、1,000mJ/cmで2μm四方のドットパターンのマスクを介して露光した。次いで、水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)0.3質量%水溶液を用い、23℃で60秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにてリンスを行い、更に純水にて水洗した。次いで、ホットプレートを用いて、200℃で5分間加熱することで、赤外線カットフィルタのパターン上に、Red組成物をパターニングした。同様にGreen組成物、Blue組成物を順次パターニングし、赤、緑及び青の着色パターン(Bayerパターン)を形成した。
 なお、Bayerパターンとは、米国特許第3,971,065号明細書に開示されているような、一個の赤色(Red)素子と、二個の緑色(Green)素子と、一個の青色(Blue)素子とを有する色フィルタ素子の2×2アレイを繰り返したパターンであるが、本実施例においては、一個の赤色(Red)素子と、一個の緑色(Green)素子と、一個の青色(Blue)素子と、一個の赤外線透過フィルタ素子を有するフィルタ素子の2×2アレイを繰り返したBayerパターンを形成した。
 次に、上記パターン形成した膜上に、赤外線透過フィルタ形成用組成物(下記組成100又は組成101)を、製膜後の膜厚が2.0μmになるようにスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用いて、100℃で2分間加熱した。次いで、i線ステッパー露光装置FPA-3000i5+(キヤノン(株)製)を用い、1,000mJ/cmで2μm四方のBayerパターンのマスクを介して露光した。次いで、水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)0.3質量%水溶液を用い、23℃で60秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにてリンスを行い、更に純水にて水洗した。次いで、ホットプレートを用いて、200℃で5分間加熱することで、赤外線カットフィルタのBayerパターンのうち、上記着色パターンが形成されていない抜け部分に、赤外線透過フィルタのパターニングを行った。これを公知の方法に従い固体撮像素子に組み込んだ。
 得られた固体撮像素子について、低照度の環境下(0.001ルクス(Lux))で赤外発光ダイオード(赤外LED)により赤外線を照射し、画像の取り込みを行い、画像性能を評価した。実施例101~実施例154で得られたいずれの硬化性組成物を使用した場合でも、低照度の環境下であっても画像をはっきりと認識できた。
 上記パターニングに使用したRed組成物、Green組成物、Blue組成物、及び、赤外線透過フィルタ形成用組成物は、以下の通りである。
-Red組成物-
 下記成分を混合し、撹拌した後、孔径0.45μmのナイロン製フィルタ(日本ポール(株)製)でろ過して、Red組成物を調製した。
 Red顔料分散液:51.7質量部
 樹脂4(40質量%PGMEA溶液):0.6質量部
 重合性化合物4:0.6質量部
 光重合開始剤1:0.3質量部
 界面活性剤1:4.2質量部
 PGMEA:42.6質量部
-Green組成物-
 下記成分を混合し、撹拌した後、孔径0.45μmのナイロン製フィルタ(日本ポール(株)製)でろ過して、Green組成物を調製した。
 Green顔料分散液:73.7質量部
 樹脂4(40質量%PGMEA溶液):0.3質量部
 重合性化合物1:1.2質量部
 光重合開始剤1:0.6質量部
 界面活性剤1:4.2質量部
 紫外線吸収剤(UV-503、大東化学(株)製):0.5質量部
 PGMEA:19.5質量部
-Blue組成物-
 下記成分を混合し、撹拌した後、孔径0.45μmのナイロン製フィルタ(日本ポール(株)製)でろ過して、Blue組成物を調製した。
 Blue顔料分散液:44.9質量部
 樹脂4(40質量%PGMEA溶液):2.1質量部
 重合性化合物1:1.5質量部
 重合性化合物4:0.7質量部
 光重合開始剤1:0.8質量部
 界面活性剤1:4.2質量部
 PGMEA:45.8質量部
-赤外線透過フィルタ形成用組成物-
 下記組成における成分を混合し、撹拌した後、孔径0.45μmのナイロン製フィルタ(日本ポール(株)製)でろ過して、赤外線透過フィルタ形成用組成物を調製した。
<組成100>
 顔料分散液1-1:46.5質量部
 顔料分散液1-2:37.1質量部
 重合性化合物5:1.8質量部
 樹脂4:1.1質量部
 光重合開始剤2:0.9質量部
 界面活性剤1:4.2質量部
 重合禁止剤(p-メトキシフェノール):0.001質量部
 シランカップリング剤:0.6質量部
 PGMEA:7.8質量部
<組成101>
 顔料分散液2-1:1,000質量部
 重合性化合物(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート):50質量部
 樹脂:17質量部
 光重合開始剤(1-[4-(フェニルチオ)フェニル]-1,2-オクタンジオン-2-(O-ベンゾイルオキシム)):10質量部
 PGMEA:179質量部
 アルカリ可溶性重合体1:17質量部(固形分濃度35質量部)
<アルカリ可溶性重合体1の合成例>
 反応容器に、ベンジルメタクリレート14部、N-フェニルマレイミド12部、2-ヒドロキシエチルメタクリレート15部、スチレン10部及びメタクリル酸20部をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート200部に溶解し、更に2,2’-アゾイソブチロニトリル3部及びα-メチルスチレンダイマー5部を投入した。反応容器内を窒素パージ後、撹拌及び窒素バブリングしながら80℃で5時間加熱し、アルカリ可溶性重合体1を含む溶液(固形分濃度35質量%)を得た。この重合体は、ポリスチレン換算の重量平均分子量が9,700、数平均分子量が5,700であり、Mw/Mnが1.70であった。
<顔料分散液2-1>
 C.I.ピグメントブラック32を60部、C.I.ピグメントブルー15:6を20部、C.I.ピグメントイエロー139を20部、日本ルーブリゾール(株)製のソルスパース76500を80部(固形分濃度50質量%)、アルカリ可溶性重合体1を含む溶液を120部(固形分濃度35質量%)、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを700部混合し、ペイントシェーカーを用いて8時間分散し、着色剤分散液2-1を得た。
 Red組成物、Green組成物、Blue組成物、及び、赤外線透過フィルタ形成用組成物に使用した原料は、以下の通りである。
・Red顔料分散液
 C.I.Pigment Red 254を9.6質量部、C.I.Pigment Yellow 139を4.3質量部、分散剤(Disperbyk-161、BYKChemie社製)を6.8質量部、PGMEAを79.3質量部とからなる混合液を、ビーズミル(ジルコニアビーズ0.3mm径)により3時間混合及び分散して、顔料分散液を調製した。その後更に、減圧機構付き高圧分散機NANO-3000-10(日本ビーイーイー(株)製)を用いて、2,000kg/cmの圧力下で流量500g/minとして分散処理を行った。この分散処理を10回繰り返し、Red顔料分散液を得た。
・Green顔料分散液
 C.I.Pigment Green 36を6.4質量部、C.I.Pigment Yellow 150を5.3質量部、分散剤(Disperbyk-161、BYKChemie社製)を5.2質量部、PGMEAを83.1質量部からなる混合液を、ビーズミル(ジルコニアビーズ0.3mm径)により3時間混合及び分散して、顔料分散液を調製した。その後更に、減圧機構付き高圧分散機NANO-3000-10(日本ビーイーイー(株)製)を用いて、2,000kg/cmの圧力下で流量500g/minとして分散処理を行った。この分散処理を10回繰り返し、Green顔料分散液を得た。
・Blue顔料分散液
 C.I.Pigment Blue 15:6を9.7質量部、C.I.Pigment Violet 23を2.4質量部、分散剤(Disperbyk-161、BYKChemie社製)を5.5部、PGMEAを82.4部からなる混合液を、ビーズミル(ジルコニアビーズ0.3mm径)により3時間混合及び分散して、顔料分散液を調製した。その後更に、減圧機構付き高圧分散機NANO-3000-10(日本ビーイーイー(株)製)を用いて、2,000kg/cmの圧力下で流量500g/minとして分散処理を行った。この分散処理を10回繰り返し、Blue顔料分散液を得た。
・顔料分散液1-1
 下記組成の混合液を、0.3mm径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル(減圧機構付き高圧分散機NANO-3000-10(日本ビーイーイー(株)製))で、3時間、混合、分散して、顔料分散液1-1を調製した。
・赤色顔料(C.I.Pigment Red 254)及び黄色顔料(C.I.Pigment Yellow 139)からなる混合顔料:11.8質量部
・樹脂(Disperbyk-111、BYKChemie社製):9.1質量部
・PGMEA:79.1質量部
・顔料分散液1-2
 下記組成の混合液を、0.3mm径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル(減圧機構付き高圧分散機NANO-3000-10(日本ビーイーイー(株)製))で、3時間、混合、分散して、顔料分散液1-2を調製した。
・青色顔料(C.I.Pigment Blue 15:6)及び紫色顔料(C.I.Pigment Violet 23)からなる混合顔料:12.6質量部
・樹脂(Disperbyk-111、BYKChemie社製):2.0質量部
・樹脂A:3.3質量部
・シクロヘキサノン:31.2質量部
・PGMEA:50.9質量部
・樹脂A:下記構造(Mw=14,000、各構成単位における比はモル比である。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
・重合性化合物1:KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとジペンタエリスリトールペンタアクリレートとの混合物、日本化薬(株)製)
・重合性化合物4:下記構造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
・重合性化合物5:下記構造(左側化合物と右側化合物とのモル比が7:3の混合物)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
・樹脂4:下記構造(酸価:70mgKOH/g、Mw=11,000、各構成単位における比はモル比である。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
・光重合開始剤1:IRGACURE-OXE01(1-[4-(フェニルチオ)フェニル]-1,2-オクタンジオン-2-(O-ベンゾイルオキシム)、BASF社製)
・光重合開始剤2:下記構造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
・界面活性剤1:下記混合物(Mw=14,000)の1質量%PGMEA溶液。下記の式中、構成単位の割合を示す%(62%及び38%)はモル比である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
・シランカップリング剤:下記構造の化合物。以下の構造式中、Etはエチル基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
(実施例201)
 下記組成を混合し、撹拌した後、孔径0.45μmのナイロン製フィルタ(日本ポール(株)製)でろ過して、実施例201のパターン形成用組成物を調製した。
 実施例105の硬化性組成物:22.67質量部
 顔料分散液2-1:51.23質量部
 実施例201のパターン形成用組成物を用いて、実施例101と同様に、耐光性、耐熱性、パターン異物抑制性、及び、現像残渣抑制性の評価を行ったところ、実施例1と同様の効果が得られた。また、実施例201のパターン形成用組成物を用いて得られた硬化膜は、可視領域の波長の光を遮光し、近赤外領域の波長の光(近赤外線)の少なくとも一部を透過させることができた。
(実施例202)
 下記組成を混合し、撹拌した後、孔径0.45μmのナイロン製フィルタ(日本ポール(株)製)でろ過して、実施例202のパターン形成用組成物を調製した。
 実施例105の硬化性組成物:36.99質量部
 顔料分散液1-1:46.5質量部
 顔料分散液1-2:37.1質量部
 実施例202のパターン形成用組成物を用いて、実施例101と同様に、耐光性、耐熱性、パターン異物抑制性、及び、現像残渣抑制性の評価を行ったところ、実施例101と同様の効果が得られた。また、実施例202のパターン形成用組成物を用いて得られた硬化膜は、可視領域の波長の光を遮光し、近赤外領域の波長の光(近赤外線)の少なくとも一部を透過させることができた。
(実施例301)
 上記実施例101~実施例154の硬化性組成物をそれぞれ用い、他の基板に変更(ガラス基板の場合はシリコンウェハへ変更し、シリコンウェハの場合はガラス基板へ変更)した以外は実施例101と同様に評価した場合も、実施例101~実施例154と同様の効果が得られる。
(実施例302)
 上記実施例201又は実施例202で得られたパターン形成用組成物を用い、他の基板に変更(ガラス基板の場合はシリコンウェハへ変更し、シリコンウェハの場合はガラス基板へ変更)した以外は実施例101と同様に評価した場合も、実施例101~実施例154と同様の効果が得られる。
(実施例401)
 上記実施例201で使用した実施例105の硬化性組成物を実施例101~104、及び、106~154の硬化性組成物に置き換えた以外は、実施例201と同様にパターン形成用組成物を調製し、実施例201と同様に耐光性、耐熱性、パターン異物抑制性、及び、現像残渣抑制性の評価を行ったところ、実施例201と同様の効果が得られた。また、実施例401のパターン形成用組成物を用いて得られた硬化膜は、可視領域の波長の光を遮光し、近赤外領域の波長の光(近赤外線)の少なくとも一部を透過させることができた。
(実施例402)
 上記実施例202で使用した実施例105の硬化性組成物を実施例101~104、及び、106~154の硬化性組成物に置き換えた以外は実施例202と同様にパターン形成用組成物を調製し、実施例202と同様に耐光性、耐熱性、パターン異物抑制性、及び、現像残渣抑制性の評価を行ったところ、実施例202と同様の効果が得られた。また、実施例402のパターン形成用組成物を用いて得られた硬化膜は、可視領域の波長の光を遮光し、近赤外領域の波長の光(近赤外線)の少なくとも一部を透過させることができた。
 2019年3月20日に出願された日本国特許出願第2019-053798号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
 本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び、技術規格は、個々の文献、特許出願、及び、技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。
 110:固体撮像素子、111:赤外線カットフィルタ、112:カラーフィルタ、114:赤外線透過フィルタ、115:マイクロレンズ、116:平坦化層

Claims (16)

  1.  下記式(1)又は式(2)で表される色素と、
     バインダーポリマー及び硬化性化合物よりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物と、を含む
     組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001

     式(1)中、X1A、X1B、Y1A、及び、Y1Bは、それぞれ独立に、環構造を表し、但し、X1A及びX1BとY1A及びY1Bとが、互いに異なる環構造を表し、R1A及びR1Bはそれぞれ独立に、置換基を表し、n1A及びn1Bはそれぞれ独立に、0~5の整数を表し、式(2)中、X2A及びX2Bは、それぞれ独立に、環構造を表し、Z及びZは、それぞれ独立に、アルキレン基、アルキニレン基、又は、環構造を表し、R2A及びR2Bはそれぞれ独立に、置換基を表し、n2A及びn2Bはそれぞれ独立に、0~5の整数を表す。
  2.  前記式(1)又は(2)において、前記X1A、X1B、X2A及びX2Bが、それぞれ独立に、芳香族環構造、又は、複素環構造を有する、請求項1に記載の組成物。
  3.  前記式(1)又は(2)において、前記X1A、X1B、X2A及びX2Bが、それぞれ独立に、フェニル基、又は、ナフチル基である、請求項1又は請求項2に記載の組成物。
  4.  前記式(1)又は(2)で表される色素の極大吸収波長が、650nm以上である、請求項1~請求項3のいずれか1項に記載の組成物。
  5.  前記式(1)又は(2)で表される色素が顔料である、請求項1~請求項4のいずれか1項に記載の組成物。
  6.  前記硬化性化合物を含む、請求項1~請求項5のいずれか1項に記載の組成物。
  7.  前記バインダーポリマーを含む、請求項1~請求項6のいずれか1項に記載の組成物。
  8.  光重合開始剤を更に含む、請求項1~請求項7のいずれか1項に記載の組成物。
  9.  請求項1~請求項8のいずれか1項に記載の組成物からなる又は前記組成物を硬化してなる膜。
  10.  請求項9に記載の膜を有する、光学フィルタ。
  11.  赤外線カットフィルタ又は赤外線透過フィルタである、請求項10に記載の光学フィルタ。
  12.  請求項9に記載の膜を有する固体撮像素子。
  13.  請求項9に記載の膜を有する赤外線センサ。
  14.  請求項1~請求項8のいずれか1項に記載の組成物を支持体上に適用して組成物層を形成する工程と、
     前記組成物層をパターン状に露光する工程と、
     未露光部を現像除去してパターンを形成する工程と、を含む
     光学フィルタの製造方法。
  15.  請求項1~請求項8のいずれか1項に記載の組成物を支持体上に適用して組成物層を形成し、硬化して層を形成する工程、
     前記層上にフォトレジスト層を形成する工程、
     露光及び現像することにより前記フォトレジスト層をパターニングしてレジストパターンを得る工程、並びに、
     前記レジストパターンをエッチングマスクとして前記層をドライエッチングする工程を含む
     光学フィルタの製造方法。
  16.  固体撮像素子と、請求項10に記載の光学フィルタと、を有するカメラモジュール。
PCT/JP2020/010665 2019-03-20 2020-03-11 組成物、膜、光学フィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、赤外線センサ、並びに、カメラモジュール WO2020189458A1 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021507250A JP7195407B2 (ja) 2019-03-20 2020-03-11 組成物、膜、光学フィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、赤外線センサ、並びに、カメラモジュール

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019-053798 2019-03-20
JP2019053798 2019-03-20

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2020189458A1 true WO2020189458A1 (ja) 2020-09-24

Family

ID=72520329

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2020/010665 WO2020189458A1 (ja) 2019-03-20 2020-03-11 組成物、膜、光学フィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、赤外線センサ、並びに、カメラモジュール

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP7195407B2 (ja)
TW (1) TW202039701A (ja)
WO (1) WO2020189458A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2024058000A1 (ja) * 2022-09-16 2024-03-21 富士フイルム株式会社 感光性組成物、硬化膜、光学フィルタ、固体撮像素子、赤外線センサ、カメラモジュール、光学フィルタの製造方法および化合物

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017122738A1 (ja) * 2016-01-15 2017-07-20 東洋インキScホールディングス株式会社 固体撮像素子用近赤外線吸収性組成物およびフィルタ
JP2017198816A (ja) * 2016-04-27 2017-11-02 東洋インキScホールディングス株式会社 固体撮像素子用近赤外線吸収性組成物およびフィルタ
JP2018193516A (ja) * 2017-05-22 2018-12-06 東洋インキScホールディングス株式会社 レーザーマーキング用組成物及びその利用
JP2019011455A (ja) * 2016-12-27 2019-01-24 東洋インキScホールディングス株式会社 スクアリリウム化合物及びその用途

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017122738A1 (ja) * 2016-01-15 2017-07-20 東洋インキScホールディングス株式会社 固体撮像素子用近赤外線吸収性組成物およびフィルタ
JP2017198816A (ja) * 2016-04-27 2017-11-02 東洋インキScホールディングス株式会社 固体撮像素子用近赤外線吸収性組成物およびフィルタ
JP2019011455A (ja) * 2016-12-27 2019-01-24 東洋インキScホールディングス株式会社 スクアリリウム化合物及びその用途
JP2018193516A (ja) * 2017-05-22 2018-12-06 東洋インキScホールディングス株式会社 レーザーマーキング用組成物及びその利用

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2024058000A1 (ja) * 2022-09-16 2024-03-21 富士フイルム株式会社 感光性組成物、硬化膜、光学フィルタ、固体撮像素子、赤外線センサ、カメラモジュール、光学フィルタの製造方法および化合物

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2020189458A1 (ja) 2021-11-18
TW202039701A (zh) 2020-11-01
JP7195407B2 (ja) 2022-12-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11513439B2 (en) Composition, film, near infrared cut filter, solid-state imaging element, image display device, and infrared sensor
JP7004798B2 (ja) 組成物、硬化物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、画像表示装置、及び、化合物
WO2021039205A1 (ja) 組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、パターン形成方法、積層体、固体撮像素子、赤外線センサ、画像表示装置、カメラモジュール、及び、化合物
JP7113907B2 (ja) 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、赤外線センサ、光学フィルタの製造方法、カメラモジュール、化合物、及び、分散組成物
JP2024009929A (ja) 着色感光性組成物、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置
WO2018221150A1 (ja) 硬化性組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ
WO2019049626A1 (ja) 組成物及びその製造方法、膜、光学フィルタ、積層体、固体撮像素子、画像表示装置、並びに、赤外線センサ
WO2020189458A1 (ja) 組成物、膜、光学フィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、赤外線センサ、並びに、カメラモジュール
WO2020189459A1 (ja) 硬化性組成物、膜、光学フィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、赤外線センサ、カメラモジュール、並びに、インクジェットインク
WO2021029195A1 (ja) 組成物、膜、光学フィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、赤外線センサ、カメラモジュール、並びに、化合物
WO2018142799A1 (ja) 硬化性組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ
WO2022064896A1 (ja) 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、カメラモジュール、化合物および赤外線吸収剤
WO2021039253A1 (ja) 組成物、膜、光学フィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、赤外線センサ、並びに、センサモジュール
JP7094379B2 (ja) 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、赤外線センサ、光学フィルタの製造方法、カメラモジュール、化合物、及び、分散組成物
JP6976309B2 (ja) 硬化性組成物、硬化膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ
JP7271692B2 (ja) 近赤外吸収組成物、膜、光学フィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、赤外線センサ、カメラモジュール、並びに、インクジェットインク
WO2023162574A1 (ja) 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、カメラモジュールおよび化合物
WO2023176609A1 (ja) 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、カメラモジュールおよび化合物
JP7145314B2 (ja) 構造体、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ
JP7163481B2 (ja) 着色感光性組成物、硬化物、カラーフィルタ、固体撮像素子及び画像表示装置
WO2022191044A1 (ja) 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、カメラモジュール、化合物および赤外線吸収剤
WO2023176470A1 (ja) 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサおよびカメラモジュール
WO2023054215A1 (ja) 構造体、構造体の製造方法、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ
WO2023286582A1 (ja) 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、カメラモジュールおよび化合物
JP2024039687A (ja) 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、化合物および赤外線吸収剤

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 20773430

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2021507250

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 20773430

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1