JP7271692B2 - 近赤外吸収組成物、膜、光学フィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、赤外線センサ、カメラモジュール、並びに、インクジェットインク - Google Patents

Description

本開示は、近赤外吸収組成物、膜、光学フィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、赤外線センサ、カメラモジュール、並びに、インクジェットインクに関する。

光学フィルタの一例として、近赤外線吸収顔料を含む、赤外線カットフィルタ、赤外線透過フィルタ等が知られている。
上記のような光学フィルタを得るための硬化性組成物としては、例えば、特許文献１にて、近赤外線吸収色素と、不飽和二重結合を有する基を有する重合性モノマーとを含む硬化性組成物であって、上記近赤外線吸収色素は、単環又は縮合環の芳香族環を含むπ共役平面を有する化合物であり、上記硬化性組成物の全固形分中における上記近赤外線吸収色素の含有量が１０質量％以上であり、上記重合性モノマーの全質量中における、酸基及び水酸基から選ばれる少なくとも一種の基と不飽和二重結合を有する基とを有する重合性モノマーの含有量が５０質量％以下である、硬化性組成物が開示されている。

国際公開第２０１８／１４２７９９号

本開示の一実施形態が解決しようとする課題は、保存安定性に優れる近赤外吸収組成物を提供することである。
また、本開示の別の一実施形態が解決しようとする課題は、上記近赤外吸収組成物を用いた膜、光学フィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、赤外線センサ、カメラモジュール、並びにインクジェットインクを提供することである。

上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。

＜１＞ 近赤外線吸収顔料と、
塩基性基を有する樹脂と、
上記塩基性基を有する樹脂以外の、ＳＰ値が１９．７ＭＰａ^１／２～２１．２ＭＰａ^１／２で且つ酸価が７０ｍｇＫＯＨ／ｇ～１０５ｍｇＫＯＨ／ｇであるバインダー樹脂と、
を含む近赤外吸収組成物。

＜２＞ 上記バインダー樹脂が、芳香族環及び脂肪族環よりなる群から選択される少なくとも１種の環構造を有する構成単位を、上記バインダー樹脂の全構成単位に対して５０モル％～９０モル％で含む樹脂である、＜１＞に記載の近赤外吸収組成物。
＜３＞ 上記脂肪族環がビシクロ環又はトリシクロ環である、＜２＞に記載の近赤外吸収組成物。
＜４＞ 上記芳香族環がベンゼン環、ナフタレン環、又は含窒素複素芳香環である、＜２＞又は＜３＞に記載の近赤外吸収組成物。

＜５＞ 上記バインダー樹脂が、酸基を有する構成単位を、上記バインダー樹脂の全構成単位に対して１０モル％～４０モル％で含む樹脂である、＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の近赤外吸収組成物。
＜６＞ 上記バインダー樹脂の重量平均分子量が２０，０００以下である、＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の近赤外吸収組成物。

＜７＞ 上記塩基性基を有する樹脂が、第３級アミノ基を側鎖に有する樹脂、及び、主鎖に窒素原子を含む樹脂よりなる群から選択される少なくとも１種である、＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の近赤外吸収組成物。
＜８＞ 上記第３級アミノ基を側鎖に有する樹脂が、更に第４級アンモニウム塩基を側鎖に有する樹脂である、＜７＞に記載の近赤外吸収組成物。

＜９＞ 上記近赤外線吸収顔料が、ピロロピロール化合物又はスクアリリウム化合物である、＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の近赤外吸収組成物。
＜１０＞ スズの含有量が、近赤外吸収組成物の全固形分に対して、１ｐｐｍ～１５ｐｐｍである、＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の近赤外吸収組成物。

＜１１＞ 更に、重合性化合物及び重合開始剤を含む、＜１＞～＜１０＞のいずれか１つに記載の近赤外吸収組成物。
＜１２＞ ＜１＞～＜１１＞のいずれか１つに記載の近赤外吸収組成物からなる又は上記近赤外吸収組成物を硬化してなる膜。
＜１３＞ ＜１２＞に記載の膜を有する光学フィルタ。
＜１４＞ 赤外線カットフィルタ又は赤外線透過フィルタである、＜１３＞に記載の光学フィルタ。
＜１５＞ ＜１２＞に記載の膜を有する固体撮像素子。
＜１６＞ ＜１２＞に記載の膜を有する赤外線センサ。
＜１７＞ ＜１１＞に記載の近赤外吸収組成物を支持体上に適用して組成物層を形成する工程と、
上記組成物層をパターン状に露光する工程と、
未露光部を現像除去してパターンを形成する工程と、を含む
光学フィルタの製造方法。
＜１８＞ ＜１１＞に記載の近赤外吸収組成物を支持体上に適用して組成物層を形成し、硬化して層を形成する工程と、
上記層上にフォトレジスト層を形成する工程と、
露光及び現像することにより上記フォトレジスト層をパターニングしてレジストパターンを得る工程と、
上記レジストパターンをエッチングマスクとして上記層をドライエッチングする工程と、を含む
光学フィルタの製造方法。
＜１９＞ 固体撮像素子と、＜１３＞又は＜１４＞に記載の光学フィルタとを有するカメラモジュール。
＜２０＞ ＜１１＞に記載の近赤外吸収組成物を含むインクジェットインク。

本開示の一実施形態によれば、保存安定性に優れる近赤外吸収組成物が提供される。
更に、本開示の別の一実施形態によれば、上記近赤外吸収組成物を用いた膜、光学フィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、赤外線センサ、カメラモジュール、並びにインクジェットインクが提供される。

本開示に係る赤外線センサの一実施形態を示す概略図である。

以下において、本開示の内容について詳細に説明する。
本明細書において「全固形分」とは、組成物の全組成から溶剤を除いた成分の総質量をいう。また、「固形分」とは、上述のように、溶剤を除いた成分であり、例えば、２５℃において固体であっても、液体であってもよい。
本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も含む。また、露光に用いられる光としては、一般的に、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等の活性光線又は放射線が挙げられる。
本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレート及びメタクリレートの双方、又は、いずれかを表し、「（メタ）アクリル」は、アクリル及びメタクリルの双方、又は、いずれかを表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルの双方、又は、いずれかを表す。
本明細書において、化学式中のＭｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を、Ｐｒはプロピル基を、Ｂｕはブチル基を、Ａｃはアセチル基を、Ｂｎはベンジル基を、Ｐｈはフェニル基をそれぞれ示す。
本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
また、本開示において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
更に、本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
また、本開示における透過率は、特に断りのない限り、２５℃における透過率である。

本明細書において、樹脂の重量平均分子量及び数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算値として定義される。
本開示において、樹脂における「構成単位」の含有量をモル比で規定する場合、「構成単位」は「モノマー単位」と同義であるものとする。但し、本開示における「モノマー単位」は、高分子反応等により重合後に修飾されていてもよい。

＜近赤外吸収組成物＞
本開示に係る近赤外吸収組成物（以下、単に「組成物」ともいう）は、近赤外線吸収顔料と、塩基性基を有する樹脂と、上記塩基性基を有する樹脂以外の、ＳＰ値が１９．７ＭＰａ^１／２～２１．２ＭＰａ^１／２で且つ酸価が７０ｍｇＫＯＨ／ｇ～１０５ｍｇＫＯＨ／ｇであるバインダー樹脂（以下、「特定バインダー樹脂」ともいう）と、を含む。

近赤外線吸収顔料、塩基性基を有する樹脂である分散剤、及びバインダー樹脂を含む近赤外吸収組成物、具体的には、例えば、特許文献１に記載の硬化性組成物においては、経時での粘度上昇が見られ、保存安定性が低下する場合がある。
この理由は以下のように推測される。
分散剤が有する塩基性基は、近赤外線吸収顔料に対する吸着性能を有しており、近赤外線吸収顔料の分散性を高めている。しかしながら、組成物中に併存するバインダー樹脂によっては、分散剤の塩基性基に吸着し、分散剤を近赤外線吸収顔料から引き剥がしてしまう。その結果、塩基性基を有する樹脂による近赤外線吸収顔料の分散性能が発現し難くなり、経時にて近赤外線吸収顔料が凝集することで、保存安定性を低下させていたと考えられる。
そこで、保存安定性を高める課題について検討を行ったところ、特定のＳＰ値と特定の酸価とを有するバインダー樹脂を用いることで、上記課題を解決しうることを見出した。

即ち、本開示に係る近赤外吸収組成物は、近赤外線吸収顔料及び塩基性基を有する樹脂を含む組成物に、ＳＰ値が１９．７ＭＰａ^１／２～２１．２ＭＰａ^１／２で且つ酸価が７０ｍｇＫＯＨ／ｇ～１０５ｍｇＫＯＨ／ｇである特定バインダー樹脂を適用する。
このような組成とすることで、塩基性基を有する樹脂による近赤外線吸収顔料の分散性能が阻害されず、近赤外線吸収顔料の分散が保たれ、その結果、保存安定性に優れる近赤外吸収組成物が得られると推測される。
また、本開示に係る近赤外吸収組成物により膜が形成された場合、膜中においても、近赤外線吸収顔料の分散が高い状態を保つことができる。その結果、形成された膜の一部を現像等により除去する際には、近赤外線吸収顔料の凝集に由来する残渣の発生が低減すると推測される。

以下、本開示に係る組成物に含まれる各成分の詳細を説明する。

＜特定バインダー樹脂＞
本開示に係る組成物は、後述する塩基性基を有する樹脂以外の、ＳＰ値が１９．７ＭＰａ^１／２～２１．２ＭＰａ^１／２で且つ酸価が７０ｍｇＫＯＨ／ｇ～１０５ｍｇＫＯＨ／ｇであるバインダー樹脂を含む。
即ち、本開示における特定バインダー樹脂は、分子内に塩基性基を有さず、「塩基性基を有する樹脂」には該当しない樹脂である。
特定バインダー樹脂は、膜形成性に寄与する成分であり、特定バインダー樹脂を含むことで、本開示に係る組成物により膜が形成される。

ここで、本開示における特定バインダー樹脂のＳＰ値（単位：ＭＰａ^１／２）は、沖津法によって求められる溶解度パラメータである。沖津法は、従来周知のＳＰ値の算出方法の一つであり、例えば、日本接着学会誌Ｖｏｌ．２９、Ｎｏ．６（１９９３年）２４９～２５９頁に詳述されている方法であって、本開示における特定バインダー樹脂のＳＰ値もこの方法により算出される。

また、本開示における特定バインダー樹脂の酸価は、特定バインダー樹脂１ｇあたりの酸基を中和するのに要する水酸化カリウムの質量を表したものである。特定バインダー樹脂の酸価は次のようにして測定する。
すなわち、測定サンプルを、テトラヒドロフラン／水＝９／１（質量比）混合溶媒に溶解し、電位差滴定装置（商品名：ＡＴ－５１０、京都電子工業（株）製）を用いて、得られた溶液を、２５℃にて、０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液で中和滴定する。
滴定ｐＨ曲線の変曲点を滴定終点として、式（Ｉ）により酸価を算出する。
式（Ｉ） ： Ａ：酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）＝５６．１１×Ｖｓ×０．５×ｆ／ｗ
式（Ｉ）中、Ａは酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）を表し、Ｖｓは滴定に要した０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液の使用量（ｍＬ）を表し、ｆは０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液の力価を表し、ｗは測定サンプル質量（ｇ）（固形分換算）を表す。

特定バインダー樹脂におけるＳＰ値としては、保存安定性を高める観点から、２０．０ＭＰａ^１／２～２１．０ＭＰａ^１／２が好ましい。
特定バインダー樹脂における酸価としては、保存安定性を高める観点から、７２ｍｇＫＯＨ／ｇ～１０２ｍｇＫＯＨが好ましく、９０ｍｇＫＯＨ／ｇ～１００ｍｇＫＯＨがより好ましい。

特定バインダー樹脂は、上記のＳＰ値及び酸価を満たしていれば、構造については特に制限はない。
特定バインダー樹脂は、アクリル樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂、シロキサン樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。
中でも、ＳＰ値及び酸価を制御し易い観点、及び、形成される膜のアルカリ現像性が良好となる観点から、アクリル樹脂が好ましい。

特定バインダー樹脂は、ＳＰ値及び酸価（特にＳＰ値）を上記の範囲に制御する観点から、芳香族環及び脂肪族環よりなる群から選択される少なくとも１種の環構造を有する構成単位を、特定バインダー樹脂の全構成単位に対して５０モル％～９０モル％で含む樹脂であることが好ましい。
芳香族環及び脂肪族環よりなる群から選択される少なくとも１種の環構造を有する構成単位の含有量は、特定バインダー樹脂の全構成単位に対して、５５モル％～９０モル％であることが好ましく、６０モル％～８８モル％であることがより好ましい。

特定バインダー樹脂が、芳香族環及び脂肪族環よりなる群から選択される少なくとも１種の環構造を有する構成単位を含む場合、脂肪族環がビシクロ環又はトリシクロ環であることが好ましく、芳香族環がベンゼン環、ナフタレン環、又は含窒素複素芳香環であることが好ましい。

上記ビシクロ環としては、例えば、ビシクロ〔２，２，１〕ヘプタン、及びこれにアルキル基等の置換基が導入された環（例えば、イソボルニル環等）等が挙げられる。
上記トリシクロ環としては、アダマンタン（トリシクロ［３．３．１．１^３，７］デカンともいう）、及びこれにアルキル基等の置換基が導入された環等が挙げられる。

上記含窒素複素芳香環としては、カルバゾール環、これにアルキル基等の置換基が導入された環等が挙げられる。
また、ベンゼン環及びナフタレン環はアルキル基等の置換基が導入されていてもよい。

芳香族環及び脂肪族環よりなる群から選択される少なくとも１種の環構造を有する構成単位は、下記式（ａ）で表される構成単位であることが好ましい。

式（ａ）中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を表し、Ｌ^１は単結合又は－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－を表し、Ｘ^１は芳香族環及び脂肪族環よりなる群から選択される少なくとも１種の環構造を含む基を表す。

式（ａ）中、Ｘ^１は、イソボルニル基、アダマンタン基、ベンジル基、ナフチル基、又はカルバゾール基が好ましい。

特定バインダー樹脂は、芳香族環及び脂肪族環よりなる群から選択される少なくとも１種の環構造を有する構成単位（好ましくは、式（ａ）で表される構成単位）を１種単独で含んでいてもよいし、２種以上を含んでいてもよい。

特定バインダー樹脂は、ＳＰ値及び酸価（特に酸価）を上記の範囲に制御する観点から、酸基を有する構成単位を、特定バインダー樹脂の全構成単位に対して１０モル％～４０モル％で含む樹脂であることが好ましい。
酸基を有する構成単位の含有量は、特定バインダー樹脂の全構成単位に対して、１０モル％～３８モル％であることが好ましく、１２モル％～３８モル％であることがより好ましい。

上記酸基としては、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基が挙げられるが、中でも、本開示に係る組成物の経時安定性と形成される膜のアルカリ現像性との両立の観点から、カルボキシ基が好ましい。

酸基を有する構成単位は、下記式（ｂ）で表される構成単位であることが好ましい。

式（ｂ）中、Ｒ^２は水素原子又はメチル基を表し、Ｌ^２は単結合炭素数２～１０の２価の連結基を表し、Ｘ^２は酸基を表す。

式（ｂ）中、Ｌ^２は、アルキレン基とエステル結合とを含む炭素数２～１０の２価の連結基であることが好ましく、アルキレン基とエステル結合とからなる炭素数２～１０の２価の連結基であることがより好ましい。
式（ｂ）中、Ｘ^２は、カルボキシ基が好ましい。

特定バインダー樹脂は、酸基を有する構成単位（好ましくは、式（ｂ）で表される構成単位）を１種単独で含んでいてもよいし、２種以上を含んでいてもよい。

特定バインダー樹脂は、芳香族環及び脂肪族環よりなる群から選択される少なくとも１種の環構造を有する構成単位及び酸基を有する構成単位の他に、その他の構成単位を含んでいてもよい。
その他の構成単位としては、ＳＰ値及び酸価を上記の範囲に制御しうるものであれば特に制限はなく、（メタ）アクリレート化合物により形成される構成単位が好ましく挙げられる。
（メタ）アクリル酸アルキルエステル化合物であることが好ましく、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート等がより好ましく挙げられる。

その他の構成単位は、下記式（ｃ）で表される構成単位であることが好ましい。

式（ｃ）中、Ｒ^３は水素原子又はメチル基を表し、Ｌ^３は－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－を表し、Ｘ^３はアルキル基を表す。

式（ｃ）中、Ｘ^３は、炭素数１～１０である置換又は無置換のアルキル基が好ましく、炭素数１～８である置換又は無置換のアルキル基がより好ましい。
なお、Ｘ^３で表されるアルキル基に導入される置換基としては、ヒドロキシ基、アリル基等が挙げられる。

特定バインダー樹脂は、その他の構成単位（好ましくは、式（ｃ）で表される構成単位）を１種単独で含んでいてもよいし、２種以上を含んでいてもよい。

特定バインダー樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２０，０００以下が好ましく、１５，０００以下がより好ましく、１２，０００以下が更に好ましく、１０，０００以下が特に好ましい。
特定バインダー樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）の下限としては、２，０００以上が好ましく、３，０００以上がより好ましく、４，０００以上が更に好ましい。

特定バインダー樹脂の具体例としては、以下に示す樹脂１～６が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
なお、樹脂１～６において、主鎖の各構成単位に付記した数値はモル比である。

本開示に係る組成物は、特定バインダー樹脂を１種単独で含んでいてもよいし、２種以上を含んでいてもよい。

本開示に係る組成物における特定バインダー樹脂の含有量は、本開示に係る組成物の使用目的、用途等に応じて、適宜、決定されればよい。
特定バインダー樹脂は、例えば、後述する塩基性基を有する樹脂に対して、質量基準にて、１倍～３０倍（好ましくは１．５倍～２７倍、より好ましくは２倍～２５倍）にて用いることができる。

［その他のバインダー樹脂］
本開示に係る組成物は、既述の保存安定性に優れるといった効果を損なわない範囲において、特定バインダー樹脂以外のその他のバインダー樹脂を含んでいてもよい。
その他のバインダー樹脂は、ＳＰ値及び酸価のいずれか一方が上記の範囲を満たさない樹脂であって、且つ、分子内に塩基性基を有さず、「塩基性基を有する樹脂」には該当しない樹脂である。
その他のバインダー樹脂を用いる場合、本開示に係る組成物に含まれる総バインダー樹脂に対する、その他のバインダー樹脂の含有量は、１０質量％以下であることが好ましく、５質量％以下であることがより好ましく、０質量％であることが特に好ましい。

＜近赤外線吸収顔料＞
本開示に係る組成物は、近赤外線吸収顔料を含む。
本開示において、「近赤外線」は、波長７００ｎｍ～２，５００ｎｍの赤外線を指し、「近赤外線吸収顔料」は、波長７５０ｎｍ～２，５００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する顔料である。
近赤外線吸収顔料は、波長７５０ｎｍ～１，８００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する顔料であることが好ましい。また、近赤外線吸収顔料は、波長５００ｎｍにおける吸光度Ａ^１と極大吸収波長における吸光度Ａ^２との比率Ａ^１／Ａ^２が、０．０８以下であることが好ましく、０．０４以下であることがより好ましい。
なお、本開示において、顔料とは、溶剤に不溶の色素を意味する。ここで、溶剤に不溶とは、２５℃における対象物質の溶剤１００ｍｇに対する溶解度が０．１ｇ以下であることを指す。ここで溶剤としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ－ト又は水が挙げられ、いずれの溶剤であっても上記の溶解度であるものが顔料である。

近赤外線吸収顔料としては、ピロロピロール化合物、スクアリリウム化合物、シアニン化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、クアテリレン化合物、メロシアニン化合物、クロコニウム化合物、オキソノール化合物、イミニウム化合物、ジチオール化合物、トリアリールメタン化合物、ピロメテン化合物、アゾメチン化合物、アントラキノン化合物、ジベンゾフラノン化合物、金属酸化物、金属ホウ化物等が挙げられる。
中でも、近赤外線吸収顔料としては、耐久性の観点から、ピロロピロール化合物又はスクアリリウム化合物が特に好ましい。

［ピロロピロール化合物］
ピロロピロール化合物としては、式（ＰＰ）で表される化合物であることが好ましい。

式（ＰＰ）中、Ｒ^１ａ及びＲ^１ｂは、各々独立に、アルキル基、アリール基、又はヘテロアリール基を表し、Ｒ^２及びＲ^３は、各々独立に、水素原子又は置換基を表し、Ｒ^２及びＲ^３は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ^４は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＢＲ^４ＡＲ^４Ｂ、又は金属原子を表し、Ｒ^４は、Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂ、及びＲ^３から選ばれる少なくとも一つと共有結合若しくは配位結合していてもよく、Ｒ^４Ａ及びＲ^４Ｂは、各々独立に、置換基を表す。

式（ＰＰ）の詳細については、特開２００９－２６３６１４号公報の段落番号００１７～００４７、特開２０１１－６８７３１号公報の段落番号００１１～００３６、国際公開第２０１５／１６６８７３号の段落番号００１０～００２４の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

式（ＰＰ）において、Ｒ^１ａ及びＲ^１ｂは、各々独立に、アリール基又はヘテロアリール基が好ましく、アリール基がより好ましい。また、Ｒ^１ａ及びＲ^１ｂで表されるアルキル基、アリール基、及びヘテロアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。
置換基としては、後述する置換基Ｔが挙げられる。

－置換基Ｔ－
置換基Ｔとしては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＯＲｔ^１、－ＣＯＲｔ^１、－ＣＯＯＲｔ^１、－ＯＣＯＲｔ^１、－ＮＲｔ^１Ｒｔ^２、－ＮＨＣＯＲｔ^１、－ＣＯＮＲｔ^１Ｒｔ^２、－ＮＨＣＯＮＲｔ^１Ｒｔ^２、－ＮＨＣＯＯＲｔ^１、－ＳＲｔ^１、－ＳＯ_２Ｒｔ^１、－ＳＯ_２ＯＲｔ^１、－ＮＨＳＯ_２Ｒｔ^１又は－ＳＯ_２ＮＲｔ^１Ｒｔ^２が挙げられる。Ｒｔ^１及びＲｔ^２は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、又はヘテロアリール基を表す。Ｒｔ^１とＲｔ^２が結合して環を形成してもよい。

式（ＰＰ）において、Ｒ^２及びＲ^３は、各々独立に水素原子又は置換基を表す。置換基としては、既述の置換基Ｔが挙げられる。Ｒ^２及びＲ^３の少なくとも一方は電子求引性基であることが好ましく、シアノ基、カルボキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルキルスルホニル基、又はアリールスルホニル基であることがより好ましく、シアノ基であることが更に好ましい。

式（ＰＰ）において、Ｒ^２は電子求引性基（好ましくはシアノ基）を表し、Ｒ^３はヘテロアリール基を表すことが好ましい。ヘテロアリール基は、５員環又は６員環が好ましい。また、ヘテロアリール基は、単環又は縮合環が好ましく、単環又は縮合数が２～８の縮合環が好ましく、単環又は縮合数が２～４の縮合環がより好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数は、１～３が好ましく、１～２がより好ましい。ヘテロ原子としては、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子が例示される。ヘテロアリール基は、窒素原子を１個以上有することが好ましい。式（ＰＰ）における２個のＲ^２同士は同一であってもよく、異なっていてもよい。また、式（ＰＰ）における２個のＲ^３同士は同一であってもよく、異なっていてもよい。

式（ＰＰ）において、Ｒ^４は、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、又は－ＢＲ^４ＡＲ^４Ｂで表される基であることが好ましく、水素原子、アルキル基、アリール基、又は－ＢＲ^４ＡＲ^４Ｂで表される基であることがより好ましく、－ＢＲ^４ＡＲ^４Ｂで表される基であることが更に好ましい。Ｒ^４Ａ及びＲ^４Ｂは、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又は、ヘテロアリール基が好ましく、アルキル基、アリール基、又は、ヘテロアリール基がより好ましく、アリール基が特に好ましい。これらの基は更に置換基を有していてもよい。式（ＰＰ）における２個のＲ^４同士は同一であってもよく、異なっていてもよい。Ｒ^４Ａ及びＲ^４Ｂは互いに結合して環を形成していてもよい。

ピロロピロール化合物としては、式（ＰＰ－１）で表される化合物であってもよい。

式（ＰＰ－１）中、Ｒ^１ａ、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４は、いずれも、式（ＰＰ）中のＲ^１ａ、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４と同義であり、Ｒ^１ｂは、アルキレン基、アリーレン基、又はヘテロアリーレン基を表し、Ｌは、下記式（Ｌ１）又は下記式（Ｌ２）で表される基である。

式（ＰＰ－１）中のＲ^１ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４は、いずれも、式（ＰＰ）中のＲ^１ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４と同義であり、好ましい態様も同様である。

＊－Ｘ^１－Ａ^１―Ｘ^２－＊ 式（Ｌ１）
上記式（Ｌ１）中、Ｘ^１及びＸ^２は、各々独立に、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－，－ＮＲ^１Ａ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯＯ－、－ＳＯ_２ＮＲ^１Ａ－、－ＣＯＮＲ^１Ａ－、－ＯＣＯＮＲ^１Ａ－、又は－ＮＲ^１ＡＣＯＮＲ^１Ａ－を表し、Ｒ^１Ａは、各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表し、Ａ^１は、単結合、脂肪族環構造、芳香族環構造、又は複素環構造を表し、＊は、Ｒ^１ｂとの連結位置を表し、ただし、Ａ^１が単結合のとき、Ｘ^１及びＸ^２の両方が単結合となることはない。

＊－Ｘ^３―Ａ^２―Ｌ^２―Ａ^３―Ｘ^４－＊ 式（Ｌ２）
上記式（Ｌ２）中、Ｘ^３及びＸ^４は各々独立に、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ^２Ａ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯＯ－、－ＳＯ_２ＮＲ^２Ａ－、－ＣＯＮＲ^２Ａ－、－ＯＣＯＮＲ^２Ａ－、又は－ＮＲ^２ＡＣＯＮＲ^２Ａ－を表し、Ｒ^２Ａは水素原子又はアルキル基を表し、Ｌ^２は、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ^２Ｂ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯＯ－、－ＳＯ_２ＮＲ^２Ｂ－、－ＣＯＮＲ^２Ｂ－、－ＯＣＯＮＲ^２Ｂ－、－ＮＲ^２ＢＣＯＮＲ^２Ｂ－、炭素数１～６のアルキレン基、アルケニル基、アルキニル基、芳香族環構造、又はこれらを組み合わせた基を表し、Ｒ^２Ｂは、各々独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Ａ^２及びＡ^３は、各々独立に、脂肪族環構造、芳香族環構造、又は複素環構造を表す。

ピロロピロール化合物の具体例としては、下記化合物が挙げられる。
以下の構造式中、Ｍｅはメチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。
また、ピロロピロール化合物としては、特開２００９－２６３６１４号公報の段落番号００１６～００５８に記載の化合物、特開２０１１－６８７３１号公報の段落番号００３７～００５２に記載の化合物などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

［スクアリリウム化合物］
スクアリリウム化合物としては、下記式（ＳＱ）で表される化合物であることが好ましい。

式（ＳＱ）中、Ａ^１及びＡ^２は、各々独立に、アリール基、ヘテロアリール基、又は式（Ａ－１）で表される基を表す；

式（Ａ－１）中、Ｚ^１は、含窒素複素環を形成する非金属原子団を表し、Ｒ^２は、アルキル基、アルケニル基又はアラルキル基を表し、ｄは、０又は１を表し、波線は連結手を表す。式（ＳＱ）の詳細については、特開２０１１－２０８１０１号公報の段落番号００２０～００４９、特許第６０６５１６９号公報の段落番号００４３～００６２、国際公開第２０１６／１８１９８７号の段落番号００２４～００４０の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

なお、式（ＳＱ）においてカチオンは、以下のように非局在化して存在している。

スクアリリウム化合物は、下記式（ＳＱ－１）で表される化合物であることが好ましい。

式（ＳＱ－１）中、環Ａ及び環Ｂは、各々独立に芳香族環を表し、Ｘ^Ａ及びＸ^Ｂは各々独立に置換基を表し、Ｇ^Ａ及びＧ^Ｂは各々独立に置換基を表し、ｋＡは０～ｎ_Ａの整数を表し、ｋＢは０～ｎ_Ｂの整数を表し、ｎ_Ａ及びｎ_Ｂはそれぞれ環Ａ又は環Ｂに置換可能な最大の整数を表し、Ｘ^ＡとＧ^Ａ、Ｘ^ＢとＧ^Ｂ、Ｘ^ＡとＸ^Ｂは、互いに結合して環を形成してもよく、Ｇ^Ａ及びＧ^Ｂがそれぞれ複数存在する場合は、互いに結合して環構造を形成していてもよい。

Ｇ^Ａ及びＧ^Ｂで表される置換基としては、既述の置換基Ｔが挙げられる。

Ｘ^Ａ及びＸ^Ｂで表される置換基としては、活性水素を有する基が好ましく、－ＯＨ、－ＳＨ、－ＣＯＯＨ、－ＳＯ_３Ｈ、－ＮＲ^Ｘ１Ｒ^Ｘ２、－ＮＨＣＯＲ^Ｘ１、－ＣＯＮＲ^Ｘ１Ｒ^Ｘ２、－ＮＨＣＯＮＲ^Ｘ１Ｒ^Ｘ２、－ＮＨＣＯＯＲ^Ｘ１、－ＮＨＳＯ_２Ｒ^Ｘ１、－Ｂ（ＯＨ）_２及び－ＰＯ（ＯＨ）_２がより好ましく、－ＯＨ、－ＳＨ及び－ＮＲ^Ｘ１Ｒ^Ｘ２が更に好ましい。Ｒ^Ｘ１及びＲ^Ｘ２は、各々独立に水素原子又は置換基を表す。Ｘ^Ａ及びＸ^Ｂにおける置換基Ｒ^Ｘ１及びＲ^Ｘ２としてはアルキル基、アリール基、又は、ヘテロアリール基が挙げられ、アルキル基が好ましい。

環Ａ及び環Ｂは、各々独立に、芳香族環を表す。芳香族環は単環であってもよく、縮合環であってもよい。芳香族環の具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、ペンタレン環、インデン環、アズレン環、ヘプタレン環、インダセン環、ペリレン環、ペンタセン環、アセナフテン環、フェナントレン環、アントラセン環、ナフタセン環、クリセン環、トリフェニレン環、フルオレン環、ビフェニル環、ピロール環、フラン環、チオフェン環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、インドリジン環、インドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、イソベンゾフラン環、キノリジン環、キノリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、キノキサリン環、キノキサゾリン環、イソキノリン環、カルバゾール環、フェナントリジン環、アクリジン環、フェナントロリン環、チアントレン環、クロメン環、キサンテン環、フェノキサチイン環、フェノチアジン環、及び、フェナジン環が挙げられ、ベンゼン環又はナフタレン環が好ましい。芳香族環は、無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、既述の置換基Ｔが挙げられる。

Ｘ^ＡとＧ^Ａ、Ｘ^ＢとＧ^Ｂ、Ｘ^ＡとＸ^Ｂは、互いに結合して環を形成してもよく、Ｇ^Ａ及びＧ^Ｂがそれぞれ複数存在する場合は、互いに結合して環を形成していてもよい。環としては、５員環又は６員環が好ましい。環は単環であってもよく、縮合環であってもよい。Ｘ^ＡとＧ^Ａ、Ｘ^ＢとＧ^Ｂ、Ｘ^ＡとＸ^Ｂ、Ｇ^Ａ同士又はＧ^Ｂ同士が結合して環を形成する場合、これらが直接結合して環を形成してもよく、アルキレン基、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＮＨ－、－ＢＲ－及びそれらの組み合わせからなる２価の連結基を介して結合して環を形成してもよい。Ｒは、水素原子又は置換基を表す。置換基としては、既述の置換基Ｔが挙げられ、アルキル基又はアリール基が好ましい。

ｋＡは０～ｎ_Ａの整数を表し、ｋＢは０～ｎ_Ｂの整数を表し、ｎ_Ａは、環Ａに置換可能な最大の整数を表し、ｎ_Ｂは、環Ｂに置換可能な最大の整数を表す。ｋＡ及びｋＢは、各々独立に０～４が好ましく、０～２がより好ましく、０～１が特に好ましい。

スクアリリウム化合物は、下記式（ＳＱ－２）で表される化合物であることが好ましい。

式（ＳＱ－２）中、Ｒｓ^１１９及びＲｓ^１２０は各々独立に置換基を表し、Ａ^１及びＡ^２は各々独立に酸素原子又はＮＲｓ^１２５を表し、Ｒｓ^１２１～Ｒｓ^１２５は各々独立に水素原子又は置換基を表し、Ｘ^３０及びＸ^３１は、各々独立に、炭素原子、ホウ素原子、又はＣ（＝Ｏ）を表し、Ｘ^３０が炭素原子の場合にはｎｓ３２は２であり、Ｘ^３０がホウ素原子の場合にはｎｓ３２は１であり、Ｘ^３０がＣ（＝Ｏ）の場合にはｎｓ３２は０であり、Ｘ^３１が炭素原子の場合にはｎｓ３３は２であり、Ｘ^３１がホウ素原子の場合にはｎｓ３３は１であり、Ｘ^３１がＣ（＝Ｏ）の場合にはｎｓ３３は０であり、ｎｓ３０及びｎｓ３１は各々独立に０～５の整数を表し、ｎｓ３０が２以上の場合は、複数のＲｓ^１１９は同一であっても異なっていてもよく、複数のＲｓ^１１９のうち２個のＲｓ^１１９同士が結合して環を形成してもよく、ｎｓ３１が２以上の場合は、複数のＲｓ^１２０は同一であっても異なっていてもよく、複数のＲｓ^１２０のうち２個のＲｓ^１２０同士が結合して環を形成してもよく、ｎｓ３２が２の場合は、２個のＲｓ^１２１は同一であっても異なっていてもよく、２個のＲｓ^１２１同士が結合して環を形成してもよく、ｎｓ３３が２の場合は、２個のＲｓ^１２２は同一であっても異なっていてもよく、２個のＲｓ^１２２同士が結合して環を形成してもよく、Ａｒ^１００はアリール基又はヘテロアリール基を表し、ｎｓ１００は０～２の整数を表す。

スクアリリウム化合物は、下記式（ＳＱ－３）で表される化合物であることが好ましい。

式（ＳＱ－３）中、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｙ^１、及びＹ^２は、各々独立に、アルキレン基、アルキニレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、ヘテロアリーレン基、又はこれらを２以上結合した二価の基を表し、Ｚ^１及びＺ^２は、各々独立に、単結合、－Ｏ－、カルボニル基、－Ｓ－、－Ｎ（Ｒ^Ｎ１）－、－Ｓ（＝Ｏ）－、又は、－Ｓ（＝Ｏ）_２－を表し、Ａ^１及びＡ^２は、各々独立に、－Ｏ－又は－Ｎ（Ｒ^Ｎ２）－を表し、Ｒ^Ｎ１及びＲ^Ｎ２は、各々独立に、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表し、Ｒ^７及びＲ^８は各々独立に置換基を表し、ｎ１及びｎ２は各々独立に０～５の整数を表す。
但し、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｙ^１、及びＹ^２がアルキレン基を表し、Ａ^１及びＡ^２が－Ｎ（Ｒ^Ｎ２）－を表す場合、Ｚ^１及びＺ^２のうち少なくとも一方が、－Ｏ－、カルボニル基、－Ｓ－、－Ｎ（Ｒ^Ｎ１）－、－Ｓ（＝Ｏ）－、又は、－Ｓ（＝Ｏ）_２－を表す。

スクアリリウム化合物は、下記式（ＳＱ－４）で表される化合物であることが好ましい。

式（ＳＱ－４）中、Ｑ^１、Ｑ^２、Ｑ^３、及びＱ^４は、各々独立に、炭素原子又は窒素原子を表す。Ｑ^１、Ｑ^２、Ｑ^３、及びＱ^４が窒素原子の場合、Ｘ^１、Ｘ^４、Ｘ^５、及びＸ^８はないものとする。Ｒ^１～Ｒ^５は、各々独立に、水素原子、アルキル基、スルホ基、－ＳＯ_３－Ｍ^＋、又はハロゲン原子を表す。Ｍ^＋は無機又は有機のカチオンを表す。Ｘ^１～Ｘ^８は、各々独立に、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、ヒドロキシル基、アミノ基、－ＮＲ^６Ｒ^７、スルホ基、－ＳＯ_２ＮＲ^８Ｒ^９、－ＣＯＯＲ^１０、－ＣＯＮＲ^１１Ｒ^１２、ニトロ基、シアノ基、又はハロゲン原子を表す。Ｘ^１～Ｘ^８は互いに結合して環を形成してもよい。Ｒ^６～Ｒ^１２は、各々独立に、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアシル基、又は置換基を有してもよいピリジニル基を表す。Ｒ^２とＲ^３、Ｒ^６とＲ^７、Ｒ^７とＲ^８、Ｒ^８とＲ^９、Ｒ^１１とＲ^１２は、それぞれ、互いに結合して環を形成してもよい。

スクアリリウム化合物の具体例としては、下記の化合物［ＳＱ－１～ＳＱ－６１］が挙げられる。
また、スクアリリウム化合物としては、特開２０１１－２０８１０１号公報の段落番号００４４～００４９に記載の化合物、特許第６０６５１６９号公報の段落番号００６０～００６１に記載の化合物、国際公開第２０１６／１８１９８７号の段落番号００４０に記載の化合物、国際公開第２０１３／１３３０９９号に記載の化合物、国際公開第２０１４／０８８０６３号に記載の化合物、特開２０１４－１２６６４２号公報に記載の化合物、特開２０１６－１４６６１９号公報に記載の化合物、特開２０１５－１７６０４６号公報に記載の化合物、特開２０１７－２５３１１号公報に記載の化合物、国際公開第２０１６／１５４７８２号に記載の化合物、特許５８８４９５３号公報に記載の化合物、特許６０３６６８９号公報に記載の化合物、特許５８１０６０４号公報に記載の化合物、特開２０１７－０６８１２０号公報に記載の化合物などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

本開示に係る組成物は、近赤外線吸収顔料を１種単独で含んでいてもよいし、２種以上を含んでいてもよい。

本開示に係る組成物における近赤外線吸収顔料の含有量は、本開示に係る組成物の使用目的、用途等に応じて、適宜、決定されればよい。
近赤外線吸収顔料の含有量は、例えば、近赤外線吸収顔料に求められる機能を発現する観点から、例えば、組成物の全固形分に対し、１質量％以上８０質量％以下であることが好ましく、５質量％以上５０質量％以下であることがより好ましい。

＜塩基性基を有する樹脂＞
本開示に係る組成物は、塩基性基を有する樹脂を含む。
ここで、塩基性基としては、塩基としての性質を示す官能基であり、窒素原子を含む基であることが好ましく、より具体的には、第１級アミノ基又はその塩、第２級アミノ基又はその塩、第３級アミノ基又はその塩、第４級アンモニウム塩基等であることがより好ましい。塩基性基を有する樹脂中の塩基性基は、特定バインダー樹脂の酸基にて中和され、塩を形成していてもよい。つまり、本開示に係る組成物は、近赤外線吸収顔料と、特定バインダー樹脂と、特定バインダー樹脂の酸基にて中和された塩を塩基性基として有する樹脂と、を含む組成物であってもよい。

塩基性基を有する樹脂としては、例えば、第３級アミノ基を側鎖に有する樹脂、及び、主鎖に窒素原子を含む樹脂よりなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましい。
特に、近赤外線吸収顔料の分散性向上の観点から、上記第３級アミノ基を側鎖に有する樹脂が、更に第４級アンモニウム塩基を側鎖に有する樹脂であることが好ましい。即ち、塩基性基を有する樹脂としては、第３級アミノ基と第４級アンモニウム塩基とを側鎖に有する樹脂であることが好ましい。

［第３級アミノ基を側鎖に有する樹脂］
第３級アミノ基を側鎖に有する樹脂は、第３級アミノ基を有する構成単位を有する樹脂であることが好ましく、第３級アミノ基を有する構成単位と第４級アンモニウム塩基を有する構成単位とを有する樹脂であることがより好ましい。また、第３級アミノ基を側鎖に有する樹脂は、第３級アミノ基を有する構成単位及び第４級アンモニウム塩基を有する構成単位以外に、更に、その他の構成単位を有していてもよい。
また、第３級アミノ基を側鎖に有する樹脂は、ブロック構造を有していることも好ましい。

第３級アミノ基と第４級アンモニウム塩基とを側鎖に有する樹脂の場合、アミン価が１０ｍｇＫＯＨ／ｇ～２５０ｍｇＫＯＨ／ｇ、且つ、第４級アンモニウム塩価が１０ｍｇＫＯＨ／ｇ～９０ｍｇＫＯＨ／ｇであるものが好ましく、アミン価が５０ｍｇＫＯＨ／ｇ～２００ｍｇＫＯＨ／ｇ、且つ、第４級アンモニウム塩価が１０ｍｇＫＯＨ／ｇ～５０ｍｇＫＯＨ／ｇであるものがより好ましい。

ここで、上記のアミン価は、０．１Ｎの塩酸水溶液を用い、電位差滴定法によって求められたアミン価を、水酸化カリウムの当量に換算したものである。
また、上記の４級アンモニウム塩価は、５％クロム酸カリウム水溶液を指示薬として、０．１Ｎの硝酸銀水溶液で滴定して求められたアミン価を、水酸化カリウムの当量に換算したものである。

第３級アミノ基を側鎖に有する樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、３，０００～３００，０００であることが好ましく、５，０００～３０，０００であることがより好ましい。

第３級アミノ基を側鎖に有する樹脂は、第３級アミノ基を有するエチレン性不飽和化合物と、必要に応じて、第４級アンモニウム塩基を有するエチレン性不飽和化合物、及びその他エチレン性不飽和化合物と、を共重合することで得られる。
なお、予め、第３級アミンを有するエチレン性不飽和化合物を用いて重合体を合成した後、該重合体に塩化ベンジル等のハロゲン化炭化水素化合物を反応させて、部分的に第３級アミノ基を第４級アンモニウム塩基に変性して、第４級アンモニウム基を導入してもよい。

第３級アミノ基を有するエチレン性不飽和化合物としては、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。
第４級アンモニウム塩基を有するエチレン性不飽和化合物としては、（メタ）アクリロイルアミノプロピルトリメチルアンモニウムクロライド、（メタ）アクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド、（メタ）アクリロイルオキシエチルトリエチルアンモニウムクロライド、（メタ）アクリロイルオキシエチル（４－ベンゾイルベンジル）ジメチルアンモニウムブロマイド、（メタ）アクリロイルオキシエチルベンジルジメチルアンモニウムクロライド、（メタ）アクリロイルオキシエチルベンジルジエチルアンモニウムクロライド等が挙げられる。
第３級アミノ基を有するエチレン性不飽和化合物及び第４級アンモニウム塩基を有するエチレン性不飽和化合物については、国際公開第２０１８／２３０４８６号の段落０１５０～０１７０に記載されたものも挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
その他のエチレン性不飽和化合物としては、アルキル（メタ）アクリレートが挙げられ、炭素数１～１０のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレートが好ましく、炭素数１～５のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレートがより好ましい。具体的には、その他のエチレン性不飽和化合物としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ－ブチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

第３級アミノ基を側鎖に有する樹脂の具体例としては、下記の化合物が挙げられる。下記の化合物において、主鎖の各構成単位に付記した数値はモル比である。

［主鎖に窒素原子を含む樹脂］
主鎖に窒素原子を含む樹脂（以下、オリゴイミン系樹脂ともいう）は、ポリ（低級アルキレンイミン）系の構成単位を含むことが好ましい。
ここで、本開示における低級アルキレンイミンとは、炭素数１～５のアルキレンイミンを表す。
オリゴイミン系樹脂としては、近赤外線吸収顔料の分散性向上の観点から、ポリ（低級アルキレンイミン）系の構成単位であって、窒素原子に結合したｐＫａ１４以下の官能基を含む側鎖Ｘを有する構成単位と、原子数４０～１０，０００のオリゴマー鎖又はポリマー鎖を含む側鎖Ｙを有する構成単位と、を有する樹脂であることが好ましい。
また、オリゴイミン系樹脂としては、第１級アミノ基又はその塩、第２級アミノ基又はその塩、第３級アミノ基又はその塩、第４級アンモニウム塩基からなる群より選択される少なくとも１種を含むことが好ましい。

オリゴイミン系樹脂としては、式（ＯＩ－１）で表される構成単位と式（ＯＩ－２）で表される構成単位とを有する樹脂であることが好ましい。

式（ＯＩ－１）及び（ＯＩ－２）中、Ｒ^１及びＲ^２は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、又はアルキル基を表し、ａは、各々独立に、１～５の整数を表し、＊は構成単位間の連結部を表し、ＸはｐＫａ１４以下の官能基を含む側鎖を表し、Ｙは原子数４０～１０，０００のオリゴマー鎖又はポリマー鎖を含む側鎖を表す。

Ｘで表される側鎖に含まれるｐＫａ１４以下の官能基としては、以下のものが挙げられる。
なお、本開示における「ｐＫａ」とは、化学便覧（II）（改訂４版、１９９３年、日本化学会編、丸善株式会社）に記載されている定義のものである。
「ｐＫａ１４以下の官能基」は、その構造は特に限定されず、公知の官能基でｐＫａが１４以下を満たすものが挙げられるが、特にｐＫａが１２以下である官能基がより好ましく、ｐＫａが１１以下である官能基が更に好ましい。具体的には、例えば、カルボン酸基（ｐＫａ３～５程度）、スルホン酸基（ｐＫａ－３～－２程度）、－ＣＯＣＨ_２ＣＯ－（ｐＫａ８～１０程度）、－ＣＯＣＨ_２ＣＮ（ｐＫａ８～１１程度）、－ＣＯＮＨＣＯ－、フェノール性水酸基、－Ｒ^ＦＣＨ_２ＯＨ、又は－（Ｒ^Ｆ）_２ＣＨＯＨ（ここで、Ｒ_Ｆはペルフルオロアルキル基を表す。ｐＫａ９～１１程度）、スルホンアミド基（ｐＫａ９～１１程度）等が挙げられ、特に、カルボン酸基、スルホン酸基、又は－ＣＯＣＨ_２ＣＯ－が好ましい。

オリゴイミン系樹脂は、式（ＯＩ－１）で表される構成単位及び式（ＯＩ－２）で表される構成単位の他に、更に、式（ＯＩ－３）で表される構成単位を有することが好ましい。

式（ＯＩ－３）中、＊、Ｒ^１、Ｒ^２、及びａは一般式（ＯＩ－１）と同義である。Ｙ’はアニオン基を有する原子数４０～１０，０００のオリゴマー鎖又はポリマー鎖を含む側鎖を表す。

ここで、式（ＯＩ－３）で表される構成単位は、主鎖部に一級又は二級アミノ基を有する構成単位を有する樹脂に、アミンと反応して塩を形成する基を有するオリゴマー又はポリマーを添加して反応させることで形成することが可能である。

式（ＯＩ－１）、式（ＯＩ－２）、及び式（ＯＩ－３）において、原料入手の観点から、Ｒ^１及びＲ^２は水素原子であることが好ましく、ａは２であることが好ましい。

オリゴイミン系樹脂は、式（ＯＩ－１）、式（ＯＩ－２）、及び式（ＯＩ－３）で表される構成単位以外に、ポリ（低級アルキレンイミン）を構成単位として含んでいてもよい。前述と同様に、低級アルキレンイミンとは、炭素数１～５のアルキレンイミンを表す。
なお、ポリ（低級アルキレンイミン）における窒素原子には、更に、前記Ｘ、Ｙ、又はＹ’で表される側鎖のうち１種以上が結合していてもよい。

オリゴイミン系樹脂については、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落０１０２～０１６６の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

主鎖に窒素原子を含む樹脂（オリゴイミン系樹脂）の具体例としては、下記の３つの化合物が挙げられる。下記化合物において、主鎖の各構成単位に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。

本開示において、塩基性基を有する樹脂は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

本開示に係る組成物における塩基性基を有する樹脂の含有量は、近赤外線吸収顔料の種類及び含有量に応じて適宜設定すればよい。
例えば、塩基性基を有する樹脂の含有量は、近赤外線吸収顔料の総量（好ましくは、近赤外線吸収顔料と近赤外線吸収顔料以外の顔料との総量）に対して、１５質量％～９０質量％であることが好ましく、２５質量％～７０質量％であることがより好ましく、３０質量％～５０質量％であることが更に好ましい。

（スズの含有量）
本開示に係る組成物は、使用する塩基性基を有する樹脂の種類によっては、塩基性基を有する樹脂の合成時に使用されるスズ（Ｓｎ）が含まれることがある。
そこで、本開示に係る組成物におけるスズ（Ｓｎ）の含有量は、例えば、組成物の全固形分に対して、１ｐｐｍ～１５ｐｐｍが好ましい。
本開示において、「ｐｐｍ」、後述する「ｐｐｂ」及び「ｐｐｔ」は、いずれも、質量基準である。
上記のスズの含有量を満たすために用いられる塩基性基を有する樹脂としては、例えば、主鎖に窒素原子を含む樹脂が挙げられる。

本開示に係る組成物におけるスズの含有量は、以下の方法にて測定される。
スズの含有量は、公知の方法に従い、ガスクロマトグラフィーにて検量線を作成の上、測定する。

［その他の成分］
本開示に係る組成物は、膜が得られる組成物であることが好ましく、最終的に硬化することにより硬化膜が得られる硬化性組成物であることが好ましい。
また、本開示に係る組成物は、特定の酸価を有する特定バインダー樹脂を含むことから、例えば、パターン露光により硬化膜のパターンを形成し、未露光部を現像除去することができる硬化性組成物であることが好ましい。すなわち、本開示に係る組成物はネガ型の硬化性組成物であることが好ましい。
本開示に係る組成物がネガ型の硬化性組成物の場合、既述の、近赤外線吸収顔料、特定バインダー樹脂、及び塩基性基を有する樹脂以外に、更に、重合開始剤及び重合性化合物を含む態様が好ましい。
また、本開示に係る組成物は、本開示に係る組成物の効果を損なわない範囲において、既述の塩基性基を有する樹脂以外の分散剤、及び、近赤外線吸収顔料以外の顔料を含んでいてもよい。

［硬化性組成物］
本開示に係る組成物は、近赤外線吸収顔料、特定バインダー樹脂、及び塩基性基を有する樹脂に加え、更に、重合性化合物及び重合開始剤を含む、所謂、硬化性組成物であることが好ましい。
上記の硬化性組成物は本開示に係る組成物を含むことから、硬化性組成物から形成された膜中においても、近赤外線吸収顔料の分散が高い状態を保つことができる。その結果、上記の硬化性組成物によれば、形成された膜の一部を現像除去する際に、近赤外線吸収顔料の凝集に由来する残渣が生じにくく、現像残渣が低減される。
以下、本開示に係る組成物がネガ型の硬化性組成物である場合について詳細に記載する。

本開示における硬化性組成物での近赤外線吸収顔料の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して、１質量％～３０質量％であることが好ましく、５質量％～３０質量％であることがより好ましく、５質量％～２０質量％であることが更に好ましい。
近赤外線吸収顔料の含有量が上記範囲内であると、近赤外線吸収顔料による機能が十分に発現する。

本開示における硬化性組成物での特定バインダー樹脂の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して、１０質量％～５０質量％であることが好ましく、１０質量％～４０質量％であることがより好ましく、１５質量％～３５質量％であることが更に好ましい。
特定バインダー樹脂の含有量が上記範囲内であると、優れた膜形成性が得られる。

本開示における硬化性組成物での塩基性基を有する樹脂の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して、０．５質量％～２０質量％であることが好ましく、１質量％～２０質量％であることがより好ましく、５質量％～１５質量％であることが更に好ましい。
塩基性基を有する樹脂の含有量が上記範囲内であると、保存安定性が高まる。

［重合性化合物］
本開示における硬化性組成物は、重合性化合物を含むことが好ましい。
重合性化合物としては、エチレン性不飽和化合物であることがより好ましく、末端エチレン性不飽和基を有する化合物であることが特に好ましい。
このような化合物群としては、公知のものを特に限定なく用いることができる。
重合性化合物は、例えば、モノマー、プレポリマー、即ち、２量体、３量体、及びオリゴマー、又はそれらの混合物、並びに、それらの共重合体などの化学的形態をもつ。

重合性化合物の例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）、そのエステル類、及びそのアミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル類、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。
重合性化合物の例としては、ヒドロキシ基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸のエステル類或いはアミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物、及び、ヒドロキシ基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸のエステル類或いはアミド類と単官能若しくは多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。
また、重合性化合物の例としては、イソシアネート基、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸のエステル類或いはアミド類と単官能若しくは多官能の、アルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更に、ハロゲン原子、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸のエステル類或いはアミド類と単官能若しくは多官能の、アルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。
また、重合性化合物の更に別の例としては、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群が挙げられる。

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３－ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、１，４－シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリアクリレート等がある。

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、１，３－ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ－（３－メタクリルオキシ－２－ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチルメタン、ビス－〔ｐ－（メタクリルオキシエトキシ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。

また、重合性化合物としては、イソシアネート基とヒドロキシ基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭４８－４１７０８号公報中に記載されている１分子に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式（Ｉ）で示されるヒドロキシ基を含有するビニルモノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。

ＣＨ_２＝Ｃ（Ｒ）ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ（Ｒ’）ＯＨ （Ｉ）
（ただし、Ｒ及びＲ’は、Ｈ又はＣＨ_３を示す。）

また、特開昭５１－３７１９３号、特公平２－３２２９３号、特公平２－１６７６５号に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８－４９８６０号、特公昭５６－１７６５４号、特公昭６２－３９４１７号、特公昭６２－３９４１８号記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭６３－２７７６５３号、特開昭６３－２６０９０９号、特開平１－１０５２３８号に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた組成物を得ることができる。

その他、重合性化合物としては、例えば、特開２００７－２７７５１４号公報の段落０１７８～０１９０に記載の化合物が挙げられる。
また、重合性化合物としては、特開２０１５－１８７２１１号公報に記載のエポキシ化合物を用いてもよい

本開示における硬化性組成物では、重合性化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

本開示における硬化性組成物での重合性化合物の含有量としては、硬化性組成物の全固形分に対して、１質量％～９０質量％であることが好ましく、５質量％～８０質量％であることがより好ましく、１０質量％～７０質量％であることが更に好ましい。重合性化合物の含有量が上記範囲内であると、硬化性組成物の硬化性に優れる。

［重合開始剤］
本開示における硬化性組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。
重合開始剤としては、特に、光重合開始剤であることが好ましい。
光重合開始剤としては、重合性化合物の重合を開始する能力を有する限り、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができる。例えば、紫外線領域から可視領域の光線に対して感光性を有する化合物が好ましい。また、光重合開始剤は、光励起された増感剤と何らかの作用を生じ、活性ラジカルを生成する化合物であってもよい。中でも、光重合開始剤は光ラジカル重合開始剤であることが特に好ましい。

光重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有する化合物、オキサジアゾール骨格を有する化合物など）、アシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物などが挙げられる。光重合開始剤は、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、ホスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、トリアリールイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物、シクロペンタジエン－ベンゼン－鉄錯体、ハロメチルオキサジアゾール化合物及び３－アリール置換クマリン化合物が好ましく、オキシム化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、及び、アシルホスフィン化合物から選ばれる化合物がより好ましく、オキシム化合物が更に好ましい。光重合開始剤については、特開２０１４－１３０１７３号公報の段落００６５～０１１１、特開２０１３－２９７６０号公報の段落０２７４～０３０６の記載を参酌でき、これらの内容は本開示に組み込まれる。

α－ヒドロキシケトン化合物の市販品としては、ＢＡＳＦ社製の、ＤＡＲＯＣＵＲ １１７３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ５００、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社の、Ｏｍｎｉｒａｄ １８４（旧ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４）、Ｏｍｎｉｒａｄ ２９５９（旧ＩＲＧＡＣＵＲＥ ２９５９）、Ｏｍｎｉｒａｄ １２７（旧ＩＲＧＡＣＵＲＥ－１２７）などが挙げられる。
α－アミノケトン化合物の市販品としては、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社の、Ｏｍｎｉｒａｄ ９０７（旧ＩＲＧＡＣＵＲＥ－９０７）、Ｏｍｎｉｒａｄ ３６９（旧ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３６９）、Ｏｍｎｉｒａｄ ３７９（旧ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３７９）、及び、Ｏｍｎｉｒａｄ ３７９（旧ＩＲＧＡＣＵＲＥ－３７９ＥＧ）などが挙げられる。
アシルホスフィン化合物の市販品としては、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社の、Ｏｍｎｉｒａｄ ８１９（旧ＩＲＧＡＣＵＲＥ ８１９）、ＢＡＳＦ社製の、Ｏｍｎｉｒａｄ ＴＰＯ Ｈ（旧ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＴＰＯ）などが挙げられる。

オキシム化合物としては、例えば、特開２００１－２３３８４２号公報に記載の化合物、特開２０００－８００６８号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１６５３－１６６０）に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１５６－１６２）に記載の化合物、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５年、ｐｐ．２０２－２３２）に記載の化合物、特開２０００－６６３８５号公報に記載の化合物、特開２０００－８００６８号公報に記載の化合物、特表２００４－５３４７９７号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、特開２０１７－１９７６６号公報に記載の化合物、特許第６０６５５９６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１５／１５２１５３号に記載の化合物、国際公開第２０１７／０５１６８０号に記載の化合物などがあげられる。オキシム化合物の具体例としては、例えば、３－ベンゾイルオキシイミノブタン－２－オン、３－アセトキシイミノブタン－２－オン、３－プロピオニルオキシイミノブタン－２－オン、２－アセトキシイミノペンタン－３－オン、２－アセトキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、２－ベンゾイルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、３－（４－トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン－２－オン、及び２－エトキシカルボニルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オンなどが挙げられる。
オキシム化合物の市販品としては、ＢＡＳＦ社製の、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０２、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０４も好適に用いられる。
また、オキシム化合物の市販品としては、常州強力電子新材料有限公司（ＣＨＡＮＧＺＨＯＵ ＴＲＯＮＬＹ ＮＥＷ ＥＬＥＣＴＲＯＮＩＣ ＭＡＴＥＲＩＡＬＳ ＣＯ．，ＬＴＤ）製の、ＴＲＯＮＬＹ ＴＲ－ＰＢＧ－３０４、ＴＲＯＮＬＹ ＴＲ－ＰＢＧ－３０９、ＴＲＯＮＬＹ ＴＲ－ＰＢＧ－３０５、（株）ＡＤＥＫＡ製の、アデカアークルズＮＣＩ－９３０、アデカオプトマーＮ－１９１９（特開２０１２－１４０５２号公報の光重合開始剤２に該当）が挙げられる。

また、上記以外のオキシム化合物として、カルバゾール環のＮ位にオキシムが連結した特表２００９－５１９９０４号公報に記載の化合物、ベンゾフェノン部位にヘテロ置換基が導入された米国特許第７６２６９５７号明細書に記載の化合物、色素部位にニトロ基が導入された特開２０１０－１５０２５号公報及び米国特許公開第２００９－２９２０３９号明細書に記載の化合物、国際公開第２００９／１３１１８９号明細書に記載のケトオキシム化合物、トリアジン骨格とオキシム骨格を同一分子内に含有する米国特許第７５５６９１０号明細書に記載の化合物、４０５ｎｍに吸収極大を有し、ｇ線光源に対して良好な感度を有する特開２００９－２２１１１４号公報に記載の化合物などを用いてもよい。

光重合開始剤としては、フルオレン環を有するオキシム化合物を用いることもできる。フルオレン環を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１４－１３７４６６号公報に記載の化合物が挙げられ、この内容は本開示に組み込まれる。

光重合開始剤としては、ベンゾフラン骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。ベンゾフラン骨格を有するオキシム化合物の具体例としては、国際公開第２０１５／０３６９１０号に記載の化合物ＯＥ－０１～ＯＥ－７５が挙げられる。

光重合開始剤としては、カルバゾール環の少なくとも１つのベンゼン環がナフタレン環となった骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。このオキシム化合物の具体例としては、国際公開第２０１３／０８３５０５号に記載の化合物が挙げられる。

光重合開始剤としては、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０－２６２０２８号公報に記載の化合物、特表２０１４－５００８５２号公報に記載の化合物２４、３６～４０、特開２０１３－１６４４７１号公報に記載の化合物（Ｃ－３）などが挙げられ、この内容は本開示に組み込まれる。

光重合開始剤としては、ニトロ基を有するオキシム化合物を用いることができる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１３－１１４２４９号公報の段落００３１～００４７、特開２０１４－１３７４６６号公報の段落０００８～００１２、００７０～００７９に記載の化合物、特許第４２２３０７１号公報の段落０００７～００２５に記載の化合物、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。

本開示において好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。

オキシム化合物は、３５０ｎｍ～５００ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有する化合物が好ましく、３６０ｎｍ～４８０ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有する化合物がより好ましい。また、オキシム化合物は、波長３６５ｎｍ及び４０５ｎｍの吸光度が大きい化合物が好ましい。

オキシム化合物の波長３６５ｎｍ又は４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、１，０００～３００，０００であることが好ましく、２，０００～３００，０００であることがより好ましく、５，０００～２００，０００であることが特に好ましい。化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いて測定することができる。例えば、紫外可視分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｙ－５ ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチル溶媒を用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。

光重合開始剤としては、２官能或いは３官能以上の光重合開始剤を用いてもよい。そのような光重合開始剤の具体例としては、特表２０１０－５２７３３９号公報、特表２０１１－５２４４３６号公報、国際公開第２０１５／００４５６５号、特表２０１６－５３２６７５号公報の段落０４１７～０４１２、国際公開第２０１７／０３３６８０号の段落００３９～００５５に記載されているオキシム化合物の２量体、特表２０１３－５２２４４５号公報に記載されている化合物（Ｅ）及び化合物（Ｇ）、国際公開第２０１６／０３４９６３号に記載されているＣｍｐｄ１～７などが挙げられる。

本開示における硬化性組成物では、重合開始剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

本開示における硬化性組成物での重合開始剤の含有量としては、硬化性組成物の全固形分に対して、０．１質量％～５０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．５質量％～３０質量％、特に好ましくは１質量％～２０質量％である。
重合開始剤の含有量が上記の範囲であることで、良好な感度とパターン形成性が得られる。

［その他の成分］
本開示における硬化性組成物は、既述の成分以外の、その他の成分を含んでいてもよい。
その他の成分としては、顔料誘導体、重合禁止剤、溶剤、増感剤、共増感剤、その他の添加剤等が挙げられる。

（顔料誘導体）
本開示における硬化性組成物は、顔料誘導体を含むことが好ましい。
顔料誘導体としては、色素骨格に、酸基、塩基性基、及び水素結合性基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基が結合した化合物が挙げられる。
酸基としては、スルホ基、カルボキシ基、リン酸基、ボロン酸基、スルホンイミド基、スルホンアミド基及びこれらの塩、並びにこれらの塩の脱塩構造が挙げられる。塩を構成する原子又は原子団としては、アルカリ金属イオン（Ｌｉ^＋、Ｎａ^＋、Ｋ^＋など）、アルカリ土類金属イオン（Ｃａ^２＋、Ｍｇ^２＋など）、アンモニウムイオン、イミダゾリウムイオン、ピリジニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。また、上記塩の脱塩構造としては上記の塩から塩を形成する原子又は原子団が脱離した基が挙げられる。例えば、カルボキシ基の塩の脱塩構造は、カルボキシラート基（－ＣＯＯ^－）である。
塩基性基としては、アミノ基、ピリジニル基、及びこれらの塩、並びにこれらの塩の脱塩構造が挙げられる。塩を構成する原子又は原子団としては、水酸化物イオン、ハロゲンイオン、カルボン酸イオン、スルホン酸イオン、フェノキシドイオンなどが挙げられる。また、上記塩の脱塩構造としては上記の塩から塩を形成する原子又は原子団が脱離した基が挙げられる。
水素結合性基とは、水素原子を介して相互作用する基のことである。水素結合性基の具体例としては、アミド基、ヒドロキシ基、－ＮＨＣＯＮＨＲ、－ＮＨＣＯＯＲ、－ＯＣＯＮＨＲなどが挙げられる。ここで、Ｒは、アルキル基及びアリール基であることが好ましい。

顔料誘導体は、スルホ基、カルボキシ基、リン酸基、ボロン酸基、スルホンイミド基、スルホンアミド基、アミノ基、ピリジニル基、これらの塩、又はこれらの脱塩構造から選ばれる少なくとも１種の基を有することが好ましく、スルホ基、カルボキシ基、アミノ基を有することがより好ましい。顔料誘導体がこのような基を有することで、近赤外線吸収顔料の分散性をより向上させることができる。

顔料誘導体としては、式（Ｂ１）で表される化合物が挙げられる。

式（Ｂ１）中、Ｐは色素骨格を表し、Ｌは単結合又は連結基を表し、Ｘは、酸基、塩基性基、又は水素結合性基を表し、ｍは１以上の整数を表し、ｎは１以上の整数を表し、ｍが２以上の場合は複数のＬ及びＸは互いに異なっていてもよく、ｎが２以上の場合は複数のＸは互いに異なっていてもよい。

上記Ｐで表される色素骨格としては、スクアリリウム色素構造、ピロロピロール色素骨格、ジケトピロロピロール色素骨格、キナクリドン色素骨格、アントラキノン色素骨格、ジアントラキノン色素骨格、ベンゾイソインドール色素骨格、チアジンインジゴ色素骨格、アゾ色素骨格、キノフタロン色素骨格、フタロシアニン色素骨格、ナフタロシアニン色素骨格、ジオキサジン色素骨格、ペリレン色素骨格、ペリノン色素骨格、ベンゾイミダゾロン色素骨格、ベンゾチアゾール色素骨格、ベンゾイミダゾール色素骨格及びベンゾオキサゾール色素骨格から選ばれる少なくとも１種が好ましく、既述の近赤外線吸収剤との親和性の観点から、スクアリリウム色素骨格又はピロロピロール色素骨格が特に好ましい。

Ｌで表される連結基としては、１～１００個の炭素原子、０～１０個の窒素原子、０～５０個の酸素原子、１～２００個の水素原子、及び０～２０個の硫黄原子から成り立つ基が好ましく、無置換であってもよく、置換基を更に有していてもよい。
置換基としては、既述の置換基Ｔが挙げられる。

Ｘで表される、酸基、塩基性基、及び水素結合性基としては、それぞれ、上述した基が挙げられる。

顔料誘導体は２５℃のプロピレングリコールメチルエーテルアセテート１００ｇへの溶解量が０．０１ｍｇ～１０ｇであることが好ましい。上限は、７．５ｇ以下であることが好ましく、５ｇ以下であることがより好ましい。下限は、０．０５ｍｇ以上であることが好ましく、０．１ｍｇ以上であることがより好ましい。この態様によれば、本開示に係る組成物中における近赤外線吸収顔料の分散性をより向上させることができる。

顔料誘導体の分子量は１６０～４５００であることが好ましい。顔料誘導体の分子量の上限は４０００以下であることが好ましく、３５００以下であることがより好ましい。顔料誘導体の分子量の下限は２００以上であることが好ましく、２５０以上であることがより好ましい。顔料誘導体の分子量が上記範囲であれば、近赤外線吸収顔料の分散性の向上効果が期待できる。

顔料誘導体は、波長７００ｎｍ～１，２００ｎｍの範囲に極大吸収波長を化合物であることが好ましく、波長７００ｎｍ～１，１００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物であることが好ましく、波長７００ｎｍ～１，０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物であることが好ましい。上記波長の範囲に極大吸収波長を有する顔料誘導体は、π平面の広がりが近赤外線吸収顔料と近づけやすくでき、近赤外線吸収顔料への吸着性が向上し、より優れた分散性が得られやすい。

また、顔料誘導体は、芳香族環を含む化合物であることも好ましく、２以上の芳香族環が縮合した構造を含む化合物であることもより好ましい。
更に、顔料誘導体はπ共役平面を有する化合物であることも好ましく、近赤外線吸収顔料に含まれるπ共役平面と同一の構造のπ共役平面を有する化合物であることもより好ましい。ここで、顔料誘導体のπ共役平面に含まれるπ電子の数は８個～１００個であることが好ましい。上限は、９０個以下であることが好ましく、８０個以下であることがより好ましい。下限は１０個以上であることが好ましく、１２個以上であることがより好ましい。

顔料誘導体は、下記式（ＳＱ－ａ）で表される部分構造を含むπ共役平面を有するか、又は、下記式（ＣＲ－ａ）で表される部分構造を含むπ共役平面を有する化合物であることも好ましい。下記式（ＳＱ－ａ）及び（ＣＲ－ａ）中、波線は結合手を表す。

顔料誘導体は、下記式（Ｓｙｎ１）で表される化合物及び下記式（Ｓｙｎ２）で表わされる化合物から選ばれる少なくとも１種であることも好ましい。

式（Ｓｙｎ１）中、Ｒｓｙ^１及びＲｓｙ^２は各々独立に有機基を表し、Ｌ^１は単結合又はｐ１＋１価の基を表し、Ａ^１はスルホ基、カルボキシ基、リン酸基、ボロン酸基、スルホンイミド基、スルホンアミド基、アミノ基、ピリジニル基、これらの塩又はこれらの脱塩構造から選ばれる基を表し、ｐ１及びｑ１は各々独立に１以上の整数を表す。ｐ１が２以上の場合、複数のＡ^１は同一であってもよく、異なっていてもよい。ｑ１が２以上の場合、複数のＬ^１及びＡ^１は同一であってもよく、異なっていてもよい。

式（Ｓｙｎ２）中、Ｒｓｙ^３及びＲｓｙ^４は各々独立に有機基を表し、Ｌ^２は単結合又はｐ２＋１価の基を表し、Ａ^２はスルホ基、カルボキシ基、リン酸基、ボロン酸基、スルホンイミド基、スルホンアミド基、アミノ基、ピリジニル基、これらの塩又はこれらの脱塩構造から選ばれる基を表し、ｐ２及びｑ２は各々独立に１以上の整数を表す。ｐ２が２以上の場合、複数のＡ^２は同一であってもよく、異なっていてもよい。ｑ２が２以上の場合、複数のＬ^２及びＡ^２は同一であってもよく、異なっていてもよい。

式（Ｓｙｎ１）のＲｓｙ^１及びＲｓｙ^２で表される有機基、並びに、式（Ｓｙｎ２）のＲｓｙ^３及びＲｓｙ^４で表される有機基としては、アリール基、ヘテロアリール基、下記式（Ｒ１）で表される基が挙げられる。

式（Ｒ１）中、Ｒ^１～Ｒ^３は、各々独立に水素原子又は置換基を表し、Ａｓ^３はヘテロアリール基を表し、ｎｒ１は０以上の整数を表し、Ｒ^１とＲ^２は互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ^１とＡｓ^３は互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ^２とＲ^３は互いに結合して環を形成してもよく、ｎ_ｒ１が２以上の場合、複数のＲ^２及びＲ^３はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよく、＊は結合手を表す。

Ｒｓｙ^１～Ｒｓｙ^４で表されるアリール基の炭素数は、６～４８が好ましく、６～２２がより好ましく、６～１２が特に好ましい。
Ｒｓｙ^１～Ｒｓｙ^４で表されるヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は、１～３０が好ましく、１～１２がより好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の種類としては、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子が挙げられる。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数としては、１～３が好ましく、１～２がより好ましい。ヘテロアリール基は、単環又は縮合環が好ましく、単環又は縮合数が２～８の縮合環がより好ましく、単環又は縮合数が２～４の縮合環が更に好ましい。
Ｒｓｙ^１～Ｒｓｙ^４で表されるアリール基及びヘテロアリール基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、既述の置換基Ｔ、下記式（Ｒ－ＳＱ）で表される基などが挙げられる。

式（Ｒ－ＳＱ）中、Ｒｓｑ^１は有機基を表す。Ｒｓｑ^１で表される有機基は、アリール基、ヘテロアリール基、式（Ｒ１）で表される基、後述する、式（１）で表される基、式（１０）で表される基、式（２０）で表される基、式（３０）で表される基、式（４０）で表される基が挙げられる。

式（Ｒ１）におけるＲ^１～Ｒ^３は各々独立に水素原子又は置換基を表す。置換基としては、既述の置換基Ｔが挙げられる。Ｒ^１～Ｒ^３で表される置換基はアルキル基であることが好ましい。アルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖又は分岐が好ましい。Ｒ^１～Ｒ^３は水素原子であることが好ましい。
式（Ｒ１）におけるＡｓ^３はヘテロアリール基を表す。Ａｓ^３で表されるヘテロアリール基は、Ｒｓｙ^１～Ｒｓｙ^４で表されるヘテロアリール基と同様のものが挙げられ、好ましい態様も同様である。

式（Ｒ１）において、Ｒ^１とＲ^２は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ^１とＡｓ^３は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ^２とＲ^３は、互いに結合して環を形成してもよい。上記の環を形成する場合の連結基としては、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＮＨ－、－ＣＨ－、及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基が好ましい。

式（Ｒ１）におけるｎ_ｒ１は、０以上の整数を表す。ｎ_ｒ１は０～２の整数が好ましく、０又は１がより好ましく、０が更に好ましい。式（Ｒ１）において、ｎ_ｒ１が２以上の場合、複数のＲ^２及びＲ^３はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。

式（Ｓｙｎ１）のＲｓｙ^１及びＲｓｙ^２で表される有機基、並びに、式（Ｓｙｎ２）のＲｓｙ^３及びＲｓｙ^４で表される有機基としては、下記式（１）で表される基であることが好ましい。

式（１）中、環Ｚ^１は１つ又は複数の置換基を有していてもよい、芳香族複素環又は芳香族複素環を含む縮合環を表し、環Ｚ^２は１つ又は複数の置換基を有していてもよい、４～９員の炭化水素環又は複素環を表し、環Ｚ^１及び環Ｚ^２が複数の置換基を有する場合、複数の置換基は同一であっても異なっていてもよく、＊は結合手を表す。

式（１）において、環Ｚ^１は１つ又は複数の置換基を有していてもよい、芳香族複素環又は芳香族複素環を含む縮合環を表す。芳香族複素環としては、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、イソオキサゾール環、イソチアゾール環、ピリダジン環、ピリミジン環などが挙げられ、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピロール環が好ましい。芳香族複素環を含む縮合環としては、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、イソオキサゾール環、イソチアゾール環、ピリダジン環、ピリミジン環から選ばれる１個以上の環（２個以上の場合は同じ種類の環であってもよく、異なる種類の環であってもよい）と、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、テトラセン環、フェナントレン環、トリフェニレン環、テトラフェン環、ピレン環から選ばれる環（好ましくはベンゼン環、ナフタレン環）との縮合環；イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、イソオキサゾール環、イソチアゾール環、ピリダジン環、ピリミジン環から選ばれる２個以上の環（２個以上の場合は同じ種類の環であってもよく、異なる種類の環であってもよい）の縮合環などが挙げられる。縮合環の縮合数は、より優れた分光特性が得られやすいという理由から２～６が好ましく、２～４がより好ましい。

式（１）において、環Ｚ^２は１つ又は複数の置換基を有していてもよい、４～９員の炭化水素環又は複素環を表す。環Ｚ^２で表される炭化水素環及び複素環は、５～７員環であることが好ましく、５又は６員環であることがより好ましい。炭化水素環の具体例としては、シクロブテン環、シクロペンテン環、シクロペンタジエン環、シクロヘキセン環、シクロヘキサジエン環、シクロヘプテン環、シクロヘプタジエン環、シクロヘプタトリエン環、シクロオクテン環、シクロオクタジエン環、シクロオクタトリエン環、シクロノネン環、シクロノナジエン環、シクロノナトリエン環、シクロノナテトラエン環等のシクロアルケン環が挙げられ、シクロペンテン環、シクロヘキセン環、シクロヘプテン環及びシクロオクテン環が好ましく、シクロペンテン環及びシクロヘキセン環がより好ましい。環Ｚ^２で表される複素環は、含窒素複素環であることが好ましい。

環Ｚ^１及び環Ｚ^２が有してもよい置換基としては、既述の置換基Ｔが挙げられる。
また、環Ｚ^１が有してもよい置換基は、電子求引性基であることも好ましい。ハメットの置換基定数σ値（シグマ値）が正の置換基は、電子求引性基として作用する。ここで、ハメット則で求められた置換基定数にはσｐ値とσｍ値がある。これらの値は多くの一般的な成書に見出すことができる。本開示においては、ハメットの置換基定数σ値が０．１以上の置換基を電子求引性基として例示することができる。σ値は、０．１５以上が好ましく、０．２以上がより好ましく、０．３以上が更に好ましい。上限は特に制限はないが、好ましくは１．０以下である。電子求引性基の具体例としては、ハロゲン原子、水素原子の少なくとも一部がハロゲン原子で置き換えられているアルキル基、水素原子の少なくとも一部がハロゲン原子で置き換えられているアリール基、ニトロ基、シアノ基、シアノメチル基、－ＣＨ＝Ｃ（ＣＮ）_２、－Ｃ（ＣＮ）＝Ｃ（ＣＮ）_２、－Ｐ（ＣＮ）_２、－Ｎ＝ＮＣＮ、－ＣＯＲ^ｚ、－ＣＯＯＲ^ｚ、－ＯＣＯＲ^ｚ、－ＮＨＣＯＲ^ｚ、－ＣＯＮＨＲ^ｚ、－ＳＯＲ^ｚ、－ＳＯ_２Ｒ^ｚ、－ＳＯ_２ＯＲ^ｚ、－ＮＨＳＯ_２Ｒ^ｚ、又はＳＯ_２ＮＨＲ^ｚが挙げられる。Ｒ^ｚは、水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置き換えられていてもよいアルキル基、水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置き換えられていてもよいアリール基、アミノ基、ハロゲン原子、シアノ基、又はシアノメチル基を表す。ここで、シアノメチル基には、モノシアノメチル基（－ＣＨ_２ＣＮ）、ジシアノメチル基（－ＣＨ（ＣＮ）_２）、及びトリシアノメチル基（－Ｃ（ＣＮ）_３）が含まれる。水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置き換えられていてもよいアルキル基は、炭素数が１～６が好ましく、炭素数１～５がより好ましく、炭素数１～４が更に好ましい。水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置き換えられていてもよいアリール基は、炭素数６～１４が好ましく、炭素数６～１０がより好ましい。これらのアルキル基とアリール基は、水素原子の全部がフッ素原子で置き換えられていてもよく、一部のみがフッ素原子で置き換えられていてもよく、フッ素原子で置き換えられていなくてもよい。

式（１）で表される基は、式（１－１）又は式（１－２）で表される基であることが好ましい。

式（１－１）中、環Ｚ^１ａは１つ又は複数の置換基を有していてもよい、５又は６員環の含窒素複素環を有する多環芳香族環を表し、環Ｚ^２ａは、１つ又は複数の置換基を有していてもよい、４～９員の炭化水素環又は複素環を表す。環Ｚ^１ａ及び環Ｚ^２ａが複数の置換基を有する場合、複数の置換基は同一であっても異なっていてもよい。Ｒ^５及びＲ^７は各々独立に、水素原子又は置換基を表す。

式（１－１）において、環Ｚ^１ａで表される多環芳香族環としては、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、イソオキサゾール環、イソチアゾール環、ピリダジン環、ピリミジン環から選ばれる５又は６員環の含窒素複素環を含む縮合環が挙げられ、前述の含窒素複素環から選ばれる１個以上の環（２個以上の場合は同じ種類の含窒素複素環であってもよく、異なる種類の含窒素複素環であってもよい）と、ベンゼン環又はナフタレン環との縮合環；前述の含窒素複素環から選ばれる２個以上の環（同じ種類の含窒素複素環であってもよく、異なる種類の含窒素複素環であってもよい）の縮合環などが挙げられる。多環芳香族環に含まれる環の数（縮合環の縮合数）は、より優れた分光特性が得られやすいという理由から２～６が好ましく、２～４がより好ましい。

式（１－１）において、環Ｚ^２ａで表される４～９員の炭化水素環及び複素環としては、式（１）の環Ｚ^２の項で説明したものが挙げられる。

式（１－１）において、環Ｚ^１ａ及び環Ｚ^２ａが有してもよい置換基、並びにＲ^５及びＲ^７で表される置換基としては、既述の置換基Ｔが挙げられる。また、環Ｚ１ａが有してもよい置換基は、電子求引性基であることも好ましい。電子求引性基としては上述の環Ｚ^１が有してもよい置換基としての電子求引性基が挙げられる。

式（１－２）中、環Ｚ^１ｂは、１つ又は複数の置換基を有していてもよい、５又は６員環の含窒素複素環を有する多環芳香族環を表し、環Ｚ^２ｂは、１つ又は複数の置換基を有していてもよい、４～９員の含窒素複素環を表し、環Ｚ^１ｂ及び環Ｚ^２ｂが複数の置換基を有する場合、複数の置換基は同一であっても異なっていてもよい。

式（１－２）において、環Ｚ^１ｂで表される多環芳香族環としては、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、イソオキサゾール環、イソチアゾール環、ピリダジン環、ピリミジン環から選ばれる５又は６員環の含窒素複素環を含む縮合環が挙げられ、前述の含窒素複素環から選ばれる１個以上の環（２個以上の場合は同じ種類の含窒素複素環であってもよく、異なる種類の含窒素複素環であってもよい）と、ベンゼン環又はナフタレン環との縮合環；前述の含窒素複素環から選ばれる２個以上の環（同じ種類の含窒素複素環であってもよく、異なる種類の含窒素複素環であってもよい）の縮合環などが挙げられる。多環芳香族環に含まれる環の数（縮合環の縮合数）は、より優れた分光特性が得られやすいという理由から２～６が好ましく、２～４がより好ましい。

式（１－２）において、環Ｚ^２ｂで表される含窒素複素環は、５～７員環であることが好ましく、５又は６員環であることがより好ましい。

式（１－２）において、環Ｚ^１ｂ及び環Ｚ^２ｂが有してもよい置換基としては、既述の置換基Ｔが挙げられる。また、環Ｚ^１ｂが有してもよい置換基は電子求引性基であることも好ましい。電子求引性基としては上述の環Ｚ^１が有してもよい置換基としての電子求引性基が挙げられる。

式（Ｓｙｎ１）のＲｓｙ^１及びＲｓｙ^２で表される有機基、並びに、式（Ｓｙｎ２）のＲｓｙ^３及びＲｓｙ^４で表される有機基としては、下記式（１０）で表わされる基であることも好ましい。

式（１０）中、Ｒ^１１～Ｒ^１４は各々独立に水素原子又は置換基を表し、Ｒ^１１～Ｒ^１４のうち隣接する二つの基同士は互いに結合して環を形成していてもよく、Ｒ^２０はアリール基又はヘテロアリール基を表し、Ｒ^２１は置換基を表し、Ｘ^１０は－ＣＯ－又は－ＳＯ_２－を表す。

式（１０）において、Ｒ^１１～Ｒ^１４で表される置換基としては、既述の置換基Ｔが挙げられる。

式（１０）において、Ｒ^２０はアリール基又はヘテロアリール基を表し、アリール基であることが好ましい。アリール基の炭素数は、６～４８が好ましく、６～２２がより好ましく、６～１２が特に好ましい。ヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は、１～３０が好ましく、１～１２がより好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の種類としては、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子が挙げられる。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数としては、１～３が好ましく、１～２がより好ましい。ヘテロアリール基は、単環又は縮合環が好ましく、単環又は縮合数が２～８の縮合環がより好ましく、単環又は縮合数が２～４の縮合環が更に好ましい。アリール基及びヘテロアリール基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、既述の置換基Ｔが挙げられる。アリール基及びヘテロアリール基は、置換基を有さないものであることが好ましい。

式（１０）において、Ｒ^２１は置換基を表す。Ｒ^２１で表される置換基としては、既述の置換基Ｔが挙げられ、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＯＣＯＲｔ^１、又は－ＮＨＣＯＲｔ^１が好ましい。Ｒｔ^１は、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましい。

式（Ｓｙｎ１）のＲｓｙ^１及びＲｓｙ^２で表される有機基、並びに、式（Ｓｙｎ２）のＲｓｙ^３及びＲｓｙ^４で表される有機基としては、下記式（２０）で表わされる基であることも好ましい。

式（２０）中、Ｒ^２０及びＲ^２１は各々独立に水素原子又は置換基を表し、Ｒ^２０とＲ^２１は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｘ^２０は、酸素原子、硫黄原子、－ＮＲ^２２－、セレン原子、又はテルル原子を表し、Ｒ^２２は水素原子又は置換基を表し、Ｘ^２０がＮＲ^２２である場合、Ｒ^２２とＲ^２０は互いに結合して環を形成してもよく、ｎ_ｒ２は、０～５の整数を表し、ｎ_ｒ２が２以上の場合、複数のＲ^２０は同一であってもよく、異なっていてもよく、複数のＲ^２０のうち２個のＲ^２０同士が結合して環を形成してもよく、＊は結合手を表す。

式（２０）において、Ｒ^２０及びＲ^２１で表される置換基としては既述の置換基Ｔが挙げられる。
Ｒ^２０は、アルキル基、ハロゲン化アルキル基（好ましくはフッ化アルキル基）、アリール基、又はハロゲン原子であることが好ましく、アルキル基、又はハロゲン化アルキル基であることがより好ましく、ハロゲン化アルキル基であることが更に好ましい。
Ｒ^２１は、水素原子又はアルキル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。

式（２０）において、Ｘ^２０は、酸素原子、硫黄原子、－ＮＲ^２２－が好ましく、－ＮＲ^２２－であることがより好ましい。Ｒ^２２は水素原子又は置換基を表す。置換基としては、既述の置換基Ｔが挙げられ、アルキル基が好ましい。Ｘ^２０がＮＲ^２２である場合、Ｒ^２２とＲ^２０は互いに結合して環を形成してもよい。Ｒ^２２とＲ^２０とが結合して形成される環としては、４～９員の炭化水素環又は複素環が挙げられ、５～７員の炭化水素環又は複素環が好ましく、５～６員の炭化水素環又は複素環がより好ましく、５～６員の炭化水素環が更に好ましく、６員の炭化水素環が特に好ましい。

式（２０）において、ｎ_ｒ２は、０～５の整数を表し、０～３の整数であることが好ましく、０～２の整数であることがより好ましく、１～２の整数であることが更に好ましい。ｎ_ｒ２が２以上の場合は、複数のＲ^２０は同一であってもよく、異なっていてもよく、複数のＲ^２０のうち２個のＲ^２０同士が結合して環を形成してもよい。Ｒ^２０同士が結合して形成される環は、炭化水素環であってもよく、複素環であってもよい。また、これらの基同士が結合して形成される環は単環であってもよく、縮合環であってもよい。

式（Ｓｙｎ１）のＲｓｙ^１及びＲｓｙ^２で表される有機基、並びに、式（Ｓｙｎ２）のＲｓｙ^３及びＲｓｙ^４で表される有機基としては、下記式（３０）で表される基又は式（４０）で表わされる基であることも好ましい。

式（３０）中、Ｒ^３５～Ｒ^３８は各々独立に水素原子又は置換基を表し、Ｒ^３５とＲ^３６、Ｒ^３６とＲ^３７、Ｒ^３７とＲ^３８は、互いに結合して環を形成してもよく、＊は結合手を表す。
式（４０）中、Ｒ^３９～Ｒ^４５は各々独立に水素原子又は置換基を表し、Ｒ^３９とＲ^４５、Ｒ^４０とＲ^４１、Ｒ^４０とＲ^４２、Ｒ^４２とＲ^４３、Ｒ^４３とＲ^４４、Ｒ^４４とＲ^４５は、互いに結合して環を形成してもよく、＊は結合手を表す。

式（３０）のＲ^３５～Ｒ^３８で表される置換基、及び、式（４０）のＲ^３９～Ｒ^４５で表される置換基としては、既述の置換基Ｔが挙げられ、アルキル基又はアリール基が好ましく、アルキル基がより好ましい。

式（３０）において、Ｒ^３５とＲ^３６、Ｒ^３６とＲ^３７、Ｒ^３７とＲ^３８は、互いに結合して環を形成してもよい。また、式（４０）において、Ｒ^３９とＲ^４５、Ｒ^４０とＲ^４１、Ｒ^４０とＲ^４２、Ｒ^４２とＲ^４３、Ｒ^４３とＲ^４４、Ｒ^４４とＲ^４５は、互いに結合して環を形成してもよい。これらの基同士が結合して形成される環は、炭化水素環及び複素環が挙げられ、炭化水素環が好ましい。また、これらの基同士が結合して形成される環は単環であってもよく、縮合環であってもよいが縮合環であることが好ましい。

式（３０）においては、Ｒ^３５とＲ^３６とが結合して環を形成していることが好ましい。また、式（４０）においては、Ｒ^４０とＲ^４１及びＲ^４４とＲ^４５とがそれぞれ結合して環を形成していることが好ましい。

式（３０）で表される基は下記式（３０ａ）で表される基であることが好ましい。また、式（４０）で表される基は下記式（４０ａ）で表される基であることが好ましい。

式（３０ａ）中、Ｒ^３５、Ｒ^３６、Ｒ^１０１～Ｒ^１０６は各々独立に水素原子又は置換基を表し、＊は結合手を表す。式（４０ａ）中、Ｒ^３９、Ｒ^４２、Ｒ^４３、Ｒ^２０１～Ｒ^２１２は各々独立に水素原子又は置換基を表し、＊は結合手を表す。Ｒ^３５、Ｒ^３６、Ｒ^１０１～Ｒ^１０６で表される置換基及びＲ^３９、Ｒ^３９、Ｒ^４２、Ｒ^４３、Ｒ^２０１～Ｒ^２１２で表される置換基は、既述の置換基Ｔが挙げられ、アルキル基又はアリール基が好ましく、アルキル基がより好ましい。

式（Ｓｙｎ１）のＬ^１で表されるｐ１＋１価の基、及び、式（Ｓｙｎ２）のＬ^２で表されるｐ２＋１価の基としては、炭化水素基、複素環基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＳＯ_２－、－ＮＲ^Ｌ－、－ＮＲ^ＬＣＯ－、－ＣＯＮＲ^Ｌ－、－ＮＲ^ＬＳＯ_２－、－ＳＯ_２ＮＲ^Ｌ－、及びこれらの組み合わせからなる基が挙げられる。Ｒ^Ｌは水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。
炭化水素基は脂肪族炭化水素基であってもよく、芳香族炭化水素基であってもよい。炭化水素基としては、アルキレン基、アリーレン基、又はこれらの基から水素原子を１個以上除いた基が挙げられる。アルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１０が更に好ましい。アルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよい。また、環状のアルキレン基は、単環、多環のいずれであってもよい。アリーレン基の炭素数は、６～１８が好ましく、６～１４がより好ましく、６～１０が更に好ましい。
複素環基は、単環又は縮合数が２～４の縮合環が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子が好ましい。複素環基の環を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２がより好ましい。炭化水素基及び複素環基は置換基を有していてもよい。置換基としては、既述の置換基Ｔが挙げられる。

また、Ｒ^Ｌで表されるアルキル基の炭素数は１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖又は分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。Ｒ^Ｌで表されるアルキル基は更に置換基を有していてもよい。置換基としては既述の置換基Ｔが挙げられる。Ｒ^Ｌで表されるアリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。Ｒ^Ｌで表されるアリール基は更に置換基を有していてもよい。置換基としては既述の置換基Ｔが挙げられる。

式（Ｓｙｎ１）のＬ^１はｐ１＋１価の基であることが好ましい。また、式（Ｓｙｎ２）のＬ^２はｐ２＋１価の基であることが好ましい。また、式（Ｓｙｎ１）で表される化合物は、母核とＡ^１で表される基とが、Ｌ^１で表されるｐ１＋１価の基によって１原子以上隔てられていることが好ましく、３原子以上隔てられていることがより好ましい。また、式（Ｓｙｎ２）で表される化合物は、母核と、Ａ^２で表される基とが、Ｌ^２で表されるｐ２＋１価の基によって１原子以上隔てられていることが好ましく、３原子以上隔てられていることがより好ましい。この構造であれば、近赤外線吸収顔料のより優れた分散性が得られやすい。

顔料誘導体の具体例としては、下記構造の化合物［ＢＰ－１～ＢＰ－４、Ｂ－１～Ｂ－１７］が挙げられる。
また、特開昭５６－１１８４６２号公報、特開昭６３－２６４６７４号公報、特開平１－２１７０７７号公報、特開平３－９９６１号公報、特開平３－２６７６７号公報、特開平３－１５３７８０号公報、特開平３－４５６６２号公報、特開平４－２８５６６９号公報、特開平６－１４５５４６号公報、特開平６－２１２０８８号公報、特開平６－２４０１５８号公報、特開平１０－３００６３号公報、特開平１０－１９５３２６号公報、国際公開第２０１１／０２４８９６号の段落００８６～００９８、国際公開第２０１２／１０２３９９号の段落００６３～００９４等に記載の化合物が挙げられる。
更に、顔料誘導体としては、特開２０１５－１７２７３２号公報（スルホ基を有するキノフタロン化合物の金属塩）、特開２０１４－１９９３０８号公報、特開２０１４－８５５６２号公報、特開２０１４－３５３５１号公報、又は、特開２００８－８１５６５号公報に記載の化合物を用いることもでき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

本開示における硬化性組成物では、顔料誘導体は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

本開示における硬化性組成物での顔料誘導体の含有量は、近赤外線吸収顔料を含む全ての顔料の総量に対し、１質量％～３０質量％が好ましく、５質量％～３０質量％がより好ましく、１０質量％～３０質量％が更に好ましい。

（重合禁止剤）
本開示における硬化性組成物は、保存安定性の観点から、重合禁止剤を含むことが好ましい。
重合禁止剤としては、特に限定されず、公知の重合禁止剤を用いることができる。
重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ－メトキシフェノール、ジ－ｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ピロガロール、ｔ－ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’－チオビス（３－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩（アンモニウム塩、第一セリウム塩等）、２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－１－オキシル等が挙げられる。なお、重合禁止剤は、酸化防止剤として機能することもある。

本開示における硬化性組成物では、重合禁止剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

本開示における硬化性組成物での重合禁止剤の含有量は、保存安定性の観点から、硬化性組成物の全固形分に対して、０．１ｐｐｍ～１，０００ｐｐｍであることが好ましく、１ｐｐｍ～５００ｐｐｍであることがより好ましく、１ｐｐｍ～１００ｐｐｍであることが特に好ましい。

（溶剤）
本開示における硬化性組成物は、溶剤を含んでいることが好ましい。
溶剤としては、エステル類、例えば、酢酸エチル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、アルキルエステル類、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、並びに、３－オキシプロピオン酸メチル及び３－オキシプロピオン酸エチルなどの３－オキシプロピオン酸アルキルエステル類（例えば、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル）、並びに、２－オキシプロピオン酸メチル、２－オキシプロピオン酸エチル、及び２－オキシプロピオン酸プロピルなどの２－オキシプロピオン酸アルキルエステル類（例えば、２－メトキシプロピオン酸メチル、２－メトキシプロピオン酸エチル、２－メトキシプロピオン酸プロピル、２－エトキシプロピオン酸メチル、２－エトキシプロピオン酸エチル、２－オキシ－２－メチルプロピオン酸メチル、２－オキシ－２－メチルプロピオン酸エチル、２－メトキシ－２－メチルプロピオン酸メチル、２－エトキシ－２－メチルプロピオン酸エチル）、並びに、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２－オキソブタン酸メチル、２－オキソブタン酸エチル等；

エーテル類、例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート等；
ケトン類、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン、３－ヘプタノン等；
芳香族炭化水素類、例えば、トルエン、キシレン等が挙げられる。
ただし、有機溶剤としての芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等）は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある（例えば、有機溶剤の全質量に対して、５０ｐｐｍ以下とすることもでき、１０ｐｐｍ以下とすることもでき、１質量ｐｐｍ以下とすることもできる。）。

これらのうち、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、２－ヘプタノン、シクロヘキサノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート等が好適である。
溶剤は、単独で用いる以外に２種以上を組み合わせて用いてもよい。

本開示においては、金属含有量の少ない有機溶剤を用いることが好ましく、有機溶剤の金属含有量は、例えば、１０ｐｐｂ以下であることが好ましい。必要に応じてｐｐｔレベルの有機溶剤を用いてもよく、そのような有機溶剤は、例えば、東洋合成工業（株）が提供している（化学工業日報、２０１５年１１月１３日）。

有機溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留（分子蒸留や薄膜蒸留等）やフィルタを用いたろ過を挙げることができる。ろ過に用いるフィルタのフィルタ孔径としては、１０μｍ以下が好ましく、５μｍ以下がより好ましく、３μｍ以下が更に好ましい。フィルタの材質は、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレン又はナイロンが好ましい。

有機溶剤は、異性体（原子数が同じであるが構造が異なる化合物）が含まれていてもよい。また、異性体は、１種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。

有機溶剤中の過酸化物の含有率が０．８ｍｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましく、過酸化物を実質的に含まないことがより好ましい。

本開示における硬化性組成物では、溶剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

本開示における硬化性組成物の固形分量は、塗布方法及び溶剤の有無により変更されるが、例えば、１質量％～１００質量％であることが好ましく、５質量％～５０質量％であることがより好ましく、１０質量％～３０質量％がより好ましい。
即ち、本開示における硬化性組成物では、固形分量が上記の範囲となるよう溶剤を用いればよい。

（増感剤）
本開示における硬化性組成物は、重合開始剤のラジカル、カチオン等の重合開始種の発生効率の向上、感光波長の長波長化の目的で、増感剤を含有していてもよい。
増感剤としては、上記した光重合開始剤に対し、電子移動機構又はエネルギー移動機構で増感させるものが好ましい。

増感剤としては、以下に列挙する化合物類に属しており、且つ波長３００ｎｍ～波長４５０ｎｍの波長領域に吸収波長を有するものが挙げられる。
好ましい増感剤の例としては、以下の化合物類に属しており、かつ波長３３０ｎｍ～波長４５０ｎｍの波長領域に吸収波長を有するものを挙げることができる。
増感剤の例としては、多核芳香族類（例えば、フェナントレン、アントラセン、ピレン、ペリレン、トリフェニレン、９，１０－ジアルコキシアントラセン）、キサンテン類（例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンＢ、ローズベンガル）、チオキサントン類（イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、クロロチオキサントン）、シアニン類（例えばチアカルボシアニン、オキサカルボシアニン）、メロシアニン類（例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン）、フタロシアニン類、チアジン類（例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー）、アクリジン類（例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン）、アントラキノン類（例えば、アントラキノン）、スクアリリウム類（例えば、スクアリリウム）、アクリジンオレンジ、クマリン類（例えば、７－ジエチルアミノ－４－メチルクマリン）、ケトクマリン、フェノチアジン類、フェナジン類、スチリルベンゼン類、アゾ化合物、ジフェニルメタン、トリフェニルメタン、ジスチリルベンゼン類、カルバゾール類、ポルフィリン、スピロ化合物、キナクリドン、インジゴ、スチリル、ピリリウム化合物、ピロメテン化合物、ピラゾロトリアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、バルビツール酸誘導体、チオバルビツール酸誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトンなどの芳香族ケトン化合物、Ｎ－アリールオキサゾリジノンなどのヘテロ環化合物などが挙げられる。増感剤の例としては、更に欧州特許第５６８，９９３号明細書、米国特許第４，５０８，８１１号明細書、同５，２２７，２２７号明細書、特開２００１－１２５２５５号公報、特開平１１－２７１９６９号公報等に記載の化合物等が挙げられる。

増感剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
本開示における硬化性組成物が増感剤を含む場合、増感剤の含有量は、深部への光吸収効率と開始分解効率の観点から、硬化性組成物の全固形分に対し、０．１質量％～２０質量％であることが好ましく、０．５質量％～１５質量％がより好ましい。

（共増感剤）
本開示における硬化性組成物は、共増感剤を含有してもよい。
共増感剤は、増感色素や開始剤の活性放射線に対する感度を一層向上させる、或いは酸素による重合性化合物の重合阻害を抑制する等の作用を有する。

その他、共増感剤としては、例えば、特開２００７－２７７５１４号公報の段落０２３３～０２４１に記載の化合物が挙げられる。

共増感剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
本開示における硬化性組成物が共増感剤を含む場合、共増感剤の含有量は、重合成長速度と連鎖移動のバランスによる硬化速度の向上の観点から、硬化性組成物の全固形分に対し、０．１質量％～３０質量％の範囲が好ましく、０．５質量％～２５質量％の範囲がより好ましく、１質量％～２０質量％の範囲が更に好ましい。

（その他の添加剤）
本開示における硬化性組成物には、必要に応じて、界面活性剤、近赤外線吸収顔料以外の着色剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤などの各種添加物を含有することができる。

その他成分としては、例えば、特開２００７－２７７５１４号公報の段落０２３８～０２４９に記載の化合物が挙げられる。

［硬化性組成物の調製］
本開示における硬化性組成物は、上述した各成分を混合することによって調製することができる。また、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、フィルタでろ過することが好ましい。フィルタとしては、従来からろ過用途等に用いられているものであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のフッ素樹脂、ナイロン（例えば、ナイロン－６、ナイロン－６，６）等のポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度、超高分子量を含む）等を用いたフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）又はナイロンが好ましい。
フィルタの孔径は、０．０１μｍ～７．０μｍが好ましく、０．０１μｍ～３．０μｍがより好ましく、０．０５μｍ～０．５μｍが更に好ましい。フィルタの孔径をこの範囲とすることにより、後工程において均一及び平滑な組成物の調製を阻害する、微細な異物を確実に除去することが可能となる。あるいは、ファイバ状のろ材を用いることも好ましく、ろ材としては例えばポリプロピレンファイバ、ナイロンファイバ、グラスファイバ等が挙げられ、具体的にはロキテクノ社製のＳＢＰタイプシリーズ（ＳＢＰ００８など）、ＴＰＲタイプシリーズ（ＴＰＲ００２、ＴＰＲ００５など）、ＳＨＰＸタイプシリーズ（ＳＨＰＸ００３など）のフィルタカートリッジを用いることができる。
フィルタを使用する際、異なるフィルタを組み合わせてもよい。その際、第１のフィルタでのろ過は、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。
また、上述した範囲内で異なる孔径の第１のフィルタを組み合わせてもよい。ここでの孔径は、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。市販のフィルタとしては、例えば、日本ポール（株）（ＤＦＡ４２０１ＮＩＥＹなど）、アドバンテック東洋（株）、日本インテグリス（株）又は（株）キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタの中から選択することができる。

［硬化性組成物の用途］
本開示における硬化性組成物は、液状とすることができるため、例えば、本開示における硬化性組成物を基材などに付与し、乾燥させることにより膜を容易に製造できる。
本開示における硬化性組成物の２３℃における粘度は、塗布により膜を形成する場合は、塗布性の観点から、１ｍＰａ・ｓ～１００ｍＰａ・ｓであることが好ましい。下限は、２ｍＰａ・ｓ以上がより好ましく、３ｍＰａ・ｓ以上が更に好ましい。上限は、５０ｍＰａ・ｓ以下がより好ましく、３０ｍＰａ・ｓ以下が更に好ましく、１５ｍＰａ・ｓ以下が特に好ましい。
本開示における粘度は、東機産業（株）製の粘度計（商品名：ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ ＴＶ－２２）を使用し、２３℃において測定するものとする。

本開示における硬化性組成物の用途は、特に限定されない。例えば、赤外線カットフィルタなどの形成に好ましく用いることができる。例えば、固体撮像素子の受光側における赤外線カットフィルタ（例えば、ウエハーレベルレンズに対する赤外線カットフィルタ用など）、固体撮像素子の裏面側（受光側とは反対側）における赤外線カットフィルタなどに好ましく用いることができる。特に、固体撮像素子の受光側における赤外線カットフィルタとして好ましく用いることができる。また、本開示における硬化性組成物に対し、更に、可視光を遮光する着色剤を含有させることで、特定の波長以上の赤外線を透過可能な赤外線透過フィルタを形成することもできる。例えば、波長４００ｎｍ～８５０ｎｍまでを遮光し、波長８５０ｎｍ以上の赤外線の一部を透過可能な赤外線透過フィルタを形成することもできる。

また、本開示における硬化性組成物は、収容容器に保管されることが好ましい。
収容容器として、原材料や組成物中への不純物の混入防止を目的に、容器内壁を６種６層の樹脂で構成する多層ボトルや６種の樹脂を７層構造にしたボトルを使用することも好ましい。これらの容器としては、例えば、特開２０１５－１２３３５１号公報に記載の容器が挙げられる。

＜膜＞
本開示に係る膜は、本開示における硬化性組成物からなる又は本開示における硬化性組成物を硬化してなる膜である。
また、本開示における硬化性組成物が溶剤を含む場合には、乾燥を行ってもよい。
本開示に係る膜は、赤外線カットフィルタとして好ましく用いることができる。また、熱線遮蔽フィルタ、赤外線透過フィルタとして用いることもできる。本開示に係る膜は、支持体上に積層して用いてもよく、支持体から剥離して用いてもよい。本開示に係る膜は、パターンを有していてもよく、パターンを有さない膜（平坦膜）であってもよい。
本開示における「乾燥」は、溶剤を少なくとも一部除去すればよく、溶剤を完全に除去する必要はなく、所望に応じて、溶剤の除去量を設定することができる。
また、上記硬化は、膜の硬さが向上していればよいが、重合による硬化が好ましい。

本開示に係る膜の厚さは、目的に応じて適宜調整できる。膜の厚さは２０μｍ以下が好ましく、１０μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下が更に好ましい。膜の厚さの下限は０．１μｍ以上が好ましく、０．２μｍ以上がより好ましく、０．３μｍ以上が更に好ましい。

本開示に係る膜は、波長６５０ｎｍ～１，５００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有することが好ましく、波長６８０ｎｍ～１，３００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有することがより好ましく、波長７００ｎｍ～８５０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有することが更に好ましい。

本開示に係る膜を赤外線カットフィルタとして用いる場合は、本開示に係る膜は以下の（１）～（４）のうちの少なくとも１つの条件を満たすことが好ましく、（１）～（４）の全ての条件を満たすことが更に好ましい。
（１）波長４００ｎｍでの透過率は７０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましく、８５％以上が更に好ましく、９０％以上が特に好ましい。
（２）波長５００ｎｍでの透過率は７０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましく、９０％以上が更に好ましく、９５％以上が特に好ましい。
（３）波長６００ｎｍでの透過率は７０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましく、９０％以上が更に好ましく、９５％以上が特に好ましい。
（４）波長６５０ｎｍでの透過率は７０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましく、９０％以上が更に好ましく、９５％以上が特に好ましい。

本開示に係る膜は、有彩色着色剤を含むカラーフィルタと組み合わせて用いることもできる。
ここで、カラーフィルタは、有彩色着色剤を含む着色組成物を用いて製造できる。有彩色着色剤としては、従来公知の有彩色着色剤が挙げられる。着色組成物は、有彩色着色剤以外に、樹脂、重合性化合物、重合開始剤、界面活性剤、溶剤、重合禁止剤、紫外線吸収剤などを更に含有することができる。着色組成物に含まれる各成分としては、従来公知の各成分の他、既述の各成分を適宜用いてもよい。

本開示に係る膜とカラーフィルタとを組み合わせて用いる場合、本開示に係る膜の光路上にカラーフィルタが配置されていることが好ましい。例えば、本開示に係る膜とカラーフィルタとを積層して積層体として用いることができる。積層体においては、本開示に係る膜とカラーフィルタとは、両者が厚み方向で隣接していてもよく、隣接していなくてもよい。本開示に係る膜とカラーフィルタとが厚み方向で隣接していない場合は、カラーフィルタが形成された支持体とは別の支持体に、本開示に係る膜が形成されていてもよく、本開示に係る膜とカラーフィルタとの間に、固体撮像素子を構成する他の部材（例えば、マイクロレンズ、平坦化層など）が介在していてもよい。

なお、本開示において、赤外線カットフィルタとは、可視領域の波長の光（可視光）を透過させ、近赤外領域の波長の光（赤外線）の少なくとも一部を遮光するフィルタを意味する。赤外線カットフィルタは、可視領域の波長の光をすべて透過するものであってもよく、可視領域の波長の光のうち、特定の波長領域の光を通過させ、特定の波長領域の光を遮光するものであってもよい。また、本開示において、カラーフィルタとは、可視領域の波長の光のうち、特定の波長領域の光を通過させ、特定の波長領域の光を遮光するフィルタを意味する。また、本開示において、赤外線透過フィルタとは、可視光を遮光し、赤外線の少なくとも一部を透過させるフィルタを意味する。

本開示に係る膜は、ＣＣＤ（電荷結合素子）やＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）などの固体撮像素子や、赤外線センサ、画像表示装置などの各種装置に用いることができる。

＜膜の製造方法＞
次に、本開示に係る膜の製造方法について説明する。本開示に係る膜は、本開示に係る組成物を塗布する工程を経て製造できる。

本開示に係る膜の製造方法において、組成物は支持体上に塗布することが好ましい。支持体としては、例えば、シリコン、無アルカリガラス、ソーダガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、石英ガラスなどの材質で構成された基板が挙げられる。これらの基板には、有機膜や無機膜などが形成されていてもよい。有機膜の材料としては、例えば上述した樹脂が挙げられる。また、支持体としては、上述した樹脂で構成された基板を用いることもできる。また、支持体には、電荷結合素子（ＣＣＤ）、相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）、透明導電膜などが形成されていてもよい。また、支持体には、各画素を隔離するブラックマトリクスが形成されている場合もある。また、支持体には、必要により、上部の層との密着性改良、物質の拡散防止或いは基板等の支持体表面の平坦化のために下塗り層を設けてもよい。また、支持体としてガラス基板を用いる場合においては、ガラス基板上に無機膜を形成したり、ガラス基板を脱アルカリ処理して用いることが好ましい。この態様によれば、より異物の発生が抑制された膜を製造し易い。

組成物の塗布方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、滴下法（ドロップキャスト）；スリットコート法；スプレー法；ロールコート法；回転塗布法（スピンコーティング）；流延塗布法；スリットアンドスピン法；プリウェット法（たとえば、特開２００９－１４５３９５号公報に記載されている方法）；インクジェット（例えばオンデマンド方式、ピエゾ方式、サーマル方式）、ノズルジェット等の吐出系印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷、メタルマスク印刷法などの各種印刷法；金型等を用いた転写法；ナノインプリント法などが挙げられる。インクジェットでの適用方法としては、特に限定されず、例えば「広がる・使えるインクジェット－特許に見る無限の可能性－、２００５年２月発行、住ベテクノリサーチ」に示された方法（特に１１５ページ～１３３ページ）や、特開２００３－２６２７１６号公報、特開２００３－１８５８３１号公報、特開２００３－２６１８２７号公報、特開２０１２－１２６８３０号公報、特開２００６－１６９３２５号公報などに記載の方法が挙げられる。

組成物を塗布して形成した組成物層は、乾燥（プリベーク）してもよい。低温プロセスによりパターンを形成する場合は、プリベークを行わなくてもよい。プリベークを行う場合、プリベーク温度は、１５０℃以下が好ましく、１２０℃以下がより好ましく、１１０℃以下が更に好ましい。下限は、例えば、５０℃以上とすることが好ましく、８０℃以上とすることがより好ましい。プリベーク温度を１５０℃以下で行うことにより、例えば、イメージセンサの光電変換膜を有機素材で構成した場合において、これらの特性をより効果的に維持することができる。
プリベーク時間は、１０秒～３，０００秒が好ましく、４０秒～２，５００秒がより好ましく、８０秒～２２０秒が更に好ましい。乾燥は、ホットプレート、オーブン等で行うことができる。

本開示に係る膜の製造方法においては、更にパターンを形成する工程を含んでいてもよい。パターン形成方法としては、フォトリソグラフィ法を用いたパターン形成方法や、ドライエッチング法を用いたパターン形成方法が挙げられる。なお、本開示に係る膜を平坦膜として用いる場合には、パターンを形成する工程を行わなくてもよい。以下、パターンを形成する工程について詳細に説明する。

－フォトリソグラフィ法でパターン形成する場合－
フォトリソグラフィ法でのパターン形成方法は、本開示に係る組成物を塗布して形成した組成物層に対しパターン状に露光する工程（露光工程）と、未露光部の組成物層を現像除去してパターンを形成する工程（現像工程）と、を含むことが好ましい。必要に応じて、現像されたパターンをベークする工程（ポストベーク工程）を設けてもよい。以下、各工程について説明する。

＜＜露光工程＞＞
露光工程では組成物層をパターン状に露光する。例えば、組成物層に対し、ステッパー等の露光装置を用いて、所定のマスクパターンを有するマスクを介して露光することで、組成物層をパターン露光することができる。これにより、露光部分を硬化することができる。露光に際して用いることができる放射線（光）としては、ｇ線、ｉ線等の紫外線が好ましく、ｉ線がより好ましい。照射量（露光量）は、例えば、０．０３Ｊ／ｃｍ^２～２．５Ｊ／ｃｍ^２が好ましく、０．０５Ｊ／ｃｍ^２～１．０Ｊ／ｃｍ^２がより好ましく、０．０８Ｊ／ｃｍ^２～０．５Ｊ／ｃｍ^２が特に好ましい。露光時における酸素濃度については適宜選択することができ、大気下で行う他に、例えば酸素濃度が１９体積％以下の低酸素雰囲気下（例えば、１５体積％、５体積％、実質的に無酸素）で露光してもよく、酸素濃度が２１体積％を超える高酸素雰囲気下（例えば、２２体積％、３０体積％、５０体積％）で露光してもよい。また、露光照度は適宜設定することが可能であり、好ましくは１，０００Ｗ／ｍ^２～１００，０００Ｗ／ｍ^２（例えば、５，０００Ｗ／ｍ^２、１５，０００Ｗ／ｍ^２、３５，０００Ｗ／ｍ^２）の範囲から選択することができる。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度１０体積％で照度１０，０００Ｗ／ｍ^２、酸素濃度３５体積％で照度２０，０００Ｗ／ｍ^２などとすることができる。

＜＜現像工程＞＞
次に、露光後の組成物層における未露光部の組成物層を現像除去してパターンを形成する。未露光部の組成物層の現像除去は、現像液を用いて行うことができる。これにより、露光工程における未露光部の組成物層が現像液に溶出し、光硬化した部分だけが支持体上に残る。現像液としては、下地の固体撮像素子や回路などにダメージを与えない、アルカリ現像液が望ましい。現像液の温度は、例えば、２０℃～３０℃が好ましい。現像時間は、２０秒～１８０秒が好ましい。また、残渣除去性を向上するため、現像液を６０秒ごとに振り切り、更に新たに現像液を供給する工程を数回繰り返してもよい。

現像液に用いるアルカリ剤としては、例えば、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、ジグリコールアミン、ジエタノールアミン、ヒドロキシアミン、エチレンジアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ジメチルビス（２－ヒドロキシエチル）アンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの無機アルカリ性化合物が挙げられる。現像液は、これらのアルカリ剤を純水で希釈したアルカリ性水溶液が好ましく使用される。アルカリ性水溶液のアルカリ剤の濃度は、０．００１質量％～１０質量％が好ましく、０．０１質量％～１質量％がより好ましい。また、現像液には、界面活性剤を用いてもよい。界面活性剤の例としては、現像液に用いる従来公知の界面活性剤が挙げられ、ノニオン系界面活性剤が好ましい。現像液は、移送や保管の便宜などの観点より、一旦濃縮液として製造し、使用時に必要な濃度に希釈してもよい。希釈倍率は特に限定されないが、例えば１．５倍～１００倍の範囲に設定することができる。なお、このようなアルカリ性水溶液からなる現像液を使用した場合には、現像後純水で洗浄（リンス）することが好ましい。

現像後、乾燥を施した後に加熱処理（ポストベーク）を行うこともできる。ポストベークは、膜の硬化を完全なものとするための現像後の加熱処理である。ポストベークを行う場合、ポストベーク温度は、例えば、１００℃～２４０℃が好ましい。膜硬化の観点から、２００℃～２３０℃がより好ましい。また、発光光源として有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）素子を用いた場合や、イメージセンサの光電変換膜を有機素材で構成した場合は、ポストベーク温度は、１５０℃以下が好ましく、１２０℃以下がより好ましく、１００℃以下が更に好ましく、９０℃以下が特に好ましい。下限は、例えば、５０℃以上とすることができる。ポストベークは、現像後の膜に対して、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン（熱風循環式乾燥機）、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式或いはバッチ式で行うことができる。また、低温プロセスによりパターンを形成する場合は、ポストベークは行わなくてもよく、再度露光する工程（後露光工程）を追加してもよい。

－ドライエッチング法でパターン形成する場合－
ドライエッチング法でのパターン形成は、組成物を支持体上などに塗布して形成した組成物層を硬化して硬化物層を形成し、次いで、この硬化物層上にパターニングされたフォトレジスト層を形成し、次いで、パターニングされたフォトレジスト層をマスクとして硬化物層に対してエッチングガスを用いてドライエッチングするなどの方法で行うことができる。フォトレジスト層の形成においては、更にプリベーク処理を施すことが好ましい。特に、フォトレジストの形成プロセスとしては、露光後の加熱処理、現像後の加熱処理（ポストベーク処理）を実施する形態が望ましい。ドライエッチング法でのパターン形成については、特開２０１３－６４９９３号公報の段落００１０～００６７の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

＜光学フィルタ＞
本開示に係る光学フィルタは、本開示に係る膜を有する。
本開示に係る光学フィルタは、赤外線カットフィルタ又は赤外線透過フィルタとして好ましく用いることができ、赤外線カットフィルタとしてより好ましく用いることができる。
また、本開示に係る膜と、赤、緑、青、マゼンタ、黄、シアン、黒及び無色よりなる群から選ばれる画素とを有する態様も本開示に係る光学フィルタの好ましい態様である。

本開示に係る赤外線カットフィルタは、本開示に係る膜を有する。
なお、本開示に係る赤外線カットフィルタは、赤外線領域の一部の波長の赤外線のみをカットするフィルタであっても、赤外線領域の全体をカットするフィルタであってもよい。赤外線領域の一部の波長の赤外線のみをカットするフィルタとしては、例えば、近赤外線カットフィルタが挙げられる。なお、近赤外線としては、波長７５０ｎｍ～２，５００ｎｍの赤外線が挙げられる。
また、本開示に係る赤外線カットフィルタは、波長７５０ｎｍ～１，０００ｎｍの範囲の赤外線をカットするフィルタであることが好ましく、波長７５０ｎｍ～１，２００ｎｍの範囲の赤外線をカットするフィルタであることがより好ましく、波長７５０ｎｍ～１，５００ｎｍの赤外線をカットするフィルタであることが更に好ましい。
本開示に係る赤外線カットフィルタは、上記膜の他に、更に、銅を含有する層、誘電体多層膜、紫外線吸収層などを有していてもよい。本開示に係る赤外線カットフィルタが、更に、銅を含有する層、又は、誘電体多層膜を少なくとも有することで、視野角が広く、赤外線遮蔽性に優れた赤外線カットフィルタが得られ易い。また、本開示に係る赤外線カットフィルタが、更に、紫外線吸収層を有することで、紫外線遮蔽性に優れた赤外線カットフィルタとすることができる。紫外線吸収層としては、例えば、国際公開第２０１５／０９９０６０号の段落００４０～００７０及び０１１９～０１４５に記載の吸収層を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。誘電体多層膜としては、特開２０１４－４１３１８号公報の段落０２５５～０２５９の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。銅を含有する層としては、銅を含有するガラスで構成されたガラス基材（銅含有ガラス基材）や、銅錯体を含む層（銅錯体含有層）を用いることもできる。銅含有ガラス基材としては、銅を含有する燐酸塩ガラス、銅を含有する弗燐酸塩ガラスなどが挙げられる。銅含有ガラスの市販品としては、ＮＦ－５０（ＡＧＣテクノグラス（株）製）、ＢＧ－６０、ＢＧ－６１（以上、ショット社製）、ＣＤ５０００（ＨＯＹＡ（株）製）等が挙げられる。

本開示に係る赤外線カットフィルタは、ＣＣＤ（電荷結合素子）、ＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）などの固体撮像素子、赤外線センサ、画像表示装置などの各種装置に用いることができる。

本開示に係る赤外線カットフィルタは、本開示に係る組成物を用いて得られる膜の画素（パターン）と、赤、緑、青、マゼンタ、黄、シアン、黒及び無色よりなる群から選ばれる少なくとも１種の画素（パターン）とを有する態様も好ましい態様である。

本開示に係る光学フィルタの製造方法としては、特に制限はないが、本開示に係る組成物を支持体上に適用して組成物層を形成する工程と、上記組成物層をパターン状に露光する工程と、未露光部を現像除去してパターンを形成する工程と、をこの順に含む方法であることが好ましい。
また、本開示に係る光学フィルタの製造方法としては、本開示に係る組成物を支持体上に適用して組成物層を形成し、硬化して層を形成する工程と、上記層上にフォトレジスト層を形成する工程と、露光及び現像することにより上記フォトレジスト層をパターニングしてレジストパターンを得る工程と、上記レジストパターンをエッチングマスクとして上記層をドライエッチングする工程と、を含む方法であることも好ましい。
本開示に係る光学フィルタの製造方法における各工程としては、本開示に係る膜の製造方法における各工程を参照することができる。

＜固体撮像素子＞
本開示に係る固体撮像素子は、本開示に係る膜を有する。固体撮像素子の構成としては、本開示に係る膜を有する構成であり、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はない。例えば、以下のような構成が挙げられる。

支持体上に、固体撮像素子の受光エリアを構成する複数のフォトダイオード及びポリシリコン等からなる転送電極を有し、フォトダイオード及び転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口したタングステン等からなる遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面及びフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、本開示に係る膜を有する構成である。更に、デバイス保護膜上であって、本開示に係る膜の下（支持体に近い側）に集光手段（例えば、マイクロレンズ等。以下同じ）を有する構成や、本開示に係る膜上に集光手段を有する構成等であってもよい。また、固体撮像素子に用いられるカラーフィルタは、隔壁により例えば格子状に仕切られた空間に、各画素を形成する膜が埋め込まれた構造を有していてもよい。この場合の隔壁は各画素よりも低屈折率であることが好ましい。このような構造を有する固体撮像素子の例としては、特開２０１２－２２７４７８号公報、特開２０１４－１７９５７７号公報に記載の装置が挙げられる。

＜画像表示装置＞
本開示に係る画像表示装置は、本開示に係る膜を有する。画像表示装置としては、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置などが挙げられる。画像表示装置の定義や詳細については、例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木 昭夫著、（株）工業調査会 １９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹 順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。また、液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田 龍男編集、（株）工業調査会 １９９４年発行）」に記載されている。本開示に適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。画像表示装置は、白色有機ＥＬ素子を有するものであってもよい。白色有機ＥＬ素子としては、タンデム構造であることが好ましい。有機ＥＬ素子のタンデム構造については、特開２００３－４５６７６号公報、三上明義監修、「有機ＥＬ技術開発の最前線－高輝度・高精度・長寿命化・ノウハウ集－」、技術情報協会、３２６～３２８ページ、２００８年などに記載されている。有機ＥＬ素子が発光する白色光のスペクトルは、青色領域（４３０ｎｍ～４８５ｎｍ）、緑色領域（５３０ｎｍ～５８０ｎｍ）及び黄色領域（５８０ｎｍ～６２０ｎｍ）に強い極大発光ピークを有するものが好ましい。これらの発光ピークに加え更に赤色領域（６５０ｎｍ～７００ｎｍ）に極大発光ピークを有するものがより好ましい。

＜赤外線センサ＞
本開示に係る赤外線センサは、本開示に係る膜を有する。赤外線センサの構成としては、赤外線センサとして機能する構成であれば特に限定はない。以下、本開示に係る赤外線センサの一実施形態について、図面を用いて説明する。

図１において、符号１１０は、固体撮像素子である。固体撮像素子１１０上に設けられている撮像領域は、赤外線カットフィルタ１１１と、赤外線透過フィルタ１１４とを有する。また、赤外線カットフィルタ１１１上には、カラーフィルタ１１２が積層している。カラーフィルタ１１２及び赤外線透過フィルタ１１４の入射光ｈν側には、マイクロレンズ１１５が配置されている。マイクロレンズ１１５を覆うように平坦化層１１６が形成されている。

赤外線カットフィルタ１１１は、本開示に係る組成物を用いて形成することができる。赤外線カットフィルタ１１１の分光特性は、使用する赤外発光ダイオード（赤外ＬＥＤ）の発光波長に応じて選択される。

カラーフィルタ１１２は、可視領域における特定波長の光を透過及び吸収する画素が形成されたカラーフィルタであって、特に限定はなく、従来公知の画素形成用のカラーフィルタを用いることができる。例えば、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の画素が形成されたカラーフィルタなどが用いられる。例えば、特開２０１４－４３５５６号公報の段落０２１４～０２６３の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる

赤外線透過フィルタ１１４は、使用する赤外ＬＥＤの発光波長に応じてその特性が選択される。例えば、赤外ＬＥＤの発光波長が８５０ｎｍである場合、赤外線透過フィルタ１１４は、膜の厚み方向における光透過率の、波長４００ｎｍ～６５０ｎｍの範囲における最大値が３０％以下であることが好ましく、２０％以下であることがより好ましく、１０％以下であることが更に好ましく、０．１％以下であることが特に好ましい。この透過率は、波長４００ｎｍ～６５０ｎｍの範囲の全域で上記の条件を満たすことが好ましい。

赤外線透過フィルタ１１４は、膜の厚み方向における光透過率の、波長８００ｎｍ以上（好ましくは８００ｎｍ～１，３００ｎｍ）の範囲における最小値が７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが更に好ましい。上記の透過率は、波長８００ｎｍ以上の範囲の一部で上記の条件を満たすことが好ましく、赤外ＬＥＤの発光波長に対応する波長で上記の条件を満たすことがより好ましい。

赤外線透過フィルタ１１４の膜厚は、１００μｍ以下が好ましく、１５μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下が更に好ましく、１μｍ以下が特に好ましい。下限値は、０．１μｍが好ましい。膜厚が上記範囲であれば、上述した分光特性を満たす膜とすることができる。
赤外線透過フィルタ１１４の分光特性、膜厚等の測定方法を以下に示す。
膜厚は、膜を有する乾燥後の基板を、触針式表面形状測定器（ＵＬＶＡＣ社製ＤＥＫＴＡＫ１５０）を用いて測定する。
膜の分光特性は、紫外可視近赤外分光光度計（（株）日立ハイテクノロジーズ製Ｕ－４１００）を用いて、波長３００ｎｍ～１，３００ｎｍの範囲において透過率を測定した値である。

また、例えば、赤外ＬＥＤの発光波長が９４０ｎｍである場合、赤外線透過フィルタ１１４は、膜の厚み方向における光の透過率の、波長４５０ｎｍ～６５０ｎｍの範囲における最大値が２０％以下であり、膜の厚み方向における、波長８３５ｎｍの光の透過率が２０％以下であり、膜の厚み方向における光の透過率の、波長１，０００ｎｍ～１，３００ｎｍの範囲における最小値が７０％以上であることが好ましい。

図１に示す赤外線センサにおいて、平坦化層１１６上には、赤外線カットフィルタ１１１とは別の赤外線カットフィルタ（他の赤外線カットフィルタ）が更に配置されていてもよい。他の赤外線カットフィルタとしては、銅を含有する層、又は、誘電体多層膜を少なくとも有するものなどが挙げられる。これらの詳細については、上述したものが挙げられる。また、他の赤外線カットフィルタとしては、デュアルバンドパスフィルタを用いてもよい。
また、本開示に用いられる赤外線透過フィルタ及び赤外線カットフィルタの吸収波長は、使用光源等に合わせて適宜組み合わせて用いられる。

＜カメラモジュール＞
本開示に係るカメラモジュールは、固体撮像素子と、本開示に係る光学フィルタとを有する。
また、本開示に係るカメラモジュールは、レンズ、及び、上記固体撮像素子から得られる撮像を処理する回路を更に有することが好ましい。
本開示に係るカメラモジュールに用いられる固体撮像素子としては、上記本開示に係る固体撮像素子であってもよいし、公知の固体撮像素子であってもよい。
また、本開示に係るカメラモジュールに用いられるレンズ、及び、上記固体撮像素子から得られる撮像を処理する回路としては、公知のものを用いることができる。
カメラモジュールの例としては、特開２０１６－６４７６号公報、又は、特開２０１４－１９７１９０号公報に記載のカメラモジュールを参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

＜インクジェットインク及びその他の用途＞
本開示に係るインクジェットインクは、本開示における硬化性組成物を含む。
また、本開示における硬化性組成物は、塗料、セキュリティインク等にも用いることができる。
更に、本開示における硬化性組成物は、遮熱材料、蓄熱材料、又は、光熱変換材料として用いることもできる。

以下、実施例により本開示を詳細に説明するが、本開示はこれらに限定されるものではない。
本実施例において、「％」、「部」とは、特に断りのない限り、それぞれ「質量％」、「質量部」を意味する。なお、高分子化合物において、特別に規定したもの以外は、分子量は重量平均分子量（Ｍｗ）であり、構成単位の比率はモル百分率である。
重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）法によるポリスチレン換算値として測定した値である。

［実施例１～６８、比較例１～６］
＜硬化性組成物の調製＞
下記表１～表６に記載の原料を混合して、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）を用いてろ過して、硬化性組成物を調製した。
なお、分散液は、以下のように調製した分散液を用いた。
下記表１～表６の分散液の欄に記載の種類の、近赤外線吸収顔料（表中「顔料」と表記）、顔料誘導体、分散剤、及び溶剤Ａを、それぞれ下記の表１～表６の分散液の欄に記載の量で混合し、更に直径０．３ｍｍのジルコニアビーズ２３０質量部を加えて、ペイントシェーカーを用いて５時間分散処理を行い、ビーズをろ過で分離して分散液を製造した。

各硬化性組成物に用いた原料は、以下の通りである。
－近赤外線吸収顔料（表中は「顔料」と表記）－
顔料ＰＰ１～ＰＰ４及びＳＱ１～ＳＱ３：下記構造の化合物
ＳＱ－１、ＳＱ－１４、ＳＱ－１３、ＳＱ－１５、ＳＱ－１７、ＳＱ－３３、ＳＱ－２４、ＳＱ－２５、ＳＱ－２７、ＳＱ－３０、ＳＱ－２１、ＳＱ－３７、ＳＱ－４３、ＳＱ－５２、ＳＱ－５６、及びＳＱ－６０：既述のスクアリリウム化合物の具体例として挙げられた化合物［ＳＱ－１、ＳＱ－１４、ＳＱ－１３、ＳＱ－１５、ＳＱ－１７、ＳＱ－３３、ＳＱ－２４、ＳＱ－２５、ＳＱ－２７、ＳＱ－３０、ＳＱ－２１、ＳＱ－３７、ＳＱ－４３、ＳＱ－５２、ＳＱ－５６、及びＳＱ－６０］

－顔料誘導体－
顔料誘導体１～７：下記構造の化合物
Ｂ－１、Ｂ－２、Ｂ－３、Ｂ－６、Ｂ－１４、及びＢ－１７：既述の顔料誘導体の具体例として挙げられた化合物［Ｂ－１、Ｂ－２、Ｂ－３、Ｂ－６、Ｂ－１４、及びＢ－１７］

－分散剤－
分散剤１（塩基性基を有する樹脂）：下記構造の樹脂（主鎖の各構成単位に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。Ｍｗ＝２１，０００、酸価＝３６．０ｍｇＫＯＨ／ｇ、アミン価４７．０ｍｇＫＯＨ／ｇ）

分散剤２（塩基性基を有する樹脂）：下記構造の樹脂（主鎖の各構成単位に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。Ｍｗ＝２３，０００、酸価＝３２．３ｍｇＫＯＨ／ｇ、アミン価４５．０ｍｇＫＯＨ／ｇ）

分散剤３（塩基性基を有する樹脂）：下記構造の樹脂（主鎖の各構成単位に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。Ｍｗ＝１０，０００、酸価＝４４．３ｍｇＫＯＨ／ｇ、アミン価４０．０ｍｇＫＯＨ／ｇ）

－バインダー樹脂－
樹脂１～６（特定バインダー樹脂）：特定バインダー樹脂の具体例に記載の樹脂１～６
樹脂７～１２（比較用バインダー樹脂）：下記構造の樹脂（主鎖の各構成単位に付記した数値はモル比である）

－重合性化合物－
モノマー１：下記構造（Ｍ－１）の化合物の混合物（左側化合物を５５モル％～６３モル％含有）
モノマー２：下記構造（Ｍ－２）の化合物
モノマー３：下記構造（Ｍ－３）の化合物
モノマー４：下記構造（Ｍ－４）の化合物

－重合開始剤－
重合開始剤１（光重合開始剤）：下記構造（Ｉ－１）の化合物（ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ－０１、ＢＡＳＦ社製）
重合開始剤２（光重合開始剤）：下記構造（Ｉ－２）の化合物

－紫外線吸収剤－
紫外線吸収剤１：下記構造（ＵＶ１）の化合物

－界面活性剤－
界面活性剤１：下記混合物（Ｍｗ＝１４，０００）の１質量％ＰＧＭＥＡ溶液。下記の式中、構成単位の割合を示す％（６２％及び３８％）はモル比である。

－重合禁止剤－
重合禁止剤１：ｐ－メトキシフェノール（三立ケミー（株）製）

－溶剤Ａ及びＢ－
溶剤１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）

［スズの含有量の測定］
硬化性組成物中のスズの含有量について、既述の方法で測定した。結果を表７に示す。

［保存安定性の評価］
硬化性組成物の保存安定性を以下のようにして評価した。
製造直後の硬化性組成物の粘度（初期粘度Ａとする）を測定した。粘度を測定した硬化性組成物を４５℃の恒温槽で７２時間保管した後、再度、粘度（保管後粘度Ｂとする）を測定した。なお、粘度は、硬化性組成物の温度を２３℃に調整して測定した。
そして、以下の計算式から増粘率を算出し、増粘率にて保存安定性を評価した。
増粘率（％）＝［（保管後粘度Ｂ／初期粘度Ａ）－１］×１００

以下の基準で保存安定性を評価した。結果を表７に示す。
－基準－
５：硬化性組成物の増粘率が５％以下である。
４：硬化性組成物の増粘率が５％を超えて、７．５％以下である。
３：硬化性組成物の増粘率が７．５％を超えて、１０％以下である。
２：硬化性組成物の増粘率が１０％を超えて、２０％以下である。
１：硬化性組成物の増粘率が２０％を超えている。

［硬化膜の作製及び評価］
硬化性組成物を、ポストベーク後の膜厚が１．０μｍになるようにスピンコーター（ミカサ（株）製）を用いてシリコンウェハ上に塗布して塗膜を形成した。次いで、ホットプレートを用いて、１００℃で２分間加熱した。次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を用い、１０００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量にて、１μｍ四方のＢａｙｅｒパターンを有するマスクを介して露光した。次いで、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）０．３質量％水溶液を用い、２３℃で６０秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにてリンスを行い、更に純水にて水洗した。次いで、ホットプレートを用いて、２００℃で５分間加熱（ポストベーク）することでパターンを形成した。
パターン間（未露光部分）の任意の１０箇所について、走査型電子顕微鏡を用いて残渣を確認及び観測し、以下の基準で現像残渣を評価した。結果を表７に示す。
－基準－
５：未露光部分の１０箇所において、残渣が確認されない。
４：未露光部分の１０箇所において、直径５ｎｍ～２００ｎｍのサイズの残渣数の平均値が０個超え１個以下であった。
３：未露光部分の１０箇所において、直径５ｎｍ～２００ｎｍのサイズの残渣数の平均値が１個超え５個以下であった。
２：未露光部分の１０箇所において、直径５ｎｍ～２００ｎｍのサイズの残渣数の平均値が５個超であった。
１：未露光部分の１０箇所において、直径２００ｎｍ以上のサイズの残渣が存在するか、又は、未露光部分がほとんど溶解していなかった。

表７に記載の結果から、本開示に係る組成物である実施例１～実施例６８の硬化性組成物は、比較例１～比較例６の組成物に比べて、保存安定性に優れ、更に、現像残渣も低減されていることがわかる。
実施例１において、紫外線吸収剤、界面活性剤、及び重合禁止剤を除いた場合も、実施例１と同様の結果であった。
実施例１において、重合性化合物をモノマー１のみ６．４部に置き換えても、実施例１と同様の結果であった。
実施例１において、重合開始剤を、重合開始剤１（１部）から、重合開始剤１と重合開始剤２の混合（各０．５部）に置き換えても、実施例１と同様の結果であった。
実施例１において、溶剤Ｂを溶剤１からシクロペンタノン（東京化成工業（株）製）に置き換えた場合も、実施例１と同様の結果であった。
実施例１において、溶剤Ｂの量を３１．７部又は５１．７部に変更した場合も、実施例１と同様の結果であった。

（実施例１０１～実施例１６８）
実施例１～実施例６８の組成物をそれぞれ用い、下記手法にて２μｍ四方のパターン（赤外線カットフィルタ）をそれぞれ形成した。

実施例１～６８の硬化性組成物を用いて下記方法でパターンを作製した。
上記硬化性組成物を製膜後の膜厚が１．０μｍになるようにシリコンウェハ上にスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用いて、１００℃で２分間加熱した。次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（キヤノン（株）製）を用い、１，０００ｍＪ／ｃｍ^２で２μｍ四方のドットパターンのマスクを介して露光した。次いで、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）０．３質量％水溶液を用い、２３℃で６０秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにてリンスを行い、更に純水にて水洗した。次いで、ホットプレートを用いて、２００℃で５分間加熱することで、２μｍ四方のパターン（赤外線カットフィルタ）を形成した。

次に、赤外線カットフィルタのパターン上に、Ｒｅｄ組成物を製膜後の膜厚が１．０μｍになるようにスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用いて、１００℃で２分間加熱した。次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（キヤノン（株）製）を用い、１，０００ｍＪ／ｃｍ^２で２μｍ四方のドットパターンのマスクを介して露光した。次いで、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）０．３質量％水溶液を用い、２３℃で６０秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにてリンスを行い、更に純水にて水洗した。次いで、ホットプレートを用いて、２００℃で５分間加熱することで、赤外線カットフィルタのパターン上に、Ｒｅｄ組成物をパターニングした。同様にＧｒｅｅｎ組成物、Ｂｌｕｅ組成物を順次パターニングし、赤、緑、及び青の着色パターン（Ｂａｙｅｒパターン）を形成した。
なお、Ｂａｙｅｒパターンとは、米国特許第３，９７１，０６５号明細書に開示されているような、一個の赤色（Ｒｅｄ）素子と、二個の緑色（Ｇｒｅｅｎ）素子と、一個の青色（Ｂｌｕｅ）素子とを有する色フィルタ素子の２×２アレイを繰り返したパターンであるが、本実施例においては、一個の赤色（Ｒｅｄ）素子と、一個の緑色（Ｇｒｅｅｎ）素子と、一個の青色（Ｂｌｕｅ）素子と、一個の赤外線透過フィルタ素子を有するフィルタ素子の２×２アレイを繰り返したＢａｙｅｒパターンを形成した。

次に、上記パターン形成した膜上に、赤外線透過フィルタ形成用組成物（下記組成１００又は組成１０１）を、製膜後の膜厚が２．０μｍになるようにスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用いて、１００℃で２分間加熱した。次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（キヤノン（株）製）を用い、１，０００ｍＪ／ｃｍ^２で２μｍ四方のＢａｙｅｒパターンのマスクを介して露光した。次いで、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）０．３質量％水溶液を用い、２３℃で６０秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにてリンスを行い、更に純水にて水洗した。次いで、ホットプレートを用いて、２００℃で５分間加熱することで、赤外線カットフィルタのＢａｙｅｒパターンのうち、上記着色パターンが形成されていない抜け部分に、赤外線透過フィルタのパターニングを行った。これを公知の方法に従い固体撮像素子に組み込んだ。
得られた固体撮像素子について、低照度の環境下（０．００１ルクス（Ｌｕｘ））で赤外発光ダイオード（赤外ＬＥＤ）により赤外線を照射し、画像の取り込みを行い、画像性能を評価した。実施例１～実施例６８で得られたいずれの硬化性組成物を使用した場合でも、低照度の環境下であっても画像をはっきりと認識できた。

上記パターニングに使用したＲｅｄ組成物、Ｇｒｅｅｎ組成物、Ｂｌｕｅ組成物、及び、赤外線透過フィルタ形成用組成物は、以下の通りである。

－Ｒｅｄ組成物－
下記成分を混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、Ｒｅｄ組成物を調製した。
Ｒｅｄ顔料分散液：５１．７質量部
樹脂４（４０質量％ＰＧＭＥＡ溶液）：０．６質量部
重合性化合物１２：０．６質量部
光重合開始剤１：０．３質量部
界面活性剤２：４．２質量部
ＰＧＭＥＡ：４２．６質量部

－Ｇｒｅｅｎ組成物－
下記成分を混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、Ｇｒｅｅｎ組成物を調製した。
Ｇｒｅｅｎ顔料分散液：７３．７質量部
樹脂４（４０質量％ＰＧＭＥＡ溶液）：０．３質量部
重合性化合物１１：１．２質量部
光重合開始剤１：０．６質量部
界面活性剤２：４．２質量部
紫外線吸収剤（ＵＶ－５０３、大東化学（株）製）：０．５質量部
ＰＧＭＥＡ：１９．５質量部

－Ｂｌｕｅ組成物－
下記成分を混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、Ｂｌｕｅ組成物を調製した。
Ｂｌｕｅ顔料分散液：４４．９質量部
樹脂４（４０質量％ＰＧＭＥＡ溶液）：２．１質量部
重合性化合物１１：１．５質量部
重合性化合物１２：０．７質量部
光重合開始剤１：０．８質量部
界面活性剤２：４．２質量部
ＰＧＭＥＡ：４５．８質量部

－赤外線透過フィルタ形成用組成物－
下記組成における成分を混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、赤外線透過フィルタ形成用組成物を調製した。

＜組成１００＞
顔料分散液１－１：４６．５質量部
顔料分散液１－２：３７．１質量部
重合性化合物１３：１．８質量部
樹脂４：１．１質量部
光重合開始剤２：０．９質量部
界面活性剤２：４．２質量部
重合禁止剤（ｐ－メトキシフェノール）：０．００１質量部
シランカップリング剤：０．６質量部
ＰＧＭＥＡ：７．８質量部

＜組成１０１＞
顔料分散液２－１：１，０００質量部
重合性化合物（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）：５０質量部
樹脂４：１７質量部
光重合開始剤（１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－１，２－オクタンジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム））：１０質量部
ＰＧＭＥＡ：１７９質量部
アルカリ可溶性重合体Ｆ－１：１７質量部（固形分濃度３５質量部）

＜アルカリ可溶性重合体Ｆ－１の合成例＞
反応容器に、ベンジルメタクリレート１４部、Ｎ－フェニルマレイミド１２部、２－ヒドロキシエチルメタクリレート１５部、スチレン１０部及びメタクリル酸２０部をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００部に溶解し、更に２，２’－アゾイソブチロニトリル３部及びα－メチルスチレンダイマー５部を投入した。反応容器内を窒素パージ後、撹拌及び窒素バブリングしながら８０℃で５時間加熱し、アルカリ可溶性重合体Ｆ－１を含む溶液（固形分濃度３５質量％）を得た。この重合体は、ポリスチレン換算の重量平均分子量が９，７００、数平均分子量が５，７００であり、Ｍｗ／Ｍｎが１．７０であった。

＜顔料分散液２－１＞
Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック３２を６０部、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６を２０部、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９を２０部、日本ルーブリゾール（株）製のソルスパース７６５００を８０部（固形分濃度５０質量％）、アルカリ可溶性重合体Ｆ－１を含む溶液を１２０部（固形分濃度３５質量％）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを７００部混合し、ペイントシェーカーを用いて８時間分散し、着色剤分散液２－１を得た。

Ｒｅｄ組成物、Ｇｒｅｅｎ組成物、Ｂｌｕｅ組成物、及び、赤外線透過フィルタ形成用組成物に使用した原料は、以下の通りである。

・Ｒｅｄ顔料分散液
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ２５４を９．６質量部、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １３９を４．３質量部、分散剤（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ－１６１、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製）を６．８質量部、ＰＧＭＥＡを７９．３質量部とからなる混合液を、ビーズミル（ジルコニアビーズ０．３ｍｍ径）により３時間混合及び分散して、顔料分散液を調製した。その後更に、減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ－３０００－１０（日本ビーイーイー（株）製）を用いて、２，０００ｋｇ／ｃｍ^３の圧力下で流量５００ｇ／ｍｉｎとして分散処理を行った。この分散処理を１０回繰り返し、Ｒｅｄ顔料分散液を得た。

・Ｇｒｅｅｎ顔料分散液
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ ３６を６．４質量部、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １５０を５．３質量部、分散剤（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ－１６１、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製）を５．２質量部、ＰＧＭＥＡを８３．１質量部からなる混合液を、ビーズミル（ジルコニアビーズ０．３ｍｍ径）により３時間混合及び分散して、顔料分散液を調製した。その後更に、減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ－３０００－１０（日本ビーイーイー（株）製）を用いて、２，０００ｋｇ／ｃｍ^３の圧力下で流量５００ｇ／ｍｉｎとして分散処理を行った。この分散処理を１０回繰り返し、Ｇｒｅｅｎ顔料分散液を得た。

・Ｂｌｕｅ顔料分散液
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：６を９．７質量部、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ ２３を２．４質量部、分散剤（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ－１６１、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製）を５．５部、ＰＧＭＥＡを８２．４部からなる混合液を、ビーズミル（ジルコニアビーズ０．３ｍｍ径）により３時間混合及び分散して、顔料分散液を調製した。その後更に、減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ－３０００－１０（日本ビーイーイー（株）製）を用いて、２，０００ｋｇ／ｃｍ^３の圧力下で流量５００ｇ／ｍｉｎとして分散処理を行った。この分散処理を１０回繰り返し、Ｂｌｕｅ顔料分散液を得た。

・顔料分散液１－１
下記組成の混合液を、０．３ｍｍ径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル（減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ－３０００－１０（日本ビーイーイー（株）製））で、３時間、混合、分散して、顔料分散液１－１を調製した。
・赤色顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ２５４）及び黄色顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １３９）からなる混合顔料：１１．８質量部
・樹脂（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ－１１１、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製）：９．１質量部
・ＰＧＭＥＡ：７９．１質量部

・顔料分散液１－２
下記組成の混合液を、０．３ｍｍ径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル（減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ－３０００－１０（日本ビーイーイー（株）製））で、３時間、混合、分散して、顔料分散液１－２を調製した。
・青色顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：６）及び紫色顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ ２３）からなる混合顔料：１２．６質量部
・樹脂（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ－１１１、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製）：２．０質量部
・樹脂Ａ：３．３質量部
・シクロヘキサノン：３１．２質量部
・ＰＧＭＥＡ：５０．９質量部

上記で使用した成分における略号の詳細を以下に示す。

・樹脂Ａ：下記構造（Ｍｗ＝１４，０００、各構成単位における比はモル比である。）

・重合性化合物１１：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとジペンタエリスリトールペンタアクリレートとの混合物、日本化薬（株）製）
・重合性化合物１２：下記構造

・重合性化合物１３：下記構造（左側化合物と右側化合物とのモル比が７：３の混合物）

・樹脂４：下記構造（酸価：７０ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｍｗ＝１１，０００、各構成単位における比はモル比である。）

・光重合開始剤１：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０１（１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－１，２－オクタンジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）、ＢＡＳＦ社製）
・光重合開始剤２：下記構造の化合物

・界面活性剤２：上記界面活性剤１と同じもの。

・シランカップリング剤：下記構造の化合物。以下の構造式中、Ｅｔはエチル基を表す。

（実施例２０１～２６８）
下記組成を混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、実施例２０１のパターン形成用組成物を調製した。
実施例１の硬化性組成物：２２．６７質量部
顔料分散液２－１：５１．２３質量部
実施例２０１のパターン形成用組成物を用いて、実施例１と同様に、現像残渣の評価を行ったところ、実施例１と同様の効果が得られた。また、実施例２０１のパターン形成用組成物を用いて得られた硬化膜は、可視領域の波長の光を遮光し、近赤外領域の波長の光（近赤外線）の少なくとも一部を透過させることができた。
実施例１の硬化性組成物の代わりに実施例２～実施例６８の硬化性組成物を用いた実施例２０２～２６８のパターン形成用組成物について、実施例２０１と同様に評価を行ったところ、それぞれ実施例２０１と同等の効果が得られた。

（実施例３０１～３６８）
下記組成を混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、実施例３０１のパターン形成用組成物を調製した。
実施例１の硬化性組成物：３６．９９質量部
顔料分散液１－１：４６．５質量部
顔料分散液１－２：３７．１質量部
実施例３０１のパターン形成用組成物を用いて、実施例１と同様に、現像残渣の評価を行ったところ、実施例１と同様の効果が得られた。また、実施例３０１のパターン形成用組成物を用いて得られた硬化膜は、可視領域の波長の光を遮光し、近赤外領域の波長の光（近赤外線）の少なくとも一部を透過させることができた。
実施例１の硬化性組成物の代わりに実施例２～実施例６８の硬化性組成物を用いた実施例３０２～３６８のパターン形成用組成物について、実施例３０１と同様に評価を行ったところ、それぞれ実施例３０１と同等の効果が得られた。

（実施例４００）
上記実施例１～実施例６８、実施例１０１～１６８、実施例２０１～２６８、実施例３０１～３６８において、シリコンウェハをガラス基板に変更し、同様に評価した場合も、上記実施例と同様の効果が得られた。

１１０：固体撮像素子、１１１：赤外線カットフィルタ、１１２：カラーフィルタ、１１４：赤外線透過フィルタ、１１５：マイクロレンズ、１１６：平坦化層

Claims (18)

1. 近赤外線吸収顔料と、
   塩基性基を有する樹脂と、
   前記塩基性基を有する樹脂以外の、ＳＰ値が１９．７ＭＰａ^１／２～２１．２ＭＰａ^１／２で且つ酸価が７０ｍｇＫＯＨ／ｇ～１０５ｍｇＫＯＨ／ｇであるバインダー樹脂と、
   を含み、
   前記バインダー樹脂が、脂肪族環を有する構成単位を、当該バインダー樹脂の全構成単位に対して５０モル％～９０モル％で含む樹脂である、近赤外吸収組成物。
2. 近赤外線吸収顔料と、
   塩基性基を有する樹脂と、
   前記塩基性基を有する樹脂以外の、ＳＰ値が１９．７ＭＰａ ^１／２ ～２１．２ＭＰａ ^１／２ で且つ酸価が７０ｍｇＫＯＨ／ｇ～１０５ｍｇＫＯＨ／ｇであるバインダー樹脂と、
   を含み、
   前記バインダー樹脂が、ビシクロ環又はトリシクロ環を有する構成単位を、当該バインダー樹脂の全構成単位に対して５０モル％～９０モル％で含む樹脂である、近赤外吸収組成物。
3. 前記バインダー樹脂が、酸基を有する構成単位を、当該バインダー樹脂の全構成単位に対して１０モル％～４０モル％で含む樹脂である、請求項１又は請求項２に記載の近赤外吸収組成物。
4. 前記バインダー樹脂の重量平均分子量が２０，０００以下である、請求項１～請求項３のいずれか１項に記載の近赤外吸収組成物。
5. 前記塩基性基を有する樹脂が、第３級アミノ基を側鎖に有する樹脂、及び、主鎖に窒素原子を含む樹脂よりなる群から選択される少なくとも１種である、請求項１～請求項４のいずれか１項に記載の近赤外吸収組成物。
6. 前記第３級アミノ基を側鎖に有する樹脂が、更に第４級アンモニウム塩基を側鎖に有する樹脂である、請求項５に記載の近赤外吸収組成物。
7. 前記近赤外線吸収顔料が、ピロロピロール化合物又はスクアリリウム化合物である、請求項１～請求項６のいずれか１項に記載の近赤外吸収組成物。
8. スズの含有量が、近赤外吸収組成物の全固形分に対して、１ｐｐｍ～１５ｐｐｍである、請求項１～請求項７のいずれか１項に記載の近赤外吸収組成物。
9. 更に、重合性化合物及び重合開始剤を含む、請求項１～請求項８のいずれか１項に記載の近赤外吸収組成物。
10. 請求項１～請求項９のいずれか１項に記載の近赤外吸収組成物からなる又は前記近赤外吸収組成物を硬化してなる膜。
11. 請求項１０に記載の膜を有する光学フィルタ。
12. 赤外線カットフィルタ又は赤外線透過フィルタである、請求項１１に記載の光学フィルタ。
13. 請求項１０に記載の膜を有する固体撮像素子。
14. 請求項１０に記載の膜を有する赤外線センサ。
15. 請求項９に記載の近赤外吸収組成物を支持体上に適用して組成物層を形成する工程と、
    前記組成物層をパターン状に露光する工程と、
    未露光部を現像除去してパターンを形成する工程と、を含む
    光学フィルタの製造方法。
16. 請求項９に記載の近赤外吸収組成物を支持体上に適用して組成物層を形成し、硬化して層を形成する工程、
    前記層上にフォトレジスト層を形成する工程、
    露光及び現像することにより前記フォトレジスト層をパターニングしてレジストパターンを得る工程、並びに、
    前記レジストパターンをエッチングマスクとして前記層をドライエッチングする工程を含む
    光学フィルタの製造方法。
17. 固体撮像素子と、請求項１１又は請求項１２に記載の光学フィルタとを有するカメラモジュール。
18. 請求項９に記載の近赤外吸収組成物を含むインクジェットインク。
    
    

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