WO2020184644A1 - ワイヤ不着検査システム及びワイヤ不着検出装置並びにワイヤ不着検出方法 - Google Patents

ワイヤ不着検査システム及びワイヤ不着検出装置並びにワイヤ不着検出方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2020184644A1
WO2020184644A1 PCT/JP2020/010693 JP2020010693W WO2020184644A1 WO 2020184644 A1 WO2020184644 A1 WO 2020184644A1 JP 2020010693 W JP2020010693 W JP 2020010693W WO 2020184644 A1 WO2020184644 A1 WO 2020184644A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
wire
ultrasonic
attachment
difference
display
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2020/010693
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
マイケル カークビー
隆也 金城
広志 宗像
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shinkawa Ltd
Original Assignee
Shinkawa Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shinkawa Ltd filed Critical Shinkawa Ltd
Priority to JP2021505118A priority Critical patent/JP7019231B2/ja
Priority to SG11202104391RA priority patent/SG11202104391RA/en
Priority to US17/428,963 priority patent/US20220130026A1/en
Priority to KR1020217001424A priority patent/KR102413267B1/ko
Priority to CN202080005972.3A priority patent/CN112997307B/zh
Publication of WO2020184644A1 publication Critical patent/WO2020184644A1/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
    • G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T7/00—Image analysis
    • G06T7/20—Analysis of motion
    • G06T7/254—Analysis of motion involving subtraction of images
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
    • G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T7/00—Image analysis
    • G06T7/0002—Inspection of images, e.g. flaw detection
    • G06T7/0004—Industrial image inspection
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
    • G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T7/00—Image analysis
    • G06T7/0002—Inspection of images, e.g. flaw detection
    • G06T7/0004—Industrial image inspection
    • G06T7/001—Industrial image inspection using an image reference approach
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N7/00—Television systems
    • H04N7/18—Closed-circuit television [CCTV] systems, i.e. systems in which the video signal is not broadcast
    • H04N7/183—Closed-circuit television [CCTV] systems, i.e. systems in which the video signal is not broadcast for receiving images from a single remote source
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04R—LOUDSPEAKERS, MICROPHONES, GRAMOPHONE PICK-UPS OR LIKE ACOUSTIC ELECTROMECHANICAL TRANSDUCERS; ELECTRIC HEARING AIDS; PUBLIC ADDRESS SYSTEMS
    • H04R1/00—Details of transducers, loudspeakers or microphones
    • H04R1/02—Casings; Cabinets ; Supports therefor; Mountings therein
    • H04R1/028—Casings; Cabinets ; Supports therefor; Mountings therein associated with devices performing functions other than acoustics, e.g. electric candles
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/071—Connecting or disconnecting
    • H10W72/0711—Apparatus therefor
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/071—Connecting or disconnecting
    • H10W72/075—Connecting or disconnecting of bond wires
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/50—Bond wires
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/90—Bond pads, in general
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W90/00—Package configurations
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
    • G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T2207/00—Indexing scheme for image analysis or image enhancement
    • G06T2207/10—Image acquisition modality
    • G06T2207/10016—Video; Image sequence
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
    • G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T2207/00—Indexing scheme for image analysis or image enhancement
    • G06T2207/30—Subject of image; Context of image processing
    • G06T2207/30108—Industrial image inspection
    • G06T2207/30148—Semiconductor; IC; Wafer
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
    • G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T2207/00—Indexing scheme for image analysis or image enhancement
    • G06T2207/30—Subject of image; Context of image processing
    • G06T2207/30108—Industrial image inspection
    • G06T2207/30152—Solder
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/071—Connecting or disconnecting
    • H10W72/0711—Apparatus therefor
    • H10W72/07183—Means for monitoring
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/071—Connecting or disconnecting
    • H10W72/075—Connecting or disconnecting of bond wires
    • H10W72/07531—Techniques
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/50—Bond wires
    • H10W72/541—Dispositions of bond wires
    • H10W72/5449—Dispositions of bond wires not being orthogonal to a side surface of the chip, e.g. fan-out arrangements
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/50—Bond wires
    • H10W72/59—Bond pads specially adapted therefor
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/90—Bond pads, in general
    • H10W72/931—Shapes of bond pads
    • H10W72/932—Plan-view shape, i.e. in top view
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/90—Bond pads, in general
    • H10W72/941—Dispositions of bond pads
    • H10W72/944—Dispositions of multiple bond pads
    • H10W72/9445—Top-view layouts, e.g. mirror arrays
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W90/00—Package configurations
    • H10W90/20—Configurations of stacked chips
    • H10W90/24—Configurations of stacked chips at least one of the stacked chips being laterally offset from a neighbouring stacked chip, e.g. chip stacks having a staircase shape
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W90/00—Package configurations
    • H10W90/20—Configurations of stacked chips
    • H10W90/28—Configurations of stacked chips the stacked chips having different sizes, e.g. chip stacks having a pyramidal shape
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W90/00—Package configurations
    • H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
    • H10W90/751—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
    • H10W90/752—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between stacked chips
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W90/00—Package configurations
    • H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
    • H10W90/751—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
    • H10W90/754—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked insulating package substrate, interposer or RDL

Definitions

  • the present invention relates to a wire non-attachment inspection system for detecting non-attachment of a wire connecting an electrode of a semiconductor element mounted on a substrate and an electrode of a substrate, a wire non-attachment detection device, and a wire non-attachment detection method.
  • wire bonding devices are used to connect the electrodes of the substrate and the electrodes of the semiconductor chip with wires.
  • a wire bonding apparatus a method of detecting non-adhesion between an electrode of a semiconductor chip and a wire by an electric means of passing a current between the wire and the semiconductor chip is used (see, for example, Patent Document 1). ..
  • an object of the present invention is to provide a wire non-delivery inspection system capable of detecting wire non-delivery with high accuracy in a short time.
  • the wire non-attachment inspection system of the present invention is a wire that connects a substrate, a semiconductor element attached to the substrate, an electrode of the semiconductor element and an electrode of the substrate, or one electrode of the semiconductor element and another electrode of the semiconductor element.
  • This is a wire non-attachment inspection system for semiconductor devices, which includes an ultrasonic oscillator, an ultrasonic vibrator connected to the ultrasonic oscillator, and ultrasonically vibrates the semiconductor device by the electric power from the ultrasonic oscillator, and a semiconductor. It is equipped with a camera that captures the moving image of the device, a display that displays the moving image captured by the camera, and a control unit that adjusts the ultrasonic oscillator and analyzes the moving image captured by the camera.
  • the feature is that the difference between the images of one frame and the previous frame before that is calculated, and the image display of the wire whose difference exceeds a predetermined threshold is displayed on the display differently from the image display of the other wires. And.
  • the amplitude of the non-attached wire becomes larger than the amplitude of the normally connected wire. Therefore, the difference between the images of one frame of the captured moving image and the previous frame before that is calculated, and the image display of the wire whose image difference exceeds a predetermined threshold, that is, the non-arrival wire is displayed as an image of another wire.
  • the image of the non-attached wire can be displayed on the display in a distinctive manner from other images. As a result, the inspector can detect the non-arrival wire by displaying the image on the display.
  • the difference between the amplitude of the non-attached wire and the amplitude of the normally connected wire is remarkable, it is possible to detect the non-attachment of the wire with high accuracy.
  • the camera acquires images of all the wires contained in the semiconductor device, analyzes them at the same time, and displays them on the display, it is possible to inspect all the wires in a short time even if the number of wires increases. ..
  • the control unit displays the image display of the excess region in which the difference in the vibration region of the wire exceeds a predetermined threshold value on the display different from the image display of the other region. Good.
  • the image display of a certain area By making the image display of a certain area different in this way, the area or area where the different image is displayed becomes large, and the inspector can easily detect the non-arrival wire.
  • control unit may calculate the difference by changing the number of frames between one frame for calculating the difference and the previous frame, or the frame rate of the moving image.
  • control unit may change the oscillation frequency of the ultrasonic oscillator to ultrasonically excite the semiconductor device with the ultrasonic exciter.
  • the natural frequency of the wire changes depending on the length of the wire between the bond points and the diameter of the wire. Therefore, by changing the oscillation frequency of the ultrasonic oscillator and ultrasonically exciting the semiconductor device with an ultrasonic vibrator, non-attachment inspection of a plurality of wires having different bond point lengths or wire diameters can be performed. Can be done at once. As a result, non-attachment inspection of wires having different lengths or diameters can be performed in a short time.
  • the ultrasonic vibrator may be an ultrasonic vibrator connected to a substrate of a semiconductor device to ultrasonically vibrate the substrate.
  • the ultrasonic exciter may be an ultrasonic speaker arranged around the semiconductor device.
  • the wire can be directly ultrasonically vibrated, and non-attachment detection of the wire can be performed with higher accuracy.
  • the wire non-attachment detection device of the present invention is a wire that connects a substrate, a semiconductor element attached to the substrate, an electrode of the semiconductor element and an electrode of the substrate, or one electrode of the semiconductor element and another electrode of the semiconductor element.
  • a wire non-attachment detection device for a semiconductor device including, an ultrasonic oscillator, an ultrasonic vibrator connected to the ultrasonic oscillator and ultrasonically vibrating the semiconductor device with power from the ultrasonic oscillator, and a semiconductor. It includes a camera that captures the moving image of the device and a control unit that adjusts the ultrasonic oscillator and analyzes the moving image captured by the camera.
  • the control unit includes one frame of the captured moving image and a previous frame before that. It is characterized in that the difference between the images is calculated and a non-delivery detection signal is output when the difference exceeds a predetermined threshold value.
  • the amplitude of the non-attached wire becomes larger than the amplitude of the normally connected wire. Therefore, the difference between the images of one frame of the captured moving image and the previous frame before that can be calculated, and the non-attachment of the wire can be detected when the difference between the images exceeds a predetermined threshold value. Since the difference between the amplitude of the non-attached wire and the amplitude of the normally connected wire is remarkable, it is possible to detect the non-attachment of the wire with high accuracy.
  • the camera can acquire images of all the wires contained in the semiconductor device and analyze the difference between the images at the same time, it is possible to detect the non-delivery of the wires of the entire semiconductor device in a short time even if the number of wires increases. it can.
  • control unit may calculate the difference by changing the number of frames between one frame for calculating the difference and the previous frame, or the frame rate of the moving image.
  • the vibration frequency of the wire and the timing of the frame of the moving image for calculating the difference can be adjusted to remarkably detect the difference, and the accuracy of non-delivery detection can be improved.
  • control unit may change the oscillation frequency of the ultrasonic oscillator to ultrasonically vibrate the semiconductor device with the ultrasonic exciter.
  • the ultrasonic vibrator may be an ultrasonic vibrator connected to the substrate of the semiconductor device to ultrasonically vibrate the substrate, or an ultrasonic speaker arranged around the semiconductor device. May be.
  • the wire can be directly ultrasonically vibrated, and the non-attachment detection of the wire can be performed with higher accuracy.
  • the wire non-attachment detection method of the present invention is a wire that connects a substrate, a semiconductor element attached to the substrate, an electrode of the semiconductor element and an electrode of the substrate, or one electrode of the semiconductor element and another electrode of the semiconductor element.
  • This is a method for detecting wire non-attachment of a semiconductor device, which comprises an ultrasonic oscillator, an ultrasonic vibrator connected to the ultrasonic oscillator, and ultrasonically vibrating the semiconductor device by power from the ultrasonic oscillator, and a semiconductor.
  • the preparation step includes preparing a display for displaying a moving image captured by a camera and connecting the display to a control unit, and displaying an image of a wire whose difference exceeds a predetermined threshold.
  • the non-delivery detection step may detect non-delivery of the wire based on the image displayed on the display, including a display step of displaying on the display differently from the image display of the other wire.
  • the image display of the excess region in which the difference in the vibration region of the wire exceeds a predetermined threshold value may be displayed on the display different from the image display of the other region.
  • the present invention can provide a wire non-delivery inspection system capable of detecting wire non-delivery with high accuracy in a short time.
  • FIG. 1 It is a system diagram which shows the structure of the wire non-attachment inspection system of embodiment. It is a top view which shows the image which the camera took. It is a flowchart which shows the operation of the control part of the wire non-attachment inspection system shown in FIG. (A) is an enlarged plan view of part A of FIG. 3 when the substrate is ultrasonically vibrated, and (b) is an enlarged plan view of part B shown in (a). It is a top view which shows the excess area when the substrate is ultrasonically vibrated. It is a system diagram which shows the structure of the wire non-attachment inspection system of another embodiment. It is a system diagram which shows the structure of the wire non-delivery detection apparatus of embodiment. It is a flowchart which shows the operation of the wire non-delivery detection apparatus shown in FIG.
  • the wire non-delivery inspection system 100 of the embodiment performs a non-attachment inspection between the wire 30 of the semiconductor device 10 and the electrode 12 of the substrate 11 or the electrodes 25 to 28 of the semiconductor device 10.
  • the wire non-attachment inspection system 100 includes an ultrasonic oscillator 40, an ultrasonic vibrator 42 which is an ultrasonic vibrator, a camera 45, a display 48, and a control unit 50.
  • the semiconductor device 10 to be inspected by the wire non-attachment inspection system 100 is mounted by stacking semiconductor chips 21 to 24 in four stages on the substrate 11, and the electrodes 25 to 28 and the substrate 11 of the semiconductor chips 21 to 24.
  • the electrodes 12 of the above are continuously connected by one wire 30.
  • the semiconductor chips 21 to 24 constitute the semiconductor element 20.
  • One wire 30 includes a first-stage wire 31 that connects the electrode 25 of the first-stage semiconductor chip 21 and the electrode 12 of the substrate 11, and electrodes 26 to each of the second-stage to fourth-stage semiconductor chips 22 to 24. It is composed of second-stage to fourth-stage wires 32 to 34 connecting 28 and electrodes 25 to 27 of the semiconductor chips 21 to 23 of the first to third stages, respectively.
  • the ultrasonic oscillator 40 outputs AC power having a frequency in the ultrasonic region and causes the ultrasonic vibrator 42 to vibrate ultrasonically.
  • the ultrasonic vibrator 42 is a member that is driven by AC power in the frequency region of ultrasonic waves input from the ultrasonic oscillator 40 and vibrates ultrasonically.
  • it may be composed of a piezo element or the like.
  • the ultrasonic vibrator 42 is connected to the substrate 11 of the semiconductor device 10.
  • the camera 45 is arranged on the upper side of the semiconductor device 10, and as shown in FIG. 2, the substrate 11 and the semiconductor chips 21 to 24 attached to the substrate 11 and the outer periphery of the semiconductor chips 21 to 24 are arranged. Images of the electrodes 25 to 28 arranged in the unit, the electrodes 12 of the substrate 11 arranged around the first-stage semiconductor chip 21, and the wires 30 for continuously connecting the electrodes 12 and 25 to 28. To do.
  • the camera 45 captures an image of a moving image and outputs it to the control unit 50.
  • the display 48 is an image display device that displays a moving image captured by the camera 45.
  • the control unit 50 is a computer including a CPU and a storage unit inside.
  • the ultrasonic oscillator 40 is connected to the control unit 50 and operates according to a command from the control unit 50. Further, the control unit 50 adjusts the camera 45, analyzes the moving image captured by the camera 45, and outputs the result to the display 48.
  • the control unit 50 outputs a command to the ultrasonic oscillator 40 to output AC power having a frequency in the ultrasonic region.
  • the ultrasonic oscillator 40 outputs AC power having a predetermined frequency, for example, a frequency of about 40 kHz.
  • the AC power output by the ultrasonic oscillator 40 is input to the ultrasonic vibrator 42, and the ultrasonic vibrator 42 vibrates ultrasonically.
  • the ultrasonic vibrator 42 vibrates the substrate 11 of the semiconductor device 10 with ultrasonic vibration, whereby each wire 30 of the semiconductor device 10 is ultrasonically vibrated.
  • the wire 30a shown in FIG. 4A is normally connected to the electrodes 12, 25 to 28.
  • the first-stage to fourth-stage wires 31a to 34a are connected to the electrodes 12, 25 to 27 to which the lower ends of the first-stage to fourth-stage wires 31a to 34a are connected, respectively. It vibrates laterally at a natural frequency f0 between each of the electrodes 25 to 28 to which the upper end is connected.
  • the natural frequency f0 differs depending on the diameter of the wire 30 and the distance a between the electrodes 25 and 26 and the electrodes 26 and 27, but in a general semiconductor device 10, it is often on the order of several tens of Hz.
  • the non-attached wire 30b is in a non-attached state with the electrode 26 of the second-stage semiconductor chip 22. Therefore, when the non-attached wire 30b is ultrasonically vibrated, the second-stage wire 32b and the third-stage wire 33b are the electrodes 27 of the first-stage semiconductor chip 21 and the third-stage semiconductor chip 23. It vibrates laterally at the natural frequency f1 between and.
  • the distance between the electrode 25 and the electrode 27 is 2a, which is twice the distance a between the electrodes 25, 26 and the electrodes 26, 27.
  • the natural frequency f1 of the second-stage wire 32b and the third-stage wire 33b of 30b is about 1 ⁇ 2 of f0, and in a general semiconductor device 10, it is often on the order of 20 to 30 Hz.
  • the substrate 11 and the semiconductor chips 21 to 24 do not have a portion that vibrates naturally even when ultrasonically vibrated, low-frequency natural vibrations such as the wire 30a and the non-attached wire 30b do not occur.
  • the control unit 50 captures a moving image of the semiconductor device 10 ultrasonically vibrated in this way with the camera 45, and as shown in step S103 of FIG. 3, the captured image. Is stored in the storage unit.
  • the normally connected first-stage to fourth-stage wires 31a to 34a of the wires 30a vibrate in the lateral direction at a natural frequency of several tens of Hz.
  • the frame rate of the moving image is 24 to 60 frames per second. Therefore, for example, the images of the first-stage to fourth-stage wires 31a to 34a of one frame become like the alternate long and short dash line on the left side of the center line 39a of the wire 30a in FIG. 4 (a).
  • the image of the front frame is like the alternate long and short dash line on the right side of the center line 39a of the wire 30a in FIG. 4A.
  • the control unit 50 reads out the image data of the moving image stored in the storage unit, and as shown in step S104 of FIG. 3, the first-stage to fourth-stage wires of one frame shown in FIG. 4A.
  • the images of 31a to 34a are compared with the images of the first to fourth stage wires 31a to 34a of the previous previous frame, and the difference ⁇ da between them is calculated.
  • this difference ⁇ da is small in the normal wire 30a.
  • the difference ⁇ da is an amount proportional to the amplitude of the first-stage to fourth-stage wires 31a to 34a.
  • the second-stage wire 32b and the third-stage wire 33b of the non-attached wire 30b which are in a non-attached state with the electrode 26 of the second-stage semiconductor chip 22, vibrate significantly in the lateral direction at 20 to 30 Hz. ..
  • the frame rate of the moving image is 24 to 60 frames per second, for example, the images of the second-stage wire 32b and the third-stage wire 33b of one frame are shown in FIG. 4 (a).
  • (b) are like the alternate long and short dash line on the left side of the center line 39a of the non-attached wire 30b, and the image of the previous previous frame is the center line of the non-attached wire 30b in FIGS. It looks like the alternate long and short dash line on the right side of 39b.
  • the control unit 50 has an image of the second-stage wire 32b and the third-stage wire 33b of one frame and the second stage of the previous front frame as shown in FIG. 4B.
  • the difference ⁇ db between the image of the eye wire 32b and the image of the third stage wire 33b is calculated.
  • the difference ⁇ db between the second-stage wire 32b and the third-stage wire 33b of the non-attached wire 30b is very large and exceeds a predetermined threshold value ⁇ S.
  • the difference ⁇ db is an amount proportional to the amplitude of the second-stage wire 32b and the third-stage wire 33b.
  • the control unit 50 has an image of the second-stage wire 32b and the third-stage wire 33b of one frame, and the second-stage wire 32b and the third-stage wire of the previous previous frame.
  • a predetermined threshold ⁇ S it is determined as YES in step S105 of FIG. 3, and the process proceeds to step S106 of FIG. 3, and the images of the second-stage wire 32b and the third-stage wire 33b
  • the display on the display 48 of the above is different from the image of the first to fourth stage wires 31a to 34a of the normally connected wires 30a.
  • the images of the second-stage wire 32b and the third-stage wire 33b of the non-attached wire 30b are displayed in red or displayed in bright white, and the substrate 11 and each semiconductor chip are displayed. It is displayed so as to be distinguishable from the images of 21 to 24 or the images of the first to fourth stage wires 31a to 34a of the normally connected wires 30a.
  • the non-attached wire 30b is displayed in red, so that the presence or absence of the non-attached wire 30b and its position can be detected at a glance.
  • control unit 50 determines NO in step S105 of FIG. 3, the control unit 50 returns to step S101 of FIG. 3 and continues ultrasonic vibration of the semiconductor device 10 and imaging of a moving image.
  • the control unit 50 has an image of the second-stage wire 32b and the third-stage wire 33b of one frame, and the second-stage wire 32b and the third-stage wire 33b of the previous previous frame.
  • the difference ⁇ db from the image exceeds the predetermined threshold value ⁇ S
  • the difference ⁇ db in the vibration region of the second-stage wire 32b and the third-stage wire 33b shown by hatching in FIG. 5 exceeds the predetermined threshold value ⁇ S.
  • the image display of the excess areas 35 and 36 may be displayed on the display 48 differently from the image display of the other areas.
  • the area wider than the images of the second-stage wire 32b and the third-stage wire 33b of the non-arrival wire 30b is displayed in red, so that the inspector can more easily non-arrival.
  • the wire 30b can be detected.
  • the control unit 50 calculates an image difference ⁇ d between one frame of the captured moving image and the previous previous frame, and displays another image of the non-arrival wire 30b in which the image difference ⁇ d exceeds a predetermined threshold ⁇ S.
  • the image of the non-arrival wire 30b can be displayed on the display 48 in a distinctive manner from other images. This allows the inspector to detect the non-attached wire 30b from the image on the display 48. Since the difference between the amplitude of the non-attached wire 30b and the amplitude of the normally connected wire 30a is remarkable, the non-attachment detection of the non-attached wire 30b can be performed with high accuracy. Further, since the camera 45 can acquire images of all the wires 30 included in the semiconductor device 10 and simultaneously analyze and display them on the display 48, all the wires 30 can be obtained in a short time even if the number of wires 30 increases. Non-delivery inspection can be performed.
  • the natural frequency f0 between the electrodes 12 and 25 to 28 of the normal wire 30a is on the order of several tens of Hz
  • the electrodes 25 of the second-stage wire 32b and the third-stage wire 33b of the non-attached wire 30b is on the order of 20 to 30 Hz
  • the frame rate of the moving image is 24 to 60 frames per second
  • the difference ⁇ d between the image of one frame and the previous previous frame is set.
  • the difference ⁇ d between the image of one frame and the image of the previous frame or the image of the previous frame is calculated. It may be compared with the threshold value ⁇ S. This corresponds to capturing a moving image at a rate of 1/2 or 1/3 of the frame rate. Further, the frame rate of the moving image may be changed according to the natural frequencies of the normal wire 30a and the non-arrival wire 30b, and set to a frame rate at which the difference ⁇ d becomes remarkable. In this way, the control unit 50 may calculate the difference ⁇ d by changing the number of frames between one frame and the previous frame or the frame rate of the moving image. As a result, the difference ⁇ d can be remarkably detected by adjusting the timing of the frame of the moving image for calculating the difference ⁇ d with the natural frequencies f0 and f1 of the normal wire 30a and the non-arrival wire 30b.
  • control unit 50 may change the frequency of the AC power of the ultrasonic oscillator 40 to ultrasonically vibrate the semiconductor device 10.
  • the natural frequency of the wire 30 varies depending on the length of the wire 30 between the bond points and the wire diameter.
  • the semiconductor device 10 is ultrasonically vibrated by changing the oscillation frequency of the AC power of the ultrasonic oscillator 40. , Non-delivery detection of each part of each wire 30 can be effectively performed.
  • the change in the oscillation frequency of the AC power of the ultrasonic oscillator 40 can be freely selected, but for example, the frequency may be swept from 10 kHz to 150 kHz so as to increase the frequency, or conversely, a high frequency to a low frequency. May be swept towards.
  • the inspector detects the non-attached wire 30b by displaying the image display of the non-attached wire 30b on the display 48 differently from other image displays.
  • the control unit 50 may determine that there is an image of the non-arrival wire 30b in which the difference ⁇ d exceeds a predetermined threshold value ⁇ S, and in that case, display the non-arrival detection of the wire 30 on the display 48. .. In this case, for example, a word such as "non-arrival wire detection" may be displayed on the display 48.
  • the ultrasonic oscillator 40, the ultrasonic vibrator 42, the camera 45, and the display 48 are arranged, and the ultrasonic oscillator 42 is superposed. Connecting to the ultrasonic oscillator 40 and connecting the ultrasonic oscillator 40, the camera 45, and the display 48 to the control unit 50 to configure the wire non-attachment inspection system 100 constitutes a preparatory step. Then, controlling the ultrasonic oscillator 40 by the control unit 50 and ultrasonically vibrating the substrate 11 with the ultrasonic vibrator 42 constitutes an ultrasonic vibration step.
  • control unit 50 captures a moving image of the semiconductor device 10 and calculates the difference ⁇ d of the images between the frames of the captured moving image, which constitutes an imaging step and a difference calculation step, respectively. Further, displaying the image of the non-arrival wire 30b whose difference ⁇ d exceeds the predetermined threshold value ⁇ S on the display 48 differently from the image of the normal wire 30a constitutes a display step. Then, the inspector detecting the non-delivery wire 30b based on the image of the display 48 constitutes the non-delivery detection step.
  • the wire non-attachment inspection system 200 has an ultrasonic speaker 43 in which the ultrasonic vibrator 42 of the wire non-attachment inspection system 100 described with reference to FIGS. 1 to 5 is arranged around the semiconductor device 10. It is a substitute for.
  • the wire non-attachment inspection system 200 can directly ultrasonically vibrate the wire 30 in addition to the same actions and effects as the wire non-attachment inspection system 100 described above, and can detect the non-attachment of the wire 30 with higher accuracy. be able to.
  • the wire non-attachment detection device 300 of the embodiment will be described with reference to FIG. 7.
  • the same parts as those of the wire non-attachment inspection system 100 of the embodiment described above with reference to FIGS. 1 to 5 are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.
  • the wire non-delivery detection device 300 of the embodiment does not include the display 48, and the control unit 50 determines the difference ⁇ d between the image of one frame of the moving image captured by the camera 45 and the previous frame before that. Is calculated, and when the difference ⁇ d exceeds a predetermined threshold value ⁇ S, a non-delivery detection signal is output to the outside.
  • the control unit 50 outputs the AC power in the ultrasonic region of the frequency from the ultrasonic oscillator 40 to ultrasonically vibrate the ultrasonic vibrator 42 to vibrate the substrate of the semiconductor device 10.
  • 11 is ultrasonically vibrated, a moving image of the semiconductor device 10 is imaged by the camera 45, the image data of the moving image is stored in the storage unit, and the difference ⁇ d of the images is calculated.
  • control unit 50 determines YES in step S105 of FIG. 8, the control unit 50 proceeds to step S201 of FIG. 8 and outputs a non-delivery detection signal to the outside.
  • the non-delivery detection signal from the control unit 50 is input to various external devices.
  • the external device is a display device or a warning lamp
  • the wording "wire non-delivery detection" may be displayed or the warning lamp may be turned on.
  • the semiconductor device 10 may be removed from the subsequent production line as a defective product.
  • control unit 50 may calculate the number and position of the non-arrival wire 30b from the result of analyzing the image and include the information on the number and position of the non-arrival wire 30b in the non-arrival signal.
  • the ultrasonic oscillator 40, the ultrasonic vibrator 42, and the camera 45 are arranged, and the ultrasonic oscillator 42 is used as the ultrasonic oscillator 40.
  • Connecting the ultrasonic oscillator 40 and the camera 45 to the control unit 50 constitutes a preparatory step.
  • controlling the ultrasonic oscillator 40 by the control unit 50 and ultrasonically vibrating the substrate 11 with the ultrasonic vibrator 42 constitutes an ultrasonic vibration step.
  • control unit 50 captures a moving image of the semiconductor device 10 and calculates the difference ⁇ d of the images between the frames of the captured moving image, which constitutes an imaging step and a difference calculation step, respectively. Then, outputting a non-delivery detection signal when the difference ⁇ d exceeds a predetermined threshold value ⁇ S constitutes a non-delivery detection step.
  • the semiconductor device 10 to be inspected is mounted on the substrate 11 with the semiconductor chips 21 to 24 laminated in four stages, and the electrodes 25 to 24 of the semiconductor chips 21 to 24 are mounted.
  • the present invention is not limited to this.
  • it can be applied to a non-attachment inspection of the wire 30 of the semiconductor device 10 in which one semiconductor chip 21 is mounted on the substrate 11 and the semiconductor chip 21 and the electrode 12 of the substrate 11 are connected by the wire 30.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Quality & Reliability (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Acoustics & Sound (AREA)
  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Ultrasonic Waves (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

半導体装置（１０）のワイヤ不着検査システム（１００）であって、超音波発振器（４０）と、超音波振動子（４２）と、カメラ（４５）と、ディスプレイ（４８）と、制御部（５０）と、を備え、制御部（５０）は、撮像した動画の１つのフレームとそれ以前の前フレームとの画像の差分を算出し、差分が所定の閾値を超えたワイヤの画像表示を他のワイヤの画像表示と異ならせてディスプレイに表示する。

Description

ワイヤ不着検査システム及びワイヤ不着検出装置並びにワイヤ不着検出方法
　本発明は、基板に取付けられた半導体素子の電極と基板の電極とを接続するワイヤの不着を検出するワイヤ不着検査システム及びワイヤ不着検出装置並びにワイヤ不着検出方法に関する。
　基板の電極と半導体チップの電極との間をワイヤで接続するワイヤボンディング装置が多く用いられている。ワイヤボンディング装置では、ワイヤと半導体チップとの間に電流を流すという電気的な手段により半導体チップの電極とワイヤとの間の不着検出を行う方法が用いられている（例えば、特許文献１参照）。
　また、ワイヤボンディング装置では、キャピラリの着地からボンディング終了までのＺ方向の変位を検出するという機械的手段により半導体チップの電極とワイヤとの間の不着検出を行う方法が用いられている（例えば、特許文献２参照）。
特開平９－２１３７５２号公報 特開２０１０－５６１０６号公報
　ところで、近年、ワイヤの不着検出の高精度化が求められている。しかし、特許文献１、２に記載された電気的手段或いは機械的手段による不着検出は、誤検出が発生する場合があった。
　また、半導体チップの電極と基板の電極とを接続する全てのワイヤの不着検出を行うことが求められている。しかし、特許文献１，２に記載の不着検出方法では、ワイヤ毎に不着検出を行うことから、例えば、１つの半導体チップと基板とを接続するワイヤが百本以上になる半導体チップでは、検査に長い時間が掛かってしまうという問題があった。
　そこで、本発明は、高精度で短時間にワイヤの不着検出が可能なワイヤ不着検査システムを提供することを目的とする。
　本発明のワイヤ不着検査システムは、基板と、基板に取付けられた半導体素子と、半導体素子の電極と基板の電極、又は、半導体素子の一の電極と半導体素子の他の電極とを接続するワイヤと、を備える半導体装置のワイヤ不着検査システムであって、超音波発振器と、超音波発振器に接続されて超音波発振器からの電力により半導体装置を超音波加振する超音波加振器と、半導体装置の動画を撮像するカメラと、カメラで撮像した動画を表示するディスプレイと、超音波発振器を調整すると共に、カメラで撮像した動画を解析する制御部と、を備え、制御部は、撮像した動画の１つのフレームとそれ以前の前フレームとの画像の差分を算出し、差分が所定の閾値を超えたワイヤの画像表示を他のワイヤの画像表示と異ならせてディスプレイに表示すること、を特徴とする。
　超音波で半導体装置を加振することによって各ワイヤを超音波加振すると、不着ワイヤの振幅は正常に接続されているワイヤの振幅よりも大きくなる。このため、撮像した動画の１つのフレームとそれ以前の前フレームとの画像の差分を算出し、画像の差分が所定の閾値を超えたワイヤ、即ち、不着ワイヤの画像表示を他のワイヤの画像表示と異ならせてディスプレイに表示することにより、ディスプレイ上に不着ワイヤの画像を他の画像と区別して表示することができる。これにより、検査員がディスプレイの画像表示により不着ワイヤの検出を行うことができる。不着ワイヤの振幅と正常に接続されているワイヤの振幅との差は顕著なので、高精度でワイヤの不着検出を行うことができる。また、カメラで半導体装置に含まれる全てのワイヤの画像を取得し、同時に分析してディスプレイに表示するので、ワイヤの本数が多くなっても短時間に全てのワイヤの不着検査を行うことができる。
　本発明のワイヤ不着検査システムにおいて、制御部は、ワイヤの振動領域の内の差分が所定の閾値を超えた超過領域の画像表示を他の領域の画像表示と異ならせてディスプレイに表示してもよい。
　このようにある領域の画像表示を異ならせることにより、異なる画像表示となる領域、或いは、面積が大きくなり、検査員が容易に不着ワイヤの検出を行うことができる。
　本発明のワイヤ不着検査システムにおいて、制御部は、差分を算出する１つのフレームと前フレームとの間のフレーム数、或いは、動画のフレームレートを変化させて差分を算出してもよい。
　これにより、ワイヤの振動周波数と差分を算出する動画のフレームのタイミングを調整して差分を顕著に検出できる。
　本発明のワイヤ不着検査システムにおいて、制御部は、超音波発振器の発振周波数を変化させて超音波加振器で半導体装置を超音波加振してもよい。
　ワイヤの固有振動数は、ボンド点間のワイヤの長さとワイヤの直径によって変化する。このため、超音波発振器の発振周波数を変化させて超音波加振器で半導体装置を超音波加振することにより、ボンド点の長さ、或いは、ワイヤの直径が異なる複数のワイヤの不着検査を一度に行うことができる。これにより、短時間に長さ或いは直径の異なるワイヤの不着検査を行うことができる。
　本発明のワイヤ不着検査システムにおいて、超音波加振器は、半導体装置の基板に接続されて基板を超音波振動させる超音波振動子としてもよい。
　これにより、簡便な構成で高精度で短時間にワイヤの不着検出が可能なワイヤ不着検査システムを提供することができる。
　本発明のワイヤ不着検査システムにおいて、超音波加振器は、半導体装置の周囲に配置された超音波スピーカーとしてもよい。
　これにより、ワイヤを直接超音波加振することができ、より、高精度にワイヤの不着検出を行うことができる。
　本発明のワイヤ不着検出装置は、基板と、基板に取付けられた半導体素子と、半導体素子の電極と基板の電極、又は、半導体素子の一の電極と半導体素子の他の電極とを接続するワイヤと、を備える半導体装置のワイヤ不着検出装置であって、超音波発振器と、超音波発振器に接続されて超音波発振器からの電力により半導体装置を超音波加振する超音波加振器と、半導体装置の動画を撮像するカメラと、超音波発振器を調整すると共に、カメラで撮像した動画を解析する制御部と、を備え、制御部は、撮像した動画の１つのフレームとそれ以前の前フレームとの画像の差分を算出し、差分が所定の閾値を超えた場合に不着検出信号を出力すること、を特徴とする。
　超音波で半導体装置を加振することによって各ワイヤを超音波加振すると、不着ワイヤの振幅は正常に接続されているワイヤの振幅よりも大きくなる。このため、撮像した動画の１つのフレームとそれ以前の前フレームとの画像の差分を算出し、画像の差分が所定の閾値を超えたことによりワイヤの不着検出を行うことができる。不着ワイヤの振幅と正常に接続されているワイヤの振幅との差は顕著なので、高精度でワイヤの不着検出を行うことができる。また、カメラで半導体装置に含まれる全てのワイヤの画像を取得し、同時に画像の差分を分析できるので、ワイヤの本数が多くなっても短時間に半導体装置全体のワイヤの不着検出を行うことができる。
　本発明のワイヤ不着検出装置において、制御部は、差分を算出する１つのフレームと前フレームとの間のフレーム数、或いは、動画のフレームレートを変化させて差分を算出してもよい。
　これにより、ワイヤの振動周波数と差分を算出する動画のフレームのタイミングを調整して差分を顕著に検出でき、不着検出の精度を向上させることができる。
　本発明のワイヤ不着検出装置において、制御部は、超音波発振器の発振周波数を変化させて超音波加振器で半導体装置を超音波加振してもよい。
　これにより、短時間に長さ或いは直径の異なるワイヤの不着検出を行うことができる。
　本発明のワイヤ不着検出装置において、超音波加振器は、半導体装置の基板に接続されて基板を超音波振動させる超音波振動子としてもよいと、半導体装置の周囲に配置された超音波スピーカーとしてもよい。
　超音波振動子を用いることにより、簡便な構成で高精度で短時間にワイヤの不着検出を行うことができる。また、超音波スピーカーを用いることにより、ワイヤを直接超音波加振することができ、より、高精度にワイヤの不着検出を行うことができる。
　本発明のワイヤ不着検出方法は、基板と、基板に取付けられた半導体素子と、半導体素子の電極と基板の電極、又は、半導体素子の一の電極と半導体素子の他の電極とを接続するワイヤと、を備える半導体装置のワイヤ不着検出方法であって、超音波発振器と、超音波発振器に接続されて超音波発振器からの電力により半導体装置を超音波加振する超音波加振器と、半導体装置の動画を撮像するカメラと、超音波発振器とカメラとが接続される制御部と、を準備する準備ステップと、超音波発振器からの電力によって超音波加振器で基板を超音波加振する超音波加振ステップと、超音波加振された半導体装置の動画をカメラで撮像する撮像ステップと、撮像した動画の１つのフレームとそれ以前の前フレームとの画像の差分を算出する差分算出ステップと、差分が所定の閾値を超えた場合にワイヤの不着を検出する不着検出ステップと、を含むことを特徴とする。
　これにより、高精度でワイヤの不着検出を行うことができる。また、ワイヤの本数が多くなっても短時間に全てのワイヤの不着検出を行うことができる。
　本発明のワイヤ不着検出方法において、準備ステップは、カメラで撮像した動画を表示するディスプレイを準備し、ディスプレイを制御部に接続することを含み、差分が所定の閾値を超えたワイヤの画像表示を他のワイヤの画像表示と異ならせてディスプレイに表示する表示ステップを含み、不着検出ステップは、ディスプレイに表示された画像に基づいてワイヤの不着を検出してもよい。
　これにより、検査員がディスプレイの画像表示により不着ワイヤの検出を行うことができる。
　本発明のワイヤ不着検出方法において、ワイヤの振動領域の内の差分が所定の閾値を超えた超過領域の画像表示を他の領域の画像表示と異ならせてディスプレイに表示してもよい。
　これにより、異なる画像表示となる領域、或いは、面積が大きくなり、検査員が容易に不着ワイヤの検出を行うことができる。
　本発明は、高精度で短時間にワイヤの不着検出が可能なワイヤ不着検査システムを提供することができる。
実施形態のワイヤ不着検査システムの構成を示す系統図である。 カメラが撮像した画像を示す平面図である。 図１に示すワイヤ不着検査システムの制御部の動作を示すフローチャートである。 （ａ）は、基板を超音波加振した際の図３のＡ部の拡大平面図であり、（ｂ）は、（ａ）に示すＢ部の拡大平面図である。 基板を超音波加振した際の超過領域を示す平面図である。 他の実施形態のワイヤ不着検査システムの構成を示す系統図である。 実施形態のワイヤ不着検出装置の構成を示す系統図である。 図７に示すワイヤ不着検出装置の動作を示すフローチャートである。
　以下、図面を参照しながら実施形態のワイヤ不着検査システム１００について説明する。図１に示すように、ワイヤ不着検査システム１００は、半導体装置１０のワイヤ３０と基板１１の電極１２又は半導体装置１０の電極２５～２８との間の不着検査を行うものである。ワイヤ不着検査システム１００は、超音波発振器４０と、超音波加振器である超音波振動子４２と、カメラ４５と、ディスプレイ４８と、制御部５０とで構成される。
　ワイヤ不着検査システム１００の検査対象となる半導体装置１０は、基板１１の上に４段に半導体チップ２１～２４が積層して取付けられ、各半導体チップ２１～２４の各電極２５～２８及び基板１１の電極１２の間を１本のワイヤ３０で連続的に接続したものである。ここで、半導体チップ２１～２４は半導体素子２０を構成する。１本のワイヤ３０は、一段目の半導体チップ２１の電極２５と基板１１の電極１２を接続する一段目ワイヤ３１と、二段目から四段目の各半導体チップ２２～２４の各電極２６～２８と一段目から三段目の各半導体チップ２１～２３の各電極２５～２７とをそれぞれ接続する二段目～四段目ワイヤ３２～３４で構成されている。
　超音波発振器４０は超音波領域の周波数の交流電力を出力し、超音波振動子４２を超音波振動させるものである。超音波振動子４２は、超音波発振器４０から入力される超音波の周波数領域の交流電力によって駆動され、超音波振動する部材である。例えば、ピエゾ素子等で構成してもよい。超音波振動子４２は、半導体装置１０の基板１１に接続されている。
　図１に示すように、カメラ４５は、半導体装置１０の上側に配置され、図２に示すように、基板１１と基板１１に取付けられた半導体チップ２１～２４と、半導体チップ２１から２４の外周部に配置された各電極２５～２８と、一段目の半導体チップ２１の周囲に配置された基板１１の電極１２と、各電極１２、２５～２８を連続的に接続する各ワイヤ３０とを撮像する。カメラ４５は、動画の画像を撮像して制御部５０に出力する。
　ディスプレイ４８は、カメラ４５の撮像した動画を表示する画像表示装置である。
　制御部５０は、内部にＣＰＵと記憶部とを含むコンピュータである。超音波発振器４０は、制御部５０に接続されて制御部５０の指令によって動作する。また、制御部５０はカメラ４５を調整すると共に、カメラ４５で撮像した動画を解析してその結果をディスプレイ４８に出力する。
　以下、図３～４を参照しながらワイヤ不着検査システム１００の動作について説明する。図３のステップＳ１０１に示すように、制御部５０は、超音波発振器４０に周波数が超音波領域の交流電力を出力する指令を出力する。この指令によって超音波発振器４０は、所定の周波数、例えば、４０ｋＨｚ程度の周波数の交流電力を出力する。超音波発振器４０が出力した交流電力は、超音波振動子４２に入力され、超音波振動子４２が超音波振動する。超音波振動子４２は、半導体装置１０の基板１１を超音波振動加振し、これにより、半導体装置１０の各ワイヤ３０はそれぞれ超音波加振される。
　図４の（ａ）に示すワイヤ３０ａは、各電極１２、２５～２８に正常に接続されている。ワイヤ３０ａは、超音波加振されると、一段目～四段目ワイヤ３１ａ～３４ａは、一段目～四段目ワイヤ３１ａ～３４ａの下端がそれぞれ接続されている各電極１２，２５～２７と上端が接続されている各電極２５～２８とのそれぞれの間の固有振動数ｆ０で横方向に振動する。固有振動数ｆ０は、ワイヤ３０の直径と電極２５，２６及び電極２６，２７の間隔ａによって異なるが、一般的な半導体装置１０では、数十Ｈｚのオーダーとなることが多い。
　一方、不着ワイヤ３０ｂは二段目の半導体チップ２２の電極２６との間が不着状態となっている。このため、不着ワイヤ３０ｂが超音波加振されると、二段目ワイヤ３２ｂと三段目ワイヤ３３ｂとは、一段目の半導体チップ２１の電極２５と三段目の半導体チップ２３との電極２７と間の固有振動数ｆ１で横方向に振動する。本例では、図４の（ｂ）に示すように、電極２５と電極２７との間隔は、電極２５，２６、電極２６，２７の間隔ａの２倍の２ａとなっているので、不着ワイヤ３０ｂの二段目ワイヤ３２ｂと三段目ワイヤ３３ｂの固有振動数ｆ１は、ｆ０の１／２程度で、一般的な半導体装置１０では、２０～３０Ｈｚのオーダーとなることが多い。
　なお、基板１１と各半導体チップ２１～２４とは超音波加振されても固有振動する部位が無いのでワイヤ３０ａ、不着ワイヤ３０ｂのような低周波の固有振動は発生しない。
　図３のステップＳ１０２に示すように、制御部５０は、このように超音波加振されている半導体装置１０の動画をカメラ４５で撮像し、図３のステップＳ１０３に示すように、撮像した画像を記憶部に格納する。正常に接続されているワイヤ３０ａの一段目～四段目ワイヤ３１ａ～３４ａは、数十Ｈｚの固有振動数で横方向に振動する。動画のフレームレートは、一秒間に２４～６０フレームである。このため、例えば、１つのフレームの一段目～四段目ワイヤ３１ａ～３４ａの画像は、図４の（ａ）でワイヤ３０ａの中心線３９ａの左側の一点鎖線のようになり、１つ前の前フレームの画像は、図４の（ａ）でワイヤ３０ａの中心線３９ａの右側の一点鎖線のようになる。
　次に、制御部５０は、記憶部に格納した動画の画像データを読み出して、図３のステップＳ１０４に示すように、図４の（ａ）に示す１つのフレームの一段目～四段目ワイヤ３１ａ～３４ａの画像と、１つ前の前フレーム一段目～四段目ワイヤ３１ａ～３４ａの画像とを対比してその間の差分Δｄａを算出する。図４の（ａ）に示すように、正常なワイヤ３０ａではこの差分Δｄａは小さい。なお、この差分Δｄａは一段目～四段目ワイヤ３１ａ～３４ａの振幅に比例する量となる。
　一方、二段目の半導体チップ２２の電極２６との間が不着状態となっている不着ワイヤ３０ｂの二段目ワイヤ３２ｂと三段目ワイヤ３３ｂとは、２０～３０Ｈｚで横方向に大きく振動する。先に述べたように、動画のフレームレートは、一秒間に２４～６０フレームであるから、例えば、１つのフレームの二段目ワイヤ３２ｂと三段目ワイヤ３３ｂの画像は、図４の（ａ），（ｂ）で不着ワイヤ３０ｂの中心線３９ａの左側の一点鎖線のようになり、１つ前の前フレームの画像は、図４の（ａ），（ｂ）で不着ワイヤ３０ｂの中心線３９ｂの右側の一点鎖線のようになる。
　制御部５０は、ワイヤ３０ａの場合と同様、図４の（ｂ）に示すように、１つのフレームの二段目ワイヤ３２ｂと三段目ワイヤ３３ｂの画像と１つ前の前フレームの二段目ワイヤ３２ｂと三段目ワイヤ３３ｂの画像との差分Δｄｂを算出する。図４の（ｂ）に示すように、不着ワイヤ３０ｂの二段目ワイヤ３２ｂと三段目ワイヤ３３ｂではこの差分Δｄｂは、非常に大きく、所定の閾値ΔＳを越えている。なお、この差分Δｄｂは二段目ワイヤ３２ｂと三段目ワイヤ３３ｂの振幅に比例する量となる。
　制御部５０は、図４の（ｂ）に示すように、１つのフレームの二段目ワイヤ３２ｂと三段目ワイヤ３３ｂの画像と１つ前の前フレームの二段目ワイヤ３２ｂと三段目ワイヤ３３ｂの画像との差分Δｄが所定の閾値ΔＳを越えた場合、図３のステップＳ１０５でＹＥＳと判断して図３のステップＳ１０６に進み、二段目ワイヤ３２ｂと三段目ワイヤ３３ｂの画像のディスプレイ４８上の表示を正常に接続されているワイヤ３０ａの一段目～四段目ワイヤ３１ａ～３４ａの画像と異ならせる。
　異なる表示は、様々な表示があるが、例えば、不着ワイヤ３０ｂの二段目ワイヤ３２ｂと三段目ワイヤ３３ｂの画像を赤く表示したり、輝度の高い白色で表示し、基板１１と各半導体チップ２１～２４の画像、或いは、正常に接続されているワイヤ３０ａの一段目～四段目ワイヤ３１ａ～３４ａの画像と区別できるように表示する。
　検査員は、ディスプレイ４８の画像を見ると、例えば、不着ワイヤ３０ｂが赤色に表示されるので、一目で不着ワイヤ３０ｂの有無、及び、その位置を検出することができる。
　制御部５０は、図３のステップＳ１０５でＮＯと判断した場合には、図３のステップＳ１０１に戻って半導体装置１０の超音波加振と動画の撮像を続ける。
　また、制御部５０は、図５に示すように、１つのフレームの二段目ワイヤ３２ｂと三段目ワイヤ３３ｂの画像と１つ前の前フレームの二段目ワイヤ３２ｂと三段目ワイヤ３３ｂの画像との差分Δｄｂが所定の閾値ΔＳを越えた場合、図５中にハッチングで示す二段目ワイヤ３２ｂと三段目ワイヤ３３ｂの振動領域の内の差分Δｄｂが所定の閾値ΔＳを超えた超過領域３５，３６の画像表示を他の領域の画像表示と異ならせてディスプレイ４８に表示することとしてもよい。例えば、超過領域３５，３６を赤色表示にする場合、不着ワイヤ３０ｂの二段目ワイヤ３２ｂと三段目ワイヤ３３ｂの画像よりも広い領域を赤色表示にするので、検査員はより、容易に不着ワイヤ３０ｂを検出することができる。
　以上、説明したように、本実施形態のワイヤ不着検査システム１００は、超音波で半導体装置１０を加振することによって各ワイヤ３０を超音波加振すると、不着ワイヤ３０ｂの振幅は正常に接続されているワイヤ３０ａの振幅及び基板１１並びに半導体チップ２１～２４の振幅よりも大きくなることを利用したものである。制御部５０は、撮像した動画の１つのフレームと１つ前の前フレームとの画像の差分Δｄを算出し、画像の差分Δｄが所定の閾値ΔＳを超えた不着ワイヤ３０ｂの画像表示を他のワイヤ３０の画像表示と異ならせてディスプレイ４８に表示することにより、ディスプレイ４８の上に不着ワイヤ３０ｂの画像を他の画像と区別して表示することができる。これにより、検査員がディスプレイ４８の画像により不着ワイヤ３０ｂの検出を行うことができる。不着ワイヤ３０ｂの振幅と正常に接続されているワイヤ３０ａの振幅との差は顕著なので、高精度で不着ワイヤ３０ｂの不着検出を行うことができる。また、カメラ４５で半導体装置１０に含まれる全てのワイヤ３０の画像を取得し、同時に分析してディスプレイ４８に表示するができるので、ワイヤ３０の本数が多くなっても短時間に全てのワイヤ３０の不着検査を行うことができる。
　以上の説明では、例として、正常なワイヤ３０ａの電極１２、２５～２８間の固有振動数ｆ０は数十Ｈｚのオーダー、不着ワイヤ３０ｂの二段目ワイヤ３２ｂと三段目ワイヤ３３ｂの電極２５と電極２７との間の固有振動数ｆ１は２０～３０Ｈｚのオーダー、動画のフレームレートは、一秒間に２４～６０フレームとし、１つのフレームと１つ前の前フレームとの画像の差分Δｄを算出することとして説明したが、前フレームは１つのフレーム以前のフレームであればこれに限らない。例えば、正常なワイヤ３０ａや不着ワイヤ３０ｂの固有振動数ｆ０，ｆ１がもっと低い場合には、１つのフレームと２つ前のフレーム、或いは３つ前のフレームの画像との差分Δｄを算出して閾値ΔＳと比較してもよい。これは、動画をフレームレートの１／２、或いは１／３のレートで撮像していることに相当する。また、動画のフレームレートを正常なワイヤ３０ａ、不着ワイヤ３０ｂの各固有振動数によって変化させ、差分Δｄが顕著となるフレームレートに設定してもよい。このように、制御部５０は、１つのフレームと前フレームとの間のフレーム数、或いは、動画のフレームレートを変化させて差分Δｄを算出するようにしてもよい。これにより、正常なワイヤ３０ａや不着ワイヤ３０ｂの固有振動数ｆ０，ｆ１と差分Δｄを算出する動画のフレームのタイミングを調整して差分Δｄを顕著に検出できる。
　また、制御部５０は、超音波発振器４０の交流電力の周波数を変化させて半導体装置１０を超音波加振するようにしてもよい。ワイヤ３０の固有振動数は、ボンド点間のワイヤ３０の長さやワイヤ直径によって変化する。
　各電極１２、２５～２８の各間隔が異なる場合には、それぞれの固有振動数も異なるので、超音波発振器４０の交流電力の発振周波数を変化させて半導体装置１０を超音波加振することにより、各ワイヤ３０の各部分の不着検出を効果的に行うことができる。また、１つの半導体装置１０の中で異なる直径のワイヤ３０が用いられている場合も同様である。ここで、超音波発振器４０の交流電力の発振周波数の変化は、自由に選択できるが、例えば、１０ｋＨｚから１５０ｋＨｚまで、周波数を増加させるように掃引してもよいし、逆に高い周波数から低い周波数に向けて掃引してもよい。
　以上、説明したワイヤ不着検査システム１００では、不着ワイヤ３０ｂの画像表示を他の画像表示と異ならせてディスプレイ４８に表示することにより、検査員が不着ワイヤ３０ｂを検出することとして説明したが、これに限らず、制御部５０は、差分Δｄが所定の閾値ΔＳを超えた不着ワイヤ３０ｂの画像が存在すると判断し、その場合に、ディスプレイ４８にワイヤ３０の不着検出を表示するようにしてもよい。この場合、例えば、ディスプレイ４８の上に、「不着ワイヤ検出」などの文言を表示するようにしてもよい。
　また、ワイヤ不着検査システム１００を用いてワイヤ不着検出方法を実行する場合、超音波発振器４０と、超音波振動子４２と、カメラ４５と、ディスプレイ４８とを配置し、超音波振動子４２を超音波発振器４０に接続し、超音波発振器４０とカメラ４５とディスプレイ４８とを制御部５０に接続してワイヤ不着検査システム１００を構成することは、準備ステップを構成する。そして、制御部５０によって超音波発振器４０を制御して超音波振動子４２で基板１１を超音波加振することは超音波加振ステップを構成する。また、制御部５０によって半導体装置１０の動画を撮像し、撮像した動画のフレーム間の画像の差分Δｄを算出することは、それぞれ、撮像ステップと差分算出ステップを構成する。また、差分Δｄが所定の閾値ΔＳを越えた不着ワイヤ３０ｂの画像を正常なワイヤ３０ａの画像と異ならせてディスプレイ４８に表示することは表示ステップを構成する。そして、検査員がディスプレイ４８の画像に基づいて不着ワイヤ３０ｂを検出することは不着検出ステップを構成する。
　次に、図６を参照して、他の実施形態のワイヤ不着検査システム２００について説明する。先に図１～４を参照して説明した部分と同様の部分には、同様の符号を付して説明は省略する。
　図６に示すように、ワイヤ不着検査システム２００は、図１～図５を参照して説明したワイヤ不着検査システム１００の超音波振動子４２を半導体装置１０の周囲に配置された超音波スピーカー４３に代えたものである。
　ワイヤ不着検査システム２００は、先に説明したワイヤ不着検査システム１００と同様の作用、効果に加え、ワイヤ３０を直接超音波加振することができ、より、高精度にワイヤ３０の不着検出を行うことができる。
　次に、図７を参照しながら、実施形態のワイヤ不着検出装置３００について説明する。先に図１から５を参照して説明した実施形態のワイヤ不着検査システム１００と同様の部分には、同様の符号を付して説明は省略する。図７に示すように、実施形態のワイヤ不着検出装置３００は、ディスプレイ４８を備えず、制御部５０は、カメラ４５で撮像した動画の１つのフレームとそれ以前の前フレームとの画像の差分Δｄを算出し、差分Δｄが所定の閾値ΔＳを超えた場合に外部に不着検出信号を出力するものである。
　次に、図８を参照しながら、ワイヤ不着検出装置３００の動作について説明する。先に図３を参照して説明したワイヤ不着検査システム１００の制御部５０の動作と同様のステップには同様のステップ番号を付して説明は省略する。
　図８のステップＳ１０１からＳ１０４に示すように、制御部５０は、超音波発振器４０から周波数が超音波領域の交流電力を出力させて超音波振動子４２を超音波振動させて半導体装置１０の基板１１を超音波加振し、半導体装置１０の動画をカメラ４５で撮像し、動画の画像データを記憶部に格納し、画像の差分Δｄを算出する。
　制御部５０は、図８のステップＳ１０５でＹＥＳと判断した場合には、図８のステップＳ２０１に進んで、不着検出信号を外部に出力する。
　制御部５０からの不着検出信号は、様々な外部の機器に入力される。例えば、外部の機器が表示装置、或いは、警告ランプなどの場合には、「ワイヤ不着検出」の文言を表示したり、警告ランプを点灯させるようにしてもよい。
　また、外部の機器が搬送装置などの場合には、制御部５０からワイヤ不着検出信号が入力された場合に、その半導体装置１０を不良品としてそれ以降の製造ラインから外すようにしてもよい。
　また、制御部５０は、画像を分析した結果から、不着ワイヤ３０ｂの本数、位置を算出して不着信号の中に不着ワイヤ３０ｂの本数、位置の情報を含ませるようにしてもよい。
　また、ワイヤ不着検出装置３００を用いてワイヤ不着検出方法を実行する場合、超音波発振器４０と、超音波振動子４２と、カメラ４５と、を配置し、超音波振動子４２を超音波発振器４０に接続し、超音波発振器４０とカメラ４５を制御部５０に接続することは準備ステップを構成する。そして、制御部５０によって超音波発振器４０を制御して超音波振動子４２で基板１１を超音波加振することは超音波加振ステップを構成する。また、制御部５０によって半導体装置１０の動画を撮像し、撮像した動画のフレーム間の画像の差分Δｄを算出することは、それぞれ、撮像ステップと差分算出ステップを構成する。そして差分Δｄが所定の閾値ΔＳを越えた場合に不着検出信号を出力することは、不着検出ステップを構成する。
　なお、以上説明した各実施形態では、検査対象となる半導体装置１０は、基板１１の上に４段に半導体チップ２１～２４が積層して取付けられ、各半導体チップ２１～２４の各電極２５～２８及び基板１１の電極１２の間を１本のワイヤ３０で連続的に接続したものとして説明したがこれに限らない。例えば、基板１１の上に１つの半導体チップ２１を取付け、半導体チップ２１と基板１１の電極１２とをワイヤ３０で接続したような半導体装置１０のワイヤ３０の不着検査にも適用することができる。
　１０　半導体装置、１１　基板、１２，２５～２７　電極、２０　半導体素子、２１～２４　半導体チップ、３０，３０ａ　ワイヤ、３０ｂ　不着ワイヤ、３１～３４　一段目ワイヤ～四段目ワイヤ、３５，３６　超過領域、３９ａ，３９ｂ　中心線、４０　超音波発振器、４２　超音波振動子、４３　超音波スピーカー、４５　カメラ、４８　ディスプレイ、５０　制御部、１００，２００　ワイヤ不着検査システム、３００　ワイヤ不着検出装置。

Claims (14)

  1. 　基板と、
    　前記基板に取付けられた半導体素子と、
    　前記半導体素子の電極と前記基板の電極、又は、前記半導体素子の一の電極と前記半導体素子の他の電極とを接続するワイヤと、を備える半導体装置のワイヤ不着検査システムであって、
    　超音波発振器と、
    　前記超音波発振器に接続されて前記超音波発振器からの電力により前記半導体装置を超音波加振する超音波加振器と、
    　前記半導体装置の動画を撮像するカメラと、
    　前記カメラで撮像した動画を表示するディスプレイと、
    　前記超音波発振器を調整すると共に、前記カメラで撮像した動画を解析する制御部と、を備え、
    　前記制御部は、撮像した動画の１つのフレームとそれ以前の前フレームとの画像の差分を算出し、
    　前記差分が所定の閾値を超えた前記ワイヤの画像表示を他の前記ワイヤの画像表示と異ならせて前記ディスプレイに表示すること、
    　を特徴とするワイヤ不着検査システム。
  2. 　請求項１に記載のワイヤ不着検査システムであって、
    　前記制御部は、
    　前記ワイヤの振動領域の内の前記差分が所定の前記閾値を超えた超過領域の画像表示を他の領域の画像表示と異ならせて前記ディスプレイに表示すること、
    　を特徴とするワイヤ不着検査システム。
  3. 　請求項１又は２に記載のワイヤ不着検査システムであって、
    　前記制御部は、
    　前記差分を算出する１つのフレームと前フレームとの間のフレーム数、或いは、動画のフレームレートを変化させて前記差分を算出すること、
    　を特徴とするワイヤ不着検査システム。
  4. 　請求項１又は２に記載のワイヤ不着検査システムであって、
    　前記制御部は、
    　前記超音波発振器の発振周波数を変化させて前記超音波加振器で前記半導体装置を超音波加振すること、
    　を特徴とするワイヤ不着検査システム。
  5. 　請求項１又は２に記載のワイヤ不着検査システムであって、
    　前記超音波加振器は、前記半導体装置の前記基板に接続されて前記基板を超音波振動させる超音波振動子であること、
    　を特徴とするワイヤ不着検査システム。
  6. 　請求項１又は２に記載のワイヤ不着検査システムであって、
    　前記超音波加振器は、前記半導体装置の周囲に配置された超音波スピーカーであること、
    　を特徴とするワイヤ不着検査システム。
  7. 　基板と、
    　前記基板に取付けられた半導体素子と、
    　前記半導体素子の電極と前記基板の電極、又は、前記半導体素子の一の電極と前記半導体素子の他の電極とを接続するワイヤと、を備える半導体装置のワイヤ不着検出装置であって、
    　超音波発振器と、
    　前記超音波発振器に接続されて前記超音波発振器からの電力により前記半導体装置を超音波加振する超音波加振器と、
    　前記半導体装置の動画を撮像するカメラと、
    　前記超音波発振器を調整すると共に、前記カメラで撮像した動画を解析する制御部と、を備え、
    　前記制御部は、撮像した動画の１つのフレームとそれ以前の前フレームとの画像の差分を算出し、
    　前記差分が所定の閾値を超えた場合に不着検出信号を出力すること、
    　を特徴とするワイヤ不着検出装置。
  8. 　請求項７に記載のワイヤ不着検出装置であって、
    　前記制御部は、
    　前記差分を算出する１つのフレームと前フレームとの間のフレーム数、或いは、動画のフレームレートを変化させて前記差分を算出すること、
    　を特徴とするワイヤ不着検出装置。
  9. 　請求項７又は８に記載のワイヤ不着検出装置であって、
    　前記制御部は、
    　前記超音波発振器の発振周波数を変化させて前記超音波加振器で前記半導体装置を超音波加振すること、
    　を特徴とするワイヤ不着検出装置。
  10. 　請求項７又は８に記載のワイヤ不着検出装置であって、
    　前記超音波加振器は、前記半導体装置の前記基板に接続されて前記基板を超音波振動させる超音波振動子であること、
    　を特徴とするワイヤ不着検出装置。
  11. 　請求項７又は８に記載のワイヤ不着検出装置であって、
    　前記超音波加振器は、前記半導体装置の周囲に配置された超音波スピーカーであること、
    　を特徴とするワイヤ不着検出装置。
  12. 　基板と、前記基板に取付けられた半導体素子と、前記半導体素子の電極と前記基板の電極、又は、前記半導体素子の一の電極と前記半導体素子の他の電極とを接続するワイヤと、を備える半導体装置のワイヤ不着検出方法であって、
    　超音波発振器と、前記超音波発振器に接続されて前記超音波発振器からの電力により前記半導体装置を超音波加振する超音波加振器と、前記半導体装置の動画を撮像するカメラと、前記超音波発振器と前記カメラとが接続される制御部と、を準備する準備ステップと、
    　前記超音波発振器からの電力によって前記超音波加振器で前記基板を超音波加振する超音波加振ステップと、
    　超音波加振された前記半導体装置の動画を前記カメラで撮像する撮像ステップと、
    　撮像した動画の１つのフレームとそれ以前の前フレームとの画像の差分を算出する差分算出ステップと、
    　前記差分が所定の閾値を超えた場合にワイヤの不着を検出する不着検出ステップと、
    　を含むことを特徴とするワイヤ不着検出方法。
  13. 　請求項１２に記載のワイヤ不着検出方法であって、
    　前記準備ステップは、前記カメラで撮像した動画を表示するディスプレイを準備し、前記ディスプレイを前記制御部に接続することを含み、
    　前記差分が所定の閾値を超えた前記ワイヤの画像表示を他の前記ワイヤの画像表示と異ならせて前記ディスプレイに表示する表示ステップを含み、
    　前記不着検出ステップは、前記ディスプレイに表示された画像に基づいて前記ワイヤの不着を検出すること、
    　を特徴とするワイヤ不着検出方法。
  14. 　請求項１３に記載のワイヤ不着検出方法であって、
    　前記表示ステップは、
    　前記ワイヤの振動領域の内の前記差分が所定の前記閾値を超えた超過領域の画像表示を他の領域の画像表示と異ならせて前記ディスプレイに表示すること、
    　を特徴とするワイヤ不着検出方法。
PCT/JP2020/010693 2019-03-13 2020-03-12 ワイヤ不着検査システム及びワイヤ不着検出装置並びにワイヤ不着検出方法 Ceased WO2020184644A1 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021505118A JP7019231B2 (ja) 2019-03-13 2020-03-12 ワイヤ不着検査システム及びワイヤ不着検出装置並びにワイヤ不着検出方法
SG11202104391RA SG11202104391RA (en) 2019-03-13 2020-03-12 Wire non-attachment inspection system, wire non-attachment detection device, and wire non-attachment detection method
US17/428,963 US20220130026A1 (en) 2019-03-13 2020-03-12 Wire non-attachment inspection system, wire non-attachment detection device, and wire non-attachment detection method
KR1020217001424A KR102413267B1 (ko) 2019-03-13 2020-03-12 와이어 불착 검사 시스템, 와이어 불착 검출 장치 및 와이어 불착 검출 방법
CN202080005972.3A CN112997307B (zh) 2019-03-13 2020-03-12 打线失败检查系统、检测装置以及检测方法

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019-046296 2019-03-13
JP2019046296 2019-03-13

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2020184644A1 true WO2020184644A1 (ja) 2020-09-17

Family

ID=72426656

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2020/010693 Ceased WO2020184644A1 (ja) 2019-03-13 2020-03-12 ワイヤ不着検査システム及びワイヤ不着検出装置並びにワイヤ不着検出方法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20220130026A1 (ja)
JP (1) JP7019231B2 (ja)
KR (1) KR102413267B1 (ja)
CN (1) CN112997307B (ja)
SG (1) SG11202104391RA (ja)
TW (1) TWI760708B (ja)
WO (1) WO2020184644A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2022239067A1 (ja) * 2021-05-10 2022-11-17

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09181140A (ja) * 1995-12-26 1997-07-11 Toshiba Microelectron Corp 半導体集積回路組立検査装置及び検査方法
JP2008084881A (ja) * 2006-09-25 2008-04-10 Toshiba Corp 電子装置の製造方法およびその検査方法
JP2009071051A (ja) * 2007-09-13 2009-04-02 Toyota Motor Corp ボンディングワイヤ検査装置およびボンディングワイヤ検査方法
WO2014171160A1 (ja) * 2013-04-15 2014-10-23 株式会社新川 半導体装置および半導体装置の製造方法
JP2017022310A (ja) * 2015-07-14 2017-01-26 三菱電機株式会社 半導体装置、半導体装置の劣化評価方法、半導体装置を含むシステム
JP2019100951A (ja) * 2017-12-06 2019-06-24 新電元工業株式会社 半導体装置の検査方法、及び検査装置

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5532739A (en) * 1993-10-06 1996-07-02 Cognex Corporation Automated optical inspection apparatus
JPH09213752A (ja) 1996-01-31 1997-08-15 Kaijo Corp ワイヤボンディング装置における不着検出回路
JP2000137026A (ja) * 1998-10-30 2000-05-16 Suzuki Motor Corp 異常検査方法およびワイヤボンディング装置の接合良否検査システム
TWI282133B (en) * 2005-12-23 2007-06-01 Advanced Semiconductor Eng Method of wire bonding the chip with a plurality of solder pads
JP4275724B1 (ja) * 2008-07-16 2009-06-10 株式会社新川 ボンディング良否判定方法およびボンディング良否判定装置ならびにボンディング装置
JP2010056106A (ja) 2008-08-26 2010-03-11 Nec Electronics Corp ワイヤボンディング装置、これを用いたワイヤボンディング方法
JP4625858B2 (ja) * 2008-09-10 2011-02-02 株式会社カイジョー ワイヤボンディング方法、ワイヤボンディング装置及びワイヤボンディング制御プログラム
JP2015114242A (ja) * 2013-12-12 2015-06-22 株式会社新川 ワイヤボンディングの検査方法及びワイヤボンディングの検査装置
TWI562252B (en) * 2014-02-17 2016-12-11 Shinkawa Kk Detecting discharging device, wire bonding device and detecting discharging method
JP5950994B2 (ja) * 2014-12-26 2016-07-13 株式会社新川 実装装置
WO2018110417A1 (ja) * 2016-12-14 2018-06-21 株式会社新川 ワイヤボンディング装置及びワイヤボンディング方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09181140A (ja) * 1995-12-26 1997-07-11 Toshiba Microelectron Corp 半導体集積回路組立検査装置及び検査方法
JP2008084881A (ja) * 2006-09-25 2008-04-10 Toshiba Corp 電子装置の製造方法およびその検査方法
JP2009071051A (ja) * 2007-09-13 2009-04-02 Toyota Motor Corp ボンディングワイヤ検査装置およびボンディングワイヤ検査方法
WO2014171160A1 (ja) * 2013-04-15 2014-10-23 株式会社新川 半導体装置および半導体装置の製造方法
JP2017022310A (ja) * 2015-07-14 2017-01-26 三菱電機株式会社 半導体装置、半導体装置の劣化評価方法、半導体装置を含むシステム
JP2019100951A (ja) * 2017-12-06 2019-06-24 新電元工業株式会社 半導体装置の検査方法、及び検査装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2022239067A1 (ja) * 2021-05-10 2022-11-17
JP7340302B2 (ja) 2021-05-10 2023-09-07 ヤマハロボティクスホールディングス株式会社 不良検出装置及び不良検出方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN112997307B (zh) 2024-06-18
TW202103292A (zh) 2021-01-16
TWI760708B (zh) 2022-04-11
SG11202104391RA (en) 2021-05-28
KR20210021057A (ko) 2021-02-24
KR102413267B1 (ko) 2022-06-27
US20220130026A1 (en) 2022-04-28
CN112997307A (zh) 2021-06-18
JP7019231B2 (ja) 2022-02-15
JPWO2020184644A1 (ja) 2021-06-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5987510B2 (ja) 光走査装置及び光走査制御装置
JP4752952B2 (ja) 力学量センサ、及び該力学量センサの製造方法
CN107615133B (zh) 光扫描装置
US20110155789A1 (en) Bonding apparatus
CN104216112B (zh) 光扫描装置、光扫描控制装置以及光扫描单元
JPWO2009028152A1 (ja) 圧電アクチュエータおよびこれを用いた光学反射素子および圧電駆動装置
JP7019231B2 (ja) ワイヤ不着検査システム及びワイヤ不着検出装置並びにワイヤ不着検出方法
JP7432263B2 (ja) 超音波加振式不良検出装置及びワイヤ不良検出システム
JP2010041638A (ja) マイクロホン装置の検査装置
TWI823376B (zh) 不良檢測裝置及不良檢測方法
JPH112643A (ja) 加速度センサの周波数特性検査装置
JP4343996B1 (ja) ワイヤボンディング装置及びキャピラリの振幅測定方法
TWI802991B (zh) 超音波振動式不良檢測裝置及線材不良檢測系統
JPWO2022091247A5 (ja)
WO2021246271A1 (ja) 音響式不良検出装置及び不良検出方法
US12583186B2 (en) Ultrasonic bonding method, ultrasonic bonding apparatus, and ultrasonic bonding system
JP2016206048A (ja) 物理量センサー用回路、物理量センサー、及び物理量センサーの製造方法
JP5356148B2 (ja) プローバー装置及び検査方法
TWI334031B (en) Testing system and testing method for display apparatus
JPH1164003A (ja) 角速度センサ
JP2010048598A (ja) 微小構造体の検査装置および微小構造体の検査方法
JP2015200580A (ja) 角速度検出回路、角速度センサ、電子機器および角速度検出回路の調整方法
JP2001041970A (ja) 加速度センサおよび該加速度センサの製造方法
JPH05209780A (ja) 周波数解析装置
WO2018012214A1 (ja) 半導体センサチップ、半導体センサチップアレイ、および超音波診断装置

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 20770532

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2021505118

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20217001424

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 20770532

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1