WO2020110367A1 - 低反射シート、低反射機能材の製造方法及び製品の製造方法 - Google Patents

低反射シート、低反射機能材の製造方法及び製品の製造方法 Download PDF

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WO2020110367A1
WO2020110367A1 PCT/JP2019/029137 JP2019029137W WO2020110367A1 WO 2020110367 A1 WO2020110367 A1 WO 2020110367A1 JP 2019029137 W JP2019029137 W JP 2019029137W WO 2020110367 A1 WO2020110367 A1 WO 2020110367A1
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WO
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layer
functional
reflection sheet
low reflection
functional layer
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PCT/JP2019/029137
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隆佳 二連木
秀郎 井口
章博 大石
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パナソニックＩｐマネジメント株式会社
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials

Definitions

  • the present disclosure relates to a low reflection sheet, a low reflection function material manufacturing method, and a product manufacturing method.
  • Patent Document 1 discloses an antireflection laminate in which an anchoring layer made of an ionizing radiation curable resin, a high refractive index layer and a low refractive index layer are laminated on a resin transparent substrate.
  • the low reflection sheet includes a release layer and a functional layer formed on the release layer.
  • the functional layer includes a first functional film having a function of reducing the light reflectance and a second functional film having a hardness higher than that of the first functional film.
  • the release layer can be physically removed from the functional layer.
  • FIG. 1A is a schematic cross-sectional view of a low reflection sheet according to the first embodiment.
  • FIG. 1B is an enlarged cross-sectional view of the low reflection sheet shown in FIG. 1A.
  • FIG. 2A is a schematic cross-sectional view showing the method of manufacturing the low reflection function material and the method of manufacturing the product according to the first embodiment.
  • FIG. 2B is a schematic cross-sectional view showing the method of manufacturing the low reflection function material and the method of manufacturing the product according to the first embodiment.
  • FIG. 2C is a schematic cross-sectional view showing the method of manufacturing the low reflection function material and the method of manufacturing the product according to the first embodiment.
  • FIG. 1A is a schematic cross-sectional view of a low reflection sheet according to the first embodiment.
  • FIG. 1B is an enlarged cross-sectional view of the low reflection sheet shown in FIG. 1A.
  • FIG. 2A is a schematic cross-sectional view showing the method of manufacturing the low reflection function material and the method of manufacturing the product according to
  • FIG. 2D is a schematic cross-sectional view showing the method of manufacturing the low reflection function material and the method of manufacturing the product according to the first embodiment.
  • FIG. 2E is a schematic cross-sectional view showing the method of manufacturing the low reflection function material and the method of manufacturing the product according to the first embodiment.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of another low reflection sheet according to the first embodiment.
  • FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of still another low reflection sheet according to the first embodiment.
  • FIG. 5A is a schematic cross-sectional view of the low reflection sheet according to the second embodiment.
  • 5B is an enlarged cross-sectional view of the low reflection sheet shown in FIG. 5A.
  • FIG. 6A is a schematic cross-sectional view showing a method of manufacturing a low reflection function material and a method of manufacturing a product according to the second embodiment.
  • FIG. 6B is a schematic cross-sectional view showing the method of manufacturing the low reflection function material and the method of manufacturing the product according to the second embodiment.
  • FIG. 6C is a schematic cross-sectional view showing the method of manufacturing the low reflection function material and the method of manufacturing the product according to the second embodiment.
  • FIG. 6D is a schematic cross-sectional view showing the method of manufacturing the low reflection function material and the method of manufacturing the product according to the second embodiment.
  • FIG. 1A is a schematic cross-sectional view of a low reflection sheet 100 according to the first embodiment of the present disclosure.
  • the low reflection sheet 100 includes a release layer 1 and a functional layer 2 formed on the release layer 1 using the release layer 1 as a base material.
  • the functional layer 2 includes a functional film 20 having a function of reducing light reflectance, and a functional film 21 having a hardness higher than that of the functional film 20.
  • the release layer 1 can be physically separated or removed from the functional layer 2.
  • the low reflection sheet 100 of the present embodiment can physically separate or remove the release layer 1 from the functional layer 2. Therefore, the functional layer 2 can be heat-treated at a high temperature in a state where the release layer 1 is removed from the low reflection sheet 100, and in that case, the scratch resistance of the functional layer 2 can be improved. Therefore, the low reflection sheet 100 of the present embodiment is likely to impart excellent scratch resistance to the functional layer 2.
  • Patent Document 1 discloses that the scratch resistance is improved by heating the anchor layer, the high refractive index layer and the low refractive index layer at high temperature.
  • the resin base material may have low heat resistance, and it is difficult to heat-treat at a high temperature when the anchor layer, the high refractive index layer and the low refractive index layer are laminated on the resin base material. Yes, scratch resistance cannot be sufficiently improved.
  • the low reflection sheet 100 of the present embodiment easily imparts excellent scratch resistance to the functional layer 2.
  • the low reflection sheet 100 includes a release layer 1 and a functional layer 2.
  • the low reflection sheet 100 may further include the temporary base material 3.
  • the release layer 1, the functional layer 2, and the temporary base material 3 are laminated in this order.
  • the configurations of the release layer 1, the functional layer 2, and the temporary base material 3 will be described in detail.
  • the peeling layer 1 is a sheet-shaped member.
  • the shape of the release layer 1 in plan view is not particularly limited.
  • the structure of the release layer 1 is not particularly limited as long as it can be physically separated or removed from the functional layer 2.
  • the peeling layer 1 of the present embodiment is a peeling melting layer 10 including a melting layer 11 that melts in a specific process.
  • the molten layer 11 is in contact with the functional layer 2. It is preferable that the peeling melting layer 10 can be separated or removed from the functional layer 2 by melting the melting layer 11. In this case, the melted layer 11 is melted by the specific treatment, so that the peeled melted layer 10 can be physically separated or removed from the functional layer 2.
  • the peeling melt layer 10 may include a configuration other than the melt layer 11.
  • the peeled and melted layer 10 includes the base layer 12.
  • the configurations of the molten layer 11 and the base layer 12 will be described.
  • the molten layer 11 is in contact with the functional layer 2. Therefore, the surface 1 a of the peeling layer 1 that is in contact with the functional layer 2 is formed of the molten layer 11.
  • the structure of the molten layer 11 is not particularly limited as long as the molten layer 11 can be melted by the specific treatment.
  • the molten layer 11 is in a molten state by treating the molten layer 11 with water. That is, the molten layer 11 is preferably made of a water-soluble resin. In this case, the molten layer 11 can be melted by treating the molten layer 11 with water. Thereby, the peeled and melted layer 10 can be physically separated or removed from the functional layer 2.
  • water-soluble resins examples include polyvinyl alcohol (PVA), polyvinylpyrrolidone (PVP), polyethylene glycol (PEG), polyacrylamide (PAM), carboxymethyl cellulose (CMC), and the like.
  • PVA polyvinyl alcohol
  • PVP polyvinylpyrrolidone
  • PEG polyethylene glycol
  • PAM polyacrylamide
  • CMC carboxymethyl cellulose
  • the molten layer 11 may be melted by treating with a solvent.
  • the melted layer 11 can be melted by treating the melted layer 11 with a solvent, whereby the peeled melted layer 10 can be physically separated or removed from the functional layer 2.
  • the solvent in this case is not particularly limited as long as the solvent does not break or damage the functional layer 2 when the molten layer 11 is melted with the solvent. That is, the melted layer 11 may be meltable with a solvent that does not cause breakage or damage to the functional layer 2.
  • the thickness of the melted layer 11 is appropriately set so that the melted layer 11 is easily melted in a specific process and the strength of the peeled melted layer 10 is easily secured.
  • the thickness of the molten layer 11 is preferably 1 ⁇ m or more and 100 ⁇ m or less. In this case, the melted layer 11 can be easily melted by water treatment while ensuring the strength of the peeled melted layer 10.
  • the molten layer 11 is formed on the base layer 12.
  • the base layer 12 is in direct contact with the molten layer 11.
  • the base layer 12 can hold the molten layer 11 and improve the strength of the peeled molten layer 10.
  • the molten layer 11 is provided between the base layer 12 and the functional layer 2.
  • the surface 1 b of the release layer 1 opposite to the surface 1 a in contact with the functional layer 2 is composed of the base layer 12.
  • the base layer 12 is preferably peelable from the molten layer 11.
  • the melt layer 11 can be exposed by peeling the base layer 12 from the melt layer 11. Further, the melted layer 11 can be melted by performing a specific treatment on the exposed melted layer 11. For example, when the melt layer 11 is a water-soluble resin, the base layer 12 is peeled from the melt layer 11 to expose the melt layer 11, and then the melt layer 11 is treated with water to form the melt layer 11. It can be melted.
  • the material of the base layer 12 is not particularly limited as long as it can hold the molten layer 11 and can be peeled from the molten layer 11.
  • the base layer 12 is preferably made of a resin such as polyethylene terephthalate (PET) that does not melt with water. In this case, the base layer 12 can be easily peeled from the molten layer 11 while the molten layer 11 is appropriately held.
  • the thickness of the base layer 12 is not particularly limited.
  • the shape of the functional layer 2 in plan view is not particularly limited, and is preferably the same as the shape of the release layer 1 in plan view, for example.
  • the functional layer 2 includes the functional film 20 and the functional film 21 as described above.
  • the functional film 20 is laminated on the functional film 21. Therefore, in the low reflection sheet 100 of the present embodiment, the release layer 1, the functional film 21, and the functional film 20 overlap in this order.
  • the configurations of the functional films 20 and 21 will be described.
  • the functional film 20 is a layer having a function of reducing light reflectance.
  • the functional film 20 of this embodiment includes a medium refractive index layer 201, a high refractive index layer 202, and a low refractive index layer 203. Further, in the present embodiment, the medium refractive index layer 201, the high refractive index layer 202, and the low refractive index layer 203 are laminated in this order.
  • the refractive index of the high refractive index layer 202 is higher than the refractive index of the middle refractive index layer 201 and the low refractive index layer 203.
  • the refractive index of the middle refractive index layer 201 is higher than that of the low refractive index layer 203. That is, the refractive index of the low refractive index layer 203 is smaller than the refractive index of the middle refractive index layer 201 and the refractive index of the high refractive index layer 202.
  • the light reflected at the interface between the low refractive index layer 203 and the high refractive index layer 202 and the light reflected at the interface between the high refractive index layer 202 and the middle refractive index layer 201 are destructively interfered with each other.
  • the light reflectance is reduced by canceling out the amplitudes.
  • Such destructive interference can be realized by adjusting the refractive index and the film thickness of the medium refractive index layer 201, the high refractive index layer 202, and the low refractive index layer 203.
  • the refractive index of the medium refractive index layer 201 is preferably 1.5 or more and 1.7 or less.
  • the thickness of the medium refractive index layer 201 is preferably 50 nm or more and 150 nm or less.
  • the refractive index of the high refractive index layer 202 may be higher than the refractive index of the medium refractive index material, but 1.6 or more is preferable.
  • the film thickness of the high refractive index layer 202 is preferably 20 nm or more and 100 nm or less.
  • the refractive index of the low refractive index layer 203 is preferably 1.4 or less, and the film thickness of the low refractive index layer 203 is preferably 50 nm or more and 150 nm or less.
  • the measurement of the refractive index of the film can be stopped by a general method such as spectroscopic ellipsometry.
  • the medium refractive index layer 201, the high refractive index layer 202, and the low refractive index layer 203 can be made of, for example, an ionizing radiation curable resin.
  • the coating film is irradiated with ionizing radiation to be cured, whereby the medium refractive index layer 201, the high refractive index layer 202 or the low refractive index layer 203. Can be produced.
  • the ionizing radiation curable resin composition preferably contains a resin having an acrylate-based functional group.
  • the resin having an acrylate-based functional group include oligomers such as (meth)acrylate, which is a polyfunctional compound having a relatively low molecular weight, and prepolymers.
  • the polyfunctional compound is, for example, one or more selected from the group consisting of polyester resin, polyether resin, acrylic resin, epoxy resin, urethane resin, alkyd resin, spiro acetal resin, polybutadiene resin, polythiol polyene resin, and polyhydric alcohol. Can be included.
  • the ionizing radiation curable resin composition may contain a reactive diluent.
  • the reactive diluent include ethyl (meth)acrylate, ethylhexyl (meth)acrylate, styrene, methylstyrene, N-vinylpyrrolidone, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, hexanediol (meth)acrylate, and tripropylene glycol dimethacrylate.
  • (meth)acrylate diethylene glycol di(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate It may include one or more selected from the group consisting of:
  • the ionizing radiation curable resin composition preferably contains a photopolymerization initiator.
  • the photopolymerization initiator include acetophenones, benzophenones, ⁇ -amyloxime esters, thioxanthones and the like.
  • the ionizing radiation curable resin composition may further contain a photosensitizer. Examples of the photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, thioxanthone and the like.
  • the low refractive index layer 203 preferably contains fine particles having a low refractive index. Thereby, the refractive index of the low refractive index layer 203 can be made smaller than the refractive index of the middle refractive index layer 201 and the high refractive index layer 202 easily.
  • the low refractive index fine particles include silica fine particles, hollow silica fine particles, magnesium fluoride, lithium fluoride, aluminum fluoride, calcium fluoride, sodium fluoride and the like.
  • the low refractive index layer 203 can contain one or more of these components.
  • the low refractive index layer 203 contains an antifouling agent capable of imparting antifouling property for preventing adhesion of dirt.
  • an antifouling agent capable of imparting antifouling property for preventing adhesion of dirt.
  • the functional layer 2 is arranged on one surface of an object such as a display device, the surface of the low refractive index layer 203 located on the outermost surface can be provided with antifouling property.
  • the antifouling agent a known antifouling agent can be appropriately adopted.
  • the antifouling agent is not particularly limited, but may include, for example, one or more selected from the group consisting of silicone compounds and fluorine compounds.
  • the antifouling agent preferably contains an acrylate compound.
  • the low refractive index layer 203 can be provided with saponification resistance and the hardness of the low refractive index layer 203 can be maintained high. Therefore, it is particularly preferable that the antifouling agent contains one or more selected from the group consisting of silicone acrylate compounds, fluorine-containing acrylate compounds, and acrylate compounds containing fluorine and silicone.
  • the functional film 21 is a layer for imparting excellent high hardness to the low reflection sheet 100.
  • the functional film 21 is in contact with the peeling layer 1 (peeling molten layer 10), and in detail is in contact with the melting layer 11 included in the peeling molten layer 10.
  • the peel melt layer 10 can be physically separated or removed from the functional film 21.
  • the peeled melted layer 10 can be physically separated from the functional film 21 by treating the melted layer 11 with water to melt it. it can.
  • the functional layer 2 can be separated without damage even when the functional layer 2 is an extremely thin film.
  • the functional film 21 is a layer having a hardness higher than that of the functional film 20. Therefore, the functional film 21 is a layer for improving scratch resistance and hardness of the functional layer 2.
  • the functional film 20 is laminated on the functional film 21, and the functional film 21 is in direct contact with the functional film 20.
  • the surface 2 b of the functional layer 2 which is in contact with the peeling layer 1 (peeling and melting layer 10) is composed of the functional film 21. Therefore, the functional film 21 is in direct contact with the peeling melt layer 10, and specifically in contact with the melt layer 11.
  • the functional film 21 can be formed of a reactive curable resin composition, and is preferably formed of, for example, at least one of a thermosetting resin composition and an ionizing radiation curable resin composition.
  • thermosetting resin composition is selected from the group consisting of, for example, phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, aminoalkyd resin, silicone resin and polysiloxane resin. It may contain one or more.
  • the thermosetting resin composition may contain a crosslinking agent, a polymerization initiator, a curing agent, a curing accelerator, a solvent and the like.
  • the ionizing radiation curable resin composition for example, the same resin as the ionizing radiation curable resin used for forming the medium refractive index layer 201, the high refractive index layer 202 and the low refractive index layer 203 included in the functional film 20 is used. can do.
  • the refractive index of the functional film 21 is not particularly limited, but is preferably 1.4 or more and 1.6 or less, for example.
  • the functional film 21 preferably has a thickness of, for example, 1 ⁇ m or more and 10 ⁇ m or less. In this case, the strength of the functional film 21 can be improved, and thus the strength of the low reflection sheet 100 can also be improved.
  • the temporary base material 3 is a base material different from the release layer 1. Specifically, the temporary base material 3 includes a material different from that of the release layer 1 or has a different structure. In the low reflection sheet 100 of this embodiment, the temporary base material 3 is laminated on the functional layer 2. The functional layer 2 can be held by the temporary base material 3.
  • the temporary base material 3 of this embodiment is in contact with the functional layer 2.
  • the temporary base material 3 includes a temporary base material body 30 and a re-peelable layer 31, and the temporary base material body 30 is bonded to the functional layer 2 by the re-peelable layer 31.
  • the temporary base material 3 is preferably peelable from the functional layer 2. In this case, after the functional layer 2 is attached to the object while the functional layer 2 is held by the temporary base material 3, the temporary base material 3 is peeled from the functional layer 2 so that only the functional layer 2 is applied to the target object. Can be pasted.
  • the temporary base material 3 preferably has heat resistance.
  • the functional layer 2 can be heat-treated with the temporary base material 3 in a state where the temporary base material 3 holds the functional layer 2.
  • the temporary base material 3 has heat resistance such that the functional layer 2 can be continuously held even if the temporary base material 3 is heat-treated while holding the functional layer 2.
  • the temporary base material 3 it is preferable that even if the temporary base material 3 is heat-treated, the temporary base material 3 is unlikely to be deformed, damaged, melted, or the like.
  • the temporary base material 3 be able to retain the functional layer 2 even if it is heat-treated at preferably 150° C. or higher, more preferably 220° C. or higher.
  • the temporary base material body 30 is preferably made of a heat-resistant resin such as epoxy resin, PAR (polyarylate resin), PEN (polyethylene naphthalate resin), glass cloth impregnating resin, or polyimide resin. In this case, the heat resistance of the temporary base material 3 can be ensured while ensuring the strength of the temporary base material 3.
  • the film thickness of the temporary base material body 30 is appropriately set so that the functional layer 2 can be held.
  • the film thickness and the refractive index of the temporary base material body 30 are not particularly limited.
  • the removable layer 31 is not particularly limited as long as it has a removable property.
  • the re-peelable layer 31 has an adhesive property such that the temporary base material 3 can hold the functional layer 2 and the temporary base material 3 can be peeled from the functional layer 2.
  • the film thickness of the removable layer 31 and the refractive index of the removable layer 31 are not particularly limited.
  • FIG. 1B is an enlarged cross-sectional view of the low reflection sheet 100.
  • the surface 3b of the temporary base material 3 attached to the functional layer 2 has an uneven structure 300 having a light scattering function of scattering light.
  • the concavo-convex structure 300 is transferred to the surface 2a of the functional layer 2 attached to the temporary base material 3 to form the concavo-convex structure 200 having a light scattering function of scattering light on the surface 2a of the functional layer 2.
  • the removable layer 31 since the removable layer 31 has the uneven structure 300, the uneven structure 200 is formed on the functional films 20 and 21.
  • the uneven structure 200 is formed on the medium refractive index layer 201, the high refractive index layer 202, and the low refractive index layer 203 included in the functional film 20.
  • the medium refractive index layer 201, the high refractive index layer 202, and the low refractive index layer 203 are collectively shown as the functional film 20.
  • the uneven structure having a light scattering function means a structure in which irregularities of light are generated by unevenness when the uneven structure is irradiated with light. Therefore, when the concavo-convex structure 200 having the light scattering function is formed on the surface 2a of the functional layer 2, the surface 2a of the functional layer 2 exhibits an anti-glare effect. In this case, the surface of the functional layer 2 has reduced gloss and reduced glare.
  • the thickness of the functional layer 2 is preferably 10 ⁇ m or less.
  • the low reflection sheet 100 shown in FIG. 1A can be manufactured by, for example, the following method.
  • the peeling layer 1 of the present embodiment is preferably the peeling melting layer 10 including the melting layer 11 and the base layer 12, and the melting layer 11 is preferably made of a water-soluble resin. Therefore, as the release layer 1, it is possible to use a sheet material in which the melt layer 11 made of a water-soluble resin is previously formed on the base layer 12. As the release layer 1, for example, a sheet material in which a molten layer 11 made of polyvinyl alcohol (PVA) is formed on a base layer 12 made of polyethylene terephthalate (PET) can be used.
  • PVA polyvinyl alcohol
  • PET polyethylene terephthalate
  • the functional layer 2 is formed on the release layer 1.
  • the functional layer 2 can be formed on the peeled molten layer 10 by forming the functional film 21 on the melted layer 11 and then forming the functional film 20 on the functional film 21.
  • the functional film 21 can be formed by applying a reactive curable resin for forming the functional film 21 on the molten layer 11 to form a film of the reactive curable resin and then curing the film. ..
  • a reactive curable resin for forming the functional film 21 is an ionizing radiation curable resin composition
  • an ionizing radiation curable resin is applied to form a film of the ionizing radiation curable resin, which is dried and then irradiated with ionizing radiation.
  • the functional film 21 can be formed.
  • the functional film 21 By coating the functional film 21 with an ionizing radiation-curable resin for forming the medium refractive index layer 201 to form a film of the ionizing radiation-curable resin, and drying the film, irradiation with ionizing radiation is performed.
  • the medium refractive index layer 201 can be formed.
  • An ionizing radiation curable resin for forming the high refractive index layer 202 is applied on the middle refractive index layer 201 to form a film of the ionizing radiation curable resin, which is dried and then irradiated with ionizing radiation.
  • the high refractive index layer 202 can be formed.
  • an ionizing radiation curable resin for forming the low refractive index layer 203 is applied on the high refractive index layer 202 to form a film of the ionizing radiation curable resin, and after the film is dried, ionizing radiation is exposed. By irradiating, the low refractive index layer 203 can be formed.
  • the functional film 20 can be manufactured by stacking the medium refractive index layer 201, the high refractive index layer 202, and the low refractive index layer 203.
  • the low refractive index layer 203 from an ionizing radiation curable resin containing an antifouling agent.
  • the substituents such as fluorine contained in the antifouling agent should be concentrated at the interface between this film and the atmosphere. With this substituent, antifouling property can be imparted to the surface of the low refractive index layer 203.
  • the functional layer 2 is not directly provided on the product base material, but the functional layer 2 is formed on the peeling layer 1 as a process member. Therefore, the functional layer 2 is formed by a method having excellent productivity.
  • the roll-to-roll method or the like can be employed.
  • a thin film is formed on a substrate such as a glass plate or a resin plate by an ordinary coating method or the like, the film thickness may vary at the ends, and the optical characteristics may deteriorate.
  • the functional layer 2 is formed by a roll-to-roll method or the like, it is easy to make the film thickness of the functional layer 2 uniform, and it is possible to prevent variation in the film thickness. In particular, even if the area of the functional layer 2 is large, the film thickness of the functional layer 2 can be made uniform.
  • the method for forming a film by applying an ionizing radiation curable resin and a reactive curable resin composition is not particularly limited, but such a film can be prepared by roll coating, for example.
  • the temporary base material 3 is attached on the functional film 20. Specifically, the temporary base material body 30 is attached onto the low refractive index layer 203 of the functional film 20 via the re-peelable layer 31.
  • the temporary base material 3 can be attached by, for example, a roll-to-roll method.
  • the low reflection sheet 100 shown in FIG. 1A can be manufactured.
  • FIGS. 2A to 2E are schematic cross-sectional views showing a method of manufacturing the low reflection function material 400 and the product 500 according to the first embodiment.
  • the low-reflection functional material 400 can be produced by physically separating the release layer 1 from the functional layer 2 of the low-reflection sheet 100. Therefore, the low reflection function material 400 does not include the release layer 1 but includes the function layer 2. Further, by using the low reflection functional material 400, the functional layer 2 can be arranged on the one surface 51 of the object 50.
  • the object 50 is an object on which the functional layer 2 is arranged.
  • the product 500 also includes the object 50 and the functional layer 2 arranged on the one surface 51 of the object 50.
  • the method of manufacturing the low reflection functional material 400 of the present embodiment includes a step of physically separating the release layer 1 from the functional layer 2 of the low reflection sheet 100.
  • the base layer 12 included in the peeled molten layer 10 is peeled from the molten layer 11 to expose the molten layer 11 (see FIG. 2A).
  • the molten layer 11 is melted by a specific process and removed from the functional layer 2.
  • the melted layer 11 is made of a water-soluble resin
  • the melted layer 11 can be melted by washing the melted layer 11 with water (see FIG. 2B).
  • the peeling layer 1 can be physically separated from the functional layer 2, and the low reflection functional material 400 can be manufactured.
  • the method of manufacturing the low reflection function material 400 of the present embodiment further includes a step of heating the functional layer 2. Specifically, after physically separating the release layer 1 from the functional layer 2, the functional layer 2 held by the temporary base material 3 is heated. In the present embodiment, the functional film 20 and the functional film 21 can be heated by heating the low reflection functional material 400 shown in FIG. 2B. As a result, the scratch resistance of the functional films 20 and 21 can be improved, and the slidability of the functional films 20 and 21 can be improved to improve the scratch resistance.
  • the heating temperature of the functional layer 2 is, for example, preferably 150° C. or higher, more preferably 220° C. or higher.
  • the method of manufacturing the product 500 of the present embodiment includes a step of disposing the functional layer 2 included in the low reflection sheet 100 on the one surface 51 of the object 50.
  • the adhesive layer 52 is produced on the attachment surface 210, which is the surface 2b of the functional layer 2 located on the side opposite to the temporary base material 3 (see FIG. 2C).
  • the sticking surface 210 is also a surface located on the opposite side of the surface of the functional film 21 in contact with the functional film 20. That is, in the low reflection sheet 100, the functional layer 2 has the attaching surface 210 attached to the one surface 51 of the object 50, and the release layer 1 is attached to the attaching surface 210.
  • the temporary base material 3 different from the base material is attached to the surface 2a of the functional layer 2 opposite to the attachment surface 210.
  • the material of the adhesive layer 52 is not particularly limited as long as the one surface 51 of the object 50 and the attachment surface 210 can be bonded, but a film having adhesiveness (adhesiveness) on both surfaces can be used, and for example, a commercially available OCA (Optical) can be used. Clear adhesive film can be used.
  • the OCA film may have a UV reducing function.
  • the attachment surface 210 and the OCA film can be attached by, for example, a roll-to-roll method. By attaching the attachment surface 210 and the adhesive layer 52, the low reflection functional material 400 including the adhesive layer 52 is obtained.
  • the master roll may be manufactured by winding the low reflection function material 400 including the adhesive layer 52.
  • the low reflection function material 400 including the adhesive layer 52 may be cut according to the size, shape, etc. of the one surface 51 of the object 50.
  • the one surface 51 of the object 50 and the sticking surface 210 are bonded with the adhesive layer 52 (see FIG. 2D).
  • the functional layer 2 and the temporary base material 3 can be arranged on the one surface 51 of the object 50.
  • there is no base material such as PET and TAC so that the one surface 51 is not flat and the one surface 51 is a curved surface, Even if the one surface 51 has an uneven shape, the functional layer 2 can be arranged on the one surface 51.
  • the temporary base material 3 is physically separated from the functional layer 2 (see FIG. 2E).
  • the functional film 21 and the functional film 20 can be left on the one surface 51 of the object 50.
  • the product 500 including the functional layer 2 can be manufactured by the above steps.
  • the low reflection sheet 100 is not limited to the above configuration.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of another low reflection sheet 100A according to the first embodiment. 3, the same parts as those of the low reflection sheet 100 shown in FIG. 1A are designated by the same reference numerals.
  • the peeling layer 1 is not limited to the case where the peeling layer 1 includes the melting layer 11 that melts in a specific process. In the low reflection sheet 100A shown in FIG. 3, the peeling layer 1 and the functional layer 2 are in contact with each other, and the peeling layer 1 can be peeled from the functional layer 2.
  • the peeling layer 1 is composed of a base layer 12. Also in this case, the release layer 1 can be physically separated from the functional layer 2.
  • the release layer 1 being peelable from the functional layer 2 means that the functional layer 2 is not broken or damaged when the release layer 1 is peeled from the functional layer 2. Specifically, it is preferable that when the peeling layer 1 is peeled from the functional layer 2, the functional film 20 and the functional film 21 are not peeled, broken, damaged, or the like.
  • FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of still another low reflection sheet 100B according to the first embodiment.
  • the same parts as those of the low reflection sheet 100 shown in FIG. 1A are designated by the same reference numerals.
  • the peeling layer 1 is the peeling melting layer 10 including the melting layer 11 and the base layer 12, but is not limited thereto.
  • the peeling layer 1 is composed of a single layer of the fusion layer 11 and does not have the base layer 12. In this case, the peeling layer 1 is removed from the functional layer 2 by melting the melting layer 11.
  • the low-reflection sheet 100 shown in FIG. 1A includes the temporary base material 3, but may not include the temporary base material 3.
  • the functional film 20 includes the low refractive index layer 203, the high refractive index layer 202, and the medium refractive index layer 201, but the invention is not limited to this.
  • the functional film 20 may be composed of a single layer or may be composed of two layers.
  • (Second embodiment) 5A and 5B are a schematic sectional view and an enlarged sectional view, respectively, of the low reflection sheet 101 according to the second embodiment.
  • 5A and 5B the same components as those of the low reflection sheet 100 according to the first embodiment shown in FIGS. 1A and 1B are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be appropriately omitted.
  • the low reflection sheet 101 includes a release layer 1 and a functional layer 2. Further, the low reflection sheet 101 includes the adhesive layer 52 and the protective layer 4. In the low reflection sheet 101 shown in FIG. 5A, the release layer 1, the functional layer 2, the adhesive layer 52, and the protective layer 4 are laminated in this order. Hereinafter, the configurations of the peeling layer 1, the functional layer 2, the adhesive layer 52, and the protective layer 4 will be described.
  • the release layer 1 of the present embodiment is a release fusion layer 10 including a fusion layer 11 that is melted in a specific process, like the release layer 1 according to the first embodiment.
  • the melted layer 11 is in contact with the functional layer 2, and when the melted layer 11 melts, the peeling melted layer 10 can be separated from the functional layer 2.
  • the peeling fusion layer 10 contains the base layer 12 similarly to the peeling fusion layer 10 according to the first embodiment.
  • the melt layer 11 of the present embodiment is preferably made of a water-soluble resin, for example, polyvinyl alcohol (PVA).
  • PVA polyvinyl alcohol
  • the base layer 12 of the present embodiment is not particularly limited as long as it can be peeled from the molten layer 11, but is preferably made of polyethylene terephthalate (PET), for example.
  • PET polyethylene terephthalate
  • the surface 1 a of the release layer 1 attached to the functional layer 2 has an uneven structure 13 having a light scattering function of scattering light.
  • the concavo-convex structure 13 having a light scattering function is transferred to the surface 2b of the functional layer 2 attached to the release layer 1 to form the concavo-convex structure 200 having a light scattering function on the surface 2b of the functional layer 2.
  • the surface 2b of the functional layer 2 has reduced gloss and reduced glare.
  • the uneven structure 200 can be formed on the functional film 20 and the functional film 21.
  • the concavo-convex structure 200 can be formed in the medium refractive index layer 201, the high refractive index layer 202, and the low refractive index layer 203 included in the functional film 20.
  • the middle refractive index layer 201, the high refractive index layer 202, and the low refractive index layer 203 are collectively shown as the functional film 20.
  • the functional layer 2 of the present embodiment includes the functional film 20 and the functional film 21 like the functional layer 2 according to the first embodiment, but the functional film 21 is provided on the functional film 20. Are stacked. Therefore, in the low reflection sheet 101 of this embodiment, the peeling layer 1, the functional film 20, and the functional film 21 overlap in this order.
  • the functional film 20 is a layer having a function of reducing light reflection, and includes a medium refractive index layer 201, a high refractive index layer 202, and a low refractive index layer 203. ..
  • the low refractive index layer 203, the high refractive index layer 202, and the medium refractive index layer 201 are laminated in this order. Therefore, in the low reflection sheet 101 of this embodiment, the low refractive index layer 203 and the molten layer 11 are in direct contact with each other. For this reason, the surface 2 b of the functional layer 2 attached to the peeling layer 1 (peeling and melting layer 10) is formed of the functional film 20. Further, the functional film 20 is in direct contact with the peeling melt layer 10, and specifically in contact with the melt layer 11.
  • the functional film 21 is a layer having a hardness higher than that of the functional film 20, and is a layer for improving scratch resistance and hardness of the functional layer 2. Since the functional film 21 of the present embodiment is laminated on the functional film 20, the surface 2a of the functional layer 2 opposite to the peeling layer 1 (peeling/melting layer 10) is formed of the functional film 21. ..
  • the adhesive layer 52 is a layer for disposing the functional layer 2 on the one surface 51 of the object 50.
  • the functional layer 2 (functional film 21) has a sticking surface 210 to be stuck to the one surface 51 of the object 50, and the release layer 1 is stuck to the surface 2b of the functional layer 2 opposite to the sticking surface 210. It is attached.
  • the surface 2a of the functional layer 2 functions as the attachment surface 210.
  • the adhesive layer 52 is a layer similar to the adhesive layer 52 used when manufacturing the product 500 according to the first embodiment, and is, for example, a film having adhesiveness (adhesiveness) on both sides, such as a commercially available OCA. (Optical Clear adhesive) film can be used.
  • a film having adhesiveness (adhesiveness) on both sides such as a commercially available OCA. (Optical Clear adhesive) film can be used.
  • the protective layer 4 is laminated on the adhesive layer 52.
  • the protective layer 4 is a layer for protecting the adhesive layer 52 of the low reflection sheet 101 in an unused state.
  • the protective layer 4 is not particularly limited as long as it can be peeled from the adhesive layer 52, but for example, a polyester film can be used.
  • the thickness of the protective layer 4 is also not particularly limited.
  • the low reflection sheet 101 shown in FIG. 5A can be manufactured by, for example, the following method.
  • the peeling layer 1 of the present embodiment is preferably the peeling melting layer 10 including the melting layer 11 and the base layer 12. Since the melting layer 11 is preferably made of a water-soluble resin, it is water-soluble on the base layer 12. It is possible to use a sheet material in which the resin melt layer 11 is formed in advance.
  • the functional layer 2 is formed on the release layer 1.
  • the functional film 21 is formed on the functional film 20, so that the functional layer 2 can be formed on the peeling melt layer 10.
  • an ionizing radiation-curable resin for forming the low refractive index layer 203 is applied on the molten layer 11 to form a film of the ionizing radiation-curable resin, and after the film is dried, the ionizing radiation is cured.
  • the low refractive index layer 203 can be formed by irradiating with.
  • An ionizing radiation curable resin for forming the high refractive index layer 202 is applied on the low refractive index layer 203 to form a film of the ionizing radiation curable resin, which is dried and then irradiated with ionizing radiation.
  • the high refractive index layer 202 can be formed.
  • an ionizing radiation curable resin for forming the medium refractive index layer 201 is applied onto the high refractive index layer 202 to form a film of the ionizing radiation curable resin, and after the film is dried, the ionizing radiation is exposed. By irradiating, the medium refractive index layer 201 can be formed.
  • the functional film 20 can be manufactured by stacking the low refractive index layer 203, the high refractive index layer 202, and the medium refractive index layer 201.
  • the functional film 21 can be formed by applying a reactive curable resin for forming the functional film 21 on the functional film 20, forming a film of the reactive curable resin, and then curing the film.
  • a reactive curable resin for forming the functional film 21 on the functional film 20, forming a film of the reactive curable resin, and then curing the film.
  • an ionizing radiation curable resin is applied, the film of the ionizing radiation curable resin composition is dried, and then the film is irradiated with ionizing radiation.
  • the functional film 21 can be formed.
  • the low refractive index layer 203 is formed on the release layer 1, even if the ionizing radiation curable resin for forming the low refractive index layer 203 contains an antifouling agent, the low refractive index is low. It is difficult to concentrate the substituents contained in the antifouling agent on the surface of the layer 203. Therefore, in the present embodiment, the low refractive index layer 203 does not need to contain the antifouling agent.
  • the peeling layer 1, the functional film 20, and the functional film 21 are laminated in this order as in the present embodiment, as in the first embodiment. It is preferable that the release layer 1, the functional film 21, and the functional film 20 are laminated in this order.
  • the functional layer 2 is not directly provided on the product base material, but the functional layer 2 is formed on the peeling layer 1 as a process member. Therefore, the functional layer 2 is formed by a method having excellent productivity.
  • the roll-to-roll method or the like can be employed.
  • a thin film is formed on a substrate such as a glass plate or a resin plate by an ordinary coating method or the like, the film thickness may vary at the ends, and the optical characteristics may deteriorate.
  • the functional layer 2 is formed by a roll-to-roll method or the like, it is easy to make the film thickness of the functional layer 2 uniform, and it is possible to prevent variation in the film thickness. In particular, even if the area of the functional layer 2 is large, the film thickness of the functional layer 2 can be made uniform.
  • Adhesion of Adhesive Layer 52 and Protective Layer 4 Next, the adhesive layer 52 and protective layer 4 are adhered onto the functional film 21.
  • the adhesive layer 52 integrated with the protective layer 4 may be attached to the functional film 21, or the protective layer 4 may be placed on the adhesive layer 52 after the adhesive layer 52 is placed on the functional film 21.
  • the adhesion of the adhesive layer 52 and the protective layer 4 can be performed by, for example, a roll-to-roll method.
  • the low reflection sheet 101 shown in FIG. 5A can be manufactured.
  • the master roll may be manufactured by winding the low reflection sheet 101 after the adhesive layer 52 and the protective layer 4 are attached. Furthermore, you may cut according to the size, the shape, etc. of the one surface 51 of the target object 50.
  • FIGS. 6A to 6D are schematic cross-sectional views showing a method of manufacturing the low reflection function material 400 and the product 501.
  • the low reflection function material 400 of this embodiment also does not include the release layer 1 but includes the function layer 2.
  • the object 50 is an object on which the functional layer 2 is arranged.
  • the product 501 includes the target object 50 and the functional layer 2 arranged on the one surface 51 of the target object 50.
  • the low reflection sheet 101 shown in FIG. 5A is prepared.
  • the protective layer 4 is peeled off from the adhesive layer 52 (see FIG. 6A). Thereby, the adhesive layer 52 can be exposed.
  • the sticking surface 210 of the functional layer 2 and the one surface 51 of the object 50 are bonded by the exposed adhesive layer 52 (see FIG. 6B). Thereby, the functional layer 2 and the peeling layer 1 can be laminated on the one surface 51 of the object 50.
  • the method of manufacturing the low reflection functional material 401 of the present embodiment includes a step of physically separating the release layer 1 from the functional layer 2.
  • the base layer 12 included in the peeled melted layer 10 is peeled from the melted layer 11 to expose the melted layer 11 (see FIG. 6C).
  • the molten layer 11 is melted by a specific process.
  • the melted layer 11 is made of a water-soluble resin
  • the melted layer 11 can be melted by washing the melted layer 11 with water (see FIG. 6D).
  • the release layer 1 can be physically separated from the functional layer 2, and the low reflection functional material 401 can be manufactured.
  • the functional layer 2 can be arranged on the one surface 51 of the object 50.
  • the method of manufacturing the low reflection function material 401 of the present embodiment further includes a step of heating the functional layer 2.
  • the functional film 21 and the functional film 20 stacked on the one surface 51 of the object 50 are heated.
  • the heating temperature of the functional layer 2 is preferably 150° C. or higher, more preferably 220° C., for example.
  • the target object 50 (product 501) is also heated when the functional layer 2 is heated, the target object 50 (product 501) in this case preferably has heat resistance.
  • the product 501 including the functional layer 2 can be manufactured through the above steps.
  • the low reflection sheet (100, 101) includes a release layer (1) and a functional layer (2) formed on the release layer (1) using the release layer (1) as a base material.
  • Prepare The functional layer (2) includes a first functional film (20) having a function of reducing light reflectance, and a functional film (21) having a hardness higher than that of the first functional film (20).
  • the release layer (1) can be physically separated from the functional layer (1).
  • the functional layer (2) is separated from the low reflection sheet (100, 101) in the state where the release layer (1) is separated. Can be heat-treated at a high temperature, so that the functional layer 2 can have excellent scratch resistance.
  • the peeling layer (1) is a peeling melting layer (10) including a melting layer (11) that melts in a specific process.
  • the melting layer (11) is in contact with the functional layer (2), and the melting layer (11) is melted so that the peeling melting layer (10) can be separated from the functional layer (2).
  • the release layer (10) can be physically separated from the functional layer (2) by bringing the molten layer (11) into a molten state by the specific treatment.
  • the melting layer (11) is made of a water-soluble resin.
  • the molten layer (11) can be melted by treating the molten layer (11) with water.
  • the release layer (1) is in contact with the functional layer (2) in the first aspect, and the release layer (1) is the functional layer (2). ) Can be peeled off.
  • the release layer (1) can be physically separated from the functional layer (2).
  • a low reflection sheet (100) according to a fifth aspect is the same as in the first to fourth aspects, wherein the functional layer (2) has an attachment surface (210) attached to one surface (51) of the object (50).
  • the release layer (1) is attached to the attachment surface (210).
  • the functional layer (2) can be pasted on the one surface (51) of the object (50).
  • the low reflection sheet (100) according to the sixth aspect is the temporary base material (3) different from the base material on the surface opposite to the sticking surface (210) of the functional layer (2) in the fifth embodiment. Is pasted.
  • the temporary base material (3) can hold the functional layer (2).
  • the temporary base material (3) has heat resistance.
  • the functional layer (2) can be heat treated together with the temporary base material (3) while the temporary base material (3) holds the functional layer (2).
  • a low-reflection sheet (100) according to an eighth aspect is the sixth or seventh aspect, wherein the surface of the temporary base material (3) on the side of the functional layer (2) has an uneven structure (300) having a light scattering function. Have.
  • the concavo-convex structure (300) having a light scattering function is transferred to the surface of the functional layer (2) on the side of the temporary base material (3), and the surface of the functional layer (2) on the side of the temporary base material (3) is transferred.
  • An uneven structure (200) having a light scattering function can be formed.
  • a low reflection sheet (100) according to a ninth aspect is the fifth to eighth aspects, wherein the release layer (1), the second functional film (21) and the first functional film (20) are laminated in this order. There is.
  • the low reflection sheet (100) in which the second functional film (21) is laminated on the release layer (1) and the first functional film (20) is laminated on the second functional film (21). Is obtained.
  • a low-reflection sheet (100) according to a tenth aspect is the same as in the first to fourth aspects, wherein the functional layer (2) has an attachment surface (210) attached to one surface (51) of the object (50).
  • the release layer (1) is attached to the surface of the functional layer (2) opposite to the attachment surface (210).
  • the functional layer (2) can be held by the release layer (1).
  • the low reflection sheet (100) according to the eleventh aspect is the tenth aspect, wherein the surface of the release layer (1) on the functional layer (2) side has an uneven structure (13) having a light scattering function.
  • the concavo-convex structure (13) having a light scattering function is transferred to the surface of the functional layer (2) on the side of the peeling layer (1), and the surface of the functional layer (2) on the side of the peeling layer (1) is scattered.
  • An uneven structure (200) having a function can be formed.
  • the low reflection sheet (100, 101) according to the twelfth aspect is the release layer (1), the first functional film (20), and the second functional film (21) in this order in the tenth or eleventh aspect. overlapping.
  • the method of manufacturing the low reflection functional material 400 according to the thirteenth aspect involves physically removing the release layer (1) from the functional layer (2) of the low reflection sheet (100) according to any one of the first to twelfth aspects. And the step of separating into.
  • a low reflection functional material (400) that does not include the release layer (1) is obtained.
  • the manufacturing method of the low reflection functional material (400) according to the fourteenth aspect further includes the step of heating the functional layer (2) in the thirteenth aspect.
  • the scratch resistance of the first functional film (20) and the second functional film (21) can be improved, and the sliding of the first functional film (20) and the second functional film (21) can be achieved.
  • the mobility can be improved.
  • a method of manufacturing a product (500, 501) according to a fifteenth aspect is the method of manufacturing a product (500) comprising the functional layer (2) provided in the low reflection sheet (100) according to any one of the first to twelfth aspects.
  • the step of disposing on one surface (51) is included.

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Abstract

低反射シートは、剥離層と、剥離層上に形成された機能層とを備える。機能層は、光反射率を低減する機能を有する第１の機能膜と、第１の機能膜よりも硬度が大きい第２の機能膜とを含む。剥離層は、機能層から物理的に除去可能である。この低反射シートで、機能層に優れた耐擦傷性を付与しやすい。

Description

低反射シート、低反射機能材の製造方法及び製品の製造方法
　本開示は、低反射シート、低反射機能材の製造方法及び製品の製造方法に関する。
　従来の反射防止シート（低反射シート）では、樹脂製の基材上に、ハードコート層、反射防止（Ａｎｔｉ　Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ：ＡＲ）層、反射低減（Ｌｏｗ　Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）層等の機能層が積層されている。
　例えば特許文献１には、樹脂製の透明基材上に、電離放射線硬化樹脂製のアンカー層、高屈折率層及び低屈折率層が積層された反射防止積層体が開示されている。
特開２０１６－２１８１０５号公報
　低反射シートは、剥離層と、剥離層上に形成された機能層とを備える。機能層は、光反射率を低減する機能を有する第１の機能膜と、第１の機能膜よりも硬度が大きい第２の機能膜とを含む。剥離層は、機能層から物理的に除去可能である。
　この低反射シートで、機能層に優れた耐擦傷性を付与しやすい。
図１Ａは、第一実施形態に係る低反射シートの概略断面図である。 図１Ｂは、図１Ａに示す低反射シートの拡大断面図である。 図２Ａは、第一実施形態に係る低反射機能材の製造方法及び製品の製造方法を示す概略断面図である。 図２Ｂは、第一実施形態に係る低反射機能材の製造方法及び製品の製造方法を示す概略断面図である。 図２Ｃは、第一実施形態に係る低反射機能材の製造方法及び製品の製造方法を示す概略断面図である。 図２Ｄは、第一実施形態に係る低反射機能材の製造方法及び製品の製造方法を示す概略断面図である。 図２Ｅは、第一実施形態に係る低反射機能材の製造方法及び製品の製造方法を示す概略断面図である。 図３は、第一実施形態に係る他の低反射シートの概略断面図である。 図４は、第一実施形態に係るさらに他の低反射シートの概略断面図である。 図５Ａは、第二実施形態に係る低反射シートの概略断面図である。 図５Ｂは、図５Ａに示す低反射シートの拡大断面図である。 図６Ａは、第二実施形態に係る低反射機能材の製造方法及び製品の製造方法を示す概略断面図である。 図６Ｂは、第二実施形態に係る低反射機能材の製造方法及び製品の製造方法を示す概略断面図である。 図６Ｃは、第二実施形態に係る低反射機能材の製造方法及び製品の製造方法を示す概略断面図である。 図６Ｄは、第二実施形態に係る低反射機能材の製造方法及び製品の製造方法を示す概略断面図である。
　（第一実施形態）
　１．概要
　図１Ａは、本開示の第一実施形態に係る低反射シート１００の概略断面図である。低反射シート１００は、剥離層１と、剥離層１を基材として剥離層１上に形成された機能層２と、を備える。機能層２は、光反射率を低減する機能を有する機能膜２０と、機能膜２０よりも硬度が大きい機能膜２１と、を含む。剥離層１は、機能層２から物理的に分離もしくは除去可能である。
　本実施形態の低反射シート１００は、機能層２から剥離層１を物理的に分離もしくは除去することができる。このため、低反射シート１００から剥離層１を除去した状態で、機能層２を高温で加熱処理することができ、その場合、機能層２の耐擦傷性を向上させることができる。そのため、本実施形態の低反射シート１００は、機能層２に優れた耐擦傷性を付与しやすい。
　特許文献１に開示されている反射防止積層体では、アンカー層、高屈折率層及び低屈折率層を高温で加熱処理することにより、耐擦傷性を向上させることが開示されている。しかしながら、樹脂製の基材は耐熱性が低い場合があり、樹脂製の基材上にアンカー層、高屈折率層及び低屈折率層を積層した状態では、高温で加熱処理することが困難であり、耐擦傷性を十分に向上させられない。
　本実施形態の低反射シート１００は、前述のように、機能層２に優れた耐擦傷性を付与しやすい。
　２．詳細
　以下、第一実施形態に係る低反射シート１００の構成と、低反射シート１００の製造方法とを説明する。
　２－１．低反射シート１００
　本実施形態に係る低反射シート１００は、剥離層１と、機能層２とを備える。低反射シート１００は、仮基材３をさらに備えてもよい。図１Ａに示す低反射シート１００においては、剥離層１と機能層２と仮基材３とが、この順に積層されている。以下、剥離層１、機能層２及び仮基材３の構成を詳細に説明する。
　２－１－１．剥離層１
　剥離層１は、シート状の部材である。剥離層１の平面視の形状は、特に限定されない。剥離層１は、機能層２から物理的に分離もしくは除去可能であれば、その構成は特に限定されない。
　本実施形態の剥離層１は、特定処理で溶融する溶融層１１を含む剥離溶融層１０である。溶融層１１は機能層２と接している。溶融層１１が溶融することで、剥離溶融層１０は、機能層２から分離もしくは除去可能であることが好ましい。この場合、特定処理によって溶融層１１が溶融した状態となることにより、剥離溶融層１０を機能層２から物理的に分離もしくは除去させることができる。剥離溶融層１０は溶融層１１以外の構成を含むことができる。本実施形態では、剥離溶融層１０がベース層１２を含んでいる。以下、溶融層１１及びベース層１２の構成を説明する。
　（１）溶融層１１
　溶融層１１は機能層２と接している。このため、剥離層１の機能層２と接する面１ａは、溶融層１１で構成されている。特定処理によって溶融層１１を溶融できれば、溶融層１１の構成は特に限定されない。
　例えば溶融層１１が水で処理されることで、溶融層１１が溶融した状態となることが好ましい。すなわち溶融層１１が、水溶性樹脂製であることが好ましい。この場合、溶融層１１を水で処理することによって、溶融層１１を溶融させることができる。それにより、剥離溶融層１０を機能層２から物理的に分離もしくは除去させることができる。
　水溶性樹脂の例には、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）、ポリアクリルアミド（ＰＡＭ）、カルボキシルメチルセルロース（ＣＭＣ）等が含まれる。溶融層１１が水溶性樹脂製である場合には、溶融層１１がポリビニルアルコール製であることが特に好ましい。この場合、溶融層１１を水によって溶融させることができ、特に温水によって溶融させやすい。
　例えば溶融層１１は、溶剤で処理されることによって、溶融されてもよい。この場合、溶融層１１を溶剤で処理することによって、溶融層１１を溶融させることができ、それにより、剥離溶融層１０を機能層２から物理的に分離もしくは除去させることができる。またこの場合の溶剤は、溶融層１１を溶剤で溶融させる際に、溶剤が機能層２に破壊、損傷を生じさせなければ、特に限定されない。すなわち、溶融層１１は、機能層２に破壊、損傷を生じさせない溶剤によって溶融可能であればよい。
　溶融層１１の厚みは、特定処理で溶融しやすく、かつ、剥離溶融層１０の強度を確保しやすいように、適宜設定される。例えば溶融層１１が水溶性樹脂製である場合、溶融層１１の厚みは１μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましい。この場合、剥離溶融層１０の強度を確保しながら、水処理によって溶融層１１を溶融させやすくできる。
　（２）ベース層１２
　ベース層１２上に溶融層１１が形成されている。ベース層１２は、溶融層１１と直接接している。ベース層１２は、溶融層１１を保持できると共に、剥離溶融層１０の強度を向上させることができる。本実施形態の低反射シート１００では、ベース層１２と機能層２との間に、溶融層１１が設けられている。また剥離層１の機能層２と接する面１ａとは反対側の面１ｂは、ベース層１２で構成されている。
　ベース層１２は、溶融層１１から剥離可能であることが好ましい。この場合、溶融層１１からベース層１２を剥離することによって、溶融層１１を露出させることができる。また露出した溶融層１１に、特定処理を行うことによって、溶融層１１を溶融させることができる。例えば、溶融層１１が水溶性樹脂である場合には、溶融層１１からベース層１２を剥離して溶融層１１を露出させてから、溶融層１１を水で処理することにより、溶融層１１を溶融させることができる。
　ベース層１２の材質は、溶融層１１を保持可能であり、且つ、溶融層１１から剥離可能であれば、特に限定されない。溶融層１１がポリビニルアルコール（ＰＶＡ）等の水溶性樹脂製である場合、ベース層１２は例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等の水で溶融しない樹脂よりなることが好ましい。この場合、ベース層１２で溶融層１１を適度に保持しながら、溶融層１１からベース層１２を剥離しやすくすることができる。ベース層１２の厚みは、特に限定されない。
　２－１－２．機能層２
　機能層２の平面視の形状は、特に限定されず、例えば剥離層１の平面視の形状と同じであることが好ましい。機能層２は、上述の通り、機能膜２０及び機能膜２１を含む。本実施形態の低反射シート１００では、図１Ａに示すように、機能膜２１上に機能膜２０が積層されている。このため、本実施形態の低反射シート１００では、剥離層１、機能膜２１、機能膜２０はこの順に重なっている。以下、機能膜２０及び機能膜２１の構成を説明する。
　（１）機能膜２０
　機能膜２０は、光反射率を低減する機能を有する層である。本実施形態の機能膜２０は、中屈折率層２０１と高屈折率層２０２と低屈折率層２０３とを含む。また本実施形態では、中屈折率層２０１、高屈折率層２０２、低屈折率層２０３はこの順に積層されている。
　高屈折率層２０２の屈折率は、中屈折率層２０１の屈折率及び低屈折率層２０３の屈折率よりも大きい。また中屈折率層２０１の屈折率は、低屈折率層２０３の屈折率よりも大きい。すなわち低屈折率層２０３の屈折率は、中屈折率層２０１の屈折率及び高屈折率層２０２の屈折率よりも小さい。本実施形態では、低屈折率層２０３と高屈折率層２０２との界面で反射した光と、高屈折率層２０２と中屈折率層２０１との界面で反射した光とを相殺的に干渉させて、振幅を打ち消し合わせることによって、光反射率を低減させている。このような相殺的な干渉は、中屈折率層２０１、高屈折率層２０２及び低屈折率層２０３の屈折率と膜厚とを調製することによって実現することができる。
　例えば中屈折率層２０１の屈折率は１．５以上１．７以下が好ましい。中屈折率層２０１の膜厚は５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下が好ましい。また例えば高屈折率層２０２の屈折率は中屈折率材料の屈折率よりも高い屈折率であればよいが、１．６以上が好ましい。高屈折率層２０２の膜厚は２０ｎｍ以上１００ｎｍ以下が好ましい。また例えば低屈折率層２０３の屈折率は１．４以下が好ましく、低屈折率層２０３の膜厚は５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であることが好ましい。なお膜の屈折率の測定は分光エリプソメトリーなどの一般的な手法でもとめることができる。
　中屈折率層２０１、高屈折率層２０２及び低屈折率層２０３は、例えば電離放射線硬化型樹脂から作製することができる。この場合、電離放射線硬化型樹脂から形成した塗膜を乾燥した後に、この塗膜に電離放射線を照射して硬化させることによって、中屈折率層２０１、高屈折率層２０２又は低屈折率層２０３を作製することができる。
　電離放射線硬化型樹脂組成物は、アクリレート系の官能基を有する樹脂を含むことが好ましい。アクリレート系の官能基を有する樹脂の例には、比較的低分子量の多官能化合物の（メタ）アクリレート等のオリゴマー、プレポリマーが含まれる。多官能化合物は、例えば、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、及び多価アルコールからなる群から選択される一種以上を含むことができる。
　電離放射線硬化型樹脂組成物は、反応性希釈剤を含有してもよい。反応性希釈剤は、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ－ビニルピロリドン、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートからなる群から選択される一種以上を含むことができる。
　電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合、電離放射線硬化型樹脂組成物は光重合開始剤を含むことが好ましい。光重合開始剤の例には、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α－アミロキシムエステル、チオキサントン類等が含まれる。電離放射線硬化型樹脂組成物は更に光増感剤を含んでいてもよい。光増感剤の例には、ｎ－ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ－ｎ－ブチルホスフィン、チオキサントン等が含まれる。
　低屈折率層２０３は低屈折率の微粒子を含有することが好ましい。これにより、低屈折率層２０３の屈折率を、中屈折率層２０１及び高屈折率層２０２の屈折率よりも小さくしやすい。低屈折率の微粒子の例には、シリカ微粒子、中空シリカ微粒子、フッ化マグネシウム、フッ化リチウム、フッ化アルミニウム、フッ化カルシウム、フッ化ナトリウム等が含まれる。低屈折率層２０３は、これらの成分のうち一種以上を含むことができる。
　特に本実施形態では、低屈折率層２０３が、汚れの付着を防止する防汚性を付与可能な防汚剤を含有することが好ましい。この場合、表示装置等の対象物の一面上に機能層２を配置した場合に、最表面に位置する低屈折率層２０３の表面に防汚性を付与することができる。防汚剤としては、公知の防汚剤を適宜採用することができる。防汚剤は、特に限定されないが、例えばシリコーン系化合物及びフッ素化合物からなる群から選択される一種以上を含むことができる。防汚剤は、アクリレート系化合物を含むことが好ましい。この場合、低屈折率層２０３に防汚性に加えて、耐鹸化性を付与できると共に、低屈折率層２０３の硬度を高く維持できる。このため、防汚剤は、シリコーンアクリレート系化合物、フッ素含有アクリレート化合物、及びフッ素とシリコーンを含有するアクリレート化合物からなる群から選択される一種以上を含むことが特に好ましい。
　機能膜２１は、低反射シート１００に、優れた高い硬度を付与するための層である。機能膜２１は、剥離層１（剥離溶融層１０）と接しており、詳細に剥離溶融層１０に含まれる溶融層１１と接している。本実施形態では、剥離溶融層１０（剥離層１）を機能層２から物理的に分離もしくは除去可能であるため、剥離溶融層１０を機能膜２１から物理的に分離もしくは除去できる。特に溶融層１１が水溶性樹脂製である場合には、溶融層１１を水で処理して溶融させることによって、剥離溶融層１０（剥離層１）を機能膜２１から物理的に分離することができる。水で処理して剥離溶融層１０（剥離層１）を分離することで、機能層２が極薄膜であった場合でも、ダメージなく機能層２を分離することが可能となる。
　（２）機能膜２１
　機能膜２１は、機能膜２０よりも硬度が大きい層である。このため機能膜２１は、機能層２の耐擦傷性及び硬度を向上させるための層である。本実施形態の低反射シート１００では、機能膜２１上に機能膜２０が積層されており、機能膜２１は機能膜２０と直接接している。また機能層２の剥離層１（剥離溶融層１０）に接する面２ｂは機能膜２１で構成されている。このため、機能膜２１は、剥離溶融層１０と直接接しており、詳細には溶融層１１と直接接している。
　機能膜２１は、反応性硬化型樹脂組成物から形成することができ、例えば熱硬化型樹脂組成物及び電離放射線硬化型樹脂組成物のうち少なくとも一方から形成されることが好ましい。
　熱硬化型樹脂組成物は、例えばフェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、珪素樹脂及びポリシロキサン樹脂からなる群から選択される一種以上を含むことができる。熱硬化性樹脂組成物は、架橋剤、重合開始剤、硬化剤、硬化促進剤、溶剤等を含んでいてもよい。
　電離放射線硬化型樹脂組成物は、例えば機能膜２０に含まれる中屈折率層２０１、高屈折率層２０２及び低屈折率層２０３の形成に使用される電離放射線硬化型樹脂と同様の樹脂を使用することができる。
　機能膜２１の屈折率は、特に限定されないが、例えば１．４以上１．６以下であることが好ましい。この場合、機能膜２１の膜厚は、例えば１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。この場合、機能膜２１の強度を向上させることができ、それにより低反射シート１００の強度も向上させることができる。
　２－１－３．仮基材３
　仮基材３は、剥離層１とは異なる基材である。詳細には、仮基材３は、剥離層１とは異なる材料を含む、あるいは異なる構造を有する。本実施形態の低反射シート１００では、機能層２上に仮基材３が積層されている。仮基材３によって機能層２を保持することができる。
　本実施形態の仮基材３は機能層２と接している。詳細には、仮基材３は、仮基材本体３０及び再剥離層３１を備え、再剥離層３１によって、仮基材本体３０は機能層２と接着されている。
　仮基材３は、機能層２から剥離可能であることが好ましい。この場合、仮基材３で機能層２を保持した状態で機能層２を対象物に貼り付けた後に、仮基材３を機能層２から剥離することによって、対象物に機能層２のみを貼り付けることができる。
　仮基材３は、耐熱性を有することが好ましい。この場合、仮基材３で機能層２を保持した状態において、仮基材３とともに機能層２を加熱処理することができる。このため、仮基材３は、機能層２を保持した状態で加熱処理を行っても、機能層２を保持し続けられるような耐熱性を有することが好ましい。仮基材３が機能層２を保持し続けるためには、仮基材３を加熱処理しても、仮基材３に変形、破損、溶融等が生じにくいことが好ましい。特に、仮基材３は、好ましくは１５０℃以上、さらに好ましくは２２０℃以上で加熱処理しても、機能層２を保持し続けられることが好ましい。そのためには、仮基材３を２２０℃以上で加熱しても、仮基材３に変形、破損、溶融等が生じにくいことが好ましい。
　仮基材本体３０は、例えばエポキシ樹脂、ＰＡＲ（ポリアリレート樹脂）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート樹脂）、ガラスクロス含侵樹脂、ポリイミド樹脂などの耐熱樹脂製であることが好ましい。この場合、仮基材３の強度を確保しながら、仮基材３の耐熱性を確保することができる。仮基材本体３０の膜厚は、機能層２を保持できるように適宜設定される。仮基材本体３０の膜厚及び屈折率は特に限定されない。再剥離層３１は、再剥離性を有する層であれば、特に限定されない。具体的には、再剥離層３１は、仮基材３で機能層２を保持できると共に、機能層２から仮基材３を剥離できるような粘着性を有することが好ましい。再剥離層３１の膜厚及び再剥離層３１の屈折率は特に限定されない。
　図１Ｂは低反射シート１００の拡大断面図である。本実施形態では、図１Ｂに示すように、仮基材３の機能層２に貼り付けられた面３ｂは、光を散乱する光散乱機能を有する凹凸構造３００を有することが好ましい。この場合、機能層２の仮基材３に貼り付けられた面２ａに凹凸構造３００が転写されて、機能層２の面２ａに光を散乱する光散乱機能を有する凹凸構造２００を形成することができる。本実施形態では、図１Ｂに示すように、再剥離層３１が凹凸構造３００を有するため、機能膜２０及び機能膜２１に凹凸構造２００が形成される。このため、機能膜２０に含まれる中屈折率層２０１、高屈折率層２０２及び低屈折率層２０３に凹凸構造２００が形成される。なお、図１Ｂでは、中屈折率層２０１、高屈折率層２０２及び低屈折率層２０３をまとめて機能膜２０として記載している。また、光散乱機能を有する凹凸構造とは、凹凸構造に対して光を照射すると、凹凸によって光の乱反射が生じる構造を意味する。このため、機能層２の面２ａに光散乱機能を有する凹凸構造２００が形成されると、機能層２の面２ａは、アンチグレア（Ａｎｔｉ－Ｇｌａｒｅ）効果を発現する。この場合、機能層２の面は、光沢が低減され、またギラつきが低減される。機能層２の面２ａに光散乱機能を有する凹凸構造２００を形成するためには、機能層２の厚みが１０μｍ以下であることが好ましい。
　２－２．低反射シート１００の製造方法
　図１Ａに示す低反射シート１００は、例えば以下の方法により製造することができる。
　（１）剥離層１の準備
　まず剥離層１を用意する。本実施形態の剥離層１は、溶融層１１及びベース層１２を含む剥離溶融層１０であることが好ましく、溶融層１１が水溶性樹脂製であることが好ましい。したがって、剥離層１として、ベース層１２上に水溶性樹脂製の溶融層１１が予め形成されたシート材を使用することができる。剥離層１として、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）製のベース層１２上にポリビニルアルコール（ＰＶＡ）製の溶融層１１が形成されたシート材を使用することができる。
　（２）機能層２の作製
　次に、剥離層１上に機能層２を形成する。本実施形態では、溶融層１１上に機能膜２１を形成した後に、機能膜２１上に機能膜２０を形成することによって、剥離溶融層１０上に機能層２を形成することができる。
　具体的には、溶融層１１上に、機能膜２１を形成するための反応性硬化型樹脂を塗布して反応性硬化型樹脂の膜を形成した後に硬化させることによって、機能膜２１を形成できる。機能膜２１が電離放射線硬化性樹脂組成物である場合には、電離放射線硬化型樹脂を塗付して電離放射線硬化型樹脂の膜を形成して乾燥後、その膜に電離放射線を照射することで、機能膜２１を形成できる。
　機能膜２１上に、中屈折率層２０１を形成するための電離放射線硬化型樹脂を塗付して電離放射線硬化型樹脂の膜を形成し、この膜の乾燥後、電離放射線を照射することで、中屈折率層２０１を形成できる。中屈折率層２０１上に、高屈折率層２０２を形成するための電離放射線硬化型樹脂を塗付して電離放射線硬化型樹脂の膜を形成し、この膜の乾燥後、電離放射線を照射することで、高屈折率層２０２を形成できる。さらに、高屈折率層２０２上に、低屈折率層２０３を形成するための電離放射線硬化型樹脂を塗付して電離放射線硬化型樹脂の膜を形成し、この膜の乾燥後、電離放射線を照射することで、低屈折率層２０３を形成できる。中屈折率層２０１、高屈折率層２０２、低屈折率層２０３を積層することで、機能膜２０を作製することができる。
　本実施形態では、防汚剤を含む電離放射線硬化型樹脂から低屈折率層２０３を形成することが特に好ましい。この場合、電離放射線硬化型樹脂を塗付して電離放射線硬化型樹脂の膜を形成する際に、この膜と大気との界面に、防汚剤に含まれるフッ素等の置換基を集中させることができ、この置換基によって、低屈折率層２０３の表面に防汚性を付与することができる。
　また本実施形態では、製品基材に機能層２を直接設けるのではなく、工程部材としての剥離層１上に機能層２を形成するため、生産性に優れた方法で機能層２を形成することができ、具体的にはロール・ツー・ロール法等を採用できる。ガラス板、樹脂板等の基材に通常の塗布法等で薄膜を形成する場合、端部で膜厚にバラつきが生じて、光学特性が低下することがある。これに対して、ロール・ツー・ロール法等の方法で機能層２を形成する場合、機能層２の膜厚を均一にしやすく、膜厚のバラつきを生じにくくできる。特に、機能層２の面積が大きい場合であっても、機能層２の膜厚を均一にすることができる。
　電離放射線硬化型樹脂の塗付及び反応性硬化型樹脂組成物の塗付により膜を作製する方法は、特に限定されないが、例えばロールコーティングによってそれらの膜を作製することができる。
　（３）仮基材３の貼り付け
　次に、機能膜２０上に、仮基材３を貼り付ける。具体的には、機能膜２０の低屈折率層２０３上に、再剥離層３１を介して、仮基材本体３０を貼り付ける。仮基材３の貼り付けは、例えばロール・ツー・ロール方式で行うことができる。
　以上の工程により、図１Ａに示す低反射シート１００を作製することができる。
　２－３．低反射機能材及び製品の製造方法
　図２Ａから図２Ｅは、第一実施形態に係る低反射機能材４００及び製品５００の製造方法を示す概略断面図である。低反射機能材４００は、低反射シート１００の機能層２から剥離層１を物理的に分離することにより、作製することができる。このため低反射機能材４００は、剥離層１を含まず、機能層２を含む。また低反射機能材４００を用いることにより、対象物５０の一面５１に機能層２を配置することができる。対象物５０とは、機能層２を配置する対象である。また製品５００は、対象物５０と、対象物５０の一面５１に配置された機能層２と、を備える。
　以下、低反射機能材４００及び製品５００を作製する方法について、図２Ａから図２Ｅを参照しながら説明する。
　まず図１Ａに示す低反射シート１００を用意する。
　次に、低反射シート１００の機能層２から剥離層１を物理的に分離する。このため、本実施形態の低反射機能材４００の製造方法には、低反射シート１００の機能層２から剥離層１を物理的に分離する工程が含まれる。具体的には、本実施形態では、剥離溶融層１０に含まれるベース層１２を溶融層１１から剥離して、溶融層１１を露出させる（図２Ａ参照）。そして溶融層１１を特定処理によって溶融させて機能層２から除去する。溶融層１１が水溶性樹脂製である場合には、溶融層１１を水で洗浄することにより、溶融層１１を溶融させることができる（図２Ｂ参照）。これにより、機能層２から剥離層１が物理的に分離させることができ、低反射機能材４００を作製することができる。
　次に機能層２を加熱する。このため、本実施形態の低反射機能材４００の製造方法は、機能層２を加熱する工程を更に含む。具体的には、機能層２から剥離層１を物理的に分離した後に、仮基材３で保持された機能層２を加熱する。本実施形態では、図２Ｂに示す低反射機能材４００を加熱することにより、機能膜２０及び機能膜２１を加熱することができる。その結果、機能膜２０及び機能膜２１の耐擦傷性を向上させることができ、機能膜２０及び機能膜２１の摺動性を向上させて耐擦傷性を向上させることができる。機能層２の加熱温度は、例えば好ましくは１５０℃以上、さらに好ましくは２２０℃以上であることが好ましい。
　次に、対象物５０の一面５１に機能層２を配置する。このため、本実施形態の製品５００の製造方法は、低反射シート１００が備える機能層２を、対象物５０の一面５１に配置する工程を含む。具体的には、機能層２の仮基材３とは反対側に位置する面２ｂである貼付面２１０に粘着層５２を作製する（図２Ｃ参照）。貼付面２１０は、機能膜２１の機能膜２０に接する面とは反対側に位置する面でもある。すなわち低反射シート１００では、機能層２は、対象物５０の一面５１に貼り付けられる貼付面２１０を有し、剥離層１は、貼付面２１０に貼り付けられている。また低反射シート１００では、機能層２の貼付面２１０とは反対側の面２ａに、基材とは異なる仮基材３が貼り付けられている。
　粘着層５２の材料は、対象物５０の一面５１と貼付面２１０とを接着できれば特に限定されないが、両面に粘着性（接着性）を有するフィルムを使用することができ、例えば市販のＯＣＡ（Ｏｐｔｉｃａｌ　Ｃｌｅａｒ　ａｄｈｅｓｉｖｅ）フィルムを使用できる。ＯＣＡフィルムは紫外線低減機能を有していてもよい。貼付面２１０とＯＣＡフィルムとの貼り付けは、例えばロール・ツー・ロール方式で行うことができる。貼付面２１０と粘着層５２とを貼り付けることで、粘着層５２を備える低反射機能材４００が得られる。粘着層５２を備える低反射機能材４００を巻き取ることで、マスターロールを作製してもよい。粘着層５２を備える低反射機能材４００を、対象物５０の一面５１の大きさ、形状等に応じて、断裁してもよい。
　次に、対象物５０の一面５１と、貼付面２１０とを粘着層５２で接着する（図２Ｄ参照）。これにより、対象物５０の一面５１上に機能層２及び仮基材３を配置することができる。本実施形態では、対象物５０の一面５１上に機能層２を配置する際には、ＰＥＴ、ＴＡＣ等の基材がないため、例えば一面５１が平坦ではなく、一面５１が曲面であったり、一面５１が凹凸形状を有していたりしても、一面５１上に機能層２を配置することができる。
　次に、機能層２から仮基材３を物理的に分離する（図２Ｅ参照）。本実施形態では、機能膜２０から仮基材本体３０及び再剥離層３１を剥がすことにより、対象物５０の一面５１上に、機能膜２１及び機能膜２０を残存させることができる。
　以上の工程により、機能層２を備える製品５００を作製することができる。
　２－４．低反射シートの変形例
　低反射シート１００は、上述の構成に限定されない。
　図３は、第一実施形態に係る他の低反射シート１００Ａの概略断面図である。図３において、図１Ａに示す低反射シート１００と同じ部分には同じ参照符号を付す。剥離層１は、特定処理で溶融する溶融層１１を含む場合に限定されない。図３に示す低反射シート１００Ａでは、剥離層１と機能層２とが接しており、剥離層１が機能層２から剥離可能である。剥離層１はベース層１２よりなる。この場合も、剥離層１を機能層２から物理的に分離することができる。なお、剥離層１が機能層２から剥離可能であることは、剥離層１を機能層２から剥離する際に、機能層２に破壊・損傷が生じないことを意味する。詳細には、剥離層１を機能層２から剥がす際に、機能膜２０及び機能膜２１に、剥離、破壊、損傷等が生じないことが好ましい。
　図４は、第一実施形態に係るさらに他の低反射シート１００Ｂの概略断面図である。図４において、図１Ａに示す低反射シート１００と同じ部分には同じ参照符号を付す。図１Ａに示す低反射シート１００では、剥離層１は、溶融層１１及びベース層１２を含む剥離溶融層１０であるが、これに限定されない。図４に示す低反射シート１００Ｂでは、剥離層１は溶融層１１の単一の層で構成されてベース層１２を有していない。この場合、溶融層１１を溶融させることで剥離層１を機能層２から除去する。
　図１Ａに示す低反射シート１００は、仮基材３を備えているが、仮基材３を備えていなくてもよい。
　図１Ａに示す低反射シート１００では、機能膜２０が、低屈折率層２０３、高屈折率層２０２及び中屈折率層２０１を備えているが、これに限定されない。例えば機能膜２０が、単一の層で構成されていてもよく、二つの層で構成されていてもよい。
　（第二実施形態）
　図５Ａと図５Ｂはそれぞれ、第二実施形態に係る低反射シート１０１の概略断面図と拡大断面図である。図５Ａと図５Ｂにおいて図１Ａと図１Ｂに示す第一実施形態に係る低反射シート１００と共通の構成については、同じ符号を付すことにより、説明を適宜省略する。
　１．低反射シート１０１
　本実施形態に係る低反射シート１０１は、剥離層１と、機能層２とを備える。さらに低反射シート１０１は、粘着層５２及び保護層４を備える。図５Ａに示す低反射シート１０１においては、剥離層１、機能層２、粘着層５２、及び保護層４が、この順に積層されている。以下、剥離層１、機能層２、粘着層５２、及び保護層４の構成を説明する。
　１－１．剥離層１
　図５Ａに示すように、本実施形態の剥離層１は、第一実施形態に係る剥離層１と同様に、特定処理で溶融する溶融層１１を含む剥離溶融層１０である。溶融層１１は機能層２と接しており、この溶融層１１が溶融することで、剥離溶融層１０は、機能層２から分離可能である。また剥離溶融層１０は、第一実施形態に係る剥離溶融層１０と同様に、ベース層１２を含んでいる。
　本実施形態の溶融層１１は、第一実施形態に係る溶融層１１と同様に、水溶性樹脂製であることが好ましく、例えばポリビニルアルコール（ＰＶＡ）製であることが好ましい。
　本実施形態のベース層１２は、第一実施形態に係るベース層１２と同様に、溶融層１１から剥離可能であれば特に限定されないが、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）製であることが好ましい。
　図５Ｂに示すように、本実施形態では、剥離層１の機能層２に貼り付けられた面１ａは、光を散乱する光散乱機能を有する凹凸構造１３を有することが好ましい。この場合、機能層２の剥離層１に貼り付けられた面２ｂに光散乱機能を有する凹凸構造１３が移されて、機能層２の面２ｂに光散乱機能を有する凹凸構造２００を形成することができる。この場合、機能層２の面２ｂは、光沢が低減され、またギラつきが低減される。本実施形態では、溶融層１１が凹凸構造１３を有するため、機能膜２０及び機能膜２１に凹凸構造２００を形成することができる。このため、機能膜２０に含まれる中屈折率層２０１、高屈折率層２０２及び低屈折率層２０３に凹凸構造２００を形成することができる。なお、図５Ｂでは、中屈折率層２０１、高屈折率層２０２及び低屈折率層２０３をまとめて機能膜２０として記載している。
　１－２．機能層２
　図５Ａに示すように、本実施形態の機能層２は、第一実施形態に係る機能層２と同様に、機能膜２０及び機能膜２１を含んでいるが、機能膜２０上に機能膜２１が積層されている。このため、本実施形態の低反射シート１０１では、剥離層１、機能膜２０、機能膜２１がこの順に重なっている。
　機能膜２０は、第一実施形態に係る機能膜２０と同様に、光反射を低減する機能を有する層であり、中屈折率層２０１、高屈折率層２０２及び低屈折率層２０３とを含む。本実施形態の機能膜２０においては、低屈折率層２０３、高屈折率層２０２、中屈折率層２０１はこの順に積層されている。このため、本実施形態の低反射シート１０１では、低屈折率層２０３と溶融層１１とが直接接している。このため、機能層２の剥離層１（剥離溶融層１０）に貼り付けられた面２ｂは、機能膜２０で構成されている。また機能膜２０は、剥離溶融層１０と直接接しており、詳細には溶融層１１と直接接している。
　機能膜２１は、第一実施形態に係る機能膜２１と同様に、機能膜２０よりも硬度が大きい層であり、機能層２の耐擦傷性及び硬度を向上させるための層である。本実施形態の機能膜２１は、機能膜２０上に積層されているため、機能層２の剥離層１（剥離溶融層１０）とは反対側の面２ａが、機能膜２１で構成されている。
　１－３．粘着層５２
　粘着層５２は、対象物５０の一面５１上に機能層２を配置するための層である。一面５１上に機能層２が配置された状態では、機能膜２１と一面５１とが対向する。このため機能層２（機能膜２１）は、対象物５０の一面５１に貼り付けられる貼付面２１０を有し、剥離層１は、機能層２の貼付面２１０とは反対側の面２ｂに貼り付けられている。第二実施形態における低反射シート１０１では機能層２の面２ａは貼付面２１０として機能する。
　粘着層５２は、第一実施形態に係る製品５００を製造する際に用いた粘着層５２と同様の層であり、例えば、両面に粘着性（接着性）を有するフィルムであり、例えば市販のＯＣＡ（Ｏｐｔｉｃａｌ　Ｃｌｅａｒ　ａｄｈｅｓｉｖｅ）フィルムを使用できる。
　１－４．保護層４
　保護層４は、粘着層５２上に積層されている。保護層４は、未使用状態の低反射シート１０１の粘着層５２を保護するための層である。保護層４は、粘着層５２から剥離可能であれば、特に限定されないが、例えばポリエステル系のフィルムを使用することができる。保護層４の厚みも、特に限定されない。
　２．低反射シート１０１の製造方法
　図５Ａに示す低反射シート１０１は、例えば以下の方法により製造することができる。
　（１）剥離層１の準備
　まず剥離層１を用意する。本実施形態の剥離層１は、溶融層１１及びベース層１２を含む剥離溶融層１０であることが好ましく、溶融層１１が水溶性樹脂製であることが好ましいため、ベース層１２上に水溶性樹脂製の溶融層１１が予め形成されたシート材を使用することができる。
　（２）機能層２の作製
　次に、剥離層１上に機能層２を形成する。本実施形態では、溶融層１１上に機能膜２０を形成した後に、機能膜２０上に機能膜２１を形成することによって、剥離溶融層１０上に機能層２を形成することができる。
　具体的には、溶融層１１上に、低屈折率層２０３を形成するための電離放射線硬化型樹脂を塗付して電離放射線硬化型樹脂の膜を形成し、この膜の乾燥後、電離放射線を照射することで、低屈折率層２０３を形成できる。低屈折率層２０３上に、高屈折率層２０２を形成するための電離放射線硬化型樹脂を塗付して電離放射線硬化型樹脂の膜を形成し、この膜の乾燥後、電離放射線を照射することで、高屈折率層２０２を形成できる。さらに、高屈折率層２０２上に、中屈折率層２０１を形成するための電離放射線硬化型樹脂を塗付して電離放射線硬化型樹脂の膜を形成し、この膜の乾燥後、電離放射線を照射することで、中屈折率層２０１を形成できる。低屈折率層２０３、高屈折率層２０２、中屈折率層２０１を積層することで、機能膜２０を作製することができる。
　機能膜２０上に、機能膜２１を形成するための反応性硬化型樹脂を塗付して反応性硬化型樹脂の膜を形成した後に硬化させることによって、機能膜２１を形成できる。機能膜２１が電離放射線硬化性樹脂組成物である場合には、電離放射線硬化型樹脂を塗付して電離放射線硬化性樹脂組成物の膜を乾燥後、この膜に電離放射線を照射することで、機能膜２１を形成できる。
　本実施形態では、低屈折率層２０３が剥離層１上に形成されるため、低屈折率層２０３を形成するための電離放射線硬化型樹脂に防汚剤が含まれていても、低屈折率層２０３の表面に、防汚剤に含まれる置換基を集中させにくい。このため本実施形態では、低屈折率層２０３が防汚剤を含まなくてもよい。低屈折率層２０３の表面に防汚性を付与するためには、本実施形態のように剥離層１、機能膜２０、機能膜２１がこの順に積層されるよりも、第一実施形態のように剥離層１、機能膜２１、機能膜２０がこの順に積層されることが好ましい。
　また本実施形態では、製品基材に機能層２を直接設けるのではなく、工程部材としての剥離層１上に機能層２を形成するため、生産性に優れた方法で機能層２を形成することができ、具体的にはロール・ツー・ロール法等を採用できる。ガラス板、樹脂板等の基材に通常の塗布法等で薄膜を形成する場合、端部で膜厚にバラつきが生じて、光学特性が低下することがある。これに対して、ロール・ツー・ロール法等の方法で機能層２を形成する場合、機能層２の膜厚を均一にしやすく、膜厚のバラつきを生じにくくできる。特に、機能層２の面積が大きい場合であっても、機能層２の膜厚を均一にすることができる。
　（３）粘着層５２及び保護層４の貼り付け
　次に、機能膜２１上に、粘着層５２及び保護層４を貼り付ける。保護層４と一体化した粘着層５２を機能膜２１に貼り付けてもよく、機能膜２１上に粘着層５２を配置した後に、粘着層５２上に保護層４を配置してもよい。粘着層５２及び保護層４の貼り付けは、例えばロール・ツー・ロール方式で行うことができる。
　以上の工程により、図５Ａに示す低反射シート１０１を作製することができる。
　なお、粘着層５２及び保護層４の貼り付け後に、低反射シート１０１を巻き取ることで、マスターロールを作製してもよい。さらに、対象物５０の一面５１の大きさ、形状等に応じて、断裁してもよい。
　３．低反射機能材及び製品の製造方法
　図６Ａから図６Ｄは、低反射機能材４００及び製品５０１の製造方法を示す概略断面図である。本実施形態の低反射機能材４００も、剥離層１を含まず、機能層２を含む。また対象物５０は、機能層２を配置する対象である。また製品５０１は、対象物５０と、対象物５０の一面５１に配置された機能層２と、を備える。
　以下、本実施形態の低反射機能材４０１及び製品５０１を作製する方法について、図６Ａから図６Ｄを参照しながら説明する。
　まず図５Ａに示す低反射シート１０１を用意する。
　次に、粘着層５２から保護層４を剥離する（図６Ａ参照）。これにより、粘着層５２を露出させることができる。
　次に、露出した粘着層５２によって、機能層２の貼付面２１０と、対象物５０の一面５１とを接着する（図６Ｂ参照）。これにより、対象物５０の一面５１上に、機能層２及び剥離層１を積層することができる。
　次に、機能層２から剥離層１を物理的に分離する。このため、本実施形態の低反射機能材４０１の製造方法には、機能層２から剥離層１を物理的に分離する工程が含まれる。具体的には、剥離溶融層１０に含まれるベース層１２を溶融層１１から剥離させて、溶融層１１を露出させる（図６Ｃ参照）。そして溶融層１１を特定処理によって溶融させる。溶融層１１が水溶性樹脂製である場合には、溶融層１１を水で洗浄することにより、溶融層１１を溶融させることができる（図６Ｄ参照）。これにより、機能層２から剥離層１を物理的に分離させることができ、低反射機能材４０１を作製することができる。また対象物５０の一面５１に機能層２を配置することができる。
　次に機能層２を加熱する。このため、本実施形態の低反射機能材４０１の製造方法は、機能層２を加熱する工程を更に含む。具体的には、対象物５０の一面５１上に積層された機能膜２１及び機能膜２０を加熱する。それにより、機能膜２０及び機能膜２１の耐擦傷性を向上させることができ、機能膜２０及び機能膜２１の摺動性を向上させることができる。機能層２の加熱温度は、例えば好ましくは１５０℃以上、さらに好ましくは２２０℃であることが好ましい。また機能層２を加熱する際には、対象物５０（製品５０１）も加熱されるため、この場合の対象物５０（製品５０１）は、耐熱性を有することが好ましい。
　以上の工程により、機能層２を備える製品５０１を作製することができる。
　（まとめ）
　第１の態様に係る低反射シート（１００、１０１）は、剥離層（１）と、剥離層（１）を基材として剥離層（１）上に形成された機能層（２）と、を備える。機能層（２）は、光反射率を低減する機能を有する第１の機能膜（２０）と、第１の機能膜（２０）よりも硬度が大きい機能膜（２１）と、を含む。剥離層（１）は、機能層（１）から物理的に分離可能である。
　この場合、機能層（２）から剥離層（１）を物理的に分離することができるため、低反射シート（１００、１０１）から剥離層（１）を分離した状態で、機能層（２）を高温で加熱処理することができ、そのため機能層２は、優れた耐擦傷性を有することができる。
　第２の態様に係る低反射シート（１００、１０１）は、第１の態様において、剥離層（１）は、特定処理で溶融する溶融層（１１）を含む剥離溶融層（１０）である。溶融層（１１）は、機能層（２）と接しており、溶融層（１１）が溶融することで、剥離溶融層（１０）は、機能層（２）から分離可能である。
　この場合、特定処理によって溶融層（１１）が溶融した状態となることにより、剥離層（１０）を機能層（２）から物理的に分離させることができる。
　第３の態様に係る低反射シート（１００、１０１）は、第２の態様において、溶融層（１１）は、水溶性樹脂製である。
　この場合、溶融層（１１）を水で処理することによって、溶融層（１１）を溶融させることができる。
　第４の態様に係る低反射シート（１００、１０１）は、第１の態様において、剥離層（１）と機能層（２）とが接しており、剥離層（１）は、機能層（２）から剥離可能である。
　この場合、剥離層（１）を機能層（２）から物理的に分離することができる。
　第５の態様に係る低反射シート（１００）は、第１～第４の態様において、機能層（２）は、対象物（５０）の一面（５１）に貼り付けられる貼付面（２１０）を有し、剥離層（１）は、貼付面（２１０）に貼り付けられている。
　この場合、対象物（５０）の一面（５１）上に機能層（２）を貼り付けることができる。
　第６の態様に係る低反射シート（１００）は、第５の態様において、機能層（２）の貼付面（２１０）とは反対側の面に、基材とは異なる仮基材（３）が貼り付けられている。
　この場合、仮基材（３）で機能層（２）を保持することができる。
　第７の態様に係る低反射シート（１００）は、第６の態様において、仮基材（３）は、耐熱性を有する。
　この場合、仮基材（３）で機能層（２）を保持した状態において、仮基材（３）ごと機能層（２）を加熱処理することができる。
　第８の態様に係る低反射シート（１００）は、第６又は第７の態様において、仮基材（３）の機能層（２）側の面は、光散乱機能を有する凹凸構造（３００）を有する。
　この場合、機能層（２）の仮基材（３）側の面に光散乱機能を有する凹凸構造（３００）が転写されて、機能層（２）の仮基材（３）側の面に光散乱機能を有する凹凸構造（２００）を形成することができる。
　第９の態様に係る低反射シート（１００）は、第５～第８の態様において、剥離層（１）、第２の機能膜（２１）、第１の機能膜（２０）の順に重なっている。
　この場合、剥離層（１）上に第２の機能膜（２１）が積層され、第２の機能膜（２１）上に第１の機能膜（２０）が積層された低反射シート（１００）が得られる。
　第１０の態様に係る低反射シート（１００）は、第１～第４の態様において、機能層（２）は、対象物（５０）の一面（５１）に貼り付けられる貼付面（２１０）を有し、剥離層（１）は、機能層（２）の貼付面（２１０）とは反対側の面に貼り付けられている。
　この場合、剥離層（１）によって機能層（２）を保持することができる。
　第１１の態様に係る低反射シート（１００）は、第１０の態様において、剥離層（１）の機能層（２）側の面は、光散乱機能を有する凹凸構造（１３）を有する。
　この場合、機能層（２）の剥離層（１）側の面に光散乱機能を有する凹凸構造（１３）が転写されて、機能層（２）の剥離層（１）側の面に光散乱機能を有する凹凸構造（２００）を形成することができる。
　第１２の態様に係る低反射シート（１００、１０１）は、第１０又は第１１の態様において、剥離層（１）、第１の機能膜（２０）、第２の機能膜（２１）の順に重なっている。
　この場合、剥離層（１）上に第１の機能膜（２０）が積層され、第１の機能膜（２０）上に第２の機能膜（２１）が積層された低反射シート（１００）が得られる。
　第１３の態様に係る低反射機能材４００の製造方法は、第１～第１２のいずれか一の態様に係る低反射シート（１００）の機能層（２）から剥離層（１）を物理的に分離する工程を含む。
　この場合、剥離層（１）を含まない低反射機能材（４００）が得られる。
　第１４の態様に係る低反射機能材（４００）の製造方法は、第１３の態様において、機能層（２）を加熱する工程を更に含む。
　この場合、第１の機能膜（２０）及び第２の機能膜（２１）の耐擦傷性を向上させることができ、第１の機能膜（２０）及び第２の機能膜（２１）の摺動性を向上させることができる。
　第１５の態様に係る製品（５００、５０１）の製造方法は、第１～第１２のいずれか一の態様に係る低反射シート（１００）が備える機能層（２）を、製品（５００）の一面（５１）に配置する工程を含む。
　この場合、光反射低減機能を有する製品（５００）が得られる。
１　　剥離層
１０　　剥離溶融層
１００，１０１　　低反射シート
１１　　溶融層
２　　機能層
２０　　機能膜（第１の機能膜）
２１　　機能膜（第２の機能膜）
２１０　　貼付面
３　　仮基材
４００，４０１　　低反射機能材
５０　　対象物
５１　　一面
５００，５０１　　製品

Claims (17)

  1. 剥離層と、
    前記剥離層上に形成された機能層と、
    を備え、
    前記機能層は、
    　　　光反射率を低減する機能を有する第１の機能膜と、
    　　　前記第１の機能膜よりも硬度が大きい第２の機能膜と、
    を含み、
    前記剥離層は、前記機能層から物理的に除去可能である、低反射シート。
  2. 前記剥離層は、特定処理で溶融してかつ前記機能層と接する溶融層を含み、
    前記溶融層が溶融することで、前記剥離層は前記機能層から除去される、請求項１に記載の低反射シート。
  3. 前記溶融層は、水溶性樹脂製である、請求項２に記載の低反射シート。
  4. 前記剥離層は前記機能層と接しており、
    前記剥離層は、前記機能層から剥離可能である、請求項１に記載の低反射シート。
  5. 前記機能層は、前記剥離層に貼り付けられている面を有し、
    前記機能層の前記面は、対象物の一面に貼り付けられる貼付面として機能する、請求項１～４のいずれか一項に記載の低反射シート。
  6. 前記機能層の前記貼付面とは反対側の面に貼り付けられて、前記基材とは異なる仮基材を更に備えた、請求項５に記載の低反射シート。
  7. 前記仮基材は、耐熱性を有する、請求項６に記載の低反射シート。
  8. 前記仮基材の前記機能層に貼り付けられた面は、光を散乱する凹凸構造を有する、請求項６又は７に記載の低反射シート。
  9. 前記剥離層と前記第２の機能膜と前記第１の機能膜とは、この順に重なっている、
    請求項５～８のいずれか一項に記載の低反射シート。
  10. 前記機能層は、対象物の一面に貼り付けられるように構成された貼付面を有し、
    前記剥離層は、前記機能層の前記貼付面とは反対側の面に貼り付けられている、請求項１～４のいずれか一項に記載の低反射シート。
  11. 前記剥離層の前記機能層に貼り付けられている面は、光を散乱する凹凸構造を有する、請求項１０に記載の低反射シート。
  12. 前記剥離層と前記第１の機能膜と前記第２の機能膜とは、この順に重なっている、請求項１０又は１１に記載の低反射シート。
  13. 請求項１～１２のいずれか一項に記載の低反射シートを準備するステップと、
    前記低反射シートの前記機能層から前記剥離層を物理的に分離するステップと、
    を含む、低反射機能材の製造方法。
  14. 前記機能層を加熱するステップを更に含む、請求項１３に記載の低反射機能材の製造方法。
  15. 前記機能層を加熱する前記ステップは、前記低反射シートの前記機能層から前記剥離層を物理的に分離する前記ステップの後で前記機能層を加熱するステップを含む、請求項１４に記載の低反射機能材の製造方法。
  16. 請求項１～１２のいずれか一項に記載の低反射シートを準備するステップと、
    前記低反射シートの前記機能層を、対象物の面に配置するステップと、
    を含む、製品の製造方法。
  17. 前記低反射シートの前記機能層から前記剥離層を剥離することにより前記機能層の貼付け面を前記剥離層から露出するステップを更に含み、
    前記低反射シートの前記機能層を、前記対象物の前記面に配置する前記ステップは、前記低反射シートの前記機能層の前記露出した貼付け面を、前記対象物の前記面に配置するステップを含む、請求項１６に記載の製品の製造方法。
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