JP4793010B2 - 光回折構造賦型用の複製版及びその複製版の製造方法並びに複製版を用いた光回折構造転写用複製物の製造方法 - Google Patents
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Description
図1は本発明の一形態に係る複製版の部分断面を示す。複製版1は樹脂基材2に光回折構造層3を設けた構成を備えている。樹脂基材2には、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン6等のポリアミド系樹脂、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニル等のビニル系樹脂、ポリアクレート等のアクリル系樹脂といった各種の樹脂基材を用いることができる。光回折構造層3は表面に回折格子、ホログラム等の光回折構造を構成する微細な凹凸が形成されたものである。図1では光回折構造を単純な凹凸形状に描いているが、その形状は適宜でよい。また、図1では説明の便宜のために樹脂基材2及び光回折構造層3を誇張して描いており、その寸法関係は実際の製品を反映したものではない。図1の層構成は一例であり、樹脂基材2は複数層からなるものでもよいし、樹脂基材2と光回折構造層3との間にプライマ層等の他の層が介在されてもよい。
ポリエステルアクリレート A 19重量部
ポリエステルアクリレート B 34重量部
特殊アクリレート(多官能アクリレート)A 9.7重量部
特殊アクリレート(多官能アクリレート)B 2.9重量部
イルガキュア184 4.9重量部
ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン(非反応性) 2.5重量部
図2A〜図2Cを参照して複製版1の製造方法の一形態を説明する。ここでは、いわゆる2P法(Photo Polymerization法の略)により複製版1を製造する方法について説明する。2P法により複製版1を製造するには、まず、図2Aに示すように、複製版1に形成すべき光回折構造に対して相補的な形状の凹凸部が表面に形成された複製元の版4を用意し、その表面に未硬化状態の紫外線硬化樹脂3Aを塗工する。紫外線硬化樹脂3Aには反応性シリコーンからなる離型剤を予め適当量添加しておく。なお、紫外線硬化樹脂3Aの塗工には公知の各種の塗工法を用いてよい。複製元の版4は光回折構造を形成するためのパターンをガラス基板等の硬質基板上に撮影又は描画したいわゆる原板でもよいし、その原板から複製された中間版でもよい。
次に、複製版1を利用した複製物の製造方法を説明する。ここでは、複製物をいわゆるセミドライ法により製造する方法について説明する。図3はセミドライ法による複製装置10の概略を示す。複製装置10は複製対象のフィルム20を所定速度で送り出す送り出しローラ11と、フィルム20が巻き掛けられるエンボスローラ12と、フィルム20を巻き取る巻き取りローラ13と、フィルム20を圧着点αにてエンボスローラ12に圧着する圧着ローラ14と、フィルム20をエンボスローラ12から剥離する剥離点βに設けられた剥離ローラ15と、フィルム20を適宜に案内するガイドローラ16と、エンボスローラ12を加熱する加熱装置17と、剥離ローラ15を冷却する冷却装置18とを備えている。エンボスローラ12の外周には図1に示した複製版1が巻き付けられて一体回転可能に固定されている。さらに、複製装置10にはエンボスローラ12にて賦型されたフィルム20に対して紫外線UVを照射する紫外線照射装置19が設けられている。
2 樹脂基材
3 光回折構造層
3A 紫外線硬化樹脂
4 複製元の版
10 複製装置
12 エンボスローラ
19 紫外線照射装置
20 フィルム
20A 転写箔
21 樹脂基材
22 剥離層
23 複製層
24 反射層
25 接着層
Claims (6)
- 表面に樹脂製の光回折構造層が形成された複製版において、前記光回折構造層に、ポリエーテル変性シリコーンをアクリル変性してなる反応性シリコーンが離型剤として架橋結合されていることを特徴とする光回折構造の複製版。
- 前記反応性シリコーンは、シロキサン骨格構造の両末端をポリエーテル変性し、さらに両末端のポリエーテル構造をアクリル変性してなることを特徴とする請求項1に記載の複製版。
- 光回折構造を有する複製元の版と、前記光回折構造が複製されるべき複製版の基材との間に、ポリエーテル変性シリコーンをアクリル変性してなる反応性シリコーンを離型剤として添加させた電磁線硬化樹脂を介在させ、前記電磁線硬化樹脂に電磁線を照射して該電磁線硬化樹脂を硬化させつつ前記シリコーンと前記電磁線硬化樹脂とを架橋結合させることを特徴とする複製版の製造方法。
- 前記反応性シリコーンは、シロキサン骨格構造の両末端をポリエーテル変性し、さらに両末端のポリエーテル構造をアクリル変性してなることを特徴とする請求項3に記載の複製版の製造方法。
- ポリエーテル変性シリコーンをアクリル変性してなる反応性シリコーンが離型剤として架橋結合している樹脂製の光回折構造層を有する複製版と、転写用複製物の基材上に設けられた樹脂製の複製層とを密着させ、その密着部分に熱を加えて複製層を軟化させることにより、前記複製版の光回折構造を前記複製層に複製することを特徴とする光回折構造転写用複製物の製造方法。
- 前記反応性シリコーンは、シロキサン骨格構造の両末端をポリエーテル変性し、さらに両末端のポリエーテル構造をアクリル変性してなることを特徴とする請求項5に記載の光回折構造転写用複製物の製造方法。
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