WO2020091550A1

WO2020091550A1 - 편광판

Info

Publication number: WO2020091550A1
Application number: PCT/KR2019/014799
Authority: WO
Inventors: 윤혁; 장준원; 정종현; 김선국; 박문수
Original assignee: 주식회사 엘지화학
Priority date: 2018-11-02
Filing date: 2019-11-04
Publication date: 2020-05-07
Also published as: EP3876002A4; TW202023826A; US20210302638A1; US11892669B2; JP2021532412A; KR20200050720A; TWI717085B; JP7205981B2; CN112585510A; CN112585510B; KR102466771B1; EP3876002A1

Abstract

본 출원은, 편광판 및 그 용도에 대한 것이다. 본 출원에서는 자외선 흡수제나 광안정제가 배합되지 않은 상태에서도 자외선 차단 특성을 나타내는 위상차층을 포함하는 편광판을 제공할 수 있다. 본 출원은 또한 자외선 흡수제나 광안정제가 없는 상태에서도 일정한 자외선 차단 특성을 나타내기 때문에 그 단독으로 또는 필요에 따라 적정한 자외선 차단제나 광안정제와 병용되어 디스플레이 장치의 색감 및 화질 등의 표시 성능에 영향을 주지 않으면서, 차단이 필요한 영역의 자외선을 선택적으로 차단할 수 있고, 별도의 자외선 차단층이 필요하지 않아서 얇게 형성될 수도 있고, 내구성도 우수한 편광판을 제공할 수 있다.

Description

편광판

본 출원은 2018년 11월 02일자 제출된 대한민국 특허출원 제10- 2018-0133684호에 기초하여 우선권을 주장하며, 해당 대한민국 특허출원 문헌에 개시된 내용은 본 명세서의 일부로서 포함된다.

본 출원은, 편광판에 관한 것이다

디스플레이 장치에 포함되는 광학 필름에는 상기 광학 필름 자체의 내구성이나, 디스플레이 소자의 보호 등을 위해 자외선 차단 특성이 요구되는 경우가 많다. 이러한 이유로 많은 광학 필름에는 자외선 흡수제나 광안정제가 도입된다.

상용화된 자외선 흡수제나 광안정제는 대략 파장이 380 nm 미만인 자외선은 효과적으로 차단할 수 있지만, 380 nm 이상의 자외선에 대한 차단 효율은 떨어진다. 또한, 일부 380 nm 이상의 자외선을 차단 또는 흡수할 수 있는 자외선 흡수제나 광안정제가 알려져 있기는 하지만, 이러한 자외선 흡수제나 광안정제는, 가시광 영역에 속하는 단파장도 흡수 내지 차단하기 때문에 디스플레이 장치에서 디스플레이되는 가시광 영역의 일부도 흡수 내지 차단하여 색감 등의 화질에 나쁜 영향을 준다.

한편, 자외선 흡수제나 광안정제는 첨가제이기 때문에 광학 필름에 배합되는 경우에 문제가 발생할 수 있다. 예를 들어, 중합성의 액정 화합물을 배향 상태에서 중합시켜서 위상차층을 제조할 때에 자외선 흡수제나 광안정제가 해당 층에 배합되면, 액정 화합물의 배향성이 떨어질 수 있다. 또한, 대부분 중합성의 액정 화합물은 자외선 중합성이기 때문에, 위상차층의 제조 과정에서는 자외선을 조사하게 되는데, 자외선 흡수제나 광안정제가 존재하면, 중합이 적절하게 되지 못하여 액정층 자체의 내구성에도 나쁜 영향을 줄 수 있다.

본 출원은, 편광판에 대한 것이다. 본 출원에서는 자외선 흡수제나 광안정제가 배합되지 않은 상태에서도 자외선 차단 특성을 나타내는 위상차층을 포함하는 편광판을 제공하는 것을 하나의 목적으로 한다.

본 출원은 또한 자외선 흡수제나 광안정제가 없는 상태에서도 일정한 자외선 차단 특성을 나타내기 때문에 그 단독으로 또는 필요에 따라 적정한 자외선 차단제나 광안정제와 병용되어 디스플레이 장치의 색감 및 화질 등의 표시 성능에 영향을 주지 않으면서, 차단이 필요한 영역의 자외선을 선택적으로 차단할 수 있고, 별도의 자외선 차단층이 필요하지 않아서 얇게 형성될 수도 있고, 내구성도 우수한 편광판을 제공하는 것을 또 하나의 목적으로 한다.

본 출원의 예시적인 편광판은, 편광자 및 적어도 2층의 위상차층을 포함할 수 있고, 상기 위상차층들 중 적어도 한 층 또는 2층 모두는 자외선 흡수제나 광안정제가 배합되지 않는 상태에서도 자외선 차단 특성을 나타낼 수 있다.

이하 본 명세서에서는 설명의 편의를 위해 상기 2개의 위상차층 중에서 어느 하나를 제 1 위상차층으로 호칭하고, 다른 하나는 제 2 위상차층으로 호칭할 수 있지만, 상기 제 1 및 제 2의 표현이 위상차층간의 순서, 위치 및 우열을 표시하는 것은 아니며, 단순한 구별을 위해 사용된다.

본 출원의 편광판에서는 편광자 및/또는 위상차층은 자외선 영역의 광, 특히 파장이 380 nm 이상인 자외선 영역의 광 중 어느 한 파장 또는 일정 범위 내의 파장에서 제어된 광학 특성을 가지도록 설계된다. 본 출원에서는 자외선 흡수제나 광안정제 등의 첨가제를 적용하지 않고도 상기 특정 파장의 자외선 영역을 선택적으로 차단할 수 있도록 설계함으로써, 본 출원의 목적에 합치하는 편광판을 제공할 수 있다.

본 출원의 편광판은, 상기와 같은 설계에 의해서 장치의 내구성에 영향을 주는 자외선을 선택적으로 효과적으로 차단하면서도, 자체적으로 안정적인 내구성을 확보할 수 있고, 디스플레이 장치에 적용되어 그 표시 품질도 우수하게 유지할 수 있다.

본 명세서에서 용어 편광자는 편광 기능을 가지는 필름, 시트 또는 소자를 의미한다. 편광자는 여러 방향으로 진동하는 입사광으로부터 한쪽 방향으로 진동하는 광을 추출할 수 있는 기능성 소자이다.

편광자로는, 흡수형 선편광자를 사용할 수 있다. 이러한 편광자로는, PVA(poly(vinyl alcohol)) 편광자가 알려져 있다. 기본적으로 본 출원에서는 편광자로는 공지의 편광자를 사용할 수 있다.

일 예시에서는 공지의 PVA(poly(vinyl alcohol)) 편광자 중에서 하기 특성을 가지는 편광자가 선택되어 사용될 수 있다.

본 출원에서는 적용되는 편광자는 390 nm 파장의 광에 대한 단체 투과율(Ts, single transmittance)이 20% 이상이거나, 또는 60% 이하일 수 있다. 상기 390 nm 파장의 광에 대한 편광자의 단체 투과율은 다른 예시에서 59% 이하, 58% 이하, 57% 이하, 56% 이하, 55% 이하, 54% 이하, 53% 이하, 52% 이하, 51% 이하, 50% 이하, 49% 이하, 48% 이하, 47% 이하, 46% 이하, 45% 이하, 44% 이하, 43% 이하, 42% 이하, 41% 이하 또는 40% 이하이거나, 21% 이상, 22% 이상, 23% 이상, 24% 이상 또는 25% 이상일 수 있다.

편광자의 단체 투과율은, 예를 들면, 스펙트러미터(V7100, Jasco社제)를 사용하여 측정할 수 있다. 예를 들면, 편광자 시료(상부 및 하부 보호 필름 불포함)를 기기에 거치한 상태에서 에어(air)를 베이스 라인(base line)으로 설정하고, 편광자 시료의 축을 기준 편광자의 축과 수직 및 수평으로 정렬한 상태에서 각각의 투과율을 측정한 후에 단체 투과율을 계산할 수 있다.

390 nm 파장의 광에 대한 단체 투과율이 상기 범위인 편광자는 후술하는 위상차층과 조합되어 편광판에 적절한 자외선 차단 특성을 부여하고, 안정적으로 내구성이 유지되도록 할 수 있다.

통상적으로 PVA(poly(vinyl alcohol))계 선형 흡수형 편광자는 위와 같은 단체 투과율을 나타내며, 본 출원에서는 이러한 PVA계 선형 흡수형 편광자가 적용될 수 있지만, 상기와 같은 단체 투과율을 나타내는 한 적용될 수 있는 편광자의 종류는 상기에 제한되지 않는다.

PVA 편광자는, 일반적으로 PVA 필름 또는 시트 및 상기 PVA 필름 또는 시트에 흡착 배향된 이색성 색소 또는 요오드와 같은 이방 흡수성 물질을 포함한다.

PVA 필름 또는 시트는, 예를 들면, PVAc(poly(vinyl acetate))를 겔화하여 얻을 수 있다. PVAc(poly(vinyl acetate))로는, 비닐 아세테이트의 단독 중합체; 및 비닐 아세테이트 및 다른 단량체의 공중합체 등이 예시될 수 있다. 상기에서 비닐 아세테이트와 공중합되는 다른 단량체로는, 불포화 카복실산 화합물, 올레핀 화합물, 비닐에테르 화합물, 불포화 술폰산 화합물 및 암모늄기를 가지는 아크릴아미드 화합물 등의 일종 또는 이종 이상이 예시될 수 있다.

폴리비닐아세테이트의 겔화도는, 일반적으로 약 85몰% 내지 약 100몰% 또는 98몰% 내지 100몰% 정도이다. 선편광자의 폴리비닐알코올의 중합도는, 일반적으로 약 1,000 내지 약 10,000 또는 약 1,500 내지 약 5,000일 수 있다.

PVA 편광자는, PVA 필름 또는 시트에, 염색 공정과 연신 공정을 거쳐 제조된다. 필요한 경우에 상기 편광자의 제조 공정은 팽윤, 가교, 세정 및/또는 건조 공정을 추가로 포함할 수 있다.

예를 들어, 상기에서 염색 공정은 이방 흡수성 물질인 요오드를 PVA 필름 또는 시트에 흡착시키기 위한 공정으로서, 요오드 및 요오드화 칼륨을 포함하는 처리조 내에 상기 PVA 필름 또는 시트를 침지시켜 수행할 수 있는데, 이 과정에서 처리조 내의 요오드 및 요오드화 칼륨의 농도를 조절하는 방식으로 상기 단체 투과율의 조절이 가능하다.

염색 공정에서 PVA 필름 또는 시트는 요오드(I₂), KI 등의 요오드화물 및/또는 붕산 화합물(붕산 또는 붕산염) 등을 포함하는 염색액 또는 가교액에 침지되고, 이 과정에서 요오드 등의 이방 흡수성 물질이 PVA 필름 또는 시트에 흡착된다. 따라서, 상기 과정에서 염색액 내의 상기 화합물의 농도에 따라서 편광자에 흡착되는 이방 흡수성 물질의 종류 내지는 양이 결정되고, 그에 따라 편광자의 특정 파장의 광에 대한 흡수율과 투과율이 결정될 수 있다. 예를 들면, 상기 염색액에 존재할 수 있는 요오드 화합물의 종은 요오드화물(M⁺I^-)과 요오드(I₂)에서 유래된 I^-, I₂, I₃ ^- 또는 I₅ ^- 등이 있을 수 있다. 그런데, 상기 화합물 중에서 I^-는 흡수 파장 범위가 약 190 nm 내지 260 nm이고, 색감 영향은 크지 않으며, I₂는 흡수 파장 범위가 약 400 nm 내지 500 nm이고, 색감은 주로 레드(red)이며, I₃ ^-는 흡수 파장 범위가 약 250 nm 내지 400 nm이고, 색감은 주로 옐로우(Yellow)이며, 선형 구조의 I₅ ^-는 흡수 파장 범위가 관측되지 않고, 색감 영향은 크지 않으며, 굽은 구조의 I₅ ^-는 흡수 파장 범위가 약 500 nm 내지 900 nm이고, 색감은 주로 블루(blue)이다. 따라서, 염색액 내에 형성된 상기 요오드 화합물의 종의 비율을 제어함으로써 390 nm 파장의 광에 대한 단체 투과율의 제어가 가능하다.

염색액은 일반적으로 요오드와 용해 보조제인 요오드화물을 통해 요오드 이온을 형성한 수용액인 요오드 용액이고, 상기 수용액에 가교 공정을 위해 붕산 화합물이 추가되기도 하는데, 상기 수용액에 첨가되는 요오드 및 요오드화물의 농도에 따라서 해당 염색액 내에서 형성되는 요오드 화합물의 종과 비율이 결정될 수 있다. 요오드화 화합물로는, 예를 들어 요오드화칼륨, 요오드화리튬, 요오드화나트륨, 요오드화아연, 요오드화알루미늄, 요오드화납, 요오드화구리, 요오드화바륨, 요오드화칼슘, 요오드화주석 또는 요오드화티탄 등이 사용될 수 있다.

본 출원의 조건인 390 nm 파장의 광에 대한 투과율을 만족하는 편광자의 제작을 위해서, 상기 염색 공정에서 적용되는 염색액 내의 요오드화물의 농도가 약 1.5 중량% 이상이고, 요오드(I₂)의 농도가 0.05 내지 20 중량% 정도가 되도로 조절할 수 있다. 상기 요오드화물의 농도는 다른 예시에서 약 20중량% 이하, 18 중량% 이하, 16 중량% 이하, 14 중량% 이하, 12 중량% 이하, 10 중량% 이하, 8 중량% 이하 또는 약 7 중량% 이하 정도일 수 있다. 또한 상기 요오드의 농도는 다른 예시에서 19 중량% 이하, 18 중량% 이하, 17 중량% 이하, 16 중량% 이하, 15 중량% 이하, 14 중량% 이하, 13 중량% 이하, 12 중량% 이하, 11 중량% 이하, 10 중량% 이하, 9 중량% 이하, 8 중량% 이하, 7 중량% 이하, 6 중량% 이하, 5 중량% 이하, 4 중량% 이하, 3 중량% 이하, 2 중량% 이하 또는 1 중량% 이하 정도일 수 있다.

염색액 내의 요오드화물 및/또는 요오드의 농도를 상기 범위로 조절하면, 염색액 내의 요오드 화합물의 종 및 그 농도가 390 nm 파장의 광에 대한 단체 투과율이 전술한 범위에 속할 수 있도록 형성될 수 있다.

본 출원에 적용되는 편광자의 제작을 위해서 염색 공정에서 적용되는 염색액의 농도가 상기와 같이 조절되고, 그 외의 공정은 일반적으로 알려진 방식에 따라서 수행될 수 있다. 또한, 염색 공정도 염색액의 농도가 상기와 같이 제어되는 것 외에는 공지의 방식에 따라서 수행될 수 있다.

예를 들어, 염색 공정에서는 PVA 필름 또는 시트를 상기와 같이 조절된 염색액 내에 침지시킬 수 있다. 염색 공정에서 염색액의 온도는 통상적으로 20°C 내지 50°C, 25°C 내지 40°C 정도이고, 침지 시간은 통상적으로 10초 내지 300초 또는 20초 내지 240초 정도이지만, 이에 제한되는 것은 아니다.

상기 편광자의 제조 과정에서는 가교 공정이 수행될 수도 있다. 상기 가교 공정은, 예를 들면, 붕소 화합물과 같은 가교제를 사용하여 수행할 수 있다. 이러한 가교 공정의 순서는 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, 염색 및/또는 연신 공정과 함께 수행하거나, 별도로 진행할 수 있다. 예를 들면, 상기 언급한 염색액 내에 추가적으로 가교제를 배합하는 경우에 염색과 동시에 가교 공정이 진행될 수 있다. 이러한 가교 공정은 복수 회 실시할 수도 있다. 상기 붕소 화합물로는 붕산 또는 붕사 등이 사용될 수 있다. 붕소 화합물은, 수용액 또는 물과 유기 용매의 혼합 용액의 형태로 일반적으로 사용될 수 있고, 통상적으로는 붕산 수용액이 사용된다. 붕산 수용액에서의 붕산 농도는, 가교도와 그에 따른 내열성 등을 고려하여 적정 범위로 선택될 수 있다. 붕산 수용액 등에도 요오드화칼륨 등의 요오드화 화합물을 함유시킬 수 있다.

가교 공정은, 상기 PVA 필름 또는 시트를 붕산 수용액 등에 침지함으로써 수행할 수 있는데. 이 과정에서 처리 온도는 통상적으로 25°C 이상, 30°C 내지 85°C 또는 30°C 내지 60°C 정도의 범위이고, 처리 시간은 통상적으로 5초 내지 800초간 또는 8초 내지 500초간 정도이지만, 이에 제한되는 것은 아니다.

연신 공정은, 일반적으로 1 축 연신으로 수행한다. 이러한 연신은, 상기 염색 및/또는 가교 공정과 함께 수행할 수도 있다. 연신 방법은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, 습윤식 연신 방식이 적용될 수 있다. 이러한 습윤식 연신 방법에서는, 예를 들어, 염색 후 연신을 수행하는 것이 일반적이나, 연신은 가교와 함께 수행될 수 있으며, 복수회 또는 다단으로 수행할 수도 있다.

습윤식 연신 방법에 적용되는 처리액에 요오드화칼륨 등의 요오드화 화합물을 함유시킬 수 있다. 연신에서 처리 온도는 통상적으로 25°C 이상, 30°C 내지 85°C 또는 50°C 내지 70°C의 범위 내 정도이고, 처리 시간은 통상 10초 내지 800초 또는 30초 내지 500초간이지만, 이에 제한되는 것은 아니다.

연신 과정에서 총 연신 배율은 배향 특성 등을 고려하여 조절할 수 있고, PVA 필름 또는 시트의 원래 길이를 기준으로 총 연신 배율이 3배 내지 10배, 4배 내지 8배 또는 5배 내지 7배 정도일 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기에서 총 연신 배율은 연신 공정 이외의 팽윤 공정 등에 있어서도 연신을 수반하는 경우에는, 각 공정에 있어서의 연신을 포함한 누적 연신 배율을 의미할 수 있다. 이러한 총 연신 배율은, 배향성, 가공성 내지는 연신 절단 가능성 등을 고려하여 조절될 수 있다.

상기 염색, 가교 및 연신에 추가로 상기 공정을 수행하기 전에 팽윤 공정을 수행할 수도 있다. 팽윤에 의해서 PVA 필름 또는 시트 표면의 오염이나 블로킹 방지제를 세정할 수 있고, 또한 이에 의해 염색 편차 등의 불균일을 줄일 수 있는 효과도 있다.

팽윤 공정에서는 통상적으로 물, 증류수 또는 순수 등이 사용될 수 있다. 당해 처리액의 주성분은 물이고, 필요하다면, 요오드화칼륨 등의 요오드화 화합물 또는 계면 활성제 등과 같은 첨가물이나, 알코올 등이 소량 포함되어 있을 수 있다. 이 과정에서도 공정 변수의 조절을 통해 전술한 광차단율의 조절이 가능할 수 있다.

팽윤 과정에서의 처리 온도는 통상적으로 20°C 내지 45°C 또는 20°C 내지 40°C 정도이지만 이에 제한되지 않는다. 팽윤 편차는 염색 편차를 유발할 수 있기 때문에 이러한 팽윤 편차의 발생이 가능한 억제되도록 공정 변수가 조절될 수 있다.

팽윤 공정에서도 적절한 연신이 수행될 수 있다. 연신 배율은, PVA 필름의 원래 길이를 기준으로 6.5배 이하, 1.2 내지 6.5배, 2배 내지 4배 또는 2배 내지 3배 정도일 수 있다. 팽윤 과정에서의 연신은, 팽윤 공정 후에 수행되는 연신 공정에서의 연신을 작게 제어할 수 있고, 필름의 연신 파단이 발생하지 않도록 제어할 수 있다.

편광자의 제조 과정에서는 금속 이온 처리가 수행될 수 있다. 이러한 처리는, 예를 들면, 금속염을 함유하는 수용액에 PVA 필름을 침지함으로써 실시한다. 이를 통해 평관자 내에 금속 이온을 함유시킬 수 있는데. 이 과정에서 금속 이온의 종류 내지는 비율을 조절함으로써도 PVA 편광자의 색조 조절이 가능하다. 적용될 수 있는 금속 이온으로는, 코발트, 니켈, 아연, 크롬, 알루미늄, 구리, 망간 또는 철 등의 전이 금속의 금속 이온이 예시될 수 있고, 이 중 적절한 종류의 선택에 의해 색조의 조절이 가능할 수도 있다.

염색, 가교 및 연신 후에 세정 공정이 진행될 수 있다. 이러한 세정 공정은, 요오드화칼륨 등의 요오드 화합물 용액에 의해 수행할 수 있다.

이러한 물에 의한 세정과 요오드 화합물 용액에 의한 세정은 조합될 수도 있으며, 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올, 부탄올 또는 프로판올 등의 액체 알코올을 배합한 용액도 사용될 수도 있다.

이러한 공정을 거친 후에 건조 공정을 수행하여 편광자를 제조할 수 있다. 건조 공정에서는, 예를 들면, 요구되는 수분율 등을 고려하여 적절한 온도에서 적절한 시간 동안 수행될 수 있고, 이러한 조건은 특별히 제한되지 않는다.

상기와 같은 방식으로 제조된 편광자는, PVA 필름 또는 시트 및 상기 PVA 필름 또는 시트상에 흡착 배향되어 있는 이방 흡수성 물질을 포함할 수 있다. 상기에서 이방 흡수성 물질은 요오드일 수 있으며, 이러한 편광자는 본 출원에서 요오드계 PVA 편광자로 호칭될 수 있다.

본 출원에 적용되는 편광자에 대하여 공지된 편광자 중에서 요오드계 PVA 편광자를 위주로 위 내용을 기술하였으나, 본 출원에서 적용 가능한 편광자의 종류가 상기에 제한되는 것은 아니며, 공지된 다양한 편광자 중에서 390 nm 파장의 광에 대한 단체 투과율이 상기 언급한 범위에 속하는 것이라면 어떠한 종류의 편광자도 본 출원에서 적용될 수 있다.

또한, 상기 편광자의 두께도 특별한 제한은 없으며, 공지의 편광자가 가지는 두께 범위가 본 출원에서 적용될 수 있다.

본 출원의 편광판에서는 상기 편광자의 하부에 제 1 위상차층이 배치된다. 본 명세서에서 용어 하부는, 상기 편광판에서 상기 제 1 위상차층으로 향하는 방향을 의미한다.

도 1은, 상기 편광자(100), 그 하부의 상기 제 1 위상차층(200) 및 그 하부의 제 2 위상차층(300)이 형성된 경우의 도면이다. 도 2에 나타난 바와 같이 상기 제 1 및 제 2 위상차층의 위치는 변경될 수 있으며, 그에 따라 편광자(100)의 하부에 제 2 위상차층(300)이 존재하고, 그 하부에 제 1 위상차층(200)이 형성될 수도 있다.

상기 제 1 위상차층은, 그 자체로서 소정 파장 범위의 자외선에 대한 차단능 내지는 흡수능을 가진다. 예를 들면, 상기 제 1 제 1 위상차층은, 385 nm, 390 nm, 395 nm 및/또는 400 nm 파장의 광에 대한 투과율이 소정 범위 내에 있을 수 있다.

예를 들면, 상기 제 1 위상차층은, 385nm 파장의 광에 대한 투과율이 3% 이하일 수 있다. 상기 투과율은 다른 예시에서, 2.9% 이하, 2.8% 이하, 2.7% 이하, 2.6% 이하, 2.5% 이하, 2.4% 이하, 2.3% 이하, 2.2% 이하, 2.1% 이하, 2.0% 이하, 1.9% 이하, 1.8% 이하, 1.7% 이하, 1.6% 이하, 1.5% 이하 또는 1.4% 이하일 수 있다. 상기 투과율은 다른 예시에서 0% 이상, 0.1% 이상, 0.2% 이상, 0.3% 이상, 0.4% 이상, 0.5% 이상, 0.6% 이상, 0.7% 이상, 0.8% 이상, 0.9% 이상, 1.0% 이상, 1.1% 이상, 1.2% 이상, 1.3% 이상, 1.4% 이상, 1.5% 이상, 1.6% 이상 또는 1.65% 이상일 수 있다.

예를 들면, 상기 제 1 위상차층은, 390 nm의 파장의 광에 대한 투과율이 15% 이하일 수 있다. 상기 투과율은, 다른 예시에서 14% 이하, 13% 이하, 12% 이하, 11% 이하, 10% 이하, 9% 이하, 8% 이하, 7% 이하, 6% 이하, 5% 이하, 4% 이하 또는 3.5% 이하일 수 있다. 상기 투과율은 다른 예시에서 0% 이상, 0.1% 이상, 0.2% 이상, 0.3% 이상, 0.4% 이상, 0.5% 이상, 0.6% 이상, 0.7% 이상, 0.8% 이상, 0.9% 이상, 1% 이상, 1.5% 이상, 2% 이상, 2.5% 이상, 2.6% 이상, 2.7% 이상, 2.8% 이상, 2.9% 이상, 3.1% 이상, 3.2% 이상, 3.3% 이상, 3.4% 이상, 3.5% 이상 또는 3.6% 이상일 수 있다.

예를 들면, 상기 제 1 위상차층은, 395 nm의 파장의 광에 대한 투과율이 25% 이하일 수 있다. 상기 투과율은, 다른 예시에서 24% 이하, 23% 이하, 22% 이하, 21% 이하, 20% 이하, 19% 이하, 18% 이하, 17% 이하, 16% 이하, 15, 14% 이하, 13% 이하, 12% 이하, 11% 이하, 10% 이하, 9% 이하, 8% 이하, 7% 이하, 6% 이하, 5% 이하, 4% 이하 또는 3.5% 이하일 수 있다. 상기 투과율은 다른 예시에서 0% 이상, 0.1% 이상, 0.2% 이상, 0.3% 이상, 0.4% 이상, 0.5% 이상, 0.6% 이상, 0.7% 이상, 0.8% 이상, 0.9% 이상, 1% 이상, 1.5% 이상, 2% 이상, 2.5% 이상, 3% 이상, 3.5% 이상, 4% 이상, 4.5% 이상, 5% 이상, 5.5% 이상, 6% 이상, 6.5% 이상, 7% 이상, 7.5% 이상, 8% 이상, 8.5% 이상, 9% 이상 또는 9.5% 이상일 수 있다.

예를 들면, 상기 제 1 위상차층은 400 nm의 파장의 광에 대한 투과율이 40% 이하일 수 있다. 상기 투과율은, 다른 예시에서 39.5% 이하, 39% 이하, 38.5% 이하, 38% 이하, 37.5% 이하, 37% 이하, 36.5% 이하, 36% 이하, 35.5% 이하, 35% 이하, 34.5% 이하, 34% 이하, 33.5% 이하, 33% 이하, 32.5% 이하, 32% 이하, 31.5% 이하, 31% 이하, 30% 이하, 29.5% 이하, 29% 이하, 28.5% 이하, 28% 이하, 27.5% 이하 또는 27% 이하 정도일 수 있다. 상기 투과율은 다른 예시에서 0% 이상, 0.1% 이상, 0.2% 이상, 0.3% 이상, 0.4% 이상, 0.5% 이상, 0.6% 이상, 0.7% 이상, 0.8% 이상, 0.9% 이상, 1% 이상, 1.5% 이상, 2% 이상, 2.5% 이상, 3% 이상, 3.5% 이상, 4% 이상, 4.5% 이상, 5% 이상, 5.5% 이상, 6% 이상, 6.5% 이상, 7% 이상, 7.5% 이상, 8% 이상, 8.5% 이상, 9% 이상, 9.5% 이상, 10% 이상, 10.5% 이상, 11% 이상, 11.5% 이상, 12% 이상, 12.5% 이상, 13% 이상, 13.5% 이상, 14% 이상, 14.5% 이상, 15% 이상, 15.5% 이상, 16% 이상, 16.5% 이상, 17% 이상, 17.5% 이상, 18% 이상, 18.5% 이상, 19% 이상, 19.5% 이상, 20% 이상, 20.5% 이상, 21% 이상, 21.5% 이상, 22% 이상, 22.5% 이상, 23% 이상, 23.5% 이상, 24% 이상, 24.5% 이상 또는 25% 이상 정도일 수 있다.

상기 제 1 위상차층의 투과율은, 스펙트로미터(N&K analyzer, N&K Technologies, INC)를 사용하여 측정할 수 있다. 상기 위상차층의 투과율은, 해당 위상차층을 380 nm 이상의 파장에서 실질적으로 흡수 피크를 나타내지 않는 필름상에 위치시킨 후에 측정할 수 있으며, 이 때 상기 필름 및 위상차층의 사이에는 공지의 액정 배향막 등이 존재할 수도 있고, 존재하지 않을 수도 있다. 상기에서 380 nm 이상의 파장에서 실질적으로 흡수 피크를 나타내지 않는다는 것은, 예를 들면, 385nm, 390 nm 및 400 nm 파장의 광에 대한 투과율이 각각 90% 이상인 경우를 의미할 수 있다. 상기 투과율은 다른 예시에서 대략 90% 내지 95% 정도일 수 있다. 이러한 필름으로는, 예를 들면, NRT(No Retardation TAC(Triacetyl cellulose), Fuji社) 필름 또는 TAC(Triacetyl cellulose) 필름 등이 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다.

예를 들면, 상기와 같은 필름상에 위상차층을 위치시킨 후에 에어(air)를 베이스 라인(baseline)으로 설정한 후에 위상차층의 기준축인 지상축(slow axis)과 수직 및 수평으로 정렬한 상태에서 각각의 투과율을 측정한 후에 투과율을 계산할 수 있다.

투과율 특성이 상기와 같이 설계된 제 1 위상차층은, 편광판이 380 내지 400 nm 범위의 파장의 광에 대한 차단 특성을 나타내면서도 안정적인 내구성을 보유하도록 할 수 있다.

이러한 효과는 전술한 편광자와 조합되어 더욱 개선될 수 있다. 즉, 편광자의 단체 투과율 및/또는 위상차의 투과율이 상기 언급된 범위를 만족하지 않는 경우에 편광판의 자외선 차단능, 특히 380 내지 400 nm 범위의 광에 대한 차단율이 저하되거나, 혹은 자외선 차단능이 편광자 및 제 1 위상차층 중 어느 하나에 과다하게 부여되어 편광판의 내구성이 떨어질 수 있다.

본 출원에서는 또한 상기와 같은 제 1 위상차층의 자외선 차단능을 제 1 위상차층에 별도의 자외선 흡수제나 광안정제 등을 도입하지 않고도 구현할 수 있다. 따라서, 일 예시에서 상기 제 1 위상차층은, 자외선 흡수제나 광안정제, 예를 들면, 최대 흡수 파장이 385 nm 내지 400 nm의 범위 내에 있는 자외선 흡수제나 광안정제를 포함하지 않을 수 있다. 즉, 후술하는 바와 같이 제 1 위상차층을, 정분산 중합성 액정 화합물과 역분산 중합성 액정 화합물을 적절하게 배합시켜 구성하는 경우에는, 상기 개개의 중합성 액정 화합물의 구조적 특징이 서로 보완되어, 자외선 흡수제나 광안정제 등을 적용하지 않고도, 목적하는 자외선 흡수성을 확보할 수 있다. 이와 같이 자외선 흡수제와 광안정제를 적용하지 않는 것에 의해서 상기 첨가제에 의한 액정의 배향 불량이나 제 1 위상차층의 형성 후의 블리딩 아웃 현상 등을 유발하지 않는 내구성이 우수한 제 1 위상차층을 형성할 수 있다.

일 예시에서 상기 자외선 차단능을 가지는 제 1 위상차층은, 후술하는 바와 같은 방식으로 역파장 특성을 설계함으로써 구현할 수 있다.

상기 제 1 위상차층은, 하기 수식 1 내지 3 중 어느 하나에 따른 굴절률 관계를 가지는 층일 수 있다.

[수식 1]

nx > ny = nz

[수식 2]

nx > ny > nz

[수식 3]

nx > ny 및 nz > ny

수식 1 내지 3에서 nx, ny 및 nz는 각각 x축 방향(지상축 방향)의 굴절률, y축 방향(진상축 방향)의 굴절률 및 z축 방향(두께 방향)의 굴절률이고, 이러한 정의는 특별히 달리 규정하지 않는 한 본 명세서에서 동일하게 적용될 수 있다. 상기에서 x축 방향은, 예를 들면, 도 3에 나타난 바와 같이, 필름 또는 시트 형태의 제 1 위상차층(100)의 면상의 지상축 방향을 의미하고, y축 방향은 상기 x축에 수직한 면상 방향(진상축 방향)을 의미하며, z축 방향은, 상기 x축과 y축에 의해 형성되는 평면의 법선의 방향, 예를 들면 두께 방향을 의미할 수 있다.

특별히 달리 규정하지 않는 한, 본 명세서에서 굴절률이나 위상차는 약 550 nm 파장의 광에 대한 굴절률이나 위상차이다.

상기 제 1 위상차층은, 예를 들면, 1/4 파장 위상 지연 특성을 가질 수 있는 범위의 면내 위상차를 가질 수 있다. 용어 n 파장 위상 지연 특성은, 적어도 일부의 파장 범위 내에서, 입사 광을 그 입사 광의 파장의 n배만큼 위상 지연시킬 수 있는 특성을 의미한다. 1/4 파장 위상 지연 특성은, 입사된 선편광을 타원편광 또는 원편광으로 변환시키고, 반대로 입사된 타원 편광 또는 원편광을 선편광으로 변환시키는 특성일 수 있다. 하나의 예시에서 제 1 위상차층은, 550 nm의 파장의 광에 대한 면내 위상차가 90 nm 내지 300 nm의 범위 내일 수 있다. 상기 면내 위상차는 다른 예시에서 100 nm 이상, 105 nm 이상, 110 nm 이상, 115 nm 이상, 120 nm 이상, 125 nm 이상 또는 130 nm 이상일 수 있다. 또한, 상기 면내 위상차는 290 nm 이하, 280 nm 이하, 270 nm 이하, 260 nm 이하, 250 nm 이하, 240 nm 이하, 230 nm 이하, 220 nm 이하, 210 nm 이하, 200 nm 이하, 190 nm 이하, 180 nm 이하, 170 nm 이하, 160 nm 이하, 150 nm 이하 또는 145 nm 이하일 수 있다.

본 명세서에서 용어 면내 위상차는 하기 수식 4에 따라 정해지는 값이고, 두께 방향 위상차는 하기 수식 5에 따라 정해지는 값이다.

[수식 4]

Rin = d Х (nx - ny)

[수식 5]

Rth = d Х (nz - ny)

수식 4 및 5에서 Rin은 면내 위상차고, Rth는 두께 방향 위상차이며, nx, ny 및 nz는 상기 수식 1 내지 3에서 정의된 바와 같고, d는 제 1 위상차층의 두께이다.

상기 제 1 위상차층에 대해서 상기 수식 5에 따라 구해지는 두께 방향 위상차의 범위는 특별히 제한되지 않고, 예를 들면, 약 -200 nm 내지 200 nm의 범위 내일 수 있다. 상기 두께 방향 위상차는 다른 예시에서 -190 nm 이상, -180 nm 이상, -170 nm 이상, -160 nm 이상, -150 nm 이상, -140 nm 이상, -130 nm 이상, -120 nm 이상, -110 nm 이상, -100 nm 이상, -90 nm 이상, -80 nm 이상, -70 nm 이상, -60 nm 이상, -50 nm 이상, -40 nm 이상, -30 nm 이상, -20 nm 이상 또는 -10 nm 이상일 수 있다. 또한, 상기 두께 방향 위상차는 다른 예시에서 190 nm 이하, 180 nm 이하, 170 nm 이하, 160 nm 이하, 150 nm 이하, 140 nm 이하, 130 nm 이하, 120 nm 이하, 110 nm 이하, 100 nm 이하, 90 nm 이하, 80 nm 이하, 70 nm 이하, 60 nm 이하, 50 nm 이하, 40 nm 이하, 30 nm 이하, 20 nm 이하 또는 10 nm 이하일 수 있다.

일 예시에서 상기 제 1 위상차층은, 하기 수식 6을 만족하는 층일 수 있다.

[수식 6]

R(450)/R(550) < R(650)/R(550)

수식 6에서 R(450)은, 450 nm의 파장의 광에 대한 제 1 위상차층의 면내 위상차고, R(550)은 550 nm의 파장의 광에 대한 제 1 위상차층의 면내 위상차며, R(650)은 650 nm의 파장의 광에 대한 제 1 위상차층의 면내 위상차다.

상기 각 면내 위상차는 상기 수식 4에 따라 구해진다. 단 450 nm 파장의 광에 대한 면내 위상차는 수식 4에서 nx 및 ny로서 450 nm 파장의 광에 대한 굴절률이 적용되고, 550 nm 파장의 광에 대한 면내 위상차는 수식 4에서 nx 및 ny로서 550 nm 파장의 광에 대한 굴절률이 적용되며, 650 nm 파장의 광에 대한 면내 위상차는 수식 4에서 nx 및 ny로서 650 nm 파장의 광에 대한 굴절률이 적용된다.

수식 6을 만족하는 제 1 위상차층은 소위 역 파장 분산 특성(reverse wavelength dispersion)을 가지는 제 1 위상차층이다. 이러한 제 1 위상차층은 넓은 파장 범위에서 설계된 위상 지연 특성을 나타낼 수 있다.

수식 6을 만족하는 제 1 위상차층에서 R(450)/R(550) 및/또는 R(650)/R(550)를 조절함으로써 보다 우수한 효과의 편광판을 제공할 수 있다. 일 예시에서 상기 수식 6에서 R(450)/R(550)은, 0.6 내지 0.99의 범위 내일 수 있다. R(450)/R(550)은, 다른 예시에서 0.61 이상, 0.62 이상, 0.63 이상, 0.64 이상, 0.65 이상, 0.66 이상, 0.67 이상, 0.69 이상, 0.70 이상, 0.71 이상, 0.72 이상, 0.73 이상, 0.74 이상, 0.75 이상, 0.76 이상, 0.77 이상, 0.78 이상, 0.79 이상, 0.80 이상, 0.81 이상, 0.82 이상, 0.83 이상, 0.84 이상, 0.85 이상, 0.86 이상, 0.87 이상, 0.88 이상, 0.89 이상 또는 0.90 이상일 수 있다. 상기 R(450)/R(550)은, 다른 예시에서 0.98 이하, 0.97 이하, 0.96 이하, 0.95 이하, 0.94 이하, 0.93 이하, 0.92 이하, 0.91 이하, 0.90 이하, 0.89 이하, 0.88 이하, 0.87 이하, 0.86 이하 또는 0.85 이하일 수 있다. 수식 6의 R(650)/R(550)은, 1.00 내지 1.19의 범위 내일 수 있다. 상기 R(650)/R(550)은, 1.18 이하, 1.17 이하, 1.16 이하, 1.15 이하, 1.14 이하, 1.13 이하, 1.12 이하, 1.11 이하, 1.1 이하 또는 1.08 이하 정도일 수 있다. 수식 6의 R(650)/R(550)은, 다른 예시에서 1.01 이상, 1.02 이상, 1.03 이상, 1.04 이상, 1.05 이상, 1.06 이상, 1.07 이상, 1.08 이상 또는 1.09 이상일 수 있다.

제 1 위상차층의 R(450)/R(550) 및/또는 R(650)/R(550)을 상기 범위로 조절하는 방식은 특별히 제한되지 않지만, 본 출원에서는, 자외선 흡수제나 광안정제가 포함되지 않는 경우에도 목적하는 자외선 차단능을 확보하기 위해서 후술하는 바와 같이 상기와 같은 역파장 특성을 서로 다른 2종의 중합성 액정 화합물을 사용해서 구현할 수 있다.

제 1 위상차층은 그 지상축(slow axis)과 상기 편광자의 흡수축이 약 30도 내지 60도의 범위 내의 각도를 이룰 수 있도록 편광자의 일측에 적층되어 있을 수 있다. 상기 각도는 다른 예시에서 35도 이상 또는 40도 이상일 수 있고, 또한 55도 이하 또는 50도 이하일 수 있다.

제 1 위상차층으로는 상기 투과율 특성과 면내 위상차를 가지는 것이라면, 특별한 제한 없이 공지의 소재가 사용될 수 있다.

예를 들어, 연신에 의해 광학 이방성을 부여할 수 있는 고분자 필름을 적절한 방식으로 연신한 연신 고분자층 또는 액정층을 사용할 수 있다. 액정층으로는, 액정 고분자층 또는 중합성 액정 화합물의 경화층을 사용할 수 있다.

연신 고분자층으로는, 예를 들면, 폴리에틸렌 또는 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀, 폴리노르보넨 등의 고리형 올레핀 폴리머(COP: Cycloolefin polymer), 폴리염화비닐, 폴리아크릴로니트릴, 폴리설폰, 아크릴 수지, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르, 폴리아크릴레이트, 폴리비닐알코올 또는 TAC(Triacetyl cellulose) 등의 셀룰로오스 에스테르계 폴리머이나 상기 폴리머를 형성하는 단량체 중에서 2종 이상의 단량체의 공중합체 등을 포함하는 고분자층을 사용할 수 있다.

제 1 위상차층으로는 다양한 공지의 소재를 사용할 수 있으나, 일반적으로 공지되어 있는 제 1 위상차층은 상기 언급한 특성, 특히 385 nm, 390 nm, 395 nm 또는 400 nm 파장의 광에 대한 투과율 특성을 만족하지 않는 경우가 많다.

따라서, 예를 들어, 상기 연신 고분자층을 제 1 위상차층으로 적용하고자 할 때에는 고분자층의 제조 시에 상기 언급된 파장에 대해서 적절한 흡수 특성을 가지는 첨가제를 첨가하는 공정 등이 필요할 수 있다.

상기 언급된 파장 범위에서 목적하는 투과율 특성을 확보하기 위해서는 제 1 위상차층으로서 액정 고분자층 또는 중합성 액정 조성물의 경화층을 적용하는 것이 유리하고, 특히 후술하는 특정 역파장 특성을 가지는 중합성 액정 화합물을 포함하는 중합성 액정 조성물의 경화층을 적용하는 것이 유리하다.

상기 제 1 위상차층은, 적어도 후술하는 정분산 중합성 액정 화합물의 중합 단위와 역시 후술하는 역분산 중합성 액정 화합물의 중합 단위를 포함할 수 있다. 상기에서 중합 단위는, 후술하는 것과 같이 각각의 중합성 액정 화합물들이 중합 내지 경화하여 형성되는 단위를 의미한다.

예를 들면, 본 출원에서는, 2종 이상의 중합성 액정 화합물을 혼합하여 상기 수식 6의 특성이 만족되도록 제 1 위상차층을 제작할 수 있으며, 예를 들면, R(450)/R(550)이 낮은 수치를 나타내는 중합성 액정 화합물(예를 들면, 후술하는 역분산 중합성 액정 화합물)과 R(450)/R(550)이 높은 수치를 나타내는 중합성 액정 화합물(예를 들면, 후술하는 정분산 중합성 액정 화합물)을 조합하여 상기 수식 6의 특성을 만족시킬 수 있다.

본 명세서에서 용어 「중합성 액정 화합물」은, 액정성을 나타낼 수 있는 부위, 예를 들면, 메소겐(mesogen) 골격 등을 포함하고, 또한 중합성 관능기를 하나 이상 포함하는 화합물을 의미할 수 있다. 이러한 중합성 액정 화합물들은 소위 RM(Reactive Mesogen)이라는 명칭으로 다양하게 공지되어 있다. 상기 중합성 액정 화합물은, 상기 경화층 내에서 중합된 형태, 즉 전술한 중합 단위로 포함되어 있을 수 있고, 이는 상기 액정 화합물이 중합되어 경화층 내에서 액정 고분자의 주쇄 또는 측쇄와 같은 골격을 형성하고 있는 상태를 의미할 수 있다.

상기 중합성 액정 화합물은 단관능성 또는 다관능성 중합성 액정 화합물일 수 있다. 상기에서 단관능성 중합성 액정 화합물은, 중합성 관능기를 1개 가지는 화합물이고, 다관능성 중합성 액정 화합물은, 중합성 관능기를 2개 이상 포함하는 화합물을 의미할 수 있다. 하나의 예시에서 다관능성 중합성 액정 화합물은 중합성 관능기를 2개 내지 10개, 2개 내지 8개, 2개 내지 6개, 2개 내지 5개, 2개 내지 4개, 2개 내지 3개 또는 2개 또는 3개 포함할 수 있다.

중합성 액정 화합물을, 예를 들면 개시제, 안정제 및/또는 비중합성 액정 화합물 등의 다른 성분과 배합하여 제조된 중합성 액정 조성물을 배향막상에서 배향시킨 상태로 경화시켜 복굴절이 발현된 상기 경화층을 형성하는 것은 공지이고, 본 출원에서는 이와 같은 공지의 과정에서 사용되는 중합성 액정 화합물의 특성을 제어하여 전술한 투과율 특성을 확보할 수 있다.

일 예시에서 전술한 투과율 특성을 적절하게 확보하기 위해서는 상기 역파장 중합성 액정 화합물을 포함하는 중합성 액정 조성물의 경화층이 적용되는 것이 유리하다. 상기에서 역파장 중합성 액정 화합물은, 상기 중합성 액정 화합물을 단독으로 경화시켜 형성한 액정층(경화층)이 역파장 분산 특성을 나타내는 중합성 액정 화합물을 의미하고, 이 때 역파장 분산 특성은 상기 수식 6에 기술된 특성을 의미한다.

본 출원에서는 특히 상기 역파장 중합성 액정 화합물 중에서도 수식 6의 R(450)/R(550)은, 0.6 내지 0.99의 범위 내인 액정 화합물을 적용할 수 있다. 상기 역분산 중합성 액정 화합물의 R(450)/R(550)은, 다른 예시에서 0.61 이상, 0.62 이상, 0.63 이상, 0.64 이상, 0.65 이상, 0.66 이상, 0.67 이상, 0.69 이상, 0.70 이상, 0.71 이상, 0.72 이상, 0.73 이상, 0.74 이상, 0.75 이상, 0.76 이상, 0.77 이상, 0.78 이상, 0.79 이상, 0.80 이상, 0.81 이상, 0.82 이상, 0.83 이상, 0.84 이상, 0.85 이상, 0.86 이상, 0.87 이상, 0.88 이상, 0.89 이상 또는 0.90 이상일 수 있다. 상기 R(450)/R(550)은, 다른 예시에서 0.98 이하, 0.97 이하, 0.96 이하, 0.95 이하, 0.94 이하, 0.93 이하, 0.92 이하, 0.91 이하, 0.90 이하, 0.89 이하, 0.88 이하, 0.87 이하, 0.86 이하 또는 0.85 이하일 수 있다. 또한, 상기 역파장 중합성 액정 화합물은, 수식 6의 R(650)/R(550)가, 1.00 내지 1.19의 범위 내일 수 있다. 상기 R(650)/R(550)은, 1.18 이하, 1.17 이하, 1.16 이하, 1.15 이하, 1.14 이하, 1.13 이하, 1.12 이하, 1.11 이하, 1.1 이하 또는 0.08 이하 정도일 수 있다. 상기 R(650)/R(550)은, 다른 예시에서 1.01 이상, 1.02 이상, 1.03 이상, 1.04 이상, 1.05 이상, 1.06 이상, 1.07 이상, 1.08 이상 또는 1.09 이상 정도일 수도 있다. 본 발명자들은 다양하게 공지된 중합성 액정 화합물 중에서도 특히 R(450)/R(550)의 값이 상기 언급한 범위에 있는 중합성 액정 화합물의 경우, 후술하는 것과 같이 정분산 중합성 액정 화합물과 배합되는 경우에, UV 흡수 파장 영역이 red shift하여 전술한 투과율 특성이 효과적으로 만족되는 것을 확인하였다. 상기 R(450)/R(550)은 일 예시에서 0.6 이상, 0.61 이상, 0.62 이상, 0.63 이상, 0.64 이상, 0.65 이상, 0.66 이상, 0.67 이상, 0.68 이상, 0.69 이상, 0.70 이상, 0.71 이상, 0.72 이상, 0.73 이상, 0.74 이상, 0.75 이상, 0.76 이상, 0.77 이상 또는 0.78 이상일 수도 있다.

이러한 현상은 상기 범위의 R(450)/R(550)를 가지도록 디자인된 역파장 중합성 액정 화합물의 고유의 분자 구조에 기인하는 것으로 판단된다. 즉, 중합성 액정 화합물의 복굴절은, 주로 분자 공액(Molecular Conjugation) 구조, differential oscillator strength 및 오더 파라미터(order parameter) 등에 의해 결정되는 것으로 알려져 있으며, 중합성 액정 화합물이 높은 복굴절을 나타내기 위해서는 주축 방향으로 큰 전자밀도가 필요하기 때문에 대부분의 중합성 액정 화합물은 장축 방향으로 고도로 공액화(highly conjugation)된 형상을 가지고 있다.

그런데, 중합성 액정 화합물이 역분산 특성을 나타내도록 하기 위해서는, 장축과 그에 수직하는 축간의 복굴절성을 조율하는 것이 필요하고, 이에 따라 역분산 특성을 가지도록 디자인된 중합성 액정 화합물은, 대부분 T 또는 H 형태의 분자 형상을 가지면서 주축(장축)은, 큰 위상차와 작은 분산값을 가지고, 그에 수직하는 축은 작은 위상차와 큰 분산값을 가지는 형태이다.

그런데, 자외선 영역인 180 nm 내지 400 nm의 범위의 광을 흡수하는 전자 전이(electronic transition, π → π*)는 공액화 길이(conjugation length)가 길수록 더 장파장으로 이동(shift)하기 때문에, 역분산 특성을 가지도록 디자인된 중합성 액정 화합물은, 음의 복굴절부가 고도로 공액화(highly conjugation)되기 때문에, 자외선 흡수 파장 영역이 보다 장파장으로 이동하는 red shift 현상이 일어나게 된다.

본 발명자들은 상기와 같은 특성의 역파장 중합성 액정 화합물 중에서도 특히 R(450)/R(550)의 범위가 상기 언급된 범위가 되도록 디자인된 중합성 액정 화합물이 본 출원에서 요구하는 투과율 특성을 만족할 수 있는 적합한 범위의 red shift를 나타내고 있음을 확인하였다.

본 발명자들은 특히 하기 구조의 역분산 중합성 액정 화합물의 경우, 정분산 중합성 액정 화합물과 혼합되었을 때에 목적하는 자외선 차단능을 나타내면서, 또한 그 위상차 특성(R(450)/R(550) 및 R(650)/R(550))도 목적에 따라서 효과적으로 설계될 수 있다는 점을 확인하였다.

[화학식 1]

화학식 1에 R₁은, 하기 화학식 2 또는 화학식 3의 치환기이고, R₂ 내지 R₆는 각각 독립적으로 수소, 알킬기, 알콕시기, 시아노기, 하기 화학식 4의 치환기 또는 하기 화학식 5의 치환기이다. 또한, 상기에서 R₂ 내지 R₆ 중 적어도 2개 이상 또는 2개는 하기 화학식 4의 치환기 또는 하기 화학식 5의 치환기이다.

예를 들어, 화학식 1에서 R₂ 및 R₃ 중 어느 하나와 R₅ 및 R₆ 중 어느 하나는 하기 화학식 4 또는 5의 치환기일 수 있다.

[화학식 2]

화학식 2에서 A₁ 및 A₂는 각각 독립적으로 산소 원자 또는 단일 결합이고, L₁ 및 L₂는 각각 독립적으로 -C(=O)-O-, -O-C(=O)- 또는 알킬렌기이며, Cyc는 아릴렌기 또는 사이클로알킬렌기이고, P는 중합성 관능기이다.

[화학식 3]

화학식 3에서 L₃ 및 L₄는 각각 알킬렌기이고, n은 1 내지 4의 범위 내의 수이며, P는 중합성 관능기 또는 수소 원자이다.

[화학식 4]

화학식 4에서 A₃ 및 A₄는, 산소 원자, 알킬렌기 또는 단일 결합이고, L₅ 및 L₆는 각각 독립적으로 -C(=O)-O-, -O-C(=O)- 또는 알킬렌기이며, Cyc는 아릴렌기이고, P는 중합성 관능기이다.

[화학식 5]

화학식 5에서 A₅, A₆, A₇은 각각 독립적으로 산소 원자 또는 단일 결합이고, L₇, L₈ 및 L₉은 각각 독립적으로 -C(=O)-O-, -O-C(=O)- 또는 알킬렌기이며, Cy1은 사이클로알킬렌기이고, Cy2는 아릴렌기이며, P는 중합성 관능기이다.

상기 화학식 1 내지 5에서 용어 단일 결합은 해당 부위에 별도의 원자가 없는 경우이며, 예를 들어, 화학식 2에서 A₂가 단일 결합이라면, A₂에는 별도의 원자가 존재하지 않고, Cyc가 L₂에 직접 연결된 구조가 구현될 수 있다.

상기 화학식 1 내지 5에서 용어 알킬기, 알콕시기 또는 알킬렌기는, 탄소수 1 내지 20, 탄소수 1 내지 16, 탄소수 1 내지 12, 탄소수 1 내지 8 또는 탄소수 1 내지 4의 직쇄 또는 분지쇄형의 알킬기, 알콕시기 또는 알킬렌기일 수 있고, 상기는 임의로 하나 이상의 치환기에 의해 치환되어 있을 수 있다.

또한, 상기 화학식 1 내지 5에서 아릴렌기는, 탄소수 6 내지 12의 아릴렌기이거나, 혹은 페닐렌기일 수 있다.

또한, 상기 화학식 1 내지 5에서 사이클로알킬렌기는, 탄소수 3 내지 12 또는 탄소수 3 내지 9의 사이클로알킬렌기이거나, 사이클로헥실렌기일 수 있다.

화학식 2의 치환기에서는 A₁은 단일 결합일 수 있고, L₁은, -C(=O)-O- 또는 -O-C(=O)-일 수 있으며, A₂는 산소 원자일 수 있고, L₂는 탄소수 3 이상, 4 이상 또는 5 이상의 알킬렌기일 수 있다. 상기 L₂의 알킬렌기의 탄소수는 12 이하 또는 8 이하일 수 있다.

상기 화학식 3의 하나의 예시에서는 L₃ 및 L₄는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 4의 알킬렌기일 수 있고, n은 1 내지 3의 범위 내의 수 또는 1 내지 2의 범위 내의 수이거나, 2일 수 있으며, P는 중합성 관능기일 수 있다. 또한, 상기 경우에 화학식 3에서 [O-L₄]의 단위가 2개 이상인 경우에는 각 단위 내의 L₄의 알킬렌기의 탄소수는 동일하거나 상이할 수 있다.

또한, 상기 화학식 3의 다른 예시에서는 L₃ 및 L₄는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 4의 알킬렌기일 수 있고, n은 1 내지 3의 범위 내의 수 또는 1 내지 2의 범위 내의 수이거나, 2일 수 있으며, P는 수소 원자일 수 있다. 또한, 상기 경우에 화학식 3에서 [O-L₄]의 단위가 2개 이상인 경우에는 각 단위 내의 L₄의 알킬렌기의 탄소수는 동일하거나 상이할 수 있다.

화학식 4에서 A₃는 단일 결합이거나, 탄소수 1 내지 4의 알킬렌기일 수 있고, L₅는 -C(=O)-O- 또는 -O-C(=O)-일 수 있으며, A₄는 산소 원자일 수 있으며, L₆는 탄소수 3 이상, 4 이상 또는 5 이상의 알킬렌기일 수 있다. 상기 L₆의 알킬렌기의 탄소수는 12 이하 또는 8 이하일 수 있다.

화학식 5에서 A₅는 산소 원자일 수 있고, L₇은 탄소수 1 내지 4의 알킬렌기일 수 있으며, A₆는 단일 결합일 수 있고, L₈은 -C(=O)-O- 또는 -O-C(=O)-일 수 있으며, A₇은 산소 원자일 수 있고, L₉은, 탄소수 3 이상, 4 이상 또는 5 이상의 알킬렌기일 수 있다. 상기 L₉의 알킬렌기의 탄소수는 12 이하 또는 8 이하일 수 있다.

본 발명자들은 상기와 같은 중합성 액정 화합물은, 특유의 T형 구조와 N-N 결합을 중심으로 구현되는 공액화 구조에 의해서 목적하는 물성을 효과적으로 만족시킬 수 있다는 점을 확인하였다.

상기 화학식에서 중합성 관능기의 종류는 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기일 수 있다.

일 예시에서는 역분산 중합성 액정 화합물로서, 상기 화학식 1에 R₁이, 상기 화학식 3의 치환기이고, R₂ 내지 R₆ 중 적어도 2개 이상 또는 2개는 상기 화학식 5의 치환기인 화합물의 사용이 유리할 수 있다.

필요하다면, 상기 화학식 1에서 R₁이 상기 화학식 3에서 P가 중합성 관능기인 액정 화합물과 상기 화학식 1에서 R₁이 상기 화학식 3에서 P가 수소 원자인 액정 화합물을 혼합하여 사용할 수 있고, 이러한 경우에 혼합 비율은 목적하는 역파장 특성(R(450)/R(550) 및/또는 R(650)/R(550))에 따라 정해지는 것으로서 특별하게 제한되는 것은 아니다.

상기 역파장 중합성 액정 화합물의 중합 단위는 경화층(액정층) 내에 전체 중합성 액정 화합물의 중합 단위의 중량을 기준으로 40중량% 이상의 비율로 포함되어 있을 수 있다. 상기 비율은 다른 예시에서 약 45 중량% 이상, 50 중량% 이상, 55 중량% 이상, 60 중량% 이상, 65 중량% 이상, 70 중량% 이상, 75 중량% 이상, 80 중량% 이상, 85 중량% 이상, 80 중량% 이상 또는 95 중량% 이상일 수도 있다. 상기 제 1 위상차층(상기 액정층)은 중합성 액정 화합물로서, 상기 화학식 1의 액정 화합물의 중합 단위만을 포함할 수 있지만, 적절한 물성의 구현의 관점에서는 후술하는 정분산 중합성 액정 화합물이 함께 포함되는 것이 유리하다. 따라서, 상기 비율은 100 중량% 이하 또는 100 중량% 미만일 수 있다.

상기 중합성 액정 조성물 및/또는 경화층(액정층)은 상기 역분산 중합성 액정 화합물에 추가로 수식 1에서 R(450)/R(550)이 1.04 내지 1.25, 1.04 내지 1.15 또는 1.06 내지 1.15의 범위 내에 있는 중합성 액정 화합물(이하, 정분산 중합성 액정 화합물)을 추가로 포함할 수 있다. 상기 언급된 R(450)/R(550)을 가지는 역분산 중합성 액정 화합물의 적용은, 경화층(액정층)이 목적하는 투과율 특성을 나타내게 하는 측면에서는 유리하지만, R(450)/R(550)값이 다소 낮은 측면이 있어서 경화층(액정층)이 전체적으로 역분산 특성을 나타내도록 함에 있어서는 불리하다. 따라서, 이러한 불리함의 극복을 위해서 중합성 액정 조성물 및/또는 경화층 내에 R(450)/R(550)값이 상기 범위 내에 있는 중합성 액정 화합물을 추가하여 전체적인 광학 특성을 조절할 수 있다. 상기 정분산 액정 화합물은 수식 6에서 R(650)/R(550)이 약 0.8 내지 0.99, 약 0.85 내지 0.99, 약 0.9 내지 0.99 또는 약 0.91 내지 0.99의 범위 내일 수 있다.

상기와 같은 정분산 중합성 액정 화합물은 다양하게 공지되어 있으며, 예를 들면, 한국등록특허 제1729819호, 한국등록특허 제1640670호, 한국등록특허 제1557202호, 한국등록특허 제1472187호, 한국등록특허 제1460862호, 한국등록특허 제1191124호, 한국등록특허 제1191125호 및/또는 한국등록특허 제1191129호 등에서 공지되어 있는 중합성 액정 화합물을 사용할 수 있다.

상기와 같은 정분산 중합성 액정 화합물로는, 공지의 다양한 소재를 사용할 수 있지만, 이미 기술한 역분산 중합성 액정 화합물과의 혼화성이나, 그 역분산 중합성 액정 화합물의 자외선 흡수성을 보완하여 목적하는 물성을 확보하기 위해서 하기 화학식 6으로 표시되는 것을 사용하는 것이 유리할 수 있다.

[화학식 6]

화학식 6에서 A는 단일 결합, -C(=O)O- 또는 -OC(=O)-이고, R₁ 내지 R₁₀은, 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 알킬기, 알콕시기, 알콕시카보닐기, 시아노기, 니트로기 또는 하기 화학식 7의 치환기일 수 있다. 또한, 다른 예시에서는 상기 구조에서 R₁ 내지 R₅ 중 이웃하는 2개의 치환기 또는 R₆ 내지 R₁₀ 중 이웃하는 2개의 치환기는 서로 결합되어서 -L-A-P로 치환된 벤젠 고리를 구성할 수 있다. 예를 들어, R₁ 내지 R₅ 중 이웃하는 2개의 치환기가 상기 -L-A-P로 치환된 벤젠을 형성한다면, 상기 화학식 6에서 A를 기준으로 왼쪽은 -L-A-P로 치환된 나프탈렌 구조가 구현될 수 있고, R₆ 내지 R₁₀ 중 이웃하는 2개의 치환기가 상기 -L-A-P로 치환된 벤젠을 형성한다면, 상기 화학식 6에서 A를 기준으로 오른쪽은 -L-A-P로 치환된 나프탈렌 구조가 구현될 수 있다. 상기에서 L은, -C(=O)O-, -OC(=O)- 또는 -OC(=O)O-일 수 있고, A는 알킬렌기일 수 있으며, P는 중합성 관능기일 수 있다. 상기에서 A의 알킬렌은 탄소수 1 이상, 2 이상, 3 이상 또는 4 이상의 알킬렌기일 수 있고, 상기 알킬렌기의 탄소수는 20 이하, 16 이하, 12 이하 또는 8 이하일 수 있다. 또한, 상기에서 중합성 관능기 P는 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기일 수 있다. 상기에서 R₁ 내지 R₅ 중 이웃하는 2개의 치환기 또는 R₆ 내지 R₁₀ 중 이웃하는 2개의 치환기는 서로 결합되어서 상기 벤젠 고리를 구성하는 경우에 나머지 치환기는 전술한 수소, 할로겐, 알킬기, 알콕시기, 알콕시카보닐기, 시아노기 또는 니트로기일 수 있다.

[화학식 7]

화학식 7에서 B는 단일 결합, -C(=O)O- 또는 -OC(=O)-이고, R₁₁ 내지 R₁₅는, 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 알킬기, 알콕시기, 알콕시카보닐기, 시아노기, 니트로기 또는 상기 -L-A-P이거나, R₁₁ 내지 R₁₅ 중 이웃하는 2개의 치환기는 서로 결합되어서 -L-A-P로 치환된 벤젠 고리를 구성할 수 있다. 이러한 경우에는 상기 화학식 7의 구조는 -L-A-P가 치환된 나프탈렌 구조를 가진다. 상기에서 R₁₁ 내지 R₁₅ 중 이웃하는 2개의 치환기는 서로 결합되어서 상기 벤젠 고리를 구성하는 경우에 나머지 치환기는 전술한 수소, 할로겐, 알킬기, 알콕시기, 알콕시카보닐기, 시아노기 또는 니트로기일 수 있다.

상기 화학식 6 및 7에서 단일 결합의 의미는 상기 화학식 1 내지 5의 경우와 같고, 알킬기 및 알콕시기의 의미도 상기 화학식 1 내지 5의 경우와 같다.

하나의 예시에서는 상기 정분산 중합성 액정 화합물로는, 상기 화학식 6에서 R₂ 및 R₃ 또는 R₃ 및 R₄가 상기 -L-A-P로 치환된 벤젠을 형성함으로써, 상기 화학식 6의 A의 왼쪽이 나프탈렌 구조를 이루는 화합물이 사용될 수 있다.

상기 정분산 중합성 액정 화합물로는, 상기 화학식 6에서 R₇ 내지 R₉ 중 어느 하나, 예를 들면, R₈이 상기 화학식 7인 화합물이 사용될 수도 있다. 이러한 경우에 상기 화학식 7에서는 R₁₂ 및 R₁₃ 또는 R₁₃ 및 R₁₄가 상기 -L-A-P로 치환된 벤젠을 형성함으로써, 상기 화학식 7의 B의 오른쪽이 나프탈렌 구조를 이루는 화합물이 사용될 수 있다.

상기와 같은 정분산 중합성 액정 화합물의 경화층(액정층) 내에서의 비율은 경화층(액정층)의 투과율 특성이 목적하는 범위로 유지되면서 경화층(액정층) 전체의 R(450)/R(550)값 등의 광학 특성이 목적하는 범위로 유지될 수 있는 한 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 상기 정분산 중합성 액정 화합물은 0 내지 60 중량%의 비율 또는 0 중량% 초과이면서 60 중량% 이하의 비율로 포함되어 있을 수 있다. 상기 비율은 다른 예시에서 약 55 중량% 이하, 50 중량% 이하, 45 중량% 이하, 40 중량% 이하, 35 중량% 이하, 30 중량% 이하, 25 중량% 이하, 20 중량% 이하, 15 중량% 이하, 10 중량% 이하 또는 5 중량% 이하 정도일 수도 있다. 이러한 범위에서 경화층(액정층)이 적합한 역분산 특성과 투과율 특성을 나타낼 수 있다. 따라서, 상기 중합성 액정 조성물 내에서 상기 정분산 중합성 액정 화합물의 비율은 형성된 경화층 내에 상기 정분산 중합성 액정 화합물이 상기 언급된 범위로 존재할 수 있는 범위 내일 수 있다.

상기 경화층(액정층)은, 3관능 이상의 중합성 액정 화합물, 예를 들면, 중합성 관능기를 3개 내지 10개, 3개 내지 8개, 3개 내지 6개, 3개 내지 5개, 3개 내지 4개 또는 3개 가지는 중합성 액정 화합물의 중합 단위를 포함할 수 있다. 상기와 같은 3관능 이상의 중합성 액정 화합물은 상기 언급한 역분산 또는 정분산 중합성 액정 화합물일 수 있다. 경화층(액정층) 내에서 상기 중합성 액정 화합물의 중합 단위의 비율은 특별히 제한되지 않지만, 예를 들면, 30 중량% 이상 또는 40 중량% 이상일 수 있고, 100 중량% 이하이거나, 100 중량% 미만일 수 있다. 이와 같은 비율로 3관능 이상의 중합성 액정 화합물의 중합 단위를 포함하는 경화층(액정층)은, 보다 우수한 내구성을 나타낼 수 있다.

이상 기술한 중합성 액정 화합물을 포함하는 중합성 액정 조성물의 경화층(액정층)에서 상기 중합성 액정 화합물의 전환율, 즉 최초 모노머 상태에서 중합된 상태로 전환된 중합성 액정 화합물의 비율은, 예를 들면, 50 중량% 내지 100 중량% 정도일 수 있다. 상기 전환율은 다른 예시에서 약 60 내지 100 중량% 또는 약 70 내지 100 중량% 정도일 수 있다. 이와 같은 전환율에서 경화층(액정층)은, 보다 우수한 내구성을 나타낼 수 있다.

특히 본 출원의 상기 제 1 위상차층은, 전술한 바와 같이 자외선 흡수제 내지는 광안정제를 사용하지 않고, 특정한 구조의 정분산 및 역분산 중합성 액정 화합물의 적용을 통해 목적하는 자외선 흡수능을 구현하기 때문에 우수한 내구성을 나타낼 수 있다.

예를 들면, 상기 제 1 위상차층은, 하기 수식 A에 따른 위상차 변화율의 절대값이 약 17% 이하, 약 16.5% 이하, 약 16% 이하 또는 약 15.5% 이하일 수 있다. 상기 위상차 변화율은 다른 예시에서 약 0% 이상, 2% 이상, 4% 이상, 6% 이상, 8% 이상, 10% 이상, 12% 이상 또는 14% 이상일 수 있다.

[수식 A]

위상차 변화율 = 100 × (Ra - Ri)/Ri

수식 A에서 Ri는 상기 제 1 위상차층의 550 nm 파장에 대한 초기 면내 위상차이며, Ra는 내구 조건 후의 상기 상기 제 1 위상차층의 550 nm 파장에 대한 면내 위상차이다.

상기에서 내구 조건은, 85°C에서 상기 제 1 위상차층을 유지하는 것이고, 구체적으로 상기 위상차 변화율은 후술하는 실시예 개시 방법으로 측정할 수 있다. 상기에서 내구 조건에서의 유지 시간은 50 시간 이상, 100 시간 이상, 150 시간 이상, 200 시간 이상 또는 250 시간 이상일 수 있다. 상기 유지 시간은 다른 예시에서 약 300 시간 이하 정도일 수도 있다.

상기와 같은 제 1 위상차층의 두께는 특별한 제한은 없으며, 공지의 위상차층의 두께 범위가 본 출원에서 적용될 수 있다. 일 예시에서 상기 제 1 위상차층은 상기 수식 4 및/또는 5에 따라서 목적하는 위상차가 확보될 수 있는 범위의 두께를 가질 수 있다.

본 출원의 편광판은, 상기 편광자와 제 1 위상차층을 포함하고, 추가로 상기 제 1 위상차층의 하부 및/또는 상부에 제 2 위상차층을 가질 수 있다.

이러한 제 2 위상차층은, 예를 들어서 상기 편광판이 유기발광장치에서 반사 방지를 위해 적용되는 경우에 특히 유용하게 형성될 수 있다. 상기 제 2 위상차층을 통해 경사각에서의 반사 방지 특성과 색감 등 디스플레이 화질을 개선할 수 있다.

상기 제 2 위상차층은, 하기 수식 7 또는 8의 굴절률 관계를 만족하는 층일 수 있다.

[수식 7]

nx = ny < nz

[수식 8]

nx > ny 및 nz > ny

수식 7 및 8에서 nx, ny 및 nz는 상기 수식 1 내지 3에서 정의한 바와 같다.

상기 제 2 위상차층은, 두께 방향 위상차가 10 내지 400 nm의 범위 내일 수 있다. 상기 두께 방향 위상차는 다른 예시에서 370nm 이하, 350 nm 이하, 330 nm 이하, 300 nm 이하, 270 nm 이하, 250 nm 이하, 240 nm 이하, 230 nm 이하, 220 nm 이하, 200 nm 이하, 190 nm 이하, 180 nm 이하, 170 nm 이하, 160 nm 이하, 155 nm 이하, 150 nm 이하, 130 nm 이하, 120 nm 이하, 110 nm 이하, 100 nm 이하, 80 nm 이하 또는 70 nm 이하일 수 있다. 또한, 상기 두께 방향 위상차는, 다른 예시에서 5 nm 이상, 10 nm 이상, 20 nm 이상, 40 nm 이상, 50 nm 이상, 90 nm 이상, 100 nm 이상, 110 nm 이상, 120 nm 이상 또는 150 nm 이상일 수 있다. 제 2 위상차층의 두께 방향 위상차를 상기와 같이 조절하여 반사 특성 및 시감 특성, 특히 경사각에서 반사 특성과 시감 특성이 우수한 원편광판을 제공할 수 있다.

상기 제 2 위상차층이 상기 수식 8을 만족하는 경우에 그 면내 위상차는, 예를 들면, 0 nm를 초과하고, 300 nm 이하, 290 nm 이하, 280 nm 이하, 270 nm 이하, 260 nm 이하, 250 nm 이하, 240 nm 이하, 230 nm 이하, 220 nm 이하, 210 nm 이하, 200 nm 이하, 190 nm 이하, 180 nm 이하, 170 nm 이하, 160 nm 이하, 150 nm 이하, 140 nm 이하, 130 nm 이하, 120 nm 이하, 110 nm 이하, 100 nm 이하, 90 nm 이하, 80 nm 이하, 70 nm 이하, 60 nm 이하, 50 nm 이하, 40 nm 이하, 30 nm 이하, 20 nm 이하 또는 10 nm 이하일 수 있다.

제 2 위상차층이 상기 수식 8을 만족하는 경우에 그 지상축은 상기 편광자의 흡수축과 수직 또는 수평이 되도록 적층 필름이 배치될 수 있다. 본 명세서에서 용어 수직, 직교, 수평 또는 평행은, 목적하는 효과를 손상시키지 않은 범위에서의 실질적인 수직, 직교, 수평 또는 평행을 의미한다. 따라서, 상기 각 용어는, 예를 들면, ±15도 이내, ±10도 이내, ±5도 이내 또는 ±3도 이내의 오차를 포함할 수 있다.

상기 제 2 위상차층은, 하기 수식 9를 만족하는 특성을 가질 수 있다.

[수식 9]

Rth(450)/Rth(550) < Rth(650)/Rth(550)

수식 9에서 Rth(450)은, 450 nm의 파장의 광에 대한 상기 위상차층의 두께 방향 위상차이고, Rth(550)은 550 nm의 파장의 광에 대한 상기 위상차층의 두께 방향 위상차이며, Rth(650)은 650 nm의 파장의 광에 대한 상기 위상차층의 두께 방향 위상차이다.

상기 각 두께 방향 위상차는 전술한 수식 5에 따라 계산될 수 있다. 다만, 450 nm 파장의 광에 대한 두께 방향 위상차는 수식 5에서 nz 및 ny로서 450 nm 파장의 광에 대한 굴절률이 적용되고, 550 nm 파장의 광에 대한 두께 방향 위상차는 수식 5에서 nz 및 ny로서 550 nm 파장의 광에 대한 굴절률이 적용되며, 650 nm 파장의 광에 대한 두께 방향 위상차는 수식 5에서 nz 및 ny로서 650 nm 파장의 광에 대한 굴절률이 적용된다.

수식 9을 만족하는 위상차층은 넓은 파장 범위에서 설계된 위상 지연 특성을 나타낼 수 있다.

상기와 같은 특성을 나타내는 제 2 위상차층은, 업계에 공지된 다양한 방식으로 제조될 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 위상차층의 경우와 같이 연신에 의해 광학 이방성을 부여할 수 있는 고분자 필름을 적절한 방식으로 연신한 연신 고분자층 또는 액정층을 상기 제 2 위상차층으로 사용할 수 있다. 액정층으로는, 액정 고분자층 또는 중합성 액정 화합물의 경화층을 사용할 수 있다.

상기 중합성 액정 화합물의 경화층은, 전술한 중합성 액정 화합물을 수직 배향시킨 상태에서 중합시켜서 형성할 수 있으며, 이러한 경우에 상기 제 2 위상차층은 수직 배향된 중합성 액정 화합물의 중합 단위를 포함할 수 있다. 이 때 적용될 수 있는 중합성 액정 화합물의 종류에는 제한이 없으며, 업계에 공지된 종류가 적용될 수 있다.

또한, 수식 9를 만족하는 액정층은, 전술한 역분산 중합성 액정 화합물이나 역분산 중합성 액정 화합물과 정분산 중합성 액정 화합물을 수직 배향시킨 상태에서 중합시켜서 형성할 수 있다.

상기와 같은 제 2 위상차층의 두께는 특별한 제한은 없으며, 공지의 위상차층의 두께 범위가 본 출원에서 적용될 수 있다. 일 예시에서 상기 제 2 위상차층은 상기 수식 4 및/또는 5에 따라서 목적하는 위상차가 확보될 수 있는 범위의 두께를 가질 수 있다.

편광판은 상기 편광자, 제 1 및 제 2 위상차층과 함께 추가적인 층을 가질 수 있다. 예를 들면, 상기 편광판은, 상기 편광자의 상기 제 1 위상차층을 향하는 면의 반대면에 적층되어 있는 추가적인 층(이하, 외곽층)을 포함할 수 있다.

외곽층의 종류로는, 편광자 보호 필름, 하드코팅층, 위상차 필름, 반사 방지층 또는 액정 코팅층 등이 예시될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 외곽층으로 사용되는 각 구성의 구체적인 종류는 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, 업계에서 편광판 등의 적층 필름을 구성하기 위해서 사용되는 다양한 종류의 필름 등이 제한 없이 사용될 수 있다.

예를 들면, 상기 외곽층은, 550 nm 파장에 대한 면내 위상차가 10 nm 이하인 필름일 수 있다. 상기 필름은, 상기 편광자의 상부 보호 필름일 수 있다. 상기 보호 필름으로는 업계에서 공지된 다양한 필름이 적용될 수 있다.

편광판은, 상기 제 1 위상차층과 편광자의 사이에도 추가적인 층을 가질 수 있다. 도 4 및 5는 상기 구조의 예로서, 도 4는, 편광자(100)와 제 1 위상차층(200)의 사이에 상기 추가적인 층(400)이 존재하는 경우이고, 도 5는 편광자(100)와 제 2 위상차층(300)의 사이에 상기 추가적인 층(400)이 존재하는 경우이다.

상기 추가적인 층은, 일 예시에서 상기 편광자(100)에 대한 보호층으로서, 등방성 필름일 수 있다. 용어 등방성 필름은, 상기 수식 4에 따른 550 nm 파장에 대한 면내 위상차가 10 nm 이하인 필름일 수 있다. 상기 면내 위상차는 다른 예시에서 9 nm 이하, 8 nm 이하, 7 nm 이하, 6 nm 이하, 5 nm 이하, 4 nm 이하, 3 nm 이하, 2 nm 이하 또는 1 nm 이하이거나, 실질적으로 0 nm 정도일 수 있다.

등방성 필름은, 또한, 상기 수식 5에 따른 550 nm 파장에 대한 두께 방향 위상차가 -60 nm 내지 10 nm의 범위 내일 수도 있다.

업계에서는 편광자의 보호 필름으로 적용하기 위하여 전술한 바와 같은 위상차를 가지는 다양한 종류의 등방성 필름이 알려져 있고, 본 출원에서는 이러한 공지의 필름이 적절하게 선택되어 적용될 수 있다.

다른 예시에서 상기 추가적인 층(400)은, 경화 수지층일 수 있다. 편광판 제조 분야에서는 보다 얇은 편광판의 형성을 위해서 종래 편광자의 보호 필름을 적용하지 않고, 높은 경도를 나타내는 수지층을 상기 보호 필름 대신 적용하는 경우가 있는데 본 출원에서는 이와 같은 수지층이 상기 추가적인 층(400)으로 존재할 수 있다.

다른 예시에서는 편광자와 위상차층의 사이에 별도의 층이 존재하지 않고, 상기 제 1 또는 제 2 위상차층이 상기 편광자와 접한 상태로 직접 부착되어 있을 수도 있다. 이러한 경우에는 상기 편광자와 제 1 또는 제 2 위상차층의 사이에는 다른 층이 존재하지 않거나, 혹은 부착을 위한 접착제층이 존재할 수도 있다.

편광판은 또한 추가적인 층으로서 상기 제 1 및/또는 제 2 위상차층의 하부에 상기 편광판을 다른 요소에 부착하기 위한 점착제층, 접착제층 또는 상기 점착제층 또는 접착제층을 보호하는 보호 필름 내지는 이형 필름을 추가로 포함할 수 있다.

본 출원은 또한 디스플레이 장치에 대한 것이다. 예시적인 디스플레이 장치는, 상기 편광판을 포함할 수 있다.

편광판을 포함하는 디스플레이 장치의 구체적인 종류는 특별히 제한되지 않는다. 상기 장치는, 예를 들면, 반사형 또는 반투과반사형 액정 표시장치(Liquid Crystal Display)와 같은 액정 표시장치이거나, 유기발광 장치(Organic Light Emitting Device) 등일 수 있다.

디스플레이 장치에서 편광판의 배치 형태는 특별히 제한되지 않고, 예를 들면 공지의 형태가 채용될 수 있다. 예를 들어, 반사형 액정 표시장치에서 편광판은, 외부 광의 반시 방지 및 시인성의 확보를 위하여 액정 패널의 편광판 중에서 어느 하나의 편광판으로 사용될 수 있다.

유기발광장치에 상기 편광판이 적용되는 경우 상기 유기발광장치는, 반사 전극, 투명 전극, 상기 반사 전극과 투명 전극의 사이에 개재되고, 발광층을 가지는 유기층 및 상기 편광판을 포함하고, 상기 편광판이 상기 반사 또는 투명 전극의 외측에 존재하며, 편광자에 비하여 제 1 및/또는 제 2 위상차층이 상기 반사 또는 투명 전극에 가깝게 배치되어 있을 수 있다.

본 출원에서는 자외선 흡수제나 광안정제가 배합되지 않은 상태에서도 자외선 차단 특성을 나타내는 위상차층을 포함하는 편광판을 제공할 수 있다. 본 출원은 또한 자외선 흡수제나 광안정제가 없는 상태에서도 일정한 자외선 차단 특성을 나타내기 때문에 그 단독으로 또는 필요에 따라 적정한 자외선 차단제나 광안정제와 병용되어 디스플레이 장치의 색감 및 화질 등의 표시 성능에 영향을 주지 않으면서, 차단이 필요한 영역의 자외선을 선택적으로 차단할 수 있고, 별도의 자외선 차단층이 필요하지 않아서 얇게 형성될 수도 있고, 내구성도 우수한 편광판을 제공할 수 있다.

도 1 및 2는 본 출원의 예시적인 편광판을 설명하는 도면이다.

도 3은 위상차층의 지상축, 진상축 및 두께 방향을 설명하기 위한 도면이다.

도 4 및 5는 본 출원의 예시적인 편광판을 설명하는 도면이다.

도 6 내지 9는 실시예 또는 비교예의 자외선 흡수 특성을 보여주는 결과이다.

도 10 내지 13은 실시예 또는 비교예의 위상차 변화를 보여주는 도면이다.

이하 실시예 및 비교예를 통하여 본 출원을 구체적으로 설명하지만 본 출원의 범위가 하기 투과율 가변 장치에 의해 제한되는 것은 아니다.

제조예 1. 중합성 액정 조성물 A의 제조

정분산 중합성 액정 화합물로서, BASF社의 LC1057 액정과 역분산 중합성 액정 화합물로서, 하기 화학식 A의 액정 화합물을 사용하여 중합성 액정 조성물을 제조하였다. 상기 정분산 중합성 액정 화합물은 R(450)/R(550)이 약 1.09 내지 1.11 정도의 수준이고, R(650)/R(550)이 약 0.93 내지 0.95 정도의 수준이며, 상기 화학식 A의 액정 화합물은 R(450)/R(550)이 약 0.84 내지 0.86 정도의 수준이고, R(650)/R(550)이 약 1.01 내지 1.03 정도의 수준이다. 상기 R(450), R(550) 및 R(650)은, 각각 상기 정분산 중합성 액정 화합물 또는 상기 화학식 A의 중합성 액정 화합물을 단독으로 사용하여 형성한 위상차층에 대해서 측정한 450 nm, 550 nm 및 650 nm 파장의 광에 대한 면내 위상차이다. 상기 면내 위상차는, 공지의 방식으로 측정할 수 있는데, 예를 들면, 복굴절 계측기인 Axoscan(Axometrics社)를 사용하여 편광 측정 방식으로 측정할 수 있다. 상기 중합성 액정 화합물을 단독으로 사용하여 위상차층을 형성하는 방식은 중합성 액정 화합물이 단독으로 적용되는 것을 제외하면, 하기 실시예에 기재된 방식과 같다. 상기 정분산 중합성 액정 화합물 및 화학식 A의 역분산 중합성 액정 화합물을 대략 94:6 내지 95:5의 중량 비율(역분산 중합성 액정:정분산 중합성 액정)로 혼합하고, 상기 중합성 액정 화합물 합계 100 중량부 대비 약 5 중량부의 라디칼 광개시제(BASF社, Irgacure907)를 용매(cyclopentanone) 내에서 배합하여 중합성 액정 조성물 A를 제조하였다.

[화학식 A]

상기에서 화학식 A의 화합물은 하기의 방식으로 합성하였다. 질소 분위기 하, 반응 용기에 하기 화학식 A1의 화합물 17.7g 및 테트라히드로퓨란 100ml를 넣었다. 빙냉하면서 0.9mol/L 보란-테트라히드로퓨란 착체 103ml를 적하하고 1시간 교반했다. 5% 염산을 적하한 후, 아세트산에틸로 추출하고, 식염수로 세정했다. 황산나트륨으로 건조시키고, 용매를 증류 제거함에 의해, 하기 화학식 A2로 표시되는 화합물 14.9g을 얻었다. 질소 분위기 하, 반응 용기에 화학식 A2로 표시되는 화합물 14.9g, 피리딘 7.2g, 디클로로메탄 150ml를 더했다. 빙냉하면서 메탄설포닐클로리드 8.8g을 적하하고 실온에서 3시간 교반했다. 물에 붓고, 5% 염산 및 식염수로 순차 세정했다. 칼럼 크로마토그래피(실리카겔, 헥산/아세트산에틸) 및 재결정(아세톤/헥산)에 의해 정제를 행하여, 화학식 A3로 표시되는 화합물 16.3g을 얻었다(하기 화학식 A3에서 Ms는 메탄설포닐기이다.). 질소 분위기 하, 반응 용기에 화학식 A4로 표시되는 화합물 2.5g, 화학식 A3로 표시되는 화합물 10.6g, 탄산칼륨 7.5g, N,N-디메틸포름아미드 70ml를 더하고 90℃에서 3일간 가열 교반했다. 물에 붓고, 톨루엔으로 추출하고 식염수로 세정했다. 칼럼 크로마토그래피(실리카겔, 톨루엔) 및 재결정(아세톤/메탄올)에 의해 정제를 행하여, 화학식 A5로 표시되는 화합물 7.7g을 얻었다. 반응 용기에 화학식 A5로 표시되는 화합물 7.7g, 디클로로메탄 150ml, 트리플루오로아세트산 100ml를 더하고 교반했다. 용매를 증류 제거한 후, 얻어진 고체를 물로 세정하고 건조시킴에 의해, 화학식 A6로 표시되는 화합물 5.5g을 얻었다.

질소 분위기 하, 반응 용기에 화학식 A6로 표시되는 화합물 5.5g, 화학식 A7으로 표시되는 화합물 6.9g, N,N-디메틸아미노피리딘 0.8g, 디클로로메탄 200ml를 더했다. 빙냉하면서 디이소프로필카르보디이미드 4.1g을 적하하고 실온에서 10시간 교반했다. 석출물을 여과에 의해 제거한 후, 여과액을 1% 염산, 물 및 식염수로 순차 세정했다. 재결정(디클로로메탄/메탄올)을 행한 후, 칼럼 크로마토그래피(실리카겔, 디클로로메탄) 및 재결정(디클로로메탄/메탄올)에 의해 정제를 행하여, 화학식 A8로 표시되는 화합물 8.4g을 얻었다.

30ml의 3구 플라스크에 화학식 A8로 표시되는 화합물 1.4g, 2-히드라지노벤조티아졸 0.35g, 테트라히드로퓨란 5ml를 더하고, 25℃에서 9시간 교반했다. 그 후, 물 50ml를 더하고, 아세트산에틸 30ml로 2회 추출했다. 얻어진 유기상을 황산나트륨으로 건조했다. 황산나트륨을 여과 후, 감압 농축했다. 얻어진 잔사를 실리카겔 칼럼 크로마토그래피(헥산/아세트산에틸=2/1)로 정제했다. 얻어진 조생성물(粗生成物)을 아세톤/메탄올을 사용해서 재침전을 행했다. 이 결정을 여과, 건조함으로써 하기 화학식 A9으로 표시되는 화합물을 0.98g 얻었다. 이어서 화학식 A9으로 표시되는 화합물의 질소 원자에 부착된 수소 원자를 2-[2-(2-아크릴로일옥시에톡시)에톡시]에틸기로 치환하여 상기 화학식 A의 화합물을 얻었다. 얻어진 화학식 A의 화합물의 NMR 확인 결과는 하기에 기재하였다.

[화학식 A1]

[화학식 A2]

[화학식 A3]

[화학식 A4]

[화학식 A5]

[화학식 A6]

[화학식 A7]

[화학식 A8]

[화학식 A9]

¹H NMR(CDCl₃)δ 1.19-1.29(m,4H), 1.41-1.82(m, 22H), 1.91(m, 2H), 2.08(m, 4H), 2.24(m, 4H), 2.53(m, 2H), 3.62(m, 3H), 3.67(m, 2H), 3.84-3.90(m, 5H), 3.94(t, 4H), 4.15-4.19(m, 6H), 4.53(t, 2H), 5.76(dd, 1H), 5.82(dd, 2H), 6.08(dd, 1H), 6.12(dd, 2H), 6.37(dd, 1H), 6.40(dd, 2H), 6.84-6.90(m, 6H), 6.95-6.98(m, 4H), 7.14(t, 1H), 7.32(t, 1H), 7.53(d, 1H), 7.65(d, 1H), 7.69(d, 1H), 8.34(s, 1H)ppm.

제조예 2. 중합성 액정 조성물 B의 제조

역분산 중합성 액정 화합물로서, 하기 화학식 B의 액정 화합물을 적용한 것을 제외하고는 제조예 1과 동일하게 중합성 액정 조성물 B를 제조하였다. 상기 화학식 B의 액정 화합물은 R(450)/R(550)이 약 0.81 내지 0.83 수준 정도이고, R(650)/R(550)이 약 1.01 내지 1.03 정도의 수준이다. 상기 R(450), R(550) 및 R(650)은, 상기 화학식 B의 중합성 액정 화합물을 단독으로 사용하여 형성한 위상차층에 대해서 측정한 450 nm, 550 nm 및 650 nm 파장의 광에 대한 면내 위상차이다.

[화학식 B]

상기에서 화학식 B의 화합물은, 제조예 1과 동일하게 하기 화학식 A9으로 표시되는 화합물을 얻은 후에 화학식 A9으로 표시되는 화합물의 질소 원자에 부착된 수소 원자를 2-[2-(메톡시에톡시)]에틸기로 치환하여 얻었다. 얻어진 화학식 B의 화합물의 NMR 확인 결과는 하기에 기재하였다.

¹H NMR(CDCl₃)δ 1.19-1.29(m, 4H), 1.44-1.47(m, 8H), 1.60-1.82(m, 12H), 1.90(m, 2H), 2.07(t, 4H), 2.24(d, 4H), 2.53(m, 2H), 3.30(s, 3H), 3.50(t, 2H), 3.66(t, 2H), 3.85-3.89(m, 6H), 3.93(t, 4H), 4.17(t, 4H), 4.53(t, 2H), 5.82(d, 2H), 6.13(q, 2H), 6.40(d, 2H), 6.83-6.90(m, 6H), 6.95-6.98(m, 4H), 7.14(t, 1H), 7.32(t, 1H), 7.52(t, 1H), 7.67(t, 2H), 8.33(s, 1H)ppm.

제조예 3. 중합성 액정 조성물 C의 제조

상기 제조예 1의 화학식 A의 역분산 중합성 액정 화합물과 제조예 1에서 사용한 것과 동일한 광개시제 및 자외선 흡수제로서, 최대 흡수 파장 범위가 약 380 내지 390 nm 내인 자외선 흡수제(Orient Chemical Industries社, BONASORB UA-3912)를 적용하여 중합성 액정 조성물을 제조하였다. 화학식 A의 역분산 중합성 액정 화합물, 광개시제 및 상기 자외선 흡수제를 20:1:1의 중량 비율(역분산 중합성 액정 화합물:광개시제:자외선 흡수제)로 용매(cyclopentanone) 내에서 배합하여 중합성 액정 조성물 C를 제조하였다.

제조예 4. 중합성 액정 조성물 D의 제조

화학식 A의 역분산 중합성 액정 화합물, 광개시제 및 상기 자외선 흡수제의 배합을 20:1:0.6의 중량 비율(역분산 중합성 액정 화합물:광개시제:자외선 흡수제)로 한 것을 제외하고는 제조예 3의 경우와 동일하게 중합성 액정 조성물 D를 제조하였다.

실시예 1.

제 1 위상차층의 제조

FujiFilm社의 NRT(No Retardation Triacetyl cellulose) 필름상에 광배향막을 형성하였다. 배향막은 공지의 신나메이트계열의 광배향막 형성용 조성물을 상기 NRT 필름상에 약 100 nm 정도의 두께로 도포한 후에 선편광된 자외선을 약 300 mW/cm²로 조사하여 형성하였다. 상기 배향막의 표면에 이형 처리를 한 후에 중합성 액정 조성물 A를 상기 배향막상의 이형 처리면에 약 1 ㎛ 정도의 건조 두께가 되도록 도포하고, 하부 배향막을 따라서 배향시킨 후에 자외선을 약 300 mW/cm²로 약 10초간 조사하여 제 1 위상차층을 형성하였다. 상기 제 1 위상차층의 550 nm 파장의 광에 대한 면내 위상차는 약 146.0 nm 정도였다. 상기 형성된 제 1 위상차층의 R(450)/R(550)이 약 0.85 내지 0.87 수준 정도이고, R(650)/R(550)이 약 1.01 내지 1.05 정도였다.

편광판의 제조

공지의 요오드계 PVA(poly(vinyl alcohol)) 편광자(LG화학社)의 일면에 보호 필름이 형성된 구조의 상기 보호 필름이 형성되어 있지 않은 편광자의 면에 접착제층을 통해 상기 제 1 위상차층을 부착시켰다. 이 때 제 1 위상차층을 부착시킨 후에 이형 처리면으로부터 배향막과 NRT 필름을 제거함으로써 제 1 위상차층만 편광자에 부착하였다. 그 후에 공지의 수직 배향 액정층으로서, 면내 위상차가 실질적으로 0 nm이고, 두께 방향 위상차가 대략 60 내지 90 nm의 범위 내의 수준인 수직 배향 액정층을 상기 제 1 위상차층의 하부에 제 1 위상차층과 동일하게 전사 방식으로 부착하고, 그 하부에 점착제층을 형성하여 편광판을 제조하였다.

실시예 2.

제 1 위상차층의 제조

중합성 액정 조성물 A 대신 중합성 액정 조성물 B를 적용한 것을 제외하면, 실시예 1에서와 동일하게 제 1 위상차층을 형성하였다. 상기 제 1 위상차층의 550 nm 파장의 광에 대한 면내 위상차는 약 144.5 nm 정도였다. 상기 형성된 제 1 위상차층의 R(450)/R(550)이 약 0.82 내지 0.85 수준 정도이고, R(650)/R(550)이 약 1.01 내지 1.05 정도였다.

편광판의 제조

상기 제조된 위상차층을 사용하여 실시예 1과 동일하게 편광판을 제조하였다.

비교예 1.

위상차층의 제조

중합성 액정 조성물 A 대신 중합성 액정 조성물 C를 적용한 것을 제외하면, 실시예 1에서와 동일하게 제 1 위상차층을 형성하였다. 상기 제조된 제 1 위상차층의 550 nm 파장의 광에 대한 면내 위상차는 약 131.7 nm 정도였다. 상기 형성된 제 1 위상차층의 R(450)/R(550)이 약 0.84 내지 0.86 수준 정도이고, R(650)/R(550)이 약 1.01 내지 1.03 수준 정도였다.

편광판의 제조

상기 제조된 제 1 위상차층을 사용하여 실시예 1과 동일하게 편광판을 제조하였다.

비교예 2.

위상차층의 제조

중합성 액정 조성물 A 대신 중합성 액정 조성물 D를 적용한 것을 제외하면, 실시예 1에서와 동일하게 제 1 위상차층을 형성하였다. 상기 위상차층의 550 nm 파장의 광에 대한 면내 위상차는 약 140.7 nm 정도였다. 상기 형성된 제 1 위상차층의 R(450)/R(550)이 약 0.81 내지 0.83 수준 정도이고, R(650)/R(550)이 약 1.01 내지 1.03 수준 정도였다.

편광판의 제조

평가 1. 자외선 흡수 특성의 비교.

실시예 및 비교예에서 제조된 각 제 1 위상차층에 대해서 자외선 흡수 특성을 비교하였다. 자외선 흡수 특성은 300 nm 이상의 파장 영역에서 흡수 피크를 나타내지 않는 NRT 필름(385 nm에 대한 투과율: 90.8%, 390 nm에 대한 투과율: 91.1%, 395 nm에 대한 투과율: 91.2% 또는 400 nm에 대한 투과율: 91.4%)기재상에 각 실시예 및 비교예에 나타난 방법으로 배향막과 액정층(제 1 위상차층)을 순차로 형성한 시편에 대해서 N&K UV Spectrometer(HP社)를 사용하여 파장별로 평가하였다. 도 6 및 7은, 각각 실시예 1에 대한 측정 결과이고, 도 8 및 9는 각각 비교예 1 및 2에 대한 측정 결과이다. 구체적인 파장별 투과율은 하기 표 1에 정리하였다.

	투과율(단위: %)
	385nm	390nm	395nm	400nm
실시예1	1.7	3.7	10.4	27.0
실시예2	1.7	3.8	10.5	27.2
비교예1	0.5	0.9	2.6	7.0
비교예2	0.7	1.6	4.3	11.6

표 1로부터 본 출원에 의해서 자외선 흡수제를 적용하지 않고도 우수한 자외선 차단 특성을 확보할 수 있는 것을 확인할 수 있다.

평가 2. 내구성 평가.

실시예 및 비교예에서 제조된 각 제 1 위상차층에 대해서 내구성을 평가하였다. 내구성은, 실시예 및 비교예에서 제조된 각 제 1 위상차층을 약 85°C의 조건(내구 조건)에서 250 시간 동안 유지한 후, 상기 조건에서 유지하기 전의 면내 위상차(550 nm 파장 기준)와 유지 후의 면내 위상차(550 nm 파장 기준)를 비교하여 평가하였다. 도 10 및 11은, 각각 실시예 1에 대한 측정 결과이고, 도 12 및 13은 각각 비교예 1 및 2에 대한 측정 결과이다.

	면내 위상차(550 nm 파장 기준)
	내구조건 유지 전	내구조건 유지 후	변화량
실시예1	146.0nm	123.8nm	-15.2%
실시예2	144.5nm	123.8nm	-14.8%
비교예1	131.7nm	101.7nm	-22.8%
비교예2	140.7nm	113.6nm	-19.3%

표 2의 결과에 의해서 본 출원에 따른 위상차층의 경우에는 자외선 흡수제 내지 광안정제를 사용하지 않고도 우수한 자외선 흡수능을 가지고, 또한 그 결과 내구성 측면에서도 우수한 결과를 나타내는 점을 확인할 수 있다.

Claims

편광자;

상기 편광자의 하부에 위치하고, 정분산 중합성 액정 화합물의 중합 단위 및 역분산 중합성 액정 화합물의 중합 단위를 포함하고, 385 nm 파장의 광에 대한 투과율이 3% 이하인 자외선 흡수성을 가지는 제 1 위상차층; 및

상기 제 1 위상차층의 하부에 위치하는 제 2 위상차층을 포함하는 편광판.
제 1 항에 있어서, 제 1 위상차층은, 하기 수식 A에 따른 위상차 변화율의 절대값이 17% 이하인 편광판:

[수식 A]

위상차 변화율 = 100 × (Ra - Ri)/Ri

수식 A에서 Ri는 상기 위상차층의 550 nm 파장에 대한 초기 면내 위상차이며, Ra는 내구 조건 후의 상기 상기 위상차층의 550 nm 파장에 대한 면내 위상차이고, 상기 내구 조건은 상기 위상차층을 85°C의 온도에서 50 시간 이상 방치하는 조건이다.
제 1 항에 있어서, 제 1 위상차층은, 자외선 흡수제를 포함하지 않는 편광판.
제 1 항에 있어서, 역분산 중합성 액정 화합물은, 하기 화학식 1로 표시되는 편광판:

[화학식 1]

화학식 1에 R₁은, 하기 화학식 2 또는 화학식 3의 치환기이고, R₂ 내지 R₆는 각각 독립적으로 수소, 알킬기, 알콕시기, 시아노기, 하기 화학식 4의 치환기 또는 하기 화학식 5의 치환기이다. 또한, 상기에서 R₂ 내지 R₆ 중 적어도 2개 이상 또는 2개는 하기 화학식 4의 치환기 또는 하기 화학식 5의 치환기이다:

[화학식 2]

화학식 2에서 A₁ 및 A₂는 각각 독립적으로 산소 원자 또는 단일 결합이고, L₁ 및 L₂는 각각 독립적으로 -C(=O)-O-, -O-C(=O)- 또는 알킬렌기이며, Cyc는 아릴렌기 또는 사이클로알킬렌기이고, P는 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기이다:

[화학식 3]

화학식 3에서 L₃ 및 L₄는 각각 알킬렌기이고, n은 1 내지 4의 범위 내의 수이며, P는 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기 또는 수소 원자이다:

[화학식 4]

화학식 4에서 A₃ 및 A₄는, 산소 원자, 알킬렌기 또는 단일 결합이고, L₅ 및 L₆는 각각 독립적으로 -C(=O)-O-, -O-C(=O)- 또는 알킬렌기이며, Cyc는 아릴렌기이고, P는 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기이다:

[화학식 5]

화학식 5에서 A₅, A₆, A₇은 각각 독립적으로 산소 원자 또는 단일 결합이고, L₇, L₈ 및 L₉은 각각 독립적으로 -C(=O)-O-, -O-C(=O)- 또는 알킬렌기이며, Cy1은 사이클로알킬렌기이고, Cy2는 아릴렌기이며, P는 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기이다.
제 4 항에 있어서, 정분산 중합성 액정 화합물은, 하기 화학식 6으로 표시되는 편광판:

[화학식 6]

화학식 6에서 A는 단일 결합, -C(=O)O- 또는 -OC(=O)-이고, R₁ 내지 R₁₀은, 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 알킬기, 알콕시기, 알콕시카보닐기, 시아노기, 니트로기 또는 하기 화학식 7의 치환기이거나, R₁ 내지 R₅ 중 이웃하는 2개의 치환기 또는 R₆ 내지 R₁₀ 중 이웃하는 2개의 치환기는 서로 결합되어서 -L-A-P로 치환된 벤젠 고리를 구성하고, 상기 L은, -C(=O)O-, -OC(=O)- 또는 -OC(=O)O-이고, A는 알킬렌기이며, P는 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기이다:

[화학식 7]

화학식 7에서 B는 단일 결합, -C(=O)O- 또는 -OC(=O)-이고, R₁₁ 내지 R₁₅는, 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 알킬기, 알콕시기, 알콕시카보닐기, 시아노기, 니트로기 또는 -L-A-P이거나, R₁₁ 내지 R₁₅ 중 이웃하는 2개의 치환기는 서로 결합되어서 -L-A-P로 치환된 벤젠 고리를 구성하고, 상기 L은, -C(=O)O-, -OC(=O)- 또는 -OC(=O)O-이고, A는 알킬렌기이며, P는 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기이다.
제 1 항에 있어서, 제 2 위상차층은, 수직 배향된 중합성 액정 화합물의 중합 단위를 가지는 수직 배향 액정층인 편광판.
제 6 항에 있어서, 수직 배향된 중합성 액정 화합물은 역파장 중합성 액정 화합물인 편광판.
제 1 항에 있어서, 편광자와 제 1 위상차층의 사이에 등방성 필름을 추가로 포함하는 편광판.
제 1 항에 있어서, 편광자와 제 1 위상차층의 사이에 경화 수지층을 추가로 포함하는 편광판.
제 1 항에 있어서, 제 1 위상차층은 편광자에 직접 부착되어 있는 편광판.
제 1 항에 있어서, 제 2 위상차층의 하부에 점착제층을 추가로 포함하는 편광판.
제 1 항에 있어서, 편광자의 상부에 보호 필름을 추가로 포함하는 편광판.
제 1 항의 편광판을 포함하는 디스플레이 장치.