WO2020090631A1 - 積層体およびその製造方法、ならびにプリント配線板の製造方法 - Google Patents

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WO2020090631A1
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film
release sheet
support
main surface
circuit
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PCT/JP2019/041789
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伊藤 卓
直樹 福島
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株式会社カネカ
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    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B3/00Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form
    • B32B3/02Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by features of form at particular places, e.g. in edge regions
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04Interconnection of layers
    • B32B7/06Interconnection of layers permitting easy separation
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits

Definitions

  • the present invention relates to a laminate, a method for producing the same, and a method for producing a printed wiring board using the laminate.
  • Printed wiring boards having a circuit made of a metal conductor on an insulating substrate are roughly classified into rigid printed wiring boards and flexible printed wiring boards.
  • a flexible printed wiring board is mainly used for the purpose of flexibly storing a board inside an electronic device by utilizing its flexibility.
  • a rigid printed wiring board In the printed wiring board manufacturing process, various chemicals are used in the formation of the metal conductor layer by wet plating, patterning of the metal conductor layer by wet etching, resist development, desmear treatment, etc.
  • processing is performed in a batch method using a sheet-shaped rigid base material. Since a flexible printed wiring board uses a flexible base material, its manufacturing process is often carried out by a so-called roll-to-roll process. The processing accuracy is low compared to the plate manufacturing process. For example, in a semiconductor package substrate classified as a rigid printed wiring board, the circuit wiring is becoming narrower in pitch and a printed wiring board having a circuit width (line / space) of 10 ⁇ m or less is mass-produced. The flexible printed wiring board having a small circuit width is about 20 ⁇ m.
  • a flexible laminated film substrate is laminated on a rigid support such as a glass plate to form a rigid laminated body, and A process has been proposed in which after performing processing such as printing or element formation on a flexible film base material, the flexible film base material is peeled from the support (for example, Patent Document 1).
  • a laminate obtained by laminating a flexible film base material on a rigid support is applicable to a batch type process using a rigid substrate, and is therefore a flexible film. It is considered possible to form a printed wiring board having a circuit with a pitch as narrow as that of the rigid printed wiring board on the base material.
  • the chemicals since various chemicals are used in the manufacturing process of the printed wiring board, the chemicals may infiltrate into the laminated interface between the support and the flexible film base material to cause undesired peeling. Further, if the adhesive or pressure-sensitive adhesive provided on the stacking interface is dissolved in the chemical liquid, it may cause contamination.
  • a support and a flexible film substrate are more firmly bonded to each other using a photo-curable or thermosetting adhesive material, and then bonded to the laminated interface. It is possible to prevent the infiltration of the chemical liquid and the dissolution of the adhesive material into the chemical liquid.
  • a curable adhesive material it becomes difficult to peel the processed flexible film substrate from the support, or the adhesive material remains on the surface of the flexible film, causing contamination. May be.
  • the laminated body of the present invention includes a release sheet and a flexible film-shaped substrate, which are laminated in this order on the first main surface of a rigid support.
  • the film-shaped substrate includes a flexible insulating resin film such as a polyimide film.
  • the film-shaped substrate may be made of an insulating resin film, or may be provided with a metal conductor layer on at least one main surface of the insulating resin film.
  • the outer periphery of the support and the outer periphery of the film-shaped substrate are projected outward from the outer periphery of the release sheet, and the support and the film-shaped substrate projected outward from the outer periphery of the release sheet. The material is adhered.
  • the outer periphery of the film-shaped base material may project outside the outer periphery of the support.
  • the release sheet may be provided with an opening, and the first main surface of the support and the second main surface of the film-shaped substrate may be adhered to each other at the portion where the opening is provided in the release sheet. Good.
  • the above-mentioned laminated body can be obtained, for example, by hot pressing a laminated body in which a release sheet and a film-shaped base material are sequentially arranged on the first main surface of a support.
  • the support and the film-shaped base material that stick out to the outside of the outer periphery of the release sheet are bonded to each other.
  • the support is a prepreg
  • the impregnated resin of the prepreg exhibits adhesiveness by being heated and cured.
  • the first circuit is formed on the first main surface of the insulating resin film of the laminate.
  • the first circuit is formed by etching the metal conductor layer provided on the first main surface of the insulating resin film.
  • the first circuit may be formed by pattern plating.
  • a metal conductor layer may be formed on the first main surface of the insulating resin film by wet or dry electroless plating or the like.
  • the insulating resin film is separated from the support and the release sheet.
  • the insulating resin film is separated by cutting the outer peripheral edge portion where the support body and the film-shaped base material are adhered from the laminate.
  • An insulating layer may be provided to cover the first main surface of the insulating resin film and the first circuit formed thereon, and the second circuit may be formed on the insulating layer to form a multilayer structure. Multilayering may be performed before separating the insulating resin film from the laminate, or multilayering may be performed after separating the insulating resin film from the laminate. After separating the insulating resin film from the laminate, the third circuit may be formed on the second main surface of the insulating resin film.
  • the film-like base material is laminated on a rigid support via a release sheet, so it has rigidity, so it can be applied to equipment that handles rigid base materials such as manufacturing equipment for rigid printed wiring boards. Is. Therefore, it becomes possible to manufacture a printed wiring board based on a film-shaped substrate such as a flex-rigid wiring board.
  • the support and the film-like base material are adhered, so it is possible to prevent chemicals from entering the lamination interface of the release sheet in the manufacturing process of the printed wiring board. Therefore, it is possible to prevent peeling of the film-shaped substrate and contamination of the manufacturing process during the process of forming a circuit.
  • the film-shaped substrate can be easily separated from the laminate by cutting the outer peripheral edge of the laminate at an arbitrary stage after the circuit is formed.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view of a laminated body 100 according to one embodiment
  • FIG. 2 is a plan view thereof.
  • the release sheet 21 and the film-shaped substrate 11 are sequentially laminated on one main surface of the support 30.
  • the release sheet 21 is one size smaller than the support 30 and the film-shaped substrate 11, and the outer peripheral edge 3 of the support 30 and the outer peripheral edge 1 of the film-shaped substrate 11 are the outer periphery of the release sheet 21. It projects outward from the end 2.
  • the film-shaped substrate 11 is laminated on the support 30 via the release sheet 21 in the region 7 in the center of the plane of the laminate. In the region 8 outside the outer peripheral edge 2 of the release sheet 21, the support 30 and the film-shaped substrate 11 are in contact with each other, and both are bonded.
  • the support 30 has a rigidity that can be handled by a rigid printed wiring board manufacturing apparatus. Further, the support 30 is required to have heat resistance and chemical resistance to be applied to the manufacturing process of the printed wiring board. Specific examples of the support 30 include a glass plate, a resin sheet, and a prepreg.
  • the prepreg is a fibrous reinforcing material such as a non-woven fabric or a cloth made of glass fiber, carbon fiber, synthetic fiber or the like, which is impregnated with a thermosetting resin, a thermoplastic resin or the like to have rigidity.
  • the thickness of the support 30 is not particularly limited as long as it has rigidity. When the support 30 is a prepreg, the thickness is preferably 30 ⁇ m or more, and more preferably 80 ⁇ m or more in order to have sufficient rigidity.
  • the support 30 needs to have a function of adhering to the film-shaped substrate 11 in the outer peripheral region 8.
  • an appropriate adhesive layer may be formed on the entire surface or the peripheral area of the substrate so as to have adhesiveness to the film substrate 11.
  • Prepregs can be preferably used as the support 30 because they have a track record of being generally used in the production of printed wiring boards and are highly durable in the process, availability, and price.
  • a semi-cured prepreg can be used as the prepreg. Since the resin component of the semi-cured prepreg is cured by heating, the semi-cured prepreg exhibits adhesiveness to the film-shaped substrate 11 when laminated by heating with a hot press or the like.
  • the film-shaped substrate 11 is flexible and includes a flexible insulating resin film which is a substrate material of a printed wiring board.
  • the film-shaped substrate 11 may be a single insulating resin film, or may be provided with a metal conductor layer for forming a circuit on one side or both sides of the insulating resin film. After laminating the insulating resin film on the support 30 via the release sheet 21, a metal conductor layer may be formed on the insulating resin film by electroless plating or the like.
  • the insulating resin film has high adhesion to a conductor layer for forming a circuit and has excellent heat resistance and chemical resistance.
  • the resin material of the insulating resin film include polyimide, liquid crystal polymer, polyamide, polyethylene terephthalate (PET), polyphenylene sulfide (PPS), and the like.
  • a polyimide film is preferably used as the insulating resin film because it has excellent heat resistance and chemical resistance and a small coefficient of linear thermal expansion.
  • the insulating resin film may have an adhesion layer for increasing adhesion with a conductor layer such as a metal foil or a plating layer.
  • a thermoplastic resin layer may be provided as an adhesion layer on one side or both sides of the high heat-resistant (non-thermoplastic) resin layer serving as the core.
  • the thickness of the insulating resin film is not particularly limited as long as it has flexibility.
  • the thickness of the insulating resin film is, for example, about 3 to 150 ⁇ m, may be 5 to 100 ⁇ m, and may be 75 ⁇ m or less, 50 ⁇ m or less, 30 ⁇ m or less, or 20 ⁇ m or less.
  • the smaller the thickness of the flexible film the more difficult it is to handle as a single unit.
  • the laminate 100 is formed by laminating the film-shaped substrate 11 together with the rigid support 30 and the release sheet 21. Therefore, the laminated body 100 has rigidity. Therefore, even when the thickness of the insulating resin film of the film-shaped substrate 11 is small, handling is easy.
  • the conductor layer provided on the surface of the insulating resin film is used for forming a circuit by patterning.
  • the material of the conductor layer include metals such as Ni, Cr, Ti, Al, Zn, Sn, Cu, Ag and Cu, and alloys containing these. Of these, copper or copper alloy is preferable.
  • a film-like substrate having a copper layer (or a copper alloy layer) as a conductor layer on the surface of an insulating resin film a 3-layer flexible copper-clad laminate, a laminate 2-layer type flexible copper-clad laminate, a cast 2-layer flexible Examples thereof include a copper clad laminate and a PVD type flexible copper clad laminate.
  • the thickness of the conductor layer is not particularly limited and may be appropriately selected according to the specifications of the printed wiring board to be manufactured. When forming a fine circuit, the thickness of the conductor layer is preferably thin. When a circuit is formed by an additive method (including a semi-additive method), the conductor layer on the insulating resin film may function as a power supply layer during electrolytic plating, and the conductor layer preferably has a thickness of 5 ⁇ m or less. When a circuit is formed by the subtractive method, the thickness of the conductor layer is generally about 10 to 100 ⁇ m.
  • the conductor layer is formed by, for example, wet or dry electroless plating.
  • wet electroless plating chemical reduction plating and displacement plating
  • dry plating such as physical vapor deposition (PVD) method and chemical vapor deposition (CVD) method is used.
  • PVD physical vapor deposition
  • CVD chemical vapor deposition
  • Electroless plating The type of electroless plating may be appropriately selected depending on the compatibility (for example, adhesion) with the insulating resin film, the specifications of the printed wiring board, and the like.
  • a copper layer is formed on an insulating resin film by the PVD method.
  • PVD methods include sputtering, vapor deposition, and ion plating.
  • a conductor layer formed by electroless plating may be used as a power feeding layer, and a conductor layer may be further formed thereon by electrolytic plating.
  • the conductor layer may be a metal foil such as a copper foil. When a copper foil is used as the conductor layer, either a rolled copper foil or an electrolytic copper foil may be used.
  • the release sheet 21 arranged between the support 30 and the film-shaped substrate 11 has heat resistance during the formation of the laminate and in the process of manufacturing a printed wiring board using the laminate, and has a film-like shape. A material that can be easily peeled from the base material 11 and does not contaminate the contact surface with the film-shaped base material 11 is used.
  • the release sheet 21 may have adhesion to the support 30 and / or the film-shaped substrate 11 as long as it does not contaminate the contact surface with the film-shaped substrate 11.
  • the thickness of the release sheet 21 is not particularly limited. When the thickness is excessively large, the step at the outer peripheral edge 1 of the release sheet 21 becomes large, the adhesiveness between the support 30 and the film-shaped substrate 11 in the outer peripheral region 8 is deteriorated, and the release sheet 21 is peeled off due to inclusion of air bubbles. Can cause Therefore, the thickness of the release sheet 21 is preferably 200 ⁇ m or less, more preferably 100 ⁇ m or less, and further preferably 50 ⁇ m or less.
  • the release sheet may have a thickness of 5 ⁇ m or more or 10 ⁇ m or more.
  • polyvinyl chloride PVC
  • polypropylene PP
  • PET polyethylene terephthalate
  • PBT polybutylene terephthalate
  • PC polycarbonate
  • PA Heat-resistant polyolefin such as polymethylpentene, polyarylate, fluorine resin (polytetrafluoroethylene (PTFE), polychlorotrifluoroethylene (PCTFE), polyvinylidene fluoride (PVDF), polyvinyl fluoride (PVF), perfluoroalkoxy fluorine) Resin (PFA), tetrafluoroethylene / hexafluoropropylene copolymer (FEP), ethylene / tetrafluoroethylene copolymer (ETFE), ethylene / chlorotrifluoroethylene copolymer (ECTFE), etc.), polyimi Etc.
  • PTFE polytetrafluoroethylene
  • PCTFE polychlorotrifluoroethylene
  • PVDF polyvinylidene
  • the release sheet 21 may have a heat-resistant adhesive layer on one side or both sides of the heat-resistant film.
  • the pressure-sensitive adhesive for the heat-resistant pressure-sensitive adhesive layer include silicone resin-based pressure-sensitive adhesives and acrylic resin-based pressure-sensitive adhesives.
  • release sheet 21 a commercially available release sheet for press working of a printed wiring board may be used.
  • release sheets having no adhesive layer made of a heat-resistant film include "TPX” manufactured by Mitsui Chemicals (product name of release sheet “Opulan”) and "Aflex” manufactured by Asahi Glass.
  • the release sheet having no adhesive layer on its surface has an advantage that the contact surface with the film-shaped substrate 11 is unlikely to be contaminated.
  • the fluorine-based resin film is excellent in heat resistance and releasability, and exhibits adhesiveness (slight adhesion) to the resin film and the conductor layer, and thus can be suitably used as a material for the release sheet.
  • release sheets having a heat-resistant adhesive layer include "Rioelm” series (LE951, LE957, etc.) manufactured by Toyochem, "KT” series (KT508ZZ, etc., polyester base material) and “KY” series manufactured by Kawamura Sangyo ( Examples include KY5010 and other polyimide base materials), Okamoto polyimide film adhesive tapes (1030, 1030S, etc.), polyester film adhesive tapes (2034, 2230GX), and the like.
  • the release sheet 21 and the film-shaped substrate 11 are arranged on one main surface of the support 30 and the laminate is integrated to form the laminate 100.
  • the conductor layer is arranged so that the conductor layer is on the outside (the surface opposite to the release sheet 21).
  • the outer peripheral edge 3 of the support 30 and the outer peripheral edge 1 of the film-shaped base material 11 are both projected to the outside of the outer peripheral edge 2 of the release sheet 21.
  • the release sheet 21 is cut into a size slightly smaller than the support 30, and the film-shaped substrate 11 is cut into a size larger than the release sheet 21 to have a frame shape.
  • Positioning may be performed so that the support 30 and the film-shaped substrate 11 are bonded to each other in the outer peripheral region 8.
  • the shape of the support 30 is not limited to a rectangle, and may be a rhombus, a polygon, a circle, or the like depending on the shape of the printed wiring board.
  • the area of the support 30 is, for example, about 50 to 10,000 cm 2 , and is set according to the process specifications, the size of the printed wiring board, and the like.
  • the size of the release sheet 21 may be smaller than that of the support 30. Since the outer peripheral region 8 will not be a product in the end, it is preferable to make the width of the outer peripheral region 8 as small as possible from the viewpoint of area efficiency.
  • the width of the outer peripheral region 8 is preferably 50 mm or less, more preferably 30 mm or less, and further preferably 20 mm or less.
  • the width of the outer peripheral region 8 is preferably 1 mm or more, more preferably 3 mm or more, and further preferably 5 mm or more, from the viewpoint of securing the adhesiveness between the support 30 and the film-shaped substrate 11 by the outer peripheral region 8.
  • the area of the release sheet 21 is preferably 0.6 times or more, more preferably 0.8 times or more, and further preferably 0.9 times or more of the area of the support 30.
  • the size of the film-shaped substrate 11 may be larger than that of the release sheet 21.
  • the area of the film-shaped substrate 11 is preferably 1.8 times or less, and 1.4 times or less the area of the release sheet 21. It is more preferably 1.1 times or less.
  • the support 30 and the film are provided outside the outer peripheral edge of the release sheet 21. It is preferable to secure the width of the outer peripheral region 8 on which the substrate 11 is overhanging.
  • the protruding amount of the film-shaped substrate 11 from the outer peripheral edge of the release sheet 21 is preferably 1 mm or more, more preferably 3 mm or more, and further preferably 5 mm or more.
  • either one of the support 30 and the film-shaped substrate 11 may have a larger size.
  • the sizes of both may be the same.
  • the adhesive layer of the support 30 or the resin material for example, a melt or softened material of the impregnated resin of the prepreg
  • the outer peripheral edge 1 of the film-shaped substrate 11 projects outwardly beyond the outer peripheral edge 3 of the support 30, as shown in FIG.
  • the width of the region 9 in which the film-shaped substrate 11 projects to the outside of the outer peripheral edge 3 of the support 30 is preferably 1 mm or more, more preferably 3 mm or more, and further preferably 5 mm or more.
  • the amount of protrusion of the film-shaped base material 11 (width of the region 9) from the outer periphery of the support 30 is excessively large, the material loss of the film-shaped base material becomes large, which may cause a cost increase.
  • the amount of protrusion of the film-shaped substrate is large, it may hinder the handling of the laminate. Therefore, the amount of protrusion of the film-shaped substrate 11 is preferably 50 mm or less, more preferably 30 mm or less, and further preferably 15 mm or less.
  • the area of the film-shaped substrate 11 is preferably 1.3 times or less, more preferably 1.2 times or less, and further preferably 1.1 times or less that of the support 30.
  • the support 30 and the film-shaped substrate having a size larger than that of the release sheet 21 are prepared, and the support 30 and the film-shaped substrate 11 are provided in the region 8 outside the outer peripheral edge of the release sheet. Are arranged so as to be bonded to each other, and laminated and integrated. Positioning holes may be preliminarily formed in each of the support 30, the release sheet 21, and the film-shaped base material 11, and positioning may be performed with a pin or the like.
  • the support 30, the release sheet 21, and the film-shaped substrate 11 may be subjected to surface treatment such as plasma treatment or corona treatment on one side or both sides before lamination. By performing the surface treatment, the adhesion between the layers can be improved.
  • a method such as heat pressing, vacuum pressing, roll laminating, or vacuum laminating can be applied to integrally laminate the support 30, the release sheet 21 and the film-shaped substrate 11.
  • laminating it is preferable to adopt a method capable of adhering the support 30 and the film-shaped substrate 11 in the outer peripheral region 8, and the laminating method and conditions may be selected according to the adhesive material of the support 30.
  • the support 30 is a prepreg generally used for manufacturing a printed wiring board
  • the support 30 and the film-shaped substrate are formed in the outer peripheral region 8 by performing hot press working at about 200 ° C. for about 1 hour. The material 11 is firmly adhered (fused).
  • the film-shaped base material 11 is adhesively fixed to the outer peripheral region 8 of the rigid support body 30, the film-shaped base material 11 is provided on the surface (the surface not in contact with the release sheet 21). It has excellent handling properties when performing processing such as patterning of conductor layers (formation of circuits) and formation of insulating layers.
  • the contact of the chemical solution with the release sheet 21 is suppressed, it is possible to prevent the heat-resistant film and the adhesive layer constituting the release sheet 21 from being corroded by the chemical solution. Therefore, in addition to being able to suppress the peeling at the lamination interface, it is possible to prevent the chemical liquid from being contaminated due to the inclusion of the dissolved material of the constituent material of the release sheet 21.
  • the release sheet 21 is disposed between the support 30 and the film-shaped substrate 11 in the region 7 in the in-plane central portion of the laminate 100, the adhesive material of the support 30 is melted or melted by hot pressing or the like. Even when softened, it does not adhere to the film-shaped substrate 11. Therefore, the release sheet 21 can be easily peeled off from the film-shaped substrate 11 after processing such as forming a circuit and forming an insulating layer in the state of the laminated body.
  • the separation In the region 7 where the mold sheet 21 is provided it is preferable that the film-shaped substrate 11 is closely laminated on the support 30.
  • the release sheet 21 has adhesiveness to the support 30 and the film-shaped substrate 11, the film-shaped substrate 11 adheres to the support 30 in the region 7 via the release sheet 21. It will be in a laminated state.
  • the release sheet 21 may be provided with the opening 5, and the support 30 and the film-shaped substrate 11 may be in contact with each other in the region where the opening 5 is provided.
  • the support 30 and the film-shaped base material 11 are in an adhered state like the outer peripheral region 8, so that the film-shaped base material 11 is fixed on the support 30 even in the region 7.
  • the handling property during processing can be improved.
  • the release sheet 21 is opened through the opening 5. It is useful to bring the support 30 and the film-shaped substrate into an adhesive state.
  • the shape and size of the opening, the number of openings, and the like are not particularly limited.
  • the size of the opening 5 is large, the adhesion area between the support 30 and the film-shaped substrate 11 is large, and thus it is difficult to separate the film-shaped substrate 11 from the laminate after processing such as circuit formation. May be Therefore, the area of one opening, preferably 1000 mm 2 or less, more preferably 500 mm 2 or less, more preferably 300 mm 2 or less, or may be 100 mm 2 or less or 50 mm 2 or less.
  • the area of one opening is preferably 1 mm 2 or more, more preferably 5 mm 2 or more.
  • the area ratio (opening ratio) of the opening forming portion in the release sheet 21 is preferably 10% or less, more preferably 5% or less, still more preferably 3% or less.
  • the aperture ratio may be 0.1% or more, 0.3% or more, or 0.5% or more.
  • the release sheet 21 and the film base material 11 are laminated on one main surface of the support 30, and the release sheet 22 and the film are formed on the other main surface of the support 30.
  • the base material 12 may be laminated.
  • the release sheet 21 and the film-shaped substrate 11 are laminated on one main surface of the support 30, and the protective sheet 42 is laminated on the other surface of the support 30 so as to cover the entire surface of the support 30. May be.
  • the protective sheet 42 may project outward from the outer peripheral edge of the support 30.
  • one main surface of the support 30 is covered with the film-shaped base material 11 and the other main surface is covered with the protective sheet 42. Therefore, a material having adhesiveness such as prepreg is used as the support. Even when used, the contamination of the process can be prevented.
  • the protective sheet 42 one having excellent heat resistance and chemical resistance and capable of adhering to the support 30 is used.
  • the protective sheet 42 may have rigidity or flexibility.
  • Examples of the material of the protective sheet 42 include glass and resin materials.
  • As the resin material those exemplified as the material of the insulating resin film of the film-shaped substrate 11 and the material of the heat-resistant resin film of the release sheet 21 are preferably used.
  • the laminate described above can be applied to the manufacture of a printed wiring board including a circuit made of a metal conductor patterned on one main surface or both main surfaces of an insulating resin film included in a film-shaped substrate.
  • Examples of the printed wiring board having a circuit provided on the main surface of the insulating resin film include a multilayer printed wiring board, a flex-rigid wiring board, a single-sided flexible printed board, and a double-sided flexible printed board.
  • a circuit is formed on the insulating resin film of the film-shaped substrate (first circuit forming process).
  • the film-shaped substrate 11 is laminated on the rigid support 30 via the release sheet 21, and thus has rigidity, so that a circuit can be formed using an apparatus that handles the rigid substrate. Therefore, it is possible to form a narrow pitch circuit equivalent to the circuit of the rigid printed wiring board on the main surface of the flexible insulating resin film.
  • the film-shaped substrate 11 (the insulating resin film provided with the circuit) is separated from the support 30 and the release sheet 21 (separation step).
  • the conductor layer of the film-shaped substrate is used to form a circuit by a subtractive method, an additive method, or the like.
  • a conductor layer may be further formed on the conductor layer provided in advance on the film-shaped substrate 11 by electrolytic plating or the like.
  • the film-shaped substrate 11 is made of an insulating resin film and has no conductor layer, a conductor layer is formed on the main surface of the insulating resin film, and a circuit is formed by a subtractive method, an additive method, or the like.
  • Conductor layer forming step> When the conductor layer is not provided on the first main surface (the main surface opposite to the release sheet 21) of the film-shaped substrate 11, the conductor layer is formed on the insulating resin film by electroless plating.
  • the conductor layer may be provided by bonding a metal foil such as a copper foil to the insulating resin film.
  • the film-shaped substrate 11 has a conductor layer, it is not necessary to form the conductor layer, but even if the conductor layer is formed by electrolytic plating or the like on the conductor layer previously provided on the insulating resin film. Good.
  • a metal may be deposited on the wall surface of the hole to form a conductor. After perforating the film-shaped substrate, desmear treatment may be performed if necessary.
  • the electroless plating includes wet electroless plating, sputtering, vapor deposition, ion plating, CVD and the like.
  • the type of electroless plating may be appropriately selected in view of compatibility with the film-shaped substrate, specifications of the printed wiring board, and the like.
  • wet electroless copper plating is preferable.
  • the metal species to be deposited by electrolytic plating include copper, gold, silver, zinc, nickel, chromium, various alloys (for example, solder, tin-silver, tin-zinc, etc.). Copper is generally used in the production of printed wiring boards and can be preferably used.
  • the thickness of the conductor layer is not particularly limited and is set according to the specifications of the printed wiring board and the like.
  • a circuit is formed on the insulating resin film by utilizing the conductor layer previously provided on the film-shaped substrate 11 or the conductor layer formed in the conductor layer forming step.
  • a circuit is formed by selectively covering a portion to be a circuit with an etching resist and dissolving the conductor layer in a region not covered with the etching resist with a chemical solution (etching solution) (subtractive method).
  • etching solution chemical solution
  • the part that will be the circuit non-formation part (space between circuits) is selectively covered with plating resist, pattern plating is performed by electrolytic plating using the conductor layer as the power supply layer, and then the resist is peeled off and exposed.
  • the method of forming the circuit may be appropriately selected according to the specifications of the printed wiring board to be manufactured.
  • a conductor layer by a wet method such as wet electroless plating or electrolytic plating, development at the time of patterning a resist, patterning of a conductor layer by etching, peeling of an etching resist, etching of a power supply layer after pattern plating Etc., various chemical solutions are used.
  • these chemicals enter the lamination interface between the film-shaped substrate and the release sheet, the film-shaped substrate may peel from the laminate.
  • the release sheet is provided with the pressure-sensitive adhesive layer, the chemical liquid may be contaminated due to the mixing of the pressure-sensitive adhesive dissolved in the chemical liquid.
  • the support 30 and the film-shaped substrate 11 are bonded to each other on the outer periphery of the release sheet 21, and the outer peripheral end (end surface) 2 of the release sheet 21 is not exposed. Therefore, infiltration of the chemical solution into the end surface of the release sheet 21 and the laminated interface between the release sheet 21 and the film-like substrate 11 is suppressed, and the film-like substrate is peeled off or the process is contaminated during the process such as circuit formation. Can be prevented.
  • the film-shaped substrate 11 (the insulating resin film provided with the circuit) is separated from the laminate.
  • the film-shaped substrate 11 and the support 30 can be separated by cutting off the region 8 of the outer peripheral edge portion where they are adhered.
  • the outer peripheral edge portion is cut off by cutting the laminated body along line C1, line C2, line C3, and line C4 in FIG.
  • the cutting method may be appropriately selected according to the material of the support 30 and the film-shaped substrate 11, and the like, and router processing, die processing (punching) and the like are applicable.
  • the film-shaped substrate may be cut by performing a half cut along the outer peripheral edge portion.
  • the film-shaped base material 11 may be peeled off from the adhesive portion between the film-shaped base material 11 and the support for separation.
  • the film-shaped substrate 11 and the release sheet 21 can be easily peeled off at the laminated interface between them, and the second main surface of the film-shaped substrate 11 caused by the release sheet 21. Contamination is unlikely to occur on the main surface opposite to the circuit formation surface.
  • a printed wiring board in which the first circuit is formed on the first main surface of the insulating resin film is obtained.
  • a second circuit may be formed by laminating another insulating layer on the first main surface of the insulating resin film on which the first circuit is formed to form a multilayer structure.
  • the third circuit may be formed on the second main surface of the film-shaped substrate (insulating resin film) after separating the film-shaped substrate from the laminate.
  • Multilayering can be performed according to a general method for manufacturing a printed wiring board. For example, an insulating layer is formed on the first main surface of the insulating resin film provided with the first circuit, a hole penetrating the insulating layer is formed, and then the second circuit is formed on the insulating layer.
  • a multilayer structure of three or more layers may be formed by repeating formation of an insulating layer on a circuit, formation of holes, and formation of a circuit.
  • insulating layer As the material of the insulating layer, a prepreg, a bonding sheet made of a thermosetting resin, an ink material of a thermosetting or photocuring resin, a thermosetting build-up film, and an adhesive on the copper layer non-forming surface of a single-sided copper clad laminate Examples thereof include a layered product provided with layers.
  • the prepreg, sheet and film materials may be laminated by hot pressing, roll laminating, vacuum laminating and the like.
  • the insulating layer may be formed by a printing method, a curtain coating method, or the like.
  • a metal foil may be laminated at the same time when the insulating layer is formed.
  • the holes are formed in the insulating layer by, for example, laser drilling or mechanical drilling.
  • the insulating layer may be perforated by plasma irradiation, chemical etching or the like.
  • holes may be formed so as to penetrate the film-shaped substrate, or holes may be formed so as to penetrate two or more insulating layers.
  • the hole After forming the hole, make the wall surface of the hole a conductor. Conducting is performed by electroless plating, for example.
  • the electroless plating may be wet plating or dry plating (PVD method or CVD method), and is appropriately selected depending on the material and thickness of the insulating layer, the specifications of the printed wiring board, and the like. In consideration of general-purpose printed wiring board manufacturing processes and facilities, wet electroless copper plating is preferable. It is also possible to print a conductive paste in the holes to make them conductive.
  • the method for providing the conductor layer for forming the second circuit on the insulating layer is not particularly limited and may be appropriately selected from electroless plating, electrolytic plating, a combination of electroless plating and electrolytic plating, and the like. Wet electroless copper plating is preferable in consideration of general-purpose printed wiring board manufacturing processes and equipment.
  • the metal When forming the conductor layer on the insulating layer, the metal may be deposited also on the wall surface of the hole provided in the insulating layer to form a conductor.
  • the conductor layer of the laminate is used. To form the second circuit.
  • the second circuit is formed on the insulating layer by utilizing the conductor layer provided on the insulating layer.
  • the method for forming the second circuit is not particularly limited, and a subtractive method, a semi-additive method, or the like can be applied as in the case of forming the first circuit.
  • the multilayer formation on the first main surface of the film-shaped substrate may be carried out either before or after the above separation step.
  • the second circuit can be formed using an apparatus that handles a rigid base material, as in the first circuit forming step.
  • a rigid material is used as the insulating layer, since the base material has rigidity even after being separated from the support body 30, even after the separation step, the base material is rigid as in the first circuit forming step described above.
  • the second circuit can be formed by using a device for handling. Separation from the support 30 and the release sheet 21 may be carried out at a stage in the middle of multilayering.
  • the separation step may be performed after the rigidity is ensured by providing a rigid insulating layer after the first main surface of the film-shaped substrate 11 and before performing the hole formation and the circuit formation.
  • the third circuit may be formed on the second main surface of the film-shaped substrate 11 after the release sheet 21 is peeled from the second main surface of the film-shaped substrate 11 by the separation step.
  • the method for forming the third circuit can be implemented by an appropriate method, similar to the method for forming the first circuit and the second circuit described above.
  • a circuit is formed by forming a conductor layer on the second main surface of the insulating resin film and patterning the conductor layer.
  • a circuit may be formed by pattern plating using the conductor layer as a power feeding layer.
  • the conductive layer may be used to form the third circuit.
  • a hole penetrating the film-shaped substrate 11 may be formed before or after the formation of the third circuit.
  • holes may be formed so as to penetrate the insulating layer in addition to the film-shaped substrate 11. After the holes are formed, they are converted into a conductor by electroless plating, printing a conductive paste, or the like.
  • the insulating layer is formed on the first main surface of the insulating resin film before the formation of the third circuit and the multi-layering is performed, the above-mentioned first circuit formation is performed because the base material has rigidity. Similar to the process, the third circuit can be formed using a device that handles a rigid substrate.
  • the film-shaped substrate 21 After separating the film-shaped substrate 11 (insulating resin film) on which the first circuit has been formed from the support 30 and the release sheet 21, the film-shaped substrate 21 is provided on the first main surface (first circuit formation surface) side.
  • Rigid supports may be laminated to form a laminate. By using this laminate, a device that handles a rigid base material can be applied to the formation of the third circuit on the second main surface as well as the formation of the first circuit on the first main surface. It is easy to narrow the pitch.
  • a release sheet is arranged between the film-shaped base material and the support, and heat is applied in a state where the film-shaped base material and the support project outward from the outer peripheral edge of the release sheet.
  • You may form a laminated body by a press etc.
  • the first circuit is formed on the first main surface by using the laminate 100 in which the second main surface of the film-shaped base material is on the support side, and the first circuit of the film-shaped base material is formed after the separation step. It is also possible to form a double-sided flexible printed circuit board having circuits on both sides of an insulating resin film by forming a laminate so that the main surface is on the support side and forming the third circuit on the second main surface. is there.
  • Example 1 A FR-4 prepreg “GEA-67N” (thickness 150 ⁇ m) manufactured by Hitachi Chemical was used as a support, and a 50 ⁇ m-thick polyethylene terephthalate (PET) film was provided with a 10 ⁇ m-thick acrylic adhesive layer on one surface as a release sheet.
  • a heat-resistant micro-adhesive film (“TOYOCHEM“ Rio Elm LE951 ”), a polyimide film having thermoplastic polyimide adhesive layers on both sides of a polyimide core layer as a film-like substrate and a total thickness of 25 ⁇ m (Kaneka“ Pixio FRS25 ”).
  • a double-sided copper-clad laminate obtained by thermally laminating an electrolytic copper foil "HD2" was used.
  • the support is cut out to a size of 120 mm ⁇ 120 mm
  • the release sheet is cut to a size of 100 mm ⁇ 100 mm
  • the film-shaped substrate is cut out to a size of 140 mm ⁇ 140 mm
  • the support is projected from the outer periphery of the release sheet with a width of 10 mm to release the film-shaped substrate.
  • the positional relationship was adjusted so as to project from the outer periphery of the sheet with a width of 20 mm, and the support, the release sheet, and the film-shaped substrate were superposed in this order.
  • the release sheet was arranged so that the pressure-sensitive adhesive layer forming surface was in contact with the film-shaped substrate.
  • lamination press was performed under the conditions of 180 ° C./3 MPa / 60 minutes to obtain a laminate.
  • the obtained laminate has the release sheet and the film-shaped substrate in close contact with each other in the region where the release sheet is arranged, and the film-shaped substrate is fixed on the support through the release sheet.
  • the laminate was rigid enough to be handled by a manufacturing apparatus for rigid printed wiring boards. In the frame-shaped region having a width of 10 mm on the outer periphery of the release sheet, the support and the film-like base material were firmly bonded.
  • Example 2 A laminate was formed in the same manner as in Example 1 except that the release sheet was changed to a fluororesin film having a thickness of 25 ⁇ m (“Aflex 25N NT” manufactured by Asahi Glass), and desmear treatment and wet electroless copper plating treatment were performed. went. Also in Example 2, as in Example 1, a copper plating film was formed on the copper foil of the film-shaped substrate, the outer periphery of the laminate was not corroded by the chemical liquid, and defects such as peeling between layers were caused. I could't see it.
  • Example 1 A laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the size of the release sheet was changed to 120 mm ⁇ 120 mm (the same size as the support) and the release sheet was placed so as to cover the entire surface of the support. Formed. In the obtained laminate, the release sheet was firmly adhered to the entire surface of the support, and the release sheet and the film-shaped substrate were in close contact with each other. When the desmear treatment and the wet electroless copper plating treatment were performed using this laminate in the same manner as in Example 1, the adhesive of the release sheet was attacked by the chemical liquid in the outer periphery of the release sheet and in the vicinity of the outer periphery, The film-shaped substrate was peeled off from the release sheet. In this example, it is conceivable that contamination of the chemical liquid occurred due to mixing of the pressure-sensitive adhesive that had been impregnated with the chemical liquid into the chemical liquid.
  • Example 2 A laminate was prepared in the same manner as in Example 2 except that the size of the release sheet was changed to 120 mm ⁇ 120 mm (the same size as the support) and the release sheet was placed so as to cover the entire surface of the support. Formed. In the obtained laminate, the release sheet was firmly adhered to the entire surface of the support, but the adhesion between the release sheet and the copper foil of the film-shaped substrate was not sufficient. When the desmear treatment and the wet electroless copper plating treatment were performed using this laminate in the same manner as in Examples 1 and 2, peeling occurred from the surroundings. It is considered that this is due to the fact that the chemical liquid penetrated into the interface between the release sheet and the film-shaped substrate.
  • the size of the support (prepreg) and the film-shaped substrate (copper-clad laminate) is larger than the size of the release sheet, and the support and the film-shaped in the outer peripheral frame-like region. It can be seen that by using the laminate in which the base material is adhered, infiltration of the chemical liquid into the lamination interface in the manufacturing process of the printed wiring board is blocked, and peeling of the interface and contamination of the chemical liquid can be prevented.

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Abstract

積層体(100)は、剛性の支持体(30)の第一主面上に、順に積層された離型シート(21)および可撓性のフィルム状基材(11)を備える。フィルム状基材は、可撓性の絶縁樹脂フィルムを含み、絶縁樹脂フィルムの主面上に金属導体層を備えるものであってもよい。支持体の外周は離型シートの外周よりも外側に張り出しており、フィルム状基材の外周は、離型シートの外周よりも外側に張り出している。離型シートの外周よりも外側の領域(8)において、支持体とフィルム状基材とが接着されている。

Description

積層体およびその製造方法、ならびにプリント配線板の製造方法
 本発明は、積層体およびその製造方法、ならびに当該積層体を用いたプリント配線板の製造方法に関する。
 絶縁基板上に金属導体からなる回路を備えるプリント配線板は、リジッドプリント配線板とフレキシブルプリント配線板に大別される。フレキシブルプリント配線板は、柔軟性を活かし、電子機器の内部に基板をコンパクト折り曲げて収納する用途で主に使用されている。
 プリント配線板の製造工程では、湿式めっきによる金属導体層の形成、ウェットエッチングによる金属導体層のパターニング、レジストの現像、デスミア処理等において、種々の薬液が用いられる。リジッドプリント配線板の製造工程では、シート状の剛性基材を用いてバッチ式で加工が行われる。フレキシブルプリント配線板は可撓性の基材を用いるため、その製造工程は、いわゆるロール・トゥ・ロールプロセスにより実施される場合が多く、剛性基材を用いてバッチ式で加工を行うリジットプリント配線板の製造工程に比べると、加工精度が低い。例えば、リジッドプリント配線板に分類される半導体パッケージ基板では、回路配線の狭ピッチ化が進んでおり、回路幅(ライン/スペース)が10μm以下のプリント配線板が量産されているのに対して、フレキシブルプリント配線板は、回路幅が小さいものでも20μm程度である。
 電子機器の高機能化および小型化に伴い、プリント配線板には、さらなる狭ピッチ化、およびコンパクトに電子機器内に収納するためのリジッドフレックス化が要求されている。狭ピッチのリジッドフレックス基板を製造するためには、可撓性のフィルム基材に、リジッドプリント配線板と同程度の狭ピッチ回路を形成する必要がある。
 可撓性フィルム基材上に高精度の加工を行う方法として、ガラス板等の剛性の支持体上に可撓性フィルム基材を貼り合わせて剛性の積層体を形成し、当該積層体の可撓性フィルム基材上に印刷や素子の形成等の加工を行った後に、支持体から剥離するというプロセスが提案されている(例えば特許文献1)。
特開2015-193101号公報
 特許文献1で提案されているように、剛性の支持体上に可撓性フィルム基材を貼り合わせた積層体は、剛性基板を用いるバッチ式のプロセスに適用可能であるため、可撓性フィルム基材上に、リジッドプリント配線板と同程度の狭ピッチ回路を有するプリント配線板を形成可能であると考えられる。しかし、プリント配線板の製造工程では種々の薬液が用いられるため、支持体と可撓性フィルム基材との積層界面に薬液が浸入して不所望の剥離が生じる場合がある。また、積層界面に設けられた接着剤や粘着剤が薬液に溶解すると、汚染の原因となり得る。
 接着不良や薬液への溶解による汚染を防止するために、光硬化性または熱硬化性の接着材料を用いて支持体と可撓性フィルム基材とを、より強固に貼り合わせて、積層界面への薬液の浸入や薬液への接着材料の溶解を防止することが考えられる。しかし、硬化性の接着材料を用いると、加工後の可撓性フィルム基材を支持体から剥離することが困難となったり、可撓性フィルムの表面に接着材料が残存して汚染の原因となる場合がある。
 上記に鑑み、本発明はリジッドプリント配線板の製造設備に適用可能な積層体、および当該積層体を用いたプリント配線基板の製造方法の提供を目的とする。
 本発明の積層体は、剛性の支持体の第一主面上に、順に積層された離型シートおよび可撓性のフィルム状基材を備える。フィルム状基材は、ポリイミドフィルム等の可撓性の絶縁樹脂フィルムを含む。フィルム状基材は、絶縁樹脂フィルムからなるものでもよく、絶縁樹脂フィルムの少なくとも一方の主面に金属導体層を備えるものでもよい。
 本発明の積層体では、支持体の外周およびフィルム状基材の外周が、離型シートの外周よりも外側に張り出しており、離型シートの外周よりも外側に張り出した支持体とフィルム状基材とが接着されている。
 フィルム状基材の外周は、支持体の外周よりも外側に張り出していてもよい。離型シートには開口が設けられていてもよく、支持体の第一主面とフィルム状基材の第二主面とが、離型シートに開口が設けられた部分で接着されていてもよい。
 上記の積層体は、例えば、支持体の第一主面上に、離型シートおよびフィルム状基材が順に配置された積層物を熱プレスすることにより得られる。熱プレスにより、離型シートの外周よりも外側に張り出した支持体とフィルム状基材とが接着する。例えば、支持体がプリプレグである場合は、プリプレグの含侵樹脂が加熱硬化することにより接着性を示す。
 上記の積層体は、プリント配線板の製造に適用できる。プリント配線板の製造においては、積層体の絶縁樹脂フィルムの第一主面上に第一回路を形成する。例えば、絶縁樹脂フィルムの第一主面上に設けられた金属導体層をエッチングすることにより第一回路が形成される。パターンめっきにより第一回路を形成してもよい。第一回路の形成前に、湿式または乾式の無電解めっき等により絶縁樹脂フィルムの第一主面に金属導体層を形成してもよい。
 絶縁樹脂フィルムの第一主面上に第一回路を形成した後、絶縁樹脂フィルムを、支持体および離型シートから分離する。例えば、積層体から、支持体とフィルム状基材とが接着している外周縁部を切除することにより、絶縁樹脂フィルムの分離が行われる。
 絶縁樹脂フィルムの第一主面およびその上に形成された第一回路を覆う絶縁層を設け、絶縁層上に第二回路を形成して多層化を行ってもよい。絶縁樹脂フィルムを積層体から分離する前に多層化を実施してもよく、絶縁樹脂フィルムを積層体から分離後に多層化を実施してもよい。絶縁樹脂フィルムを積層体から分離後に、絶縁樹脂フィルムの第二主面上に第三回路を形成してもよい。
 剛性の支持体上に離型シートを介してフィルム状基材が積層された積層体は剛性を有するため、リジッドプリント配線板用の製造設備等の剛性の基材を取り扱う装置への適用が可能である。そのため、フレックスリジッド配線板等のフィルム状基材をベースとするプリント配線板を製造することが可能となる。
 積層体の外周縁では、支持体とフィルム状基材とが接着しているため、プリント配線板の製造プロセスにおいて、離型シートの積層界面への薬液の浸入を防止できる。そのため、回路形成等のプロセス中でのフィルム状基材の剥離や製造工程の汚染を防止できる。回路形成後任意の段階で、積層体の外周縁の切除等により、フィルム状基材を積層体から容易に分離できる。
一実施形態にかかる積層体の模式断面図である。 一実施形態にかかる積層体の模式平面図である。 一実施形態にかかる積層体の模式断面図である。 一実施形態にかかる積層体の模式断面図である。 一実施形態にかかる積層体の模式断面図である。
[積層体の構成]
 図1は、一実施形態にかかる積層体100の断面図であり、図2は、その平面図である。積層体100では、支持体30の一方の主面上に、離型シート21およびフィルム状基材11が順に積層されている。離型シート21は、支持体30およびフィルム状基材11よりも一回り小さいサイズであり、支持体30の外周端3、およびフィルム状基材11の外周端1は、離型シート21の外周端2よりも外側に張り出している。
 積層体の面内中央の領域7では、支持体30上に、離型シート21を介してフィルム状基材11が積層されている。離型シート21の外周端2よりも外側の領域8では、支持体30とフィルム状基材11とが互いに接しており、両者は接着されている。
<支持体>
 支持体30は、リジッドプリント配線板の製造装置で取り扱い可能な剛性を有している。また、支持体30は、プリント配線板の製造工程に適用するための耐熱性および耐薬品性を有していることが求められる。支持体30の具体例としては、ガラス板、樹脂シート、プリプレグが挙げられる。プリプレグとは、ガラス繊維、炭素繊維、合成繊維等からなる不織布またはクロス等の繊維状補強材に、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂等を含侵させて剛性を持たせたものである。支持体30は、剛性を有していれば、その厚みは特に制限されない。支持体30がプリプレグである場合は、十分な剛性を持たせるために、厚みは30μm以が好ましく、80μm以上がより好ましい。
 支持体30は、外周領域8において、フィルム状基材11と接着する機能が必要である。ガラス板や樹脂シート等の接着機能がない基板材料を用いる場合、基板の全面または外周領域に、適宜の接着剤層を形成して、フィルム状基材11に対する接着性を持たせてもよい。
 プリント配線板の製造に一般に用いられている実績があり、工程中での耐久性、入手性、価格等において位性があることから、支持体30としてプリプレグが好ましく使用できる。プリプレグとしては、半硬化状態のプリプレグを用いることができる。半硬化のプリプレグは、加熱により樹脂成分が硬化するため、熱プレス等により加熱下で積層を行うことにより、フィルム状基材11に対する接着性を示す。
<フィルム状基材>
 フィルム状基材11は可撓性であり、プリント配線板の基板材料となる可撓性の絶縁樹脂フィルムを含む。フィルム状基材11は、絶縁樹脂フィルム単体でもよく、絶縁樹脂フィルムの片面または両面に、回路形成のための金属導体層を備えていてもよい。支持体30上に離型シート21を介して絶縁樹脂フィルムを積層した後、絶縁樹脂フィルム上に無電解めっき等により金属導体層を形成してもよい。
(絶縁樹脂フィルム)
 絶縁樹脂フィルムとしては、回路を形成するための導体層との密着性が高く、かつ、耐熱性および耐薬品性に優れるものが好ましい。絶縁樹脂フィルムの樹脂材料の例としては、ポリイミド、液晶ポリマー、ポリアミド、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリフェニレンスルフィド(PPS)等が挙げられる。耐熱性および耐薬品性に優れ、熱線膨張係数が小さいことから、絶縁樹脂フィルムとしてはポリイミドフィルムが好適に用いられる。
 絶縁樹脂フィルムは、金属箔やめっき層等の導体層との密着を高めるための密着層を有していてもよい。例えば、コアとなる高耐熱性(非熱可塑性)の樹脂層の片面または両面に、密着層として熱可塑性樹脂層が設けられていてもよい。
 絶縁樹脂フィルムは、可撓性を有していれば、その厚みは特に限定されない。絶縁樹脂フィルムの厚みは、例えば、3~150μm程度であり、5~100μmであってもよく、75μm以下、50μm以下、30μm以下または20μm以下であってもよい。可撓性フィルムは、厚みが小さいほど単体でのハンドリングが困難となる傾向があるが、剛性の支持体30および離型シート21とともにフィルム状基材11を積層して積層体100を形成することにより、積層体100は剛性を有する。そのため、フィルム状基材11の絶縁樹脂フィルムの厚みが小さい場合でも、ハンドリングが容易となる。
(導体層)
 絶縁樹脂フィルムの表面に設けられる導体層は、パターニングによる回路の形成に用いられる。導体層の材料としては、Ni,Cr,Ti,Al,Zn,Sn,Cu,Ag,Cu等の金属、およびこれらを含む合金が挙げられる。中でも、銅または銅合金が好ましい。絶縁樹脂フィルムの表面に導体層としての銅層(または銅合金層)を備えるフィルム状基材としては、3層フレキシブル銅張積層板、ラミネート2層タイプフレキシブル銅張積層板、キャスト2層タイプフレキシブル銅張積層板、PVDタイプフレキシブル銅張積層板等が挙げられる。
 導体層の厚みは特に限定されず、製造するプリント配線板の仕様により適宜選択すればよい。微細な回路を形成する場合、導体層の厚みは薄い方が好ましい。アディティブ法(セミアディティブ法を含む)により回路を形成する場合、絶縁樹脂フィルム上の導体層は、電解めっきの際の給電層として機能すればよく、導体層の厚みは5μm以下が好ましい。サブトラクティブ法により回路を形成する場合、導体層の厚みは一般に10~100μm程度である。
 導体層は、例えば、湿式または乾式の無電解めっきにより形成される。なお、本明細書においては、特に断りが無い限り、湿式無電解めっき(化学還元めっきおよび置換めっき)だけでなく、物理蒸着(PVD)法および化学気相蒸着(CVD)法等の乾式めっきも、「無電解めっき」に含まれるものとする。無電解めっきの種類は、絶縁樹脂フィルムとの相性(例えば密着性)、プリント配線板の仕様等に応じて適宜選択すればよい。例えば、PVDタイプフレキシブル銅張積層板では、絶縁樹脂フィルム上に、PVD法により、銅層が形成される。PVD法としては、スパッタリング、蒸着、イオンプレーティング等が挙げられる。無電解めっきにより形成した導体層を給電層として、その上にさらに電解めっきにより導体層を形成してもよい。導体層は、銅箔等の金属箔でもよい。導体層として銅箔を用いる場合、圧延銅箔および電解銅箔のいずれでもよい。
<離型シート>
 支持体30とフィルム状基材11との間に配置される離型シート21としては、積層体の形成時、および積層体を用いたプリント配線板の製造工程における耐熱性を有し、フィルム状基材11から容易に剥離可能であり、かつフィルム状基材11との接触面を汚染しないものが用いられる。離型シート21は、フィルム状基材11との接触面を汚染しないものであれば、支持体30および/またはフィルム状基材11に対する密着性を有していてもよい。
 離型シート21の厚みは特に限定されない。厚みが過度に大きい場合は、離型シート21の外周端1での段差が大きくなり、外周領域8での支持体30とフィルム状基材11との接着性の低下や、気泡の混入による剥がれの原因となり得る。そのため、離型シート21の厚みは、200μm以下が好ましく、100μm以下がより好ましく、50μm以下がさらに好ましい。離型シートの厚みは、5μm以上または10μm以上であってもよい。
 離型シート21を構成する耐熱性の樹脂材料としては、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリプロピレン(PP)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリカーボネート(PC)、ポリアミド(PA)、ポリメチルペンテン等の耐熱性ポリオレフィン、ポリアリレート、フッ素系樹脂(ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、ポリクロロトリフルオロエチレン(PCTFE)、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、ポリフッ化ビニル(PVF)、ペルフルオロアルコキシフッ素樹脂(PFA)、四フッ化エチレン・六フッ化プロピレン共重合体(FEP)、エチレン・四フッ化エチレン共重合体(ETFE)、エチレン・クロロトリフルオロエチレン共重合体(ECTFE)等)、ポリイミド等が挙げられる。
 離型シート21は、耐熱性フィルムの片面または両面に耐熱性粘着層を備えるものでもよい。耐熱性粘着層の粘着剤としては、シリコーン樹脂系粘着剤、アクリル樹脂系粘着剤等が挙げられる。
 離型シート21として、プリント配線板のプレス加工用離型シートの市販品を用いてもよい。耐熱性フィルムからなる粘着層を備えていない離型シートの市販品としては、三井化学製「TPX」(離型シートの製品名「オピュラン」)、旭硝子製「アフレックス」等が挙げられる。表面に粘着層が設けられていない離型シートは、フィルム状基材11との接触面の汚染が生じ難いとの利点を有している。特に、フッ素系樹脂フィルムは、耐熱性および離型性に優れるとともに、樹脂フィルムや導体層に対する密着性(微粘着性)を示すことから、離型シートの材料として好適に使用可能である。
 耐熱性粘着層を備える離型シートの市販品としては、東洋ケム製「リオエルム」シリーズ(LE951、LE957等)、河村産業製「KT」シリーズ(KT508ZZ等、ポリエステル基材)および「KY」シリーズ(KY5010等、ポリイミド基材)、オカモト製のポリイミドフィルム粘着テープ(1030、1030S等)およびポリエステルフィルム粘着テープ(2034、2230GX)等が挙げられる。
<積層体の形成>
 支持体30の一方の主面上に、離型シート21およびフィルム状基材11を配置し、この積層体を一体化することにより積層体100が形成される。フィルム状基材11が、絶縁樹脂フィルムの表面に導体層を有する場合は、導体層が外側(離型シート21と反対側の面)となるように配置される。
 支持体30の外周端3、およびフィルム状基材11の外周端1は、いずれも、離型シート21の外周端2よりも外側に張り出している。この状態を作るために、離型シート21は、支持体30よりも一回り小さいサイズに裁断し、フィルム状基材11は、離型シート21よりも一回り大きいサイズに裁断し、額縁状の外周領域8において支持体30とフィルム状基材11とが接着するように位置合わせを行えばよい。
 支持体30の形状は、矩形に限定されず、プリント配線板の形状等に応じて、ひし形、多角形、円形等でもよい。支持体30の面積は、例えば、50~10,000cm程度であり、工程の仕様や、プリント配線板のサイズ等に応じて設定される。
 離型シート21のサイズは、支持体30よりも小さければよい。外周領域8は最終的には製品にならないため、面積効率の観点から、外周領域8の幅はできる限り小さくすることが好ましい。外周領域8の幅は、50mm以下が好ましく、30mm以下がより好ましく、20mm以下がさらに好ましい。一方、外周領域8により、支持体30とフィルム状基材11との接着性を確保する観点から、外周領域8の幅は、1mm以上が好ましく、3mm以上がより好ましく、5mm以上がさらに好ましい。離型シート21の面積は、支持体30の面積の0.6倍以上が好ましく、0.8倍以上がより好ましく、0.9倍以上がさらに好ましい。
 フィルム状基材11のサイズは、離型シート21よりも大きければよい。フィルム状基材11の面積利用効率を高めて材料ロスを抑制する観点から、フィルム状基材11の面積は、離型シート21の面積の1.8倍以下が好ましく、1.4倍以下がより好ましく、1.1倍以下がさらに好ましい。一方で、前述のように、離型シート21の外周において、支持体30とフィルム状基材11との接着性を高める観点からは、離型シート21の外周端の外側に支持体30およびフィルム状基材11が張り出している外周領域8の幅を確保することが好ましい。離型シート21の外周端からのフィルム状基材11の張り出し量は、1mm以上が好ましく、3mm以上がより好ましく、5mm以上がさらに好ましい。
 支持体30およびフィルム状基材11の両方が、離型シート21の外周端よりも外側に張り出していれば、支持体30とフィルム状基材11は、いずれか一方のサイズが大きくてもよく、両者のサイズが同一でもよい。積層体の形成時(例えば、熱プレス)やプリント配線板の製造工程において、支持体30の接着層や樹脂材料(例えば、プリプレグの含浸樹脂の溶融物や軟化物)が積層体100の表面(フィルム状基材11の表面)に回り込んで、製品としてのプリント配線板や工程を汚染する原因となり得る。支持体30に起因する汚染を防止する観点から、図1に示すように、フィルム状基材11の外周端1が、支持体30の外周端3よりも外側に張り出していることが好ましい。
 フィルム状基材11が支持体30の外周端3の外側に張り出している領域9の幅は、1mm以上が好ましく、3mm以上がより好ましく、5mm以上がさらに好ましい。一方、支持体30の外周からのフィルム状基材11の張り出し量(領域9の幅)が過度に大きい場合は、フィルム状基材の材料ロスが大きくなり、コストアップの要因となり得る。また、フィルム状基材の張り出し量が大きい場合は、積層体のハンドリングの妨げとなる場合がある。そのため、フィルム状基材11の張り出し量は、50mm以下が好ましく、30mm以下がより好ましく、15mm以下がさらに好ましい。フィルム状基材11の面積は、支持体30の面積の1.3倍以下が好ましく、1.2倍以下がより好ましく、1.1倍以下がさらに好ましい。
 上記のように、離型シート21よりも大きいサイズの支持体30およびフィルム状基材を準備し、離型シートの外周端よりも外側の領域8で、支持体30とフィルム状基材11とが接着するように配置して、積層一体化を行う。支持体30、離型シート21およびフィルム状基材11のそれぞれに、位置合わせ用の孔を予め形成しておき、ピン等により位置決めを行ってもよい。
 支持体30、離型シート21およびフィルム状基材11は、積層前に、片面または両面に、プラズマ処理、コロナ処理等の表面処理を行ってもよい。表面処理を行うことにより、各層間の密着性を向上できる。
 支持体30、離型シート21およびフィルム状基材11の積層一体化には、熱プレス、真空プレス、ロールラミネート、真空ラミネート等の方法を適用できる。積層に際しては、外周領域8において、支持体30とフィルム状基材11とを接着可能な方法を採用することが好ましく、支持体30の接着材料に応じて積層方法や条件を選択すればよい。例えば、支持体30がプリント配線板製造に一般に用いられているプリプレグである場合、200℃程度で1時間程度の熱プレス加工を行うことにより、外周領域8において、支持体と30とフィルム状基材11とが強固に接着(融着)する。
 積層体100では、剛性の支持体30の外周領域8にフィルム状基材11が接着固定されているため、フィルム状基材11の表面(離型シート21と接していない面)に設けられた導体層のパターニング(回路の形成)や絶縁層の形成等の加工を行う際のハンドリング性に優れている。
 プリント配線板の製造工程においては、デスミア処理、湿式めっきによる導体層の形成、エッチングによる導体層のパターニング、レジスト等の絶縁層の現像等において薬液による処理が行われる。積層体100では、外周領域8で支持体30とフィルム状基材11とが接着固定されているため、スプレーや浸漬により薬液処理を行う際に、積層体100の側面から、面内中央部の領域7への薬液の浸入を抑制できる。そのため、薬液の浸入に起因する離型シート21とフィルム状基材11との積層界面での剥離を抑制できる。また、離型シート21への薬液の接触が抑制されるため、離型シート21を構成する耐熱フィルムや粘着層の薬液による浸食を防止できる。そのため、積層界面での剥離を抑制できることに加えて、離型シート21の構成材料の溶解物の混入等に起因する薬液の汚染を防止できる。
 積層体100の面内中央部の領域7では、支持体30とフィルム状基材11との間に離型シート21が配置されているため、熱プレス等により支持体30の接着材料が溶融または軟化した場合でも、フィルム状基材11に付着することはない。そのため、積層体の状態で、回路の形成や絶縁層の形成等の加工を行った後に、フィルム状基材11から離型シート21を容易に剥離できる。
 回路の形成や絶縁層の形成等の工程におけるハンドリング性を高める観点から、積層体100においては、外周領域8において支持体30とフィルム状基材11とが接着していることに加えて、離型シート21が設けられている領域7において、支持体30上にフィルム状基材11が密着積層されていることが好ましい。例えば、離型シート21が支持体30およびフィルム状基材11に対する密着性を有していれば、領域7において、支持体30上に、離型シート21を介してフィルム状基材11が密着積層された状態となる。
 図3に示すように、離型シート21に開口5が設けられており、開口5が設けられた領域において、支持体30とフィルム状基材11とが接していてもよい。開口5が設けられた領域では、外周領域8と同様に、支持体30とフィルム状基材11とを接着状態となるため、領域7内でも支持体30上にフィルム状基材11が固定され、加工時のハンドリング性を向上できる。特に、積層体101の面積(離型シートの面積)が大きい場合や、離型シート21のフィルム状基材11に対する密着性が低い場合は、離型シート21に設けられた開口5を介して、支持体30とフィルム状基材とを接着状態とすることが有用である。
 離型シート21に開口5を設ける場合、開口の形状およびサイズ、開口の数等は特に限定されない。開口5のサイズが大きい場合は、支持体30とフィルム状基材11との接着面積が大きいため、回路形成等の加工を行った後に、積層体からフィルム状基材11を分離することが困難となる場合がある。そのため、1つの開口の面積は、1000mm以下が好ましく、500mm以下がより好ましく、300mm以下がさらに好ましく、100mm以下または50mm以下であってもよい。一方、開口形成部で支持体30上にフィルム状基材11を固定する観点から、1つの開口の面積は、1mm以上が好ましく、5mm以上がより好ましい。離型シート21における開口形成部の面積比率(開口率)は、10%以下が好ましく、5%以下がより好ましく、3%以下がさらに好ましい。開口率は、0.1%以上、0.3%以上または0.5%以上であってもよい。
 図4に示すように、積層体102は、支持体30の一方の主面に離型シート21およびフィルム状基材11を積層し、支持体30の他方の主面に離型シート22およびフィルム状基材12を積層したものであってもよい。1つの支持体の両面のそれぞれに離型シートおよびフィルム状基材を積層することにより、1つの積層体102を用いて、2つのフィルム状基材11,12の加工を実施できるため、材料の利用効率および生産効率の向上が期待できる。また、支持体30の両主面がフィルム状基材により覆われているため、支持体としてプリプレグ等の接着性を有する材料を用いた場合でも、工程の汚染を防止できる。
 図5に示すように、支持体30の一方の主面に離型シート21およびフィルム状基材11を積層し、他方の面に、支持体30の全面を覆うように保護シート42を積層してもよい。保護シート42は、支持体30の外周端よりも外側に張り出していてもよい。積層体103では、支持体30の一方の主面がフィルム状基材11により覆われ、他方の主面が保護シート42により覆われているため、支持体としてプリプレグ等の接着性を有する材料を用いた場合でも、工程の汚染を防止できる。
 保護シート42としては、耐熱性および耐薬品性に優れ、かつ支持体30と接着可能であるものが用いられる。保護シート42は、剛性を有していてもよく、可撓性でもよい。保護シート42の材料としては、ガラスや樹脂材料が挙げられる。樹脂材料としては、フィルム状基材11の絶縁樹脂フィルムの材料や離型シート21の耐熱樹脂フィルムの材料として例示したものが好適に用いられる。
[プリント配線板の製造]
 上記の積層体は、フィルム状基材に含まれる絶縁樹脂フィルムの一方の主面または両方の主面にパターニングされた金属導体からなる回路を備えるプリント配線板の製造に適用できる。絶縁樹脂フィルムの主面上に回路が設けられたプリント配線板としては、多層プリント配線板、フレックスリジッド配線板、片面フレキシブルプリント基板、両面フレキシブルプリント基板等が挙げられる。
 積層体を用いたプリント配線板の製造工程においては、フィルム状基材の絶縁樹脂フィルム上に回路が形成される(第一回路形成工程)。積層体では、剛性の支持体30上に離型シート21を介してフィルム状基材11が積層されており剛性を有するため、剛性の基材を取り扱う装置を用いて回路を形成できる。そのため、可撓性の絶縁樹脂フィルムの主面上に、リジッドプリント配線板の回路と同等の狭ピッチ回路を形成することが可能である。絶縁樹脂フィルム上に回路を形成後に、フィルム状基材11(回路が設けられた絶縁樹脂フィルム)を、支持体30および離型シート21から分離する(分離工程)。
 フィルム状基材11が絶縁樹脂フィルム上に導体層を備える場合は、フィルム状基材の導体層を利用して、サブトラクティブ法、アディティブ法等により回路を形成する。フィルム状基材11に予め設けられている導体層上に、さらに電解めっき等により導体層を形成してもよい。フィルム状基材11が絶縁樹脂フィルムからなり導体層を備えていない場合は、絶縁樹脂フィルムの主面上に導体層を形成し、サブトラクティブ法、アディティブ法等により回路を形成する。
 以下では、プリント配線板の製造における各工程の概要を説明する。
<導体層形成工程>
 フィルム状基材11の第一主面(離型シート21と反対側の主面)に導体層が設けられていない場合は、無電解めっきにより、絶縁樹脂フィルム上に導体層を形成する。絶縁樹脂フィルムに銅箔等の金属箔を貼り合わせることにより導体層を設けてもよい。フィルム状基材11が導体層を有する場合は、導体層を形成する必要はないが、絶縁樹脂フィルム上に予め設けられた導体層の上に、さらに電解めっき等により導体層を形成してもよい。フィルム状基材11に孔が設けられている場合は、フィルム状基材11の第一主面に加えて、孔の壁面にも金属を析出させて導体化を行ってもよい。フィルム状基材に孔あけを行った後は、必要に応じてデスミア処理を行ってもよい。
 無電解めっきとしては、湿式無電解めっき、スパッタリング、蒸着、イオンプレーティング、CVD等が挙げられる。無電解めっきの種類はフィルム状基材との相性、プリント配線板の仕様等に照らし合わせ適宜選択すればよい。汎用のプリント配線板製造工程・設備を考慮すると、湿式無電解銅めっきが好ましい。電解めっきで析出させる金属種としては銅、金、銀、亜鉛、ニッケル、クロム、各種合金(例えば、はんだ、錫-銀、錫-亜鉛等)等が挙げられる。プリント配線板の製造では銅が一般的であり、好ましく使用可能である。導体層の厚みは特に制限されず、プリント配線板の仕様等に応じて設定される。
<回路形成工程>
 予めフィルム状基材11に設けられている導体層、または上記の導体層形成工程にて形成した導体層を利用して、絶縁樹脂フィルム上に回路を形成する。例えば、回路となる予定部分をエッチングレジストで選択的に被覆し、エッチングレジストで被覆されていない領域の導体層を薬液(エッチング液)により溶解することにより回路が形成される(サブトラクティブ法)。回路非形成部(回路と回路の間のスペース)となる予定の部分をめっきレジストで選択的に被覆し、導体層を給電層とした電解めっきによるパターンめっきを行い、次いでレジストを剥離し、露出した給電層をエッチングにより除去することによる回路を形成することもできる(セミアディティブ法)。回路の形成方法は、製造するプリント配線板の仕様等に応じ適宜選択すればよい。
 回路の形成においては、湿式無電解めっきや電解めっき等の湿式法による導体層の形成、レジストのパターニング時の現像、エッチングによる導体層のパターニング、エッチングレジストの剥離、パターンめっき後の給電層のエッチング等において、種々の薬液が用いられる。これらの薬液が、フィルム状基材と離型シートとの積層界面に浸入すると、積層体からフィルム状基材が剥離する場合がある。また、離型シートに粘着剤層が設けられている場合、薬液に溶解した粘着剤の混入による薬液の汚染が懸念される。
 上記の積層体では、離型シート21の外周で支持体30とフィルム状基材11とが接着しており、離型シート21の外周端(端面)2が露出していない。そのため、離型シート21の端面および離型シート21とフィルム状基材11との積層界面への薬液の浸入が抑制され、回路形成等のプロセス中でのフィルム状基材の剥離や工程の汚染を防止できる。
<分離工程>
 絶縁樹脂フィルムの第一主面上に回路を形成後、フィルム状基材11(回路が設けられた絶縁樹脂フィルム)を、積層体から分離する。フィルム状基材11と支持体30は、両者が接着している外周縁部の領域8を切除することにより分離できる。例えば、図2のC1線、C2線、C3線およびC4線に沿って積層体を切断することにより、外周縁部が切除される。切除の方法は、支持体30およびフィルム状基材11の材質等に応じて適宜選択すればよく、ルーター加工、金型加工(打ち抜き)等が適用可能である。
 分離に際しては、外周縁部を完全に切断する必要はない。例えば、外周縁部に沿ってハーフカットを行い、フィルム状基材を切断してもよい。また、フィルム状基材11と支持体との接着部分からフィルム状基材11を引き剥がして分離を行ってもよい。
 フィルム状基材11と離型シート21は界面での接着力が小さいため、両者の積層界面で容易に剥離が可能であり、離型シート21に起因するフィルム状基材11の第二主面(回路形成面と反対側の主面)の汚染が生じ難い。
 上記のプロセスにより、絶縁樹脂フィルムの第一主面に第一回路が形成されたプリント配線板が得られる。第一回路が形成された絶縁樹脂フィルムの第一主面上に、さらに別の絶縁層を積層して、第二回路を形成して多層化を行ってもよい。また、積層体からフィルム状基材を分離後に、フィルム状基材(絶縁樹脂フィルム)の第二主面に第三回路を形成してもよい。
<多層化>
 多層化は、プリント配線板の一般的な工法に従って行うことができる。例えば、第一回路が設けられた絶縁樹脂フィルムの第一主面上に絶縁層を形成し、絶縁層を貫通する孔を形成した後、絶縁層上に第二回路を形成する。回路上への絶縁層の形成、孔の形成および回路の形成を繰り返すことにより、3層以上の多層化を行ってもよい。
(絶縁層の形成)
 絶縁層の材料としては、プリプレグ、熱硬化性樹脂からなるボンディングシート、熱硬化性または光硬化性樹脂のインク材料、熱硬化性ビルドアップフィルム、片面銅張積層板の銅層非形成面に接着層を設けた積層体等が挙げられる。プリプレグ、シート、フィルム状の材料は、熱プレス、ロールラミネート、真空ラミネート等により積層すればよい。インク状の材料は、印刷法、カーテンコート法等により絶縁層を形成すればよい。絶縁層の形成時に、金属箔を同時に積層してもよい。
(孔あけおよび導体化)
 絶縁層への孔の形成は、例えば、レーザードリリング、メカニカルドリリング等により行われる。プラズマ照射、ケミカルエッチング等により絶縁層の孔あけを行ってもよい。絶縁層に加えて、フィルム状基材を貫通するように孔あけを行ってもよく、2層以上の絶縁層を貫通するように孔あけを行ってもよい。
 孔を形成後に、孔の壁面を導体化させる。導体化は、例えば無電解めっきにより行う。無電解めっきは湿式めっきでもよく、乾式めっき(PVD法またはCVD法)でもよく、絶縁層の材料や厚み、プリント配線板の仕様等に応じて適宜選択される。汎用のプリント配線板製造工程・設備を考慮すると、湿式無電解銅めっきが好ましい。孔の中に導電性ペーストを印刷して導体化させることも可能である。
(導電層の形成)
 絶縁層上に第二回路を形成するための導体層を設ける方法は特に限定されず、無電解めっき、電解めっき、無電解めっきと電解めっきの組合せ等から適宜選択すればよい。汎用のプリント配線板製造工程・設備を考慮すると湿式無電解銅めっきが好ましい。絶縁層上に導体層を形成する際に、絶縁層に設けられた孔の壁面にも金属を析出させて導体化を行ってもよい。絶縁層の表面に導体層を備える積層体、例えば、片面銅張積層板、プリプレグまたはボンディングシート等を介して金属箔が積層された積層体を用いる場合は、当該積層体の導体層を利用して第二回路を形成してもよい。
(第二回路の形成)
 絶縁層上に設けられた導体層を利用して、絶縁層上に第二回路を形成する。第二回路の形成方法は特に限定されず、第一回路の形成と同様、サブトラクティブ法、セミアディティブ法等を適用できる。
 フィルム状基材の第一主面上での多層化は、上記の分離工程の前後いずれに実施してもよい。分離工程前に多層化を行う場合は、第一回路形成工程と同様、剛性の基材を取り扱う装置を用いて第二回路を形成できる。絶縁層として剛性材料を用いる場合は、支持体30と分離後でも基材が剛性を有しているため、分離工程後であっても、上記の第一回路形成工程と同様、剛性の基材を取り扱う装置を用いて第二回路を形成できる。多層化の途中の段階で、支持体30および離型シート21との分離を実施してもよい。例えば、フィルム状基材11の第一主面後に剛性の絶縁層を設けて剛性を確保した後、孔あけや回路の形成を実施する前に分離工程を実施してもよい。
<第三回路形成工程>
 分離工程により、フィルム状基材11の第二主面から離型シート21を剥離した後に、フィルム状基材11の第二主面に第三回路を形成してもよい。第三回路の形成方法は、上記の第一回路および第二回路の形成と同様、適宜の方法により実施できる。例えば、絶縁樹脂フィルムの第二主面上に導体層を形成し、当該導体層をパターニングすることにより回路が形成される。導体層を給電層としてパターンめっきにより回路を形成してもよい。フィルム状基材11の第二主面に予め導電層が設けられている場合は、当該導電層を用いて第三回路を形成してもよい。
 第三回路の形成前または形成後に、フィルム状基材11(絶縁樹脂フィルム)を貫通する孔を形成してもよい。絶縁樹脂フィルムの第一主面上に絶縁層が形成され多層化が行われている場合は、フィルム状基材11に加えて絶縁層を貫通するように孔あけを行ってもよい。孔あけ後には、無電解めっきや導電性ペーストの印刷等により導体化が行われる。
 第三回路の形成前に、絶縁樹脂フィルムの第一主面上に絶縁層が形成され多層化が行われている場合は、基材が剛性を有しているため、上記の第一回路形成工程と同様、剛性の基材を取り扱う装置を用いて第三回路を形成できる。
 第一回路を形成後のフィルム状基材11(絶縁樹脂フィルム)を支持体30および離型シート21から分離した後、フィルム状基材21の第一主面(第一回路形成面)側に剛性の支持体を積層して、積層体を形成してもよい。この積層体を用いることにより、第一主面への第一回路の形成と同様、第二主面への第三回路の形成も、剛性の基材を取り扱う装置を適用可能であるため、回路の狭ピッチ化が容易である。
 上記の積層体100の形成と同様、フィルム状基材と支持体との間に離型シートを配置し、フィルム状基材および支持体が離型シートの外周端から外側に張り出した状態で熱プレス等により積層体を形成してもよい。このような積層体を形成することにより、第三回路の形成においても、第一回路の形成時と同様、積層体界面への薬液の浸入による剥離や溶解物による薬液の汚染を防止できる。
 フィルム状基材の第二主面が支持体側となるように積層された積層体100を用いて第一主面への第一回路の形成を行い、分離工程後に、フィルム状基材の第一主面が支持体側となるように積層体を形成し、第二主面への第三回路の形成を行えば、絶縁樹脂フィルムの両面に回路を有する両面フレキシブルプリント基板を形成することも可能である。
 以下、実施例および比較例を示し、本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
[実施例1]
 支持体として日立化成製FR-4プリプレグ「GEA-67N」(厚み150μm)、離型シートとして、厚み50μmポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムの一方の面に厚み10μmのアクリル系微粘着層が設けられた耐熱微粘着フィルム(トーヨーケム製「リオエルムLE951」)、フィルム状基材として、ポリイミドコア層の両面に熱可塑性ポリイミド接着層を備える合計厚み25μmのポリイミドフィルム(カネカ製「ピクシオFRS25」)に福田金属製電解銅箔「HD2」を熱ラミネートした両面銅張積層板を用いた。支持体を120mm×120mm、離型シートを100mm×100mm、フィルム状基材を140mm×140mmのサイズに切り出し、支持体が離型シートの外周から10mmの幅で張り出し、フィルム状基材が離型シートの外周から20mmの幅で張り出すように位置関係を調整して、支持体、離型シート、フィルム状基材の順で重ね合わせた。離型シートは、粘着剤層形成面がフィルム状基材と接するように配置した。
 熱プレス装置を用い、180℃/3MPa/60分の条件で積層プレスを行い、積層体を得た。得られた積層体は、離型シートが配置されている領域では、離型シートとフィルム状基材が密着しており、支持体上に離型シートを介してフィルム状基材が固定されており、リジッドプリント配線板用の製造装置で取り扱うのに充分な剛性のある積層体であった。離型シートの外周の外側10mm幅の額縁状領域では、支持体とフィルム状基材が強固に接着していた。
 上記の積層体を用いて、表1に示す条件でデスミア処理を行い、表2に示す条件で湿式無電解銅めっき処理を行った。フィルム状基材の銅箔上には、銅めっき皮膜が形成されていた。また、積層体の外周は薬液に侵されることなく、層間の剥離等の不具合はみられなかった。
<デスミア処理>
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
<湿式無電解銅めっき処理>
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 積層体外周の額縁状の接着部分をハサミで切除したところ、離型シートとフィルム状基材との界面で良好に剥離することができ、フィルム状基材の離型シートとの接触面には汚染等の不具合はみられなかった。
[実施例2]
 離型シートを厚み25μmのフッ素系樹脂フィルム(旭硝子製「アフレックス25N NT」)に変更したこと以外は実施例1と同様にして積層体を形成し、デスミア処理および湿式無電解銅めっき処理を行った。実施例2においても、実施例1と同様、フィルム状基材の銅箔上には、銅めっき皮膜が形成されており、積層体の外周は薬液に侵されることなく、層間の剥離等の不具合はみられなかった。積層体外周の額縁状の接着部分をハサミで切除したところ、離型シートとフィルム状基材との界面で良好に剥離することができ、フィルム状基材の離型シートとの接触面には汚染等の不具合はみられなかった。
[比較例1]
 離型シートのサイズを120mm×120mm(支持体と同一のサイズ)に変更し、支持体上の全面を覆うように離型シートを配置したこと以外は、実施例1と同様にして積層体を形成した。得られた積層体は、支持体上の全面に離型シートが強固に接着しており、離型シートとフィルム状基材は密着していた。この積層体を用いて、実施例1と同様に、デスミア処理および湿式無電解銅めっき処理を行ったところ、離型シートの外周および外周近傍において、離型シートの粘着剤が薬液に侵され、離型シートからフィルム状基材が剥離していた。この例においては、薬液に侵された粘着剤が薬液に混入することにより、薬液の汚染が発生したと考えられる。
[比較例2]
 離型シートのサイズを120mm×120mm(支持体と同一のサイズ)に変更し、支持体上の全面を覆うように離型シートを配置したこと以外は、実施例2と同様にして積層体を形成した。得られた積層体は、支持体上の全面に離型シートが強固に接着していたが、離型シートとフィルム状基材の銅箔との密着性は十分ではなかった。この積層体を用いて、実施例1,2と同様に、デスミア処理および湿式無電解銅めっき処理を行ったところ、周囲から剥離が発生していた。これは、離型シートとフィルム状基材との界面に薬液が浸入したことに起因すると考えられる。
 上記の実施例および比較例の結果から、支持体(プリプレグ)およびフィルム状基材(銅張積層板)のサイズが離型シートのサイズよりも大きく、外周の額縁状領域で支持体とフィルム状基材とが接着されている積層体を用いることにより、プリント配線板の製造工程における積層界面への薬液の浸入が遮断され、界面の剥離や薬液の汚染を防止できることが分かる。
  11,12  フィルム状基材
  21,22  離型シート
  30     支持体
  42     保護シート
  100,101,102,103  積層体

 

Claims (15)

  1.  第一主面および第二主面を有する剛性の支持体、第一主面および第二主面を有する離型シート、ならびに第一主面および第二主面を有する可撓性のフィルム状基材、が順に積層された積層体であって、
     前記支持体の第一主面と前記離型シートの第二主面が接しており、前記離型シートの第一主面と前記フィルム状基材の第二主面とが接しており、
     前記フィルム状基材は、可撓性の絶縁樹脂フィルムを含み、
     前記支持体の外周が、前記離型シートの外周よりも外側に張り出しており、
     前記フィルム状基材の外周が、離型シートの外周よりも外側に張り出しており、
     離型シートの外周よりも外側で、前記支持体の第一主面と前記フィルム状基材の第二主面とが接着されている、積層体。
  2.  前記離型シートに開口が設けられており、前記支持体の第一主面と前記フィルム状基材の第二主面とが、前記離型シートに開口が設けられた部分で接着されている、請求項1に記載の積層体。
  3.  前記フィルム状基材の外周が、前記支持体の外周よりも外側に張り出している、請求項1または2に記載の積層体。
  4.  前記支持体がプリプレグである、請求項1~3のいずれか1項に記載の積層体。
  5.  前記絶縁樹脂フィルムがポリイミドフィルムである、請求項1~4のいずれか1項に記載の積層体。
  6.  前記フィルム状基材が、前記絶縁樹脂フィルムからなる、請求項1~5のいずれか1項に記載の積層体。
  7.  前記フィルム状基材は、前記絶縁樹脂フィルムの少なくとも一方の主面に金属導体層を備える、請求項1~5のいずれか1項に記載の積層体。
  8.  請求項1~7のいずれか1項に記載の積層体を製造する方法であって、
     支持体の第一主面上に、離型シートおよびフィルム状基材が順に配置された積層物を熱プレスすることにより、前記離型シートの外周よりも外側の領域において、前記支持体と前記フィルム状基材とを接着する、積層体の製造方法。
  9.  絶縁樹脂フィルム上に金属導体からなる回路を備えるプリント配線板の製造方法であって、
     請求項1~7のいずれか1項に記載の積層体の絶縁樹脂フィルムの第一主面上に第一回路を形成する第一回路形成工程;および
     第一回路が設けられた絶縁樹脂フィルムを、前記支持体および前記離型シートから分離する分離工程、
     を有する、プリント配線板の製造方法。
  10.  前記絶縁樹脂フィルムの第一主面および前記第一回路を覆う絶縁層を設け、前記絶縁層上に第二回路を形成する多層化工程を有する、請求項9に記載のプリント配線板の製造方法。
  11.  前記分離工程後に、前記絶縁樹脂フィルムの第二主面上に第三回路を形成する第三回路形成工程を有する、請求項9または10に記載のプリント配線板の製造方法。
  12.  前記第一回路形成工程において、前記絶縁樹脂フィルムの第一主面上の金属導体層をエッチングすることにより回路を形成する、請求項9~11のいずれか1項に記載のプリント配線板の製造方法。
  13.  前記第一回路形成工程において、前記絶縁樹脂フィルムの第一主面上にパターンめっきにより回路を形成する、請求項9~11のいずれか1項に記載のプリント配線板の製造方法。
  14.  前記第一回路形成工程前に、絶縁樹脂フィルムの第一主面上に、湿式または乾式の無電解めっきにより金属導体層を形成する、請求項9~13のいずれか1項に記載のプリント配線板の製造方法。
  15.  前記分離工程において、前記積層体から、支持体と前記フィルム状基材とが接着している外周縁部を切除する、請求項9~14のいずれか1項に記載のプリント配線板の製造方法。

     
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