WO2020054131A1 - Ébauche de masque à décalage de phase, masque à décalage de phase, procédé d'exposition à la lumière et procédé de production de dispositif - Google Patents

Ébauche de masque à décalage de phase, masque à décalage de phase, procédé d'exposition à la lumière et procédé de production de dispositif Download PDF

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庸平 寳田
賢利 林
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株式会社ニコン
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Abstract

Cette ébauche de masque à décalage de phase comprend un substrat et une couche de décalage de phase qui est formée sur le substrat ; la couche de décalage de phase contient du chrome et de l'oxygène ; et la surface de la couche de décalage de phase a une hauteur moyenne arithmétique supérieure ou égale à 0,38 nm.
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