WO2020032373A1 - 발광소자 패키지 및 광원 모듈 - Google Patents

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WO2020032373A1
WO2020032373A1 PCT/KR2019/006954 KR2019006954W WO2020032373A1 WO 2020032373 A1 WO2020032373 A1 WO 2020032373A1 KR 2019006954 W KR2019006954 W KR 2019006954W WO 2020032373 A1 WO2020032373 A1 WO 2020032373A1
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WO
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light emitting
disposed
emitting device
conductive
bonding
Prior art date
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PCT/KR2019/006954
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English (en)
French (fr)
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공성민
김성호
김택균
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엘지이노텍 주식회사
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Publication date
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    • H01L33/48Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/64Heat extraction or cooling elements
    • H01L33/641Heat extraction or cooling elements characterized by the materials

Definitions

  • Embodiments relate to a light emitting device package and a light source module including the same.
  • a semiconductor device including a compound such as GaN, AlGaN, etc. has many advantages, such as having a wide and easy-to-adjust band gap energy, and can be used in various ways as a light emitting device, a light receiving device, and various diodes.
  • light emitting devices such as light emitting diodes or laser diodes using group 3-5 or 2-6 compound semiconductor materials have been developed in terms of thin film growth technology and device materials. There is an advantage that can implement light of various wavelength bands such as green, blue and ultraviolet.
  • a light emitting device such as a light emitting diode or a laser diode using a group 3-5 or 2-6 compound semiconductor material can be implemented with a white light source having high efficiency by using a fluorescent material or a combination of colors.
  • Such a light emitting device has advantages of low power consumption, semi-permanent life, fast response speed, safety and environmental friendliness compared to conventional light sources such as fluorescent lamps and incandescent lamps.
  • a light-receiving device such as a photodetector or a solar cell
  • a group III-Group 5 or group II-Group 6 compound semiconductor material development of device materials absorbs light in various wavelength ranges to generate photocurrent.
  • light in various wavelength ranges, from gamma rays to radio wavelength ranges can be used.
  • such a light receiving element has the advantages of fast response speed, safety, environmental friendliness and easy adjustment of the device material can be easily used in power control or ultra-high frequency circuit or communication module.
  • the semiconductor device may replace a light emitting diode backlight, a fluorescent lamp, or an incandescent bulb that replaces a cold cathode tube (CCFL) constituting a backlight module of an optical communication means, a backlight of a liquid crystal display (LCD) display device.
  • CCFL cold cathode tube
  • LCD liquid crystal display
  • the light emitting device may be provided as a pn junction diode having electrical properties that are converted into light energy using, for example, a group 3-5 element or a group 2-6 element on the periodic table.
  • Various wavelengths can be realized by adjusting the composition ratio.
  • nitride semiconductors are receiving great attention in the field of optical devices and high power electronic devices due to their high thermal stability and wide bandgap energy.
  • ultraviolet (UV) light emitting devices blue light emitting devices, green light emitting devices, yellow light emitting devices, and red light emitting devices using nitride semiconductors are commercially used and widely used.
  • a light emitting diode that emits light distributed in a wavelength range of 200 nm to 400 nm, and is used in the wavelength band, for short wavelengths, for sterilization and purification, and for long wavelengths, for example, an exposure machine or a curing machine. Can be used.
  • UV-A 315nm ⁇ 400nm
  • UV-B 280nm ⁇ 315nm
  • UV-C 200nm ⁇ 280nm
  • the UV-A (315nm ⁇ 400nm) area is applied to various fields such as industrial UV curing, printing ink curing, exposure machine, forgery discrimination, photocatalyst sterilization, special lighting (aquarium / agriculture, etc.) and UV-B (280nm ⁇ 315nm).
  • Area is used for medical purposes
  • UV-C 200nm ⁇ 280nm
  • Embodiments provide a light emitting device package and a light source module that can prevent a void from being formed between a frame and the conductive portion by disposing a conductive portion on a bonding portion.
  • the embodiment is a light emitting device package and a light source module that can prevent the crack (crack) generated between the bonding portion and the conductive portion of the light emitting device, the conductive portion and the frame by the heat emitted from the light emitting device To provide.
  • the embodiment can reduce the thickness of the body to provide a slimmer light emitting device package and light source module.
  • the embodiment is to provide a light emitting device package and a light source module that can guide the light emitted from the light emitting device to the upper direction to improve the light efficiency and luminous flux.
  • the embodiment is to provide a light emitting device package and a light source module that can efficiently discharge the heat emitted from the light emitting device.
  • the embodiment provides a light emitting device package and a light source module that can prevent the phenomenon that the bonding region between the light emitting device and the package body re-melting in the process of bonding the light emitting device package to the substrate.
  • the light emitting device package according to the embodiment is disposed on the body, the body having the first and second frames spaced apart from each other, surrounding the first and second frames, the first and second openings spaced apart from each other, And a light emitting device including first and second bonding portions and first and second conductive portions disposed in the first and second openings, respectively, wherein the first and second openings are formed in the first and second frames. Respectively overlap with each other and the first and second conductive parts are electrically connected to the first and second frames, respectively, and the first and second bonding parts are respectively disposed in the first and second openings, respectively. Electrically connected with the first and second conductive portions, the light emitting device includes a support region disposed on the body outside the first and second openings.
  • the light source module includes a circuit board and at least one light emitting device package disposed on the circuit board.
  • the embodiment can prevent a void from being formed between the bonding portion and the conductive portion, thereby preventing cracking due to thermal shock between the bonding portion and the conductive portion.
  • the embodiment can improve the bonding force between the conductive portion and the frame, it is possible to prevent the crack (crack) between the conductive portion and the frame due to thermal shock.
  • the embodiment may prevent the phenomenon in which the bonding region between the light emitting device and the body is re-melted while the light emitting device package is bonded to the substrate by forming the conductive part on the bonding part of the light emitting device. have.
  • the embodiment can reduce the thickness of the body can have a slimmer structure, it can effectively guide the light emitted from the light emitting device to the top to improve the light efficiency and luminous flux.
  • the embodiment can effectively discharge the heat emitted from the light emitting element by the conductive portion disposed on the bonding portion. Accordingly, heat dissipation characteristics of the light emitting device package can be improved.
  • the embodiment can prevent the defect between the light emitting element and the frame by forming the conductive portion in advance on the bonding portion of the light emitting element.
  • the embodiment may prevent the above-described defect from occurring as the conductive part is previously formed in the bonding part. Accordingly, the reliability and process efficiency of the light emitting device package can be improved.
  • FIG. 1 is a front view of a light emitting device package according to an embodiment.
  • FIG. 2 is a view illustrating a frame in a package body of a light emitting device package according to an embodiment.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG. 1.
  • FIG. 4 is an enlarged view of region A of FIG. 3.
  • FIG. 7 is a sectional view taken along the line A-A 'illustrating a modification of the frame in the light emitting device package of FIG.
  • FIG. 8 is a plan view of a light emitting device according to the embodiment.
  • FIG. 9 is a cross-sectional view taken along line BB ′ of FIG. 8.
  • FIG. 10 is an enlarged view of region B of FIG. 4.
  • FIG. 11 is a diagram illustrating an example of a module in which a light emitting device package according to an embodiment is disposed on a circuit board.
  • the technical idea of the present invention is not limited to some embodiments described, but may be embodied in different forms, and within the technical idea of the present invention, one or more of the components may be selectively selected between the embodiments. Can be combined and substituted.
  • the terms used in the embodiments of the present invention are intended to describe the embodiments and are not intended to limit the present invention.
  • the singular may also include the plural unless specifically stated otherwise in the text, and may be combined as A, B, C when described as “at least one (or more than one) of A and B and C”. It can include one or more of all possible combinations.
  • first, second, A, B, (a), and (b) may be used. These terms are only to distinguish the components from other components, and the terms are not limited to the nature, order, order, or the like of the components. And when a component is described as being 'connected', 'coupled' or 'connected' to another component, the component is not only connected, coupled or connected directly to the other component, It may also include the case where 'connected', 'coupled' or 'connected' due to another component between the other components.
  • top (bottom) or bottom (bottom) is not only when two components are in direct contact with each other, but also one It also includes a case where the above-described further components are formed or disposed between two components.
  • up (up) or down (down) may include the meaning of the down direction as well as the up direction based on one component.
  • the light emitting device package according to the embodiment is a semiconductor device package
  • the semiconductor device of the device package may include a light emitting device for emitting light of ultraviolet, infrared or visible light.
  • a semiconductor device for emitting light of ultraviolet, infrared or visible light.
  • a package or a light source device to which the light emitting device is applied may include a non-light emitting device such as a Zener diode or a sensing device for monitoring a wavelength or heat.
  • a description will be given based on a case where a light emitting device is applied as an example of a semiconductor device, and the light emitting device package will be described in detail.
  • the first direction may be the x-axis direction shown in the drawings
  • the second direction may be a direction orthogonal to the x-axis direction in the y-axis direction shown in the drawings.
  • the third direction may be a direction perpendicular to the x-axis and the y-axis in the z-axis direction illustrated in the drawing.
  • FIG. 1 is a front view of a light emitting device package according to an embodiment
  • FIG. 2 is a view illustrating a frame in a package body of the light emitting device package according to the embodiment.
  • 3 is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG. 1, and
  • FIG. 4 is an enlarged view of region A of FIG. 3.
  • the light emitting device package 1000 may include a package body 100 and a light emitting device 500.
  • the package body 100 may include a plurality of frames.
  • the package body 100 may include a first frame 110 and a second frame 120 spaced apart from each other.
  • the first frame 110 may be spaced apart from the second frame 120 in a first direction (x-axis direction).
  • the package body 100 may include a body 130.
  • the body 130 may be disposed to surround the first frame 110 and the second frame 120.
  • the body 130 may be disposed between the first frame 110 and the second frame 120.
  • the upper surface of the body 130 may be located above the upper surfaces of the first and second frames 110 and 120.
  • the body 130 may perform a function of an electrode separation line between the plurality of frames.
  • the body 130 may be referred to as an insulating member.
  • the body 130 may be disposed on the first frame 110. In addition, the body 130 may be disposed on the second frame 120.
  • the body 130 may provide inclined inner surfaces IS1, IS2, IS3, and IS4 on the first and second frames 110 and 120.
  • a cavity 170 may be provided on the first frame 110 and the second frame 120 by the inclined inner surfaces IS1, IS2, IS3, and IS4.
  • the height (third direction) of the cavity 170 may be about 300 ⁇ m or less.
  • the height t1 of the cavity 170 may be about 130 ⁇ m to about 280 ⁇ m.
  • the height t1 of the cavity 170 may be about 130 ⁇ m to about 260 ⁇ m.
  • the package body 100 may be provided in a structure having the cavity 170, or may be provided in a flat structure without the cavity 170.
  • An upper body 135 is disposed on the body 130, and the upper body 135 may have the cavity 170.
  • the upper body 135 may be the same material as the body 130 or may be disposed of a separate material.
  • the upper body 135 may be integrally formed with the body 130.
  • the body 130 may include a plurality of openings.
  • the body 130 may include a plurality of openings spaced apart from each other.
  • the body 130 may include a first opening h11 and a second opening h12.
  • the first and second openings h11 and h12 may be disposed on the bottom surface of the cavity 170.
  • the first and second openings h11 and h12 may be disposed on an upper surface of the body 130.
  • the first and second openings h11 and h12 may be spaced apart from each other.
  • the first opening h11 may be disposed on the first frame 110.
  • the first opening h11 may overlap the first frame 110 in a vertical direction.
  • the lower surface of the first opening h11 may be disposed on the same plane as the upper surface of the first frame 110.
  • the first opening h11 may expose an upper surface of the first frame 110.
  • the area of the upper region of the first opening h11 may be different from or the same as that of the lower region.
  • the area of the upper region of the first opening h11 may be smaller than the area of the lower region.
  • the upper region of the first opening h11 may be a region located at the top of the first opening h11.
  • an imaginary horizontal plane connecting the uppermost region of the first opening h11 may be disposed on the same plane as the upper surface of the body 130.
  • the vertical height of the first opening h11 may be about 30 ⁇ m or less. In detail, the height of the first opening h11 may be about 5 ⁇ m to about 30 ⁇ m.
  • the second opening h12 may be disposed on the second frame 120.
  • the second opening h12 may overlap with the second frame 120 in a vertical direction.
  • the lower surface of the second opening h12 may be disposed on the same plane as the upper surface of the second frame 120.
  • the lower surface of the second opening h12 may be disposed on the same plane as the lower surface of the first opening h11.
  • the second opening h12 may expose the top surface of the second frame 120.
  • the area of the upper region of the second opening h12 may be different from or the same as the area of the lower region.
  • the area of the upper region of the second opening h12 may be smaller than the area of the lower region.
  • the upper region of the second opening h12 may be a region located at the top of the second opening h12.
  • an imaginary horizontal plane connecting the uppermost region of the second opening h12 may be disposed on the same plane as the upper surface of the body 130.
  • an area of each of the upper and lower regions of the second opening h12 may correspond to an area of each of the upper and lower regions of the first opening h11.
  • the vertical height of the second opening h12 may be about 30 ⁇ m or less. In detail, the height of the second opening h12 may be about 5 ⁇ m to about 30 ⁇ m. The height of the second opening h12 may correspond to the height of the first opening h11.
  • the body 130 may be made of a resin material or an insulating resin material.
  • the body 100 is polyphthalamide (PPA: Polyphthalamide), PCT (Polychloro Tri phenyl), LCP (Liquid Crystal Polymer), PA9T (Polyamide9T), silicone, epoxy, epoxy molding compound (EMC: epoxy molding compound), silicone It may be formed of at least one selected from the group consisting of molding compound (SMC), ceramic, photo sensitive glass (PSG), sapphire (Al 2 O 3 ) and the like.
  • the body 130 may be formed of a resin material, and may include a filler of a high refractive material such as TiO 2 and SiO 2 therein.
  • the upper body 135 may be the resin material or insulating resin material.
  • the upper body 135 is a polyphthalamide (PPA: Polyphthalamide), PCT (Polychloro Tri phenyl), LCP (Liquid Crystal Polymer), PA9T (Polyamide9T), silicone, epoxy, epoxy molding compound (EMC: Epoxy molding compound), It may be formed of at least one selected from the group consisting of silicon molding compound (SMC), ceramic, photo sensitive glass (PSG), sapphire (Al 2 O 3 ) and the like.
  • the upper body 135 may function as a reflective body.
  • the package body 100 may include a plurality of side surfaces.
  • the body 130 may include a first side surface S1 and a second side surface S2 facing each other in a first direction, a third side surface S3 facing each other in a second direction, and It may include a fourth side (S4).
  • the third side surface S3 and the fourth side surface S4 may be side surfaces connecting the first side surface S1 and the second side surface S2.
  • the third side surface S3 may extend in one direction from one end of the first side surface S1 and be connected to one end portion of the second side surface S2.
  • the fourth side surface S4 may extend in the first direction from the other end of the first side surface S1 and be connected to the other end of the second side surface S2.
  • the first to fourth side surfaces S1, S2, S3, and S4 may be surfaces perpendicular to or inclined with respect to the bottom surface of the body 100.
  • the package body 100 may have a length in a first direction (x-axis direction) and a length in a second direction (y-axis direction).
  • the first direction length of the package body 100 may be different from the second direction length.
  • the first direction length of the package body 100 may be longer than the second direction length.
  • the length of the first direction of the package body 100 may be about two times longer than the length of the second direction.
  • the first direction may be a direction of a side having a longer length among first and second lengths of the light emitting device 500.
  • the third side surface S3 and the fourth side surface S4 may be spaced apart in the second direction.
  • the distance between the third side surface S3 and the fourth side surface S4 may correspond to the thickness of the package body 100.
  • the thickness of the package body 100 may be about 1.2 mm or less. In detail, the thickness of the package body 100 may be about 1 mm or less.
  • first side surface S1 and the second side surface S2 may be spaced apart in the first direction.
  • the distance between the first side surface S1 and the second side surface S2 may be at least about twice the thickness of the package body 100.
  • the distance between the first side surface S1 and the second side surface S2 may be about 3 times or more of the thickness of the package body 100.
  • the distance between the first side surface S1 and the second side surface S2 may be about 4 times or more of the thickness of the package body 100. That is, the length of the first direction of the package body 100 may be about 2.5 mm or more. In detail, the first direction length of the package body 100 may be about 2.7 mm to about 5 mm.
  • the light emitting device package 1000 may provide a length in a first direction to reduce the number of light emitting device packages 1000 when the light emitting device packages 1000 are arranged in the first direction.
  • the light emitting device package 1000 may provide a thickness T1 relatively thin, thereby reducing the thickness of the light unit having the light emitting device package 1000. Since the front surface S5 is opened and light is emitted, the cavity 170 may emit light in a side view type based on the fourth side surface S4.
  • the upper body 135 may include a plurality of inner surfaces.
  • the upper body 135 may include inner surfaces IS1, IS2, IS3, and IS4 that are inclined around the cavity 170.
  • the inner surfaces IS1, IS2, IS3, and IS4 may be inclined or vertical.
  • the inner surfaces IS1, IS2, IS3, and IS4 may include a first inner surface IS1 and a second inner surface IS2 facing in the first direction, and a third inner surface facing in the second direction. It may include IS3 and the fourth inner side surface IS4.
  • the third and fourth inner surfaces IS3 and IS4 may be inner surfaces connecting the first and second inner surfaces IS1 and IS2.
  • the first inner side surface IS1 may be adjacent to the first side surface S1, and the second inner side surface IS2 may be adjacent to the second side surface S2.
  • the third inner side surface IS3 may be adjacent to the third side surface S3, and the fourth inner side surface IS4 may be adjacent to the fourth side surface S4.
  • the inclination angles of the first and second inner surfaces IS1 and IS2 may be different from the inclination angles of the third and fourth inner surfaces IS3 and IS4.
  • the inclination angles of the first and second inner surfaces IS1 and IS2 may be smaller than the inclination angles of the third and fourth inner surfaces IS3 and IS4. Accordingly, the light emitted from the light emitting device 500 may be reflected through the gentle first and second inner surfaces IS1 and IS2, thereby improving reflection efficiency.
  • the package body 100 may include a front surface S5 and a rear surface S6.
  • the front surface S5 of the package body 100 may be a surface on which the cavity 170 is disposed as a surface on which light emitted from the light emitting device 500 exits.
  • the cavity 170 may be recessed in the direction of the rear surface S6 from the front surface S5.
  • the rear surface S6 of the package body 100 may have a concave portion 180 on a surface opposite to the front surface S5.
  • the concave portion 180 may be disposed in an area corresponding to the light emitting device 500.
  • the concave portion 180 may be disposed in an area overlapping the light emitting device 500 in a vertical direction (z-axis direction).
  • the fourth side surface S4 may be a bottom portion of the package body 100 or the body 130 as shown in FIG. 1.
  • the fourth side surface S4 may be a surface facing the circuit board 810 to be described later.
  • the third side surface S3 may be an upper surface portion of the package body 100 or the body 130.
  • the first side surface S1 and the second side surface S2 may be side portions of the package body 100 or the body 130.
  • the light emitting device 500 may be disposed on the package body 100.
  • the light emitting device 500 may be disposed in the cavity 170.
  • the light emitting device 500 may be disposed at a position overlapping with the first frame 110 and the second frame 120 in a vertical direction.
  • the light emitting device 500 may be disposed on the first opening h11 and the second opening h12.
  • the light emitting device 500 may be disposed at a position overlapping the first and second openings h11 and h12 in a vertical direction.
  • the light emitting device 500 may be disposed on the body 130.
  • the light emitting device 500 may be disposed at a position overlapping the body 130 in a vertical direction (z-axis direction).
  • the light emitting device 500 may include a support region 590 around a bottom surface thereof.
  • the support region 590 of the light emitting device 500 may be disposed on the body 130.
  • the support region 590 may be spaced apart from the first and second openings h11 and h12.
  • the support region 590 may be located outside the first and second openings h11 and h12.
  • the support region 590 may not overlap with the first and second openings h11 and h12 in a vertical direction.
  • the support region 590 of the light emitting device 500 may directly contact the upper surface of the body 130.
  • the light emitting device 500 may include a light emitting structure 510, a first bonding part 501, and a second bonding part 502.
  • the first bonding part 501 and the second bonding part 502 may be disposed on the bottom surface of the light emitting structure 510.
  • the first and second bonding parts 501 and 502 may be spaced apart from each other.
  • the first bonding part 501 may face the first frame 110.
  • the first bonding part 501 may overlap the first frame 110 in a vertical direction.
  • the first bonding part 501 may overlap the first opening h11 in the vertical direction.
  • the first bonding part 501 may be disposed in the first opening h11.
  • a lower surface of the first bonding part 501 may be located below the upper surface of the body 130, and may be positioned above the lower surface of the first opening h11.
  • the second bonding unit 502 may face the second frame 120.
  • the second bonding part 502 may overlap the second frame 120 in a vertical direction.
  • the second bonding part 502 may overlap the second opening h12 in the vertical direction.
  • the second bonding part 502 may be disposed in the second opening h12.
  • the lower surface of the second bonding portion 502 may be located below the upper surface of the body 130.
  • a lower surface of the second bonding part 502 may be located below the upper surface of the body 130, and may be located above the lower surface of the second opening h12.
  • the light emitting structure 510 may include a compound semiconductor.
  • the light emitting structure 510 may be provided as, for example, a Group 2-6 or Group 3-5 compound semiconductor.
  • the light emitting structure 510 may include a first conductive semiconductor layer 511, an active layer 512, and a second conductive semiconductor layer 513.
  • the first conductivity-type semiconductor layer 511 and the second conductivity-type semiconductor layer 513 may be implemented as at least one of a compound semiconductor of Group 3-5 or 2-6.
  • the active layer 512 may be implemented with a compound semiconductor.
  • the active layer 512 may be implemented as at least one of a compound semiconductor of Groups 3-5 or 2-6.
  • the light emitting device 500 may include one or a plurality of light emitting cells therein.
  • the light emitting cell may include at least one of an n-p junction, a p-n junction, an n-p-n junction, and a p-n-p junction.
  • the plurality of light emitting cells may be connected in series with each other in one light emitting device. Accordingly, the light emitting device 500 may have one or a plurality of light emitting cells, and when n light emitting cells are disposed in one light emitting device, the light emitting device 500 may be driven at a driving voltage of n times.
  • each light emitting device when a driving voltage of one light emitting cell is 3V and two light emitting cells are arranged in one light emitting device, each light emitting device may be driven at a driving voltage of 6V.
  • each light emitting device when the driving voltage of one light emitting cell is 3V and three light emitting cells are arranged in one light emitting device, each light emitting device may be driven at a driving voltage of 9V.
  • the number of light emitting cells disposed in the light emitting device 500 may be one or two to five. The light emitting device 500 will be described in more detail with reference to FIGS. 8 and 9 to be described later.
  • the thickness t2 of the light emitting device 500 may be smaller than the height t1 of the cavity 170.
  • the thickness t2 of the light emitting device 500 disposed in the cavity 170 may be smaller than the height t1 of the cavity 170.
  • the thickness t2 of the light emitting device 500 may be about 35% to about 65% of the height t1 of the cavity 170.
  • the thickness t2 of the light emitting device 500 may be about 40% to about 60% of the height t1 of the cavity 170.
  • the thickness t2 of the light emitting device 500 disposed in the cavity 170 may be about 110 ⁇ m to about 130 ⁇ m
  • the height t1 of the cavity 170 may be about 220 ⁇ m to about 260. May be ⁇ m.
  • the thicknesses of the first bonding portion 501 and the second bonding portion 502 of the light emitting device 500 may be about 10 ⁇ m or less. In detail, the thicknesses of the first bonding portion 501 and the second bonding portion 502 of the light emitting device 500 may be about 8 ⁇ m or less. In more detail, the thicknesses of the first bonding portion 501 and the second bonding portion 502 of the light emitting device 500 may be about 5 ⁇ m or less.
  • the package body 100 may include a first frame 110 and a second frame 120.
  • the first frame 110 and the second frame 120 may be spaced apart from each other.
  • the first frame 110 and the second frame 120 may have different polarities.
  • the first frame 110 may be connected to the P-type electrode of the light emitting device 500
  • the second frame 120 may be connected to the N-type electrode of the light emitting device 500.
  • the first frame 110 may be connected to the first bonding unit 501 of the light emitting device 500
  • the second frame 120 may be the second bonding unit 502 of the light emitting device 500.
  • the first frame 110 may extend in the direction of the first side surface S1.
  • the first frame 110 may include a first lead portion 111 that is bent toward the fourth side surface S4 and protrudes from the fourth side surface S4.
  • the first lead part 111 may protrude in the direction of the fourth side surface S4.
  • the first frame 110 may further include a first heat dissipation part 113 bent from the first lead part 111 and disposed on a rear surface of the first side surface S1.
  • the second frame 120 may extend in the direction of the second side surface S2.
  • the second frame 120 may include a second lead portion 121 that is bent in the direction of the fourth side surface S4 and protrudes from the fourth side surface S4.
  • the second lead part 121 may protrude in the direction of the fourth side surface S4.
  • the second frame 120 may further include a second heat dissipation part 123 that is bent from the second lead part 121 and disposed on a rear surface of the second side surface S2.
  • the first frame 110 and the second frame 120 may be provided as a conductive frame.
  • the first frame 110 and the second frame 120 may be provided as a metal frame.
  • the first frame 110 and the second frame 120 may be electrically connected to the light emitting device 500.
  • the first frame 110 and the second frame 120 are copper (Cu), titanium (Ti), nickel (Ni), gold (Au), chromium (Cr), tantalum (Ta), platinum (Pt) ), Tin (Sn), and silver (Ag).
  • the first frame 110 and the second frame 120 may be formed in a single layer or multiple layers.
  • Each of the first frame 110 and the second frame 120 may have a thickness of about 120 ⁇ m or more. In detail, each of the first frame 110 and the second frame 120 may have a thickness of about 120 ⁇ m to about 250 ⁇ m. The first frame 110 and the second frame 120 may improve the structural strength of the package body 100, the thickness of which satisfies the above-described range in consideration of heat dissipation characteristics and electrical characteristics. Do.
  • Conductive units 610 and 620 may be disposed between the light emitting device 500 and the frames 110 and 120.
  • a first conductive part 610 and a second conductive part 620 may be disposed between the light emitting device 500 and the frames 110 and 120.
  • the first conductive part 610 may be disposed between the first bonding part 501 of the light emitting device 500 and the first frame 110.
  • the first conductive portion 610 may be disposed in an area overlapping with the first bonding portion 501 in the vertical direction.
  • the first conductive portion 610 may overlap the first opening h11 in the vertical direction.
  • the first conductive portion 610 may overlap with the first frame 110 in a vertical direction.
  • the first conductive portion 610 may be disposed on a bottom surface of the first bonding portion 501.
  • the first conductive portion 610 may directly contact the bottom surface of the first bonding portion 501.
  • the lower surface of the first conductive portion 610 may be located below the upper surface of the body 130.
  • the first conductive portion 610 may be disposed on a side surface of the first bonding portion 501.
  • the first conductive portion 610 may be disposed on a part or the entire area of the side surface of the first bonding portion 501.
  • the first conductive portion 610 may directly contact the side surface of the first bonding portion 501.
  • the first conductive portion 610 may be disposed on a bottom surface of the light emitting device 500.
  • the first conductive portion 610 may directly contact the bottom surface of the light emitting device 500.
  • the first conductive portion 610 may be disposed in the first opening h11.
  • the first conductive portion 610 may directly contact the inner surface of the first opening h11.
  • the first conductive portion 610 may be disposed on the first frame 110.
  • the first conductive portion 610 may be disposed on the first frame 110 exposed on the bottom surface of the first opening h11.
  • the first conductive part 610 may directly contact the upper surface of the first frame 110 exposed on the lower surface of the first opening h
  • the first conductive portion 610 may be disposed to surround the entire area of the first bonding portion 501 exposed on the bottom surface of the light emitting device 500.
  • the first conductive portion 610 may be disposed to surround the entire lower surface and the side surface of the first bonding portion 501. That is, the long axis length d2 of the first conductive part 610 may be longer than the long axis length d1 of the first bonding part 501 and may correspond to the horizontal width of the first opening h11. have. Accordingly, the long axis length d1 of the first bonding part 501 may be smaller than the horizontal width of the first opening h11.
  • the major axis lengths d1 and d2 of the first bonding part 501 and the first conductive part 610 may mean a width in a horizontal direction.
  • One side of the first conductive part 610 may be disposed on a plane different from one side of the first bonding part 501.
  • the lower surface area of the first conductive part 610 may be larger than the lower surface area of the first bonding part 501.
  • the first bonding part 501 may not be visually recognized by the first conductive part 610 from the outside.
  • the long axis length d2 of the first conductive portion 610 may be shorter or equal to the length of the first frame 110 exposed on the bottom surface of the first opening h11.
  • the first conductive part 610 may include at least one of Ag, Au, Sn, Cu, AgSn, AuSn, and an alloy of the above materials.
  • the first conductive portion 610 may include AgSn.
  • the first conductive portion 610 may include AgSn having a Sn ratio of about 2% to about 4%.
  • the first conductive portion 610 may include AgSn having a Sn ratio of about 3% to about 4%.
  • the first conductive portion 610 may include AgSn having a Sn ratio of about 3.5%.
  • % may mean weight% (wt%).
  • the first conductive portion 610 may have a first thickness t4.
  • the first conductive part 610 may have a first thickness t4 in a region where the lower surface of the light emitting device 500 and the first frame 110 overlap each other.
  • the light emitting device 500 may have a first thickness t4 between the lower surface of the light emitting device 500 on which the first bonding part 501 is not disposed and the first frame 110.
  • the first thickness t4 may be thicker than the thickness of the first bonding part 501.
  • the first thickness t4 of the first conductive portion 610 may be greater than or equal to the height of the first opening h11.
  • the first thickness t4 of the first conductive portion 610 may be about 30 ⁇ m or less. In detail, the first thickness t4 of the first conductive portion 610 may be about 5 ⁇ m to about 30 ⁇ m.
  • the first conductive portion 610 may have a second thickness t5.
  • the first conductive portion 610 may have a second thickness t5 between the first bonding portion 501 and the first frame 110.
  • the first conductive portion 610 may have a second thickness t5 in a region where the first bonding portion 501 and the first frame 110 overlap in a vertical direction.
  • the second thickness t5 may be thicker than the thickness of the first bonding part 501.
  • the second thickness t5 of the first conductive portion 610 may be smaller than the first thickness t4. Accordingly, the second thickness t5 of the first conductive portion 610 may be smaller than the height of the first opening h11.
  • the second thickness t5 of the first conductive portion 501 may be about 20 ⁇ m or less. In detail, the second thickness t5 of the first conductive portion 501 may be about 15 ⁇ m or less.
  • the first conductive portion 610 may be disposed on a side surface of the first bonding portion 501.
  • the first conductive portion 610 may have a first width d3 on the side surface of the first bonding portion 501.
  • the first width d3 may mean a horizontal width.
  • the first width d3 may correspond to the distance between the side surface of the first bonding part 501 and the inner surface of the first opening h11.
  • the first width d3 of the first conductive portion 610 may be about 20 ⁇ m or less.
  • the first width d3 of the first conductive portion 501 may be about 15 ⁇ m or less.
  • the first width d3 of the first conductive portion 501 may correspond to the second thickness t5.
  • the first bonding portion 501 and the first frame 110 may not be electrically connected.
  • the thickness of the first conductive portion 610 is increased to increase the overall thickness of the package. Can increase.
  • the second conductive portion 620 may be disposed between the second bonding portion 502 of the light emitting device 500 and the second frame 120.
  • the second conductive portion 620 may be disposed in an area overlapping with the second bonding portion 502 in a vertical direction.
  • the second conductive portion 620 may overlap the second opening h12 in the vertical direction.
  • the second conductive portion 620 may overlap the second frame 120 in a vertical direction.
  • the second conductive portion 620 may be disposed on the bottom surface of the second bonding portion 502.
  • the second conductive portion 620 may directly contact the bottom surface of the second bonding portion 502.
  • the lower surface of the second conductive portion 620 may be located below the upper surface of the body 130.
  • the second conductive portion 620 may be disposed on a side surface of the second bonding portion 502.
  • the second conductive portion 620 may be disposed on a portion or the entire area of the side surface of the second bonding portion 502.
  • the second conductive portion 620 may directly contact the side surface of the second bonding portion 502.
  • the second conductive portion 620 may directly contact the side surface of the second bonding portion 502.
  • the second conductive portion 620 may be disposed on the bottom surface of the light emitting device 500.
  • the second conductive portion 620 may directly contact the bottom surface of the light emitting device 500.
  • the second conductive portion 620 may be disposed in the second opening h12.
  • the second conductive portion 620 may directly contact the inner surface of the second opening h12.
  • the second conductive portion 620 may be disposed on the second frame 120.
  • the second conductive portion 620 may be disposed on the second frame 120 exposed on the bottom surface of the second opening h12.
  • the second conductive portion 620 may directly contact the upper surface of the second frame 120 exposed on the lower surface of the second opening h12.
  • the second conductive portion 620 may be disposed to surround the entire area of the second bonding portion 502 exposed on the bottom surface of the light emitting device 500.
  • the second conductive portion 620 may be disposed to surround the entire lower surface and the side surface of the second bonding portion 502. That is, the long axis length d2 of the second conductive part 620 may be longer than the long axis length d1 of the second bonding part 502 and may correspond to the horizontal width of the second opening h12. Can be. Accordingly, the long axis length d1 of the second bonding part 502 may be smaller than the horizontal width of the first opening h11.
  • the major axis lengths d1 and d2 of the second bonding part 502 and the second conductive part 620 may mean a width in a horizontal direction.
  • One side surface of the second conductive portion 620 may be disposed on a plane different from one side surface of the second bonding portion 502.
  • a lower surface area of the second conductive part 620 may be larger than a lower surface area of the second area.
  • the second bonding portion 502 may not be visually recognized by the second conductive portion 620 from the outside.
  • the long axis length d2 of the second conductive portion 620 may be shorter or equal to the length of the second frame 120 exposed on the bottom surface of the second opening h12.
  • the second conductive portion 620 may include at least one of Ag, Au, Sn, Cu, AgSn, AuSn, and an alloy of the above materials.
  • the first conductive portion 610 may include AgSn.
  • the second conductive portion 620 may include AgSn having a Sn ratio of about 2% to about 4%.
  • the second conductive portion 620 may include AgSn having a Sn ratio of about 3% to about 4%.
  • the second conductive portion 620 may include AgSn having a Sn ratio of about 3.5%.
  • % may mean weight% (wt%).
  • the second conductive portion 620 may include the same material as the first conductive portion 610 and may include a material having the same composition.
  • the second conductive portion 620 may have a thickness and a width corresponding to those of the first conductive portion 610.
  • the second conductive portion 620 may have a first thickness t4.
  • the second conductive portion 620 may have a first thickness t4 in a region where the lower surface of the light emitting device 500 and the second frame 120 overlap each other.
  • the second bonding part 502 may have a first thickness t4 between the lower surface of the light emitting device 500 and the second frame 120.
  • the first thickness t4 may be thicker than the thickness of the second bonding portion 502.
  • the first thickness t4 of the second conductive portion 620 may be greater than or equal to the height of the second opening h12.
  • the first thickness t4 of the second conductive portion 620 may be about 30 ⁇ m or less.
  • the first thickness t4 of the second conductive portion 620 may be about 5 ⁇ m to about 30 ⁇ m.
  • the second conductive portion 620 may have a second thickness t5.
  • the second conductive portion 620 may have a second thickness t5 between the second bonding portion 502 and the second frame.
  • the second conductive portion 620 may have a second thickness t5 in a region where the second bonding portion 502 and the second frame 120 overlap in a vertical direction.
  • the second thickness t5 may be thicker than the thickness of the second bonding portion 502.
  • the second thickness t5 of the second conductive portion 620 may be smaller than the first thickness t4. Accordingly, the second thickness t5 of the second conductive portion 620 may be smaller than the height of the first opening h11.
  • the second thickness t5 of the second conductive portion 620 may be about 20 ⁇ m or less. In detail, the second thickness t5 may be about 15 ⁇ m or less.
  • the second conductive portion 620 may be disposed on a side surface of the second bonding portion 502.
  • the second conductive portion 620 may have a first width d3 on the side surface of the second bonding portion 502.
  • the first width d3 may mean a horizontal width.
  • the first width d3 may correspond to the distance between the side surface of the second bonding portion 502 and the inner surface of the second opening h12.
  • the first width d3 of the second conductive portion 620 may be about 20 ⁇ m or less.
  • the first width d3 of the second conductive portion 620 may be about 15 ⁇ m or less.
  • the first width d3 of the second conductive portion 620 may correspond to the second thickness t5.
  • the second bonding portion 502 and the second frame 120 may not be electrically connected.
  • the thickness of the second conductive portion 620 is exceeded. May increase to increase the overall package thickness.
  • the first conductive portion 610 may be disposed in the first bonding portion 501.
  • the first conductive portion 610 may be deposited on the bottom and side surfaces of the first bonding portion 501.
  • the second conductive portion 620 may be disposed in the second bonding portion 502.
  • the second conductive portion 620 may be deposited on the bottom and side surfaces of the second bonding portion 502.
  • Each of the first and second conductive parts 610 and 620 may be formed through plating, physical vapor deposition (PVD), or the like.
  • the first and second conductive parts 610 and 620 may be electroplated, electroless plating, sputtering, e-beam evaporation, or thermal vapor deposition.
  • the first conductive part 610 may be connected to the first frame 110 after being deposited on the first bonding part 501.
  • the second conductive part 620 may be connected to the second frame 120 after being deposited on the second bonding part 502.
  • the flux may be formed on the first and second frames 110 and 120, respectively.
  • a flux may be disposed on the top surface of each of the frames 110 and 120 facing the bottom surface of the light emitting device 500.
  • flux may be disposed on a lower surface of the first opening h11 and a lower surface of the second opening h12.
  • the flux may include reducing materials such as rosin, resin, inorganic acid, organic acid, and the like. The flux may serve to fix the conductive parts 610 and 620 on the frames 110 and 120.
  • thermal pressing may be performed to fix the conductive parts 610 and 620 and the frames 110 and 120, and the conductive parts 610 and 620 and the frames 110 and 120 may be electrically connected to each other. have.
  • the conductive parts 610 and 620 may directly contact the frames 110 and 120.
  • the flux may be removed after the conductive parts 610 and 620 and the frames 110 and 120 are combined.
  • the first resin 210 may be disposed on the package body 100.
  • the first resin 210 may be disposed between the light emitting device 500 and the body 130.
  • the first resin 210 may be disposed between an upper surface of the body 130 and a rear surface of the light emitting device 500.
  • the first resin 210 may be disposed between the first bonding portion 501 and the second bonding portion 502 of the light emitting device 500.
  • the first resin 210 may be disposed between the first conductive portion 610 and the second conductive portion 620.
  • the first resin 210 may be disposed between the first opening h11 and the second opening h12.
  • the first resin 210 may include an adhesive material and / or a reflective material.
  • the first resin 210 may include at least one of an epoxy-based material, a silicon-based material, a hybrid material including an epoxy-based material and a silicon-based material. can do.
  • the adhesive may include white silicone.
  • the body 130 may include a recess.
  • the upper surface of the body 130 may be formed with at least one recessed concave in the direction of the lower surface of the body 130.
  • the concave portion may be disposed on a lower surface of the light emitting device 500.
  • the recess may have an entire region overlapping the light emitting device.
  • the first resin 210 may be provided in the recess.
  • the first resin 210 may control the supply position and the supply amount by the recess.
  • the first resin 210 may be attached to the light emitting device 500 and the body 130.
  • the first resin 210 may contact the first conductive portion 610 and the second conductive portion 620.
  • the first resin 210 may directly contact an outer surface of the first conductive portion 610 and an outer surface of the second conductive portion 620.
  • the first resin 210 may enhance the lower adhesive force and the support force of the light emitting device 500.
  • the first resin 210 may be formed of a reflective resin material to diffuse light, thereby improving reflection efficiency.
  • the second resin 220 may be further disposed on the package body 100.
  • the second resin 220 may be disposed on the body 130 disposed on the bottom surface of the cavity 170.
  • the second resin 220 may be disposed outside the first and second openings h11 and h12.
  • the second resin 220 may be disposed around the light emitting device 500.
  • the second resin 220 may include an adhesive material and / or a reflective material.
  • the first resin 210 may include at least one of an epoxy-based material, a silicon-based material, a hybrid material including an epoxy-based material and a silicon-based material. can do.
  • the adhesive may include white silicone.
  • the second resin 220 may contact the side surface of the light emitting device 500. Accordingly, the second resin 220 may enhance side adhesion of the light emitting device 500 and may improve reflection efficiency.
  • the light emitting device package 1000 may further include a molding part 300.
  • the molding part 300 may be provided on the body 130 and the light emitting device 500.
  • the molding part 400 may be disposed in the cavity 170 provided by the upper body 135.
  • the molding part 300 may be disposed to surround the light emitting device 500.
  • the molding part 300 may include an insulating material.
  • the molding part 300 may include wavelength conversion means for receiving the light emitted from the light emitting device 500 and providing the wavelength-converted light.
  • the molding part 300 may be at least one selected from the group including phosphors, quantum dots, and the like.
  • the light emitting device 500 may emit light of yellow, blue, green, red, white, infrared or ultraviolet light.
  • the phosphor or quantum dot may emit light of blue, green, and red.
  • the molding part 300 may not be formed.
  • the phosphor disposed inside or below the molding part 300 may include a phosphor of a fluoride compound, and may include, for example, at least one of an MGF phosphor, a KSF phosphor, or a KTF phosphor.
  • the phosphor may emit different peak wavelengths, and the light emitted from the light emitting device may emit light of different yellow and red colors or different red peak wavelengths.
  • One kind of the phosphor may include a red phosphor.
  • the red phosphor may have a wavelength range of 610 nm to 650 nm, and the wavelength may have a half width of less than 10 nm.
  • the red phosphor may include a fluoride-based phosphor.
  • the fluorite-based phosphor is KSF red K 2 SiF 6 : Mn 4+ , K 2 TiF 6 : Mn 4+ , NaYF 4 : Mn 4+ , NaGdF 4 : Mn 4+ , K 3 SiF 7 : Mn 4+ It may include at least one of.
  • the KSF-based phosphor may have a composition formula of KaSi 1-c Fb: Mn 4+ c , wherein a is 1 ⁇ a ⁇ 2.5, b is 5 ⁇ b ⁇ 6.5, and c is 0.001 ⁇ c ⁇ 0.1 Can be satisfied.
  • the fluorite-based red phosphor may further include an organic coating on the surface of the fluoride or Mn-containing fluoride or the surface of the fluoride coating does not contain Mn in order to improve the reliability at high temperature / high humidity.
  • an organic coating on the surface of the fluoride or Mn-containing fluoride or the surface of the fluoride coating does not contain Mn in order to improve the reliability at high temperature / high humidity.
  • the phosphor composition according to the embodiment should basically conform to stoichiometry, and each element may be substituted with another element in each group on the periodic table.
  • Sr may be substituted with Ba, Ca, Mg, etc. of the alkaline earth (II) group
  • Y may be substituted with Tb, Lu, Sc, Gd, etc. of the lanthanide series.
  • the active agent Eu, etc. may be substituted with Ce, Tb, Pr, Er, Yb, etc. according to a desired energy level, and an active agent alone or a deactivator may be additionally applied to modify properties.
  • the quantum dot phosphor may include a II-VI compound or a III-V compound semiconductor, and may emit red light.
  • the quantum dot is, for example, ZnS, ZnSe, ZnTe, CdS, CdSe, CdTe, GaN, GaP, GaAs, GaSb, InP, InAs, In, Sb, AlS, AlP, AlAs, PbS, PbSe, Ge, Si, CuInS2, CuInSe2 And combinations thereof.
  • the light emitting device package 1000 according to the embodiment includes a light emitting device that emits ultraviolet (UV) light
  • the molding part 300 may be omitted.
  • conductive parts 610 and 620 may be formed on the bonding parts 501 and 502 of the light emitting device 500, and may be formed between the frames 110 and 120 and the conductive parts 610 and 620.
  • the formation of voids can be prevented. Accordingly, cracks due to thermal shock may be prevented between the frames 110 and 120 and the conductive parts 610 and 620.
  • the conductive parts 610 and 620 are formed on the bonding parts 501 and 502 of the light emitting device 500, so that the light emitting device 500 is easily connected to the frames 110 and 120. You can.
  • the size of the light emitting device is gradually reduced, there is a difficulty in soldering between the small light emitting device 500 and the frames 110 and 120.
  • soldering such as alignment problems, voids, and cracks may occur between the light emitting device 500 and the frames 110 and 120. Defects can be prevented.
  • the conductive parts 610 and 620 are disposed to surround side surfaces and lower surfaces of the bonding parts 501 and 502, thereby improving coupling force between the bonding parts 501 and 502 and the conductive parts 610 and 620.
  • the heat emitted from the light emitting device 500 may be effectively discharged. Accordingly, the embodiment can improve the heat dissipation characteristics of the light emitting device package.
  • the first conductive portion 610 may be disposed between the first bonding portion 501 of the light emitting device 500 and the first frame 110.
  • the first conductive portion 610 may be disposed in an area overlapping with the first bonding portion 501 in the vertical direction.
  • the first conductive portion 610 may overlap the first opening h11 in the vertical direction.
  • the first conductive portion 610 may overlap with the first frame 110 in a vertical direction.
  • the first conductive portion 610 may be disposed on a bottom surface of the first bonding portion 501.
  • the first conductive portion 610 may directly contact the bottom surface of the first bonding portion 501.
  • first conductive portion 610 may be spaced apart from the side surface of the first bonding portion 501.
  • the light emitting device 500 may be spaced apart from the lower surface.
  • the first conductive portion 610 may be disposed on the first frame 110.
  • the first conductive portion 501 may be disposed on the first frame 110 exposed on the bottom surface of the first opening h11.
  • the first conductive part 610 may directly contact the top surface of the first frame 110 exposed on the bottom surface of the first opening h11.
  • the first conductive portion 610 may be disposed on the entire lower surface of the first bonding portion 501.
  • the long axis length d2 of the first conductive part 610 may correspond to the long axis length d1 of the first bonding part 501, and may correspond to a horizontal width of the first opening h11. have. Accordingly, the long axis length d1 of the first bonding part 501 may correspond to the horizontal width of the first opening h11.
  • the major axis lengths d1 and d2 of the first bonding part 501 and the first conductive part 610 may mean a width in a horizontal direction.
  • One side surface of the first conductive portion 610 may be disposed on the same plane as one side surface of the first bonding portion 501.
  • One side surface of the first conductive portion 610 may be disposed on the same plane as the inner surface of the first opening h11. Accordingly, the upper surface area of the first conductive portion 610 may correspond to the lower surface area of the first bonding portion 501.
  • the long axis length d2 of the first conductive part 610 may be shorter or equal to the length of the first frame 110 exposed on the bottom surface of the first opening h11.
  • the first conductive portion 610 may have a second thickness t5.
  • the first conductive portion 610 may have a second thickness t5 between the first bonding portion 501 and the first frame 110.
  • the second thickness t5 of the first conductive portion 610 may be thicker than the thickness of the first bonding portion 501.
  • the second thickness t5 of the first conductive portion 610 may be about 20 ⁇ m or less. In detail, the second thickness t5 of the first conductive portion 610 may be about 15 ⁇ m or less.
  • the second conductive portion 620 may be disposed between the second bonding portion 502 and the second frame 120 of the light emitting device 500.
  • the second conductive portion 620 may be disposed in an area overlapping with the second bonding portion 502 in a vertical direction.
  • the second conductive portion 620 may overlap the second opening h12 in the vertical direction.
  • the second conductive portion 620 may overlap the second frame 120 in a vertical direction.
  • the second conductive portion 620 may be disposed on the bottom surface of the second bonding portion 502.
  • the second conductive portion 620 may directly contact the bottom surface of the second bonding portion 502.
  • the second conductive portion 620 may be spaced apart from the side surface of the second bonding portion 502.
  • the light emitting device 500 may be spaced apart from the lower surface.
  • the second conductive portion 620 may be disposed on the second frame 120.
  • the second conductive portion 620 may be disposed on the second frame 120 exposed on the bottom surface of the second opening h12.
  • the second conductive portion 620 may directly contact the upper surface of the second frame 120 exposed on the lower surface of the second opening h12.
  • the second conductive portion 620 may be disposed on the entire lower surface of the second bonding portion 502.
  • the long axis length d2 of the second conductive part 620 may correspond to the long axis length d1 of the second bonding part 502, and may correspond to the horizontal width of the second opening h12. have. Accordingly, the long axis length d1 of the second bonding part 502 may correspond to the horizontal width of the second opening h12.
  • the major axis lengths d1 and d2 of the second bonding part 502 and the second conductive part 620 may mean a width in a horizontal direction.
  • One side surface of the second conductive portion 620 may be disposed on the same plane as one side surface of the second bonding portion 502.
  • One side surface of the second conductive portion 620 may be disposed on the same plane as the inner surface of the second opening h12. Accordingly, the upper surface area of the second conductive portion 620 may correspond to the lower surface area of the second bonding portion 502.
  • the long axis length d2 of the first conductive portion 610 may be shorter or equal to the length of the first frame 110 exposed on the bottom surface of the second opening h12.
  • the second conductive portion 620 may have a second thickness t5.
  • the second conductive portion 620 may have a second thickness t5 between the second bonding portion 502 and the second frame 120.
  • the second thickness t5 of the second conductive portion 620 may be thicker than the thickness of the second bonding portion 502.
  • the second thickness t5 of the second conductive portion 620 may be about 20 ⁇ m or less. In detail, the second thickness t5 of the second conductive portion 620 may be about 15 ⁇ m or less.
  • the bonding parts 501 and 502 and the frames 110 and 120 may not be connected.
  • the second thickness t5 exceeds the above-described range, the thickness of the conductive parts 610 and 620 may be increased to increase the overall thickness of the package.
  • conductive parts 610 and 620 may be formed on the bonding parts 501 and 502 of the light emitting device 500, and may be formed between the frames 110 and 120 and the conductive parts 610 and 620.
  • the formation of voids can be prevented. Accordingly, cracks due to thermal shock may be prevented between the frames 110 and 120 and the conductive parts 610 and 620.
  • the conductive parts 610 and 620 are formed on the bonding parts 501 and 502 of the light emitting device 500 to easily connect the light emitting device 500 to the frames 110 and 120. You can. In detail, as the size of the light emitting device is gradually reduced, there is a difficulty in soldering between the small light emitting device 500 and the frames 110 and 120. However, in some embodiments, as the conductive parts 610 and 620 are formed in advance, soldering such as alignment problems, voids, and cracks may occur between the light emitting device 500 and the frames 110 and 120. Defects can be prevented.
  • the conductive parts 610 and 620 directly contact the lower surfaces of the bonding parts 501 and 502 and have an area corresponding to the lower surfaces of the bonding parts 501 and 502. The heat released can be effectively discharged. Accordingly, the embodiment can improve the heat dissipation characteristics of the light emitting device package.
  • the first conductive portion 610 may be disposed between the first bonding portion 501 of the light emitting device 500 and the first frame 110.
  • the first conductive portion 610 may be disposed in an area overlapping with the first bonding portion 501 in the vertical direction.
  • the first conductive portion 610 may overlap the first opening h11 in the vertical direction.
  • the first conductive portion 610 may overlap with the first frame 110 in a vertical direction.
  • the first conductive portion 610 may be disposed on a bottom surface of the first bonding portion 501.
  • the first conductive portion 610 may directly contact the bottom surface of the first bonding portion 501.
  • the first conductive portion 610 may be spaced apart from the side surface of the first bonding portion 501.
  • the light emitting device 500 may be spaced apart from the bottom surface.
  • the first conductive portion 610 may be disposed on the first frame 110.
  • the first conductive portion 610 may be disposed on the first frame 110 exposed on the bottom surface of the first opening h11.
  • the first conductive part 610 may directly contact the top surface of the first frame 110 exposed on the bottom surface of the first opening h11.
  • the first conductive portion 610 may be disposed on a portion of the lower surface of the first bonding portion 501.
  • the long axis length d2 of the first conductive part 610 may be shorter than the long axis length d1 of the first bonding part 501 and may be shorter than the horizontal width of the first opening h11.
  • the long axis length d1 of the first bonding part 501 may correspond to the horizontal width of the first opening h11.
  • the major axis lengths d1 and d2 of the first bonding part 501 and the first conductive part 610 may mean a width in a horizontal direction.
  • One side of the first conductive part 610 may be disposed on a plane different from one side of the first bonding part 501.
  • One side surface of the first conductive portion 610 may be spaced apart from an inner side surface of the first opening h11.
  • the first conductive portion 610 and the first opening h11 may have a second width d4.
  • the side surface of the first conductive portion 610 and the inner surface of the first opening h11 may be spaced apart by a second width d4.
  • the second width d4 may be about 20 ⁇ m or less.
  • the second width d4 may be about 15 ⁇ m or less.
  • An upper surface area of the first conductive portion 610 may be smaller than an area of the lower surface of the first bonding portion 501.
  • the long axis length d2 of the first conductive portion 610 may be shorter than the length of the first frame 110 exposed on the bottom surface of the first opening h11.
  • a lower surface area of the first conductive part 610 may be smaller than an upper surface area of the first frame 110 exposed on the lower surface of the first opening h11.
  • a portion of the lower surface of the first bonding part 501 may be exposed.
  • a part of the lower surface of the first bonding part 501 may be exposed. have. Accordingly, a gap may be formed between the first bonding part 501 and the first frame 110. The flux may be disposed in the gap, and the coupling force between the first bonding part 501, the first conductive part 610, and the first frame 110 may be improved by the flux.
  • the second conductive portion 620 may be disposed between the second bonding portion 502 and the second frame 120 of the light emitting device 500.
  • the second conductive portion 620 may be disposed in an area overlapping with the second bonding portion 502 in a vertical direction.
  • the second conductive portion 620 may overlap the second opening h12 in the vertical direction.
  • the second conductive portion 620 may overlap the second frame 120 in a vertical direction.
  • the second conductive portion 620 may be disposed on the bottom surface of the second bonding portion 502.
  • the second conductive portion 620 may directly contact the bottom surface of the second bonding portion 502.
  • the second conductive portion 620 may be spaced apart from the side surface of the second bonding portion 502.
  • the light emitting device 500 may be spaced apart from the bottom surface.
  • the second conductive portion 620 may be disposed on the second frame 120.
  • the second conductive portion 620 may be disposed on the second frame 120 exposed on the bottom surface of the second opening h12.
  • the second conductive portion 620 may directly contact the upper surface of the second frame 120 exposed on the lower surface of the second opening h12.
  • the second conductive portion 620 may be disposed on a portion of the lower surface of the second bonding portion 502.
  • the long axis length d2 of the second conductive part 620 may be shorter than the long axis length d1 of the first bonding part 501, and may be shorter than the horizontal width of the second opening h12.
  • the long axis length d1 of the second bonding part 502 may correspond to the horizontal width of the second opening h12.
  • the major axis lengths d1 and d2 of the second bonding part 502 and the second conductive part 620 may mean a width in a horizontal direction.
  • One side surface of the second conductive portion 620 may be disposed on a plane different from one side surface of the second bonding portion 502.
  • One side surface of the second conductive portion 620 may be spaced apart from the inner surface of the second opening h12.
  • the second conductive portion 620 and the second opening h12 may have a second width d4.
  • the side surface of the second conductive portion 620 and the inner surface of the second opening h12 may be spaced apart by a second width d4.
  • the second width d4 may be about 20 ⁇ m or less.
  • the second width d4 may be about 15 ⁇ m or less.
  • An upper surface area of the second conductive part 620 may be smaller than a lower surface area of the second bonding part 502.
  • the long axis length d2 of the second conductive portion 620 may be shorter than the length of the second frame 120 exposed on the bottom surface of the second opening h12.
  • a lower surface area of the second conductive part 620 may be smaller than an upper surface area of the second frame 120 exposed on the lower surface of the second opening h12.
  • a portion of the lower surface of the second bonding unit 502 may be exposed.
  • a part of the lower surface of the second bonding part 502 may be exposed. have. Accordingly, a gap may be formed between the second bonding part 502 and the second frame 120. The flux may be disposed in the gap, and the coupling force between the second bonding part 502, the second conductive part 620, and the second frame 120 may be improved by the flux.
  • conductive parts 610 and 620 may be formed on the bonding parts 501 and 502 of the light emitting device 500, and may be formed between the frames 110 and 120 and the conductive parts 610 and 620.
  • the formation of voids can be prevented. Accordingly, cracks due to thermal shock may be prevented between the frames 110 and 120 and the conductive parts 610 and 620.
  • the conductive parts 610 and 620 are formed on the bonding parts 501 and 502 of the light emitting device 500, so that the light emitting device 500 is easily connected to the frames 110 and 120. You can.
  • the size of the light emitting device is gradually reduced, there is a difficulty in soldering between the small light emitting device 500 and the frames 110 and 120.
  • soldering such as alignment problems, voids, and cracks may occur between the light emitting device 500 and the frames 110 and 120. Defects can be prevented.
  • the conductive parts 610 and 620 are disposed in direct contact with the lower surfaces of the bonding parts 501 and 502 and the upper surfaces of the frames 110 and 120, thereby effectively absorbing heat emitted from the light emitting device 500. Can be discharged. Accordingly, the embodiment can improve heat dissipation characteristics of the light emitting device package 1000.
  • a gap may be formed between the bonding parts 501 and 502 and the frames 110 and 120. Flux may be disposed in the gap. Accordingly, the bonding force between the bonding parts 501 and 502, the conductive parts 610 and 620, and the frame may be improved.
  • FIG. 7 is a sectional view taken along the line A-A 'illustrating a modification of the frame in the light emitting device package of FIG.
  • the package body 100 may include a first frame 110 and a second frame 120.
  • the first frame 110 may be disposed on an area corresponding to the first bonding part 501 of the light emitting device 500.
  • the first frame 110 may be electrically connected to the first bonding part 501.
  • the second frame 120 may be disposed on an area corresponding to the second bonding part 502 of the light emitting device 500.
  • the second frame 120 may be electrically connected to the second bonding part 502.
  • the first frame 110 may include a first support part 115 that is bent from the bottom surface of the cavity 170 toward the rear surface S6 of the package body 100.
  • the first support part 115 may be disposed in the package body 100.
  • the first support part 115 may be disposed between the lower surface of the cavity 170 and the rear surface S6 of the package body 100 without being exposed to the lower surface of the cavity 170.
  • the first support part 115 may be disposed closer to the bottom surface of the cavity 170 than to the rear surface S6 of the package body 100.
  • Both ends 116 and 117 of the first support 115 are bent portions, and both ends 116 and 117 are disposed in the first frame 110 and the package body 100. 119).
  • the thickness of both ends 116 and 117 of the first support 115 may be thinner than the thickness of the first frame 110.
  • the thicknesses of both ends 116 and 117 of the first support 115 may be thinner than the thickness of the first inner frame 119.
  • the second frame 120 may include a second support part 125 that is bent from the bottom surface of the cavity 170 toward the rear surface S6 of the package body 100.
  • the second support part 125 may be disposed in the package body 100.
  • the second support part 125 may be disposed between the lower surface of the cavity 170 and the rear surface S6 of the package body 100 without being exposed to the lower surface of the cavity 170.
  • the second support part 125 may be disposed closer to the bottom surface of the cavity 170 than to the rear surface S6 of the package body 100.
  • Both ends 126 and 127 of the second support part 125 are bent portions, and both ends 126 and 127 are second internal frames disposed inside the first frame 110 and the package body 100. 129).
  • the thicknesses of both ends 126 and 127 of the second support part 125 may be thinner than the thickness of the second frame 120. In addition, the thickness of both ends 126 and 127 of the second support part 125 may be thinner than the thickness of the second inner frame 129.
  • the package body 100 may include support portions 115 and 125 bent at both ends thereof to increase a contact area between the body 130 and the first and second frames 110 and 120. Accordingly, the coupling force between the body 130, the first frame 110, and the second frame 120 may be improved, thereby improving reliability of the light emitting device package 1000.
  • FIG. 8 is a plan view of a light emitting device according to the embodiment.
  • a light emitting device 500 may include a substrate 505, a light emitting structure 510, a conductive layer 530, a reflective layer 560, a first electrode 541, and a second electrode.
  • the electrode 542 may include a first bonding part 501, a second bonding part 502, and a protective layer 550.
  • the first and second bonding parts 501 and 502 may be disposed on the light emitting structure 510.
  • the first and second bonding parts 501 and 502 may be disposed on one surface of the light emitting device 500, and may be disposed in a package in a flip chip method or on a circuit board.
  • the substrate 505 may be disposed under the light emitting structure.
  • the substrate 505 may be a translucent material or an insulating material.
  • the substrate 505 may be selected from a group including sapphire substrate (Al 2 O 3 ), SiC, GaAs, GaN, ZnO, Si, GaP, InP, Ge.
  • an uneven pattern 502 may be disposed on an upper surface of the substrate 505.
  • the concave-convex pattern 502 may be arranged with a plurality of convex portions, and may change the critical angle of incident light.
  • a convex portion or a concave portion may be disposed on at least one of an upper surface and a lower surface of the substrate 505.
  • the substrate 505 may provide a surface for emitting light emitted from the inside of the light emitting device 500.
  • the substrate 505 may be removed, but is not limited thereto.
  • the light emitting structure 510 may be provided as a compound semiconductor.
  • the light emitting structure 510 may be provided as, for example, a group 2-6 or 3-5 compound semiconductor.
  • the light emitting structure 510 may include at least two elements selected from aluminum (Al), gallium (Ga), indium (In), phosphorus (P), arsenic (As), and nitrogen (N). Can be.
  • the light emitting structure 510 may include a plurality of compound semiconductor layers.
  • the light emitting structure 510 may include, for example, a first conductivity type semiconductor layer 511, a second conductivity type semiconductor layer 513, the first conductivity type semiconductor layer 511, and the second conductivity type semiconductor layer 513. It may include an active layer 512 disposed between.
  • the first conductivity type semiconductor layer 511 may be disposed on the substrate 505.
  • a single layer or multiple compound semiconductor layers may be disposed between the first conductivity type semiconductor layer 511 and the substrate 505.
  • the light emitting structure 510 may emit blue, green, red, ultraviolet, or infrared light.
  • the first conductivity type semiconductor layer 511 may be disposed under the active layer 512.
  • the first conductivity type semiconductor layer 511 may be disposed between the active layer 512 and the substrate 505.
  • the first conductivity type semiconductor layer 511 may be provided as, for example, a Group 2-6 compound semiconductor or a Group 3-5 compound semiconductor.
  • the first conductive semiconductor layer 511 is a semiconductor having a composition formula of In x Al y Ga 1-xy N (0 ⁇ x ⁇ 1, 0 ⁇ y ⁇ 1, 0 ⁇ x + y ⁇ 1). Material or a semiconductor material having a compositional formula of (Al x Ga 1-x ) y In 1-y P (0 ⁇ x ⁇ 1, 0 ⁇ y ⁇ 1).
  • the first conductive semiconductor layer 511 may be selected from the group consisting of GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, AlGaInP, AlInP, GaInP, and the like.
  • the n-type dopant selected from the group containing Si, Ge, Sn, Se, Te, and the like may be doped.
  • the first conductivity type semiconductor layer 511 may be a single layer or a multilayer structure or may include a superlattice structure.
  • the active layer 512 may be disposed on the first conductivity type semiconductor layer 511.
  • the active layer 512 may be in contact with the first conductive semiconductor layer 511 and the second conductive semiconductor layer 513.
  • the active layer 512 may be provided as, for example, a Group 2-6 compound semiconductor or a Group 3-5 compound semiconductor.
  • the active layer 512 is a semiconductor material having a composition formula of In x Al y Ga 1-xy N (0 ⁇ x ⁇ 1, 0 ⁇ y ⁇ 1, 0 ⁇ x + y ⁇ 1) or (Al x Ga 1-x ) y In 1-y P (0 ⁇ x ⁇ 1, 0 ⁇ y ⁇ 1).
  • the active layer 512 may be selected from the group including GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, AlGaInP, AlInP, GaInP, and the like.
  • the active layer 512 may be provided in a multi-well structure, and may include a plurality of barrier layers and a plurality of well layers.
  • the active layer 512 may emit light of at least one of blue, green, red, ultraviolet, or infrared light.
  • the second conductivity type semiconductor layer 513 may be disposed on the active layer 512.
  • the second conductivity type semiconductor layer 513 may be disposed between the active layer 512 and the conductive layer 530.
  • the second conductivity type semiconductor layer 513 may be provided as, for example, a Group 2-6 compound semiconductor or a Group 3-5 compound semiconductor.
  • the second conductive semiconductor layer 513 is a semiconductor having a composition formula of In x Al y Ga 1-xy N (0 ⁇ x ⁇ 1, 0 ⁇ y ⁇ 1, 0 ⁇ x + ⁇ 1). Material or a semiconductor material having a compositional formula of (Al x Ga 1-x ) y In 1-y P (0 ⁇ x ⁇ 1, 0 ⁇ y ⁇ 1).
  • the second conductive semiconductor layer 513 may be selected from the group including GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, AlGaInP, AlInP, GaInP, and the like.
  • the p-type dopant selected from the group containing Mg, Zn, Ca, Sr, Ba and the like may be doped.
  • the second conductivity type semiconductor layer 513 may be disposed in a single layer or multiple layers, or may include a superlattice structure.
  • the first conductive semiconductor layer 511 may be provided as an n-type semiconductor layer, and the second conductive semiconductor layer 513 may be provided as a p-type semiconductor layer.
  • the first conductivity type semiconductor layer 511 may be provided as a p-type semiconductor layer, and the second conductivity type semiconductor layer 513 may be provided as an n-type semiconductor layer.
  • the first conductive semiconductor layer 511 is provided as an n-type semiconductor layer, and the second conductive semiconductor layer 513 will be described based on the case where the p-type semiconductor layer is provided. .
  • the first conductivity type semiconductor layer 511 may be connected to the first electrode 541.
  • the second conductivity type semiconductor layer 513 may be connected to at least one or both of the conductive layer 530 and the second electrode 542.
  • the light emitting structure 510 may include a plurality of first recesses h1 as shown in FIG. 9.
  • the plurality of first recesses h1 may be a stepped region in which the upper portion 511a of the first conductive semiconductor layer 511 is exposed on the upper surface of the light emitting structure 510.
  • the first recess h1 may be disposed in an area corresponding to the opening h2 illustrated in FIG. 8.
  • the first recess h1 may be disposed on an area where the light emitting structure 510 and the first electrode 541 overlap.
  • the plurality of first recesses h1 may be disposed through the conductive layer 530, the second conductive semiconductor layer 513, and the active layer 512.
  • the plurality of first recesses h1 may be spaced apart from each other on the light emitting structure 510.
  • the plurality of first recesses h1 may be arranged in first and second directions (x-axis and y-axis directions).
  • the plurality of first recesses h1 may be disposed at equal intervals in the first direction, and may be disposed at equal intervals in the second direction.
  • the first recess h1 may have an upper width or upper area wider than a lower width or lower area.
  • the upper shape of the first recess h1 may be a polygonal shape or a circular shape.
  • the light emitting structure 510 may include a low stepped outer portion 511b around the outer periphery.
  • the outer portion 511b may be disposed inside the side of the substrate 505 and lower than the top surface of the light emitting structure 510.
  • the conductive layer 530, the current spreading layer 520, the first electrode 541, the second electrode 542, and the reflective layer 560 may be disposed on the light emitting structure 510.
  • the conductive layer 530 may be disposed on the light emitting structure 530.
  • the conductive layer 530 may be disposed on the second conductive semiconductor layer 513.
  • the conductive layer 530 may be connected to the second electrode 542 and diffuse current.
  • the conductive layer 530 may include at least one selected from the group consisting of metals, metal oxides, and metal nitrides.
  • the conductive layer 530 may include a light transmissive material.
  • the conductive layer 530 may be formed of, for example, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), indium zinc oxide (IZON), indium zinc tin oxide (IZTO), indium aluminum zinc oxide (IZO), or indium IGZO (IGZO).
  • IGTO gallium zinc oxide
  • IGTO indium gallium tin oxide
  • AZO aluminum zinc oxide
  • ATO antimony tin oxide
  • GZO gallium zinc oxide
  • An upper surface area of the conductive layer 530 may be smaller than an upper surface area of the second conductive semiconductor layer 513.
  • the conductive layer 530 is a transparent layer and may be provided in a single layer or multiple layers.
  • the conductive layer 530 may be disposed in an area of 80% or more of the area of the upper surface of the light emitting structure 510 to improve electrical characteristics of the light emitting device.
  • the reflective layer 560 may reflect light emitted from the light emitting structure 510.
  • the reflective layer 560 may be formed of an insulating material and / or a metallic material.
  • the reflective layer 560 may include a distributed bragg reflector (DBR) or an omni directional reflector (ODR).
  • the reflective layer 560 may include a DBR structure in which first and second layers having different refractive indices are alternately stacked.
  • the reflective layer 560 may alternately stack at least two layers having different refractive indices, and the first layer may be any one of Al 2 O 3 , TiO 2, and SiO 2 , and the second layer may be Al 2 O 3 , Ta 2. It may be another one of O 5 and SiO 2 .
  • the reflective layer 560 may be disposed on the outer portion 511b of the light emitting structure 510.
  • the bottom of the outer portion 511b may be disposed lower than the top surface of the active layer 512.
  • An upper portion of an outer surface of the light emitting structure 510 may be provided as an inclined surface on the outer portion 511b.
  • the reflective layer 560 covers the outer portion 511b of the light emitting structure 510, the active layer 512 of the light emitting structure 510 may be prevented from being exposed. Since the reflective layer 560 extends to the side surface of the active layer 512 of the light emitting structure 510, the light reflection efficiency may be improved.
  • a portion of the reflective layer 560 may be disposed on the plurality of first recesses h1.
  • the reflective layer 560 may include an opening h2 corresponding to the upper portion 511a of the first conductivity type semiconductor layer 511 and connected to the upper portion 511a.
  • the opening h2 may have a wide upper portion and a narrow lower portion.
  • First openings k1 of the first electrodes 541 may be disposed in the opening h2, respectively.
  • the first contact portion k1 may be in contact with the upper portion 511a of the first conductivity type semiconductor layer 511. Accordingly, the first conductivity type semiconductor layer 511 may be electrically connected to the first electrode 541.
  • the reflective layer 560 may include a plurality of through holes h3.
  • the second contact portion k2 of the second electrode 542 may be disposed in the through hole h3.
  • the plurality of through holes h3 may be disposed in an area overlapping the second electrode 542 in the vertical direction. As illustrated in FIG. 8, a plurality of through holes h3 may be arranged in a first direction, and a plurality of through holes h3 may be arranged in a second direction.
  • the through holes h3 may be arranged at equal intervals in the first direction, and may be disposed at equal intervals in the second direction. When the through holes h3 are arranged at uniform intervals in each of these directions, the current may be supplied in a uniform distribution through the second contact portion k2.
  • the current spreading layer 520 may be disposed on the light emitting structure 510.
  • the current spreading layer 520 may be disposed on the second conductivity type semiconductor layer 513.
  • the current spreading layer 520 may contact the top surface of the second conductivity type semiconductor layer 513.
  • the current spreading layer 520 may be disposed between the second conductivity type semiconductor layer 513 and the conductive layer 530.
  • the current spreading layer 520 may be disposed in a region corresponding to the second contact portion k2 of the second electrode 542 among regions between the conductive layer 530 and the light emitting structure 510.
  • the current spreading layer 520 may block or block an input current to diffuse in the horizontal direction through the conductive layer 530.
  • the current spreading layer 520 may be formed of an oxide or a nitride, or may be formed of an insulating material or a metal material.
  • the current spreading layer 520 may overlap with the second contact portion k2 in a vertical direction.
  • the current spreading layer 520 may be disposed in a plurality of regions. The current spreading layer 520 may prevent the current from being concentrated under the second electrode 542.
  • the through hole h3 of the reflective layer 560 may be disposed to overlap the current diffusion layer 520 in a vertical direction. Accordingly, the current injected through the second contact portion k2 may be diffused through the current spreading layer 520.
  • the current spreading layer 520 may be disposed in a dot shape and may be disposed in an area overlapping with the first and second bonding parts 501 and 502 or be disposed under the through hole h3, respectively.
  • the first electrode 541 and the second electrode 542 may be disposed on the reflective layer 560.
  • the first electrode 541 may be disposed on the reflective layer 560.
  • the first electrode 541 may be in contact with the surface of the reflective layer 560.
  • the second electrode 542 may be in contact with the surface of the reflective layer 560.
  • the first electrode 541 may include a first contact portion k1.
  • the first contact portions k1 may protrude through the openings h2, and may be spaced apart from each other.
  • the first contact portion k1 may be connected to and contact the first conductivity-type semiconductor layer 511 through the opening h2 of the reflective layer 560.
  • the first electrode 541 may be disposed in a first bonding region between the light emitting structure 510 and the first bonding portion 501.
  • the first electrode 541 may extend from the first bonding region to a second bonding region between the light emitting structure 510 and the second bonding portion 502.
  • the first electrode 541 is a first extension 541a extending to the second bonding region, and a second extension 541b connected between the first electrode 541 and the first extension 541a. It may include.
  • the first extension part 541a and the second extension part 541b may be connected to the first electrode 541.
  • the first and second extensions 541a and 541b may extend from the first electrode 541 with a long length in the first direction.
  • the first electrode 541 may be disposed in the open area h10 of the second electrode 542.
  • the first electrode 541 and the second electrode 542 may be spaced apart from each other.
  • the first electrode 541 and the second electrode 542 may be separated or insulated from each other by the protective layer 550.
  • the second electrode 542 may extend in the direction of the first bonding region or the first bonding portion 571 from the second bonding region below the second bonding portion 572.
  • the second electrode 542 is a third extension 542a extending below the first bonding portion 571, and a fourth extension extending from the second electrode 542 in the direction of the third extension 542a. It may include an extension 542b.
  • the third and fourth extension parts 542a and 542b may be connected to the second electrode 542.
  • the third and fourth extension parts 542a and 542b may be disposed in the entire area of the reflective layer 560 from the second electrode 542.
  • the first and second electrodes 541 and 542 may be disposed not to overlap each other.
  • the second electrode 542 may be disposed on the second conductivity type semiconductor layer 513 and electrically connected to the second conductivity type semiconductor layer 513.
  • the second electrode 542 may be electrically connected to the second conductivity type semiconductor layer 513 through a through hole h3 formed in the reflective layer 560.
  • the second electrode 542 may be electrically connected to the second conductive semiconductor layer 513 through the conductive layer 530.
  • the second electrode 542 may directly contact at least one of the conductive layer 530 and the second conductive semiconductor layer 513.
  • the first electrode 541 and the second electrode 542 may be formed in a single layer or a multilayer structure.
  • the first electrode 541 and the second electrode 542 may include a metallic material.
  • the first electrode 541 and the second electrode 542 are ZnO, IrO x , RuO x , NiO, RuO x / ITO, Ni / IrO x / Au, and Ni / IrO x / Au / It may be an alloy of at least one of ITO, Ag, Ni, Cr, Ti, Al, Rh, Pd, Ir, Cu, Ru, Mg, Zn, Pt, Au, Hf or two or more of these materials.
  • the first electrode 541 and the second electrode 542 may include the same stacked structure or the same metal.
  • Protective layers 550 may be disposed on the first and second electrodes 541 and 542.
  • the protective layer 550 is an insulating layer and may insulate between the first and second electrodes 541 and 542.
  • the protective layer 550 may be filled in the open region h10 to separate the first and second electrodes 541 and 542 from each other.
  • the protective layer 550 may be disposed between the first electrode 541 and the second bonding part 502 to insulate each other.
  • the protective layer 550 may be disposed between the second electrode 542 and the first bonding part 501 to insulate each other.
  • the protective layer 550 may be provided as an insulating material.
  • the protective layer 550 is Si x O y , SiO x N y , Si x N y , Al x O y (wherein 1 ⁇ x ⁇ 5 and 1 ⁇ y ⁇ 5).
  • the protective layer 550 may extend to an outer portion 511b of the light emitting structure 510 to protect the surface of the light emitting structure 510.
  • the protective layer 550 may include a first open region h5, and the first open region h5 may expose a portion of the upper surface of the first electrode 541.
  • the first open area h5 may be disposed in an area where the first bonding part 501 and the first electrode 541 overlap in a vertical direction.
  • the first open area h5 may be disposed not to overlap the opening h2 in a vertical direction.
  • One or a plurality of first open regions h5 may be disposed.
  • the protective layer 550 may include a second open region h6.
  • the second open area h6 may expose a portion of the upper surface of the second electrode 542.
  • the second open area h6 may be disposed in an area where the second bonding part 502 and the second electrode 542 overlap each other in the vertical direction.
  • the second open area h6 may be disposed not to overlap the through hole h3 of the reflective layer 560 in the vertical direction.
  • One or a plurality of second open regions h6 may be disposed. In this case, the number of the second open regions h6 may be greater than the number of the first open regions. Accordingly, the current efficiency injected into the second electrode 542 can be improved.
  • the first bonding part 501 and the second bonding part 502 may be disposed on the protective layer 550.
  • the first bonding part 501 may be spaced apart from the second bonding part 502 in a first direction.
  • the first bonding part 501 may be disposed on an area overlapping the first electrode 541, the first extension part 542a of the first electrode 541, and the reflective layer 560 in a vertical direction. have. A portion k3 of the first bonding part 501 may directly contact the first electrode 541 through the first open area h5 and may be electrically connected to the first bonding part 501.
  • the second bonding part 502 may be disposed on an area overlapping the second electrode 542, the second electrode 542, and the reflective layer 560 in a vertical direction. A part k4 of the second bonding part 502 may directly contact the second electrode 542 through the second open area h6 and may be electrically connected to the second bonding part 502.
  • the first and second bonding parts 501 and 502 may include Ti, Al, In, Ir, Ta, Pd, Co, Cr, Mg, Zn, Ni, Si, Ge, Ag, Ag alloy, Au, Hf, Pt.
  • FIG. 10 is an enlarged view of region B of FIG. 4.
  • the first bonding portion 501 may include at least one concave portion.
  • the bottom surface of the first bonding portion 501 may include at least one first recessed portion R1 concave in a direction toward the top surface of the first bonding portion 501.
  • the light emitting structure 510 may include the first recess h1 described above
  • the protective layer 550 may include the first open region h5.
  • the bottom surface of the first bonding part 501 has at least one first concave part ( R1).
  • the first recess R1 may be located in an area overlapping the first open area h5 in a vertical direction.
  • the number of the first recesses R1 may be greater than or equal to the number of the first open regions h5.
  • the first conductive portion 610 may be disposed on the first bonding portion 501.
  • the first conductive portion 610 may be disposed in direct contact with the bottom surface of the first bonding portion 501.
  • the first conductive portion 610 may be disposed in the first recess R1.
  • the first conductive portion 610 may be disposed in direct contact with an inner surface of the first recess R1.
  • the first conductive portion 610 may be disposed to fill the entire first recessed portion R1.
  • the first frame 110 may be disposed on the bottom surface of the first conductive portion 610.
  • the lower surface of the first conductive portion 610 may directly contact the upper surface of the first frame 110.
  • the first conductive part 610 may include at least one of Ag, Au, Sn, Cu, AgSn, AuSn, and an alloy of the above materials.
  • the first conductive portion 610 may include AgSn.
  • the first conductive portion 610 may include AgSn having a Sn ratio of about 2% to about 4%.
  • the first conductive portion 610 may include AgSn having a Sn ratio of about 3% to 4%.
  • the first conductive portion 610 may include AgSn having a Sn ratio of about 3.5%.
  • the first conductive portion 610 may include a plurality of regions.
  • the first conductive portion 610 may include first to third regions A1, A2, and A3.
  • the first area A1 may be an area in which the first conductive part 610 is in contact with the first bonding part 501.
  • the third area A3 may be an area in contact with the first frame 110 in the first conductive part 610.
  • the second area A2 may be between the first area A1 and the third area A3.
  • the second area A2 may mean an area corresponding to about 1/2 of the thickness of the first conductive part 610. That is, the second area A2 may be an area located between the first area A1 and the third area A3 based on the vertical direction.
  • the first region A1 of the first conductive portion 610 may include a first intermetallic compound formed by being combined with a material included in the first conductive portion 610 and the first bonding portion 501. have.
  • the first conductive portion 610 and the first bonding portion 501 may be coupled by the first intermetallic compound.
  • the third region A3 of the first conductive portion 610 may include a second intermetallic compound formed by combining the material included in the first conductive portion 610 and the first frame 110. Can be. The first conductive portion 610 and the first frame 110 may be coupled by the second intermetallic compound.
  • compositions of the materials included in the first to third regions A1, A2, and A3 may be different from each other.
  • the content (wt%) and tin (Sn) content (wt) of silver (Ag) included in each of the first region A1, the second region A2, and the third region A3. %) May be different from each other.
  • the content (wt%) of silver (Ag) included in the first region A1 may be about 5 wt% or less. In detail, the content (wt%) of silver (Ag) included in the first region A1 may be about 3 wt% or less.
  • the content (wt%) of silver (Ag) included in the second region A2 may be greater than the content (wt%) of silver (Ag) included in the first region A1.
  • the content (wt%) of silver (Ag) included in the second region A2 may be about 20 wt% or less.
  • the content (wt%) of silver (Ag) included in the second region A2 may be about 10 wt% or less.
  • the content (wt%) of silver (Ag) included in the third region A3 may be greater than the content (wt%) of silver (Ag) included in the second region A2.
  • the content (wt%) of silver (Ag) included in the third region A3 may be about 50 wt% or less.
  • the content (wt%) of silver (Ag) included in the third region A3 may be about 40 wt% or less.
  • the content of silver Ag in the first conductive part 610 may have a minimum value in the first region A1 and may have a maximum value in the third region A3.
  • the content of silver (Ag) in the first conductive portion 610 may gradually increase from the first region (A1) to the third region (A3).
  • the first frame 110 may include silver (Ag), and the silver (Ag) included in the first conductive portion 610 may be migrated to the first frame 110. have. Accordingly, the content of silver (Ag) included in the first to third regions A1, A2, and A3 may have the above characteristics.
  • the content (wt%) of tin (Sn) included in the first region A1 may be about 15 wt% or less. In detail, the content (wt%) of tin (Sn) included in the first region A1 may be about 10 wt% or less.
  • the content (wt%) of tin (Sn) included in the second region A2 may be greater than the content (wt%) of tin (Sn) included in the first region A1.
  • the content (wt%) of tin (Sn) included in the second region A2 may be about 45 wt% or more.
  • the content (wt%) of tin (Sn) included in the second region A2 may be about 50 wt% or more.
  • the content (wt%) of tin (Sn) included in the third region A3 may be smaller than the content (wt%) of tin (Sn) included in the second region A2.
  • the content (wt%) of tin (Sn) included in the third region A3 may be about 50 wt% or less.
  • the content (wt%) of tin (Sn) included in the third region A3 may be about 45 wt% or less.
  • the content of tin Sn in the first conductive portion 610 may have a minimum value in the first region A1 and may have a maximum value in the second region A2.
  • the content of tin (Sn) in the first conductive portion 610 may be gradually reduced toward the first region (A1) based on the second region (A2), the second region (A2) ) May gradually decrease toward the third region A3.
  • the second conductive portion 620 may include a plurality of regions.
  • the second conductive portion 620 may include first to third regions A1, A2, and A3.
  • the first area A1 may be an area in the second conductive part 620 that is in contact with the second bonding part 502.
  • the third area A3 may be an area in which the second conductive part 620 is in contact with the second frame 120.
  • the second area A2 may be between the first area A1 and the third area A3.
  • the second area A2 may mean an area corresponding to about 1/2 of the thickness of the second conductive part 620. That is, the second area A2 may be an area located between the first area A1 and the third area A3 based on the vertical direction.
  • the second conductive portion 620 may include at least one of Ag, Au, Sn, Cu, AgSn, AuSn, and an alloy of the above materials.
  • the second conductive portion 620 may include AgSn.
  • the second conductive portion 610 may include AgSn having a Sn ratio of about 2% to about 4%.
  • the first conductive portion 610 may include AgSn having a Sn ratio of about 3% to 4%.
  • the first conductive portion 610 may include AgSn having a Sn ratio of about 3.5%.
  • compositions of materials included in the first to third regions A1, A2, and A3 of the second conductive portion 620 may be different from each other.
  • the content of silver (Ag) and / or the content of tin (Sn) included in each of the first region A1, the second region A2, and the third region A3 may be different from each other. Can be.
  • the content (wt%) of silver (Ag) included in the first region A1 may be about 5 wt% or less. In detail, the content (wt%) of silver (Ag) included in the first region A1 may be about 3 wt% or less.
  • the content (wt%) of silver (Ag) included in the second region A2 may be greater than the content (wt%) of silver (Ag) included in the first region A1.
  • the content (wt%) of silver (Ag) included in the second region A2 may be about 20 wt% or less.
  • the content (wt%) of silver (Ag) included in the second region A2 may be about 10 wt% or less.
  • the content (wt%) of silver (Ag) included in the third region A3 may be greater than the content (wt%) of silver (Ag) included in the second region A2.
  • the content (wt%) of silver (Ag) included in the third region A3 may be about 50 wt% or less.
  • the content (wt%) of silver (Ag) included in the third region A3 may be about 40 wt% or less.
  • the content of the silver Ag in the second conductive portion 620 may have a minimum value in the first region A1 and may have a maximum value in the third region A3.
  • the content of silver (Ag) in the second conductive portion 620 may gradually increase from the first region (A1) to the third region (A3).
  • the second frame 120 may include silver (Ag), and the silver (Ag) included in the second conductive portion 620 may be migrated to the second frame 120. have. Accordingly, the content of silver (Ag) included in the first to third regions A1, A2, and A3 may have the above characteristics.
  • the content (wt%) of tin (Sn) included in the first region A1 may be about 15 wt% or less. In detail, the content (wt%) of tin (Sn) included in the first region A1 may be about 10 wt% or less.
  • the content (wt%) of tin (Sn) included in the second region A2 may be greater than the content (wt%) of tin (Sn) included in the first region A1.
  • the content (wt%) of tin (Sn) included in the second region A2 may be about 45 wt% or more.
  • the content (wt%) of tin (Sn) included in the second region A2 may be about 50 wt% or more.
  • the content (wt%) of tin (Sn) included in the third region A3 may be smaller than the content (wt%) of tin (Sn) included in the second region A2.
  • the content (wt%) of tin (Sn) included in the third region A3 may be about 50 wt% or less.
  • the content (wt%) of tin (Sn) included in the third region A3 may be about 45 wt% or less.
  • the content of tin Sn in the second conductive portion 620 may have a minimum value in the first region A1 and may have a maximum value in the second region A2.
  • the content of tin (Sn) in the second conductive portion 620 may gradually decrease toward the first region (A1) based on the second region (A2), the second region (A2) ) May gradually decrease toward the third region A3.
  • FIG. 11 is a diagram illustrating an example of a module in which a light emitting device package according to an embodiment is disposed on a circuit board.
  • the light emitting device package 1000 may be a side view light emitting device package.
  • One or more light emitting device packages 1000 may be disposed on the circuit board 810 in a side view manner.
  • the circuit board 810 may include a substrate member including first and second pads 851 and 852.
  • the circuit board 810 may be provided with a power supply circuit for controlling the driving of the light emitting device 500.
  • the light emitting device package 1000 may be disposed on the circuit board 810.
  • the light emitting device package 1000 may have a fourth side surface S4 of the body 100 facing the top surface of the circuit board 810.
  • the circuit board 810 may be a printed circuit board (PCB).
  • the circuit board 810 may include at least one of a resin PCB, a metal core PCB (MCPCB, Metal Core PCB), a flexible PCB (FPCB, Flexible PCB), and a rigid PCB (rigid PCB).
  • MCPCB metal core PCB
  • FPCB Flexible PCB
  • rigid PCB rigid PCB
  • an insulating layer or a protective layer is disposed on a resin or metal base layer, and pads 851 and 852 exposed from the insulating layer or the protective layer are disposed.
  • the pads 851 and 852 may electrically connect one or a plurality of light emitting device packages 1000.
  • the insulating layer or the protective layer may be a solder resist material or a resin material.
  • the pads 851 and 852 include at least one material selected from the group consisting of Ti, Cu, Ni, Au, Cr, Ta, Pt, Sn, Ag, P, Fe, Sn, Zn, Al, or an alloy thereof. can do.
  • the pads 851 and 852 may include a first pad 851 and a second pad 852 spaced apart from each other.
  • the first pad 851 may be disposed in an area corresponding to the first lead portion 111 of the first frame 110.
  • the first pad 851 may be disposed in an area overlapping with the first lead portion 111 in the vertical direction.
  • the second pad 852 may be disposed in an area corresponding to the second lead portion 121 of the second frame 120.
  • the second pad 852 may be disposed in an area overlapping with the second lead part 121 in the vertical direction.
  • the first pad 851 may be electrically connected to the first frame 110 through the first lead part 111, and the second pad 852 may be through the second lead part 121. It may be electrically connected to the second frame 120.
  • a first conductive part 871 may be disposed between the first pad 851 and the first lead part 111.
  • the first conductive portion 871 is in direct contact with the upper surface of the first pad 851 and the lower surface of the first lead portion 111 and electrically connects the first pad 851 and the first lead portion 111. Can be connected.
  • the first conductive part 871 may directly contact the side surface of the first lead part.
  • a second conductive part 872 may be disposed between the second pad 852 and the second lead part 121. The second conductive portion 872 may be spaced apart from the first conductive portion 871.
  • the second conductive portion 872 is in direct contact with the upper surface of the second pad 852 and the lower surface of the second lead portion 121 and electrically connects the second pad 852 and the second lead portion 121. Can be connected. The second conductive portion 872 may directly contact the side surface of the second lead portion.
  • the first bonding portion 501 of the light emitting device 500 is formed by the first conductive portion 871, the first lead portion 111, the first frame 110, and the first conductive portion 610. It may be connected to the first pad 851.
  • the second bonding part 502 is formed by the second conductive part 872, the second lead part 121, the second frame 120, and the second conductive part 620. 852 may be connected.
  • the first and second conductive parts 871 and 872 are made of a liquid material, and are positioned on upper surfaces of the first pad 851 and the second pad 852 of the circuit board 810, and then the circuit board ( The light emitting device packages 1000 aligned on the 810 are combined.
  • the first and second conductive parts 871 and 872 may include at least one material selected from the group including Ag, Au, Pt, Sn, Cu, or an alloy thereof.
  • the conductive parts 871 and 872 may include solder paste, Ag paste, SAC (Sn-Ag-Cu) paste, or the like.
  • the conductive parts 871 and 872 may be combined with materials included in the pads 851 and 852 and the lead parts 111 and 121 of the frames 110 and 120, respectively, to be coupled by an intermetallic compound layer.
  • conductive parts 610 and 620 may be formed on the bonding parts 501 and 502 of the light emitting device 500, and may be formed between the frames 110 and 120 and the conductive parts 610 and 620.
  • the formation of voids can be prevented. Accordingly, cracks due to thermal shock may be prevented between the frames 110 and 120 and the conductive parts 610 and 620.
  • the conductive parts 610 and 620 are formed on the bonding parts 501 and 502 of the light emitting device 500, so that the light emitting device 500 is easily connected to the frames 110 and 120. You can.
  • the size of the light emitting device is gradually reduced, there is a difficulty in soldering between the small light emitting device 500 and the frames 110 and 120.
  • soldering such as alignment problems, voids, and cracks may occur between the light emitting device 500 and the frames 110 and 120. Defects can be prevented.
  • the conductive parts 610 and 620 may surround the side and bottom surfaces of the bonding parts 501 and 502 to effectively discharge the heat emitted from the light emitting device 500. Accordingly, the embodiment can improve the heat dissipation characteristics of the light emitting device package.
  • the conductive parts 610 and 620 are formed on the bonding parts 501 and 502 of the light emitting device 500 so that the light emitting device package 1000 is bonded to the circuit board 810. It is possible to prevent a phenomenon in which a bonding area between the device 500 and the body 130, for example, the conductive parts 610 and 620 are re-melted.

Abstract

실시예에 따른 발광소자 패키지는 서로 이격되어 배치되는 제 1 및 제 2 프레임, 상기 제 1 및 제 2 프레임을 감싸며 배치되고, 서로 이격된 제 1 및 제 2 개구부를 갖는 몸체, 상기 몸체 상에 배치되고, 제 1 및 제 2 본딩부를 포함하는 발광소자 및 상기 제 1 및 제 2 개구부 내에 각각 배치되는 제 1 및 제 2 도전부를 포함하고, 상기 제 1 및 제 2 개구부는 상기 제 1 및 제 2 프레임과 각각 수직으로 중첩되고, 상기 제 1 및 제 2 도전부는 상기 제 1 및 제 2 프레임과 각각 전기적으로 연결되고, 상기 제 1 및 제 2 본딩부는 상기 제 1 및 제 2 개구부 내에 각각 배치되며 상기 제 1 및 제 2 도전부와 전기적으로 연결되고, 상기 발광소자는 상기 제 1 및 제 2 개구부의 외측에서 상기 몸체 상에 배치되는 지지 영역을 포함한다. 또한, 실시예에 따른 광원 모듈은 회로기판 및 상기 회로기판 상에 배치되는 적어도 하나의 발광소자 패키지를 포함한다.

Description

발광소자 패키지 및 광원 모듈
실시예는 발광소자 패키지 및 이를 포함하는 광원 모듈에 관한 것이다.
GaN, AlGaN 등의 화합물을 포함하는 반도체 소자는 넓고 조정이 용이한 밴드 갭 에너지를 가지는 등의 많은 장점을 가져서 발광소자, 수광 소자 및 각종 다이오드 등으로 다양하게 사용될 수 있다.
특히, 3족-5족 또는 2족-6족 화합물 반도체 물질을 이용한 발광 다이오드(Light Emitting Diode)나 레이저 다이오드(Laser Diode)와 같은 발광소자는 박막 성장 기술 및 소자 재료의 개발로 황색, 적색, 녹색, 청색 및 자외선 등 다양한 파장 대역의 빛을 구현할 수 있는 장점이 있다. 또한, 3족-5족 또는 2족-6족 화합물 반도체 물질을 이용한 발광 다이오드나 레이저 다이오드와 같은 발광소자는, 형광 물질을 이용하거나 색을 조합함으로써 효율이 좋은 백색 광원도 구현이 가능하다. 이러한 발광소자는, 형광등, 백열등 등 기존의 광원에 비해 저 소비전력, 반영구적인 수명, 빠른 응답속도, 안전성, 환경 친화성의 장점을 가진다.
뿐만 아니라, 광검출기나 태양 전지와 같은 수광 소자도 3족-5족 또는 2족-6족 화합물 반도체 물질을 이용하여 제작하는 경우 소자 재료의 개발로 다양한 파장 영역의 빛을 흡수하여 광 전류를 생성함으로써 감마선부터 라디오 파장 영역까지 다양한 파장 영역의 빛을 이용할 수 있다. 또한, 이와 같은 수광 소자는 빠른 응답속도, 안전성, 환경 친화성 및 소자 재료의 용이한 조절의 장점을 가져 전력 제어 또는 초고주파 회로나 통신용 모듈에도 용이하게 이용될 수 있다.
따라서, 반도체 소자는 광 통신 수단의 송신 모듈, LCD(Liquid Crystal Display) 표시 장치의 백라이트를 구성하는 냉음극관(CCFL: Cold Cathode Fluorescence Lamp)을 대체하는 발광 다이오드 백라이트, 형광등이나 백열 전구를 대체할 수 있는 백색 발광 다이오드 조명 장치, 자동차 헤드 라이트 및 신호등 및 가스(Gas)나 화재를 감지하는 센서 등에까지 응용이 확대되고 있다. 또한, 반도체 소자는 고주파 응용 회로나 기타 전력 제어 장치, 통신용 모듈에까지 응용이 확대될 수 있다.
발광소자(Light Emitting Device)는 예로서 주기율표상에서 3족-5족 원소 또는 2족-6족 원소를 이용하여 전기에너지가 빛 에너지로 변환되는 특성의 p-n 접합 다이오드로 제공될 수 있고, 화합물 반도체의 조성비를 조절함으로써 다양한 파장 구현이 가능하다.
예를 들어, 질화물 반도체는 높은 열적 안정성과 폭 넓은 밴드갭 에너지에 의해 광소자 및 고출력 전자소자 개발 분야에서 큰 관심을 받고 있다. 특히, 질화물 반도체를 이용한 자외선(UV) 발광소자, 청색(Blue) 발광소자, 녹색(Green) 발광소자, 노란색(Yellow) 발광소자, 적색(RED) 발광소자 등은 상용화되어 널리 사용되고 있다.
예를 들어, 자외선 발광소자의 경우, 200nm~400nm의 파장대에 분포되어 있는 빛을 발생하는 발광 다이오드로서, 상기 파장대역에서, 단파장의 경우, 살균, 정화 등에 사용되며, 장파장의 경우 노광기 또는 경화기 등에 사용될 수 있다.
자외선은 파장이 긴 순서대로 UV-A(315nm~400nm), UV-B(280nm~315nm), UV-C (200nm~280nm) 세 가지로 나뉠 수 있다. UV-A(315nm~400nm) 영역은 산업용 UV 경화, 인쇄 잉크 경화, 노광기, 위폐 감별, 광촉매 살균, 특수조명(수족관/농업용 등) 등의 다양한 분야에 응용되고 있고, UV-B(280nm~315nm) 영역은 의료용으로 사용되며, UV-C(200nm~280nm) 영역은 공기 정화, 정수, 살균 제품 등에 적용되고 있다.
한편, 고출력을 제공할 수 있는 반도체 소자가 요구됨에 따라 전원을 인가하여 출력을 높일 수 있는 반도체 소자에 대한 연구가 진행되고 있다.
또한, 반도체 소자 패키지에 있어서, 패키지의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 방안에 대한 연구가 진행되고 있다.
또한, 반도체 소자 패키지에 있어서, 반도체 소자의 광 추출 효율을 향상시키고, 패키지 단에서의 광도를 향상시킬 수 있는 방안에 대한 연구가 진행되고 있다.
또한, 반도체 소자 패키지에 있어서, 반도체 소자와 패키지 사이의 본딩 결합력을 향상시킬 수 있는 방안에 대한 연구가 진행되고 있다. 자세하게, 반도체 소자의 크기가 작아짐에 따라 상기 반도체 소자와 리드 프레임 사이의 결합력을 향상시킬 수 있는 방안에 대한 연구가 진행되고 있다.
또한, 상기 반도체 소자로부터 방출되는 열을 효과적으로 배출하여 패키지의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 방안에 대한 연구가 진행되고 있다.
또한, 상기 반도체 소자와 리드 프레임 사이에 공극(void)이 형성되는 것을 방지하여 상기 반도체 소자와 상기 리드 프레임 사이에서 열충격에 의한 크랙(crack)이 발생되는 것을 방지할 수 있는 연구가 진행되고 있다.
또한, 반도체 소자 패키지에 있어서, 공정 효율 향상 및 구조 변경을 통하여 제조 단가를 줄일 수 있고, 제조 수율을 향상시킬 수 있는 방안에 대한 연구가 진행되고 있다.
실시예는 본딩부 상에 도전부를 배치하여 프레임과 상기 도전부 사이에 공극(void)이 형성되는 것을 방지할 수 있는 발광소자 패키지 및 광원 모듈을 제공하고자 한다.
또한, 실시예는 발광소자로부터 방출되는 열에 의해 상기 발광소자의 본딩부와 상기 도전부 사이, 상기 도전부와 상기 프레임 사이에 크랙(crack)이 발생되는 것을 방지할 수 있는 발광소자 패키지 및 광원 모듈을 제공하고자 한다.
또한, 실시예는 몸체의 두께를 감소시킬 수 있어 보다 슬림한 구조의 발광소자 패키지 및 광원 모듈을 제공하고자 한다.
또한, 실시예는 발광소자로부터 방출되는 광을 상부 방향으로 유도하여 광 효율 및 광속을 향상시킬 수 있는 발광소자 패키지 및 광원 모듈을 제공하고자 한다.
또한, 실시예는 발광소자로부터 방출되는 열을 효율적으로 배출할 수 있는 발광소자 패키지 및 광원 모듈을 제공하고자 한다.
또한, 실시예는 발광소자 패키지가 기판 등에 본딩되는 과정에서 발광소자와 패키지 몸체 사이의 본딩 영역이 리멜팅(re-melting) 되는 현상을 방지할 수 있는 발광소자 패키지 및 광원 모듈을 제공하고자 한다.
실시예에 따른 발광소자 패키지는 서로 이격되어 배치되는 제 1 및 제 2 프레임, 상기 제 1 및 제 2 프레임을 감싸며 배치되고, 서로 이격된 제 1 및 제 2 개구부를 갖는 몸체, 상기 몸체 상에 배치되고, 제 1 및 제 2 본딩부를 포함하는 발광소자 및 상기 제 1 및 제 2 개구부 내에 각각 배치되는 제 1 및 제 2 도전부를 포함하고, 상기 제 1 및 제 2 개구부는 상기 제 1 및 제 2 프레임과 각각 수직으로 중첩되고, 상기 제 1 및 제 2 도전부는 상기 제 1 및 제 2 프레임과 각각 전기적으로 연결되고, 상기 제 1 및 제 2 본딩부는 상기 제 1 및 제 2 개구부 내에 각각 배치되며 상기 제 1 및 제 2 도전부와 전기적으로 연결되고, 상기 발광소자는 상기 제 1 및 제 2 개구부의 외측에서 상기 몸체 상에 배치되는 지지 영역을 포함한다.
또한, 실시예에 따른 광원 모듈은 회로기판 및 상기 회로기판 상에 배치되는 적어도 하나의 발광소자 패키지를 포함한다.
실시예는 본딩부와 도전부 사이에 공극(void)이 형성되는 것을 방지할 수 있어 상기 본딩부와 상기 도전부 사이에 열충격 등에 의한 크랙(crack)이 발생하는 것을 방지할 수 있다.
또한, 실시예는 도전부와 프레임 사이의 결합력을 향상시킬 수 있어 열충격 등에 의해 상기 도전부와 상기 프레임 사이에서 크랙(crack)이 발생하는 것을 방지할 수 있다.
또한, 실시예는 발광소자의 본딩부 상에 상기 도전부를 형성하여 발광소자 패키지가 기판 등에 본딩되는 과정에서 상기 발광소자와 몸체 사이의 본딩 영역이 리멜팅(re-melting) 되는 현상을 방지할 수 있다.
또한, 실시예는 몸체의 두께를 감소시킬 수 있어 보다 슬림한 구조를 가질 수 있고, 발광소자로부터 방출되는 광을 효과적으로 상부로 유도하여 광 효율 및 광속을 향상시킬 수 있다.
또한, 실시예는 상기 본딩부 상에 배치되는 도전부에 의해 상기 발광소자로부터 방출되는 열을 효과적으로 배출할 수 있다. 이에 따라, 발광소자 패키지의 방열 특성을 향상시킬 수 있다.
또한, 실시예는 상기 발광소자의 본딩부 상에 상기 도전부를 미리 형성함에 따라 상기 발광소자와 상기 프레임을 사이의 불량을 방지할 수 있다. 자세하게, 상기 발광소자의 크기가 작을 경우, 상기 발광소자와 상기 프레임 사이의 솔더링(soldering)이 매우 어려워 얼라인(align) 불량, 크랙 발생, 공극 형성 등의 불량이 발생할 수 있다. 그러나, 실시예는 상기 도전부가 상기 본딩부에 미리 형성됨에 따라 상술한 불량이 발생되는 것을 방지할 수 있다. 이에 따라, 발광소자 패키지의 신뢰성 및 공정 효율을 향상시킬 수 있다.
도 1은 실시예에 따른 발광소자 패키지의 정면도이다.
도 2는 실시예에 따른 발광소자 패키지의 패키지 몸체에서 프레임을 도시한 도면이다.
도 3은 도 1의 A-A' 단면도이다.
도 4는 도 3의 A영역을 확대한 도면이다.
도 5 및 도 6은 도 4의 변형예를 도시한 도면이다.
도 7은 도 1의 발광소자 패키지에서 프레임의 변형예를 도시한 A-A' 단면도이다.
도 8는 실시예에 따른 발광소자의 평면도이다.
도 9은 도 8의 B-B' 단면도이다.
도 10은 도 4의 B영역을 확대한 도면이다.
도 11은 실시예에 따른 발광소자 패키지가 회로 기판에 배치된 모듈의 예를 도시한 도면이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.
다만, 본 발명의 기술 사상은 설명되는 일부 실시 예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있고, 본 발명의 기술 사상 범위 내에서라면, 실시 예들간 그 구성 요소들 중 하나 이상을 선택적으로 결합, 치환하여 사용할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에서 사용되는 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는, 명백하게 특별히 정의되어 기술되지 않는 한, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 일반적으로 이해될 수 있는 의미로 해석될 수 있으며, 사전에 정의된 용어와 같이 일반적으로 사용되는 용어들은 관련 기술의 문맥상의 의미를 고려하여 그 의미를 해석할 수 있을 것이다.
또한, 본 발명의 실시예에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함할 수 있고, “A 및(와) B, C중 적어도 하나(또는 한 개 이상)”로 기재되는 경우 A, B, C로 조합할 수 있는 모든 조합 중 하나 이상을 포함할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시 예의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제1, 제2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질이나 차례 또는 순서 등으로 한정되지 않는다. 그리고, 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 '연결', '결합' 또는 '접속'된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결, 결합 또는 접속되는 경우뿐만 아니라, 그 구성 요소와 그 다른 구성요소 사이에 있는 또 다른 구성 요소로 인해 '연결', '결합' 또는 '접속'되는 경우도 포함할 수 있다.
또한, 각 구성 요소의 " 상(위) 또는 하(아래)"에 형성 또는 배치되는 것으로 기재되는 경우, 상(위) 또는 하(아래)는 두 개의 구성 요소들이 서로 직접 접촉되는 경우뿐만 아니라 하나 이상의 또 다른 구성 요소가 두 개의 구성 요소들 사이에 형성 또는 배치되는 경우도 포함한다. 또한 “상(위) 또는 하(아래)”으로 표현되는 경우 하나의 구성 요소를 기준으로 위쪽 방향뿐만 아니라 아래쪽 방향의 의미도 포함할 수 있다.
실시예에 따른 발광소자 패키지는 반도체 소자 패키지로 상기 소자 패키지의 반도체 소자는 자외선, 적외선 또는 가시광선의 광을 발광하는 발광소자를 포함할 수 있다. 이하에서는 반도체 소자의 예로서 발광소자가 적용된 경우를 기반으로 설명하며, 상기 발광소자가 적용된 패키지 또는 광원 장치에 비 발광소자 예컨대, 제너 다이오드와 같은 소자나 파장이나 열을 감시하는 센싱 소자를 포함할 수 있다. 이하에서는 반도체 소자의 예로서 발광소자가 적용된 경우를 기반으로 설명하며, 발광소자 패키지에 대해 상세히 설명하도록 한다.
또한, 발명의 실시예에 대한 설명을 하기 앞서, 제 1 방향은 도면에 도시된 x축 방향일 수 있고, 제 2 방향은 도면에 도시된 y축 방향으로 상기 x축 방향과 직교하는 방향일 수 있다. 또한, 제 3 방향은 도면에 도시된 z축 방향으로, 상기 x축 및 y축과 직교하는 방향일 수 있다.
도 1은 실시예에 따른 발광소자 패키지의 정면도이고, 도 2는 실시예에 따른 발광소자 패키지의 패키지 몸체에서 프레임을 도시한 도면이다. 또한, 도 3은 도 1의 A-A' 단면도이며, 도 4는 도 3의 A영역을 확대한 도면이다.
도 1 내지 도 4를 참조하면, 실시예에 따른 발광소자 패키지(1000)는 패키지 몸체(100) 및 발광소자(500)를 포함할 수 있다.
상기 패키지 몸체(100)는 복수 개의 프레임을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 패키지 몸체(100)는 서로 이격되는 제 1 프레임(110) 및 제 2 프레임(120)을 포함할 수 있다. 상기 제 1 프레임(110)은 상기 제 2 프레임(120)와 제 1 방향(x축 방향)으로 이격되어 배치될 수 있다.
상기 패키지 몸체(100)는 몸체(130)를 포함할 수 있다. 상기 몸체(130)는 상기 제 1 프레임(110)과 상기 제 2 프레임(120)을 감싸며 배치될 수 있다. 상기 몸체(130)는 상기 제 1 프레임(110)과 상기 제 2 프레임(120) 사이에 배치될 수 있다. 상기 몸체(130)의 상면은 상기 제 1 및 제 2 프레임(110, 120)의 상면보다 상부에 위치할 수 있다. 상기 몸체(130)는 상기 복수 개의 프레임 사이에서 전극 분리선의 기능을 수행할 수 있다. 상기 몸체(130)는 절연 부재로 지칭될 수 있다.
상기 몸체(130)는 상기 제 1 프레임(110) 상에 배치될 수 있다. 또한, 상기 몸체(130)는 상기 제 2 프레임(120) 상에 배치될 수 있다. 상기 몸체(130)는 상기 제 1 및 제 2 프레임(110, 120)의 상에 경사진 내측면(IS1, IS2, IS3, IS4)을 제공할 수 있다. 상기 경사진 내측면(IS1, IS2, IS3, IS4)에 의해 상기 제 1 프레임(110)과 상기 제 2 프레임(120) 상에는 캐비티(170)가 제공될 수 있다. 상기 캐비티(170)의 높이(제 3 방향)은 약 300㎛ 이하일 수 있다. 자세하게, 상기 캐비티(170)의 높이(t1)는 약 130㎛ 내지 약 280㎛일 수 있다. 더 자세하게, 상기 캐비티(170)의 높이(t1)는 약 130㎛ 내지 약 260㎛일 수 있다. 실시예에 따른 패키지 몸체(100)는 상기 캐비티(170)가 있는 구조로 제공될 수도 있고, 상기 캐비티(170)가 없이 상기 패키지 몸체(100)의 상면이 평탄한 구조로 제공될 수도 있다. 상기 몸체(130) 상에는 상부 몸체(135)가 배치되며, 상기 상부 몸체(135)는 상기 캐비티(170)를 가질 수 있다. 상기 상부 몸체(135)는 상기 몸체(130)과 동일한 재질이거나 별도의 재질로 배치될 수 있다. 또한, 상기 상부 몸체(135)는 상기 몸체(130)와 일체로 형성될 수 있다.
상기 몸체(130)는 복수 개의 개구부를 포함할 수 있다. 상기 몸체(130)는 서로 이격되는 복수 개의 개구부를 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 몸체(130)는 제 1 개구부(h11) 및 제 2 개구부(h12)를 포함할 수 있다. 상기 제 1 및 제 2 개구부(h11, h12)는 상기 캐비티(170)의 바닥면에 배치될 수 있다. 상기 제 1 및 제 2 개구부(h11, h12)는 상기 몸체(130)의 상면에 배치될 수 있다. 상기 제 1 및 제 2 개구부(h11, h12)는 서로 이격되어 배치될 수 있다.
상기 제 1 개구부(h11)는 상기 제 1 프레임(110) 상에 배치될 수 있다. 상기 제 1 개구부(h11)는 상기 제 1 프레임(110)과 수직 방향으로 중첩될 수 있다. 상기 제 1 개구부(h11)의 하면은 상기 제 1 프레임(110)의 상면과 동일 평면 상에 배치될 수 있다. 상기 제 1 개구부(h11)는 상기 제 1 프레임(110)의 상면을 노출시킬 수 있다. 상기 제 1 개구부(h11)의 상부 영역의 면적은 하부 영역의 면적과 서로 다르거나 같을 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 개구부(h11)의 상부 영역 면적은 하부 영역 면적보다 작을 수 있다. 여기서, 제 1 개구부(h11)의 상부 영역은 상기 제 1 개구부(h11)의 최상부에 위치한 영역일 수 있다. 또한, 상기 제 1 개구부(h11)의 최상부 영역을 연결하는 가상의 수평면은 상기 몸체(130)의 상면과 동일 평면 상에 배치될 수 있다.
상기 제 1 개구부(h11)의 수직 방향 높이는 약 30㎛ 이하일 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 개구부(h11)의 높이는 약 5㎛ 내지 약 30㎛일 수 있다.
상기 제 2 개구부(h12)는 상기 제 2 프레임(120) 상에 배치될 수 있다. 상기 제 2 개구부(h12)는 상기 제 2 프레임(120)과 수직 방향으로 중첩될 수 있다. 상기 제 2 개구부(h12)의 하면은 상기 제 2 프레임(120)의 상면과 동일 평면 상에 배치될 수 있다. 상기 제 2 개구부(h12)의 하면은 상기 제 1 개구부(h11)의 하면과 동일 평면 상에 배치될 수 있다. 상기 제 2 개구부(h12)는 상기 제 2 프레임(120)의 상면을 노출시킬 수 있다. 상기 제 2 개구부(h12)의 상부 영역 면적은 하부 영역 면적과 서로 다르거나 같을 수 있다. 예를 들어, 상기 제 2 개구부(h12)의 상부 영역 면적은 하부 영역 면적보다 작을 수 있다. 여기서, 제 2 개구부(h12)의 상부 영역은 상기 제 2 개구부(h12)의 최상부에 위치한 영역일 수 있다. 또한, 상기 제 2 개구부(h12)의 최상부 영역을 연결하는 가상의 수평면은 상기 몸체(130)의 상면과 동일 평면 상에 배치될 수 있다. 또한, 상기 제 2 개구부(h12)의 상부 및 하부 영역 각각의 면적은 상기 제 1 개구부(h11)의 상부 및 하부 영역 각각의 면적과 대응될 수 있다.
상기 제 2 개구부(h12)의 수직 방향 높이는 약 30㎛ 이하일 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 개구부(h12)의 높이는 약 5㎛ 내지 약 30㎛일 수 있다. 상기 제 2 개구부(h12)의 높이는 상기 제 1 개구부(h11)의 높이와 대응될 수 있다.
상기 몸체(130)는 수지 재질 또는 절연성 수지 재질일 수 있다. 상기 몸체(100)는 폴리프탈아미드(PPA: Polyphthalamide), PCT(Polychloro Tri phenyl), LCP(Liquid Crystal Polymer), PA9T(Polyamide9T), 실리콘, 에폭시, 에폭시 몰딩 컴파운드(EMC: Epoxy molding compound), 실리콘 몰딩 컴파운드(SMC), 세라믹, PSG(photo sensitive glass), 사파이어(Al2O3) 등을 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나로 형성될 수 있다. 상기 몸체(130)는 수지 재질로 형성될 수 있으며, 그 내부에 TiO2와 SiO2와 같은 고굴절 재질의 필러를 포함할 수 있다.
상기 상부 몸체(135)는 상기 수지 재질 또는 절연성 수지 재질일 수 있다. 상기 상부 몸체(135)는 폴리프탈아미드(PPA: Polyphthalamide), PCT(Polychloro Tri phenyl), LCP(Liquid Crystal Polymer), PA9T(Polyamide9T), 실리콘, 에폭시, 에폭시 몰딩 컴파운드(EMC: Epoxy molding compound), 실리콘 몰딩 컴파운드(SMC), 세라믹, PSG(photo sensitive glass), 사파이어(Al2O3) 등을 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나로 형성될 수 있다. 상기 상부 몸체(135)는 반사 몸체로써의 기능을 수행할 수 있다.
상기 패키지 몸체(100)는 복수 개의 측면들을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 몸체(130)는 제 1 방향으로 서로 마주하는 제 1 측면(S1) 및 제 2 측면(S2)을 포함할 수 있고, 제 2 방향으로 서로 마주하는 제 3 측면(S3) 및 제 4 측면(S4)을 포함할 수 있다. 상기 제 3 측면(S3) 및 상기 제 4 측면(S4)은 상기 제 1 측면(S1)과 상기 제 2 측면(S2)을 연결하는 측면일 수 있다. 예를 들어, 상기 제 3 측면(S3)은 상기 제 1 측면(S1)의 일 끝단에서 제 1 방향으로 연장되어 상기 제 2 측면(S2)의 일 끝단과 연결될 수 있다. 또한, 상기 제 4 측면(S4)은 상기 제 1 측면(S1)의 타 끝단에서 제 1 방향으로 연장되어 상기 제 2 측면(S2)의 타 끝단과 연결될 수 있다. 상기 제 1 내지 제 4 측면들(S1, S2, S3, S4)은 상기 몸체(100)의 하면에 대해 수직한 면이거나 경사진 면일 수 있다.
상기 패키지 몸체(100)는 제 1 방향(x축 방향) 길이 및 제 2 방향(y축 방향) 길이를 가질 수 있다. 상기 패키지 몸체(100)의 제 1 방향 길이는 제 2 방향 길이와 상이할 수 있다. 예를 들어, 상기 패키지 몸체(100)의 제 1 방향 길이는 제 2 방향 길이보다 길 수 있다. 자세하게, 상기 패키지 몸체(100)의 제 1 방향 길이는 제 2 방향 길이보다 약 2배 이상 길 수 있다. 여기서, 상기 제 1 방향은 상기 발광소자(500)의 제 1 및 제 2 방향 길이 중에서 더 긴 길이를 갖는 변의 방향일 수 있다.
예를 들어, 상기 제 3 측면(S3) 및 상기 제 4 측면(S4)은 제 2 방향으로 이격될 수 있다. 상기 제 3 측면(S3) 및 상기 제 4 측면(S4) 사이의 거리는 상기 패키지 몸체(100)의 두께와 대응될 수 있다. 상기 패키지 몸체(100)의 두께는 약 1.2mm 이하일 수 있다. 자세하게, 상기 패키지 몸체(100)의 두께는 약 1mm 이하일 수 있다.
또한, 상기 제 1 측면(S1) 및 상기 제 2 측면(S2)은 제 1 방향으로 이격될 수 있다. 상기 제 1 측면(S1) 및 상기 제 2 측면(S2) 사이의 거리는 상기 패키지 몸체(100)의 두께의 약 2배 이상일 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 측면(S1) 및 상기 제 2 측면(S2) 사이의 거리는 상기 패키지 몸체(100)의 두께의 약 3배 이상일 수 있다. 더 자세하게, 상기 제 1 측면(S1) 및 상기 제 2 측면(S2) 사이의 거리는 상기 패키지 몸체(100)의 두께의 약 4배 이상일 수 있다. 즉, 상기 패키지 몸체(100)의 제 1 방향 길이는 약 2.5mm 이상일 수 있다. 자세하게, 상기 패키지 몸체(100)의 제 1 방향 길이는 약 2.7mm 내지 약 5mm 일 수 있다. 상기 발광소자 패키지(1000)는 제 1 방향의 길이를 길게 제공함으로써, 제 1 방향으로 상기 발광소자 패키지(1000)들을 배열될 때, 발광소자 패키지(1000)의 개수를 줄여줄 수 있다. 상기 발광소자 패키지(1000)는 두께(T1)를 상대적으로 얇게 제공할 수 있어, 상기 발광소자 패키지(1000)를 갖는 라이트 유닛의 두께를 줄여줄 수 있다. 상기 캐비티(170)는 전면(S5)이 개방되고 광이 출사되므로, 상기 제 4 측면(S4)을 기준으로 사이드 뷰 타입으로 광을 방출할 수 있다.
상기 상부 몸체(135)는 복수 개의 내측면들을 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 상부 몸체(135)는 상기 캐비티(170)의 둘레에 경사진 내측면들(IS1, IS2, IS3, IS4)을 포함할 수 있다. 상기 내측면들(IS1, IS2, IS3, IS4)은 경사기저나 수직할 수 있다. 상기 내측면(IS1, IS2, IS3, IS4)은 제 1 방향으로 마주하는 제 1 내측면(IS1) 및 제 2 내측면(IS2)을 포함할 수 있고, 제 2 방향으로 마주하는 제 3 내측면(IS3) 및 제 4 내측면(IS4)을 포함할 수 있다. 상기 제 3 및 제 4 내측면들(IS3, IS4)은 상기 제 1 및 제 2 내측면들(IS1, IS2)을 연결하는 내측면일 수 있다. 상기 제 1 내측면(IS1)은 상기 제 1 측면(S1)과 인접할 수 있고, 상기 제 2 내측면(IS2)은 상기 제 2 측면(S2)과 인접할 수 있다. 또한, 상기 제 3 내측면(IS3)은 상기 제 3 측면(S3)과 인접할 수 있고, 상기 제 4 내측면(IS4)은 상기 제 4 측면(S4)과 인접할 수 있다. 상기 제 1 및 제 2 내측면들(IS1, IS2)의 경사각은 상기 제 3 및 제 4 내측면들(IS3, IS4)의 경사각과 상이할 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 및 제 2 내측면(IS1, IS2)의 경사각은 상기 제 3 및 제 4 내측면(IS3, IS4)의 경사각보다 작을 수 있다. 이에 따라, 상기 발광소자(500)로부터 방출된 광은 완만한 상기 제 1 및 제 2 내측면(IS1, IS2)을 통해 반사될 수 있어 반사 효율을 향상시킬 수 있다.
상기 패키지 몸체(100)는 전면(S5) 및 후면(S6)을 포함할 수 있다. 상기 패키지 몸체(100)의 전면(S5)은 상기 발광소자(500)로부터 방출된 광이 출사하는 면으로 상기 캐비티(170)가 배치되는 면일 수 있다. 상기 캐비티(170)는 상기 전면(S5)으로부터 상기 후면(S6) 방향으로 함몰될 수 있다. 상기 패키지 몸체(100)의 후면(S6)은 상기 전면(S5)과 반대되는 면으로 오목부(180)가 배치될 수 있다. 상기 오목부(180)는 상기 발광소자(500)와 대응되는 영역에 배치될 수 있다. 상기 오목부(180)는 상기 발광소자(500)와 수직 방향(z축 방향)으로 중첩되는 영역에 배치될 수 있다. 상기 제 4 측면(S4)은 도 1에 도시된 바와 같이 패키지 몸체(100) 또는 몸체(130)의 바닥부일 수 있다. 상기 제 4 측면(S4)은 후술할 회로기판(810)과 대면하는 면일 수 있다. 상기 제 3 측면(S3)은 상기 패키지 몸체(100) 또는 몸체(130)의 상면부일 수 있다. 또한, 상기 제 1 측면(S1)과 제 2 측면(S2)은 상기 패키지 몸체(100) 또는 몸체(130)의 측면부일 수 있다.
상기 패키지 몸체(100) 상에는 발광소자(500)가 배치될 수 있다. 상기 발광소자(500)는 상기 캐비티(170) 내에 배치될 수 있다. 상기 발광소자(500)는 상기 제 1 프레임(110), 제 2 프레임(120)과 수직 방향으로 중첩되는 위치에 배치될 수 있다. 상기 발광소자(500)는 상기 제 1 개구부(h11) 및 상기 제 2 개구부(h12) 상에 배치될 수 있다. 상기 발광소자(500)는 상기 제 1 및 제 2 개구부(h11, h12)와 수직 방향으로 중첩되는 위치에 배치될 수 있다. 상기 발광소자(500)는 상기 몸체(130) 상에 배치될 수 있다. 상기 발광소자(500)는 상기 몸체(130)와 수직 방향(z축 방향)으로 중첩되는 위치에 배치될 수 있다. 상기 발광소자(500)는 하면 둘레에 지지 영역(590)을 포함할 수 있다. 상기 발광소자(500)의 지지 영역(590)은 상기 몸체(130) 상에 배치될 수 있다. 상기 지지 영역(590)은 상기 제 1 및 제 2 개구부(h11, h12)와 이격될 수 있다. 상기 지지 영역(590)은 상기 제 1 및 제 2 개구부(h11, h12) 외측에 위치할 수 있다. 상기 지지 영역(590)은 상기 제 1 및 제 2 개구부(h11, h12)와 수직 방향으로 중첩되지 않을 수 있다. 상기 발광소자(500)의 지지 영역(590)은 상기 몸체(130)의 상면과 직접 접촉할 수 있다.
상기 발광소자(500)는 발광 구조물(510), 제 1 본딩부(501) 및 제 2 본딩부(502)을 포함할 수 있다. 상기 제 1 본딩부(501) 및 상기 제 2 본딩부(502)는 상기 발광 구조물(510)의 바닥면 상에 배치될 수 있다. 상기 제 1 및 제 2 본딩부(501, 502)는 서로 이격되어 배치될 수 있다. 상기 제 1 본딩부(501)는 상기 제 1 프레임(110)과 마주할 수 있다. 상기 제 1 본딩부(501)는 상기 제 1 프레임(110)과 수직 방향으로 중첩될 수 있다. 상기 제 1 본딩부(501)는 상기 제 1 개구부(h11)와 수직 방향으로 중첩될 수 있다. 상기 제 1 본딩부(501)는 상기 제 1 개구부(h11) 내에 배치될 수 있다. 또한, 상기 제 1 본딩부(501)의 하면은 상기 몸체(130)의 상면보다 하부에 위치할 수 있고, 상기 제 1 개구부(h11)의 하면보다 상부에 위치할 수 있다. 상기 제 2 본딩부(502)는 상기 제 2 프레임(120)과 마주할 수 있다. 상기 제 2 본딩부(502)는 상기 제 2 프레임(120)과 수직 방향으로 중첩될 수 있다. 상기 제 2 본딩부(502)는 상기 제 2 개구부(h12)와 수직 방향으로 중첩될 수 있다. 상기 제 2 본딩부(502)는 상기 제 2 개구부(h12) 내에 배치될 수 있다. 상기 제 2 본딩부(502)의 하면은 상기 몸체(130)의 상면보다 하부에 위치할 수 있다. 또한, 상기 제 2 본딩부(502)의 하면은 상기 몸체(130)의 상면보다 하부에 위치할 수 있고, 상기 제 2 개구부(h12)의 하면보다 상부에 위치할 수 있다.
상기 발광 구조물(510)은 화합물 반도체를 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 발광 구조물(510)은 예로서 2족-6족 또는 3족-5족 화합물 반도체로 제공될 수 있다.
상기 발광 구조물(510)은 제 1 도전형 반도체층(511), 활성층(512), 제 2 도전형 반도체층(513)을 포함할 수 있다. 상기 제 1 도전형 반도체층(511) 및 상기 제 2 도전형 반도체층(513)은 3족-5족 또는 2족-6족의 화합물 반도체 중에서 적어도 하나로 구현될 수 있다. 또한, 상기 활성층(512)은 화합물 반도체로 구현될 수 있다. 상기 활성층(512)은 예로서 3족-5족 또는 2족-6족의 화합물 반도체 중에서 적어도 하나로 구현될 수 있다.
상기 발광소자(500)는 내부에 하나 또는 복수의 발광 셀을 포함할 수 있다. 상기 발광 셀은 n-p 접합, p-n 접합, n-p-n 접합, p-n-p 접합 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 복수의 발광 셀은 하나의 발광소자 내에서 서로 직렬로 연결될 수 있다. 이에 따라, 상기 발광소자(500)는 하나 또는 복수의 발광 셀을 가질 수 있으며, 하나의 발광소자에 n개의 발광 셀이 배치된 경우 n배의 구동 전압으로 구동될 수 있다. 예컨대, 하나의 발광 셀의 구동 전압이 3V이고, 2개의 발광 셀이 하나의 발광소자에 배치된 경우, 각 발광소자는 6V의 구동 전압으로 구동될 수 있다. 또는 하나의 발광 셀의 구동 전압이 3V이고, 3개의 발광 셀이 하나의 발광소자에 배치된 경우, 각 발광소자는 9V의 구동 전압으로 구동될 수 있다. 상기 발광소자(500)에 배치된 발광 셀의 개수는 1개 또는 2개 내지 5개일 수 있다. 상기 발광소자(500)는 후술할 도 8 및 도 9를 이용하여 보다 자세히 설명하기로 한다.
상기 발광소자(500)의 두께(t2)는 상기 캐비티(170)의 높이(t1)보다 작을 수 있다. 상기 캐비티(170) 내에 배치되는 발광소자(500)의 두께(t2)는 상기 캐비티(170)의 높이(t1)보다 작을 수 있다. 상기 발광소자(500)의 두께(t2)는 상기 캐비티(170)의 높이(t1)의 약 35% 내지 약 65%일 수 있다. 자세하게, 상기 발광소자(500)의 두께(t2)는 상기 캐비티(170)의 높이(t1)의 약 40% 내지 약 60%일 수 있다. 일례로, 상기 캐비티(170) 내에 배치되는 발광소자(500)의 두께(t2)는 약 110㎛ 내지 약 130㎛일 수 있고, 상기 캐비티(170)의 높이(t1)는 약 220㎛ 내지 약 260㎛일 수 있다.
또한, 상기 발광소자(500)의 제 1 본딩부(501)와 제 2 본딩부(502)의 두께는 약 10㎛ 이하일 수 있다. 자세하게, 상기 발광소자(500)의 제 1 본딩부(501)와 제 2 본딩부(502)의 두께는 약 8㎛ 이하일 수 있다. 더 자세하게, 상기 발광소자(500)의 제 1 본딩부(501)와 제 2 본딩부(502)의 두께는 약 5㎛ 이하일 수 있다.
상기 패키지 몸체(100)는 제 1 프레임(110)과 제 2 프레임(120)을 포함할 수 있다. 상기 제 1 프레임(110)과 상기 제 2 프레임(120)은 서로 이격될 수 있다. 상기 제 1 프레임(110)과 상기 제 2 프레임(120)은 서로 다른 극성을 가질 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 프레임(110)은 상기 발광소자(500)의 P형 전극과 연결될 수 있고, 상기 제 2 프레임(120)은 상기 발광소자(500)의 N형 전극과 연결될 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 프레임(110)은 상기 발광소자(500)의 제 1 본딩부(501)와 연결될 수 있고, 상기 제 2 프레임(120)은 상기 발광소자(500)의 제 2 본딩부(502)와 연결될 수 있다.
상기 제 1 프레임(110)은 상기 제 1 측면(S1) 방향으로 연장될 수 있다. 또한, 상기 제 1 프레임(110)은 상기 제 4 측면(S4) 방향으로 절곡되며 상기 제 4 측면(S4)으로부터 돌출되는 제 1 리드부(111)를 포함할 수 있다. 상기 제 1 리드부(111)는 상기 제 4 측면(S4) 방향으로 돌출될 수 있다. 또한, 상기 제 1 프레임(110)은 상기 제 1 리드부(111)로부터 절곡되어 상기 제 1 측면(S1)의 후면에 배치되는 제 1 방열부(113)를 더 포함할 수 있다. 상기 제 2 프레임(120)은 상기 제 2 측면(S2) 방향으로 연장될 수 있다. 또한, 상기 제 2 프레임(120)은 상기 제 4 측면(S4) 방향으로 절곡되며 상기 제 4 측면(S4)으로부터 돌출되는 제 2 리드부(121)를 포함할 수 있다. 상기 제 2 리드부(121)는 상기 제 4 측면(S4) 방향으로 돌출될 수 있다. 또한, 상기 제 2 프레임(120)은 상기 제 2 리드부(121)로부터 절곡되어 상기 제 2 측면(S2)의 후면에 배치되는 제 2 방열부(123)를 더 포함할 수 있다.
상기 제 1 프레임(110) 및 상기 제 2 프레임(120)은 도전성 프레임으로 제공될 수 있다. 상기 제 1 프레임(110) 및 상기 제 2 프레임(120)은 금속 프레임으로 제공될 수 있다. 상기 제 1 프레임(110) 및 상기 제 2 프레임(120)은 상기 발광소자(500)와 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제 1 프레임(110) 및 상기 제 2 프레임(120)은 구리(Cu), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 금(Au), 크롬(Cr), 탄탈늄(Ta), 백금(Pt), 주석(Sn) 및 은(Ag) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 제 1 프레임(110) 및 상기 제 2 프레임(120)은 단층 또는 다층으로 형성될 수 있다.
상기 제 1 프레임(110) 및 상기 제 2 프레임(120) 각각의 두께는 약 120㎛ 이상일 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 프레임(110) 및 제 2 프레임(120) 각각의 두께는 약 120㎛ 내지 약 250㎛일 수 있다. 상기 제 1 프레임(110) 및 상기 제 2 프레임(120)은 상기 패키지 몸체(100)의 구조적 강도를 향상시킬 수 있고, 방열 특성 및 전기적 특성을 고려하여 그 두께는 상술한 범위를 만족하는 것이 바람직하다.
상기 발광소자(500)와 상기 프레임(110, 120) 사이에는 도전부(610, 620)가 배치될 수 있다. 예를 들어, 상기 발광소자(500)와 상기 프레임(110, 120) 사이에는 서로 이격되는 제 1 도전부(610) 및 제 2 도전부(620)가 배치될 수 있다.
상기 제 1 도전부(610)는 상기 발광소자(500)의 제 1 본딩부(501)와 상기 제 1 프레임(110) 사이에 배치될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 본딩부(501)와 수직 방향으로 중첩되는 영역에 배치될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 개구부(h11)과 수직 방향으로 중첩될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 프레임(110)과 수직 방향으로 중첩될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 본딩부(501)의 하면 상에 배치될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 본딩부(501)의 하면과 직접 접촉할 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)의 하면은 상기 몸체(130)의 상면보다 하부에 위치할 수 있다. 또한, 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 본딩부(501)의 측면 상에 배치될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 본딩부(501)의 측면 일부 또는 전체 영역 상에 배치될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 본딩부(501)의 측면과 직접 접촉할 수 있다. 또한, 상기 제 1 도전부(610)는 상기 발광소자(500)의 하면 상에 배치될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 발광소자(500)의 하면과 직접 접촉할 수 있다. 또한, 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 개구부(h11) 내에 배치될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 개구부(h11)의 내측면과 직접 접촉할 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 프레임(110) 상에 배치될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 개구부(h11)의 하면에 노출되는 상기 제 1 프레임(110) 상에 배치될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 개구부(h11)의 하면에 노출되는 상기 제 1 프레임(110)의 상면과 직접 접촉할 수 있다.
상기 제 1 도전부(610)는 상기 발광소자(500)의 하면에 노출된 상기 제 1 본딩부(501)의 전체 영역을 감싸며 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 본딩부(501)의 하면 및 측면 전체를 감싸며 배치될 수 있다. 즉, 상기 제 1 도전부(610)의 장축 길이(d2)는 상기 제 1 본딩부(501)의 장축 길이(d1)보다 길 수 있고 상기 제 1 개구부(h11)의 수평 방향 폭과 대응될 수 있다. 이에 따라, 상기 제 1 본딩부(501)의 장축 길이(d1)는 상기 제 1 개구부(h11)의 수평 방향 폭보다 작을 수 있다. 여기서, 상기 제 1 본딩부(501) 및 제 1 도전부(610)의 장축 길이(d1, d2)는 수평 방향의 폭을 의미할 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)의 일측면은 상기 제 1 본딩부(501)의 일측면과 다른 평면 상에 배치될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)의 하면 면적은 상기 제 1 본딩부(501)의 하면 면적보다 클 수 있다. 상기 제 1 본딩부(501)은 상기 제 1 도전부(610)에 의해 외부에서 시인되지 않을 수 있다. 또한, 상기 제 1 도전부(610)의 장축 길이(d2)는 상기 제 1 개구부(h11) 하면에 노출되는 상기 제 1 프레임(110)의 길이보다 짧거나 같을 수 있다.
상기 제 1 도전부(610)는 Ag, Au, Sn, Cu, AgSn, AuSn 및 상술한 물질들의 합금 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 바람직하게 상기 제 1 도전부(610)는 AgSn을 포함할 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 Sn의 비율이 약 2% 내지 약 4%인 AgSn을 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 도전부(610)는 Sn의 비율이 약 3% 내지 약 4%인 AgSn을 포함할 수 있다. 더 자세하게, 상기 제 1 도전부(610)는 Sn의 비율이 약 3.5%인 AgSn을 포함할 수 있다. 여기서 %는 중량%(wt%)를 의미할 수 있다.
상기 제 1 도전부(610)는 제 1 두께(t4)를 가질 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 발광소자(500)의 하면과 상기 제 1 프레임(110)이 중첩하는 영역에서 제 1 두께(t4)를 가질 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 본딩부(501)가 배치되지 않은 상기 발광소자(500)의 하면과 상기 제 1 프레임(110) 사이에서 제 1 두께(t4)를 가질 수 있다. 상기 제 1 두께(t4)는 상기 제 1 본딩부(501)의 두께보다 두꺼울 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)의 제 1 두께(t4)는 상기 제 1 개구부(h11)의 높이보다 크거나 같을 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)의 제 1 두께(t4)는 약 30㎛ 이하일 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 도전부(610)의 제 1 두께(t4)는 약 5㎛ 내지 약 30㎛일 수 있다.
또한, 상기 제 1 도전부(610)는 제 2 두께(t5)를 가질 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 본딩부(501)와 상기 제 1 프레임(110) 사이에서 제 2 두께(t5)를 가질 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 본딩부(501)와 상기 제 1 프레임(110)이 수직 방향으로 중첩하는 영역에서 제 2 두께(t5)를 가질 수 있다. 상기 제 2 두께(t5)는 상기 제 1 본딩부(501)의 두께보다 두꺼울 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)의 제 2 두께(t5)는 상기 제 1 두께(t4)보다 작을 수 있다. 이에 따라, 상기 제 1 도전부(610)의 제 2 두께(t5)는 상기 제 1 개구부(h11)의 높이보다 작을 수 있다. 제 1 도전부(501)의 제 2 두께(t5)는 약 20㎛ 이하일 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 도전부(501)의 제 2 두께(t5)는 약 15㎛ 이하일 수 있다.
또한, 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 본딩부(501)의 측면 상에 배치될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 본딩부(501)의 측면 상에서 제 1 너비(d3)를 가질 수 있다. 상기 제 1 너비(d3)는 수평 방향 너비를 의미할 수 있다. 상기 제 1 너비(d3)는 상기 제 1 본딩부(501)의 측면과 상기 제 1 개구부(h11)의 내측면 사이의 거리와 대응될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)의 제 1 너비(d3)는 약 20㎛ 이하일 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 도전부(501)의 제 1 너비(d3)는 약 15㎛ 이하일 수 있다. 상기 제 1 도전부(501)의 제 1 너비(d3)는 상기 제 2 두께(t5)와 대응될 수 있다.
상기 제 1 도전부(610)의 제 1 두께(t4), 제 2 두께(t5) 및 제 1 너비(d3) 각각이 상술한 범위 미만인 경우, 상기 제 1 본딩부(501)와 상기 제 1 프레임(110)은 전기적으로 연결되지 않을 수 있다. 또한, 상기 제 1 두께(t4), 제 2 두께(t5) 및 제 1 너비(d3) 각각이 상술한 범위를 초과할 경우 상기 제 1 도전부(610)의 두께가 증가하여 패키지의 전체 두께가 증가할 수 있다.
상기 제 2 도전부(620)는 상기 발광소자(500)의 제 2 본딩부(502)와 상기 제 2 프레임(120) 사이에 배치될 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 본딩부(502)와 수직 방향으로 중첩되는 영역에 배치될 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 개구부(h12)와 수직 방향으로 중첩될 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 프레임(120)과 수직 방향으로 중첩될 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 본딩부(502)의 하면 상에 배치될 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 본딩부(502)의 하면과 직접 접촉할 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)의 하면은 상기 몸체(130)의 상면보다 하부에 위치할 수 있다. 또한, 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 본딩부(502)의 측면 상에 배치될 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 본딩부(502)의 측면 일부 또는 전체 영역 상에 배치될 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 본딩부(502)의 측면과 직접 접촉할 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 본딩부(502)의 측면과 직접 접촉할 수 있다. 또한, 상기 제 2 도전부(620)는 상기 발광소자(500)의 하면 상에 배치될 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)는 상기 발광소자(500)의 하면과 직접 접촉할 수 있다. 또한, 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 개구부(h12) 내에 배치될 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 개구부(h12)의 내측면과 직접 접촉할 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 프레임(120) 상에 배치될 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 개구부(h12) 하면에 노출되는 상기 제 2 프레임(120) 상에 배치될 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 개구부(h12) 하면에 노출되는 상기 제 2 프레임(120)의 상면과 직접 접촉할 수 있다.
상기 제 2 도전부(620)는 상기 발광소자(500)의 하면에 노출된 상기 제 2 본딩부(502)의 전체 영역을 감싸며 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 본딩부(502)의 하면 및 측면 전체를 감싸며 배치될 수 있다. 즉, 상기 제 2 도전부(620)의 장축 길이(d2)는 상기 제 2 본딩부(502)의 장축 길이(d1)보다 길 수 있고, 상기 제 2 개구부(h12)의 수평 방향 폭과 대응될 수 있다. 이에 따라, 상기 제 2 본딩부(502)의 장축 길이(d1)는 상기 제 1 개구부(h11)의 수평 방향 폭보다 작을 수 있다. 여기서, 상기 제 2 본딩부(502) 및 제 2 도전부(620)의 장축 길이(d1, d2)는 수평 방향의 폭을 의미할 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)의 일측면은 상기 제 2 본딩부(502)의 일측면과 다른 평면 상에 배치될 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)의 하면 면적은 상기 제 2 면적의 하면 면적보다 클 수 있다. 상기 제 2 본딩부(502)은 상기 제 2 도전부(620)에 의해 외부에서 시인되지 않을 수 있다. 또한, 상기 제 2 도전부(620)의 장축 길이(d2)는 상기 제 2 개구부(h12) 하면에 노출되는 상기 제 2 프레임(120)의 길이보다 짧거나 같을 수 있다.
상기 제 2 도전부(620)는 Ag, Au, Sn, Cu, AgSn, AuSn 및 상술한 물질들의 합금 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 바람직하게 상기 제 1 도전부(610)는 AgSn을 포함할 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)는 Sn의 비율이 약 2% 내지 약 4%인 AgSn을 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 도전부(620)는 Sn의 비율이 약 3% 내지 약 4%인 AgSn을 포함할 수 있다. 더 자세하게, 상기 제 2 도전부(620)는 Sn의 비율이 약 3.5%인 AgSn을 포함할 수 있다. 여기서 %는 중량%(wt%)를 의미할 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 1 도전부(610)와 동일한 물질을 포함할 수 있고, 동일한 조성의 물질을 포함할 수 있다.
또한, 도면에는 도시하지 않았으나, 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 1 도전부(610)와 대응되는 두께, 너비를 가질 수 있다. 예를 들어, 상기 제 2 도전부(620)는 제 1 두께(t4)를 가질 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)는 상기 발광소자(500)의 하면과 상기 제 2 프레임(120)이 중첩하는 영역에서 제 1 두께(t4)를 가질 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 본딩부(502)가 배치되지 않은 상기 발광소자(500)의 하면과 상기 제 2 프레임(120) 사이에서 제 1 두께(t4)를 가질 수 있다. 상기 제 1 두께(t4)는 상기 제 2 본딩부(502)의 두께보다 두꺼울 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)의 제 1 두께(t4)는 상기 제 2 개구부(h12)의 높이보다 크거나 같을 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)의 제 1 두께(t4)는 약 30㎛ 이하일 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 도전부(620)의 제 1 두께(t4)는 약 5㎛ 내지 약 30㎛일 수 있다.
또한, 상기 제 2 도전부(620)는 제 2 두께(t5)를 가질 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 본딩부(502)와 상기 제 2 프레임 사이에서 제 2 두께(t5)를 가질 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 본딩부(502)와 상기 제 2 프레임(120)이 수직 방향으로 중첩하는 영역에서 제 2 두께(t5)를 가질 수 있다. 상기 제 2 두께(t5)는 상기 제 2 본딩부(502)의 두께보다 두꺼울 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)의 제 2 두께(t5)는 상기 제 1 두께(t4)보다 작을 수 있다. 이에 따라, 상기 제 2 도전부(620)의 제 2 두께(t5)는 상기 제 1 개구부(h11)의 높이보다 작을 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)의 제 2 두께(t5)는 약 20㎛ 이하일 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 두께(t5)는 약 15㎛ 이하일 수 있다.
또한, 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 본딩부(502)의 측면 상에 배치될 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 본딩부(502)의 측면 상에서 제 1 너비(d3)를 가질 수 있다. 상기 제 1 너비(d3)는 수평 방향 너비를 의미할 수 있다. 상기 제 1 너비(d3)는 상기 제 2 본딩부(502)의 측면과 상기 제 2 개구부(h12)의 내측면 사이의 거리와 대응될 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)의 제 1 너비(d3)는 약 20㎛ 이하일 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 도전부(620)의 제 1 너비(d3)는 약 15㎛ 이하일 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)의 제 1 너비(d3)는 상기 제 2 두께(t5)와 대응될 수 있다.
상기 제 2 도전부(620)의 제 1 두께(t4), 제 2 두께(t5) 및 제 1 너비(d3) 각각이 상술한 범위 미만인 경우, 상기 제 2 본딩부(502)와 상기 제 2 프레임(120)은 전기적으로 연결되지 않을 수 있다. 또한, 상기 제 2 도전부(620)의 제 1 두께(t4), 제 2 두께(t5) 및 제 1 너비(d3) 각각이 상술한 범위를 초과할 경우 상기 제 2 도전부(620)의 두께가 증가하여 패키지 전체 두께가 증가할 수 있다.
상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 본딩부(501)에 배치될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 본딩부(501)의 하면 및 측면에 증착될 수 있다. 또한, 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 본딩부(502)에 배치될 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 본딩부(502)의 하면 및 측면에 증착될 수 있다. 상기 제 1 및 제 2 도전부(610, 620) 각각은 도금, 물리적 기상 증착(PVD) 등을 통해 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 및 제 2 도전부(610, 620)는 전해도금(electro plating), 무전해도금(electroless plating), 스퍼터링(Sputtering), 전자빔 증착(E-beam evaporation), 열 증착법(Thermal evaporation) 등을 통해 각각의 본딩부(501, 502) 상에 형성될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 본딩부(501) 상에 증착된 이후 상기 제 1 프레임(110)과 연결될 수 있다. 또한, 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 본딩부(502) 상에 증착된 이후 상기 제 2 프레임(120)과 연결될 수 있다.
또한, 상기 제 1 및 제 2 도전부(610, 620) 각각을 상기 제 1 및 제 2 프레임(110, 120)과 연결할 경우, 상기 제 1 및 제 2 프레임(110, 120) 상에는 각각 플럭스(flux)가 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 발광소자(500)의 하면과 마주하는 각각의 프레임(110, 120)의 상면 상에는 플럭스가 배치될 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 개구부(h11)의 하면과 상기 제 2 개구부(h12)의 하면 상에는 플럭스가 배치될 수 있다. 상기 플럭스는 송진, 수지, 무기산, 유기산 등의 환원성 물질을 포함할 수 있다. 상기 플럭스는 상기 프레임(110, 120) 상에 상기 도전부(610, 620)를 고정시키는 역할을 수행할 수 있다. 이후, 열 압착 등을 진행하여 상기 도전부(610, 620)와 상기 프레임(110, 120)을 고정시킬 수 있고 상기 도전부(610, 620)와 상기 프레임(110, 120)은 전기적으로 연결될 수 있다. 이때, 상기 도전부(610, 620)는 상기 프레임(110, 120)과 직접 접촉할 수 있다. 상기 플럭스는 상기 도전부(610, 620) 및 상기 프레임(110, 120)이 결합된 이후 제거될 수 있다.
상기 패키지 몸체(100) 상에는 제 1 수지(210)가 배치될 수 있다. 상기 제 1 수지(210)는 상기 발광소자(500) 및 상기 몸체(130) 사이에 배치될 수 있다. 상기 제 1 수지(210)는 상기 몸체(130)의 상면 및 상기 발광소자(500)의 배면 사이에 배치될 수 있다. 상기 제 1 수지(210)는 상기 발광소자(500)의 제 1 본딩부(501)와 제 2 본딩부(502) 사이에 배치될 수 있다. 상기 제 1 수지(210)는 상기 제 1 도전부(610) 및 상기 제 2 도전부(620) 사이에 배치될 수 있다. 상기 제 1 수지(210)는 상기 제 1 개구부(h11) 및 상기 제 2 개구부(h12) 사이에 배치될 수 있다.
상기 제 1 수지(210)는 접착성 재질 또는/및 반사성 재질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 수지(210)는 에폭시(epoxy) 계열의 물질, 실리콘(silicone) 계열의 물질, 에폭시 계열의 물질과 실리콘 계열의 물질을 포함하는 하이브리드(hybrid) 물질 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 또한 상기 제 1 수지(210)가 반사 기능을 포함하는 경우 상기 접착제는 화이트 실리콘(white silicone)을 포함할 수 있다.
상기 몸체(130)는 오목부를 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 몸체(130)의 상면은 상기 몸체(130)의 하면 방향으로 오목한 적어도 하나의 오목부가 형성될 수 있다. 상기 오목부는 상기 발광소자(500) 하면에 배치될 수 있다. 상기 오목부는 전체 영역이 상기 발광소자와 중첩될 수 있다. 상기 제 1 수지(210)는 상기 오목부에 제공될 수 있다. 상기 제 1 수지(210)는 상기 오목부에 의해 제공 위치 및 공급량을 제어할 수 있다. 상기 제 1 수지(210)는 상기 발광소자(500)와 상기 몸체(130)에 접착될 수 있다. 상기 제 1 수지(210)는 상기 제 1 도전부(610) 및 상기 제 2 도전부(620)와 접촉할 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 수지(210)는 상기 제 1 도전부(610)의 외측면과 상기 제 2 도전부(620)의 외측면과 직접 접촉할 수 있다.
상기 제 1 수지(210)는 상기 발광소자(500)의 하부 접착력 및 지지력을 강화시켜 줄 수 있다. 또한, 상기 제 1 수지(210)는 반사성 수지 재질로 형성되어 광을 확산시킬 수 있으며 이에 따라 반사 효율을 향상시킬 수 있다.
상기 패키지 몸체(100) 상에는 제 2 수지(220)가 더 배치될 수 있다. 상기 제 2 수지(220)는 상기 캐비티(170) 하면에 배치되는 몸체(130) 상에 배치될 수 있다. 상기 제 2 수지(220)는 상기 제 1 및 제 2 개구부(h11, h12)의 외측에 배치될 수 있다. 상기 제 2 수지(220)는 상기 발광소자(500)의 둘레에 배치될 수 있다.
상기 제 2 수지(220)는 접착성 재질 또는/및 반사성 재질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 수지(210)는 에폭시(epoxy) 계열의 물질, 실리콘(silicone) 계열의 물질, 에폭시 계열의 물질과 실리콘 계열의 물질을 포함하는 하이브리드(hybrid) 물질 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 또한 상기 제 2 수지(220)가 반사 기능을 포함하는 경우 상기 접착제는 화이트 실리콘(white silicone)을 포함할 수 있다.
상기 제 2 수지(220)는 상기 발광소자(500)의 측면과 접촉할 수 있다. 이에 따라, 상기 제 2 수지(220)는 상기 발광소자(500)의 측면 접착력을 강화시킬 수 있고 반사 효율을 향상시킬 수 있다.
상기 발광소자 패키지(1000)는 몰딩부(300)를 더 포함할 수 있다. 상기 몰딩부(300)는 상기 몸체(130) 및 상기 발광소자(500) 상에 제공될 수 있다. 상기 몰딩부(400)는 상기 상부 몸체(135)에 의하여 제공된 상기 캐비티(170) 내에 배치될 수 있다. 상기 몰딩부(300)는 상기 발광소자(500)를 감싸며 배치될 수 있다.
상기 몰딩부(300)는 절연 물질을 포함할 수 있다. 또한, 상기 몰딩부(300)는 상기 발광소자(500)로부터 방출되는 빛을 입사 받고, 파장 변환된 빛을 제공하는 파장변환 수단을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 몰딩부(300)는 형광체, 양자점 등을 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나를 할 수 있다. 상기 발광소자(500)는 황색, 청색, 녹색, 적색, 백색, 적외선 또는 자외선의 광을 발광할 수 있다. 상기 형광체, 또는 양자점은 청색, 녹색, 적색의 광을 발광할 수 있다. 상기 몰딩부(300)는 형성하지 않을 수 있다.
상기 몰딩부(300) 내부 또는 하부에 배치되는 형광체는, 불화물(fluoride) 화합물의 형광체를 포함할 수 있으며, 예컨대 MGF계 형광체, KSF계 형광체 또는 KTF계 형광체 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 형광체는 서로 다른 피크 파장을 발광할 수 있으며, 상기 발광소자로부터 방출된 광을 서로 다른 황색과 적색 또는 서로 다른 적색 피크 파장으로 발광할 수 있다. 상기 형광체 중 한 종류는 적색 형광체를 포함할 수 있다. 상기 적색 형광체는 610nm에서 650nm까지의 파장범위를 가질 수 있으며, 상기 파장은 10nm 미만의 반치폭을 가질 수 있다. 상기 적색 형광체는 플루오라이트(fluoride)계 형광체를 포함할 수 있다. 상기 플루오라이트계 형광체는, KSF계 적색 K2SiF6:Mn4+, K2TiF6:Mn4+, NaYF4:Mn4+, NaGdF4:Mn4+, K3SiF7:Mn4+ 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 KSF계 형광체 예컨대, KaSi1-cFb:Mn4+ c의 조성식을 가질 수 있으며, 상기 a는 1 ≤ a ≤ 2.5, 상기 b는 5 ≤ b ≤ 6.5, 상기 c는 0.001 ≤ c ≤ 0.1를 만족할 수 있다. 또한 상기 플루오라이트계 적색 형광체는 고온/고습에서의 신뢰성 향상을 위하여 각각 Mn을 함유하지 않는 불화물로 코팅되거나 형광체 표면 또는 Mn을 함유하지 않는 불화물 코팅 표면에 유기물 코팅을 더 포함할 수 있다. 상기와 같은 플루어라이트계 적색 형광체의 경우 기타 형광체와 달리 10nm 이하의 협반치폭을 구현할 수 있기 때문에, 고해상도 장치에 활용될 수 있다.
실시예에 따른 형광체 조성은 기본적으로 화학양론(Stoichiometry)에 부합하여야 하며, 각 원소들은 주기율표상 각 족들내 다른 원소로 치환이 가능하다. 예를 들어 Sr은 알카리토류(II)족의 Ba, Ca, Mg 등으로, Y는 란탄계열의 Tb, Lu, Sc, Gd 등으로 치환이 가능하다. 또한, 활성제인 Eu 등은 원하는 에너지 준위에 따라 Ce, Tb, Pr, Er, Yb 등으로 치환이 가능하며, 활성제 단독 또는 특성 변형을 위해 부활성제 등이 추가로 적용될 수 있다.
상기 양자점 형광체는, II-VI 화합물, 또는 III-V족 화합물 반도체를 포함할 수 있으며, 적색 광을 발광할 수 있다. 상기 양자점은 예컨대, ZnS, ZnSe, ZnTe, CdS, CdSe, CdTe, GaN, GaP, GaAs, GaSb, InP, InAs, In,Sb, AlS, AlP, AlAs, PbS, PbSe, Ge, Si, CuInS2, CuInSe2 등과 같은 것들 및 이들의 조합이 될 수 있다. 실시예에 따른 발광소자 패키지(1000)가 자외선(UV)을 방출하는 발광소자를 포함하는 경우 상기 몰딩부(300)는 생략될 수 있다.
즉, 실시예는 상기 발광소자(500)의 본딩부(501, 502) 상에 도전부(610, 620)가 형성될 수 있고, 상기 프레임(110, 120)과 도전부(610, 620) 사이에 공극이 형성되는 것을 방지할 수 있다. 이에 따라, 상기 프레임(110, 120)과 도전부(610, 620) 사이에 열충격 등에 의한 크랙이 발생되는 것을 방지할 수 있다.
또한, 실시예는 발광소자(500)의 본딩부(501, 502) 상에 도전부(610, 620)를 미리 형성함에 따라 상기 발광소자(500)를 상기 프레임(110, 120) 상에 쉽게 연결시킬 수 있다. 자세하게, 상기 발광소자의 크기가 점차 작아지면서, 소형의 발광소자(500)와 프레임(110, 120) 사이의 솔더링(soldering)의 어려움이 있다. 그러나, 실시예는 상기 도전부(610, 620)가 사전에 형성됨에 따라 상기 발광소자(500)와 상기 프레임(110, 120) 사이의 얼라인(align) 문제, 공극 형성, 크랙 발생 등의 솔더링 불량을 방지할 수 있다.
또한, 상기 도전부(610, 620)는 상기 본딩부(501, 502)의 측면 및 하면을 감싸며 배치됨에 상기 본딩부(501, 502)와 상기 도전부(610, 620) 사이의 결합력을 향상시킬 수 있고, 상기 발광소자(500)로부터 방출되는 열을 효과적으로 배출할 수 있다. 이에 따라, 실시예는 발광소자 패키지의 방열 특성을 향상시킬 수 있다.
도 5 및 도 6은 도 4의 변형예를 도시한 도면이다. 도 5를 참조하면, 상기 제 1 도전부(610)는 상기 발광소자(500)의 제 1 본딩부(501)와 상기 제 1 프레임(110) 사이에 배치될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 본딩부(501)와 수직 방향으로 중첩되는 영역에 배치될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 개구부(h11)와 수직 방향으로 중첩될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 프레임(110)과 수직 방향으로 중첩될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 본딩부(501)의 하면 상에 배치될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 본딩부(501)의 하면과 직접 접촉할 수 있다. 또한, 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 본딩부(501)의 측면과 이격하여 배치될 수 있다. 또한, 상기 발광소자(500)의 하면과 이격하여 배치될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 프레임(110) 상에 배치될 수 있다. 제 1 도전부(501)는 상기 제 1 개구부(h11) 하면에 노출되는 상기 제 1 프레임(110) 상에 배치될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 개구부(h11) 하면에 노출되는 상기 제 1 프레임(110)의 상면과 직접 접촉할 수 있다.
상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 본딩부(501)의 하면 전체 영역 상에 배치될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)의 장축 길이(d2)는 상기 제 1 본딩부(501)의 장축 길이(d1)와 대응될 수 있고, 상기 제 1 개구부(h11)의 수평 방향 폭과 대응될 수 있다. 이에 따라, 상기 제 1 본딩부(501)의 장축 길이(d1)는 상기 제 1 개구부(h11)의 수평 방향 폭과 대응될 수 있다. 여기서 상기 제 1 본딩부(501) 및 상기 제 1 도전부(610)의 장축 길이(d1, d2)는 수평 방향의 폭을 의미할 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)의 일측면은 상기 제 1 본딩부(501)의 일측면과 동일 평면 상에 배치될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)의 일측면은 상기 제 1 개구부(h11)의 내측면과 동일 평면 상에 배치될 수 있다. 이에 따라, 상기 제 1 도전부(610)의 상면 면적은 상기 제 1 본딩부(501)의 하면 면적과 대응될 수 있다. 또한, 상기 제 1 도전부(610)의 장축 길이(d2)는 상기 제 1 개구부(h11)의 하면에 노출되는 상기 제 1 프레임(110)의 길이보다 짧거나 같을 수 있다.
상기 제 1 도전부(610)는 제 2 두께(t5)를 가질 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 본딩부(501)와 상기 제 1 프레임(110) 사이에서 제 2 두께(t5)를 가질 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)의 제 2 두께(t5)는 상기 제 1 본딩부(501)의 두께보다 두꺼울 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)의 제 2 두께(t5)는 약 20㎛ 이하일 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 도전부(610)의 제 2 두께(t5)는 약 15㎛ 이하일 수 있다.
또한, 도면에는 도시하지 않았으나, 상기 2 도전부(620)는 상기 발광소자(500)의 제 2 본딩부(502)와 상기 제 2 프레임(120) 사이에 배치될 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 본딩부(502)와 수직 방향으로 중첩되는 영역에 배치될 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 개구부(h12)와 수직 방향으로 중첩될 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 프레임(120)과 수직 방향으로 중첩될 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 본딩부(502)의 하면 상에 배치될 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 본딩부(502)의 하면과 직접 접촉할 수 있다. 또한, 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 본딩부(502)의 측면과 이격하여 배치될 수 있다. 또한, 상기 발광소자(500)의 하면과 이격하여 배치될 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 프레임(120) 상에 배치될 수 있다. 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 개구부(h12) 하면에 노출되는 상기 제 2 프레임(120) 상에 배치될 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 개구부(h12) 하면에 노출되는 상기 제 2 프레임(120)의 상면과 직접 접촉할 수 있다.
상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 본딩부(502)의 하면 전체 영역 상에 배치될 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)의 장축 길이(d2)는 상기 제 2 본딩부(502)의 장축 길이(d1)와 대응될 수 있고, 상기 제 2 개구부(h12)의 수평 방향 폭과 대응될 수 있다. 이에 따라, 상기 제 2 본딩부(502)의 장축 길이(d1)는 상기 제 2 개구부(h12)의 수평 방향 폭과 대응될 수 있다. 여기서 상기 제 2 본딩부(502) 및 상기 제 2 도전부(620)의 장축 길이(d1, d2)는 수평 방향의 폭을 의미할 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)의 일측면은 상기 제 2 본딩부(502)의 일측면과 동일 평면 상에 배치될 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)의 일측면은 상기 제 2 개구부(h12)의 내측면과 동일 평면 상에 배치될 수 있다. 이에 따라, 상기 제 2 도전부(620)의 상면 면적은 상기 제 2 본딩부(502)의 하면 면적과 대응될 수 있다. 또한, 상기 제 1 도전부(610)의 장축 길이(d2)는 상기 제 2 개구부(h12)의 하면에 노출되는 상기 제 1 프레임(110)의 길이보다 짧거나 같을 수 있다.
상기 제 2 도전부(620)는 제 2 두께(t5)를 가질 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 본딩부(502)와 상기 제 2 프레임(120) 사이에서 제 2 두께(t5)를 가질 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)의 제 2 두께(t5)는 상기 제 2 본딩부(502)의 두께보다 두꺼울 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)의 제 2 두께(t5)는 약 20㎛ 이하일 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 도전부(620)의 제 2 두께(t5)는 약 15㎛ 이하일 수 있다.
상기 제 1 및 제 2 도전부(610, 620) 각각의 제 2 두께(t5)가 상술한 범위 미만인 경우, 상기 본딩부(501, 502)와 상기 프레임(110, 120)이 연결되지 않을 수 있다. 또한, 상기 제 2 두께(t5)가 상술한 범위를 초과할 경우 상기 도전부(610, 620)의 두께가 증가하여 패키지의 전체 두께가 증가할 수 있다.
즉, 실시예는 상기 발광소자(500)의 본딩부(501, 502) 상에 도전부(610, 620)가 형성될 수 있고, 상기 프레임(110, 120)과 도전부(610, 620) 사이에 공극이 형성되는 것을 방지할 수 있다. 이에 따라, 상기 프레임(110, 120)과 도전부(610, 620) 사이에 열충격 등에 의한 크랙이 발생되는 것을 방지할 수 있다.
또한, 실시예는 발광소자(500)의 본딩부(501, 502) 상에 도전부(610, 620)를 미리 형성함에 따라 상기 발광소자(500)를 상기 프레임(110, 120) 상에 쉽게 연결시킬 수 있다. 자세하게, 상기 발광소자의 크기가 점차 작아지면서, 소형의 발광소자(500)와 프레임(110, 120) 사이의 솔더링(soldering)의 어려움이 있다. 그러나, 실시예는 상기 도전부(610, 620)가 사전에 형성됨에 따라 상기 발광소자(500)와 상기 프레임(110, 120) 사이의 얼라인(align) 문제, 공극 형성, 크랙 발생 등의 솔더링 불량을 방지할 수 있다.
또한, 상기 도전부(610, 620)는 상기 본딩부(501, 502)의 하면과 직접 접촉하며 상기 본딩부(501, 502)의 하면과 대응되는 면적을 가짐에 따라 상기 발광소자(500)로부터 방출되는 열을 효과적으로 배출할 수 있다. 이에 따라, 실시예는 발광소자 패키지의 방열 특성을 향상시킬 수 있다.
도 6을 참조하면, 상기 제 1 도전부(610)는 상기 발광소자(500)의 제 1 본딩부(501)와 상기 제 1 프레임(110) 사이에 배치될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 본딩부(501)와 수직 방향으로 중첩되는 영역에 배치될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 개구부(h11)와 수직 방향으로 중첩될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 프레임(110)과 수직 방향으로 중첩될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 본딩부(501)의 하면 상에 배치될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 본딩부(501)의 하면과 직접 접촉할 수 있다. 또한, 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 본딩부(501)의 측면과 이격하여 배치될 수 있다. 상기 발광소자(500)의 하면과 이격하여 배치될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 프레임(110) 상에 배치될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 개구부(h11) 하면에 노출되는 상기 제 1 프레임(110) 상에 배치될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 개구부(h11) 하면에 노출되는 상기 제 1 프레임(110)의 상면과 직접 접촉할 수 있다.
상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 본딩부(501)의 하면 일부 영역 상에 배치될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)의 장축 길이(d2)는 상기 제 1 본딩부(501)의 장축 길이(d1)보다 짧을 수 있고, 상기 제 1 개구부(h11)의 수평 방향 폭보다 짧을 수 있다. 또한, 상기 제 1 본딩부(501)의 장축 길이(d1)는 상기 제 1 개구부(h11)의 수평 방향 폭과 대응될 수 있다. 여기서 상기 제 1 본딩부(501) 및 상기 제 1 도전부(610)의 장축 길이(d1, d2)는 수평 방향의 폭을 의미할 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)의 일측면은 상기 제 1 본딩부(501)의 일측면과 다른 평면 상에 배치될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)의 일측면은 상기 제 1 개구부(h11)의 내측면과 이격되어 배치될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)와 상기 제 1 개구부(h11)는 제 2 너비(d4)를 가질 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 도전부(610)의 측면과 상기 제 1 개구부(h11)의 내측면은 제 2 너비(d4)만큼 이격될 수 있다. 상기 제 2 너비(d4)는 약 20㎛ 이하일 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 너비(d4)는 약 15㎛ 이하일 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)의 상면 면적은 상기 제 1 본딩부(501)의 하면 면적보다 작을 수 있다. 또한, 상기 제 1 도전부(610)의 장축 길이(d2)는 상기 제 1 개구부(h11) 하면에 노출되는 상기 제 1 프레임(110)의 길이보다 짧을 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)의 하면 면적은 상기 제 1 개구부(h11) 하면에 노출되는 상기 제 1 프레임(110)의 상면 면적보다 작을 수 있다.
또한, 상기 제 1 본딩부(501)의 하면 일부는 노출될 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 도전부(610)의 장축 길이(d2)가 상기 제 1 본딩부(501)의 장축 길이(d1)보다 짧음에 따라 상기 제 1 본딩부(501)의 하면 일부는 노출될 수 있다. 이에 따라, 상기 제 1 본딩부(501)와 상기 제 1 프레임(110) 사이에는 갭(gap)이 형성될 수 있다. 상기 갭에는 상술한 플럭스가 배치될 수 있고, 상기 플럭스에 의해 상기 제 1 본딩부(501), 상기 제 1 도전부(610) 및 상기 제 1 프레임(110) 사이의 결합력은 향상될 수 있다.
또한, 도면에는 도시하지 않았으나, 상기 제 2 도전부(620)는 상기 발광소자(500)의 제 2 본딩부(502)와 상기 제 2 프레임(120) 사이에 배치될 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 본딩부(502)와 수직 방향으로 중첩되는 영역에 배치될 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 개구부(h12)와 수직 방향으로 중첩될 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 프레임(120)과 수직 방향으로 중첩될 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 본딩부(502)의 하면 상에 배치될 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 본딩부(502)의 하면과 직접 접촉할 수 있다. 또한, 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 본딩부(502)의 측면과 이격하여 배치될 수 있다. 상기 발광소자(500)의 하면과 이격하여 배치될 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 프레임(120) 상에 배치될 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 개구부(h12) 하면에 노출되는 상기 제 2 프레임(120) 상에 배치될 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 개구부(h12) 하면에 노출되는 상기 제 2 프레임(120)의 상면과 직접 접촉할 수 있다.
상기 제 2 도전부(620)는 상기 제 2 본딩부(502)의 하면 일부 영역 상에 배치될 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)의 장축 길이(d2)는 상기 제 1 본딩부(501)의 장축 길이(d1)보다 짧을 수 있고, 상기 제 2 개구부(h12)의 수평 방향 폭보다 짧을 수 있다. 또한, 상기 제 2 본딩부(502)의 장축 길이(d1)는 상기 제 2 개구부(h12)의 수평 방향 폭과 대응될 수 있다. 여기서 상기 제 2 본딩부(502) 및 상기 제 2 도전부(620)의 장축 길이(d1, d2)는 수평 방향의 폭을 의미할 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)의 일측면은 상기 제 2 본딩부(502)의 일측면과 다른 평면 상에 배치될 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)의 일측면은 상기 제 2 개구부(h12)의 내측면과 이격되어 배치될 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)와 상기 제 2 개구부(h12)는 제 2 너비(d4)를 가질 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 도전부(620)의 측면과 상기 제 2 개구부(h12)의 내측면은 제 2 너비(d4)만큼 이격될 수 있다. 상기 제 2 너비(d4)는 약 20㎛ 이하일 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 너비(d4)는 약 15㎛ 이하일 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)의 상면 면적은 상기 제 2 본딩부(502)의 하면 면적보다 작을 수 있다. 또한, 상기 제 2 도전부(620)의 장축 길이(d2)는 상기 제 2 개구부(h12) 하면에 노출되는 상기 제 2 프레임(120)의 길이보다 짧을 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)의 하면 면적은 상기 제 2 개구부(h12) 하면에 노출되는 상기 제 2 프레임(120)의 상면 면적보다 작을 수 있다.
또한, 상기 제 2 본딩부(502)의 하면 일부는 노출될 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 도전부(620)의 장축 길이(d2)가 상기 제 2 본딩부(502)의 장축 길이(d1)보다 짧음에 따라 상기 제 2 본딩부(502)의 하면 일부는 노출될 수 있다. 이에 따라, 상기 제 2 본딩부(502)와 상기 제 2 프레임(120) 사이에는 갭(gap)이 형성될 수 있다. 상기 갭에는 상술한 플럭스가 배치될 수 있고, 상기 플럭스에 의해 상기 제 2 본딩부(502), 상기 제 2 도전부(620) 및 상기 제 2 프레임(120) 사이의 결합력은 향상될 수 있다.
즉, 실시예는 상기 발광소자(500)의 본딩부(501, 502) 상에 도전부(610, 620)가 형성될 수 있고, 상기 프레임(110, 120)과 도전부(610, 620) 사이에 공극이 형성되는 것을 방지할 수 있다. 이에 따라, 상기 프레임(110, 120)과 도전부(610, 620) 사이에 열충격 등에 의한 크랙이 발생되는 것을 방지할 수 있다.
또한, 실시예는 발광소자(500)의 본딩부(501, 502) 상에 도전부(610, 620)를 미리 형성함에 따라 상기 발광소자(500)를 상기 프레임(110, 120) 상에 쉽게 연결시킬 수 있다. 자세하게, 상기 발광소자의 크기가 점차 작아지면서, 소형의 발광소자(500)와 프레임(110, 120) 사이의 솔더링(soldering)의 어려움이 있다. 그러나, 실시예는 상기 도전부(610, 620)가 사전에 형성됨에 따라 상기 발광소자(500)와 상기 프레임(110, 120) 사이의 얼라인(align) 문제, 공극 형성, 크랙 발생 등의 솔더링 불량을 방지할 수 있다.
또한, 상기 도전부(610, 620)는 상기 본딩부(501, 502)의 하면 및 상기 프레임(110, 120)의 상면과 직접 접촉하며 배치됨에 따라 상기 발광소자(500)로부터 방출되는 열을 효과적으로 배출할 수 있다. 이에 따라, 실시예는 발광소자 패키지(1000)의 방열 특성을 향상시킬 수 있다.
또한, 상기 도전부(610, 620)의 면적이 본딩부(501, 502)의 면적보다 작음에 따라 상기 본딩부(501, 502)와 프레임(110, 120) 사이에는 갭이 형성될 수 있고, 상기 갭에는 플럭스가 배치될 수 있다. 이에 따라, 상기 본딩부(501, 502), 상기 도전부(610, 620) 및 상기 프레임 사이의 결합력을 향상시킬 수 있다.
도 7은 도 1의 발광소자 패키지에서 프레임의 변형예를 도시한 A-A' 단면도이다.
도 7을 참조하면, 상기 패키지 몸체(100)는 제 1 프레임(110) 및 제 2 프레임(120)을 포함할 수 있다.
상기 제 1 프레임(110)은 상기 발광소자(500)의 제 1 본딩부(501)와 대응되는 영역 상에 배치될 수 있다. 상기 제 1 프레임(110)은 상기 제 1 본딩부(501)와 전기적으로 연결될 수 있다. 또한, 상기 제 2 프레임(120)은 상기 발광소자(500)의 제 2 본딩부(502)와 대응되는 영역 상에 배치될 수 있다. 상기 제 2 프레임(120)은 상기 제 2 본딩부(502)와 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 제 1 프레임(110)은 상기 캐비티(170)의 하면에서 상기 패키지 몸체(100)의 후면(S6) 방향으로 절곡되는 제 1 지지부(115)를 포함할 수 있다.
상기 제 1 지지부(115)는 상기 패키지 몸체(100) 내부에 배치될 수 있다. 상기 제 1 지지부(115)는 상기 캐비티(170) 하면에 노출되지 않고 상기 캐비티(170)의 하면과 상기 패키지 몸체(100)의 후면(S6) 사이에 배치될 수 있다. 상기 제 1 지지부(115)는 상기 패키지 몸체(100)의 후면(S6)보다 상기 캐비티(170)의 하면과 더 인접하게 배치될 수 있다. 상기 제 1 지지부(115)의 양단부(116, 117)는 절곡된 부분으로 상기 양단부(116, 117)는 상기 제 1 프레임(110)과 상기 패키지 몸체(100) 내부에 배치되는 제 1 내부 프레임(119)과 연결될 수 있다. 상기 제 1 지지부(115)의 양단부(116, 117)의 두께는 상기 제 1 프레임(110)의 두께보다 얇을 수 있다. 또한, 상기 제 1 지지부(115)의 양단부(116, 117)의 두게는 상기 제 1 내부 프레임(119)의 두께보다 얇을 수 있다.
상기 제 2 프레임(120)은 상기 캐비티(170)의 하면에서 상기 패키지 몸체(100)의 후면(S6) 방향으로 절곡되는 제 2 지지부(125)를 포함할 수 있다. 상기 제 2 지지부(125)는 상기 패키지 몸체(100) 내부에 배치될 수 있다. 상기 제 2 지지부(125)는 상기 캐비티(170) 하면에 노출되지 않고 상기 캐비티(170)의 하면과 상기 패키지 몸체(100)의 후면(S6) 사이에 배치될 수 있다. 상기 제 2 지지부(125)는 상기 패키지 몸체(100)의 후면(S6)보다 상기 캐비티(170)의 하면과 더 인접하게 배치될 수 있다. 상기 제 2 지지부(125)의 양단부(126, 127)는 절곡된 부분으로 상기 양단부(126, 127)는 상기 제 1 프레임(110)과 상기 패키지 몸체(100) 내부에 배치되는 제 2 내부 프레임(129)과 연결될 수 있다. 상기 제 2 지지부(125)의 양단부(126, 127)의 두께는 상기 제 2 프레임(120)의 두께보다 얇을 수 있다. 또한, 상기 제 2 지지부(125)의 양단부(126, 127)의 두게는 상기 제 2 내부 프레임(129)의 두께보다 얇을 수 있다.
상기 패키지 몸체(100)는 양단부가 절곡된 지지부(115, 125)를 포함함에 따라, 상기 몸체(130)와 상기 제 1 및 제 2 프레임(110, 120) 사이의 접촉 면적을 넓힐 수 있다. 이에 따라, 상기 몸체(130), 상기 제 1 프레임(110) 및 상기 제 2 프레임(120) 사이의 결합력을 향상시킬 수 있어 발광소자 패키지(1000)의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
도 8은 실시예에 따른 발광소자의 평면도이고, 도 9는 도 8의 B-B' 단면도이다.
도 8 및 도 9를 참조하면, 실시에에 따른 발광소자(500)는 기판(505), 발광 구조물(510), 전도층(530), 반사층(560), 제 1 전극(541), 제 2 전극(542), 제 1 본딩부(501), 제 2 본딩부(502) 및 보호층(550)을 포함할 수 있다. 상기 제 1 및 제 2 본딩부(501, 502)는 상기 발광 구조물(510) 상에 배치될 수 있다. 상기 발광소자(500)는 상기 제 1 및 제 2 본딩부(501, 502)가 일면 상에 배치되어 플립 칩 방식으로 패키지 내부에 배치되거나 회로 기판 상에 배치될 수 있다.
상기 기판(505)은 상기 발광 구조물 하부에 배치될 수 있다. 상기 기판(505)은 투광성 재질 또는 절연성 재질일 수 있다. 상기 기판(505)은 사파이어 기판(Al2O3), SiC, GaAs, GaN, ZnO, Si, GaP, InP, Ge을 포함하는 그룹 중에서 선택될 수 있다. 예로서, 상기 기판(505)은 상부 면에 요철 패턴(502)이 배치될 수 있다. 상기 요철 패턴(502)은 복수의 볼록부가 배열될 수 있으며, 입사되는 광의 임계각을 변화시켜 줄 수 있다. 상기 기판(505)은 상면 및 하면 중 적어도 하나에 볼록부 또는 오목부가 배치될 수 있다. 상기 기판(505)은 상기 발광 소자(500)의 내부에서 방출된 광을 출사하는 면을 제공할 수 있다. 상기 기판(505)는 제거될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.
상기 발광 구조물(510)은 화합물 반도체로 제공될 수 있다. 상기 발광 구조물(510)은 예로서 2족-6족 또는 3족-5족 화합물 반도체로 제공될 수 있다. 예로서, 상기 발광 구조물(510)은 알루미늄(Al), 갈륨(Ga), 인듐(In), 인(P), 비소(As), 질소(N)로부터 선택된 적어도 두 개 이상의 원소를 포함하여 제공될 수 있다.
상기 발광 구조물(510)은 복수의 화합물 반도체층을 포함할 수 있다. 상기 발광 구조물(510)은 예컨대, 제 1 도전형 반도체층(511), 제 2 도전형 반도체층(513), 상기 제 1 도전형 반도체층(511)과 상기 제 2 도전형 반도체층(513) 사이에 배치된 활성층(512)을 포함할 수 있다. 상기 제 1 도전형 반도체층(511)은 상기 기판(505) 상에 배치될 수 있다. 상기 제1 도전형 반도체층(511)과 상기 기판(505) 사이에는 단층 또는 다층의 화합물 반도체층이 배치될 수 있다. 상기 발광 구조물(510)은, 청색, 녹색, 적색, 자외선 또는 적외선 광을 발광할 수 있다.
상기 제 1 도전형 반도체층(511)은 상기 활성층(512) 아래에 배치될 수 있다. 상기 제 1 도전형 반도체층(511)은 상기 활성층(512)과 상기 기판(505) 사이에 배치될 수 있다. 상기 제 1 도전형 반도체층(511)은 예로서, 2족-6족 화합물 반도체 또는 3족-5족 화합물 반도체로 제공될 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 도전형 반도체층(511)은 InxAlyGa1-x-yN(0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 재료 또는 (AlxGa1-x)yIn1-yP(0≤x≤1, 0≤y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 재료로 제공될 수 있다. 예를 들어 상기 제1 도전형 반도체층(511)은 GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, AlGaInP, AlInP, GaInP 등을 포함하는 그룹 중에서 선택될 수 있으며, Si, Ge, Sn, Se, Te 등을 포함하는 그룹 중에서 선택된 n형 도펀트가 도핑될 수 있다. 상기 제 1 도전형 반도체층(511)은 단층 또는 다층 구조이거나, 초격자 구조를 포함할 수 있다.
상기 활성층(512)은 상기 제 1 도전형 반도체층(511) 위에 배치될 수 있다. 상기 활성층(512)은 상기 제 1 도전형 반도체층(511)과 상기 제 2 도전형 반도체층(513)에 접촉될 수 있다. 상기 활성층(512)은, 예로서 2족-6족 화합물 반도체 또는 3족-5족 화합물 반도체로 제공될 수 있다. 예를 들어, 상기 활성층(512)은 InxAlyGa1-x-yN(0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 재료 또는 (AlxGa1-x)yIn1-yP(0≤x≤1, 0≤y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 재료로 제공될 수 있다. 예로서, 상기 활성층(512)은 GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, AlGaInP, AlInP, GaInP 등을 포함하는 그룹 중에서 선택될 수 있다. 예로서, 상기 활성층(512)은 다중 우물 구조로 제공될 수 있으며, 복수의 장벽층과 복수의 우물층을 포함할 수 있다. 상기 활성층(512)은 청색, 녹색, 적색, 자외선 또는 적외선 중 적어도 하나의 광을 발광할 수 있다.
상기 제 2 도전형 반도체층(513)은 상기 활성층(512) 위에 배치될 수 있다. 상기 제 2 도전형 반도체층(513)은 활성층(512)과 전도층(530) 사이에 배치될 수 있다. 상기 제 2 도전형 반도체층(513)은, 예로서 2족-6족 화합물 반도체 또는 3족-5족 화합물 반도체로 제공될 수 있다. 예를 들어, 상기 제 2 도전형 반도체층(513)은 InxAlyGa1-x-yN(0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 재료 또는 (AlxGa1-x)yIn1-yP(0≤x≤1, 0≤y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 재료로 제공될 수 있다. 예를 들어 상기 제 2 도전형 반도체층(513)은 GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, AlGaInP, AlInP, GaInP 등을 포함하는 그룹 중에서 선택될 수 있으며, Mg, Zn, Ca, Sr, Ba 등을 포함하는 그룹 중에서 선택된 p형 도펀트가 도핑될 수 있다. 상기 제 2 도전형 반도체층(513)은 단층 또는 다층으로 배치되거나, 초격자 구조를 포함할 수 있다.
실시예에 따른 발광 구조물(510)에서 상기 제 1 도전형 반도체층(511)은 n형 반도체층으로 제공되고, 상기 제 2 도전형 반도체층(513)은 p형 반도체층으로 제공될 수 있다. 이와 다르게, 상기 제 1 도전형 반도체층(511)이 p형 반도체층으로 제공되고, 상기 제 2 도전형 반도체층(513)이 n형 반도체층으로 제공될 수도 있다. 이하에서는 설명의 편의를 위해 상기 제 1 도전형 반도체층(511)이 n형 반도체층으로 제공되고 상기 제 2 도전형 반도체층(513)이 p형 반도체층으로 제공된 경우를 기준으로 설명하기로 한다.
상기 제 1 도전형 반도체층(511)은 제 1 전극(541)과 연결될 수 있다. 상기 제 2 도전형 반도체층(513)은 전도층(530)과 제 2 전극(542) 중 적어도 하나 또는 모두에 연결될 수 있다.
상기 발광 구조물(510)은 도 9에 도시된 바와 같이 복수의 제 1 리세스(h1)를 포함할 수 있다. 상기 복수의 제 1 리세스(h1)는 상기 발광 구조물(510)의 상면에서 상기 제 1 도전형 반도체층(511)의 상부(511a)가 노출되는 단차진 영역일 수 있다. 상기 제 1 리세스(h1)은 도 8에 도시된 개구부(h2)와 대응되는 영역에 각각 배치될 수 있다. 상기 제 1 리세스(h1)는 상기 발광 구조물(510)과 제 1 전극(541)이 중첩된 영역 상에 배치될 수 있다. 상기 복수의 제 1 리세스(h1)는 전도층(530), 상기 제 2 도전형 반도체층(513) 및 활성층(512)을 관통하여 배치될 수 있다. 상기 발광 구조물(510) 상에서 상기 복수의 제 1 리세스(h1)는 서로 이격되어 배치될 수 있다. 상기 복수의 제 1 리세스(h1)는 제 1 및 제 2 방향(x축 및 y축 방향)으로 배열될 수 있다. 상기 복수의 제 1 리세스(h1)는 제 1 방향으로 동일 간격으로 배치될 수 있고, 제 2 방향으로 서로 동일한 간격으로 배치될 수 있다.
상기 제 1 리세스(h1)는 상부 너비 또는 상부 면적은 하부 너비 또는 하부 면적보다 넓을 수 있다. 상기 제 1 리세스(h1)의 상부 형상은 다각 형상 또는 원 형상일 수 있다.
상기 발광 구조물(510)은 외곽 둘레에 낮게 단차진 외곽부(511b)를 포함할 수 있다. 상기 외곽부(511b)는 상기 기판(505)의 측면보다 더 내측에 배치되며, 상기 발광 구조물(510)의 상면보다 낮게 배치될 수 있다.
상기 발광 구조물(510) 상에는 전도층(530), 전류확산층(520), 제 1 전극(541), 제 2 전극(542) 및 반사층(560)이 배치될 수 있다.
상기 전도층(530)은 상기 발광 구조물(530) 상에 배치될 수 있다. 상기 전도층(530)은 제 2 도전형 반도체층(513) 상에 배치될 수 있다. 상기 전도층(530)은 제 2 전극(542)와 연결되고 전류를 확산시켜 줄 수 있다. 예로서, 상기 전도층(530)은 금속, 금속 산화물, 금속 질화물을 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 전도층(530)은 투광성의 물질을 포함할 수 있다. 상기 전도층(530)은, 예를 들어 ITO(indium tin oxide), IZO(indium zinc oxide), IZON(IZO nitride), IZTO (indium zinc tin oxide), IAZO(indium aluminum zinc oxide), IGZO(indium gallium zinc oxide), IGTO(indium gallium tin oxide), AZO(aluminum zinc oxide), ATO(antimony tin oxide), GZO(gallium zinc oxide), IrOx, RuOx, RuOx/ITO, Ni/IrOx/Au, Ni/IrOx/Au/ITO, Pt, Ni, Au, Rh, Pd를 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다.
상기 전도층(530)의 상면 면적은 상기 제2 도전형 반도체층(513) 상면 면적보다 작을 수 있다. 상기 전도층(530)은 투명한 층으로서, 단층 또는 다층으로 제공될 수 있다. 상기 전도층(530)은 상기 발광 구조물(510)의 상면 면적 대비 80% 이상의 면적으로 배치하여, 발광 소자의 전기적 특성을 개선할 수 있다.
상기 반사층(560)은 상기 발광 구조물(510)로부터 방출되는 광을 반사시킬 수 있다. 상기 반사층(560)은 절연 물질 또는/및 금속성 물질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 반사층(560)은 DBR(Distributed Bragg Reflector) 또는 ODR(Omni Directional Reflector)를 포함할 수 있으나 있다. 예를 들어, 상기 반사층(560)은 서로 다른 굴절률을 갖는 제1,2층이 교대로 적층된 DBR 구조를 포함할 수 있다. 상기 반사층(560)은 굴절률이 다른 적어도 두 층을 교대로 적층할 수 있으며, 제 1 층은 Al2O3, TiO2와 SiO2 중 어느 하나이며, 제 2 층은 Al2O3, Ta2O5와 SiO2 중 다른 하나일 수 있다.
상기 반사층(560)은 상기 발광 구조물(510)의 외곽부(511b)에 배치될 수 있다. 상기 외곽부(511b)의 바닥은 상기 활성층(512)의 상면보다 낮게 배치될 수 있다. 상기 발광 구조물(510)의 외측면의 상부는 상기 외곽부(511b) 상에서 경사진 면으로 제공될 수 있다.
상기 반사층(560)이 상기 발광 구조물(510)의 외곽부(511b)를 커버하게 되므로, 상기 발광 구조물(510)의 활성층(512)이 노출되는 것을 방지할 수 있다. 상기 반사층(560)이 상기 발광 구조물(510)의 활성층(512)의 측면까지 연장되므로, 광 반사 효율을 개선시켜 줄 수 있다.
또한, 상기 반사층(560)의 일부는 상기 복수 개의 제 1 리세스(h1) 상에 배치될 수 있다. 또한, 상기 반사층(560)은 상기 제 1 도전형 반도체층(511)의 상부(511a)와 대응되고 상기 상부(511a)에 연결되는 개구부(h2)를 포함할 수 있다. 상기 개구부(h2)는 상부가 넓고 하부가 좁을 수 있다. 상기 개구부(h2)에는 제 1 전극(541)의 제 1 접촉부(k1)가 각각 배치될 수 있다. 상기 제 1 접촉부(k1)는 상기 제 1 도전형 반도체층(511)의 상부(511a)와 접촉될 수 있다. 이에 따라 제 1 도전형 반도체층(511)은 상기 제 1 전극(541)과 전기적으로 연결될 수 있다.
또한, 상기 반사층(560)은 다수의 관통홀(h3)을 포함할 수 있다. 상기 관통홀(h3)에는 상기 제 2 전극(542)의 제 2 접촉부(k2)가 배치될 수 있다. 상기 복수의 관통홀(h3)은 상기 제 2 전극(542)와 수직 방향으로 중첩되는 영역에 배치될 수 있다. 상기 관통홀(h3)은 도 8에 도시된 바와 같이, 제 1 방향으로 복수개가 배열될 수 있고, 제 2 방향으로 복수개가 배열될 수 있다. 상기 관통홀(h3)은 제 1 방향으로 서로 동일한 간격으로 배치될 수 있고, 제 2 방향으로 서로 동일한 간격으로 배치될 수 있다. 이러한 각 방향에 따라 균일한 간격으로 관통홀(h3)가 배열될 경우, 제 2 접촉부(k2)를 통해 전류가 균일한 분포로 공급될 수 있다.
상기 전류확산층(520)은 발광 구조물(510) 상에 배치될 수 있다. 상기 전류확산층(520)은 제 2 도전형 반도체층(513) 상에 배치될 수 있다. 상기 전류확산층(520)은 제 2 도전형 반도체층(513)의 상면에 접촉될 수 있다. 상기 전류확산층(520)은 상기 제 2 도전형 반도체층(513)과 상기 전도층(530) 사이에 배치될 수 있다. 상기 전류확산층(520)은 상기 전도층(530)과 상기 발광 구조물(510) 사이의 영역 중에서 상기 제 2 전극(542)의 제 2 접촉부(k2)와 대응되는 영역에 각각 배치될 수 있다. 이러한 전류확산층(520)은 입력된 전류를 차단하거나 블록킹하여, 상기 전도층(530)을 통해 수평 방향으로 확산시켜 줄 수 있다. 예로서, 상기 전류확산층(520)은 산화물 또는 질화물로 배치되거나, 절연 물질 또는 금속 재질로 형성될 수 있다. 상기 전류확산층(520)은 상기 제 2 접촉부(k2)와 수직 방향으로 중첩될 수 있다. 상기 전류확산층(520)은 복수의 영역에 분산되어 배치될 수 있다. 상기 전류확산층(520)은 제 2 전극(542) 아래에서 전류가 집중되는 것을 방지할 수 있다.
상기 반사층(560)의 관통홀(h3)은 상기 전류확산층(520)과 수직 방향으로 중첩되게 배치될 수 있다. 이에 따라 상기 제 2 접촉부(k2)를 통해 주입되는 전류가 상기 전류확산층(520)을 통해 확산될 수 있다. 상기 전류확산층(520)은 도트 형상으로 배치될 수 있으며, 상기 제 1 및 제 2 본딩부(501, 502)와 중첩되는 영역에 배치되거나 상기 관통홀(h3) 아래에 각각 배치될 수 있다.
상기 전극 구조에서 제 1 전극(541) 및 제 2 전극(542)은 상기 반사층(560) 상에 배치될 수 있다. 상기 제 1 전극(541)은 상기 반사층(560) 상에 배치될 수 있다. 상기 제 1 전극(541)은 상기 반사층(560)의 표면에 접촉될 수 있다. 상기 제 2 전극(542)은 상기 반사층(560)의 표면에 접촉될 수 있다. 상기 제 1 전극(541)은 제 1 접촉부(k1)을 포함할 수 있다. 상기 제 1 접촉부(k1)는 상기 개구부(h2)를 통해 각각 돌출되며, 서로 이격되어 배치될 수 있다. 상기 제 1 접촉부(k1)는 상기 반사층(560)의 개구부(h2)를 통해 제 1 도전형 반도체층(511)과 연결되고 접촉될 수 있다.
상기 제 1 전극(541)은 상기 발광 구조물(510)과 제 1 본딩부(501) 사이의 제 1 본딩영역에 배치될 수 있다. 상기 제 1 전극(541)은 상기 제 1 본딩영역으로부터 상기 발광 구조물(510)과 제 2 본딩부(502) 사이의 제 2 본딩영역으로 연장될 수 있다. 상기 제 1 전극(541)은 상기 제 2 본딩영역으로 연장된 제 1 연장부(541a), 및 상기 제 1 전극(541)과 제 1 연장부(541a) 사이에 연결된 제 2 연장부(541b)를 포함할 수 있다. 상기 제 1 연장부(541a)와 상기 제 2 연장부(541b)는 상기 제 1 전극(541)과 연결될 수 있다. 상기 제 1 및 제 2 연장부(541a, 541b)는 제 1 전극(541)으로부터 제 1 방향으로 긴 길이를 갖고 연장될 수 있다.
상기 제 1 전극(541)은 상기 제 2 전극(542)의 오픈 영역(h10)에 배치될 수 있다. 상기 제 1 전극(541)과 상기 제 2 전극(542)은 서로 이격될 수 있다. 상기 제 1 전극(541)과 상기 제 2 전극(542)은 보호층(550)에 의해 서로 분리되거나 절연될 수 있다.
상기 제 2 전극(542)은 상기 제 2 본딩부(572)의 아래의 제2본딩영역에서 제 1 본딩영역 또는 제 1 본딩부(571) 방향으로 연장될 수 있다. 상기 제 2 전극(542)은 상기 제 1 본딩부(571) 아래로 연장된 제 3 연장부(542a), 및 상기 제 2 전극(542)으로부터 제 3 연장부(542a) 방향으로 연장된 제 4 연장부(542b)를 포함할 수 있다. 상기 제 3 및 상기 제 4 연장부(542a, 542b)는 상기 제 2 전극(542)과 연결될 수 있다. 상기 제 3 및 제 4 연장부(542a, 542b)는 제 2 전극(542)으로부터 상기 반사층(560)의 전 영역에 배치될 수 있다. 상기 제 1 및 제 2 전극(541,542)은 서로 중첩되지 않게 배치될 수 있다.
상기 제 2 전극(542)은 상기 제 2 도전형 반도체층(513) 상에 배치되어 상기 제 2 도전형 반도체층(513)과 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제 2 전극(542)는 상기 반사층(560)에 형성된 관통홀(h3)을 통하여 상기 제 2 도전형 반도체층(513)과 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제 2 전극(542)은 상기 전도층(530)을 통해 상기 제 2 도전형 반도체층(513)과 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제 2 전극(542)은 상기 전도층(530) 및 상기 제 2 도전형 반도체층(513) 중 적어도 하나와 직접 접촉할 수 있다.
상기 제 1 전극(541)과 상기 제 2 전극(542)은 단층 또는 다층 구조로 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 전극(541)과 상기 제 2 전극(542)은 금속성 재질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 전극(541)과 상기 제 2 전극(542)은 ZnO, IrOx, RuOx, NiO, RuOx/ITO, Ni/IrOx/Au, 및 Ni/IrOx/Au/ITO, Ag, Ni, Cr, Ti, Al, Rh, Pd, Ir, Cu, Ru, Mg, Zn, Pt, Au, Hf 중 적어도 하나 또는 이들 중 2개 이상의 물질의 합금일 수 있다. 상기 제 1 전극(541)과 상기 제 2 전극(542)은 서로 동일한 적층 구조 또는 동일한 금속을 포함할 수 있다.
상기 제 1 및 제 2 전극(541, 542) 상에는 보호층(550)이 배치될 수 있다. 상기 보호층(550)은 절연층으로, 제 1 및 제 2 전극(541, 542) 사이를 절연시켜 줄 수 있다. 상기 보호층(550)은 오픈 영역(h10)에 채워져, 제 1 및 제 2 전극(541, 542)을 서로 분리시켜 줄 수 있다. 상기 보호층(550)은 상기 제 1 전극(541)과 상기 제 2 본딩부(502) 사이에 배치되어, 서로 절연시켜 줄 수 있다. 상기 보호층(550)은 제 2 전극(542)과 상기 제 1 본딩부(501) 사이에 배치되어, 서로 절연시켜 줄 수 있다. 상기 보호층(550)은 절연물질로 제공될 수 있다. 예를 들어, 상기 보호층(550)은 SixOy, SiOxNy, SixNy, AlxOy (여기서, 1≤x≤5, 1≤y≤5)를 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나의 물질로 형성될 수 있다. 상기 보호층(550)은 상기 발광 구조물(510)의 외곽부(511b)에 연장되어, 발광 구조물(510)의 표면을 보호할 수 있다.
상기 보호층(550)은 제 1 오픈 영역(h5)을 포함하고, 상기 제 1 오픈 영역(h5)은 상기 제 1 전극(541)의 상면 일부를 노출시킬 수 있다. 상기 제 1 오픈 영역(h5)은 상기 제 1 본딩부(501)와 상기 제 1 전극(541)이 수직 방향으로 중첩되는 영역에 배치될 수 있다. 상기 제 1 오픈 영역(h5)은 상기 개구부(h2)와 수직 방향으로 중첩되지 않게 배치될 수 있다. 상기 제 1 오픈 영역(h5)은 하나 또는 복수 개가 배치될 수 있다.
또한, 상기 보호층(550)은 제 2 오픈 영역(h6)을 포함할 수 있다. 상기 제 2 오픈 영역(h6)은 상기 제 2 전극(542)의 상면 일부를 노출시킬 수 있다. 상기 제 2 오픈 영역(h6)은 상기 제 2 본딩부(502)와 상기 제 2 전극(542)이 수직 방향으로 중첩되는 영역에 배치될 수 있다. 상기 제 2 오픈 영역(h6)은 상기 반사층(560)의 관통홀(h3)과 수직 방향으로 중첩되지 않게 배치될 수 있다. 상기 제 2 오픈 영역(h6)은 하나 또는 복수 개가 배치될 수 있다. 이때, 상기 제 2 오픈 영역(h6)의 개수는 상기 제 1 오픈 영역의 개수보다 많을 수 있다. 이에 따라, 상기 제 2 전극(542)에 주입되는 전류 효율이 향상될 수 있다.
상기 보호층(550) 상에는 제 1 본딩부(501) 및 제 2 본딩부(502)가 배치될 수 있다. 상기 제 1 본딩부(501)는 상기 제 2 본딩부(502)와 제 1 방향으로 이격되어 배치될 수 있다.
상기 제 1 본딩부(501)는 상기 제 1 전극(541), 상기 제 1 전극(541)의 제 1 연장부(542a) 및 상기 반사층(560)과 수직 방향으로 중첩되는 영역 상에 배치될 수 있다. 상기 제 1 본딩부(501)의 일부(k3)는 상기 제 1 오픈 영역(h5)을 통해 상기 제 1 전극(541)과 직접 접촉할 수 있고 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 제 2 본딩부(502)는 상기 제 2 전극(542), 상기 제 2 전극(542) 및 상기 반사층(560)과 수직 방향으로 중첩되는 영역 상에 배치될 수 있다. 상기 제 2 본딩부(502)의 일부(k4)는 상기 제 2 오픈 영역(h6)을 통해 상기 제 2 전극(542)과 직접 접촉할 수 있고 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 제 1 및 제 2 본딩부(501, 502)는 Ti, Al, In, Ir, Ta, Pd, Co, Cr, Mg, Zn, Ni, Si, Ge, Ag, Ag alloy, Au, Hf, Pt, Ru, Rh, ZnO, IrOx, RuOx, NiO, RuOx/ITO, Ni/IrOx/Au, 및 Ni/IrOx/Au/ITO 등 중에서 하나 이상의 물질 또는 합금을 이용하여 단층 또는 다층으로 형성될 수 있다.
도 10은 도 4의 B영역을 확대한 도면이다. 도 10을 참조하면 상기 제 1 본딩부(501)는 적어도 하나의 오목부를 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 본딩부(501)의 하면은 상기 제 1 본딩부(501)의 상면을 향하는 방향으로 오목한 적어도 하나의 제 1 오목부(R1)를 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 발광 구조물(510)은 상술한 제 1 리세스(h1)를 포함하고, 상기 보호층(550)은 제 1 오픈 영역(h5)을 포함할 수 있다. 또한, 상기 제 1 본딩부(501)는 상기 보호층(550)의 제 1 오픈 영역(h5)을 채우며 배치됨에 따라, 상기 제 1 본딩부(501)의 하면은 적어도 하나의 제 1 오목부(R1)를 포함할 수 있다. 상기 제 1 오목부(R1)는 상기 제 1 오픈 영역(h5)과 수직 방향으로 중첩되는 영역에 위치할 수 있다. 상기 제 1 오목부(R1)의 개수는 상기 제 1 오픈 영역(h5)의 개수보다 많거나 같을 수 있다.
상기 제 1 본딩부(501) 상에는 상기 제 1 도전부(610)가 배치될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 본딩부(501)의 하면과 직접 접촉하며 배치될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 오목부(R1) 내에 배치될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 오목부(R1)의 내측면과 직접 접촉하며 배치될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)는 상기 제 1 오목부(R1) 전체를 채우며 배치될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)의 하면 상에는 제 1 프레임(110)이 배치될 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)의 하면은 상기 제 1 프레임(110)의 상면과 직접 접촉할 수 있다.
상기 제 1 도전부(610)는 Ag, Au, Sn, Cu, AgSn, AuSn 및 상술한 물질들의 합금 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 바람직하게 상기 제 1 도전부(610)는 AgSn을 포함할 수 있다. 상기 제 1 도전부(610)가 AgSn을 포함할 경우, 상기 제 1 도전부(610)는 Sn의 비율이 약 2% 내지 약 4%인 AgSn을 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 도전부(610)는 Sn의 비율이 약 3% 내지 4%인 AgSn을 포함할 수 있다. 더 자세하게, 상기 제 1 도전부(610)는 Sn의 비율이 약 3.5%인 AgSn을 포함할 수 있다.
상기 제 1 도전부(610)는 복수 개의 영역을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 도전부(610)는 제 1 내지 제 3 영역(A1, A2, A3)을 포함할 수 있다. 상기 제 1 영역(A1)은 상기 제 1 도전부(610)에서 상기 제 1 본딩부(501)와 접하는 영역일 수 있다. 상기 제 3 영역(A3)은 상기 제 1 도전부(610)에서 상기 제 1 프레임(110)과 접하는 영역일 수 있다. 상기 제 2 영역(A2)은 상기 제 1 영역(A1)과 상기 제 3 영역(A3)의 사이일 수 있다. 상기 제 2 영역(A2)은 상기 제 1 도전부(610) 두께의 약 1/2지점과 대응되는 영역을 의미할 수 있다. 즉, 상기 제 2 영역(A2)은 수직 방향을 기준으로 상기 제 1 영역(A1)과 상기 제 3 영역(A3) 사이에 위치하는 영역일 수 있다.
상기 제 1 도전부(610)의 제 1 영역(A1)은 상기 제 1 도전부(610)와 상기 제 1 본딩부(501)에 포함된 물질과 화합되어 형성된 제 1 금속간 화합물을 포함할 수 있다. 상기 제 1 도전부(610) 및 상기 제 1 본딩부(501)는 상기 제 1 금속간 화합물에 의해 결합될 수 있다.
또한, 상기 제 1 도전부(610)의 제 3 영역(A3)은 상기 제 1 도전부(610)와 상기 제 1 프레임(110)에 포함된 물질이 화합하여 형성된 제 2 금속간 화합물을 포함할 수 있다. 상기 제 1 도전부(610) 및 상기 제 1 프레임(110)은 상기 제 2 금속간 화합물에 의해 결합될 수 있다.
상기 제 1 내지 제 3 영역(A1, A2, A3)에 포함된 물질의 조성은 서로 상이할 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 영역(A1), 상기 제 2 영역(A2) 및 상기 제 3 영역(A3) 각각에 포함된 은(Ag)의 함량(wt%) 및 주석(Sn)의 함량(wt%)은 서로 상이할 수 있다.
상기 제 1 영역(A1)에 포함된 은(Ag)의 함량(wt%)은 약 5 wt% 이하일 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 영역(A1)에 포함된 은(Ag)의 함량(wt%)은 약 3 wt% 이하일 수 있다.
상기 제 2 영역(A2)에 포함된 은(Ag)의 함량(wt%)은 상기 제 1 영역(A1)에 포함된 은(Ag)의 함량(wt%)보다 많을 수 있다. 예를 들어, 상기 제 2 영역(A2)에 포함된 은(Ag)의 함량(wt%)은 약 20 wt% 이하일 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 영역(A2)에 포함된 은(Ag)의 함량(wt%)은 약 10 wt% 이하일 수 있다.
상기 제 3 영역(A3)에 포함된 은(Ag)의 함량(wt%)은 상기 제 2 영역(A2)에 포함된 은(Ag)의 함량(wt%)보다 많을 수 있다. 예를 들어, 상기 제 3 영역(A3)에 포함된 은(Ag)의 함량(wt%)은 약 50 wt% 이하일 수 있다. 자세하게, 상기 제 3 영역(A3)에 포함된 은(Ag)의 함량(wt%)은 약 40 wt% 이하일 수 있다.
상기 제 1 도전부(610)에서 상기 은(Ag)의 함량은, 상기 제 1 영역(A1)에서 최소값을 가질 수 있고, 상기 제 3 영역(A3)에서 최대값을 가질 수 있다. 또한, 상기 제 1 도전부(610)에서 은(Ag)의 함량은 상기 제 1 영역(A1)에서 상기 제 3 영역(A3)으로 갈수록 점진적으로 증가할 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 프레임(110)은 은(Ag)을 포함할 수 있고, 상기 제 1 도전부(610)에 포함된 은(Ag)은 상기 제 1 프레임(110)으로 마이그레이션(migration) 될 수 있다. 이에 따라, 상기 제 1 내지 제 3 영역(A1, A2, A3)에 포함된 은(Ag)의 함량은 상술한 특징을 가질 수 있다.
또한, 상기 제 1 영역(A1)에 포함된 주석(Sn)의 함량(wt%)은 약 15 wt% 이하일 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 영역(A1)에 포함된 주석(Sn)의 함량(wt%)은 약 10 wt% 이하일 수 있다.
상기 제 2 영역(A2)에 포함된 주석(Sn)의 함량(wt%)은 상기 제 1 영역(A1)에 포함된 주석(Sn)의 함량(wt%)보다 많을 수 있다. 예를 들어, 상기 제 2 영역(A2)에 포함된 주석(Sn)의 함량(wt%)은 약 45 wt% 이상일 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 영역(A2)에 포함된 주석(Sn)의 함량(wt%)은 약 50 wt% 이상일 수 있다.
상기 제 3 영역(A3)에 포함된 주석(Sn)의 함량(wt%)은 상기 제 2 영역(A2)에 포함된 주석(Sn)의 함량(wt%)보다 작을 수 있다. 예를 들어, 상기 제 3 영역(A3)에 포함된 주석(Sn)의 함량(wt%)은 약 50 wt% 이하일 수 있다. 자세하게, 상기 제 3 영역(A3)에 포함된 주석(Sn)의 함량(wt%)은 약 45 wt% 이하일 수 있다.
상기 제 1 도전부(610)에서 주석(Sn)의 함량은 상기 제 1 영역(A1)에서 최소값을 가질 수 있고, 상기 제 2 영역(A2)에서 최대값을 가질 수 있다. 또한, 상기 제 1 도전부(610)에서 주석(Sn)의 함량은 상기 제 2 영역(A2)을 기준으로 상기 제 1 영역(A1)으로 갈수록 점진적으로 감소할 수 있고, 상기 제 2 영역(A2)을 기준으로 상기 제 3 영역(A3)으로 갈수록 점진적으로 감소할 수 있다.
또한, 도면에는 도시하지 않았으나, 상기 제 2 도전부(620)는 복수 개의 영역을 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 도전부(620)는 제 1 내지 제 3 영역(A1, A2, A3)포함할 수 있다. 상기 제 1 영역(A1)은 상기 제 2 도전부(620)에서 상기 제 2 본딩부(502)와 접하는 영역일 수 있다. 상기 제 3 영역(A3)은 상기 제 2 도전부(620)에서 상기 제 2 프레임(120)과 접하는 영역일 수 있다. 상기 제 2 영역(A2)은 상기 제 1 영역(A1)과 상기 제 3 영역(A3)의 사이일 수 있다. 상기 제 2 영역(A2)은 상기 제 2 도전부(620) 두께의 약 1/2지점과 대응되는 영역을 의미할 수 있다. 즉, 상기 제 2 영역(A2)은 수직 방향을 기준으로 상기 제 1 영역(A1)과 상기 제 3 영역(A3) 사이에 위치하는 영역일 수 있다.
상기 제 2 도전부(620)는 Ag, Au, Sn, Cu, AgSn, AuSn 및 상술한 물질들의 합금 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 바람직하게 상기 제 2 도전부(620)는 AgSn을 포함할 수 있다. 상기 제 2 도전부(620)가 AgSn을 포함할 경우, 상기 제 2 도전부(610)는 Sn의 비율이 약 2% 내지 약 4%인 AgSn을 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 도전부(610)는 Sn의 비율이 약 3% 내지 4%인 AgSn을 포함할 수 있다. 더 자세하게, 상기 제 1 도전부(610)는 Sn의 비율이 약 3.5%인 AgSn을 포함할 수 있다.
상기 제 2 도전부(620)의 제 1 내지 제 3 영역(A1, A2, A3)에 포함된 물질의 조성은 서로 상이할 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 영역(A1), 상기 제 2 영역(A2) 및 상기 제 3 영역(A3) 각각에 포함된 은(Ag)의 함량 및/또는 주석(Sn)의 함량은 서로 상이할 수 있다.
상기 제 1 영역(A1)에 포함된 은(Ag)의 함량(wt%)은 약 5 wt% 이하일 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 영역(A1)에 포함된 은(Ag)의 함량(wt%)은 약 3 wt% 이하일 수 있다.
상기 제 2 영역(A2)에 포함된 은(Ag)의 함량(wt%)은 상기 제 1 영역(A1)에 포함된 은(Ag)의 함량(wt%)보다 많을 수 있다. 예를 들어, 상기 제 2 영역(A2)에 포함된 은(Ag)의 함량(wt%)은 약 20 wt% 이하일 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 영역(A2)에 포함된 은(Ag)의 함량(wt%)은 약 10 wt% 이하일 수 있다.
상기 제 3 영역(A3)에 포함된 은(Ag)의 함량(wt%)은 상기 제 2 영역(A2)에 포함된 은(Ag)의 함량(wt%)보다 많을 수 있다. 예를 들어, 상기 제 3 영역(A3)에 포함된 은(Ag)의 함량(wt%)은 약 50 wt% 이하일 수 있다. 자세하게, 상기 제 3 영역(A3)에 포함된 은(Ag)의 함량(wt%)은 약 40 wt% 이하일 수 있다.
상기 제 2 도전부(620)에서 상기 은(Ag)의 함량은, 상기 제 1 영역(A1)에서 최소값을 가질 수 있고, 상기 제 3 영역(A3)에서 최대값을 가질 수 있다. 또한, 상기 제 2 도전부(620)에서 은(Ag)의 함량은 상기 제 1 영역(A1)에서 상기 제 3 영역(A3)으로 갈수록 점진적으로 증가할 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 프레임(120)은 은(Ag)을 포함할 수 있고, 상기 제 2 도전부(620)에 포함된 은(Ag)은 상기 제 2 프레임(120)으로 마이그레이션(migration) 될 수 있다. 이에 따라, 상기 제 1 내지 제 3 영역(A1, A2, A3)에 포함된 은(Ag)의 함량은 상술한 특징을 가질 수 있다.
또한, 상기 제 1 영역(A1)에 포함된 주석(Sn)의 함량(wt%)은 약 15 wt% 이하일 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 영역(A1)에 포함된 주석(Sn)의 함량(wt%)은 약 10 wt% 이하일 수 있다.
상기 제 2 영역(A2)에 포함된 주석(Sn)의 함량(wt%)은 상기 제 1 영역(A1)에 포함된 주석(Sn)의 함량(wt%)보다 많을 수 있다. 예를 들어, 상기 제 2 영역(A2)에 포함된 주석(Sn)의 함량(wt%)은 약 45 wt% 이상일 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 영역(A2)에 포함된 주석(Sn)의 함량(wt%)은 약 50 wt% 이상일 수 있다.
상기 제 3 영역(A3)에 포함된 주석(Sn)의 함량(wt%)은 상기 제 2 영역(A2)에 포함된 주석(Sn)의 함량(wt%)보다 작을 수 있다. 예를 들어, 상기 제 3 영역(A3)에 포함된 주석(Sn)의 함량(wt%)은 약 50 wt% 이하일 수 있다. 자세하게, 상기 제 3 영역(A3)에 포함된 주석(Sn)의 함량(wt%)은 약 45 wt% 이하일 수 있다.
상기 제 2 도전부(620)에서 주석(Sn)의 함량은 상기 제 1 영역(A1)에서 최소값을 가질 수 있고, 상기 제 2 영역(A2)에서 최대값을 가질 수 있다. 또한, 상기 제 2 도전부(620)에서 주석(Sn)의 함량은 상기 제 2 영역(A2)을 기준으로 상기 제 1 영역(A1)으로 갈수록 점진적으로 감소할 수 있고, 상기 제 2 영역(A2)을 기준으로 상기 제 3 영역(A3)으로 갈수록 점진적으로 감소할 수 있다.
도 11은 실시예에 따른 발광소자 패키지가 회로기판에 배치된 모듈의 예를 도시한 도면이다.
도 11을 참조하면, 실시예에 따른 발광소자 패키지(1000)는 사이드 뷰 방식의 발광소자 패키지일 수 있다. 상기 광원 모듈은 하나 또는 복수 개의 발광소자 패키지(1000)가 회로기판(810) 상에 사이드 뷰 방식으로 배치될 수 있다.
상기 회로기판(810)은 제 1 및 제 2 패드(851, 852)를 포함하는 기판 부재를 포함할 수 있다. 상기 회로기판(810)에는 상기 발광소자(500)의 구동을 제어하는 전원 공급 회로가 제공될 수 있다.
상기 발광소자 패키지(1000)는 상기 회로기판(810) 상에 배치될 수 있다. 예를 들어, 상기 발광소자 패키지(1000)는 상기 몸체(100)의 제 4 측면(S4)이 상기 회로기판(810)의 상면과 대면하게 배치될 수 있다.
상기 회로기판(810)은 인쇄회로기판(PCB, Printed Circuit Board)일 수 있다. 상기 회로기판(810)은 수지 재질의 PCB, 메탈 코어 PCB(MCPCB, Metal Core PCB), 연성 PCB(FPCB, Flexible PCB), 리지드 PCB(rigid PCB) 중 적어도 하나를 포함할 수도 있다. 상기 회로기판(810)은 수지 또는 금속 재질의 베이스층 상에 절연층 또는 보호층이 배치되며, 상기 절연층 또는 보호층으로부터 노출된 패드들(851, 852)이 배치된다. 상기 패드들(851, 852)는 하나 또는 복수의 발광소자 패키지(1000)를 전기적으로 연결시켜 줄 수 있다. 상기 절연층 또는 보호층은 솔더 레지스트 재질이거나, 수지 재질일 수 있다.)
상기 패드(851, 852)는 Ti, Cu, Ni, Au, Cr, Ta, Pt, Sn, Ag, P, Fe, Sn, Zn, Al를 포함하는 그룹 중에서 선택된 적어도 하나의 물질 또는 그 합금을 포함할 수 있다.
상기 패드(851, 852)는 서로 이격되는 제 1 패드(851) 및 제 2 패드(852)를 포함할 수 있다. 상기 제 1 패드(851)는 상기 제 1 프레임(110)의 제 1 리드부(111)와 대응되는 영역에 배치될 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 패드(851)는 상기 제 1 리드부(111)와 수직 방향으로 중첩되는 영역에 배치될 수 있다. 또한, 상기 제 2 패드(852)는 상기 제 2 프레임(120)의 제 2 리드부(121)와 대응되는 영역에 배치될 수 있다. 예를 들어, 상기 제 2 패드(852)는 상기 제 2 리드부(121)와 수직 방향으로 중첩되는 영역에 배치될 수 있다.
상기 제 1 패드(851)는 상기 제 1 리드부(111)를 통해 상기 제 1 프레임(110)과 전기적으로 연결될 수 있고, 상기 제 2 패드(852)는 상기 제 2 리드부(121)를 통해 상기 제 2 프레임(120)과 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 제 1 패드(851) 및 상기 제 1 리드부(111) 사이에는 제 1 전도부(871)가 배치될 수 있다. 상기 제 1 전도부(871)는 상기 제 1 패드(851)의 상면 및 상기 제 1 리드부(111)의 하면과 직접 접촉하며 상기 제 1 패드(851)와 상기 제 1 리드부(111)를 전기적으로 연결할 수 있다. 상기 제 1 전도부(871)는 상기 제 1 리드부의 측면과 직접 접촉할 수 있다. 상기 제 2 패드(852) 및 상기 제 2 리드부(121) 사이에는 제 2 전도부(872)가 배치될 수 있다. 상기 제 2 전도부(872)는 상기 제 1 전도부(871)와 이격될 수 있다. 상기 제 2 전도부(872)는 상기 제 2 패드(852)의 상면 및 상기 제 2 리드부(121)의 하면과 직접 접촉하며 상기 제 2 패드(852)와 상기 제 2 리드부(121)를 전기적으로 연결할 수 있다. 상기 제 2 전도부(872)는 상기 제 2 리드부의 측면과 직접 접촉할 수 있다.
상기 발광소자(500)의 제 1 본딩부(501)는 상기 제 1 전도부(871), 상기 제 1 리드부(111), 상기 제 1 프레임(110) 및 상기 제 1 도전부(610)에 의해 상기 제 1 패드(851)와 연결될 수 있다. 또한, 상기 제 2 본딩부(502)는 상기 제 2 전도부(872), 상기 제 2 리드부(121), 상기 제 2 프레임(120) 및 상기 제 2 도전부(620)에 의해 상기 제 2 패드(852)와 연결될 수 있다.
상기 제 1 및 제 2 전도부(871, 872)는 액상의 재질로, 상기 회로기판(810)의 제 1 패드(851) 및 제 2 패드(852) 각각의 상면 상에 위치시킨 후 상기 회로기판(810) 상에 정렬된 발광소자 패키지(1000)를 결합하게 된다. 상기 제 1 및 제 2 전도부(871, 872)는 Ag, Au, Pt, Sn, Cu 등을 포함하는 그룹 중에서 선택된 하나의 물질 또는 그 합금을 포함할 수 있다. 상기 전도부(871, 872)는 솔더계 페이스트, Ag계 페이스트, SAC(Sn-Ag-Cu)계 페이스트 등을 포함할 수 있다. 상기 전도부(871, 872)는 상기 패드(851, 852) 및 상기 프레임(110, 120) 각각의 리드부(111, 121)에 포함된 물질과 화합되어 금속간 화합물층에 의해 결합될 수 있다. 일례로, 상기 금속간 화합물은 CuxSny, AgxSny 및 AuxSny 중 적어도 하나를 포함할 수 있으며, 상기 x는 0<x<1, y=1-x, x>y의 조건을 만족할 수 있다.
즉, 실시예는 상기 발광소자(500)의 본딩부(501, 502) 상에 도전부(610, 620)가 형성될 수 있고, 상기 프레임(110, 120)과 도전부(610, 620) 사이에 공극이 형성되는 것을 방지할 수 있다. 이에 따라, 상기 프레임(110, 120)과 도전부(610, 620) 사이에 열충격 등에 의한 크랙이 발생되는 것을 방지할 수 있다.
또한, 실시예는 발광소자(500)의 본딩부(501, 502) 상에 도전부(610, 620)를 미리 형성함에 따라 상기 발광소자(500)를 상기 프레임(110, 120) 상에 쉽게 연결시킬 수 있다. 자세하게, 상기 발광소자의 크기가 점차 작아지면서, 소형의 발광소자(500)와 프레임(110, 120) 사이의 솔더링(soldering)의 어려움이 있다. 그러나, 실시예는 상기 도전부(610, 620)가 사전에 형성됨에 따라 상기 발광소자(500)와 상기 프레임(110, 120) 사이의 얼라인(align) 문제, 공극 형성, 크랙 발생 등의 솔더링 불량을 방지할 수 있다.
또한, 상기 도전부(610, 620)는 상기 본딩부(501, 502)의 측면 및 하면을 감싸며 배치됨에 따라 상기 발광소자(500)로부터 방출되는 열을 효과적으로 배출할 수 있다. 이에 따라, 실시예는 발광소자 패키지의 방열 특성을 향상시킬 수 있다.
또한, 실시예는 발광소자(500)의 본딩부(501, 502) 상에 상기 도전부(610, 620)를 형성하여 발광소자 패키지(1000)가 회로기판(810)등에 본딩되는 과정에서 상기 발광소자(500)와 몸체(130) 사이의 본딩 영역, 예컨대 도전부(610, 620)가 리멜팅(re-melting) 되는 현상을 방지할 수 있다.
이상에서 실시예들에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의해 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
또한, 이상에서 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.

Claims (14)

  1. 서로 이격되어 배치되는 제 1 및 제 2 프레임;
    상기 제 1 및 제 2 프레임을 감싸며 배치되고, 서로 이격된 제 1 및 제 2 개구부를 갖는 몸체;
    상기 몸체 상에 배치되고, 제 1 및 제 2 본딩부를 포함하는 발광소자; 및
    상기 제 1 및 제 2 개구부 내에 각각 배치되는 제1 및 제2 도전부를 포함하고,
    상기 제 1 및 제 2 개구부는 상기 제1 및 제2 프레임과 각각 수직으로 중첩되고,
    상기 제1 및 제2 도전부는 상기 제1 및 제2 프레임과 각각 전기적으로 연결되고,
    상기 제1 및 제2 본딩부는 상기 제 1 및 제 2 개구부 내에 각각 배치되며 상기 제1 및 제2 도전부와 전기적으로 연결되고,
    상기 발광소자는, 상기 제 1 및 제 2 개구부의 외측에서 상기 몸체 상에 배치되는 지지 영역을 포함하는 발광 소자 패키지.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 도전부는 상기 제 1 본딩부의 바닥면 및 측면 상에 배치되고,
    상기 제 2 도전부는 상기 제 2 본딩부의 바닥면 및 측면 상에 배치되는 발광소자 패키지.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 제 1 도전부는, 상기 제 1 본딩부와 상기 제 1 프레임 사이에서 수직 방향으로 제 1 두께를 가지며, 상기 제 1 본딩부와 상기 제 1 개구부 내측면 사이에서 수평 방향으로 제 1 너비를 가지는 발광소자 패키지.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 제 1 도전부의 제 1 두께는 5㎛ 내지 30㎛이고,
    상기 제 1 도전부의 제 1 너비는 5㎛ 내지 30㎛이고,
    상기 제 1 도전부의 제 1 두께와 상기 제 1 너비는 대응되는 발광소자 패키지.
  5. 제 3 항에 있어서,
    상기 제 1 개구부의 수평 방향 폭은 상기 제 1 본딩부의 수평 방향 폭보다 크고,
    상기 제 2 개구부의 수평 방향 폭은 상기 제 2 본딩부의 수평 방향의 폭보다 큰 발광소자 패키지.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 도전부 각각의 바닥면 면적은, 상기 제 1 및 제 2 본딩부 각각의 바닥면 면적보다 큰 발광소자 패키지.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 본딩부의 수평 방향 폭은 상기 제 1 도전부의 수평 방향 폭보다 크고,
    상기 제 2 본딩부의 수평 방향 폭은 상기 제 2 도전부의 수평 방향 폭보다 큰 발광소자 패키지.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 도전부는 AgSn을 포함하는 발광소자 패키지.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 제 1 도전부는,
    상기 제 1 본딩부의 하면과 접하는 제 1 영역;
    상기 제 1 프레임의 상면과 접하는 제 3 영역; 및
    상기 제 1 및 제 3 영역 사이에 배치되는 제 2 영역을 포함하고,
    상기 제 1 내지 제 3 영역에 포함된 은(Ag)의 함량은 서로 상이한 발광소자 패키지.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 제 1 도전부에 포함된 은(Ag)의 함량은 상기 제 1 본딩부에서 상기 제 1 프레임 방향으로 갈수록 증가하는 발광소자 패키지.
  11. 제 1 항에 있어서,
    상기 몸체 및 상기 발광소자 사이에는 배치되는 제 1 수지를 더 포함하고,
    상기 제 1 수지는, 상기 발광소자의 하면과 접하는 발광소자 패키지.
  12. 제 1 항에 있어서,
    상기 몸체 상에 배치되는 제 2 수지를 더 포함하고,
    상기 제 2 수지는 상기 제 1 및 제 2 개구부 외측에 배치되며 상기 발광소자의 측면과 접하는 발광소자 패키지.
  13. 제 1 항에 있어서,
    상기 몸체는 상기 발광소자가 배치되는 캐비티를 더 포함하고,
    상기 제 1 및 제 2 프레임은 상기 캐비티 바닥면 상에 배치되고,
    상기 발광소자의 수직 방향 두께는, 상기 캐비티의 수직 방향 높이의 35% 내지 65%인 발광소자 패키지.
  14. 회로기판; 및
    상기 회로기판 상에 배치되는 적어도 하나의 발광소자 패키지를 포함하고,
    상기 발광소자 패키지는 제 1항 내지 제 13 항 중 어느 하나의 발광소자 패키지를 포함하는 광원 모듈.
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11894489B2 (en) * 2021-03-16 2024-02-06 Epistar Corporation Semiconductor device, semiconductor component and display panel including the same

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130007096A (ko) * 2011-06-29 2013-01-18 엘지이노텍 주식회사 본딩 와이어, 본딩 와이어를 갖는 발광 소자 패키지 및 조명 장치
KR20140036545A (ko) * 2012-09-17 2014-03-26 주식회사 루멘스 발광소자 패키지 및 이를 포함하는 백라이트 유닛
KR20140061797A (ko) * 2012-11-14 2014-05-22 엘지이노텍 주식회사 발광 소자 및 이를 구비한 조명 장치
KR20140092038A (ko) * 2013-01-15 2014-07-23 엘지이노텍 주식회사 발광 소자 패키지

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10026680C1 (de) * 2000-05-30 2002-02-21 Schloetter Fa Dr Ing Max Elektrolyt und Verfahren zur Abscheidung von Zinn-Silber-Legierungsschichten und Verwendung des Elektrolyten
TWI606618B (zh) * 2012-01-03 2017-11-21 Lg伊諾特股份有限公司 發光裝置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130007096A (ko) * 2011-06-29 2013-01-18 엘지이노텍 주식회사 본딩 와이어, 본딩 와이어를 갖는 발광 소자 패키지 및 조명 장치
KR20140036545A (ko) * 2012-09-17 2014-03-26 주식회사 루멘스 발광소자 패키지 및 이를 포함하는 백라이트 유닛
KR20140061797A (ko) * 2012-11-14 2014-05-22 엘지이노텍 주식회사 발광 소자 및 이를 구비한 조명 장치
KR20140092038A (ko) * 2013-01-15 2014-07-23 엘지이노텍 주식회사 발광 소자 패키지

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
LIANG RENLI ET AL: "Experimental Study on the Effects of Eutectic Voids on the Thermal Performance Within Flip-Chip Ultraviolet Light-Emitting Diodes", IEEE TRANSACTIONS ON COMPONENTS, PACKAGING AND MANUFACTURING TECHNOLOGY, vol. 6, no. 10, 1 October 2016 (2016-10-01), pages 1488 - 1492, XP011625832, ISSN: 2156-3950, DOI: 10.1109/TCPMT.2016.2604019 *

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