WO2019093164A1 - 積層体、反射防止構造体及びカメラモジュール搭載装置 - Google Patents

積層体、反射防止構造体及びカメラモジュール搭載装置 Download PDF

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WO2019093164A1
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light shielding
shielding film
light
reflection
laminate
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宏士 須賀田
俊一 梶谷
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デクセリアルズ株式会社
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    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/118—Anti-reflection coatings having sub-optical wavelength surface structures designed to provide an enhanced transmittance, e.g. moth-eye structures
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
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    • G—PHYSICS
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    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
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    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix

Definitions

  • the present invention relates to a laminate, an antireflective structure, and a camera module mounting apparatus, which are thin-filmed, are excellent in antireflective performance, and can keep the reflection chromaticity neutral.
  • a display device such as a liquid crystal display or an optical device such as a camera is a base material such as a display plate or a lens in order to avoid deterioration of visibility and image quality (occurrence of color unevenness, ghost etc.) due to reflection of light from the outside.
  • anti-reflection processing such as formation of an anti-reflection film is performed on the light incident surface of the lens.
  • Patent Document 1 is a solid-state imaging device that forms an image by photoelectrically converting light incident on a semiconductor substrate, and forms a fine concavo-convex structure on the light incident surface of the semiconductor substrate. It is disclosed that the film formation of the anti-reflection film can suppress the occurrence of the reflection of light on the light incident surface.
  • thinning for example, 15 ⁇ m or less
  • the total thickness of the outermost layer and the intermediate layer needs to be 25 ⁇ m or more in order to form the fine uneven structure without problems, and there is room for improvement from the viewpoint of thinning.
  • the present invention has been made in view of the above circumstances, and a laminate and an antireflective structure that can be made thin, have excellent antireflection performance, and can keep the reflection chromaticity neutral. Intended to be provided.
  • another object of the present invention is to provide a camera module mounting apparatus which can obtain a captured image in which thin film formation is achieved and color unevenness is suppressed by using such a laminate.
  • the present inventors have formed an antireflection structure having a fine concavo-convex structure on the surface via an adhesive layer, and also made visible the concavo-convex cycle of the fine concavo-convex structure.
  • the wavelength equal to or less than the wavelength of light
  • the color difference between the reflected light of the light shielding film and the reflected light of the antireflective structure is small (specifically, 1.5) It has been found that the reflection chromaticity can be kept neutral between the surface on which the anti-reflection processing technology is applied and the surface around it by setting the following conditions.
  • a laminate comprising a display plate, a light shielding film provided on the display plate, and an antireflection structure having a fine uneven structure on the surface
  • the light shielding film has a non-light shielding portion without a light shielding film in a part thereof
  • the anti-reflection structure is formed on the non-light-shielding portion through an adhesive layer, and the fine asperity structure has an asperity cycle equal to or less than the wavelength of visible light
  • ⁇ E a color difference between the reflected light of the light shielding film and the reflected light of the anti-reflection structure represented by the following formula is 1.5 or less.
  • a 1 and b 1 represent the a * and b * values in the CIE 1976 (L * a * b * ) color system of the reflected light of the light shielding film
  • a 2 and b 2 are And a * value and b * value in the CIE 1976 (L * a * b * ) color system of reflected light of the anti-reflection structure.
  • the film can be made thinner, the antireflection performance is excellent, and the reflection chromaticity can be kept neutral.
  • a laminate comprising: the laminate according to any one of (1) to (5); and a camera module provided at a position facing the anti-reflection structure in the laminate. Camera module mounting device.
  • the present invention it is possible to provide a laminate and an anti-reflection structure that are excellent in anti-reflection performance and capable of maintaining the reflection chromaticity in neutral, while achieving a thin film. Further, according to the present invention, it is possible to provide a camera module mounting device that can be thinned using the above-described laminate and obtain a captured image in which color unevenness is suppressed.
  • FIG. 5 is an enlarged, schematic cross-sectional view of another embodiment of the structure and the adhesive layer. It is a schematic diagram showing an example of a manufacturing process for manufacturing an antireflection structure of a layered product concerning one embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view schematically illustrating a camera module and a laminate in an embodiment of the camera module mounting device of the present invention.
  • FIGS. 1 to 3 may be schematically shown at a scale or shape different from the actual one for the convenience of description.
  • the laminate of the present invention is a laminate comprising a display panel 10, a light shielding film 20 provided on the display panel 10, and an antireflective structure 30 having a fine uneven structure on the surface. It is body 1. And, in the laminate 1 of the present invention, the light shielding film 20 has a non-light shielding portion 21 without the light shielding film 20 in a part thereof, and the anti-reflection structure 30 has an adhesive layer on the non light shielding portion 21. Formed through 40, The fine concavo-convex structure 30 has a concavo-convex period P (see FIG.
  • a color difference ( ⁇ E) between the reflected light of the light shielding film and the reflected light of the anti-reflection structure represented by the following equation is 1.5 or less.
  • a 1 and b 1 represent the a * and b * values in the CIE 1976 (L * a * b * ) color system of the reflected light of the light shielding film
  • a 2 and b 2 are And a * value and b * value in the CIE 1976 (L * a * b * ) color system of reflected light of the anti-reflection structure.
  • the antireflective structure 30 While forming the antireflective structure 30 having a fine concavo-convex structure on the surface through the adhesive layer 40 and making the concavo-convex period P of the fine concavo-convex structure 30 equal to or less than the wavelength of visible light, it achieves high film thickness Antireflection performance can be realized. Furthermore, by reducing the color difference ⁇ E between the reflected light of the light shielding film 20 and the reflected light of the anti-reflection structure 30 to 1.5 or less, the surface on which the anti-reflection processing technology is applied (in FIG. The reflected chromaticity can be kept neutral between the surface) and the peripheral surface (the surface of the light shielding film 20 in FIG. 1).
  • the laminated body 1 of this invention is equipped with the display board 10, as shown in FIG.
  • the display plate 10 is a member serving as a substrate or a support plate of the laminate 1 of the present invention.
  • the material constituting the display plate 10 is not particularly limited, and can be appropriately selected according to the purpose of use of the laminate.
  • the material of the display plate glass, poly (methyl methacrylate) (PMMA), and those coated with any organic material (polyimide etc.) may be mentioned.
  • the said display board is transparent. Since it is used as a liquid crystal display, a touch panel, etc., it is for transmitting light.
  • transparent means that the transmittance of light having a wavelength belonging to the visible light band (approximately 360 nm to 830 nm) is high, and for example, the transmittance of the light is 70% or more.
  • the shape of the display plate is not particularly limited except that it is plate-like, and can be appropriately selected according to the purpose of use of the laminate.
  • the surface on which the light shielding film and the anti-reflection structure are laminated (the lower surface of the display panel 10 in FIG. 1) can be, for example, a flat surface in order to facilitate the formation thereof.
  • the laminate 1 of the present invention further includes a light shielding film 20 on the display plate 10, as shown in FIG.
  • the light shielding film 20 enhances the light shielding property, and blocks the light reaching the solid-state imaging device even when the thin-film display panel 10 transmits light (in particular, light having a wavelength of 800 nm or more). It is a member of
  • the material constituting the light shielding film is not particularly limited, and a known light shielding film can be appropriately used depending on the use.
  • a material which comprises the said light shielding film the composition for light shielding films which contained light shielding particles, a filler, other additives, etc. in binder resin can be used, for example.
  • binder resin examples include (meth) acrylic resins, urethane resins, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, polyvinyl formals, polyamides, polyesters, etc. (meth) acrylic resins or urethane resins Etc. These resins may also have carboxylic acid groups, sulfonic acid groups, phosphonic acid groups, phosphoric acid groups, sulfonamide groups and the like as acid groups.
  • the light shielding particles for example, carbon black, titanium black, tungsten compound, zinc white, lead white, lithopone, titanium oxide, chromium oxide, iron oxide, precipitated barium sulfate and barite powder, red lead, iron oxide Red, yellow lead, zinc yellow (one zinc yellow, two zinc yellows), ultramarine blue, Prussia blue (potassium ferrocyanide), zircon gray, praseodymium yellow, chromium titanium yellow, chromium green, peacock, Victoria green And inorganic pigments such as bitumen (irrespective of Prussian blue), vanadium zirconium blue, chromium tin pink, porcelain enamel, salmon pink and the like.
  • light shielding dyes such as cyanine dyes, phthalocyanine dyes, naphthalocyanine dyes, immonium dyes, aminoum dyes, quinolium dyes, pyrilium dyes, or metal complex dyes such as Ni complex dyes, etc. It can also be included.
  • the content of the light shielding particles in the light shielding film composition is not particularly limited, but is preferably 30 to 70% by mass, and more preferably 40 to 60% by mass with respect to the total solid content. Is more preferable, and 45 to 55% by mass is more preferable.
  • the composition for a light shielding film can contain a filler and other additives, as needed.
  • the filler is not particularly limited as long as it enhances the reflectance, and, for example, an organic filler, an inorganic filler, and an inorganic-organic composite filler can be used.
  • the organic filler include synthetic resin particles and natural polymer particles, preferably acrylic resin, polyethylene, polypropylene, polyethylene oxide, polypropylene oxide, polyethylene oxide, polyethylene imine, polystyrene, polyurethane, polyurea, polyester, polyamide, polyimide And resin particles such as carboxymethyl cellulose, gelatin, starch, chitin, chitosan and the like.
  • metals and metal compounds such as silica, mica compounds, glass, zinc oxide, alumina, zircon oxide, tin oxide, potassium titanate, strontium titanate, aluminum borate, magnesium oxide, magnesium borate, hydroxide hydroxide
  • Aluminum, magnesium hydroxide, calcium hydroxide, titanium hydroxide, basic magnesium sulfate, calcium carbonate, magnesium carbonate, calcium carbonate, calcium sulfate, magnesium sulfate, calcium silicate, magnesium silicate, calcium silicate, calcium phosphate, silicon nitride, titanium nitride, aluminum nitride, Silicon carbide, titanium carbide, zinc sulfide and composites of at least two or more of these, and the like can be mentioned.
  • well-known additives such as a polymeric compound, a polymerization initiator, a dispersing agent, a sensitizer, a crosslinking agent effect accelerator, surfactant, etc. are mentioned, for example.
  • the average thickness of the light shielding film 20 is not particularly limited, but is preferably 30 ⁇ m or less and more preferably 10 ⁇ m or less from the viewpoint of thinning of the laminate 1. Furthermore, in order to maintain a high light shielding effect, the thickness of the light shielding film 20 is preferably 3 ⁇ m or more.
  • the average thickness of the light shielding film 20 is a thickness calculated by taking the average of the portions on which the light shielding film 20 is formed excluding the thickness of the non-light shielding portion 21 described later. For example, it can be obtained by measuring and averaging the thickness of any five places of the light shielding film 20.
  • the said light shielding film 20 has the non-light-shielding part 21 in which the light shielding film 20 is not formed in the part.
  • the non-light shielding portion 21 is a portion of the light shielding film 20 where the light shielding film is not formed.
  • the non-light shielding portion 21 may be a through hole as shown in FIG. 1 or may be partially filled with a transparent material.
  • the size of the non-light shielding portion 21 is not particularly limited, and can be appropriately changed according to the size of the anti-reflection structure 30. However, it is preferable to make the portion where the anti-reflection structure 30 is not formed as small as possible. This is to reliably block the light reaching the solid-state imaging device. Specifically, when the light shielding film and the non-light shielding portion 21 are viewed from the front, preferably 50% of the area of the non-light shielding portion 21 (that is, the opening area of the light shielding film 20), more preferably 100 It is preferable that the antireflective structure 30 be formed in the range of%.
  • the method of forming the light shielding film 20 is not particularly limited, and it is possible to appropriately use a known forming method according to the thickness of the light shielding film 20, conditions of manufacturing facilities and the like.
  • a spin coating method a spray coating method, a slit coating method, an ink jet method, a spin coating method, a cast coating method, a roll coating method, a screen printing method, etc.
  • the light shielding film 20 can be formed by performing hardening treatment such as light irradiation treatment and heat treatment.
  • the laminated body 1 of this invention equips the said non-light-shielding part 21 with the anti-reflection structure 30 which has a fine concavo-convex structure in the surface, as shown in FIG.
  • the said reflection preventing structure 30 can improve the reflection preventing performance of the laminated body 1 by the fine concavo-convex structure of the surface formed in the surface.
  • FIG. 2A shows one embodiment of the antireflective structure 30 and the adhesive layer 40.
  • the projections and depressions of the fine concavo-convex structure of the anti-reflection structure 30 may be arranged periodically (for example, in a zigzag grid, a rectangular grid), as shown in FIG. It is also possible to arrange at random.
  • the shapes of the convex portion and the concave portion are not particularly limited, and may be shell type, cone type, column shape, needle shape or the like.
  • the shape of a recessed part means the shape formed of the inner wall of a recessed part.
  • the fine concavo-convex structure of the anti-reflection structure 30 has a concavo-convex cycle (concave-convex pitch) P which is equal to or less than the wavelength of visible light (for example, 830 nm or less).
  • the upper limit of the unevenness cycle P is more preferably 350 nm or less, further preferably 280 nm or less, and the lower limit of the unevenness cycle P is more preferably 100 nm or more, still more preferably 150 nm or more.
  • corrugated period P of the said uneven structure is an arithmetic mean value of the distance between adjacent convex parts and between recessed parts.
  • the uneven period P can be observed by, for example, a scanning electron microscope (SEM) or a cross-sectional transmission electron microscope (cross-sectional TEM).
  • SEM scanning electron microscope
  • cross-sectional TEM cross-sectional transmission electron microscope
  • a method of deriving the arithmetic mean value of the distances between adjacent convex portions and concave portions for example, a plurality of combinations of adjacent convex portions and / or plural combinations of adjacent concave portions are picked up, and each combination
  • the method of measuring the distance between the convex part which comprises these, and the distance between recessed parts, and averaging a measured value is mentioned.
  • corrugated height (depth of a recessed part) H of the said fine concavo-convex structure is 190 nm or more. This is because the reflected chromaticity can be kept neutral more reliably.
  • the average asperity height P of the fine asperity structure is preferably 320 nm or less from the viewpoint of thinning of the laminate.
  • corrugated height H of the said fine concavo-convex structure as shown to Fig.2 (a), it is the distance from the bottom of a recessed part to the vertex of a convex part. For example, it can obtain by measuring the unevenness height H of five places) and calculating the average.
  • the thickness of the support portion under the fine concavo-convex structure where the fine concavo-convex structure of the antireflective structure 30 is not formed (hereinafter, referred to as “base part” of the antireflective structure 30) is not particularly limited. It can be about 9000 9000 nm.
  • the fine concavo-convex structure of the anti-reflection structure 30 needs to be at least on the surface not in contact with the adhesive layer 40 as shown in FIG. As shown in 2 (b), it is also possible to provide a fine uneven structure on both sides.
  • a resin composition that cures by a curing reaction such as active energy ray curable resin composition (photocurable resin composition, electron beam curable resin composition), thermosetting resin composition, etc.
  • Resin compositions containing a reactive compound and a polymerization initiator are not carried out.
  • polymerizable compound for example, (i) an esterified product obtained by reacting (meth) acrylic acid or a derivative thereof in a ratio of 2 mol or more with 1 mol of polyhydric alcohol, (ii) polyhydric alcohol Esterified products obtained from polyvalent carboxylic acid or its anhydride and (meth) acrylic acid or its derivative can be used.
  • polyhydric alcohols such as trimethylol ethane, trimethylol propane, glycerin and pentaerythritol and malonic acid, succinic acid, adipic acid, glutaric acid, sebacic acid, fumaric acid, itaconic acid and maleic anhydride
  • esterified material etc. which are obtained by making the polyvalent carboxylic acid or its anhydride selected from etc., and (meth) acrylic acid or its derivative (s) react are mentioned.
  • These polymerizable compounds may be used alone or in combination of two or more.
  • examples of the photopolymerization initiator include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzyl, benzophenone, p-methoxybenzophenone , 2,2-diethoxyacetophenone, ⁇ , ⁇ -dimethoxy- ⁇ -phenylacetophenone, methylphenylglyoxylate, ethylphenylglyoxylate, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 1-hydroxycyclohexyl Carbonyl compounds such as phenyl-ketone and 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one; Sulfur compounds such as tetramethylthiuram monosulfide and tetramethylthiuram disulfide; 2, , 6-trimethyl benzoyl over diphenyl chromatography phosphine oxide
  • examples of the electron beam polymerization initiator include benzophenone, 4,4-bis (diethylamino) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, methyl orthobenzoyl benzoate, 4-phenylbenzophenone, Thioxanthones such as t-butyl anthraquinone, 2-ethyl anthraquinone, 2,4-diethylthioxanthone, isopropyl thioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, etc .; diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one , Benzyldimethyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl-phenyl ketone, 2-methyl-2-morpholino (4-thiomethylphenyl) propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholine) Acetophenones such as
  • thermal polymerization initiator examples include methyl ethyl ketone peroxide, benzoyl peroxide, dicumyl peroxide, t-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, t-butyl peroxy octoate, t Organic peroxides such as -butylperoxybenzoate and lauroyl peroxide; azo compounds such as azobisisobutyronitrile; N, N-dimethylaniline and N, N-dimethyl-p-toluidine as the organic peroxides And a redox polymerization initiator in which an amine such as E. coli is combined.
  • photopolymerization initiators electron beam polymerization initiators and thermal polymerization initiators may be used alone or in combination as desired.
  • the amount of the polymerization initiator is preferably 0.01 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound. Within such a range, curing proceeds sufficiently, and the molecular weight of the cured product is adequate to obtain sufficient strength, and the cured product becomes colored due to the residue of the polymerization initiator, etc. Problem does not occur.
  • the resin composition may contain, if necessary, a non-reactive polymer and an active energy ray sol-gel reactive component, and a thickener, a leveling agent, an ultraviolet light absorber, a light stabilizer, and a heat stable.
  • a non-reactive polymer and an active energy ray sol-gel reactive component may contain, if necessary, a thickener, a leveling agent, an ultraviolet light absorber, a light stabilizer, and a heat stable.
  • Various additives such as additives, solvents, and inorganic fillers can also be included.
  • the anti-reflection structure 30 having a fine concavo-convex structure on the surface can be obtained by passing through a sandwiching pressure bonding process, a curing process and a peeling process.
  • the resin composition for an antireflective structure is sandwiched and pressure-bonded by a holding film having a fine uneven structure on the surface and a holding film having a flat surface. It is a process. Specifically, first, a holding film (first holding film 201a) having a fine uneven structure on the surface and a holding film (second holding film 201b) having a flat surface are prepared. Subsequently, as shown to Fig.3 (a), the resin composition 151 for anti-reflective structures is clamped so as to face each other by the above-mentioned 1st holding
  • the holding film 201a having a fine uneven structure on the surface is, for example, a fine film having a predetermined uneven pattern on a base material made of a transparent and hard to break material (for example, polyethylene terephthalate, triacetyl cellulose etc.). It can produce by forming an uneven
  • the thickness of the antireflection structure 30 finally obtained can be adjusted by adjusting the pressure at the time of pressure bonding.
  • the sandwiched resin composition 151 for an antireflective structure is cured by irradiation with an active energy ray such as UV light, and the antireflective structure having a fine uneven structure on both sides
  • an active energy ray such as UV light
  • the sandwiching resin composition 151 for an antireflective structure is irradiated with active energy rays to cure the resin composition 151 for an antireflective structure.
  • a holding film laminate 250 including the antireflective structure 30 having a fine concavo-convex structure on the surface is obtained.
  • the said peeling process is a process of peeling holding film 201a, 201b from the holding film laminated body 250, and obtaining the reflection preventing structure 30, as shown in FIG.3 (c).
  • the obtained anti-reflection structure 30 is subjected to a process such as washing as required.
  • the method of manufacturing the anti-reflection structure 30 is not limited to the above-described method (FIGS. 3A to 3C) through the sandwiching pressure bonding step, the curing step, and the peeling step, for example, After curing the resin composition for antireflective structure, it is possible to produce the antireflective structure 30 by forming a fine concavo-convex structure by sputtering or the like.
  • the laminate 1 further includes an adhesive layer 40 for bonding the anti-reflection structure 30 to the non-light shielding portion 21.
  • the adhesive layer 40 is made of an adhesive in order to bond the antireflective structure 30 to the non-light shielding portion 21, the antireflective performance of the antireflective structure 30 is not reduced. It is necessary to use the material.
  • the specific material is not particularly limited, and a resin composition that cures by a curing reaction can be appropriately used.
  • the adhesive layer 40 is preferably made of an ultraviolet curable adhesive. It is because high bondability can be realized.
  • ultraviolet curable resin ultraviolet curable acrylic resin, an ultraviolet curable epoxy resin, etc. are mentioned, for example.
  • the method of forming the adhesive layer 40 is not particularly limited.
  • the adhesive layer 40 is a layer made of an ultraviolet curable adhesive
  • ultraviolet light is applied in the non-light shielding portion 21 in a state where the ultraviolet curable adhesive is pressure bonded to the antireflective structure 30.
  • the adhesive layer 40 can be formed.
  • the adhesive layer 40 is preferably made thin within a range in which high bondability can be maintained. Specifically, as shown in FIGS. 2A and 2B, the total thickness T of the antireflective structure 30 and the adhesive layer 40 is preferably 30 ⁇ m or less, and 10 ⁇ m or less. Is more preferred.
  • the color difference ( ⁇ E) between the reflected light of the light shielding film 20 and the reflected light of the anti-reflection structure 30 represented by the following equation is 1.5 or less. I assume. By setting the color difference ⁇ E between the reflected light of the light shielding film 20 and the reflected light of the anti-reflection structure 30 to 1.5 or less, the surface of the anti-reflection structure 30 and the peripheral surface (in FIG. It is possible to keep the reflection chromaticity neutral with the surface of the film 20, and when the laminate of the present invention is used for a camera module mounting apparatus, it is possible to obtain a captured image in which color unevenness is suppressed.
  • a 1 and b 1 in the above formulas represent the a * value and the b * value in the CIE 1976 (L * a * b * ) color system of the reflected light of the light shielding film 20.
  • a 2 and b 2 is a representation of the a * and b * values in the CIE1976 (L * a * b *) color system of the reflected light of the anti-reflection structure 30.
  • the CIE 1976 (L * a * b * ) color system is one of the uniform color spaces defined by the CIE in 1976, and is three-dimensional orthogonal to the lightness index L and the chromaticness index a * and b *.
  • a color space using coordinates is called an L * a * b * color space, and is a color system using this color space.
  • the ⁇ E needs to be 1.5 or less, but is preferably 1.0 or less from the viewpoint of making the reflection chromaticity of the surface of the anti-reflection structure 30 and the peripheral surface more neutral. More preferably, it is 0.7 or less.
  • the a * value and the b * value in the color system can be obtained by using a commercially available measuring device.
  • the material, the shape, the thickness, and the reflection prevention of the light shielding film 20 It is possible to carry out by changing the material of the structure 30, the uneven period P of the uneven structure, the uneven height H of the uneven structure, and the like.
  • the difference ( ⁇ Y) between the luminous reflectance (Y value) of the light shielding film 20 and the luminous reflectance (Y value) of the anti-reflection structure 30 is 0.5 or less. Is preferred. This is because the lightness on the chromaticity diagram can be made almost the same condition, so that the reflection chromaticity of the surface of the anti-reflection structure 30 and the surface around it can be maintained more neutral.
  • the luminous reflectance (Y value) is a reflectance that takes into consideration that the brightness felt by the eye changes depending on the visibility, and the color of the specularly reflected light in the CIE 1931 XYZ color space (X, Y, Z) when expressed or (x, y, Y) when expressed in CIE xy Y color space, and a commercially available spectrophotometer (for example, V650 manufactured by JASCO Corporation) It can be measured by
  • the luminous reflectance and the reflectance difference of each of the light shielding film and the reflection preventing structure 30 can be adjusted, for example, by changing the density of the fine uneven structure and the uneven height.
  • the camera module mounting apparatus 300 of the present invention comprises the laminate 1 of the present invention, and a camera module 310 provided at a position facing the anti-reflection structure 30 in the laminate. It is characterized by According to the camera module mounting apparatus of the present invention, a still image or a moving image can be photographed through the laminate of the present invention by the image pickup element of the camera module, so that the reflection of light is suppressed and the obtained pickup image is obtained. It is possible to suppress the occurrence of color unevenness and the like.
  • Example 1-1 As shown in FIG. 1, as shown in FIG. 1, the display plate 10, the light shielding film 20 provided on the display plate 10, and the anti-reflection structure 30 having a micro uneven structure on the surface are provided. A model of laminate 1 was produced. Then, the chromaticity (irradiation angle: 5 °) of the reflected light was calculated for each of the light shielding film 20 and the anti-reflection structure 30.
  • the display plate 10 is a glass substrate
  • the light shielding film 20 contains carbon black
  • a spray paint containing butyl acetate, ethyl acetate, nitrocellulose, diisobutyl ketone, isopropyl alcohol, isobutanol, etc. is applied to the surface of the glass substrate.
  • the antireflective structure 30 is made of “UVX-6366” (1,6-hexanediol diacrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, and 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • the micro-relief structure has an asperity period of 150 to 250 nm, an asperity height of 220 nm, a thickness of the base portion having no asperity structure is 1000 nm, and a refractive index n of 1.520.
  • an ultraviolet curable resin was used, and the thickness was 3000 nm.
  • the total thickness of the antireflective structure 30 and the adhesive layer 40 is 4220 nm (about 4.2 ⁇ m).
  • Table 1 shows the structure of the antireflective structure, the total thickness ( ⁇ m) of the antireflective structure and the adhesive layer, and the a * value in the CIE 1976 (L * a * b * ) color system of the reflected light of the antireflective structure.
  • b * values (a 2 and b 2 ), the calculation results of the color difference ⁇ E between the reflected light of the light shielding film and the reflected light of the anti-reflection structure are shown.
  • Comparative Example 1-1 In Comparative Example 1-1, as a reflection preventing technology, a reflection preventing film (Dry-AR direct) obtained by alternately laminating NbO X and SiO 2 in total of four layers instead of the reflection preventing structure 30 having a fine concavo-convex structure A laminate was produced under the same conditions as in Example 1-1 except that the formation (formation) was performed.
  • Table 1 shows the structure of the antireflective structure, the total thickness ( ⁇ m) of the antireflective film and the adhesive layer, and a * value and b in the CIE 1976 (L * a * b * ) color system of the reflected light of the antireflective film. The calculation results of the value * and the color difference ⁇ E between the reflected light of the light shielding film and the reflected light of the antireflective film are shown.
  • Table 1 shows the structure of the antireflective structure, the total thickness ( ⁇ m) of the antireflective film and the adhesive layer, and a * value and b in the CIE 1976 (L * a * b * ) color system of the reflected light of the antireflective film. The calculation results of the value * and the color difference ⁇ E between the reflected light of the light shielding film and the reflected light of the antireflective film are shown.
  • Table 1 shows the structure of the antireflective structure, the total thickness ( ⁇ m) of the antireflective film and the adhesive layer, and a * value and b in the CIE 1976 (L * a * b * ) color system of the reflected light of the antireflective film. The calculation results of the value * and the color difference ⁇ E between the reflected light of the light shielding film and the reflected light of the antireflective film are shown.
  • Example 1-2 to 1-7 comparative examples 1-4 to 1--7
  • the height of the unevenness was changed in the micro-relief structure of the anti-reflection structure 30 (the specific height of the unevenness is The laminate was produced under the same conditions as in Example 1-1 except for the following Table 2).
  • Table 3 shows the unevenness height (nm) of the antireflective structure, the a * value and the b * value in the CIE 1976 (L * a * b * ) color system of the reflected light of the antireflective structure, the reflected light of the light shielding film
  • DELTA color difference
  • Example 2 As shown in FIG. 1, as shown in FIG. 1, the display plate 10, the light shielding film 20 provided on the display plate 10, and the anti-reflection structure 30 having a micro uneven structure on the surface are provided. The laminate 1 was actually produced. And about the light shielding film 20 and the anti-reflection structure 30, the chromaticity (irradiation angle: 5 degrees) of reflected light was measured, respectively.
  • the display plate 10 is a glass substrate, and the light shielding film 20 contains carbon black, and a spray paint containing butyl acetate, ethyl acetate, nitrocellulose, diisobutyl ketone, isopropyl alcohol, isobutanol, etc. is applied to the surface of the glass substrate.
  • the antireflective structure 30 is made of “UVX-6366” (1,6-hexanediol diacrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, and 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • the micro-convex-concave structure has an asperity cycle of 150 to 250 nm, a convex-concave height of 220 nm, and a thickness of the base without the micro-concave-convex structure is 1000 nm. Furthermore, the thickness of the adhesive layer 40 was set to 3780 nm using an ultraviolet curable resin.
  • the total thickness of the antireflective structure 30 and the adhesive layer 40 is 5000 nm (5 ⁇ m).
  • Table 2 shows the structure of the antireflective structure, the total thickness ( ⁇ m) of the antireflective structure and the adhesive layer, and the a * value in the CIE 1976 (L * a * b * ) color system of the reflected light of the antireflective structure.
  • b * values the calculation results of the color difference ⁇ E between the reflected light of the light shielding film and the reflected light of the anti-reflection structure are shown.
  • Example 2 About the sample of Example 2 A spectral spectrum is acquired using an ultraviolet visible near infrared spectrophotometer "V-650" manufactured by JASCO Corporation, and CIE 1976 (L * a * of the antireflective structure is obtained therefrom . b * ) The a * value and the b * value in the color system, and the color difference ⁇ E between the reflected light of the light shielding film and the reflected light of the antireflective structure were calculated. The measurement results are shown in Table 2. From the results of Table 2, it was found that ⁇ E of Example 2 was suppressed to be small as in Example 1-1, and the reflection chromaticity was kept neutral.
  • the present invention it is possible to provide a laminate and an anti-reflection structure that are excellent in anti-reflection performance and capable of maintaining the reflection chromaticity in neutral, while achieving a thin film. Further, according to the present invention, it is possible to provide a camera module mounting apparatus capable of obtaining a captured image in which thin film formation is achieved and color unevenness is suppressed by using the laminate of the present invention.

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Abstract

薄膜化が図られているとともに、反射防止性能に優れ、反射色度をニュートラルに保つことができる、積層体及び反射防止構造体を提供することを目的とする。　上記課題を解決するべく、本発明の積層体は、遮光膜が、その一部に、遮光膜のない非遮光部を有し、反射防止構造体が、前記非遮光部に接着層を介して形成され、前記微細凹凸構造が、可視光線の波長以下の凹凸周期を有し、以下の式で表される、前記遮光膜の反射光と前記反射防止構造体の反射光との色差（ΔＥ）が、1.5以下であることを特徴とする。

Description

積層体、反射防止構造体及びカメラモジュール搭載装置
　本発明は、薄膜化が図られているとともに、反射防止性能に優れ、反射色度をニュートラルに保つことができる、積層体、反射防止構造体及びカメラモジュール搭載装置に関するものである。
　液晶ディスプレイ等の表示装置や、カメラ等の光学装置は、外部からの光の反射による視認性や画質の悪化（色ムラ、ゴースト等の発生）を回避するため、表示板やレンズ等の基材における光の入射面に対し、反射防止膜を形成する等の、反射防止処理が施されることが多い。
　ここで、従来の反射防止処理の一つとして、光の入射面に微細凹凸構造を形成することで、反射率を低減する技術が知られている。
　例えば、特許文献１は、半導体基板に入射した光を光電変換して画像を構築する固体撮像装置において、半導体基板の光入射面に微細凹凸構造を形成し、この微細凹凸構造に対して所定厚みの反射防止膜を成膜することにより、光入射面における光の反射の発生を抑制することができることを開示している。
特開２０１５－０５４４０２号公報
　ここで、上述した反射防止膜処理技術を、小型電子機器等の分野へ適用することを考えた場合、薄型化（例えば、15μm以下）が求められる。しかしながら、特許文献１の技術では、微細凹凸構造を問題なく形成するために、最表層及び中間層の合計厚さを25μm以上とする必要があり、薄型化の観点からは、改良の余地があった。
　さらに、特許文献１のような多層膜反射防止構造を用いた場合には、反射光に色付きが発生することがあり、周辺の部分と比較して、反射色の違いが生じ、色合いの一体感が失われるという問題があった。
　そのため、センサーの前面に設置するカバーフィルムや、カメラモジュールセンサーの前面に設置するカバーフィルムへ適用することを考えると、反射防止処理技術が施された表面とその周辺の表面とで反射色に違いがない（以下、「反射色度がニュートラルに保たれる」という。）、反射防止処理技術の開発が望まれていた。
　本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであって、薄膜化が図られているとともに、反射防止性能に優れ、反射色度をニュートラルに保つことができる、積層体及び反射防止構造体を提供することを目的とする。また、本発明の他の目的は、かかる積層体を用い、薄膜化が図られ、色ムラが抑制された撮像画像を得ることができる、カメラモジュール搭載装置を提供することを目的とする。
　本発明者らは、上記の課題を解決するべく鋭意研究を重ねた結果、表面に微細凹凸構造を有する反射防止構造体を、接着層を介して形成するとともに、微細凹凸構造の凹凸周期を可視光線の波長以下とすることによって、薄膜化を図りつつ、高い反射防止性能を実現でき、さらに、遮光膜の反射光と反射防止構造体の反射光との色差を小さく（具体的には、1.5以下）に設定することによって、反射防止処理技術が施された表面とその周辺の表面との間で反射色度をニュートラルに保つことができることを見出した。
　本発明は、上記知見に基づきなされたものであり、その要旨は以下の通りである。
（１）表示板と、該表示板上に設けられた遮光膜と、表面に微細凹凸構造を有する反射防止構造体とを備えた積層体であって、
　前記遮光膜は、その一部に、遮光膜のない非遮光部を有し、
　前記反射防止構造体は、前記非遮光部に接着層を介して形成され、前記微細凹凸構造が、可視光線の波長以下の凹凸周期を有し、
　以下の式で表される、前記遮光膜の反射光と前記反射防止構造体の反射光との色差（ΔＥ）が、1.5以下であることを特徴とする、積層体。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000002
 （式中、ａ１及びｂ１は、遮光膜の反射光のCIE1976（Ｌ＊ａ＊ｂ＊）表色系におけるａ＊値及びｂ＊値を表したものであり、ａ２及びｂ２は、反射防止構造体の反射光のCIE1976（Ｌ＊ａ＊ｂ＊）表色系におけるａ＊値及びｂ＊値を表したものである。）
　上記構成によって、薄膜化が図られているとともに、反射防止性能に優れ、反射色度をニュートラルに保つことができる。
（２）前記反射防止構造体及び前記接着層の合計厚さが、30μm以下であることを特徴とする、上記（１）に記載の積層体。
（３）前記接着剤層は、紫外線硬化性接着剤からなる層であることを特徴とする、上記（１）又は（２）に記載の積層体。
（４）前記微細凹凸構造の平均凹凸高さが、190nm以上であることを特徴とする、上記（１）～（３）のいずれかに記載の積層体。
（５）前記遮光膜の視感反射率（以下、「Ｙ値」ともいう。）と前記反射防止構造体の視感反射率（Y値）との差（ΔＹ）が、0.5以下であることを特徴とする、上記（１）～（４）のいずれかに記載の積層体。
（６）表示板上に接着層を介して形成された、表面に微細凹凸構造を有する反射防止構造体であって、
　前記微細凹凸構造が、可視光線の波長以下の凹凸周期を有し、
　前記反射防止構造体及び前記接着層の合計厚さが、30μm以下であり、
　前記微細凹凸構造の平均凹凸高さが、190nm以上であることを特徴とする、反射防止構造体。
　上記構成によって、薄膜化が図られているとともに、反射防止性能に優れ、反射色度をニュートラルに保つことができる。
（７）上記（１）～（５）のいずれかに記載の積層体と、該積層体中の反射防止構造体と相対する位置に設けられたカメラモジュールと、を備えることを特徴とする、カメラモジュール搭載装置。
　上記構成によって、薄膜化が図られ、色ムラが抑制された撮像画像を得ることができる。
　本発明によれば、薄膜化が図られているとともに、反射防止性能に優れ、反射色度をニュートラルに保つことができる、積層体及び反射防止構造体を提供することが可能となる。また、本発明によれば、上記積層体を用い、薄膜化が図られ、色ムラが抑制された撮像画像を得ることができる、カメラモジュール搭載装置を提供することが可能となる。
本発明の積層体の一実施形態を模式的に説明した断面図である。 （ａ）は、本発明の積層体の反射防止構造体及び接着層の一実施形態を、拡大し、模式的に示した断面図であり、（ｂ）は、本発明の積層体の反射防止構造体及び接着層の他の実施形態を、拡大し、模式的に示した断面図である。 本発明の一実施形態に係る積層体の反射防止構造体を製造するための、製造工程の一例を示す概要図である。 本発明のカメラモジュール搭載装置の一実施形態のうち、カメラモジュール及び積層体を模式的に説明した断面図である。 実施例１－１及び比較例１－１～１－４の積層体の、波長に応じた反射率（％）を示したグラフである。 実施例２－１及び比較例２－１～２－４の積層体の、波長に応じた反射率（％）を示したグラフである。 （ａ）は、比較例１－４～１－７の積層体の、波長に応じた反射率（％）を示したグラフであり、（ｂ）は、実施例１－１～１－７の積層体の、波長に応じた反射率（％）を示したグラフである。
　以下、本発明の実施形態の一例について、必要に応じて図面を用いながら具体的に説明する。なお、図１～図３の中で開示した各部材については、説明の便宜のため、実際とは異なる縮尺や形状で、模式的に表している場合もある。
＜積層体＞
　まず、本発明の積層体の一実施形態について説明する。
　本発明の積層体は、図１に示すように、表示板１０と、該表示板１０上に設けられた遮光膜２０と、表面に微細凹凸構造を有する反射防止構造体３０とを備えた積層体１である。
　そして、本発明の積層体１では、前記遮光膜２０は、その一部に、遮光膜２０のない非遮光部２１を有し、前記反射防止構造体３０は、前記非遮光部２１に接着層４０を介して形成され、
　前記微細凹凸構造３０が、可視光線の波長以下の凹凸周期Ｐ（図２を参照。）を有し、
　以下の式で表される、前記遮光膜の反射光と前記反射防止構造体の反射光との色差（ΔＥ）が、1.5以下であることを特徴とする。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000003
 （式中、ａ１及びｂ１は、遮光膜の反射光のCIE1976（Ｌ＊ａ＊ｂ＊）表色系におけるａ＊値及びｂ＊値を表したものであり、ａ２及びｂ２は、反射防止構造体の反射光のCIE1976（Ｌ＊ａ＊ｂ＊）表色系におけるａ＊値及びｂ＊値を表したものである。）
　表面に微細凹凸構造を有する反射防止構造体３０を、接着層４０を介して形成するとともに、微細凹凸構造３０の凹凸周期Ｐを可視光線の波長以下とすることによって、薄膜化を図りつつ、高い反射防止性能を実現できる。さらに、遮光膜２０の反射光と反射防止構造体３０の反射光との色差ΔＥを1.5以下と小さくすることによって、反射防止処理技術が施された表面（図１では、反射防止構造体３０の表面）とその周辺の表面（図１では、遮光膜２０の表面）との間で反射色度をニュートラルに保つことができる。
（表示板）
　本発明の積層体１は、図１に示すように、表示板１０を備える。
　前記表示板１０は、本発明の積層体１の基板や支持板としての役目を果たす部材である。前記表示板１０を構成する材料については、特に限定はされず、積層体の使用目的に応じて適宜選択することができる。
　例えば、前記表示板の材料として、ガラス、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）、これらの表面を、任意の有機材料（ポリイミド等）でコーティングしたものなどが挙げられる。また、前記表示板は、透明であることが好ましい。液晶ディスプレイ、タッチパネルなどとして用いられることから、光を透過させるためである。
　なお、本明細書において「透明」とは、可視光帯域（おおよそ360nm～830nm）に属する波長の光の透過率が高いことを意味し、例えば、当該光の透過率が70％以上であることを意味する。
　さらに、前記表示板の形状についても、板状であること以外は特に限定されず、積層体の使用目的に応じて適宜選択することができる。また、前記遮光膜及び前記反射防止構造体が積層される表面（図１では、表示板１０の下面）は、これらを形成しやすくするため、例えば平坦面とすることができる。
（遮光膜）
　本発明の積層体１は、図１に示すように、表示板１０上に、遮光膜２０をさらに備える。
　前記遮光膜２０は、遮光性を高め、薄膜化された前記表示板１０が光（特に波長800nm以上の光）を透過させた場合であっても、固体撮像素子へ到達する光を遮断するための部材である。
　前記遮光膜を構成する材料については、特に限定はされず、用途に応じて公知の遮光膜を適宜用いることができる。
　前記遮光膜を構成する材料としては、例えば、バインダー樹脂に、遮光性粒子、充填材、その他添加剤等を含んだ、遮光膜用組成物を用いることができる。
　前記バインダー樹脂については、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリアミド、ポリエステルなどを挙げることができ、（メタ）アクリル系樹脂、又は、ウレタン系樹脂等が挙げられる。これらの樹脂については、酸基としては、カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基、リン酸基、スルホンアミド基等を有することもできる。
　また、前記遮光性粒子については、例えば、カーボンブラック、チタンブラック、タングステン化合物、亜鉛華、鉛白、リトポン、酸化チタン、酸化クロム、酸化鉄、沈降性硫酸バリウム及びバライト粉、鉛丹、酸化鉄赤、黄鉛、亜鉛黄（亜鉛黄１種、亜鉛黄２種）、ウルトラマリン青、プロシア青（フェロシアン化鉄カリ）、ジルコングレー、プラセオジムイエロー、クロムチタンイエロー、クロムグリーン、ピーコック、ビクトリアグリーン、紺青（プルシアンブルーとは無関係）、バナジウムジルコニウム青、クロム錫ピンク、陶試紅、サーモンピンク等の無機顔料が挙げられる。また、黒色顔料として、Co、Cr、Cu、Mn、Ru、Fe、Ni、Sn、Ti及びAgからなる群より選ばれた１種又は２種以上の金属元素を含む金属酸化物、金属窒素物或いはそれらの混合物等を用いることもできる。
 さらに、前記遮光性粒子については、例えば、シアニン色素、フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素、インモニウム色素、アミノウム色素、キノリウム色素、ピリリウム色素、又は、Ni錯体色素などの金属錯体色素等の遮光性染料を含むこともできる。
　なお、前記遮光膜組成物における前記遮光性粒子の含有量については、特に限定はされないが、全固形分に対して、30～70質量％であることが好ましく、40～60質量％であることがより好ましく、45～55質量％であることがさらに好ましい。
　また、前記遮光膜用組成物は、必要に応じて、充填材やその他の添加剤を含むことが可能である。充填材については、反射率を高めるものであれば特に限定はされず、例えば、有機フィラー、無機フィラー、無機－有機複合フィラーを用いることができる。
　前記有機フィラーとしては、例えば、合成樹脂粒子、天然高分子粒子等が挙げられ、好ましくはアクリル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリウレタン、ポリウレア、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、カルボキシメチルセルロールス、ゼラチン、デンプン、キチン、キトサン等の樹脂粒子が挙げられる。
　前記無機フィラーとしては、金属及び金属化合物、例えば、シリカ、雲母化合物、硝子、酸化亜鉛、アルミナ、酸化ジルコン、酸化錫、チタン酸カリウム、チタン酸ストロンチウム、硼酸アルミニウム、酸化マグネシウム、硼酸マグネシウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化チタン、塩基性硫酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム、窒化珪素、窒化チタン、窒化アルミ、炭化珪素、炭化チタン、硫化亜鉛及びこれらの少なくとも２種以上の複合化物等が挙げられる。
　前記その他の添加剤については、例えば、重合性化合物、重合開始剤、分散剤、増感剤、架橋剤効果促進剤、界面活性剤等の公知の添加剤が挙げられる。
　前記遮光膜２０の平均厚さについては、特に限定はされないが、積層体１の薄膜化の観点から、30μm以下であることが好ましく、10μm以下であることがより好ましい。さらに、高い遮光効果を維持する点からは、前記遮光膜２０の厚さを、3μm以上とすることが好ましい。
　なお、前記遮光膜２０の平均厚さについては、後述する非遮光部２１の厚さを除いた、前記遮光膜２０が形成されている部分の平均をとって算出した厚さである。例えば、前記遮光膜２０の任意の5カ所の厚さを測定し、平均することで得ることができる。
　そして、本発明の積層体１では、図１に示すように、前記遮光膜２０が、その一部に、遮光膜２０が形成されていない非遮光部２１を有する。後述する反射防止構造体３０を、該非遮光部２１に設けることで、積層体１の薄膜化に寄与しつつ、反射防止作用を十分に発揮できるようにするためである。
　なお、前記非遮光部２１については、前記遮光膜２０のうち、遮光膜が形成されていない部分のことである。前記非遮光部２１については、図１に示すように、貫通孔となっていてもよいし、一部透明の材料を充填することも可能である。
　前記非遮光部２１の大きさについては特に限定はされず、前記反射防止構造体３０のサイズに応じて、適宜変更することができる。
　ただし、前記反射防止構造体３０が形成されていない部分はできるだけ小さくすることが好ましい。固体撮像素子へ到達する光を確実に遮断するためである。具体的には、前記遮光膜及び前記非遮光部２１を正面から見た場合に、前記非遮光部２１の面積（つまり、前記遮光膜２０の開口面積）の好ましくは50%、より好ましくは100%の範囲に前記反射防止構造体３０が形成されていることが好ましい。
　なお、前記遮光膜２０を形成する方法については特に限定はされず、遮光膜２０の厚さや製造施設等の条件に応じて、公知の形成方法を適宜使用することが可能である。
　例えば、前記表示板１０に、上述した遮光膜組成物を、スピンコート法、スプレーコート法、スリット塗布、インクジェット法、回転塗布、流延塗布、ロール塗布、スクリーン印刷法等によって、塗布した後、光照射処理や加熱処理等の硬化処理を施すことによって、前記遮光膜２０を形成することができる。
（反射防止構造体）
　本発明の積層体１は、図１に示すように、前記非遮光部２１に、表面に微細凹凸構造を有する反射防止構造体３０を備える。
　前記反射防止構造体３０は、表面に形成された表面の微細凹凸構造によって、積層体１の反射防止性能を高めることができる。
　ここで、図２（ａ）は、前記反射防止構造体３０及び接着層４０の一実施形態を示したものである。
　前記反射防止構造体３０の微細凹凸構造の、凸部及び凹部は、図２（ａ）に示すように、周期的（例えば、千鳥格子状、矩形格子状）に配置してもよく、また、ランダムに配置することも可能である。さらに、凸部及び凹部の形状についても特に制限はなく、砲弾型、錐体型、柱状、針状などであってもよい。なお、凹部の形状とは、凹部の内壁によって形成される形状を意味する。
　前記反射防止構造体３０の微細凹凸構造は、可視光線の波長以下（例えば、830nm以下）の凹凸周期（凹凸ピッチ）Ｐを有する。さらに、前記凹凸周期Ｐの上限については、より好ましくは350nm以下、さらに好ましくは280nm以下であり、凹凸周期Ｐの下限については、より好ましくは100nm以上、さらに好ましくは150nm以上である。
　前記微細凹凸構造の凹凸周期Ｐを可視光波長以下とする、言い換えれば、前記微細凹凸構造をいわゆるモスアイ構造とすることによって、優れた反射防止性能を実現できる。
　ここで、前記凹凸構造の凹凸周期Ｐは、隣り合う凸部間及び凹部間の距離の算術平均値である。なお、前記凹凸周期Ｐは、例えば、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、あるいは断面透過型電子顕微鏡（断面ＴＥＭ）などによって観察可能である。
　また、隣り合う凸部間及び凹部間の距離の算術平均値を導出する方法としては、例えば、隣り合う凸部の組み合わせ、及び／又は、隣り合う凹部の組み合わせをそれぞれ複数個ピックアップし、各組み合わせを構成する凸部間の距離および凹部間の距離を測定し、測定値を平均する方法が挙げられる。
　また、前記微細凹凸構造の平均凹凸高さ（凹部の深さ）Ｈは、190nm以上であることが好ましい。より確実に、反射色度をニュートラルに保つことができるためである。また、前記微細凹凸構造の平均凹凸高さＰは、積層体の薄膜化の観点から、320nm以下であることが好ましい。なお、前記微細凹凸構造の凹凸高さＨについては、図２（ａ）に示すように、凹部の底から凸部の頂点までの距離のことであり、平均凹凸高さについては、いくつか（例えば5カ所）の凹凸高さＨを測定し、平均を算出することで得ることができる。

　また、前記反射防止構造体３０の微細凹凸構造が形成されていない微細凹凸構造下の支持部分（以下、反射防止構造体３０の「ベース部」という。）の厚みは、特に制限されず、500～9000nm程度とすることができる。

　ここで、前記反射防止構造体３０の微細凹凸構造については、図２（ａ）に示すように、少なくとも接着層４０と接しない側の表面に有する必要があるが、他の実施形態として、図２（ｂ）に示すように、両面に微細凹凸構造を設けることも可能である。

　また、前記反射防止構造体３０を構成する材料については、特に限定はされない。例えば、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物（光硬化性樹脂組成物、電子線硬化性樹脂組成物）、熱硬化性樹脂組成物等の、硬化反応により硬化する樹脂組成物であって、例えば重合性化合物と重合開始剤とを含有する樹脂組成物が挙げられる。

　重合性化合物としては、例えば、（ｉ）１モルの多価アルコールに対して、２モル以上の比率の（メタ）アクリル酸又はその誘導体を反応させて得られるエステル化物、（ｉｉ）多価アルコールと、多価カルボン酸又はその無水物と、（メタ）アクリル酸又はその誘導体とから得られるエステル化物、等を使用できる。
　上記（ｉ）としては、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、アクリロイモノフォリン、ウレタンアクリレート等が挙げられる。
　上記（ｉｉ）としては、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール等の多価アルコールと、マロン酸、コハク酸、アジピン酸、グルタル酸、セバシン酸、フマル酸、イタコン酸、無水マレイン酸等から選ばれる多価カルボン酸又はその無水物と、（メタ）アクリル酸又はその誘導体を反応させて得られるエステル化物等が挙げられる。
　これら重合性化合物は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
　さらに、前記樹脂組成物が光硬化性の場合には、光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジル、ベンゾフェノン、ｐ－メトキシベンゾフェノン、２，２－ジエトキシアセトフェノン、α，α－ジメトキシ－α－フェニルアセトフェノン、メチルフェニルグリオキシレート、エチルフェニルグリオキシレート、４，４’－ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、１－ヒドロキシーシクロヘキシルーフェニルーケトン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン等のカルボニル化合物；テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド等の硫黄化合物；２，４，６－トリメチルベンゾイルージフェニルーフォスフィンオキサイド、ベンゾイルジエトキシフォスフィンオキサイド；などが挙げられ、これらのうち１種以上を使用できる。
　電子線硬化性の場合には、電子線重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、４，４－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２，４，６－トリメチルベンゾフェノン、メチルオルソベンゾイルベンゾエート、４－フェニルベンゾフェノン、ｔ－ブチルアントラキノン、２－エチルアントラキノン、２，４－ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４－ジクロロチオキサントン等のチオキサントン；ジエトキシアセトフェノン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、ベンジルジメチルケタール、１－ヒドロキシシクロヘキシル－フェニルケトン、２－メチル－２－モルホリノ（４－チオメチルフェニル）プロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタノン等のアセトフェノン；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル；２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド；メチルベンゾイルホルメート、１，７－ビスアクリジニルヘプタン、９－フェニルアクリジンなどが挙げられ、これらのうち１種以上を使用できる。
　熱硬化性の場合には、熱重合開始剤としては、例えばメチルエチルケトンパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ｔ－ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ｔ－ブチルパーオキシオクトエート、ｔ－ブチルパーオキシベンゾエート、ラウロイルパーオキサイド等の有機過酸化物；アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ系化合物；前記有機過酸化物にＮ，Ｎ－ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ－ジメチル－ｐ－トルイジン等のアミンを組み合わせたレドックス重合開始剤等が挙げられる。
　これらの光重合開始剤、電子線重合開始剤、熱重合開始剤は単独で使用してもよく、これらを所望に組み合わせて用いてもよい。
　また、重合開始剤の量は、重合性化合物100質量部に対し0.01～10質量部が好ましい。このような範囲であると、硬化が充分に進行するとともに、硬化物の分子量が適切となって充分な強度が得られ、また、重合開始剤の残留物等のために硬化物が着色するなどの問題も生じない。
　さらに、前記樹脂組成物には、必要に応じて、非反応性のポリマーや活性エネルギー線ゾルゲル反応性成分を含むことができ、増粘剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、光安定剤、熱安定剤、溶剤、無機フィラー等の各種添加剤を含むこともできる。
　前記反射防止構造体３０を製造するための方法については、特に限定はされない。例えば、図３（ａ）～（ｃ）に示すように、挟持圧着工程、硬化工程及び剥離工程を経ることによって、表面に微細凹凸構造を有する反射防止構造体３０を得ることができる。

　挟持圧着工程については、図３（ａ）に示すように、表面に微細凹凸構造を有する保持フィルムと平坦な表面を有する保持フィルムとで、反射防止構造体用樹脂組成物を挟持し、圧着する工程である。　具体的には、まず、表面に微細凹凸構造を有する保持フィルム（第１保持フィルム２０１ａ）と平坦な表面を有する保持フィルム（第２保持フィルム２０１ｂ）を準備する。次いで、図３（ａ）に示すように、反射防止構造体用樹脂組成物１５１を、上述の第１保持フィルム２０１ａと第２保持フィルム２０１ｂとで、向かい合うようにして挟持する。なお、微細凹凸構造を表面に有する保持フィルム２０１ａは、例えば、透明で且つ破断しにくい材料（例えば、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース等）からなるベース基材の上に、所定の凹凸パターンを有する微細凹凸層を形成することにより作製することができる。その後、図３（ａ）に示すように、ロールラミネータ等の圧着装置１６０により、挟持体を挟持方向に圧着する。ここで、挟持圧着工程では、圧着時の圧力を調節することにより、最終的に得られる反射防止構造体３０の厚みを調整することができる。

　前記硬化工程は、図３（ｂ）に示すように、挟持された反射防止構造体用樹脂組成物１５１をＵＶ光等の活性エネルギー線の照射により硬化させ、両面に微細凹凸構造を有する反射防止構造体３０を形成する工程である。
　具体的には、図３（ｂ）に示すように、挟持された反射防止構造体用樹脂組成物１５１に対して活性エネルギー線を照射し、反射防止構造体用樹脂組成物１５１を硬化する。反射防止構造体用樹脂組成物１５１が硬化することで、表面に微細凹凸構造を有する反射防止構造体３０を含んだ保持フィルム積層体２５０が得られる。なお、硬化工程は、前記挟持圧着工程と同じタイミングで行ってもよい。

　前記剥離工程は、図３（ｃ）に示すように、保持フィルム積層体２５０から、保持フィルム２０１ａ、２０１ｂを剥離し、反射防止構造体３０を得る工程である。
　得られた反射防止構造体３０については、必要に応じて、洗浄等の処理が施される。
　また、前記反射防止構造体３０を製造する方法については、上述した、挟持圧着工程、硬化工程及び剥離工程を経る方法（図３（ａ）～（ｃ））には限定されず、例えば、前記反射防止構造体用樹脂組成物を硬化させた後、スパッタリング等によって、微細凹凸構造を形成することで、反射防止構造体３０を作製することも可能である。
（接着層）
　本発明の積層体１では、図１に示すように、前記反射防止構造体３０を前記非遮光部２１に接合するための接着層４０をさらに備える。
　ここで、前記接着層４０とは、前記反射防止構造体３０を前記非遮光部２１に接合するべく、接着剤から構成されるが、前記反射防止構造体３０の反射防止性能を低下させないような材料を用いる必要がある。
　具体的な材料については、特に限定はされず、硬化反応により硬化する樹脂組成物を適宜用いることができる。その中でも、前記接着層４０は、紫外線硬化性接着剤からなることが好ましい。高い接合性を実現できるためである。前記紫外線硬化性樹脂については、例えば、紫外線硬化性アクリル系樹脂、紫外線硬化性エポキシ系樹脂等が挙げられる。
　なお、前記接着層４０の形成方法については、特に限定はされない。例えば、前記接着層４０が紫外線硬化性接着剤からなる層である場合には、前記非遮光部２１において、前記紫外線硬化性接着剤を前記反射防止構造体３０と圧着させた状態で、紫外線を照射することによって、接着層４０を形成できる。
　また、前記接着層４０は、積層体１の薄膜化の観点から、高い接合性を維持できる範囲で、薄くすることが好ましい。
　具体的には、図２（ａ）及び（ｂ）に示すように、前記反射防止構造体３０及び前記接着層４０の合計厚さＴが、30μm以下であることが好ましく、10μm以下であることがより好ましい。
（遮光膜の反射光と反射防止構造体の反射光との色差：ΔＥ）
　そして、本発明の積層体１では、以下の式で表される、前記遮光膜２０の反射光と前記反射防止構造体３０の反射光との色差（ΔＥ）が、1.5以下であることを特徴とする。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000004
 　前記前記遮光膜２０の反射光と前記反射防止構造体３０の反射光との色差ΔＥを、1.5以下に設定することによって、反射防止構造体３０の表面とその周辺の表面（図１では、遮光膜２０の表面）との間で反射色度をニュートラルに保つことが可能となり、本発明の積層体をカメラモジュール搭載装置に用いた際、色ムラが抑制された撮像画像を得ることができる。
　ここで、上記式中の、ａ１及びｂ１は、遮光膜２０の反射光のCIE1976（Ｌ＊ａ＊ｂ＊）表色系におけるａ＊値及びｂ＊値を表したものである。また、ａ２及びｂ２は、反射防止構造体３０の反射光のCIE1976（Ｌ＊ａ＊ｂ＊）表色系におけるａ＊値及びｂ＊値を表したものである。CIE1976（Ｌ＊ａ＊ｂ＊）表色系とは、CIEが1976年に定めた均等色空間のひとつであり、明度指数：Ｌ、及び、クロマティクネス指数：ａ＊、ｂ＊の三次元直交座標を用いる色空間をＬ＊ａ＊ｂ＊色空間といい、この色空間を用いた表色系である。
　また、前記ΔＥについては、1.5以下とする必要があるが、反射防止構造体３０の表面とその周辺の表面との反射色度をよりニュートラルにする観点からは、1.0以下であることが好ましく、0.7以下であることがより好ましい。
　なお、前記遮光膜２０の反射光のCIE1976（Ｌ＊ａ＊ｂ＊）表色系におけるａ＊値及びｂ＊値、並びに、前記反射防止構造体３０の反射光のCIE1976（Ｌ＊ａ＊ｂ＊）表色系におけるａ＊値及びｂ＊値については、市販の測定装置を用いることで得ることが可能である。
　また、上述したCIE1976（Ｌ＊ａ＊ｂ＊）表色系におけるａ＊値及びｂ＊値や、色差ΔＥの調整については、前記遮光膜２０の材料、形状、厚さ、また、前記反射防止構造体３０の材料や、凹凸構造の凹凸周期Ｐ、凹凸構造の凹凸高さＨ等を変更することによって、行うことが可能である。
　さらに、本発明の積層体１では、前記遮光膜２０の視感反射率（Y値）と前記反射防止構造体３０の視感反射率（Y値）との差（ΔＹ）が、0.5以下であることが好ましい。色度図上における明度をほぼ同じ条件とすることができるため、反射防止構造体３０の表面とその周辺の表面との反射色度をよりニュートラルに維持することができるためである。
　ここで、前記視感反射率（Ｙ値）とは、眼の感じる明るさが視感度によって変化することを考慮に入れた反射率のことであり、正反射光の色をCIE1931 XYZ色空間にて表した際の（Ｘ，Ｙ，Ｚ)、又は、CIE xyY色空間で表した際の（ｘ，ｙ，Ｙ）であり、市販の分光光度計（例えば、日本分光株式会社製V650等）によって測定することができる。
　なお、前記遮光膜及び前記反射防止構造体３０のそれぞれの視感反射率及び反射率差については、例えば、微細凹凸構造の粗密や、凹凸高さを変更することによって、調整することができる。
＜カメラモジュール搭載装置＞
　本発明のカメラモジュール搭載装置３００は、図４に示すように、本発明の積層体１と、該積層体中の反射防止構造体３０と相対する位置に設けられたカメラモジュール３１０と、を備えることを特徴とする。
　本発明のカメラモジュール搭載装置によれば、カメラモジュールの撮像素子により、本発明の積層体を介して静止画や動画を撮影することができるので、光の反射が抑えられ、得られる撮像画像において色ムラ等の発生を抑制することができる。
　次に、本発明を実施例に基づき具体的に説明する。ただし、本発明は下記の実施例に何ら限定されるものではない。
（実施例１－１）
　図１に示されるような、図１に示すように、表示板１０と、該表示板１０上に設けられた遮光膜２０と、表面に微細凹凸構造を有する反射防止構造体３０とを備えた積層体１のモデルを作製した。そして、遮光膜２０及び反射防止構造体３０については、それぞれ反射光の色度（照射角：5°）を算出した。
　ここで、表示板１０はガラス基板とし、遮光膜２０は、カーボンブラックを含有し、酢酸ブチル、酢酸エチル、ニトロセルロース、ジイソブチルケトン、イソプロピルアルコール、イソブタノール等を含んだスプレー塗料をガラス基板表面に塗布することで形成した。また、反射防止構造体３０は、東亞合成株式会社製「UVX-6366」（１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート及び２，４，６－トリメチルベンゾイルージフェニルーフォスフィンオキサイドからなる紫外線硬化性樹脂）から形成し、微細凹凸構造の凹凸周期は150～250nm、凹凸高さは220nm、微細凹凸構造のないベース部の厚さは1000nm、屈折率ｎ＝1.520とした。さらに、接着層４０については、紫外線硬化性樹脂を用い、厚さを3000nmとした。反射防止構造体３０と接着層４０の合計厚さは、4220nm（約4.2μm）である。
　表１に、反射防止構造体の構造、反射防止構造体と接着層の合計厚さ（μm）、反射防止構造体の反射光のCIE1976（Ｌ＊ａ＊ｂ＊）表色系におけるａ＊値及びｂ＊値（ａ２及びｂ２）、遮光膜の反射光と反射防止構造体の反射光との色差ΔＥ、の算出結果を示す。
（比較例１－１）
　比較例１－１では、反射防止技術として、微細凹凸構造を有する反射防止構造体３０に代えて、NbOXとSiO2とを交互に計４層積層してなる反射防止膜（Dry-AR直接形成）を形成したこと以外は、実施例１－１と同様の条件によって、積層体を作製した。
　表１に、反射防止構造体の構造、反射防止膜と接着層の合計厚さ（μm）、反射防止膜の反射光のCIE1976（Ｌ＊ａ＊ｂ＊）表色系におけるａ＊値及びｂ＊値、遮光膜の反射光と反射防止膜の反射光との色差ΔＥ、の算出結果を示す。
（比較例１－２）
　比較例１－２では、反射防止技術として、屈折率ｎ＝1.340の材料をコーティングしてなる反射防止膜（Wet-AR直接コート）を形成したこと以外は、実施例１－１と同様の条件によって、積層体を作製した。
　表１に、反射防止構造体の構造、反射防止膜と接着層の合計厚さ（μm）、反射防止膜の反射光のCIE1976（Ｌ＊ａ＊ｂ＊）表色系におけるａ＊値及びｂ＊値、遮光膜の反射光と反射防止膜の反射光との色差ΔＥ、の算出結果を示す。
（比較例１－３）
　比較例１－３では、反射防止技術として、高屈折率材料（屈折率ｎ＝1.700）と低屈折率材料（屈折率ｎ＝1.250）との貼り合わせてなる反射防止膜（Wet-ARフィルム貼合）を形成したこと以外は、実施例１－１と同様の条件によって、積層体を作製した。
　表１に、反射防止構造体の構造、反射防止膜と接着層の合計厚さ（μm）、反射防止膜の反射光のCIE1976（Ｌ＊ａ＊ｂ＊）表色系におけるａ＊値及びｂ＊値、遮光膜の反射光と反射防止膜の反射光との色差ΔＥ、の算出結果を示す。
（実施例１－２～１－７、比較例１－４～１－７）
　実施例１－２～１－７及び比較例１－４～１－７では、反射防止構造体３０の微細凹凸構造について、凹凸高さを変えたこと（具体的な凹凸高さの値については、表２を参照。）以外は、実施例１－１と同様の条件によって、積層体を作製した。
　表３に、反射防止構造体の凹凸高さ（nm）、反射防止構造体の反射光のCIE1976（Ｌ＊ａ＊ｂ＊）表色系におけるａ＊値及びｂ＊値、遮光膜の反射光と反射防止膜（Dry-AR直接形成）の反射光との色差ΔＥ、の算出結果を示す。
（実施例２）
　図１に示されるような、図１に示すように、表示板１０と、該表示板１０上に設けられた遮光膜２０と、表面に微細凹凸構造を有する反射防止構造体３０とを備えた積層体１を実際に作製した。そして、遮光膜２０及び反射防止構造体３０については、それぞれ反射光の色度（照射角：5°）を測定した。
　ここで、表示板１０はガラス基板とし、遮光膜２０は、カーボンブラックを含有し、酢酸ブチル、酢酸エチル、ニトロセルロース、ジイソブチルケトン、イソプロピルアルコール、イソブタノール等を含んだスプレー塗料をガラス基板表面に塗布することで形成した。また、反射防止構造体３０は、東亞合成株式会社製「UVX-6366」（１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート及び２，４，６－トリメチルベンゾイルージフェニルーフォスフィンオキサイドからなる紫外線硬化性樹脂）から形成し、微細凹凸構造の凹凸周期は150～250nm、凹凸高さは220nm、微細凹凸構造のないベース部の厚さは1000nmとした。さらに、接着層４０については、紫外線硬化性樹脂を用い、厚さを3780nmとした。反射防止構造体３０と接着層４０の合計厚さは、5000nm（5μm）である。
　表２に、反射防止構造体の構造、反射防止構造体と接着層の合計厚さ（μm）、反射防止構造体の反射光のCIE1976（Ｌ＊ａ＊ｂ＊）表色系におけるａ＊値及びｂ＊値、遮光膜の反射光と反射防止構造体の反射光との色差ΔＥ、の算出結果を示す。
（評価）
　各実施例及び各比較例で得られた積層体の各サンプルについて、以下の評価を行った。評価結果を表１に示す。
（１）反射防止性能
（ａ）実施例１－１及び比較例１－１～１－３のサンプルについて、計算ソフト「ＴＦＣａｌｃ」を用い、分光波長及び反射率（5°）を算出した。波長と反射率との関係を図５に示す。なお、参考として、遮光膜部分の波長と反射率との関係も図５に示す。
　図５の結果から、420～620nmの波長領域では、実施例１－１の積層体の反射防止性能が最も優れていることがわかった。
（ｂ）実施例２のサンプルについて、日本分光株式会社製の紫外可視近赤外分光光度計「V-650」を用い、分光波長及び反射率（5°）を測定した。波長と反射率との関係を図６に示す。なお、参考として、比較例１－１～１－３のサンプル及び遮光膜部分の波長と反射率との関係も図６に示す。
　図６の結果から、420～660nmの波長領域では、実施例１－１の場合と同様に、実施例２の実際に作製した積層体の反射防止性能についても優れた結果を示すことがわかった。
（２）反射色度のニュートラル性
（ａ）実施例１－１及び比較例１－１～１－３のサンプルについて、計算ソフト「ＴＦＣａｌｃ」を用い、反射防止構造体のCIE1976（Ｌ＊ａ＊ｂ＊）表色系におけるａ＊値及びｂ＊値、遮光膜の反射光と反射防止構造体の反射光との色差ΔＥを算出した。算出結果は表１に示す。
　表１の結果から、実施例１－１のΔＥが最も小さく、反射色度がニュートラルに保たれていることがわかった。
（ｂ）実施例２のサンプルについて日本分光株式会社製の紫外可視近赤外分光光度計「V-650」を用い、分光スペクトルを取得し、そこから反射防止構造体のCIE1976（Ｌ＊ａ＊ｂ＊）表色系におけるａ＊値及びｂ＊値、遮光膜の反射光と反射防止構造体の反射光との色差ΔＥを算出した。測定結果を表２に示す。
　表２の結果から、実施例２のΔＥは実施例１－１と同様に、ΔＥが小さく抑えられており、反射色度がニュートラルに保たれていることがわかった。
（３）凹凸構造の凹凸高さとΔＥとの関係
　実施例１－２～１－７及び比較例１－４～１－７のサンプルについて、計算ソフト「ＴＦＣａｌｃ」を用い、分光波長及び反射率（5°）を算出し、波長と反射率との関係を図７（ａ）及び（ｂ）に示す。さらに、反射防止構造体のCIE1976（Ｌ＊ａ＊ｂ＊）表色系におけるａ＊値及びｂ＊値、遮光膜の反射光と反射防止構造体の反射光との色差ΔＥも算出し、算出結果を表３に示す。なお、算出の結果得られた色差ΔＥについては、本発明の範囲内である1.5以下の場合は「○」、1.5を超えると「×」として、判定を行った。判定結果を表３に示す。
　図７及び表３の結果から、凹凸構造の凹凸高さが190nm以上であれば、ΔＥを本発明の範囲内（判定結果を○）に収めることができ、優れた反射防止性能を実現し、反射色度をニュートラルに保てることができた。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
　本発明によれば、薄膜化が図られているとともに、反射防止性能に優れ、反射色度をニュートラルに保つことができる、積層体及び反射防止構造体を提供することが可能となる。また、本発明によれば、本発明の積層体を用い、薄膜化が図られ、色ムラが抑制された撮像画像を得ることができる、カメラモジュール搭載装置を提供することが可能となる。
　１　　積層体
　１０　表示板
　２０　遮光膜
　２１　非遮光部
　３０　反射防止構造体
　４０　接着層
　２０１ａ　第１保持フィルム
　２０１ｂ　第２保持フィルム
　２５０　　保持フィルム積層体
　３００　　カメラモジュール搭載装置
　３１０　　カメラモジュール
 

Claims (7)

  1. 　表示板と、該表示板上に設けられた遮光膜と、表面に微細凹凸構造を有する反射防止構造体とを備えた積層体であって、
    　前記遮光膜は、その一部に、遮光膜のない非遮光部を有し、
    　前記反射防止構造体は、前記非遮光部に接着層を介して形成され、前記微細凹凸構造が、可視光線の波長以下の凹凸周期を有し、
    　以下の式で表される、前記遮光膜の反射光と前記反射防止構造体の反射光との色差（ΔＥ）が、1.5以下であることを特徴とする、積層体。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
     （式中、ａ１及びｂ１は、遮光膜の反射光のCIE1976（Ｌ＊ａ＊ｂ＊）表色系におけるａ＊値及びｂ＊値を表したものであり、ａ２及びｂ２は、反射防止構造体の反射光のCIE1976（Ｌ＊ａ＊ｂ＊）表色系におけるａ＊値及びｂ＊値を表したものである。）
  2. 　前記反射防止構造体及び前記接着層の合計厚さが、30μm以下であることを特徴とする、請求項１に記載の積層体。
  3. 　前記接着剤層は、紫外線硬化性接着剤からなる層であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の積層体。
  4. 　前記微細凹凸構造の平均凹凸高さが、190nm以上であることを特徴とする、請求項１～３のいずれか１項に記載の積層体。
  5. 　前記遮光膜の視感反射率と前記反射防止構造体の視感反射率との差（ΔＹ）が、0.5以下であることを特徴とする、請求項１～４のいずれか１項に記載の積層体。
  6. 　表示板上に接着層を介して形成された、表面に微細凹凸構造を有する反射防止構造体であって、
    　前記微細凹凸構造が、可視光線の波長以下の凹凸周期を有し、
    　前記反射防止構造体及び前記接着層の合計厚さが、30μm以下であり、
    　前記微細凹凸構造の平均凹凸高さが、190nm以上であることを特徴とする、反射防止構造体。
  7. 　請求項１～５のいずれか１項に記載の積層体と、該積層体中の反射防止構造体と相対する位置に設けられたカメラモジュールと、を備えることを特徴とする、カメラモジュール搭載装置。
     
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