WO2019039881A1 - 코팅용 수지 조성물 및 이의 경화물을 코팅층으로 포함하는 코팅필름 - Google Patents

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    • C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40—Additives

Abstract

본 발명은 화학구조내 에폭시 또는 아크릴을 포함하는 알콕시 실란과 실란 D 구조의 디알콕시실란 내지 실란 T 구조의 트리알콕시실란을 포함하는 화합물들에 의해 화학 결합된 실록산 수지를 포함하는 코팅용 수지 조성물 및 이의 경화물을 코팅층으로 포함하는 코팅 필름에 관한 것이다.

Description

코팅용 수지 조성물 및 이의 경화물을 코팅층으로 포함하는 코팅필름
본 발명은 코팅용 수지 조성물 및 이의 경화물을 코팅층으로 포함하는 코팅필름에 관한 것이다.
투명 고분자 필름은 광학, 투명, 플렉서블 디스플레이 산업의 핵심 소재로 많은 활용이 되고 있으며, 특히 그 경량성 및 가공용이성, 유연성으로 인해 디스플레이 산업에서 유리를 대체하여 적용되고 있다. 하지만 유리에 비해 낮은 표면 경도 및 내마모성이 단점이기에, 고분자 필름의 내마모성을 향상시키기 위한 코팅 기술이 중요한 이슈가 되고 있다.
고분자 필름의 코팅에 사용되는 재료로는 크게 유기, 무기, 유무기 복합재료가 존재하는데, 유기재료는 유기물의 특성으로 유연성, 성형성에 대한 장점을 가지고 있지만 표면경도가 낮다는 단점을 가지고 있고, 무기재료는 높은 표면경도와 투명성의 장점을 가지고 있지만, 유연성 및 성형성이 저조하다는 단점을 가지고 있다. 이에 따라 두 재료의 장점을 모두 가진 유무기 복합재료는 현재 많은 각광을 받고 있고, 많은 연구가 진행되고 있지만, 아직 두 가지 재료의 장점을 모두 구현하기는 미흡한 실정이다.
또한, 표면 코팅된 고분자 필름이 광학용으로 유용하게 적용되기 위해서는 무엇보다도 필름에 대한 코팅제의 부착력이 우수해야 하며, 컬(Curl) 현상 및 레인보우(rainbow) 현상 등이 없어야 하므로 이 모든 장점을 나타내는 코팅 소재를 찾아내는 것이 기술 개발의 핵심 과제로 부각되고 있는 상황이다.
고분자 필름에 대한 코팅 조성물과 관련되어 종래 개시된 특허문헌을 살펴보면, 일 예로 대한민국 공개특허 제2010-0041992호를 통해서는 자외선 경화성 폴리우레탄 아크릴레이트계 올리고머를 포함하는 고경도 하드코팅 필름 조성물이 개시되었고, 대한민국 공개특허 제2011-0013891호를 통해 금속 촉매가 포함된 비닐 올리고 실록산 하이브리드 조성물이 제안된 바 있다. 전자의 경우, 컬 현상을 최소화하고 광간섭에 의한 레인보우 현상을 방지할 수 있고, 후자의 경우, 무기 망목구조의 조성물로서 수축률이 적으며 뛰어난 광학특성 및 내열성을 달성한 것으로 보고되었다.
한편, 국제 공개특허공보 제2014-129768호를 통해서는 지환식 에폭시기를 포함하는 고경도 실록산 수지 조성물과 그의 제조방법 및 상기 경화물을 포함하는 광학필름이 개시되어, 최근 하드 코팅 분야의 기술 수준이 9 H의 높은 경도를 구현하기에 이른 것으로 확인되었다. 다만 이와 같이 고경도 코팅을 달성했음에도 불구하고, 상기 특허는 단일 단량체와 양이온 개시제의 사용으로 인한 내후성 문제가 우려되고, Roll to Roll 공정과 같은 대량 생산에서 공정 진행에 큰 방해요소이자 향후 제품으로 제공되었 때 내구성 문제를 일으킬 수 있는 컬이 발생한다는 한계가 존재하며, 지나친 고경도 구현에 따른 유연성 하락으로 플렉서블 디스플레이에 적용하기엔 제약이 따르는 것으로 평가되었다.
이처럼 코팅소재는 유기재료의 장점을 부각하면 경도 및 투과성에 약점을 가지게 되고 무기재료의 장점을 부각하면 유연성 등의 약점을 완벽히 해소할 수 없는 한계가 존재한다. 특히, 유기재료는 유연성을 갖는다는 장점으로 인하여 고분자 필름의 표면 코팅에 적합하나, 분자간 치밀한 네트워크를 형성하여 코팅층의 표면경도를 향상시키면 수축성이 증가하여 컬 및 크랙이 발생하게 되고 이로 인해 접착성이 감소하여 코팅층의 박리가 발생하기 때문에, 고분자 필름에 보다 광범위하게 활용되기 위해서는 표면경도를 보완하면서도 코팅으로 인한 필름의 유연성 저하를 방지할 수 있는 기술이 무엇보다도 필요한 상황이다.
이에 본 발명을 통해 5H 이상의 표면경도를 확보하면서 동시에 우수한 유연성 및 컬 특성을 갖는 코팅용 수지 조성물을 제공하고자 한다. 또한, 상기 수지 조성물의 경화물을 코팅층으로 포함하는 코팅필름을 제공하고자 한다.
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 바람직한 제 1 구현예는 하기 화학식 1로 표시되는 알콕시 실란; 및 하기 화학식 2와 화학식 3으로 각각 표시되는 알콕시 실란 중 선택된 1종 이상의 알콕시 실란을 포함하는 화합물로부터 화학 결합된 실록산 수지를 포함하는 코팅용 수지 조성물을 제공하는 것이다.
<화학식 1>
R1 nSi(OR2)4-n
상기 화학식 1에서 R1은 에폭시 또는 아크릴이 치환된 C1~C3의 선형, 분지형 또는 지환형 알킬렌기이고, R2는 C1~C8의 선형, 분지형 또는 지환형 알킬기며, n은 1 내지 3의 정수이다.
<화학식 2>
R3Si(OR4)3
상기 화학식 2에서 R3 및 R4는 각각 독립적으로 C1~C4의 선형 또는 분지형 알킬기이다.
<화학식 3>
R5 2Si(OR6)2
상기 화학식 3에서 R5 및 R6는 각각 독립적으로 C1~C4의 선형 또는 분지형 알킬기이다.
상기 제 1 구현예에서 화학식 2와 화학식 3으로 표시되는 알콕시 실란 중 선택된 1 종 이상의 알콕시 실란은 화학식 1로 표시되는 알콕시 실란 총 100몰에 대해 10 내지 100 몰%의 몰 비로 포함되는 것일 수 있다.
이때, 상기 실록산 수지는 상기 화학식 2로 표시되는 알콕시 실란과 화학식 3으로 표시되는 알콕시 실란 모두를 포함하는 화합물로부터 화학 결합된 것일 수 있고, 화학식 2로 표시되는 알콕시 실란과 화학식 3으로 표시되는 알콕시 실란의 몰 비는 1:0.1 내지 10일 수 있다.
상기 제 1 구현예에서 실록산 수지는 하기 화학식 4로 표시되는 다이올(diol)을 더 포함하는 화합물로부터 화학 결합된 것일 수 있다.
<화학식 4>
HO(CH2)nOH
상기 화학식 4에서 n은 1 내지 10의 정수이다.
이때, 상기 다이올(diol)은 화학식 1로 표시되는 알콕시 실란 총 100 몰에 대해 10 내지 150 몰%의 몰 비로 포함되는 것일 수 있다.
상기 화학식 1로 표시되는 알콕시 실란은 3-글리시독시프로필 트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필 트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필 트리프로폭시실란, 3-메타아크릴옥시프로필 트리메톡시실란, 3-메타아크릴옥시프로필 트리에톡시실란, 3-아크릴옥시프로필 트리메톡시실란, 3-아크릴옥시프로필 트리에톡시실란, 3-아크릴옥시프로필 트리프로폭시실란, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리에톡시실란 및 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리프로폭시실란 중 선택된 적어도 하나일 수 있다.
상기 제 1 구현예의 실록산 수지는 중량평균 분자량이 1,000 내지 10,000 이고, 분자량 분포도는 1.2 내지 2.7 인 것일 수 있다.
상기 제 1 구현예의 코팅용 수지 조성물은 유기용매, 광개시제, 열개시제, 산화방지제, 레벨링제 및 코팅조제로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 첨가물을 더 포함할 수 있다.
아울러, 본 발명은 상기 제 1 구현예의 코팅용 수지 조성물을 기재필름의 적어도 일면에 코팅층으로 형성한 코팅 필름을 바람직한 제 2 구현예로 한다.
이때, 상기 제 2 구현예의 코팅 필름은 코팅층이 형성된 방향으로의 표면 경도가 ASTM D3363 측정 기준으로 5H 이상일 수 있다.
또한, 상기 제 2 구현예의 코팅 필름은 코팅 두께 10 내지 50㎛ 기준으로 필름의 모서리가 평면바닥으로부터 이격되는 거리(curl)가 10㎜ 이하이고, 굴곡측정기(JIRBT-620-2)의 라디우스 모드를 이용하여 측정한 굴곡반경이 5.0㎜ 이하로 우수한 컬 특성 및 유연성을 가진다.
본 발명은 에폭시 또는 아크릴을 포함하는 알콕시 실란으로부터 형성되는 실록산 네트워크의 치밀한 가교를 통해 표면경도와 내스크래치성을 확보하면서, 실란 D 구조의 디알콕시실란(Dialkoxysilane) 내지 실란 T 구조의 트리알콕시실란(Trialkoxysilane)의 도입함으로써 분자 결합의 유연성을 확보하여 경화시 컬 특성과 유연성을 극대화할 수 있다.
본 발명은 에폭시 또는 아크릴을 포함하는 알콕시 실란과 실란 T 구조의 트리알콕시실란(Trialkoxysilane) 내지 실란 D 구조의 디알콕시실란(Dialkoxysilane)을 포함하는 화합물로부터 화학 결합된 실록산 수지를 포함하는 코팅용 수지 조성물을 제공한다.
보다 구체적으로 본 발명에서 상기 에폭시기 또는 아크릴기를 포함하는 알콕시 실란은 하기 화학식 1로 표시될 수 있으며, 보다 바람직하게는 3-글리시독시프로필 트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필 트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필 트리프로폭시실란, 3-메타아크릴옥시프로필 트리메톡시실란, 3-메타아크릴옥시프로필 트리에톡시실란, 3-아크릴옥시프로필 트리메톡시실란, 3-아크릴옥시프로필트리에톡시실란, 3-아크릴옥시프로필 트리프로폭시실란, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리에톡시실란 및 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리프로폭시실란 중 선택된 적어도 하나인 것일 수 있다.
<화학식 1>
R1 nSi(OR2)4-n
상기 화학식 1에서 R1은 에폭시 또는 아크릴이 치환된 C1~C3의 선형, 분지형 또는 지환형 알킬렌기이고, R2는 C1~C8의 선형, 분지형 또는 지환형 알킬기며, n은 1 내지 3의 정수이다.
다만, 실란 화합물로만 실록산 수지를 합성할 경우, 높은 표면경도는 확보할 수 있으나, 치밀한 실록산 가교에 의해서만 결합구조가 형성되므로 유연성을 확보하기에 한계가 존재한다. 이에, 본 발명은 상기 화학식 1로 표시되는 알콕시 실란과 함께 하기 화학식 2와 화학식 3으로 각각 표시되는 알콕시 실란 중 선택된 1종 이상의 알콕시 실란을 포함하는 화합물에 의해 실록산 수지를 중합함으로써, 분자 결합의 유연성을 확보하여 경화물이 우수한 유연성을 갖도록 한다.
<화학식 2>
R3Si(OR4)3
상기 화학식 2에서 R3 및 R4는 각각 독립적으로 C1~C4의 선형 또는 분지형 알킬기이다.
<화학식 3>
R5 2Si(OR6)2
상기 화학식 3에서 R5 및 R6는 각각 독립적으로 C1~C4의 선형 또는 분지형 알킬기이다.
즉, 상기 화학식 2 및 화학식 3은 각각 실란 T 구조의 트리알콕시실란(Trialkoxysilane) 내지 실란 D 구조의 디알콕시실란(Dialkoxysilane)으로서, 실란의 중합 작용기에 해당하지 않는 알킬기를 포함하고 있기 때문에 화학 결합시 분자간 공간이 확보될 수 있어 유연성 및 컬 특성을 향상시킬 수 있는 것이다.
본 발명에서 상기 화학식 2와 화학식 3으로 표시되는 알콕시 실란 중 선택된 1 종 이상의 알콕시 실란은 화학식 1로 표시되는 알콕시 실란 총 100 몰에 대해 10 내지 100몰%, 바람직한 범위로는 40 내지 60몰%의 몰비로 포함되는 것이 높은 표면 경도를 확보하면서 동시에 유연성을 향상시킬 수 있는 측면에서 바람직하다. 상기 범위에 미치지 못할 경우엔 화학식 1로 표시되는 알콕시 실란의 함량이 높아져 경화물의 표면 경도는 더욱 상승될 수 있으나 유연성이 저하되고, 상기 범위를 초과할 경우엔 지나친 유연성으로 인해 일정 수준의 표면 경도를 달성하지 못할 수 있다.
이때, 5H 이상의 경도를 유지하면서 굴곡성을 상승시키려 한다면, 본 발명에서 상기 실록산 수지는 상기 화학식 2로 표시되는 알콕시 실란과 화학식 3으로 표시되는 알콕시 실란을 모두 포함하는 화합물로부터 화학 결합된 것이 유리할 수 있다.
상기 화학식 2로 표시되는 알콕시 실란과 상기 화학식 3으로 표시되는 알콕시 실란의 몰 비는 1:0.1 내지 10, 바람직하게는 1:0.5 내지 10, 보다 바람직하게는 1: 0.5 내지 5인 것이 경도를 유지하는 측면에서 좋고, 화학식 3의 알콕시 실란이 상기 범위에 미치지 못할 경우 상기 범위를 만족하는 경우에 비해 굴곡성이 낮게 나타날 수 있다.
한편, 본 발명은 보다 우수한 유연성을 확보하기 위하여 실록산 수지 중합시 하기 화학식 4로 표시되는 다이올(diol)을 추가적으로 포함시킬 수 있다. 다이올을 첨가할 경우, 실록산 수지의 고분자 쇄에 선형(linear)의 다이올 구조가 도입되므로 경화물의 유연성이 보다 향상될 수 있다.
<화학식 4>
HO(CH2)nOH
상기 화학식 4에서 n은 1 내지 10의 정수이다.
본 발명에서 상기 다이올(diol)은 실란 화합물 총 100 몰에 대해 10 내지 150 몰%, 바람직하게는 10 내지 100몰%, 보다 바람직하게는 50 내지 80몰%의 몰 비로 포함되는 것이 바람직하다. 만약, 다이올의 몰 비율이 상기 범위를 초과할 경우, 잔여 다이올의 문제로 인해 중합 속도가 느려질 수 있으며, 반대로 상기 범위에 미치지 못할 경우, 유연성의 상승폭이 적어 첨가하는 의미가 퇴색될 수 있다.
본 발명에서 실록산 수지의 합성은 상온에서 진행될 수도 있으나, 반응을 촉진하기 위해서는 50℃ 내지 120℃에서 1시간에서 120시간 동안 교반하며 진행될 수 있다. 또, 상기 반응을 진행하기 위한 촉매로서, 염산, 아세트산, 불화수소, 질산, 황산 요오드산 등의 산 촉매, 암모니아, 수산화칼륨, 수산화나트륨, 수산화바륨, 이미다졸 등의 염기 촉매 및 Amberite 등 이온교환수지가 사용될 수 있으며, 이들 촉매는 단독으로 사용될 수도 있고, 이들을 조합하여 사용하는 것도 가능하다. 이때, 촉매의 양은 실록산 수지 100 중량부 기준 0.0001 내지 약 10 중량부를 첨가할 수 있으나 특별히 이에 제한되는 것은 아니다. 반응이 진행되면, 부산물로 물 또는 알코올이 생성되는데 이를 제거함으로써 역반응을 줄여 정반응을 보다 빠르게 진행할 수 있으며 이를 통한 반응속도 조절이 가능하다. 또한 반응 종료 후 상기 부산물은 감압하며 열을 가함으로써 제거할 수 있다.
이와 같이 합성된 상기 본 발명의 실록산 수지는 중량평균 분자량이 1,000 내지 10,000이고, 다분산 지수(PDI)는 1.2 내지 2.7일 수 있다. 이때, 상기 분자량 및 분자량 분포도(다분산 지수, PDI)는, 겔 투과 크로마토그래피 (GPC)(Waters사 제품, 모델명 e2695)에 의해 폴리스티렌 환산 중량평균분자량(Mw) 및 수평균분자량(Mn)을 구한 것이다. 측정하는 중합체는 1%의 농도가 되도록 테트라히드로푸란에 용해시켜 GPC에 20㎕를 주입하였다. GPC의 이동상은 테트라히드로푸란을 사용하고, 1.0mL/분의 유속으로 유입하였으며, 분석은 30℃에서 수행하였다. 컬럼은 Waters사 Styragel HR3 2개를 직렬로 연결하였다. 검출기로는 RI 검출기(Waters사 제품, 2414)를 이용하여 40℃에서 측정하였다. 이때, PDI(분자량 분포도)는 측정된 중량평균분자량을 수평균분자량으로 나누어 산출하였다.
한편, 본 발명은 코팅용 수지 조성물의 성분으로 상기 실록산 수지 외에 유기용매, 광개시제, 열개시제, 산화방지제, 레벨링제 및 코팅조제로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 첨가물을 더 포함할 수 있다. 이때, 첨가하는 첨가제의 종류와 함량을 조절함으로써, 다양한 용도에 맞는 코팅용 수지 조성물로 제공할 수 있으며, 본 발명에서는 특별히 필름 또는 시트의 경도, 내마모성, 유연성 및 컬 방지 특성을 상승시킬 수 있는 코팅용 수지 조성물로 제공되는 것이 바람직하다.
본 발명에서 상기 개시제로는 예를 들어 유기금속염 등 광중합개시제와 아민, 이미다졸 등 열중합 개시제를 사용할 수 있다. 이때, 개시제의 첨가량은 실록산 수지 총 100중량부에 대해 약 0.01 내지 10 중량부로 포함되는 것이 바람직하다. 0.01 중량부 미만으로 포함되면 충분한 경도를 얻기 위한 코팅 층의 경화 시간이 증대되어 효율성이 저하되며, 10 중량부를 초과할 경우 코팅 층의 황색도가 증대되어 투명한 코팅 층을 얻기가 어려워질 수 있다.
또한, 상기 유기용매로는 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸부틸케톤, 사이클로헥사논 등 케톤류; 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브 등의 셀로솔브류, 또는 에틸에테르, 디옥산 등의 에테르류; 이소부틸알코올, 이소프로필알코올, 부탄올, 메탄올 등 알코올류; 디클로로메탄, 클로로포름, 트리클로로에틸렌 등의 할로겐화 탄화수소류; 및 노르말 헥산, 벤젠, 톨루엔 등의 탄화수소류 등으로 이루어진 용매로부터 선택된 1종 이상을 포함할 수 있으며, 그 종류는 특별히 제한되지 않는다. 유기용매는 실록산 수지의 점도를 제어하므로 가공성을 더욱 용이하거나 코팅막의 두께를 조절하기 위해 첨가량을 적절히 제어할 수 있다.
본 발명은 나아가, 상기 코팅용 수지 조성물을 코팅, 캐스팅, 몰딩 등의 방법으로 성형 후 광중합, 열중합에 의해 고경도 코팅 경화물로 제공할 수 있다. 특히, 본 발명은 기재필름; 및 상기 기재필름의 적어도 일면에 적층되며, 상기 코팅용 수지 조성물의 경화물을 코팅층으로 포함하는 코팅 필름을 제공한다.
본 발명의 코팅 필름은 코팅층이 형성된 방향으로의 표면 경도가 ASTM D3363 측정 기준 5H 이상의 경도를 나타내며, 코팅 두께 10 내지 50㎛ 기준으로 필름의 모서리가 평면바닥으로부터 이격되는 거리(curl)가 10㎜ 이하이고, 굴곡 측정기(JIRBT-620-2)의 라디우스 모드를 이용하여 측정한 굴곡반경이 5.0㎜ 이하로 경도는 물론 컬 특성과 유연성이 매우 우수하게 나타난다. 특히, 상술된 여러가지 바람직한 조건에 부합할수록, 5H 이상의 경도를 확보하면서 컬(curl) 및 굴곡반경은 코팅 두께 10㎛를 기준으로 각각 5㎜ 이하 및 2.5㎜ 이하로 물성이 보다 향상될 수 있다.
본 발명에서 상기 코팅용 수지 조성물을 중합할 경우, 광중합에 적합한 광량 조건은 50mJ/㎠ 이상 20000mJ/㎠ 이하이며, 광조사전 균일한 표면을 얻기 위해 40℃ 이상 약 300℃ 이하의 온도에서 열처리하여 수 있다. 또한, 열중합에 적합한 온도 조건은 40℃ 이상 300℃ 이하이나, 이에 제한되지 않는다.
이하, 실시예를 통하여 본 발명을 더욱 상세히 설명하고자 한다. 이들 실시예는 오로지 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것으로서, 이에 의해 본 발명이 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 실시예 및 비교예에서 사용된 화합물 가운데 KBM-403은 <화학식 1> R1 nSi(OR2)4 -n 에서 R1이 글리시독시프로필렌(glycidoxypropylene)기이고 R2가 메틸기이며, n이 1인 알콕시 실란이고, KBM-503은 <화학식 1> R1 nSi(OR2)4 -n에서 R1이 메타아크릴옥시프로필렌(methacryloxypropylene)기이고 R2가 메틸기이며 n이 1인 알콕시 실란이다.
또한, TEMS(Methyltrimethoxysilane)는 <화학식 2> R3Si(OR4)3에서 R3이 메틸(Methyl)기이고 R4가 에틸기인 알콕시 실란이며, DMDMS(Dimethoxydimethylsilane)는 <화학식 3> R5 2Si(OR6)2에서 R5가 메틸(Methyl)기이고 R6이 메틸기인 알콕시 실란이다. 아울러, 비교예에 사용된 TEOS(Tetraethoxysilane)는 화학식 Si(OR8)4에서 R8이 에틸기인 알콕시 실란이다.
실시예 1
KBM-403(Shinetsu社), TEMS(Sigma-Aldrich社) 및 증류수를 414g :134g : 67g (1.75 mol : 0.75 mol : 3.75 mol)의 비율로 혼합하여 1,000mL 2중 자켓 반응기에 넣은 후, 수산화나트륨 수용액(NaOH 0.1g in H2O 1g)을 촉매로 첨가하고, 항온조를 이용하여 90℃에서 8시간 동안 Mechanical Stirrer를 이용하여 200RPM에서 교반하였다. 이 후, 2-butanone에 고형분 50wt%로 희석한 후, 0.45㎛ 테프론 필터를 사용해 여과하여 실록산 수지를 얻었다. 상기 수지의 분자량은 GPC를 이용하여 측정하였으며, 4,527의 수평균분자량과 6,280의 중량평균분자량, 그리고 1.38의 다분산지수(PDI, Mw/Mn)값을 가짐을 확인하였다.
그 다음 상기 용매에 희석된 실록산 수지에 광개시제인 IRGACURE250(BASF社)를 상기 실록산 수지 100 중량부 대비 3 중량부 첨가하여 최종적으로 코팅용 수지 조성물을 얻었다.
이 조성물을 폴리이미드 표면위에 Bar를 이용하여 코팅한 뒤, 80℃, 20분동안 건조 후, 315nm 파장의 자외선 램프에 30초간 노출하여 10㎛ 코팅 필름을 제조하였다.
실시예 2
KBM-403(Shinetsu社), DMDMS(Sigma-Aldrich社) 및 증류수를 414g : 90g : 60g (1.75 mol : 0.75 mol : 3.375 mol)의 비율로 혼합하여 1,000mL 2중 자켓 반응기에 넣은 후, 수산화나트륨 수용액(NaOH 0.1g in H2O 1g)을 촉매로 첨가하고, 항온조를 이용하여 90℃에서 8시간 동안 Mechanical Stirrer를 이용하여 200RPM에서 교반하였다. 이 후, 2-butanone에 고형분 50wt%로 희석한 후, 0.45㎛ 테프론 필터를 사용해 여과하여 실록산 수지를 얻었다. 상기 수지의 분자량은 GPC를 이용하여 측정하였으며, 3,216의 수평균분자량과 5,325의 중량평균분자량, 그리고 1.65의 다분산지수(PDI, Mw/Mn)값을 가짐을 확인하였다. 다음으로 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 코팅용 수지 조성물을 제조하고, 이를 폴리이미드 필름에 코팅하여 10㎛ 코팅 필름을 제조하였다.
실시예 3
KBM-403(Shinetsu社), TEMS(Sigma-Aldrich社) 및 증류수를 537g : 41.4g : 67.5g (2.27 mol : 0.23 mol : 3.75 mol)의 비율로 혼합하여 1,000mL 2중 자켓반응기에 넣은 후, 수산화나트륨 수용액(NaOH 0.1g in H2O 1g)을 촉매로 첨가하고, 항온조를 이용하여 90℃에서 8시간 동안 Mechanical Stirrer를 이용하여 200RPM에서 교반하였다. 이 후, 2-butanone에 고형분 50wt%로 희석한 후, 0.45㎛ 테프론 필터를 사용해 여과하여 실록산 수지를 얻었다. 상기 수지의 분자량은 GPC를 이용하여 측정하였으며, 5,897의 수평균분자량과 8,721의 중량평균분자량, 그리고 1.47의 다분산지수(PDI, Mw/Mn)값을 가짐을 확인하였다. 다음으로 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 코팅용 수지 조성물을 제조하고, 이를 폴리이미드 필름에 코팅하여 10㎛ 코팅 필름을 제조하였다.
실시예 4
KBM-503(Shinetsu社), TEMS(Sigma-Aldrich社) 및 증류수를 435 g : 134 g : 67 g (1.75 mol : 0.75 mol : 3.75 mol)의 비율로 혼합하여 1,000mL 2중 자켓 반응기에 넣은 후, 수산화나트륨 수용액(NaOH 0.1g in H2O 1g)을 촉매로 첨가하고, 항온조를 이용하여 90℃에서 8시간 동안 Mechanical Stirrer를 이용하여 200RPM에서 교반하였다. 이 후, 2-butanone에 고형분 50wt%로 희석한 후, 0.45㎛ 테프론 필터를 사용해 여과하여 실록산 수지를 얻었다. 상기 수지의 분자량은 GPC를 이용하여 측정하였으며, 4,383의 수평균분자량과 6,671의 중량평균분자량, 그리고 1.52의 다분산지수(PDI, Mw/Mn)값을 가짐을 확인하였다. 다음으로 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 코팅용 수지 조성물을 제조하고, 이를 폴리이미드 필름에 코팅하여 10㎛ 코팅 필름을 제조하였다.
실시예 5
KBM-503(Shinetsu社), DMDMS(Sigma-Aldrich社) 및 증류수를 435g : 90g : 61 g (1.75 mol : 0.75 mol : 3.375 mol)의 비율로 혼합하여 1,000mL 2중 자켓 반응기에 넣은 후, 수산화나트륨 수용액(NaOH 0.1g in H2O 1g)을 촉매로 첨가하고, 항온조를 이용하여 90℃에서 8시간 동안 Mechanical Stirrer를 이용하여 200RPM에서 교반하였다. 이 후, 2-butanone에 고형분 50wt%로 희석한 후, 0.45㎛ 테프론 필터를 사용해 여과하여 실록산 수지를 얻었다. 상기 수지의 분자량은 GPC를 이용하여 측정하였으며, 3,317의 수평균분자량과 5,681의 중량평균분자량, 그리고 1.71의 다분산지수(PDI, Mw/Mn)값을 가짐을 확인하였다. 다음으로 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 코팅용 수지 조성물을 제조하고, 이를 폴리이미드 필름에 코팅하여 10㎛ 코팅 필름을 제조하였다.
실시예 6
KBM-403(Shinetsu社), TEMS(Sigma-Aldrich社), Ethylene Glycol(Sigma-Aldrich社) 및 증류수를 414g : 134g : 116g : 34g (1.75 mol : 0.75mol : 1.875 mol : 1.875 mol)의 비율로 혼합하여 1,000mL 2중 자켓 반응기에 넣은 후, 수산화나트륨 수용액(NaOH 0.1g in H2O 1g)을 촉매로 첨가하고, 항온조를 이용하여 90℃에서 8시간 동안 Mechanical Stirrer를 이용하여 200RPM에서 교반하였다. 이 후, 2-butanone에 고형분 50wt%로 희석한 후, 0.45㎛ 테프론 필터를 사용해 여과하여 실록산 수지를 얻었다. 상기 수지의 분자량은 GPC를 이용하여 측정하였으며, 1,139의 수평균분자량과 2,131의 중량평균분자량, 그리고 1.87의 다분산지수(PDI, Mw/Mn)값을 가짐을 확인하였다. 다음으로 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 코팅용 수지 조성물을 제조하고, 이를 폴리이미드 필름에 코팅하여 10㎛ 코팅 필름을 제조하였다.
실시예 7
KBM-403(Shinetsu社), DMDMS(Sigma-Aldrich社), Ethylene Glycol(Sigma-Aldrich社) 및 증류수를 414g : 90g : 104 g : 30g (1.75 mol : 0.75mol : 1.688 mol : 1.688 mol)의 비율로 혼합하여 1,000mL 2중 자켓 반응기에 넣은 후, 수산화나트륨 수용액(NaOH 0.1g in H2O 1g)을 촉매로 첨가하고, 항온조를 이용하여 90℃에서 8시간 동안 Mechanical Stirrer를 이용하여 200RPM에서 교반하였다. 이 후, 2-butanone에 고형분 50wt%로 희석한 후, 0.45㎛ 테프론 필터를 사용해 여과하여 실록산 수지를 얻었다. 상기 수지의 분자량은 GPC를 이용하여 측정하였으며, 1,039의 수평균분자량과 1,721의 중량평균분자량, 그리고 1.65의 다분산지수(PDI, Mw/Mn)값을 가짐을 확인하였다. 다음으로 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 코팅용 수지 조성물을 제조하고, 이를 폴리이미드 필름에 코팅하여 10㎛ 코팅 필름을 제조하였다.
실시예 8
KBM-503(Shinetsu社), TEMS(Sigma-Aldrich社), Ethylene Glycol(Sigma-Aldrich社) 및 증류수를 435g : 134g : 116 g : 34g (1.75 mol : 0.75 mol : 1.875 mol : 1.875 mol)의 비율로 혼합하여 1,000mL 2중 자켓 반응기에 넣은 후, 수산화나트륨 수용액(NaOH 0.1g in H2O 1g)을 촉매로 첨가하고, 항온조를 이용하여 90℃에서 8시간 동안 Mechanical Stirrer를 이용하여 200RPM에서 교반하였다. 이 후, 2-butanone에 고형분 50wt%로 희석한 후, 0.45㎛ 테프론 필터를 사용해 여과하여 실록산 수지를 얻었다. 상기 수지의 분자량은 GPC를 이용하여 측정하였으며, 1,213의 수평균분자량과 2,407의 중량평균분자량, 그리고 1.98의 다분산지수(PDI, Mw/Mn)값을 가짐을 확인하였다. 다음으로 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 코팅용 수지 조성물을 제조하고, 이를 폴리이미드 필름에 코팅하여 10㎛ 코팅 필름을 제조하였다.
실시예 9
KBM-503(Shinetsu社), DMDMS(Sigma-Aldrich社), Ethylene Glycol(Sigma-Aldrich社) 및 증류수를 435g : 90g : 104 g : 30g (1.75 mol : 0.75mol : 1.688 mol : 1.688 mol)의 비율로 혼합하여 1,000mL 2중 자켓 반응기에 넣은 후, 수산화나트륨 수용액(NaOH 0.1g in H2O 1g)을 촉매로 첨가하고, 항온조를 이용하여 90℃에서 8시간 동안 Mechanical Stirrer를 이용하여 200RPM에서 교반하였다. 이 후, 2-butanone에 고형분 50wt%로 희석한 후, 0.45㎛ 테프론 필터를 사용해 여과하여 실록산 수지를 얻었다. 상기 수지의 분자량은 GPC를 이용하여 측정하였으며, 1,079의 수평균분자량과 2,016의 중량평균분자량, 그리고 1.86의 다분산지수(PDI, Mw/Mn)값을 가짐을 확인하였다. 다음으로 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 코팅용 수지 조성물을 제조하고, 이를 폴리이미드 필름에 코팅하여 10㎛ 코팅 필름을 제조하였다.
실시예 10
KBM-403(Shinetsu社), TEMS(Sigma-Aldrich社), DMDMS(Sigma-Aldrich 社) 및 증류수를 414g : 67g : 45 g : 64g (1.75 mol : 0.375 mol : 0.375 mol : 3.56 mol)의 비율로 혼합하여 1,000mL 2중 자켓 반응기에 넣은 후, 수산화나트륨 수용액(NaOH 0.1g in H2O 1g)을 촉매로 첨가하고, 항온조를 이용하여 90℃에서 8시간 동안 Mechanical Stirrer를 이용하여 200RPM에서 교반하였다. 이 후, 2-butanone에 고형분 50wt%로 희석한 후, 0.45㎛ 테프론 필터를 사용해 여과하여 실록산 수지를 얻었다. 상기 수지의 분자량은 GPC를 이용하여 측정하였으며, 3,863의 수평균분자량과 6,528의 중량평균분자량, 그리고 1.69의 다분산지수(PDI, Mw/Mn)값을 가짐을 확인하였다. 다음으로 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 코팅용 수지 조성물을 제조하고, 이를 폴리이미드 필름에 코팅하여 10㎛ 코팅 필름을 제조하였다.
실시예 11
KBM-403(Shinetsu社), TEMS(Sigma-Aldrich社), DMDMS(Sigma-Aldrich 社) 및 증류수를 414g : 89g : 30 g : 65g (1.75 mol : 0.5 mol : 0.25 mol : 3.625 mol)의 비율로 혼합하여 1,000mL 2중 자켓 반응기에 넣은 후, 수산화나트륨 수용액(NaOH 0.1g in H2O 1g)을 촉매로 첨가하고, 항온조를 이용하여 90℃에서 8시간 동안 Mechanical Stirrer를 이용하여 200RPM에서 교반하였다. 이 후, 2-butanone에 고형분 50wt%로 희석한 후, 0.45㎛ 테프론 필터를 사용해 여과하여 실록산 수지를 얻었다. 상기 수지의 분자량은 GPC를 이용하여 측정하였으며, 4,174의 수평균분자량과 7,054의 중량평균분자량, 그리고 1.69의 다분산지수(PDI, Mw/Mn)값을 가짐을 확인하였다. 다음으로 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 코팅용 수지 조성물을 제조하고, 이를 폴리이미드 필름에 코팅하여 10㎛ 코팅 필름을 제조하였다.
실시예 12
KBM-403(Shinetsu社), TEMS(Sigma-Aldrich社), DMDMS(Sigma-Aldrich 社), Ethylene Glycol(Sigma-Aldrich社) 및 증류수를 414g : 67g : 45 g : 110 g: 32g (1.75 mol : 0.375 mol : 0.375 mol : 1.78 mol : 1.78 mol)의 비율로 혼합하여 1,000mL 2중 자켓 반응기에 넣은 후, 수산화나트륨 수용액(NaOH 0.1g in H2O 1g)을 촉매로 첨가하고, 항온조를 이용하여 90℃에서 8시간 동안 Mechanical Stirrer를 이용하여 200RPM에서 교반하였다. 이 후, 2-butanone에 고형분 50wt%로 희석한 후, 0.45㎛ 테프론 필터를 사용해 여과하여 실록산 수지를 얻었다. 상기 수지의 분자량은 GPC를 이용하여 측정하였으며, 1,119의 수평균분자량과 1,835의 중량평균분자량, 그리고 1.64의 다분산지수(PDI, Mw/Mn)값을 가짐을 확인하였다. 다음으로 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 코팅용 수지 조성물을 제조하고, 이를 폴리이미드 필름에 코팅하여 10㎛ 코팅 필름을 제조하였다.
실시예 13
KBM-403(Shinetsu社), TEMS(Sigma-Aldrich社), DMDMS(Sigma-Aldrich 社) 및 증류수를 414g : 12g : 82g : 61g (1.75 mol : 0.068 mol : 0.682 mol : 3.409 mol)의 비율로 혼합하는 것을 제외하고는 실시예 11과 동일한 방법으로 실시하였다.
실시예 14
KBM-503(Shinetsu社), DMDMS(Sigma-Aldrich社), Ethylene Glycol(Sigma-Aldrich社) 및 증류수를 435g : 90g : 10.8g : 57.6g (1.75 mol : 0.75mol : 0.175 mol : 3.2 mol)의 비율로 혼합하는 것을 제외하고는 실시예 9와 동일한 방법으로 실시하였다.
비교예 1
KBM-403(Shinetsu社) 및 증류수를 591g : 67.5g (2.50 mol : 3.75mol)의 비율로 혼합하여 1,000mL 2중 자켓 반응기에 넣은 후, 수산화나트륨 수용액(NaOH 0.1g in H2O 1g)을 촉매로 첨가하고, 항온조를 이용하여 90℃에서 8시간 동안 Mechanical Stirrer를 이용하여 200RPM에서 교반하였다. 이 후, 2-butanone에 고형분 50wt%로 희석한 후, 0.45㎛ 테프론 필터를 사용해 여과하여 실록산 수지를 얻었다. 상기 수지의 분자량은 GPC를 이용하여 측정하였으며, 5,136의 수평균분자량과 16,486의 중량평균분자량, 그리고 3.21의 다분산지수(PDI, Mw/Mn)값을 가짐을 확인하였다. 다음으로 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 코팅용 수지 조성물을 제조하고, 이를 폴리이미드 필름에 코팅하여 10㎛ 코팅 필름을 제조하였다.
비교예 2
KBM-503(Shinetsu社) 및 증류수를 621g : 67.5g (2.50 mol : 3.75 mol)의 비율로 혼합하여 1,000mL 2중 자켓 반응기에 넣은 후, 수산화나트륨 수용액(NaOH 0.1g in H2O 1g)을 촉매로 첨가하고, 항온조를 이용하여 90℃에서 8시간 동안 Mechanical Stirrer를 이용하여 200RPM에서 교반하였다. 이 후, 2-butanone에 고형분 50wt%로 희석한 후, 0.45㎛ 테프론 필터를 사용해 여과하여 실록산 수지를 얻었다. 상기 수지의 분자량은 GPC를 이용하여 측정하였으며, 4,927의 수평균분자량과 16,456의 중량평균분자량, 그리고 3.34의 다분산지수(PDI, Mw/Mn)값을 가짐을 확인하였다. 다음으로 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 코팅용 수지 조성물을 제조하고, 이를 폴리이미드 필름에 코팅하여 10㎛ 코팅 필름을 제조하였다.
비교예 3
KBM-403(Shinetsu社), TEOS(Sigma-Aldrich社) 및 증류수를 414g : 156g : 74g (1.75 mol : 0.75 mol : 4.125 mol)의 비율로 혼합하여 1,000mL 2중 자켓 반응기에 넣은 후, 수산화나트륨 수용액(NaOH 0.1g in H2O 1g)을 촉매로 첨가하고, 항온조를 이용하여 90℃에서 8시간 동안 Mechanical Stirrer를 이용하여 200RPM에서 교반하였다. 이 후, 2-butanone에 고형분 50wt%로 희석한 후, 0.45㎛ 테프론 필터를 사용해 여과하여 실록산 수지를 얻었다. 상기 수지의 분자량은 GPC를 이용하여 측정하였으며, 3,339의 수평균분자량과 21,370의 중량평균분자량, 그리고 6.4의 다분산지수(PDI, Mw/Mn)값을 가짐을 확인하였다. 다음으로 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 코팅용 수지 조성물을 제조하고, 이를 폴리이미드 필름에 코팅하여 10㎛ 코팅 필름을 제조하였다.
<측정예>
상기 제조된 실시예 및 비교예의 코팅필름을 대상으로 하기 방법에 따라 물성 평가를 실시하여 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.
(1) 표면 경도: 일본 IMOTO사의 연필경도 측정기를 사용하여 ASTM D3363, 180㎜/min의 속도로 하중을 1kgf로 연필경도를 측정하였다.
(2) 컬(Curl): 시료를 100㎜ × 100㎜의 정사각형으로 잘라 평면에 위치 시켰을 때 모서리가 바닥으로부터 이격되는 거리의 최대값을 측정하였다.
(3) 내스크래치성: 평면에 20㎝ × 5㎝로 자른 필름을 코팅면이 위로 가게 접착테이프(3M)로 고정시킨 후, #0000 (LIBERON社) 부직포를 감은 봉으로 1.5kgf의 하중, 45RPM 속도로 10회 동안 표면을 왕복시켰을 때 스크래치가 발생하는지 여부를 측정하여 스크래치가 발생할 경우 NG, 스크래치가 발생하지 않을 경우 양호로 판단하였다.
(4) 굴곡성: 실시예 및 비교예에 따라 제조된 최종 필름을 50㎜ × 100㎜로 잘라 코팅층 상면에 약 100㎚의 은을 증착하여 은나노박막을 형성한 후, 준일테크사의 굴곡측정기(JIRBT-620-2)의 라디우스 모드를 이용하여 최종 필름의 굴곡반경을 전도도를 확인하며 20R(R=㎜)에서 0.1R씩 줄여가면서 전도도가 소실된 시점을 확인하여 그 시점을 굴곡특성(Crack)으로 하였다.
(5) 투과도 및 헤이즈: 실시예 및 비교예에 따라 제조된 최종 필름을 50㎜ × 50㎜로 잘라 MURAKAMI社의 헤이즈미터(모델명: HM-150) 장비를 이용하여 ASTM D1003에 따라 투과도 및 헤이즈를 5회 측정하여 그 평균 값을 확인하였다.
연필경도 컬(㎜) 내스크래치성 굴곡성(R) 투과도(%) 헤이즈(%)
실시예 1 5H 0 양호 1.9 91.5 1.0
실시예 2 5H 0 양호 1.5 91.5 1.0
실시예 3 5H 0 양호 3.0 91.5 1.0
실시예 4 5H 5 양호 2.2 91.5 1.0
실시예 5 5H 3 양호 2.0 91.5 1.0
실시예 6 5H 0 양호 1.3 91.5 1.0
실시예 7 5H 0 양호 1.2 91.5 1.0
실시예 8 5H 5 양호 1.6 91.5 1.0
실시예 9 5H 5 양호 1.4 91.5 1.0
실시예 10 5H 0 양호 1.7 91.5 1.0
실시예 11 5H 0 양호 1.8 91.5 1.0
실시예 12 5H 0 양호 1.1 91.5 1.0
실시예 13 5H 0 양호 1.5 91.5 1.0
실시예 14 5H 4 양호 1.8 91.5 1.0
비교예 1 4H 50 NG 3.5 91.5 1.0
비교예 2 5H 110 양호 5.1 91.5 1.0
비교예 3 5H 90 양호 3.8 91.5 1.0
상기 표 1을 통해 알 수 있듯이, 실록산 수지 합성시에 T 구조의 알콕시 실란이나 D 구조의 알콕시 실란이 사용되지 않은 비교예 1 내지 3의 경우 실시예 1 내지 14에 비하여 굴곡반경(R)이 3.0㎜을 초과하여 유연성이 현저하게 저하되거나, 컬 특성이 매우 저조하게 나타나는 것으로 확인되었다.
특히, 에폭시 반응기를 포함하는 KBM-403를 사용한 비교예 1과 동등 수준으로 KBM-403를 사용한 실시예 3을 대비해 보면, D 구조의 알콕시 실란을 포함하는 실시예 3이 비교예 1보다 경도뿐만 아니라 컬과 굴곡성도 모두 향상되었음을 알 수 있었다.
또한, 아크릴 반응기를 포함하는 KBM-503를 사용한 비교예 2와 실시예 4, 5, 8, 9 및 14를 비교해 보면, 알콕시 실란 또는 디올을 포함하는 실시예 4, 5, 8, 9 및 14가 연필경도, 컬, 내스크래치성 및 굴곡성 모두 우수한 효과를 보임을 알 수 있었다.
또한, 실시예 중에서도 D 구조의 알콕시 실란을 포함하는 실시예 2, 5, 7 및 9가 T 구조의 알콕시 실란을 포함하는 실시예 1, 4, 6 및 8에 비하여 굴곡성이 좀 더 좋아지는 경향을 보였다.
또한, 실시예 중에서도 에폭시 반응기를 포함하는 KBM-403를 사용한 실시예 1, 2, 6 및 7이 아크릴 반응기를 포함하는 KBM-503를 사용한 실시예 4, 5, 8 및 9에 비하여 컬과 굴곡성이 좀 더 향상되는 경향을 보였다.
또한, 실시예 중에서도 디올을 포함하는 실시예 6 내지 9 및 12가 디올을 포함하지 않은 실시예보다 굴곡성이 좀 더 좋아지는 경향을 보였다.
상기 실시예를 통해 확인할 수 있는 바와 같이, 본 발명의 코팅용 수지 조성물은 실록산 수지 중합시 실란 D 구조의 디알콕시실란(Dialkoxysilane) 내지 실란 T 구조의 트리알콕시실란(Trialkoxysilane)의 도입함으로써 분자 결합의 유연성을 확보하여 표면 경도의 저하없이 경화시 컬 특성과 유연성을 극대화할 수 있는 것이다.
본 발명은 광학, 투명, 플렉서블 디스플레이 산업의 핵심소재로 많은 활용이 되는 투명 고분자 필름에 적용될 수 있다.

Claims (13)

  1. 하기 화학식 1로 표시되는 알콕시 실란; 및
    하기 화학식 2와 화학식 3으로 각각 표시되는 알콕시 실란 중 선택된 1종 이상의 알콕시 실란을 포함하는 화합물로부터 화학 결합된 실록산 수지를 포함하는 코팅용 수지 조성물.
    <화학식 1>
    R1 nSi(OR2)4-n
    상기 화학식 1에서 R1은 에폭시 또는 아크릴이 치환된 C1~C3의 선형, 분지형 또는 지환형 알킬렌기이고, R2는 C1~C8의 선형, 분지형 또는 지환형 알킬기며, n은 1 내지 3의 정수이다.
    <화학식 2>
    R3Si(OR4)3
    상기 화학식 2에서 R3 및 R4는 각각 독립적으로 C1~C4의 선형 또는 분지형 알킬기이다.
    <화학식 3>
    R5 2Si(OR6)2
    상기 화학식 3에서 R5 및 R6는 각각 독립적으로 C1~C4의 선형 또는 분지형 알킬기이다.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 화학식 2와 화학식 3으로 표시되는 알콕시 실란 중 선택된 1 종 이상의 알콕시 실란은 화학식 1로 표시되는 알콕시 실란 총 100몰에 대해 10 내지 100 몰%의 몰 비로 포함되는 것을 특징으로 하는 코팅용 수지 조성물.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 실록산 수지는 상기 화학식 2로 표시되는 알콕시 실란과 화학식 3으로 표시되는 알콕시 실란 모두를 포함하는 화합물로부터 화학 결합된 것을 특징으로 하는 코팅용 수지 조성물.
  4. 제 3 항에 있어서, 상기 화학식 2로 표시되는 알콕시 실란과 화학식 3으로 표시되는 알콕시 실란의 몰 비는 1:0.1 내지 10 인 것을 특징으로 하는 코팅용 수지 조성물.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 실록산 수지는 하기 화학식 4로 표시되는 다이올(diol)을 더 포함하는 화합물로부터 화학 결합된 것을 특징으로 하는 코팅용 수지 조성물.
    <화학식 4>
    HO(CH2)nOH
    상기 화학식 4에서 n은 1 내지 10의 정수이다.
  6. 제 5 항에 있어서, 상기 다이올(diol)은 화학식 1로 표시되는 알콕시 실란 총 100 몰에 대해 10 내지 150 몰%의 몰 비로 포함되는 것을 특징으로 하는 코팅용 수지 조성물.
  7. 제 1 항에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 알콕시 실란은 3-글리시독시프로필 트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필 트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필 트리프로폭시실란, 3-메타아크릴옥시프로필 트리메톡시실란, 3-메타아크릴옥시프로필 트리에톡시실란, 3-아크릴옥시프로필 트리메톡시실란, 3-아크릴옥시프로필 트리에톡시실란, 3-아크릴옥시프로필 트리프로폭시실란, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리에톡시실란 및 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리프로폭시실란 중 선택된 적어도 하나인 것임을 특징으로 하는 코팅용 수지 조성물.
  8. 제 1 항에 있어서, 상기 실록산 수지는 중량평균 분자량이 1,000 내지 10,000 이고, 분자량 분포도는 1.2 내지 2.7 인 것임을 특징으로 하는 코팅용 수지 조성물.
  9. 제 1 항에 있어서, 상기 코팅용 수지 조성물은 유기용매, 광개시제, 열개시제, 산화방지제, 레벨링제 및 코팅조제로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 첨가물을 더 포함하는 것임을 특징으로 하는 코팅용 수지 조성물.
  10. 기재필름; 및
    상기 기재필름의 적어도 일면에 적층되며, 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항의 코팅용 수지 조성물의 경화물을 코팅층으로 포함하는 코팅 필름.
  11. 제 10 항에 있어서, 상기 코팅 필름은 코팅층이 형성된 방향으로의 표면 경도가 ASTM D3363 측정 기준으로 5H 이상인 것을 특징으로 하는 코팅 필름.
  12. 제 10 항에 있어서, 상기 코팅 필름은 코팅 두께 10 내지 50㎛ 기준으로 필름의 모서리가 평면바닥으로부터 이격되는 거리(curl)가 10㎜ 이하인 것을 특징으로 하는 코팅 필름.
  13. 제 10 항에 있어서, 상기 코팅필름은 코팅 두께 10 내지 50㎛ 기준으로 굴곡측정기(JIRBT-620-2)의 라디우스 모드를 이용하여 측정한 굴곡반경이 5.0㎜ 이하인 것을 특징으로 하는 코팅 필름.
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