WO2019021858A1

WO2019021858A1 - 露光装置および露光方法

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Publication number: WO2019021858A1
Application number: PCT/JP2018/026490
Authority: WO
Inventors: 哲人奥村; 善規元田; 宏昭宮地
Original assignee: 凸版印刷株式会社
Priority date: 2017-07-25
Filing date: 2018-07-13
Publication date: 2019-01-31
Also published as: CN110945430A; CN110945430B; KR20200029485A; KR102547257B1; TWI770239B; TW201909241A; US10866521B2; US20200124974A1

Abstract

露光装置１００は、第１の露光光Ｌ１Ａ、Ｌ１Ｂを発生する主照明光源２と、平面視において第１の軸線を中心として千鳥配列された複数の開口部が形成された視野絞り３と、第１の露光光Ｌ１Ａ、Ｌ１Ｂによる光像を、それぞれ被露光体６に投影する複数の第１の投影光学系と、主照明光源２に対して第１の方向に隣り合うように配置され、フォトマスク１に照射する第２の露光光Ｌ２Ａ、Ｌ２Ｂを発生する追加露光用照明光源１２と、補正露光部と、を備え、前記絞り部材には、複合開口領域ｒＣと、単独開口領域ｒＳと、が第２の方向において交互に形成され、前記補正露光部は、光量補正領域に限って、第２の露光光Ｌ１２Ａ、Ｌ１２Ｂを被露光体６に照射する。

Description

露光装置および露光方法

　本発明は、露光装置および露光方法に関する。
　本願は、２０１７年７月２５日に日本に出願された特願２０１７－１４３４９０号、および特願２０１７－１４３４４３号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。

　例えば液晶装置などに用いられる大型基板にパターン形成を行う装置として走査型露光装置が知られている。
　このような走査型露光装置の一例としては、特許文献１に記載の露光装置が挙げられる。
　特許文献１に記載の露光装置では、照明光でマスクを照明し、マスクに形成されたパターンの像を複数の投影光学系によって被露光体であるプレートに露光する。
　マスクとプレートとは、同期して同速度で、投影光学系に対してＸ方向に移動することができる。投影光学系は、それぞれ正立等倍実結像系で構成され、Ｘ方向に直交するＹ方向に沿って千鳥配列されている。
　照明光は、各投影光学系の各光軸上に配列された複数の視野絞りを通して、マスクに照射される。各視野絞りは、Ｘ方向において二辺が対向する平行四辺形の形状を有する。各視野絞りは、Ｙ方向における対辺が、走査方向であるＸ方向から見て重なる位置関係に配置されている。
　各投影光学系は、マスクに形成されたパターンの画像を、平面視において千鳥配列された複数の平行四辺形状の光像として、プレートに投影する。しかし、各投影光学系に対してマスクおよびプレートがＸ方向に移動することによって、各光像がプレートの表面をＸ方向に走査する。このため、Ｘ方向の走査が終了すると、マスクの全面の画像によってプレートが露光される。
　このような露光装置では、走査方向において、第１の領域と、第２の領域とが発生する。第１の領域では、単一の視野絞りを通過した光によって露光される。第２の領域では、Ｙ方向に隣り合う２つの視野絞りを通過した光によって露光される。各視野絞りの形状および配列は、第１の領域における走査露光量と、第２の領域における走査露光量とが等しくなるように設定されている。
　特許文献１の露光装置は、照度センサによって、照明光の照明強度も各視野絞り上で光強度が均一になるように制御する。
　このような露光装置は、マスクに形成されたパターンを、プレートに正確に転写することによって、マスクのパターンをプレート上に複製している。

　特許文献２に記載の投影露光方法では、走査型露光装置において、投影光学系の投影領域の重ね合わせ誤差に起因する「画面分かれ」を抑制することを目的としている。このため、特許文献２には、レクチルのパターンの描画位置と基板の搬送位置とを光学系の光軸に垂直かつ走査方向に垂直な方向に所定量ずらすことが記載されている。

日本国特開平１１－１６０８８７号公報日本国特開平１０－６２８０９号公報

　しかしながら、上記のような従来の走査型露光装置では、種々の要因によって、マスクにおけるパターンとプレート上の露光パターンとの間に、製造誤差が生じる。
　例えば、マスクに均一性が高い格子状パターンを有する場合、個々のパターンの線幅同士を比較しても視認困難な変動であっても、一定の領域における線幅が全体的に変化している場合がある。この場合、容易に視認することのできる格子状パターンの濃淡むらが発生する可能性がある。例えば、液晶装置に用いられるカラーフィルタのブラックマトリクスパターンなどは、特にこのようなムラが視認されやすい。
　このため、露光装置の走査方向に沿って発生するパターンの線幅などの変動は抑制されることが好ましい。
　本願の発明者らは、上述のような走査型露光装置において、各視野絞りに対応する各露光光量を正確に一致させても、視野絞りの配置ピッチに対応するピッチでパターンの濃度むらが発生する現象を発見した。発明者らがこの現象を鋭意検討したところ、この濃度むらは、走査方向に延びる帯状の領域でパターンの線幅がわずかに狭くなっているために発生していることが分かった。さらに、濃度むらが発生する領域は、隣り合う視野絞りによる露光領域が重なる継ぎ目領域であることも分かった。
　この問題は、複数の投影光学系を用いる走査型露光装置に特有の問題である。例えば、液晶装置の高精細化などの要求が高まるにつれて、このような線幅のむらをさらに低減していく技術が強く求められている。
　このような継ぎ目領域における濃度むらは、例えば、特許文献２における「画面分かれ」とは異なる現象であり、特許文献２に記載の方法では解決されない。

　本発明は、上記のような問題に鑑みてなされたものであり、千鳥配列された複数の投影光学系を用いる場合に、露光領域の継ぎ目に起因する露光むらを低減することができる露光装置および露光方法を提供することを目的とする。

　上記の課題を解決するために、本発明の第１の態様に係る露光装置は、第１の露光光を発生する第１の光源と、平面視において第１の軸線を中心として千鳥配列された複数の開口部が形成され、前記第１の光源と露光用フォトマスクとの間に前記複数の開口部が位置するように配置された絞り部材と、前記絞り部材の前記複数の開口部のそれぞれと対向して配置され、前記複数の開口部のそれぞれを透過した前記第１の露光光による光像を、それぞれ露光対象物に投影する複数の第１の投影光学系と、前記第１の光源に対して前記第１の軸線に沿う第１の方向に隣り合うように配置され、前記露光用フォトマスクに照射する第２の露光光を発生する第２の光源と、前記露光用フォトマスクから前記露光対象物までの間の前記第２の露光光の光路上に配置された補正露光部と、を備え、前記複数の開口部の前記第１の方向の開口幅が、平面視で前記第１の軸線に交差する第２の軸線に沿う第２の方向において一定であり、前記絞り部材には、前記第１の方向において前記複数の開口部のうちの２つが間をあけて隣り合う複合開口領域と、前記第１の方向において前記複数の開口部のうちの１つが開口する単独開口領域と、が前記第２の方向において交互に形成されており、前記補正露光部は、前記露光用フォトマスクを透過した前記第２の露光光の前記露光対象物への照射範囲を、平面視において前記第２の方向における前記複合開口領域の幅が前記第１の方向に延長された領域である光量補正領域に限って前記第２の露光光を照射する。

　上記第１の態様の露光装置においては、前記補正露光部は、前記光量補正領域における前記第２の露光光の前記第１の方向における積算光量を、前記第２の方向における前記光量補正領域の両端部よりも中心部が高くなるように前記第２の露光光を照射してもよい。

　上記第１の態様の露光装置においては、前記補正露光部は、前記第２の露光光を前記露光対象物に向けて投影する第２の投影光学系と、前記露光用フォトマスクと前記露光対象物との間で、前記第２の露光光を前記光量補正領域の範囲に規制する光透過量規制部材と、を備えてもよい。

　上記第１の態様の露光装置においては、前記光透過量規制部材は、前記第２の投影光学系と前記露光対象物との間に配置されてもよい。

　上記第１の態様の露光装置においては、前記光透過量規制部材は、光減衰フィルタを含んでもよい。

　上記第１の態様の露光装置においては、前記光透過量規制部材は、開口絞りを含んでもよい。

　上記第１の態様の露光装置においては、前記光透過量規制部材は、液晶シャッターを含んでもよい。

　本発明の第２の態様に係る露光方法は、平面視において第１の軸線を中心として千鳥配列された複数の開口部が形成された絞り部材を準備することと、前記絞り部材の前記複数の開口部を透過する第１の露光光を、露光用フォトマスクおよび露光対象物に対して前記第１の軸線に沿う第１の方向に相対走査することによって、前記第１の露光光による前記露光用フォトマスクの光像を前記露光対象物に投影する第１の露光を行うことと、前記第１の露光の前または後に、第２の露光光を、前記露光用フォトマスクに照射し、前記露光用フォトマスクを透過した前記第２の露光光を前記露光用フォトマスクおよび前記露光対象物に対して前記第１の方向に相対走査することによって、前記第２の露光光による前記露光用フォトマスクの光像を前記露光対象物に投影する第２の露光を行うことと、を含み、前記複数の開口部の前記第１の方向の開口幅が、平面視で前記第１の軸線に交差する第２の軸線に沿う第２の方向において一定であり、前記絞り部材には、前記第１の方向において前記複数の開口部のうちの２つが間をあけて隣り合う複合開口領域と、前記第１の方向において前記複数の開口部のうちの１つが開口する単独開口領域と、が前記第２の方向において交互に形成されており、前記第２の露光を行う際に、平面視において前記第２の方向における前記複合開口領域の幅が前記第１の方向に延長された領域である光量補正領域に限って前記第２の露光光を前記露光対象物に照射する。

　本発明の第３の態様に係る露光装置は、露光光を発生する光源と、平面視において第１の軸線を中心として千鳥配列された複数の開口部が形成され、前記光源と露光用フォトマスクとの間に前記複数の開口部が位置するように配置された絞り部材と、前記絞り部材の前記複数の開口部のそれぞれと対向して配置され、前記複数の開口部のそれぞれを透過した前記露光光による光像を、それぞれ露光対象物に投影する複数の投影光学系と、前記光源から前記露光対象物までの間の前記露光光の光路上に配置された光透過量低減部材と、を備え、前記複数の開口部の前記第１の軸線に沿う第１の方向の開口幅が、平面視で前記第１の軸線に交差する第２の軸線に沿う第２の方向において一定であり、前記絞り部材には、前記第１の方向において前記複数の開口部のうちの２つが間をあけて隣り合う複合開口領域と、前記第１の方向において前記複数の開口部のうちの１つが開口する単独開口領域と、が前記第２の方向において交互に形成されており、光透過量低減部材は、平面視にて少なくとも前記単独開口領域とそれぞれ重なる前記露光対象物上の光量補正領域に照射される前記露光光の光量を低減する。

　上記第３の態様の露光装置においては、前記光透過量低減部材は、平面視にて少なくとも前記単独開口領域と重なる前記露光対象物上の第１の光量補正領域に照射される前記露光光の光量を低減する第１の光透過量低減部と、前記第１の光透過量低減部と前記第２の方向において隣接して設けられ、平面視にて前記複合開口領域と重なる前記露光対象物上の第２の光量補正領域に照射される前記露光光の光量を低減する第２の光透過量低減部と、を備えてもよい。

　上記第３の態様の露光装置においては、前記第１の光透過量低減部は、前記露光光の透過率を均一に低下させる均一濃度フィルタを含み、前記第２の光透過量低減部は、前記第２の方向において前記第１の光透過量低減部と隣接する部位から離れるにつれて前記露光光の透過率が増大する傾斜濃度フィルタを含んでいてもよい。

　上記第３の態様の露光装置においては、前記光透過量低減部材は、前記投影光学系と前記露光対象物との間に配置されてもよい。

　本発明の第４の態様に係る露光方法は、平面視において第１の軸線を中心として千鳥配列された複数の開口部が形成された絞り部材を準備することと、前記絞り部材の前記複数の開口部を透過する露光光を、露光用フォトマスクおよび露光対象物に対して前記第１の軸線に沿う第１の方向に相対走査することによって、前記露光光による前記露光用フォトマスクの光像を前記露光対象物に投影する露光を行うことと、を含み、前記複数の開口部の前記第１の方向の開口幅が、平面視で前記第１の軸線に交差する第２の軸線に沿う第２の方向において一定であり、前記絞り部材には、前記第１の方向において前記複数の開口部のうちの２つが間をあけて隣り合う複合開口領域と、前記第１の方向において前記複数の開口部のうちの１つが開口する単独開口領域と、が前記第２の方向において交互に形成されており、前記露光を行う際に、前記露光光を発生する光源から前記露光対象物までの間の前記露光光の光路上に配置される光透過量低減部材により、平面視にて少なくとも前記単独開口領域とそれぞれ重なる前記露光対象物上の光量補正領域に照射される前記露光光の光量を低減する。

　本発明の露光装置および露光方法によれば、千鳥配列された複数の投影光学系を用いる場合に、露光領域の継ぎ目に起因する露光むらを低減することができる。

本発明の第１の実施形態の露光装置の一例を示す模式的な正面図である。図１におけるＡ視の平面図である。本発明の第１の実施形態の露光装置に用いる露光用フォトマスクの一例を示す模式的な平面図である。本発明の第１の実施形態の露光装置に用いる露光用フォトマスクのマスクパターンの一例を示す模式的な拡大図である。本発明の第１の実施形態の露光装置に用いられる視野絞りの一例を示す模式的な平面図である。視野絞りの変形例を示す模式的な平面図である。本発明の第１の実施形態の露光装置に用いられる補正用露光部の一例を示す模式的な部分断面図である。本発明の第１の実施形態の露光装置に用いられる光透過量規制部材の一例を示す模式的な平面図である。図７におけるＢ－Ｂ線に沿う透過率分布を示す模式的なグラフである。本発明の第１の実施形態の露光方法における第１の露光について説明する模式図である。第１の露光における露光時間の比率について説明する模式図である。第１の露光における実効的な露光量について説明する模式図である。本発明の第１の実施形態の露光方法における第２の露光について説明する模式図である。第２の露光における実効的な積算光量について説明する模式的なグラフである。第１の露光および第２の露光による実効的な全露光量について説明する模式的なグラフである。本発明の第２の実施形態の露光装置の主要部の一例を示す模式的な平面図である。図１４ＡのＤ－Ｄ断面図である。本発明の第２の実施形態の露光装置に用いられる光透過量規制部材の一例を示す模式的な平面図である。図１５におけるＥ－Ｅ線に沿う透過率分布を示す模式的なグラフである。本発明の第３の実施形態の露光装置の一例を示す模式的な正面図である。図１７ＡのＦ視の平面図である。本発明の第４の実施形態の露光装置の一例を示す模式的な正面図である。図１８ＡのＧ視の平面図である。本発明の第５の実施形態の露光装置に用いる光透過量規制部材の一例を示す模式的な平面図である。本発明の第５の実施形態の露光装置に用いる光透過量規制部材の一例を示す模式的な平面図である。本発明の第６の実施形態の露光装置に用いる光透過量規制部材の一例を示す模式的な平面図である。本発明の第６の実施形態の露光装置に用いる光透過量規制部材の一例を示す模式的な平面図である。本発明の第７の実施形態の露光装置に用いる光透過量規制部材の主要部の一例を示す模式的な平面図である。本発明の第７の実施形態の露光装置に用いる光透過量規制部材の主要部の一例を示す模式的な平面図である。本発明の第７の実施形態の露光装置に用いる光透過量規制部材の主要部の一例を示す模式的な平面図である。本発明の第８の実施形態の露光装置に用いる光透過量規制部材の一例を示す模式的な部分断面図である。図２４ＡのＨ視の拡大図である。本発明の第９の実施形態の露光装置の一例を示す模式的な正面図である。図２５におけるＪ視の平面図である。本発明の第９の実施形態の露光装置の主要部の構成を示す模式的な部分断面図である。本発明の第９の実施形態の露光装置に用いられる光透過量低減部材の一例を示す模式的な平面図である。図２８におけるＫ－Ｋ線に沿う透過率分布を示す模式的なグラフである。本発明の第９の実施形態の露光装置における露光について説明する模式図である。本発明の第９の実施形態の露光装置の露光における積算光量について説明する模式的なグラフである。本発明の第１０の実施形態の露光装置に用いられる光透過量低減部材の一例を示す模式的な平面図である。図３２におけるＮ－Ｎ線に沿う透過率分布を示す模式的なグラフである。本発明の第１０の実施形態の露光装置の露光における積算光量について説明する模式的なグラフである。本発明の第１１の実施形態の露光装置に用いられる光透過量低減部材の一例を示す模式的な平面図である。図３５におけるＱ－Ｑ線に沿う透過率分布を示す模式的なグラフである。本発明の第１１の実施形態の露光装置の露光における積算光量について説明する模式的なグラフである。本発明の第１１の実施形態の変形例の露光装置の光透過量低減部材の透過率分布を示す模式的なグラフである。本発明の第１１の実施形態の変形例の露光装置の露光における積算光量について説明する模式的なグラフである。

　以下では、本発明の実施形態について添付図面を参照して説明する。すべての図面において、実施形態が異なる場合であっても、同一または相当する部材には同一の符号を付し、共通する説明は省略する。

［第１の実施形態］
　本発明の第１の実施形態の露光装置について説明する。
　図１は、本発明の第１の実施形態の露光装置の一例を示す模式的な正面図である。図２は、図１におけるＡ視の平面図である。図３は、本発明の第１の実施形態の露光装置に用いる露光用フォトマスクの一例を示す模式的な平面図である。図４は、本発明の第１の実施形態の露光装置に用いる露光用フォトマスクのマスクパターンの一例を示す模式的な拡大図である。図５Ａ、図５Ｂは、本発明の第１の実施形態の露光装置に用いられる視野絞りの一例を示す模式的な平面図である。

　図１、２に示す露光装置１００は、複数の投影光学系によって、フォトマスク１（露光用フォトマスク）の露光用パターンを被露光体６（露光対象物）に等倍走査露光する走査型露光装置である。
　露光装置１００の詳細構成について説明する前に、フォトマスク１の一例について説明する。

　図３に示すように、フォトマスク１は、光透過性基板１Ａと、マスク部１Ｂと、を備える。
　光透過性基板１Ａとしては、露光装置１００の照明光を透過できる光透過性を有する適宜の基板の使用が可能である。例えば、光透過性基板１Ａは、ガラス基板によって構成されてもよい。光透過性基板１Ａの外形は特に限定されない。図３に示す例では、光透過性基板１Ａの外形は平面視において矩形状である。

　マスク部１Ｂは、露光装置１００によって被露光体６に投影される露光用パターンとなるマスクパターンＰを備える。マスクパターンＰは、例えば、光透過性基板１Ａ上に積層された金属などの遮光層がパターニングされて構成される。
　等倍露光の露光装置１００に用いるマスクパターンＰは、被露光体６に形成する露光パターンと同一の形状にすればよい。
　マスクパターンＰは、光透過性基板１Ａの表面において、光透過性基板１Ａの長辺に沿うｙ方向と、光透過性基板１Ａの短辺に沿うｘ方向と、に２次元的に形成されている。
　光透過性基板１Ａ上におけるマスクパターンＰの位置を記述するため、ｘ方向にはｘ座標軸が、ｙ方向にはｙ座標軸がそれぞれ設定されている。図３では、一例として、光透過性基板１Ａの外形の一頂点を原点Ｏとするｘ座標軸とｙ座標軸とが設定されている。ただし、ｘｙ座標系の原点Ｏは、光透過性基板１Ａにおける適宜の位置に設定されていてもよい。

　マスクパターンＰの具体的な形状は、露光パターンに必要な適宜の形状である。
　以下では、マスクパターンＰの一例として、平面視において光透過部の形状が矩形格子の場合の例で説明する。このような矩形格子状の露光パターンは、例えば、液晶装置におけるカラーフィルタに用いられるブラックマトリクス（ＢＭ）を形成するために用いられてもよい。

　図４にマスクパターンＰの拡大図を示す。
　マスクパターンＰは、平面視において矩形状の複数の遮光部１ｂが、ｘ方向およびｙ方向において矩形格子状に配列されている。例えば、遮光部１ｂの配列ピッチは、ｘ方向ではＰ_ｘ、ｙ方向ではＰ_ｙである。例えば、フォトマスク１がＢＭ形成用の場合には、ピッチＰ_ｘ（Ｐ_ｙ）は、ｘ方向（ｙ方向）におけるサブ画素の配列ピッチに一致している。
　各遮光部１ｂの間には、光透過性基板１Ａ（図３参照）の表面が露出した光透過部１ａが形成されている。光透過部１ａは、ｘ方向に延びる第１線状部１ａ_ｘと、ｙ方向に延びる第２線状部１ａ_ｙとに分けられる。
　第１線状部１ａ_ｘは、一定の線幅Ｌ_１ｙを有する。同じく第２線状部１ａ_ｙは、一定の線幅Ｌ_１ｘを有する。例えば、フォトマスク１がＢＭ形成用の場合には、線幅Ｌ_１ｙ、Ｌ_１ｘは、それぞれ、ｙ方向、ｘ方向におけるＢＭの線幅に等しい。

　ここで、露光装置１００の説明に戻る。
　図１、２に示すように、露光装置１００は、ベース７、第２の駆動部１１、第１の駆動部１０、主照明光源２（第１の光源）、視野絞り３（絞り部材）、投影光学ユニット５、追加露光用照明光源１２（第２の光源）、および追加露光用投影光学ユニット９（補正露光部）を備える。

　ベース７は、被露光体６を載置するため、横方向（本実施形態では水平方向）に配置された平坦な上面７ａを有している。図１に示すように、ベース７は、第２の駆動部１１によって横方向のうちＹ方向（第１の方向、図示左側から右側に向かう方向）に移動可能に支持されている。第２の駆動部１１の構成は特に限定されない。例えば、第２の駆動部１１は、Ｙ方向において往復移動可能な１軸ステージで構成されてもよい。ただし、第２の駆動部１１は、ベース７を水平面においてＹ方向に直交（交差）するＸ方向（第２の方向、図１における紙面奥から手前に向かう方向）に移動できるように構成されてもよい。
　図２に示すように、本実施形態では、ベース７の移動方向は、横方向のうちＹ方向（図２の左から右に向かう方向）に延びる軸線Ｏ_５（第１の軸線）に沿う方向である。
　第２の駆動部１１は、図示二点鎖線で示すように、ベース７をＹ方向における移動限度まで移動した後、ベース７をＹ方向と反対に移動して移動開始位置に戻すことができる。

　被露光体６には、露光装置１００によって、フォトマスク１のマスクパターンＰの光像に基づいた露光パターンが露光される。被露光体６は、上面７ａよりも小さく、フォトマスク１以下の大きさの矩形板状に形成されている。被露光体６は、その長手方向がＹ方向と一致するように、上面７ａ上に載置される。
　被露光体６は、適宜の基板上に、フォトリソグラフィを行うための感光性のレジストが塗布されて構成される。

　図１に示すように、露光装置１００において、フォトマスク１は、ベース７に載置された被露光体６と上下方向（本実施形態では鉛直方向）において対向する位置に配置される。フォトマスク１は、第１の駆動部１０によって駆動可能に設けられた支持部（不図示）によって支持される。第１の駆動部１０は、支持部（不図示）をベース７の上面７ａと一定の間隔を保つように、ベース７と同期して横方向に平行移動できるようになっている。第１の駆動部１０は、第２の駆動部１１と同様、Ｙ方向に移動可能な１軸ステージ、ＸＹ方向に移動可能な２軸ステージなどが用いられてもよい。
　露光装置１００におけるフォトマスク１は、ｙ座標軸の正方向がＹ方向と反対向きとされ、ｘ座標軸がＸ方向に沿うように配置される。

　主照明光源２は、被露光体６を露光するため、被露光体６上のレジストを感光させる波長を有する照明光（第１の露光光）を発生する。主照明光源２は、フォトマスク１の移動領域の上方において支持部材（不図示）によって固定支持されている。主照明光源２は、下方に照明光を照射する。

　視野絞り３は、上下方向において、主照明光源２と、フォトマスク１の移動領域との間に配置される。視野絞り３は、支持部材（不図示）によって固定支持されている。視野絞り３は、主照明光源２が照射する照明光を整形し、照明光を複数の照明領域に分割する。
　図５Ａに示すように、視野絞り３は、複数の第１開口部（開口部）３Ａと、複数の第２開口部（開口部）３Ｂと、を有する。複数の第１開口部３Ａは、Ｘ方向にｗ_１＋ｗ_２（ただし、ｗ_１＜ｗ_２）のピッチで配列されている。複数の第２開口部３Ｂは、複数の第１開口部３Ａに対してＹ方向にΔ（ただしΔ＞ｈ／２）だけ平行にずれた軸線上でＸ方向にｗ_１＋ｗ_２のピッチで配列されている。

　平面視において第１開口部３Ａの形状は、頂角が直角でない等脚台形である。第１開口部３Ａは、第１辺３ａ、第２辺３ｂ、第３辺３ｃ、および第４辺３ｄで構成される。第１辺３ａは等脚台形の上底であり、第２辺３ｂは等脚台形の下底である。第１辺３ａ、第２辺３ｂの長さはそれぞれｗ_１、ｗ_２である。第１辺３ａ、第２辺３ｂは、互いに平行に配置されており、Ｙ方向において等脚台形の高さｈだけ離れている。第３辺３ｃ、第４辺３ｄは、Ｘ方向においてこの順に配置された等脚台形の脚である。

　平面視において、第２開口部３Ｂの形状は、第１開口部３Ａを１８０°回転した形状である。Ｘ方向における第２開口部３Ｂの位置は、第１開口部３Ａに対して（ｗ_１＋ｗ_２）／２だけずれている。このため、第２開口部３Ｂは、Ｘ方向において２つの第１開口部３Ａの間の中間点に対向する位置に配置されている。
　このような配置により、第１開口部３Ａおよび第２開口部３Ｂは、Ｘ方向に延びる軸線Ｏ_３（第２の軸線）に沿って千鳥配列されている。
　Ｙ方向から見ると、第１開口部３Ａおよび第２開口部３Ｂにおける第３辺３ｃ同士と、第４辺３ｄ同士とは互いに重なっている。Ｙ方向から見ると、第１開口部３Ａの第１辺３ａ（第２辺３ｂ）における端部と、第２開口部３Ｂの第２辺３ｂ（第１辺３ａ）における端部と、は同じ位置にある。

　視野絞り３をＹ方向に見た時に、第１開口部３Ａまたは第２開口部３Ｂのいずれか一方のみが開口する領域を単独開口領域ｒ_Ｓとする。単独開口領域ｒ_Ｓでは、Ｙ方向における第１開口部３Ａまたは第２開口部３Ｂの開口幅は、Ｘ方向において一定である。すなわち、単独開口領域ｒ_ＳのＹ方向の開口幅は、等脚台形の高さｈである。
　Ｙ方向において、第１開口部３Ａおよび第２開口部３Ｂの両方が開口する領域を複合開口領域ｒ_Ｃとする。複合開口領域ｒ_Ｃでは、Ｙ方向において、第１開口部３Ａおよび第２開口部３Ｂが間を空けて隣り合っている。複合開口領域ｒ_Ｃでは、Ｙ方向において第１開口部３Ａおよび第２開口部３Ｂが開口しており、その合計の開口幅は、等脚台形の高さｈと等しく、Ｘ方向において一定である。
　このように、単独開口領域ｒ_ＳにおけるＹ方向の開口幅と、複合開口領域ｒ_ＣにおけるＹ方向の合計の開口幅と、は、等脚台形の高さｈと等しく、Ｘ方向において一定である。以降、等脚台形の高さｈを、開口幅（開口量）ｈと称する場合がある。
　単独開口領域ｒ_Ｓ、および複合開口領域ｒ_ＣはＸ方向に交互に配置されている。
　視野絞り３では、単独開口領域ｒ_ＳのＸ方向における幅はｗ_１、複合開口領域ｒ_ＣのＸ方向における幅は（ｗ_２－ｗ_１）／２である。

　視野絞り３における第１開口部３Ａおよび第２開口部３Ｂの形状、配置は、後述する投影光学ユニット５の配列の都合などによって、適宜の大きさに設定されればよい。以下に、第１開口部３Ａおよび第２開口部３Ｂに関する具体的な寸法例を示す。
　（ｗ_２－ｗ_１）／２は、例えば、１４ｍｍ以上１８ｍｍとされてもよい。開口幅ｈは、例えば、２５ｍｍ以上４５ｍｍとされてもよい。（ｗ_１＋ｗ_２）／２は、例えば、９５ｍｍ以上１００ｍｍ以下とされてもよい。Δは、例えば、２００ｍｍ以上３００ｍｍ以下とされてもよい。

　露光装置１００の視野絞り３は、例えば、図５Ｂに示す視野絞り４に置換されてもよい。
　視野絞り４は、複数の第１開口部（開口部）４Ａと、複数の第２開口部（開口部）４Ｂと、を有する。複数の第１開口部４Ａは、Ｘ方向に２ｗ_３のピッチで配列されている。複数の第２開口部４Ｂは、複数の第１開口部４Ａに対してＹ方向にΔだけ平行にずれた軸線上でＸ方向に２ｗ_２のピッチで配列されている。

　平面視において、第１開口部４Ａの形状は、頂角が直角でない平行四辺形である。第１開口部４Ａは、第１辺４ａ、第２辺４ｂ、第３辺４ｃ、および第４辺４ｄで構成される。第１辺４ａおよび第３辺４ｃは、Ｙ方向における対辺である。第３辺４ｃおよび第４辺４ｄは、Ｘ方向における対辺である。第１辺４ａ、第２辺４ｂの長さはそれぞれｗ_３である。第３辺４ｃ、第４辺４ｄを有する直角三角形のＸ方向の幅はそれぞれｗ_４（ただし、ｗ_４＜ｗ_３）である。

　平面視において、第２開口部４Ｂの形状は、第１開口部４Ａと同じである。Ｘ方向における第２開口部４Ｂの位置は、第１開口部４Ａに対してｗ_３だけずれている。このため、Ｘ方向において、第２開口部４Ｂは、２つの第１開口部４Ａの間の中間点に対向する位置に配置されている。
　このような配置により、第１開口部４Ａおよび第２開口部４Ｂは、Ｘ方向に延びる軸線Ｏ_４（第２の軸線）に沿って千鳥配列されている。
　Ｙ方向から見ると、第１開口部４Ａにおける第３辺４ｃ（第４辺４ｄ）と、第２開口部４Ｂにおける第４辺４ｄ（第３辺４ｃ）と、はそれぞれ互いに重なっている。Ｙ方向から見ると、第１開口部４Ａの第１辺４ａ（第２辺４ｂ）における端部と、第２開口部４Ｂの第１辺４ａ（第２辺４ｂ）における端部と、は同じ位置にある。

　視野絞り４をＹ方向に見た時に、第１開口部４Ａまたは第２開口部４Ｂのいずれか一方のみが開口する領域を単独開口領域ｒ_Ｓとする。単独開口領域ｒ_Ｓでは、Ｙ方向における第１開口部４Ａまたは第２開口部４Ｂの開口幅は、Ｘ方向において一定である。すなわち、単独開口領域ｒ_ＳのＹ方向の開口幅は、平行四辺形の高さｈである。
　Ｙ方向において、第１開口部４Ａおよび第２開口部４Ｂの両方が開口する領域を複合開口領域ｒ_Ｃとする。複合開口領域ｒ_Ｃでは、Ｙ方向において、第１開口部４Ａおよび第２開口部４Ｂが間を空けて隣り合っている。複合開口領域ｒ_Ｃでは、Ｙ方向において第１開口部４Ａおよび第２開口部４Ｂが開口しており、その合計の開口幅は、平行四辺形の高さｈと等しく、Ｘ方向において一定である。
　このように、単独開口領域ｒ_ＳにおけるＹ方向の開口幅と、複合開口領域ｒ_ＣにおけるＹ方向の合計の開口幅と、は、平行四辺形の高さｈと等しく、Ｘ方向において一定である。以降、平行四辺形の高さｈを、開口幅ｈと称する場合がある。
　単独開口領域ｒ_Ｓ、および複合開口領域ｒ_ＣはＸ方向に交互に配置されている。
　視野絞り４では、単独開口領域ｒ_ＳのＸ方向における幅は（ｗ_３－ｗ_４）、複合開口領域ｒ_ＣのＸ方向における幅はｗ_４である。
　以下では、特に断らない限り、露光装置１００が視野絞り３を備える場合の例で説明する。

　図１に示すように、投影光学ユニット５は、ベース７上の被露光体６よりも上方に配置されている。投影光学ユニット５と、視野絞り３とは上下方向で対向している。投影光学ユニット５と、視野絞り３との間にはフォトマスク１の移動領域が配置されている。投影光学ユニット５は、支持部材（不図示）によって固定支持されている。
　図２に示すように、投影光学ユニット５は、軸線Ｏ_３に沿って千鳥配列された複数の第１列投影光学系５Ａ（投影光学系、第１の投影光学系）と、複数の第２列投影光学系５Ｂ（投影光学系、第１の投影光学系）とを備える。

　第１列投影光学系５Ａ（第２列投影光学系５Ｂ）は、物体像を像面に正立等倍像として結像する結像光学系である。第１列投影光学系５Ａ（第２列投影光学系５Ｂ）は、フォトマスク１のマスクパターンＰと、レジストが塗布された被露光体６の上面と、を互いに共役な位置関係にする位置に配置される。本実施形態では、第１列投影光学系５Ａ（第２列投影光学系５Ｂ）から被露光体６に向かう出射光は、平行光束になっている。
　図５Ａに二点鎖線で示すように、第１列投影光学系５Ａは、第１開口部３Ａを透過する光の光像を被露光体６に投影できるように、第１開口部３Ａの下方に配置されている。第２列投影光学系５Ｂは、第２開口部３Ｂを透過する光の光像を被露光体６に投影できるように、第２開口部３Ｂの下方に配置されている。
　第１列投影光学系５Ａ（第２列投影光学系５Ｂ）は、第１開口部３Ａ（第２開口部３Ｂ）を透過する光による光像を正立等倍像として、被露光体６に投影する。このため、第１開口部３Ａ（第２開口部３Ｂ）における単独開口領域ｒ_Ｓ、複合開口領域ｒ_Ｃの光像も、それぞれに上下方向に対向する被露光体６上に投影される。

　第１列投影光学系５Ａおよび第２列投影光学系５Ｂは、第１開口部３Ａおよび第２開口部３Ｂと同様の千鳥配列の位置関係に配置される。このため、第１開口部３Ａおよび第２開口部３Ｂの間の間隔は、第１列投影光学系５Ａおよび第２列投影光学系５Ｂが互いに干渉しないような寸法とされている。第１開口部３Ａと第２開口部３Ｂとのｙ方向におけるピッチΔは、例えば、ｙ方向の開口幅ｈの６倍から８倍程度のような大きな値になる場合もある。

　図５Ｂに示すように、視野絞り３に代えて視野絞り４が用いられる場合には、第１列投影光学系５Ａは、第１開口部４Ａを透過する光の光像を被露光体６に投影できるように、第１開口部４Ａの下方に配置されている。第２列投影光学系５Ｂは、第２開口部４Ｂを透過する光の光像を被露光体６に投影できるように、第２開口部４Ｂの下方に配置されている。

　追加露光用照明光源１２は、被露光体６を露光するため、被露光体６上のレジストを感光させる波長を有する照明光（第２の露光光）を発生する。追加露光用照明光源１２は、フォトマスク１の移動領域の上方に配置されている。また、Ｙ方向において主照明光源２と隣り合う位置に、支持部材（不図示）によって固定支持されている。追加露光用照明光源１２は、下方に照明光を照射する。
　図示は省略するが、追加露光用照明光源１２は、適宜の遮光部材を備える。詳細は後述するが、遮光部材は、必要に応じて照明光を追加露光用投影光学ユニット９の各投影光学系のみに入射させる。

　図１に示すように、追加露光用投影光学ユニット９は、ベース７上の被露光体６と対向するように上方に配置されている。追加露光用投影光学ユニット９は、ベース７上の被露光体６とフォトマスク１の移動領域との間に配置されている。
　追加露光用投影光学ユニット９は、Ｙ方向において投影光学ユニット５と隣り合う位置に、支持部材（不図示）によって固定支持されている。
　図２に示すように、追加露光用投影光学ユニット９は、軸線Ｏ_３に平行な軸線Ｏ_９に沿って千鳥配列された複数の第１列投影光学系９Ａと、複数の第２列投影光学系９Ｂと、を備える。

　第２列投影光学系９Ｂは、第１列投影光学系９Ａと配置が異なるのみで第１列投影光学系９Ａと同様の構成を備える。以下では、第１列投影光学系９Ａの構成を中心として説明する。
　図６は、本発明の第１の実施形態の露光装置に用いられる補正用露光部の一例を示す模式的な部分断面図である。図７は、本発明の第１の実施形態の露光装置に用いられる光透過量規制部材の一例を示す模式的な平面図である。図８は、図７におけるＢ－Ｂ線に沿う透過率分布を示す模式的なグラフである。図８において横軸はＢ－Ｂ線に沿う位置、縦軸は透過率を表す。

　図６に示すように、第１列投影光学系９Ａは、レンズユニット９ａ（第２の投影光学系）、フィルタ９ｂ（光透過量規制部材、光減衰フィルタ）、およびフィルタホルダ９ｃを備える。
　レンズユニット９ａは、物体像を像面に正立等倍像として結像する結像光学系を構成するレンズと、レンズを保持する鏡筒と、を備える。レンズユニット９ａは、フォトマスク１のマスクパターンＰとレジストが塗布された被露光体６の上面とを互いに共役な位置関係にする位置に配置される。本実施形態では、レンズユニット９ａから被露光体６に向かう出射光は、平行光束になっている。
　レンズユニット９ａは、投影光学ユニット５における第１列投影光学系５Ａと異なる構成が用いられてもよい。ただし、本実施形態では、第１列投影光学系５Ａ、第２列投影光学系５Ｂと同様の構成が用いられている。
　例えば、第１列投影光学系９Ａのレンズユニット９ａは、第１列投影光学系５Ａと同様な構成が第１列投影光学系５ＡからＹ方向に距離δ１（図２参照）だけ平行移動した位置に配置されて構成されてもよい。同様に、第２列投影光学系９Ｂのレンズユニット９ａは、第２列投影光学系５Ｂと同様な構成が第２列投影光学系５Ｂから、Ｙ方向に距離δ１（図２参照）だけ平行移動した位置に配置されて構成されてもよい。

　フィルタ９ｂは、レンズユニット９ａを透過する第２の露光光Ｌ_２Ａ（Ｌ_２Ｂ）を、被露光体６上における光量補正領域Ｍに限って照射する第２の露光光Ｌ_１２Ａ（Ｌ_１２Ｂ）に変換する。ここで、被露光体６上における光量補正領域Ｍとは、平面視においてＸ方向における複合開口領域ｒ_Ｃの幅がＹ方向に延長された帯状の領域である。図７に示すように、平面視にてフィルタ９ｂと重なる光量補正領域Ｍのうち、Ｘ方向の負方向側（negative X direction側、Ｘ方向の一方側、図示左側）には光量補正領域Ｍ_Ｌが配置されている。また、Ｘ方向の正方向側（positive X direction側、Ｘ方向の他方側、図示右側）には光量補正領域Ｍ_Ｒが配置されている。
　本実施形態では、図７に示すように、フィルタ９ｂは、第１減光部９ｄ、第２減光部９ｅ、および遮光部９ｆを備える。
　第１減光部９ｄは、光量補正領域Ｍ_Ｌにおいて、Ｘ方向正方向側（図示右側）に片寄せされて配置されている。第１減光部９ｄのＸ方向における幅は、光量補正領域Ｍ_ＬのＸ方向における幅の半分である。
　第２減光部９ｅは、光量補正領域Ｍ_Ｒにおいて、Ｘ方向負方向側に片寄せされて配置されている。第２減光部９ｅのＸ方向における幅は、光量補正領域Ｍ_ＲのＸ方向における幅の半分である。
　このため、Ｙ方向に見ると、第１列投影光学系９Ａにおけるフィルタ９ｂの第１減光部９ｄと、第２列投影光学系９Ｂにおけるフィルタ９ｂの第２減光部９ｅとは、それぞれ、互いに重なり合うことなく、光量補正領域ＭのＸ方向における幅を隙間なく埋めるように配置されている。
　同様に、Ｙ方向に見ると、第１列投影光学系９Ａにおけるフィルタ９ｂの第２減光部９ｅと、第２列投影光学系９Ｂにおけるフィルタ９ｂの第１減光部９ｄとは、それぞれ、互いに重なり合うことなく、光量補正領域ＭのＸ方向における幅を隙間なく埋めるように配置されている。

　第１減光部９ｄ、第２減光部９ｅのＹ方向の長さは、フィルタ９ｂの範囲内であれば特に限定されない。
　フィルタ９ｂにおいて、第１減光部９ｄおよび第２減光部９ｅを除く領域は、透過率０％の遮光部９ｆになっている。

　本実施形態では、第１減光部９ｄ、第２減光部９ｅは、Ｘ方向において、図８に曲線２０１（実線参照）で示すような透過率分布を有する。
　図８の横軸における符号は、図７に記載されたＢ－Ｂ線上の同符号の点の位置を表す。
　点ａは、Ｂ－Ｂ線におけるフィルタ９ｂのＸ方向負方向側の端点である。点ｂから点ｄまでの区間は、光量補正領域Ｍ_Ｌと重なる区間である。点ｅから点ｇまでの区間は、光量補正領域Ｍ_Ｒと重なる区間である。点ｈは、Ｂ－Ｂ線におけるフィルタ９ｂのＸ方向正方向側の端点である。
　第１減光部９ｄは、点ｃから点ｄまでの間に配置されている。第２減光部９ｅは、点ｅから点ｆまでの間に配置されている。点ａから点ｂ、点ｄから点ｅ、および点ｇから点ｈまでの各区間は遮光部９ｆが配置されている。
　曲線２０１で示すように、第１減光部９ｄの透過率は、点ｃで１００％以下の最大値Ｔ_Ｌであり、点ｄに向かって漸次減少し、点ｄで０％となる透過率分布を有する。第２減光部９ｅの透過率は、点ｅで０％であり、点ｆに向かって漸次増大し、点ｆで最大値Ｔ_Ｌとなる透過率分布を有する。
　第１減光部９ｄ、第２減光部９ｅにおける透過率の変化率は、後述するように光量補正領域Ｍにおける光量補正の必要に応じて、例えば、実験、シミュレーションなどに基づいて設定される。第１減光部９ｄ、第２減光部９ｅにおける透過率の変化率は、一定（直線変化）でもよいし、適宜の関数に基づいて変化していてもよい。透過率の変化率は、単調でもよいし、非単調でもよい。さらに、透過率の変化は滑らかな変化には限定されない。例えば、透過率は、ステップ状に変化していてもよい。

　図６に示すように、フィルタホルダ９ｃは、フィルタ９ｂをレンズユニット９ａに対して一定位置に保持する。フィルタホルダ９ｃの中心部には、少なくとも第１、第２減光部９ｄ、９ｅを透過した第２の露光光Ｌ_１２Ａ（Ｌ_１２Ｂ）を透過させる貫通孔９ｇが形成されている。
　フィルタホルダ９ｃは、レンズユニット９ａに対して、下方から着脱可能に取り付けられている。フィルタホルダ９ｃの着脱手段は、フィルタ９ｂの第１減光部９ｄおよび第２減光部９ｅを平面視にて上述の光量補正領域Ｍの範囲と重なるように配置できれば、特に限定されない。例えば、レンズユニット９ａに対して周方向に位置決め可能な適宜のマウント、ネジ嵌合などが用いられてもよい。本実施形態では、レンズユニット９ａから出射される第２の露光光は、光軸に沿う平行光束であるため、光軸方向（上下方向）におけるフィルタ９ｂの位置合わせは、高精度に行われなくてもよい。

　フィルタホルダ９ｃによって、フィルタ９ｂの横方向の位置が位置合わせされた状態でフィルタ９ｂが保持される。これにより、フィルタ９ｂは、上述したように、各フィルタ９ｂの第１減光部９ｄおよび第２減光部９ｅが平面視にて光量補正領域Ｍと重なる位置関係に配置される。
　このため、図８に曲線２０１、および曲線２０２（二点鎖線参照）で示すように、Ｙ方向に見ると、光量補正領域Ｍ_ＬにＸ方向に重なる範囲において、第２列投影光学系９Ｂの第２減光部９ｅと第１列投影光学系９Ａの第１減光部９ｄとで、点ｃでピーク透過率Ｔ_Ｌを有する山型（釣り鐘型）の透過率分布が形成される。同様に、図８に曲線２０１、および曲線２０３（二点鎖線参照）で示すように、Ｙ方向に見ると、光量補正領域Ｍ_ＲにＸ方向に重なる範囲において、第１列投影光学系９Ａの第２減光部９ｅと第２列投影光学系９Ｂの第１減光部９ｄとで、点ｆでピーク透過率Ｔ_Ｌを有する山型（釣り鐘型）の透過率分布が形成される。

　次に、露光装置１００の動作について、本実施形態の露光方法を中心として説明する。
　本実施形態の露光方法は、露光装置１００を使用することによって好適に行われる。
　本実施形態の露光方法は、（１）視野絞り３を含む露光装置１００を準備することと、（２）第１の露光を行うことと、（３）第２の露光を行うことと、を含み、第２の露光を行う際に、平面視において光量補正領域Ｍに限って第２の露光光を被露光体６に照射する。

　露光装置１００では、フォトマスク１および被露光体６をＹ方向に移動することによって、被露光体６のｙ方向における各位置で、第１の露光と、第２の露光とが、順次おこなわれる。
　まず第１の露光に関する露光装置１００の露光動作について説明する。第１の露光は、主照明光源２、視野絞り３、および投影光学ユニット５を用いて行われる。
　図９は、本発明の第１の実施形態の露光方法における第１の露光について説明する模式図である。図１０Ａ、図１０Ｂは、第１の露光における実効的な露光量について説明する模式図である。

　図９には、投影光学ユニット５の下方に配置された被露光体６の先端部の一部が拡大して示されている。図９の図示には現れないが、視野絞り３と投影光学ユニット５との間には、被露光体６と対向した状態で、フォトマスク１が被露光体６と同期してＹ方向に移動される（図１参照）。
　図１に示すように、主照明光源２が点灯されると、第１の露光光Ｌ_１Ａ、Ｌ_１Ｂが視野絞り３に照射される。第１の露光光Ｌ_１Ａ、Ｌ_１Ｂは、視野絞り３の各第１開口部３Ａ、各第２開口部３Ｂ（図５Ａ参照）を透過し、フォトマスク１に照射される。
　フォトマスク１における光透過部１ａを透過した光のうち、第１開口部３Ａを通過した光は第１列投影光学系５Ａによって、第１の露光光Ｌ_１１Ａとして被露光体６に等倍投影される。同様に、第２開口部３Ｂを通過した光は第２列投影光学系５Ｂによって、第１の露光光Ｌ_１１Ｂとして被露光体６に等倍投影される。
　この結果、図９に示すように、被露光体６上には、第１開口部３Ａの光像である第１の光像１３Ａと、第２開口部３Ｂの光像である第２の光像１３Ｂとが結像される。第１の光像１３Ａおよび第２の光像１３Ｂでは、マスクパターンＰなどの物体像に対応する輝度分布が形成される。ただし、図９では簡単のため輝度分布の図示は省略されている。
　第１の光像１３Ａおよび第２の光像１３Ｂは、第１開口部３Ａおよび第２開口部３Ｂと同様、被露光体６上において、ｘ座標軸に平行な軸線Ｏ_１３に沿って千鳥配列される。

　ベース７がＹ方向に移動すると、図示斜線で示すように、各第１の光像１３Ａおよび各第２の光像１３Ｂは、幅ｗ_２の帯状の領域を掃くことになる。このため、各第１の光像１３Ａおよび各第２の光像１３Ｂは、被露光体６上をｙ方向に走査する。
　ただし、第１開口部３Ａおよび第２開口部３ＢはＹ方向においてΔだけずれている。このため、第１の光像１３Ａと第２の光像１３Ｂとが同時に掃く領域は、ｘ方向において距離（ｗ_１＋ｗ_２）／２だけずれるとともに、ｙ方向において距離Δだけずれている。
　ベース７の移動速度をｖ（図１参照）とすると、第２の光像１３Ｂは、Ｔ＝Δ／ｖだけ遅れて、先行して第１の光像１３Ａが走査しているｙ方向の領域に到達する。
　例えば、走査が開始された時刻ｔ_０とすると、第２の光像１３Ｂは、時刻ｔ_０における第１の光像１３Ａのｙ方向の位置に、時刻ｔ_１＝ｔ_０＋Ｔにおいて到達する。このとき、第２の光像１３Ｂは、時刻ｔ_０において結像された互いに隣り合う第１の光像１３Ａの間にちょうど嵌り込む。
　すなわち、時刻ｔ_０では、第１の光像１３Ａが並ぶｘ方向の領域は、複数の第１の光像１３Ａによって、間隔を空けて露光されるのみである。時刻ｔ_１においては、同領域の非露光部が、複数の第２の光像１３Ｂによって露光される。これにより、ｘ方向に延びる領域は、時間差Ｔをあけて、隙間なく帯状に露光される。これは、第１の光像１３Ａにおける等脚台形の脚と第２の光像１３Ｂにおける等脚台形の脚とは、それぞれによる露光領域の継ぎ目の境界を構成しているためである。

　平面視においてフォトマスク１におけるマスク部１Ｂは、時刻ｔ_０における第１開口部３Ａの第２辺３ｂよりもＹ方向の負方向側（negative Y direction側、図示下側）に位置する。図９では、一例として、時刻ｔ_０において、マスク部１Ｂのｙ方向における先端が第１開口部３Ａの第２辺３ｂと同位置にある場合が図示されている。このため、時刻ｔ_０において、第１の光像１３Ａにおける等脚台形の下底が、マスク部１Ｂの端に位置している。
　走査によって第１の光像１３Ａが掃く領域では、時刻ｔ_０以降の走査によって、フォトマスク１のマスクパターンＰが被露光体６上に投影されていく。マスクパターンＰの露光時間は、第１開口部３ＡにおけるＹ方向の開口幅ｈを速度ｖで割った時間である。第１開口部３Ａの第１辺３ａと第２辺３ｂとで挟まれた矩形状領域では、露光時間ｔ_ｆはｈ／ｖである。以下では、露光時間ｔ_ｆをフル露光時間という。
　ところが、第１開口部３Ａの第３辺３ｃおよび第４辺３ｄと、第２辺３ｂとで挟まれた三角形領域では、ｘ方向における露光時間が０からフル露光時間ｔ_ｆの間で線形に変化する。
　同様に、走査によって第２の光像１３Ｂが掃く領域では、時間Ｔだけ遅れて、第１の光像１３Ａによるのと同様な露光が行われる。このため、第２の光像１３Ｂが掃く領域は、フル露光時間ｔ_ｆで露光される領域と、フル露光時間ｔ_ｆ未満で露光される領域とに分かれる。
　フル露光時間ｔ_ｆ未満で露光される領域は、第１の光像１３Ａおよび第２の光像１３Ｂの継ぎ目に関わる露光領域である。

　本実施形態においては、第１の光像１３Ａおよび第２の光像１３Ｂによってフル露光時間ｔ_ｆで露光される領域は互いに離れている。フル露光時間ｔ_ｆで露光される領域は、それぞれ幅ｗ_１でｙ方向において帯状に延びている。このｙ方向においてフル露光時間ｔ_ｆで露光される領域を単独露光領域Ａ_Ｓとする。
　これに対して、単独露光領域Ａ_Ｓの間の幅（ｗ_１＋ｗ_２）／２の領域は、第１の光像１３Ａおよび第２の光像１３Ｂによって、フル露光時間ｔ_ｆ未満で露光される。ｙ方向においてフル露光時間ｔ_ｆ未満で露光される領域を複合露光領域Ａ_Ｃとする。
　複合露光領域Ａ_Ｃにおけるｘ方向の各位置における露光時間は、第１の光像１３Ａと第２の光像１３Ｂとの露光割合が異なるだけで、合計の露光時間はいずれも等しい。
　このため、単独露光領域Ａ_Ｓにおける露光量と、複合露光領域Ａ_Ｃにおける露光量とは、第１の光像１３Ａおよび第２の光像１３Ｂにおける照明光強度が同じであれば、互いに等しくなる。

　しかしながら、発明者らの観察によれば、以下の傾向があることが判った。被露光体６上において単独露光領域Ａ_Ｓに形成される露光パターンに比べると、複合露光領域Ａ_Ｃに形成される露光パターンは、光透過部の線幅がわずかに狭くなる傾向がある。
　複合露光領域Ａ_Ｃは、一定幅でｙ方向に延び、かつｘ方向に等ピッチで形成される。このため、ｙ方向における複合露光領域Ａ_Ｃの線幅の変化が露光パターンにおける帯状の濃度むらとして視認されやすくなっている。
　例えば、露光装置１００によってＢＭ形成用のフォトマスクを形成すると、サブ画素の開口の大きさのむらになる。このため、規則的な色むらが視認されやすい液晶装置が形成されてしまうおそれがある。

　露光時間が同じでも線幅が異なる理由は、必ずしもはっきりしているわけではないが、時間Ｔで表される時間差の影響が考えられる。
　レジストは、露光されると光化学反応が進行する結果、現像液によって除去可能になる。ところが、レジストの光化学反応は、反応の立ち上がりにはある程度時間を要する。一方、露光が中断されると急速に反応が停止し、始まった光反応がリセットされてしまう。
　この結果、連続露光よりも断続的な露光の方が、実効的な露光時間が短くなるため、露光量が低下したのと同様な効果が生じると考えられる。
　このため、被露光体６上の複合露光領域Ａ_Ｃにおいてレジストの正味の感光に用いられる実効的な露光量は、第１の光像１３Ａと第２の光像１３Ｂとの露光量が同じ光量であれば、第１の光像１３Ａと第２の光像１３Ｂとによる露光時間の比率で決まると考えられる。

　図１０Ａに示す複合露光領域Ａ_Ｃは、第１の光像１３Ａが走査する単独露光領域Ａ_Ｓ１と、ｘ方向に隣接する第２の光像１３Ｂが走査する単独露光領域Ａ_Ｓ２と、に挟まれている。ここで、複合露光領域Ａ_Ｃにおける、第１の光像１３Ａと第２の光像１３Ｂとによる露光時間の比率について考察する。図１０Ａに模式的に、上記の複合露光領域Ａ_Ｃにおける露光時間の比率を示す。複合露光領域Ａ_Ｃでは、第１の光像１３Ａによる露光時間と、第２の光像１３Ｂによる露光時間とがｘ方向に沿って線形に変化する。
　例えば、点ｐ_１で示す位置は、単独露光領域Ａ_Ｓ１との境界位置であるため、第１の光像１３Ａによる露光時間が１００％、第２の光像１３Ｂによる露光時間が０％である。各点における露光時間の比率（％）を、ｐ_ｎ［ｔ_Ａ，ｔ_Ｂ］のように表すと、例えば、ｐ_１［１００，０］、ｐ_２［９０，１０］、ｐ_３［８０，２０］、ｐ_４［７０，３０］、ｐ_５［６０，４０］、ｐ_６［５０，５０］、ｐ_７［４０，６０］、ｐ_８［３０，７０］、ｐ_９［２０，８０］、ｐ_１０［２０，８０］、ｐ_１１［０，１００］である。以下では、これらの点ｐ_ｎのｘ方向における位置座標をｘ_ｎで表す（ただし、ｎ＝１，…，１１）。
　このとき、線幅などに影響する実効的な露光量（以下、単に露光量と称する場合がある）は、図１０Ｂに示すように、複合露光領域Ａ_Ｃでは、下に凸の略Ｖ字状のグラフで示される。これは、複合露光領域Ａ_Ｃでは、実効的な露光時間が短くなるため、露光量が低下したのと同様な効果が生じたためである考えられる。位置ｘ_１、ｘ_１１における露光量ｑ_１、ｑ_１１は、それぞれ単独露光領域Ａ_Ｓにおける露光量ｑ_０に等しい。例えば、位置ｘ_６における露光量ｑ_６は、露光量ｑ_０よりも低く、複合露光領域Ａ_Ｃにおける露光量の最小値である。位置ｘ_１、ｘ_１１の近傍および位置ｘ_６の近傍における露光量の変化率は滑らかに変化している。このグラフは、位置ｘ_６を通る縦軸に関して左右対称である。
　このように、複合露光領域Ａ_Ｃにおける露光量は、ｘ方向の位置座標を独立変数とする連続関数で表されるが、簡易的には、階段状の変化で近似されてもよい。
　例えば、区間Ａ_ｎを位置ｘ_２ｎ－１と位置ｘ_２ｎ＋１との間として、区間Ａ_ｎの平均露光量によって、区間Ａ_ｎ内の各露光量が近似されてもよい。

　以上説明したように、第１の露光では、複合露光領域Ａ_Ｃにおいて実効的な露光量が低下する。本実施形態では、複合露光領域Ａ_Ｃを光量補正領域Ｍとして、光量補正領域Ｍに第２の露光を行うことによって、実効的な露光量の不足を解消する。以下、第２の露光について説明する。
　図１１は、本発明の第１の実施形態の露光方法における第２の露光について説明する模式図である。図１２は、第２の露光における実効的な積算光量について説明する模式的なグラフである。図１２において、横軸は位置、縦軸は第２の露光における実効的な積算光量を表す。図１３は、第１の露光および第２の露光による実効的な全露光量について説明する模式的なグラフである。図１３において、横軸は位置、縦軸は実効的な全露光量を表す。

　第２の露光は、追加露光用照明光源１２、追加露光用投影光学ユニット９を用いて行われる。
　図１に示すように、追加露光用照明光源１２が点灯されると、第２の露光光Ｌ_２Ａ、Ｌ_２Ｂが、フォトマスク１に照射される。
　フォトマスク１における光透過部１ａを透過した光のうち、第１列投影光学系９Ａに入射した光は第１列投影光学系９Ａによって、第２の露光光Ｌ_１２Ａとして、被露光体６に等倍投影される。同様に、第２列投影光学系９Ｂに入射した光は第２列投影光学系９Ｂによって、第２の露光光Ｌ_１２Ｂとして、被露光体６に等倍投影される。
　この結果、Ｙ方向において、被露光体６上の光量補正領域Ｍ上を、第１減光部９ｄ、第２減光部９ｅを透過した第２の露光光Ｌ_１２Ａ、Ｌ_１２Ｂが走査する。
　このため、図１１に示すように、光量補正領域Ｍ_Ｌには、第１列投影光学系９Ａにおける第１減光部９ｄの透過光の光像である第１の補正用光像１９ｄ_Ａと、第２列投影光学系９Ｂにおける第２減光部９ｅの透過光の光像である第２の補正用光像１９ｅ_Ｂと、が結像される。同様に、光量補正領域Ｍ_Ｒには、第１列投影光学系９Ａにおける第２減光部９ｅの透過光の光像である第３の補正用光像１９ｅ_Ａと、第２列投影光学系９Ｂにおける第１減光部９ｄの透過光の光像である第４の補正用光像１９ｄ_Ｂと、が結像される。
　第１の補正用光像１９ｄ_Ａ、第２の補正用光像１９ｅ_Ｂ、第３の補正用光像１９ｅ_Ａ、および第４の補正用光像１９ｄ_Ｂを、以下、総称する場合に、各補正用光像と称する場合がある。各補正用光像には、マスクパターンＰなどの物体像に対応する輝度分布が形成される。ただし、図１１では簡単のため輝度分布の図示は省略されている。

　各補正用光像による第２の露光の積算光量は、各第１減光部９ｄおよび各第２減光部９ｅのＸ方向における透過率分布に応じて決まる。例えば、図１１においてＸ方向に延びるＣ－Ｃ線に沿う積算光量分布を、図１２に曲線２１１で示す。積算光量分布は、光量補正領域ＭのＸ方向（横軸方向）における両端部で０、光量補正領域ＭのＸ方向における中心で最大値ｑ_ｍとなる山形の分布を有する。ただし、図１２は、簡単のため、マスクパターンＰに依存する光量変化の表示は省略されている。すなわち、図１２は、マスクパターンＰの透過率が一定の領域における積算光量を示している。
　図１２の曲線２１２（二点鎖線参照）は、第１の露光における実効的な露光量を示す。曲線２１１に示す山形の積算光量分布は、曲線２１２の光量補正領域Ｍにおける露光量の低下を補正可能な分布になっている。
　図１３の曲線２１３は、第１の露光および第２の露光による実効的な全露光量を示す。第１の露光および第２の露光が行われた後の被露光体６上における実効的な全露光量は、図１３に曲線２１３で示すように、Ｘ方向（横軸方向）の位置によらず略一定となる。
　なお、図１３は模式図のため、曲線２１３は、単純化されて横軸に平行な直線で描かれているが、実効的な露光量の許容範囲内であれば、横軸の位置によって縦軸方向に変動する曲線になっていてもよい。

　以上、説明したように、本実施形態の露光方法では、第１の露光によって複合露光領域Ａ_Ｃに発生する実効的な露光量の低下は、複合露光領域Ａ_Ｃに合わせた光量補正領域Ｍにおいて第２の露光が行われることによって補正される。このため、千鳥配列された複数の投影光学系（第１の投影光学系）を用いる場合に、露光領域の継ぎ目に起因する露光むらが低減される。

［第２の実施形態］
　本発明の第２の実施形態の露光装置について説明する。
　図１４Ａは、本発明の第２の実施形態の露光装置の主要部の一例を示す模式的な平面図である。図１４Ｂは、図１４ＡにおけるＤ－Ｄ断面図である。図１５は、本発明の第２の実施形態の露光装置に用いられる光透過量規制部材の一例を示す模式的な平面図である。図１６は、図１５におけるＥ－Ｅ線に沿う透過率分布を示す模式的なグラフである。図１６において横軸はＥ－Ｅ線に沿う位置、縦軸は透過率を表す。

　図１に示すように、本実施形態の露光装置１０１は、上記第１の実施形態の露光装置１００の追加露光用照明光源１２および追加露光用投影光学ユニット９に代えて、追加露光用照明光源４２（第２の光源）および追加露光用投影光学ユニット１９（補正露光部）を備える。
　以下、上記第１の実施形態と異なる点を中心に説明する。

　追加露光用照明光源４２は、Ｙ方向における光照射範囲が狭い以外は、上記第１の実施形態における追加露光用投影光学ユニット９と同様に構成される。具体的には、追加露光用照明光源４２は、上記追加露光用投影光学ユニット９が照射する第２の露光光Ｌ_２Ａと同様な光束を照射できればよい。

　図１に示すように、追加露光用投影光学ユニット１９は、上記第１の実施形態における追加露光用投影光学ユニット９と同様の位置に配置されている。
　図１４Ａに示すように、追加露光用投影光学ユニット１９は、軸線Ｏ_３に平行な軸線Ｏ_１９に沿って配列された複数の投影光学系１９Ａ（第２の投影光学系）を備える。
　図１４Ａに示すように、投影光学系１９Ａは、上記第１の実施形態における第１列投影光学系５Ａのフィルタ９ｂに代えて、フィルタ１９ｂ（光透過量規制部材、光減衰フィルタ）を備える。
　投影光学系１９Ａは、上記第１の実施形態における第１列投影光学系９Ａと同様、第１列投影光学系５ＡからＹ方向に距離δ１だけ平行移動した位置に配置されて構成されている。

　図１４Ｂに示すように、フィルタ１９ｂは、レンズユニット９ａを透過する第２の露光光Ｌ_２Ａを、被露光体６上における光量補正領域Ｍに限って照射する第２の露光光Ｌ_２２Ａに変換する。
　本実施形態では、図１５に示すように、フィルタ１９ｂは、第１減光部１９ｄ、第２減光部１９ｅ、および遮光部１９ｆを備える。
　第１減光部１９ｄは、平面視にてＸ方向における光量補正領域Ｍ_Ｌの全幅に重なる矩形の範囲に形成されている。
　第２減光部１９ｅは、平面視にてＸ方向における光量補正領域Ｍ_Ｒの全幅に重なる矩形の範囲に形成されている。
　第１減光部１９ｄ、および第２減光部１９ｅのＹ方向の長さは、フィルタ１９ｂの範囲内であれば特に限定されない。
　フィルタ１９ｂにおいて、第１減光部１９ｄおよび第２減光部１９ｅを除く領域は、遮光部１９ｆになっている。遮光部１９ｆの透過率は０％である。

　本実施形態では、第１減光部１９ｄ、および第２減光部１９ｅは、Ｘ方向において、図１６に示すような透過率分布を有する。
　図１６の横軸における符号は、図１５に記載されたＥ－Ｅ線上の同符号の点の位置を表す。点ｉは、Ｅ－Ｅ線におけるフィルタ１９ｂのＸ方向負方向側の端点である。点ｊから点ｋまでの区間は、光量補正領域Ｍ_Ｌと重なる区間である。点ｍから点ｎまでの区間は、光量補正領域Ｍ_Ｒと重なる区間である。点ｐは、Ｅ－Ｅ線におけるフィルタ１９ｂのＸ方向正方向側の端点である。
　第１減光部１９ｄは、点ｊから点ｋまでの間に配置されている。第２減光部１９ｅは、点ｍから点ｎまでの間に配置されている。点ｉから点ｊ、点ｋから点ｍ、および点ｎから点ｐまでの各区間は遮光部１９ｆが配置されている。
　図１６に曲線２２１で示すように、第１減光部１９ｄの透過率は、点ｊと点ｋと間の中央部で１００％以下の最大値Ｔ_Ｌであり、点ｊおよび点ｋに向かって漸次減少し、点ｊおよび点ｋで０％となる山型（釣り鐘型）の透過率分布を有する。第２減光部１９ｅの透過率は、点ｍおよび点ｎで０％であり、点ｍと点ｎとの間の中央部に向かって漸次増大し、点ｆで最大値Ｔ_Ｌとなる山型（釣り鐘型）の透過率分布を有する。
　具体的には、曲線２２１は、上記第１の実施形態における図８で説明した曲線２０２と曲線２０１（曲線２０１と曲線２０３）で表されるのと同様の山型の透過率分布になっている。

　第１減光部１９ｄ、第２減光部１９ｅにおける透過率の変化率は、上記第１の実施形態と同様、光量補正領域Ｍにおける光量補正の必要に応じて、例えば、実験、シミュレーションなどに基づいて設定される。第１減光部１９ｄ、第２減光部１９ｅにおける透過率の変化率は、一定（直線変化）でもよいし、適宜の関数に基づいて変化していてもよい。透過率の変化率は、単調でもよいし、非単調でもよい。さらに、透過率の変化は滑らかな変化には限定されない。例えば、透過率は、ステップ状に変化していてもよい。

　このような構成の追加露光用照明光源４２および追加露光用投影光学ユニット１９によれば、上記第１の実施形態と同様な第１の露光の後、軸線Ｏ_１９に平行に１列に配置された複数の投影光学系１９Ａによって、各光量補正領域Ｍに、上記第１の実施形態と同様な積算光量分布を有する第２の露光光Ｌ_２２Ａによる第２の露光を行うことが可能である。
　すなわち、追加露光用照明光源４２および追加露光用投影光学ユニット１９を備える露光装置１０１によれば、上記第１の実施形態と同様な露光方法を行うことができる。
　このため、本実施形態の露光装置１０１によれば、上記第１の実施形態と同様にして、千鳥配列された複数の投影光学系（第１の投影光学系）を用いる場合に、露光領域の継ぎ目に起因する露光むらが低減される。
　さらに、本実施形態によれば、追加露光用投影光学ユニット１９におけるレンズユニット９ａ、フィルタ１９ｂ、およびフィルタホルダ９ｃの個数が、第１の実施形態における追加露光用投影光学ユニット９のレンズユニット９ａ、フィルタ９ｂ、およびフィルタホルダ９ｃの個数が略半減される。同様に、追加露光用照明光源４２における光照射範囲も追加露光用照明光源１２に比べて略半減する。このため、露光装置１０１では、露光装置１００に比べて部品コスト低減および小型化が可能になる。

［第３の実施形態］
　本発明の第３の実施形態の露光装置について説明する。
　図１７Ａは、本発明の第３の実施形態の露光装置の一例を示す模式的な正面図である。図１７Ｂは、図１７ＡにおけるＦ視の平面図である。

　図１７Ａに示すように、本実施形態の露光装置１０２は、上記第１の実施形態の露光装置１００の追加露光用照明光源１２および追加露光用投影光学ユニット９に代えて、追加露光用照明光源５２（第２の光源）および追加露光用投影光学ユニット２９（補正露光部）を備える。
　以下、上記第１の実施形態と異なる点を中心に説明する。

　追加露光用照明光源５２は、上記第１の実施形態と同様の第２の露光光Ｌ_２Ａを照射する第１光源部５２Ａと、上記第１の実施形態と同様の第２の露光光Ｌ_２Ｂを照射する第２光源部５２Ｂと、を備える。
　第１光源部５２Ａは、主照明光源２のＹ方向負方向側（negative Y direction側、Ｙ方向一方側、図示左側）に、配置されている。第２光源部５２Ｂは、主照明光源２のＹ方向正方向側（positive Y direction側、Ｙ方向他方側、図示右側）に配置されている。主照明光源２は、Ｙ方向において、第１光源部５２Ａと第２光源部５２Ｂとに隣り合って配置されている。

　図１７Ａ、図１７Ｂに示すように、追加露光用投影光学ユニット２９は、第１光学ユニット２９Ａと、第２光学ユニット２９Ｂと、を備える。第１光学ユニット２９Ａは、第２の露光光Ｌ_２Ａを上記第１の実施形態と同様の第２の露光光Ｌ_１２Ａに変換する。第２光学ユニット２９Ｂは、上記第１の実施形態と同様の第２の露光光Ｌ_２Ｂを第２の露光光Ｌ_１２Ｂに変換する。
　第１光学ユニット２９Ａは、上記第１の実施形態と同様の複数の第１列投影光学系９Ａ（第２の投影光学系）を備える。第１光学ユニット２９Ａは、投影光学ユニット５のＹ方向負方向側に配置されている。
　第２光学ユニット２９Ｂは、上記第１の実施形態と同様の複数の第２列投影光学系９Ｂ（第２の投影光学系）を備える。第２光学ユニット２９Ｂは、投影光学ユニット５のＹ方向正方向側に配置されている。
　投影光学ユニット５は、Ｙ方向において、第１光学ユニット２９Ａと第２光学ユニット２９Ｂとに隣り合って配置されている。
　第１光学ユニット２９Ａにおける各第１列投影光学系９Ａは、軸線Ｏ_３に平行な直線に沿って配列されている。各第１列投影光学系９Ａと各第１列投影光学系５Ａとの距離はδ２であってもよい。第２光学ユニット２９Ｂにおける各第２列投影光学系９Ｂは、軸線Ｏ_３に平行な直線に沿って配列されている。各第２列投影光学系９Ｂと各第２列投影光学系５Ｂとの距離はδ２であってもよい。

　このような構成により、第１光源部５２Ａおよび第２光源部５２Ｂは、上記第１の実施形態における追加露光用照明光源１２がＹ方向に２分割されたのと同様の構成を有する。
　本実施形態における主照明光源２は、Ｙ方向において第１光源部５２Ａと第２光源部５２Ｂとの間に挟まれて配置されている。
　第１光学ユニット２９Ａおよび第２光学ユニット２９Ｂは、上記第１の実施形態における追加露光用投影光学ユニット９がＹ方向に２分割されたのと同様の構成を有する。
　本実施形態における投影光学ユニット５は、Ｙ方向において第１光学ユニット２９Ａと第２光学ユニット２９Ｂとの間に挟まれて配置されている。
　ただし、各第１列投影光学系９Ａと各第１列投影光学系５ＡとのＸ方向における位置関係、および各第２列投影光学系９Ｂと各第２列投影光学系５ＢとのＸ方向における位置関係は、上記第１の実施形態と同様である。

　このような構成の露光装置１０２によれば、フォトマスク１および被露光体６がＹ方向に移動される。移動により、第２の露光光Ｌ_１２Ａによる第２の露光、第１の露光光Ｌ_１１Ａ、Ｌ_１１Ｂによる第１の露光、および第２の露光光Ｌ_１２Ｂによる第２の露光が、この順に行われる。この露光の順序以外は、上記第１の実施形態と同様の露光方法が行われる。
　このため、本実施形態の露光装置１０２によれば、上記第１の実施形態と同様にして、千鳥配列された複数の投影光学系（第１の投影光学系）を用いる場合に、露光領域の継ぎ目に起因する露光むらが低減される。
　さらに、本実施形態によれば、Ｙ方向において、第１列投影光学系５Ａと第１列投影光学系９Ａとが隣り合い、第２列投影光学系５Ｂと第２列投影光学系９Ｂとが隣り合うように配置される。このため、それぞれの間の離間距離δ２は、上記第１の実施形態における離間距離δ１よりも短縮することが可能になる。
　これにより、第１の露光と第２の露光との間の時間差をより短縮できるため、より少ない露光量でも、良好な補正が可能となる。

［第４の実施形態］
　本発明の第４の実施形態の露光装置について説明する。
　図１８Ａは、本発明の第４の実施形態の露光装置の一例を示す模式的な正面図である。図１８Ｂは、図１８ＡにおけるＧ視の平面図である。

　図１８Ａに示すように、本実施形態の露光装置１０３は、上記第１の実施形態の露光装置１００の主照明光源２および投影光学ユニット５に代えて、主照明光源３２（第１の光源）、視野絞り３３Ａ、３３Ｂ（絞り部材）、および投影光学ユニット３５を備える。
　以下、上記第１の実施形態と異なる点を中心に説明する。

　主照明光源３２は、上記第１の実施形態と同様の第１の露光光Ｌ_１Ａを照射する第１光源部３２Ａと、上記第１の実施形態と同様の第１の露光光Ｌ_１Ｂを照射する第２光源部３２Ｂと、を備える。
　第１光源部３２Ａは、追加露光用照明光源１２のＹ方向負方向側に配置されている。第２光源部３２Ｂは、追加露光用照明光源１２のＹ方向正方向側に配置されている。追加露光用照明光源１２は、第１光源部３２Ａと第２光源部３２Ｂとに隣り合って配置されている。

　視野絞り３３Ａ、３３Ｂは、上記第１の実施形態における視野絞り３をＹ方向に分割したのと同様の構成を有する。
　視野絞り３３Ａは、上記第１の実施形態における視野絞り３の複数の第１開口部３Ａの配列を含む。視野絞り３３Ａは、第１の露光光Ｌ_１Ａを透過させるために、第１光源部３２Ａの下方に配置される。
　視野絞り３３Ｂは、上記第１の実施形態における視野絞り３の複数の第２開口部３Ｂの配列を含む。視野絞り３３Ｂは、第１の露光光Ｌ_１Ｂを透過させるために、第２光源部３２Ｂの下方に配置される。

　図１８Ａ、図１８Ｂに示すように、投影光学ユニット３５は、第１光学ユニット３５Ａと、第２光学ユニット３５Ｂと、を備える。第１光学ユニット３５Ａは、視野絞り３３Ａを透過した第１の露光光Ｌ_１Ａによる光像を被露光体６に投影する。第２光学ユニット３５Ｂは、視野絞り３３Ｂを透過した第１の露光光Ｌ_１Ｂによる光像を被露光体６に投影する。
　第１光学ユニット３５Ａは、上記第１の実施形態と同様の複数の第１列投影光学系５Ａ（第１の投影光学系）を備える。第１光学ユニット３５Ａは、追加露光用投影光学ユニット９のＹ方向負方向側に配置されている。
　第２光学ユニット３５Ｂは、上記第１の実施形態と同様の複数の第２列投影光学系５Ｂ（第１の投影光学系）を備える。第２光学ユニット３５Ｂは、追加露光用投影光学ユニット９のＹ方向正方向側に配置されている。
　追加露光用投影光学ユニット９は、第１光学ユニット３５Ａと第２光学ユニット３５Ｂとに隣り合って配置されている。
　第１光学ユニット３５Ａにおける各第１列投影光学系５Ａは、軸線Ｏ_９に平行な直線に沿って配列されている。各第１列投影光学系５Ａと各第１列投影光学系９Ａとの距離はδ２であってもよい。第２光学ユニット３５Ｂにおける各第２列投影光学系５Ｂは、軸線Ｏ_９に平行な直線に沿って配列されている。各第２列投影光学系５Ｂと各第２列投影光学系９Ｂとの距離はδ２であってもよい。

　このような構成により、第１光源部３２Ａおよび第２光源部３２Ｂは、上記第１の実施形態における主照明光源２がＹ方向に２分割されたのと同様の構成を有する。
　本実施形態の追加露光用照明光源１２は、第１光源部３２Ａおよび第２光源部３２Ｂの間に挟まれて配置されている。
　第１光学ユニット３５Ａおよび第２光学ユニット３５Ｂは、上記第１の実施形態における投影光学ユニット５がＹ方向に２分割されたのと同様の構成を有する。
　本実施形態の追加露光用投影光学ユニット９は、第１光学ユニット３５Ａと第２光学ユニット３５Ｂとの間に挟まれて配置されている。
　ただし、各第１列投影光学系９Ａと各第１列投影光学系５ＡとのＸ方向における位置関係、および各第２列投影光学系９Ｂと各第２列投影光学系５ＢとのＸ方向における位置関係は、上記第１の実施形態と同様である。

　このような構成の露光装置１０３によれば、フォトマスク１および被露光体６がＹ方向に移動される。移動により、第１の露光光Ｌ_１１Ａによる第１の露光、第２の露光光Ｌ_１２Ａ、Ｌ_１２Ｂによる第２の露光、および第１の露光光Ｌ_１１Ｂによる第１の露光が、この順に行われる。この露光の順序以外は、上記第１の実施形態と同様の露光方法が行われる。
　このため、本実施形態の露光装置１０３によれば、上記第１の実施形態と同様にして、千鳥配列された複数の投影光学系（第１の投影光学系）を用いる場合に、露光領域の継ぎ目に起因する露光むらが低減される。
　さらに、本実施形態によれば、Ｙ方向において、第１列投影光学系５Ａと第１列投影光学系９Ａとが隣り合い、第２列投影光学系５Ｂと第２列投影光学系９Ｂとが隣り合うように配置される。このため、それぞれの間の離間距離δ２は、上記第１の実施形態における離間距離δ１よりも短縮することが可能になる。
　このため、第１の露光と第２の露光との間の時間差をより短縮できるため、より少ない露光量でも、良好な補正が可能となる。

［第５の実施形態］
　本発明の第５の実施形態の露光装置について説明する。
　図１９、２０は、本発明の第５の実施形態の露光装置に用いる光透過量規制部材の一例を示す模式的な平面図である。

　図１に示すように、本実施形態の露光装置１０４は、上記第１の実施形態の露光装置１００の追加露光用投影光学ユニット９に代えて、追加露光用投影光学ユニット４９（補正露光部）を備える。
　以下、上記第１の実施形態と異なる点を中心に説明する。

　図６に示すように、追加露光用投影光学ユニット４９は、上記第１の実施形態における第１列投影光学系９Ａ、第２列投影光学系９Ｂに代えて、第１列投影光学系４９Ａ、第２列投影光学系４９Ｂを備える。
　第１列投影光学系４９Ａ（第２列投影光学系４９Ｂ）は、第１列投影光学系９Ａ（第２列投影光学系９Ｂ）のフィルタ９ｂに代えて、アパーチャ４９ａ（光透過量規制部材、開口絞り）を備える。
　アパーチャ４９ａは、レンズユニット９ａを透過する第２の露光光Ｌ_２Ａ（Ｌ_２Ｂ）を、被露光体６上における光量補正領域Ｍに限って照射する第２の露光光Ｌ_１２Ａ（Ｌ_１２Ｂ）に変換する。
　本実施形態では、図１９に示すように、アパーチャ４９ａは、遮光性を有する金属板に、複数の貫通孔である第１開口部４９ｂおよび第２開口部４９ｃが形成されて構成される。
　第１開口部４９ｂは、Ｙ方向に延びる上底辺Ｓ１および下底辺Ｓ２と、上底辺Ｓ１および下底辺Ｓ２を結ぶ脚Ｓ３、Ｓ４に囲まれた等脚台形状に開口している。下底辺Ｓ２は、上底辺Ｓ１よりも長い。第１開口部４９ｂにおいて、上底辺Ｓ１はＸ方向正方向側、下底辺Ｓ２はＸ方向負方向側に配置されている。第１開口部４９ｂのＸ方向における幅および配置位置は、上記第１の実施形態における第１減光部９ｄと同様である。
　ここで図１９では、例えば、Ｙ方向において上底辺Ｓ１の長さが開口部３Ａ、３Ｂの等脚台形の高さｈと同じとなっている。しかしながら、上底辺Ｓ１のＹ方向の長さは図１３の曲線２１３で説明した実行的な露光量の許容範囲内となる様に調整されていればよい。
　このような構成により、第１開口部４９ｂは、Ｙ方向における開口幅が、Ｘ方向正方向側からＸ方向負方向側に向かって漸次増大している。このため、第１開口部４９ｂは、Ｘ方向における第２の露光光Ｌ_２Ａ（Ｌ_２Ｂ）の透過光量を規制することができるので、レンズユニット９ａを透過した第２の露光光Ｌ_２Ａ（Ｌ_２Ｂ）のＸ方向における光量分布を光量補正領域Ｍ_ＬのＸ方向における端部から中心部に向かって増大させることができる。

　第２開口部４９ｃは、第１開口部４９ｂをＸ方向に反転した等脚台形状に開口している。第２開口部４９ｃのＸ方向における幅および配置位置は、上記第１の実施形態における第２減光部９ｅと同様である。
　このような構成により、第２開口部４９ｃは、Ｙ方向における開口幅が、Ｘ方向負方向側からＸ方向正方向側に向かって漸次増大している。このため、第２開口部４９ｃは、Ｘ方向における第２の露光光Ｌ_２Ａ（Ｌ_２Ｂ）の透過光量を規制することができるので、レンズユニット９ａを透過した第２の露光光Ｌ_２Ａ（Ｌ_２Ｂ）のＸ方向における光量分布を光量補正領域Ｍ_ＲのＸ方向における端部から中心部に向かって増大させることができる。

　このような構成により、追加露光用照明光源１２から第２の露光光Ｌ_２Ａ（Ｌ_２Ｂ）が照射され、レンズユニット９ａを透過する。上記第１の実施形態と同様、Ｙ方向における第２の露光光Ｌ_１２Ａ（Ｌ_１２Ｂ）の実効的な積算光量は、図１２に曲線２１１で示すような山型の分布を示す。
　露光装置１０４によれば、光透過量規制部材が、アパーチャ４９ａで構成されている。それ以外は、上記第１の実施形態の露光装置１００と同様の構成を有するため、上記第１の実施形態と同様の露光方法が行われる。
　本実施形態の露光装置１０４によれば、上記第１の実施形態と同様にして、千鳥配列された複数の投影光学系（第１の投影光学系）を用いる場合に、露光領域の継ぎ目に起因する露光むらが低減される。
　さらに、本実施形態によれば、第１減光部９ｄ、第２減光部９ｅを有するフィルタ９ｂに比べると、安価に製造できるアパーチャ４９ａが用いられるため、さらなる低コスト化が可能である。
　さらに、アパーチャ４９ａは、第１開口部４９ｂ、および第２開口部４９ｃの開口形状を変更することで、積算光量の大きさおよびＸ方向における光量分布を容易に変更することができる。

　上述したアパーチャ４９ａの第１開口部４９ｂ、第２開口部４９ｃの形状は、一例である。アパーチャ４９ａの開口形状は、Ｙ方向における開口幅がＸ方向に沿って変化する形状であれば、等脚台形には限定されない。
　例えば、露光装置１０４において、アパーチャ４９ａに代えて、図２０に示すアパーチャ４９ｄ（光透過量規制部材、開口絞り）が用いられてもよい。
　アパーチャ４９ｄは、アパーチャ４９ａの第１開口部４９ｂ、第２開口部４９ｃに代えて、それぞれ、第１開口部４９ｅ、第２開口部４９ｈを備える。
　第１開口部４９ｅは、Ｙ方向に延びる直線部４９ｇと、直線部４９ｇの両端部からＸ方向正方向側に張り出した弧状部４９ｆによって囲まれたＹ方向に細長い半月状の開口している。
　このような構成により、第１開口部４９ｅは、Ｙ方向における開口幅が、Ｘ方向正方向側からＸ方向負方向側に向かって漸次増大している。
　第２開口部４９ｈは、第１開口部４９ｅをＸ方向に反転したＹ方向に細長い半月状の開口している。
　このような構成により、第２開口部４９ｈは、Ｙ方向における開口幅が、Ｘ方向負方向側からＸ方向正方向側に向かって漸次増大している。
　第１、第２開口部４９ｅ、４９ｈは、曲線を含む形状で構成される開口形状を有する例になっている。

［第６の実施形態］
　本発明の第６の実施形態の露光装置について説明する。
　図２１、２２は、本発明の第６の実施形態の露光装置に用いる光透過量規制部材の一例を示す模式的な平面図である。

　図１に示すように、本実施形態の露光装置１０５は、上記第２の実施形態の露光装置１０１の追加露光用投影光学ユニット１９に代えて、追加露光用投影光学ユニット５９（補正露光部）を備える。
　以下、上記第２の実施形態と異なる点を中心に説明する。

　図１４Ａに示すように、追加露光用投影光学ユニット５９は、上記第２の実施形態における投影光学系１９Ａに代えて、投影光学系５９Ａを備える。
　図１４Ｂに示すように、投影光学系５９Ａは、上記第２の実施形態におけるフィルタ１９ｂに代えて、アパーチャ５９ａ（光透過量規制部材、開口絞り）を備える。
　アパーチャ５９ａは、レンズユニット９ａを透過する第２の露光光Ｌ_２Ａを、被露光体６上における光量補正領域Ｍに限って照射する第２の露光光Ｌ_２２Ａに変換する。
　本実施形態では、図２１に示すように、アパーチャ５９ａは、遮光性を有する金属板に、複数の貫通孔である第１開口部５９ｂおよび第２開口部５９ｃが形成されて構成される。
　第１開口部５９ｂは、Ｘ方向において光量補正領域Ｍ_Ｌと同じ幅を有し、Ｙ方向に細長い六角形状に開口している。例えば、第１開口部５９ｂは、上記第５の実施形態における第１開口部４９ｂの下底辺Ｓ２と、第２開口部４９ｃの下底辺Ｓ２とを一致させて形成される六角形形状に形成されている。第１開口部５９ｂのＸ方向における配置位置は、上記第２の実施形態における第１減光部１９ｄと同様である。
　このような構成により、第１開口部５９ｂは、Ｙ方向における開口幅が、Ｘ方向の両端部から中心部に漸次増大している。このため、第１開口部５９ｂは、Ｘ方向における第２の露光光Ｌ_２Ａの透過光量を規制することができるので、レンズユニット９ａを透過した第２の露光光Ｌ_２ＡのＸ方向における光量分布を光量補正領域Ｍ_ＬのＸ方向における両端部から中心部に向かって増大させることができる。

　第２開口部５９ｃは、第１開口部５９ｂと同形の六角形状に開口している。第２開口部４９ｃのＸ方向における配置位置は、上記第２の実施形態における第２減光部１９ｅと同様である。
　このような構成により、第２開口部５９ｃは、Ｘ方向における第２の露光光Ｌ_２Ａの透過光量を規制することができるので、レンズユニット９ａを透過した第２の露光光Ｌ_２ＡのＸ方向における光量分布を光量補正領域Ｍ_ＲのＸ方向における両端部から中心部に向かって増大させることができる。

　このような構成により、追加露光用照明光源４２から第２の露光光Ｌ_２Ａが照射され、レンズユニット９ａを透過する。上記第２の実施形態と同様、Ｙ方向における第２の露光光Ｌ_１２Ａの実効的な積算光量は、図１２に曲線２１１で示すような山型の分布を示す。
　露光装置１０５によれば、光透過量規制部材が、アパーチャ５９ａで構成されている。それ以外は、上記第２の実施形態の露光装置１０１と同様の構成を有するため、上記第２の実施形態と同様の露光方法が行われる。
　本実施形態の露光装置１０５によれば、上記第２の実施形態と同様にして、千鳥配列された複数の投影光学系（第１の投影光学系）を用いる場合に、露光領域の継ぎ目に起因する露光むらが低減される。
　さらに、本実施形態によれば、第１減光部１９ｄ、第２減光部１９ｅを有するフィルタ１９ｂに比べると、安価に製造できるアパーチャ５９ａが用いられるため、さらなる低コスト化が可能である。
　さらに、アパーチャ５９ａは、第１開口部５９ｂ、および第２開口部５９ｃの開口形状を変更することで、積算光量の大きさおよびＸ方向における光量分布を容易に変更することができる。

　上述したアパーチャ５９ａの第１開口部５９ｂ、第２開口部５９ｃの形状は、一例である。アパーチャ５９ａの開口形状は、Ｙ方向における開口幅がＸ方向に沿って変化する形状であれば、等脚台形には限定されない。
　例えば、露光装置１０５において、アパーチャ５９ａに代えて、図２２に示すアパーチャ５９ｄ（光透過量規制部材、開口絞り）が用いられてもよい。
　アパーチャ５９ｄは、アパーチャ５９ａの第１開口部５９ｂ、第２開口部５９ｃに代えて、それぞれ、第１開口部５９ｅ、第２開口部５９ｆを備える。
　第１開口部５９ｅは、Ｙ方向に細長い楕円状に開口している。このような構成により、第１開口部５９ｅは、Ｙ方向における開口幅が、Ｘ方向の両端部から中心部に向かって漸次増大している。
　第２開口部５９ｆは、第１開口部５９ｅと同形状に開口している。
　第１開口部５９ｅ、第２開口部５９ｆは、曲線で構成される開口形状を有する例になっている。

［第７の実施形態］
　本発明の第７の実施形態の露光装置について説明する。
　図２３Ａ、図２３Ｂ、図２３Ｃは、本発明の第７の実施形態の露光装置に用いる光透過量規制部材の主要部の一例を示す模式的な平面図である。

　図１に示すように、本実施形態の露光装置１０６は、上記第６の実施形態の露光装置１０５の追加露光用投影光学ユニット５９に代えて、追加露光用投影光学ユニット６９（補正露光部）を備える。
　以下、上記第６の実施形態と異なる点を中心に説明する。

　図１４Ａに示すように、追加露光用投影光学ユニット６９は、上記第６の実施形態における投影光学系５９Ａに代えて、投影光学系６９Ａを備える。
　図１４Ｂに主要部の構成を示すように、投影光学系６９Ａは、上記第６の実施形態におけるアパーチャ５９ａに代えて、開口可変アパーチャ６９ａ（光透過量規制部材、開口絞り）を備える。
　開口可変アパーチャ６９ａは、上記第６の実施形態におけるアパーチャ５９ａの第１開口部５９ｂ、第２開口部５９ｃに代えて、それぞれと同様の位置に開口形状が可変の開口部６０ａを有する（図２３Ａ参照）。
　図２３Ａに示すように、開口可変アパーチャ６９ａの開口部６０ａは、Ｙ方向において互いに対向する２つの第１シャッター６１と、Ｘ方向において互いに対向する２つの第２シャッター６２とを備える。
　第１シャッター６１は、Ｙ方向に独立して進退可能な複数の移動片６１ａがＸ方向に配列されて構成される。各移動片６１ａの各先端６１ｂの全体は、Ｙ方向における開口部６０ａの内縁を構成する。Ｙ方向における開口部６０ａの内縁（以下、第１内縁と称する）の位置および形状は、各移動片６１ａの進退位置によって変化する。図２３Ａに示す例では、第１内縁の形状は、Ｘ方向幅の中心部が最も凹んだＶ字状になっている。
　第２シャッター６２は、Ｙ方向に延びる先端６２ａを有しＸ方向に進退可能な板状部材を備える。第２シャッター６２の各先端６２ａは、Ｘ方向における開口部６０ａの内縁（以下、第２内縁と称する）を構成する。Ｘ方向における開口部６０ａの第２内縁の位置は、各第２シャッター６２の各先端６２ａの進退位置によって変化する。図２３Ａに示す例では、各第２内縁の間の離間距離は、光量補正領域Ｍの幅に等しい。
　図２３Ａに示す例では、平面視における開口部６０ａの形状は、上記第６の実施形態と略同様の六角形状である。

　図示は省略するが、各第１シャッター６１および各第２シャッター６２には、それぞれを駆動する駆動部が接続されている。駆動部の構成としては、例えば、モータとカムとを組み合わせた機構、マイクロメーター、マイクロボールねじ、ピエゾモーターなどが用いられてもよい。

　このような構成により、開口可変アパーチャ６９ａは、上記第６の実施形態と同様の光透過量規制部材として機能する。
　露光装置１０６によれば、光透過量規制部材が、開口可変アパーチャ６９ａで構成されている。それ以外は、上記第２の実施形態の露光装置１０１と同様の構成を有するため、上記第２の実施形態と同様の露光方法が行われる。
　本実施形態の露光装置１０６によれば、上記第２の実施形態と同様にして、千鳥配列された複数の投影光学系（第１の投影光学系）を用いる場合に、露光領域の継ぎ目に起因する露光むらが低減される。
　さらに、本実施形態によれば、開口可変アパーチャ６９ａの開口部６０ａの形状および大きさが変更できるため、視野絞り３の第１開口部３Ａおよび第２開口部３Ｂの形状およびＹ方向における配置が変わっても、第２の露光が適正に行われる。このため、視野絞り３が変更された場合にも開口可変アパーチャ６９ａを交換しなくてもよいので、露光装置１０６の稼働効率が向上する。
　さらに、開口部６０ａの形状を微調整することによって、第２の露光の露光量の最適化を図ることができるため、露光むらをさらに低減することが可能になる。

　図２３Ａに示す開口可変アパーチャ６９ａの開口部６０ａの形状は、一例である。
　開口可変アパーチャ６９ａの開口形状は、例えば、上記第６の実施形態におけるアパーチャ５９ｄのような細長い楕円状の形状も可能である。

　露光装置１０６において、開口可変アパーチャ６９ａは、図２３Ｂに示す開口可変アパーチャ６９ｂ（光透過量規制部材、開口絞り）に置換されてもよい。
　開口可変アパーチャ６９ｂは、開口可変アパーチャ６９ａの開口部６０ａに代えて開口部６０ｂを有する。開口可変アパーチャ６９ｂは、開口可変アパーチャ６９ａの第１シャッター６１の１つが第３シャッター６３に置換されて構成される。
　第３シャッター６３は、Ｘ方向に延びる先端６３ａを有しＹ方向に進退可能な板状部材を備える。第３シャッター６３の先端６３ａは、第１シャッター６１の先端６１ｂによる第１内縁に対向する開口部６０ｂの内縁（以下、第３内縁と称する）を構成する。Ｙ方向における開口部６０ｂの第３内縁の位置は、第３シャッターの先端６３ａの進退位置によって変化する。第３シャッター６３は、第２シャッター６２と同様の図示略の駆動部を備える。
　図２３Ｂに示す例では、平面視における開口部６０ｂの形状は、略五角形状である。このような開口部６０ｂは、Ｙ方向における開口幅が、Ｘ方向の両端部から中心部に向かって漸次増大している。
　このような構成により、開口可変アパーチャ６９ｂは、上記第６の実施形態と略同様の光透過量規制部材として機能する。

　露光装置１０６において、開口可変アパーチャ６９ａは、図２３Ｃに示す開口可変アパーチャ６９ｃ（光透過量規制部材、開口絞り）に置換されてもよい。
　開口可変アパーチャ６９ｃは、開口可変アパーチャ６９ａの開口部６０ａに代えて開口部６０ｃを有する。開口可変アパーチャ６９ｃは、開口可変アパーチャ６９ａの第１シャッター６１の１つが第４シャッター６４に置換されて構成される。
　第４シャッター６４は、Ｙ方向に凹んだＶ字状の先端切り欠き６４ａを有しＹ方向に進退可能な板状部材を備える。先端切り欠き６４ａは、図示略の光量補正領域ＭのＸ方向の中心軸線に関して対称な形状を有する。
　第４シャッター６４の先端切り欠き６４ａは、第１シャッター６１の先端６１ｂによる第１内縁に対向する開口部６０ｃの内縁（以下、第４内縁と称する）を構成する。Ｙ方向における開口部６０ｃの第４内縁の位置は、第４シャッターの先端切り欠き６４ａの進退位置によって変化する。第４シャッター６４は、第２シャッター６２と同様の図示略の駆動部を備える。
　図２３Ｃに示す例では、平面視における開口部６０ｃの形状は、略六角形状である。このような開口部６０ｃは、Ｙ方向における開口幅が、Ｘ方向の両端部から中心部に向かって漸次増大している。ただし、第１シャッター６１の各移動片６１ａの移動位置によっては、平面視における開口部６０ｃの形状は略六角形以外の形状に変化する。
　このような構成により、開口可変アパーチャ６９ｃは、上記第６の実施形態と略同様の光透過量規制部材として機能する。

［第８の実施形態］
　本発明の第８の実施形態の露光装置について説明する。
　図２４Ａは、本発明の第８の実施形態の露光装置に用いる光透過量規制部材の一例を示す模式的な部分断面図である。図２４Ｂは、図２４ＡにおけるＨ視の拡大図である。

　図１に示すように、本実施形態の露光装置１０７は、上記第６の実施形態の露光装置１０５の追加露光用投影光学ユニット５９に代えて、追加露光用投影光学ユニット７９（補正露光部）を備える。
　以下、上記第６の実施形態と異なる点を中心に説明する。

　図１４Ａに示すように、追加露光用投影光学ユニット７９は、上記第６の実施形態における投影光学系５９Ａに代えて、投影光学系７９Ａを備える。
　図２４Ａ、図２４Ｂに主要部の構成を示すように、投影光学系７９Ａは、上記第６の実施形態におけるアパーチャ５９ａに代えて、遮蔽板８０、液晶シャッターパネル７９ａ（光透過量規制部材、液晶シャッター）を備える。

　遮蔽板８０は、遮光性を有する薄板で形成されている。遮蔽板８０は、レンズユニット９ａを透過する第２の露光光Ｌ_２Ａの透過範囲を、上記第６の実施形態におけるアパーチャ５９ａの第１開口部５９ｂ、第２開口部５９ｃの形成位置を含む範囲に制限する。本実施形態では、上記第６の実施形態におけるアパーチャ５９ａの第１開口部５９ｂ、第２開口部５９ｃをそれぞれ囲む矩形状に形成された開口部８０ａ、８０ｂを有する。
　遮蔽板８０は、レンズユニット９ａの下方においてレンズユニット９ａと対向するようにフィルタホルダ９ｃに固定されている。

　液晶シャッターパネル７９ａは、遮蔽板８０の下方に遮蔽板８０と隣り合って配置され、フィルタホルダ９ｃに固定されている。液晶シャッターパネル７９ａは、平面視において少なくとも遮蔽板８０の開口部８０ａ（８０ｂ）と重なる範囲に、液晶シャッター部７９ｄ（図２４Ｂ参照）を備える。
　図２４Ａに示すように、液晶シャッターパネル７９ａは、液晶シャッター部７９ｄの各画素の濃度を切り替える液晶シャッターコントローラ７９ｅが電気的に接続されている。例えば、図２４Ｂには、液晶シャッターコントローラ７９ｅによって、上記第６の実施形態における第１開口部５９ｂ、第２開口部５９ｃと同様な六角形状の光透過部７９ｂと、光透過部７９ｂを囲む光遮蔽部７９ｃとが形成された状態が図示されている。
　液晶シャッターコントローラ７９ｅは、液晶シャッター部７９ｄの各画素を独立してオンオフすることによって、光透過部７９ｂおよび光遮蔽部７９ｃのパターンを変更することができる。
　このため、投影光学系７９Ａによれば、第２の露光光Ｌ_２Ａを、開口部８０ａ、８０ｂの範囲内で平面視において、六角形を含む適宜の形状に整形された第２の露光光Ｌ_２２Ａに変換して、図示略の被露光体６を露光することができる。

　このような構成により、液晶シャッターパネル７９ａは、上記第６の実施形態と同様の光透過量規制部材として機能する。
　露光装置１０７によれば、光透過量規制部材が、液晶シャッターパネル７９ａで構成されている。それ以外は、上記第２の実施形態の露光装置１０１と同様の構成を有するため、上記第２の実施形態と同様の露光方法が行われる。
　本実施形態の露光装置１０７によれば、上記第２の実施形態と同様にして、千鳥配列された複数の投影光学系（第１の投影光学系）を用いる場合に、露光領域の継ぎ目に起因する露光むらが低減される。
　さらに、本実施形態によれば、液晶シャッターパネル７９ａの光透過部７９ｂの形状および大きさが変更できる。このため、視野絞り３の第１開口部３Ａおよび第２開口部３Ｂの形状およびＹ方向における配置が変わっても、第２の露光が適正に行われる。さらに、視野絞り３が変更された場合にも液晶シャッターパネル７９ａを交換しなくてもよいので、露光装置１０７の稼働効率が向上する。
　さらに、光透過部７９ｂの形状を微調整することによって、第２の露光の露光量の最適化を図ることができるため、露光むらをさらに低減することが可能になる。

　なお、上記各実施形態の説明では、露光装置において、第１の光源、第２光源、絞り部材、第１の投影光学系、および補正露光部（以下、露光部と称する）が固定され、露光用フォトマスクおよび露光対象物（以下、被露光物と称する）が移動することによって走査露光が行われる場合の例で説明した。しかし、走査露光は、露光部と、被露光物と、が走査方向（Ｙ方向、第１の方向）に相対移動して、相対走査が行われればよい。したがって、露光装置において、露光部が走査方向に移動し、被露光物が固定されていてもよい。さらに、露光装置において、露光部および被露光物がそれぞれ移動してもよい。

　上記各実施形態の説明では、第１の方向と第２の方向とが互いに直交する場合の例で説明した。しかし、第１の方向と第２の方向とは、平面上において互いに交差する方向であればよく、交差角は直角には限定されない。

　上記各実施形態の説明では、フォトマスク１が第１の駆動部１０によって移動され、被露光体６がベース７を移動する第２の駆動部１１によって移動される場合の例で説明した。しかし、フォトマスク１とベース７とは１つの駆動部によって走査方向に移動されてもよい。

　上記各実施形態の説明では、第２の投影光学系が、第１の投影光学系を第１の方向において平行移動した位置に配置された場合の例で説明した。しかし、第２の投影光学系は、光量補正領域のみに第２の露光光を照射できればよいため、第２の投影光学系の光軸は第１の投影光学系の光軸を第１の方向に平行移動した位置以外に配置されてもよい。例えば、第２の投影光学系は、平面視にて光量補正領域の重なる位置に光軸を有する位置に配置されてもよい。

　上記各実施形態の説明では、光透過量規制部材が、第２の投影光学系と露光対象物との間に配置される場合の例で説明した。しかし、光透過量規制部材は、第２の光源から露光対象物までの間であれば、どの位置に配置されていてもよい。

　上記第７、第８の実施形態の説明では、上記第６の実施形態の第１開口部５９ｂおよび第２開口部５９ｃと略同様の位置に開口部を形成するための光透過量規制部材の構成について説明した。しかし、上記第７、第８の実施形態の光透過量規制部材の構成は、例えば、上記第５の実施形態における第１開口部４９ｂおよび第２開口部４９ｃを形成するために用いられてもよい。

　上記第８の実施形態の説明では、液晶シャッター部７９ｄが開口部８０ａ、８０ｂと重なる領域に配置された１つの液晶シャッターパネル７９ａが用いられる場合の例で説明した。しかし、開口部８０ａ、８０ｂと重なる範囲にそれぞれ１つずつ液晶シャッターパネルが設けられていてもよい。この場合、より小型の液晶シャッターパネルを用いることができる。

　上記第８の実施形態の説明では、遮蔽板８０が用いられる構成の例で説明した。しかし第２の露光光の光量と、液晶シャッターパネルの消光比と、によっては、遮蔽板８０は省略されてもよい。

　上記第８の実施形態の説明では、液晶シャッターパネル７９ａの光透過部７９ｂによって、アパーチャの開口形状に対応する光学的な開口が形成される場合の例で説明した。
　しかし、液晶駆動によって、透過率分布を制御できる場合には、上記第１および第２の実施形態におけるフィルタに対応する透過率分布を有する光学的な開口が形成されてもよい。液晶駆動によって、透過率分布を制御する方法としては、液晶の透過率の多値制御、面積階調法による透過率制御などが上げられる。

　上記各実施形態の説明では、投影光学ユニット５が、Ｘ方向における被露光体６の全幅を露光する場合の例で説明した。しかし、単一のフォトマスク１によって、被露光体６の露光パターンを露光できれば、投影光学ユニット５は、Ｘ方向の一部を覆う大きさでもよい。この場合、露光装置１００におけるＹ方向の走査露光を、Ｘ方向にずらして複数回行うことによって、被露光体６の全体が露光される。

［第９の実施形態］
　本発明の第９の実施形態の露光装置について説明する。
　図２５は、本発明の第９の実施形態の露光装置の一例を示す模式的な正面図である。図２６は、図２５におけるＪ視の平面図である。図２７は、本発明の第９の実施形態の露光装置の主要部の構成を示す模式的な部分断面図である。図２８は、本発明の第９の実施形態の露光装置に用いられる光透過量低減部材の一例を示す模式的な平面図である。図２９は、図２８におけるＫ－Ｋ線に沿う透過率分布を示す模式的なグラフである。図２９のグラフの横軸はＸ方向の位置、縦軸は透過率を表す。

　図２５、図２６に示す露光装置１００Ａは、複数の投影光学系によって、フォトマスク１（露光用フォトマスク、図３参照）の露光用パターンを被露光体６（露光対象物）に等倍走査露光する走査型露光装置である。露光装置１００Ａは、ベース７、第２の駆動部１１、第１の駆動部１０、照明光源２（光源、主照明光源）、視野絞り３（絞り部材）、投影光学ユニット５、を備える。ベース７、第２の駆動部１１、第１の駆動部１０、照明光源２（光源、主照明光源）、視野絞り３（絞り部材）、および投影光学ユニット５は露光装置１００に用いられるものと同様な構成を備える。
　以下、上記第１の実施形態の露光装置１００と異なる点を中心に説明する。

　図２６に示すように、投影光学ユニット５は、軸線Ｏ_３に沿って千鳥配列された複数の第１列投影光学系５Ａ（投影光学系）と、複数の第２列投影光学系５Ｂ（投影光学系）とを備える。各第１列投影光学系５Ａおよび各第２列投影光学系５Ｂには、それぞれ、後述する光減衰フィルタ（光透過量低減部材）８（図２７参照）が設けられている。
　各第２列投影光学系５Ｂは、第１列投影光学系５Ａと配置が異なるのみで第１列投影光学系５Ａと同様の構成を備える。

　図２７に示すように、第１列投影光学系５Ａ（第２列投影光学系５Ｂ）は、レンズ５ａと、レンズ鏡筒５ｂと、を備える。
　レンズ５ａは、物体像を像面に正立等倍像として結像する結像光学系からなる。
　レンズ鏡筒５ｂは、レンズ５ａの光軸が上下軸に平行になる姿勢でレンズ５ａを保持する。
　第１列投影光学系５Ａ（第２列投影光学系５Ｂ）は、フォトマスク１のマスクパターンＰとレジストが塗布された被露光体６の上面とを互いに共役な位置関係にする位置に配置される。本実施形態では、第１列投影光学系５Ａから被露光体６に向かう出射光は、平行光束になっている。

　図２７に示すように、露光装置１００Ａは、投影光学ユニット５における各レンズ鏡筒５ｂの下端部に、それぞれ光減衰フィルタ８（光透過量低減部材）が配置されている。各光減衰フィルタ８は、レンズ鏡筒５ｂの下端部と固定されるフィルタホルダ９ｃによって、レンズ５ａに対して決められた位置に固定されている。
　光減衰フィルタ８は、第１列投影光学系５Ａ（第２列投影光学系５Ｂ）を透過する露光光Ｌ_１Ａ（Ｌ_１Ｂ）を、少なくとも一部の光量が低減された露光光Ｌ_５Ａ（Ｌ_５Ｂ）に変換する。
　露光光Ｌ_５Ａ（Ｌ_５Ｂ）は、被露光体６上における後述の光量補正領域Ｍ_１（図２８、図３０参照）に照射される。ここで、被露光体６上における光量補正領域Ｍ_１とは、平面視において少なくとも単独開口領域ｒ_Ｓと重なる領域である。本実施形態では、一例として、光量補正領域Ｍ_１は単独開口領域ｒ_Ｓのみと重なる領域とされている。すなわち、光量補正領域Ｍ_１は、平面視においてＸ方向における単独開口領域ｒ_Ｓの幅がＹ方向に延長された帯状の領域と重なる。

　また、フィルタホルダ９ｃの中心部には、少なくとも減光部８ａを透過した露光光Ｌ_５Ａ（Ｌ_５Ｂ）を透過させる貫通孔９ｇが形成されている。
　フィルタホルダ９ｃは、レンズ鏡筒５ｂに対して、下方から着脱可能に取り付けられている。フィルタホルダ９ｃの着脱手段は、光減衰フィルタ８の減光部８ａを平面視にて上述の光量補正領域Ｍ_１の範囲と重なるように配置できれば、特に限定されない。例えば、レンズ鏡筒５ｂに対して周方向に位置決め可能な適宜のマウント、ネジ嵌合などが用いられてもよい。本実施形態では、レンズ５ａから出射される露光光Ｌ_５Ａ（Ｌ_５Ｂ）は、光軸に沿う平行光束であるため、光軸方向（上下方向）における光減衰フィルタ８の位置合わせは、高精度に行われなくてもよい。

　フィルタホルダ９ｃによって、横方向の位置が位置合わせされた状態で光減衰フィルタ８が保持される。これにより、光減衰フィルタ８は、上述したように、減光部８ａが平面視にて光量補正領域Ｍ_１と重なる位置関係に配置される。

　次に、図２８に示すように、光減衰フィルタ８は、減光部８ａ（均一濃度フィルタ）と、光透過部８ｂと、を備える。
　減光部８ａは、視野絞り３およびレンズ５ａを透過した露光光Ｌ_１Ａ（Ｌ_１Ｂ）を一定の透過率Ｔ_Ｌ１で減衰させる部位である。
　減光部８ａは、平面視にて、外形がＸ方向およびＹ方向に沿う矩形状に形成されている。減光部８ａは、平面視にて、光減衰フィルタ８が対向する第１開口部３Ａ（第２開口部３Ｂ）の単独開口領域ｒ_ＳのＸ方向の全体を覆う部位に形成されている。このため、減光部８ａのＸ方向における幅は、光減衰フィルタ８が対向する第１開口部３Ａ（第２開口部３Ｂ）の単独開口領域ｒ_ＳのＸ方向における幅と等しい。減光部８ａのＹ方向における幅は、光減衰フィルタ８が対向する第１開口部３Ａ（第２開口部３Ｂ）の単独開口領域ｒ_ＳのＹ方向における幅以上である。

　光透過部８ｂは、光減衰フィルタ８において、減光部８ａを除く領域に形成されている。光透過部８ｂの透過率Ｔ_ｍａｘは、減光部８ａの透過率Ｔ_Ｌ１よりも大きい。光透過部８ｂの透過率は、９０％以上１００％以下であることがより好ましい。

　このような構成により、光減衰フィルタ８は、Ｘ方向において、図２９に曲線２３１で示すような透過率分布を有する。
　図２９の横軸における符号は、図２８に記載されたＫ－Ｋ線上の同符号の点の位置を表す。
　点ａは、Ｋ－Ｋ線における光減衰フィルタ８のＸ方向負方向側（negative X direction側、Ｘ方向の一方側、図示左側）の端点である。点ｂから点ｄまでの区間および点ｅから点ｇまでの区間は、それぞれ複合開口領域ｒ_Ｃと重なる区間である。点ｃ、ｆはそれぞれ複合開口領域ｒ_ＣのＸ方向における中点である。点ｄから点ｅまでの区間は、単独開口領域ｒ_Ｓと重なる区間である。点ｈは、Ｋ－Ｋ線における光減衰フィルタ８のＸ方向正方向側（positive X direction側、Ｘ方向の他方側、図示右側）の端点である。
　減光部８ａは、点ｄから点ｅまでの間に配置されている。光透過部８ｂは、点ａから点ｄおよび点ｅから点ｈまでの各区間に形成されている。
　曲線２３１は、点ｄから点ｅまでの間で一定値Ｔ_Ｌ１、それ以外の位置において一定値Ｔ_ｍａｘ（ただし、Ｔ_ｍａｘ＞Ｔ_Ｌ１）をとる折れ線である。

　光減衰フィルタ８は、例えば、ガラス基板の表面において減光部８ａとなる部位に金属薄膜を蒸着するなどして製造されてもよい。

　このような構成の光減衰フィルタ８によって、視野絞り３およびレンズ５ａを透過した露光光Ｌ_１Ａ（Ｌ_１Ｂ）は、減光部８ａ、光透過部８ｂの透過率に応じて光減衰した露光光Ｌ_５Ａ（Ｌ_５Ｂ）に変換される。減光部８ａの透過率Ｔ_Ｌ１は、露光光Ｌ_５Ａ（Ｌ_５Ｂ）による後述する実効的な露光量のむらが低減できるように、０％を超え１００％未満の範囲から選ばれる。減光部８ａの透過率Ｔ_Ｌ１の決め方については、後述する動作説明の中で説明する。

　次に、露光装置１００Ａの動作について説明する。図３０は、本発明の第９の実施形態の露光装置における露光について説明する模式図である。図３１は、本発明の第９の実施形態の露光装置の露光における積算光量について説明する模式的なグラフである。図３１のグラフにおいて、横軸はＸ方向における位置、縦軸は積算光量を表す。

　露光装置１００Ａの露光動作について説明する前に、まず、図２５に示す比較例の露光装置３００による露光動作および露光量について説明する。露光装置３００は、上記第９の実施形態の露光装置１００Ａの投影光学ユニット５に代えて、投影光学ユニット３０５を備える。投影光学ユニット３０５は、投影光学ユニット５から光減衰フィルタ８が削除されて構成される。すなわち、比較例の露光装置３００は、第１の実施形態の露光装置１００から追加露光用照明光源１２（第２の光源）、および追加露光用投影光学ユニット９（補正露光部）が削除された構成と同様である。
　比較例の露光方法は、図９に示す第１の実施形態の第１の露光と同様である。また、比較例における実効的な露光量は、図１０Ａ、図１０Ｂに示される模式図と同様である。

　図９、図１０Ａ、および図１０Ｂに示す第１の実施形態の第１の露光と同様に、比較例の露光装置３００による露光では、視野絞り３においてＹ方向に見た開口幅がＸ方向において一定であっても、複合露光領域Ａ_Ｃにおける実効的な露光量が単独露光領域Ａ_Ｓに比べて低下する。
　本実施形態では、投影光学ユニット５が光減衰フィルタ８を備えることによって、単独露光領域Ａ_Ｓにおける露光量を低減させる。これにより、複合露光領域Ａ_Ｃにおける実効的な露光量の低下に基づく実効的な露光むらが低減される。
　以下、上記比較例の動作と異なる点を中心に、本実施形態の露光方法を説明する。
　本実施形態の露光方法は、露光装置１００Ａを使用することによって好適に行われる。
　本実施形態の露光方法は、（１）視野絞り３を含む露光装置１００Ａを準備することと、（２）露光を行うことと、を含み、露光を行う際に、光透過量低減部材により、平面視において光量補正領域における露光量を低減する。

　露光装置１００Ａの露光動作においては、以下の点が露光装置３００の動作と異なる。投影光学ユニット５から出射される露光光Ｌ_５Ａ、Ｌ_５Ｂは光減衰フィルタ８を透過する。このため、露光光Ｌ_５Ａ、Ｌ_５Ｂによって、被露光体６に投影される光像の光量分布が、第１の光像１３Ａ、第２の光像１３Ｂの光量分布とは異なる。被露光体６に投影される光像の光量低下は、光減衰フィルタ８の減光部８ａの透過率と光透過部８ｂの透過率とに基づく。
　図３０に示すように、露光光Ｌ_５Ａ（Ｌ_５Ｂ）によって、被露光体６に投影される第１の光像Ｉ_５Ａ（第２の光像Ｉ_５Ｂ）は、第１光減衰像Ｉ_８ａと第２光減衰像Ｉ_８ｂとによって構成される。
　第１光減衰像Ｉ_８ａは、第１開口部３Ａ（第２開口部３Ｂ）の範囲において減光部８ａと重なる領域に形成される。本実施形態の場合、第１光減衰像Ｉ_８ａは、単独開口領域ｒ_Ｓの範囲の光像である。第１光減衰像Ｉ_８ａの光量は、第１の光像１３Ａ（第２の光像１３Ｂ）の光量から、減光部８ａの透過率Ｔ_Ｌ１に応じて低下している。
　第２光減衰像Ｉ_８ｂは、第１開口部３Ａ（第２開口部３Ｂ）の範囲において光透過部８ｂと重なる領域に形成される。本実施形態の場合、第２光減衰像Ｉ_８ｂは、複合開口領域ｒ_Ｃの範囲の光像である。第２光減衰像Ｉ_８ｂの光量は、第１の光像１３Ａ（第２の光像１３Ｂ）の光量から、光透過部８ｂの透過率Ｔ_ｍａｘに応じて低下している。ただし、Ｔ_ｍａｘ＞Ｔ_Ｌ１であるため、第２光減衰像Ｉ_８ｂの光量は第１光減衰像Ｉ_８ａの光量に比べて大きい。

　このため、第１の光像Ｉ_５Ａ、第２の光像Ｉ_５Ｂが被露光体６上を走査した場合の積算光量は、複合開口領域ｒ_Ｃではあまり低下しないのに対して、単独開口領域ｒ_Ｓではより大きく低下する。
　比較例と対比しやすいように、透過率Ｔ_ｍａｘが１００％の場合における走査露光時の積算光量を図３１に示す。
　図３１の横軸における符号は、図３０に記載されたＬ－Ｌ線上の同符号の点の位置を表す。Ｌ－Ｌ線上の点ｉ、ｊ、ｋ、ｍ、ｎ、ｐ、ｑ、ｒは、それぞれ光減衰フィルタ８のＫ－Ｋ線上の点ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈに対応している。このため、点ｊから点ｍまでの区間および点ｎから点ｑまでの区間は、それぞれ平面視にて複合開口領域ｒ_Ｃと重なる複合露光領域Ａ_Ｃである。点ｍから点ｎまでの区間は、平面視にて単独開口領域ｒ_Ｓと重なる単独露光領域Ａ_Ｓである。本実施形態では、単独露光領域Ａ_Ｓは光量補正領域Ｍ_１になっている。
　図３１における曲線２３２（実線参照）は本実施形態における積算光量を示し、曲線２３３（一点鎖線参照）は比較例における積算光量を示す。ただし、複合露光領域Ａ_Ｃでは、曲線２３３は曲線２３２と重なっている。

　曲線２３２、２３３に示されるように、本実施形態における積算光量は、複合露光領域Ａ_Ｃでは、比較例の積算光量と同様になる。このため、複合露光領域Ａ_Ｃでは、例えば、点ｊと点ｋとの間では、積算光量がΔＱ（＝ｑ_０－ｑ_６）だけ低下している。
　これに対して、光量補正領域Ｍ_１に重なる単独露光領域Ａ_Ｓの積算光量は、比較例における同領域の積算光量と比較し、減光部８ａの透過率Ｔ_Ｌ１に応じて低下している。また、光量補正領域Ｍ_１に重なる単独露光領域Ａ_Ｓの積算光量は、一定値Ｑ（ただし、ｑ_６＜Ｑ＜ｑ_０）である。
　このように、本実施形態では、積算光量の全変動幅ΔＱは比較例と変わらない。しかし、比較例と比べ、単独露光領域Ａ_Ｓの積算光量がｑ_０からＱに低下される。これにより、単独露光領域Ａ_Ｓの露光量に対する複合露光領域Ａ_Ｃの露光量の変動量がΔＱよりも小さくなる。
　特に、減光部８ａの透過率Ｔ_Ｌ１を適宜設定することで、Ｑ＝（ｑ_０＋ｑ_６）／２とする。この時、単独露光領域Ａ_Ｓの露光量に対する複合露光領域Ａ_Ｃの露光量の変動量は、ΔＱ／２になるため、露光むらが最小化される。このため、減光部８ａの透過率Ｔ_Ｌ１は、Ｑ＝（ｑ_０＋ｑ_６）／２となるように設定することがより好ましい。
　このようにして、単独露光領域Ａ_Ｓの露光量に対する複合露光領域Ａ_Ｃの露光量のむらが低減されると、露光領域の継ぎ目に起因する露光むらが低減される。これにより、例えば、マスクパターンＰに対応する線幅の変動などが低減され、より高精度の露光パターンが得られる。

　以上説明したように、本実施形態の露光装置１００Ａによれば、千鳥配列された複数の投影光学系を用いる場合に、露光領域の継ぎ目に起因する露光むらを低減することができる。

［第１０の実施形態］
　本発明の第１０の実施形態の露光装置について説明する。
　図３２は、本発明の第１０の実施形態の露光装置に用いられる光透過量低減部材の一例を示す模式的な平面図である。図３３は、図３２におけるＮ－Ｎ線に沿う透過率分布を示す模式的なグラフである。図３３のグラフの横軸はＸ方向の位置、縦軸は透過率を表す。図３４は、本発明の第１０の実施形態の露光装置の露光における積算光量について説明する模式的なグラフである。図３４のグラフの横軸はＸ方向の位置、縦軸は積算光量を表す。

　図２５、図２６に示すように、本実施形態の露光装置１１０は、上記第９の実施形態の露光装置１００Ａの投影光学ユニット５に代えて、投影光学ユニット１５を備える。
　図２７に示すように、投影光学ユニット１５は、上記第９の実施形態における投影光学ユニット５の光減衰フィルタ８に代えて、光減衰フィルタ１８（光透過量低減部材）を備える。
　以下、上記第９の実施形態と異なる点を中心に説明する。

　図２７に示すように、光減衰フィルタ１８は、上記第９の実施形態における光減衰フィルタ８と同様、投影光学ユニット１５における第１列投影光学系５Ａ、第２列投影光学系５Ｂの各レンズ鏡筒５ｂの下端部に、それぞれ配置されている。各光減衰フィルタ１８は、レンズ鏡筒５ｂの下端部と固定されるフィルタホルダ９ｃによって、レンズ５ａに対する位置が固定されている。
　光減衰フィルタ１８は、第１列投影光学系５Ａ（第２列投影光学系５Ｂ）を透過した露光光Ｌ_１Ａ（Ｌ_１Ｂ）を、少なくとも一部の光量が低減された露光光Ｌ_１５Ａ（Ｌ_１５Ｂ）に変換する。
　露光光Ｌ_１５Ａ（Ｌ_１５Ｂ）は、被露光体６上における後述の光量補正領域Ｍ_２（図３２参照）に照射される。ここで、被露光体６上における光量補正領域Ｍ_２とは、平面視において少なくとも単独開口領域ｒ_Ｓと重なる領域である。本実施形態では、一例として、光量補正領域Ｍ_２は単独開口領域ｒ_Ｓと単独開口領域ｒ_Ｓの両端部に隣接する各複合開口領域ｒ_Ｃの一部と重なる領域とされている。

　図３２に示すように、光減衰フィルタ１８は、上記第９の実施形態の減光部８ａに代えて、減光部１８ａ（均一濃度フィルタ）を備える。

　減光部１８ａは、上記第９の実施形態の減光部８ａのＸ方向の両端部を、外側に延ばして構成される。減光部８ａのＸ方向の両端部は、それぞれ複合開口領域ｒ_ＣのＸ方向の幅の５０％未満だけ延ばされている。図３２に示す例では、減光部１８ａは、一例として、減光部８ａよりも、複合開口領域ｒ_ＣのＸ方向の幅の２５％ずつＸ方向の両側に拡幅されている。
　減光部１８ａは、平面視にて、第１開口部３Ａ（第２開口部３Ｂ）の単独開口領域ｒ_Ｓの全体と、これに隣接するＸ方向の両側の複合開口領域ｒ_Ｃの一部の領域（図３２では、複合開口領域ｒ_Ｃの四分の一の領域）とそれぞれ重なるように配置されている。
　減光部１８ａの透過率は、上記第９の実施形態における減光部８ａと同様である。

　本実施形態における光透過部８ｂは、光減衰フィルタ１８において、減光部１８ａを除く領域に形成されている。

　このような構成により、光減衰フィルタ１８は、Ｘ方向において、図３３に曲線２３４で示すような透過率分布を有する。
　図３３の横軸における符号は、図３２に記載されたＮ－Ｎ線上の同符号の点の位置を表す。点ａ～点ｈの意味は、上記第９の実施形態の説明と同様である。ただし、点ｃ’（ｆ’）は、線分ｃｄ（ｅｆ）の中点である。
　曲線２３４は、点ｃ’と点ｆ’との間で、上記第９の実施形態における減光部８ａと同様、最小値Ｔ_Ｌ１をとり、それ以外の位置において一定値Ｔ_ｍａｘをとる。
　光減衰フィルタ１８は、光減衰フィルタ８と同様にして製造される。

　このような構成の光減衰フィルタ１８によって、視野絞り３およびレンズ５ａを透過した露光光Ｌ_１Ａ（Ｌ_１Ｂ）は、減光部１８ａおよび光透過部８ｂの透過率に応じて光減衰した露光光Ｌ_１５Ａ（Ｌ_１５Ｂ）に変換される。

　露光装置１１０によれば、上記第９の実施形態の露光装置１００Ａと同様にして露光が行われる。
　露光装置１１０の露光動作においては、投影光学ユニット１５から出射される露光光Ｌ_１５Ａ、Ｌ_１５Ｂは光減衰フィルタ１８を透過している。このため、以下の点が露光装置１００Ａの動作と異なる。露光光Ｌ_１５Ａ、Ｌ_１５Ｂによって、被露光体６に投影される第１の光像（第２の光像）の光像の光量分布が、第１の光像Ｉ_８Ａ、第２の光像Ｉ_８Ｂの光量分布とは異なる。

　露光光Ｌ_１５Ａ、Ｌ_１５Ｂが被露光体６上を走査した場合の積算光量のグラフを図３４示す。ただし、図３４には、図３１と同様、上述の比較例と対比しやすいように、透過率Ｔ_ｍａｘが１００％の場合における走査露光時の積算光量が示されている。
　図３４の横軸における符号ｉ～ｒは、被露光体６上における図３２の点ａ～ｈの対応点を表す。ただし、点ｃ’、ｆ’に対応する位置は、それぞれ符号ｍ’、ｎ’で示されている。点ｊ’、ｑ’は、第１列投影光学系５Ａに隣り合う第２列投影光学系５Ｂに配置された減光部８ａの点ｆ’、ｃ’に相当する位置を表す。
　このため、点ｊから点ｍまでの区間および点ｎから点ｑまでの区間は、それぞれ平面視にて複合開口領域ｒ_Ｃと重なる複合露光領域Ａ_Ｃである。点ｍから点ｎまでの区間は、平面視にて単独開口領域ｒ_Ｓと重なる単独露光領域Ａ_Ｓである。
　本実施形態では、光減衰フィルタ１８の減光部１８ａの透過光が照射される光量補正領域Ｍ_２は、Ｘ方向において単独開口領域ｒ_Ｓの全体と重なる領域と、そのＸ方向両側において複合開口領域ｒ_Ｃの四分の一と重なる領域と、からなる。
　図３４における曲線２３５（実線参照）は本実施形態における積算光量を示し、曲線２３３（一点鎖線参照）は比較例における積算光量を示す。曲線２３６（破線参照）は、各光減衰フィルタ１８の作用による光減衰量を示す。

　曲線２３６に示されるように、本実施形態における積算光量は、光量補正領域Ｍ_２の範囲で、透過量が一定の割合で低下する。このため、曲線２３３で表される比較例の積算光量と比較し、光量補正領域Ｍ_２の範囲で透過量は、全体的に低下する。グラフ上では、比較例の積算光量が下方に平行移動する。例えば、点ｍから点ｎまでの積算光量はｑ_０からＱに低下する。同様に、点ｊから点ｊ’、点ｍ’から点ｍ、点ｎから点ｎ’、および点ｑから点ｑ’の各領域の光量が点ｍから点ｎまでの光量Ｑ以下に低下する。
　このため、曲線２３５に示されるように、本実施形態における積算光量は、単独露光領域Ａ_ＳではＱ（ただし、ｑ_６＜Ｑ＜ｑ_０）、複合露光領域Ａ_Ｃでは、ｑ_６からＱの間で振動する光量分布を示す。
　本実施形態における光減衰フィルタ１８により、透過率Ｔ_Ｌ１と、減光部１８ａおよび光透過部８ｂの透過率の変化率と、を適宜に設定する。これによって、積算光量の全変動幅Ｑ－ｑ_６の大きさを、比較例の積算光量の全変動幅ΔＱよりも小さくすることができる。
　このように、本実施形態では、積算光量の全変動幅Ｑ－ｑ_６自体を比較例よりも低減することができる。さらに、複合露光領域Ａ_Ｃにおける露光量のむらの大きさも低減されるため、露光領域の継ぎ目に起因する露光むらが低減される。これにより、例えば、マスクパターンＰに対応する線幅の変動などが低減され、より高精度の露光パターンが得られる。

　以上説明したように、本実施形態の露光装置１１０によれば、千鳥配列された複数の投影光学系を用いる場合に、露光領域の継ぎ目に起因する露光むらを低減することができる。

［第１１の実施形態］
　本発明の第１１の実施形態の露光装置について説明する。
　図３５は、本発明の第１１の実施形態の露光装置に用いられる光透過量低減部材の一例を示す模式的な平面図である。図３６は、図３５におけるＱ－Ｑ線に沿う透過率分布を示す模式的なグラフである。図３６のグラフの横軸はＸ方向の位置、縦軸は透過率を表す。図３７は、本発明の第１１の実施形態の露光装置の露光における積算光量について説明する模式的なグラフである。図３７のグラフの横軸はＸ方向の位置、縦軸は積算光量を表す。

　図２５、図２６に示すように、本実施形態の露光装置１２０は、上記第９の実施形態の露光装置１００Ａの投影光学ユニット５に代えて、投影光学ユニット２５を備える。
　図２７に示すように、投影光学ユニット２５は、上記第９の実施形態における投影光学ユニット５の光減衰フィルタ８に代えて、光減衰フィルタ２８（光透過量低減部材）を備える。
　以下、上記第９の実施形態と異なる点を中心に説明する。

　図２７に示すように、光減衰フィルタ２８は、上記第９の実施形態における光減衰フィルタ８と同様、投影光学ユニット２５における第１列投影光学系５Ａ、第２列投影光学系５Ｂの各レンズ鏡筒５ｂの下端部に、それぞれ配置されている。各光減衰フィルタ２８は、レンズ鏡筒５ｂの下端部と固定されるフィルタホルダ９ｃによって、レンズ５ａに対する位置が固定されている。
　光減衰フィルタ２８は、第１列投影光学系５Ａ（第２列投影光学系５Ｂ）を透過した露光光Ｌ_１Ａ（Ｌ_１Ｂ）を、少なくとも一部の光量が低減された露光光Ｌ_２５Ａ（Ｌ_２５Ｂ）に変換する。
　露光光Ｌ_２５Ａ（Ｌ_２５Ｂ）は、被露光体６上における上記第１０の実施形態と同様の光量補正領域Ｍ_２（図３５参照）に照射される。

　図３５に示すように、光減衰フィルタ２８は、第１減光部２８ａ（第１の光透過量低減部、均一濃度フィルタ）と、第２減光部２８ｂ（第２の光透過量低減部、傾斜濃度フィルタ）と、第３減光部２８ｃ（第２の光透過量低減部、傾斜濃度フィルタ）と、上記第１０の実施形態の光透過部８ｂと同様の光透過部１８ｃと、を備える。

　第１減光部２８ａは、視野絞り３およびレンズ５ａを透過した露光光Ｌ_１Ａ（Ｌ_１Ｂ）を第１開口部３Ａ（第２開口部３Ｂ）における第１の光量補正領域ｍ_１において、一定の透過率Ｔ_Ｌ３で減衰させる部位である。第１減光部２８ａは、透過率が異なる以外は、上記第９の実施形態における減光部８ａと同様に形成されている。

　第２減光部２８ｂは、視野絞り３およびレンズ５ａを透過した露光光Ｌ_１Ａ（Ｌ_１Ｂ）を第１開口部３Ａ（第２開口部３Ｂ）における第２の光量補正領域ｍ_２において、透過率Ｔ_ｍａｘからＴ_Ｌ３の範囲で、Ｘ方向正方向に漸次減衰させる部位である。
　第３減光部２８ｃは、視野絞り３およびレンズ５ａを透過した露光光Ｌ_１Ａ（Ｌ_１Ｂ）を第１開口部３Ａ（第２開口部３Ｂ）における第２の光量補正領域ｍ_２において、透過率Ｔ_ｍａｘからＴ_Ｌ３の範囲で、Ｘ方向負方向に漸次減衰させる部位である。

　第２減光部２８ｂおよび第３減光部２８ｃにおける透過率の変化率は、光量補正領域Ｍ_２における光量補正の必要に応じて、例えば、実験、シミュレーションなどに基づいて設定される。第２減光部２８ｂおよび第３減光部２８ｃにおける透過率の変化率は、一定（直線変化）でもよいし、適宜の関数に基づいて変化していてもよい。透過率の変化率は、単調でもよいし、非単調でもよい。さらに、透過率の変化は滑らかな変化には限定されない。例えば、透過率は、ステップ状に変化していてもよい。

　このような構成により、光減衰フィルタ２８は、Ｘ方向において、図３６に曲線２３７で示すような透過率分布を有する。
　図３６の横軸における符号は、図３５に記載されたＱ－Ｑ線上の同符号の点の位置を表す。点ａ～点ｈの意味は、上記第９の実施形態の説明と同様である。
　曲線２３７は、点ｃでＴ_ｍａｘをとり、点ｃから点ｄに向かって漸次透過率が減少し、点ｄから点ｅまでの間で一定値Ｔ_Ｌ３をとる。曲線２３７は、点ｅから点ｆに向かって漸次透過率が増大し、点ｆでＴ_ｍａｘをとる。曲線２３７はそれ以外の位置においては一定値Ｔ_ｍａｘをとる。

　光減衰フィルタ２８は、例えば、ガラス基板の表面において第１減光部２８ａ、第２減光部２８ｂ、および第３減光部２８ｃとなる部位に金属薄膜を蒸着するなどして製造されてもよい。

　このような構成の光減衰フィルタ２８によって、視野絞り３およびレンズ５ａを透過した露光光Ｌ_１Ａ（Ｌ_１Ｂ）は、第１減光部２８ａ、第２減光部２８ｂ、第３減光部２８ｃ、および光透過部１８ｃの透過率に応じて光減衰した露光光Ｌ_２５Ａ（Ｌ_２５Ｂ）に変換される。透過率Ｔ_Ｌ３は、露光光Ｌ_２５Ａ（Ｌ_２５Ｂ）による後述する実効的な露光量のむらが低減できるように、０％を超え１００％未満の範囲から選ばれる。

　露光装置１２０によれば、上記第９の実施形態の露光装置１００Ａと同様にして露光が行われる。
　露光装置１２０の露光動作においては、投影光学ユニット２５から出射される露光光Ｌ_２５Ａ、Ｌ_２５Ｂは光減衰フィルタ２８を透過している。このため、以下の点が露光装置１００Ａの動作と異なる。露光光Ｌ_２５Ａ、Ｌ_２５Ｂによって、被露光体６に投影される第１の光像（第２の光像）光像の光量分布が、第１の光像Ｉ_８Ａ、第２の光像Ｉ_８Ｂの光量分布とは異なる。

　露光光Ｌ_２５Ａ、Ｌ_２５Ｂが被露光体６上を走査した場合の積算光量のグラフを図３７示す。ただし、図３７には、図３１と同様、上述の比較例と対比しやすいように、透過率Ｔ_ｍａｘが１００％の場合における走査露光時の積算光量が示されている。
　図３７の横軸における符号ｉ～ｒは、被露光体６上における図３５の点ａ～ｈの対応点を表す。
　このため、点ｊから点ｍまでの区間および点ｎから点ｑまでの区間は、それぞれ平面視にて複合開口領域ｒ_Ｃと重なる複合露光領域Ａ_Ｃである。点ｍから点ｎまでの区間は、平面視にて単独開口領域ｒ_Ｓと重なる単独露光領域Ａ_Ｓである。
　図３７における曲線２３８（実線参照）は本実施形態における積算光量を示し、曲線２３３（一点鎖線参照）は比較例における積算光量を示す。曲線２３９（破線参照）は、各光減衰フィルタ２８の作用による光減衰量を示す。

　本実施形態では、単独露光領域Ａ_Ｓおよび複合露光領域Ａ_Ｃの両方が光量補正領域Ｍ_２になっている。このため、曲線２３３で表される比較例の積算光量と比較し、曲線２３８に示される本実施形態のおける積算光量は、全体的に低下する。
　本実施形態では、第１減光部２８ａによって第１の光量補正領域ｍ_１の積算光量がＱ_４（ただし、ｑ_６＜Ｑ_４＜ｑ_０）になるように、透過率Ｔ_Ｌ３が設定される。
　このため、第２減光部２８ｂ（第３減光部２８ｃ）による第２の光量補正領域ｍ_２の積算光量の最大値Ｑ_３は、Ｑ_４＜Ｑ_３＜ｑ_０を満足する。第２の光量補正領域ｍ_２の積算光量の最小値はｑ_６になる。
　この結果、曲線２３８に示される積算光量の全変動幅Ｑ_３－ｑ_６が、比較例の変動幅ΔＱに比べて小さくなる（Ｑ_３－ｑ_６＜ΔＱとなる）ため、積算光量の変動幅自体が低減される。
　さらに、透過率Ｔ_Ｌ３を適宜設定することによって、大部分の単独露光領域Ａ_Ｓにおける積算光量となるＱ_４の値をＱ_３とｑ_６との中間の値に設定することが可能である。この場合、積算光量Ｑ_４の変動幅を（Ｑ_３－ｑ_６）／２（＜ΔＱ／２）にできるため、上記第９の実施形態に比べて、露光領域の継ぎ目に起因する露光むらがさらに低減される。これにより、例えば、マスクパターンＰの露光パターンの線幅の変動が低減されるので、本発明により作製される液晶表示装置などのカラーフィルタのブラックマトリックスにむらが視認されにくい露光パターンが得られる。
　上記第１０の実施形態では、積算光量の全変動幅を低減するために比較例の最低の積算光量よりもさらに低い光量となる部位が生じる。これに対して、本実施形態の光減衰フィルタ２８によれば、積算光量の最低値は比較例と同様である。このため、本実施形態によれば、積算光量の相対的な低下量が、上記第１０の実施形態よりも少なくなる。

　以上説明したように、本実施形態の露光装置１２０によれば、千鳥配列された複数の投影光学系を用いる場合に、露光領域の継ぎ目に起因する露光むらを低減することができる。

［変形例］
　次に、本実施形態において、露光むらをさらに低減できる具体的な変形例について説明する。
　図３８は、本発明の第１１の実施形態の変形例の露光装置の光透過量低減部材の透過率分布を示す模式的なグラフである。図３８のグラフの横軸はＸ方向の位置、縦軸は透過率を表す。図３９は、本発明の第１１の実施形態の変形例の露光装置の露光における積算光量について説明する模式的なグラフである。図３９のグラフの横軸はＸ方向の位置、縦軸は積算光量を表す。

　本変形例は、光減衰フィルタ２８による透過率の設定のみが上記第１１の実施形態と異なる。
　図３８に示すように、本変形例では、第１減光部２８ａの透過率Ｔ_Ｌ３は、単独露光領域Ａ_Ｓにおける積算光量をｑ_６に設定できる大きさとされる。
　本変形例では、第２減光部２８ｂ（第３減光部２８ｃ）の透過率は、複合露光領域Ａ_Ｃにおける比較例の実効的な積算光量の低下量を相殺するように設定される。すなわち、点ｄから点ｃ（点ｅから点ｆ）に向かって、透過率がＴ_Ｌ３からＴ_ｍａｘまで漸次増大させるように設定される。
　このような本変形例の光減衰フィルタ２８における積算光量の補正効果は図３９における曲線２３９（破線参照）のように、比較例の積算光量を示す曲線２３３（一点鎖線参照）を上下方向に反転させたような曲線で表される。
　この結果、本変形例の光減衰フィルタ２８を透過した露光光の実効的な積算光量は、図３９に曲線２３８（実線参照）で示すような一定値ｑ_６になる。
　このように、本変形例によれば、光減衰フィルタ２８の透過率分布を、比較例の実効的な積算光量に対して、最適化を図ることによって、露光むらを低減することが可能になる。

　なお、上記各実施形態の説明では、露光装置において、光源、絞り部材、および投影光学系（以下、露光部と称する）が固定され、露光用フォトマスクおよび露光対象物（以下、被露光物と称する）が移動することによって走査露光が行われる場合の例で説明した。
　しかし、走査露光は、露光部と、被露光物と、が走査方向（Ｙ方向、第１の方向）に相対移動して、相対走査が行われればよい。したがって、露光装置において、露光部が走査方向に移動し、被露光物が固定されていてもよい。さらに、露光装置において、露光部および被露光物がそれぞれ移動してもよい。

　上記第１～第８実施形態の説明では、視野絞り３、４が、第１の投影光学系の全体を１枚で対応する構成、また上記第９～第１１実施形態の説明では、視野絞り３、４が、投影光学系の全体を１枚で対応する構成にて説明した。しかし、視野絞り３、４が、開口部を透過する光以外の照明光を第１の投影光学系または投影光学系に入射させない構成であれば、視野絞り３、４は２以上の枚数で構成されてもよい。

　上記各実施形態の説明では、光透過量低減部材が、投影光学系と露光対象物との間に配置される場合の例で説明した。しかし、光透過量低減部材は、光源から露光対象物までの間であれば、どの位置に配置されていてもよい。

　上記第９の実施形態の説明では、投影光学ユニット５が、Ｘ方向における被露光体６の全幅を露光する場合の例で説明した。しかし、単一のフォトマスク１によって、被露光体６の露光パターンを露光できれば、投影光学ユニット５は、Ｘ方向の一部を覆う大きさでもよい。この場合、露光装置１００ＡにおけるＹ方向の走査露光を、Ｘ方向にずらして複数回行うことによって、被露光体６の全体が露光される。

　以上、本発明の好ましい各実施形態を説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されることはない。本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、構成の付加、省略、置換、およびその他の変更が可能である。
　また、本発明は前述した説明によって限定されることはなく、添付の特許請求の範囲によってのみ限定される。

１　フォトマスク（露光用フォトマスク）
２、３２　主照明光源（照明光源、第１の光源）
３、４、３３Ａ、３３Ｂ　視野絞り（絞り部材）
３Ａ、４Ａ　第１開口部（開口部）
３Ｂ、４Ｂ　第２開口部（開口部）
５、１５、２５、３５　投影光学ユニット
５Ａ　第１列投影光学系（投影光学系、第１の投影光学系）
５Ｂ　第２列投影光学系（投影光学系、第１の投影光学系）
６　被露光体（露光対象物）
７　ベース
８、１８、２８　光減衰フィルタ（光透過量低減部材）
８ａ、１８ａ　減光部（均一濃度フィルタ）
９、１９、２９、４９、５９、６９、７９　追加露光用投影光学ユニット（補正露光部）
９Ａ、４９Ａ　第１列投影光学系
９Ｂ、４９Ｂ　第２列投影光学系
９ａ　レンズユニット（第２の投影光学系）
９ｂ、１９ｂ　フィルタ（光透過量規制部材、光減衰フィルタ）
９ｄ、１９ｄ　第１減光部
９ｅ、１９ｅ　第２減光部
１２、４２、５２　追加露光用照明光源（第２の光源）
１３Ａ　第１の光像
１３Ｂ　第２の光像
１９Ａ、５９Ａ、６９Ａ、７９Ａ　投影光学系
１９ｄ_Ａ　第１の補正用光像
１９ｄ_Ｂ　第４の補正用光像
１９ｅ_Ａ　第３の補正用光像
１９ｅ_Ｂ　第２の補正用光像
２８ａ　第１減光部（第１の光透過量低減部、均一濃度フィルタ）
２８ｂ　第２減光部（第２の光透過量低減部、傾斜濃度フィルタ）
２８ｃ　第３減光部（第２の光透過量低減部、傾斜濃度フィルタ）
４９ａ、４９ｄ、５９ａ、５９ｄ　アパーチャ（光透過量規制部材、開口絞り）
６９ａ、６９ｂ、６９ｃ　開口可変アパーチャ（光透過量規制部材、開口絞り）
７９ａ　液晶シャッターパネル（光透過量規制部材、液晶シャッター）
１００、１００Ａ、１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６、１０７、１１０、１２０　露光装置
Ａ_Ｃ　複合露光領域
Ａ_Ｓ、Ａ_Ｓ１、Ａ_Ｓ２　単独露光領域
Ｌ_１Ａ、Ｌ_１Ｂ、Ｌ_１１Ａ、Ｌ_１１Ｂ、Ｌ_５Ａ、Ｌ_５Ｂ、Ｌ_１５Ａ、Ｌ_１５Ｂ、Ｌ_２５Ａ、Ｌ_２５Ｂ、　第１の露光光（露光光）
Ｌ_２Ａ、Ｌ_２Ｂ、Ｌ_１２Ａ、Ｌ_１２Ｂ、Ｌ_２２Ａ　第２の露光光
Ｉ_５Ａ、Ｉ_８Ａ　第１の光像
Ｉ_５Ｂ、Ｉ_８Ｂ　第２の光像
Ｍ、Ｍ_Ｌ、Ｍ_Ｒ、Ｍ_１、Ｍ_２　光量補正領域
ｍ_１　第１の光量補正領域
ｍ_２　第２の光量補正領域
Ｏ_３、Ｏ_４　軸線（第２の軸線）
Ｏ_５　軸線（第１の軸線）
Ｏ_９、Ｏ_１３、Ｏ_１９　軸線
Ｐ　マスクパターン
ｒ_Ｃ　複合開口領域
ｒ_Ｓ　単独開口領域

Claims

　第１の露光光を発生する第１の光源と、
　平面視において第１の軸線を中心として千鳥配列された複数の開口部が形成され、前記第１の光源と露光用フォトマスクとの間に前記複数の開口部が位置するように配置された絞り部材と、
　前記絞り部材の前記複数の開口部のそれぞれと対向して配置され、前記複数の開口部のそれぞれを透過した前記第１の露光光による光像を、それぞれ露光対象物に投影する複数の第１の投影光学系と、
　前記第１の光源に対して前記第１の軸線に沿う第１の方向に隣り合うように配置され、前記露光用フォトマスクに照射する第２の露光光を発生する第２の光源と、
　前記露光用フォトマスクから前記露光対象物までの間の前記第２の露光光の光路上に配置された補正露光部と、を備え、
　前記複数の開口部の前記第１の方向の開口幅が、平面視で前記第１の軸線に交差する第２の軸線に沿う第２の方向において一定であり、
　前記絞り部材には、前記第１の方向において前記複数の開口部のうちの２つが間をあけて隣り合う複合開口領域と、前記第１の方向において前記複数の開口部のうちの１つが開口する単独開口領域と、が前記第２の方向において交互に形成されており、
　前記補正露光部は、前記露光用フォトマスクを透過した前記第２の露光光の前記露光対象物への照射範囲を、平面視において前記第２の方向における前記複合開口領域の幅が前記第１の方向に延長された領域である光量補正領域に限って前記第２の露光光を照射する、露光装置。
　前記補正露光部は、
　前記光量補正領域における前記第２の露光光の前記第１の方向における積算光量を、前記第２の方向における前記光量補正領域の両端部よりも中心部が高くなるように前記第２の露光光を照射する、
請求項１に記載の露光装置。
　前記補正露光部は、
　前記第２の露光光を前記露光対象物に向けて投影する第２の投影光学系と、
　前記露光用フォトマスクと前記露光対象物との間で、前記第２の露光光を前記光量補正領域の範囲に規制する光透過量規制部材と、
を備える、
請求項１または２に記載の露光装置。
　前記光透過量規制部材は、
　前記第２の投影光学系と前記露光対象物との間に配置された、請求項３に記載の露光装置。
　前記光透過量規制部材は、光減衰フィルタを含む、
請求項３または４に記載の露光装置。
　前記光透過量規制部材は、開口絞りを含む、
請求項３～５のいずれか１項に記載の露光装置。
　前記光透過量規制部材は、液晶シャッターを含む、
請求項３～６のいずれか１項に記載の露光装置。
　平面視において第１の軸線を中心として千鳥配列された複数の開口部が形成された絞り部材を準備することと、
　前記絞り部材の前記複数の開口部を透過する第１の露光光を、露光用フォトマスクおよび露光対象物に対して前記第１の軸線に沿う第１の方向に相対走査することによって、前記第１の露光光による前記露光用フォトマスクの光像を前記露光対象物に投影する第１の露光を行うことと、
　前記第１の露光の前または後に、第２の露光光を、前記露光用フォトマスクに照射し、前記露光用フォトマスクを透過した前記第２の露光光を前記露光用フォトマスクおよび前記露光対象物に対して前記第１の方向に相対走査することによって、前記第２の露光光による前記露光用フォトマスクの光像を前記露光対象物に投影する第２の露光を行うことと、を含み、
　前記複数の開口部の前記第１の方向の開口幅が、平面視で前記第１の軸線に交差する第２の軸線に沿う第２の方向において一定であり、
　前記絞り部材には、前記第１の方向において前記複数の開口部のうちの２つが間をあけて隣り合う複合開口領域と、前記第１の方向において前記複数の開口部のうちの１つが開口する単独開口領域と、が前記第２の方向において交互に形成されており、
　前記第２の露光を行う際に、平面視において前記第２の方向における前記複合開口領域の幅が前記第１の方向に延長された領域である光量補正領域に限って前記第２の露光光を前記露光対象物に照射する、露光方法。
　露光光を発生する光源と、
　平面視において第１の軸線を中心として千鳥配列された複数の開口部が形成され、前記光源と露光用フォトマスクとの間に前記複数の開口部が位置するように配置された絞り部材と、
　前記絞り部材の前記複数の開口部のそれぞれと対向して配置され、前記複数の開口部のそれぞれを透過した前記露光光による光像を、それぞれ露光対象物に投影する複数の投影光学系と、
　前記光源から前記露光対象物までの間の前記露光光の光路上に配置された光透過量低減部材と、を備え、
　前記複数の開口部の前記第１の軸線に沿う第１の方向の開口幅が、平面視で前記第１の軸線に交差する第２の軸線に沿う第２の方向において一定であり、
　前記絞り部材には、前記第１の方向において前記複数の開口部のうちの２つが間をあけて隣り合う複合開口領域と、前記第１の方向において前記複数の開口部のうちの１つが開口する単独開口領域と、が前記第２の方向において交互に形成されており、
　光透過量低減部材は、平面視にて少なくとも前記単独開口領域とそれぞれ重なる前記露光対象物上の光量補正領域に照射される前記露光光の光量を低減する、露光装置。
　前記光透過量低減部材は、
　平面視にて少なくとも前記単独開口領域と重なる前記露光対象物上の第１の光量補正領域に照射される前記露光光の光量を低減する第１の光透過量低減部と、
　前記第１の光透過量低減部と前記第２の方向において隣接して設けられ、平面視にて前記複合開口領域と重なる前記露光対象物上の第２の光量補正領域に照射される前記露光光の光量を低減する第２の光透過量低減部と、
を備える、請求項９に記載の露光装置。
　前記第１の光透過量低減部は、
　前記露光光の透過率を均一に低下させる均一濃度フィルタを含み、
　前記第２の光透過量低減部は、
　前記第２の方向において前記第１の光透過量低減部と隣接する部位から離れるにつれて前記露光光の透過率が増大する傾斜濃度フィルタを含む、請求項１０に記載の露光装置。
　前記光透過量低減部材は、
　前記投影光学系と前記露光対象物との間に配置された、請求項９～１１のいずれか１項に記載の露光装置。
　平面視において第１の軸線を中心として千鳥配列された複数の開口部が形成された絞り部材を準備することと、
　前記絞り部材の前記複数の開口部を透過する露光光を、露光用フォトマスクおよび露光対象物に対して前記第１の軸線に沿う第１の方向に相対走査することによって、前記露光光による前記露光用フォトマスクの光像を前記露光対象物に投影する露光を行うことと、を含み、
　前記複数の開口部の前記第１の方向の開口幅が、平面視で前記第１の軸線に交差する第２の軸線に沿う第２の方向において一定であり、
　前記絞り部材には、前記第１の方向において前記複数の開口部のうちの２つが間をあけて隣り合う複合開口領域と、前記第１の方向において前記複数の開口部のうちの１つが開口する単独開口領域と、が前記第２の方向において交互に形成されており、
　前記露光を行う際に、前記露光光を発生する光源から前記露光対象物までの間の前記露光光の光路上に配置される光透過量低減部材により、平面視にて少なくとも前記単独開口領域とそれぞれ重なる前記露光対象物上の光量補正領域に照射される前記露光光の光量を低減する、露光方法。