JP2011222856A - 空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 光源からの光により被照射面を照明する照明光学系に用いられる空間光変調ユニット(3)は、二次元的に配列されて個別に制御される複数のミラー要素(31a,32a)を有する空間光変調装置(31,32)と、複数のミラー要素の配列面の向きを変化させる変更装置とを備えている。変更装置は、複数のミラー要素の基盤を保持して傾斜可能なステージ(33,34)を有する。
【選択図】 図2
Description
二次元的に配列されて個別に制御される複数のミラー要素を有する空間光変調装置と、
前記複数のミラー要素の配列面の向きを変化させる変更装置とを備えていることを特徴とする空間光変調ユニットを提供する。
第1形態の空間光変調ユニットと、
前記空間光変調装置を経た光に基づいて、前記照明光学系の照明瞳に所定の光強度分布を形成する分布形成光学系と、
前記照明瞳に形成すべき光強度分布の外形形状に応じて、前記空間光変調装置および前記変更装置を制御する制御部とを備えていることを特徴とする照明光学系を提供する。
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する現像工程と、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する加工工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法を提供する。
2 ビーム送光部
3 空間光変調ユニット
31,32 空間光変調器
33,34 ステージ
35,36 偏向部材
4,6 リレー光学系
7 マイクロフライアイレンズ
8 コンデンサー光学系
9 マスクブラインド
10 結像光学系
DT 瞳強度分布計測部
CR 制御部
M マスク
MS マスクステージ
PL 投影光学系
W ウェハ
WS ウェハステージ
Claims (14)
- 光源からの光により被照射面を照明する照明光学系に用いられる空間光変調ユニットおいて、
二次元的に配列されて個別に制御される複数のミラー要素を有する空間光変調装置と、
前記複数のミラー要素の配列面の向きを変化させる変更装置とを備えていることを特徴とする空間光変調ユニット。 - 前記空間光変調装置は、前記複数のミラー要素を保持する基盤を有し、
前記変更装置は、前記基盤を保持して傾斜可能なステージを有することを特徴とする請求項1に記載の空間光変調ユニット。 - 前記空間光変調装置は、前記複数のミラー要素の姿勢を個別に制御駆動する駆動部を有することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の空間光変調ユニット。
- 前記駆動部は、前記複数のミラー要素の向きを連続的または離散的に変化させることを特徴とする請求項3に記載の空間光変調ユニット。
- 光源からの光に基づいて被照射面を照明する照明光学系において、
請求項1乃至4のいずれか1項に記載の空間光変調ユニットと、
前記空間光変調装置を経た光に基づいて、前記照明光学系の照明瞳に所定の光強度分布を形成する分布形成光学系と、
前記照明瞳に形成すべき光強度分布の外形形状に応じて、前記空間光変調装置および前記変更装置を制御する制御部とを備えていることを特徴とする照明光学系。 - 前記空間光変調装置は、並列に配置された第1空間光変調器と第2空間光変調器とを有し、
前記変更装置は、前記第1空間光変調器の複数のミラー要素の配列面の向きを変化させる第1変更部と、前記第2空間光変調器の複数のミラー要素の配列面の向きを変化させる第2変更部とを有し、
前記制御部は、前記複数のミラー要素の反射面が配列面に沿って整列した整列状態において前記第1空間光変調器を経た光が前記照明瞳の第1領域に達するように前記第1変更部を制御し、且つ前記整列状態において前記第2空間光変調器を経た光が前記照明瞳の第2領域に達するように前記第2変更部を制御することを特徴とする請求項5に記載の照明光学系。 - 前記分布形成光学系は、前記照明瞳に複数極状の光強度分布を形成し、
前記制御部は、前記第1領域が前記複数極状の光強度分布のうちの第1極の領域内に位置するように前記第1変更部を制御し、且つ前記第2領域が前記複数極状の光強度分布のうちの第2極の領域内に位置するように前記第2変更部を制御することを特徴とする請求項6に記載の照明光学系。 - 前記制御部は、前記第1領域が前記第1極の領域の中心に位置するように前記第1変更部を制御し、且つ前記第2領域が前記第2極の領域の中心に位置するように前記第2変更部を制御することを特徴とする請求項7に記載の照明光学系。
- 前記分布形成光学系は、前記照明瞳に複数極状の光強度分布を形成し、
前記制御部は、前記第1領域が前記複数極状の光強度分布のうちの第1極の領域と第2極の領域との間に位置するように前記第1変更部を制御し、且つ前記第2領域が前記複数極状の光強度分布のうちの第3極の領域と第4極の領域との間に位置するように前記第2変更部を制御することを特徴とする請求項6に記載の照明光学系。 - 前記制御部は、前記第1領域が前記第1極の領域の中心と前記第2極の領域の中心との中間に位置するように前記第1変更部を制御し、且つ前記第2領域が前記第3極の領域の中心と前記第4極の領域の中心との中間に位置するように前記第2変更部を制御することを特徴とする請求項9に記載の照明光学系。
- 前記被照射面と光学的に共役な面を形成する投影光学系と組み合わせて用いられ、前記照明瞳は前記投影光学系の開口絞りと光学的に共役な位置であることを特徴とする請求項5乃至10のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 所定のパターンを照明するための請求項5乃至11のいずれか1項に記載の照明光学系を備え、前記所定のパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置。
- 前記所定のパターンの像を前記感光性基板上に形成する投影光学系を備えていることを特徴とする請求項12に記載の露光装置。
- 請求項12または13に記載の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光する露光工程と、
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する現像工程と、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する加工工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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