WO2018150889A1 - 光源装置および投光装置 - Google Patents

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WO2018150889A1
WO2018150889A1 PCT/JP2018/003365 JP2018003365W WO2018150889A1 WO 2018150889 A1 WO2018150889 A1 WO 2018150889A1 JP 2018003365 W JP2018003365 W JP 2018003365W WO 2018150889 A1 WO2018150889 A1 WO 2018150889A1
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light
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light source
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一幸 松村
麻生 淳也
博隆 上野
公博 村上
古賀 稔浩
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パナソニックIpマネジメント株式会社
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Definitions

  • the present disclosure relates to a light source device that emits light and a light projecting device using the light source device.
  • a light source device that generates light of a predetermined wavelength by irradiating a wavelength conversion member with light emitted from a laser light source.
  • this light source device for example, light that has been subjected to wavelength conversion by the wavelength conversion member and diffused and light that has been diffused without being subjected to wavelength conversion by the wavelength conversion member are combined to generate light of a predetermined color such as white light. Generated.
  • a light source device is used, for example, as a light source device for a vehicle headlamp.
  • Patent Document 1 includes a reflection unit that reflects excitation light from a solid-state light source toward a phosphor (wavelength conversion member), and excitation that is reflected by the reflection unit by controlling the direction of the reflection unit.
  • An illumination device that changes the direction of light is described.
  • the present disclosure provides a light source device that can suppress the scanning trajectory of laser light from being curved on the incident surface of the wavelength conversion member, and can bring the scanning trajectory of light on the wavelength conversion member closer to a straight line, and It aims at providing the light projection apparatus using the same.
  • the first aspect of the present disclosure relates to a light source device.
  • the light source device includes a laser light source, a wavelength conversion member, and an optical deflector.
  • the laser light source emits laser light.
  • the wavelength conversion member converts the wavelength of the laser light into another wavelength and diffuses the light after wavelength conversion.
  • the optical deflector includes a mirror and a drive unit that supports the mirror, and rotates the mirror on which the laser light is incident to scan the laser light at least one dimension on the surface of the wavelength conversion member.
  • the mirror is arranged so that laser light is incident on the surface of the wavelength conversion member from an oblique direction.
  • the optical deflector is configured to displace the drive unit so as to suppress the curvature of the locus formed by scanning the laser beam on the wavelength conversion member as the mirror rotates.
  • the drive unit is displaced so as to suppress the curvature of the scanning trajectory of the laser light on the wavelength conversion member as the drive unit rotates.
  • the second aspect of the present disclosure relates to a light projecting device.
  • the light projecting device according to the second aspect includes the light source device according to the first aspect and a projection optical system that projects the light diffused by the wavelength conversion member.
  • the same effect as in the first aspect can be achieved.
  • the scanning locus of the laser beam is curved on the incident surface of the wavelength conversion member. It can be suppressed, and the scanning trajectory of light on the wavelength conversion member can be brought close to a straight line.
  • FIG. 1 is a perspective view illustrating a configuration of a light projecting device according to the first embodiment.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a configuration of the light projecting device according to the first embodiment.
  • FIG. 3A is a perspective view showing the configuration of the optical deflector according to the first embodiment.
  • FIG. 3B is a cross-sectional perspective view showing the configuration of the optical deflector according to the first embodiment.
  • FIG. 4A is a side view schematically showing the configuration of the wavelength conversion member according to the first embodiment.
  • FIG. 4B is a plan view schematically showing the configuration of the wavelength conversion member according to the first embodiment.
  • FIG. 5A is a plan view illustrating a configuration of a leaf spring according to the first embodiment.
  • FIG. 5B is a plan view showing a configuration of a leaf spring according to a first comparative example.
  • FIG. 6A is a diagram schematically illustrating the rotation process of the support portion and the mirror according to the first comparative example.
  • FIG. 6B is a diagram schematically illustrating the rotation process of the support portion and the mirror according to the first comparative example.
  • FIG. 6C is a diagram schematically illustrating the rotation process of the support unit and the mirror according to the first comparative example.
  • FIG. 6D is a diagram schematically illustrating a scanning trajectory of laser light on the incident surface of the wavelength conversion member according to the first comparative example.
  • FIG. 7A is a diagram schematically illustrating the rotation process of the support unit and the mirror according to the first embodiment.
  • FIG. 7B is a diagram schematically illustrating the rotation process of the support unit and the mirror according to the first embodiment.
  • FIG. 7C is a diagram schematically illustrating the rotation process of the support unit and the mirror according to the first embodiment.
  • FIG. 7D is a diagram schematically illustrating a scanning locus of laser light on the incident surface of the wavelength conversion member according to the first embodiment.
  • FIG. 8A is a diagram illustrating a simulation result of a scanning trajectory of laser light on the incident surface of the wavelength conversion member when the optical deflector according to the first comparative example is used.
  • FIG. 8B is a diagram illustrating a simulation result of the scanning trajectory of the laser light on the incident surface of the wavelength conversion member when the optical deflector according to the first embodiment is used.
  • FIG. 8A is a diagram illustrating a simulation result of a scanning trajectory of laser light on the incident surface of the wavelength conversion member when the optical deflector according to the first comparative example is used.
  • FIG. 8B is a diagram illustrating a
  • FIG. 9A is a cross-sectional view schematically showing a configuration of a leaf spring according to a modified example of the first embodiment.
  • FIG. 9B is a plan view showing a configuration of a leaf spring according to another modification of the first embodiment.
  • FIG. 10 is a perspective view showing the configuration of the optical deflector according to the second embodiment.
  • FIG. 11A is a cross-sectional view illustrating a configuration of an optical deflector according to the second embodiment.
  • FIG. 11B is a cross-sectional view showing the configuration of the optical deflector according to the second embodiment.
  • FIG. 12A is a plan view showing a configuration of a leaf spring according to the second embodiment.
  • FIG. 12B is a plan view showing a configuration of a leaf spring according to a second comparative example.
  • FIG. 13A is a diagram schematically illustrating a scanning locus of laser light on the incident surface of the wavelength conversion member according to the second embodiment.
  • FIG. 13B is a diagram schematically illustrating a scanning trajectory of laser light on the incident surface of the wavelength conversion member according to the second comparative example.
  • FIG. 14 is a perspective view showing the configuration of the optical deflector 14 according to the third embodiment.
  • FIG. 15A is a side view showing the configuration of the optical deflector 14 according to the third embodiment.
  • FIG. 15B is a plan view showing the configuration of the optical deflector 14 according to the third embodiment.
  • FIG. 16 is a perspective view illustrating a configuration of an optical deflector 14 according to a modification of the third embodiment.
  • the X, Y, and Z axes orthogonal to each other are appended to each drawing.
  • the X-axis direction and the Y-axis direction are the width direction and the depth direction of the light projecting device, respectively, and the Z-axis direction is the height direction of the light projecting device.
  • the positive Z-axis direction is the light projection direction in the light projecting device.
  • FIG. 1 is a perspective view illustrating a configuration of a light projecting device 1 according to the first embodiment.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a configuration of the light projecting device 1 according to the first embodiment.
  • FIG. 2 shows a cross-sectional view of the light projecting device 1 cut at a central position in the X-axis direction along a plane parallel to the YZ plane.
  • the light projecting device 1 includes a light source device 2 that generates light and a projection optical system 3 that projects the light generated by the light source device 2.
  • the projection optical system 3 includes two lenses 3a and 3b. The light from the light source device 2 is condensed by these lenses 3a and 3b and projected onto the target area. Note that the projection optical system 3 does not necessarily have only two lenses 3a and 3b, and may include other lenses and mirrors, for example. Further, the projection optical system 3 may be configured to condense light from the light source device 2 using a concave mirror.
  • the light source device 2 has a configuration in which various members are installed on the base 11. Specifically, a laser light source 12, a collimator lens 13, an optical deflector 14, and a wavelength conversion member 15 are installed on the base 11 as a configuration for generating projection light.
  • the collimator lens 13 is installed on the base 11 via the holder 16.
  • the laser light source 12 emits laser light in a blue wavelength band (for example, 450 nm) in the positive direction of the Z axis.
  • the laser light source 12 is made of, for example, a semiconductor laser.
  • the wavelength of the laser light emitted from the laser light source 12 can be changed as appropriate.
  • the laser light source 12 does not necessarily emit a laser beam having a single wavelength band, and may be, for example, a multi-emitting semiconductor laser in which a plurality of light emitting elements are mounted on one substrate.
  • the collimator lens 13 converts the laser light emitted from the laser light source 12 into parallel light.
  • the collimator lens 13 may be adjusted in position in the optical axis direction so that the laser light emitted from the laser light source 12 can be converged.
  • the optical deflector 14 includes a mirror 17 and changes the traveling direction of the laser light that has passed through the collimator lens 13 by rotating the mirror 17 about the rotation axis L1.
  • the incident surface of the mirror 17 is a plane.
  • the mirror 17 is, for example, a high reflectance mirror in which a dielectric multilayer film is formed on a glass plate. In the neutral position, the mirror 17 is disposed so as to be inclined by a predetermined angle in a direction parallel to the YZ plane with respect to a plane parallel to the XZ plane.
  • the rotation axis L1 of the mirror 17 is parallel to the YZ plane and tilted by a predetermined angle with respect to the Z-axis direction.
  • the configuration of the optical deflector 14 will be described later with reference to FIGS. 3A and 3B.
  • the wavelength conversion member 15 is disposed at a position where the laser beam reflected by the mirror 17 is incident.
  • the wavelength conversion member 15 is a rectangular plate-like member, and is installed on the base 11 so that the incident surface is parallel to the XY plane and the longitudinal direction is parallel to the X axis. As described above, when the mirror 17 rotates about the rotation axis L1, the wavelength conversion member 15 is scanned in the longitudinal direction by the laser light.
  • the wavelength conversion member 15 converts part of the incident laser light into a wavelength different from the blue wavelength band and diffuses it in the Z-axis direction.
  • the other laser light that has not been wavelength-converted is diffused in the Z-axis direction by the wavelength conversion member 15.
  • the light of the two types of wavelengths diffused in this way is combined to generate light of a predetermined color. Light of each wavelength is taken into the projection optical system 3 and projected onto the target area.
  • a part of the laser light is converted into light in the yellow wavelength band by the wavelength conversion member 15.
  • the diffused light in the yellow wavelength band after wavelength conversion and the scattered light in the blue wavelength band that has not been wavelength-converted are combined to generate white light.
  • the wavelength after wavelength conversion may not be a yellow wavelength range, and the color of the light produced
  • the configuration of the wavelength conversion member 15 will be described later with reference to FIGS. 4A and 4B.
  • a circuit board 18 is installed on the lower surface of the base 11.
  • a circuit for controlling the laser light source 12 and the optical deflector 14 is mounted on the circuit board 18. As shown in FIG. 1, the terminal portion of the circuit board 18 is exposed to the outside on the Y axis positive side of the base 11.
  • FIGS. 3A and 3B are a perspective view and a cross-sectional view showing the configuration of the optical deflector 14, respectively.
  • FIG. 3B shows a IIIB-IIIB cross-sectional view of the optical deflector 14 of FIG. 3A cut at a central position in the y-axis direction in a plane parallel to the xz plane.
  • FIGS. 3A and 3B newly show x, y, and z axes in order to explain the configuration of the optical deflector 14.
  • the x axis is in the same direction as the X axis shown in FIGS. 1 and 2.
  • the x, y, and z axes are obtained by rotating the X, Y, and Z axes shown in FIGS. 1 and 2 around the X axis by a predetermined angle.
  • the y axis corresponds to the short direction of the optical deflector 14, and the z axis corresponds to the height direction of the optical deflector 14.
  • the z-axis negative side is defined as the upper side of the optical deflector 14.
  • the optical deflector 14 is configured to drive the mirror 17 using electromagnetic force.
  • a component for electromagnetic driving is installed in the housing 101.
  • the housing 101 has a rectangular parallelepiped shape that is long in the x-axis direction.
  • a rectangular recess 101a is formed on the upper surface of the housing 101 in plan view.
  • the housing 101 has bosses 101b formed on the upper surfaces of the positive and negative edges of the x-axis. The two bosses 101b are disposed at an intermediate position of the housing 101 in the y-axis direction.
  • the housing 101 is made of a metal material having high rigidity.
  • a frame-shaped leaf spring 102 is installed on the upper surface of the housing 101.
  • the leaf spring 102 has a frame portion 102a, a support portion 102b, two beam portions 102c, and two holes 102d.
  • Two beam portions 102c are formed so as to extend in parallel to the y-axis direction from the frame portion 102a at an intermediate position in the x-axis direction, and the frame portion 102a and the support portion 102b are connected by these beam portions 102c.
  • the support portion 102b is rectangular in plan view, and two beam portions 102c are connected to the support portion 102b at an intermediate position in the x-axis direction of the support portion 102b.
  • the x-axis positive side hole 102d is circular in plan view, and the x-axis negative side hole 102d is long in the x-axis direction in plan view.
  • the leaf spring 102 is symmetric in the y-axis direction, and is symmetric in the x-axis direction except for the two holes 102d.
  • the leaf spring 102 is integrally formed of a flexible metal material.
  • the two holes 102d are provided at positions corresponding to the two bosses 101b, respectively. With the boss 101b fitted in the hole 102d, the leaf spring 102 is fixed to the upper surface of the housing 101 by the four screws 103.
  • the mirror 17 is fixed to the upper surface of the support portion 102b with an adhesive or the like.
  • the mirror 17 is substantially square in plan view.
  • the axis connecting the two beam portions 102c is the rotation axis L1 of the mirror 17. That is, the two beam portions 102 c are provided along the rotation axis L ⁇ b> 1 of the mirror 17.
  • the pair of beam portions 102c elastically supports the support portion 102b and the mirror 17 from both sides in the y-axis direction along the rotation axis L1.
  • the laser light from the laser light source 12 is incident on the center position of the mirror 17 from an oblique direction with respect to the incident surface of the mirror 17. That is, the laser light from the laser light source 12 enters the mirror 17 so that the rotation axis L1 and the central axis of the laser light intersect.
  • the coil 104 is mounted on the lower surface of the support portion 102b.
  • the coil 104 circulates in a shape with rounded rectangular corners in plan view.
  • the coil 104 is installed on the lower surface of the support portion 102b so that the middle position of the long side coincides with the rotation axis L1.
  • the coil 104, the support portion 102b, and the mirror 17 constitute a movable portion of the optical deflector 14.
  • Two sets of magnets 105 and 106 are arranged so that the x-axis positive side and x-axis negative side portions of the coil 104 are sandwiched in the x-axis direction, respectively.
  • Magnet 105 and magnet 106 are installed on yoke 107, and yoke 107 is installed on the bottom surface of recess 101 a of housing 101.
  • the magnets 105 and 106 are permanent magnets having a substantially uniform magnetic flux density on the magnetic pole surface.
  • the direction of the magnetic field generated by the x-axis positive magnets 105 and 106 and the direction of the magnetic field generated by the x-axis negative magnets 105 and 106 are the same.
  • the x-axis positive magnet 105 has the north pole facing the coil 104
  • the x-axis negative magnet 105 has the south pole facing the coil 104.
  • the x-axis positive magnet 106 has the south pole facing the coil 104
  • the x-axis negative magnet 106 has the north pole opposed to the coil 104.
  • FIG. 4A is a side view schematically showing the configuration of the wavelength conversion member 15.
  • the wavelength conversion member 15 has a configuration in which a reflective film 202 and a phosphor layer 203 are laminated on the upper surface of a substrate 201.
  • the substrate 201 is made of, for example, silicon or aluminum nitride ceramic.
  • the reflective film 202 is configured by laminating a first reflective film 202a and a second reflective film 202b.
  • the first reflective film 202a is, for example, a metal film such as Ag, an Ag alloy, or Al.
  • the second reflection film 202b has a function of protecting the first reflection film 202a from oxidation and the like as well as reflection.
  • SiO 2 , ZnO, ZrO 2 , Nb 2 O 5 , Al 2 O 3 , TiO 2 are used.
  • SiN, AlN, or other dielectric material The reflective film 202 does not necessarily need to be composed of the first reflective film 202a and the second reflective film 202b, and may be a single layer or a structure in which three or more layers are laminated.
  • the phosphor layer 203 is formed by fixing phosphor particles 203a with a binder 203b.
  • the phosphor particles 203a emit fluorescence in the yellow wavelength band when irradiated with laser light in the blue wavelength band emitted from the laser light source 12.
  • As the phosphor particles 203a for example, (Y n Gd 1-n ) 3 (Al m Ga 1-m ) 5 O 12 : Ce (0.5 ⁇ n ⁇ 1, 0.5) having an average particle diameter of 1 ⁇ m to 30 ⁇ m. ⁇ m ⁇ 1) is used. Further, a transparent material mainly containing silsesquioxane such as polymethylsilsesquioxane is used as the binder 203b.
  • the phosphor layer 203 may further contain Al 2 O 3 fine particles having an average particle diameter of 0.1 to 10 ⁇ m and a thermal conductivity of 30 W / (m ⁇ K) as the second particles.
  • grains are mixed by the ratio of 10 vol% or more and 90 vol% or less with respect to the fluorescent substance particle 203a.
  • silsesquioxane (refractive index 1.5) refractive index difference is large
  • Al 2 O 3 is a material of the binder 203b (refractive index 1.8) is used.
  • vol% means volume%.
  • the phosphor layer 203 is provided with a void 203 c formed near the center of the phosphor layer 203 and a void 203 c formed near the interface between the reflective film 202.
  • the void 203c formed inside the phosphor layer 203 is configured to have a higher density as it is closer to the reflective film 202. With this configuration, it is possible to more efficiently scatter laser light that has entered the inside and extract it from the light source device 2.
  • the void 203c formed near the interface with the reflective film 202 is in contact with the second reflective film 202b, which is a dielectric, it effectively scatters laser light and fluorescence while reducing energy loss due to the metal surface. Can be made.
  • the arrangement of the void 203c as described above is achieved by configuring the wavelength conversion member 15 using a phosphor paste in which phosphor particles 203a made of YAG: Ce and a binder 203b made of polysilsesquioxane are mixed. Can be easily formed. Specifically, the phosphor particles 203a and the second particles are formed on the substrate 201 (reflection film 202) using a phosphor paste in which polysilsesquioxane is mixed with a binder 203b in which an organic solvent is dissolved. Then, the organic solvent in the paste is vaporized by performing high-temperature annealing at about 200 ° C.
  • the void 203c can be easily formed in the portion close to the substrate 201.
  • the high-density void 203c can be easily formed in the vicinity of the reflective film 202.
  • the phosphor layer 203 further includes a filler 203d for increasing strength and heat resistance.
  • the difference in refractive index between the filler 203d and the binder 203b is also set to be large, similar to the difference in refractive index between the phosphor particles 203a and the binder 203b.
  • the laser light emitted from the laser light source 12 is irradiated to the excitation region R1 shown in FIG. 4A, and is scattered and absorbed on the surface or inside of the phosphor layer 203. At this time, part of the laser light is converted into light in the yellow wavelength band by the phosphor particles 203 a and emitted from the phosphor layer 203. Further, the other part of the laser light is scattered without being converted into light in the yellow wavelength band, and is emitted from the phosphor layer 203 as light in the blue wavelength band. At this time, light in each wavelength band is scattered while propagating through the phosphor layer 203, and thus is emitted from the light emitting region R2 wider than the excitation region R1.
  • the phosphor layer 203 is configured such that the refractive index difference between the binder 203b and the phosphor particle 203a and the refractive index difference between the binder 203b and the filler 203d are both large, thereby scattering light. And propagation of light inside the phosphor layer 203 can be suppressed. As a result, light can be emitted from the light emitting region R2 that is slightly wider than the excitation region R1.
  • a void 203c is further arranged in the phosphor layer 203 to enhance light scattering. As a result, the excitation region R1 and the light emission region R2 can be brought closer to each other.
  • FIG. 4B is a plan view schematically showing the configuration of the wavelength conversion member 15.
  • the wavelength conversion member 15 has a rectangular shape that is long in the X-axis direction in plan view.
  • the wavelength conversion member 15 is scanned in the X-axis direction with a laser beam when the mirror 17 of the optical deflector 14 is rotated.
  • B1 indicates the beam spot of the laser beam.
  • the beam spot B1 reciprocates on the incident surface 15a of the wavelength conversion member 15 in the width W1.
  • a triangular wave-shaped drive signal (current) having an amplitude center at zero level is applied to the coil 104. Due to the driving force excited in the coil 104 by this driving signal, the mirror 17 together with the support portion 102b rotates around a neutral position with a predetermined rotation width. Thereby, the laser beam (beam spot B1) reflected by the mirror 17 reciprocates on the incident surface 15a of the wavelength conversion member 15 in the width W1.
  • the region of the beam spot B1 on the incident surface 15a corresponds to the excitation region R1 in FIG. 4A. While the beam spot B1 moves on the incident surface 15a of the wavelength conversion member 15, the diffused light in the blue wavelength band and the diffused light in the yellow wavelength band from the light emitting region R2 slightly wider than the region of the beam spot B1 in the positive direction of the Z axis. Radiated.
  • the light of the two wavelength bands thus radiated is taken in by the projection optical system 3 shown in FIGS. 1 and 2 and projected onto the target area. Accordingly, white light obtained by combining light in the blue wavelength band and light in the yellow wavelength band is projected from the light projecting device 1 onto the target area.
  • the first embodiment it is possible to suppress the scanning trajectory of the laser light from being curved on the incident surface 15a of the wavelength conversion member 15, and thereby to bring the scanning trajectory of the light on the wavelength conversion member 15 closer to a straight line.
  • the configuration is provided in the light source device 2. Specifically, the plate spring 102 of the optical deflector 14 shown in FIGS. 3A and 3B is provided with a configuration for suppressing the curvature of the scanning locus. Hereinafter, this configuration will be described.
  • FIG. 5A is a plan view showing the configuration of the leaf spring 102 according to the first embodiment.
  • FIG. 5B is a plan view showing the configuration of the leaf spring 102 according to the comparative example.
  • the y-axis positive beam portion 102c is referred to as a beam portion 102c1
  • the y-axis negative beam portion 102c is referred to as a beam portion 102c2.
  • the widths of the beam portion 102c1 and the beam portion 102c2 are both set to H1.
  • the beam portion 102c1 and the beam portion 102c2 have the same length and thickness in the y-axis direction. In this case, the easiness of bending of the beam portion 102c1 and the beam portion 102c2 is the same. Therefore, when a driving signal (current) is applied to the coil 104 and rotational force is applied about the rotation axis L1, the support portion 102b is parallel to the xz plane with the rotation axis L1 as an axis. Rotate.
  • the width of the beam portion 102c1 on the positive y-axis side is set to H1
  • the width of the beam portion 102c2 on the negative y-axis side is H1. It is set to be narrower than H2.
  • the support portion 102b is more easily bent than the portion on the beam portion 102c1 side that is less likely to bend.
  • the portion on the side of the portion 102c2 rotates largely.
  • the corner portion C2 on the beam portion 102c2 side that is more likely to bend is more largely rotated than the corner portion C1 on the beam portion 102c1 side that is less likely to bend.
  • the twist of a diagonal direction arises in the support part 102b with rotation.
  • the mirror 17 supported by the support portion 102b is similarly twisted in the diagonal direction as it rotates. This twist increases as the support portion 102b and the mirror 17 rotate.
  • the support portion 102b and the mirror 17 take such behavior, so that the scanning locus of the laser light (beam spot B1) on the incident surface 15a of the wavelength conversion member 15 is linearized.
  • FIGS. 6A to 6C are diagrams schematically showing a turning process of the support portion 102b and the mirror 17 according to the first comparative example.
  • FIG. 6D is a diagram schematically illustrating a scanning trajectory of laser light on the incident surface 15a of the wavelength conversion member 15 according to the first comparative example.
  • FIG. 6B shows a state in which the mirror 17 is in the neutral position
  • FIGS. 6A and 6C show a state in which the mirror 17 is at the boundary position in each rotation direction in the rotation range of the mirror 17, respectively.
  • the mirror 17 rotates clockwise from the state of FIG. 6A through the state of FIG. 6B to the state of FIG. 6C, and then returns to the state of FIG. 6A through the state of FIG. 6B. Thereafter, the mirror 17 repeats the same rotation operation.
  • the “neutral position” is the position of the mirror 17 when no drive signal (current) is applied to the coil 104. In the configuration of the first embodiment, as shown in FIG. And the position of the mirror 17 when the mirror 17 is not rotated in any direction about the rotation axis L1 and is in a state parallel to the xy plane.
  • the easiness of bending of the beam portions 102c1 and 102c2 is the same. Therefore, as shown in FIGS. 6A to 6C, the mirror 17 and the support portion 102b are rotated about the rotation axis L1 by xz. Rotates parallel to the plane. Therefore, as described above, as the mirror 17 rotates, the relative angle between the reflecting surface of the mirror 17 and the incident surface 15a of the wavelength conversion member 15 changes, and the mirror 17 and the wavelength conversion member 15 The relative distance between changes. Thereby, as shown in FIG.
  • the scanning locus SL of the laser beam (beam spot B1) on the incident surface 15a of the wavelength conversion member 15 is gradually shifted in the Y-axis negative direction from the center of the scanning locus SL toward both ends. To bend. In this case, a shift of ⁇ D occurs between the center and both ends of the scanning locus SL.
  • FIGS. 7A to 7C are diagrams schematically showing a turning process of the support portion 102b and the mirror 17 according to the first embodiment.
  • FIG. 7D is a diagram schematically illustrating a scanning locus of laser light (beam spot B1) on the incident surface 15a of the wavelength conversion member 15 according to the first embodiment.
  • FIG. 7B shows a state where the mirror 17 is in the neutral position
  • FIGS. 7A and 7C show the mirror 17 at the boundary position in each rotation direction in the rotation range of the mirror 17, respectively. Indicates a state.
  • the flow of the rotation operation of the mirror 17 is the same as in the case of FIGS. 6A to 6C.
  • the mirror 17 and the support portion 102b are separated from the boundary of the rotation range from the neutral position.
  • the rotational axis L1 is displaced so as to be twisted diagonally while rotating. For this reason, even when the mirror 17 rotates in any direction with respect to the neutral position, a change in the relative angle between the reflecting surface of the mirror 17 and the incident surface 15a of the wavelength conversion member 15 is suppressed, and the mirror The change in the relative distance between 17 and the wavelength conversion member 15 is suppressed.
  • the scanning locus SL of the laser beam (beam spot B1) on the incident surface 15a of the wavelength conversion member 15 can be linearized. Therefore, when the light generated by the wavelength conversion member 15 is projected onto the target area by the projection optical system 3, it is possible to suppress the light distribution locus in the target area from being curved, and light is emitted to the target area with a linear light distribution locus. Can project.
  • the easiness of bending of the beam portion 102c1 and the beam portion 102c2 is adjusted so that the scanning locus SL of the laser beam (beam spot B1) on the incident surface 15a of the wavelength conversion member 15 is as close to a straight line as possible.
  • the ratio of the width H1 and the width H2 of the beam portion 102c1 and the beam portion 102c2 is adjusted to a desired value.
  • the beam portion 102c1 and the beam portion 102c2 have a width H1 and a width H2 so that the mirror 17 is twisted in a diagonal direction in a state where the scanning locus SL can be linearized as the mirror 17 rotates.
  • the ratio of is adjusted.
  • the thickness of the leaf spring 102 was 0.12 mm in the entire region.
  • the material of the leaf spring 102 was assumed to be beryllium copper.
  • the width H1 of the beam portion 102c1 was set to 2.5 mm, and the width H2 of the beam portion 102c2 was set to 0.5 mm.
  • the incident angle of the laser beam with respect to the mirror 17 was 37.5 degrees, and the incident angle of the laser beam with respect to the incident surface 15a of the wavelength conversion member 15 was 75 degrees.
  • the scanning locus SL of the beam spot B1 on the incident surface 15a of the wavelength conversion member 15 when the mirror 17 was rotated 2.5 degrees in the positive and negative directions with respect to the neutral position was verified.
  • the scanning locus SL of the beam spot B1 when the width H1 and the width H2 of the beam portion 102c1 and the beam portion 102c2 are both set to 2.5 mm was verified.
  • Other conditions in the comparative example are the same as described above.
  • 8A and 8B are diagrams showing simulation results of the scanning trajectory SL of the laser light on the incident surface 15a of the wavelength conversion member 15 when the optical deflector 14 according to the comparative example and the first embodiment is used, respectively. is there.
  • the horizontal axis represents the moving distance of the beam spot B1 in the longitudinal direction (X-axis direction) of the incident surface 15a
  • the vertical axis represents the beam spot B1 in the short direction (Y-axis direction) of the incident surface 15a. Displacement amount. In the vertical axis and the horizontal axis, the position of the beam spot B1 when the mirror 17 is in the neutral position is set to zero.
  • the scanning trajectory SL whose both ends are displaced by about 0.3 mm with respect to the central portion is obtained.
  • the scanning trajectory SL of the laser light is suppressed from being curved in the entire rotation range of the mirror 17.
  • the variation width of the scanning locus SL is suppressed to about 0.1 mm, and the scanning locus SL is linearized.
  • the scanning locus SL of the laser beam (beam spot B1) on the incident surface 15a of the wavelength conversion member 15 can be linearized by adjusting the width of the beam portions 102c1 and 102c2. It could be confirmed.
  • the support portion 102b (drive portion) rotates, the support portion 102b (drive portion) is displaced so as to suppress the curvature of the scanning locus SL of the laser light on the wavelength conversion member 15.
  • the support portion 102b (drive portion) is displaced so as to suppress the curvature of the scanning locus SL of the laser light on the wavelength conversion member 15.
  • FIGS. 7D and 8B it is possible to suppress the scanning trajectory SL of the laser light from being curved on the incident surface 15a of the wavelength conversion member 15, and to bring the scanning trajectory SL closer to a straight line.
  • the optical deflector 14 has a support portion that suppresses the bending of the scanning trajectory SL of the laser light with the rotation by making the bending easiness of the pair of beam portions 102c1 and 102c2 (elastic support portions) different from each other.
  • 102b drive unit
  • the optical deflector 14 makes the support portion 102b (suppressing the curvature of the scanning locus SL with rotation by making the widths of the pair of beam portions 102c1 and 102c2 (elastic support portions) different from each other.
  • the drive unit is displaced.
  • the first embodiment it is possible to suppress the curvature of the scanning locus SL by using an extremely simple configuration in which the widths of the pair of beam portions 102c1 and the beam portion 102c2 (elastic support portions) are different from each other. Can be linearized.
  • the support portion 102 b and the pair of beam portions 102 c 1 and 102 c 2 are provided on the leaf spring 102 as a part of the frame-like leaf spring 102. For this reason, as shown in FIGS. 3A and 3B, a configuration for rotating and supporting the mirror 17 and a configuration for suppressing the curvature of the scanning trajectory SL simply by installing the leaf spring 102 in the housing 101 are as follows. At the same time, it can be placed on the optical deflector 14.
  • the optical deflector 14 includes a coil 104 attached to the support portion 102b, and a magnet 105 and a magnet 106 for applying a magnetic field to the coil 104.
  • a mirror is formed together with the support portion 102b. 17 is configured to rotate. In this way, even when the mirror 17 is rotated together with the support portion 102b using electromagnetic force, the mirror 17 having a high reflectivity and having a multilayer dielectric film is placed on the support portion 102b. 17 can be smoothly rotated. Further, the electromagnetic force excited by the coil 104 can be used to smoothly displace the mirror 17 in a diagonal direction as it rotates.
  • the easiness of bending of the pair of beam portions 102c1 and 102c2 is made different from each other.
  • the method for making the easiness of bending of the pair of beam portions 102c1 and 102c2 different from each other is not limited thereto.
  • FIG. 9A is a cross-sectional view schematically showing the configuration of a leaf spring 102 according to a modified example
  • FIG. 9B is a plan view showing the configuration of a leaf spring according to another modified example.
  • FIG. 9A shows a cross-sectional view when the leaf spring 102 is cut at an intermediate position in the x-axis direction by a plane parallel to the yz plane.
  • the width of the beam portion 102c1 and the beam portion 102c2 in the x-axis direction is the same.
  • the easiness of bending of the pair of beam portions 102c1 and 102c2 is made different by making the thicknesses of the beam portion 102c1 and the beam portion 102c2 different from each other.
  • the thickness of the beam portion 102c1 is set to D1
  • the thickness of the beam portion 102c2 is set to a thickness D2 that is thinner than the thickness D1.
  • the beam part 102c2 becomes easier to bend than the beam part 102c1, like the said 1st Embodiment.
  • the beam portions 102c1 and 102c2 have the same width in the x-axis direction, and the beam portions 102c1 and 102c2 have the same thickness in the z-axis direction.
  • a flexible plate member S1 is mounted on the surface on the negative side of the z-axis of the beam portion 102c1, thereby making the easiness of bending of the pair of beam portions 102c1 and 102c2 different from each other.
  • the beam portion 102c2 is more easily bent than the beam portion 102c1.
  • the ease of bending of the pair of beam portions 102c1 and 102c2 can be adjusted as in the first embodiment, so that the support portion 102b is moved along with the rotation of the support portion 102b. It can be displaced to twist in a diagonal direction. Therefore, as in the first embodiment, the mirror 17 can be displaced so as to be twisted in a diagonal direction as it is rotated, whereby the scanning locus SL of the laser beam on the incident surface 15a of the wavelength conversion member 15 is achieved. Can be suppressed.
  • the beam portions 102c1 and 102c2 are arranged so that the scanning locus SL of the laser beam (beam spot B1) on the incident surface 15a of the wavelength conversion member 15 is as close to a straight line as possible. Flexibility, that is, the thickness D1 and thickness D2 of the beam portion 102c1 and the beam portion 102c2, and the flexibility of the plate member S1 are adjusted. If the mirror 17 can be displaced so that the scanning locus SL is as close to a straight line as possible, the ease of bending of the beam portion 102c1 and the beam portion 102c2 may be adjusted by other methods.
  • the optical deflector 14 is configured to rotate the drive unit about one axis.
  • the optical deflector 14 is configured so that the mirror 17 can rotate about two rotation axes orthogonal to each other.
  • the scanning locus of the laser beam on the incident surface 15a of the wavelength conversion member 15 is different from that in the first embodiment.
  • a plurality of scanning lines are set on the incident surface 15a of the wavelength conversion member 15, and accordingly, a beam spot that scans the incident surface 15a of the wavelength conversion member 15 is set.
  • the size is narrowed compared to the first embodiment.
  • Other configurations of the light projecting device 1 and the light source device 2 are the same as those in the first embodiment.
  • the size of the beam spot is narrowed down by adjusting the distance between the laser light source 12 and the collimator lens 13, the numerical aperture of the collimator lens 13, etc., and converging the laser beam by the collimator lens 13. Can do.
  • the reflecting surface of the mirror 17 may be a concave surface so that the laser beam is converged.
  • FIG. 10 is a perspective view showing the configuration of the optical deflector 14 according to the second embodiment.
  • FIGS. 11A and 11B are cross-sectional views showing the configuration of the optical deflector 14 according to the second embodiment.
  • FIGS. 10, 11A, and 11B show the same x, y, and z axes as in FIGS. 3A and 3B.
  • FIG. 11A shows a XIA-XIA cross-sectional view of the optical deflector 14 of FIG. 10 cut at a central position in the y-axis direction in a plane parallel to the xz plane
  • FIG. 11B shows the yz plane.
  • An XIB-XIB cross-sectional view of the optical deflector 14 of FIG. 10 cut at a central position in the x-axis direction in a parallel plane is shown.
  • the housing 111 has a rectangular parallelepiped shape that is long in the x-axis direction. On the upper surface of the housing 111, a rectangular recess 111a is formed in plan view.
  • the housing 111 is made of a metal material having high rigidity.
  • a frame-shaped leaf spring 112 is installed on the upper surface of the housing 111.
  • the leaf spring 112 has an outer frame portion 112a, an inner frame portion 112b, two beam portions 112c, a support portion 112d, and two beam portions 112e.
  • Two beam portions 112c are formed so as to extend in parallel to the x-axis direction from the outer frame portion 112a at an intermediate position in the y-axis direction, and the outer frame portion 112a and the inner frame portion 112b are connected by these beam portions 112c.
  • two beam portions 112e are formed so as to extend in parallel to the y-axis direction from the inner frame portion 112b, and the inner frame portion 112b and the support portion 112d are formed by these beam portions 112e. It is connected.
  • the inner frame portion 112b has a contour with rounded rectangular corners in plan view, and two beam portions 112c are connected to the inner frame portion 112b at an intermediate position in the y-axis direction of the inner frame portion 112b.
  • the support portion 112d has a rectangular outline in plan view, and two beam portions 112e are connected to the support portion 112d at an intermediate position in the x-axis direction of the support portion 112d.
  • the leaf spring 112 has a symmetrical shape in the x-axis direction and the y-axis direction.
  • the leaf spring 112 is integrally formed of a flexible metal material.
  • the plate spring 112 is fixed to the upper surface of the housing 111 with four screws 113 in a state where the outer frame portion 112 a is placed on the upper surface of the housing 111.
  • the mirror 17 is fixed to the upper surface of the support portion 112d with an adhesive or the like.
  • the mirror 17 is substantially square in plan view.
  • the axis connecting the two beam portions 112e is the rotation axis L1 of the mirror 17 for scanning the laser beam in the longitudinal direction of the wavelength conversion member 15 as in the first embodiment.
  • the axis connecting the two beam portions 112c becomes the rotation axis L2 of the mirror 17 for changing the scanning line of the laser beam in the wavelength conversion member 15.
  • the laser light from the laser light source 12 enters the center position of the mirror 17. That is, the laser light from the laser light source 12 is incident on the mirror 17 so that the central axis of the laser light passes through the position where the rotation axes L1 and L2 intersect.
  • the coil 114 is attached to the lower surface of the support portion 112d.
  • the coil 114 circulates in a shape with rounded rectangular corners in plan view.
  • the coil 114 is installed on the lower surface of the support portion 112d so that the middle position of the long side coincides with the rotation axis L1.
  • the coil 114, the support part 112 d, and the mirror 17 constitute a first movable part of the optical deflector 14.
  • Two sets of magnets 115 and 116 are arranged so as to sandwich the coil 114 in the x-axis direction.
  • the magnets 115 and 116 are installed on the yoke 117, and the yoke 117 is installed on the bottom surface of the recess 111 a of the housing 111.
  • the method of adjusting the magnetic poles of each set of magnets 115 and 116 is the same as that of the magnets 105 and 106 shown in FIGS. 3A and 3B.
  • a coil 118 is attached to the lower surface of the inner frame portion 112b.
  • the coil 118 has the same shape as the inner frame portion 112b in plan view.
  • the coil 118 is installed on the lower surface of the inner frame portion 112b so that the intermediate position of the short side coincides with the rotation axis L2.
  • the coil 118 and the inner frame portion 112b constitute a second movable portion of the optical deflector 14.
  • Magnets 119 are arranged on the y-axis positive side and the y-axis negative side with respect to the coil 114, respectively. These magnets 119 are installed on the yoke 117. Further, these two magnets 119 are installed on the yoke 117 so that the magnetic poles facing the coil 118 are different from each other.
  • the magnet 119 is a permanent magnet having a substantially uniform magnetic flux density on the magnetic pole surface.
  • the inner frame portion 112b rotates about the rotation axis L2, and according to the magnitude of the drive signal.
  • the inner frame portion 112b is inclined by the angle. That is, the inner frame portion 112b is inclined from the neutral position shown in FIG. 10 by an angle at which the elastic restoring force generated in the beam portion 112c and the electromagnetic force excited by the coil 118 are balanced.
  • the mirror 17 rotates together with the support portion 112d as the inner frame portion 112b rotates.
  • the support portion 112d rotates about the rotation axis L1 by applying a drive signal (current) to the coil 114 as in the configuration of FIGS. 3A and 3B.
  • a drive signal current
  • the mirror 17 rotates about the rotation axis L1.
  • the drive signals are independently applied to the coils 114 and 118, whereby the mirror 17 is individually moved about the rotation axes L1 and L2. It can be rotated.
  • the width of the beam portions 112e in the x-axis direction is adjusted so that the bending easiness of the pair of beam portions 112e is different from each other. Note that the ease of bending of the pair of beam portions 112c is the same.
  • FIG. 12A is a plan view showing the configuration of the leaf spring 112 according to the second embodiment
  • FIG. 12B is a plan view showing the configuration of the leaf spring 112 according to the second comparative example.
  • the beam portion 112e on the positive side of the y axis is referred to as a beam portion 112e1
  • the beam portion 112e on the negative side of the y axis is referred to as a beam portion 112e2.
  • the widths of the beam portion 112e1 and the beam portion 112e2 are both set to H1, as in the first comparative example.
  • the beam portion 112e1 and the beam portion 112e2 have the same length and thickness in the y-axis direction. Therefore, in the leaf spring 112 of the second comparative example, the easiness of bending of the beam portion 112e1 and the beam portion 112e2 is the same.
  • the width of the beam portion 112e1 on the positive side of the y-axis is set to H1 as in the first embodiment, and the negative side of the y-axis is set.
  • the width of the beam portion 112e2 is set to H2, which is narrower than H1.
  • the beam portion 112e2 is more easily bent than the beam portion 112e1.
  • FIGS. 13A and 13B are diagrams schematically showing a scanning state of laser light on the wavelength conversion member 15 in the second embodiment and the second comparative example, respectively.
  • a plurality of scanning lines SL1 are set on the incident surface of the wavelength conversion member 15.
  • three scanning lines SL1 are set on the incident surface 15a.
  • the number of scanning lines SL1 is not limited to this.
  • the laser beam spot B2 is positioned at the start position on the X-axis positive side of the second-stage scan line SL1 after the uppermost scan line SL1 is moved to the end position in the X-axis positive direction. Thereafter, the beam spot B2 is positioned at the X axis negative start position of the third scanning line SL1 after the second scanning line SL1 is moved to the end position in the X axis negative direction. Similarly, when the beam spot B2 moves to the end position on the X axis positive side of the third-stage scanning line SL1, the beam spot B2 is positioned at the start position of the second-stage scanning line SL1.
  • the beam spot B2 is positioned at the start position on the X-axis negative side of the first-stage scan line SL1 after the second-stage scan line SL1 is moved to the end position in the X-axis negative direction. Thereafter, the same scanning is repeated for the three scanning lines SL1.
  • the movement of the beam spot B2 along the scanning line SL1 is performed by rotating the mirror 17 about the rotation axis L1 shown in FIG.
  • the scanning line SL1 is changed by rotating and tilting the mirror 17 about the rotation axis L2 shown in FIG.
  • the optical deflector 14 is controlled by the control circuit mounted on the circuit board 18 of FIG. 1 so that the beam spot B2 scans the incident surface 15a of the wavelength conversion member 15 as described above.
  • the emission of the laser light from the laser light source 12 is stopped. That is, the feed line TL1 and the feed line TL2 in FIG. 13A indicate the movement trajectory of the beam spot B2 when laser light is emitted. In actual control, the feed line TL1 and the feed line TL2 The laser light source 12 is controlled to be turned off.
  • the scanning method of the laser beam with respect to the incident surface of the wavelength conversion member 15 is not restricted to the above.
  • the incident surface of the wavelength conversion member 15 is scanned with laser light so that the beam spot B2 jumps to the start position of the next scanning line SL1 after reciprocatingly moving through each scanning line SL1. May be.
  • the mirror 17 is rotated around the rotation axis L1 as in the first embodiment. Accordingly, it is displaced so as to be twisted diagonally. For this reason, according to the configuration of the second embodiment, as shown in FIG. 13A, the three scanning lines SL1 (scanning trajectories) on the incident surface 15a of the wavelength conversion member 15 are all linearly suppressed in curvature. Get closer to.
  • the mirror 17 is arranged in the diagonal direction as in the first comparative example. It only rotates around the rotation axis L1 without twisting. For this reason, according to the configuration of the second comparative example, as shown in FIG. 13B, the three scanning lines SL1 (scanning trajectories) on the incident surface 15a of the wavelength conversion member 15 all move from the center toward the end. Curved to shift in the negative Y-axis direction.
  • the scanning trajectory of the laser light is curved on the incident surface 15a of the wavelength conversion member 15 by making the widths of the pair of beam portions 112e1 and 112e2 different from each other. This can be suppressed, and each of the plurality of scanning trajectories can be approximated to a straight line.
  • the wavelength conversion member 15 is scanned along the plurality of scanning lines SL1 with the more narrowed beam spot B2, and thus, for example, white light is emitted on the light emitting region R2.
  • a region where light emission is stopped and a region where white light is emitted can be set more finely. For this reason, when the white light generated from the light source device 2 is projected onto the target area by the projection optical system 3, the area where the white light projection is stopped or the area where the white light projection is performed on the target area is more Can be set in detail.
  • the white light irradiation region and the non-irradiation region are set more finely according to the position of the oncoming vehicle and the position of the pedestrian. be able to.
  • FIGS. 9A and 9B are the same as those of the pair of beam portions 112e (the beam portion 112e1 and the beam portion 112e2) shown in FIGS. 10, 11A, 11B, and 12A. It can be applied as a modified example.
  • the curvature of the scanning trajectory of the laser beam on the incident surface 15a of the wavelength conversion member 15 is suppressed by adjusting the beam portion 102c and the beam portion 112e.
  • trajectory of the laser beam on the wavelength conversion member 15 is suppressed by adjusting a magnetic circuit.
  • FIG. 14 is a perspective view showing the configuration of the optical deflector 14 according to the third embodiment.
  • FIGS. 15A and 15B are a side view and a plan view showing the configuration of the optical deflector 14 according to the third embodiment, respectively.
  • FIGS. 14, 15 ⁇ / b> A, and 15 ⁇ / b> B For convenience, only the configuration of the portion related to the magnetic circuit is shown in FIGS. 14, 15 ⁇ / b> A, and 15 ⁇ / b> B. As for the leaf spring 102, only the portions of the support portion 102b and the pair of beam portions 102c are shown. Other configurations of the optical deflector 14 are substantially the same as those of the optical deflector 14 according to the first embodiment shown in FIGS. 3A and 3B.
  • the yoke 107 is modified to support these magnets 121, and these magnets 121 can be stored.
  • the housing 101 is modified.
  • the pair of beam portions 102c have the same width, thickness, and length, and have the same flexibility.
  • a magnet 105 and a magnet 106 for applying a magnetic field that generates a force for rotating the support portion 102 b (drive portion) to the coil 104.
  • two magnets 121 (second magnets) for applying a magnetic field for generating a force for suppressing the curvature of the scanning locus to the coil 104 are arranged in the magnetic circuit.
  • the two magnets 121 are disposed on the y-axis negative side of the coil 104. These magnets 121 are mounted on the yoke 107 so as to face the two corners on the negative side of the y-axis of the coil 104, respectively.
  • the magnet 121 is a permanent magnet having a substantially uniform magnetic flux density on the magnetic pole surface.
  • the magnet 121 on the x-axis positive side has the same magnetic pole as the magnet 105 on the x-axis positive side (here, the S pole) facing the coil 104, and the magnet 121 on the x-axis negative side
  • the same magnetic pole (N pole in this case) as the negative magnet 105 is arranged so as to face the coil 104.
  • the two magnets 121 have an xz plane with respect to a plane perpendicular to the rotation axis L1 so that the intensity distribution of the magnetic field applied near the corner of the coil 104 can be adjusted. It is arranged so as to be inclined by a predetermined angle in a direction parallel to.
  • the mirror 17 supported by the support portion 102b also rotates more largely on the y-axis negative side than on the y-axis positive side as the rotation proceeds.
  • the mirror 17 is diagonally twisted with the rotation of the mirror 17, and the twist is increased with the rotation of the support portion 102 b and the mirror 17. That is, also in the third embodiment, the mirror 17 rotates with the same behavior as in the first embodiment.
  • the curvature of the scanning locus SL of the laser light on the incident surface 15a of the wavelength conversion member 15 can be suppressed, and the scanning locus SL can be made closer to a straight line. it can.
  • the intensity or intensity distribution of the magnetic field applied from the two magnets 121 to the coil 104 is adjusted so that the scanning locus SL can be made more linear.
  • a magnetic field can be applied to the coil 104 with a desired intensity distribution by adjusting the inclination angle of the magnet 121.
  • the inclination angle of the magnet 121 is adjusted so that the scanning locus SL of the laser beam on the incident surface 15a of the wavelength conversion member 15 is closest to the straight line.
  • the configuration of the third embodiment can also be applied to the magnetic circuit of the coil 114 portion of the two-axis drive optical deflector 14 shown in FIG.
  • the pair of beam portions 102c have the same bending easiness.
  • the y-axis negative side beam portion 102c is more flexible.
  • the width, thickness, and the like of the pair of beam portions 102c may be adjusted so as to be easily bent.
  • the magnet 121 does not necessarily have to be arranged obliquely as shown in FIG. 15B, and is arranged so that the surface facing the coil 104 is parallel to the xz plane as shown in FIG. Also good.
  • the magnet 121 has a magnetic force intensity so that the support portion 102b and the mirror 17 are displaced in the twist direction in a state where the scanning locus SL of the laser beam on the incident surface 15a of the wavelength conversion member 15 is closest to a straight line. The distribution and the arrangement position in the x-axis direction are adjusted.
  • the magnet 121 may be arranged in parallel to the surface on the negative side of the y-axis of the coil 104 and the position of the magnet 121 in the left-right direction (x-axis direction) may be adjusted to adjust the magnetic field strength with respect to the coil 104.
  • the magnet 105 may be configured such that the magnet 121 is omitted and the magnetic field strength of the portion of the magnet 105 facing the vicinity of the two corners on the negative side of the y-axis of the coil 104 is higher than the other portions. .
  • the light source device 2 is configured to use the reflective wavelength conversion member 15, but the light source device 2 may be configured to use the transmission type wavelength conversion member 15.
  • the shape of the leaf springs 102 and 112 is not necessarily limited to the shape shown in the first and second embodiments.
  • the leaf springs 102 and 112 are sandwiched between two screws 103 adjacent in the x-axis direction.
  • the region of the frame portion 102a other than the region that has been set may be omitted.
  • one of the two holes 102d provided with the leaf spring 102 is a long hole, but before both the two holes 102d are long holes and the screw 103 is tightened.
  • the leaf spring 102 may be slightly movable in the longitudinal direction.
  • a configuration may be used in which a screw 103 is tightened after a gap gauge having a desired thickness is inserted to determine the position of the leaf spring 102.
  • the screw 103 may be tightened after the position of the leaf spring 102 is adjusted in the longitudinal direction while the gap between the coil 104, the magnet 105, and the magnet 106 is measured with a measuring device.
  • the shape of the mirror 17 does not necessarily have to be a square in a plan view, and may be a rectangle or a circle in a plan view.
  • the shape of the support portion 102b can also be changed as appropriate.
  • the reflecting surface of the mirror 17 does not necessarily have to be a flat surface, and may have a concave shape capable of giving a converging action to the laser light.
  • the concave shape may be adjusted so that the shape of the beam spots B1 and B2 on the incident surface 15a of the wavelength conversion member 15 can be formed into a substantially linear shape in the Y-axis direction.
  • a lens for shaping the beam spots B1 and B2 on the incident surface 15a of the wavelength conversion member 15 into a predetermined shape may be attached to the reflection surface of the mirror 17.
  • the type of the phosphor particles 203a included in the phosphor layer 203 of the wavelength conversion member 15 is not necessarily one type.
  • a plurality of types that generate fluorescence with different wavelengths by the laser light from the laser light source 12 are used.
  • Phosphor particles 203 a may be included in the phosphor layer 203.
  • light of a predetermined color is generated by the diffused light of the fluorescence generated from each type of phosphor particles 203a and the diffused light of the laser light that has not been wavelength-converted by the phosphor particles 203a.
  • the light source device and the light projecting device of the present disclosure can suppress the scanning trajectory of the laser light from being curved on the incident surface of the wavelength conversion member when the laser light is incident on the optical deflector from an oblique direction.
  • the scanning trajectory of light on the conversion member can be brought close to a straight line, which is industrially useful.

Abstract

波長変換部材上における光の走査軌跡の湾曲を円滑に抑制することが可能な光源装置(2)およびそれを備えた投光装置(1)を提供する。光源装置(2)は、レーザ光を出射するレーザ光源と、レーザ光の波長を他の波長に変換するとともに波長変換後の光を拡散させる波長変換部材(15)と、レーザ光が入射するミラー(17)を回動させることにより、レーザ光を波長変換部材(15)の入射面上において少なくとも1次元に走査させる光偏向器(14)と、を備える。ミラー(17)は、波長変換部材(15)の入射面にレーザ光が斜め方向から入射するよう配置される。光偏向器(14)は、ミラー(17)の回動に伴い、波長変換部材(15)上におけるレーザ光の軌跡の湾曲を抑制する力を駆動部に付与する構成を備える。

Description

光源装置および投光装置
 本開示は、光を発する光源装置およびそれを用いた投光装置に関する。
 従来、レーザ光源から出射された光を波長変換部材に照射することにより所定波長の光を生成する光源装置が知られている。この光源装置では、たとえば、波長変換部材により波長変換されて拡散された光と、波長変換部材により波長変換されずに拡散された光とが合成されて、白色光等、所定の色の光が生成される。このような光源装置が、たとえば、車両用前照灯の光源装置として利用されている。
 以下の特許文献1には、固体光源からの励起光を蛍光体(波長変換部材)に向けて反射する反射手段を備え、該反射手段の向きを制御することで、反射手段によって反射される励起光の方向を変化させる照明装置が記載されている。このような構成を用いることにより、光学系(レンズ系)を含めた装置全体を機械的に駆動する機構を用いることなく、配光を変化させることができる。よって、装置の大型化、重量の増加を防止し、製造コストが高くなることを防ぐことができる。
特開2011-134619号公報
 しかしながら、上記特許文献1の構成によれば、蛍光体(波長変換部材)に対して励起光が斜め方向から入射するため、反射手段の回動に伴い、反射手段と蛍光体(波長変換部材)との間の相対角度および相対距離が変化する。このため、蛍光体(波長変換部材)上における光の走査軌跡(光が走査してできる軌跡)が湾曲するとの課題が生じる。蛍光体(波長変換部材)からの光を投射光学系で目標領域に投射する場合、走査軌跡の湾曲は、投射光学系によってさらに拡大される。このため、蛍光体(波長変換部材)上の走査軌跡が湾曲すると、目標領域における配光の軌跡が大きく湾曲することとなってしまう。
 かかる課題に鑑み、本開示は、波長変換部材の入射面上においてレーザ光の走査軌跡が湾曲することを抑制し、波長変換部材上における光の走査軌跡を直線に近づけることが可能な光源装置およびそれを用いた投光装置を提供することを目的とする。
 本開示の第1の態様は、光源装置に関する。第1の態様に係る光源装置は、レーザ光源と、波長変換部材と、光偏向器と、を備える。レーザ光源は、レーザ光を出射する。波長変換部材は、レーザ光の波長を他の波長に変換するとともに波長変換後の光を拡散させる。光偏向器はミラーと、ミラーを支持する駆動部とを有し、レーザ光が入射するミラーを回動させることにより、レーザ光を波長変換部材の表面上において少なくとも1次元に走査させる。ミラーは、波長変換部材の表面にレーザ光が斜め方向から入射するよう配置される。光偏向器は、ミラーの回動に伴い、波長変換部材上においてレーザ光が走査してできる軌跡の湾曲を抑制するよう駆動部を変位させる構成を備える。
 本態様に係る光源装置によれば、駆動部の回動に伴い、波長変換部材上におけるレーザ光の走査軌跡の湾曲を抑制するよう駆動部が変位する。これにより、波長変換部材の入射面上においてレーザ光の走査軌跡が湾曲することが抑制され、走査軌跡を直線に近づけることができる。
 本開示の第2の態様は、投光装置に関する。第2の態様に係る投光装置は、第1の態様に係る光源装置と、波長変換部材により拡散された光を投射する投射光学系と、を備える。
 本態様に係る投光装置によれば、第1の態様と同様の効果が奏され得る。
 以上のとおり、本開示に係る光源装置および投光装置によれば、光偏向器に対してレーザ光が斜め方向から入射する場合に、波長変換部材の入射面上においてレーザ光の走査軌跡が湾曲することを抑制でき、波長変換部材上における光の走査軌跡を直線に近づけることができる。
 本開示の効果ないし意義は、以下に示す実施の形態の説明により更に明らかとなろう。ただし、以下に示す実施の形態は、あくまでも、本開示に係る発明を実施化する際の一つの例示であって、本発明は、以下の実施の形態に記載されたものに何ら制限されるものではない。
図1は、第1実施形態に係る投光装置の構成を示す斜視図である。 図2は、第1実施形態に係る投光装置の構成を示す断面図である。 図3Aは、第1実施形態に係る光偏向器の構成を示す斜視図である。 図3Bは、第1実施形態に係る光偏向器の構成を示す断面斜視図である。 図4Aは、第1実施形態に係る波長変換部材の構成を模式的に示す側面図である。 図4Bは、第1実施形態に係る波長変換部材の構成を模式的に示す平面図である。 図5Aは、第1実施形態に係る板バネの構成を示す平面図である。 図5Bは、第1比較例に係る板バネの構成を示す平面図である。 図6Aは、第1比較例に係る支持部およびミラーの回動過程を模式的に示す図である。 図6Bは、第1比較例に係る支持部およびミラーの回動過程を模式的に示す図である。 図6Cは、第1比較例に係る支持部およびミラーの回動過程を模式的に示す図である。 図6Dは、第1比較例に係る波長変換部材の入射面上におけるレーザ光の走査軌跡を模式的に示す図である。 図7Aは、第1実施形態に係る支持部およびミラーの回動過程を模式的に示す図である。 図7Bは、第1実施形態に係る支持部およびミラーの回動過程を模式的に示す図である。 図7Cは、第1実施形態に係る支持部およびミラーの回動過程を模式的に示す図である。 図7Dは、第1実施形態に係る波長変換部材の入射面上におけるレーザ光の走査軌跡を模式的に示す図である。 図8Aは、第1比較例に係る光偏向器を用いた場合の波長変換部材の入射面上におけるレーザ光の走査軌跡のシミュレーション結果を示す図である。 図8Bは、第1実施形態に係る光偏向器を用いた場合の波長変換部材の入射面上におけるレーザ光の走査軌跡のシミュレーション結果を示す図である。 図9Aは、第1実施形態の変更例に係る板バネの構成を模式的に示す断面図である。 図9Bは、第1実施形態の他の変更例に係る板バネの構成を示す平面図である。 図10は、第2実施形態に係る光偏向器の構成を示す斜視図である。 図11Aは、第2実施形態に係る光偏向器の構成を示す断面図である。 図11Bは、第2実施形態に係る光偏向器の構成を示す断面図である。 図12Aは、第2実施形態に係る板バネの構成を示す平面図である。 図12Bは、第2比較例に係る板バネの構成を示す平面図である。 図13Aは、第2実施形態に係る波長変換部材の入射面上におけるレーザ光の走査軌跡を模式的に示す図である。 図13Bは、第2比較例に係る波長変換部材の入射面上におけるレーザ光の走査軌跡を模式的に示す図である。 図14は、第3実施形態に係る光偏向器14の構成を示す斜視図である。 図15Aは、第3実施形態に係る光偏向器14の構成を示す側面図である。 図15Bは、第3実施形態に係る光偏向器14の構成を示す平面図である。 図16は、第3実施形態の変更例に係る光偏向器14の構成を示す斜視図である。
 以下、本開示の実施の形態について、図を参照して説明する。便宜上、各図には互いに直交するX、Y、Z軸が付記されている。X軸方向およびY軸方向は、それぞれ、投光装置の幅方向および奥行き方向であり、Z軸方向は投光装置の高さ方向である。Z軸正方向が、投光装置における光の投射方向である。
 <第1実施形態>
 図1は、実施形態1に係る投光装置1の構成を示す斜視図である。図2は、第1実施形態に係る投光装置1の構成を示す断面図である。図2には、Y-Z平面に平行な平面で投光装置1をX軸方向の中央位置において切断した断面図が示されている。
 図1および図2を参照して、投光装置1は、光を生成する光源装置2と、光源装置2により生成された光を投射するための投射光学系3とを備えている。投射光学系3は、2つのレンズ3a、3bを備え、これらレンズ3a、レンズ3bによって光源装置2からの光を集光して目標領域へと投射する。なお、投射光学系3は、必ずしも2つのレンズ3a、3bのみから構成されなくともよく、たとえば、他のレンズやミラーを備えていてもよい。また、投射光学系3は、凹面ミラーによって光源装置2からの光を集光する構成であってもよい。
 光源装置2は、ベース11に、各種部材が設置された構成となっている。具体的には、投射用の光を生成するための構成として、レーザ光源12と、コリメータレンズ13と、光偏向器14と、波長変換部材15がベース11に設置されている。コリメータレンズ13は、ホルダ16を介してベース11に設置されている。
 レーザ光源12は、青色波長帯(たとえば、450nm)のレーザ光をZ軸正方向に出射する。レーザ光源12は、たとえば、半導体レーザからなっている。レーザ光源12から出射されるレーザ光の波長は、適宜変更可能である。また、レーザ光源12は、必ずしも単一波長帯のレーザ光を出射するものでなくともよく、たとえば、1基板に複数の発光素子がマウントされたマルチ発光の半導体レーザであってもよい。
 コリメータレンズ13は、レーザ光源12から出射されたレーザ光を平行光に変換する。コリメータレンズ13は、レーザ光源12から出射されたレーザ光を収束させ得るように、光軸方向の位置が調整されてもよい。
 光偏向器14は、ミラー17を備え、ミラー17を回動軸L1について回動させることにより、コリメータレンズ13を通過したレーザ光の進行方向を変化させる。ミラー17の入射面は平面である。ミラー17は、たとえば、ガラス板に誘電体多層膜を形成した高反射率のミラーである。ミラー17は、中立位置において、X-Z平面に平行な面に対して、Y-Z平面に平行な方向に所定角度だけ傾くように配置される。ミラー17の回動軸L1は、Y-Z平面に平行で、且つ、Z軸方向に対して所定角度だけ傾いている。光偏向器14の構成は、追って、図3A、図3Bを参照して説明する。
 波長変換部材15は、ミラー17によって反射されたレーザ光が入射する位置に配置されている。波長変換部材15は、長方形形状の板状の部材であり、入射面がX-Y平面に平行となり、且つ、長手方向がX軸に平行となるように、ベース11に設置されている。上記のように、ミラー17が回動軸L1について回動することにより、波長変換部材15は、レーザ光によって長手方向に走査される。
 波長変換部材15は、入射したレーザ光の一部を、青色波長帯とは異なる波長に変換して、Z軸方向に拡散させる。波長変換されなかった他のレーザ光は、波長変換部材15によってZ軸方向に拡散される。こうして拡散された2種類の波長の光が合成されて、所定の色の光が生成される。各波長の光は、投射光学系3に取り込まれて、目標領域に投射される。
 第1実施形態では、波長変換部材15によって、レーザ光の一部が、黄色波長帯の光に変換される。波長変換後の黄色波長帯の拡散光と、波長変換されなかった青色波長帯の散乱光とが合成されて、白色の光が生成される。なお、波長変換後の波長は黄色波長帯でなくてもよく、生成される光の色は、白以外の色であってもよい。波長変換部材15の構成は、追って、図4A、図4Bを参照して説明する。
 ベース11の下面には、回路基板18が設置されている。この回路基板18に、レーザ光源12および光偏向器14を制御するための回路が実装されている。図1に示すように、回路基板18の端子部が、ベース11のY軸正側において、外部に露出している。
 図3A、図3Bは、それぞれ、光偏向器14の構成を示す斜視図および断面図である。図3Bには、x-z平面に平行な平面で、図3Aの光偏向器14をy軸方向の中央位置において切断したIIIB-IIIB断面図が示されている。
 なお、便宜上、図3A、図3Bには、光偏向器14の構成を説明するために、新たにx、y、z軸が示されている。このうち、x軸は、図1および図2に示したX軸と同一方向である。x、y、z軸は、図1および図2に示したX、Y、Z軸を、X軸周りに、所定の角度だけ回転させたものである。y軸は、光偏向器14の短手方向に対応し、z軸は、光偏向器14の高さ方向に対応する。ここでは、便宜上、z軸負側を光偏向器14の上側と定義する。
 図3A、図3Bを参照して、光偏向器14は、電磁力を利用してミラー17を駆動する構成となっている。ハウジング101に、電磁駆動のための構成部材が設置されている。
 ハウジング101は、x軸方向に長い直方体形状を有する。ハウジング101の上面には、平面視において長方形の凹部101aが形成されている。また、ハウジング101には、x軸正負の縁の上面に、それぞれ、ボス101bが形成されている。2つのボス101bは、ハウジング101のy軸方向の中間位置に配置されている。ハウジング101は、剛性が高い金属材料からなっている。
 ハウジング101の上面に、枠状の板バネ102が設置される。板バネ102は、枠部102aと、支持部102bと、2つの梁部102cと、2つの孔102dとを有する。
 x軸方向の中間位置において、枠部102aからy軸方向に平行に延びるように、2つの梁部102cが形成され、これら梁部102cによって、枠部102aと支持部102bとが連結されている。支持部102bは、平面視において長方形であり、支持部102bのx軸方向の中間位置において、2つの梁部102cが支持部102bに繋がっている。x軸正側の孔102dは、ボス101bと同様、平面視において円形で、x軸負側の孔102dは、平面視においてx軸方向に長い形状である。板バネ102は、y軸方向に対称な形状であり、また、2つの孔102dを除いてx軸方向に対称な形状である。板バネ102は、可撓性の金属材料により一体形成されている。
 2つの孔102dは、それぞれ、2つのボス101bに対応する位置に設けられている。孔102dにボス101bが嵌められた状態で、4つのネジ103により、板バネ102がハウジング101の上面に固定される。支持部102bの上面にミラー17が接着剤等によって固定される。ミラー17は、平面視において略正方形である。2つの梁部102cを繋いだ軸が、ミラー17の回動軸L1となる。すなわち、2つの梁部102cは、ミラー17の回動軸L1に沿うように設けられている。一対の梁部102cは、回動軸L1に沿ってy軸方向の両側から支持部102bおよびミラー17を弾性支持している。
 なお、レーザ光源12からのレーザ光は、ミラー17の入射面に対して斜め方向から、ミラー17の中央位置に入射する。すなわち、回動軸L1とレーザ光の中心軸とが交差するように、レーザ光源12からのレーザ光が、ミラー17に入射する。
 支持部102bの下面にコイル104が装着される。コイル104は、平面視において長方形の角が丸められた形状に周回している。コイル104は、長辺の中間位置が回動軸L1に一致するように、支持部102bの下面に設置される。コイル104、支持部102bおよびミラー17が、光偏向器14の可動部を構成する。
 コイル104のx軸正側およびx軸負側の部分をそれぞれx軸方向に挟むように、磁石105および磁石106の組が2つ配置される。磁石105と磁石106は、ヨーク107に設置され、ヨーク107が、ハウジング101の凹部101aの底面に設置されている。磁石105、106は、磁極面における磁束密度が略均一の永久磁石である。
 x軸正側の磁石105、106によって生じる磁界の向きと、x軸負側の磁石105、106によって生じる磁界の向きは、同じである。たとえば、x軸正側の磁石105は、N極がコイル104に対向し、x軸負側の磁石105は、S極がコイル104に対向する。また、x軸正側の磁石106は、S極がコイル104に対向し、x軸負側の磁石106は、N極がコイル104に対向する。このように磁極(磁界の向き)を調整することにより、コイル104に駆動信号(電流)が印加されると、回動軸L1周りの駆動力がコイル104に励起される。これにより、ミラー17が、回動軸L1を軸として回動する。このとき、板バネ102の一対の梁部102cが弾性変形する。
 図4Aは、波長変換部材15の構成を模式的に示す側面図である。
 波長変換部材15は、基板201の上面に、反射膜202と、蛍光体層203とを積層した構成となっている。
 基板201は、たとえば、シリコンや窒化アルミニウムセラミックなどからなっている。
 反射膜202は、第1の反射膜202aと第2の反射膜202bとが積層されて構成されている。第1の反射膜202aは、たとえば、Ag、Ag合金、Alなどの金属膜である。第2の反射膜202bは、反射とともに第1の反射膜202aを酸化などから保護する機能をも有し、たとえば、SiO、ZnO、ZrO、Nb、Al、TiO、SiN、AlNなど誘電体の1つまたは複数の層からなっている。反射膜202は、必ずしも、第1の反射膜202aおよび第2の反射膜202bから構成されなくともよく、単層または3つ以上の層が積層された構成であってもよい。
 蛍光体層203は、蛍光体粒子203aをバインダ203bで固定することにより形成される。蛍光体粒子203aは、レーザ光源12から出射された青色波長帯のレーザ光が照射されることによって黄色波長帯の蛍光を発する。蛍光体粒子203aとして、たとえば、平均粒子径が1μm~30μmの(YGd1-n(AlGa1-m12:Ce(0.5≦n≦1、0.5≦m≦1)が用いられる。また、バインダ203bとして、ポリメチルシルセスキオキサンなどのシルセスキオキサンを主に含む透明材料が用いられる。
 蛍光体層203には、さらに、第2粒子として、平均粒子径が0.1~10μmで熱伝導率30W/(m・K)のAlの微粒子が混合されるとよい。この場合、第2粒子は、蛍光体粒子203aに対して10vol%以上、90vol%以下の比率で混合される。たとえば、第2粒子として、バインダ203bの材料であるシルセスキオキサン(屈折率1.5)と屈折率差が大きいAl(屈折率1.8)が用いられる。この構成により、蛍光体層203の内部での光散乱性が向上するとともに、蛍光体層203の熱伝導率を高くすることができる。なお、ここでvol%とは、体積%のことである。
 さらに、蛍光体層203の内部に、ボイド203cを設けることが好ましい。第1実施形態では、蛍光体層203の中央付近に形成されたボイド203cと、反射膜202との界面付近に形成されたボイド203cが蛍光体層203に設けられる。
 ここで、蛍光体層203の内部に形成されたボイド203cは、反射膜202に近いほど密度が高くなるように構成される。この構成により、内部に侵入したレーザ光をより効率的に散乱させて、光源装置2から取り出すことができる。また、反射膜202との界面付近に形成されたボイド203cは、誘電体である第2の反射膜202bと接するため、金属表面によるエネルギーロスを低減しつつ、効果的にレーザ光と蛍光を散乱させることができる。
 上記のようなボイド203cの配置は、YAG:Ceからなる蛍光体粒子203aと、ポリシルセスキオキサンからなるバインダ203bとを混合した、蛍光体ペーストを用いて波長変換部材15を構成することで容易に形成できる。具体的には、蛍光体粒子203aと第2粒子とを、ポリシルセスキオキサンを有機溶剤に溶かしたバインダ203bに混合した蛍光体ペーストを用いて基板201(反射膜202)上に成膜し、その後、200℃程度の高温アニールを行うことで、ペースト中の有機溶剤を気化させる。このとき、波長変換部材15の基板201に近い部分から気化した有機溶剤は保持されやすいため、基板201に近い部分では、ボイド203cが容易に形成され得る。このような製造方法により、容易に反射膜202の近傍に高い密度のボイド203cを形成することができる。
 なお、蛍光体層203には、さらに、強度および耐熱性を高めるためのフィラー203dが含まれる。フィラー203dとバインダ203bとの屈折率差も、蛍光体粒子203aとバインダ203bとの屈折率差と同様、大きく設定される。
 レーザ光源12から出射されたレーザ光は、図4Aに示す励起領域R1に照射され、蛍光体層203の表面または内部で、散乱、吸収される。このとき、レーザ光の一部は、蛍光体粒子203aにより黄色波長帯の光に変換されて、蛍光体層203から放射される。また、レーザ光の他の一部は、黄色波長帯の光に変換されずに散乱されて青色波長帯の光のまま蛍光体層203から放射される。このとき、各波長帯の光は、蛍光体層203内を伝搬しながら散乱されるため、励起領域R1よりも広い発光領域R2から放射される。
 なお、上記のようにバインダ203bと蛍光体粒子203aの屈折率差、および、バインダ203bとフィラー203dの屈折率差が何れも大きくなるように蛍光体層203が構成されることにより、光を散乱し易くでき、また、光の蛍光体層203内部での伝搬を抑制することができる。この結果、励起領域R1よりも微小に広い発光領域R2から光を放射させることができる。また、第1実施形態では、さらに、蛍光体層203にボイド203cを配置して、光の散乱を増強させている。この結果、さらに励起領域R1と発光領域R2とを近づけることができる。
 図4Bは、波長変換部材15の構成を模式的に示す平面図である。
 波長変換部材15は、平面視において、X軸方向に長い長方形の形状を有する。波長変換部材15は、光偏向器14のミラー17が回動されることにより、レーザ光でX軸方向に走査される。図4Bにおいて、B1は、レーザ光のビームスポットを示している。ビームスポットB1は、波長変換部材15の入射面15aを幅W1において往復移動する。
 たとえば、コイル104に、ゼロレベルを振幅中心とする三角波状の駆動信号(電流)が印加される。この駆動信号によりコイル104に励起される駆動力によって、支持部102bとともにミラー17が中立位置を中心に所定の回動幅で回動する。これにより、ミラー17で反射されたレーザ光(ビームスポットB1)が、波長変換部材15の入射面15aを幅W1において往復移動する。
 入射面15a上におけるビームスポットB1の領域は、図4Aの励起領域R1に対応する。波長変換部材15の入射面15aをビームスポットB1が移動する間に、ビームスポットB1の領域よりもやや広い発光領域R2から青色波長帯の拡散光と黄色波長帯の拡散光がZ軸正方向に放射される。
 こうして放射された2つの波長帯の光が、図1および図2に示した投射光学系3により取り込まれ、目標領域に投射される。これにより、青色波長帯の光と黄色波長帯の光が合成された白色の光が、投光装置1から目標領域に投射される。
 ところで、図1および図2に示したように、波長変換部材15に対してレーザ光が斜めから入射する場合、ミラー17が回動軸L1についてX-Z平面に平行に回動すると、ミラー17の反射面と波長変換部材15の入射面15aとの間の相対角度が変化する。また、このミラー17の回動に伴い、ミラー17におけるレーザ光の入射位置と波長変換部材15におけるレーザ光の入射位置との間の相対距離が変化する。このため、波長変換部材15の入射面15aにおけるレーザ光(ビームスポットB1)の走査軌跡は、走査軌跡の中央から両端に向かってY軸負方向に徐々にシフトするように湾曲する。このような走査軌跡の湾曲は、投射光学系3によってさらに拡大される。このため、目標領域における配光の軌跡が大きく湾曲してしまう。
 そこで、第1実施形態では、波長変換部材15の入射面15a上においてレーザ光の走査軌跡が湾曲することを抑制し、これにより、波長変換部材15上における光の走査軌跡を直線に近づけるための構成が光源装置2に設けられている。具体的には、上記図3A、図3Bに示した光偏向器14の板バネ102に、走査軌跡の湾曲を抑制するための構成が設けられている。以下、この構成について説明する。
 図5Aは、第1実施形態に係る板バネ102の構成を示す平面図である。また、図5Bは、比較例に係る板バネ102の構成を示す平面図である。なお、ここでは、特に、y軸正側の梁部102cのことを梁部102c1と称し、y軸負側の梁部102cのことを梁部102c2と称する。
 図5Bに示すように、第1比較例の板バネ102では、梁部102c1、梁部102c2の幅が何れもH1に設定されている。梁部102c1、梁部102c2のy軸方向の長さと厚みは互いに同じである。この場合、梁部102c1、梁部102c2の撓み易さは互いに同じである。したがって、コイル104に駆動信号(電流)を印加して、回動軸L1を軸とする回動力が付与されると、支持部102bは、回動軸L1を軸としてx-z平面に平行に回動する。
 これに対し、第1実施形態の板バネ102では、図5Aに示すように、y軸正側の梁部102c1の幅がH1に設定され、y軸負側の梁部102c2の幅は、H1よりも狭いH2に設定されている。このように梁部102c1、梁部102c2の幅を調整することにより、梁部102c1、102c2の撓み易さを互いに相違させることができる。具体的には、梁部102c1に比べて、梁部102c2がより撓みやすくなる。
 この場合、コイル104に駆動信号(電流)を印加して、回動軸L1を軸とする回動力が付与されると、支持部102bは、撓みにくい梁部102c1側の部分よりも撓み易い梁部102c2側の部分の方が大きく回動する。たとえば、図5Aにおいて、支持部102bの4つの角部C1、C2のうち、撓みにくい梁部102c1側の角部C1よりも撓み易い梁部102c2側の角部C2の方が大きく回動する。これにより、支持部102bには、回動に伴い、対角方向の捻れが生じる。したがって、支持部102bに支持されたミラー17も、同様に、回動に伴い対角方向に捻れが生じる。この捻れは、支持部102bおよびミラー17の回動に伴って大きくなる。
 第1実施形態の構成では、支持部102bおよびミラー17がこのような挙動をとることにより、波長変換部材15の入射面15a上におけるレーザ光(ビームスポットB1)の走査軌跡が直線化される。
 図6A~図6Cは、第1比較例に係る支持部102bおよびミラー17の回動過程を模式的に示す図である。図6Dは、第1比較例に係る波長変換部材15の入射面15a上におけるレーザ光の走査軌跡を模式的に示す図である。
 図6Bは、ミラー17が中立位置にある状態を示し、図6A、図6Cは、それぞれ、ミラー17の回動範囲における各回動方向の境界位置にミラー17がある状態を示している。ミラー17は、図6Aの状態から図6Bの状態を経て図6Cの状態へと時計方向に回動し、その後、図6Bの状態を経て図6Aの状態に戻る。その後、ミラー17は、同様の回動動作を繰り返す。
 なお、「中立位置」とは、コイル104に駆動信号(電流)が印加されていない場合のミラー17の位置のことであり、第1実施形態の構成では、図3Aのように、支持部102bおよびミラー17が、回動軸L1について何れの方向にも回動しておらず、x-y平面に平行な状態にあるときのミラー17の位置をいう。
 第1比較例の構成では、梁部102c1、102c2の撓み易さが互いに同じであるため、図6A~図6Cに示すように、ミラー17は、支持部102bとともに回動軸L1についてx-z平面に平行に回動する。このため、上記のように、ミラー17の回動に伴い、ミラー17の反射面と波長変換部材15の入射面15aとの間の相対角度が変化し、また、ミラー17と波長変換部材15との間の相対距離が変化する。これにより、図6Dに示すように、波長変換部材15の入射面15aにおけるレーザ光(ビームスポットB1)の走査軌跡SLが、走査軌跡SLの中央から両端に向かってY軸負方向に徐々にシフトするように湾曲する。この場合、走査軌跡SLの中央と両端との間に、ΔDのシフトが生じる。
 図7A~図7Cは、第1実施形態に係る支持部102bおよびミラー17の回動過程を模式的に示す図である。図7Dは、第1実施形態に係る波長変換部材15の入射面15a上におけるレーザ光(ビームスポットB1)の走査軌跡を模式的に示す図である。
 図6A~図6Cの場合と同様、図7Bは、ミラー17が中立位置にある状態を示し、図7A、図7Cは、それぞれ、ミラー17の回動範囲における各回動方向の境界位置にミラー17がある状態を示している。ミラー17の回動動作の流れは、図6A~図6Cの場合と同様である。
 第1実施形態の構成では、梁部102c2の方が、梁部102c1よりも撓み易いため、図7A~図7Cに示すように、ミラー17と支持部102bは、中立位置から回動範囲の境界に近づくにつれて、回動軸L1について回動しつつ、対角方向に捻れるように変位する。このため、中立位置に対してミラー17が何れの方向に回動した場合も、ミラー17の反射面と波長変換部材15の入射面15aとの間の相対角度の変化が抑制され、また、ミラー17と波長変換部材15との間の相対距離の変化が抑制される。これにより、第1実施形態の構成によれば、第1比較例の場合と異なり、波長変換部材15の入射面15aにおいて、レーザ光(ビームスポットB1)の走査軌跡SLが湾曲することが抑制される。その結果、図7Dに模式的に示すように、波長変換部材15の入射面15aにおけるレーザ光(ビームスポットB1)の走査軌跡SLが、直線に近づけられる。
 このように、第1実施形態の構成によれば、波長変換部材15の入射面15aにおけるレーザ光(ビームスポットB1)の走査軌跡SLを直線化できる。よって、波長変換部材15によって生じた光を投射光学系3によって目標領域に投射した場合に、目標領域における配光軌跡が湾曲することを抑制でき、目標領域に直線状の配光軌跡で光を投射できる。
 なお、梁部102c1、梁部102c2の撓み易さは、波長変換部材15の入射面15a上におけるレーザ光(ビームスポットB1)の走査軌跡SLがなるべく直線に近づくように調整される。ここでは、梁部102c1、梁部102c2の幅H1、幅H2の比率が所望の値に調整される。具体的には、ミラー17の回動に伴って、走査軌跡SLを直線化できる状態で、ミラー17に対角方向の捻れが生じるように、梁部102c1、梁部102c2の幅H1、幅H2の比率が調整される。
 <検証>
 発明者らは、第1実施形態の構成により走査軌跡SLが直線化されることについて、シミュレーションに基づく検証を行った。以下、この検証について説明する。
 検証において、板バネ102の厚みは、全領域において0.12mmであった。板バネ102の材料は、ベリリウム銅を想定した。梁部102c1の幅H1は2.5mmに設定し、梁部102c2の幅H2は0.5mmに設定した。また、ミラー17に対するレーザ光の入射角は37.5度とし、波長変換部材15の入射面15aに対するレーザ光の入射角は75度とした。
 以上の条件で、ミラー17を中立位置に対して正負方向に2.5度回動させたときの波長変換部材15の入射面15aにおけるビームスポットB1の走査軌跡SLを検証した。比較例として、梁部102c1、梁部102c2の幅H1、幅H2を何れも2.5mmに設定した場合のビームスポットB1の走査軌跡SLを検証した。比較例におけるその他の条件は、上記と同様である。
 図8A、図8Bは、それぞれ、比較例および第1実施形態に係る光偏向器14を用いた場合の波長変換部材15の入射面15a上におけるレーザ光の走査軌跡SLのシミュレーション結果を示す図である。
 図8A、図8Bにおいて、横軸は、入射面15aの長手方向(X軸方向)におけるビームスポットB1の移動距離、縦軸は、入射面15aの短手方向(Y軸方向)におけるビームスポットB1の変位量である。縦軸および横軸は、ミラー17が中立位置にあるときのビームスポットB1の位置が0に設定されている。
 図8Aに示すように、比較例の構成によれば、両端が中央部に対して0.3mm程度変位する走査軌跡SLとなった。これに対し、第1実施形態の構成によれば、図8Bに示すように、ミラー17の全ての回動範囲においてレーザ光の走査軌跡SLが湾曲することが抑制された。第1実施形態の構成では、走査軌跡SLの変異幅が0.1mm程度に抑制され、走査軌跡SLが直線化された。
 このように、第1実施形態の構成では、梁部102c1、102c2の幅を調整することにより、波長変換部材15の入射面15aにおけるレーザ光(ビームスポットB1)の走査軌跡SLを直線化できることが確認できた。
 <第1実施形態の効果>
 第1実施形態によれば、以下の効果が奏される。
 支持部102b(駆動部)の回動に伴い、波長変換部材15上におけるレーザ光の走査軌跡SLの湾曲を抑制するよう支持部102b(駆動部)が変位する。これにより、図7Dおよび図8Bに示したように、波長変換部材15の入射面15a上においてレーザ光の走査軌跡SLが湾曲することを抑制でき、走査軌跡SLを直線に近づけることができる。
 光偏向器14は、一対の梁部102c1、梁部102c2(弾性支持部)の撓み易さを互いに相違させることにより、回動に伴い、レーザ光の走査軌跡SLの湾曲を抑制するよう支持部102b(駆動部)を変位させる構成となっている。具体的には、光偏向器14は、一対の梁部102c1、102c2(弾性支持部)の幅を互いに相違させることにより、回動に伴い、走査軌跡SLの湾曲を抑制するよう支持部102b(駆動部)を変位させる構成となっている。このように、第1実施形態では、一対の梁部102c1、梁部102c2(弾性支持部)の幅を互いに相違させるといった極めてシンプルな構成によって、走査軌跡SLの湾曲を抑制でき、走査軌跡SLを直線化できる。
 支持部102bと一対の梁部102c1、102c2は、枠状の板バネ102の一部として板バネ102に設けられている。このため、図3A、図3Bに示すように、板バネ102をハウジング101に設置するだけで、ミラー17を回動支持するための構成と、走査軌跡SLの湾曲を抑制するための構成を、同時に、光偏向器14に配置することができる。
 光偏向器14は、支持部102bに装着されたコイル104と、コイル104に磁界を印加するための磁石105、磁石106とを備え、コイル104に電流を印加することにより、支持部102bとともにミラー17が回動するよう構成されている。このように、電磁力を用いて支持部102bとともにミラー17を回動させることにより、多層の誘電体膜が形成された高反射率の重いミラー17が支持部102bに設置された場合も、ミラー17を円滑に回動させることができる。また、コイル104に励起された電磁力を用いて、回動に伴いミラー17を対角方向に捻るように円滑に変位させることができる。
 <第1実施形態の変更例>
 上記第1実施形態では、一対の梁部102c1、梁部102c2の幅を互いに相違させることにより、一対の梁部102c1、梁部102c2の撓み易さを互いに相違させた。しかし、一対の梁部102c1、梁部102c2の撓み易さを互いに相違させる方法は、これに限られるものではない。
 図9Aは、変更例に係る板バネ102の構成を模式的に示す断面図、図9Bは、他の変更例に係る板バネの構成を示す平面図である。なお、図9Aには、板バネ102をy-z平面に平行な平面によりx軸方向の中間位置で切断したときの断面図が示されている。
 図9Aの変更例において、梁部102c1、梁部102c2のx軸方向の幅は、互いに同じである。ここでは、梁部102c1、梁部102c2のz軸方向の厚みを互いに相違させることにより、一対の梁部102c1、梁部102c2の撓み易さを互いに相違させている。梁部102c1の厚みはD1に設定され、梁部102c2の厚みは、厚みD1よりも薄い厚みD2に設定されている。これにより、上記第1実施形態と同様、梁部102c2が、梁部102c1よりも撓み易くなっている。
 図9Bの他の変更例では、梁部102c1、梁部102c2のx軸方向の幅が互いに同じであり、且つ、梁部102c1、梁部102c2のz軸方向の厚みも互いに同じである。ここでは、梁部102c1のz軸負側の面に、可撓性の板部材S1が装着され、これにより、一対の梁部102c1、梁部102c2の撓み易さを互いに相違させている。この構成においても、上記第1実施形態と同様、梁部102c2が、梁部102c1よりも撓み易くなっている。
 図9A、図9Bの構成によっても、上記第1実施形態と同様、一対の梁部102c1、梁部102c2の撓み易さが調整され得るため、支持部102bの回動に伴い、支持部102bを対角方向に捻るように変位させることができる。よって、上記第1実施形態と同様、ミラー17を、回動に伴い対角方向に捻るように変位させることができ、これにより、波長変換部材15の入射面15a上におけるレーザ光の走査軌跡SLの湾曲を抑制できる。
 これらの変更例においても、上記第1実施形態と同様、波長変換部材15の入射面15a上におけるレーザ光(ビームスポットB1)の走査軌跡SLがなるべく直線に近づくように、梁部102c1、102c2の撓み易さ、すなわち、梁部102c1、梁部102c2の厚みD1、厚みD2および板部材S1の可撓性が調整される。走査軌跡SLがなるべく直線に近づくように、ミラー17を捻るように変位可能であれば、梁部102c1、梁部102c2の撓み易さが、他の方法により調整されてもよい。
 <第2実施形態>
 上記第1実施形態では、光偏向器14が、駆動部を1軸で回動させる構成であった。これに対し、第2実施形態では、ミラー17が互いに直交する2つの回動軸について回動可能なように、光偏向器14が構成されている。
 第2実施形態では、ミラー17が2軸駆動可能であるため、波長変換部材15の入射面15aにおけるレーザ光の走査軌跡が第1実施形態と異なっている。第2実施形態では、後述のように、波長変換部材15の入射面15aに複数の走査ライン(走査軌跡)が設定され、これに伴い、波長変換部材15の入射面15aを走査するビームスポットのサイズが、第1実施形態に比べて絞られている。投光装置1および光源装置2のその他の構成は、上記第1実施形態と同様である。
 なお、ビームスポットのサイズは、レーザ光源12とコリメータレンズ13との間の距離や、コリメータレンズ13の開口数等を調整して、コリメータレンズ13によりレーザ光を収束させることにより、より小さく絞ることができる。この他、ミラー17の反射面を凹面形状として、レーザ光を収束させるようにしてもよい。
 図10は、第2実施形態に係る光偏向器14の構成を示す斜視図である。また、図11A、図11Bは、それぞれ、第2実施形態に係る光偏向器14の構成を示す断面図である。図10および図11A、図11Bには、図3A、図3Bと同様のx、y、z軸が示されている。図11Aには、x-z平面に平行な平面で図10の光偏向器14をy軸方向の中央位置において切断したXIA-XIA断面図が示され、図11Bには、y-z平面に平行な平面で図10の光偏向器14をx軸方向の中央位置において切断したXIB-XIB断面図が示されている。
 図10および図11A、図11Bを参照して、ハウジング111は、x軸方向に長い直方体形状を有する。ハウジング111の上面には、平面視において長方形の凹部111aが形成されている。ハウジング111は、剛性が高い金属材料からなっている。
 ハウジング111の上面に、枠状の板バネ112が設置される。板バネ112は、外枠部112aと、内枠部112bと、2つの梁部112cと、支持部112dと、2つの梁部112eとを有する。y軸方向の中間位置において、外枠部112aからx軸方向に平行に延びるように、2つの梁部112cが形成され、これら梁部112cによって、外枠部112aと内枠部112bとが連結されている。また、x軸方向の中間位置において、内枠部112bからy軸方向に平行に延びるように、2つの梁部112eが形成され、これら梁部112eによって、内枠部112bと支持部112dとが連結されている。
 内枠部112bは、平面視において長方形の角が丸められた輪郭を有し、内枠部112bのy軸方向の中間位置において、2つの梁部112cが内枠部112bに繋がっている。また、支持部112dは、平面視において長方形の輪郭を有し、支持部112dのx軸方向の中間位置において、2つの梁部112eが支持部112dに繋がっている。板バネ112は、x軸方向およびy軸方向に対称な形状である。板バネ112は、可撓性の金属材料により一体形成されている。
 外枠部112aをハウジング111の上面に載せた状態で、4つのネジ113により、板バネ112がハウジング111の上面に固定される。支持部112dの上面にミラー17が接着剤等によって固定される。ミラー17は、平面視において略正方形である。2つの梁部112eを繋いだ軸が、上記第1実施形態と同様、レーザ光を波長変換部材15の長手方向に走査させるための、ミラー17の回動軸L1となる。また、2つの梁部112cを繋いだ軸が、波長変換部材15におけるレーザ光の走査ラインを変更するための、ミラー17の回動軸L2となる。
 なお、上記第1実施形態と同様、レーザ光源12からのレーザ光は、ミラー17の中央位置に入射する。すなわち、回動軸L1、L2が交わる位置をレーザ光の中心軸が貫くように、レーザ光源12からのレーザ光が、ミラー17に入射する。
 支持部112dの下面にコイル114が装着される。コイル114は、平面視において長方形の角が丸められた形状に周回している。コイル114は、長辺の中間位置が回動軸L1に一致するように、支持部112dの下面に設置される。コイル114、支持部112dおよびミラー17が、光偏向器14の第1の可動部を構成する。
 コイル114をx軸方向に挟むように、磁石115および磁石116の組が2つ配置される。磁石115と磁石116は、ヨーク117に設置され、ヨーク117が、ハウジング111の凹部111aの底面に設置されている。各組の磁石115および磁石116の磁極の調整方法は、図3A、図3Bに示した磁石105および磁石106と同様である。
 さらに、内枠部112bの下面にコイル118が装着される。コイル118は、平面視において内枠部112bと同様の形状である。コイル118は、短辺の中間位置が回動軸L2に一致するように、内枠部112bの下面に設置される。コイル118および内枠部112bが、光偏向器14の第2の可動部を構成する。
 コイル114に対して、y軸正側とy軸負側に、それぞれ、磁石119が配置される。これら磁石119は、ヨーク117に設置されている。また、これら2つの磁石119は、コイル118に対向する磁極が互いに異なるように、ヨーク117に設置されている。磁石119は、磁極面における磁束密度が略均一の永久磁石である。
 このように2つの磁石119の磁極を調整することにより、コイル118に駆動信号(電流)が印加されると、回動軸L2について内枠部112bが回動し、駆動信号の大きさに応じた角度だけ、内枠部112bが傾く。すなわち、内枠部112bは、梁部112cに生じる弾性復帰力とコイル118に励起された電磁力とが釣り合う角度だけ図10に示した中立位置から傾く。このとき、内枠部112bの回動に伴って、支持部112dとともにミラー17が回動する。
 支持部112dは、図3A、図3Bの構成と同様、コイル114に駆動信号(電流)を印加することにより、回動軸L1を軸として回動する。支持部112dの回動に伴い、ミラー17が回動軸L1を軸として回動する。このように、第2実施形態の光偏向器14によれば、コイル114、118にそれぞれ独立して駆動信号(電流)を印加することにより、ミラー17を、回動軸L1、L2について個別に回動させることができる。
 第2実施形態においても、上記第1実施形態と同様、一対の梁部112eの撓み易さが互いに相違するように、これら梁部112eのx軸方向の幅が調整されている。なお、一対の梁部112cの撓み易さは互いに同じである。
 図12Aは、第2実施形態に係る板バネ112の構成を示す平面図、図12Bは、第2比較例に係る板バネ112の構成を示す平面図である。なお、ここでは、特に、y軸正側の梁部112eのことを梁部112e1と称し、y軸負側の梁部112eのことを梁部112e2と称する。
 図12Bに示すように、第2比較例の板バネ112では、上記第1比較例と同様、梁部112e1、梁部112e2の幅が何れもH1に設定されている。梁部112e1、梁部112e2のy軸方向の長さと厚みは互いに同じである。したがって、第2比較例の板バネ112において、梁部112e1、梁部112e2の撓み易さは、互いに同じである。
 これに対し、第2実施形態の板バネ112では、図12Aに示すように、上記第1実施形態と同様、y軸正側の梁部112e1の幅がH1に設定され、y軸負側の梁部112e2の幅は、H1よりも狭いH2に設定されている。このように梁部112e1、梁部112e2の幅を調整することにより、梁部112e1、梁部112e2の撓み易さが互いに相違している。具体的には、梁部112e1に比べて、梁部112e2がより撓みやすくなっている。
 図13A、図13Bは、それぞれ、第2実施形態および第2比較例における波長変換部材15上のレーザ光の走査状態を模式的に示す図である。
 図13Aに示すように、第2実施形態では、波長変換部材15の入射面に複数の走査ラインSL1が設定される。図13Aの例では、3つの走査ラインSL1が、入射面15aに設定されている。ただし、走査ラインSL1の数は、これに限られるものではない。
 レーザ光のビームスポットB2は、最上段の走査ラインSL1をX軸正方向に終端位置まで移動した後、2段目の走査ラインSL1のX軸正側の開始位置に位置付けられる。その後、ビームスポットB2は、2段目の走査ラインSL1をX軸負方向に終端位置まで移動した後、3段目の走査ラインSL1のX軸負側の開始位置に位置付けられる。同様に、3段目の走査ラインSL1のX軸正側の終端位置までビームスポットB2が移動すると、ビームスポットB2は、2段目の走査ラインSL1の開始位置に位置付けられる。その後、ビームスポットB2は、2段目の走査ラインSL1をX軸負方向に終端位置まで移動した後、1段目の走査ラインSL1のX軸負側の開始位置に位置付けられる。以下、3つの走査ラインSL1について同様の走査が繰り返される。
 走査ラインSL1に沿ったビームスポットB2の移動は、図10に示した回動軸L1についてミラー17を回動させることにより行われる。走査ラインSL1の変更は、図10に示した回動軸L2についてミラー17を回動させて傾けることにより行われる。光偏向器14は、図1の回路基板18に実装された制御回路によって、ビームスポットB2が上記のように波長変換部材15の入射面15aを走査するように制御される。
 なお、ビームスポットB2が、1つの走査ラインSL1の終端位置から次の走査ラインSL1の開始位置に移動する期間は、レーザ光源12からのレーザ光の出射が停止される。すなわち、図13Aの送りラインTL1、送りラインTL2は、仮にレーザ光が出射されている場合のビームスポットB2の移動軌跡を示すものであって、実際の制御では、送りラインTL1、送りラインTL2において、レーザ光源12は消灯状態に制御される。
 なお、波長変換部材15の入射面に対するレーザ光の走査方法は、上記に限られるものではない。たとえば、ビームスポットB2が、各々の走査ラインSL1を往復移動した後、次の走査ラインSL1の開始位置へとジャンプするように、波長変換部材15の入射面がレーザ光で走査される構成であってもよい。
 第2実施形態の構成によれば、梁部112e1に比べて、梁部112e2がより撓み易くなっているため、上記第1実施形態と同様、ミラー17は、回動軸L1周りの回動に伴い、対角方向に捻れるように変位する。このため、第2実施形態の構成によれば、図13Aに示すように、波長変換部材15の入射面15a上における3つの走査ラインSL1(走査軌跡)は、何れも、湾曲が抑制されて直線に近づくようになる。
 これに対し、第2比較例の構成によれば、一対の梁部112e1、梁部112e2の撓み易さが互いに同じであるため、上記第1比較例と同様、ミラー17は、対角方向に捻れることなく回動軸L1周りを回動するのみである。このため、第2比較例の構成によれば、図13Bに示すように、波長変換部材15の入射面15a上における3つの走査ラインSL1(走査軌跡)は、何れも、中央から端に向かうにつれてY軸負方向にシフトするように湾曲する。
 このように、第2実施形態の構成によれば、一対の梁部112e1、梁部112e2の幅を互いに相違させることにより、波長変換部材15の入射面15a上においてレーザ光の走査軌跡が湾曲することを抑制でき、複数の走査軌跡をそれぞれ直線に近づけることができる。
 なお、第2実施形態の構成によれば、より絞られたビームスポットB2で、波長変換部材15が複数の走査ラインSL1に沿って走査されるため、たとえば、発光領域R2上において、白色光の発光を停止させる領域や、白色光の発光を生じさせる領域を、より細かく設定できる。このため、光源装置2から生じた白色光を投射光学系3で目標領域に投射する場合に、目標領域上において、白色光の投射を停止させる領域や、白色光の投射を行う領域を、より細かく設定できる。よって、たとえば、投光装置1が車両の前照灯に組み込まれた場合には、対向車の位置や歩行者の位置に応じて、より細かく、白色光の照射領域および非照射領域を設定することができる。
 なお、図9A、図9Bに示した2つの変更例の構成は、何れも、図10、図11A、図11Bおよび図12Aに示した一対の梁部112e(梁部112e1、梁部112e2)の変更例としても適用可能である。
 <第3実施形態>
 上記第1および第2実施形態では、梁部102c、梁部112eを調整することによって、波長変換部材15の入射面15a上におけるレーザ光の走査軌跡の湾曲が抑制された。これに対し、第3実施形態では、磁気回路を調整することによって、波長変換部材15上におけるレーザ光の走査軌跡の湾曲が抑制される。
 図14は、第3実施形態に係る光偏向器14の構成を示す斜視図である。また、図15A、図15Bは、それぞれ、第3実施形態に係る光偏向器14の構成を示す側面図および平面図である。
 便宜上、図14および図15A、図15Bでは、磁気回路に係る部分の構成のみが示されている。板バネ102については、支持部102bと一対の梁部102cの部分のみが図示されている。光偏向器14のその他の構成は、図3A、図3Bに示した第1実施形態に係る光偏向器14と略同様である。
 ただし、第3実施形態では、第1実施形態に比べて、2つの磁石121が追加されるため、これら磁石121を支持するようにヨーク107が修正され、且つ、これら磁石121を収納可能に、ハウジング101が修正される。なお、第3実施形態において、一対の梁部102cは、互いに同じ幅、厚み、長さとなっており、互いに同じ撓み易さとなっている。
 図14および図15A、図15Bに示すように、第3実施形態では、支持部102b(駆動部)を回動させるための力を生じさせる磁界をコイル104に付与するための磁石105、磁石106(第1の磁石)の他に、走査軌跡の湾曲を抑制する力を生じさせるための磁界をコイル104に付与するための2つの磁石121(第2の磁石)が磁気回路に配置されている。2つの磁石121は、コイル104のy軸負側に配置されている。これら磁石121は、それぞれ、コイル104のy軸負側の2つの角部分に対向するように、ヨーク107に装着されている。磁石121は、磁極面における磁束密度が略均一の永久磁石である。
 図15Bに示すように、x軸正側の磁石121は、x軸正側の磁石105と同じ磁極(ここではS極)がコイル104に対向し、x軸負側の磁石121は、x軸負側の磁石105と同じ磁極(ここではN極)がコイル104に対向するように配置されている。また、図15Bに示すように、2つの磁石121は、コイル104の角付近に印加される磁界の強度分布を調整可能なように、回動軸L1に垂直な平面に対してx-z平面に平行な方向に所定角度だけ傾くように配置されている。
 このように2つの磁石121を配置することにより、コイル104に駆動信号(電流)が印加されると、コイル104は、2つの磁石121からの磁界により励起される駆動力によって、y軸正側に比べてy軸負側がより大きく回動する。このとき、2つの磁石121からの磁界によって励起される駆動力は、コイル104に印加される駆動信号(電流)が大きくなるほど増大する。このため、上記のように三角波状の駆動信号がコイル104に印加される場合、コイル104の回動が進むに伴い、y軸正側のコイル104の回動幅とy軸正側のコイル104の回動幅の差が次第に大きくなっていく。
 このようなコイル104の挙動により、支持部102bに支持されたミラー17もまた、回動が進むに伴い、y軸負側の部分がy軸正側の部分に比べてより大きく回動する。これにより、上記第1実施形態と同様、ミラー17の回動に伴い、ミラー17に対角方向の捻れが生じ、この捻れが、支持部102bおよびミラー17の回動に伴って大きくなる。つまり、第3実施形態においても、ミラー17は、第1実施形態と同様の挙動で回動する。
 したがって、第3実施形態の構成においても、上記第1実施形態と同様、波長変換部材15の入射面15a上におけるレーザ光の走査軌跡SLの湾曲を抑制でき、走査軌跡SLを直線に近づけることができる。ここで、2つの磁石121からコイル104に印加される磁界の強度ないし強度分布は、走査軌跡SLをより直線化できるように調整される。
 また、第3実施形態では、図15Bに示すように磁石121が斜めに配置されているため、磁石121の傾き角を調整することにより、所望の強度分布で磁界をコイル104に付与できる。この場合、磁石121の傾き角は、波長変換部材15の入射面15a上におけるレーザ光の走査軌跡SLが最も直線に近づくように調整される。
 なお、第3実施形態の構成は、図10に示した2軸駆動の光偏向器14のコイル114部分の磁気回路にも適用可能である。
 また、図14および図15A、図15Bの構成では、一対の梁部102cの撓み易さが互いに同じであったが、第3実施形態の構成においても、y軸負側の梁部102cがより撓み易くなるように、一対の梁部102cの幅や厚み等が調整されてもよい。
 さらに、磁石121は、必ずしも、図15Bに示すように斜めに配置されなくてもよく、図16に示すように、コイル104に対向する面がx-z平面に平行となるように配置されてもよい。この場合、磁石121は、波長変換部材15の入射面15a上におけるレーザ光の走査軌跡SLが最も直線に近づく状態で、支持部102bとミラー17に捻れ方向の変位が生じるように、磁力の強度分布やx軸方向の配置位置が調整される。すなわち、磁石121をコイル104のy軸負側の面に平行に配置し、磁石121の左右方向(x軸方向)の位置を調整して、コイル104に対する磁界の強度を調整してもよい。
 また、磁石121を省略して、コイル104のy軸負側の2つの角付近に対向する磁石105の部分の磁界の強度がその他の部分よりも高まるように、磁石105が構成されてもよい。
 <変更例>
 以上、本開示の実施形態および変更例について説明したが、本発明は上記実施形態および変更例に何らの制限を受けるものではない。
 たとえば、上記実施の形態では、光源装置2が、反射型の波長変換部材15を用いる構成であったが、光源装置2は、透過型の波長変換部材15を用いる構成であってもよい。
 また、板バネ102、112の形状は、必ずしも、上記第1および第2実施形態に示した形状に限られるものではなく、たとえば、図3Aにおいて、x軸方向に隣り合う2つのネジ103で挟まれた領域以外の枠部102aの領域が省略されてもよい。
 上記第1実施形態では、図3Aに示すように、板バネ102の設けられた2つの孔102dの一方を長孔としたが、2つの孔102dの両方を長孔として、ネジ103を締める前に、板バネ102が長手方向に僅かに移動可能であってもよい。この場合、所望の厚みを有する隙間ゲージを差し込んで板バネ102の位置を確定してから、ネジ103を締める構成であってもよい。あるいは、コイル104と磁石105、磁石106とのギャップを測定装置で測定しながら長手方向に板バネ102を位置調整して位置を決めてから、ネジ103を締める構成であってもよい。
 また、ミラー17の形状は、必ずしも、平面視において正方形でなくともよく、平面視において長方形または円形であってもよい。支持部102bの形状も、適宜変更可能である。
 また、ミラー17の反射面は、必ずしも、平面でなくてもよく、レーザ光に収束作用を付与し得る凹面形状であってもよい。この場合、凹面形状は、波長変換部材15の入射面15a上のビームスポットB1、B2の形状をY軸方向に略線状の形状に成形し得るように調整されてもよい。あるいは、ミラー17の反射面に、波長変換部材15の入射面15a上のビームスポットB1、B2の形状を所定の形状に成形するためのレンズが装着されてもよい。
 また、波長変換部材15の蛍光体層203に含まれる蛍光体粒子203aの種類は、必ずしも1種類でなくてもよく、たとえば、レーザ光源12からのレーザ光によって互いに異なる波長の蛍光を生じる複数種類の蛍光体粒子203aが蛍光体層203に含まれてもよい。この場合、各種類の蛍光体粒子203aから生じた蛍光の拡散光と、これら蛍光体粒子203aによって波長変換されなかったレーザ光の拡散光とによって、所定の色の光が生成される。
 この他、本開示の実施の形態は、請求の範囲に示された技術的思想の範囲内において、適宜、種々の変更が可能である。
 本開示の光源装置および投光装置は、光偏向器に対してレーザ光が斜め方向から入射する場合に、波長変換部材の入射面上においてレーザ光の走査軌跡が湾曲することを抑制でき、波長変換部材上における光の走査軌跡を直線に近づけることができ、産業上有用である。
 1 投光装置
 2 光源装置
 3 投射光学系
 12 レーザ光源
 14 光偏向器
 15 波長変換部材
 15a 入射面
 17 ミラー
 102,112 板バネ
 102b,112d 支持部(駆動部)
 102c,102c1,102c2 梁部(弾性支持部)
 112c,112e,112e1,112e2 梁部(弾性支持部)
 104,114,118,141 コイル
 105,106,115,116,119,121 磁石
 SL 走査軌跡
 SL1 走査ライン

Claims (9)

  1.  レーザ光を出射するレーザ光源と、
     前記レーザ光の波長を他の波長に変換するとともに波長変換後の光を拡散させる波長変換部材と、
     前記レーザ光が入射するミラーと、前記ミラーを支持する駆動部とを有し、かつ前記ミラーを回動させることにより、前記レーザ光を前記波長変換部材の表面上において少なくとも1次元に走査させる光偏向器と、
    を備え、
     前記ミラーは、前記波長変換部材の前記表面に前記レーザ光が斜め方向から入射するよう配置され、
     前記光偏向器は、前記ミラーの回動に伴って、前記波長変換部材上において前記レーザ光が走査してできる軌跡の湾曲を抑制するよう前記駆動部を変位させる、ことを特徴とする光源装置。
  2.  請求項1に記載の光源装置において、前記光偏向器は、前記駆動部を回動軸に沿って両側から弾性支持する一対の弾性支持部を備え、前記一対の弾性支持部の撓み易さを互いに相違させることにより、前記ミラーの回動に伴い、前記軌跡の湾曲を抑制するよう前記駆動部を変位させる、ことを特徴とする光源装置。
  3.  請求項2に記載の光源装置において、前記光偏向器は、前記一対の弾性支持部の幅を互いに相違させることにより、前記ミラーの回動に伴い、前記軌跡の湾曲を抑制するよう前記駆動部を変位させる、ことを特徴とする光源装置。
  4.  請求項2または3に記載の光源装置において、前記光偏向器は、枠状の板バネを備え、前記板バネは、前記ミラーを支持する支持部と、前記支持部の前記回動軸に沿って両側から繋がる一対の梁部と、を備える、ことを特徴とする光源装置。
  5.  請求項4に記載の光源装置において、前記光偏向器は、前記支持部に装着されたコイルと、前記コイルに磁界を印加するための磁石とを備え、前記コイルに電流を印加することにより、前記支持部とともに前記ミラーが回動する、ことを特徴とする光源装置。
  6.  請求項1に記載の光源装置において、前記光偏向器は、前記駆動部に装着されたコイルと、前記コイルに磁界を印加するための磁気回路とを備え、前記コイルに電流を印加することにより、前記駆動部とともに前記ミラーが回動するよう構成され、前記磁気回路は、前記駆動部を回動させるための力を生じさせる磁界とともに、前記軌跡の湾曲を抑制する力を生じさせるための磁界を前記コイルに付与する、ことを特徴とする光源装置。
  7.  請求項6に記載の光源装置において、前記磁気回路は、前記駆動部を回動させるための力を生じさせる磁界を前記コイルに付与するための第1の磁石と、前記軌跡の湾曲を抑制する力を生じさせるための磁界を前記コイルに付与するための第2の磁石とを備える、ことを特徴とする光源装置。
  8.  請求項7に記載の光源装置において、前記第2の磁石は、前記コイルに対向する磁極面が前記駆動部の回動軸に垂直な面に対して所定角度で傾くように配置されている、ことを特徴とする光源装置。
  9.  請求項1から8の何れか一項に記載の光源装置と、前記波長変換部材により拡散された光を投射する投射光学系と、を備える、ことを特徴とする投光装置。
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