JP2019046749A - 光源装置および投光装置 - Google Patents

Abstract

【課題】波長変換部材にレーザ光が斜め方向から入射する場合に、波長変換部材上におけるレーザ光の走査軌跡の湾曲を円滑に抑制することが可能な光源装置および投光装置を提供する。【解決手段】光源装置２は、レーザ光を出射するレーザ光源と、レーザ光の波長を他の波長に変換するとともに波長変換されたレーザ光を拡散させる波長変換部材１５と、レーザ光が入射するミラー１７を回動させることにより、レーザ光を波長変換部材１５の入射面上において走査させる光偏向器１４と、を備える。ミラー１７により反射されたレーザ光は、波長変換部材１５の入射面に斜め方向から入射する。光偏向器１４は、ミラー１７を支持する被駆動部の回動に応じて、ミラー１７におけるレーザ光の反射位置を波長変換部材１５側に移動させて、波長変換部材１５の入射面におけるレーザ光の走査軌跡を直線状に補正する構成を備える。【選択図】図１

Description

本発明は、光を発する光源装置およびそれを用いた投光装置に関する。

従来、レーザ光源から出射された光を波長変換部材に照射することにより所定波長の光を生成する光源装置が知られている。この光源装置では、たとえば、波長変換部材により波長変換されて拡散された光と、波長変換部材により波長変換されずに拡散された光とが合成されて、白色光等、所定の色の光が生成される。このような光源装置が、たとえば、車両用前照灯の光源装置として利用されている。

以下の特許文献１には、固体光源からの励起光を蛍光体（波長変換部材）に向けて反射する反射手段を備え、該反射手段の向きを制御することで、反射手段によって反射される励起光の方向を変化させる照明装置が記載されている。このような構成を用いることにより、光学系（レンズ系）を含めた装置全体を機械的に駆動する機構を用いることなく、配光を変化させることができる。

特許第５５３０１７１号公報

しかしながら、上記特許文献１の構成によれば、蛍光体（波長変換部材）に対して励起光が斜め方向から入射するため、反射手段の回動に伴い、反射手段と蛍光体（波長変換部材）との間の相対角度および相対距離が変化し、これにより、蛍光体（波長変換部材）上における光の走査軌跡が湾曲するとの課題が生じる。蛍光体（波長変換部材）からの光を投射光学系で目標領域に投射する場合、走査軌跡の湾曲は、投射光学系によってさらに拡大される。このため、上記のように蛍光体（波長変換部材）上の走査軌跡が湾曲すると、目標領域における配光の軌跡が大きく湾曲することとなってしまう。

かかる課題に鑑み、本発明は、波長変換部材の入射面上においてレーザ光の走査軌跡が湾曲することを抑制し、波長変換部材上における光の走査軌跡を直線に近づけることが可能な光源装置およびそれを用いた投光装置を提供することを目的とする。

本発明の第１の態様は、光源装置に関する。第１の態様に係る光源装置は、レーザ光を出射するレーザ光源と、前記レーザ光の波長を他の波長に変換するとともに波長変換された前記レーザ光を拡散させる波長変換部材と、前記レーザ光が入射するミラーを回動させることにより、前記レーザ光を前記波長変換部材の入射面上において走査させる光偏向器と、を備える。前記ミラーにより反射された前記レーザ光が、前記波長変換部材の入射面に斜め方向から入射するよう光学系が構成されている。前記光偏向器は、前記ミラーを支持する被駆動部の回動に応じて、前記ミラーにおける前記レーザ光の反射位置を前記波長変換部材側に移動させて、前記波長変換部材の前記入射面における前記レーザ光の走査軌跡を直線状に補正する構成を備える。

本態様に係る光源装置によれば、被駆動部の回動に応じて、ミラーにおけるレーザ光の反射位置が波長変換部材側に移動されることにより、波長変換部材の入射面におけるレーザ光の走査軌跡が直線状に補正される。これにより、波長変換部材の入射面においてレーザ光の走査軌跡が湾曲することが抑制され、走査軌跡を直線に近づけることができる。

本発明の第２の態様は、投光装置に関する。第２の態様に係る投光装置は、第１の態様に係る光源装置と、前記波長変換部材により拡散された光を投射する投射光学系と、を備える。

本態様に係る投光装置によれば、第１の態様と同様の効果が奏され得る。

以上のとおり、本発明に係る光源装置および投光装置によれば、波長変換部材に対してレーザ光が斜め方向から入射する場合に、波長変換部材の入射面においてレーザ光の走査軌跡が湾曲することを抑制でき、波長変換部材上における光の走査軌跡を直線に近づけることができる。

本発明の効果ないし意義は、以下に示す実施の形態の説明により更に明らかとなろう。ただし、以下に示す実施の形態は、あくまでも、本発明を実施化する際の一つの例示であって、本発明は、以下の実施の形態に記載されたものに何ら制限されるものではない。

図１は、実施形態１に係る投光装置の構成を示す斜視図である。 図２は、実施形態１に係る投光装置の構成を示す断面図である。 図３（ａ）、（ｂ）は、それぞれ、実施形態１に係る光偏向器の構成を示す斜視図および断面図である。 図４（ａ）は、実施形態１に係る波長変換部材の構成を模式的に示す側面図である。図４（ｂ）は、実施形態１に係る波長変換部材の構成を模式的に示す平面図である。 図５は、実施形態１に係る光源装置の主たる回路構成を示す回路ブロック図である。 図６（ａ）は、比較例１に係る反射面の光学作用を説明するための図である。図６（ｂ）は、実施形態１に係る反射面の光学作用を説明するための図である。 図７（ａ）は、比較例１に係る反射面、波長変換部材、および走査軌跡をＺ軸負方向に見たときの模式図である。図７（ｂ）は、実施形態１に係る反射面、波長変換部材、および走査軌跡をＺ軸負方向に見たときの模式図である。 図８（ａ）は、比較例１に係る反射面および波長変換部材を側方から見たときの模式図である。図８（ｂ）は、実施形態１に係る反射面および波長変換部材を側方から見たときの模式図である。 図９は、回動軸から反射面までの距離と湾曲補正量との関係を示す図である。 図１０（ａ）、（ｂ）は、それぞれ、比較例１および実施形態１に係る光偏向器を用いた場合の波長変換部材の入射面上におけるレーザ光の走査軌跡のシミュレーション結果を示す図である。 図１１（ａ）は、実施形態２に係る支持部材、圧電素子、およびミラーの構成を示す模式図である。図１１（ｂ）は、実施形態２に係る反射面の光学作用を説明するための図である。 図１２は、実施形態２に係る光源装置の主たる回路構成を示す回路ブロック図である。 図１３は、実施形態２に係る圧電素子およびコイルに印加する駆動信号を示す図である。 図１４（ａ）、（ｂ）は、それぞれ、実施形態３に係る光偏向器の構成をｚ軸正方向およびｚ軸負方向に見た場合の図である。 図１５は、実施形態３に係る第１コイルおよび第２コイルに印加する駆動信号を示す図である。 図１６は、実施形態３の変更例に係る第１コイルおよび第２コイルに印加する駆動信号を示す図である。 図１７は、実施形態４に係る光偏向器の構成を示す斜視図である。 図１８（ａ）、（ｂ）は、それぞれ、実施形態４に係る光偏向器の構成を示す断面図である。 図１９（ａ）は、比較例２に係る反射面、波長変換部材、および走査軌跡をＺ軸負方向に見たときの模式図である。図１９（ｂ）は、実施形態４に係る反射面、波長変換部材、および走査軌跡をＺ軸負方向に見たときの模式図である。

以下、本発明の実施の形態について、図を参照して説明する。便宜上、各図には互いに直交するＸ、Ｙ、Ｚ軸が付記されている。Ｘ軸方向およびＹ軸方向は、それぞれ、投光装置の幅方向および奥行き方向であり、Ｚ軸方向は投光装置の高さ方向である。Ｚ軸正方向が、投光装置における光の投射方向である。

＜実施形態１＞
図１は、実施形態１に係る投光装置１の構成を示す斜視図である。図２は、実施形態１に係る投光装置１の構成を示す断面図である。図２には、Ｙ−Ｚ平面に平行な平面で投光装置１をＸ軸方向の中央位置において切断した断面図が示されている。

図１および図２を参照して、投光装置１は、光を生成する光源装置２と、光源装置２により生成された光を投射するための投射光学系３とを備えている。投射光学系３は、２つのレンズ３ａ、３ｂを備え、これらレンズ３ａ、３ｂによって光源装置２からの光を集光して目標領域へと投射する。なお、投射光学系３は、必ずしも２つのレンズ３ａ、３ｂのみから構成されなくともよく、たとえば、他のレンズやミラーを備えていてもよい。また、投射光学系３は、凹面ミラーによって光源装置２からの光を集光する構成であってもよい。

光源装置２は、ベース１１に、各種部材が設置された構成となっている。具体的には、投射用の光を生成するための構成として、レーザ光源１２と、コリメータレンズ１３と、光偏向器１４と、波長変換部材１５がベース１１に設置されている。コリメータレンズ１３は、ホルダ１６を介してベース１１に設置されている。

レーザ光源１２は、青色波長帯（たとえば、４５０ｎｍ）のレーザ光をＺ軸正方向に出射する。レーザ光源１２は、たとえば、半導体レーザからなっている。レーザ光源１２から出射されるレーザ光の波長は、適宜変更可能である。また、レーザ光源１２は、必ずしも単一波長帯のレーザ光を出射するものでなくともよく、たとえば、１基板に複数の発光素子がマウントされたマルチ発光の半導体レーザであってもよい。

コリメータレンズ１３は、レーザ光源１２から出射されたレーザ光を平行光に変換する。コリメータレンズ１３は、レーザ光源１２から出射されたレーザ光を収束させ得るように、光軸方向の位置が調整されてもよい。また、コリメータレンズ１３は、波長変換部材１５の入射面においてレーザ光がＹ軸方向に細長い線状のビームスポットに集光されるよう、Ｘ軸方向の収束パワーとＹ軸方向の収束パワーが調整されていてもよい。

光偏向器１４は、ミラー１７を備え、ミラー１７を回動軸Ｌ１について回動させることにより、コリメータレンズ１３を通過したレーザ光の進行方向を変化させる。ミラー１７の反射面１７ａは平面である。ミラー１７は、たとえば、ガラス板に誘電体多層膜を形成した高反射率のミラーである。ミラー１７は、中立位置において、Ｘ−Ｚ平面に平行な面に対して、Ｙ−Ｚ平面に平行な方向に所定角度だけ傾くように配置される。ミラー１７の回動軸Ｌ１は、Ｙ−Ｚ平面に平行で、且つ、Ｚ軸方向に対して所定角度だけ傾いている。光偏向器１４の構成は、追って、図３（ａ）、（ｂ）を参照して説明する。

波長変換部材１５は、ミラー１７によって反射されたレーザ光が入射する位置に配置されている。ミラー１７によって反射されたレーザ光は、斜め方向から波長変換部材１５に入射する。波長変換部材１５は、長方形形状の板状の部材であり、入射面がＸ−Ｙ平面に平行となり、且つ、長手方向がＸ軸に平行となるように、ベース１１に設置されている。上記のように、ミラー１７が回動軸Ｌ１について回動することにより、波長変換部材１５は、レーザ光によって長手方向に走査される。

波長変換部材１５は、入射したレーザ光の一部を、青色波長帯とは異なる波長に変換して、Ｚ軸方向に拡散させる。波長変換されなかった他のレーザ光は、波長変換部材１５によってＺ軸方向に拡散される。こうして拡散された２種類の波長の光が合成されて、所定の色の光が生成される。各波長の光は、投射光学系３に取り込まれて、目標領域に投射される。

実施形態１では、波長変換部材１５によって、レーザ光の一部が、黄色波長帯の光に変換される。波長変換後の黄色波長帯の拡散光と、波長変換されなかった青色波長帯の散乱光とが合成されて、白色の光が生成される。なお、波長変換後の波長は黄色波長帯でなくてもよく、生成される光の色は、白以外の色であってもよい。波長変換部材１５の構成は、追って、図４（ａ）、（ｂ）を参照して説明する。

ベース１１の下面には、回路基板１８が設置されている。この回路基板１８に、レーザ光源１２および光偏向器１４を制御するための回路が実装されている。図１に示すように、回路基板１８の端子部が、ベース１１のＹ軸正側において、外部に露出している。

図３（ａ）、（ｂ）は、それぞれ、光偏向器１４の構成を示す斜視図および断面図である。図３（ｂ）には、ｘ−ｚ平面に平行な平面で、図３（ａ）の光偏向器１４をｙ軸方向の中央位置において切断したＡ−Ａ’断面図が示されている。

なお、便宜上、図３（ａ）、（ｂ）には、光偏向器１４の構成を説明するために、新たにｘ、ｙ、ｚ軸が示されている。このうち、ｘ軸は、図１および図２に示したＸ軸と同一方向である。ｘ、ｙ、ｚ軸は、図１および図２に示したＸ、Ｙ、Ｚ軸を、Ｘ軸周りに、所定の角度だけ回転させたものである。ｙ軸は、光偏向器１４の短手方向に対応し、ｚ軸は、光偏向器１４の高さ方向に対応する。ここでは、便宜上、ｚ軸負側を光偏向器１４の上側と定義する。

図３（ａ）、（ｂ）を参照して、光偏向器１４は、電磁力を利用してミラー１７を駆動する構成となっている。ハウジング１０１に、電磁駆動のための構成部材が設置されている。

ハウジング１０１は、ｘ軸方向に長い直方体形状を有する。ハウジング１０１の上面には、平面視において長方形の凹部１０１ａが形成されている。また、ハウジング１０１には、ｘ軸正負の縁の上面に、それぞれ、ボス１０１ｂが形成されている。２つのボス１０１ｂは、ハウジング１０１のｙ軸方向の中間位置に配置されている。ハウジング１０１は、剛性が高い金属材料からなっている。

ハウジング１０１の上面に、枠状の板バネ１０２が設置される。板バネ１０２は、枠部１０２ａと、支持部１０２ｂと、２つの梁部１０２ｃと、２つの孔１０２ｄとを有する。

ｘ軸方向の中間位置において、枠部１０２ａからｙ軸方向に平行に延びるように、２つの梁部１０２ｃが形成され、これら梁部１０２ｃによって、枠部１０２ａと支持部１０２ｂとが連結されている。支持部１０２ｂは、平面視において長方形であり、支持部１０２ｂのｘ軸方向の中間位置において、２つの梁部１０２ｃが支持部１０２ｂに繋がっている。ｘ軸正側の孔１０２ｄは、ボス１０１ｂと同様、平面視において円形で、ｘ軸負側の孔１０２ｄは、平面視においてｘ軸方向に長い形状である。板バネ１０２は、ｙ軸方向に対称な形状であり、また、２つの孔１０２ｄを除いてｘ軸方向に対称な形状である。板バネ１０２は、可撓性の金属材料により一体形成されている。

２つの孔１０２ｄは、それぞれ、２つのボス１０１ｂに対応する位置に設けられている。孔１０２ｄにボス１０１ｂが嵌められた状態で、４つのネジ１０３により、板バネ１０２がハウジング１０１の上面に固定される。支持部１０２ｂの上面にミラー１７が接着剤等によって固定される。ミラー１７は、平面視において略正方形である。２つの梁部１０２ｃを繋いだ軸が、ミラー１７および支持部１０２ｂの回動軸Ｌ１となる。すなわち、２つの梁部１０２ｃは、回動軸Ｌ１に沿うように設けられている。一対の梁部１０２ｃは、回動軸Ｌ１に沿ってｙ軸方向の両側から支持部１０２ｂおよびミラー１７を弾性支持している。

なお、レーザ光源１２からのレーザ光は、ミラー１７の反射面１７ａに対して斜め方向から入射する。レーザ光源１２から反射面１７ａに向かうレーザ光の中心軸を延長した直線と回動軸Ｌ１とが交差するように、ミラー１７および光偏向器１４が配置されている。

支持部１０２ｂの下面にコイル１０４が装着される。コイル１０４は、平面視において長方形の角が丸められた形状に周回している。コイル１０４は、長辺の中間位置が回動軸Ｌ１に一致するように、支持部１０２ｂの下面に設置される。コイル１０４、支持部１０２ｂおよびミラー１７が、光偏向器１４の可動部を構成する。

コイル１０４のｘ軸正側およびｘ軸負側の部分をそれぞれｘ軸方向に挟むように、磁石１０５および磁石１０６の組が２つ配置される。磁石１０５と磁石１０６は、ヨーク１０７に設置され、ヨーク１０７が、ハウジング１０１の凹部１０１ａの底面に設置されている。磁石１０５、１０６は、磁極面における磁束密度が略均一の永久磁石である。

ｘ軸正側の磁石１０５、１０６によって生じる磁界の向きと、ｘ軸負側の磁石１０５、１０６によって生じる磁界の向きは、同じである。たとえば、ｘ軸正側の磁石１０５は、Ｎ極がコイル１０４に対向し、ｘ軸負側の磁石１０５は、Ｓ極がコイル１０４に対向する。また、ｘ軸正側の磁石１０６は、Ｓ極がコイル１０４に対向し、ｘ軸負側の磁石１０６は、Ｎ極がコイル１０４に対向する。このように磁極（磁界の向き）を調整することにより、コイル１０４に駆動信号（電流）が印加されると、回動軸Ｌ１周りの駆動力がコイル１０４に励起される。これにより、ミラー１７が、回動軸Ｌ１を軸として回動する。このとき、板バネ１０２の一対の梁部１０２ｃが弾性変形する。

図４（ａ）は、波長変換部材１５の構成を模式的に示す側面図である。

波長変換部材１５は、基板２０１の上面に、反射膜２０２と、蛍光体層２０３とを積層した構成となっている。

基板２０１は、たとえば、シリコンや窒化アルミニウムセラミックなどからなっている。

反射膜２０２は、第１の反射膜２０２ａと第２の反射膜２０２ｂとが積層されて構成されている。第１の反射膜２０２ａは、たとえば、Ａｇ、Ａｇ合金、Ａｌなどの金属膜である。第２の反射膜２０２ｂは、反射とともに第１の反射膜２０２ａを酸化などから保護する機能をも有し、たとえば、ＳｉＯ_２、ＺｎＯ、ＺｒＯ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、ＳｉＮ、ＡｌＮなど誘電体の１つまたは複数の層からなっている。反射膜２０２は、必ずしも、第１の反射膜２０２ａおよび第２の反射膜２０２ｂから構成されなくともよく、単層または３つ以上の層が積層された構成であってもよい。

蛍光体層２０３は、蛍光体粒子２０３ａをバインダ２０３ｂで固定することにより形成される。蛍光体粒子２０３ａは、レーザ光源１２から出射された青色波長帯のレーザ光が照射されることによって黄色波長帯の蛍光を発する。蛍光体粒子２０３ａとして、たとえば、平均粒子径が１μｍ〜３０μｍの（ＹｎＧｄ１−ｎ）３（ＡｌｍＧａ１−ｍ）５Ｏ１２：Ｃｅ（０．５≦ｎ≦１、０．５≦ｍ≦１）が用いられる。また、バインダ２０３ｂとして、ポリメチルシルセスキオキサンなどのシルセスキオキサンを主に含む透明材料が用いられる。

蛍光体層２０３には、さらに、第２粒子として、平均粒子径が０．１〜１０μｍで熱伝導率３０Ｗ／（ｍ・Ｋ）のＡｌ_２Ｏ_３の微粒子が混合されるとよい。この場合、第２粒子は、蛍光体粒子２０３ａに対して１０ｖｏｌ％以上、９０ｖｏｌ％以下の比率で混合される。たとえば、第２粒子として、バインダ２０３ｂの材料であるシルセスキオキサン（屈折率１．５）と屈折率差が大きいＡｌ_２Ｏ_３（屈折率１．８）が用いられる。この構成により、蛍光体層２０３の内部での光散乱性が向上するとともに、蛍光体層２０３の熱伝導率を高くすることができる。

さらに、蛍光体層２０３の内部に、ボイド２０３ｃを設けることが好ましい。実施形態１では、蛍光体層２０３の中央付近に形成されたボイド２０３ｃと、反射膜２０２との界面付近に形成されたボイド２０３ｃが蛍光体層２０３に設けられる。

ここで、蛍光体層２０３の内部に形成されたボイド２０３ｃは、反射膜２０２に近いほど密度が高くなるように構成される。この構成により、内部に侵入したレーザ光をより効率的に散乱させて、光源装置２から取り出すことができる。また、反射膜２０２との界面付近に形成されたボイド２０３ｃは、誘電体である第２の反射膜２０２ｂと接するため、金属表面によるエネルギーロスを低減しつつ、効果的にレーザ光と蛍光を散乱させることができる。

上記のようなボイド２０３ｃの配置は、ＹＡＧ：Ｃｅからなる蛍光体粒子２０３ａと、ポリシルセスキオキサンからなるバインダ２０３ｂとを混合した、蛍光体ペーストを用いて波長変換部材１５を構成することで容易に形成できる。具体的には、蛍光体粒子２０３ａと第２粒子とを、ポリシルセスキオキサンを有機溶剤に溶かしたバインダ２０３ｂに混合した蛍光体ペーストを用いて基板２０１（反射膜２０２）上に成膜し、その後、２００℃程度の高温アニールを行うことで、ペースト中の有機溶剤を気化させる。このとき、波長変換部材１５の基板２０１に近い部分から気化した有機溶剤は保持されやすいため、基板２０１に近い部分では、ボイド２０３ｃが容易に形成され得る。このような製造方法により、容易に反射膜２０２の近傍に高い密度のボイド２０３ｃを形成することができる。

なお、蛍光体層２０３には、さらに、強度および耐熱性を高めるためのフィラー２０３ｄが含まれる。フィラー２０３ｄとバインダ２０３ｂとの屈折率差も、蛍光体粒子２０３ａとバインダ２０３ｂとの屈折率差と同様、大きく設定される。

レーザ光源１２から出射されたレーザ光は、図４（ａ）に示す励起領域Ｒ１に照射され、蛍光体層２０３の表面または内部で、散乱、吸収される。このとき、レーザ光の一部は、蛍光体粒子２０３ａにより黄色波長帯の光に変換されて、蛍光体層２０３から放射される。また、レーザ光の他の一部は、黄色波長帯の光に変換されずに散乱されて青色波長帯の光のまま蛍光体層２０３から放射される。このとき、各波長帯の光は、蛍光体層２０３内を伝搬しながら散乱されるため、励起領域Ｒ１よりも広い発光領域Ｒ２から放射される。

なお、上記のようにバインダ２０３ｂと蛍光体粒子２０３ａの屈折率差、および、バインダ２０３ｂとフィラー２０３ｄの屈折率差が何れも大きくなるように蛍光体層２０３が構成されることにより、光を散乱し易くでき、また、光の蛍光体層２０３内部での伝搬を抑制することができる。この結果、励起領域Ｒ１よりも微小に広い発光領域Ｒ２から光を放射させることができる。また、実施形態１では、さらに、蛍光体層２０３にボイド２０３ｃを配置して、光の散乱を増強させている。この結果、さらに励起領域Ｒ１と発光領域Ｒ２とを近づけることができる。

図４（ｂ）は、波長変換部材１５の構成を模式的に示す平面図である。

波長変換部材１５は、平面視において、Ｘ軸方向に長い長方形の形状を有する。波長変換部材１５は、光偏向器１４のミラー１７が回動されることにより、レーザ光でＸ軸方向に走査される。図４（ｂ）において、Ｂ１は、レーザ光のビームスポットを示している。ビームスポットＢ１は、波長変換部材１５の入射面１５ａを幅Ｗ１において往復移動する。

たとえば、コイル１０４に、ゼロレベルを振幅中心とする三角波状の駆動信号（電流）が印加される。この駆動信号によりコイル１０４に励起される駆動力によって、支持部１０２ｂとともにミラー１７が中立位置を中心に所定の回動幅で回動する。これにより、ミラー１７で反射されたレーザ光（ビームスポットＢ１）が、波長変換部材１５の入射面１５ａを幅Ｗ１において往復移動する。

入射面１５ａ上におけるビームスポットＢ１の領域は、図４（ａ）の励起領域Ｒ１に対応する。波長変換部材１５の入射面１５ａをビームスポットＢ１が移動する間に、ビームスポットＢ１の領域よりもやや広い発光領域Ｒ２から青色波長帯の拡散光と黄色波長帯の拡散光がＺ軸正方向に放射される。

こうして放射された２つの波長帯の光が、図１、２に示した投射光学系３により取り込まれ、目標領域に投射される。これにより、青色波長帯の光と黄色波長帯の光が合成された白色の光が、投光装置１から目標領域に投射される。

図５は、光源装置２の主たる回路構成を示す回路ブロック図である。

光源装置２は、回路部の構成として、コントローラ３０１と、レーザ駆動回路３０２と、ミラー駆動回路３０３と、インタフェース３０４と、を備えている。これらの回路は、図１、２に示した回路基板１８に実装されている。回路基板１８には、さらにレーザ光源１２も設置されている。なお、上記各回路の一部または全部が回路基板１８とは別の回路基板に実装され、回路基板１８側の回路とケーブルで接続された構成であってもよい。

コントローラ３０１は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）等の演算処理回路と、メモリとを備え、所定の制御プログラムに従って各部を制御する。レーザ駆動回路３０２は、コントローラ３０１からの制御信号に従って、レーザ光源１２を駆動する。ミラー駆動回路３０３は、コントローラ３０１からの制御信号に従って、光偏向器１４のミラー１７を駆動する。

ところで、図１および図２に示したように、波長変換部材１５の入射面１５ａに対してレーザ光が斜めから入射する場合、ミラー１７の回動に伴い、ミラー１７の反射面１７ａと波長変換部材１５の入射面１５ａとの間の相対角度が変化する。このとき、ミラー１７の反射面１７ａと回動軸Ｌ１とが互いに接近していると、ミラー１７の回動に伴い、ミラー１７におけるレーザ光の反射位置と波長変換部材１５におけるレーザ光の入射位置との間の相対距離が変化し、これにより、波長変換部材１５の入射面１５ａにおけるレーザ光（ビームスポットＢ１）の走査軌跡は、走査軌跡の中央から両端に向かってＹ軸負方向に徐々にシフトするように湾曲する。このような走査軌跡の湾曲は、投射光学系３によってさらに拡大される。このため、目標領域における配光の軌跡が大きく湾曲してしまう。

そこで、本実施形態１では、波長変換部材１５の入射面１５ａ上においてレーザ光の走査軌跡が湾曲することを抑制するための構成が、光偏向器１４に設けられている。すなわち、中立位置に対する支持部１０２ｂの回動に応じて、ミラー１７におけるレーザ光の反射位置が波長変換部材１５側に移動するように、光偏向器１４が構成されている。具体的には、ミラー１７の反射面１７ａと回動軸Ｌ１との距離が、波長変換部材１５上におけるレーザ光の走査軌跡を直線に近づけ得る距離に設定されている。ここでは、ミラー１７の厚みによって、ミラー１７の反射面１７ａと回動軸Ｌ１との間の距離が調整されている。以下、この構成について説明する。

図６（ａ）は、比較例１に係る反射面１７ａの光学作用を説明するための図である。図６（ｂ）は、実施形態１に係る反射面１７ａの光学作用を説明するための図である。

図６（ａ）に示すように、比較例１では、ミラー１７の反射面１７ａと回動軸Ｌ１との距離が０である状態が想定されている。すなわち、比較例１では、ミラー１７の反射面１７ａ上に回動軸Ｌ１が位置している。このため、反射面１７ａが、実線で示す中立位置から回動軸Ｌ１まわりに角度θだけ回動したとしても、反射面１７ａにおけるレーザ光の反射位置は変化しない。

これに対し、実施形態１では、図６（ｂ）に示すように、支持部１０２ｂとミラー１７が厚みを有している。回動軸Ｌ１は、支持部１０２ｂのｚ軸方向の中央位置を通っている。実施形態１では、回動軸Ｌ１と反射面１７ａとの距離ｔが、支持部１０２ｂとミラー１７の厚みによって規定されている。

実施形態１では、反射面１７ａが、実線で示す中立位置から回動軸Ｌ１まわりに角度θだけ回動すると、反射面１７ａの回動に応じて、反射面１７ａにおけるレーザ光の反射位置が距離ｄ１だけｚ軸負方向に移動する。ここで、距離ｄ１は、以下の式（１）により算出される。

ｄ１＝ｔ×ｓｉｎθ×ｔａｎθ−（ｔ−ｔ×ｃｏｓθ） …（１）

なお、実施形態１の距離ｔは、図６（ｂ）に示すように支持部１０２ｂの厚みとミラー１７の厚みによって設定される。しかしながら、これに限らず、支持部１０２ｂとミラー１７との間にスペーサ等の中間部材が配置されてもよい。この場合、距離ｔは、支持部１０２ｂの厚みとミラー１７の厚みに加えて、支持部１０２ｂとミラー１７との間に配置された中間部材の厚みによって設定される。

図７（ａ）は、比較例１に係る反射面１７ａ、波長変換部材１５、および走査軌跡ＳＬをＺ軸負方向に見たときの模式図である。図７（ｂ）は、実施形態１に係る反射面１７ａ、波長変換部材１５、および走査軌跡ＳＬをＺ軸負方向に見たときの模式図である。図７（ａ）、（ｂ）には、波長変換部材１５の入射面１５ａ上におけるレーザ光の走査軌跡ＳＬが模式的に示されている。

図７（ａ）、（ｂ）は、ミラー１７（反射面１７ａ）が中立位置にある状態を示している。図７（ａ）に示す反射面１７ａと、図７（ｂ）に示す反射面１７ａとは、互いに同じ平面上に位置付けられている。したがって、図７（ｂ）に示す実施形態１の回動軸Ｌ１は、図７（ａ）に示す比較例１の回動軸Ｌ１よりもｚ軸正側に位置する。図７（ａ）、（ｂ）において、反射面１７ａが回動軸Ｌ１まわりに回動されることにより、破線矢印で示すように、反射面１７ａで反射されたレーザ光の進行方向が変化する。これにより、波長変換部材１５の入射面１５ａにおいて、ビームスポットＢ１の位置が変化する。

なお、「中立位置」とは、コイル１０４に駆動信号（電流）が印加されていない場合のミラー１７の位置のことであり、実施形態１の構成では、図３（ａ）のように、支持部１０２ｂおよびミラー１７（反射面１７ａ）が、回動軸Ｌ１について何れの方向にも回動しておらず、ｘ−ｙ平面に平行な状態にあるときのミラー１７（反射面１７ａ）の位置をいう。また、ミラー１７が中立位置にあるときの支持部１０２ｂの位置が、支持部１０２ｂの中立位置でもある。

図７（ａ）、（ｂ）は、ミラー１７の回動範囲における一方の境界位置から他方の境界位置までミラー１７（反射面１７ａ）が回動したときの、ビームスポットＢ１の位置変化を示している。ミラー１７（反射面１７ａ）は、回動範囲において繰り返し回動される。

比較例１では、図６（ａ）を参照して説明したように、反射面１７ａ上に回動軸Ｌ１が位置付けられている。このため、図７（ａ）に示すように、波長変換部材１５の入射面１５ａにおけるレーザ光（ビームスポットＢ１）の走査軌跡ＳＬが、走査軌跡ＳＬの中央から両端に向かってＹ軸負方向に徐々にシフトするように湾曲する。この場合、走査軌跡ＳＬには、走査軌跡ＳＬの中央と両端との間に、距離ΔＤのシフト（歪み）が生じる。

これに対し、実施形態１では、図６（ｂ）を参照して説明したように、回動軸Ｌ１と反射面１７ａとの間に距離ｔが設けられている。このため、反射面１７ａの回動に応じて、反射面１７ａにおけるレーザ光の反射位置が距離ｄ１だけｚ軸負方向に移動する。したがって、図７（ｂ）に示すように、中立位置に対してミラー１７が回動したときのビームスポットＢ１の位置が、比較例１と比べてＹ軸正側に移動され、距離ΔＤのシフトが抑制される。

図８（ａ）は、比較例１に係る反射面１７ａおよび波長変換部材１５をＸ軸負方向に見たときの模式図である。図８（ｂ）は、実施形態１に係る反射面１７ａおよび波長変換部材１５をＸ軸負方向に見たときの模式図である。便宜上、図８（ａ）、（ｂ）には、レーザ光の入射位置において反射面１７ａをＹ−Ｚ平面に平行な平面で切断したときの反射面１７ａの断面が示されている。

図８（ａ）、（ｂ）において、位置Ｐ１は、ミラー１７に入射するレーザ光の光軸と、波長変換部材１５の入射面１５ａを含む水平面（Ｘ−Ｙ平面に平行な平面）とが交わる位置である。図８（ａ）において、位置Ｐ２は、ミラー１７（反射面１７ａ）が回動範囲における境界位置（回動角が最大となる位置）にあるときに、ミラー１７からの反射光が入射する入射面１５ａ上の位置である。

図８（ｂ）において、位置Ｐ３は、ミラー１７（反射面１７ａ）が図８（ａ）と同じだけ中立位置から回動したときに、ミラー１７からの反射光が入射する入射面１５ａ上の位置である。便宜上、図８（ｂ）には、比較例１と同様、反射面１７ａとの距離が０である回動軸でミラー１７を中立位置から境界位置に回動させたときに、ミラー１７からの反射光が入射する入射面１５ａ上の位置Ｐ２が示されている。

図８（ａ）、（ｂ）に示すように、比較例１と実施形態１では、反射面１７ａにおけるレーザ光の反射位置が異なる。具体的には、図６（ａ）に示したように、比較例１の反射位置は、ミラー１７が中立位置から回動しても変化しない。これに対し、図６（ｂ）に示したように、実施形態１の反射位置は、ミラー１７が中立位置から境界位置に回動すると、距離ｄ１だけｚ軸負方向に移動する。これにより、実施形態１では、ミラー１７が中立位置から境界位置に回動すると、ミラー１７によって反射された反射光が、位置Ｐ２よりも距離ｄ２だけＹ軸正側に変位した位置、すなわち位置Ｐ３に入射する。

ここで、Ｘ軸負方向に見たときのミラー１７からの反射光の光軸と、水平面とのなす角をθ１とし、Ｘ軸負方向に見たときの位置Ｐ１から位置Ｐ２までの距離をＬとすると、位置Ｐ２と位置Ｐ３との間のＹ軸方向における距離ｄ２は、以下の式（２）により算出される。

ｄ２＝Ｌ−｛Ｌ×ｔａｎθ１−ｄ１／ｃｏｓ（（９０°−θ１）／２）｝／ｔａｎθ１ …（２）

上記式（２）に、上記式（１）のｄ１を代入することにより、距離ｄ２は、以下の式（３）のように表される。

ｄ２＝Ｌ−｛Ｌ×ｔａｎθ１−｛ｔ×ｓｉｎθ×ｔａｎθ−（ｔ−ｔ×ｃｏｓθ）｝／ｃｏｓ（（９０°−θ１）／２）｝／ｔａｎθ１ …（３）

上記式（３）に示すように、距離ｄ２は、回動軸Ｌ１と反射面１７ａとの距離ｔによって規定される。したがって、距離ｔを調整することにより、ビームスポットＢ１をミラー１７側に移動させ、図７（ａ）に示した距離ΔＤを抑制して、走査軌跡ＳＬを図７（ｂ）に示すように直線状に補正できる。

図９は、距離ｔと距離ｄ２との関係を示す図である。図９のグラフは、Ｌ＝３０ｍｍ、θ１＝１５°、反射面１７ａの回動角θ＝３°の場合の、距離ｔと距離ｄ２との関係を示している。距離ｄ２は、走査軌跡ＳＬの湾曲が補正される量に相当する。

図９に示すように、距離ｔが０の場合は、湾曲補正量は０となる。これは、比較例１において、反射面１７ａが回動角θだけ回動したときに生じる距離ｄ１が０であるため、走査軌跡ＳＬが補正されることなく、走査軌跡ＳＬが湾曲した状態となることを示している。一方、距離ｔが大きくなると、距離ｄ１が０より大きくなるため、走査軌跡ＳＬが補正される量、すなわち湾曲補正量が大きくなる。

発明者らの検討によれば、上記の条件でｔ＝０とすると、ミラー１７の回動角が最大の３°となるとき、ビームスポットＢ１のＹ軸負方向へのシフト量ΔＤが０．３２ｍｍとなることが分かった。したがって、このような場合には、湾曲補正量が０．３２ｍｍとなるようｔの値を５０ｍｍ程度に設定すれば、走査軌跡ＳＬを直線状とすることができる。言い換えれば、光偏向器１４は、ミラー１７の回動角が最大となるときに、支持部１０２ｂの回動軸Ｌ１とミラー１７の反射面１７ａとの距離ｔが、走査軌跡の歪み（距離ΔＤ）を解消することが可能な距離となるよう構成される。これにより、走査軌跡ＳＬを直線状に補正できる。

図１０（ａ）、（ｂ）は、それぞれ、比較例１（ｔ＝０ｍｍ）と実施形態１（ｔ＝５０ｍｍ）の場合の走査軌跡ＳＬを示すグラフである。図１０（ａ）、（ｂ）のグラフは、いずれも図９と同様の条件に基づくシミュレーション結果である。

図１０（ａ）、（ｂ）において、横軸は、入射面１５ａ上におけるビームスポットＢ１のＸ軸方向の位置を示し、縦軸は、入射面１５ａ上におけるビームスポットＢ１のＹ軸方向の位置を示している。反射面１７ａが中立位置にある場合のビームスポットＢ１の位置は、横軸および縦軸がともに０となる位置で示される。

図１０（ａ）に示すように、比較例１の場合、ビームスポットＢ１のＸ軸方向の位置に応じて、ビームスポットＢ１のＹ軸方向の位置が変化した。すなわち、比較例１の場合は、走査軌跡ＳＬが湾曲した。一方、図１０（ｂ）に示すように、実施形態１の場合、上述したようにｔの値が５０ｍｍに設定されているため、ビームスポットＢ１のＸ軸方向の位置が変化しても、ビームスポットＢ１のＹ軸方向の位置は変化しない。すなわち、実施形態１の場合は、走査軌跡ＳＬが直線状となった。

このように、実施形態１の構成では、ｔの値を調整することにより、波長変換部材１５の入射面１５ａにおけるレーザ光（ビームスポットＢ１）の走査軌跡ＳＬを直線化できることが確認できた。

＜実施形態１の効果＞
実施形態１によれば、以下の効果が奏される。

回動軸Ｌ１と反射面１７ａとの距離が、レーザ光の走査軌跡ＳＬを直線状に補正可能な距離となるよう構成されている。このように回動軸Ｌ１と反射面１７ａとの距離が所定の距離に設定されると、支持部１０２ｂ（被駆動部）の回動に応じて、ミラー１７におけるレーザ光の反射位置が波長変換部材１５側に移動する。これにより、図７（ｂ）および図１０（ｂ）に示したように、波長変換部材１５の入射面１５ａ上においてレーザ光の走査軌跡ＳＬが湾曲することを抑制でき、走査軌跡ＳＬを直線状に補正できる。

また、このように走査軌跡ＳＬが直線状に補正されると、波長変換部材１５によって生じた光を投射光学系３によって目標領域に投射した場合に、目標領域における配光軌跡が湾曲することを抑制できる。よって、目標領域に直線状の配光軌跡で光を投射できる。

＜実施形態２＞
実施形態１では、ミラー１７に厚みを持たせて反射面１７ａと回動軸Ｌ１との距離を広げることにより、反射面１７ａにおけるレーザ光の反射位置をミラー１７の回動に伴い波長変換部材１５側に移動させた。これに対し、実施形態２では、ミラー１７と支持部１０２ｂとの間に、距離ｔを変化させるための圧電素子１９が設けられている。

図１１（ａ）は、ミラー１７と、支持部１０２ｂと、圧電素子１９とをｙ軸負方向に見た図である。圧電素子１９のｚ軸正側およびｚ軸負側の面は、ｘ−ｙ平面に平行である。圧電素子１９のｚ軸負側の面は、ミラー１７のｚ軸正側の面に設置されており、圧電素子１９のｚ軸正側の面は、支持部１０２ｂのｚ軸負側の面に設置されている。圧電素子１９は、印加される駆動信号（電圧）に応じてｚ軸方向の厚みが変化するよう構成されている。

図１１（ｂ）は、反射面１７ａが、破線で示す中立位置から回動軸Ｌ１まわりに角度θだけ回動した状態を示す図である。実施形態２では、ミラー１７（反射面１７ａ）の回動に応じて、レーザ光の反射位置が波長変換部材１５側に移動するように、圧電素子１９の駆動信号が変化させられる。すなわち、ミラー１７が中立位置にあるとき、回動軸Ｌ１とレーザ光の反射位置との距離はｔであるが、ミラー１７の回動角に応じて徐々に圧電素子１９の厚みが大きくなり、ミラー１７の回動角がθのとき、回動軸Ｌ１と反射面１７ａとの距離はｔ＋Δｔとなる。これにより、実施形態１と同様に、レーザ光の反射位置が、波長変換部材１５側に移動する。

なお、実施形態２のｄ１の値は、上記式（１）においてｔをｔ＋Δｔに置き換えた式により算出される。また、実施形態２の湾曲補正量は、上記式（３）においてｔをｔ＋Δｔに置き換えた式により算出される。

図１２は、実施形態２の光源装置２の主たる回路構成を示す回路ブロック図である。

実施形態２の光源装置２は、図５に示した実施形態１と比較して、回路部の構成として、圧電素子駆動回路３０５と圧電素子１９を備えている。圧電素子駆動回路３０５は、図１、２に示した回路基板１８に実装されている。圧電素子駆動回路３０５が回路基板１８とは別の回路基板に実装され、回路基板１８側の回路とケーブルで接続された構成であってもよい。圧電素子駆動回路３０５は、コントローラ３０１からの制御信号に従って、圧電素子１９を駆動する。実施形態２のその他の構成は、実施形態１と同様である。

図１３は、ミラー１７の回動角に応じて、圧電素子１９に印加する駆動信号（電圧）と、コイル１０４に印加する駆動信号（電流）とを示す図である。

上段左端、中央、および右端の模式図に示すように、ミラー１７の回動角が０のとき、中段のグラフに示すように、コントローラ３０１は、圧電素子１９に印加される電圧が０となるよう圧電素子駆動回路３０５を制御する。これにより、圧電素子１９の厚みは最小となる。また、このとき、下段のグラフに示すように、コントローラ３０１は、コイル１０４に印加される電流が０となるようミラー駆動回路３０３を制御する。これにより、コイル１０４から支持部１０２ｂに加えられる力は０となる。

上段左から２番目および左から４番目の模式図に示すように、ミラー１７の回動角が最大となるとき、中段のグラフに示すように、コントローラ３０１は、圧電素子１９に印加される電圧が最大となるよう圧電素子駆動回路３０５を制御する。これにより、圧電素子１９の厚みが最大となる。このとき、圧電素子１９に印加される電圧は、レーザ光の走査軌跡ＳＬが直線状に補正される値に設定される。また、このとき、下段のグラフに示すように、コントローラ３０１は、コイル１０４に印加される電流が、最大または最小となるように、ミラー駆動回路３０３を制御する。これにより、コイル１０４から支持部１０２ｂに加えられる力が最大となり、ミラー１７が回動する。

以上のように、実施形態２においても、ミラー１７の回動に応じて、反射面１７ａにおけるレーザ光の反射位置が、波長変換部材１５に対して近付けられる。これにより、実施形態１と同様、ミラー１７が中立位置から回動されたときのビームスポットＢ１の位置が、ミラー１７側に近付けられる。よって、実施形態１と同様の効果が奏される。

なお、実施形態２では、ミラー１７、圧電素子１９および支持部１０２ｂの厚みによって、反射面１７ａと回動軸Ｌ１との間に所定の距離が生じる。このため、実施形態２の構成では、圧電素子１９が駆動されない場合も、実施形態１と同様、ミラー１７（反射面１７ａ）の回動に伴い、反射面１７ａにおけるレーザ光の反射位置が波長変換部材１５側にある程度移動する。

実施形態２では、これら部材の厚みに応じて反射位置が波長変換部材１５側に移動する量と、圧電素子１９の厚み変化により反射位置が波長変換部材１５側に移動する量とが合わさって、ビームスポットＢ１の位置がミラー１７側に近付けられ、波長変換部材１５の入射面１５ａ上におけるレーザ光の走査軌跡が直線状に補正される。したがって、実施形態２によれば、実施形態１に比べて、ミラー１７および支持部１０２ｂの厚みを小さくすることができ、光偏向器１４をコンパクトに構成できる。

＜実施形態３＞
実施形態１では、ミラー１７に厚みを持たせて反射面１７ａと回動軸Ｌ１との距離を広げることにより、ミラー１７の回動に応じてレーザ光の反射位置を波長変換部材１５側に移動させた。これに対し、実施形態３では、コイル１０４に代えて、第１コイル１０４ａおよび第２コイル１０４ｂが支持部１０２ｂに設置される。そして、第１コイル１０４ａおよび第２コイル１０４ｂに印加される駆動信号が、ミラー１７を回動させるとともに、ミラー１７の回動に応じて支持部１０２ｂおよびミラー１７を波長変換部材１５側に移動させるように調整される。

図１４（ａ）、（ｂ）は、それぞれ、実施形態３に係る光偏向器１４の構成をｚ軸正方向およびｚ軸負方向に見た場合の図である。図１４（ａ）、（ｂ）では、便宜上、板バネ１０２、第１コイル１０４ａ、第２コイル１０４ｂ、ミラー１７、弾性支持部１０８、および磁石１０５、１０６のみが示されている。

図１４（ａ）、（ｂ）に示すように、実施形態３では、実施形態１と比較して、板バネ１０２の一対の梁部１０２ｃに代えて、一対の弾性支持部１０８が設けられている。弾性支持部１０８は、たとえば、ゴムや可撓性を有する樹脂などからなる弾性部材により構成される。この場合、弾性部材は、接着剤により、枠部１０２ａおよび支持部１０２ｂに設置される。あるいは、弾性支持部１０８は、可撓性に富む材料が、枠部１０２ａおよび支持部１０２ｂとともに一体形成された構成であってもよい。あるいは、一対の梁部１０２ｃが、より弾性に富むように、ｘ軸方向に蛇行する形状に変更されて、一対の弾性支持部１０８が構成されてもよい。

一対の弾性支持部１０８は、回動軸Ｌ１に沿って支持部１０２ｂを両側から弾性支持している。一対の弾性支持部１０８は、後述するように支持部１０２ｂが第１コイル１０４ａおよび第２コイル１０４ｂから力を受けることにより撓む。一対の弾性支持部１０８は、支持部１０２ｂが、実施形態１と同様に回動軸Ｌ１まわりに回動するとともに、波長変換部材１５側へと移動することが可能なように、支持部１０２ｂを支持する。

第１コイル１０４ａおよび第２コイル１０４ｂは、支持部１０２ｂのｚ軸正側の面に、回動軸Ｌ１を挟んでｘ軸方向に隣り合うように設置されている。たとえば、第１コイル１０４ａおよび第２コイル１０４ｂは、互いに同一形状および同一周回数のコイルである。第１コイル１０４ａは、ｘ軸負側の端部が回動軸Ｌ１よりもｘ軸正側に位置するように支持部１０２ｂに設置されている。第２コイル１０４ｂは、ｘ軸正側の端部が回動軸Ｌ１よりもｘ軸負側に位置するように支持部１０２ｂに設置されている。ｘ軸正側の磁石１０５、１０６は、第１コイル１０４ａのｘ軸正側の部分をｘ軸方向に挟んでいる。ｘ軸負側の磁石１０５、１０６は、第２コイル１０４ｂのｘ軸負側の部分をｘ軸方向に挟んでいる。実施形態３のその他の構成は、実施形態１と同様である。

図１５は、ミラー１７の回動角に応じて、第１コイル１０４ａおよび第２コイル１０４ｂに印加する駆動信号（電流）を示す図である。

上段左端、中央、および右端の模式図に示すように、ミラー１７の回動角が０のとき、中段のグラフに示すように、コントローラ３０１は、第１コイル１０４ａおよび第２コイル１０４ｂに印加される電流が０となるようミラー駆動回路３０３を制御する。このとき、第１コイル１０４ａおよび第２コイル１０４ｂから支持部１０２ｂに加えられる力は０となる。

上段左から２番目の模式図に示すようにミラー１７の反時計方向の回動角が最大となるとき、中段のグラフに示すように、コントローラ３０１は、第２コイル１０４ｂに印加される電流が正方向に最大となるように、ミラー駆動回路３０３を制御する。また、上段左端から上段中央の模式図に至るまでの間、下段左側の模式図に示すように、コントローラ３０１は、ｚ軸正方向に見て時計回りの電流が第２コイル１０４ｂに流れるようにミラー駆動回路３０３を制御する。このとき、コントローラ３０１は、第１コイル１０４ａには電流が印加されないようにミラー駆動回路３０３を制御する。

これにより、第２コイル１０４ｂのみにｚ軸負方向の駆動力が生じ、この駆動力によって、白抜きの矢印に示すように、支持部１０２ｂのｘ軸負側の端部がｚ軸負方向に移動する。このとき、第１コイル１０４ａからは支持部１０２ｂに駆動力が付与されないため、支持部１０２ｂのｘ軸正側の端部は、支持部１０２ｂのｘ軸負側の端部の移動に伴い、ｚ軸負方向に移動する。したがって、支持部１０２ｂは、ミラー１７とともにｚ軸負方向に移動する。また、第２コイル１０４ｂから支持部１０２ｂのｘ軸負側の端部にｚ軸負方向の駆動力が付与されることにより、支持部１０２ｂに回動軸Ｌ１周りのトルクが発生する。これにより、実施形態１と同様に、ミラー１７および支持部１０２ｂの回動が行われる。

一方、上段左から４番目の模式図に示すようにミラー１７の時計方向の回動角が最大となるとき、中段のグラフに示すように、コントローラ３０１は、第１コイル１０４ａに印加される電流が負方向に最大となるように、ミラー駆動回路３０３を制御する。また、上段中央から上段右端の模式図に至るまでの間、下段右側の模式図に示すように、コントローラ３０１は、ｚ軸正方向に見て反時計回りの電流が第１コイル１０４ａに流れるようにミラー駆動回路３０３を制御する。このとき、コントローラ３０１は、第２コイル１０４ｂには電流が印加されないようにミラー駆動回路３０３を制御する。

これにより、第１コイル１０４ａのみにｚ軸負方向の駆動力が生じ、この駆動力によって、白抜きの矢印に示すように、支持部１０２ｂのｘ軸正側の端部がｚ軸負方向に移動する。このとき、第２コイル１０４ｂからは支持部１０２ｂに駆動力が付与されないため、支持部１０２ｂのｘ軸負側の端部は、支持部１０２ｂのｘ軸正側の端部の移動に伴い、ｚ軸負方向に移動する。したがって、支持部１０２ｂは、ミラー１７とともにｚ軸負方向に移動する。また、第１コイル１０４ａから支持部１０２ｂのｘ軸正側の端部にｚ軸負方向の駆動力が付与されることにより、支持部１０２ｂに回動軸Ｌ１周りのトルクが発生する。これにより、実施形態１と同様に、ミラー１７および支持部１０２ｂの回動が行われる。

図１５に示すように第１コイル１０４ａおよび第２コイル１０４ｂに駆動信号（電流）が印加されると、ミラー１７（反射面１７ａ）が、中立状態から回動角が最大となる状態に至るまで、反射面１７ａにおけるレーザ光の反射位置は、徐々に波長変換部材１５側に移動される。また、ミラー１７（反射面１７ａ）が、回動角が最大となる状態から中立状態に至るまで、反射面１７ａにおけるレーザ光の反射位置は、徐々に波長変換部材１５から遠ざけられる。

以上のように、実施形態３においても、ミラー１７の回動に応じて、反射面１７ａにおけるレーザ光の反射位置が、波長変換部材１５に対して近付けられる。これにより、実施形態１と同様、ミラー１７が中立位置から回動されたときのビームスポットＢ１の位置が、ミラー１７側に近付けられる。第１コイル１０４ａおよび第２コイル１０４ｂに印加される電流（駆動信号）は、波長変換部材１５の入射面１５ａにおけるレーザ光の走査軌跡が直線状となるように調整される。よって、実施形態３の構成においても、実施形態１と同様に、波長変換部材１５の入射面１５ａにおけるレーザ光の走査軌跡を直線状に補正することができる。

なお、実施形態３においては、第１コイル１０４ａおよび第２コイル１０４ｂに印加される電流（駆動信号）によって、ミラー１７の反射面１７ａが波長変換部材１５に近づけられるため、ミラー１７の反射面１７ａと回動軸Ｌ１との距離が小さく、あるいは、この距離が実質的にゼロであっても、波長変換部材１５の入射面１５ａにおけるレーザ光の走査軌跡を直線状に補正できる。よって、実施形態３の構成によれば、ミラー１７の厚みを顕著に小さくできるため、光偏向器１４を小型化でき、ミラー１７をより効率的かつ円滑に駆動させることができる。

なお、図１５に示すように、ミラー１７および支持部１０２ｂにある程度の厚みがある場合は、これらの厚みによって、ミラー１７（反射面１７ａ）の回動時に、レーザ光の反射位置が波長変換部材１５側にある程度移動される。この場合、これら部材の厚みに応じて反射位置が波長変換部材１５側に移動する量と、第１コイル１０４ａおよび第２コイル１０４ｂにより反射位置が波長変換部材１５側に移動する量とによって、レーザ光の走査軌跡が直線化されるように、第１コイル１０４ａおよび第２コイル１０４ｂに印加される電流（駆動信号）が調整される。

また、実施形態３では、ｘ軸正側の磁石１０５、１０６による磁界の向きと、ｘ軸負側の磁石１０５、１０６による磁界の向きとは、互いに同じであったが、異なっていてもよい。この場合、図１５に示すグラフとは異なり、第１コイル１０４ａに印加される電流の符号と、第２コイル１０４ｂに印加される電流の符号とが同じになるように、各コイルに印加される電流が調整される。

＜実施形態３の変更例＞
実施形態３では、ミラー１７の回動周期に応じて、第１コイル１０４ａのみに駆動信号（電流）を印加する状態と、第２コイル１０４ｂのみに駆動信号（電流）を印加する状態とが切り替えられた。これに対し、実施形態３の変更例では、ミラー１７の回動に伴い、第１コイル１０４ａおよび第２コイル１０４ｂに同じ方向で且つ異なる大きさの駆動力が生じるように、第１コイル１０４ａおよび第２コイル１０４ｂに駆動信号が印加される。より詳細には、ミラー１７の回動周期に応じて、第１コイル１０４ａに印加する駆動信号の絶対値が第２コイル１０４ｂに印加する駆動信号の絶対値よりも大きくなる状態と、第２コイル１０４ｂに印加する駆動信号の絶対値が第１コイル１０４ａに印加する駆動信号の絶対値よりも大きくなる状態とが切り替えられる。実施形態３の変更例のその他の構成は、実施形態３と同様である。

図１６は、ミラー１７の回動角に応じて、第１コイル１０４ａおよび第２コイル１０４ｂに印加する駆動信号（電流）を示す図である。

上段左から２番目の模式図に示すようにミラー１７の反時計方向の回動角が最大となるとき、中段のグラフに示すように、コントローラ３０１は、第２コイル１０４ｂに印加される電流が正方向に最大となるように、ミラー駆動回路３０３を制御し、第１コイル１０４ａに印加される電流が負方向に中程度となるように、ミラー駆動回路３０３を制御する。また、上段左端から上段中央の模式図に至るまでの間、下段左側の模式図に示すように、コントローラ３０１は、ｚ軸正方向に見て反時計回りの電流が第１コイル１０４ａに流れるようにミラー駆動回路３０３を制御し、ｚ軸正方向に見て時計回りの電流が第２コイル１０４ｂに流れるようにミラー駆動回路３０３を制御する。

これにより、第１コイル１０４ａにｚ軸負方向の駆動力が生じ、この駆動力によって、左側の白抜きの矢印に示すように、支持部１０２ｂのｘ軸正側の端部がｚ軸負方向に移動する。また、第２コイル１０４ｂにも、ｚ軸負方向の駆動力が生じ、この駆動力によって、右側の白抜きの矢印に示すように、支持部１０２ｂのｘ軸負側の端部がｚ軸負方向に移動する。このとき、第２コイル１０４ｂに生じた駆動力は、第１コイル１０４ａに生じた駆動力よりも大きいため、支持部１０２ｂに反時計方向のトルクが発生する。これにより、図１５に示した実施形態３と同様に、ミラー１７および支持部１０２ｂの回動が行われる。

一方、上段左から４番目の模式図に示すようにミラー１７の時計方向の回動角が最大となるとき、中段のグラフに示すように、コントローラ３０１は、第１コイル１０４ａに印加される電流が負方向に最大となるように、ミラー駆動回路３０３を制御し、第２コイル１０４ｂに印加される電流が正方向に中程度となるように、ミラー駆動回路３０３を制御する。また、上段中央から上段右端の模式図に至るまでの間、下段右側の模式図に示すように、コントローラ３０１は、ｚ軸正方向に見て反時計回りの電流が第１コイル１０４ａに流れるようにミラー駆動回路３０３を制御し、ｚ軸正方向に見て時計回りの電流が第２コイル１０４ｂに流れるようにミラー駆動回路３０３を制御する。

これにより、第１コイル１０４ａにｚ軸負方向の駆動力が生じ、この駆動力によって、左側の白抜きの矢印に示すように、支持部１０２ｂのｘ軸正側の端部がｚ軸負方向に移動する。また、第２コイル１０４ｂにも、ｚ軸負方向の駆動力が生じ、この駆動力によって、右側の白抜きの矢印に示すように、支持部１０２ｂのｘ軸負側の端部がｚ軸負方向に移動する。このとき、第１コイル１０４ａに生じた駆動力は、第２コイル１０４ｂに生じた駆動力よりも大きいため、支持部１０２ｂに時計方向のトルクが発生する。これにより、図１５に示した実施形態３と同様に、ミラー１７および支持部１０２ｂの回動が行われる。

以上のように、実施形態３の変更例においても、実施形態３と同様、ミラー１７の回動に応じて、反射面１７ａにおけるレーザ光の反射位置が、波長変換部材１５に対して近付けられる。これにより、実施形態１と同様、ミラー１７が中立位置から回動されたときのビームスポットＢ１の位置が、ミラー１７側に近付けられる。第１コイル１０４ａおよび第２コイル１０４ｂに印加される電流（駆動信号）は、波長変換部材１５の入射面１５ａにおけるレーザ光の走査軌跡が直線状となるように調整される。よって、この変更例によっても、実施形態１と同様に、波長変換部材１５の入射面１５ａにおけるレーザ光の走査軌跡を直線状に補正することができる。

なお、この変更例においても、ｘ軸正側の磁石１０５、１０６による磁界の向きと、ｘ軸負側の磁石１０５、１０６による磁界の向きとが、異なっていてもよい。この場合、図１６に示すグラフとは異なり、第１コイル１０４ａに印加される電流の符号と、第２コイル１０４ｂに印加される電流の符号とが同じになるように各コイルに印加される電流が調整される。

＜実施形態４＞
上記実施形態１では、光偏向器１４が、被駆動部を１軸で回動させる構成であった。これに対し、実施形態４では、ミラー１７が互いに直交する２つの回動軸について回動可能なように、光偏向器１４が構成されている。

実施形態４では、ミラー１７が２軸駆動可能であるため、波長変換部材１５の入射面１５ａにおけるレーザ光の走査軌跡が実施形態１と異なっている。実施形態４では、後述のように、波長変換部材１５の入射面１５ａに複数の走査軌跡が設定されている。投光装置１および光源装置２のその他の構成は、上記実施形態１と同様である。

図１７は、実施形態４に係る光偏向器１４の構成を示す斜視図である。また、図１８（ａ）、（ｂ）は、それぞれ、実施形態４に係る光偏向器１４の構成を示す断面図である。図１７および図１８（ａ）、（ｂ）には、図３（ａ）、（ｂ）と同様のｘ、ｙ、ｚ軸が示されている。図１８（ａ）には、ｘ−ｚ平面に平行な平面で図１７の光偏向器１４をｙ軸方向の中央位置において切断したＢ−Ｂ’断面図が示され、図１８（ｂ）には、ｙ−ｚ平面に平行な平面で図１７の光偏向器１４をｘ軸方向の中央位置において切断したＣ−Ｃ’断面図が示されている。

図１７および図１８（ａ）、（ｂ）を参照して、ハウジング１１１は、ｘ軸方向に長い直方体形状を有する。ハウジング１１１の上面には、平面視において長方形の凹部１１１ａが形成されている。ハウジング１１１は、剛性が高い金属材料からなっている。

ハウジング１１１の上面に、枠状の板バネ１１２が設置される。板バネ１１２は、外枠部１１２ａと、内枠部１１２ｂと、２つの梁部１１２ｃと、支持部１１２ｄと、２つの梁部１１２ｅとを有する。ｙ軸方向の中間位置において、外枠部１１２ａからｘ軸方向に平行に延びるように、２つの梁部１１２ｃが形成され、これら梁部１１２ｃによって、外枠部１１２ａと内枠部１１２ｂとが連結されている。また、ｘ軸方向の中間位置において、内枠部１１２ｂからｙ軸方向に平行に延びるように、２つの梁部１１２ｅが形成され、これら梁部１１２ｅによって、内枠部１１２ｂと支持部１１２ｄとが連結されている。

内枠部１１２ｂは、平面視において長方形の角が丸められた輪郭を有し、内枠部１１２ｂのｙ軸方向の中間位置において、２つの梁部１１２ｃが内枠部１１２ｂに繋がっている。また、支持部１１２ｄは、平面視において長方形の輪郭を有し、支持部１１２ｄのｘ軸方向の中間位置において、２つの梁部１１２ｅが支持部１１２ｄに繋がっている。板バネ１１２は、ｘ軸方向およびｙ軸方向に対称な形状である。板バネ１１２は、可撓性の金属材料により一体形成されている。

外枠部１１２ａをハウジング１１１の上面に載せた状態で、４つのネジ１１３により、板バネ１１２がハウジング１１１の上面に固定される。支持部１１２ｄの上面にミラー１７が接着剤等によって固定される。ミラー１７は、平面視において略正方形である。ミラー１７は、上記実施形態１と同様、所定の厚みを有している。ミラー１７のｚ軸負側に、反射面１７ａが形成されている。

２つの梁部１１２ｅを繋いだ軸が、上記実施形態１と同様、レーザ光を波長変換部材１５の長手方向に走査させるための、ミラー１７の回動軸Ｌ１となる。また、２つの梁部１１２ｃを繋いだ軸が、波長変換部材１５におけるレーザ光の走査ラインを変更するための、ミラー１７の回動軸Ｌ２となる。上記のように、ミラー１７は所定の厚みを有しているため、反射面１７ａは、回動軸Ｌ１、Ｌ２に対して、ｚ軸負方向にシフトした位置に位置付けられる。

なお、上記実施形態１と同様、レーザ光源１２からのレーザ光は、ミラー１７の反射面１７ａに対して斜め方向から入射する。このとき、回動軸Ｌ１、Ｌ２が交わる位置に対応する反射面１７ａの位置にレーザ光の中心軸が位置付けられるように、レーザ光源１２からのレーザ光が、ミラー１７に入射する。

支持部１１２ｄの下面にコイル１１４が装着される。コイル１１４は、平面視において長方形の角が丸められた形状に周回している。コイル１１４は、長辺の中間位置が回動軸Ｌ１に一致するように、支持部１１２ｄの下面に設置される。コイル１１４、支持部１１２ｄおよびミラー１７が、光偏向器１４の第１の可動部を構成する。

コイル１１４をｘ軸方向に挟むように、磁石１１５および磁石１１６の組が２つ配置される。磁石１１５と磁石１１６は、ヨーク１１７に設置され、ヨーク１１７が、ハウジング１１１の凹部１１１ａの底面に設置されている。各組の磁石１１５および磁石１１６の磁極の調整方法は、図３（ａ）、（ｂ）に示した磁石１０５および磁石１０６と同様である。

さらに、内枠部１１２ｂの下面にコイル１１８が装着される。コイル１１８は、平面視において内枠部１１２ｂと同様の形状である。コイル１１８は、短辺の中間位置が回動軸Ｌ２に一致するように、内枠部１１２ｂの下面に設置される。コイル１１８および内枠部１１２ｂが、光偏向器１４の第２の可動部を構成する。

コイル１１４に対して、ｙ軸正側とｙ軸負側に、それぞれ、磁石１１９が配置される。これら磁石１１９は、ヨーク１１７に設置されている。また、これら２つの磁石１１９は、コイル１１８に対向する磁極が互いに異なるように、ヨーク１１７に設置されている。磁石１１９は、磁極面における磁束密度が略均一の永久磁石である。

このように２つの磁石１１９の磁極を調整することにより、コイル１１８に駆動信号（電流）が印加されると、回動軸Ｌ２について内枠部１１２ｂが回動し、駆動信号の大きさに応じた角度だけ、内枠部１１２ｂが傾く。すなわち、内枠部１１２ｂは、梁部１１２ｃに生じる弾性復帰力とコイル１１８に励起された電磁力とが釣り合う角度だけ図１７に示した中立位置から傾く。このとき、内枠部１１２ｂの回動に伴って、支持部１１２ｄとともにミラー１７が回動する。

支持部１１２ｄは、図３（ａ）、（ｂ）の構成と同様、コイル１１４に駆動信号（電流）を印加することにより、回動軸Ｌ１を軸として回動する。支持部１１２ｄの回動に伴い、ミラー１７が回動軸Ｌ１を軸として回動する。このように、実施形態２の光偏向器１４によれば、コイル１１４、１１８にそれぞれ独立して駆動信号（電流）を印加することにより、ミラー１７を、回動軸Ｌ１、Ｌ２について個別に回動させることができる。

実施形態４では、波長変換部材１５の入射面１５ａに、たとえば、所定のピッチで３つの走査軌跡が設定される。すなわち、回動軸Ｌ２周りの内枠部１１２ｂの回動角を３段階に変化させるように、コイル１１８に駆動信号（電流）が印加される。そして、内枠部１１２ｂが所定の各回動角に固定された状態で、支持部１１２ｄが回動軸Ｌ１周りに回動するように、コイル１１４に駆動信号（電流）が印加される。

実施形態４では、上記実施形態１と同様、レーザ光を走査させるための回動軸Ｌ１に対してミラー１７の反射面がｚ軸負方向にシフトしているため、上記３つの走査軌跡における湾曲が抑制され、各走査軌跡が直線状に補正される。

図１９（ａ）は、比較例２に係る反射面１７ａおよび波長変換部材１５をＺ軸負方向に見たときの模式図である。図１９（ｂ）は、実施形態４に係る反射面１７ａおよび波長変換部材１５をＺ軸負方向に見たときの模式図である。図１９（ａ）、（ｂ）には、波長変換部材１５の入射面１５ａ上におけるレーザ光（ビームスポットＢ２）の走査軌跡ＳＬが模式的に示されている。

比較例２では、比較例１と同様、ミラー１７の反射面１７ａと回動軸Ｌ１との距離が０である状態が想定されている。このため、比較例２では、反射面１７ａが回動軸Ｌ１、Ｌ２まわりに回動したとしても、反射面１７ａにおけるレーザ光の反射位置は変化しない。これに対し、実施形態４では、実施形態１と同様、支持部１０２ｂとミラー１７が厚みを有しているため、回動軸Ｌ１、Ｌ２と反射面１７ａとの距離ｔが、大きくなっている。

比較例２の構成によれば、比較例１と同様、ミラー１７を回動軸Ｌ１まわりに回動したとしても、反射面１７ａにおけるレーザ光の反射位置が変化しないため、図１９（ａ）に示すように、３つの走査軌跡ＳＬは、いずれも中央から端に向かうにつれてＹ軸負方向にシフトするように湾曲する。これに対し、実施形態４の構成によれば、実施形態１と同様、ミラー１７の回動に応じて、反射面１７ａにおけるレーザ光の反射位置が波長変換部材１５側に移動する。このため、実施形態４の構成によれば、図１９（ｂ）に示すように、３つの走査軌跡ＳＬは、いずれも湾曲が抑制されて直線に近づくようになる。

このように、実施形態４の構成によれば、実施形態１と同様、回動軸Ｌ１と反射面１７ａとの距離が所定の大きさに調整されることにより、波長変換部材１５の入射面１５ａ上においてレーザ光の走査軌跡ＳＬが湾曲することを抑制でき、複数の走査軌跡をそれぞれ直線に近づけることができる。

なお、実施形態２、実施形態３、および実施形態３の変更例においても、図１７および図１８（ａ）、（ｂ）に示したように、光偏向器１４が、ミラー１７を回動軸Ｌ１、Ｌ２まわりに回動させるよう構成されてもよい。

実施形態４の構成が実施形態２に適用される場合、各走査軌跡ＳＬに対する走査において、図１３に示すように、圧電素子１９に対する駆動信号（電圧）を調整することにより、各走査軌跡ＳＬを直線状に補正できる。また、実施形態４の構成が実施形態３および実施形態３の変更例に適用される場合、各走査軌跡ＳＬに対する走査において、図１５、１６に示すように、第１コイル１０４ａおよび第２コイル１０４ｂに印加される駆動信号（電流）が調整されることにより、各走査軌跡ＳＬを直線状に補正できる。

＜変更例＞
以上、本発明の実施形態および変更例について説明したが、本発明は上記実施形態および変更例に何らの制限を受けるものではない。

たとえば、上記実施の形態では、光源装置２が、反射型の波長変換部材１５を用いる構成であったが、光源装置２は、透過型の波長変換部材１５を用いる構成であってもよい。

また、ミラー１７の反射面１７ａで反射されたレーザ光が、ミラー１７と波長変換部材１５との間にさらに配置されたミラーを経由した後、波長変換部材１５に対して斜め方向から入射してもよい。

また、ミラー１７の形状は、必ずしも、平面視において正方形でなくともよく、平面視において長方形または円形であってもよい。支持部１０２ｂ、１１２ｄの形状も、適宜変更可能である。

また、ミラー１７の反射面１７ａは、必ずしも、平面でなくてもよく、レーザ光に収束作用を付与し得る凹面形状であってもよい。あるいは、ミラー１７の反射面に、波長変換部材１５の入射面１５ａ上のビームスポットＢ１、Ｂ２の形状を所定の形状に成形するためのレンズが装着されてもよい。

また、波長変換部材１５の蛍光体層２０３に含まれる蛍光体粒子２０３ａの種類は、必ずしも１種類でなくてもよく、たとえば、レーザ光源１２からのレーザ光によって互いに異なる波長の蛍光を生じる複数種類の蛍光体粒子２０３ａが蛍光体層２０３に含まれてもよい。この場合、各種類の蛍光体粒子２０３ａから生じた蛍光の拡散光と、これら蛍光体粒子２０３ａによって波長変換されなかったレーザ光の拡散光とによって、所定の色の光が生成される。

この他、本発明の実施の形態は、特許請求の範囲に示された技術的思想の範囲内において、適宜、種々の変更が可能である。

１ … 投光装置
２ … 光源装置
３ … 投射光学系
１２ … レーザ光源
１４ … 光偏向器
１５ … 波長変換部材
１５ａ … 入射面
１７ … ミラー
１７ａ … 反射面
１９ … 圧電素子
１０２ｂ、１１２ｄ … 支持部（被駆動部）
１０４ａ … 第１コイル
１０４ｂ … 第２コイル
１０５、１０６ … 磁石
１０８ … 弾性支持部
３０３ … ミラー駆動回路（駆動部）
３０５ … 圧電素子駆動回路（駆動部）
Ｌ１ … 回動軸
ＳＬ … 走査軌跡

Claims (9)

1. レーザ光を出射するレーザ光源と、
   前記レーザ光の波長を他の波長に変換するとともに波長変換された前記レーザ光を拡散させる波長変換部材と、
   前記レーザ光が入射するミラーを回動させることにより、前記レーザ光を前記波長変換部材の入射面上において走査させる光偏向器と、を備え、
   前記ミラーにより反射された前記レーザ光が、前記波長変換部材の入射面に斜め方向から入射し、
   前記光偏向器は、前記ミラーを支持する被駆動部の回動に応じて、前記ミラーにおける前記レーザ光の反射位置を前記波長変換部材側に移動させて、前記波長変換部材の前記入射面における前記レーザ光の走査軌跡を直線状に補正する構成を備える、
   ことを特徴とする光源装置。
2. 請求項１に記載の光源装置において、
   前記光偏向器は、前記被駆動部の回動軸と前記ミラーの反射面との距離が、前記レーザ光の走査軌跡を直線状に補正可能な距離となるように構成されている、
   ことを特徴とする光源装置。
3. 請求項２に記載の光源装置において、
   前記光偏向器は、前記ミラーの回動角が最大となるときの前記走査軌跡の歪みを解消するように、前記被駆動部の回動軸と前記ミラーの反射面との距離が調整されている、
   ことを特徴とする光源装置。
4. 請求項１ないし３の何れか一項に記載の光源装置において、
   前記光偏向器は、前記ミラーと前記被駆動部との間に圧電素子を備え、
   前記圧電素子を駆動する駆動部は、前記ミラーの回動に応じて前記反射位置が前記波長変換部材側に移動するように前記圧電素子の駆動信号を変化させて、前記レーザ光の走査軌跡を直線状に補正する、
   ことを特徴とする光源装置。
5. 請求項４に記載の光源装置において、
   前記圧電素子の前記駆動部は、前記ミラーの回動角が最大となるときに、前記反射位置が最も前記波長変換部材側に移動するように前記圧電素子の駆動信号を変化させて、前記レーザ光の走査軌跡を直線状に補正する、
   ことを特徴とする光源装置。
6. 請求項１ないし５の何れか一項に記載の光源装置において、
   前記光偏向器は、
   前記被駆動部を回動軸に沿って両側から弾性支持する一対の弾性支持部と、
   前記回動軸を挟んで前記被駆動部に装着された第１コイルおよび第２コイルと、
   前記第１コイルおよび前記第２コイルに磁界を印加するための磁石と、を備え、
   前記光偏向器を駆動する駆動部は、前記ミラーの回動に伴い、前記ミラーにおける前記反射位置が前記波長変換部材側に移動するように、前記第１コイルおよび前記第２コイルに駆動信号を印加して、前記レーザ光の走査軌跡を直線状に補正する、
   ことを特徴とする光源装置。
7. 請求項６に記載の光源装置において、
   前記光偏光器の前記駆動部は、前記ミラーの回動周期に応じて、前記第１コイルのみに駆動信号を印加する状態と、前記第２コイルのみに駆動信号を印加する状態とを切り替えて、前記レーザ光の走査軌跡を直線状に補正する、
   ことを特徴とする光源装置。
8. 請求項６に記載の光源装置において、
   前記光偏光器の前記駆動部は、前記ミラーの回動に伴い、前記第１コイルおよび前記第２コイルに同じ方向で且つ異なる大きさの駆動力が生じるように前記第１コイルおよび前記第２コイルに駆動信号を印加して、前記レーザ光の走査軌跡を直線状に補正する、
   ことを特徴とする光源装置。
9. 請求項１ないし８の何れか一項に記載の光源装置と、
   前記波長変換部材により拡散された光を投射する投射光学系と、を備える、
   ことを特徴とする投光装置。

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