WO2018047619A1 - タッチパネル用部材 - Google Patents

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WO2018047619A1
WO2018047619A1 PCT/JP2017/030017 JP2017030017W WO2018047619A1 WO 2018047619 A1 WO2018047619 A1 WO 2018047619A1 JP 2017030017 W JP2017030017 W JP 2017030017W WO 2018047619 A1 WO2018047619 A1 WO 2018047619A1
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conductive pattern
pattern group
electrode
touch panel
substrate
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PCT/JP2017/030017
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宏明 加藤
幸生 松下
正博 川田
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パナソニックＩｐマネジメント株式会社
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    • G06F2203/04112—Electrode mesh in capacitive digitiser: electrode for touch sensing is formed of a mesh of very fine, normally metallic, interconnected lines that are almost invisible to see. This provides a quite large but transparent electrode surface, without need for ITO or similar transparent conductive material

Definitions

  • This disclosure relates to a member for a touch panel.
  • a projected capacitive touch panel is used as an input means for selecting an option displayed on the display screen.
  • This touch panel is configured by arranging transparent electrode layers arranged in a large amount in a specific pattern on a transparent substrate layer, and overlaying a cover such as glass or plastic on the surface thereof.
  • the transparent electrode is composed of a plurality of X electrodes and a plurality of Y electrodes orthogonal to the X electrodes in order to express two-dimensional coordinates by the X axis and the Y axis, and these have a distance from the cover. Different two-layer structures are used.
  • a drive voltage which is an AC signal, is applied to each electrode from an AC signal source.
  • the member for a touch panel according to the first aspect of the present disclosure includes a first transparent resin layer, a first electrode substrate, a second transparent resin layer, and a second electrode substrate in this order.
  • the first electrode substrate includes a first substrate having a first main surface and a second main surface, and a first conductive pattern group formed on the first main surface of the first substrate. is doing.
  • the second electrode substrate includes a second substrate having a first main surface and a second main surface, and a second conductive pattern group formed on the first main surface of the second substrate. is doing.
  • the reference conductor and the second electrode When one reference conductor is brought into contact with the touch panel cover in a state where the touch panel cover is disposed on the surface of the first transparent resin layer opposite to the first electrode substrate, the reference conductor and the second electrode The second capacitance generated between the conductive pattern group and the first capacitance pattern generated between the reference conductor and the first conductive pattern group is 80% or more and 120% or less. Thus, the second conductive pattern group is configured.
  • the touch panel member includes a transparent resin layer and an electrode substrate in this order.
  • the electrode substrate includes a substrate having a first main surface and a second main surface, a first conductive pattern group formed on the first main surface, and a second electrode formed on the second main surface.
  • the first main surface is disposed on the transparent resin layer side, and the touch panel cover is disposed on the surface of the transparent resin layer opposite to the electrode substrate.
  • the second capacitance generated between the reference conductor and the second conductive pattern group when it is brought into contact with the first conductive pattern group is generated between the reference conductor and the first conductive pattern group.
  • the second conductive pattern group is configured to be 80% or more and 120% or less with respect to the capacitance.
  • the two-layered transparent electrode is excellent in detection sensitivity.
  • FIG. 1 is a schematic exploded perspective view of an image display device including a touch panel according to the first embodiment.
  • FIG. 2A is a schematic front view of the touch panel according to the first embodiment.
  • FIG. 2B is a schematic cross-sectional view of the touch panel cut along the cutting line HH in FIG. 2A.
  • FIG. 3 is a schematic exploded perspective view of the first electrode substrate and the second electrode substrate in the first embodiment.
  • FIG. 4A is a schematic cross-sectional view illustrating the operating principle of a self-capacitance touch panel.
  • FIG. 4B is an equivalent circuit diagram of the self-capacitance touch panel.
  • FIG. 4C is a schematic diagram illustrating waveforms of driving voltages applied to the first conductive pattern group and the second conductive pattern group.
  • FIG. 4D is a schematic diagram illustrating a waveform of a detection voltage when there is no touch of a conductor and a waveform of a detection voltage when there is a touch.
  • FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing a state in which one reference conductor is brought into contact with the surface of the touch panel member to which the touch panel cover is attached.
  • FIG. 6 is a schematic explanatory diagram of the first conductive pattern and the second conductive pattern in the first embodiment.
  • FIG. 7 is a schematic explanatory diagram of the first conductive pattern and the second conductive pattern in the second embodiment.
  • FIG. 8 is a schematic cross-sectional view of a member for a touch panel according to the third embodiment.
  • FIG. 9A is a schematic front view of a projected capacitive touch panel.
  • FIG. 9B is a schematic cross-sectional view showing a state in which a fingertip is brought into contact with the surface of the cover of the touch panel cut along the cutting line ZZ in FIG. 9A
  • FIG. 9A is a schematic front view of the projected capacitive touch panel 10.
  • FIG. 9B is a schematic cross-sectional view showing a state in which the fingertip 70 is in contact with the surface 20S of the cover 20 of the touch panel 10 cut along the cutting line ZZ in FIG. 9A.
  • the touch panel 10 includes a cover 20, an upper transparent resin layer 30, an upper electrode substrate 40, a lower transparent resin layer 50, a lower electrode substrate 60, and a position detection circuit (not shown).
  • the cover 20, the upper transparent resin layer 30, the upper electrode substrate 40, the lower transparent resin layer 50, and the lower electrode substrate 60 are laminated in this order.
  • the upper electrode substrate 40 includes an upper transparent substrate 41 and a plurality of X electrodes 42 that are formed on one side of the upper transparent substrate 41 and are transparent electrodes. As shown in FIG.
  • the X electrode 42 is composed of an X electrode portion 43 having a mesh structure, an upper electrode pad portion 44, and an upper lead electrode portion 45, which are made of fine metal wires, and extends in the Y direction. It is arranged by being electrically connected in this order.
  • the lower electrode substrate 60 includes a lower transparent substrate 61 and a plurality of Y electrodes 62 which are formed on one side of the lower transparent substrate 61 and are transparent electrodes.
  • the Y electrode 62 is composed of a Y electrode portion 63 having the same configuration as the X electrode portion 43, a lower electrode pad portion 64, and a lower extraction electrode portion 65, and in this order along the X direction.
  • the plurality of X electrodes 42 and the plurality of Y electrodes 62 are designed in the same manner. As shown in FIG. 9B, the X electrode 42 and the Y electrode 62 are arranged orthogonally via the lower transparent resin layer 50, and these have a two-layer structure in which the distance from the cover 20 is different from each other.
  • the position detection circuit is electrically connected to the upper extraction electrode portion 45 and the lower extraction electrode portion 65.
  • the cover 20 and the X electrode 42 (specifically, the X electrode portion 43) are covered with the cover 20 and There is an upper transparent resin layer 30. Further, the cover 20, the upper transparent resin layer 30, the upper electrode substrate 40, and the lower transparent resin layer 50 exist between the fingertip 70 and the Y electrode 62 (specifically, the Y electrode portion 63). The X electrode 42 and the Y electrode 62 form a capacitor between the fingertip 70 via these thicknesses.
  • the capacitance of the capacitor formed between the transparent electrode and the fingertip is known to be directly proportional to the shared area and inversely proportional to the distance between the electrode and the fingertip.
  • An equal voltage is applied to the X electrode 42 and the Y electrode 62.
  • the plurality of X electrodes 42 and the plurality of Y electrodes 62 are similarly designed.
  • the distance between the fingertip 70 and the Y electrode 62 is longer than the distance between the fingertip 70 and the X electrode 42 by at least the thickness of the upper transparent substrate 41 and the lower transparent resin layer 50.
  • the present disclosure provides a touch panel member having excellent detection sensitivity in a two-layered transparent electrode.
  • FIG. 1 is a schematic exploded perspective view of an image display device 400 including the touch panel 1 according to the first embodiment.
  • FIG. 2A is a schematic front view of the touch panel 1.
  • FIG. 2B is a schematic cross-sectional view of the touch panel 1 cut along the cutting line HH in FIG. 2A.
  • FIG. 3 is a schematic exploded perspective view of the first electrode substrate 120A and the second electrode substrate 120B in the first embodiment.
  • the first conductive patterns 122A1 to 122An, the second conductive patterns 122B1 to 122Bn, and the position detection circuit 300 are omitted.
  • FIG. 2A the first conductive pattern group 122A and the second conductive pattern group 122B are simplified.
  • the touch panel 1 is a self-capacitance type touch panel that is one type of a projected capacitive type.
  • the self-capacitance method is a detection method in which one electrode serves as a drive electrode and a detection electrode, and detects a change in capacitance (self-capacitance) between the electrode itself and the ground.
  • the touch panel 1 includes a touch panel member 100, a cover 200, and a position detection circuit 300.
  • the touch panel member 100 includes a first conductive pattern group 122A and a second conductive pattern group 122B that function as electrodes.
  • the cover 200 is arrange
  • the position detection circuit 300 includes the first conductive pattern group 122A and the second conductive pattern group 122A. A voltage equal to the second conductive pattern group 122B is applied.
  • the touch panel 1 is used by being arranged on the front side (hereinafter, the front side) of the display surface of the image display device 400.
  • the display surface of the image display device 400 includes an image display area 400a in which an image is output and an image non-display area 400b in which no image is output.
  • the image non-display area 400b is formed so as to surround the outer edge of the image display area 400a.
  • a known image display device such as a liquid crystal display panel, a plasma image display panel, an electroluminescence panel, electronic paper, or a cathode ray tube can be used.
  • the touch panel 1 when the touch panel 1 is viewed from the front side, the touch panel 1 is a viewing area (hereinafter, touch area) 200a, 120Aa, 120Ba corresponding to the image display area 400a on the display surface of the image display device 400. And non-viewing regions (hereinafter referred to as frame regions) 200b, 120Ab, 120Bb corresponding to the image non-display region 400b on the display surface of the image display device 400.
  • touch area hereinafter, touch area
  • frame regions non-viewing regions
  • FIG. 4A is a schematic cross-sectional view for explaining the operating principle of the self-capacitance type touch panel 1.
  • FIG. 4B is an equivalent circuit diagram of the self-capacitance type touch panel 1.
  • FIG. 4C is a schematic diagram illustrating a waveform of the drive voltage Vs applied to the first conductive pattern group 122A and the second conductive pattern group 122B.
  • FIG. 4D is a schematic diagram illustrating a waveform of the detection voltage Vd1 when there is no touch of the conductor 500 and a waveform of the detection voltage Vd2 when there is a touch.
  • the first conductive pattern group 122A and the second conductive pattern group 122B are simplified.
  • the outline of the principle of detecting the position (hereinafter, touch position) where the cover 200 and the conductor 500 are in contact with each other on the touch panel 1 is as follows.
  • the stray capacitance Csy is between the first conductive pattern group 122A to which the drive voltage Vs shown in FIG. 4C, which is an AC signal, is applied from the AC signal source of the position detection circuit 300 and the ground. Is present.
  • the conductor 500 touches the surface 200 ⁇ / b> S of the cover 200, a capacitance Cey is generated between the first conductive pattern group 122 ⁇ / b> A and the conductor 500.
  • the second conductive pattern group 122B operates in the same manner as the first conductive pattern group 122A.
  • Examples of the conductor 500 include conductors such as a user's fingertip, stylus, and indicator bar.
  • the detection method is a self-capacitance method, but the present disclosure is not limited to this, and may be a mutual-capacitance method, or a detection method that combines the self-capacitance method and the mutual-capacitance method. It may be.
  • the touch panel member 100 includes a first transparent resin layer 110A (hereinafter, upper transparent resin layer 110A) and a first electrode substrate 120A (hereinafter, upper electrode substrate 120A). ), A second transparent resin layer 110B (hereinafter, lower transparent resin layer 110B), and a second electrode substrate 120B (hereinafter, lower electrode substrate 120B).
  • first transparent resin layer 110A hereinafter, upper transparent resin layer 110A
  • first electrode substrate 120A hereinafter, upper electrode substrate 120A
  • a second transparent resin layer 110B hereinafter, lower transparent resin layer 110B
  • second electrode substrate 120B hereinafter, lower electrode substrate 120B
  • the upper transparent resin layer 110A, the upper electrode substrate 120A, the lower transparent resin layer 110B, and the lower electrode substrate 120B are laminated in this order as shown in FIG. 2B. That is, the first conductive pattern group 122A and the second conductive pattern group 122B are arranged via a first substrate 121A and a lower transparent resin layer 110B, which will be described later, and have a two-layer structure. .
  • the upper electrode substrate 120A includes a first substrate 121A and a first conductive pattern group 122A.
  • the first substrate 121A has a first main surface and a second main surface.
  • the first conductive pattern group 122A is formed on the first main surface of the first substrate 121A.
  • the upper electrode substrate 120A is arranged so that the first main surface of the first substrate 121A is on the upper transparent resin layer 110A side.
  • the first main surface of the first substrate 121A is arranged so as to be on the upper transparent resin layer 110A side, but the present disclosure is not limited thereto, and the first substrate 121A is not limited thereto.
  • the second main surface may be disposed on the upper transparent resin layer 110A side.
  • the first conductive pattern group 122A has n first conductive patterns 122A1 to 122An.
  • the first conductive patterns 122A1 to 122An each extend along a first direction (hereinafter referred to as Y direction), and in a second direction (hereinafter referred to as X direction) orthogonal to the Y direction, They are electrically insulated from each other and arranged in parallel.
  • the number n is an integer of 1 or more, and may be appropriately adjusted according to the size of the image display area 400a of the image display device 400.
  • the first conductive pattern 122A1 includes a first electrode portion 123A1, a first electrode pad portion 124A1, and a first extraction electrode portion 125A1.
  • the first electrode portion 123A1, the first electrode pad portion 124A1, and the first extraction electrode portion 125A1 are arranged and integrated in this order in the Y direction as shown in FIG. 3, and they are electrically connected to each other. Has been.
  • the first electrode portion 123 ⁇ / b> A ⁇ b> 1 has a first mesh structure that extends along the Y direction and includes a first square lattice 126 ⁇ / b> A that is configured by first metal thin wires. That is, the first electrode portion 123A1 has transparency and has a substantially bar-shaped (substantially belt-shaped) outer shape (contour shape) with the Y direction as the longitudinal direction. As shown in FIG. 3, most of the first electrode portion 123A1 is disposed in the touch area 120Aa.
  • the length of the first electrode portion 123A1 in the Y direction may be appropriately adjusted according to the size of the image display region 400a of the image display device 400, and is preferably 0.05 m or more and 5.00 m or less.
  • the width in the X direction of the first electrode portion 123A1 may be appropriately adjusted according to the size of the image display region 400a of the image display device 400, and is preferably 3 mm or more and 10 mm or less.
  • the first electrode portion 123A1 has a first mesh structure made of a first square lattice 126A.
  • This first mesh structure is a structure in which the first square lattice 126A is mainly continuous. Since the first electrode portion 123A1 has a mesh structure composed of the first square lattice 126A, the first electrode portion 123A1 is designed as compared with a mesh structure composed of a pattern other than the first square lattice 126A such as a rectangular lattice or a triangular lattice. Cheap.
  • the length PA of one side of the first square lattice 126A is preferably 200 ⁇ m or more and 6000 ⁇ m or less, more preferably 200 ⁇ m or more and 2000 ⁇ m or less, still more preferably 200 ⁇ m or more and 1000 ⁇ m or less, and particularly preferably 300 ⁇ m or more and 800 ⁇ m or less. If the length PA of one side of the first square lattice 126A is within the above range, the sensitivity for detecting the touch operation can be set to the optimum value, and the product can be reduced in size.
  • the lattice formed of the first thin metal wires is the first square lattice 126A, but the present disclosure is not limited to this, and the lattice formed of the first thin metal wires is For example, a triangular lattice, a rectangular lattice, a diamond lattice, a hexagonal lattice, or the like may be used.
  • the mesh angle ⁇ of the first square lattice 126A is 60 ° with respect to the Y direction and is not any of 0 °, 45 °, and 90 °.
  • the mesh angle ⁇ of the first square lattice 126A is any of 0 °, 45 °, and 90 °, for example, when the image display device 400 is a liquid crystal display panel, the arrangement period of the first square lattice 126A There is a risk that interference fringes (moire) may occur due to interference between the arrangement period of the pixels in the image display area 400a of the liquid crystal display panel.
  • the line width of the first fine metal wire is preferably 1 ⁇ m or more and 20 ⁇ m or less, more preferably 1 ⁇ m or more and 8 ⁇ m or less, and further preferably 1 ⁇ m or more and 3 ⁇ m or less. If the line width of the first metal thin wire is within the above range, the first metal thin wire is difficult to break, and the shapes of the first electrode portions 123A1 to 123An can be more difficult to recognize with the naked eye.
  • the material constituting the first thin metal wire examples include copper (Cu), silver (Ag), aluminum (Al), chromium (Cr), nickel (Ni), molybdenum (Mo), iron (Fe), and gold.
  • a metal such as (Au) or titanium (Ti); an alloy in which two or more of these are combined can be used.
  • the 1st metal fine wire may have a blackening film on the upper surface or the side surface. Thereby, even if a highly reflective metal is used for the material which comprises a 1st metal fine wire, it becomes difficult to visually recognize a 1st metal fine wire.
  • a material constituting the blackened film metal oxide, metal sulfide, chromium, carbon and the like can be used.
  • the first electrode pad portion 124A1 connects a plurality of first metal thin wires into one. As a result, even if a disconnection occurs in a part of the plurality of first metal thin wires electrically connected to the first electrode pad portion 124A1, the touch position can be detected, and the touch panel 1 fails. It becomes difficult.
  • the first electrode pad portion 124A1 is arranged in the frame region 120Ab and has a solid structure extending along the X direction. That is, the contour shape of the first electrode pad portion 124A1 is a bar shape whose longitudinal direction is the X direction.
  • the width W in the Y direction of the first electrode pad portion 124A1 is preferably 500 ⁇ m or more and 3000 ⁇ m or less.
  • the length L in the X direction of the first electrode pad portion 124A1 is preferably 3000 ⁇ m or more and 10000 ⁇ m or less.
  • the number of contacts between the first electrode pad portion 124A1 and the first thin metal wire is preferably 4 or more and 6 or less.
  • the material constituting the first electrode pad portion 124A1 for example, the same materials as those exemplified as the material constituting the first metal thin wire can be used.
  • the solid structure is a so-called solid pattern and means a structure having no open portion.
  • the first extraction electrode portion 125A1 electrically connects the first electrode pad portion 124A1 and the position detection circuit 300. As shown in FIGS. 1 and 3, the first extraction electrode portion 125A1 is disposed in the frame region 120Ab and has a line structure. The line width of the first extraction electrode portion 125A1 is preferably 10 ⁇ m or more and 200 ⁇ m or less. As the material of the first extraction electrode portion 125A1, for example, the same material as that exemplified as the material of the first metal thin wire can be used.
  • the first conductive patterns 122A2 to 122An are also configured in the same manner as the first conductive pattern 122A1. That is, the first conductive pattern group 122A includes a plurality of first electrode portions 123A1 to 123An extending in the Y direction and having a first mesh structure formed of first metal thin wires. Including.
  • the first conductive patterns 122A1 to 122An are arranged in parallel with a predetermined interval between two adjacent ones, and are electrically insulated from each other.
  • the distance between two adjacent electrodes I of the first electrode portions 123A1 to 123An is preferably 30 ⁇ m or more and 300 ⁇ m or less.
  • the wiring density of the first conductive pattern group 122A is preferably 70.0% or more and 99.9% or less, more preferably 95.0% or more and 99.9% or less.
  • the wiring density of the first conductive pattern group 122A refers to the ratio of the area of the entire first conductive pattern group 122A in the touch region 120Aa to the total area of the touch region 120Aa.
  • the sheet resistance of the first conductive pattern group 122A is preferably 0.1 ⁇ / sq ( ⁇ / cm 2 ) or more and 5.0 ⁇ / sq or less, more preferably 0.1 ⁇ / sq or more and 1.0 ⁇ / sq or less. is there.
  • the first substrate 121A is plate-shaped and has electrical insulation and transparency.
  • the thickness of the first substrate 121A may be appropriately adjusted according to the use application of the touch panel 1, and is preferably 10 ⁇ m or more and 400 ⁇ m or less, more preferably 50 ⁇ m or more and 200 ⁇ m or less.
  • As a material constituting the first substrate 121A for example, glass, plastic, or the like can be used.
  • the plastic examples include acrylic, polyethylene (PE), polyethylene terephthalate (PET), polyimide (PI), polystyrene (PS), polymethyl methacrylate (PMMA), polycarbonate (PC), polyvinyl chloride (PVC), poly Vinylidene chloride (PVDC), polypropylene (PP), polyamide (PA), polyamideimide (PAI), polyetherimide (PEI), polybutylene terephthalate (PBT), polyethylene naphthalate (PEN), and the like can be used.
  • PET is preferable from the viewpoints of light transmittance and processability.
  • the first substrate 121A may have a functional layer as necessary.
  • the functional layer include an undercoat layer that reinforces adhesion, an optical filter layer that absorbs light of a specific wavelength to prevent halation, an antistatic layer, and a refractive adjustment layer that improves transmittance.
  • the lower electrode substrate 120B includes a second substrate 121B and a second conductive pattern group 122B.
  • Second substrate 121B has a first main surface and a second main surface.
  • the second conductive pattern group 122B is formed on the first main surface of the second substrate 121B.
  • the lower electrode substrate 120B is arranged such that the first main surface of the second substrate 121B is on the upper transparent resin layer 110A side.
  • the second substrate 121B is disposed such that the first main surface is on the upper transparent resin layer 110A side, but the present disclosure is not limited to this, and the second substrate 121B.
  • the second main surface may be disposed on the upper transparent resin layer 110A side.
  • FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing a state in which one reference conductor is brought into contact with the surface of the touch panel member to which the touch panel cover is attached.
  • the second conductive pattern group 122B has a plurality (n pieces) of second conductive patterns 122B1 to 122Bn.
  • the second conductive patterns 122B1 to 122Bn are electrically insulated from each other and arranged in parallel in the Y direction.
  • one reference is made in a state where the touch panel cover 210 is disposed on the surface 110 AS on the opposite side of the upper transparent resin layer 110 A from the upper electrode substrate 120 A.
  • a second capacitance C2 generated between the reference conductor 600 and the second conductive pattern group 122B is generated between the reference conductor 600 and the first conductive pattern 122B.
  • the second conductive pattern group 122B is configured to be 80% or more and 120% with respect to the first capacitance C1 generated between the conductive pattern group 122A.
  • a test position detection circuit 310 is electrically connected to the first conductive pattern group 122A and the second conductive pattern group 122B, and the first conductive pattern group. The same voltage is applied to 122A and the second conductive pattern group 122B.
  • the contact area where the reference conductor 600 and the touch panel cover 210 are in contact with each other may be within the touch areas 120Aa and 120Ba.
  • the second mesh structure is configured such that the wiring density is higher than the wiring density of the first mesh structure.
  • the first conductive pattern group 122A and the second conductive pattern group 122A and the second conductive pattern C2 are substantially the same so that the first electrostatic capacitance C1 and the second electrostatic capacitance C2 with respect to the reference conductor 600 are substantially the same.
  • the conductive pattern group 122B is designed. Therefore, also in the touch panel 1 using the member 100 for touch panels, both the X-axis and Y-axis detection sensitivities are good with respect to the conductor 500, and the two-layered transparent electrode is excellent in detection sensitivity.
  • the second capacitance C2 is 80% to 120%, preferably 90% to 110%, more preferably 100% with respect to the first capacitance C1. If the second capacitance C2 is less than 80% with respect to the first capacitance C1, the capacitance C1 is too large and the capacitance C2 is too small. The shaft detection sensitivity may be low. If the second capacitance C2 is more than 120% with respect to the first capacitance C1, the capacitance C1 is too small and the capacitance C2 is too large. The shaft detection sensitivity may be low. The second capacitance C2 becomes closer to 100% with respect to the first capacitance C1, that is, the closer the second capacitance C2 and the first capacitance C1 are, the more In the transparent electrode having a layer structure, the detection sensitivity is excellent.
  • Examples of a method for measuring the capacitance C1 or the capacitance C2 include a method using a measuring instrument such as an LCR meter, an impedance analyzer, and a network analyzer.
  • a measuring instrument such as an LCR meter, an impedance analyzer, and a network analyzer.
  • electrostatic capacitance C1 or the electrostatic capacitance C2 can also be calculated from the following formula.
  • the effective area S for calculating the capacitance C1 is an area where the reference conductor 600 and the first conductive pattern group 122A overlap when the touch panel member 100 is viewed from the front side J.
  • the effective area S for calculating the capacitance C2 is the second area in the overlapping region of the reference conductor 600 and the second conductive pattern group 122B when the touch panel member 100 is viewed from the front side J. It refers to the area of the conductive pattern group 122B.
  • the reference conductor 600 only needs to have the same dielectric constant as that of the fingertip.
  • a conductor such as a user's fingertip, stylus, or pointing rod can be used.
  • the size of the reference conductor 600 may be about the same size as one fingertip.
  • the size of the reference conductor 600 is such that when one reference conductor 600 is brought into contact with the surface 210 ⁇ / b> S of the touch panel cover 210, the contact surface 600 ⁇ / b> S of the surface 210 ⁇ / b> S of the touch panel cover 210 with the reference conductor 600.
  • area preferably 0.4 cm 2 or more 1.0 cm 2 or less, more preferably as long as the size of the 0.4 cm 2 or more 0.7 cm 2 or less.
  • the touch panel cover 210 has the same configuration as the cover 200.
  • the test position detection circuit 310 has the same configuration as the position detection circuit 300.
  • the second conductive pattern 122B1 includes a second electrode portion 123B1, a second electrode pad portion 124B1, and a second extraction electrode portion 125B1.
  • the second electrode portion 123B1, the second electrode pad portion 124B1, and the second extraction electrode portion 125B1 are arranged and integrated in this order along the X direction, and are electrically connected to each other.
  • the second conductive pattern 122B1 is designed in the same manner as the first conductive pattern 122A1, except that the wiring density of the second mesh structure is larger than the wiring density of the first mesh structure.
  • the wiring density of the first mesh structure is equal to the wiring density of the first conductive pattern group 122A described above.
  • the wiring density of the second mesh structure is equivalent to the wiring density of the second conductive pattern group 122B described later.
  • FIG. 6 is a schematic explanatory diagram of the first conductive pattern 122A1 and the second conductive pattern 122B1 in the first embodiment.
  • the second electrode portion 123 ⁇ / b> B ⁇ b> 1 has a second mesh structure that extends along the X direction and includes a second square lattice 126 ⁇ / b> B configured by the second metal thin wires. That is, the second electrode portion 123B1 has a bar shape (band shape) having transparency and having the X direction as a longitudinal direction. Most of the second electrode portion 123B1 is disposed in the touch region 120Ba.
  • 2nd electrode part 123B1 has the 2nd mesh structure which consists of 2nd square lattice 126B, as shown in FIG.
  • the second mesh structure is a structure in which the second square lattice 126B is mainly continuous. Since the second electrode portion 123B1 has a mesh structure including the second square lattice 126B, the second electrode portion 123B1 is designed as compared with a mesh structure including a pattern other than the second square lattice 126B such as a rectangular lattice or a triangular lattice. Cheap.
  • the wiring density of the second mesh structure is larger than the wiring density of the first mesh structure as shown in FIG. That is, the length PB of one side of the second square lattice 126B is shorter than the length PA of one side of the first square lattice 126A.
  • the length PB of one side of the second square lattice 126B may be adjusted as appropriate according to the thickness of the lower transparent resin layer 110B, and is preferably 1 with respect to the length PA of one side of the first square lattice 126A. / 2 times to 1/4 times, more preferably 1/3 times to 1/4 times. Accordingly, in the first embodiment, as shown in FIG. 5, when one reference conductor 600 is brought into contact with the touch panel cover 210, the second capacitance C2 is changed to the first capacitance C1. On the other hand, it can be 80% or more and 120% or less.
  • the second conductive patterns 122B2 to 122Bn are configured in the same manner as the second conductive pattern 122B1. That is, the second conductive pattern group 122B includes a plurality of second electrode portions 123B1 to 123Bn that extend along the X direction and have a second mesh structure configured by the first metal thin wires. Including.
  • the wiring density of the second conductive pattern group 122B is lower than the wiring density of the first conductive pattern group 122A, preferably 70.0% or more and 99.9% or less, more preferably 95.0% or more and 99. .9% or less.
  • the wiring density of the second conductive pattern group 122B refers to the ratio of the area of the entire second conductive pattern group 122B in the touch region 120Ba to the total area of the touch region 120Ba.
  • the sheet resistance of the second conductive pattern group 122B is preferably 0.1 ⁇ / sq or more and 5.0 ⁇ / sq or less, more preferably 0.1 ⁇ / sq or more and 1.0 ⁇ / sq or less.
  • the second conductive pattern group 122B is the first conductive pattern group except that the wiring density of the second mesh structure is larger than the wiring density of the first mesh structure. Designed in the same way as 122A.
  • the present disclosure is not limited to this, and in the second conductive pattern group, when one reference conductor is brought into contact with the cover, the second capacitance is smaller than the first capacitance.
  • the second conductive pattern group includes the second conductive pattern group except that the second thin metal wire is wider than the first thin metal wire. It may be designed similarly to the conductive pattern group.
  • the first conductive pattern group 122A and the second conductive pattern group 122B are orthogonal to each other, but the present disclosure is not limited to this, and the first conductive pattern group. And the second conductive pattern group may not cross each other or may cross each other if not orthogonal.
  • the second substrate 121B is plate-shaped and has electrical insulation and transparency.
  • the same substrate as the first substrate 121A can be used.
  • the cover 200 has transparency and electrical insulation, and protects the upper electrode substrate 120A and the lower electrode substrate 120B.
  • the material constituting the cover 200 the same materials as those exemplified as the material constituting the first substrate 121A can be used.
  • the thickness of the cover 200 is preferably 0.5 mm or greater and 7.0 mm or less.
  • a bezel may be disposed on the frame region 120b of the cover 200, or a decorative layer such as black cosmetic printing may be applied to the frame region 120b of the cover 200.
  • the first electrode pad portion 124A1, the first extraction electrode portion 125A1, the second electrode pad portion 124B1, and the second extraction electrode portion 125B1 can be concealed.
  • a functional film may be provided on the front surface 200S of the cover 200 via an adhesive layer.
  • an antireflection film for example, an antireflection film (AR (Anti-Reflection) film), an antiglare film (AG (Anti-Glare) film), an anti-fingerprint film (AF (Anti-Fingerprint) film) or the like is used.
  • AR Anti-Reflection
  • AG Anti-Glare
  • AF Anti-Fingerprint film
  • PSA Pressure Sensitive Adhesive
  • the position detection circuit 300 determines, for example, the coordinates at which the conductor 500 contacts the surface 200S of the cover 200.
  • the position detection circuit 300 for example, a circuit described in International Publication No. 2013/069289 can be used.
  • Examples of the method for manufacturing the touch panel 1 include a method in which the cover 200 is stacked on the upper transparent resin layer 110 ⁇ / b> A of the touch panel member 100 and hot pressed.
  • the conditions of the hot press are, for example, 0.1 kPa or more and 3000 kPa or less (0.001 kgf / cm 2 or more and 30.6 kgf / cm) in the stacking direction while heating at a temperature of 60 ° C. or more and 160 ° C. or less for 1 minute or more and 120 minutes or less. After pressurizing (pressing) at a pressure of 2 or less), it may be cooled to room temperature over 0.001 minutes to 60 minutes.
  • a method for manufacturing the touch panel member 100 for example, a method of laminating and arranging the lower electrode substrate 120B, the adhesive constituting the lower transparent resin layer 110B, the upper electrode substrate 120A, and the adhesive constituting the upper transparent resin layer 110A in this order. Etc.
  • the adhesive constituting the upper transparent resin layer 110A and the lower transparent resin layer 110B for example, a heat-welded film, a pressure sensitive adhesive, or the like can be used.
  • the heat-welded film is, for example, a film at ⁇ 10 ° C. or higher and 40 ° C. or lower, and gradually softens or melts when heated at a temperature of 60 ° C. or higher and 300 ° C. or lower, preferably 60 ° C. or higher and 180 ° C. or lower. There is no particular limitation as long as it becomes transparent when bonded and cured.
  • Examples of the material constituting the heat welding film include polyethylene-vinyl acetate copolymer, amorphous polyethylene terephthalate homopolymer, amorphous polyethylene terephthalate copolymer, polyvinyl butyral homopolymer, polyvinyl butyral.
  • a material selected from the group of system copolymers can be used.
  • the configurations of the upper transparent resin layer 110A and the lower transparent resin layer 110B may be the same or different.
  • the first substrate 121A may be prepared, and the first conductive pattern group 122A may be formed on the first main surface of the first substrate 121A.
  • the first conductive material is formed on the first main surface of the first substrate 121A via an adhesive layer.
  • the first conductive material for example, a metal foil made of the same material as that constituting the first thin metal wire can be used.
  • a material for forming the adhesive layer for bonding the first conductive material to the first substrate 121A for example, an acrylic resin, an epoxy resin, a urethane resin, or a combination of two or more of these can be used.
  • the printing method include offset printing, screen printing, gravure printing, flexographic printing, and inkjet printing.
  • the manufacturing method of the lower electrode substrate 120B can be performed in the same manner as the manufacturing method of the upper electrode substrate 120A.
  • FIG. 7 is a schematic explanatory diagram of the first conductive pattern 122A1 and the second conductive pattern 122B1 in the second embodiment.
  • the touch panel member according to the second embodiment has the same configuration as the touch panel member 100 according to the first embodiment except that the touch panel member further includes a plurality of first dummy electrode portions 127.
  • the same components as those shown in FIG. 7 are identical to the same components as those shown in FIG.
  • the touch panel member according to the second embodiment is formed on the first main surface of the first substrate 121A, and is a first metal wire that is electrically insulated from the first conductive pattern group 122A.
  • a plurality of dummy electrode portions 127 are provided. As shown in FIG. 7, the first dummy electrode portion 127 has a pattern including a plurality of first dummy electrode portions 127 and first electrode portions 123A1 to 123An identical to the pattern of the second electrode portions 123B1 to 123Bn.
  • the first electrode portions 123A1 to 123An are formed in the opening portion 123Aa.
  • the wiring density of the pattern including the plurality of first dummy electrode portions 127 and the first electrode portions 123A1 to 123An and the wiring density of the patterns of the second electrode portions 123B1 to 123Bn are made uniform.
  • the first dummy electrode portion 127 has a cross-like structure along the longitudinal direction of the first electrode portion 123A1 and the short direction perpendicular to the longitudinal direction of the first electrode portion 123A1.
  • This cross-shaped structure is the same as the structure obtained by disconnecting the F portion of the second electrode portion 123B1 shown in FIG. Thereby, the external appearance quality of the touch panel using the member for touch panels concerning a second embodiment can be improved.
  • the first dummy electrode portion 127 has a cross-shaped structure, but the present disclosure is not limited to this.
  • the first dummy electrode portion is electrically insulated from the first conductive pattern group, and the pattern composed of the first dummy electrode portion and the first electrode portion is the pattern of the second electrode portion (see above). If the first dummy electrode portion is formed in the opening of the first electrode portion so as to be the same (except for the insulating portion), the structure of the first dummy electrode portion depends on the pattern of the second electrode portions 123B1 to 123Bn. And may be adjusted as appropriate.
  • a notch region E is provided between the first dummy electrode portion 127 and the first electrode portion 123A1.
  • the notch width D may be a width that can electrically insulate the first dummy electrode portion 127 and the first electrode portion 123A1, and is preferably 50 ⁇ m or more and 350 ⁇ m or less, more preferably 50 ⁇ m or more and 150 ⁇ m or less. is there.
  • FIG. 8 is a schematic cross-sectional view of the touch panel member 102 according to the third embodiment.
  • the touch panel member 102 uses a third electrode substrate 120C (hereinafter referred to as a double-sided electrode substrate 120C) instead of the upper electrode substrate 120A and the lower electrode substrate 120B.
  • a third electrode substrate 120C hereinafter referred to as a double-sided electrode substrate 120C
  • the same components as those of the touch panel member 100 are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.
  • a third conductive pattern group which will be described later, has the same configuration as the second conductive pattern group 122B, and therefore, the same reference numerals are used to simplify the description.
  • the touch panel member 102 includes an upper transparent resin layer 110A and a double-sided electrode substrate 120C. As shown in FIG. 8, the double-sided electrode substrate 120C has a first conductive pattern group 122A and a third conductive pattern group 122B.
  • the upper transparent resin layer 110A is laminated on the double-sided electrode substrate 120C as shown in FIG. That is, the first conductive pattern group 122A and the third conductive pattern group 122B are arranged via the first substrate 121A and have a two-layer structure.
  • the double-sided electrode substrate 120C includes a first substrate 121A, a first conductive pattern group 122A, and a third conductive pattern group 122B.
  • the first substrate 121A has a first main surface and a second main surface.
  • the first conductive pattern group 122A is formed on the first main surface of the first substrate 121A.
  • the third conductive pattern group 122B is formed on the second main surface of the first substrate 121A.
  • the double-sided electrode substrate 120C is arranged such that the first main surface of the first substrate 121A is on the upper transparent resin layer 110A side.
  • the third conductive pattern group 122B has n third conductive patterns 122B1 to 122Bn.
  • the third conductive patterns 122B1 to 122Bn are arranged in parallel while being electrically insulated from each other along the Y direction.
  • the touch panel cover 210 is disposed on the surface 110AS of the upper transparent resin layer 110A opposite to the first substrate 121A, as in the first embodiment.
  • a third capacitance generated between the reference conductor 600 and the third conductive pattern group 122B is generated between the reference conductor 600 and the first conductive pattern group 122B.
  • the third conductive pattern group 122B is configured to be 80% or more and 120% or less with respect to the first capacitance C1 generated between the conductive pattern group 122A and the first conductive pattern group 122A.
  • the test position detection circuit 310 is electrically connected to the first conductive pattern group 122A and the third conductive pattern group 122B, and the first conductive pattern group 122A and the third conductive pattern group are electrically connected.
  • An equal voltage is applied to the pattern group 122B.
  • the contact area where the reference conductor 600 and the touch panel cover 210 are in contact with each other may be within the touch areas 120Aa and 120Ba.
  • the third mesh structure composed of the third square lattice 126B composed of the second fine metal wires has a wiring density higher than that of the first mesh structure. It is configured as follows. As described above, in the third embodiment, the first conductive pattern group 122A and the third conductive pattern group 122A and the third conductive pattern are set so that the first electrostatic capacitance C1 and the third electrostatic capacitance with respect to the reference conductor 600 are substantially the same.
  • the conductive pattern group 122B is designed.
  • the touch panel according to the third embodiment having the same configuration as that of the touch panel 1 except that the touch panel member 102 according to the third embodiment is used instead of the touch panel member 100, the X axis and Both Y-axis detection sensitivities are good, and the two-layered transparent electrode has excellent detection sensitivity.
  • the third capacitance is 80% or more and 120% or less, preferably 90% or more and 110% or less, more preferably 100% with respect to the first capacitance C1. If the third capacitance is less than 80% with respect to the first capacitance C1, the capacitance C1 is too large and the third capacitance is too small, so the touch panel according to the third embodiment. In this case, the Y-axis detection sensitivity to the conductor 500 may be low. When the third capacitance is more than 120% with respect to the first capacitance C1, the capacitance C1 is too small and the third capacitance is too large.
  • the touch panel may have low X-axis detection sensitivity for the conductor 500. The closer the third capacitance and the first capacitance C1 are, the better the detection sensitivity in the two-layered transparent electrode.
  • the third capacitance can be obtained in the same manner as the method shown in the first embodiment.
  • the wiring density of the third mesh structure is larger than the wiring density of the first mesh structure, as in the first embodiment. That is, the length PB of one side of the third square lattice 126B is shorter than the length PA of one side of the first square lattice 126A.
  • the length PB of one side of the third square lattice 126B may be appropriately adjusted according to the thickness of the first substrate 121A and the like, and preferably 1 with respect to the length PA of one side of the first square lattice 126A. / 2 times to 1/4 times, more preferably 1/3 times to 1/4 times. Accordingly, in the third embodiment, when one reference conductor 600 is brought into contact with the touch panel cover 210, the third capacitance is 80% or more and 120% with respect to the first capacitance C1. It can be as follows.
  • the third conductive pattern group 122B is the first conductive pattern group except that the wiring density of the third mesh structure is larger than the wiring density of the first mesh structure. Designed in the same way as 122A.
  • the present disclosure is not limited to this, and in the third conductive pattern group, when one reference conductor is brought into contact with the touch panel cover, the third capacitance is changed to the first capacitance. On the other hand, it may be configured to be 80% or more and 120% or less.
  • the third conductive pattern group may be designed in the same manner as the first conductive pattern group 122A, except that the second metal fine wire is wider than the first metal thin wire.
  • the first conductive pattern group 122A and the third conductive pattern group 122B are orthogonal to each other.
  • the present disclosure is not limited to this, and the first conductive pattern group And the third conductive pattern group may not cross each other or may cross each other if not orthogonal.
  • the touch panel member according to the fourth embodiment has the same configuration as the touch panel member 102 according to the third embodiment except that the touch panel member further includes a plurality of second dummy electrode portions.
  • the same components as those illustrated in FIGS. 7 and 8 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
  • a second dummy electrode portion to be described later has the same configuration as the first dummy electrode portion 127, the same reference numerals are used to simplify the description.
  • the second dummy electrode portion 127 formed of the first metal thin wire formed on the first main surface of the first substrate 121A and electrically insulated from the first conductive pattern group 122A.
  • the second dummy electrode portion 127 includes the first electrode so that the pattern of the second dummy electrode portion 127 and the first electrode portions 123A1 to 123An is the same as the pattern of the third electrode portions 123B1 to 123Bn. It is formed in the opening 123Aa of the parts 123A1 to 123An.
  • the wiring density of the pattern including the plurality of second dummy electrode portions 127 and the first electrode portions 123A1 to 123An and the wiring density of the patterns of the third electrode portions 123B1 to 123Bn are made uniform.
  • the second dummy electrode portion 127 has a cross-shaped structure, but the present disclosure is not limited to this. That is, the first dummy electrode portion is electrically insulated from the first conductive pattern group, and the pattern including the first dummy electrode portion and the first electrode portion is the pattern of the third electrode portion (described above). If the first dummy electrode portion is formed in the opening of the first electrode portion so as to be the same (except for the insulation component of the first electrode portion), the structure of the first dummy electrode portion depends on the pattern of the second electrode portions 123B1 to 123Bn. And may be adjusted as appropriate.

Abstract

タッチパネル用部材は、第１の透明樹脂層と、第１の電極基板と、第２の透明樹脂層と、第２の電極基板とをこの順に備える。第１の電極基板は、第１の基板と、第１の導電性パターン群とを有する。第２の電極基板は、第２の基板と、第２の導電性パターン群とを有する。第１の透明樹脂層の第１の電極基板とは反対側の面にタッチパネル用カバーを配置した状態で、１つの基準導電体をタッチパネル用カバーに接触させた際に、基準導電体と第２の導電性パターン群との間に生じる第２の静電容量が、基準導電体と第１の導電性パターン群との間に生じる第１の静電容量に対して、８０％以上１２０％以下となるように、第２の導電性パターン群が構成されている。

Description

タッチパネル用部材
　本開示は、タッチパネル用部材に関する。
　表示画面に表示された選択肢を選択するための入力手段として、投影型静電容量方式のタッチパネルが利用されている。このタッチパネルは、透明基板層上に特定のパターンで大量に並べた透視性電極の層を配置し、その表面にはガラスやプラスチックなどのカバーを重ねて構成される。この透視性電極は、一般に、Ｘ軸とＹ軸による２次元座標を表現するために、複数のＸ電極と、このＸ電極に直交する複数のＹ電極とからなり、これらはカバーからの距離が互いに異なる２層構造のものが用いられている。それぞれの電極には、交流信号源から交流信号である駆動電圧が印加され、このカバー表面に指先（導電体）を近づけると、指先とＸ電極との間が静電容量結合し、静電容量（コンデンサ）を形成する。同様に、指先とＹ電極との間が静電容量結合し、コンデンサを形成する。このコンデンサの形成に起因する各電極の自己容量の変化を交流信号電圧の変化として検出することにより、高精度に指先の接触位置を特定することが可能となる。
　近年、タッチパネルの大型化且つ高感度化が求められ、配線抵抗の低いメッシュパターンを透視性電極として用いた商品化が進んでいる。メッシュパターンは、電極領域を区分するため、部分的に除去するなどして分割されている。
特開２０１４－１５７４００号公報 特開２００８－１２９７０８号公報
　本開示の第１の側面に係るタッチパネル用部材は、第１の透明樹脂層と、第１の電極基板と、第２の透明樹脂層と、第２の電極基板とをこの順に備えている。第１の電極基板は、第１の主面及び第２の主面を有する第１の基板と、第１の基板の第１の主面に形成された第１の導電性パターン群とを有している。第２の電極基板は、第１の主面及び第２の主面を有する第２の基板と、第２の基板の第１の主面に形成された第２の導電性パターン群とを有している。第１の透明樹脂層の第１の電極基板とは反対側の面にタッチパネル用カバーを配置した状態で、１つの基準導電体をタッチパネル用カバーに接触させた際に、基準導電体と第２の導電性パターン群との間に生じる第２の静電容量が、基準導電体と第１の導電性パターン群との間に生じる第１の静電容量に対して、８０％以上１２０％以下となるように、第２の導電性パターン群が構成されている。
　本開示の第２の側面に係るタッチパネル用部材は、透明樹脂層と、電極基板とをこの順に備えている。電極基板は、第１の主面及び第２の主面を有する基板と、第１の主面に形成された第１の導電性パターン群と、第２の主面に形成された第２の導電性パターン群とを有している。第１の主面が透明樹脂層側となるように配置されており、透明樹脂層の電極基板とは反対側の面にタッチパネル用カバーを配置した状態で、１つの基準導電体をタッチパネル用カバーに接触させた際に、基準導電体と第２の導電性パターン群との間に生じる第２の静電容量が、基準導電体と第１の導電性パターン群との間に生じる第１の静電容量に対して、８０％以上１２０％以下となるように、第２の導電性パターン群が構成されている。
　本開示によれば、二層構造の透視性電極において検出感度に優れる。
図１は、第一実施形態に係るタッチパネルを備える画像表示装置の概略分解斜視図である。 図２Ａは、第一実施形態に係るタッチパネルの概略正面図である。 図２Ｂは、図２Ａ中の切断線Ｈ－Ｈに従って切断したタッチパネルの概略断面図である。 図３は、第一実施形態における第１の電極基板及び第２の電極基板の概略分解斜視図である。 図４Ａは、自己容量方式タッチパネルの動作原理を説明する概略断面図である。 図４Ｂは、自己容量方式タッチパネルの等価回路図である。 図４Ｃは、第１の導電性パターン群及び第２の導電性パターン群に印加される駆動電圧の波形を示す概略図である。 図４Ｄは、導電体のタッチが無い場合の検出電圧の波形、及びタッチがある場合の検出電圧の波形を示す概略図である。 図５は、タッチパネル用カバーを取り付けたタッチパネル用部材の表面に１つの基準導電体を接触させた状態を示す概略断面図である。 図６は、第一実施形態における第１の導電性パターン及び第２の導電性パターンの概略説明図である。 図７は、第二実施形態における第１の導電性パターン及び第２の導電性パターンの概略説明図である。 図８は、第三実施形態に係るタッチパネル用部材の概略断面図である。 図９Ａは、投影型静電容量方式のタッチパネルの概略正面図である。 図９Ｂは、図９Ａ中の切断線Ｚ－Ｚに従って切断したタッチパネルのカバーの表面に指先を接触させた状態を示す概略断面図である。
　本開示の実施の形態の説明に先立ち、従来技術における問題点を簡単に説明する。図９Ａは、投影型静電容量方式のタッチパネル１０の概略正面図である。図９Ｂは、図９Ａ中の切断線Ｚ－Ｚに従って切断したタッチパネル１０のカバー２０の表面２０Ｓに指先７０を接触させた状態を示す概略断面図である。
　タッチパネル１０は、カバー２０と、上部透明樹脂層３０と、上部電極基板４０と、下部透明樹脂層５０と、下部電極基板６０と、位置検知回路（図示せず）とを備える。図９Ｂに示すように、カバー２０、上部透明樹脂層３０、上部電極基板４０、下部透明樹脂層５０及び下部電極基板６０は、この順で積層されてなる。上部電極基板４０は、図９Ｂに示すように、上部透明基板４１と、この上部透明基板４１の片面に形成された、透視性電極である複数のＸ電極４２とを有する。Ｘ電極４２は、図９Ａに示すように、金属細線で構成された、メッシュ構造を有するＸ電極部４３と、上部電極パッド部４４と、上部引出電極部４５とから構成され、Ｙ方向に沿ってこの順に電気的に接続されて配置されてなる。下部電極基板６０は、図９Ｂに示すように、下部透明基板６１と、この下部透明基板６１の片面に形成された、透視性電極である複数のＹ電極６２とを有する。Ｙ電極６２は、図９Ａに示すように、Ｘ電極部４３と同じ構成のＹ電極部６３と、下部電極パッド部６４と、下部引出電極部６５とから構成され、Ｘ方向に沿ってこの順に電気的に接続されて配置されてなる。すなわち、複数のＸ電極４２と複数のＹ電極６２とは同様に設計されている。Ｘ電極４２及びＹ電極６２は、図９Ｂに示すように、下部透明樹脂層５０を介して直交して配置されており、これらはカバー２０からの距離が互いに異なる２層構造である。また、位置検知回路は、上部引出電極部４５及び下部引出電極部６５に電気的に接続されている。
　タッチパネル１０において、カバー２０の表面２０Ｓに指先７０を接触させた際、図９Ｂに示すように、指先７０とＸ電極４２（具体的にはＸ電極部４３）との間には、カバー２０及び上部透明樹脂層３０が存在する。また、指先７０とＹ電極６２（具体的にはＹ電極部６３）との間には、カバー２０、上部透明樹脂層３０、上部電極基板４０及び下部透明樹脂層５０が存在する。Ｘ電極４２及びＹ電極６２は、これらの厚みを介して、指先７０との間にコンデンサをそれぞれ形成する。
　投影型静電容量方式のタッチパネルにおいて、透視性電極と指先との間に形成されるコンデンサの容量は、共有する面積に正比例し、電極と指先との距離に反比例することが知られている。Ｘ電極４２及びＹ電極６２には等しい電圧が印加されている。また、上述したように、複数のＸ電極４２及び複数のＹ電極６２は同様に設計されている。指先７０とＹ電極６２との間の距離は、指先７０とＸ電極４２との間の距離よりも、少なくとも上部透明基板４１及び下部透明樹脂層５０の厚みの分、長い。そのため、静電容量Ｃ１が大きすぎ、一方で静電容量Ｃ２が小さすぎ、指先７０に対するＹ軸の検出感度が低いおそれがあった。すなわち、二層構造の透視性電極において検出感度が良くないおそれがあった。
　そこで、本開示は、二層構造の透視性電極において検出感度に優れるタッチパネル用部材を提供する。
　以下、本開示の実施形態を説明する。
　［第一実施形態に係るタッチパネル１］
　図１は、第一実施形態に係るタッチパネル１を備える画像表示装置４００の概略分解斜視図である。図２Ａは、タッチパネル１の概略正面図である。図２Ｂは、図２Ａ中の切断線Ｈ－Ｈに従って切断したタッチパネル１の概略断面図である。図３は、第一実施形態における第１の電極基板１２０Ａ及び第２の電極基板１２０Ｂの概略分解斜視図である。なお、図１において、第１の導電性パターン１２２Ａ１～１２２Ａｎ、第２の導電性パターン１２２Ｂ１～１２２Ｂｎ及び位置検知回路３００を省略している。図２Ａにおいて、第１の導電性パターン群１２２Ａ及び第２の導電性パターン群１２２Ｂを簡略化している。
　第一実施形態に係るタッチパネル１は、投影型静電容量方式の１種である自己容量方式のタッチパネルである。自己容量方式とは、１つの電極が駆動電極及び検出電極の役割を果たし、電極自身とグランド間の静電容量（自己容量）の変化を検出する検出方式である。
　タッチパネル１は、タッチパネル用部材１００と、カバー２００と、位置検知回路３００とを備える。タッチパネル用部材１００は、電極として機能する、第１の導電性パターン群１２２Ａ及び第２の導電性パターン群１２２Ｂを有する。
　カバー２００は、図１に示すように、タッチパネル用部材１００上に配置されている。位置検知回路３００は、図２Ｂに示すように、第１の導電性パターン群１２２Ａ及び第２の導電性パターン群１２２Ｂと電気的に接続されており、例えば、第１の導電性パターン群１２２Ａ及び第２の導電性パターン群１２２Ｂに等しい電圧を印加する。
　タッチパネル１は、図１に示すように、画像表示装置４００の表示面の前側（以下、正面側）に配置されて使用される。画像表示装置４００の表示面は、画像が出力される画像表示領域４００ａと、画像が出力されない画像非表示領域４００ｂとを有する。画像非表示領域４００ｂは、図１に示すように、画像表示領域４００ａの外縁を囲むように形成されている。画像表示装置４００としては、例えば、液晶表示パネル、プラズマ画像表示パネル、電界発光（Ｅｌｅｃｔｒｏ　Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）パネル、電子ペーパー、ブラウン管などの公知の画像表示装置を用いることができる。
　タッチパネル１は、図１に示すように、タッチパネル１を正面側から視認したときに、画像表示装置４００の表示面における画像表示領域４００ａに対応する視認領域（以下、タッチ領域）２００ａ，１２０Ａａ，１２０Ｂａと、画像表示装置４００の表示面における画像非表示領域４００ｂに対応する非視認領域（以下、額縁領域）２００ｂ，１２０Ａｂ，１２０Ｂｂとを有する。
　図４Ａは、自己容量方式タッチパネル１の動作原理を説明する概略断面図である。図４Ｂは、自己容量方式タッチパネル１の等価回路図である。図４Ｃは、第１の導電性パターン群１２２Ａ及び第２の導電性パターン群１２２Ｂに印加される駆動電圧Ｖｓの波形を示す概略図である。図４Ｄは、導電体５００のタッチが無い場合の検出電圧Ｖｄ１の波形、及びタッチがある場合の検出電圧Ｖｄ２の波形を示す概略図である。なお、図４Ａにおいて、第１の導電性パターン群１２２Ａ及び第２の導電性パターン群１２２Ｂを簡略化している。
　タッチパネル１の、カバー２００と導電体５００とが接触している位置（以下、タッチ位置）を検出する原理の概略は下記のとおりである。図４Ａに示すように、位置検知回路３００の交流信号源から交流信号である図４Ｃに示す駆動電圧Ｖｓが印加された第１の導電性パターン群１２２Ａと、グランドとの間には浮遊容量Ｃｓｙが存在している。この状態で、導電体５００がカバー２００の表面２００Ｓをタッチすると、第１の導電性パターン群１２２Ａと導電体５００との間で静電容量Ｃｅｙが発生する。この静電容量Ｃｅｙにより、浮遊容量Ｃｓｙに充電された電荷の一部が指を通してグランドに逃げるので、図４Ｄに示すように、検出電圧Ｖｄ２は、タッチのない場合の検出電圧Ｖｄ１より小さくなる。従って、予め設定した閾値電圧Ｖｔｈと検出電圧Ｖｄ２とを比較することで、タッチパネル１へのタッチを検出することが可能となる。第２の導電性パターン群１２２Ｂも第１の導電性パターン群１２２Ａと同様に動作する。導電体５００としては、例えば、ユーザーの指先、スタイラス、指示棒などの導電体が挙げられる。なお、第一実施形態では、検出方式は自己容量方式であるが、本開示はこれに限定されず、相互容量方式であってもよいし、自己容量方式と相互容量方式とを組み合わせた検出方式であってもよい。
　［第一実施形態に係るタッチパネル用部材１００］
　第一実施形態に係るタッチパネル用部材１００は、図１に示すように、第１の透明樹脂層１１０Ａ（以下、上部透明樹脂層１１０Ａ）と、第１の電極基板１２０Ａ（以下、上部電極基板１２０Ａ）と、第２の透明樹脂層１１０Ｂ（以下、下部透明樹脂層１１０Ｂ）と、第２の電極基板１２０Ｂ（以下、下部電極基板１２０Ｂ）とを備える。
　上部透明樹脂層１１０Ａ、上部電極基板１２０Ａ、下部透明樹脂層１１０Ｂ及び下部電極基板１２０Ｂは、図２Ｂに示すように、この順で積層されている。すなわち、第１の導電性パターン群１２２Ａ及び第２の導電性パターン群１２２Ｂは、後述する第１の基板１２１Ａ及び下部透明樹脂層１１０Ｂを介して配置されており、２層構造を成している。
　〔上部電極基板１２０Ａ〕
　上部電極基板１２０Ａは、図３に示すように、第１の基板１２１Ａと、第１の導電性パターン群１２２Ａとを備える。第１の基板１２１Ａは、第１の主面及び第２の主面を有する。第１の導電性パターン群１２２Ａは、第１の基板１２１Ａの第１の主面に形成されている。上部電極基板１２０Ａは、図２Ｂに示すように、第１の基板１２１Ａの第１の主面が上部透明樹脂層１１０Ａ側となるように配置されている。なお、第一実施形態では、第１の基板１２１Ａの第１の主面が上部透明樹脂層１１０Ａ側となるように配置されているが、本開示はこれに限定されず、第１の基板１２１Ａの第２の主面が上部透明樹脂層１１０Ａ側となるように配置されていてもよい。
　｛第１の導電性パターン群１２２Ａ｝
　第１の導電性パターン群１２２Ａは、ｎ個の第１の導電性パターン１２２Ａ１～１２２Ａｎを有する。第１の導電性パターン１２２Ａ１～１２２Ａｎは、それぞれ第１の方向（以下、Ｙ方向）に沿って延在しており、Ｙ方向に対して直交する第２の方向（以下、Ｘ方向）において、互いに電気的に絶縁されて並列に配置されている。個数ｎは、１以上の整数であり、画像表示装置４００の画像表示領域４００ａのサイズなどに応じて適宜調整すればよい。
　＜第１の導電性パターン１２２Ａ１＞
　第１の導電性パターン１２２Ａ１は、図３に示すように、第１の電極部１２３Ａ１と、第１の電極パッド部１２４Ａ１と、第１の引出電極部１２５Ａ１とを有する。第１の電極部１２３Ａ１、第１の電極パッド部１２４Ａ１及び第１の引出電極部１２５Ａ１は、図３に示すようにＹ方向にこの順に配置され一体化されており、これらは互いに電気的に接続されている。
　（第１の電極部１２３Ａ１）
　第１の電極部１２３Ａ１は、図３に示すように、Ｙ方向に沿って延在し、かつ第１の金属細線で構成された第１の正方格子１２６Ａからなる第１のメッシュ構造を有する。すなわち、第１の電極部１２３Ａ１は、透視性を有し、かつＹ方向を長手方向とする略バー形状（略帯形状）の外形（輪郭形状）を有する。第１の電極部１２３Ａ１の大部分は、図３に示すように、タッチ領域１２０Ａａ内に配置されている。
　第１の電極部１２３Ａ１のＹ方向の長さは、画像表示装置４００の画像表示領域４００ａの大きさなどに応じて適宜調整すればよく、好ましくは０．０５ｍ以上５．００ｍ以下である。第１の電極部１２３Ａ１のＸ方向の幅は、画像表示装置４００の画像表示領域４００ａの大きさなどに応じて適宜調整すればよく、好ましくは３ｍｍ以上１０ｍｍ以下である。
　第１の電極部１２３Ａ１は、図３に示すように、第１の正方格子１２６Ａからなる第１のメッシュ構造を有する。この第１のメッシュ構造は、主に第１の正方格子１２６Ａが均一に連続する構造である。第１の電極部１２３Ａ１は、第１の正方格子１２６Ａからなるメッシュ構造を有するので、長方形格子、三角格子などの第１の正方格子１２６Ａ以外のパターンからなるメッシュ構造である場合に比べて設計しやすい。第１の正方格子１２６Ａの一辺の長さＰＡは、好ましくは２００μｍ以上６０００μｍ以下、より好ましくは２００μｍ以上２０００μｍ以下であり、さらに好ましくは２００μｍ以上１０００μｍ以下、特に好ましくは３００μｍ以上８００μｍ以下である。第１の正方格子１２６Ａの一辺の長さＰＡが上記範囲内であれば、タッチ操作を検出する感度を最適値とすることができるとともに、製品の小型化に対応することができる。なお、第一実施形態では、第１の金属細線で構成された格子は第１の正方格子１２６Ａであるが、本開示はこれに限定されず、第１の金属細線で構成された格子は、例えば、三角格子、長方形格子、ひし形格子、六角形格子などであってもよい。
　第１の正方格子１２６Ａのメッシュ角度θは、Ｙ方向に対して６０°であり、０°、４５°及び９０°のいずれでもない。第１の正方格子１２６Ａのメッシュ角度θが、０°、４５°及び９０°のいずれかであると、例えば、画像表示装置４００が液晶表示パネルである場合、第１の正方格子１２６Ａの配列周期と、液晶表示パネルの画像表示領域４００ａの画素（ピクセル）の配列周期とが干渉し、干渉縞（モアレ）が発生してしまうおそれがある。
　第１の金属細線の線幅は、好ましくは１μｍ以上２０μｍ以下、より好ましくは１μｍ以上８μｍ以下、さらに好ましくは１μｍ以上３μｍ以下である。第１の金属細線の線幅が上記範囲内であれば、第１の金属細線が断線しにくく、第１の電極部１２３Ａ１～１２３Ａｎの形状を肉眼でより認識しにくくすることができる。
　第１の金属細線を構成する材質としては、例えば、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、モリブデン（Ｍｏ）、鉄（Ｆｅ）、金（Ａｕ）、チタン（Ｔｉ）などの金属；これらを２種以上組み合わせた合金などを用いることができる。第１の金属細線は、その上面又は側面に黒化膜を有していてもよい。これにより、第１の金属細線を構成する材質に反射率の高い金属を用いても、第１の金属細線が視認されにくくなる。黒化膜を構成する材質としては、金属酸化物、金属硫化物、クロム、カーボンなどを用いることができる。
　（第１の電極パッド部１２４Ａ１）
　第１の電極パッド部１２４Ａ１は、第１の金属細線の複数を１つに結線する。これにより、第１の電極パッド部１２４Ａ１に電気的に接続される複数の第１の金属細線のうちの一部に断線が発生したとしてもタッチ位置を検出することができ、タッチパネル１は故障しにくくなる。第１の電極パッド部１２４Ａ１は、図３に示すように、額縁領域１２０Ａｂ内に配置されており、Ｘ方向に沿って延在したベタ構造を有する。すなわち、第１の電極パッド部１２４Ａ１の輪郭形状は、Ｘ方向を長手方向とするバー形状である。第１の電極パッド部１２４Ａ１のＹ方向の幅Ｗは、好ましくは５００μｍ以上３０００μｍ以下である。第１の電極パッド部１２４Ａ１のＸ方向の長さＬは、好ましくは３０００μｍ以上１００００μｍ以下である。第１の電極パッド部１２４Ａ１と、第１の金属細線との接点の数は、好ましくは４個以上６個以下である。第１の電極パッド部１２４Ａ１を構成する材質は、例えば、第１の金属細線を構成する材質として例示したものと同様のものを用いることができる。ベタ構造とは、いわゆるベタパターンであり、開口した部位を有さない構造を意味する。
　（第１の引出電極部１２５Ａ１）
　第１の引出電極部１２５Ａ１は、第１の電極パッド部１２４Ａ１と位置検知回路３００とを電気的に接続する。第１の引出電極部１２５Ａ１は、図１及び図３に示すように、額縁領域１２０Ａｂ内に配置されており、線構造を有する。第１の引出電極部１２５Ａ１の線幅は、好ましくは１０μｍ以上２００μｍ以下である。第１の引出電極部１２５Ａ１の材質は、例えば、第１の金属細線の材質として例示したものと同様のものを用いることができる。
　＜第１の導電性パターン１２２Ａ２～１２２Ａｎ＞
　第１の導電性パターン１２２Ａ２～１２２Ａｎも、第１の導電性パターン１２２Ａ１と同様に構成される。すなわち、第１の導電性パターン群１２２Ａは、Ｙ方向に沿って延在し、かつ第１の金属細線で構成された第１のメッシュ構造を有する、複数の第１の電極部１２３Ａ１～１２３Ａｎを含む。
　また、第１の導電性パターン１２２Ａ１～１２２Ａｎは、図３に示すよう、互いに隣合う２つの間に所定の間隔を空けて並列して配置され、互いに電気的に絶縁されている。第１の電極部１２３Ａ１～１２３Ａｎの互いに隣接する２つの間隔Ｉは、好ましくは３０μｍ以上３００μｍ以下である。
　第１の導電性パターン群１２２Ａの配線密度は、好ましくは７０．０％以上９９．９％以下、より好ましくは９５．０％以上９９．９％以下である。ここで、第１の導電性パターン群１２２Ａの配線密度とは、タッチ領域１２０Ａａ全体の面積に対する、タッチ領域１２０Ａａにおける第１の導電性パターン群１２２Ａ全体の面積の割合をいう。第１の導電性パターン群１２２Ａのシート抵抗は、好ましくは０．１Ω／ｓｑ（Ω／ｃｍ２）以上５．０Ω／ｓｑ以下、より好ましくは０．１Ω／ｓｑ以上１．０Ω／ｓｑ以下である。
　｛第１の基板１２１Ａ｝
　第１の基板１２１Ａは、板状であり、電気的絶縁性及び透明性を有する。第１の基板１２１Ａの厚さは、タッチパネル１の使用用途に応じて適宜調整すればよく、好ましくは１０μｍ以上４００μｍ以下、より好ましくは５０μｍ以上２００μｍ以下である。第１の基板１２１Ａを構成する材質としては、例えば、ガラス、プラスチックなどを用いることができる。プラスチックとしては、例えば、アクリル、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリ塩化ビニリデン（ＰＶＤＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリアミドイミド（ＰＡＩ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）などを用いることができる。なかでも、光透過性や加工性等の観点から、ＰＥＴが好ましい。第１の基板１２１Ａは、必要に応じて機能層を有していてもよい。機能層としては、例えば、密着性を強化する下塗り層、特定の波長の光を吸収してハレーションを防止する光学フィルタ層、帯電防止層、透過率を向上させる屈折調整層などが挙げられる。
　〔下部電極基板１２０Ｂ〕
　下部電極基板１２０Ｂは、図３に示すように、第２の基板１２１Ｂと、第２の導電性パターン群１２２Ｂとを備える。第２の基板１２１Ｂは、第１の主面及び第２の主面を有する。第２の導電性パターン群１２２Ｂは、第２の基板１２１Ｂの第１の主面に形成されている。下部電極基板１２０Ｂは、図２Ｂに示すように、第２の基板１２１Ｂの第１の主面が上部透明樹脂層１１０Ａ側となるように配置されている。なお、第一実施形態では、第２の基板１２１Ｂの第１の主面が上部透明樹脂層１１０Ａ側となるように配置されているが、本開示はこれに限定されず、第２の基板１２１Ｂの第２の主面が上部透明樹脂層１１０Ａ側となるように配置されていてもよい。
　{第２の導電性パターン群１２２Ｂ}
　図５は、タッチパネル用カバーを取り付けたタッチパネル用部材の表面に１つの基準導電体を接触させた状態を示す概略断面図である。
　第２の導電性パターン群１２２Ｂは、複数（ｎ個）の第２の導電性パターン１２２Ｂ１～１２２Ｂｎを有する。第２の導電性パターン１２２Ｂ１～１２２Ｂｎは、Ｙ方向において、互いに電気的に絶縁されて並列に配置されている。
　第一実施形態に係るタッチパネル用部材１００において、図５に示すように、上部透明樹脂層１１０Ａの上部電極基板１２０Ａとは反対側の面１１０ＡＳにタッチパネル用カバー２１０を配置した状態で、１つの基準導電体６００をタッチパネル用カバー２１０に接触させた際に、基準導電体６００と第２の導電性パターン群１２２Ｂとの間に生じる第２の静電容量Ｃ２が、基準導電体６００と第１の導電性パターン群１２２Ａとの間に生じる第１の静電容量Ｃ１に対して、８０％以上１２０％となるように、第２の導電性パターン群１２２Ｂが構成されている。この際、図５に示すように、第１の導電性パターン群１２２Ａ及び第２の導電性パターン群１２２Ｂには、試験用位置検知回路３１０が電気的に接続され、第１の導電性パターン群１２２Ａ及び第２の導電性パターン群１２２Ｂには、等しい電圧が印加される。また、基準導電体６００とタッチパネル用カバー２１０とが接触する接触領域は、タッチ領域１２０Ａａ，１２０Ｂａ内となるようにすればよい。
　具体的に、第一実施形態において、後述するように、第２のメッシュ構造は、その配線密度が第１のメッシュ構造の配線密度よりも大きくなるように構成されている。このように、第一実施形態では、基準導電体６００に対する第１の静電容量Ｃ１及び第２の静電容量Ｃ２がともにほぼ同じとなるように、第１の導電性パターン群１２２Ａ及び第２の導電性パターン群１２２Ｂが設計されている。そのため、タッチパネル用部材１００を用いたタッチパネル１においても、導電体５００に対してＸ軸及びＹ軸の検出感度がともに良好で、二層構造の透視性電極において検出感度に優れる。
　第２の静電容量Ｃ２は、第１の静電容量Ｃ１に対して、８０％以上１２０％以下、好ましくは９０％以上１１０％以下、より好ましくは１００％である。第２の静電容量Ｃ２が第１の静電容量Ｃ１に対して８０％未満であると、静電容量Ｃ１が大きすぎ、静電容量Ｃ２が小さすぎるため、タッチパネル１において導電体５００に対するＹ軸の検出感度が低いおそれがある。第２の静電容量Ｃ２が第１の静電容量Ｃ１に対して１２０％超であると、静電容量Ｃ１が小さすぎ、静電容量Ｃ２が大きすぎるため、タッチパネル１において導電体５００に対するＸ軸の検出感度が低いおそれがある。第２の静電容量Ｃ２は、第１の静電容量Ｃ１に対して１００％に近づくほど、すなわち、第２の静電容量Ｃ２と第１の静電容量Ｃ１とが近ければ近いほど、二層構造の透視性電極において検出感度により優れる。
　静電容量Ｃ１又は静電容量Ｃ２を測定する方法としては、例えば、ＬＣＲメーター、インピーダンスアナライザー、ネットワークアナライザーなどの測定器を用いる方法などが挙げられる。
　また、静電容量Ｃ１又は静電容量Ｃ２は、下記式より算出することもできる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
　ここで、上記式中、Ｃｆは、静電容量Ｃ１又は静電容量Ｃ２；ε０は、真空の誘電率８．８５×１０－１２；εｒは、基準導電体６００と、第１の導電性パターン群１２２Ａ又は第２の導電性パターン群１２２Ｂ（以下、導電性パターン群）との間の誘電体の誘電率；Ｓは、基準導電体６００と導電性パターン群とからなる電極の有効面積；ｄは、基準導電体６００と導電性パターン群との間の距離をそれぞれ意味する。ここで、静電容量Ｃ１を算出するための有効面積Ｓとは、タッチパネル用部材１００を正面側Ｊから見た際、基準導電体６００と、第１の導電性パターン群１２２Ａとの重なり領域における第１の導電性パターン群１２２Ａの面積を指す。静電容量Ｃ２を算出するための有効面積Ｓとは、タッチパネル用部材１００を正面側Ｊから見た際、基準導電体６００と、第２の導電性パターン群１２２Ｂとの重なり領域における第２の導電性パターン群１２２Ｂの面積を指す。
　基準導電体６００としては、指先の誘電率と同程度のものであればよく、例えば、ユーザーの指先、スタイラス、指示棒などの導電体を用いることができる。基準導電体６００のサイズは、一本の指先と同程度のサイズであればよい。例えば、基準導電体６００のサイズは、１つの基準導電体６００をタッチパネル用カバー２１０の表面２１０Ｓに接触させた際、タッチパネル用カバー２１０の表面２１０Ｓのうち、基準導電体６００との接触面６００Ｓの面積が、好ましくは０．４ｃｍ２以上１．０ｃｍ２以下、より好ましくは０．４ｃｍ２以上０．７ｃｍ２以下となるサイズであればよい。
　タッチパネル用カバー２１０は、カバー２００と同一の構成のものである。試験用位置検知回路３１０は、位置検知回路３００と同一の構成のものである。
　＜第２の導電性パターン１２２Ｂ１＞
　第２の導電性パターン１２２Ｂ１は、図３に示すように、第２の電極部１２３Ｂ１と、第２の電極パッド部１２４Ｂ１と、第２の引出電極部１２５Ｂ１とを有する。第２の電極部１２３Ｂ１、第２の電極パッド部１２４Ｂ１及び第２の引出電極部１２５Ｂ１は、Ｘ方向に沿ってこの順に配置され一体化されており、これらは互いに電気的に接続されている。
　第２の導電性パターン１２２Ｂ１は、後述するように、第２のメッシュ構造の配線密度が第１のメッシュ構造の配線密度よりも大きいことの他は、第１の導電性パターン１２２Ａ１と同様に設計されている。ここで、第１のメッシュ構造の配線密度は、上述した第１の導電性パターン群１２２Ａの配線密度と同等である。第２のメッシュ構造の配線密度は、後述する第２の導電性パターン群１２２Ｂの配線密度と同等である。
　（第２の電極部１２３Ｂ１）
　図６は、第一実施形態における第１の導電性パターン１２２Ａ１及び第２の導電性パターン１２２Ｂ１の概略説明図である。
　第２の電極部１２３Ｂ１は、図３に示すように、Ｘ方向に沿って延在し、かつ第２の金属細線で構成された第２の正方格子１２６Ｂからなる第２のメッシュ構造を有する。すなわち、第２の電極部１２３Ｂ１は、透視性を有し、かつＸ方向を長手方向とするバー形状（帯形状）を有する。第２の電極部１２３Ｂ１の大部分は、タッチ領域１２０Ｂａ内に配置されている。
　第２の電極部１２３Ｂ１は、図３に示すように、第２の正方格子１２６Ｂからなる第２のメッシュ構造を有する。この第２のメッシュ構造は、主に第２の正方格子１２６Ｂが均一に連続する構造である。第２の電極部１２３Ｂ１は、第２の正方格子１２６Ｂからなるメッシュ構造を有するので、長方形格子、三角格子などの第２の正方格子１２６Ｂ以外のパターンからなるメッシュ構造である場合に比べて設計しやすい。
　第２のメッシュ構造の配線密度は、図６に示すように、第１のメッシュ構造の配線密度よりも大きい。すなわち、第２の正方格子１２６Ｂの一辺の長さＰＢは、第１の正方格子１２６Ａの一辺の長さＰＡよりも短い。第２の正方格子１２６Ｂの一辺の長さＰＢは、下部透明樹脂層１１０Ｂの厚みなどに応じて適宜調整すればよく、第１の正方格子１２６Ａの一辺の長さＰＡに対して、好ましくは１／２倍以上１／４倍以下、より好ましくは１／３倍以上１／４倍以下である。これにより、第一実施形態において、図５に示すように、１つの基準導電体６００をタッチパネル用カバー２１０に接触させた際、第２の静電容量Ｃ２を、第１の静電容量Ｃ１に対して、８０％以上１２０％以下とすることができる。
　＜第２の導電性パターン１２２Ｂ２～１２２Ｂｎ＞
　第２の導電性パターン１２２Ｂ２～１２２Ｂｎも、第２の導電性パターン１２２Ｂ１と同様に構成されている。すなわち、第２の導電性パターン群１２２Ｂは、Ｘ方向に沿って延在し、かつ第１の金属細線で構成された第２のメッシュ構造を有する、複数の第２の電極部１２３Ｂ１～１２３Ｂｎを含む。
　第２の導電性パターン群１２２Ｂの配線密度は、第１の導電性パターン群１２２Ａの配線密度よりも低く、好ましくは７０．０％以上９９．９％以下、より好ましくは９５．０％以上９９．９％以下である。ここで、第２の導電性パターン群１２２Ｂの配線密度とは、タッチ領域１２０Ｂａ全体の面積に対する、タッチ領域１２０Ｂａにおける第２の導電性パターン群１２２Ｂ全体の面積の割合をいう。第２の導電性パターン群１２２Ｂのシート抵抗は、好ましくは０．１Ω／ｓｑ以上５．０Ω／ｓｑ以下、より好ましくは０．１Ω／ｓｑ以上１．０Ω／ｓｑ以下である。
　なお、第一実施形態では、第２の導電性パターン群１２２Ｂは、第２のメッシュ構造の配線密度が第１のメッシュ構造の配線密度よりも大きいことの他は、第１の導電性パターン群１２２Ａと同様に設計されている。しかしながら、本開示はこれに限定されず、第２の導電性パターン群は、１つの基準導電体をカバーに接触させた際、第２の静電容量が、第１の静電容量に対して８０％以上１２０％以下となるように構成されていればよく、例えば、第２の導電性パターン群は、第２の金属細線が第１の金属細線よりも線幅が太い他は、第１の導電性パターン群と同様に設計されていてもよい。また、第一実施形態では、第１の導電性パターン群１２２Ａと、第２の導電性パターン群１２２Ｂとは直交しているが、本開示はこれに限定されず、第１の導電性パターン群と、第２の導電性パターン群とは、交差していなくともよいし、直交でなくとも交差していてもよい。
　｛第２の基板１２１Ｂ｝
　第２の基板１２１Ｂは、板状であり、電気的絶縁性及び透明性を有する。第２の基板１２１Ｂとして、第１の基板１２１Ａと同様のものを用いることができる。
　〔カバー２００〕
　カバー２００は、透明性及び電気的絶縁性を有し、上部電極基板１２０Ａ及び下部電極基板１２０Ｂを保護する。カバー２００を構成する材質としては、第１の基板１２１Ａを構成する材質として例示したものと同様のものを用いることができる。カバー２００の厚さは、好ましくは０．５ｍｍ以上７．０ｍｍ以下である。カバー２００の額縁領域１２０ｂ上には、ベゼルが配置されていてもよいし、カバー２００の額縁領域１２０ｂに黒化粧印刷などの加飾層が施されていてもよい。これにより、第１の電極パッド部１２４Ａ１、第１の引出電極部１２５Ａ１、第２の電極パッド部１２４Ｂ１及び第２の引出電極部１２５Ｂ１を隠蔽することができる。
　カバー２００の正面側の表面２００Ｓ上には、粘着層を介して、機能性フィルムを有していてもよい。機能性フィルムとしては、例えば、反射防止フィルム（ＡＲ（Ａｎｔｉ－Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）フィルム）、防眩フィルム（ＡＧ（Ａｎｔｉ－Ｇｌａｒｅ）フィルム）、耐指紋性フィルム（ＡＦ（Ａｎｔｉ－Ｆｉｎｇｅｒｐｒｉｎｔ）フィルム）等を用いることができる。粘着層を構成する粘着剤としては、例えば、アクリル粘着剤（ＰＳＡ：Ｐｒｅｓｓｕｒｅ　Ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ　Ａｄｈｅｓｉｖｅ）等を用いることができる。
　〔位置検知回路３００〕
　位置検知回路３００は、例えば、導電体５００がカバー２００の表面２００Ｓに接触した座標を判定する。位置検知回路３００としては、例えば、国際公開第２０１３／０６９２８９号に記載されている回路などを用いることができる。
　［タッチパネル１の製造方法］
　タッチパネル１の製造方法としては、例えば、タッチパネル用部材１００の上部透明樹脂層１１０Ａ上にカバー２００を積層配置して、熱プレスする方法などが挙げられる。熱プレスの条件は、例えば、１分間以上１２０分間以下、６０℃以上１６０℃以下の温度で加熱しながら、積層方向に０．１ｋＰａ以上３０００ｋＰａ以下（０．００１ｋｇｆ／ｃｍ２以上３０．６ｋｇｆ／ｃｍ２以下）の圧力で加圧（プレス）した後、０．００１分間以上６０分間以下かけて常温まで冷却すればよい。タッチパネル用部材１００の製造方法としては、例えば、下部電極基板１２０Ｂ、下部透明樹脂層１１０Ｂを構成する接着剤、上部電極基板１２０Ａ、上部透明樹脂層１１０Ａを構成する接着剤をこの順に積層配置する方法などが挙げられる。
　上部透明樹脂層１１０Ａ及び下部透明樹脂層１１０Ｂを構成する接着剤としては、例えば、熱溶着フィルム、感圧型接着性粘着剤などを用いることができる。熱溶着フィルムは、例えば－１０℃以上４０℃以下でフィルム状であり、６０℃以上３００℃以下、好ましくは６０℃以上１８０℃以下の温度で加熱すると徐々に軟化又は溶融して隣接する層に接着し、硬化すると透明になるものであれば、特に限定されない。熱溶着フィルムを構成する材料としては、例えば、ポリエチレン－酢酸ビニル系共重合体、非晶性ポリエチレンテレフタレート系単独重合体、非晶性ポリエチレンテレフタレート系共重合体、ポリビニルブチラール系単独重合体、ポリビニルブチラール系共重合体の群の中から選ばれるものなどを用いることができる。上部透明樹脂層１１０Ａ及び下部透明樹脂層１１０Ｂの構成は同一であってもよいし、異なっていてもよい。
　上部電極基板１２０Ａの製造方法としては、例えば、第１の基板１２１Ａを準備し、第１の基板１２１Ａの第１主面に第１の導電性パターン群１２２Ａを形成すればよい。第１の基板１２１Ａの第１主面に第１の導電性パターン群１２２Ａを形成する方法としては、例えば、第１の基板１２１Ａの第１主面に接着層を介して第１の導電性材料を貼り合わせ、エッチングにより第１の導電性パターン群１２２Ａを形成する方法；印刷法、フォトリソグラフィ法、フォトグラフィ法、マスクを用いた方法、スパッタリング法、インクジェット法などが挙げられる。第１の導電性材料としては、例えば、第１の金属細線を構成する材質と同一の材質からなる金属箔などを用いることができる。第１の導電性材料を第１の基板１２１Ａに貼り合せる接着層を構成する材料としては、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、これらを２種以上組み合わせた樹脂などを用いることができる。印刷法としては、例えば、オフセット印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷、インクジェット印刷などが挙げられる。下部電極基板１２０Ｂの製造方法も、上部電極基板１２０Ａの製造方法と同様に行うことができる。
　［第二実施形態に係るタッチパネル用部材］
　図７は、第二実施形態における第１の導電性パターン１２２Ａ１及び第２の導電性パターン１２２Ｂ１の概略説明図である。
　第二実施形態に係るタッチパネル用部材は、複数の第１のダミー電極部１２７をさらに有する他は、第一実施形態に係るタッチパネル用部材１００と同じ構成である。図７において、図６に示した構成部と同一の構成部には同一符号を付して説明を省略する。
　第二実施形態に係るタッチパネル用部材は、第１の基板１２１Ａの第１の主面に形成され、第１の導電性パターン群１２２Ａと電気的に絶縁された第１の金属細線からなる第１のダミー電極部１２７を複数有する。第１のダミー電極部１２７は、図７に示すように、複数の第１のダミー電極部１２７及び第１の電極部１２３Ａ１～１２３Ａｎからなるパターンが第２の電極部１２３Ｂ１～１２３Ｂｎのパターンと同一となるように、第１の電極部１２３Ａ１～１２３Ａｎの開口部１２３Ａａ内に形成されている。すなわち、複数の第１のダミー電極部１２７及び第１の電極部１２３Ａ１～１２３Ａｎからなるパターンの配線密度と、第２の電極部１２３Ｂ１～１２３Ｂｎのパターンの配線密度とが均一化されている。これにより、タッチパネル用部材１００の代わりに第二実施形態に係るタッチパネル用部材を用いた他はタッチパネル１と同じ構成の第二実施形態に係るタッチパネルを正面側から視認するときに、全体的に同一の光学的特性を有し、すなわち全体的に均一なメッシュ構造を有し、タッチパネルの外観品位を向上させることができる。
　第１のダミー電極部１２７は、図７に示すように、第１の電極部１２３Ａ１の長手方向及び第１の電極部１２３Ａ１の長手方向に直交する短手方向に沿う十字状の構造を有する。この十字状の構造は、図７に示す第２の電極部１２３Ｂ１のＦ部をそれぞれ断線して得られる構造と同一である。これにより、第二実施形態に係るタッチパネル用部材を用いたタッチパネルの外観品位を向上させることができる。なお、第二実施形態では、第１のダミー電極部１２７は十字状の構造であるが、本開示はこれに限定されない。すなわち、第１のダミー電極部は、第１の導電性パターン群と電気的に絶縁され、第１のダミー電極部及び第１の電極部からなるパターンが第２の電極部のパターンと（上記の絶縁部分を除いて）同一となるように、第１の電極部の開口部内に形成されていれば、第１のダミー電極部の構造は、第２の電極部１２３Ｂ１～１２３Ｂｎのパターンに応じて、適宜調整すればよい。
　第１のダミー電極部１２７と第１の電極部１２３Ａ１との間には、切欠領域Ｅを有する。切欠幅Ｄは、第１のダミー電極部１２７と第１の電極部１２３Ａ１とを電気的に絶縁することができる幅であればよく、好ましくは５０μｍ以上３５０μｍ以下、より好ましくは５０μｍ以上１５０μｍ以下である。
　［第三実施形態に係るタッチパネル用部材１０２］
　図８は、第三実施形態に係るタッチパネル用部材１０２の概略断面図である。
　第三実施形態に係るタッチパネル用部材１０２は、図８に示すように、上部電極基板１２０Ａ及び下部電極基板１２０Ｂの代わりに、第３の電極基板１２０Ｃ（以下、両面電極基板１２０Ｃ）を用いた他は第一実施形態に係るタッチパネル用部材１００と同じ構成である。そのため、タッチパネル用部材１０２の説明において、タッチパネル用部材１００と同じ構成部については同じ符号を用い、説明を省略する。また、後述する第３の導電性パターン群は第２の導電性パターン群１２２Ｂと同様の構成であるため、同じ符号を用い、説明を簡略する。
　タッチパネル用部材１０２は、上部透明樹脂層１１０Ａと、両面電極基板１２０Ｃとを備える。両面電極基板１２０Ｃは、図８に示すように、第１の導電性パターン群１２２Ａ及び第３の導電性パターン群１２２Ｂを有する。
　上部透明樹脂層１１０Ａは、図８に示すように、両面電極基板１２０Ｃ上に積層されている。すなわち、第１の導電性パターン群１２２Ａ及び第３の導電性パターン群１２２Ｂは、第１の基板１２１Ａを介して配置されており、２層構造を成している。
　両面電極基板１２０Ｃは、図８に示すように、第１の基板１２１Ａと、第１の導電性パターン群１２２Ａと、第３の導電性パターン群１２２Ｂとを備える。第１の基板１２１Ａは、第１の主面及び第２の主面を有する。第１の導電性パターン群１２２Ａは、第１の基板１２１Ａの第一の主面に形成されている。第３の導電性パターン群１２２Ｂは、第１の基板１２１Ａの第二の主面に形成されている。両面電極基板１２０Ｃは、図８に示すように、第１の基板１２１Ａの第１の主面が上部透明樹脂層１１０Ａ側となるように配置されている。
　第３の導電性パターン群１２２Ｂは、ｎ個の第３の導電性パターン１２２Ｂ１～１２２Ｂｎを有する。第３の導電性パターン１２２Ｂ１～１２２Ｂｎは、Ｙ方向に沿って、互いに電気的に絶縁されて並列に配置されている。
　第三実施形態に係るタッチパネル用部材１０２において、上部透明樹脂層１１０Ａの第１の基板１２１Ａとは反対側の面１１０ＡＳにタッチパネル用カバー２１０を配置した状態で、第一実施形態と同様に、１つの基準導電体６００をタッチパネル用カバー２１０に接触させた際に、基準導電体６００と第３の導電性パターン群１２２Ｂとの間に生じる第３の静電容量が、基準導電体６００と第１の導電性パターン群１２２Ａとの間に生じる第１の静電容量Ｃ１に対して、８０％以上１２０％以下となるように、第３の導電性パターン群１２２Ｂが構成されている。この際、第１の導電性パターン群１２２Ａ及び第３の導電性パターン群１２２Ｂには、試験用位置検知回路３１０が電気的に接続され、第１の導電性パターン群１２２Ａ及び第３の導電性パターン群１２２Ｂには、等しい電圧が印加される。また、基準導電体６００とタッチパネル用カバー２１０とが接触する接触領域は、タッチ領域１２０Ａａ，１２０Ｂａ内となるようにすればよい。
　具体的に、第三実施形態において、第２の金属細線で構成された第３の正方格子１２６Ｂからなる第３のメッシュ構造は、その配線密度が第１のメッシュ構造の配線密度よりも大きくなるように構成されている。このように、第三実施形態では、基準導電体６００に対する第１の静電容量Ｃ１及び第３の静電容量がともにほぼ同じとなるように、第１の導電性パターン群１２２Ａ及び第３の導電性パターン群１２２Ｂが設計されている。そのため、タッチパネル用部材１００の代わりに第三実施形態に係るタッチパネル用部材１０２を用いた他はタッチパネル１と同じ構成の第三実施形態に係るタッチパネルにおいても、導電体５００に対してもＸ軸及びＹ軸の検出感度がともに良好で、二層構造の透視性電極において検出感度に優れる。
　第３の静電容量は、第１の静電容量Ｃ１に対して、８０％以上１２０％以下、好ましくは９０％以上１１０％以下、より好ましくは１００％である。第３の静電容量が第１の静電容量Ｃ１に対して８０％未満であると、静電容量Ｃ１が大きすぎ、第３の静電容量が小さすぎるため、第三実施形態に係るタッチパネルにおいて導電体５００に対するＹ軸の検出感度が低いおそれがある。第３の静電容量が第１の静電容量Ｃ１に対して１２０％超であると、静電容量Ｃ１が小さすぎ、第３の静電容量が大きすぎるため、第三の実施形態に係るタッチパネルにおいて導電体５００に対するＸ軸の検出感度が低いおそれがある。第３の静電容量と第１の静電容量Ｃ１とが近ければ近いほど、二層構造の透視性電極において検出感度により優れる。第３の静電容量は、第一実施形態に示した方法と同様にして求めることができる。
　第３のメッシュ構造の配線密度は、第一実施形態と同様に、第１のメッシュ構造の配線密度よりも大きい。すなわち、第３の正方格子１２６Ｂの一辺の長さＰＢは、第１の正方格子１２６Ａの一辺の長さＰＡよりも短い。第３の正方格子１２６Ｂの一辺の長さＰＢは、第１の基板１２１Ａの厚みなどに応じて適宜調整すればよく、第１の正方格子１２６Ａの一辺の長さＰＡに対して、好ましくは１／２倍以上１／４倍以下、より好ましくは１／３倍以上１／４倍以下である。これにより、第三実施形態において、１つの基準導電体６００をタッチパネル用カバー２１０に接触させた際、第３の静電容量を、第１の静電容量Ｃ１に対して、８０％以上１２０％以下とすることができる。
　なお、第三実施形態では、第３の導電性パターン群１２２Ｂは、第３のメッシュ構造の配線密度が第１のメッシュ構造の配線密度よりも大きいことの他は、第１の導電性パターン群１２２Ａと同様に設計されている。しかしながら、本開示はこれに限定されず、第３の導電性パターン群は、１つの基準導電体をタッチパネル用カバーに接触させた際、第３の静電容量が、第１の静電容量に対して８０％以上１２０％以下となるように構成されていればよい。例えば、第３の導電性パターン群は、第２の金属細線が第１の金属細線よりも線幅が太い他は、第１の導電性パターン群１２２Ａと同様に設計されていてもよい。また、第三実施形態では、第１の導電性パターン群１２２Ａと、第３の導電性パターン群１２２Ｂとは直交しているが、本開示はこれに限定されず、第１の導電性パターン群と、第３の導電性パターン群とは、交差していなくともよいし、直交でなくとも交差していてもよい。
　［第四実施形態に係るタッチパネル用部材］
　第四実施形態に係るタッチパネル用部材は、複数の第２のダミー電極部をさらに有する他は、第三実施形態に係るタッチパネル用部材１０２と同じ構成である。以下、図７及び図８に示した構成部と同一の構成部には同一符号を付して説明を省略する。また、後述する第２のダミー電極部は第１のダミー電極部１２７と同様の構成であるため、同じ符号を用い、説明を簡略する。
　第四実施形態において、第１の基板１２１Ａの第１の主面に形成され、第１の導電性パターン群１２２Ａと電気的に絶縁された第１の金属細線からなる第２のダミー電極部１２７を複数有する。第２のダミー電極部１２７は、第２のダミー電極部１２７及び第１の電極部１２３Ａ１～１２３Ａｎからなるパターンが第３の電極部１２３Ｂ１～１２３Ｂｎのパターンと同一となるように、第１の電極部１２３Ａ１～１２３Ａｎの開口部１２３Ａａ内に形成されている。すなわち、複数の第２のダミー電極部１２７及び第１の電極部１２３Ａ１～１２３Ａｎからなるパターンの配線密度と、第３の電極部１２３Ｂ１～１２３Ｂｎのパターンの配線密度とが均一化されている。これにより、タッチパネル用部材１００の代わりに第四実施形態に係るタッチパネル用部材を用いた他はタッチパネル１と同じ構成の第四実施形態に係るタッチパネルを正面側から視認するときに、全体的に同一の光学的特性を有し、すなわち全体的に均一なメッシュ構造を有し、タッチパネル用部材の外観品位を向上させることができる。
　第四実施形態では、第２のダミー電極部１２７は十字状の構造であるが、本開示はこれに限定されない。すなわち、第１のダミー電極部は、第１の導電性パターン群と電気的に絶縁され、第１のダミー電極部及び第１の電極部からなるパターンが第３の電極部のパターンと（上記の絶縁分を除いて）同一となるように、第１の電極部の開口部内に形成されていれば、第１のダミー電極部の構造は、第２の電極部１２３Ｂ１～１２３Ｂｎのパターンに応じて、適宜調整すればよい。
　１，１０　　タッチパネル
　１００，１０２　　タッチパネル用部材
　３０，１１０Ａ　　上部透明樹脂層
　５０，１１０Ｂ　　下部透明樹脂層
　４０，１２０Ａ　　上部電極基板
　６０，１２０Ｂ　　下部電極基板
　１２０Ｃ　　両面電極基板
　１２１Ａ，１２１Ｂ　　基板
　１２２Ａ，１２２Ｂ　　導電性パターン群
　１２２Ａ１～１２２Ａｎ，１２２Ｂ１～１２２Ｂｎ　　導電性パターン
　１２３Ａ１～１２３Ａｎ，１２３Ｂ１～１２３Ｂｎ　　電極部
　１２４Ａ１～１２４Ａｎ，１２４Ｂ１～１２４Ｂｎ　　電極パッド部
　１２５Ａ１～１２５Ａｎ，１２５Ｂ１～１２５Ｂｎ　　引出電極部
　１２６Ａ，１２６Ｂ　　正方格子
　２０，２００　　カバー
　２１０　　タッチパネル用カバー
　３００　　位置検知回路
　４００　　画像表示装置
　５００　　導電体
　６００　　基準導電体

Claims (6)

  1. 　第１の透明樹脂層と、
    　第１の電極基板と、
    　第２の透明樹脂層と、
    　第２の電極基板とをこの順に備え、
    　前記第１の電極基板は、第１の主面及び第２の主面を有する第１の基板と、前記第１の基板の前記第１の主面に形成された第１の導電性パターン群とを有し、
    　前記第２の電極基板は、第１の主面及び第２の主面を有する第２の基板と、前記第２の基板の前記第１の主面に形成された第２の導電性パターン群とを有し、
    　前記第１の透明樹脂層の前記第１の電極基板とは反対側の面にタッチパネル用カバーを配置した状態で、１つの基準導電体を前記タッチパネル用カバーに接触させた際に、前記基準導電体と前記第２の導電性パターン群との間に生じる第２の静電容量が、前記基準導電体と前記第１の導電性パターン群との間に生じる第１の静電容量に対して、８０％以上１２０％以下となるように、前記第２の導電性パターン群が構成されている、タッチパネル用部材。
  2. 　前記第１の導電性パターン群は、第１の金属細線で構成された第１のメッシュ構造を有する第１の電極部を複数含み、
    　前記第２の導電性パターン群は、第２の金属細線で構成された第２のメッシュ構造を有する第２の電極部を複数含み、
    　前記第２のメッシュ構造の配線密度は、前記第１のメッシュ構造の配線密度よりも大きい、請求項１に記載のタッチパネル用部材。
  3. 　前記第１の基板の前記第１の主面に形成され、前記第１の導電性パターン群と電気的に絶縁された前記第１の金属細線からなるダミー電極部を複数有し、
    　前記ダミー電極部は、前記ダミー電極部及び第１の電極部からなるパターンが前記第２の電極部のパターンと同一となるように、前記第１の電極部の開口部内に形成されている、請求項２に記載のタッチパネル用部材。
  4. 　透明樹脂層と、
    　電極基板とをこの順に備え、
    　前記電極基板は、第１の主面及び第２の主面を有する基板と、前記第１の主面に形成された第１の導電性パターン群と、前記第２の主面に形成された第２の導電性パターン群とを有し、前記第１の主面が前記透明樹脂層側となるように配置されており、
    　前記透明樹脂層の前記電極基板とは反対側の面にタッチパネル用カバーを配置した状態で、１つの基準導電体を前記タッチパネル用カバーに接触させた際に、前記基準導電体と前記第２の導電性パターン群との間に生じる第２の静電容量が、前記基準導電体と前記第１の導電性パターン群との間に生じる第１の静電容量に対して、８０％以上１２０％以下となるように、前記第２の導電性パターン群が構成されている、タッチパネル用部材。
  5. 　前記第１の導電性パターン群は、第１の金属細線で構成された第１のメッシュ構造を有する第１の電極部を複数含み、
    　前記第２の導電性パターン群は、第２の金属細線で構成された第２のメッシュ構造を有する第２の電極部を複数含み、
    　前記第２のメッシュ構造の配線密度は、前記第１のメッシュ構造の配線密度よりも大きい、請求項４に記載のタッチパネル用部材。
  6. 　前記第１の主面に形成され、前記第１の導電性パターン群と電気的に絶縁された前記第１の金属細線からなるダミー電極部を複数有し、
    　前記ダミー電極部は、前記ダミー電極部及び第１の電極部からなるパターンが前記第２の電極部のパターンと同一となるように、前記第１の電極部の開口部内に形成されている、請求項５に記載のタッチパネル用部材。
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