WO2017154085A1 - 搬送用パッドおよびそれを用いる搬送装置、搬送方法 - Google Patents

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雅一 高津
大橋 恭介
幸三 石崎
徳朗 小野寺
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    • B65H2701/1752Polymer film

Definitions

  • the present invention relates to a transport pad that adsorbs and fixes a transported object such as a wafer or a polymer film, or floats it in a non-contact manner, and a transport device and a transport method using the pad. Specifically, by pressing the back side of the transfer pad with a vacuum pump or pressurizing with a compressor, even if a part of the transfer surface is not covered with the transfer object, it is porous through many pores.
  • the present invention relates to a transport pad that can adsorb and fix a transported object placed on the surface of a substrate, or can be lifted and transported in a non-contact manner, and a transport apparatus and a transport method using the pad. Furthermore, the present invention relates to a method for preventing static electricity (peeling charge) generated at the time of having a mechanism for operating a compressor to float when a transported object transported by suction is pulled away from a suction pad.
  • peeling charge static electricity
  • the back side is depressurized by a vacuum pump with respect to the surface of the transfer pad that adsorbs and fixes the transfer object such as a wafer or polymer film, and the transfer object to be worked is sucked through the pores communicating with the front and back surfaces.
  • a vacuum pump In the vacuum chuck to be held, it is necessary to keep the internal pressure on the back side close to the vacuum with respect to the atmospheric pressure on the front side.
  • the conveyed object does not cover the entire surface, which is the conveying surface, a part of the pores open to the surface, the outside air flows in through the pores, and the differential pressure between the front side and the back side is sufficient. Since it cannot be taken, a predetermined suction force cannot be obtained.
  • the internal pressure is kept constant by focusing on reducing the conductance of the vacuum chuck by simply reducing the number of pores to a small diameter. It cannot be obtained simply by reducing the conductance. That is, the conveyed product is a porous substrate in the vertical direction of the bottom surface that covers the opening of the pores, by the differential pressure between the atmospheric pressure that works downward (from the surface to the back) and the internal pressure that works upward (from the back to the surface). The adsorption force is obtained by multiplying the total area of the pore openings covered by the conveyed product by the differential pressure.
  • the present invention has been made in view of such conventional problems, and reliably attracts the object to be placed on a part of the conveyance surface by the adsorption force or floating force of the conveyance pad.
  • a transport pad that can be fixed or levitated for non-contact transport, a transport device using the transport pad, and a transport method, and to solve problems caused by electrostatic charging when transporting the transported object by suction To do.
  • the transport pad of the present invention is a transport pad that adsorbs and fixes a transported object, or floats and non-contact transports, It consists of a porous substrate that communicates with many pores, By depressurizing or pressurizing the back side of the porous substrate, the conveyed object placed on the surface side of the porous substrate is adsorbed or floated,
  • the relationship between the area ratio ⁇ of the conveyed product covering the surface of the porous substrate and the conductance ratio ⁇ satisfies the following expression (a).
  • the relationship between the area ratio ⁇ of the transported material covering the surface of the porous substrate that is the transport pad and the conductance ratio ⁇ satisfies the formula (a), so that the suction force of the transport pad or Due to the levitation force, the object to be placed on a part of the conveying surface can be reliably adsorbed and fixed, or can be levitated and conveyed in a non-contact manner.
  • 1- ⁇ represents the degree of opening on the surface of the transport pad, and the smaller the 1- ⁇ is, the greater the adsorption force or the floating force.
  • represents conductance, which is an index of the ease of air flow in the transport pad having pores. In general ceramics, the smaller the ⁇ is, the larger the adsorption force or levitation force is. However, when ⁇ is zero, neither adsorption nor levitation is possible, and an optimum value exists in the vicinity thereof.
  • the suction force or floating of the conveying pad With the force, the transported object placed on a part of the transport surface can be reliably adsorbed and fixed, or can be lifted and transported in a non-contact manner.
  • the said structure of this invention WHEREIN: It is preferable that the shape of the said pad for conveyance is flat form, cylindrical shape, or U shape. If the shape of the transfer pad is a flat plate, the transfer object is suitable for a transfer object having a thickness like a wafer. If the transfer pad is cylindrical or U-shaped, the transfer object is a roll like a polymer film. Suitable for objects wound in a shape.
  • the porosity ⁇ is 20 to 60%
  • the pore diameter d is 0.5 to 10 ⁇ m
  • the thickness t of the porous substrate is 2 to 20 mm.
  • the transfer pad of the present invention can be made into a porous substrate having a porosity ⁇ : 20 to 60% by ceramic sintering. If the porosity is less than 20%, part of the pores are blocked and the front and back surfaces are in communication. A portion that does not occur is generated, so a stable adsorption force or levitation force cannot be obtained. On the other hand, if the porosity exceeds 60%, voids increase, the strength deteriorates, and there is a risk of breakage.
  • the conductance ratio ⁇ is proportional to the square of the pore diameter d. Therefore, by setting the pore diameter d to a minute diameter of 0.5 to 10 ⁇ m, the conductance ratio ⁇ of the transport pad can be efficiently set to the optimum value.
  • the conductance ratio ⁇ is inversely proportional to the thickness t of the porous substrate. Therefore, the conductance ratio ⁇ of the transport pad can be reduced by setting the thickness t of the porous substrate to 2 to 20 mm.
  • the said structure of this invention WHEREIN:
  • the said side surface sealing does not need to be carried out for the said pad for conveyance.
  • the conventional transfer pad has been required to have side sealing.
  • the transfer pad according to the present invention satisfies the formula (a), so that the conductance ratio ⁇ of the transfer pad is small and the resistance to air flow is low. Because it is large, it is possible to reliably attract and fix the transported object placed on a part of the transport surface, or lift it and contact it without contact without sealing the side surface of the pad. . As a result, cost reduction and process omission are possible.
  • the porous substrate may include metal or ceramics, and the volume resistivity may be 10 10 ⁇ ⁇ m or less.
  • the transported object is separated from the transport pad by adsorbing and transporting the transported object using a transport pad containing metal or ceramics and having a volume resistivity of 10 10 ⁇ ⁇ m or less, It can be pulled away while floating.
  • the conveyance object placed on a part of the conveyance surface can be reliably adsorbed and fixed by the adsorption force or floating force of the conveyance pad, or can be lifted and contactlessly conveyed. Furthermore, when transporting using the suction force, when the transported object is pulled away from the transport pad, the transported object can be lifted and the electrostatic charge phenomenon can be prevented from occurring, and the transported object can be safely separated.
  • DELTA differential pressure
  • the transport apparatus 1 includes a transport pad 2 that adsorbs and holds a transported object W on the surface thereof, and a transport apparatus that forms a decompression chamber or a pressurization chamber 3 on the back side of the transport pad 2.
  • a main body 4 and a flow meter 6 for detecting a flow rate per unit time of a vacuum pump or a compressor 5 exhausting or supplying air from the decompression chamber or pressurization chamber 3 are provided.
  • the atmospheric pressure P1 and the internal pressure P2 are vertically measured at the opening of the pores covered by the transported object W.
  • the conveyed product W receives an adsorption force or a floating force F obtained by multiplying the sum of the opening areas of all pores covered by the conveyed product W by the differential pressure ⁇ P.
  • the transfer pad 2 is formed of, for example, a square porous ceramic substrate having a side of 60 cm.
  • pores having a diameter of 0.5 to 10 ⁇ m are formed in close contact with each other, and a porosity ⁇ is 20 to The transfer pad 2 is 60%.
  • the porosity ⁇ means that pores communicating with the back side are formed with equal density on the plane of the transport pad 2 and the pores that open within a unit area with respect to the unit area of the surface of the transport pad 2 The ratio of the total opening area.
  • a porous ceramic substrate can be formed with a diameter in the range of 0.5 to 10 ⁇ m and a porosity ⁇ in the range of 20 to 60%.
  • the transport pad 2 having the area ratio ⁇ and the conductance ratio ⁇ covering the surface of the porous substrate satisfying the formula (a) is selected, the transport pad 2 can be used regardless of the size of the transport object W. Even if the side surface is not sealed, the transport pad 1 having a suction force or a floating force equal to or higher than the gravity of the transported object can be reliably obtained.
  • FIG. 2 is a view showing a transfer pad according to the second embodiment of the present invention.
  • the conveyed product W is a polymer film
  • the shape of the conveyance pad 2 is a cylindrical shape.
  • a thin film is wound around the transport pad 2 and is adsorbed and fixed, rotated, lifted and released at an arbitrary angle, and transported. can do.
  • FIG. 3 is a diagram showing the relationship between the conductance ratio ⁇ and the differential pressure ⁇ P between the front and back surfaces of the porous substrate in the present invention. As shown in FIG. 3, the area ratio ⁇ of the conveyed product covering the surface of the porous substrate increases, and the differential pressure ⁇ P increases as the conductance ratio ⁇ decreases.
  • FIG. 4 is a diagram showing the relationship between the area ratio ⁇ of the conveyed product and the conductance ratio ⁇ when ⁇ P is 0.3 atm in the present invention. As shown in FIG. 4, the conductance ratio ⁇ increases as the area ratio ⁇ of the conveyed product covering the surface of the porous substrate increases.
  • FIG. 5 is a diagram showing the relationship between the area ratio ⁇ of the conveyed product and the conductance ratio ⁇ when ⁇ P is 0.1 to 0.5 atm in the present invention. As shown in FIG. 5, when the area ratio ⁇ of the conveyed product covering the surface of the porous substrate increases, the conductance ratio ⁇ increases as ⁇ P decreases.
  • FIG. 6 is a diagram showing the relationship between the area ratio ⁇ of the conveyed product and the differential pressure ⁇ P between the front and back surfaces of the conveyance pad when the conductance ratio ⁇ is 1 to 50 in the present invention. As shown in FIG. 6, the area ratio ⁇ of the conveyed product covering the surface of the porous substrate increases, and the differential pressure ⁇ P increases as the conductance ratio ⁇ decreases.
  • Table 1 shows the results of the transport pad 2 of the present invention shown in FIG.
  • Pad shape flat plate and cylindrical area ratio ⁇ : 0.0 to 0.656
  • Constant k 0.1491 to 44.48
  • Pore diameter d 0.5 to 50 ( ⁇ m)
  • Porosity ⁇ 25 to 60
  • Thickness t of porous substrate 2 to 10 (mm)
  • Pressure converted value PW of transported material 0.1 (atm)
  • Material of porous substrate Alumina / silica ceramic Volume resistivity of porous substrate: 10 3 to 10 7 ( ⁇ ⁇ m)
  • the conveyance pad 2 having the area ratio ⁇ and the conductance ratio ⁇ covering the surface of the porous substrate that satisfies the formula (a) of the present invention, the conveyance is reliably performed regardless of the size of the conveyance object W. It was possible to obtain a transfer apparatus 1 having an adsorption force or levitation force equal to or higher than the gravity of an object. Further, when the transported object is pulled away from the transport pad, the transported object can be lifted off and the electrostatic charging phenomenon can be prevented. From the above, the effect of the present invention was confirmed.
  • the present invention is suitable for holding workpieces of various sizes without changing the transport pad in a manufacturing apparatus such as a semiconductor, a liquid crystal, a printed wiring board or the like, or a work process of a printing machine. Further, in the removal process of the conveyed product, it is possible to prevent the electrostatic charging phenomenon and to remove it safely.

Abstract

搬送用パッドの吸着力もしくは浮上力により、搬送面の一部に載置される搬送物を確実に吸着して固定させ、もしくは浮上させて非接触搬送することができる搬送用パッドおよびそれを用いる搬送装置、搬送方法を提供する。 この搬送用パッド(2)は、多数の気孔によって連通する多孔性基板からなり、前記搬送用パッド(2)の背面側を減圧もしくは加圧することにより、該搬送用パッド(2)の表面側に載置される搬送物(W)を吸着もしくは浮上させ、前記搬送用パッド(2)の表面を覆う搬送物の面積率αと、コンダクタンス比βとの関係が特定の関係式を満足する。

Description

搬送用パッドおよびそれを用いる搬送装置、搬送方法
 本発明は、ウェハやポリマーフィルム等の搬送物を吸着して固定させ、もしくは浮上させて非接触搬送する搬送用パッドおよびそれを用いる搬送装置、搬送方法に関する。具体的には、搬送用パッドの背面側を真空ポンプで減圧もしくはコンプレッサーで加圧することにより、搬送面の一部が搬送物で覆われない場合であっても、多数の気孔を介して多孔性基板の表面上に載置される搬送物を吸着して固定させ、もしくは浮上させて非接触搬送できる搬送用パッドおよびそれを用いる搬送装置、搬送方法に関する。さらに、吸着して搬送した搬送物を吸着パッドから引き離す場合、コンプレッサーを作動させて浮上させる機構を有し、その際発生する静電気(剥離帯電)を防止する方法に関する。
 ウェハやポリマーフィルム等の搬送物を吸着して固定する搬送用パッドの表面に対して背面側を真空ポンプで減圧し、表面と背面に連通する気孔を介して作業対象の搬送物を吸引して保持する真空チャックでは、表面側の大気圧に対して背面側の内圧を真空に近い圧力に保つ必要がある。このような真空チャックは、搬送物が搬送面である表面全体を覆わないと、気孔の一部が表面に開口し、気孔を通して外気が流入し、表面側と背面側との差圧が充分にとれないので、所定の吸着力が得られない。
 従来の真空チャックとしては、表面側と背面側に連通する多数の気孔を小径として、気孔全体のコンダクタンスを低下させた真空チャックが知られている(例えば、特許文献1、特許文献2参照)。
 この従来の真空チャックによれば、一部の気孔が搬送物に覆われずに表面に開口しても、気孔を通して表面から背面側に流れる流量が制限され、表面側と背面側との差圧を一定に保つことができ、表面の一部に載置される搬送物であっても所定の吸着力で表面上に位置決め保持することができる。
実公昭43-16175号公報 特許第2693720号公報
 しかしながら、前記の真空チャックにあっては、単に多数の気孔を小径として真空チャックのコンダクタンスを低下させることに着目して内圧を一定に保つものであるが、搬送物を吸着する所定の吸着力は、コンダクタンスを低下させるだけでは得られない。すなわち、搬送物は、気孔の開口を覆う底面の鉛直方向で、搬送物の下方(表面から背面方向)に働く大気圧と上方(背面から表面方向)に働く内圧との差圧によって多孔性基板の表面側に吸着されるもので、その吸着力は、搬送物が覆う気孔の開口の総面積に差圧を乗じて得られる。
 したがって、単に真空チャック全体のコンダクタンスを低下させるために気孔を小径としたり、気孔密度を低下させたりするだけでは、搬送物が覆う気孔の開口の総面積も減少するので、真空チャックに求められる所定の吸着力が得られないという課題が残されていた。
 また、このように、真空チャックは外圧と内圧の差によって搬送物を吸着するものであるが、発明者等は、外圧と内圧を逆転させることにより搬送物を浮上させることが可能になることに気が付いた。従来の搬送用パッドは吸着と浮上の両方を可能とするものはなかった。
 さらに、真空チャックで搬送物を固定・離脱する際に発生する静電気を防止する必要がある。
 本発明は、このような従来の問題点を考慮してなされたものであり、搬送用パッドの吸着力もしくは浮上力により、搬送面の一部に載置される搬送物を確実に吸着して固定させ、もしくは浮上させて非接触搬送することができる搬送用パッドおよびそれを用いる搬送装置、搬送方法を提供し、更に搬送物を吸着して搬送する場合の静電気帯電現象によるトラブル解消を目的とする。
 上述の目的を達成するため、本発明の搬送用パッドは、搬送物を吸着して固定させ、もしくは浮上させて非接触搬送する搬送用パッドであって、
 多数の気孔によって連通する多孔性基板からなり、
 前記多孔性基板の背面側を減圧もしくは加圧することにより、該多孔性基板の表面側に載置される搬送物を吸着もしくは浮上させ、
 前記多孔性基板の表面を覆う搬送物の面積率αと、コンダクタンス比βとの関係が、下記(a)式を満足することを特徴とする。
(1-α)×β<[(|P1-P3|/PW)-1]   ・・・(a)
 ここに、
 α=S1/S0
 β=k×d×η/t
 k:定数
 d:気孔径
 η:気孔率
 t:多孔性基板の厚み
 S1:搬送物の面積(搬送物の多孔性基板への投影面積を云う、以下同じ。)
 S0:多孔性基板の面積(多孔性基板の投影面積を云う、以下同じ。)
 PW:搬送物の重量の圧力換算値
 P1:外圧
 P3:真空ポンプ圧もしくはコンプレッサー圧
 本発明においては、搬送用パッドである多孔性基板の表面を覆う搬送物の面積率αと、コンダクタンス比βとの関係が、(a)式を満足することにより、搬送用パッドの吸着力もしくは浮上力により、搬送面の一部に載置される搬送物を確実に吸着して固定させ、もしくは浮上させて非接触搬送することができる。
 (a)式において、1-α、は搬送用パッド表面の開口度合を示し、1-αが小さいほど吸着力もしくは浮上力が大きくなる。
 また、(a)式において、βは気孔を有する搬送用パッドの空気の流れ易さの指標であるコンダクタンスを示し、通常のセラミックスの場合、一般論としてβが小さいほど吸着力もしくは浮上力が大きくなるが、βがゼロでは、吸着も浮上も不可能なので、その近傍に最適値が存在する。
 この1-αとβとの積が、搬送物の重量の圧力換算値をPWとしたとき、[(|P1-P3|/PW)-1]より小さければ、搬送用パッドの吸着力もしくは浮上力により、搬送面の一部に載置される搬送物を確実に吸着して固定させ、もしくは浮上させて非接触搬送することができる。
 また、本発明の上記構成において、前記搬送用パッドの形状が、平板状、円筒状もしくはU字状であることが好ましい。
 前記搬送用パッドの形状が、平板状であれば搬送物がウェハのように厚みのある搬送物に適しており、また、円筒状もしくはU字状であれば搬送物がポリマーフィルムのようにロール状に巻かれている物に適している。
  また、本発明の上記構成において、前記気孔率η:20~60%、気孔径d:0.5~10μm、多孔性基板の厚みt:2~20mmであることが好ましい。
 本発明の搬送用パッドは、セラミック焼結により気孔率η:20~60%の多孔性基板とすることができ、気孔率が20%未満では、気孔の一部が閉塞し、表裏面が連通しない部分が生じるため、安定した吸着力もしくは浮上力が得られない。また、気孔率が60%を超えると、空隙が増加して強度が劣化し、破損のおそれがある。
 また、前記コンダクタンス比βは、気孔径dの2乗に比例する。したがって、気孔径dを0.5~10μmの微小径とすることにより、効率的に搬送用パッドのコンダクタンス比βを最適値にすることできる。
 さらに、前記コンダクタンス比βは、多孔性基板の厚みtに反比例する。したがって、多孔性基板の厚みtを2~20mmの厚さにすることにより、搬送用パッドのコンダクタンス比βを小さくすることできる。
 また、本発明の上記構成において、前記搬送用パッドは側面封止がされてなくてもよい。
 従来の搬送用パッドは、側面封止が必須であったが、本発明の搬送用パッドは、(a)式を満足することにより、搬送用パッドのコンダクタンス比βが小さく空気の流れの抵抗が大きいため、パッドの側面を密封する側面封止をしなくても、搬送面の一部に載置される搬送物を確実に吸着して固定させ、もしくは浮上させて非接触搬送することができる。その結果、コストダウンおよび工程省略が可能である。
 また、本発明の上記構成において、前記多孔性基板は金属またはセラミックスを含み、体積抵抗率が10の10乗Ω・m以下としてもよい。
 金属またはセラミックスを含み、体積抵抗率が10の10乗Ω・m以下である搬送用パッドを使用して搬送物を吸着し搬送することにより、搬送物を搬送用パッドから引き離すとき、搬送物を浮上させつつ引き離すことができる。
 また、このような搬送用パッドを使用することにより、搬送物を搬送用パッドから引き離すとき、静電気帯電現象を防止することができる。
 本発明によれば、搬送用パッドの吸着力もしくは浮上力により、搬送面の一部に載置される搬送物を確実に吸着して固定させ、もしくは浮上させて非接触搬送することができる。
 さらに、吸着力を利用し搬送する時、搬送物を搬送用パッドから引き離す時に、搬送物を浮上させつつ静電気帯電現象発生を防止して安全に搬送物を引き離すことができる。
本発明の第1の実施形態に係る搬送用パッドを示す概略構成図である。 本発明の第2の実施形態に係る搬送用パッドを示す斜視図である。 本発明におけるコンダクタンス比βと搬送用パッドの表裏面の差圧ΔPの関係を示す図である。 本発明における搬送物の面積率αとコンダクタンス比βの関係を示す図である。 本発明における搬送物の面積率αとコンダクタンス比βの関係を示す図である。 本発明における搬送物の面積率αと搬送用パッドの表裏面の差圧ΔPの関係を示す図である。
 以下、本発明の第1の実施形態に係る搬送用パッドを図1を用いて説明する。図1に示すように、搬送装置1は、搬送物Wを吸着してその表面に保持する搬送用パッド2と、搬送用パッド2の背面側に減圧室もしくは加圧室3を形成する搬送装置本体4と、減圧室もしくは加圧室3から排気もしくは給気する真空ポンプもしくはコンプレッサー5の単位時間あたりの流量を検出する流量計6を備えている。
 図1に示すように、内圧がP2となっている搬送用パッド2に、搬送物Wを載置すると、搬送物Wにより覆われた気孔の開口において、鉛直方向に大気圧P1と内圧P2との差圧ΔPを受けて吸着もしくは浮上され、搬送物Wは、搬送物Wにより覆われた全ての気孔の開口面積の総和に差圧ΔPを乗じた吸着力もしくは浮上力Fを受ける。
 搬送用パッド2は、例えば一辺が60cmの正方形状の多孔質セラミック基板で形成され、本実施の形態では、直径が0.5~10μmの気孔が密接して形成され、気孔率ηが20~60%の搬送用パッド2となっている。ここで、気孔率ηとは、背面側と連通する気孔が搬送用パッド2の平面に等密度で形成されているものとして、搬送用パッド2表面の単位面積に対する単位面積内に開口する気孔の総開口面積の比率をいう。セラミック焼結技術を用いれば、直径が0.5~10μmの範囲で、気孔率ηを20~60%の範囲で多孔質セラミック基板を形成することができる。
 このように構成された搬送装置1の減圧室もしくは加圧室3から真空ポンプ圧もしくはコンプレッサー圧P3の真空ポンプもしくはコンプレッサー5で減圧もしくは加圧したときの減圧室もしくは加圧室3内の圧力(以下、内圧という)をP2としたときの流量Qは、下記(b)式で表される。
 Q=C1×(P1-P2)=C2×(P2-P3)・・・(b)
 ここに、
 Q:流量
 C1:P1-P2間のコンダクタンス
 C2:P2-P3間のコンダクタンス
 P1:外圧
 P2:内圧
 P3:真空ポンプ圧もしくはコンプレッサー圧
 上記(b)式を変形すると下記(c)式となる。
 ΔP=(P1-P2)=(P1-P3)/(1+C1/C2)・・・(c)
 上記(c)式におけるC1が、多孔性基板の表面を覆う搬送物の面積率αを除いた部分のコンダクタンスγ×(1-α)に相当するので、これに置き代えると下記(d)式となる。ここで、γ/C2=β(コンダクタンス比)とする。
 ΔP=(P1-P2)=(P1-P3)/[1+β×(1-α)]・・・(d)
 ここに、
 β=k×d×η/t
 k:定数
 d:気孔直径
 η:気孔率
 t:多孔性基板の厚み
 ここで、外圧P1と内圧P2の差をΔPとすると下記(e)式を得る。
 ΔP=(P1-P3)/[1+β(1-α)]・・・(e)
 ここで、搬送物を逆さにしても落下しないように吸着し、もしくは逆さでない場合に浮上させることから、差圧ΔPが搬送物の重量の圧力換算値PWより大きいことが必要である。
 ここに、
 PW=(W/S1)
 PW:搬送物の重量の圧力換算値
 W:搬送物の重量
 S1:搬送物の面積
 したがって、下記(f)式を得る。
 ΔP=(P1-P3)/[1+β(1-α)]>PW・・・(f)(吸着の場合)
 ΔP=(P3-P1)/[1+β(1-α)]>PW・・・(g)(浮上の場合)
 この(f)(g)式を変形することにより、下記(h)(i)式を得る。
 β×(1-α)<[((P1-P3)/PW)-1]・・・(h)
 β×(1-α)<[((P3-P1)/PW)-1]・・・(i)
 これより本発明の条件である(a)を得る。
 β×(1-α)<[(|P1-P3|/PW)-1]・・・(a)
 この(a)式を満たす多孔性基板の表面を覆う搬送物の面積率αと、コンダクタンス比βの搬送用パッド2を選定すれば、搬送物Wの大きさにかかわらず、搬送用パッド2の側面を封止しなくても、確実に搬送物の重力相当以上の吸着力もしくは浮上力を有する搬送用パッド1とすることができる。
 図2は、本発明の第2の実施形態に係る搬送用パッドを示す図である。
 この実施形態では、搬送物Wをポリマーフィルムとし、搬送用パッド2の形状は円筒形である。
 図2に示すように、搬送用パッド2の形状を円筒形にすることにより、薄いフィルムを搬送用パッド2に巻きつけて吸着させて固定、回転させ、任意の角度の位置で浮上解放させ搬送することができる。
 図3は、本発明におけるコンダクタンス比βと多孔性基板の表裏面の差圧ΔPの関係を示す図である。
 図3に示すように、多孔性基板の表面を覆う搬送物の面積率αが大きくなり、コンダクタンス比βが小さくなるほど差圧ΔPが大きくなる。
 図4は、本発明におけるΔPが0.3atmの場合の搬送物の面積率αとコンダクタンス比βの関係を示す図である。
 図4に示すように、多孔性基板の表面を覆う搬送物の面積率αが大きくなるほどコンダクタンス比βが大きくなる。
 図5は、本発明におけるΔPが0.1~0.5atmの場合の搬送物の面積率αとコンダクタンス比βの関係を示す図である。
 図5に示すように、多孔性基板の表面を覆う搬送物の面積率αが大きくなる時、ΔPが小さくなるほどコンダクタンス比βが大きくなる。
 図6は、本発明におけるコンダクタンス比βが1~50の場合の搬送物の面積率αと搬送用パッドの表裏面の差圧ΔPの関係を示す図である。
 図6に示すように、多孔性基板の表面を覆う搬送物の面積率αが大きくなり、コンダクタンス比βが小さくなるほど差圧ΔPが大きくなる。
 図1に示す本発明の搬送用パッド2について下記の条件で実施した結果を表1に示す。この表1の判定欄は、吸着もしくは浮上が良好な場合を○、不良な場合を×とした。
<実施条件>
 パッド形状:平板状および円筒状
 面積率α:0.0~0.656(-)
 コンダクタンス比β:0.83~16680(-)
 定数k: 0.1491~44.48
 気孔直径d:0.5~50(μm)

 気孔率η: 25~60(-)
 多孔性基板の厚みt:2~10(mm)
 搬送物の面積S1:S0×α(mm
 多孔性基板の面積S0:400(20mm×20mm)(mm
 搬送物の重量の圧力換算値PW:0.1(atm)
 多孔性基板の材質:アルミナ・シリカ系セラミックス
 多孔性基板の体積抵抗率:10~10(Ω・m)
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 本発明の(a)式を満たす多孔性基板の表面を覆う搬送物の面積率αと、コンダクタンス比βの搬送用パッド2を選定すれば、搬送物Wの大きさにかかわらず、確実に搬送物の重力相当以上の吸着力もしくは浮上力を有する搬送装置1とすることができた。
 また、搬送物を搬送用パッドから引き離すとき、搬送物を浮上させつつ引き離すことができ、静電気帯電現象を防止することができた。
 以上により、本発明の効果が確認された。
 本発明は、半導体、液晶、プリント配線基板などの製造装置や、印刷機の作業工程などで、種々の大きさのワークを搬送用パッドを変更せずに保持する場合に適している。また、搬送物の取り外し工程において、静電気帯電現象を防止し安全に取り外し可能となる。
2 搬送用パッド
W  搬送物の重量
PW 搬送物の重量の圧力換算値
α 面積率
β コンダクタンス比
P1 外圧
P2 内圧
P3 真空ポンプ圧もしくはコンプレッサー圧

Claims (8)

  1.  搬送物を吸着して固定させ、もしくは浮上させて非接触搬送する搬送用パッドであって、
     多数の気孔によって連通する多孔性基板からなり、
     前記多孔性基板の背面側を減圧もしくは加圧することにより、該多孔性基板の表面側に載置される搬送物を吸着もしくは浮上させ、
     前記多孔性基板の表面を覆う搬送物の面積率αと、コンダクタンス比βとの関係が、下記(a)式を満足することを特徴とする搬送用パッド。
     (1-α)×β<[(|P1-P3|/PW)-1]・・・(a)
     ここに、
     α=S1/S0
     β=k×d×η/t
     k:定数
     d:気孔径
     η:気孔率
     t:多孔性基板の厚み
     S1:搬送物の面積
     S0:多孔性基板の面積
     P1:外圧
     P3:真空ポンプ圧もしくはコンプレッサー圧
     PW:搬送物の重量の圧力換算値
  2.  前記多孔性基板の形状が、平板状、円筒状もしくはU字状であることを特徴とする請求項1に記載の搬送用パッド。
  3.  前記気孔率η:20~60%、気孔径d:0.5~10μm、多孔性基板の厚みt:2~20mmであることを特徴とする請求項1または2に記載の搬送用パッド。
  4.  前記搬送用パッドは側面封止がされていないことを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の搬送用パッド。
  5. 前記多孔性基板は金属またはセラミックスを含み、体積抵抗率が10の10乗Ω・m以下であることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の搬送用パッド。
  6.  請求項1から5のいずれか1項に記載の搬送用パッドを有することを特徴とする搬送装置。
  7.  請求項5に記載の搬送用パッドを使用して搬送物を吸着し搬送する搬送方法であって、搬送物を搬送用パッドから引き離すとき、搬送物を浮上させつつ引き離すことを特徴とする搬送方法。
  8.  請求項5に記載の搬送用パッドを使用する搬送方法であって、搬送物を搬送用パッドから引き離すとき、静電気帯電現象を防止することを特徴とする搬送方法。
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CN201680082024.3A CN108883536A (zh) 2016-03-08 2016-03-08 传送垫以及使用该传送垫的传送装置和传送方法
US16/081,288 US20190084778A1 (en) 2016-03-08 2016-03-08 Conveying pad, conveying apparatus using the conveying pad, and conveying method
EP16893417.2A EP3427907A1 (en) 2016-03-08 2016-03-08 Conveyance pad, and conveyance device and conveyance method using same
JP2018503878A JPWO2017154085A1 (ja) 2016-03-08 2016-03-08 搬送用パッドおよびそれを用いる搬送装置、搬送方法
KR1020187025882A KR20180121907A (ko) 2016-03-08 2016-03-08 반송용 패드 및 그것을 이용하는 반송 장치, 반송 방법

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020189295A (ja) * 2014-04-30 2020-11-26 カティーバ, インコーポレイテッド 基板コーティングのためのガスクッション装置および技法
JP2021041473A (ja) * 2019-09-09 2021-03-18 株式会社ディスコ チャックテーブル及びチャックテーブルの製造方法
US11230757B2 (en) 2008-06-13 2022-01-25 Kateeva, Inc. Method and apparatus for load-locked printing
US11489119B2 (en) 2014-01-21 2022-11-01 Kateeva, Inc. Apparatus and techniques for electronic device encapsulation
US11633968B2 (en) 2008-06-13 2023-04-25 Kateeva, Inc. Low-particle gas enclosure systems and methods
US11975546B2 (en) 2008-06-13 2024-05-07 Kateeva, Inc. Gas enclosure assembly and system

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109879051A (zh) * 2019-04-22 2019-06-14 零八一电子集团四川天源机械有限公司 Led灯带吸附装置

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6332849U (ja) * 1986-08-15 1988-03-03
JP2693720B2 (ja) * 1994-05-25 1997-12-24 シーケーディ株式会社 真空チャックにおける被吸着物の吸着方法
JP2001353788A (ja) * 2000-06-12 2001-12-25 Asahi Kasei Corp 吸引用シート及びそれを用いた装置
JP2010099826A (ja) * 2008-09-29 2010-05-06 Nitto Denko Corp 吸着用シート
JP2011014783A (ja) * 2009-07-03 2011-01-20 Disco Abrasive Syst Ltd 切削装置のチャックテーブル
JP2011114253A (ja) * 2009-11-30 2011-06-09 Nanotemu:Kk 真空チャック
JP2014200888A (ja) * 2013-04-05 2014-10-27 ローム株式会社 吸引保持装置およびウエハ研磨装置

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04267540A (ja) * 1991-02-22 1992-09-24 Shibayama Kikai Kk チャック機構における半導体ウエハの取外し方法
US5600530A (en) * 1992-08-04 1997-02-04 The Morgan Crucible Company Plc Electrostatic chuck
US5803797A (en) * 1996-11-26 1998-09-08 Micron Technology, Inc. Method and apparatus to hold intergrated circuit chips onto a chuck and to simultaneously remove multiple intergrated circuit chips from a cutting chuck
JP2004059295A (ja) * 2002-07-31 2004-02-26 Mitsubishi Materials Corp 吸着パッド、吸引治具及び多孔質焼結体
JP2006032661A (ja) * 2004-07-16 2006-02-02 Disco Abrasive Syst Ltd 切削装置
JP4722587B2 (ja) * 2005-06-30 2011-07-13 シーケーディ株式会社 多孔質ユニット
JP4746579B2 (ja) * 2007-03-29 2011-08-10 シャープ株式会社 低負荷搬送装置
JP5362285B2 (ja) * 2007-08-07 2013-12-11 日本タングステン株式会社 吸着ロール
JP5143607B2 (ja) * 2008-03-28 2013-02-13 太平洋セメント株式会社 真空吸着装置
JP2011009423A (ja) * 2009-06-25 2011-01-13 Disco Abrasive Syst Ltd 保持テーブルアセンブリ及び保持テーブルの製造方法
JP5402542B2 (ja) * 2009-11-06 2014-01-29 村田機械株式会社 非接触保持装置及び移載装置
US20130140838A1 (en) * 2009-12-15 2013-06-06 Solexel, Inc. Mobile vacuum carriers for thin wafer processing
JP5733700B2 (ja) * 2011-02-28 2015-06-10 株式会社ナノテム 真空チャック
JP6076063B2 (ja) * 2012-12-11 2017-02-08 株式会社ディスコ 加工装置
JP5811513B2 (ja) * 2014-03-27 2015-11-11 Toto株式会社 静電チャック
US9346641B2 (en) * 2014-07-30 2016-05-24 Xerox Corporation Systems and methods for implementing advanced vacuum belt transport systems
JP2016103626A (ja) * 2014-11-13 2016-06-02 株式会社ナノテム 搬送用パッドおよびそれを用いる搬送装置、搬送方法
EP3403954A4 (en) * 2016-01-15 2019-08-14 Nano-Tem Co., Ltd. CONTACTLESS CARRIER DEVICE AND CONTACTLESS CARRIER SYSTEM
CN108249159B (zh) * 2016-12-28 2020-02-14 芝浦机械电子株式会社 浮起搬运装置以及基板处理装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6332849U (ja) * 1986-08-15 1988-03-03
JP2693720B2 (ja) * 1994-05-25 1997-12-24 シーケーディ株式会社 真空チャックにおける被吸着物の吸着方法
JP2001353788A (ja) * 2000-06-12 2001-12-25 Asahi Kasei Corp 吸引用シート及びそれを用いた装置
JP2010099826A (ja) * 2008-09-29 2010-05-06 Nitto Denko Corp 吸着用シート
JP2011014783A (ja) * 2009-07-03 2011-01-20 Disco Abrasive Syst Ltd 切削装置のチャックテーブル
JP2011114253A (ja) * 2009-11-30 2011-06-09 Nanotemu:Kk 真空チャック
JP2014200888A (ja) * 2013-04-05 2014-10-27 ローム株式会社 吸引保持装置およびウエハ研磨装置

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11230757B2 (en) 2008-06-13 2022-01-25 Kateeva, Inc. Method and apparatus for load-locked printing
US11633968B2 (en) 2008-06-13 2023-04-25 Kateeva, Inc. Low-particle gas enclosure systems and methods
US11802331B2 (en) 2008-06-13 2023-10-31 Kateeva, Inc. Method and apparatus for load-locked printing
US11926902B2 (en) 2008-06-13 2024-03-12 Kateeva, Inc. Method and apparatus for load-locked printing
US11975546B2 (en) 2008-06-13 2024-05-07 Kateeva, Inc. Gas enclosure assembly and system
US11489119B2 (en) 2014-01-21 2022-11-01 Kateeva, Inc. Apparatus and techniques for electronic device encapsulation
JP2020189295A (ja) * 2014-04-30 2020-11-26 カティーバ, インコーポレイテッド 基板コーティングのためのガスクッション装置および技法
US11338319B2 (en) 2014-04-30 2022-05-24 Kateeva, Inc. Gas cushion apparatus and techniques for substrate coating
JP7341493B2 (ja) 2014-04-30 2023-09-11 カティーバ, インコーポレイテッド 基板コーティングのためのガスクッション装置および技法
JP2021041473A (ja) * 2019-09-09 2021-03-18 株式会社ディスコ チャックテーブル及びチャックテーブルの製造方法
JP7350438B2 (ja) 2019-09-09 2023-09-26 株式会社ディスコ チャックテーブル及びチャックテーブルの製造方法

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