WO2017119180A1 - 電子線照射装置及び電子線照射方法 - Google Patents

電子線照射装置及び電子線照射方法 Download PDF

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WO2017119180A1
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electron beam
unit
focusing
end side
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達也 松村
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浜松ホトニクス株式会社
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Definitions

  • One aspect of the present invention relates to an electron beam irradiation apparatus and an electron beam irradiation method.
  • an electron beam generating part that generates an electron beam
  • a casing part that constitutes a vacuum space that houses the electron beam generating part
  • an electron beam guide part that is connected to the casing part at one end side and communicated with the vacuum space
  • Patent Document 1 includes an electron beam guide portion (nozzle) made of a long cylindrical member, and the tip side of the electron beam guide portion is placed in the bottle via the mouth portion (opening portion) of the bottle.
  • An electron beam irradiator configured to be insertable is described.
  • the electron beam generation unit is configured so that the generated electron beam is emitted from the electron beam emission window through the electron beam guide unit configured to be insertable into the bottle. , Formed, dimensioned and positioned in a vacuum space.
  • the trajectory of the electron beam from the electron beam generation unit to the electron beam emission window is the electron beam emission state from the electron beam generation unit and the positional relationship between the electron beam generation unit and the electron beam emission window.
  • the trajectory of the electron beam is easily affected by the assembly accuracy and fixing accuracy of the electron beam generator, and if there is a problem with these accuracy, there is a possibility that the trajectory will deviate from the intended trajectory.
  • an electron beam guide portion which is a long cylindrical member that can be inserted into a bottle
  • a narrow and long space travels.
  • the light enters the inner wall of the electron beam guide portion before reaching the electron beam exit window. Therefore, there is a high possibility that a problem that the electron dose reaching the electron beam exit window is greatly reduced occurs. That is, if such an electron beam generator is used to stably emit an electron beam from the electron beam exit window, high accuracy is inevitably required for processing, assembly, and arrangement of the electron beam generator. . Therefore, it may be difficult to stably emit the electron beam from the electron beam emission window on the tip side of the electron beam guide portion.
  • One aspect of the present invention is an electron beam irradiation apparatus including an electron beam guide unit having a long cylindrical member that can be inserted into the container from the mouth of the container, and an electron beam using the electron beam irradiation apparatus.
  • it is an object to stably emit an electron beam from the electron beam emission window on the tip side of the electron beam guide portion.
  • An electron beam irradiation apparatus includes an electron beam generating unit that generates an electron beam, a casing unit that forms a vacuum space that houses the electron beam generating unit, and a base end side connected to the casing unit.
  • an electron beam generating unit that generates an electron beam
  • a casing unit that forms a vacuum space that houses the electron beam generating unit
  • a base end side connected to the casing unit.
  • a long cylindrical member that can be inserted into the container through the mouth of the container is provided on the tip side, and the electron beam generated by the electron beam generator passes through the interior.
  • the part is arranged on the base end side of the electron beam guide part outside the vacuum space.
  • the electron beam guide part is provided with a long cylindrical member that can be inserted into the container through the mouth part of the container on the tip side.
  • the adjustment part is arrange
  • an electron beam irradiation apparatus including an electron beam guide unit having a long cylindrical member that can be inserted into the container from the mouth of the container, the electron beam is stably emitted from the tip side of the electron beam guide unit. An electron beam can be emitted from the window.
  • the adjustment unit may be an electromagnetic coil.
  • the adjustment unit since the orbit of the electron beam in the electron beam guide part can be finely adjusted by the adjustment part, it is possible to emit the electron beam more stably from the electron beam emission window on the tip side of the electron beam guide part.
  • the electron beam irradiation apparatus may further include a focusing unit that is disposed outside the vacuum space and controls focusing of the electron beam in the electron beam guide unit. In this case, it is possible to reliably control the focusing of the electron beam in the electron beam guide unit by the focusing unit, and to emit the electron beam from the electron beam exit window on the tip side of the electron beam guide unit more stably.
  • the focusing unit may be an electromagnetic coil.
  • the electron beam can be emitted more stably from the electron beam exit window on the tip side of the electron beam guide unit.
  • the focusing unit may focus the electron beam so that a focusing point is not formed inside the electron beam guide unit. If an electron beam converging point exists inside the electron beam guide part, for example, the converging point is located on the electron beam emission window due to the influence of discharge or the like, and the electron beam emission window is damaged due to the concentration of the electron beam. There is concern about the possibility. On the other hand, since the electron beam is focused by the focusing unit so that the focusing point is not formed inside the electron beam guide unit, the possibility of damaging the electron beam exit window can be reduced. An electron beam can be emitted from the electron beam emission window on the distal end side of the guide portion.
  • the adjustment unit may be disposed closer to the base end side of the electron beam guide unit than the focusing unit.
  • the electron beam traveling toward the electron beam exit window through the electron beam guide unit is controlled by the focusing unit after the trajectory is adjusted by the adjusting unit. Therefore, even when the deviation of the electron beam trajectory from the electron beam generator is large, the trajectory can be adjusted so that the focusing of the electron beam can be reliably controlled by the converging unit. An electron beam can be emitted from the electron beam emission window on the tip side of the part.
  • the converging unit may be disposed closer to the proximal end side of the electron beam guide unit than the adjustment unit.
  • the electron beam traveling inside the electron beam guide unit toward the electron beam exit window is subjected to focusing control by the focusing unit and then adjusted by the adjusting unit. Therefore, even when the divergence of the electron beam from the electron beam generating unit is large, the trajectory of the electron beam is adjusted after being focused in advance, and therefore the trajectory of the electron beam can be easily adjusted by the adjusting unit.
  • An electron beam can be emitted more stably from the electron beam emission window on the tip side of the electron beam guide portion.
  • the electron beam generation unit is configured such that the electron dose of the electron beam emitted from the electron beam emission window on the tip side of the electron beam guide unit does not include the adjustment unit. Further, it may be configured to decrease as compared with the case where the adjusting unit is provided. In this configuration, when the adjustment unit is not provided, the adjustment unit can sufficiently adjust the trajectory of the electron beam even in a state where the electron beam emitted from the electron beam emission window is small. An electron dose can be obtained.
  • An electron beam irradiation apparatus includes an electron beam generating unit that generates an electron beam, a casing unit that forms a vacuum space that houses the electron beam generating unit, and a base end side connected to the casing unit.
  • an electron beam generating unit that generates an electron beam
  • a casing unit that forms a vacuum space that houses the electron beam generating unit
  • a base end side connected to the casing unit.
  • a long cylindrical member that can be inserted into the container through the mouth of the container is provided on the tip side, and the electron beam generated by the electron beam generator passes through the interior.
  • a focusing unit that controls focusing of the electron beam in the electron beam guide unit, and a control unit that controls the focusing unit, and the adjustment unit is located outside the vacuum space on the proximal end side of the electron beam guide unit.
  • the focusing unit is an electromagnetic coil, and the flowing current flows to the control unit As a result, the spread of the electron beam is suppressed and the irradiation range of the electron beam on the electron beam emission window is kept constant while focusing the electron beam so that a focusing point is not formed inside the electron beam guide part. Focus control is performed.
  • An electron beam irradiation method is a method of irradiating an inner surface of a container with an electron beam using an electron beam irradiation apparatus, and the electron beam irradiation apparatus includes an electron beam generator that generates an electron beam;
  • the housing portion constituting the vacuum space for accommodating the electron beam generating portion, the base end side is connected to the housing portion and communicates with the vacuum space, and the distal end side is placed in the container via the mouth portion of the container.
  • An elongate cylindrical member that can be inserted is provided, and an electron beam guide portion through which the electron beam generated by the electron beam generating portion passes, and provided on the tip side of the cylindrical member of the electron beam guide portion, An electron beam exit window that emits a line; an adjustment unit that is arranged on the base end side of the electron beam guide part outside the vacuum space; and that adjusts the trajectory of the electron beam in the electron beam guide part; and an electron beam in the electron beam guide part A focusing section for controlling the focusing of the electron beam generating section.
  • the electron beam is generated from the electron beam guide portion, and the electron beam is allowed to pass through the electron beam guide window by adjusting the trajectory of the electron beam passing through the electron beam guide portion by the adjusting portion while passing the electron beam inside the electron beam guide portion.
  • the adjusting unit adjusts the orbit of the electron beam so as to coincide with the central axis of the cylindrical member, and the focusing unit adjusts the inside of the electron beam guide unit. To prevent the formation of a focusing point, Focusing the line.
  • an electron beam irradiation apparatus including an electron beam guide unit including a long cylindrical member that can be inserted into the container from the mouth of the container and the electron beam irradiation apparatus are used.
  • the electron beam can be stably emitted from the electron beam emission window on the tip side of the electron beam guide portion.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing an electron beam irradiation apparatus according to the first embodiment.
  • FIG. 2 is another cross-sectional view showing the electron beam irradiation apparatus of FIG.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view showing an electron beam irradiation apparatus according to the second embodiment.
  • FIG. 4A is a cross-sectional view showing an electron beam irradiation apparatus according to a modification.
  • FIG. 4B is a cross-sectional view showing an electron beam irradiation apparatus according to another modification.
  • FIG. 1 is a longitudinal sectional view of an electron beam irradiation apparatus according to the first embodiment.
  • the electron beam irradiation apparatus 1a according to the first embodiment shown in FIG. 1 is used to dry, sterilize, or modify the surface of an irradiation object by irradiating the irradiation object with an electron beam EB.
  • the electron beam emission side (electron beam emission window 11 side), which is the side irradiated with the electron beam EB by the electron beam irradiation apparatus 1a, will be described as the front side.
  • the electron beam irradiation apparatus 1 a includes an electron gun 2, a vacuum container 3, a guide unit 10, an electron beam exit window 11, a control unit 12, an adjustment electromagnetic coil 13, and a focusing electromagnetic coil 14. .
  • the electron gun 2 is an electron beam generator that generates an electron beam EB that is a low energy electron beam.
  • the electron gun 2 includes a case 4, an insulating block 5, a connector 6, a filament 7, a grid portion 8, internal wirings 9 a and 9 b, and a conductive member 16.
  • Case 4 is made of a conductive material such as metal. Case 4 accommodates insulating block 5.
  • the case 4 has an opening 4a connected to a vacuum space Z (described later) inside the vacuum vessel 3, and an opening 4b connected to the outside of the electron beam irradiation apparatus 1a.
  • the opening 4a is a circular opening through which the internal wirings 9a and 9b are passed.
  • the opening 4 b is a circular opening for attaching the connector 6.
  • the insulating block 5 is formed of an insulating material (for example, an insulating resin such as an epoxy resin or a ceramic).
  • the insulating block 5 insulates the internal wirings 9a and 9b of the electron gun 2 from other parts (for example, the case 4).
  • the insulating block 5 has a base part 5a and a convex part 5b protruding from the base part 5a.
  • the base 5 a is accommodated in the case 4 so as to occupy most of the case 4.
  • the convex portion 5 b protrudes from the base portion 5 a through the opening 4 a to the front side and is exposed from the case 4.
  • the connector 6 is a high withstand voltage type connector (receptacle) for receiving supply of power supply voltage from the outside of the electron beam irradiation apparatus 1a.
  • the connector 6 is attached to the side surface of the case 4.
  • the connector 6 is disposed in the opening 4 b so as to penetrate the side wall of the case 4.
  • a portion 6 a located inside the case 4 in the connector 6 is embedded and fixed in the base portion 5 a of the insulating block 5.
  • the connector 6 firmly fixes the insulating block 5 and the case 4.
  • the connector 6 is inserted with a power plug holding the tip of an external wiring extending from a power supply device (not shown).
  • the high voltage required in the insulating block 5 is accommodated in the insulating block 5 by accommodating a high voltage generating unit including a booster circuit in the insulating block 5 instead of receiving a high voltage required from the external power source via the connector 6. May be generated.
  • the filament 7 is an electron emission member for emitting electrons that become the electron beam EB.
  • the filament 7 is made of a material whose main component is tungsten.
  • the filament 7 is disposed on the front side of the convex portion 5b of the insulating block 5 (in the present embodiment, near the tip of the convex portion 5b). Both ends of the filament 7 are connected to internal wirings 9 a and 9 b extending from the connector 6 to the filament 7, respectively. Therefore, when the power plug is inserted into the connector 6, both ends of the filament 7 are electrically connected to the power supply device via the external wiring.
  • the filament 7 is heated to about 2500 ° C.
  • the filament 7 is covered with a grid portion 8 that draws electrons and forms an electric field for suppressing diffusion.
  • a predetermined voltage is applied to the grid portion 8 via a wiring (not shown). Accordingly, the electrons emitted from the filament 7 are emitted as an electron beam EB from a hole formed in a part of the grid portion 8.
  • the internal wirings 9a and 9b are high voltage portions to which a high voltage is applied from the power supply device.
  • the internal wirings 9 a and 9 b are embedded in the insulating block 5 to ensure insulation from the case 4.
  • the conductive member 16 is a conductive member that covers the surface of the insulating block 5 that has a gap with the case 4.
  • a thin member such as a conductive film or a conductive tape is used.
  • the conductive member 16 is affixed to the insulating block 5 so as to completely cover a portion of the insulating block 5 that is not in close contact with the case 4.
  • the conductive member 16 may be a conductive paint or a conductive film.
  • the vacuum vessel 3 is a housing part that constitutes a vacuum space Z in which the electron gun 2 is accommodated.
  • the vacuum vessel 3 is made of a conductive material such as metal.
  • the vacuum vessel 3 is formed in a cylindrical shape extending along the emission direction of the electron beam EB.
  • the vacuum vessel 3 accommodates the filament 7 of the electron gun 2, the grid portion 8, and the convex portion 5 b of the insulating block 5 and hermetically seals them.
  • a passage hole 3 b is formed in a portion of the vacuum container 3 facing the front side of the electron gun 2.
  • the passage hole 3b is a circular through hole through which the electron beam EB generated by the electron gun 2 passes.
  • the passage hole 3 b communicates with the inside of the guide portion 10.
  • a vacuum pump 50 is connected to the vacuum vessel 3 through an exhaust passage 3d. With the vacuum pump 50, the inside of the vacuum vessel 3 can be easily evacuated.
  • the guide unit 10 is an electron beam guide unit that guides the electron beam EB generated by the electron gun 2.
  • the inside of the guide portion 10 is hollow, and the internal space constitutes a space through which the electron beam EB generated by the electron gun 2 passes.
  • the guide portion 10 has a cylindrical shape having a uniform inner diameter over its entire length.
  • the guide part 10 includes a base end part 10a and a rod part 10b.
  • the proximal end portion 10 a is connected to the vacuum vessel 3 on the proximal end side of the guide portion 10.
  • the base end portion 10 a allows the internal space of the guide portion 10 to communicate with the vacuum space Z.
  • the rod portion 10b is configured to be inserted into the bottle B through the mouth portion Ba of the bottle B as a container, as will be described later, on the distal end side of the guide portion 10.
  • the rod portion 10 b is a long cylindrical member (here, an elongated cylindrical member) whose outer diameter is smaller than that of the vacuum vessel 3.
  • the base end portion 10 a is fixed so that the internal space of the guide portion 10 is continuous with the passage hole 3 b of the vacuum vessel 3.
  • the rod portion 10b communicates with the base end portion 10a.
  • the rod portion 10 b extends so as to be separated from the vacuum container 3 along the emission direction of the electron beam EB of the electron gun 2.
  • the base end portion 10 a and the rod portion 10 b are integrally configured as a long cylindrical member whose outer diameter is smaller than that of the vacuum vessel 3.
  • the electron beam emission window 11 transmits the electron beam EB that has passed through the inside of the guide portion 10 and emits the electron beam EB toward the outside.
  • the electron beam exit window 11 is provided on the distal end side of the guide portion 10. Specifically, the electron beam emission window 11 is provided so as to vacuum-seal the opening at the tip, which is the front end of the rod portion 10b (the end opposite to the electron gun 2 side).
  • the electron beam exit window 11 is a thin film member.
  • the electron beam exit window 11 is made of a material that transmits the electron beam EB (for example, beryllium, titanium, aluminum, or the like).
  • the electron beam exit window 11 is formed with a thickness of, for example, 15 ⁇ m or less.
  • the electron beam emission window 11 is formed to a thickness of several ⁇ m to 10 ⁇ m.
  • the electron beam emission window 11 is brazed to the rod portion 10 b using a brazing material at the tip of the guide portion 10. Thereby, the electron beam emission window 11 is airtightly joined so that the opening of the front-end
  • the electron beam emission window 11 may be joined by welding, for example, or may be held by a window frame portion having an airtight holding structure so that the thin film member can be replaced.
  • the control unit 12 includes, for example, one or more computer devices having a processor and a storage device (memory or the like).
  • the control unit 12 operates according to a program stored in the storage device, and controls each unit of the electron beam irradiation apparatus 1a.
  • the adjusting electromagnetic coil 13 is an adjusting unit that adjusts the trajectory of the electron beam EB in the guide unit 10.
  • the adjustment electromagnetic coil 13 functions as an electromagnetic lens.
  • the adjusting electromagnetic coil 13 finely adjusts the trajectory (exit axis) by deflecting the traveling direction of the electron beam EB so that the electron beam EB passing inside the guide unit 10 reaches the electron beam exit window 11. .
  • the adjustment electromagnetic coil 13 finely adjusts so that the emission axis of the electron beam EB approximately matches the central axis of the guide portion 10 (particularly the rod portion 10b).
  • the adjustment electromagnetic coil 13 is connected to the control unit 12, and the current flowing by the control unit 12 is controlled. Thereby, fine adjustment of the trajectory of the electron beam EB is realized.
  • the adjusting electromagnetic coil 13 is disposed outside the vacuum space Z on the proximal end side (vacuum vessel 3 side) of the guide portion 10. More specifically, the adjustment electromagnetic coil 13 is annularly disposed so as to surround the base end portion 10 a at a position on the base end side of the base end portion 10 a of the guide portion 10 close to the vacuum vessel 3. .
  • the adjustment electromagnetic coil 13 is covered with the holding member 22 and the position thereof is held.
  • the holding member 22 is fixed to the front side of the vacuum container 3.
  • the holding member 22 covers the base end portion 10a that is a part of the guide portion 10 on the base end side (region extending from the base end to the tip end side by a certain distance).
  • the portion of the guide portion 10 that is covered with the holding member 22 is the base end portion 10a.
  • the focusing electromagnetic coil 14 is a focusing unit that controls focusing of the electron beam EB in the guide unit 10.
  • the focusing electromagnetic coil 14 functions as an electromagnetic lens.
  • the focusing electromagnetic coil 14 focuses the passing electron beam EB inside the guide portion 10 (particularly the rod portion 10b) so that a focusing point is not formed.
  • the focusing electromagnetic coil 14 suppresses the spread of the electron beam EB traveling so as to spread along the emission axis, and performs focusing control so that the irradiation range of the electron beam EB on the electron beam emission window 11 is constant.
  • the focusing electromagnetic coil 14 is connected to the control unit 12, and the current flowing by the control unit 12 is controlled. Thereby, fine adjustment of the focusing control of the electron beam EB is realized.
  • the focusing electromagnetic coil 14 is arranged outside the vacuum space Z on the front end side (on the electron beam emission window 11 side, opposite to the vacuum container 3 side) of the guide portion 10 which is the front side of the adjustment electromagnetic coil 13. Yes.
  • the adjustment electromagnetic coil 13 is disposed closer to the proximal end side (electron gun 2 side) of the guide portion 10 than the focusing electromagnetic coil 14.
  • the focusing electromagnetic coil 14 has a proximal end portion 10a at a position adjacent to the front side (the distal end side of the guide portion 10) of the adjustment electromagnetic coil 13 in the proximal end portion 10a of the guide portion 10. Is arranged in an annular shape so as to surround.
  • the adjustment electromagnetic coil 13 and the focusing electromagnetic coil 14 are arranged in this order along the emission direction of the electron beam EB.
  • the focusing electromagnetic coil 14 is covered by the holding member 22 and covered.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view showing a use state of the electron beam irradiation apparatus of FIG.
  • the rod portion 10 b that is the distal end side of the guide portion 10 is configured to be insertable into the bottle B through the mouth portion Ba of the bottle B that is a container.
  • a portion of the guide portion 10 that protrudes from the holding member 22 and that can be inserted into the bottle B via the mouth portion Ba of the bottle B is the rod portion 10b.
  • the bottle B is a container provided with a mouth Ba that is an opening continuous with the neck Bn.
  • the inner diameter of the mouth portion Ba is smaller than the outer diameter of the vacuum vessel 3 and larger than the outer diameter of the rod portion 10b. That is, the rod portion 10b has an outer diameter that can be inserted into the mouth portion Ba of the bottle B along the axial direction of the bottle B.
  • the outer diameter of the rod portion 10b is about ⁇ 18 mm as a dimension that can be inserted from the mouth portion Ba.
  • the length L of the rod portion 10b which is the axial length of the portion protruding from the holding member 22 in the guide portion 10 is set in the bottle B through the mouth portion Ba so that the electron beam EB is irradiated onto the bottom surface of the bottle B.
  • the front end of the rod portion 10b is set to a length that can reach the vicinity of the bottom surface of the bottle B.
  • the vicinity of the bottom surface is also referred to as a position close to the bottom surface, a vicinity of the bottom surface, a vicinity of the bottom surface, a periphery of the bottom surface, or a position within a predetermined distance from the bottom surface.
  • the vicinity of the bottom surface is a position where the bottom surface of the bottle B can be sufficiently irradiated with the electron beam EB when the tip of the rod portion 10b is positioned in the vicinity of the bottom surface.
  • the length L of the rod portion 10b is 300 mm or more. In the present embodiment, the length L of the rod portion 10b is 300 mm to 400 mm.
  • the bottle B to be applied is not particularly limited, and any bottle B can be applied. The size, material, shape, appearance, usage, etc. of the bottle B are not limited, and various bottles can be applied. As the bottle B of the present embodiment, a beverage plastic bottle having a capacity of 2 liters is applied.
  • the guide part 10 is made of a nonmagnetic material.
  • the guide part 10 is formed of stainless steel, aluminum, oxygen-free copper, or the like.
  • the magnetic field formed by the adjusting electromagnetic coil 13 and the focusing electromagnetic coil 14 installed around the guide unit 10 can be guided to the electron beam (electron beam) EB in the guide unit 10. Therefore, it is essential to form the base end portion 10a of the guide portion 10 with a nonmagnetic material.
  • the rod portion 10b which is a portion protruding from the holding member 22 in the guide portion 10 (a portion exposed to the outside and insertable into the bottle B and corresponding to the length L) has a magnetic outer surface. Covered with a body 15.
  • the magnetic body 15 functions as a magnetic shield.
  • the magnetic body 15 shields external magnetism such as geomagnetism that reaches the electron beam EB in the rod portion 10b, and suppresses the deviation of the orbit of the electron beam EB.
  • the rod portion 10b itself may be formed of a magnetic material.
  • the inside of the vacuum vessel 3 is evacuated by the vacuum pump 50 to form the vacuum space Z.
  • the filament 7 is energized to preheat the filament 7 and prepare for electron emission.
  • a power supply voltage of minus several tens kV to minus several hundred kV is applied from the power supply device. This power supply voltage is supplied to the filament 7 through the internal wirings 9a and 9b.
  • the filament 7 is heated to a temperature at which a desired tube current value can be obtained.
  • the filament 7 may be directly heated to a temperature at which a desired tube current value can be obtained without preheating.
  • electrons are extracted from the filament 7 by the grid portion 8 and emitted to the front side.
  • the electrons emitted from the filament 7 are suppressed from being diffused by the grid portion 8 and become an electron beam EB having energy corresponding to the applied voltage.
  • the electron beam EB travels straight forward so as to spread, and travels through the internal space of the guide portion 10 toward the electron beam exit window 11.
  • the electron beam EB is finely adjusted by the adjusting electromagnetic coil 13 so that the trajectory coincides with the central axis of the guide portion 10 (particularly the rod portion 10b), and then the focusing electromagnetic coil 14 causes the guide portion 10 to move. Focusing control is performed so that a focusing point is not formed inside (in particular, the rod portion 10b).
  • the electron beam EB whose trajectory is finely adjusted and controlled to converge reaches the electron beam exit window 11, passes through the electron beam exit window 11, and is emitted to the outside of the electron beam irradiation apparatus 1 a.
  • the rod portion 10b on the distal end side of the guide portion 10 is inserted into the bottle B through the mouth portion Ba of the bottle B, and the electron beam emission window 11 at the distal end of the rod portion 10b is inserted into the bottle.
  • B is located at a desired position inside B.
  • the electron beam EB is efficiently applied to the inner surface of the bottle B, and the inner surface of the bottle B is sterilized.
  • the relative positional relationship between the bottle B and the electron beam emission window 11 is controlled so as to always change.
  • the electron beam irradiation apparatus 1a includes the elongated rod portion 10b that can be inserted into the bottle B from the mouth portion Ba of the bottle B in the guide portion 10 as a basic structure. For this reason, the electron beam EB emitted from the electron gun 2 needs to efficiently reach the electron beam emission window 11 at the tip through the narrow and long internal space of the elongated rod portion 10b.
  • the electron gun 2 in the electron beam irradiation apparatus 1a is not provided with the adjustment electromagnetic coil 13, it is emitted from the electron beam emission window 11 as compared with the case where the adjustment electromagnetic coil 13 is provided.
  • the configuration is such that the electron dose decreases. In other words, as compared with the case where the adjustment electromagnetic coil 13 is provided, the electron dose that cannot reach the electron beam exit window 11 is increased.
  • the electron gun 2 does not include the adjusting electromagnetic coil 13
  • the electron beam emitted from the electron gun 2 is processed unless the processing, assembly, arrangement, and the like are performed with very high accuracy.
  • the trajectory (exit axis) of the EB does not coincide with the central axis of the guide portion 10 (particularly the rod portion 10b) and intersects.
  • the electron gun 2 since the electron gun 2 has a structure in which the filament 7 and the grid portion 8 that emit electrons are held by an insulating block 5 made of an insulating material such as an insulating resin or ceramic, individual differences due to the insulating block 5 also occur. It is easy to occur, and it is very difficult to perform processing, assembly, arrangement, etc. with high accuracy. That is, when the electron gun EB emits the electron beam EB from the electron gun 2, if the trajectory is not adjusted, the electron gun 2 enters the inner wall of the guide portion 10 before reaching the electron beam exit window 11.
  • the configuration is such that the electron dose emitted from the electron beam exit window 11 decreases (the electron dose that cannot reach the electron beam exit window 11 increases).
  • the electron gun 2 is not formed, dimensioned and positioned in the vacuum space Z so that the electron beam EB is emitted from the electron beam emission window 11 through the guide portion 10 by itself.
  • the adjusting electromagnetic coil 13 is disposed on the proximal end side of the guide portion 10 outside the vacuum space Z.
  • the electron beam EB from the electron gun 2 can be guided without requiring high accuracy with respect to processing, assembly, and arrangement of the electron gun 2. It is possible to reliably reach the electron beam exit window 11 on the distal end side of the portion 10 and emit from the electron beam exit window 11. That is, for the first time, the adjustment electromagnetic coil 13 can emit the electron beam EB from the electron beam emission window 11 with high efficiency.
  • the adjusting electromagnetic coil 13 can emit an electron beam EB. It is also possible to arrange the adjusting electromagnetic coil 13 on the distal end side of the guide portion 10, that is, in the region of the rod portion 10b. In that case, the rod portion 10b provided with the adjusting electromagnetic coil 13 is placed inside the bottle B. It is very difficult to make the insertable size. It is preferable not to add a configuration for controlling the electron beam EB to the rod portion 10b and to control the rod portion 10b at the proximal end portion 10a in front thereof.
  • the guide portion 10 including the long cylindrical member that can be inserted into the bottle B from the mouth portion Ba of the bottle B is stable.
  • the electron beam EB can be emitted from the electron beam emission window 11 on the distal end side of the guide portion 10.
  • the electron beam EB emitted from the electron gun 2 can always be within the effective diameter of the electron beam exit window 11, and a high-performance sterilization effect can be obtained stably.
  • the electron beam irradiation apparatus 1a includes an adjustment electromagnetic coil 13 that is an electromagnetic coil as an adjustment unit that adjusts the trajectory of the electron beam EB.
  • an adjustment electromagnetic coil 13 that is an electromagnetic coil as an adjustment unit that adjusts the trajectory of the electron beam EB.
  • the electron beam irradiation apparatus 1a further includes a focusing electromagnetic coil 14 arranged outside the vacuum space Z and controlling focusing of the electron beam EB as a focusing unit.
  • a focusing electromagnetic coil 14 arranged outside the vacuum space Z and controlling focusing of the electron beam EB as a focusing unit.
  • focusing control of the electron beam EB in the guide part 10 is performed reliably, and the electron beam EB can be stably emitted from the electron beam emission window 11 on the distal end side of the guide part 10.
  • the focusing electromagnetic coil 14 is provided as the focusing unit in this way, the focusing of the electron beam EB in the guide unit 10 can be finely adjusted by adjusting the current supplied to the focusing electromagnetic coil 14.
  • the electron beam EB can be stably emitted from the electron beam emission window 11 on the distal end side of the guide portion 10.
  • the focusing electromagnetic coil 14 as the focusing portion, the focusing lens can be appropriately adjusted by adjusting the current to be supplied, so that variation in the irradiation range of the electron beam EB on the electron beam exit window 11 is suppressed, The electron beam EB emitted from the electron beam emission window 11 can be made uniform.
  • the focusing electromagnetic coil 14 Furthermore, by disposing the focusing electromagnetic coil 14 outside the vacuum space Z, problems such as a decrease in the degree of vacuum in the vacuum space Z due to gas emission from the focusing electromagnetic coil 14 are suppressed, and the electron beam exit window is more efficiently performed. 11 can emit an electron beam EB.
  • the focusing point of the electron beam EB exists inside the guide portion 10, the focusing point is positioned on the electron beam emission window 11 due to the influence of, for example, discharge, and the energy of the electron beam EB is changed to the electron beam emission window 11. There is a concern that the electron beam exit window 11 may be damaged because it concentrates on the upper part.
  • the focusing electromagnetic coil 14 focuses the electron beam EB so that a focusing point is not formed inside the guide portion 10 (in particular, the rod portion 10b). Thereby, the possibility that the electron beam emission window 11 is damaged can be reduced, and the electron beam EB can be emitted from the electron beam emission window 11 on the distal end side of the guide portion 10 stably.
  • the adjustment electromagnetic coil 13 is disposed closer to the proximal end side of the guide portion 10 than the focusing electromagnetic coil 14.
  • the electron beam EB traveling toward the electron beam exit window 11 through the guide portion 10 is focused and controlled by the focusing electromagnetic coil 14 after the trajectory is finely adjusted by the adjusting electromagnetic coil 13. Therefore, even when the deviation of the electron beam EB from the electron gun 2 is large, the electron beam EB is arranged so that the focusing electromagnetic coil 14 can reliably control the focusing of the electron beam EB. Since adjustment is possible, the electron beam EB can be stably emitted from the electron beam emission window 11 on the distal end side of the guide portion 10. In addition, since the focusing control of the electron beam EB can be reliably performed, the electron beam EB emitted from the electron beam emission window 11 can be made uniform.
  • the adjustment electromagnetic coil 13 and the focusing electromagnetic coil 14 are installed outside the vacuum space Z, and a control magnetic field is introduced through the guide unit 10. Thereby, there exists the following effect. That is, the problem of a decrease in the degree of vacuum in the vacuum space Z due to gas discharge from the adjustment electromagnetic coil 13 and the focusing electromagnetic coil 14 is suppressed. Thereby, the electron beam EB can be emitted from the electron beam emission window 11 with higher efficiency.
  • the structure can be simplified. Further, the position adjustment of the adjustment electromagnetic coil 13 and the focusing electromagnetic coil 14 is facilitated.
  • the electron beam EB can be adjusted to an arbitrary size on the electron beam emission window 11 by the focusing electromagnetic coil 14. Since the focusing of the electron beam EB can be controlled by the focusing electromagnetic coil 14, when changing the length L of the rod portion 10 b of the guide portion 10 or the effective diameter of the electron beam exit window 11, only the guide portion 10 (rod portion 10 b). It becomes possible to deal with by replacing.
  • FIG. 3 is a longitudinal sectional view of an electron beam irradiation apparatus according to the second embodiment.
  • the electron beam irradiation apparatus 1b according to the second embodiment shown in FIG. 3 differs from the electron beam irradiation apparatus 1a (see FIG. 1) in that the arrangement of the adjustment electromagnetic coil 13 and the focusing electromagnetic coil 14 is switched. Different.
  • the focusing electromagnetic coil 14 is provided so as to surround the base end portion 10 a at a position on the base end side close to the vacuum vessel 3 in the base end portion 10 a of the guide portion 10.
  • the adjustment electromagnetic coil 13 is provided at a position adjacent to the front side (the front end side of the guide portion 10) with respect to the focusing electromagnetic coil 14 at the proximal end portion 10 a of the guide portion 10.
  • the focusing electromagnetic coil 14 and the adjusting electromagnetic coil 13 are arranged around the base end portion 10a of the guide portion 10 so as to be arranged in this order along the emission direction of the electron beam EB.
  • the same effect as the effect in the electron beam irradiation apparatus 1a is achieved.
  • the focusing electromagnetic coil 14 is disposed closer to the proximal end side (electron gun 2 side) of the guide portion 10 than the adjustment electromagnetic coil 13.
  • the electron beam EB traveling toward the electron beam exit window 11 through the guide portion 10 is subjected to focusing control by the focusing electromagnetic coil 14 and then finely adjusted by the adjusting electromagnetic coil 13. Therefore, even when the divergence of the electron beam EB from the electron gun 2 is large, the adjustment electromagnetic coil 13 easily adjusts the trajectory of the electron beam EB after focusing it in advance. Orbit adjustment is possible.
  • the electron beam EB can be stably emitted from the electron beam emission window 11 on the distal end side of the guide portion 10.
  • the present invention is not limited to the above-described embodiment, but may be modified without departing from the gist described in each claim or applied to other aspects.
  • the length of the guide portion 10 can be appropriately changed as long as the rod portion 10b on the distal end side can be inserted into the bottle B.
  • a rod portion 10c having a length L2 smaller than the length L of the rod portion 10b may be provided.
  • This electron beam irradiation apparatus 1c is used by inserting the rod portion 10c into a bottle B2 having a height lower than that of the bottle B, for example.
  • a rod portion 10d having a length L3 larger than the length L of the rod portion 10b may be provided as in the electron beam irradiation apparatus 1d shown in FIG.
  • This electron beam irradiation apparatus 1d is used with a rod portion 10d inserted into a bottle B3 that is taller than the bottle B, for example.
  • the adjustment electromagnetic coil 13 is applied as the adjustment unit, but the adjustment unit is not particularly limited. Various means can be applied as the adjustment unit as long as the trajectory of the electron beam EB can be adjusted.
  • the focusing electromagnetic coil 14 is applied as the focusing portion, but the focusing portion is not particularly limited. As long as the electron beam EB can be focused, various means can be applied as the focusing unit. In some cases, the converging part is not provided.
  • Electron beam irradiation apparatus 2 ... Electron gun (electron beam generation part), 3 ... Vacuum container (casing part), 10 ... Guide part (electron beam guide part), 10a ... Base end part DESCRIPTION OF SYMBOLS 10b, 10c, 10d ... Rod part, 11 ... Electron beam emission window, 13 ... Adjustment electromagnetic coil (adjustment part), 14 ... Focusing electromagnetic coil (focusing part), B ... Bottle, Ba ... Mouth part, EB ... Electron beam, Z ... Vacuum space.

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Abstract

電子線照射装置は、電子線を発生させる電子線発生部と、電子線発生部を収容する真空空間を構成する筐体部と、基端側が筐体部に接続されて真空空間と連通すると共に、先端側には容器の口部を介して当該容器内に挿入可能な長尺の筒状部材が備えられ、電子線発生部で発生させた電子線が内部を通過する電子線ガイド部と、電子線ガイド部の先端側に設けられ、電子線を出射する電子線出射窓と、電子線ガイド部における電子線の軌道を調整する調整部と、を具備する。調整部は、真空空間の外部において電子線ガイド部の基端側に配置されている。

Description

電子線照射装置及び電子線照射方法
 本発明の一側面は、電子線照射装置及び電子線照射方法に関する。
 従来、電子線を発生させる電子線発生部と、電子線発生部を収容する真空空間を構成する筐体部と、一端側が筐体部に接続されて真空空間と連通する電子線ガイド部と、電子線ガイド部の他端側に設けられ電子線を出射する電子線出射窓と、を備えた電子線照射装置が知られている。このような電子線照射装置では、容器、例えばボトルの内面の滅菌等を行うべく、ボトルの内面に電子線を効率的に照射することが求められる場合がある。この点、例えば特許文献1には、長尺の筒状部材から成る電子線ガイド部(ノズル)を備え、電子線ガイド部の先端側がボトルの口部(開口部)を介して当該ボトル内に挿入可能に構成された電子ビーム照射器が記載されている。
特許第5774156号公報
 特許文献1に記載された上記従来技術において、電子線発生部は、発生させた電子線がボトル内に挿入可能に構成された電子線ガイド部内を通って電子線出射窓から出射されるように、真空空間内に形成、寸法合わせ及び位置決めされている。この場合、電子線発生部から電子線出射窓に到るまでの電子線の軌道は、電子線発生部からの電子線の出射状態、及び、電子線発生部と電子線出射窓との位置関係に大きな影響を受ける。そのため、電子線の軌道は、電子線発生部の組立精度及び固定精度の影響を受けやすく、それらの精度に問題があると、意図した軌道からずれてしまう可能性がある。特に、ボトル内に挿入可能な長尺の筒状部材である電子線ガイド部を介して電子線を出射する場合、狭く長い空間を進行させることになることから、僅かな電子線の軌道のずれが、例えば電子線出射窓に到る前に電子線ガイド部の内壁等へ入射してしまうことにつながる。そのため、電子線出射窓に到る電子線量が大幅に減少するといった問題が発生する可能性が高い。つまり、このような電子線発生部を用いて電子線を安定して電子線出射窓から出射させようとすると、必然的に電子線発生部の加工や組立、配置に関して高い精度が必要とされる。よって、電子線ガイド部の先端側の電子線出射窓から電子線を安定して出射させることが困難となるおそれがある。
 本発明の一側面は、容器の口部から当該容器内に挿入可能な長尺の筒状部材を備えた電子線ガイド部を具備する電子線照射装置及び当該電子線照射装置を用いた電子線照射方法において、安定して電子線ガイド部の先端側の電子線出射窓から電子線を出射させることを課題とする。
 本発明の一側面に係る電子線照射装置は、電子線を発生させる電子線発生部と、電子線発生部を収容する真空空間を構成する筐体部と、基端側が筐体部に接続されて真空空間と連通すると共に、先端側には容器の口部を介して当該容器内に挿入可能な長尺の筒状部材が備えられ、電子線発生部で発生させた電子線が内部を通過する電子線ガイド部と、電子線ガイド部の先端側に設けられ、電子線を出射する電子線出射窓と、電子線ガイド部における電子線の軌道を調整する調整部と、を具備し、調整部は、真空空間の外部において電子線ガイド部の基端側に配置されている。
 この電子線照射装置においては、電子線ガイド部は、その先端側に、容器の口部を介して当該容器内に挿入可能な長尺の筒状部材を備えている。そして、真空空間の外部において電子線ガイド部の基端側に調整部が配置されている。この調整部によって電子線ガイド部における電子線の軌道を調整することで、電子線発生部の加工や組立、配置に関して高い精度を必要とせずに、電子線発生部で発生させた電子線を、電子線ガイド部の先端側の電子線出射窓へ確実に到達させて当該電子線出射窓から出射できる。すなわち、容器の口部から当該容器内に挿入可能な長尺の筒状部材を備えた電子線ガイド部を具備する電子線照射装置において、安定して電子線ガイド部の先端側の電子線出射窓から電子線を出射させることが可能となる。
 本発明の一側面に係る電子線照射装置では、調整部は、電磁コイルであってもよい。この場合、調整部により電子線ガイド部における電子線の軌道を微調整できるので、より安定して電子線ガイド部の先端側の電子線出射窓から電子線を出射させることが可能となる。
 本発明の一側面に係る電子線照射装置は、真空空間の外部に配置され、電子線ガイド部における電子線の集束を制御する集束部をさらに具備していてもよい。この場合、集束部により電子線ガイド部における電子線の集束制御を確実に行い、より安定して電子線ガイド部の先端側の電子線出射窓から電子線を出射させることが可能となる。
 本発明の一側面に係る電子線照射装置では、集束部は、電磁コイルであってもよい。この場合、集束部により電子線ガイド部における電子線の集束を微調整できるので、より安定して電子線ガイド部の先端側の電子線出射窓から電子線を出射させることが可能となる。
 本発明の一側面に係る電子線照射装置では、集束部は、電子線ガイド部の内部において集束点が形成されないように電子線を集束してもよい。電子線ガイド部の内部に電子線の集束点が存在する場合、例えば放電等の影響によって集束点が電子線出射窓上に位置し、電子線の集中によって電子線出射窓が破損してしまうという可能性が懸念される。これに対し、電子線ガイド部の内部に集束点が形成されないように集束部によって電子線を集束することで、電子線出射窓が破損する当該可能性を低減できるので、より安定して電子線ガイド部の先端側の電子線出射窓から電子線を出射させることが可能となる。
 本発明の一側面に係る電子線照射装置では、調整部は、集束部よりも電子線ガイド部の基端側に配置されていてもよい。この構成では、電子線ガイド部の内部を電子線出射窓へ向かって進む電子線は、調整部で軌道が調整された後に集束部で集束制御される。よって、電子線発生部からの電子線の軌道のずれが大きい場合であっても、集束部により電子線の集束制御を確実に行えるように当該軌道を調整できるので、より安定して電子線ガイド部の先端側の電子線出射窓から電子線を出射させることが可能となる。
 本発明の一側面に係る電子線照射装置では、集束部は、調整部よりも電子線ガイド部の基端側に配置されていてもよい。この構成では、電子線ガイド部の内部を電子線出射窓に向かって進む電子線は、集束部で集束制御された後に調整部で軌道が調整される。よって、電子線発生部からの電子線の発散が大きい場合であっても、それを予め集束した上で電子線の軌道を調整するため、調整部において容易に電子線の軌道を調整できる。より安定して電子線ガイド部の先端側の電子線出射窓から電子線を出射させることが可能となる。
 本発明の一側面に係る電子線照射装置では、電子線発生部は、電子線ガイド部の先端側の電子線出射窓から出射される電子線の電子線量が、調整部を具備しない場合には、調整部を具備する場合と比較して減少するように構成されていてもよい。この構成では、調整部を具備しない場合には、電子線が電子線出射窓から出射される電子線量が少ないような状態であっても、調整部で電子線の軌道を調整することによって十分な電子線量を得ることが可能となる。
 本発明の一側面に係る電子線照射装置は、電子線を発生させる電子線発生部と、電子線発生部を収容する真空空間を構成する筐体部と、基端側が筐体部に接続されて真空空間と連通すると共に、先端側には容器の口部を介して当該容器内に挿入可能な長尺の筒状部材が備えられ、電子線発生部で発生させた電子線が内部を通過する電子線ガイド部と、電子線ガイド部の先端側に設けられ、電子線を出射する電子線出射窓と、電子線ガイド部における電子線の軌道を調整する調整部と、真空空間の外部に配置され、電子線ガイド部における電子線の集束を制御する集束部と、集束部を制御する制御部と、を具備し、調整部は、真空空間の外部において電子線ガイド部の基端側に配置され、集束部は、電磁コイルであり、流れる電流が制御部により制御されることにより、電子線ガイド部の内部において集束点が形成されないように電子線を集束しつつ、電子線の広がりを抑制し、電子線出射窓上における電子線の照射範囲を一定とする集束制御を行う。
 本発明の一側面に係る電子線照射方法は、電子線照射装置を用いて電子線を容器の内面に照射する方法であって、電子線照射装置は、電子線を発生させる電子線発生部と、電子線発生部を収容する真空空間を構成する筐体部と、基端側が筐体部に接続されて真空空間と連通すると共に、先端側には容器の口部を介して当該容器内に挿入可能な長尺の筒状部材が備えられ、電子線発生部で発生させた電子線が内部を通過する電子線ガイド部と、電子線ガイド部の筒状部材の先端側に設けられ、電子線を出射する電子線出射窓と、真空空間の外部において電子線ガイド部の基端側に配置され、電子線ガイド部における電子線の軌道を調整する調整部と、電子線ガイド部における電子線の集束を制御する集束部と、を具備しており、電子線発生部から電子線を発生させ、電子線ガイド部の内部に電子線を通過させつつ調整部により電子線ガイド部を通過する電子線の軌道を調整して、電子線出射窓へ電子線を到達させて電子線出射窓から電子線を出射させるステップと、電子線を出射状態とした後、筒状部材を容器の口部を介して容器の内部に挿入し、容器と電子線出射窓との相対的な位置関係を常に変動させながら、容器の内面に電子線を照射するステップと、を備え、電子線を照射するステップは、筒状部材の先端を容器の内部に位置させ、容器の底面に電子線を照射するステップを含み、電子線を出射させるステップでは、調整部により、電子線の軌道を筒状部材の中心軸線に一致するように調整し、集束部により、電子線ガイド部の内部において集束点が形成されないように電子線を集束する。
 本発明の一側面によれば、容器の口部から当該容器内に挿入可能な長尺の筒状部材を備えた電子線ガイド部を具備する電子線照射装置及び当該電子線照射装置を用いた電子線照射方法において、安定して電子線ガイド部の先端側の電子線出射窓から電子線を出射させることが可能となる。
図1は、第1実施形態に係る電子線照射装置を示す断面図である。 図2は、図1の電子線照射装置を示す他の断面図である。 図3は、第2実施形態に係る電子線照射装置を示す断面図である。 図4(a)は、変形例に係る電子線照射装置を示す断面図である。図4(b)は、他の変形例に係る電子線照射装置を示す断面図である。
 以下、図面を参照しつつ実施形態について詳細に説明する。以下の説明において同一又は相当要素には同一符号を付し、重複する説明を省略する。
 図1は、第1実施形態に係る電子線照射装置の縦断面図である。図1に示される第1実施形態に係る電子線照射装置1aは、照射対象物への電子線EBの照射によって当該照射対象物の乾燥、殺菌又は表面改質等を行うために使用される。なお、以下、電子線照射装置1aによって電子線EBが照射される側である電子線出射側(電子線出射窓11側)を前側として説明する。
 電子線照射装置1aは、電子銃2と、真空容器3と、ガイド部10と、電子線出射窓11と、制御部12と、調整用電磁コイル13と、集束用電磁コイル14と、を備える。電子銃2は、低エネルギー電子線である電子線EBを発生させる電子線発生部である。電子銃2は、ケース4と、絶縁ブロック5と、コネクタ6と、フィラメント7と、グリッド部8と、内部配線9a,9bと、導電性部材16と、を有する。
 ケース4は、金属等の導電性材料により形成されている。ケース4は、絶縁ブロック5を収容する。ケース4は、真空容器3の内部の真空空間Z(後述)へ繋がる開口4aと、電子線照射装置1aの外側へ繋がる開口4bとを有する。開口4aは、内部配線9a,9bを通すための円形の開口である。開口4bは、コネクタ6を取り付けるための円形の開口である。
 絶縁ブロック5は、絶縁性材料(例えばエポキシ樹脂等の絶縁性樹脂やセラミック等)により形成されている。絶縁ブロック5は、電子銃2の内部配線9a,9bと他の部分(例えばケース4等)とを絶縁する。絶縁ブロック5は、基部5aと、該基部5aから突出した凸部5bとを有する。基部5aは、ケース4内の殆どを占めるようにケース4内に収容されている。凸部5bは、基部5aから開口4aを通って前側に突出してケース4から露出している。
 コネクタ6は、電子線照射装置1aの外部から電源電圧の供給を受けるための高耐電圧型のコネクタ(レセプタクル)である。コネクタ6は、ケース4の側面に取り付けられている。コネクタ6は、ケース4の側壁を貫通するように開口4bに配置されている。コネクタ6においてケース4の内部に位置する部分6aは、絶縁ブロック5の基部5aに埋め込まれて固定されている。コネクタ6は、絶縁ブロック5とケース4とを強固に固定する。このコネクタ6には、図示しない電源装置から延びる外部配線の先端を保持した電源用プラグが挿入される。なお、外部電源からコネクタ6を介して必要な高電圧の供給を受けるのではなく、絶縁ブロック5内に昇圧回路を含む高電圧発生部を収容することで、絶縁ブロック5内で必要な高電圧を発生させてもよい。
 フィラメント7は、電子線EBとなる電子を放出するための電子放出部材である。フィラメント7は、タングステンを主成分とした材料により形成されている。フィラメント7は、絶縁ブロック5の凸部5b(本実施形態では、凸部5bの先端付近)の前側に配置されている。フィラメント7の両端は、コネクタ6からフィラメント7へ延びる内部配線9a及び9bにそれぞれ接続されている。従って、コネクタ6に電源用プラグが挿入されると、フィラメント7の両端は、外部配線を介して電源装置と電気的に接続される。フィラメント7は、数アンペアの電流を流されることにより、2500℃程度に加熱され、さらに別の電源装置からマイナス数10kV~マイナス数100kVといった高い負電圧が印加されることにより、電子を放出する。フィラメント7は、電子を引き出すとともに拡散を抑制するための電界を形成するグリッド部8に覆われている。グリッド部8には、図示しない配線を介して所定の電圧が印加される。従って、フィラメント7から放出された電子は、グリッド部8の一部に形成された孔から電子線EBとして出射される。
 内部配線9a,9bは、高電圧が電源装置から印加される高電圧部である。内部配線9a,9bは、絶縁ブロック5の内部に埋め込まれることにより、ケース4との絶縁が確保されている。
 導電性部材16は、絶縁ブロック5の表面のうち、ケース4との間に隙間があいた表面を覆う導電性の部材である。導電性部材16としては、導電性のフィルム、或いは導電性のテープ等の薄い部材が用いられている。導電性部材16は、絶縁ブロック5のうちケース4に密着していない部分を完全に覆うように当該絶縁ブロック5に貼付されている。なお、導電性部材16は、導電性塗料や導電性膜等であってもよい。
 真空容器3は、電子銃2を収容する真空空間Zを構成する筐体部である。真空容器3は、金属等の導電性材料により形成されている。真空容器3は、電子線EBの出射方向に沿って延びる円筒状に形成されている。真空容器3は、電子銃2のフィラメント7、グリッド部8、及び絶縁ブロック5の凸部5bを収容して気密に封止する。真空容器3において電子銃2の前側に対向する部分には、通過孔3bが形成されている。通過孔3bは、電子銃2で発生させた電子線EBを通過させる円形の貫通孔である。通過孔3bは、ガイド部10の内部と連通する。真空容器3には、排気通路3dを介して真空ポンプ50が接続されている。真空ポンプ50により、真空容器3の内部の排気を簡易に行うことができる。
 ガイド部10は、電子銃2で発生させた電子線EBをガイドする電子線ガイド部である。ガイド部10の内部は、中空となっており、その内部空間は、電子銃2で発生させた電子線EBが通過する空間を構成する。本実施形態では、ガイド部10は、その全長に亘って均一な内径を有する円筒状となっている。ガイド部10は、基端部10a及びロッド部10bを備えている。
 基端部10aは、ガイド部10の基端側であって、真空容器3に接続されている。基端部10aは、ガイド部10の内部空間を真空空間Zと連通させる。ロッド部10bは、ガイド部10の先端側であって、後述するように、容器であるボトルBの口部Baを介してボトルB内に挿入可能に構成されている。ロッド部10bは、その外径が真空容器3よりも小径な長尺の筒状部材(ここでは、細長の円筒状部材)である。具体的には、基端部10aは、ガイド部10の内部空間が真空容器3の通過孔3bと連続するように固定されている。ロッド部10bは、基端部10aと連通する。ロッド部10bは、電子銃2の電子線EBの出射方向に沿って真空容器3から離間するように延出する。なお、本実施形態においては、基端部10aとロッド部10bとは、その外径が真空容器3よりも小径の長尺の筒状部材として一体に構成されている。
 電子線出射窓11は、ガイド部10の内部を通過した電子線EBを透過させて、当該電子線EBを外部に向けて出射する。電子線出射窓11は、ガイド部10の先端側に設けられている。具体的には、電子線出射窓11は、ロッド部10bの前側の端部(電子銃2側と反対側の端部)である先端部の開口を真空封止するように設けられている。電子線出射窓11は、薄膜状の部材である。電子線出射窓11は、電子線EBを透過する材料(例えばベリリウム、チタン、アルミニウム等)から成る。電子線出射窓11は、例えば15μm以下の厚さに形成されている。ここでの電子線出射窓11は、数μm~10μmの厚さに形成されている。電子線出射窓11は、ガイド部10の先端において、ロウ材を用いてロッド部10bにロウ付けされている。これにより、電子線出射窓11は、ロッド部10bの先端部の開口を閉じるように気密に接合されている。なお、電子線出射窓11は、例えば溶接によって接合されていてもよいし、気密保持構造を持った窓枠部によって薄膜状の部材が交換可能となるように保持されていてもよい。
 制御部12は、例えば、プロセッサ及び記憶装置(メモリ等)を有する一以上のコンピュータ装置により構成されている。制御部12は、記憶装置に記憶されたプログラムに従って動作し、電子線照射装置1aの各部を制御する。
 調整用電磁コイル13は、ガイド部10における電子線EBの軌道を調整する調整部である。調整用電磁コイル13は、電磁レンズとして機能する。調整用電磁コイル13は、ガイド部10の内部において通過する電子線EBが電子線出射窓11に到達するように、当該電子線EBの進行方向を偏向させて軌道(出射軸線)を微調整する。例えば調整用電磁コイル13は、電子線EBの出射軸線がガイド部10(特にロッド部10b)の中心軸線におおよそ一致するように微調整する。調整用電磁コイル13は、制御部12に接続されており、制御部12により流れる電流が制御される。これにより、電子線EBの軌道の微調整が実現される。
 調整用電磁コイル13は、真空空間Zの外部においてガイド部10の基端側(真空容器3側)に配置されている。より具体的には、調整用電磁コイル13は、ガイド部10の基端部10aにおける真空容器3に近接する基端側の位置に、基端部10aを包囲するように環状に配置されている。調整用電磁コイル13は、保持部材22によって覆われ、その位置が保持されている。保持部材22は、真空容器3の前側に固定されている。保持部材22は、ガイド部10における基端側の一部(基端から一定距離先端側に亘る領域)である基端部10aを覆う。換言すると、本実施形態においては、ガイド部10のうち、保持部材22で覆われた部分が基端部10aとなる。
 集束用電磁コイル14は、ガイド部10における電子線EBの集束を制御する集束部である。集束用電磁コイル14は、電磁レンズとして機能する。集束用電磁コイル14は、ガイド部10(特にロッド部10b)の内部において、通過する電子線EBを、集束点が形成されないように集束させる。例えば集束用電磁コイル14は、出射軸線に沿って拡がるように進行する電子線EBの当該広がりを抑制し、電子線出射窓11上における電子線EBの照射範囲が一定となるように集束制御を行う。集束用電磁コイル14は、制御部12に接続されており、制御部12により流れる電流が制御される。これにより、電子線EBの集束制御の微調整が実現される。
 集束用電磁コイル14は、真空空間Zの外部において、調整用電磁コイル13よりも前側であるガイド部10の先端側(電子線出射窓11側、真空容器3側と反対側)に配置されている。換言すると、調整用電磁コイル13は、集束用電磁コイル14よりもガイド部10の基端側(電子銃2側)に配置されている。より具体的には、集束用電磁コイル14は、ガイド部10の基端部10aにおいて、調整用電磁コイル13に対して前側(ガイド部10の先端側)に隣接する位置に、基端部10aを包囲するよう環状に配置されている。調整用電磁コイル13及び集束用電磁コイル14は、電子線EBの出射方向に沿ってこの順で並ぶように配置されている。集束用電磁コイル14は、保持部材22によってその位置が保持されるとともに覆われている。
 図2は、図1の電子線照射装置の使用状態を示す断面図である。図1及び図2に示されるように、ガイド部10の先端側であるロッド部10bは、容器であるボトルBの口部Baを介して当該ボトルB内に挿入可能に構成されている。換言すると、本実施形態においては、ガイド部10のうち、保持部材22から突出し、ボトルBの口部Baを介して当該ボトルB内に挿入可能に構成されている部分がロッド部10bとなる。
 図示する例においては、ボトルBは、ネック部Bnに連なる開口部である口部Baを備えた容器である。口部Baの内径は、真空容器3の外径よりも小さく、且つ、ロッド部10bの外径よりも大きい。つまり、ロッド部10bは、ボトルBの口部Baに対して、ボトルBの軸方向に沿って挿入可能な外径を有している。例えばロッド部10bの外径は、口部Baから挿入可能な寸法として、φ18mm程度とされている。ガイド部10において保持部材22から突出する部分の軸長であるロッド部10bの長さLは、電子線EBがボトルBの底面に照射されるように、口部Baを通ってボトルB内に位置するロッド部10bの先端がボトルBの底面近傍まで届き得る長さとされている。底面近傍とは、底面に近接する位置、底面の近辺、底面の付近、底面の周辺、又は、底面から所定距離以内の位置ともいう。底面近傍は、ロッド部10bの先端が当該底面近傍に位置した場合に電子線EBをボトルBの底面に十分に照射できる位置である。
 ロッド部10bの長さLは、300mm以上とされている。本実施形態では、ロッド部10bの長さLは、300mm~400mmである。適用されるボトルBとしては、特に限定されず、あらゆるボトルBを適用できる。ボトルBの大きさ、材質、形状、外観及び用途等は限定されず、種々のボトルを適用できる。本実施形態のボトルBとしては、容量が2リットルの飲料用ペットボトルが適用されている。
 ガイド部10は、非磁性体で形成されている。例えばガイド部10は、ステンレス、アルミニウム又は無酸素銅等により形成されている。これにより、ガイド部10の周囲に設置した調整用電磁コイル13及び集束用電磁コイル14の形成する磁界を、ガイド部10内の電子線(電子ビーム)EBへ導くことができる。そのため、ガイド部10のうち、特に基端部10aを非磁性体で形成することが必須となる。
 一方、ガイド部10において保持部材22から突出する部分(外部に露出し、ボトルB内に挿入可能な部分であって、長さLに対応する部分)であるロッド部10bは、その外面が磁性体15で覆われている。磁性体15は、磁気シールドとして機能するものである。磁性体15は、ロッド部10b内の電子線EBに及ぶ地磁気等の外部磁気を遮蔽して、当該電子線EBの軌道のずれを抑制する。なお、非磁性体で形成されたロッド部10bを別途に磁性体15で覆うのではなく、ロッド部10b自体を磁性体で形成してもよい。
 以上の構成を備える本実施形態の電子線照射装置1aの動作(電子線照射方法)について説明する。
 まず、真空ポンプ50によって真空容器3の内部を排気して真空空間Zを形成する。その後、フィラメント7を通電することにより、フィラメント7を予備加熱し、電子放出の準備を行う。続いて、電源装置からマイナス数10kV~マイナス数100kVの電源電圧を印加する。この電源電圧は、内部配線9a及び9bを介してフィラメント7に供給される。そして、所望の管電流値が得られるような温度までフィラメント7を加熱する。なお、予備加熱を行うことなく、直接、所望の管電流値が得られるような温度までフィラメント7を加熱してもよい。その後、グリッド部8によってフィラメント7から電子を引き出し、前側に放出させる。
 フィラメント7から放出された電子は、グリッド部8によって拡散が抑制され、印加電圧に応じたエネルギーを持った電子線EBとなる。電子線EBは、拡がるように前側に直進し、ガイド部10の内部空間を電子線出射窓11へ向かって進む。このとき、電子線EBは、調整用電磁コイル13により、軌道がガイド部10(特にロッド部10b)の中心軸線に一致するように微調整された後、集束用電磁コイル14により、ガイド部10(特にロッド部10b)の内部において集束点が形成されないように集束制御される。
 軌道が微調整されて集束制御された電子線EBは、電子線出射窓11に到達し、電子線出射窓11を透過して電子線照射装置1aの外部へ出射される。電子線EBを出射状態とした後、ガイド部10の先端側のロッド部10bをボトルBの口部Baを介してボトルBの内部に挿入し、ロッド部10b先端の電子線出射窓11をボトルBの内部の所望位置に位置させる。その結果、電子線EBがボトルBの内面に効率よく照射され、ボトルBの内面が滅菌される。なお、ボトルBの局所への電子線EBの過剰照射による劣化を抑制するため、ボトルBと電子線出射窓11の相対的な位置関係は常に変動するように制御される。
 ここで、電子線EBをボトルBの内面に効率よく照射するためには、ボトルBの内部に電子線EBを放出する部位を挿入する必要がある。このことから、電子線照射装置1aは、基本構造として、ガイド部10において、ボトルBの口部BaからボトルB内部に挿入可能な細長いロッド部10bを備える。そのため、電子銃2から放出された電子線EBを、細長いロッド部10bの狭く且つ長い内部空間を通過させて先端の電子線出射窓11に効率よく到達させる必要がある。
 一方、電子線照射装置1aにおける電子銃2は、調整用電磁コイル13を備えていない場合には、調整用電磁コイル13を備えている場合と比較して、電子線出射窓11から出射される電子線量が減少するような構成となっている。換言すると、調整用電磁コイル13を備えている場合と比較して、電子線出射窓11に到達不能な電子線量が増加するような構成となっている。具体的には、電子銃2は、調整用電磁コイル13を備えていない場合には、その加工や組立、配置等を非常に高精度で行わない限り、電子銃2から出射した際の電子線EBの軌道(出射軸線)がガイド部10(特にロッド部10b)の中心軸線と一致せず、交差した状態となる可能性が高い。特に、電子銃2は、電子を放出するフィラメント7やグリッド部8を絶縁性樹脂やセラミック等の絶縁性材料からなる絶縁ブロック5で保持した構造であるため、絶縁ブロック5に起因する個体差も生じやすく、加工や組立、配置等を高精度で行うのは非常に困難である。つまり、電子銃2は、電子線EBを電子銃2から放出させたとき、その軌道を調整しないと、電子線出射窓11に到る前に、例えばガイド部10の内壁等に入射したりする可能性が高いため、電子線出射窓11から出射される電子線量が減少する(電子線出射窓11に到達不能な電子線量が増加する)ような構成となっている。電子銃2は、それのみで電子線EBがガイド部10内を通って電子線出射窓11から出射されるようには、真空空間Z内に形成、寸法合わせ及び位置決めされていない。
 そこで、電子線照射装置1aでは、真空空間Zの外部においてガイド部10の基端側に調整用電磁コイル13が配置されている。調整用電磁コイル13によってガイド部10における電子線EBの軌道を調整することで、電子銃2の加工や組立、配置に関して高い精度を必要とせずに、電子銃2からの電子線EBを、ガイド部10の先端側の電子線出射窓11へ確実に到達させて当該電子線出射窓11から出射できる。すなわち、調整用電磁コイル13によって初めて、電子線出射窓11から電子線EBを高効率で出射できる。さらに、調整用電磁コイル13を真空空間Z外に配置することで、調整用電磁コイル13からのガス放出による真空空間Zの真空度の低下といった問題を抑制し、より高効率に電子線出射窓11から電子線EBを出射できる。なお、調整用電磁コイル13をガイド部10の先端側、つまりロッド部10bの領域に配置することも考えられるが、その場合、調整用電磁コイル13を設けたロッド部10bをボトルBの内部に挿入可能な大きさとするのは非常に困難となる。ロッド部10bには電子線EBを制御するような構成を付加せず、その手前の基端部10aにおいて制御することが好ましい。
 従って、本実施形態の電子線照射装置1aによれば、ボトルBの口部Baから当該ボトルB内に挿入可能な長尺の筒状部材を備えたガイド部10を具備することで、安定してガイド部10先端側の電子線出射窓11から電子線EBを出射可能となる。また、電子銃2に求められる精度に余裕が生じることで、良品率の向上や均一の特性を備えた電子線照射装置の製造が容易となる。さらに、電子銃2から放出された電子線EBを常に電子線出射窓11の有効径内に入るようにし、安定して高性能の滅菌効果を得ることができる。
 電子線照射装置1aにおいて、電子線EBの軌道を調整する調整部として、電磁コイルである調整用電磁コイル13を備えている。これにより、調整用電磁コイル13に供給する電流を調整することで、ガイド部10における電子線EBの軌道を微調整できるので、安定してガイド部10先端側の電子線出射窓11から電子線EBを出射可能となる。また、熱膨張等による経時変化に起因した電子線EBの軌道の変化にも、容易に対応することができる。
 電子線照射装置1aは、真空空間Zの外部に配置され電子線EBの集束を制御する集束用電磁コイル14を、集束部としてさらに備えている。これにより、ガイド部10における電子線EBの集束制御を確実に行い、安定してガイド部10先端側の電子線出射窓11から電子線EBを出射可能となる。また、このように集束部として集束用電磁コイル14を備えていることから、集束用電磁コイル14に供給する電流を調整することで、ガイド部10における電子線EBの集束を微調整でき、さらに安定してガイド部10先端側の電子線出射窓11から電子線EBを出射可能となる。より詳細には、電子銃2の加工や組立、配置のバラツキによって、同じ集束レンズを用いても電子線出射窓11上における電子線EBの照射範囲にバラツキが発生するため、結果として電子線出射窓11から出射される電子線EBを均一化するのは困難となる。対して、集束部を集束用電磁コイル14とすることで、供給する電流の調整によって集束レンズを適切に調整できるので、電子線出射窓11上における電子線EBの照射範囲のバラツキを抑制し、電子線出射窓11から出射される電子線EBを均一化できる。さらに、集束用電磁コイル14を真空空間Z外に配置することで、集束用電磁コイル14からのガス放出による真空空間Zの真空度の低下といった問題を抑制し、より高効率に電子線出射窓11から電子線EBを出射できる。
 ところで、ガイド部10の内部に電子線EBの集束点が存在する場合、例えば放電等の影響によって当該集束点が電子線出射窓11上に位置し、電子線EBのエネルギーが電子線出射窓11上の局所に集中してしまうことから、電子線出射窓11が破損してしまう可能性が懸念される。これに対し、電子線照射装置1aでは、集束用電磁コイル14により、ガイド部10(特にロッド部10b)の内部において集束点が形成されないように電子線EBを集束する。これにより、電子線出射窓11が破損する当該可能性を低減でき、安定してガイド部10先端側の電子線出射窓11から電子線EBを出射可能となる。
 電子線照射装置1aにおいて、調整用電磁コイル13は、集束用電磁コイル14よりもガイド部10の基端側に配置されている。これにより、ガイド部10内を電子線出射窓11へ向かって進む電子線EBは、調整用電磁コイル13で軌道が微調整された後に集束用電磁コイル14で集束制御される。そのため、電子銃2からの電子線EBの軌道においてずれが大きい場合であっても、集束用電磁コイル14により電子線EBの集束制御を確実に行い得る軌道となるように電子線EBの軌道を調整できるので、安定してガイド部10先端側の電子線出射窓11から電子線EBを出射可能となる。また、電子線EBの集束制御を確実に行うことができるので、電子線出射窓11から出射させる電子線EBを均一化することが可能となる。
 なお、電子線照射装置1aでは、調整用電磁コイル13及び集束用電磁コイル14を真空空間Zの外側に設置し、ガイド部10を介して制御用磁界を導入している。これにより、次の効果を奏する。すなわち、調整用電磁コイル13及び集束用電磁コイル14からのガス放出による真空空間Zの真空度の低下といった問題を抑制する。これにより、より高効率に電子線出射窓11から電子線EBを出射できる。また、調整用電磁コイル13及び集束用電磁コイル14を真空に対応させることが不要となることから、構造の簡素化が可能となる。さらに、調整用電磁コイル13及び集束用電磁コイル14の位置調整が容易となる。
 電子線照射装置1aでは、集束用電磁コイル14により、電子線EBを電子線出射窓11上にて任意のサイズに調整できる。集束用電磁コイル14により電子線EBの集束制御ができるため、ガイド部10のロッド部10bの長さLや電子線出射窓11の有効径を変更する場合、ガイド部10(ロッド部10b)のみを付け替えることで対応可能となる。
 次に、第2実施形態について説明する。本実施形態の説明では、上記第1実施形態と異なる点について説明し、重複する説明は省略する。
 図3は、第2実施形態に係る電子線照射装置の縦断面図である。図3に示される第2実施形態に係る電子線照射装置1bは、調整用電磁コイル13と集束用電磁コイル14との配置が入れ替わっている点で上記電子線照射装置1a(図1参照)と異なる。
 集束用電磁コイル14は、ガイド部10の基端部10aにおける真空容器3に近接する基端側の位置に、基端部10aを包囲するように設けられている。調整用電磁コイル13は、ガイド部10の基端部10aにおいて、集束用電磁コイル14に対して前側(ガイド部10の先端側)に隣接する位置に設けられている。集束用電磁コイル14及び調整用電磁コイル13は、電子線EBの出射方向に沿ってこの順で並ぶように、ガイド部10の基端部10aの周囲に配置されている。
 以上、電子線照射装置1bにおいても、上記電子線照射装置1aにおける効果と同様の効果を奏する。また、電子線照射装置1bでは、集束用電磁コイル14が調整用電磁コイル13よりもガイド部10の基端側(電子銃2側)に配置されている。これにより、ガイド部10内を電子線出射窓11に向かって進む電子線EBは、集束用電磁コイル14で集束制御された後に、調整用電磁コイル13で軌道が微調整される。よって、電子銃2からの電子線EBの発散が大きい場合であっても、それを予め集束した上で電子線EBの軌道を微調整するため、調整用電磁コイル13において容易に電子線EBの軌道調整が可能となる。安定してガイド部10先端側の電子線出射窓11から電子線EBを出射可能となる。
 以上、本発明は、上記実施形態に限られるものではなく、各請求項に記載した要旨を変更しない範囲で変形し、又は他のものに適用してもよい。
 上記実施形態において、ガイド部10は、その先端側のロッド部10bがボトルBに挿入可能であれば、その長さを適宜変更することができる。例えば、図4(a)に示される電子線照射装置1cのように、ロッド部10bの長さLよりも小さい長さL2のロッド部10cを備えていてもよい。この電子線照射装置1cは、例えばボトルBよりも低背のボトルB2にロッド部10cが挿入されて使用される。また逆に、図4(b)に示される電子線照射装置1dのように、ロッド部10bの長さLよりも大きい長さL3のロッド部10dを備えていてもよい。この電子線照射装置1dは、例えばボトルBよりも高背のボトルB3にロッド部10dが挿入されて使用される。
 上記実施形態では、調整部として調整用電磁コイル13を適用したが、調整部は特に限定されない。電子線EBの軌道を調整できるものであれば、種々の手段を調整部として適用できる。上記実施形態では、集束部として集束用電磁コイル14を適用したが、集束部は特に限定されない。電子線EBを集束制御できるものであれば、種々の手段を集束部として適用できる。また、集束部を備えない場合もある。
 1a,1b,1c,1d…電子線照射装置、2…電子銃(電子線発生部)、3…真空容器(筐体部)、10…ガイド部(電子線ガイド部)、10a…基端部、10b,10c,10d…ロッド部、11…電子線出射窓、13…調整用電磁コイル(調整部)、14…集束用電磁コイル(集束部)、B…ボトル、Ba…口部、EB…電子線、Z…真空空間。

Claims (13)

  1.  電子線を発生させる電子線発生部と、
     前記電子線発生部を収容する真空空間を構成する筐体部と、
     基端側が前記筐体部に接続されて前記真空空間と連通すると共に、先端側には容器の口部を介して当該容器内に挿入可能な長尺の筒状部材が備えられ、前記電子線発生部で発生させた前記電子線が内部を通過する電子線ガイド部と、
     前記電子線ガイド部の先端側に設けられ、前記電子線を出射する電子線出射窓と、
     前記電子線ガイド部における前記電子線の軌道を調整する調整部と、を具備し、
     前記調整部は、前記真空空間の外部において前記電子線ガイド部の基端側に配置されている、電子線照射装置。
  2.  前記調整部は、電磁コイルである、請求項1に記載の電子線照射装置。
  3.  前記真空空間の外部に配置され、前記電子線ガイド部における前記電子線の集束を制御する集束部をさらに具備する、請求項1又は2に記載の電子線照射装置。
  4.  前記集束部は、電磁コイルである、請求項3に記載の電子線照射装置。
  5.  前記集束部は、前記電子線ガイド部の内部において集束点が形成されないように前記電子線を集束する、請求項3又は4に記載の電子線照射装置。
  6.  前記調整部は、前記集束部よりも前記電子線ガイド部の基端側に配置されている、請求項3~5のいずれか一項に記載の電子線照射装置。
  7.  前記集束部は、前記調整部よりも前記電子線ガイド部の基端側に配置されている、請求項3~5のいずれか一項に記載の電子線照射装置。
  8.  前記電子線発生部は、前記電子線ガイド部の先端側の前記電子線出射窓から出射される前記電子線の電子線量が、前記調整部を具備しない場合には、前記調整部を具備する場合と比較して減少するように構成されている、請求項1~7のいずれか一項に記載の電子線照射装置。
  9.  電子線を発生させる電子線発生部と、
     前記電子線発生部を収容する真空空間を構成する筐体部と、
     基端側が前記筐体部に接続されて前記真空空間と連通すると共に、先端側には容器の口部を介して当該容器内に挿入可能な長尺の筒状部材が備えられ、前記電子線発生部で発生させた前記電子線が内部を通過する電子線ガイド部と、
     前記電子線ガイド部の先端側に設けられ、前記電子線を出射する電子線出射窓と、
     前記電子線ガイド部における前記電子線の軌道を調整する調整部と、
     前記真空空間の外部に配置され、前記電子線ガイド部における前記電子線の集束を制御する集束部と、
     前記集束部を制御する制御部と、を具備し、
     前記調整部は、前記真空空間の外部において前記電子線ガイド部の基端側に配置され、
     前記集束部は、電磁コイルであり、流れる電流が前記制御部により制御されることにより、前記電子線ガイド部の内部において集束点が形成されないように前記電子線を集束しつつ、前記電子線の広がりを抑制し、前記電子線出射窓上における前記電子線の照射範囲を一定とする集束制御を行う、電子線照射装置。
  10.  前記調整部は、電磁コイルである、請求項9に記載の電子線照射装置。
  11.  前記調整部は、前記集束部よりも前記電子線ガイド部の基端側に配置されている、請求項9又は10に記載の電子線照射装置。
  12.  前記集束部は、前記調整部よりも前記電子線ガイド部の基端側に配置されている、請求項9又は10に記載の電子線照射装置。
  13.  電子線照射装置を用いて電子線を容器の内面に照射する方法であって、
     前記電子線照射装置は、
      前記電子線を発生させる電子線発生部と、
      前記電子線発生部を収容する真空空間を構成する筐体部と、
      基端側が前記筐体部に接続されて前記真空空間と連通すると共に、先端側には容器の口部を介して当該容器内に挿入可能な長尺の筒状部材が備えられ、前記電子線発生部で発生させた前記電子線が内部を通過する電子線ガイド部と、
      前記電子線ガイド部の前記筒状部材の先端側に設けられ、前記電子線を出射する電子線出射窓と、
      前記真空空間の外部において前記電子線ガイド部の基端側に配置され、前記電子線ガイド部における前記電子線の軌道を調整する調整部と、
      前記電子線ガイド部における前記電子線の集束を制御する集束部と、を具備しており、
     前記電子線発生部から前記電子線を発生させ、前記電子線ガイド部の内部に前記電子線を通過させつつ前記調整部により前記電子線ガイド部を通過する前記電子線の軌道を調整して、前記電子線出射窓へ前記電子線を到達させて前記電子線出射窓から前記電子線を出射させるステップと、
     前記電子線を出射状態とした後、前記筒状部材を前記容器の口部を介して前記容器の内部に挿入し、前記容器と前記電子線出射窓との相対的な位置関係を常に変動させながら、前記容器の内面に前記電子線を照射するステップと、を備え、
     前記電子線を照射する前記ステップは、
      前記筒状部材の先端を前記容器の内部に位置させ、前記容器の底面に前記電子線を照射するステップを含み、
     前記電子線を出射させる前記ステップでは、
      前記調整部により、前記電子線の軌道を前記筒状部材の中心軸線に一致するように調整し、
      前記集束部により、前記電子線ガイド部の内部において集束点が形成されないように前記電子線を集束する、電子線照射方法。
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