JP2013182685A - レーザイオン源 - Google Patents
レーザイオン源 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013182685A JP2013182685A JP2012043816A JP2012043816A JP2013182685A JP 2013182685 A JP2013182685 A JP 2013182685A JP 2012043816 A JP2012043816 A JP 2012043816A JP 2012043816 A JP2012043816 A JP 2012043816A JP 2013182685 A JP2013182685 A JP 2013182685A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- target
- ion source
- container
- laser
- valve
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J27/00—Ion beam tubes
- H01J27/02—Ion sources; Ion guns
- H01J27/24—Ion sources; Ion guns using photo-ionisation, e.g. using laser beam
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/10—Ion sources; Ion guns
- H01J49/16—Ion sources; Ion guns using surface ionisation, e.g. field-, thermionic- or photo-emission
- H01J49/161—Ion sources; Ion guns using surface ionisation, e.g. field-, thermionic- or photo-emission using photoionisation, e.g. by laser
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/10—Ion sources; Ion guns
- H01J49/16—Ion sources; Ion guns using surface ionisation, e.g. field-, thermionic- or photo-emission
- H01J49/161—Ion sources; Ion guns using surface ionisation, e.g. field-, thermionic- or photo-emission using photoionisation, e.g. by laser
- H01J49/162—Direct photo-ionisation, e.g. single photon or multi-photon ionisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/10—Ion sources; Ion guns
- H01J49/16—Ion sources; Ion guns using surface ionisation, e.g. field-, thermionic- or photo-emission
- H01J49/161—Ion sources; Ion guns using surface ionisation, e.g. field-, thermionic- or photo-emission using photoionisation, e.g. by laser
- H01J49/164—Laser desorption/ionisation, e.g. matrix-assisted laser desorption/ionisation [MALDI]
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
【解決手段】イオン生成真空容器110は、真空排気され、レーザ光の照射によりイオンを発生するターゲット112が輸送されて配置される。バルブ130は、イオン生成真空容器110の側面に設けられ、イオン生成真空容器110内へのターゲット112の輸送時に開き、当該輸送時以外は閉じる。ターゲット補給容器120は、バルブ130を介してイオン生成真空容器110に取り付けられ、ターゲット112を移動可能に保持し、イオン生成真空容器110とは独立して真空排気可能である。ターゲット補給容器120に保持されたターゲット112は、バルブ130を閉じた状態でターゲット補給容器が真空排気された後に、バルブ130を開いた状態でイオン生成真空容器110に輸送される。
【選択図】図1
Description
図1は、本発明の第1の実施形態に係るレーザイオン源の概略構成を示す見取り図である。
次に、図3を参照して、本発明の第2の実施形態について説明する。図3においては、前述した図2(及び図1)と同様の部分には同一参照符号を付してその詳しい説明を省略する。ここでは、図2と異なる部分について主に説明する。
次に、図9を参照して、本発明の第3の実施形態について説明する。なお、本実施形態に係るレーザイオン源の構成の概略は、前述した第1の実施形態と同様であるため、適宜、図1及び図2を用いて説明する。
次に、図10を参照して、本発明の第4の実施形態について説明する。なお、本実施形態に係るレーザイオン源の構成の概略は、前述した第1の実施形態と同様であるため、適宜、図1及び図2を用いて説明する。
Claims (9)
- 真空排気され、レーザ光の照射によりイオンを発生するターゲットが輸送されて配置される真空容器と、
前記真空容器の側面に設けられ、前記真空容器内へのターゲットの輸送時に開き、前記輸送時以外は閉じるバルブと、
前記バルブを介して前記真空容器に取り付けられ、前記ターゲットを移動可能に保持し、前記真空容器とは独立して真空排気されるターゲット補給容器と、
前記バルブを閉じた状態で前記ターゲット補給容器が真空排気された後に、前記バルブを開いた状態で前記ターゲット補給容器に保持されたターゲットを前記真空容器に輸送する輸送手段と
を具備することを特徴とするレーザイオン源。 - 前記輸送手段は、前記ターゲット補給容器から前記真空容器までの間に設置された前記ターゲットの輸送方向を規定するガイドレールに沿って前記ターゲットを輸送することを特徴とする請求項1記載のレーザイオン源。
- 前記ガイドレールは、前記バルブの開閉を妨げないように当該バルブの位置で分割されていることを特徴とする請求項2記載のレーザイオン源。
- 前記ターゲット補給容器は、前記ターゲットを保持するターゲットホルダを備え、
前記輸送手段は、前記ターゲットホルダを輸送する
ことを特徴とする請求項1記載のレーザイオン源。 - 前記ターゲットホルダは、磁性材を含み、
前記輸送手段は、前記ターゲットホルダを磁気的に吸引することによって一端が前記ターゲットホルダに接続された棒状部材の他端を押すことによって前記ターゲットを輸送する
ことを特徴とする請求項4記載のレーザイオン源。 - 前記ターゲットホルダは、誘電体を含み、
前記輸送手段は、前記ターゲットホルダを静電的に吸引することによって一端が前記ターゲットホルダに接続された棒状部材の他端を押すことによって前記ターゲットを輸送する
ことを特徴とする請求項4記載のレーザイオン源。 - 前記真空容器は、前記輸送されたターゲットに対する前記レーザ光の照射位置を変更するように当該ターゲットを移動させるターゲット移動手段を備える、請求項1記載のレーザイオン源。
- 前記ターゲット移動手段は、前記輸送されたターゲットの面が前記イオンを発生させる方向に対して直角となるように当該ターゲットを固定する固定手段を含むことを特徴とする請求項7記載のレーザイオン源。
- 前記輸送手段は、前記ターゲット補給容器の圧力が前記真空容器の圧力以下になった場合に、前記バルブを開いた状態で前記ターゲット補給容器に保持されたターゲットを前記真空容器に輸送することを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載のレーザイオン源。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012043816A JP5684171B2 (ja) | 2012-02-29 | 2012-02-29 | レーザイオン源 |
US13/777,237 US9251991B2 (en) | 2012-02-29 | 2013-02-26 | Laser ion source |
DE102013003449.3A DE102013003449B4 (de) | 2012-02-29 | 2013-02-28 | Laserionenquelle |
CN201310063330.0A CN103295861B (zh) | 2012-02-29 | 2013-02-28 | 激光离子源 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012043816A JP5684171B2 (ja) | 2012-02-29 | 2012-02-29 | レーザイオン源 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013182685A true JP2013182685A (ja) | 2013-09-12 |
JP5684171B2 JP5684171B2 (ja) | 2015-03-11 |
Family
ID=48950901
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012043816A Active JP5684171B2 (ja) | 2012-02-29 | 2012-02-29 | レーザイオン源 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9251991B2 (ja) |
JP (1) | JP5684171B2 (ja) |
CN (1) | CN103295861B (ja) |
DE (1) | DE102013003449B4 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5683902B2 (ja) * | 2010-10-29 | 2015-03-11 | 株式会社東芝 | レーザ・イオン源 |
US10395881B2 (en) * | 2017-10-11 | 2019-08-27 | HIL Applied Medical, Ltd. | Systems and methods for providing an ion beam |
US10847340B2 (en) | 2017-10-11 | 2020-11-24 | HIL Applied Medical, Ltd. | Systems and methods for directing an ion beam using electromagnets |
WO2019074497A1 (en) * | 2017-10-11 | 2019-04-18 | Hil Applied Medical, Ltd | SYSTEMS AND METHODS FOR PRODUCING ION BEAM |
CN110295351B (zh) * | 2019-05-27 | 2024-02-27 | 东莞市汇成真空科技有限公司 | 一种通过翻转式靶门隔离靶体的镀膜机 |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5640235A (en) * | 1979-09-10 | 1981-04-16 | Kokusai Electric Co Ltd | Semiconductor substrate loading boat push-in-and-pull-out device |
JPS61114545A (ja) * | 1984-11-09 | 1986-06-02 | Toshiba Corp | ウエ−ハキヤリア |
JPH0463644U (ja) * | 1990-10-11 | 1992-05-29 | ||
JPH05230625A (ja) * | 1992-02-19 | 1993-09-07 | Fujitsu Ltd | 薄膜作製装置及び薄膜作製方法 |
JP2002334428A (ja) * | 2001-05-09 | 2002-11-22 | Fujitsu Ltd | 記録装置の製造方法及び製造装置 |
JP2004140297A (ja) * | 2002-10-21 | 2004-05-13 | Tokyo Electron Ltd | 半導体ウエハ用搬送トレー |
JP2007270284A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Oita Univ | レーザーアブレーション成膜装置 |
JP2007305560A (ja) * | 2006-05-11 | 2007-11-22 | Samsung Sdi Co Ltd | 有機発光素子の蒸着装置及び蒸着材料の充填方法 |
JP2008503037A (ja) * | 2004-06-16 | 2008-01-31 | ゲゼルシャフト フュア シュヴェリオーネンフォルシュング ミット ベシュレンクテル ハフツング | イオンビームによる放射線治療のための粒子加速器 |
JP2008504669A (ja) * | 2004-06-09 | 2008-02-14 | イムラ アメリカ インコーポレイテッド | 超高速パルスレーザ堆積を使用する電気化学デバイス作製方法。 |
JP2009037764A (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-19 | Japan Atomic Energy Agency | イオンビーム引出加速方法及び装置 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3319928C2 (de) * | 1983-06-01 | 1985-06-27 | Emag Maschinenfabrik Gmbh, 7335 Salach | Magnetgreifer |
JPH0463644A (ja) | 1990-05-23 | 1992-02-28 | Casio Comput Co Ltd | 自動組付装置 |
JP3064409B2 (ja) * | 1990-11-30 | 2000-07-12 | 株式会社日立製作所 | 保持装置およびそれを用いた半導体製造装置 |
US5498545A (en) * | 1994-07-21 | 1996-03-12 | Vestal; Marvin L. | Mass spectrometer system and method for matrix-assisted laser desorption measurements |
JP3713524B2 (ja) | 2001-08-08 | 2005-11-09 | 独立行政法人理化学研究所 | イオン加速装置 |
CN1828818A (zh) | 2004-10-15 | 2006-09-06 | 安捷伦科技有限公司 | 用于增强离子产生的装置和方法 |
WO2006086084A2 (en) * | 2004-12-22 | 2006-08-17 | Fox Chase Cancer Center | Target design for high-power laser accelerated ions |
GB0526245D0 (en) | 2005-12-22 | 2006-02-01 | Shimadzu Res Lab Europe Ltd | A mass spectrometer using a dynamic pressure ion source |
JP5183893B2 (ja) | 2006-08-01 | 2013-04-17 | 新光電気工業株式会社 | 配線基板及びその製造方法、及び半導体装置 |
JP5075389B2 (ja) | 2006-10-16 | 2012-11-21 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光源装置 |
DE102008045336B4 (de) * | 2008-09-01 | 2022-05-25 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | System zur Bearbeitung einer Probe mit einem Laserstrahl und einem Elektronenstrahl oder einem Ionenstrahl |
KR101564360B1 (ko) * | 2008-12-18 | 2015-10-29 | 이섬 리서치 디벨러프먼트 컴파니 오브 더 히브루 유니버시티 오브 예루살렘 엘티디. | 고속 이온 생성 시스템 및 그 생성 방법 |
JP5603135B2 (ja) | 2009-05-21 | 2014-10-08 | ギガフォトン株式会社 | チャンバ装置におけるターゲット軌道を計測及び制御する装置及び方法 |
-
2012
- 2012-02-29 JP JP2012043816A patent/JP5684171B2/ja active Active
-
2013
- 2013-02-26 US US13/777,237 patent/US9251991B2/en active Active
- 2013-02-28 DE DE102013003449.3A patent/DE102013003449B4/de active Active
- 2013-02-28 CN CN201310063330.0A patent/CN103295861B/zh active Active
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5640235A (en) * | 1979-09-10 | 1981-04-16 | Kokusai Electric Co Ltd | Semiconductor substrate loading boat push-in-and-pull-out device |
JPS61114545A (ja) * | 1984-11-09 | 1986-06-02 | Toshiba Corp | ウエ−ハキヤリア |
JPH0463644U (ja) * | 1990-10-11 | 1992-05-29 | ||
JPH05230625A (ja) * | 1992-02-19 | 1993-09-07 | Fujitsu Ltd | 薄膜作製装置及び薄膜作製方法 |
JP2002334428A (ja) * | 2001-05-09 | 2002-11-22 | Fujitsu Ltd | 記録装置の製造方法及び製造装置 |
JP2004140297A (ja) * | 2002-10-21 | 2004-05-13 | Tokyo Electron Ltd | 半導体ウエハ用搬送トレー |
JP2008504669A (ja) * | 2004-06-09 | 2008-02-14 | イムラ アメリカ インコーポレイテッド | 超高速パルスレーザ堆積を使用する電気化学デバイス作製方法。 |
JP2008503037A (ja) * | 2004-06-16 | 2008-01-31 | ゲゼルシャフト フュア シュヴェリオーネンフォルシュング ミット ベシュレンクテル ハフツング | イオンビームによる放射線治療のための粒子加速器 |
JP2007270284A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Oita Univ | レーザーアブレーション成膜装置 |
JP2007305560A (ja) * | 2006-05-11 | 2007-11-22 | Samsung Sdi Co Ltd | 有機発光素子の蒸着装置及び蒸着材料の充填方法 |
JP2009037764A (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-19 | Japan Atomic Energy Agency | イオンビーム引出加速方法及び装置 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
JPN7014001225; Hirotsugu Kashiwagi, Masahiro Okamura, R.A. Jameson, Toshiyuki Hattori, Noriyasu Hayashizaki, Kazuhi: 'Direct injection schemeによる高価数炭素ビームの大電流加速' 加速器学会年会・リニアック研究会プロシーディングス , 2005 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9251991B2 (en) | 2016-02-02 |
CN103295861A (zh) | 2013-09-11 |
DE102013003449A1 (de) | 2013-08-29 |
CN103295861B (zh) | 2016-02-24 |
JP5684171B2 (ja) | 2015-03-11 |
US20130221234A1 (en) | 2013-08-29 |
DE102013003449B4 (de) | 2022-09-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5684171B2 (ja) | レーザイオン源 | |
JP5787793B2 (ja) | イオン源 | |
US8710475B2 (en) | Extreme ultraviolet light source device and method for generating extreme ultraviolet light | |
WO2010071036A1 (ja) | プラズマ光源とプラズマ光発生方法 | |
JP2010509714A (ja) | 半導体材料に対して高周波四重極リニア加速器を用いて微粒子を導入する装置及び方法 | |
JP6023355B2 (ja) | 発光封体 | |
KR20190128699A (ko) | 전자선 발생 장치, 및, 전자선 적용 장치 | |
JP5568047B2 (ja) | イオン源およびその動作方法 | |
JP6139771B1 (ja) | 電子線照射装置 | |
CA3154887A1 (en) | Electron beam welding systems employing a plasma cathode | |
KR102660692B1 (ko) | 전자선 장치 및 전자선 장치의 제어 방법 | |
JP6068693B1 (ja) | 電子線照射装置 | |
JP5622081B2 (ja) | プラズマ光源 | |
JP4406311B2 (ja) | エネルギー線照射装置およびそれを用いたパタン作成方法 | |
JP5717165B2 (ja) | 電子加速装置 | |
JP2012174515A (ja) | レーザ・イオン源及びレーザ・イオン源の駆動方法 | |
JP6116307B2 (ja) | 集束イオンビーム装置 | |
JP5189256B2 (ja) | 電子ビーム照射表面改質装置 | |
JP6143007B2 (ja) | 皮膜形成装置及び皮膜形成方法 | |
JP5379591B2 (ja) | 電子線照射装置 | |
JP6735134B2 (ja) | ノズル式電子線照射装置およびこれを具備する電子線滅菌設備 | |
JP3598299B2 (ja) | 液体多原子イオンビーム発生装置 | |
KR102243549B1 (ko) | 중이온 빔 발생 장치 및 방법 | |
JP2013187017A (ja) | 半導体装置の製造装置および製造方法 | |
JPH04341739A (ja) | イオン注入装置のイオン源装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20131205 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20131212 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20131219 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20131226 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140109 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20140109 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140415 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140422 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140620 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20141216 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150114 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5684171 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |