JP2011216303A - Ｘ線源及びｘ線源の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】エネルギ効率に優れ、安定してＸ線を放射することができ、大型化を抑制することのできるＸ線源及びＸ線源の製造方法を提供する。
【解決手段】Ｘ線源１は、電子源４と、第１貫通孔５ｈを有した抑制電極５と、第１貫通孔５ｈの径と同一又はそれを超えたサイズの径を持つ第２貫通孔７ｈを有した引出電極７と、第３貫通孔１１ｈを有した加速電極１１と、レンズ電極１３と、透過型のターゲット３と、遮蔽部材１０と、真空容器２と、を備えている。遮蔽部材１０は、引出電極７に固定され、電子ビームを遮蔽する材料で形成され、第２貫通孔７ｈに対向し第２貫通孔７ｈの径未満の径を持つ第４貫通孔１０ｈを有し、電子ビームの通過範囲を狭める。
【選択図】図１

Description

この発明は、Ｘ線源及びＸ線源の製造方法に関する。

一般に、Ｘ線源として、低エネルギのＸ線を放射できるＸ線源が知られている。上記のようなＸ線源は、低い電圧で駆動され、微小な対象物を高分解能で検査する非破壊検査装置などに広く利用されている。Ｘ線源は、電子源から放出される電子ビームを、各種の電極を用いて加速及び集束して透過型のターゲットに入射させ、ターゲットから対象物に向けてＸ線を放射させている（例えば、特許文献１参照）。

微小な対象物を検査するためには、ターゲットに形成する電子ビームの焦点を小さくする必要があるため、針状のカソード電極を用い小径の電子ビームを発生させている。発生させた小径の電子ビームをターゲットまで電送させるために、中央に小径の貫通口を設けた抑制電極及び引出電極を正確に位置合わせする必要がある。ここで、位置あわせを行うとき第1に、カソード電極が抑制電極の貫通孔の中央に顕微鏡で合わせ、第２に引出抑制電極の貫通孔の中央を顕微鏡で合わせる工程が必要であるため、引出電極の貫通口は抑制電極の貫通口より小径にすることは困難であり、引出電極の貫通孔を通過した電子ビームは大きな口径となる。Ｘ線源は、太い電子ビームから中央部の電子ビームのみ切り出して小口径の電子ビームをターゲットに照射するために、引出電極及びターゲット間にアパーチャマスクを設けている。これにより、Ｘ線源は小口径となり、微小な対象物を精度よく検査することができる。

特開２００８−１４０６８７号公報

ところで、上記Ｘ線源は、必要な電子ビーム以外アパーチャマスクで遮蔽する構造であるため、エネルギ効率が悪く、所望のエネルギのＸ線を放射するためにはＸ線源を駆動する電流をより多くする必要がある。このため、高電圧電源装置等を大型化し、Ｘ線源に供給する電流をより多くしなければならない。また、不必要な電子ビームを真空容器内に流すため、電極などが加熱されたり、電極などの表面に荒れ等が生じたりし、動作が不安定になる。

この発明は以上の点に鑑みなされたもので、その目的は、エネルギ効率に優れ、安定してＸ線を放射することができ、大型化を抑制することのできるＸ線源及びＸ線源の製造方法を提供することにある。

上記課題を解決するため、本発明の態様に係るＸ線源は、
電子を放出する電子源と、
前記電子源の電子放出側の先端部が挿入された又は前記先端部から放出された電子が通過する第１貫通孔を有し、前記電子源からの電子放出量を抑制する抑制電極と、
前記抑制電極に対向配置され、前記第１貫通孔に対向し前記第１貫通孔の径を超えたサイズの径を持つ第２貫通孔を有し、前記電子源から放出された電子を電子ビームとして引出す引出電極と、
前記引出電極に対して前記抑制電極の反対側に位置し、前記第２貫通孔に対向した第３貫通孔を有し、前記第２貫通孔を通過した電子ビームを加速させる加速電極と、
前記加速電極に対して前記引出電極の反対側に位置し、前記加速電極の第３貫通孔から取出される電子ビームを集束するレンズ電極と、
前記レンズ電極に対して前記加速電極の反対側に位置し、前記レンズ電極により集束された電子ビームが入射されることでＸ線を放射する透過型のターゲットと、
前記引出電極に固定され、電子ビームを遮蔽する材料で形成され、前記第２貫通孔に対向し前記第２貫通孔の径未満の径を持ち電子ビームを通過させる第４貫通孔を有し、電子ビームの通過範囲を狭める遮蔽部材と、
前記ターゲットが設けられ、前記ターゲットから放射されるＸ線を透過させるＸ線透過窓を有し、前記電子源、抑制電極、引出電極、加速電極、レンズ電極、ターゲット及び遮蔽部材を収容した真空容器と、を備えていることを特徴としている。

また、本発明の他の態様に係るＸ線源の製造方法は、
電子を放出する電子源と、前記電子源の電子放出側の先端部が挿入された又は前記先端部から放出された電子が通過する第１貫通孔を有し、前記電子源からの電子放出量を抑制する抑制電極と、を用意し、
前記第１貫通孔に対向し、前記第１貫通孔の径を超えたサイズの径を持つ第２貫通孔を有し、前記電子源から放出された電子を電子ビームとして引出す引出電極を前記抑制電極に対向配置し、
電子ビームを遮蔽する材料で形成され、前記第２貫通孔に対向し前記第２貫通孔の径未満の径を持ち電子ビームを通過させる第４貫通孔を有し、電子ビームの通過範囲を狭める遮蔽部材を前記引出電極に固定し、
前記電子源、抑制電極、引出電極及び遮蔽部材に、
前記引出電極に対して前記抑制電極の反対側に位置し、前記第２貫通孔に対向した第３貫通孔を有し、前記第２貫通孔を通過した電子ビームを加速させる加速電極と、
前記加速電極に対して前記引出電極の反対側に位置し、前記加速電極の第３貫通孔から取出される電子ビームを集束するレンズ電極と、
前記レンズ電極に対して前記加速電極の反対側に位置し、前記レンズ電極により集束された電子ビームが入射されることでＸ線を放射する透過型のターゲットと、
前記ターゲットから放射されるＸ線を透過させるＸ線透過窓を有し、前記電子源、抑制電極、引出電極、加速電極、レンズ電極及びターゲットを収容した真空容器と、を組合せることを特徴としている。

この発明によれば、エネルギ効率に優れ、安定してＸ線を放射することができ、大型化を抑制することのできるＸ線源及びＸ線源の製造方法を提供することができる。

図１は、本発明の実施の形態に係るＸ線源を示す概略断面図である。 図２は、上記Ｘ線源の製造方法を用いてＸ線源を製造している状態を示す図であり、Ｘ線源の製造された一部示す概略断面図である。 図３は、図２に続く、上記Ｘ線源の製造方法を用いてＸ線源を製造している状態を示す図であり、Ｘ線源の製造された一部示す概略断面図である。 図４は、図３に続く、上記Ｘ線源の製造方法を用いてＸ線源を製造している状態を示す図であり、Ｘ線源の製造された一部示す概略断面図である。

以下、図面を参照しながらこの発明の実施の形態に係るＸ線源及びＸ線源の製造方法について詳細に説明する。始めに、Ｘ線源の構成について説明する。

図１に示すように、Ｘ線源１は、電子源４と、抑制電極５と、引出電極７と、加速電極１１と、レンズ電極１３と、ターゲット３と、遮蔽部材１０と、真空容器２と、を備えている。

電子源４は、導電材料でコーン状に形成され、電子源４の先端部は針状に形成されている。電子源４は、加熱され電圧が与えられることにより電子を放出するものである。
抑制電極５は、導電材料で桶状に形成され、電子源４の電子放出側の先端部が挿入された又は上記先端部から放出された電子が通過する第１貫通孔５ｈを有している。第１貫通孔５ｈは、抑制電極５の底壁を貫通して形成されている。第１貫通孔５ｈは円形である。この実施の形態において、第１貫通孔５ｈには電子源４の電子放出側の先端部が挿入されている。抑制電極５は、電子源４からの広がる電子放出量を抑制するものである。

引出電極７は、抑制電極５に所定の間隔を置いて対向配置され、導電材料で形成されている。引出電極７は、板状、詳しくは円盤状に形成されている。引出電極７は、第１貫通孔５ｈに対向し第１貫通孔５ｈの径を超えたサイズの径を持つ第２貫通孔７ｈを有している。第２貫通孔７ｈは円形である。この実施の形態において、引出電極７は、第２貫通孔７ｈの中心軸の延長線と第１貫通孔５ｈの中心軸の延長線とが一致するよう位置している。

引出電極７は、加速電極１１と対向した側に形成された凹部７ａを有している。凹部７ａは引出電極７の表面を窪めて形成されている。この実施の形態において、凹部７ａは引出電極７の表面を円盤状に窪めて形成されている。引出電極７の平面に沿った方向において、凹部７ａのサイズは、第２貫通孔７ｈより大きい。凹部７ａは、凹部７ａの中心軸の延長線が第２貫通孔７ｈの中心軸の延長線と一致するよう引出電極７に形成されている。引出電極７は、電子源４から放出された電子を電子ビームとして引出すものである。

加速電極１１は、引出電極７に対して抑制電極５の反対側に位置し、引出電極７に所定の間隔を置いて配置され、導電材料で形成されている。加速電極１１は、円盤状に形成されている。

加速電極１１は、第２貫通孔７ｈに対向し後述する第４貫通孔１０ｈの径を超えたサイズの径を持つ第３貫通孔１１ｈを有している。第３貫通孔１１ｈは円形である。第３貫通孔１１ｈの中心軸に沿った方向において、加速電極１１は、第３貫通孔１１ｈが第４貫通孔１０ｈ全体に重なるよう位置している。なお、加速電極１１は、第３貫通孔１１ｈの中心軸の延長線と第４貫通孔１０ｈの中心軸の延長線とが一致するよう位置していた方が好ましい。加速電極１１は、第２貫通孔７ｈ、より詳しくは第４貫通孔１０ｈを通過した電子ビームを加速させるものである。

レンズ電極１３は、加速電極１１に対して引出電極７の反対側に位置し、加速電極１１に所定の間隔を置いて配置され、導電材料で形成されている。レンズ電極１３は、筒状に形成されている。レンズ電極１３は、加速電極１１の第３貫通孔１１ｈからターゲット３に向かう電子ビームの軌道を取り囲むように設けられている。なお、レンズ電極１３は、レンズ電極１３の中心軸の延長線が第３貫通孔１１ｈの中心軸の延長線と一致するよう位置している。

レンズ電極１３は、加速電極１１の第３貫通孔１１ｈから取出される電子ビームを集束するものである。なお、レンズ電極１３は、電子ビームを集束してターゲット３に照射させる。

ターゲット３は、レンズ電極１３に対して加速電極１１の反対側に位置し、レンズ電極１３に所定の間隔を置いて配置されている。ターゲット３は、例えばタングステンで薄膜に形成されている。この実施の形態において、ターゲット３の形状は、円形である。ターゲット３は、後述するＸ線透過窓２４上に直接形成され、Ｘ線透過窓２４と一体化されている。ターゲット３は、Ｘ線透過型のターゲットであり、レンズ電極１３により集束された電子ビームが入射されることでＸ線透過窓２４側にＸ線を放射するものである。

遮蔽部材１０は、引出電極７に固定され、電子ビームを遮蔽する材料で形成されている。この実施の形態において、遮蔽部材１０は導電材料で形成され、引出電極７と同電位に設定されている。

遮蔽部材１０は、加速電極１１に対向している。遮蔽部材１０は、第２貫通孔７ｈに対向し、第２貫通孔７ｈの径未満の径を持ち電子ビームを通過させる第４貫通孔１０ｈを有している。より詳しくは、第４貫通孔１０ｈは、第１貫通孔５ｈの径未満のサイズの径を持っている。

この実施の形態において、遮蔽部材１０は、サイズ及び形状が凹部７ａと同一である。遮蔽部材１０は円盤状に形成されている。遮蔽部材１０は、引出電極７の凹部７ａ内に収容され、第４貫通孔１０ｈの中心軸に直交した方向の位置が固定されている。遮蔽部材１０は、レーザ溶接により引出電極７に接合されている。詳しくは、遮蔽部材１０及び引出電極７の円形枠状の境界線上の任意の４個所でレーザ溶接されている。なお、レーザ溶接個所の位置及び個数は、種々変形可能であり、遮蔽部材１０を引出電極７に固定できればよい。

遮蔽部材１０は、第４貫通孔１０ｈの中心軸の延長線と、第１貫通孔５ｈの中心軸の延長線と、電子源４の先端と、第２貫通孔７ｈの中心軸の延長線と、が一致するよう位置している。遮蔽部材１０は、電子ビームの通過範囲を狭めるものである。

真空容器２は、円盤部２１、筒部２２及びＸ線透過窓２４を有し、電子源４、抑制電極５、引出電極７、加速電極１１、レンズ電極１３、ターゲット３及び遮蔽部材１０を収容している。
円盤部２１は、絶縁材料で円盤状に形成されている。円盤部２１は、電子源４及び抑制電極５を電気的に絶縁して固定している。

筒部２２は、両端が開口した筒状に形成されている。筒部２２は金属で形成されている。筒部２２の一端は円盤部２１で閉塞されている。円盤部２１及び筒部２２は、ロウ付けにより気密に接合されている。筒部２２の他端の開口部にはロウ付けによりＸ線透過窓２４が気密に接合されている。ここで、Ｘ線透過窓２４は、導電性を有するＸ線透過材として、例えばベリリウムで形成されている。上記のように、Ｘ線透過窓２４にターゲット３が設けられ、Ｘ線透過窓２４は、ターゲット３から放射されるＸ線を透過させるものである。

筒部２２の内部には、円環状の絶縁支持材１８と絶縁部材３２を介して加速電極１１が固定されている。また、絶縁支持材１８に設置した円環状の絶縁部材３３を介してレンズ電極１３が固定されている。

この実施の形態において、上記円盤部２１、絶縁支持材１８、絶縁部材３１、絶縁部材３２及び絶縁部材３３は、セラミックで形成されている。真空容器２の内部は、真空状態に保持されている。

この実施の形態において、第１貫通孔５ｈの径は約０．４ｍｍであり、第２貫通孔７ｈの径は約０.６ｍｍであり、第３貫通孔１１ｈの径は約１ｍｍであり、第４貫通孔１０ｈの径は約０.２ｍｍである。

Ｘ線源１の各電極には、図示しない電源より電圧を印加している。抑制電極５には、電子源４に対して負の電圧を印加する。これにより、電子源４からの電子放出量を抑制している。この実施の形態において、抑制電極５には電子源４に対して約−０.３ｋＶの電圧を印加し、引出電極７（遮蔽部材１０）には電子源４に対して約−３ｋＶの電圧を印加し、レンズ電極１３には電子源４に対して約−３.５ｋＶの電圧を印加している。なお、加速電極１１、筒部２２及びＸ線透過窓２４は接地している。このため、ターゲット３は接地電位に設定している。電子源４は設置し対して、−３０ｋVの電圧が印加する。

電子源４にはフィラメントが設置し、フィラメントには接続した直流安定化電源から電流を与えることにより電子源４を加熱して電子（熱電子）を放出する。
後述するが、Ｘ線源１は、真空容器２の一部である固定金具１５と、固定金具１６と、締め具としてのネジ１７とをさらに備えている。
上記のようにＸ線源１が形成されている。

次に、上記Ｘ線源１の製造方法について説明する。
図２に示すように、まず、円盤部２１と、円盤部２１に固定された電子源４及び抑制電極５と、を用意する。次いで、円盤部２１に固定金具１５を間接的に固定する。これにより、電子源４及び抑制電極５と、固定金具１５との相対的な位置は固定されている。固定金具１５にはネジ孔１５ｈが形成されている。

図３に示すように、続いて、引出電極７、絶縁部材３１及び固定金具１６を用意する。なお、固定金具１６は、円環状に形成され、絶縁部材３１にロウ付けにより接合されている。固定金具１６にはネジ孔１６ｈが形成されている。その後、固定金具１５上に固定金具１６を載置し、ネジ孔１６ｈをネジ孔１５ｈに重ねる。これにより、第２貫通孔７ｈの中心軸の延長線が第１貫通孔５ｈの中心軸の延長線にほぼ一致した状態で、引出電極７が抑制電極５に対向配置される。

次いで、凹部７ａと対向した側に顕微鏡５０を配置し、顕微鏡５０を用いて、第１貫通孔５ｈ及び第２貫通孔７ｈの位置関係を確認する。そして、ネジ１７をネジ孔１６ｈ及びネジ孔１５ｈに嵌めこみ、固定金具１６及び固定金具１５をネジ止めする。ネジ止めする際、顕微鏡５０で位置確認し、第２貫通孔７ｈの中心軸の延長線、電子源４の先端及び第１貫通孔５ｈの中心軸の延長線が一致するよう、位置合わせしながら行う。これにより、電子源４及び抑制電極５、並びに引出電極７の相対的な位置が固定される。

図４に示すように、続いて、遮蔽部材１０を引出電極７の凹部７ａ内に収容する（嵌め込む）。これにより、第４貫通孔１０ｈの中心軸に直交した方向の遮蔽部材１０の位置が固定される。その後、遮蔽部材１０を引出電極７に固定する。固定する際、遮蔽部材１０及び引出電極７をレーザ溶接し、接合する。これにより、電子源４の先端及び第１貫通孔５ｈの中心軸の延長線、並びに第４貫通孔１０ｈの中心軸の延長線が一致した状態で、電子源４及び抑制電極５、並びに遮蔽部材１０の相対的な位置が固定される。

図１に示すように、その後、電子源４、抑制電極５、引出電極７及び遮蔽部材１０等に、加速電極１１と、レンズ電極１３と、ターゲット３と、真空容器２と、を組合せ、モジュールに組立てる。これにより、Ｘ線源１が完成する。

以上のように構成されたＸ線源１及びＸ線源１の製造方法によれば、Ｘ線源１は、電子源４と、抑制電極５と、引出電極７と、加速電極１１と、レンズ電極１３と、ターゲット３と、遮蔽部材１０と、真空容器２と、を備えている。

電子源４及び抑制電極５、並びに引出電極７を位置合わせする際、第２貫通孔７ｈを通して第１貫通孔５ｈの位置を確認することができる。この位置合わせが終わった後、引出電極７に遮蔽部材１０を固定している。

これにより、高い精度で電子源４、抑制電極５、引出電極７及び遮蔽部材１０を位置合わせすることができる。そして、電子ビームが通過する第４貫通孔１０ｈは、第２貫通孔７ｈの径未満の径を持ち、より詳しくは、第１貫通孔５ｈの径と同一又はそれ未満のサイズの径を持っている。

アパーチャマスクを設けること無しに、ターゲット３に電子ビームを集光照射でき、ターゲット３に微小焦点を形成できる。電子源４から放出される多くの不要な電流は引出電極７に流れ、消費される電力は電子源４と引出電極７間の電圧と電流の積であるから、電子源４から加速電極１１や筒部２２に流れる電力（電子源４と加速電極１１間電圧と電流の積）より大きく押さえることが可能となる。そのため消費電力が小さくても所望のエネルギのＸ線を放射することができる。このため、エネルギ効率に優れたＸ線源１を得ることができる。そして、消費電力を低下することで電源装置等の大型化を抑制でき、ひいてはＸ線源１の大型化を抑制することができる。

また、必要な電子ビーム以外が各電極間に流れることを低減できるため、電極などの温度の上昇を抑制でき、電極などの表面が荒れる等を抑制でき、安定して、長時間Ｘ線を放射することのできるＸ線源１を得ることができる。

上記のことから、エネルギ効率に優れ、安定してＸ線を放射することができ、大型化を抑制することのできるＸ線源１及びＸ線源１の製造方法を得ることができる。

なお、この発明は上記実施の形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化可能である。また、上記実施の形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。

例えば、抑制電極５、引出電極７（遮蔽部材１０）、加速電極１１、レンズ電極１３等の各種電極に印加する電圧値は、上述した値に限定されるものではなく種々変形可能であり、所望のＸ線エネルギとなるよう調整されていればよい。

第１貫通孔５ｈ、第２貫通孔７ｈ、第３貫通孔１１ｈ及び第４貫通孔１０ｈのそれぞれの径は、上述した値に限定されるものではなく種々変形可能である。
この発明は、上記Ｘ線源１及びＸ線源１の製造方法に限らず、各種Ｘ線源及び各種Ｘ線源の製造方法に適用可能である。

１…Ｘ線源、２…真空容器、３…ターゲット、４…電子源、５…抑制電極、５ｈ…第１貫通孔、７…引出電極、７ｈ…第２貫通孔、７ａ…凹部、１０…遮蔽部材、１０ｈ…第４貫通孔、１１…加速電極、１１ｈ…第３貫通孔、１３…レンズ電極、１５，１６…固定金具、１５ｈ，１６ｈ…ネジ孔、１７…ネジ、２４…Ｘ線透過窓、５０…顕微鏡。

Claims (14)

1. 電子を放出する電子源と、
   前記電子源の電子放出側の先端部が挿入された又は前記先端部から放出された電子が通過する第１貫通孔を有し、前記電子源からの電子放出量を抑制する抑制電極と、
   前記抑制電極に対向配置され、前記第１貫通孔に対向し前記第１貫通孔の径を超えたサイズの径を持つ第２貫通孔を有し、前記電子源から放出された電子を電子ビームとして引出す引出電極と、
   前記引出電極に対して前記抑制電極の反対側に位置し、前記第２貫通孔に対向した第３貫通孔を有し、前記第２貫通孔を通過した電子ビームを加速させる加速電極と、
   前記加速電極に対して前記引出電極の反対側に位置し、前記加速電極の第３貫通孔から取出される電子ビームを集束するレンズ電極と、
   前記レンズ電極に対して前記加速電極の反対側に位置し、前記レンズ電極により集束された電子ビームが入射されることでＸ線を放射する透過型のターゲットと、
   前記引出電極に固定され、電子ビームを遮蔽する材料で形成され、前記第２貫通孔に対向し前記第２貫通孔の径未満の径を持ち電子ビームを通過させる第４貫通孔を有し、電子ビームの通過範囲を狭める遮蔽部材と、
   前記ターゲットが設けられ、前記ターゲットから放射されるＸ線を透過させるＸ線透過窓を有し、前記電子源、抑制電極、引出電極、加速電極、レンズ電極、ターゲット及び遮蔽部材を収容した真空容器と、を備えていることを特徴とするＸ線源。
2. 前記遮蔽部材の第４貫通孔は、前記第１貫通孔の径と同一又はそれ未満のサイズの径を持っていることを特徴とする請求項１に記載のＸ線源。
3. 前記遮蔽部材は、前記第４貫通孔の中心軸の延長線と前記第１貫通孔の中心軸の延長線とが一致するよう位置していることを特徴とする請求項１に記載のＸ線源。
4. 前記電子源の先端部は、針状に形成され、
   前記遮蔽部材は、前記第４貫通孔の中心軸の延長線と前記電子源の先端との位置が一致するよう位置していることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載のＸ線源。
5. 前記引出電極は、前記第２貫通孔の中心軸の延長線と前記第１貫通孔の中心軸の延長線とが一致するよう位置していることを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載のＸ線源。
6. 前記遮蔽部材は導電材料で形成され、前記引出電極と同電位に設定されることを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載のＸ線源。
7. 前記遮蔽部材は、レーザ溶接により前記引出電極に接合されていることを特徴とする請求項１に記載のＸ線源。
8. 前記引出電極は、前記加速電極と対向した側に形成された凹部を有し、
   前記遮蔽部材は、前記引出電極の凹部内に収容され、前記第４貫通孔の中心軸に直交した方向の位置が固定されていることを特徴とする請求項１に記載のＸ線源。
9. 前記遮蔽部材及び凹部は、サイズ及び形状が同一であることを特徴とする請求項８に記載のＸ線源。
10. 電子を放出する電子源と、前記電子源の電子放出側の先端部が挿入された又は前記先端部から放出された電子が通過する第１貫通孔を有し、前記電子源からの電子放出量を抑制する抑制電極と、を用意し、
    前記第１貫通孔に対向し前記第１貫通孔の径を超えたサイズの径を持つ第２貫通孔を有し、前記電子源から放出された電子を電子ビームとして引出す引出電極を前記抑制電極に対向配置し、
    電子ビームを遮蔽する材料で形成され、前記第２貫通孔に対向し前記第２貫通孔の径未満の径を持ち電子ビームを通過させる第４貫通孔を有し、電子ビームの通過範囲を狭める遮蔽部材を前記引出電極に固定し、
    前記電子源、抑制電極、引出電極及び遮蔽部材に、
    前記引出電極に対して前記抑制電極の反対側に位置し、前記第２貫通孔に対向した第３貫通孔を有し、前記第２貫通孔を通過した電子ビームを加速させる加速電極と、
    前記加速電極に対して前記引出電極の反対側に位置し、前記加速電極の第３貫通孔から取出される電子ビームを集束するレンズ電極と、
    前記レンズ電極に対して前記加速電極の反対側に位置し、前記レンズ電極により集束された電子ビームが入射されることでＸ線を放射する透過型のターゲットと、
    前記ターゲットから放射されるＸ線を透過させるＸ線透過窓を有し、前記電子源、抑制電極、引出電極、加速電極、レンズ電極及びターゲットを収容した真空容器と、を組合せることを特徴とするＸ線源の製造方法。
11. 前記引出電極を前記抑制電極に対向配置する際、前記第２貫通孔の中心軸の延長線と前記第１貫通孔の中心軸の延長線とを一致させて行うことを特徴とする請求項１０に記載のＸ線源の製造方法。
12. 前記引出電極は前記加速電極と対向した側に形成された凹部を有している上記Ｘ線源の製造方法において、
    前記遮蔽部材を前記引出電極に固定する際、前記遮蔽部材を前記引出電極の凹部内に収容し、前記第４貫通孔の中心軸に直交した方向の前記遮蔽部材の位置を固定することを特徴とする請求項１１に記載のＸ線源の製造方法。
13. 前記遮蔽部材を前記引出電極に固定する際、レーザ溶接により前記遮蔽部材を前記引出電極に接合することを特徴とする請求項１０に記載のＸ線源の製造方法。
14. 前記引出電極は前記加速電極と対向した側に形成された凹部を有している上記Ｘ線源の製造方法において、
    前記遮蔽部材を前記引出電極に固定する際、前記遮蔽部材を前記引出電極の凹部内に収容し、前記第４貫通孔の中心軸に直交した方向の前記遮蔽部材の位置を固定した後、レーザ溶接により前記遮蔽部材を前記引出電極に接合することを特徴とする請求項１１に記載のＸ線源の製造方法。

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