WO2016125477A1 - 表示装置及びその製造方法 - Google Patents

表示装置及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2016125477A1
WO2016125477A1 PCT/JP2016/000473 JP2016000473W WO2016125477A1 WO 2016125477 A1 WO2016125477 A1 WO 2016125477A1 JP 2016000473 W JP2016000473 W JP 2016000473W WO 2016125477 A1 WO2016125477 A1 WO 2016125477A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
organic
display panel
display device
substrate
base film
Prior art date
Application number
PCT/JP2016/000473
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
雅浩 長谷川
有希 安田
越智　貴志
杉本　宏
庄治 岡崎
健司 御園
Original Assignee
シャープ株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by シャープ株式会社 filed Critical シャープ株式会社
Priority to CN201680008709.3A priority Critical patent/CN107210011B/zh
Priority to US15/549,023 priority patent/US10236459B2/en
Publication of WO2016125477A1 publication Critical patent/WO2016125477A1/ja

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K77/00—Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
    • H10K77/10—Substrates, e.g. flexible substrates
    • H10K77/111—Flexible substrates
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
    • H10K50/841—Self-supporting sealing arrangements
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/86—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays
    • H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80—Constructional details
    • H10K59/8791—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • G—PHYSICS
    • G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
    • G09F9/30—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements
    • G09F9/301—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements flexible foldable or roll-able electronic displays, e.g. thin LCD, OLED
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K2102/00—Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
    • H10K2102/301—Details of OLEDs
    • H10K2102/311—Flexible OLED
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays
    • H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/1201—Manufacture or treatment
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80—Constructional details
    • H10K59/87—Passivation; Containers; Encapsulations
    • H10K59/871—Self-supporting sealing arrangements
    • H10K59/8722—Peripheral sealing arrangements, e.g. adhesives, sealants
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/40—Thermal treatment, e.g. annealing in the presence of a solvent vapour
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549—Organic PV cells
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Definitions

  • the present invention relates to a display device and a manufacturing method thereof.
  • Patent Document 1 includes an organic EL display panel and a circularly polarizing plate provided on one surface side of the organic EL display panel, and in order to prevent a change in contrast, the stretching axis of the circularly polarizing plate
  • An organic EL display device in which is matched with the bending direction of the organic EL display panel is disclosed.
  • a functional sheet such as a circularly polarizing plate for suppressing reflection of external light or a touch panel for touch operation is provided on one surface of the organic EL display panel. May be pasted.
  • the resin is obtained by curving so that the functional sheet side is on the outside or the inside.
  • the present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide a display device in which a functional sheet is attached to one surface of a display panel using a resin substrate.
  • the purpose is to prevent damage to the underlying film.
  • a display device is provided on a first resin substrate, a first base film made of an inorganic film provided on the first resin substrate, and the first base film.
  • a display panel comprising a counter substrate provided so as to face the switching element side, and a functional sheet attached to a surface of the display panel on the counter substrate side, the display device comprising:
  • the display panel includes a bending portion provided so as to be able to bend with a predetermined curvature radius, and a pair of flat portions provided so as to form a predetermined angle with the bending portion interposed therebetween, and the display panel being held flat.
  • the functional sheet includes the bending portion. Characterized in that attached to be held at the predetermined radius of curvature.
  • a method for manufacturing a display device includes a first resin substrate, a first base film made of an inorganic film provided on the first resin substrate, and a plurality of base films provided on the first base film.
  • An element substrate having a switching element, a second resin substrate, and a counter substrate having a second base film made of an inorganic film provided on the second resin substrate, the plurality of switching element sides of the element substrate facing the counter substrate A panel manufacturing step of manufacturing a display panel by bonding the substrate so as to face the second base film side of the substrate, and bending the display panel with a predetermined radius of curvature to form a curved portion, and A bending step of forming a pair of flat portions in which the display panel is held flat so as to form a predetermined angle across the substrate, and a counter substrate of the display panel in a state where the shapes of the bending portions and the pair of flat portions are held Side table Characterized in that it comprises a sticking step of sticking a functional sheet on.
  • the functional sheet on the surface of the display panel on the counter substrate side is attached so as to be able to hold the curved portion of the display panel with a predetermined curvature radius, one of the display panels using the resin substrate is provided.
  • the functional sheet is attached to the surface of the substrate, damage to the base film on the resin substrate can be suppressed.
  • FIG. 1 is a schematic view of an organic EL display device according to a first embodiment of the present invention. It is sectional drawing of the flat part which comprises the organic electroluminescence display which concerns on the 1st Embodiment of this invention. It is sectional drawing of the curved part which comprises the organic electroluminescence display which concerns on the 1st Embodiment of this invention. It is sectional drawing of the organic electroluminescence display panel which comprises the organic electroluminescence display which concerns on the 1st Embodiment of this invention. It is sectional drawing of the organic electroluminescent layer which comprises the organic electroluminescent display apparatus which concerns on the 1st Embodiment of this invention.
  • FIG. 1 is a schematic view of an organic EL display device 50a according to the present embodiment.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of the flat portion F constituting the organic EL display device 50a.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view of the bending portion C constituting the organic EL display device 50a.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view of the organic EL display panel 40 constituting the organic EL display device 50a.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view of the organic EL layer 16 constituting the organic EL display panel 40.
  • 6 to 8 are schematic diagrams of deformation patterns of the organic EL display device 50a.
  • the organic EL display device 50a includes an organic EL display panel 40 and a functional sheet 45 attached to the surface of the organic EL display panel 40 on the counter substrate 30 side described later. ing.
  • the organic EL display panel 40 is provided in a frame shape between the element substrate 20 and the counter substrate 30 provided so as to face each other, and between the element substrate 20 and the counter substrate 30.
  • a sealing material 35 and a filler 36 provided in a region surrounded by the sealing material 35 between the element substrate 20 and the counter substrate 30 are provided.
  • a display area for displaying an image is defined in a rectangular shape inside the sealing material 35, and a plurality of pixels are arranged in a matrix in the display area.
  • a sub-pixel for performing red gradation display, a sub-pixel for performing green gradation display, and a sub-pixel for performing blue gradation display are adjacent to each other. It is arranged.
  • the element substrate 20 includes a first resin substrate 10a, a first base film 11a sequentially provided on the first resin substrate 10a, a plurality of TFTs 12, an interlayer insulating film 13, and an organic EL.
  • An element 18 and a sealing film 19 are provided.
  • the first resin substrate 10a is, for example, a plastic substrate made of polyimide resin or the like.
  • the first base film 11a is provided on the first resin substrate 10a as shown in FIGS.
  • the first base film 11a is, for example, an inorganic insulating film such as a silicon oxide film or a silicon nitride film.
  • the TFT 12 is a switching element provided for each sub-pixel on the first base film 11a as shown in FIGS.
  • the TFT 12 is provided so as to overlap the gate electrode provided on the first base film 11a, a gate insulating film provided so as to cover the gate electrode, and the gate electrode on the gate insulating film.
  • the semiconductor layer includes a source electrode and a drain electrode provided on the semiconductor layer so as to face each other.
  • the bottom gate type TFT 12 is illustrated, but the TFT 12 may be a top gate type TFT.
  • the interlayer insulating film 13 is provided so as to cover a portion other than a part of the drain electrode of each TFT 12.
  • the interlayer insulation film 13 is comprised by transparent organic resin materials, such as an acrylic resin, for example.
  • the organic EL element 18 includes a plurality of first electrodes 14, an edge cover 15, a plurality of organic EL layers 16, and a second electrode 17 provided in order on the interlayer insulating film 13.
  • the plurality of first electrodes 14 are provided in a matrix on the interlayer insulating film 13 so as to correspond to the plurality of subpixels.
  • the first electrode 14 is connected to the drain electrode of each TFT 12 through a contact hole formed in the interlayer insulating film 13.
  • the first electrode 14 has a function of injecting holes into the organic EL layer 16.
  • the first electrode 14 is more preferably formed of a material having a large work function in order to improve the efficiency of hole injection into the organic EL layer 16.
  • the first electrode 14 for example, silver (Ag), aluminum (Al), vanadium (V), cobalt (Co), nickel (Ni), tungsten (W), gold (Au) , Calcium (Ca), titanium (Ti), yttrium (Y), sodium (Na), ruthenium (Ru), manganese (Mn), indium (In), magnesium (Mg), lithium (Li), ytterbium (Yb) And metal materials such as lithium fluoride (LiF).
  • the material constituting the first electrode 14 is, for example, magnesium (Mg) / copper (Cu), magnesium (Mg) / silver (Ag), sodium (Na) / potassium (K), astatine (At) / oxidation.
  • the material constituting the first electrode 14 is, for example, a conductive oxide such as tin oxide (SnO), zinc oxide (ZnO), indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), or the like. There may be.
  • the first electrode 14 may be formed by laminating a plurality of layers made of the above materials. Examples of the material having a large work function include indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO).
  • the edge cover 15 is provided in a lattice shape so as to cover the peripheral edge of each first electrode 14.
  • the material constituting the edge cover 15 include silicon nitride (SiO 2 ), silicon nitride such as trisilicon tetranitride (Si 3 N 4 ) (SiNx (x is a positive number)), silicon oxynite.
  • An inorganic film such as a ride (SiNO) or an organic film such as a polyimide resin, an acrylic resin, a polysiloxane resin, or a novolac resin can be used.
  • the plurality of organic EL layers 16 are arranged on the first electrodes 14 and are provided in a matrix so as to correspond to the plurality of sub-pixels.
  • the organic EL layer 16 includes a hole injection layer 1, a hole transport layer 2, a light emitting layer 3, an electron transport layer 4, and an electron injection layer provided in this order on the first electrode 14. 5 is provided.
  • the hole injection layer 1 is also called an anode buffer layer, and has a function of improving the efficiency of hole injection from the first electrode 14 to the organic EL layer 16 by bringing the energy levels of the first electrode 14 and the organic EL layer 16 close to each other.
  • a material constituting the hole injection layer for example, a triazole derivative, an oxadiazole derivative, an imidazole derivative, a polyarylalkane derivative, a pyrazoline derivative, a phenylenediamine derivative, an oxazole derivative, a styrylanthracene derivative, a fluorenone derivative, Examples include hydrazone derivatives and stilbene derivatives.
  • the hole transport layer 2 has a function of improving the hole transport efficiency from the first electrode 14 to the organic EL layer 16.
  • examples of the material constituting the hole transport layer 2 include porphyrin derivatives, aromatic tertiary amine compounds, styrylamine derivatives, polyvinylcarbazole, poly-p-phenylene vinylene, polysilane, triazole derivatives, oxadiazole.
  • Derivatives imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives, pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives, amine-substituted chalcone derivatives, oxazole derivatives, styrylanthracene derivatives, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, stilbene derivatives, hydrogenated amorphous silicon, Examples include hydrogenated amorphous silicon carbide, zinc sulfide, and zinc selenide.
  • the light emitting layer 3 when voltage is applied by the first electrode 14 and the second electrode 17, holes and electrons are injected from the first electrode 14 and the second electrode 17, respectively, and the holes and electrons are recombined. It is an area.
  • the light emitting layer 3 is formed of a material having high light emission efficiency. Examples of the material constituting the light emitting layer 3 include metal oxinoid compounds [8-hydroxyquinoline metal complexes], naphthalene derivatives, anthracene derivatives, diphenylethylene derivatives, vinylacetone derivatives, triphenylamine derivatives, butadiene derivatives, and coumarin derivatives.
  • the electron transport layer 4 has a function of efficiently moving electrons to the light emitting layer 3.
  • examples of the material constituting the electron transport layer 4 include organic compounds such as oxadiazole derivatives, triazole derivatives, benzoquinone derivatives, naphthoquinone derivatives, anthraquinone derivatives, tetracyanoanthraquinodimethane derivatives, diphenoquinone derivatives, and fluorenone derivatives. , Silole derivatives, metal oxinoid compounds and the like.
  • the electron injection layer 5 has a function of bringing the energy levels of the second electrode 17 and the organic EL layer 16 closer to each other, and improving the efficiency with which electrons are injected from the second electrode 17 into the organic EL layer 16.
  • the drive voltage of the organic EL element 18 can be lowered.
  • the electron injection layer 5 is also called a cathode buffer layer.
  • a material constituting the electron injection layer 5 for example, lithium fluoride (LiF), magnesium fluoride (MgF 2 ), calcium fluoride (CaF 2 ), strontium fluoride (SrF 2 ), barium fluoride.
  • Inorganic alkali compounds such as (BaF 2 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), strontium oxide (SrO), and the like can be given.
  • the second electrode 17 is provided so as to cover each organic EL layer 16 and the edge cover 15.
  • the second electrode 17 has a function of injecting electrons into the organic EL layer 16.
  • the second electrode 17 is more preferably composed of a material having a small work function in order to improve the efficiency of electron injection into the organic EL layer 16.
  • the second electrode 17 for example, silver (Ag), aluminum (Al), vanadium (V), cobalt (Co), nickel (Ni), tungsten (W), gold (Au) , Calcium (Ca), titanium (Ti), yttrium (Y), sodium (Na), ruthenium (Ru), manganese (Mn), indium (In), magnesium (Mg), lithium (Li), ytterbium (Yb) And lithium fluoride (LiF).
  • the second electrode 17 is, for example, magnesium (Mg) / copper (Cu), magnesium (Mg) / silver (Ag), sodium (Na) / potassium (K), astatine (At) / oxidized astatine (AtO 2).
  • the second electrode 17 may be formed of a conductive oxide such as tin oxide (SnO), zinc oxide (ZnO), indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), or the like. .
  • the second electrode 17 may be formed by stacking a plurality of layers made of the above materials.
  • Examples of materials having a small work function include magnesium (Mg), lithium (Li), lithium fluoride (LiF), magnesium (Mg) / copper (Cu), magnesium (Mg) / silver (Ag), and sodium.
  • (Na) / potassium (K) lithium (Li) / aluminum (Al), lithium (Li) / calcium (Ca) / aluminum (Al), lithium fluoride (LiF) / calcium (Ca) / aluminum (Al) Etc.
  • the sealing film 19 is provided so as to cover the organic EL element 18.
  • the sealing film 19 has a function of protecting the organic EL element 18 from moisture and oxygen.
  • a material constituting the sealing film 19 for example, silicon nitride (SiNx (Si 2 N 3 ) such as silicon oxide (SiO 2 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), and trisilicon tetranitride (Si 3 N 4 ).
  • x is a positive number
  • inorganic materials such as silicon carbonitride (SiCN), and organic materials such as acrylate, polyurea, parylene, polyimide, and polyamide.
  • the counter substrate 30 includes a second resin substrate 10b and a second base film 11b provided on the second resin substrate 10b.
  • the second resin substrate 10b is, for example, a plastic substrate made of polyimide resin.
  • the second base film 11b is an inorganic insulating film such as a silicon oxide film or a silicon nitride film.
  • the sealing material 35 is provided so as to adhere the element substrate 20 and the counter substrate 30 to each other at the periphery of the substrate.
  • a material for forming the sealing material 35 for example, an epoxy resin, an acrylic resin, a polyimide resin, a phenol resin, or the like having ultraviolet curable properties and / or thermosetting properties may be used.
  • the filler 36 has a getter function for adsorbing moisture, oxygen, and the like.
  • examples of the material constituting the filler 36 include thermosetting epoxy resin and silicon resin.
  • the filler 36 contains, for example, metal oxides such as calcium oxide (CaO), barium oxide (BaO), and aluminum oxide (Al 2 O 3 ), activated carbon, silica gel, zeolite, and the like.
  • the functional sheet 45 is configured to suppress reflection of external light.
  • the functional sheet 45 is, for example, a circularly polarizing plate in which a polarizing plate and a quarter wavelength plate are combined, an antireflection film in which a low refractive index material is applied to a base film, or the like.
  • the organic EL display device 50a having the above configuration has a curved portion C in which the organic EL display panel 40 is curved with a curvature radius R of a predetermined (10 mm or more and 50 mm or less) and a predetermined ( And a pair of flat portions F provided to form an angle ⁇ of 45 ° or more and 135 ° or less.
  • the bending portion C is bent so that the functional sheet 45 side is inward.
  • the organic EL display panel 40 is held flat.
  • the functional sheet 45 is attached so that the curved portion C can be held with a predetermined radius of curvature R.
  • the organic EL display device 50a is manufactured to have a curved portion C having a predetermined curvature radius R and a pair of flat portions F having a predetermined angle ⁇ across the curved portion C by a manufacturing method described later. Although it is basically held in its shape (curvature radius R and angle ⁇ ), when the pair of flat portions F open and close by its own weight, the curvature radius R and angle ⁇ are shaken numerically and deformed. It is configured as follows. For example, when the organic EL display device 50a is deformed at least in a planar shape so that the angle formed by the pair of flat portions F with respect to the curved portion C is 180 °, tensile stress is applied to the surface of the functional sheet 45.
  • the organic EL display device 50a having the above configuration faces each other.
  • the pair of flat portions F is opened from the state of FIG. 6 (equivalent to FIG. 1), the pair of flat portions F and the curved portion C are arranged in the same plane.
  • the state is changed to the state shown in FIG. That is, the organic EL display device 50a is provided with a pair of flat portions F that can be folded via the curved portion C.
  • the organic EL display device 50a having the above configuration, when the curvature radius R of the curved portion C is less than 10 mm, bubbles are easily mixed when the functional sheet 45 is attached to the surface of the organic EL display panel 40. .
  • the radius of curvature R of the curved portion C exceeds 50 mm, when the organic EL display device 50a is bent, the stress applied to the first base film 11a on the first resin substrate 10a is increased, and the first 1 The base film 11a is easily damaged.
  • the angle ⁇ formed by the pair of flat portions F is less than 45 °, it is difficult to deform the organic EL display device 50a flat. Further, when the angle ⁇ formed by the pair of flat portions F exceeds 135 °, the stress applied to the first base film 11a on the first resin substrate 10a is increased, and the first base film 11a is easily damaged. .
  • FIG. 9 is a schematic view for explaining a method of manufacturing the organic EL display device 50a.
  • the manufacturing method of the organic EL display device 50a of this embodiment includes a panel manufacturing process, a bending process, and a pasting process.
  • ⁇ Panel manufacturing process> For example, on the surface of the first resin substrate 10a made of polyimide resin, using a well-known method, the first base film 11a, the TFT 12, the interlayer insulating film 13, the organic EL element 18 (first electrode 14, edge cover 15, organic By forming the EL layer 16 (the hole injection layer 1, the hole transport layer 2, the light emitting layer 3, the electron transport layer 4, the electron injection layer 5), the second electrode 17), and the sealing film 19, an element substrate 20 is formed. Is made.
  • the counter substrate 30 is manufactured by forming the second base film 11b on the surface of the second resin substrate 10b made of polyimide resin by using a known method.
  • the sealing resin is arranged in a frame shape on the surface of the element substrate 20 by, for example, a dispenser method, and the filling resin is dropped inside the sealing resin.
  • the element substrate 20 on which the sealing resin and the filling resin are arranged and the counter substrate 30 are bonded together in a reduced pressure atmosphere, and then the reduced pressure atmosphere is released, thereby the outer surfaces of the element substrate 20 and the counter substrate 30. Pressurize.
  • the panel to be irradiated is heated to cure the sealing resin and the filling resin, so that the sealing material 35 and the filling material are cured. 36 is formed.
  • the organic EL display panel 40 can be manufactured as described above.
  • a stage S having a mounting surface having a concave cross section is prepared, and an organic EL display panel 40 is adsorbed and held on the mounting surface of the stage S from the element substrate 20 side.
  • the display panel 40 is curved with a predetermined radius of curvature R to form a curved portion C, and a pair of flat portions F are formed so as to form a predetermined angle ⁇ across the curved portion C.
  • a functional sheet 45 is attached to the surface of the organic EL display panel 40 held on the stage S on the counter substrate 30 side.
  • the organic EL display device 50a of this embodiment can be manufactured.
  • Example 1 of this embodiment an organic EL display panel having a thickness of 50 ⁇ m is first manufactured by the manufacturing method described above. Thereafter, the organic EL display panel is held on the counter substrate side of the organic EL display panel in a state where the curvature radius R of the curved portion C is 15 mm and the angle ⁇ formed by the pair of flat portions F is 100 °.
  • a 120 ⁇ m-thick circular polarizing plate “NZD-CMEQHC” manufactured by Nitto Denko Corporation was attached to the surface, and an organic EL display device was prototyped.
  • Example 2 of this embodiment first, an organic EL display panel having a thickness of 50 ⁇ m is manufactured by the manufacturing method described above. Thereafter, the organic EL display panel is held on the counter substrate side of the organic EL display panel in a state where the curvature radius R of the curved portion C is 15 mm and the angle ⁇ formed by the pair of flat portions F is 100 °.
  • a 100 ⁇ m thick antireflection film “ReaLook (registered trademark) 9900” manufactured by NOF Corporation is attached to the surface with an adhesive “PD-S1” (25 ⁇ m thick) manufactured by Panac Co., Ltd., and an organic EL display device Prototyped.
  • Example 3 of this embodiment first, an organic EL display panel having a thickness of 50 ⁇ m is manufactured by the manufacturing method described above. Thereafter, the organic EL display panel is held on the counter substrate side of the organic EL display panel in a state where the curvature radius R of the curved portion C is 15 mm and the angle ⁇ formed by the pair of flat portions F is 80 °.
  • a circularly polarizing plate “NZD-CMEQHC” manufactured by Nitto Denko Corporation was attached to the surface, and an organic EL display device was prototyped.
  • an organic EL display panel having a thickness of 50 ⁇ m is manufactured by the manufacturing method described above. After that, with the organic EL display panel held flat, a circular polarizing plate “NZD-CMEQHC” manufactured by Nitto Denko Corporation was pasted on the surface of the organic EL display panel on the opposite substrate side, and an organic EL display device was prototyped. did.
  • the organic EL display panel 40 is manufactured by bonding the element substrate 20 so that the switching element 12 side of the element substrate 20 faces the second base film 11b side of the counter substrate 30. Thereafter, in the bending step, the organic EL display panel 40 is bent with a predetermined radius of curvature R to form a curved portion C, and the organic EL display panel 40 has a predetermined angle ⁇ across the curved portion C. Forms a pair of flat portions F that are held flat.
  • the functional sheet 45 is pasted on the surface of the organic EL display panel 40 on the counter substrate 30 side while maintaining the shapes of the curved portion C and the pair of flat portions F of the organic EL display panel 40. Therefore, the functional sheet 45 is attached to the surface of the organic EL display panel 40 on the counter substrate 30 side so that the curved portion C of the organic EL display panel 40 can be held with a predetermined radius of curvature R.
  • the organic EL display device 50a is curved in advance with a predetermined radius of curvature R, for example, when the organic EL display device 50a is further deformed, the organic EL display device 50a is curved as compared with the case where the organic EL display device is entirely flat.
  • the amount of bending can be reduced.
  • the stress applied to the first base film 11a on the first resin substrate 10a of the bending portion C is reduced, so that the breakage of the first base film 11a can be suppressed. it can. Therefore, in the organic EL display device 50a in which the functional sheet 45 is attached to the surface on the counter substrate 30 side of the organic EL display panel 40 using the first resin substrate 10a and the second resin substrate 10b, the first resin substrate 10a. It is possible to suppress the damage of the upper first base film 11a.
  • the organic EL display device 50a can be folded compactly or opened in a planar shape.
  • the functional sheet 45 is configured to suppress reflection of external light, reflected light generated on the surface of the functional sheet 45, that is, the surface of the organic EL display device 50a can be reduced. .
  • FIG. 10 is a schematic diagram of the organic EL display device 50b of the present embodiment.
  • the same parts as those in FIGS. 1 to 9 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.
  • the organic EL display device 50a bent so that the functional sheet 45 side is recessed is illustrated, but in this embodiment, the organic EL display device 50b bent so that the organic EL display panel 40 side is recessed is used. Illustrate.
  • the organic EL display device 50b includes an organic EL display panel 40 and a functional sheet 45 attached to the surface of the organic EL display panel 40 on the counter substrate 30 side. Further, as shown in FIG. 10, the organic EL display device 50b has a curved portion C in which the organic EL display panel 40 is curved with a predetermined radius of curvature (10 mm to 50 mm) and a predetermined (45) And a pair of flat portions F provided to form an angle ⁇ of not less than 135 ° and not more than 135 °.
  • the bending portion C is bent so that the functional sheet 45 side is on the outside.
  • the organic EL display device 50b having the above configuration can be manufactured by, for example, preparing a stage having a mounting surface having a convex cross section in the manufacturing method described in the first embodiment.
  • an organic EL display panel having a thickness of 50 ⁇ m is manufactured by the manufacturing method described above, and then the curvature radius R of the curved portion C is 15 mm and a pair of flat portions is formed on the organic EL display panel.
  • a circularly polarizing plate “NZD-CMEQHC” manufactured by Nitto Denko Co., Ltd. is attached to the surface of the organic EL display panel on the opposite substrate side in a state where the angle formed by F is 100 °, and the organic EL display device is Prototype.
  • the organic EL display device 50b and the manufacturing method thereof of the present embodiment the effects (1) to (5) described above can be obtained.
  • FIG. 11 is a schematic diagram of the organic EL display device 50c of the present embodiment.
  • the organic EL display devices 50a and 50b including one curved portion C are illustrated.
  • the organic EL display device 50c including two curved portions C is used. Illustrate.
  • the organic EL display device 50 c includes an organic EL display panel 40 and a functional sheet 45 attached to the surface of the organic EL display panel 40 on the counter substrate 30 side. Further, as shown in FIG. 11, the organic EL display device 50c includes a first flat portion F, a first curved portion C, a second flat portion F, and a second curved portion from the left side to the right side in the drawing. A portion C and a third flat portion F are provided.
  • the organic EL display panel 40 is curved with a predetermined curvature radius R (10 mm or more and 50 mm or less).
  • the 1st and 2nd curved part C is curving so that the functional sheet 45 side may become an inner side, as shown in FIG.
  • the first and second flat portions F are provided so as to form a predetermined angle ⁇ (45 ° or more and 135 ° or less) with the first curved portion C interposed therebetween.
  • the second and third flat portions F are provided so as to form a predetermined angle (45 ° or more and 135 ° or less) ⁇ with the second curved portion C interposed therebetween.
  • the organic EL display device 50c having the above-described configuration can be manufactured by preparing a stage having a mounting surface having a concave cross section, for example, in the manufacturing method described in the first embodiment.
  • the organic EL display device 50c including the first and second curved portions C that are curved so that the functional sheet 45 side is inward is illustrated, but the functional sheet (45) side is inward. Even if it is an organic EL display device comprising a first curved portion (C) that is curved so as to become a second curved portion (C) that is curved so that the functional sheet (45) side is on the outside. Good.
  • the organic EL display device 50c provided with the three flat portions F and the two curved portions C between them is illustrated, but the present invention has n (n is a natural number of 4 or more) pieces.
  • the present invention can also be applied to an organic EL display device including a flat portion (F) and (n ⁇ 1) curved portions (C) therebetween.
  • the organic EL display device including the organic EL display panel is exemplified as the display device, but the present invention can also be applied to a liquid crystal display device including a liquid crystal display panel.
  • seat is a flexible touch panel, a hard coat film, a mirror film, etc. Also good.
  • an organic EL layer having a five-layer structure of a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer has been exemplified.
  • a three-layer structure of a hole injection layer / hole transport layer, a light emitting layer, and an electron transport layer / electron injection layer may be employed.
  • the organic EL display device using the first electrode as an anode and the second electrode as a cathode has been exemplified.
  • the present invention reverses the stacked structure of the organic EL layers and uses the first electrode as a cathode.
  • the present invention can also be applied to an organic EL display device using the second electrode as an anode.
  • the organic EL display device including the element substrate using the TFT electrode connected to the first electrode as the drain electrode is illustrated.
  • the present invention is not limited to the TFT connected to the first electrode.
  • the present invention can also be applied to an organic EL display device including an element substrate whose electrode is called a source electrode.
  • the present invention is useful for flexible display devices.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

　第１樹脂基板１０ａ上に第１下地膜１１ａ及びスイッチング素子が設けられた素子基板２０と、第２樹脂基板１０ｂに第２下地膜１１ｂが設けられた対向基板３０とを備えた表示パネル４０と、表示パネル４０の対向基板３０側の表面に貼り付けられた機能性シート４５と、表示パネル４０が所定の曲率半径で湾曲可能に設けられた湾曲部Ｃと、湾曲部Ｃを挟んで所定の角度をなすように設けられて表示パネル４０が平坦に保持される一対の平坦部とを備え、機能性シート４５は、湾曲部Ｃを所定の曲率半径で保持可能に貼り付けられている。

Description

表示装置及びその製造方法
　本発明は、表示装置及びその製造方法に関するものである。
　近年、有機ＥＬ（electroluminescence）表示装置や液晶表示装置などの表示装置では、従来、用いられてきたガラス基板の代わりに、樹脂基板を用いた表示パネルを備えた表示装置が提案されている。
　例えば、特許文献１には、有機ＥＬ表示パネルと、その有機ＥＬ表示パネルの一方の表面側に設けられた円偏光板とを備え、コントラストの変化を防止するために、円偏光板の延伸軸を有機ＥＬ表示パネルの湾曲方向と一致させた有機ＥＬ表示装置が開示されている。
特開２０１３－１１８１９３号公報
　ところで、樹脂基板を用いたフレキシブルな有機ＥＬ表示パネルでは、樹脂基板上に１層以上の無機膜からなる下地膜を設けることにより、樹脂基板から有機ＥＬ層への水分の侵入を抑制している。また、有機ＥＬ表示パネルを備えた有機ＥＬ表示装置では、有機ＥＬ表示パネルの一方の表面に、外光の反射を抑えるための円偏光板やタッチ操作を行うためのタッチパネルなどの機能性シートを貼り付ける場合がある。ここで、上述した樹脂基板を用いたフレキシブルな有機ＥＬ表示パネルの一方の表面に機能性シートを貼り付けた有機ＥＬ表示装置では、機能性シート側が外側又は内側になるように湾曲させると、樹脂基板上に設けられた下地膜に引張又は圧縮応力がかかることにより、下地膜が破損することがある。
　また、樹脂基板を用いたフレキシブルな液晶表示パネルにおいても、樹脂基板上に１層以上の無機膜からなる下地膜を設けることにより、樹脂基板から浸入する水分による配向膜や液晶材料の劣化を抑制している。そのため、樹脂基板を用いたフレキシブルな液晶表示パネルの一方の表面に機能性シートを貼り付けた液晶表示装置においても、上述した有機ＥＬ表示装置と同様に、樹脂基板上に設けられた下地膜の破損が懸念される。
　本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、樹脂基板を用いた表示パネルの一方の表面に機能性シートが貼り付けられた表示装置において、樹脂基板上の下地膜の破損を抑制することにある。
　上記目的を達成するために、本発明に係る表示装置は、第１樹脂基板、該第１樹脂基板上に設けられた無機膜からなる第１下地膜、及び該第１下地膜上に設けられた複数のスイッチング素子を有する素子基板と、第２樹脂基板、及び該第２樹脂基板上に設けられた無機膜からなる第２下地膜を有し、該第２下地膜側が前記素子基板の複数のスイッチング素子側に対向するように設けられた対向基板とを備えた表示パネルと、前記表示パネルの対向基板側の表面に貼り付けられた機能性シートとを備えた表示装置であって、前記表示パネルが所定の曲率半径で湾曲可能に設けられた湾曲部と、前記湾曲部を挟んで所定の角度をなすように設けられ、前記表示パネルが平坦に保持される一対の平坦部とを備え、前記機能性シートは、前記湾曲部を前記所定の曲率半径で保持可能に貼り付けられていることを特徴とする。
　また、本発明に係る表示装置の製造方法は、第１樹脂基板、該第１樹脂基板上に設けられた無機膜からなる第１下地膜、及び該第１下地膜上に設けられた複数のスイッチング素子を有する素子基板と、第２樹脂基板、及び該第２樹脂基板上に設けられた無機膜からなる第２下地膜を有する対向基板とを、前記素子基板の複数のスイッチング素子側が前記対向基板の第２下地膜側と対向するように貼り合わせて表示パネルを作製するパネル作製工程と、前記表示パネルを所定の曲率半径で湾曲させることにより、湾曲部を形成すると共に、該湾曲部を挟んで所定の角度をなすように前記表示パネルが平坦に保持された一対の平坦部を形成する湾曲工程と、前記湾曲部及び一対の平坦部の形状を保持した状態で前記表示パネルの対向基板側の表面に機能性シートを貼り付ける貼付工程とを備えることを特徴とする。
　本発明によれば、表示パネルの対向基板側の表面の機能性シートが、表示パネルの湾曲部を所定の曲率半径で保持可能に貼り付けられているため、樹脂基板を用いた表示パネルの一方の表面に機能性シートが貼り付けられた表示装置において、樹脂基板上の下地膜の破損を抑制することができる。
本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の概略図である。 本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置を構成する平坦部の断面図である。 本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置を構成する湾曲部の断面図である。 本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置を構成する有機ＥＬ表示パネルの断面図である。 本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置を構成する有機ＥＬ層の断面図である。 本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の変形パターンの概略図である。 本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の変形パターンの概略図である。 本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の変形パターンの概略図である。 本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法を説明するための概略図である。 本発明の第２の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の概略図である。 本発明の第３の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の概略図である。
　以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本発明は、以下の各実施形態に限定されるものではない。
　《第１の実施形態》
　図１～図９は、本発明に係る表示装置の第１の実施形態を示している。ここで、図１は、本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置５０ａの概略図である。また、図２は、有機ＥＬ表示装置５０ａを構成する平坦部Ｆの断面図である。また、図３は、有機ＥＬ表示装置５０ａを構成する湾曲部Ｃの断面図である。また、図４は、有機ＥＬ表示装置５０ａを構成する有機ＥＬ表示パネル４０の断面図である。また、図５は、有機ＥＬ表示パネル４０を構成する有機ＥＬ層１６の断面図である。また、図６～図８は、有機ＥＬ表示装置５０ａの変形パターンの概略図である。
　有機ＥＬ表示装置５０ａは、図１～図３に示すように、有機ＥＬ表示パネル４０と、有機ＥＬ表示パネル４０の後述する対向基板３０側の表面に貼り付けられた機能性シート４５とを備えている。
　有機ＥＬ表示パネル４０は、図２～図４に示すように、互いに対向するように設けられた素子基板２０及び対向基板３０と、素子基板２０及び対向基板３０の間に枠状に設けられたシール材３５と、素子基板２０及び対向基板３０の間のシール材３５に囲まれた領域に設けられた充填材３６とを備えている。ここで、有機ＥＬ表示パネル４０では、シール材３５の内側に画像表示を行う表示領域が矩形状に規定され、その表示領域には、複数の画素がマトリクス状に配列されている。そして、各画素では、例えば、赤色の階調表示を行うためのサブ画素、緑色の階調表示を行うためのサブ画素、及び青色の階調表示を行うためのサブ画素が互いに隣り合うように配列されている。
　素子基板２０は、図２～図４に示すように、第１樹脂基板１０ａと、第１樹脂基板１０ａ上に順に設けられた第１下地膜１１ａ、複数のＴＦＴ１２、層間絶縁膜１３、有機ＥＬ素子１８及び封止膜１９とを備えている。
　第１樹脂基板１０ａは、例えば、ポリイミド樹脂製等のプラスチック基板である。
　第１下地膜１１ａは、図２～図４に示すように、第１樹脂基板１０ａ上に設けられている。ここで、第１下地膜１１ａは、例えば、酸化シリコン膜や窒化シリコン膜等の無機絶縁膜である。
　ＴＦＴ１２は、図２～図４に示すように、第１下地膜１１ａ上に各サブ画素毎に設けられたスイッチング素子である。ここで、ＴＦＴ１２は、例えば、第１下地膜１１ａ上に設けられたゲート電極と、ゲート電極を覆うように設けられたゲート絶縁膜と、ゲート絶縁膜上にゲート電極と重なるように設けられた半導体層と、半導体層上に互いに対峙するように設けられたソース電極及びドレイン電極とを備えている。なお、本実施形態では、ボトムゲート型のＴＦＴ１２を例示したが、ＴＦＴ１２は、トップゲート型のＴＦＴであってもよい。
　層間絶縁膜１３は、図４に示すように、各ＴＦＴ１２のドレイン電極の一部以外を覆うように設けられている。ここで、層間絶縁膜１３は、例えば、アクリル樹脂等の透明な有機樹脂材料により構成されている。
　有機ＥＬ素子１８は、図４に示すように、層間絶縁膜１３上に順に設けられた複数の第１電極１４、エッジカバー１５、複数の有機ＥＬ層１６及び第２電極１７を備えている。
　複数の第１電極１４は、図４に示すように、複数のサブ画素に対応するように、層間絶縁膜１３上にマトリクス状に設けられている。ここで、第１電極１４は、図２に示すように、層間絶縁膜１３に形成されたコンタクトホールを介して、各ＴＦＴ１２のドレイン電極に接続されている。また、第１電極１４は、有機ＥＬ層１６にホール（正孔）を注入する機能を有している。また、第１電極１４は、有機ＥＬ層１６への正孔注入効率を向上させるために、仕事関数の大きな材料で形成するのがより好ましい。ここで、第１電極１４を構成する材料としては、例えば、銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、バナジウム（Ｖ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、タングステン（Ｗ）、金（Ａｕ）、カルシウム（Ｃａ）、チタン（Ｔｉ）、イットリウム（Ｙ）、ナトリウム（Ｎａ）、ルテニウム（Ｒｕ）、マンガン（Ｍｎ）、インジウム（Ｉｎ）、マグネシウム（Ｍｇ）、リチウム（Ｌｉ）、イッテルビウム（Ｙｂ）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）等の金属材料が挙げられる。また、第１電極１４を構成する材料は、例えば、マグネシウム（Ｍｇ）／銅（Ｃｕ）、マグネシウム（Ｍｇ）／銀（Ａｇ）、ナトリウム（Ｎａ）／カリウム（Ｋ）、アスタチン（Ａｔ）／酸化アスタチン（ＡｔＯ２）、リチウム（Ｌｉ）／アルミニウム（Ａｌ）、リチウム（Ｌｉ）／カルシウム（Ｃａ）／アルミニウム（Ａｌ）、又はフッ化リチウム（ＬｉＦ）／カルシウム（Ｃａ）／アルミニウム（Ａｌ）等の合金であっても構わない。さらに、第１電極１４を構成する材料は、例えば、酸化スズ（ＳｎＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）のような導電性酸化物等であってもよい。また、第１電極１４は、上記材料からなる層を複数積層して形成されていてもよい。なお、仕事関数の大きな材料としては、例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）やインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）等が挙げられる。
　エッジカバー１５は、図４に示すように、各第１電極１４の周縁部を覆うように格子状に設けられている。ここで、エッジカバー１５を構成する材料としては、例えば、酸化シリコン（ＳｉＯ２）、四窒化三ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）のような窒化シリコン（ＳｉＮｘ（ｘは正数））、シリコンオキシナイトライド（ＳｉＮＯ）等の無機膜、又はポリイミド樹脂、アクリル樹脂、ポリシロキサン樹脂、ノボラック樹脂等の有機膜が挙げられる。
　複数の有機ＥＬ層１６は、図４に示すように、各第１電極１４上に配置され、複数のサブ画素に対応するように、マトリクス状に設けられている。ここで、有機ＥＬ層１６は、図５に示すように、第１電極１４上に順に設けられた正孔注入層１、正孔輸送層２、発光層３、電子輸送層４及び電子注入層５を備えている。
　正孔注入層１は、陽極バッファ層とも呼ばれ、第１電極１４と有機ＥＬ層１６とのエネルギーレベルを近づけ、第１電極１４から有機ＥＬ層１６への正孔注入効率を改善する機能を有している。ここで、正孔注入層１を構成する材料としては、例えば、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体等が挙げられる。
　正孔輸送層２は、第１電極１４から有機ＥＬ層１６への正孔の輸送効率を向上させる機能を有している。ここで、正孔輸送層２を構成する材料としては、例えば、ポルフィリン誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリ－ｐ－フェニレンビニレン、ポリシラン、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミン置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、水素化アモルファスシリコン、水素化アモルファス炭化シリコン、硫化亜鉛、セレン化亜鉛等が挙げられる。
　発光層３は、第１電極１４及び第２電極１７による電圧印加の際に、第１電極１４及び第２電極１７から正孔及び電子がそれぞれ注入されると共に、正孔及び電子が再結合する領域である。ここで、発光層３は、発光効率が高い材料により形成されている。そして、発光層３を構成する材料としては、例えば、金属オキシノイド化合物［８－ヒドロキシキノリン金属錯体］、ナフタレン誘導体、アントラセン誘導体、ジフェニルエチレン誘導体、ビニルアセトン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、ブタジエン誘導体、クマリン誘導体、ベンズオキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、ベンズチアゾール誘導体、スチリル誘導体、スチリルアミン誘導体、ビススチリルベンゼン誘導体、トリススチリルベンゼン誘導体、ペリレン誘導体、ペリノン誘導体、アミノピレン誘導体、ピリジン誘導体、ローダミン誘導体、アクイジン誘導体、フェノキサゾン、キナクリドン誘導体、ルブレン、ポリ－ｐ－フェニレンビニレン、ポリシラン等が挙げられる。
　電子輸送層４は、電子を発光層３まで効率良く移動させる機能を有している。ここで、電子輸送層４を構成する材料としては、例えば、有機化合物として、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、ベンゾキノン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、テトラシアノアントラキノジメタン誘導体、ジフェノキノン誘導体、フルオレノン誘導体、シロール誘導体、金属オキシノイド化合物等が挙げられる。
　電子注入層５は、第２電極１７と有機ＥＬ層１６とのエネルギーレベルを近づけ、第２電極１７から有機ＥＬ層１６へ電子が注入される効率を向上させる機能を有し、この機能により、有機ＥＬ素子１８の駆動電圧を下げることができる。なお、電子注入層５は、陰極バッファ層とも呼ばれる。ここで、電子注入層５を構成する材料としては、例えば、フッ化リチウム（ＬｉＦ）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、フッ化カルシウム（ＣａＦ２）、フッ化ストロンチウム（ＳｒＦ２）、フッ化バリウム（ＢａＦ２）のような無機アルカリ化合物、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）等が挙げられる。
　第２電極１７は、図４に示すように、各有機ＥＬ層１６及びエッジカバー１５を覆うように設けられている。また、第２電極１７は、有機ＥＬ層１６に電子を注入する機能を有している。また、第２電極１７は、有機ＥＬ層１６への電子注入効率を向上させるために、仕事関数の小さな材料で構成するのがより好ましい。ここで、第２電極１７を構成する材料としては、例えば、銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、バナジウム（Ｖ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、タングステン（Ｗ）、金（Ａｕ）、カルシウム（Ｃａ）、チタン（Ｔｉ）、イットリウム（Ｙ）、ナトリウム（Ｎａ）、ルテニウム（Ｒｕ）、マンガン（Ｍｎ）、インジウム（Ｉｎ）、マグネシウム（Ｍｇ）、リチウム（Ｌｉ）、イッテルビウム（Ｙｂ）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）等が挙げられる。また、第２電極１７は、例えば、マグネシウム（Ｍｇ）／銅（Ｃｕ）、マグネシウム（Ｍｇ）／銀（Ａｇ）、ナトリウム（Ｎａ）／カリウム（Ｋ）、アスタチン（Ａｔ）／酸化アスタチン（ＡｔＯ２）、リチウム（Ｌｉ）／アルミニウム（Ａｌ）、リチウム（Ｌｉ）／カルシウム（Ｃａ）／アルミニウム（Ａｌ）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）／カルシウム（Ｃａ）／アルミニウム（Ａｌ）等の合金により形成されていてもよい。また、第２電極１７は、例えば、酸化スズ（ＳｎＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）等の導電性酸化物により形成されていてもよい。また、第２電極１７は、上記材料からなる層を複数積層して形成されていてもよい。なお、仕事関数が小さい材料としては、例えば、マグネシウム（Ｍｇ）、リチウム（Ｌｉ）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）、マグネシウム（Ｍｇ）／銅（Ｃｕ）、マグネシウム（Ｍｇ）／銀（Ａｇ）、ナトリウム（Ｎａ）／カリウム（Ｋ）、リチウム（Ｌｉ）／アルミニウム（Ａｌ）、リチウム（Ｌｉ）／カルシウム（Ｃａ）／アルミニウム（Ａｌ）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）／カルシウム（Ｃａ）／アルミニウム（Ａｌ）等が挙げられる。
　封止膜１９は、図４に示すように、有機ＥＬ素子１８を覆うように設けられている。そして、封止膜１９は、有機ＥＬ素子１８を水分や酸素から保護する機能を有している。ここで、封止膜１９を構成する材料としては、例えば、酸化シリコン（ＳｉＯ２）や酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、四窒化三ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）のような窒化シリコン（ＳｉＮｘ（ｘは正数））、炭窒化ケイ素（ＳｉＣＮ）等の無機材料、アクリレート、ポリ尿素、パリレン、ポリイミド、ポリアミド等の有機材料が挙げられる。
　対向基板３０は、図２～図４に示すように、第２樹脂基板１０ｂと、第２樹脂基板１０ｂ上に設けられた第２下地膜１１ｂとを備えている。
　第２樹脂基板１０ｂは、例えば、ポリイミド樹脂製等のプラスチック基板である。
　第２下地膜１１ｂは、例えば、酸化シリコン膜や窒化シリコン膜等の無機絶縁膜である。
　シール材３５は、素子基板２０及び対向基板３０を基板周縁部で互いに接着するように設けられている。ここで、シール材３５を形成する材料としては、例えば、紫外線硬化性及び／又は熱硬化性を有するエポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂等が挙げられる。
　充填材３６は、水分や酸素等を吸着させるゲッター機能を有している。ここで、充填材３６を構成する材料としては、例えば、熱硬化性を有するエポキシ樹脂やシリコン樹脂等が挙げられる。また、充填材３６には、例えば、酸化カルシウム（ＣａＯ）、酸化バリウム（ＢａＯ）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）のような金属酸化物、活性炭、シリカゲル、ゼオライト等が含有されている。
　機能性シート４５は、外光の反射を抑制するように構成されている。ここで、機能性シート４５は、例えば、偏光板と１／４波長板とを組み合わせた円偏光板、基材フィルムに低屈折率材料を塗布した反射防止フィルム等である。
　上記構成の有機ＥＬ表示装置５０ａは、図１に示すように、有機ＥＬ表示パネル４０が所定（１０ｍｍ以上５０ｍｍ以下）の曲率半径Ｒで湾曲した湾曲部Ｃと、湾曲部Ｃを挟んで所定（４５°以上１３５°以下）の角度θをなすように設けられた一対の平坦部Ｆとを備えている。ここで、湾曲部Ｃは、図１に示すように、機能性シート４５側が内側になるように湾曲している。また、平坦部Ｆでは、図１に示すように、有機ＥＬ表示パネル４０が平坦に保持されている。なお、機能性シート４５は、湾曲部Ｃを所定の曲率半径Ｒで保持可能に貼り付けられている。ここで、有機ＥＬ表示装置５０ａは、後述する製造方法により、所定の曲率半径Ｒの湾曲部Ｃと、湾曲部Ｃを挟んで所定の角度θをなす一対の平坦部Ｆとを有するように製造されて、基本的にその形状（曲率半径Ｒ及び角度θ）で保持されるものの、一対の平坦部Ｆが自重で開閉することにより、曲率半径Ｒ及び角度θが数値的に振れて、変形するように構成されている。そして、有機ＥＬ表示装置５０ａは、例えば、湾曲部Ｃを挟んで一対の平坦部Ｆのなす角度が１８０°になるように平面状に少なくとも変形させると、機能性シート４５の表面に引張応力が働くと共に、有機ＥＬ表示パネル４０の表面に圧縮応力が働くことにより、有機ＥＬ表示パネル４０に曲げ応力が加わるため、元の形状（曲率半径Ｒ及び角度θ）に戻ろうとする性質を有している。
　また、上記構成の有機ＥＬ表示装置５０ａは、図６～図８に示すように、図６の状態（図１と同等）から一対の平坦部Ｆを閉じると、一対の平坦部Ｆが互いに対向するように配置された図７の状態に変形し、図６の状態（図１と同等）から一対の平坦部Ｆを開くと、一対の平坦部Ｆ及び湾曲部Ｃが同一平面状に配置された図８の状態に変形する。すなわち、有機ＥＬ表示装置５０ａは、一対の平坦部Ｆが湾曲部Ｃを介して折り畳み可能に設けられている。
　さらに、上記構成の有機ＥＬ表示装置５０ａにおいて、湾曲部Ｃの曲率半径Ｒが１０ｍｍ未満の場合には、有機ＥＬ表示パネル４０の表面に機能性シート４５を貼り付ける際に気泡が混入し易くなる。また、湾曲部Ｃの曲率半径Ｒが５０ｍｍを超える場合には、有機ＥＬ表示装置５０ａを屈曲させた際に、第１樹脂基板１０ａ上の第１下地膜１１ａにかかる応力が大きくなって、第１下地膜１１ａが破損し易くなる。また、一対の平坦部Ｆがなす角度θが４５°未満の場合には、有機ＥＬ表示装置５０ａを平坦に変形させ難くなる。また、一対の平坦部Ｆがなす角度θが１３５°を超える場合には、第１樹脂基板１０ａ上の第１下地膜１１ａにかかる応力が大きくなって、第１下地膜１１ａが破損し易くなる。
　次に、本実施形態の有機ＥＬ表示装置５０ａの製造方法について説明する。ここで、図９は、有機ＥＬ表示装置５０ａの製造方法を説明するための概略図である。なお、本実施形態の有機ＥＬ表示装置５０ａの製造方法は、パネル作製工程、湾曲工程及び貼付工程を備える。
　＜パネル作製工程＞
　例えば、ポリイミド樹脂製の第１樹脂基板１０ａの表面に、周知の方法を用いて、第１下地膜１１ａ、ＴＦＴ１２、層間絶縁膜１３、有機ＥＬ素子１８（第１電極１４、エッジカバー１５、有機ＥＬ層１６（正孔注入層１、正孔輸送層２、発光層３、電子輸送層４、電子注入層５）、第２電極１７）及び封止膜１９を形成することにより、素子基板２０を作製する。
　また、例えば、ポリイミド樹脂製の第２樹脂基板１０ｂの表面に、周知の方法を用いて、第２下地膜１１ｂを形成することにより、対向基板３０を作製する。
　さらに、素子基板２０の表面に、例えば、ディスペンサ方式により、シール樹脂を枠状に配置すると共に、シール樹脂の内側に充填樹脂を滴下して配置する。
　続いて、シール樹脂及び充填樹脂が配置された素子基板２０と、対向基板３０とを減圧雰囲気で貼り合わせた後に、その減圧雰囲気を開放することにより、素子基板２０及び対向基板３０の外側の表面を加圧する。
　さらに、例えば、素子基板２０及び対向基板３０に挟まれたシール樹脂４５に紫外線を照射した後に、被照射パネルを加熱することにより、シール樹脂及び充填樹脂を硬化させて、シール材３５及び充填材３６を形成する。
　以上のようにして、有機ＥＬ表示パネル４０を作製することができる。
　＜湾曲工程＞
　図９に示すように、横断面が凹形状の載置面を有するステージＳを準備し、ステージＳの載置面に有機ＥＬ表示パネル４０を素子基板２０側から吸着保持させることにより、有機ＥＬ表示パネル４０を所定の曲率半径Ｒで湾曲させて、湾曲部Ｃを形成すると共に、湾曲部Ｃを挟んで所定の角度θをなすように一対の平坦部Ｆを形成する。
　＜貼付工程＞
　図９に示すように、ステージＳに保持された有機ＥＬ表示パネル４０の対向基板３０側の表面に機能性シート４５を貼り付ける。
　以上のようにして、本実施形態の有機ＥＬ表示装置５０ａを製造することができる。
　次に、具体的に行った実験について説明する。
　本実施形態の実施例１として、まず、上述した製造方法により、厚さ５０μｍの有機ＥＬ表示パネルを作製する。その後、その有機ＥＬ表示パネルを湾曲部Ｃの曲率半径Ｒが１５ｍｍになると共に、一対の平坦部Ｆのなす角度θが１００°になるように保持した状態で有機ＥＬ表示パネルの対向基板側の表面に日東電工株式会社製の厚さ１２０μｍの円偏光板「ＮＺＤ－ＣＭＥＱＨＣ」を貼り付けて、有機ＥＬ表示装置を試作した。
　また、本実施形態の実施例２として、まず、上述した製造方法により、厚さ５０μｍの有機ＥＬ表示パネルを作製する。その後、その有機ＥＬ表示パネルを湾曲部Ｃの曲率半径Ｒが１５ｍｍになると共に、一対の平坦部Ｆのなす角度θが１００°になるように保持した状態で有機ＥＬ表示パネルの対向基板側の表面に日油株式会社製の厚さ１００μｍの反射防止フィルム「ＲｅａＬｏｏｋ（登録商標）９９００」をパナック株式会社製の粘着剤「ＰＤ－Ｓ１」（厚さ２５μｍ）で貼り付けて、有機ＥＬ表示装置を試作した。
　また、本実施形態の実施例３として、まず、上述した製造方法により、厚さ５０μｍの有機ＥＬ表示パネルを作製する。その後、その有機ＥＬ表示パネルを湾曲部Ｃの曲率半径Ｒが１５ｍｍになると共に、一対の平坦部Ｆのなす角度θが８０°になるように保持した状態で有機ＥＬ表示パネルの対向基板側の表面に日東電工株式会社製の円偏光板「ＮＺＤ－ＣＭＥＱＨＣ」を貼り付けて、有機ＥＬ表示装置を試作した。
　さらに、本実施形態の比較例として、まず、上述した製造方法により、厚さ５０μｍの有機ＥＬ表示パネルを作製する。その後、その有機ＥＬ表示パネルを平坦に保持した状態で有機ＥＬ表示パネルの対向基板側の表面に日東電工株式会社製の円偏光板「ＮＺＤ－ＣＭＥＱＨＣ」を貼り付けて、有機ＥＬ表示装置を試作した。
　上述した実施例１～３及び比較例で試作した有機ＥＬ表示装置に対して、ユアサシステム機器株式会社製の屈曲試験機ＴＣＤ１１１Ｌを用いて、曲率半径５ｍｍで１００００回屈曲させる試験を行った後に、第１下地膜の割れを光学顕微鏡で観察した。
　実験結果としては、実施例１～３の有機ＥＬ表示装置では、第１下地膜の割れが確認されなかったのに対し、比較例の有機ＥＬ表示装置では、第１下地膜の割れが確認された。
　以上説明したように、本実施形態の有機ＥＬ表示装置５０ａ及びその製造方法によれば、以下の効果を得ることができる。
　（１）パネル作製工程において、第１樹脂基板１０ａ、第１下地膜１１ａ及びスイッチング素子１２を備えた素子基板２０と、第２樹脂基板１０ｂ及び第２下地膜１１ｂを備えた対向基板３０とを、素子基板２０のスイッチング素子１２側が対向基板３０の第２下地膜１１ｂ側と対向するように貼り合わせて有機ＥＬ表示パネル４０を作製する。その後、湾曲工程において、有機ＥＬ表示パネル４０を所定の曲率半径Ｒで湾曲させることにより、湾曲部Ｃを形成すると共に、湾曲部Ｃを挟んで所定の角度θをなすように有機ＥＬ表示パネル４０が平坦に保持された一対の平坦部Ｆを形成する。さらに、貼付工程において、有機ＥＬ表示パネル４０の湾曲部Ｃ及び一対の平坦部Ｆの形状を保持した状態で有機ＥＬ表示パネル４０の対向基板３０側の表面に機能性シート４５を貼り付ける。そのため、機能性シート４５は、有機ＥＬ表示パネル４０の対向基板３０側の表面に、有機ＥＬ表示パネル４０の湾曲部Ｃを所定の曲率半径Ｒで保持可能に貼り付けられている。これにより、有機ＥＬ表示装置５０ａは、所定の曲率半径Ｒで予め湾曲しているため、例えば、さらに湾曲した形状に変形する際には、全体が平坦な有機ＥＬ表示装置を湾曲させる場合よりも曲げ量を少なくすることができる。その結果、有機ＥＬ表示装置５０ａを湾曲させる際に、湾曲部Ｃの第１樹脂基板１０ａ上の第１下地膜１１ａにかかる応力が小さくなるため、第１下地膜１１ａの破損を抑制することができる。したがって、第１樹脂基板１０ａ及び第２樹脂基板１０ｂを用いた有機ＥＬ表示パネル４０の対向基板３０側の表面に機能性シート４５が貼り付けられた有機ＥＬ表示装置５０ａにおいて、第１樹脂基板１０ａ上の第１下地膜１１ａの破損を抑制することができる。
　ここで、機能性シート（４５）を貼り付けていない有機ＥＬ表示パネル（４０）だけを湾曲させた場合には、実質的に応力がかからない中立面が有機ＥＬ表示パネル（４０）内に存在するため、その中立面と第１下地膜（１１ａ）との距離が相対的に短くなる。そのため、有機ＥＬ表示パネル（４０）だけを湾曲させた場合には、第１下地膜（１１ａ）が破損し難い。一方、全体が平坦に保持された有機ＥＬ表示パネル（４０）の表面に機能性シート（４５）を貼り付け、その有機ＥＬ表示パネル（４０）を湾曲させた場合には、実質的に応力がかからない中立面が機能性シート（４５）側にシフトするため、その中立面と第１下地膜（１１ａ）との距離が相対的に長くなる。そうなると、第１下地膜（１１ａ）にかかる応力が大きくなるため、第１下地膜（１１ａ）が破損し易い。なお、この段落では、本実施形態のものでなく、比較例のものを説明しているため、本実施形態のものに対応する構成要素を括弧付きの符号で示している。
　（２）有機ＥＬ表示パネル４０の湾曲部Ｃの曲率半径Ｒは、１０ｍｍ以上５０ｍｍ以下であるため、有機ＥＬ表示パネル４０の表面に機能性シート４５を貼り付ける際の気泡の混入を抑制することができると共に、第１樹脂基板１０ａ上の第１下地膜１１ａの破損を抑制することができる。また、有機ＥＬ表示パネル４０の一対の平坦部Ｆがなす角度θは、４５°以上１３５°以下であるため、有機ＥＬ表示装置５０ａを容易に平坦に変形させることができると共に、第１樹脂基板１０ａ上の第１下地膜１１ａの破損を抑制することができる。
　（３）一対の平坦部Ｆは、湾曲部Ｃを介して折り畳み可能に設けられているため、有機ＥＬ表示装置５０ａをコンパクトに折り畳んだり、平面状に開いたりすることができる。
　（４）素子基板２０には、有機ＥＬ素子１８が設けられているため、自発光型の表示装置を実現することができる。
　（５）機能性シート４５は、外光の反射を抑制するように構成されているため、機能性シート４５の表面、すなわち、有機ＥＬ表示装置５０ａの表面で生じる反射光を軽減することができる。
　《第２の実施形態》
　図１０は、本実施形態の有機ＥＬ表示装置５０ｂの概略図である。なお、以下の各実施形態において、図１～図９と同じ部分については同じ符号を付して、その詳細な説明を省略する。
　上記第１の実施形態では、機能性シート４５側が凹むように屈曲した有機ＥＬ表示装置５０ａを例示したが、本実施形態では、有機ＥＬ表示パネル４０側が凹むように屈曲した有機ＥＬ表示装置５０ｂを例示する。
　有機ＥＬ表示装置５０ｂは、図１０に示すように、有機ＥＬ表示パネル４０と、有機ＥＬ表示パネル４０の対向基板３０側の表面に貼り付けられた機能性シート４５とを備えている。また、有機ＥＬ表示装置５０ｂは、図１０に示すように、有機ＥＬ表示パネル４０が所定（１０ｍｍ以上５０ｍｍ以下）の曲率半径Ｒで湾曲した湾曲部Ｃと、湾曲部Ｃを挟んで所定（４５°以上１３５°以下）の角度θをなすように設けられた一対の平坦部Ｆとを備えている。ここで、湾曲部Ｃは、図１０に示すように、機能性シート４５側が外側になるように湾曲している。
　上記構成の有機ＥＬ表示装置５０ｂは、上記第１の実施形態で説明した製造方法において、例えば、横断面が凸形状の載置面を有するステージを準備することにより、製造することができる。
　本実施形態の実施例として、上述した製造方法により、厚さ５０μｍの有機ＥＬ表示パネルを作製した後に、その有機ＥＬ表示パネルを湾曲部Ｃの曲率半径Ｒが１５ｍｍになると共に、一対の平坦部Ｆのなす角度が１００°になるように保持した状態で有機ＥＬ表示パネルの対向基板側の表面に日東電工株式会社製の円偏光板「ＮＺＤ－ＣＭＥＱＨＣ」を貼り付けて、有機ＥＬ表示装置を試作した。そして、試作した有機ＥＬ表示装置に対して、上記第１の実施形態と同様に、ユアサシステム機器株式会社製の屈曲試験機ＴＣＤ１１１Ｌを用いて、曲率半径５ｍｍで１００００回屈曲させる試験を行った後に、第１下地膜の割れを光学顕微鏡で観察した。ここで、実験結果としては、本実施例の有機ＥＬ表示装置では、第１下地膜の割れが確認されなかった。
　以上説明したように、本実施形態の有機ＥＬ表示装置５０ｂ及びその製造方法によれば、上述の（１）～（５）の効果を得ることができる。
　《第３の実施形態》
　図１１は、本実施形態の有機ＥＬ表示装置５０ｃの概略図である。
　上記第１及び第２の実施形態では、１つの湾曲部Ｃを備えた有機ＥＬ表示装置５０ａ及び５０ｂを例示したが、本実施形態では、２つの湾曲部Ｃを備えた有機ＥＬ表示装置５０ｃを例示する。
　有機ＥＬ表示装置５０ｃは、図１１に示すように、有機ＥＬ表示パネル４０と、有機ＥＬ表示パネル４０の対向基板３０側の表面に貼り付けられた機能性シート４５とを備えている。また、有機ＥＬ表示装置５０ｃは、図１１に示すように、図中左側から右側に向けて、第１の平坦部Ｆ、第１の湾曲部Ｃ、第２の平坦部Ｆ、第２の湾曲部Ｃ、及び第３の平坦部Ｆを備えている。ここで、第１及び第２の湾曲部Ｃでは、有機ＥＬ表示パネル４０が所定（１０ｍｍ以上５０ｍｍ以下）の曲率半径Ｒで湾曲している。また、第１及び第２の湾曲部Ｃは、図１１に示すように、機能性シート４５側が内側になるように湾曲している。また、第１及び第２の平坦部Ｆは、第１の湾曲部Ｃを挟んで所定（４５°以上１３５°以下）の角度θをなすように設けられている。また、第２及び第３の平坦部Ｆは、第２の湾曲部Ｃを挟んで所定（４５°以上１３５°以下）の角度θをなすように設けられている。
　上記構成の有機ＥＬ表示装置５０ｃは、上記第１の実施形態で説明した製造方法において、例えば、横断面が凹形状の載置面を有するステージを準備することにより、製造することができる。
　以上説明したように、本実施形態の有機ＥＬ表示装置５０ｃ及びその製造方法によれば、上述の（１）～（５）の効果を得ることができる。
　なお、本実施形態では、機能性シート４５側が内側になるようにそれぞれ湾曲した第１及び第２の湾曲部Ｃを備えた有機ＥＬ表示装置５０ｃを例示したが、機能性シート（４５）側が内側になるように湾曲した第１の湾曲部（Ｃ）と、機能性シート（４５）側が外側になるように湾曲した第２の湾曲部（Ｃ）とを備えた有機ＥＬ表示装置であってもよい。
　また、本実施形態では、３つの平坦部Ｆ及びそれらの間の２つの湾曲部Ｃを備えた有機ＥＬ表示装置５０ｃを例示したが、本発明は、ｎ（ｎは４以上の自然数）個の平坦部（Ｆ）及びそれらの間の（ｎ－１）個の湾曲部（Ｃ）を備えた有機ＥＬ表示装置にも適用することができる。
　《その他の実施形態》
　上記各実施形態では、表示装置として、有機ＥＬ表示パネルを備えた有機ＥＬ表示装置を例示したが、本発明は、液晶表示パネルを備えた液晶表示装置などにも適用することができる。
　また、上記各実施形態では、機能性シートとして、外光の反射を抑制するように構成されたシートを例示したが、機能性シートは、フレキシブルなタッチパネル、ハードコートフィルム、ミラーフィルム等であってもよい。
　また、上記各実施形態では、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層及び電子注入層の５層積層構造の有機ＥＬ層を例示したが、有機ＥＬ層は、例えば、正孔注入層兼正孔輸送層、発光層、及び電子輸送層兼電子注入層の３層積層構造であってもよい。
　また、上記各実施形態では、第１電極を陽極とし、第２電極を陰極とした有機ＥＬ表示装置を例示したが、本発明は、有機ＥＬ層の積層構造を反転させ、第１電極を陰極とし、第２電極を陽極とした有機ＥＬ表示装置にも適用することができる。
　また、上記各実施形態では、第１電極に接続されたＴＦＴの電極をドレイン電極とした素子基板を備えた有機ＥＬ表示装置を例示したが、本発明は、第１電極に接続されたＴＦＴの電極をソース電極と呼ぶ素子基板を備えた有機ＥＬ表示装置にも適用することができる。
　以上説明したように、本発明は、フレキシブルな表示装置について有用である。
Ｃ　　　　湾曲部
Ｆ　　　　平坦部
１０ａ　　第１樹脂基板
１０ｂ　　第２樹脂基板
１１ａ　　第１下地膜
１１ｂ　　第２下地膜
１２　　　ＴＦＴ（スイッチング素子）
１８　　　有機ＥＬ素子
２０　　　素子基板
３０　　　対向基板
４０　　　有機ＥＬ表示パネル
４５　　　機能性シート
５０ａ～５０ｃ　　有機ＥＬ表示装置

Claims (9)

  1. 　第１樹脂基板、該第１樹脂基板上に設けられた無機膜からなる第１下地膜、及び該第１下地膜上に設けられた複数のスイッチング素子を有する素子基板と、
    　第２樹脂基板、及び該第２樹脂基板上に設けられた無機膜からなる第２下地膜を有し、該第２下地膜側が前記素子基板の複数のスイッチング素子側に対向するように設けられた対向基板とを備えた表示パネルと、
    　前記表示パネルの対向基板側の表面に貼り付けられた機能性シートとを備えた表示装置であって、
    　前記表示パネルが所定の曲率半径で湾曲可能に設けられた湾曲部と、
    　前記湾曲部を挟んで所定の角度をなすように設けられ、前記表示パネルが平坦に保持される一対の平坦部とを備え、
    　前記機能性シートは、前記湾曲部を前記所定の曲率半径で保持可能に貼り付けられていることを特徴とする表示装置。
  2. 　前記所定の曲率半径は、１０ｍｍ以上５０ｍｍ以下であり、
    　前記所定の角度は、４５°以上１３５°以下であることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
  3. 　前記一対の平坦部は、前記湾曲部を介して折り畳み可能に設けられていることを特徴とする請求項1又は２に記載の表示装置。
  4. 　前記素子基板には、有機ＥＬ素子が設けられていることを特徴とする請求項１～３の何れか１つに記載の表示装置。
  5. 　前記機能性シートは、外光の反射を抑制するように構成されていることを特徴とする請求項１～４の何れか１つに記載の表示装置。
  6. 　前記湾曲部は、前記機能性シート側が凹むように湾曲していることを特徴とする請求項１～５の何れか１つに記載の表示装置。
  7. 　前記湾曲部は、前記表示パネル側が凹むように湾曲していることを特徴とする請求項１～５の何れか１つに記載の表示装置。
  8. 　前記一対の平坦部における一方の平坦部の前記湾曲部と反対側には、前記表示パネルが前記所定の曲率半径で湾曲可能な他の湾曲部が設けられ、
    　前記一方の平坦部と前記他の湾曲部を挟んで前記所定の角度をなすように、前記表示パネルが平坦に保持される他の平坦部が設けられていることを特徴とする請求項１～７の何れか１つに記載の表示装置。
  9. 　第１樹脂基板、該第１樹脂基板上に設けられた無機膜からなる第１下地膜、及び該第１下地膜上に設けられた複数のスイッチング素子を有する素子基板と、第２樹脂基板、及び該第２樹脂基板上に設けられた無機膜からなる第２下地膜を有する対向基板とを、前記素子基板の複数のスイッチング素子側が前記対向基板の第２下地膜側と対向するように貼り合わせて表示パネルを作製するパネル作製工程と、
    　前記表示パネルを所定の曲率半径で湾曲させることにより、湾曲部を形成すると共に、該湾曲部を挟んで所定の角度をなすように前記表示パネルが平坦に保持された一対の平坦部を形成する湾曲工程と、
    　前記湾曲部及び一対の平坦部の形状を保持した状態で前記表示パネルの対向基板側の表面に機能性シートを貼り付ける貼付工程とを備えることを特徴とする表示装置の製造方法。
PCT/JP2016/000473 2015-02-04 2016-01-29 表示装置及びその製造方法 WO2016125477A1 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201680008709.3A CN107210011B (zh) 2015-02-04 2016-01-29 显示装置及其制造方法
US15/549,023 US10236459B2 (en) 2015-02-04 2016-01-29 Display device and method for producing same

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015-020228 2015-02-04
JP2015020228 2015-02-04

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2016125477A1 true WO2016125477A1 (ja) 2016-08-11

Family

ID=56563831

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2016/000473 WO2016125477A1 (ja) 2015-02-04 2016-01-29 表示装置及びその製造方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US10236459B2 (ja)
CN (1) CN107210011B (ja)
WO (1) WO2016125477A1 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017090577A1 (ja) * 2015-11-24 2017-06-01 コニカミノルタ株式会社 発光装置
WO2018154888A1 (ja) * 2017-02-22 2018-08-30 株式会社半導体エネルギー研究所 表示装置
DE102017221079A1 (de) * 2017-11-24 2019-05-29 Panasonic Automotive Systems Europe Gmbh Gebogenes display und herstellungsverfahren

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105629525B (zh) * 2016-01-04 2019-05-03 京东方科技集团股份有限公司 显示面板、基板弯曲装置、显示装置及其制造方法
JP6826376B2 (ja) * 2016-04-28 2021-02-03 エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド 電気光学パネル
CN108492721A (zh) * 2018-04-02 2018-09-04 京东方科技集团股份有限公司 一种显示模组的加工方法和加工装置
US20190334127A1 (en) * 2018-04-26 2019-10-31 Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Oled display device
CN108847134B (zh) * 2018-06-13 2021-05-14 云谷（固安）科技有限公司 一种可拉伸显示屏装置及其制造方法
WO2020044171A1 (ja) 2018-08-31 2020-03-05 株式会社半導体エネルギー研究所 表示装置
KR102663520B1 (ko) * 2019-08-23 2024-05-08 삼성디스플레이 주식회사 커버 윈도우 및 이를 포함하는 표시 장치

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000122039A (ja) * 1998-10-21 2000-04-28 Toshiba Corp 液晶表示装置
WO2005027582A1 (ja) * 2003-09-10 2005-03-24 Fujitsu Limited 表示装置及びその製造方法
JP2007072902A (ja) * 2005-09-08 2007-03-22 Sony Corp 入力装置、その製造方法及び電子機器
JP2013068719A (ja) * 2011-09-21 2013-04-18 Sony Corp 表示装置、電子機器および支持基板
WO2014087951A1 (ja) * 2012-12-05 2014-06-12 Saito Takashi 表示装置
JP2014535086A (ja) * 2011-09-27 2014-12-25 アップル インコーポレイテッド 側壁ディスプレイを備えた電子装置
JP2015015018A (ja) * 2013-06-07 2015-01-22 株式会社半導体エネルギー研究所 情報処理装置、プログラム
JP2015106152A (ja) * 2013-11-28 2015-06-08 三星ディスプレイ株式會社Ｓａｍｓｕｎｇ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． フレキシブル表示装置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4104489B2 (ja) * 2002-05-17 2008-06-18 東芝松下ディスプレイテクノロジー株式会社 表示装置及びその製造方法
TWI587734B (zh) * 2009-03-26 2017-06-11 精工愛普生股份有限公司 有機ｅｌ裝置、有機ｅｌ裝置之製造方法、及電子機器
KR101615791B1 (ko) * 2012-11-14 2016-04-26 엘지디스플레이 주식회사 측부 구부림 구조를 갖는 무-베젤 표시 패널
KR101973778B1 (ko) * 2012-11-16 2019-04-30 삼성디스플레이 주식회사 플렉서블 표시 장치 및 그 커버 윈도우 제조 방법
JP5426040B2 (ja) 2013-02-26 2014-02-26 株式会社ジャパンディスプレイ 有機ｅｌ表示装置

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000122039A (ja) * 1998-10-21 2000-04-28 Toshiba Corp 液晶表示装置
WO2005027582A1 (ja) * 2003-09-10 2005-03-24 Fujitsu Limited 表示装置及びその製造方法
JP2007072902A (ja) * 2005-09-08 2007-03-22 Sony Corp 入力装置、その製造方法及び電子機器
JP2013068719A (ja) * 2011-09-21 2013-04-18 Sony Corp 表示装置、電子機器および支持基板
JP2014535086A (ja) * 2011-09-27 2014-12-25 アップル インコーポレイテッド 側壁ディスプレイを備えた電子装置
WO2014087951A1 (ja) * 2012-12-05 2014-06-12 Saito Takashi 表示装置
JP2015015018A (ja) * 2013-06-07 2015-01-22 株式会社半導体エネルギー研究所 情報処理装置、プログラム
JP2015106152A (ja) * 2013-11-28 2015-06-08 三星ディスプレイ株式會社Ｓａｍｓｕｎｇ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． フレキシブル表示装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017090577A1 (ja) * 2015-11-24 2017-06-01 コニカミノルタ株式会社 発光装置
JPWO2017090577A1 (ja) * 2015-11-24 2018-09-06 コニカミノルタ株式会社 発光装置
WO2018154888A1 (ja) * 2017-02-22 2018-08-30 株式会社半導体エネルギー研究所 表示装置
DE102017221079A1 (de) * 2017-11-24 2019-05-29 Panasonic Automotive Systems Europe Gmbh Gebogenes display und herstellungsverfahren

Also Published As

Publication number Publication date
CN107210011B (zh) 2019-09-03
CN107210011A (zh) 2017-09-26
US20180026212A1 (en) 2018-01-25
US10236459B2 (en) 2019-03-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2016125477A1 (ja) 表示装置及びその製造方法
WO2017002372A1 (ja) 表示装置の製造方法
KR100824902B1 (ko) 유기 전계 발광 표시 장치 및 그 제조 방법
JP6173019B2 (ja) 発光装置
US10535843B2 (en) Method for producing thin-film element device and light irradiation device used therefor
US10497901B2 (en) Display device
WO2017159503A1 (ja) 有機ｅｌ表示装置
WO2018016446A1 (ja) 有機ｅｌ表示装置
WO2017138416A1 (ja) 有機ｅｌ表示装置
JP4890582B2 (ja) 有機発光ディスプレイ装置の製造方法
WO2014034051A1 (ja) 有機ｅｌ表示装置の製造方法およびその方法により製造された有機ｅｌ表示装置
TWI624941B (zh) 製造有機發光顯示裝置之方法
US20180040849A1 (en) Organic el display device
KR20140080238A (ko) 플렉서블 디스플레이 모듈 제조방법
WO2018061056A1 (ja) 有機ｅｌ表示装置及びその製造方法
WO2017164115A1 (ja) 有機ｅｌ表示装置
WO2018034244A1 (ja) 有機ｅｌ表示装置
WO2017033440A1 (ja) 有機ｅｌ表示装置
WO2017141870A1 (ja) 有機ｅｌ表示装置の製造方法及び有機ｅｌ表示装置
WO2016147645A1 (ja) 有機ｅｌ表示装置
JP2011023265A (ja) 電気光学装置、電気光学装置の製造方法
WO2017135227A1 (ja) 有機ｅｌ表示装置
WO2018173177A1 (ja) 有機ｅｌ表示装置及びその製造方法
WO2016166958A1 (ja) 有機ｅｌ表示装置
WO2018179288A1 (ja) 表示装置及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 16746309

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 15549023

Country of ref document: US

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: JP

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 16746309

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1