WO2016047615A1 - 光電変換装置および光電変換モジュール - Google Patents

光電変換装置および光電変換モジュール Download PDF

Info

Publication number
WO2016047615A1
WO2016047615A1 PCT/JP2015/076736 JP2015076736W WO2016047615A1 WO 2016047615 A1 WO2016047615 A1 WO 2016047615A1 JP 2015076736 W JP2015076736 W JP 2015076736W WO 2016047615 A1 WO2016047615 A1 WO 2016047615A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
photoelectric conversion
quantum dot
carrier
conversion device
carrier collecting
Prior art date
Application number
PCT/JP2015/076736
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
寿一 二宮
新太郎 久保
徹 仲山
Original Assignee
京セラ株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 京セラ株式会社 filed Critical 京セラ株式会社
Priority to JP2016550314A priority Critical patent/JP6318259B2/ja
Priority to CN201580042051.3A priority patent/CN106663705B/zh
Priority to US15/502,634 priority patent/US20170236958A1/en
Publication of WO2016047615A1 publication Critical patent/WO2016047615A1/ja

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/0248Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
    • H01L31/0352Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their shape or by the shapes, relative sizes or disposition of the semiconductor regions
    • H01L31/035209Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their shape or by the shapes, relative sizes or disposition of the semiconductor regions comprising a quantum structures
    • H01L31/035218Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their shape or by the shapes, relative sizes or disposition of the semiconductor regions comprising a quantum structures the quantum structure being quantum dots
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01GCOMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G9/00Compounds of zinc
    • C01G9/02Oxides; Hydroxides
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02Details
    • H01L31/0224Electrodes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02Details
    • H01L31/0224Electrodes
    • H01L31/022408Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
    • H01L31/022425Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02Details
    • H01L31/0236Special surface textures
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/0248Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
    • H01L31/0256Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by the material
    • H01L31/0264Inorganic materials
    • H01L31/0296Inorganic materials including, apart from doping material or other impurities, only AIIBVI compounds, e.g. CdS, ZnS, HgCdTe
    • H01L31/02963Inorganic materials including, apart from doping material or other impurities, only AIIBVI compounds, e.g. CdS, ZnS, HgCdTe characterised by the doping material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/0248Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
    • H01L31/0352Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their shape or by the shapes, relative sizes or disposition of the semiconductor regions
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/0248Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
    • H01L31/0352Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their shape or by the shapes, relative sizes or disposition of the semiconductor regions
    • H01L31/035272Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their shape or by the shapes, relative sizes or disposition of the semiconductor regions characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
    • H01L31/03529Shape of the potential jump barrier or surface barrier
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/042PV modules or arrays of single PV cells
    • H01L31/05Electrical interconnection means between PV cells inside the PV module, e.g. series connection of PV cells
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/06Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by at least one potential-jump barrier or surface barrier
    • H01L31/072Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by at least one potential-jump barrier or surface barrier the potential barriers being only of the PN heterojunction type
    • H01L31/0725Multiple junction or tandem solar cells
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y20/00Nanooptics, e.g. quantum optics or photonic crystals
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2002/00Crystal-structural characteristics
    • C01P2002/80Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70
    • C01P2002/85Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70 by XPS, EDX or EDAX data
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/70Nanostructure
    • Y10S977/773Nanoparticle, i.e. structure having three dimensions of 100 nm or less
    • Y10S977/774Exhibiting three-dimensional carrier confinement, e.g. quantum dots
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/902Specified use of nanostructure
    • Y10S977/932Specified use of nanostructure for electronic or optoelectronic application
    • Y10S977/948Energy storage/generating using nanostructure, e.g. fuel cell, battery

Abstract

 【課題】 キャリアの収集能力が高く、これにより短絡電流密度を高めることのできる光電変換装置および光電変換モジュールを提供する。 【解決手段】 量子ドット集積部1と、量子ドット集積部1の少なくとも一方主面に配置された集電性を有する基部層3と、該基部層3から量子ドット集積部1内に延伸し、開放端を有してなる柱状をした複数のキャリア収集部5とを備えており、該キャリア収集部5が金属酸化物を主体とするものであり、開放端の近傍部5aは、該開放端の近傍部5a以外の本体部5bよりも金属に対する酸素のモル比が高い。キャリア収集部5は、副成分として、Li、Na、K、Ga、BおよびAlの群から選ばれる1種を含んでおり、その含有量が1~5原子%である。

Description

光電変換装置および光電変換モジュール
 本発明は、光電変換装置および光電変換モジュールに関する。
 次世代の光電変換装置として期待されている量子ドットを備えた太陽電池(以下、「量子ドット太陽電池」と称する場合がある。)は、pn接合した2枚の半導体層間に、量子ドットが集積された量子ドット集積部を光検知層として挿入したものである。
 量子ドット太陽電池は、量子ドットに特定波長の太陽光が当たり励起される電子と、その電子が価電子帯から伝導帯まで励起されたときに生じる正孔とをキャリアとして利用する。
 この場合、量子ドット太陽電池の光電変換効率は、量子ドット集積部内に生成するキャリアの総量に関係することから、例えば、量子ドット集積部の厚みを厚くして量子ドットの集積度を増やすことが発電量の向上につながる。
 量子ドットは、通常、その周囲を、量子ドット自身のバンドギャップよりも大きなバンドギャップを有する障壁層によって囲まれている。このため、理論的には、電子のフォノン放出によるエネルギー緩和が起こりにくく消滅し難いと考えられている。
 しかしながら、量子ドットを集積させて量子ドット集積部を形成した場合には、量子ドット内に生成したキャリアは、障壁層を含む量子ドット集積部内に存在する欠陥と結合して消滅しやすく、これによりキャリアの密度が低下し、電荷量の低下が起こり、光電変換効率を高められないという問題がある。
 このような問題に対し、近年、量子ドット集積部内において、キャリアの集電性を高めるための構造が種々提案されている。例えば、特許文献1には、図10に示すように、基板101と電極層103との層間に、複数の量子ドット105aが充填された量子ドット集積部105内にナノロッドと呼ばれる柱状のキャリア収集部107を配置させた例が示されている。
特表2009-536790号公報
 しかしながら、特許文献1に開示された量子ドット太陽電池においても、未だ、キャリアの収集能力が低く、太陽電池の変換効率の指標となる短絡電流密度が低いという問題がある。
 従って本発明は、キャリアの収集能力が高く、これにより短絡電流密度を高めることのできる光電変換装置および光電変換モジュールを提供することを目的とする。
 本発明の光電変換装置は、複数の量子ドットを有する量子ドット集積部と、該量子ドット集積部の面に配置された集電性を有する基部層と、該基部層から前記量子ドット集積部内に延伸し、柱状をした複数のキャリア収集部とを備えており、前記キャリア収集部は、開放端部と、該開放端部以外の本体部とを含み、かつ金属酸化物を主体とするものであり、前記開放端部は、前記本体部よりも金属に対する酸素のモル比が高いものである。
 本発明の光電変換モジュールは、上記の光電変換装置を複数有しており、隣り合う前記光電変換装置同士を接続導体で電気的に接続してなるものである。
 本発明の光電変換装置および光電変換モジュールによれば、キャリアの収集能力が高く、短絡電流密度を高めることができる。
第1実施形態の光電変換装置を部分的に示す断面模式図である。 (a)は、第2実施形態の光電変換装置を部分的に示す断面模式図であり、(b)は、(a)のA-A線に沿った断面図である。 (a)は、第3実施形態の光電変換装置を示すものであり、複数のキャリア収集部のうちの一部に、根元部側よりも開放端側が幅の広いキャリア収集部を含んでいることを示す断面模式図、(b)は、(a)のA-A線断面図である。 第4実施形態の光電変換装置を示すものであり、キャリア収集部同士の一部が接触している形態を示す断面模式図である。 第5実施形態の光電変換装置を示すものであり、量子ドットがn型の量子ドットとp型の量子ドットとから構成されており、キャリア収集部側にn型の量子ドットが配置され、n型の量子ドットの外側にp型の量子ドットが配置された状態を示す断面模式図である。 第6実施形態の光電変換装置を示すものであり、光電変換層を多層化した構成を示す断面模式図である。 第1実施形態の光電変換装置の製造方法を示す工程図である。 第2実施形態の光電変換装置の製造方法を示す工程図である。 光電子分光法によって測定されたキャリア収集部を構成する酸素/亜鉛のモル比の変化を表すグラフであり、亜鉛を含む溶液の撹拌時間が、(a)は20分、(b)は40分、(c)は撹拌無しの場合である。 従来の量子ドット太陽電池を示す断面模式図である。
 図1は、第1実施形態の光電変換装置を部分的に示す断面模式図である。第1実施形態の光電変換装置は、複数の量子ドット1aが集積した量子ドット集積部1と、この量子ドット集積部1の一面に配置された集電性を有する基部層3と、この基部層3上に配置され、量子ドット集積部1内を厚み方向に延伸する柱状の集電性を有するキャリア収集部5とを備えている。また、図1では、基部層3の下面側に透明導電膜7を介してガラス基板9が設けられ、一方、量子ドット集積部1の上面側には電極層11が配置されている。この場合、ガラス基板9側が光の入射側となり、電極層11側が光の出射側となる。ここで、キャリア収集部5とは、基部層3の表面から100nm以上の高さのものを言う。
 キャリア収集部5は、量子ドット集積部1内に、一方の開放端が止まるように配置されている。また、このキャリア収集部5は金属酸化物を主体とするものであり、この場合、開放端とその近傍を含む開放端部5aは、この開放端部5a以外の部位である本体部5bよりも金属に対する酸素のモル比が高いものとなっている。
 ここで、金属酸化物を主体とするとは、キャリア収集部5の組成を分析したときに、金属酸化物であることを示す元素がキャリア収集部5の輪郭内に60%以上の面積割合で検出される状態のことを言う。また、キャリア収集部5の開放端部5aとは、キャリア収集部5の先端から50nm以内の部位のことを言い、先端からの距離が50nmを超える他の部位のことを本体部5bと言う。
 キャリア収集部5が金属酸化物を主体とするものによって構成されている場合に、キャリア収集部5として、開放端部5aが金属(元素)に対する酸素量の多い酸素リッチであるものを適用すると光電変換装置の短絡電流密度(Jsc)を高めることができる。
 これは、キャリア収集部5の先端部である開放端部5aにおける金属酸化物が酸素リッチの組成になると、開放端部5aに化学量論組成となる結晶が多くなることから、この開放端部5aは結晶化度の高い金属酸化物の割合が多くなり、結晶格子の連続性が高まることからキャリアの再結合が抑制されるためと考えられる。
 このような特性を発現する金属酸化物としては酸化亜鉛または酸化チタンが好ましい。キャリア収集部5としては、酸素量の変化によって導電性を高めることのできる金属酸化物が好適なものとなるが、酸化亜鉛または酸化チタンはこれに加えてキャリア収集部5として表面粗さ(Ra)の小さい柱状体を形成できるという利点を有しており、これによりキャリア収集部5の周囲に多くの量子ドット1aを接触させることができる。この場合、キャリア収集部5の表面粗さ(Ra)の目安としては10nm以下であることが望ましい。
 また、このキャリア収集部5では、本体部5bにおける金属(元素)に対する酸素のモル比(酸素/金属(元素))が1未満であることが好ましい。例えば、キャリア収集部5が酸化亜鉛を主体とする金属酸化物によって構成されている場合、ここに示すキャリア収集部5は、キャリア収集部5の開放端部5aを除く本体部5bが酸素の欠損した状態となっているため、キャリア収集部5の中で開放端部5aは本体部5bに対してキャリア密度が低くなっている。このため開放端部5aから本体部5bに沿って電位の勾配が生じやすく、開放端部5aから本体部5bへのキャリアの伝導率が良くなり、キャリアCの収集効率を高めることができると考えられる。
 この場合、基部層3についても、金属(元素)に対する酸素のモル比(酸素/金属(元素))は1未満であることが好ましく、さらには、基部層3とキャリア収集部5とが同じ材料によって形成されていることが望ましい。基部層3とキャリア収集部5とが同じ材料によって形成されていると、基部層3およびキャリア収集部5の結晶構造が同一の結晶系になることから、基部層3からキャリア収集部5までの結晶格子の連続性が高まり、これにより基部層3からキャリア収集部5まで高い導電性を得ることができる。
 この場合、金属酸化物を主体とするか否かについては、例えば、電子顕微鏡に付設された分析器によって求めることができる。また、キャリア収集部5を構成する金属(元素)と酸素との比は光電子分光法によって求める。具体的には、表面を露出させた量子ドット集積部1に電子を当ててキャリア収集部5の高さ(厚み)方向に元素分析を行い、金属(元素)に対する酸素の比を求める。なお、キャリア収集部5を構成している主成分を同定する場合にも光電子分光法(光電子分光スペクトル)は好適な手段となる。
 また、このキャリア収集部5は、金属酸化物を構成する元素以外の成分(以下、副成分という。)として、Li、Na、K、Ga、BおよびAlの群から選ばれる1種を含んでいることが望ましい。キャリア収集部5が上記した副成分を含んだものであると、キャリア収集部5中の陽イオンに起因したキャリアCの密度が向上し、これによりキャリア収集部5の導電性を高めることができる。その結果、光電変換効率の高い光電変換装置を得ることができる。
 この場合、キャリア収集部5中に含まれる副成分の含有量としては1~5原子%であることが望ましい。キャリア収集部5中に含まれる副成分の含有量が1~5原子%であると、キャリア収集部5の導電性に寄与する陽イオン濃度を確保できるとともに、5原子%より増えたときなどに発生するキャリア収集部5を構成する金属酸化物の結晶構造の変化に伴う耐候性の低下や弾性率の低下を抑制できる。このような含有量を適正な範囲とする副成分としては、NaおよびKのうちのいずれかがより好ましい。
 また、副成分は、キャリア収集部5を構成する開放端部5aおよび本体部5bに分散している状態であることが望ましい。副成分が開放端部5aおよび本体部5bに分散している状態であると、キャリア収集部5の導電性をさらに高めることができるため、量子ドット1aから移動してきたキャリアCがキャリア収集部5のどこに接触してもキャリアCの収集能力においてばらつきの小さいキャリア収集部5とすることができる。
 ここで、副成分が開放端部5aおよび本体部5bに分散している状態というのは、例えば、走査型電子顕微鏡に付設されているエネルギー分散型分析器によって、上記したNaやKなどの副成分を分析したときに、分析した領域の全体に副成分が点在している状態が観察される場合を言う。
 図2(a)は、第2実施形態の光電変換装置を部分的に示す断面模式図であり、(b)は、(a)のA-A線に沿った断面図である。図2(a)(b)において、図1に示したキャリア収集部5に比べて幅を大きく描いているのは、キャリア収集部5の横断面の形状を分かりやすくするためである。ここで、横断面とは、量子ドット集積部1を図2(a)に示すようにA-A線の断面に沿って切断した断面のことを言う。
 図2(a)に示すように、第2実施形態の光電変換装置では、量子ドット集積部1内に設けられた複数のキャリア収集部5のうちの一部に、横断面が扁平状のキャリア収集部5が含まれている。以下、横断面が扁平状のキャリア収集部5のことを、単に、扁平状のキャリア収集部5と記す。なお、本発明において、キャリア収集部5の横断面の形状が扁平状であるというのは、横断面の平面形状のアスペクト比が一部分でも1.5以上であるものを言う。この場合、そのアスペクト比としては2以上が好ましい。
 この第2実施形態の光電変換装置では、上述のように、光電変換層1内に設けられた複数のキャリア収集部5のうち、一部に扁平状のキャリア収集部5を含む構成となっている。扁平状のキャリア収集部5は、横断面が円のように等方的な形状の場合に比較して単位体積に対する表面積が大きくなる。これによりキャリア収集部5の体積が同じであっても比表面積が大きい分だけ量子ドット集積部1内に集積されている量子ドット1aをより多くキャリア収集部5に接触させることができる。その結果、キャリア収集部5におけるキャリアCの収集効率が向上し、光電変換装置の開放電圧(Voc)を高めることができる。これは、複数存在するキャリア収集部5の中に横断面が扁平状をしたキャリア収集部5が含まれていると、量子ドット集積部1内に存在する全てのキャリア収集部5から見積もられる比表面積の合計が、横断面がいずれも等方形状であるキャリア収集部5によって形成されている場合の比表面積の合計よりも大きくなるからである。 
 例えば、半径が1、高さが10の円柱体(体積が31.4)の側面の面積は62.8となるが、これを同じ体積の直方体にすると、この場合、横断面における短辺の長さを1、長辺の長さと3.14とすると、そのアスペクト比は3.14となる。このとき高さを10とすると、直方体の側面の面積は82.8となり、直方体は円柱体よりも側面の面積が1.31倍大きいものとなる。このため、横断面のアスペクト比が1.5以上であるような扁平状のキャリア収集部5を含む場合には、より多くの量子ドット1aをキャリア収集部5に接触させることが可能になる。 
 この場合、量子ドット集積部1内に存在する横断面の形状のアスペクト比が1.5以上を有する扁平状のキャリア収集部5の割合としては、個数比で10%以上であることが望ましい。
 量子ドット集積部1に含まれるキャリア収集部5の個数比は、以下の方法により求める。まず、光電変換装置を構成する量子ドット集積部1から、例えば、図2(b)に示すA-A線断面に対応する断面を研磨によって露出させる。次に、断面を露出させた試料に対して電子顕微鏡による観察を行う。この場合、キャリア収集部5の端面が20~100個認められる一定の領域を定めて観察し、撮影する。この後、撮影した写真に見られるキャリア収集部5のそれぞれについて横断面における形状の寸法を測定する。断面形状が円に近い形状である場合には、まず、最大径を求め、次に、最大径とした方向に対して垂直な方向を短径として測定する。次に、最大径/短径の値を求めアスペクト比とする。断面形状が矩形状である場合には長辺および短辺の長さを求める。次に、長辺/短辺の値を求めアスペクト比とする。こうして、単位面積内に存在する全てのキャリア収集部5からアスペクト比が1.5以上であるものを抽出し、全個数に対する個数割合を求める。 
 図3(a)は、第3実施形態の光電変換装置を示すものであり、複数のキャリア収集部のうちの一部に、根元部側よりも開放端側が幅の広いキャリア収集部を含んでいることを示す断面模式図、(b)は、(a)のA-A線断面図である。
 図3(a)(b)に示す量子ドット集積部1には、これに含まれる複数の扁平状をしたキャリア収集部5の一部に、根元部5bb側よりも開放端側で幅の広いキャリア収集部5が含まれている。図3(a)(b)に示すように、キャリア収集部5の開放端側は根元部5bb側に比べて基部層3までの距離が遠く、キャリア収集部5の開放端側に流入したキャリアCは根元部5bb側に比べて長い距離を移動しなければならない。このような場合に、キャリア収集部5(ここでは、横断面が扁平状をしたキャリア収集部5)の開放端側の幅(横断面の面積)を根元部5bb側よりも大きくすると(図3(a)では、根元部5bb側の幅をw、開放端側の幅をwとしている。)、キャリア収集部5の開放端側における抵抗損失を小さくすることができる。これによりキャリア収集部5の開放端と根元部5bbとの間の抵抗の差が小さくなり、開放端5a側に流入したキャリアCを効率良く基部層3まで移動させることができ、キャリアCの収集効率を高めることができる。 ここで、開放端側の幅とは開放端部5aの幅のことを言う。
 図4は、第4実施形態の光電変換装置を示すものであり、キャリア収集部同士の一部が接触している形態を示す断面模式図である。
 量子ドット集積部1に複数のキャリア収集部5が配置されているときに、延伸方向の異なるキャリア収集部5同士の一部が接触している状態にあることが望ましい。量子ドット集積部1内に複数のキャリア収集部5が設けられている場合に、キャリア収集部5によっては他のキャリア収集部5よりも導電性が低いものが存在する場合がある。このような場合に、導電性の低いキャリア収集部5(ここでは、仮に、キャリア収集部5Aとする。)と導電性の高いキャリア収集部5(ここでは、仮に、キャリア収集部5Bとする。)とが接触した状態にあると、量子ドット1aが接触した方のキャリア収集部5Aの導電性が低い場合でも、量子ドット1a中に生成したキャリアCは、導電性の低いキャリア収集部5Aから導電性の高いキャリア収集部5Bを伝って基部層3へ速やかに移動させることができる。これにより量子ドット集積部1において生成するキャリアCの収集効率を高めることができ、光電変換装置の光電変換効率を向上させることができる。
 図5は、第5実施形態の光電変換装置を示すものであり、量子ドット1aがn型の量子ドット1anとp型の量子ドット1apとから構成されており、キャリア収集部5側にn型の量子ドット1anが配置され、n型の量子ドット1anの外側にp型の量子ドット1apが配置された状態を示す断面模式図である。
 通常、量子ドット1aは、光のエネルギーを受けることによって、量子ドット1a内に存在していた電子が伝導性を有するレベルまで励起されると同時に、正孔が形成されて、これらがキャリアとなって光電変換が起こる。このとき、図5に示すように、量子ドット集積部1内を、キャリア収集部5側からn型の量子ドット1anにより構成される層とp型の量子ドット1apにより構成される層とを積層した構成にすると、n型の量子ドット1anおよびp型の量子ドット1apのそれぞれに移動できる電子および正孔が生成したときに、電子および正孔はそれぞれn型の量子ドット1anおよびp型の量子ドット1apの方により移動しやすくなり、これによりキャリアの集電性をさらに高めることができる。
 図5では、キャリア収集部5側にn型の量子ドット1anを配置した構成を示しているが、この場合、キャリア収集部5側にp型の量子ドット1apを配置した構成でも同様の光電変換特性を得ることができる。
 図6は、第6実施形態の光電変換装置を示すものであり、光電変換層を多層化した構成を示す断面模式図である。
 上述のように、第1~第5実施形態の光電変換装置について、図1~図5を基に説明したが、本実施形態の光電変換装置は、キャリア収集部5、基部層3および量子ドット集積部1を備えた光電変換層14が単層である構成に限らず、図6に示すように、光電変換層14が多層化されたものでも良い。この場合、光電変換層14を構成する量子ドット集積部1の厚みや量子ドット1aのバンドギャップを変化させた場合には、吸収できる光の波長領域を広くすることができることから、さらに高い光電変換効率を得ることができる。
 本実施形態の光電変換モジュールは、複数の光電変換装置が接続導体で電気的に接続されて配置された光電変換装置群を構成するパネルと、該パネルの外周部に配置されたフレームと、光電変換装置から発生した電力を外部回路に供給するための出力ケーブルを備えた端子箱とを備えたものである。
 第1~第6実施形態の光電変換装置を上記した光電変換モジュールの構成とすることで大出力かつ光電変換効率の高い光電変換モジュールを得ることができる。
 上記した量子ドット集積部1を構成する量子ドット1aの材料としては、種々の半導体材料が適用されるが、そのエネルギーギャップ(Eg)としては、0.15~2.50evを有するものが好適である。具体的な半導体材料としては、ゲルマニウム(Ge)、シリコン(Si)、ガリウム(Ga)、インジウム(In)、ヒ素(As)、アンチモン(Sb)、銅(Cu)、鉄(Fe)、硫黄(S)、鉛(Pb)、テルル(Te)およびセレン(Se)から選ばれるいずれか1種またはこれらの化合物半導体を用いることが望ましい。
 また、上記した量子ドット1aにおいては、電子の閉じ込め効果を高められるという理由から量子ドット1aの表面に障壁層(バリア層)を有していてもよい。障壁層は量子ドット1aとなる半導体材料に比較して2~15倍のエネルギーギャップを有している材料が好ましく、エネルギーギャップ(Eg)が1.0~10.0evを有するものが好ましい。なお、量子ドット1aが表面に障壁層を有する場合には、障壁層の材料としては、Si、C、Ti、Cu、Ga、S、InおよびSeから選ばれる少なくとも1種の元素を含む化合物(半導体、炭化物、酸化物、窒化物)が好ましい。
 次に、第1実施形態の光電変換装置を例にして、その製造方法について説明する。図7は、第1実施形態の光電変換装置の製造方法を示す工程図である。まず、図7(a)に示すように、支持体となるガラス基板9を準備する。次に、このガラス基板9の一方側の主面にインジウム錫酸化物(ITO)などの導体材料を用いて透明導電膜7を形成する。
 次に、図7(b)に示すように、透明導電膜7の表面に、金属酸化物を主体とするナノ粒子層21を形成する。例えば、ナノ粒子層21を酸化亜鉛を用いて作製する場合には、酢酸亜鉛を含む溶液をガラス基板9上の透明導電膜7の表面に塗布した後、約350℃の温度に加熱することによって形成する。
 次に、透明導電膜7およびナノ粒子層21を形成したガラス基板9を硝酸亜鉛とヘキサメチレンテトラミンとの混合溶液中に浸漬し加熱しながら撹拌を行う。加熱する温度としては80~120℃が好ましい。こうして、図7(c)に示すように、酸化亜鉛を主成分とするナノ粒子層21の上面にキャリア収集部5となる酸化亜鉛の柱状晶23を形成することができる。このとき、ナノ粒子層21の下層側は基部層3として残る。
 また、透明導電膜7およびナノ粒子層21を形成したガラス基板9を浸漬し加熱する際に混合溶液を撹拌することにより、キャリア収集部5となる酸化亜鉛の結晶の先端に金属(亜鉛)に対する酸素のモル比の高い部位を形成できる。金属に対する酸素のモル比を高める場合には撹拌時間を長くする。
 金属酸化物以外の成分となる副成分として、Li、Na、K、Ga、BおよびAlの群から選ばれる1種の元素を、キャリア収集部5や、キャリア収集部5および基部層3に含ませる場合には、硝酸亜鉛およびヘキサメチレンテトラミンを含む混合溶液中に副成分となる元素(陽イオン)を含む水溶液を加えることによって調製する。
 このとき、ガラス基板9の表面が山形の凹凸を有する形状に加工されたものを用いると、山形の凹凸上で2つ以上の柱状晶23の成長する方向を変化させることが可能になり、2つ以上の柱状晶23が接触した構造にすることができる。この場合、ガラス基板9の山形の凹凸の高さをより高くすると、柱状晶23が立体的に交差するように成長するようになることから柱状晶23の一部が接触した状態よりも強固に融合し、柱状晶23同士の一部が接合した状態にすることができる。
 次に、図7(d)に示すように、形成したキャリア収集部5となる柱状晶23の周囲に量子ドット1aとなる半導体粒子25を充填し、緻密化処理を行うことによって量子ドット集積部1を形成する。半導体粒子25を充填する方法としては、半導体粒子25を含む溶液をスピンコート法や沈降法などが好適なものとして選ばれる。緻密化処理には、柱状晶23の周囲に半導体粒子25を充填した後に、加熱もしくは加圧、あるいはこれらを同時に行う方法が採られる。量子ドット集積部1の厚みは堆積させる半導体粒子25の量によって調整する。量子ドット集積部1を含む光電変換層14を多層化する場合には、図5(b)~(d)の工程を繰り返す。
 最後に、量子ドット集積部1の上面側に金などの導体材料を蒸着して電極層11となる導体膜を形成し、次いで、必要に応じて、この導体膜の表面に保護層を形成した後、ガラス膜などで被覆する。
 また、図2に示す扁平状のキャリア収集部5は、先ず、図8(a)に示すように、ガラス基板9上に形成した透明導電膜7の表面にナノ粒子層21を形成した後に、このナノ粒子層21の上面側に開口部22aを有するマスクパターン22を設置する。この場合、マスクパターン22における一部の開口部22aの形状を、例えば、アスペクト比が2の長方形とし、残りを円形状とする。
 次いで、ナノ粒子層21および透明導電膜7の形成されたガラス基板9を、マスクパターン22を設置した状態で硝酸亜鉛とヘキサメチレンテトラミンとの混合溶液中に浸漬し加熱しながら撹拌を行う。これにより、図8(b)に示すように、マスクパターン22の開口部22aの形状に沿って柱状晶23となる膜23aが成長し、図8(c)に示すように、透明導電膜7上に基部層3とともにキャリア収集部5となる柱状晶23を形成することができる。この後は、図7(d)と同様の工程となる。
 このとき、横断面が扁平状をしたキャリア収集部5の開放端側の幅(横断面の面積)を根元部5bb側よりも大きくする場合には、例えば、成膜の後半に前半よりも開口部22aの径の大きいマスクパターン22を用いる。
 なお、上記した製法は、基部層3およびキャリア収集部5の主成分が酸化亜鉛の場合に限らず、他の金属酸化物(例えば、酸化チタン)に対しても同様に適用することができる。
 以下、基部層3およびキャリア収集部5の主成分として酸化亜鉛を適用した光電変換装置(量子ドット太陽電池)を作製し、評価した例を示す。
 まず、ITO膜を形成したガラス基板を用意した。次に、硝酸亜鉛(500mM(ミリモル))とヘキサメチレンテトラミン(250mM(ミリモル))との混合溶液を調製し、撹拌条件を0分、20分間および40分間と変化させて、金属(亜鉛)に対する酸素のモル比の異なるキャリア収集部5を基部層3とともにITO膜上に形成した。
 次に、キャリア収集部5の上から予め用意しておいたPbSの量子ドット(平均粒径:5nm)を含む溶液をスピンコート法によって塗布し、緻密化処理を行って量子ドット集積部1を形成した。
 次に、この量子ドット集積部1の表面に電極層11となる金の蒸着膜を形成してキャリア収集部5を有する量子ドット太陽電池を作製した(試料1は撹拌時間:20分、試料2は撹拌時間:40分)、試料3は撹拌時間0分)。
 また、キャリア収集部5を形成する際に、硝酸亜鉛(500mM(ミリモル))とヘキサメチレンテトラミン(250mM(ミリモル))との混合溶液中に副成分としてナトリウム(Na)を含む水溶液を10mM(ミリモル)添加した以外は試料1と同様の方法を用いて量子ドット太陽電池を作製した(試料4)。この場合、ナトリウムを含む混合溶液の撹拌時間は20分とした。透過電子顕微鏡に付設の分析器により求めたキャリア収集部5に含まれるナトリウムの含有量は約1.5原子%であった。
 さらに、キャリア収集部5を形成する際に、図8に示したように、ナノ粒子層21の上面側に開口部22aを有するマスクパターン22を設置して、それ以外は試料1と同様の方法にて量子ドット太陽電池を作製した(試料5、6、7および8)。
 この場合、試料5は、開口部22aの一部が長方形状となったマスクパターン22を用いて作製したものであり、キャリア収集部5の一部の断面が扁平状となっているものである。試料6は、試料5と比較するために、全ての開口部22aが円形状となったマスクパターン22を用いて作製したものであり、これはキャリア収集部5の断面はほぼ全てにおいて円形状となっている。試料7は、柱状晶23を形成する際に、成膜の後半に前半よりも開口部の径の大きいマスクパターンを用いて作製したものであり、開放端側の幅が根元部よりも大きくなったものである。試料8は、キャリア収集部5の一部が接触している状態をマスクパターン22を用いて作製したものである。試料8については、開口部22aの間隔を試料5のキャリア収集部5を作製するときに用いたマスクパターン22の80%に狭くしたものを用いて作製した。
 また、試料1、試料4および試料5と同様の条件にて作製したキャリア収集部5に、p型およびn型のPbSを充填した試料を、試料9、試料10および試料11としてそれぞれ作製した。これらの試料9、10および11では、n型の量子ドット1aがキャリア収集部5側となり、p型の量子ドット1aはn型の量子ドット1aの外側に配置される構成とした。
 次に、作製した量子ドット太陽電池の評価を行った。まず、試料1~3について、量子ドット太陽電池の電極層11側を研磨してキャリア収集部5の開放端側を露出させ、光電子分光法によりキャリア収集部5を高さ方向に元素分析を行い、亜鉛に対する酸素の比を測定した。このときキャリア収集部5が金属酸化物を主体とするものであることについても光電子分光スペクトルから判定した。また、作製した試料について、透明導電膜7と電極層11との間にリード線を接続し、短絡電流密度(Jsc)および開放電圧(Voc)を測定した。また、亜鉛に対する酸素の比の測定結果の一例を図9(a)(b)(c)に示した。図9(a)は、浸漬加熱時の混合溶液の撹拌を20分間行って作製した試料1、図9(b)は、浸漬し加熱時の混合溶液の撹拌を40分間行って作製した試料2、図9(c)は撹拌無しの試料3である。図9(a)(b)(c)の試料は、いずれもキャリア収集部5の本体部5bにおける亜鉛に対する酸素のモル比が1未満であった。表1には、本体部5bとして、キャリア収集部5の開放端から根元の方に約500nm入った位置における亜鉛に対する酸素のモル比を記した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 表1の結果から明らかなように、図9(c)に示した試料3以外の他の試料では、開放端部5aに亜鉛に対する酸素のモル比が1を超えている部位が形成されていた。
 また、短絡電流密度(Jsc)は、試料1が28.5mA/cm、試料2が30.6mA/cmであったのに対し、試料3は21.6mA/cmと低かった。
 次に、キャリア収集部5に金属酸化物以外の副成分として、ナトリウム(Na)を含ませた試料4については、開放端部5a内の亜鉛に対する酸素のモル比は試料1と同等であった。短絡電流密度(Jsc)は31.5mA/cmであった。
 次に、キャリア収集部5の一部に扁平状のキャリア収集部5を有している試料5、6についても開放端部5a内の亜鉛に対する酸素のモル比は試料1と同等であった。短絡電流密度(Jsc)は、試料5が29.4mA/cm、試料6が27.5mA/cm、試料7が29.9A/cm、試料8は27.9A/cmであった。
 キャリア収集部5にp型およびn型のPbSを充填した試料9、試料10および試料11は、ドープ成分を含ませていない量子ドットを充填した試料1、試料4および試料5よりもいずれも短絡電流密度が高くなり、試料9が29.2A/cm2、試料10が32.1A/cm、試料11が30.6A/cmであった。
 また、開放電圧は、試料3が0.31Vであったのを除いて、いずれも0.35V以上であった。
1・・・・・・・・・・・量子ドット集積部
1a・・・・・・・・・・量子ドット
1ap・・・・・・・・・p型の量子ドット
1an・・・・・・・・・n型の量子ドット
3・・・・・・・・・・・基部層
5・・・・・・・・・・・キャリア収集部
5a・・・・・・・・・・開放端部
5b・・・・・・・・・・本体部
5bb・・・・・・・・・根元部
7・・・・・・・・・・・透明導電膜
9・・・・・・・・・・・ガラス基板
11・・・・・・・・・・電極層
13・・・・・・・・・・量子ドット
21・・・・・・・・・・ナノ粒子層
22・・・・・・・・・・マスクパターン
22a・・・・・・・・・開口部
23・・・・・・・・・・柱状晶
25・・・・・・・・・・半導体粒子
C・・・・・・・・・・・キャリア
 
 

Claims (13)

  1. 複数の量子ドットを有する量子ドット集積部と、該量子ドット集積部の面に配置された集電性を有する基部層と、該基部層から前記量子ドット集積部内に延伸し、開放端を有してなる柱状をした複数のキャリア収集部とを備えており、前記キャリア収集部は、開放端部と、該開放端部以外の本体部とを含み、かつ金属酸化物を主体とするものであり、前記開放端部は、前記本体部よりも金属に対する酸素のモル比が高いことを特徴とする光電変換装置。
  2. 前記金属酸化物が酸化亜鉛または酸化チタンであることを特徴とする請求項1に記載の光電変換装置。
  3. 前記本体部における前記金属酸化物の酸素/金属のモル比が1未満であることを特徴とする請求項1または2に記載の光電変換装置。
  4. 前記キャリア収集部が、副成分として、Li、Na、K、Ga、BおよびAlの群から選ばれる1種を含んでいることを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれかに記載の光電変換装置。
  5. 前記副成分の含有量が1~5原子%であることを特徴とする請求項4に記載の光電変換装置層。
  6. 前記副成分は、前記開放端部および前記本体部に分散していることを特徴とする請求項4または5に記載の光電変換装置。
  7. 前記複数のキャリア収集部のうち、一部が扁平状であることを特徴とする請求項1乃至6のうちいずれかに記載の光電変換装置。
  8. 前記扁平状のキャリア収集部は、横断面のアスペクト比が2以上であることを特徴とする請求項7に記載の光電変換装置。
  9. 前記扁平状のキャリア収集部は、前記基部層側の根元部よりも開放端側の幅が広いことを特徴とする請求項7または8に記載の光電変換装置。
  10. 前記複数のキャリア収集部は、延伸方向が異なるキャリア収集部を含んでおり、該延伸方向が異なるキャリア収集部同士の一部が接触していることを特徴とする請求項1乃至9のうちいずれかに記載の光電変換装置。
  11. 前記量子ドットが、n型の量子ドットとp型の量子ドットとを有しており、前記キャリア収集部の周囲に前記n型の量子ドットが配置され、該n型の量子ドットの外側に前記p型の量子ドットが配置されていることを特徴とする請求項1乃至10のうちいずれかに記載の光電変換装置。
  12. 前記量子ドット集積部、前記基部層および前記キャリア収集部を備えた光電変換層を複数積層してなることを特徴とする請求項1乃至11のうちいずれかに記載の光電変換装置。
  13.  請求項1乃至12のうちのいずれかに記載の光電変換装置を複数有しており、隣り合う前記光電変換装置同士を接続導体で電気的に接続してなることを特徴とする光電変換モジュール。
PCT/JP2015/076736 2014-09-24 2015-09-18 光電変換装置および光電変換モジュール WO2016047615A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016550314A JP6318259B2 (ja) 2014-09-24 2015-09-18 光電変換装置および光電変換モジュール
CN201580042051.3A CN106663705B (zh) 2014-09-24 2015-09-18 光电变换装置以及光电变换模块
US15/502,634 US20170236958A1 (en) 2014-09-24 2015-09-18 Photoelectric conversion device and photoelectric conversion module

Applications Claiming Priority (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014-193937 2014-09-24
JP2014193937 2014-09-24
JP2014219343 2014-10-28
JP2014-219343 2014-10-28
JP2014262680 2014-12-25
JP2014-262680 2014-12-25

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2016047615A1 true WO2016047615A1 (ja) 2016-03-31

Family

ID=55581140

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2015/076736 WO2016047615A1 (ja) 2014-09-24 2015-09-18 光電変換装置および光電変換モジュール

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20170236958A1 (ja)
JP (1) JP6318259B2 (ja)
CN (1) CN106663705B (ja)
WO (1) WO2016047615A1 (ja)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009537994A (ja) * 2006-05-15 2009-10-29 スティオン コーポレイション 半導体材料を用いた薄膜光電材料のための方法及び構造
EP2264780A2 (en) * 2009-06-15 2010-12-22 Honeywell International Inc. Nano-structured solar cell

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101573802B (zh) * 2006-05-09 2012-08-08 北卡罗来纳-查佩尔山大学 光伏器件用的高保真纳米结构体和阵列及其制造方法
CN101400512B (zh) * 2006-05-15 2013-10-30 思阳公司 利用半导体材料的用于薄膜光生伏打材料的方法和结构
KR101208272B1 (ko) * 2011-02-24 2012-12-10 한양대학교 산학협력단 양면 구조를 가지는 태양전지 및 이의 제조방법
US20130105806A1 (en) * 2011-11-01 2013-05-02 Guojun Liu Structures incorporating silicon nanoparticle inks, densified silicon materials from nanoparticle silicon deposits and corresponding methods
US20130213478A1 (en) * 2012-02-21 2013-08-22 Aqt Solar, Inc. Enhancing the Photovoltaic Response of CZTS Thin-Films
US9318632B2 (en) * 2013-11-14 2016-04-19 University Of South Florida Bare quantum dots superlattice photonic devices

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009537994A (ja) * 2006-05-15 2009-10-29 スティオン コーポレイション 半導体材料を用いた薄膜光電材料のための方法及び構造
EP2264780A2 (en) * 2009-06-15 2010-12-22 Honeywell International Inc. Nano-structured solar cell

Also Published As

Publication number Publication date
CN106663705B (zh) 2018-11-06
JPWO2016047615A1 (ja) 2017-05-18
US20170236958A1 (en) 2017-08-17
CN106663705A (zh) 2017-05-10
JP6318259B2 (ja) 2018-04-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6269352B2 (ja) 熱電材料、熱電モジュール、光センサおよび熱電材料の製造方法
DE102013202518A1 (de) P-Typ-Halbleitermaterial und Halbleitervorrichtung
Zhang et al. Improving the photovoltaic performance of solid-state ZnO/CdTe core–shell nanorod array solar cells using a thin CdS interfacial layer
Zhang et al. n-ZnO/p-Si 3D heterojunction solar cells in Si holey arrays
JPWO2017002514A1 (ja) 熱電材料、熱電素子、光センサおよび熱電材料の製造方法
JP6416262B2 (ja) 量子ドット太陽電池
JP6175593B1 (ja) 光電変換膜および光電変換装置
JP6318259B2 (ja) 光電変換装置および光電変換モジュール
KR101625876B1 (ko) 태양 전지 및 이의 제조 방법
JP6603116B2 (ja) 光電変換装置
US20220416143A1 (en) Thermoelectric conversion material, thermoelectric conversion element, thermoelectric conversion module, and light sensor
JP6196418B2 (ja) 光電変換装置
JP2017152574A (ja) 光電変換膜および光電変換装置
JP6441750B2 (ja) 量子ドット型太陽電池
JP6616178B2 (ja) 光電変換装置
JP6356597B2 (ja) 光電変換層および光電変換装置
JP6599729B2 (ja) 光電変換装置
JP2016139735A (ja) 光電変換層および光電変換装置
CN108091706B (zh) 太阳能电池
JP2016162886A (ja) 光電変換装置
JP6321490B2 (ja) 量子ドット太陽電池
JP6189604B2 (ja) 光電変換装置
JP2016027638A (ja) 光電変換装置
JP2016092071A (ja) 太陽電池
JP2017135280A (ja) 光電変換膜および光電変換装置

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 15844124

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2016550314

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 15844124

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1