WO2016043169A1 - 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 - Google Patents
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Definitions
- the present invention relates to a radiation-sensitive resin composition and a resist pattern forming method.
- Radiation sensitive resin compositions used for fine processing by lithography are far ultraviolet rays such as KrF excimer laser light (wavelength 248 nm), ArF excimer laser light (wavelength 193 nm), and extreme ultraviolet light (EUV: Extreme ultraviolet, wavelength 13.5 nm).
- the acid is generated in the exposed area by irradiation with a charged particle beam such as an electron beam, and a chemical reaction using this acid as a catalyst causes a difference in the dissolution rate in the developer between the exposed area and the unexposed area.
- a resist pattern is formed on the substrate.
- the radiation-sensitive resin composition has not only excellent resolution of the resist pattern to be formed and rectangularity of the cross-sectional shape, but also LWR (Line Width Roughness) performance, CDU (Critical Dimension Uniformity) performance. Further, it is required to obtain a high-accuracy pattern with a high yield with excellent performance such as exposure margin and defect suppression.
- an onium salt compound composed of a radiolytic onium cation and a weak acid anion loses the acid trapping function in the exposed part and exhibits the acid trapping function only in the unexposed part. It can be improved (see JP-A-11-125907, JP-A-8-146610 and JP-A-2000-298347).
- the onium salt compound has a disadvantage that the basic basicity is too weak so that the acid scavenging function is insufficient, or the dispersibility in the resist film is poor and nonuniform dispersion tends to occur.
- the miniaturization is progressing to a level of 45 nm or less, the required level of the lithography performance cannot be satisfied.
- the present invention has been made based on the above circumstances, and an object thereof is to provide a radiation-sensitive resin composition excellent in LWR performance, CDU performance, exposure margin and defect suppression.
- the invention made to solve the above problems is a polymer having a structural unit containing an acid-dissociable group (hereinafter also referred to as “structural unit (I)”) (hereinafter also referred to as “[A] polymer”).
- a radiation-sensitive acid generator hereinafter also referred to as “[B] acid generator”
- a compound having an amine structure wherein the amine structure is irradiated with radiation to form an amide structure, a thioamide structure, a nitrile structure, or an ammonium structure.
- a radiation-sensitive resin composition containing a compound that changes to hereinafter also referred to as “[C] compound”).
- Another invention made to solve the above problems includes a step of coating the radiation-sensitive resin composition on one surface side of a substrate, a step of exposing a resist film obtained by the coating, and the above It is a resist pattern formation method provided with the process of developing the exposed resist film.
- the “acid-dissociable group” refers to a group that replaces a hydrogen atom such as a carboxy group or a hydroxy group and dissociates by the action of an acid.
- the LWR performance, the CDU performance, and the defect suppression property are excellent while exhibiting an excellent exposure margin.
- a resist pattern can be formed. Therefore, they can be suitably used for pattern formation in semiconductor device manufacturing or the like where further miniaturization is expected.
- the radiation sensitive resin composition contains a [A] polymer, a [B] acid generator, and a [C] compound.
- the radiation-sensitive resin composition usually contains a [D] solvent, and may contain a [E] fluorine atom-containing polymer and a [F] uneven distribution accelerator as suitable components.
- the said radiation sensitive resin composition may contain the other arbitrary component in the range which does not impair the effect of this invention. Hereinafter, each component will be described.
- the polymer is a polymer having the structural unit (I). According to the radiation-sensitive resin composition, the acid-dissociable group of the [A] polymer in the exposed portion is dissociated by the acid generated from the [B] acid generator or the like when irradiated with radiation, so that the exposed portion and the unexposed portion are not. A difference in solubility in the developer occurs between the exposed portion and, as a result, a resist pattern can be formed.
- the polymer is usually a base polymer of the radiation-sensitive resin composition.
- the “base polymer” is a polymer that is a main component of all the polymers constituting the resist pattern, and preferably 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more of the total polymer. Refers to the occupying polymer.
- the polymer includes a structural unit represented by the following formula (3-1), a structural unit represented by the formula (3-2), and a combination thereof (hereinafter referred to as “unit”). , Also referred to as “structural unit (II)”, a structural unit represented by the following formula (4) (hereinafter also referred to as “structural unit (III)”), and other than the above structural units (I) to (III) Other structural units may be included.
- the polymer may have one or more of these structural units. Hereinafter, each structural unit will be described.
- the structural unit (I) is a structural unit containing an acid dissociable group.
- Examples of the structural unit (I) include a structural unit represented by the following formula (2-1) (hereinafter also referred to as “structural unit (I-1)”), and a structure represented by the following formula (2-2).
- a unit hereinafter also referred to as “structural unit (I-2)”) and the like.
- the structural unit (I-1) is preferred.
- R 7A is a hydrogen atom, a fluorine atom, a methyl group or a trifluoromethyl group.
- Y 1 is a group represented by the following formula (Y-1).
- R 7B is a hydrogen atom or a methyl group.
- Y 2 is a monovalent acid dissociable group.
- R e1 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
- R e2 and R e3 each independently represent a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or a ring member having 3 to 20 ring members formed by combining these groups with each other and the carbon atoms to which they are bonded. Represents an alicyclic structure.
- the “hydrocarbon group” includes a chain hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group, and an aromatic hydrocarbon group.
- the “hydrocarbon group” may be a saturated hydrocarbon group or an unsaturated hydrocarbon group.
- the “chain hydrocarbon group” refers to a hydrocarbon group that does not include a cyclic structure but includes only a chain structure, and includes both a linear hydrocarbon group and a branched hydrocarbon group.
- alicyclic hydrocarbon group refers to a hydrocarbon group that includes only an alicyclic structure as a ring structure and does not include an aromatic ring structure, and includes a monocyclic alicyclic hydrocarbon group and a polycyclic alicyclic group. Includes both hydrocarbon groups.
- “Aromatic hydrocarbon group” refers to a hydrocarbon group containing an aromatic ring structure as a ring structure. However, it is not necessary to be composed only of an aromatic ring structure, and a part thereof may include a chain structure or an alicyclic structure.
- the “number of ring members” refers to the number of atoms constituting the ring of the ring structure, and in the case of a polycyclic structure, the number of atoms constituting the polycycle.
- R 7A is preferably a hydrogen atom and a methyl group, more preferably a methyl group, from the viewpoint of the copolymerizability of the monomer that provides the structural unit (I-1).
- Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R e1 , R e2 and R e3 include, for example, a monovalent chain hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and a group having 3 to 20 carbon atoms. Examples thereof include a monovalent alicyclic hydrocarbon group and a monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms.
- Examples of the monovalent chain hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, i-butyl group, sec-butyl group, alkyl groups such as t-butyl group and n-pentyl group; Alkenyl groups such as ethenyl group, propenyl group, butenyl group, pentenyl group; Examples thereof include alkynyl groups such as ethynyl group, propynyl group, butynyl group, and pentynyl group.
- the monovalent chain hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms is preferably an alkyl group, more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and a methyl group, an ethyl group or an i-propyl group. Is more preferable, and an ethyl group is particularly preferable.
- Examples of the monovalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms include monocyclic cycloalkyl groups such as a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, and a cyclooctyl group; A polycyclic cycloalkyl group such as a norbornyl group, an adamantyl group, a tricyclodecyl group, a tetracyclododecyl group; A monocyclic cycloalkenyl group such as a cyclopropenyl group, a cyclobutenyl group, a cyclopentenyl group, a cyclohexenyl group; Examples thereof include polycyclic cycloalkenyl groups such as norbornenyl group and tricyclodecenyl group.
- the monovalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms is preferably a monocyclic cycloalkyl group or a polycyclic cycloalkyl group, and is preferably a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a norbornyl group or an adamantyl group. Groups are more preferred.
- Examples of the monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms include aryl groups such as phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group, and anthryl group; Examples thereof include aralkyl groups such as benzyl group, phenethyl group, and naphthylmethyl group.
- the monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms is preferably an aryl group, more preferably an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, still more preferably a phenyl group or a naphthyl group, The group is particularly preferred.
- Examples of the alicyclic structure having 3 to 20 ring members constituted by the carbon atoms to which R e2 and R e3 are combined and bonded to each other include, for example, cyclopropane structure, cyclobutane structure, cyclopentane structure, cyclohexane structure, cyclooctane structure Monocyclic saturated alicyclic structures such as Polycyclic saturated alicyclic structures such as norbornane structure, adamantane structure, tricyclodecane structure and tetracyclododecane structure; Monocyclic unsaturated alicyclic structures such as cyclopropene structure, cyclobutene structure, cyclopentene structure, cyclohexene structure, cyclooctene structure; Examples thereof include polycyclic unsaturated alicyclic structures such as a norbornene structure, a tricyclodecene structure, and a tetracyclododecene structure.
- Examples of the alicyclic structure having 3 to 20 ring members constituted by the carbon atoms to which R e2 and R e3 are combined with each other include monocyclic saturated alicyclic structures and polycyclic saturated alicyclic structures.
- a ring structure is preferable, and a monocyclic saturated alicyclic structure having 5 to 8 carbon atoms and a polycyclic saturated alicyclic structure having 7 to 12 carbon atoms are more preferable.
- a cyclopentane structure, a cyclohexane structure, a cyclooctane structure, and a norbornane structure And an adamantane structure are more preferable, and a cyclopentane structure and an adamantane structure are particularly preferable.
- Examples of the group represented by the formula (Y-1) include carbon atoms to which R e1 is a monovalent chain hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and R e2 and R e3 are combined with each other.
- a group representing a monocyclic saturated alicyclic structure having 5 to 8 ring members or a polycyclic saturated alicyclic structure having 7 to 12 ring members constituted with atoms is more preferable.
- R 7B is preferably a hydrogen atom from the viewpoint of the copolymerizability of the monomer giving the structural unit (I-2).
- the monovalent acid-dissociable group represented by Y 2 preferably a group represented by the following formula (Y-2).
- R e4 , R e5 and R e6 each independently represent a hydrogen atom, a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or a monovalent oxy group having 1 to 20 carbon atoms. It is a hydrocarbon group. However, R e4 , R e5 and R e6 are not simultaneously hydrogen atoms.
- Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R e4 , R e5 and R e6 include monovalent hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms represented by R e1 , R e2 and R e3. Examples thereof include the same groups as those exemplified as the hydrocarbon group.
- R e4 , R e5 and R e6 are preferably a chain hydrocarbon group and an alicyclic hydrocarbon group, more preferably an alkyl group and a cycloalkyl group, and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
- a monocyclic cycloalkyl group and a polycyclic cycloalkyl group are more preferable, and a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a norbornyl group, and an adamantyl group are particularly preferable.
- Examples of the monovalent oxyhydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R e4 , R e5 and R e6 include, for example, a monovalent oxy chain hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, 20 monovalent oxyalicyclic hydrocarbon groups, monovalent oxyaromatic hydrocarbon groups having 6 to 20 carbon atoms, and the like.
- Examples of the monovalent oxy-chain hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an i-propoxy group, an n-butoxy group, an i-butoxy group, and a sec-butoxy group. , Alkoxy groups such as t-butoxy group and n-pentyloxy group; Alkenyloxy groups such as ethenyloxy group, propenyloxy group, butenyloxy group, pentenyloxy group; Examples include alkynyloxy groups such as ethynyloxy group, propynyloxy group, butynyloxy group, pentynyloxy group, and the like.
- the monovalent oxy-chain hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms is preferably an alkoxy group, more preferably an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and a methoxy group, an ethoxy group, and an n-propoxy group. Is more preferable.
- Examples of the monovalent oxyalicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms include monocyclic cycloalkyl such as cyclopropyloxy group, cyclobutyloxy group, cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group, and cyclooctyloxy group.
- An oxy group A polycyclic cycloalkyloxy group such as a norbornyloxy group, an adamantyloxy group, a tricyclodecyloxy group, a tetracyclododecyloxy group; A monocyclic cycloalkenyloxy group such as a cyclopropenyloxy group, a cyclobutenyloxy group, a cyclopentenyloxy group, a cyclohexenyloxy group; Examples thereof include polycyclic cycloalkenyloxy groups such as norbornenyloxy group and tricyclodecenyloxy group.
- the monovalent oxyalicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms is preferably a monocyclic cycloalkyloxy group or a polycyclic cycloalkyloxy group, and is preferably a cyclopentyloxy group or a cyclohexyloxy group. More preferred are a group, a norbornyloxy group and an adamantyloxy group.
- Examples of the monovalent oxyaromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms include aryloxy groups such as phenoxy group, tolyloxy group, and naphthyloxy group; Examples thereof include aralkyloxy groups such as benzyloxy group, phenethyloxy group and naphthylmethoxy group.
- the monovalent oxyaromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms is preferably an aryloxy group, more preferably a phenoxy group.
- R e4 is a hydrogen atom
- R e5 and R e6 are a monovalent chain hydrocarbon group
- R e4 is a hydrogen atom
- R e5 is a monovalent chain hydrocarbon group
- R e6 is a monovalent alicyclic hydrocarbon group
- R e4 , R e5 and R e6 are monovalent chain hydrocarbon groups
- R e4 is a hydrogen atom
- R e5 R e6 is an alkyl group
- R e4 is a hydrogen atom
- R e5 is an alkyl group
- R e6 is a cycloalkyl group
- R e4 , R e5 and R e6 are alkyl groups group
- R e4 and R e5 is an alkyl group and R e6 alk
- the structural unit (I-1) is a structural unit represented by the following formulas (2-1-1) to (2-1-7) (hereinafter referred to as “structural unit (I— 1-1) to (I-1-7) ”) and the structural unit (I-2) is represented by the following formulas (2-2-1) to (2-2-3).
- Structural units hereinafter also referred to as “structural units (I-2-1) to (I-2-3)”) and the like.
- R 7A has the same meaning as in the above formula (2-1).
- R e1 , R e2 and R e3 have the same meaning as in the above formula (Y-1).
- t is an integer of 1 to 3.
- R 7B has the same meaning as in the above formula (2-2).
- the structural unit (I) includes the structural unit (I-1-2), the structural unit (I-1-3), the structural unit (I-1-4), the structural unit (I-1-5), and the structural unit. (I-2-3) is preferable, and a structural unit including a cyclopentane structure, a structural unit including a cyclohexane structure, and a structural unit including an adamantane structure are more preferable, and are derived from 1-ethyl-1-cyclopentyl (meth) acrylate.
- Structural unit structural unit derived from 2-methyl-2-adamantyl (meth) acrylate, structural unit derived from 2-ethyl-2-adamantyl (meth) acrylate, adamantane-1-yl-2-propyl (meth) acrylate Derived from cyclohexyl-2-propyl (meth) acrylate, 2-ethyl-tetracyclododecyl (meth) Structural units derived from acrylate, and 1 structural unit derived from (cyclohexyl) ethoxy styrene is more preferable.
- the content rate of structural unit (I) 10 mol% is preferable with respect to all the structural units which comprise a [A] polymer, 20 mol% is more preferable, 30 mol% is further more preferable, 35 mol% % Is particularly preferred.
- the upper limit of the content ratio of the structural unit (I) is preferably 70 mol%, more preferably 60 mol%, still more preferably 55 mol%, based on all structural units constituting the [A] polymer. 50 mol% is particularly preferred.
- the structural unit (II) is a structural unit represented by the following formula (3-1) (hereinafter also referred to as “structural unit (II-1)”), a structural unit represented by the following formula (3-2) ( (Hereinafter also referred to as “structural unit (II-2)”) and combinations thereof.
- structural unit (II-1) a structural unit represented by the following formula (hereinafter also referred to as “structural unit (II-1)
- a structural unit represented by the following formula (3-2) (Hereinafter also referred to as “structural unit (II-2)”) and combinations thereof.
- R 8 is a hydrogen atom, a fluorine atom, a methyl group or a trifluoromethyl group.
- E 1 is a single bond, —COO— or CO—O— (CH 2 ) i .
- i is an integer of 1 to 6.
- R 9 is a non-acid dissociable group containing a polar group.
- R 8 ′ is a hydrogen atom or a methyl group.
- R a and R b are each independently a hydrogen atom, a fluorine atom, a hydroxy group, or a monovalent organic group.
- s is an integer of 1 to 3.
- the plurality of R a may be the same or different, and the plurality of R b may be the same or different.
- R 9a and R 9b are each independently a hydrogen atom, a fluorine atom, a hydroxy group or a monovalent organic group, or the number of ring members composed of these groups together with the carbon atom to which these groups are combined and bonded to each other Represents a ring structure of ⁇ 30.
- the “organic group” refers to a group containing at least one carbon atom.
- R 8 is preferably a hydrogen atom or a methyl group, more preferably a methyl group, from the viewpoint of copolymerization of the monomer that gives the structural unit (II-1).
- E 1 is preferably —COO— from the viewpoint of the copolymerizability of the monomer giving the structural unit (II-1).
- Examples of the polar group in the non-acid-dissociable group represented by R 9 that includes a polar group include monovalent groups (a) such as a hydroxy group, a carboxy group, a cyano group, a sulfo group, and a mercapto group; And a divalent group (b) formed by combining these groups, —O—, —S—, and the like.
- Examples of the non-acid dissociable and polar group-containing group represented by R 9 include, for example, a part or all of the hydrogen atoms of a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms as the monovalent group ( a group substituted with a), a group containing the above divalent group (b) between some or all of carbon-carbon of a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, monovalent having 1 to 20 carbon atoms A part or all of the hydrogen atoms of the hydrocarbon group is substituted with the monovalent group (a), and a group containing the divalent group (b) between some or all of the carbon-carbons, etc. Can be mentioned.
- Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms include a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by the above R e1 , R e2 and R e3 in the above formula (Y-1). And the same groups as those exemplified above.
- R 9 examples include a group having a lactone structure, a group having a cyclic carbonate structure, a group having a sultone structure, and a group having a hydroxy group.
- Examples of the group having a lactone structure include a butyrolactone-yl group, a norbornanelactone-yl group, and a 5-oxo-4-oxatricyclo [4.3.1.1 3,8 ] undecan-yl group. .
- Examples of the group having a cyclic carbonate structure include an ethylene carbonate-ylmethyl group.
- Examples of the group having a sultone structure include a propane sultone-yl group and a norbornane sultone-yl group.
- Examples of the group having a hydroxy group include a hydroxyadamantyl group, a dihydroxyadamantyl group, a trihydroxyadamantyl group, and a hydroxyethyl group.
- the R 8 ′ is preferably a hydrogen atom from the viewpoint of copolymerization of the monomer giving the structural unit (II-2).
- Examples of the monovalent organic group represented by R a , R b , R 9a, and R 9b include, for example, a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a part of hydrogen atoms of the hydrocarbon group, or A group in which all the substituents are substituted, carbon-carbon of these groups -CO-, -CS-, -O-, -S- or -NR'-, or a combination of two or more of these Examples include groups containing groups.
- R ′ is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group.
- Examples of the ring structure having 3 to 30 ring members composed of R 9a and R 9b together with the carbon atom to which they are bonded include, for example, cyclopropane structure, cyclobutane structure, cyclopentane structure, cyclohexane structure, norbornane structure, adamantane Examples thereof include alicyclic structures such as structures; aliphatic heterocyclic structures such as oxacyclopentane structures, thiacyclopentane structures, and azacyclopentane structures.
- S are preferably 1 and 2, and more preferably 1.
- the structural unit (II-1) is, for example, a structural unit represented by the following formulas (3-1-1) to (3-1-11) (hereinafter referred to as “structural unit (II) -1-1) to (II-1-11) ”) and the structural unit (II-2) includes, for example, the following formulas (3-2-1) and (3-2-2): (Hereinafter also referred to as “structural units (II-2-1) and (II-2-2)”) and the like.
- R 8 has the same meaning as in the above formula (3-1).
- R 8 ′ has the same meaning as in the above formula (3-2).
- the structural unit (II) is preferably the structural unit (II-1).
- the structural unit (II-1-1), the structural unit (II-1-2), the structural unit (II-1-) 3), the structural unit (II-1-8), and the structural unit (II-1-11) are more preferable.
- the lower limit of the content ratio of the structural unit (II) is preferably 10 mol% with respect to all the structural units constituting the [A] polymer. Mole% is more preferable.
- an upper limit of the content rate of structural unit (II) 80 mol% is preferable with respect to all the structural units which comprise a [A] polymer, 70 mol% is more preferable, and 60 mol% is further more preferable.
- the dispersibility of the [B] acid generator and the [C] compound in the resist film formed from the said radiation sensitive resin composition improves, As a result, the LWR performance and the like of the radiation sensitive resin composition can be further improved.
- the structural unit (III) is a structural unit represented by the following formula (4).
- the said radiation sensitive resin composition can raise the sensitivity in the case of using KrF excimer laser beam, EUV, an electron beam, etc. as radiation to irradiate because [A] polymer has structural unit (III).
- R 10 is a hydrogen atom or a methyl group.
- R 11 is a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms.
- p is an integer of 0 to 3. If R 11 is plural, plural R 11 may be the same or different.
- q is an integer of 1 to 3. However, p and q satisfy p + q ⁇ 5.
- R 10 is preferably a hydrogen atom from the viewpoint of copolymerizability of the monomer that gives the structural unit (III).
- Examples of the monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 11 include a monovalent organic group represented by R a , R b , R 9a and R 9b in the above formula (3-2). Examples thereof include the same groups as those exemplified as the group.
- R 11 is preferably a monovalent chain hydrocarbon group, more preferably an alkyl group, and still more preferably a methyl group.
- the p is preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 and 1, and still more preferably 0.
- the q is preferably 1 and 2, and more preferably 1.
- structural unit (III) examples include structural units represented by the following formulas (4-1) to (4-4) (hereinafter also referred to as “structural units (III-1) to (III-4)”), etc. Is mentioned.
- R 10 has the same meaning as in the above formula (4).
- the structural unit (III) the structural unit (III-1) and the structural unit (III-2) are preferable, and the structural unit (III-1) is more preferable.
- the lower limit of the content ratio of the structural unit (III) is preferably 30 mol% with respect to all the structural units constituting the [A] polymer. Mole% is more preferable.
- an upper limit of the content rate of structural unit (III) 90 mol% is preferable with respect to all the structural units which comprise a [A] polymer, 80 mol% is more preferable, and 75 mol% is further more preferable.
- the structural unit (III) was obtained by polymerizing the [A] polymer using a monomer in which the hydrogen atom of the OH group of hydroxystyrene was substituted with a t-butyl group or the like. It can be formed by a method of performing a hydrolysis reaction in the presence of a base such as an amine.
- the polymer may have other structural units other than the structural units (I) to (III).
- the other structural unit include a structural unit derived from a (meth) acrylic acid ester containing a non-dissociable monovalent alicyclic hydrocarbon group.
- the upper limit of the content ratio of the above-mentioned other structural units is preferably 20 mol% with respect to all the structural units constituting the [A] polymer. Mole% is more preferable.
- the lower limit of the content of the polymer is preferably 70% by mass, more preferably 80% by mass, and still more preferably 85% by mass with respect to the total solid content of the radiation-sensitive resin composition.
- the upper limit of the content of the [A] polymer is, for example, 95% by mass with respect to the total solid content of the radiation-sensitive resin composition.
- the “solid content” refers to the total mass of components other than the [D] solvent and the [F] uneven distribution accelerator of the radiation-sensitive resin composition.
- the polymer can be synthesized according to a conventional method such as radical polymerization.
- a method for synthesizing a polymer for example, a method of dropping a solution containing a monomer and a radical initiator into a reaction solvent or a solution containing a monomer to cause a polymerization reaction, A method in which a solution containing a radical initiator and a solution containing a radical initiator are separately dropped into a reaction solvent or a solution containing a monomer to cause a polymerization reaction, a plurality of types of solutions containing each monomer and a radical initiator A method in which a solution containing a monomer is dropped into a reaction solvent or a solution containing a monomer to cause a polymerization reaction, and a solution containing a monomer and a radical initiator is polymerized in a solvent-free or reaction solvent. Methods and the like.
- the lower limit of the monomer amount in the dropped monomer solution is the total amount of monomers used for polymerization. , 30 mol% is preferable, 50 mol% is more preferable, and 70 mol% is more preferable.
- the reaction temperature in the method for synthesizing the polymer may be appropriately determined depending on the type of the initiator.
- the lower limit of the reaction temperature is usually 30 ° C, preferably 40 ° C, and more preferably 50 ° C.
- the upper limit of the reaction temperature is usually 150 ° C, preferably 140 ° C.
- the dropping time in the polymer synthesis method varies depending on the reaction temperature, the type of initiator, the monomer to be reacted, and the like.
- the lower limit of the dropping time is usually 30 minutes, preferably 45 minutes, and more preferably 1 hour.
- the upper limit of the dropping time is usually 8 hours, preferably 6 hours, and more preferably 5 hours.
- the total reaction time including the dropping time in the method for synthesizing the [A] polymer also varies depending on the conditions as well as the dropping time.
- the lower limit of the total reaction time is usually 30 minutes, preferably 45 minutes, and more preferably 1 hour.
- the upper limit of the total reaction time is usually 24 hours, preferably 18 hours, more preferably 12 hours, and even more preferably 10 hours.
- radical initiator used in the polymerization examples include azobisisobutyronitrile (AIBN), 2,2′-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis ( 2-cyclopropylpropionitrile), 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), dimethyl 2,2′-azobis (2-methylpropionate), dimethyl 2,2′-azobisiso Azo radical initiators such as butyrate; peroxide radical initiators such as benzoyl peroxide, t-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, and the like. Of these, AIBN and dimethyl 2,2'-azobis (2-methylpropionate) are preferred as the radical initiator. You may use the said radical initiator individually or in combination of 2 or more types.
- the reaction solvent used for the polymerization is a solvent other than a solvent that inhibits polymerization (nitrobenzene having a polymerization inhibiting effect, mercapto compound having a chain transfer effect, etc.), and [A] a monomer of the polymer Soluble solvents can be used.
- the reaction solvent include alcohols, ethers, ketones, amides, esters, lactones, nitriles, and mixed solvents thereof. These solvents may be used alone or in combination of two or more.
- the polymer obtained by the polymerization reaction is preferably recovered by a reprecipitation method. That is, after completion of the polymerization reaction, it is preferable to recover the target [A] polymer as a powder by introducing the polymerization solution into a reprecipitation solvent.
- a reprecipitation solvent alcohols or alkanes may be used alone or in combination of two or more.
- the [A] polymer can be recovered by removing low-molecular components such as monomers and oligomers by a liquid separation operation, a column operation, an ultrafiltration operation, or the like.
- the lower limit of the weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene by gel permeation chromatography (GPC) of the polymer is preferably 1,000, more preferably 2,000, still more preferably 3,000, and 5,000. Is particularly preferred.
- the upper limit of the Mw of the [A] polymer is preferably 50,000, more preferably 40,000, still more preferably 30,000, and particularly preferably 20,000.
- the lower limit of the ratio (Mw / Mn, dispersity) of Mw to the number average molecular weight (Mn) in terms of polystyrene by GPC of the polymer is usually 1.
- the upper limit of Mw / Mn is preferably 5, more preferably 3, and even more preferably 2.5.
- Mw and Mn of the polymer in this specification are values measured using GPC under the following conditions.
- GPC column 2 “G2000HXL”, 1 “G3000HXL”, and 1 “G4000HXL” manufactured by Tosoh Corporation Column temperature: 40 ° C.
- Elution solvent Tetrahydrofuran Flow rate: 1.0 mL / min Sample concentration: 1.0% by mass Sample injection volume: 100 ⁇ L
- Detector Differential refractometer Standard material: Monodisperse polystyrene
- the acid generator is a compound that generates an acid upon exposure.
- the acid-dissociable group of the [A] polymer or the like is dissociated by the acid generated above to generate a carboxy group or the like, and the solubility of these polymers in the developer changes. Therefore, a resist pattern can be formed.
- the content form of the [B] acid generator in the radiation-sensitive resin composition may be a low molecular compound form (hereinafter also referred to as “[B] acid generator”) as described later, or a part of the polymer. Or may be both of these forms.
- Examples of the acid generator include onium salt compounds, N-sulfonyloxyimide compounds, halogen-containing compounds, diazoketone compounds, and the like.
- onium salt compounds examples include sulfonium salts, tetrahydrothiophenium salts, iodonium salts, phosphonium salts, diazonium salts, pyridinium salts, and the like.
- [B] acid generator examples include compounds described in paragraphs [0080] to [0113] of JP2009-134088A.
- the acid generator is preferably a compound represented by the following formula (5).
- [B] By making the acid generator a compound represented by the following formula (5), [A] the diffusion length of the acid generated by exposure in the resist film due to the interaction with the polar structure of the polymer, etc. As a result, the LWR performance and the like of the radiation sensitive resin composition can be further improved.
- R a1 is a monovalent group containing an alicyclic structure having 6 or more ring members or a monovalent group containing an aliphatic heterocyclic structure having 6 or more ring members.
- R a2 is a fluorinated alkanediyl group having 1 to 10 carbon atoms.
- M + is a monovalent radiolytic onium cation.
- Examples of the monovalent group including an alicyclic structure having 6 or more ring members represented by R a1 include monocyclic cycloalkyl groups such as a cyclooctyl group, a cyclononyl group, a cyclodecyl group, and a cyclododecyl group; A monocyclic cycloalkenyl group such as a cyclooctenyl group and a cyclodecenyl group; A polycyclic cycloalkyl group such as a norbornyl group, an adamantyl group, a tricyclodecyl group, a tetracyclododecyl group; Examples thereof include polycyclic cycloalkenyl groups such as norbornenyl group and tricyclodecenyl group.
- Examples of the monovalent group containing an aliphatic heterocyclic structure having 6 or more ring members represented by R a1 include a group containing a lactone structure such as a norbornanelactone-yl group; A group containing a sultone structure such as a norbornane sultone-yl group; An oxygen atom-containing heterocyclic group such as an oxacycloheptyl group and an oxanorbornyl group; A nitrogen atom-containing heterocyclic group such as an azacyclohexyl group, an azacycloheptyl group, a diazabicyclooctane-yl group; And sulfur atom-containing heterocyclic groups such as a thiacycloheptyl group and a thianorbornyl group.
- the lower limit of the number of ring members of the alicyclic structure and aliphatic heterocyclic structure contained in the group represented by R a1 is preferably 8 from the viewpoint of adjusting the acid diffusion length to a more appropriate one. More preferably, 10 is even more preferable.
- the upper limit of the number of ring members is preferably 15 and more preferably 13 from the viewpoint of adjusting the acid diffusion length to a more appropriate one.
- the group represented by R a1 is preferably a monovalent group containing an alicyclic structure having 9 or more ring members and a monovalent group containing an aliphatic heterocyclic structure having 9 or more ring members.
- An adamantyl group, a hydroxyadamantyl group, a norbornanelactone-yl group, and a 5-oxo-4-oxatricyclo [4.3.1.1 3,8 ] undecan-yl group are more preferable, and an adamantyl group is more preferable.
- Examples of the fluorinated alkanediyl group having 1 to 10 carbon atoms represented by R a2 include one or more hydrogen atoms of an alkanediyl group having 1 to 10 carbon atoms such as a methanediyl group, an ethanediyl group, and a propanediyl group. And a group in which is substituted with a fluorine atom.
- the fluorinated alkanediyl group having 1 to 10 carbon atoms represented by R a2 is preferably a fluorinated alkanediyl group in which a fluorine atom is bonded to a carbon atom adjacent to the SO 3 — group.
- a fluorinated alkanediyl group in which two fluorine atoms are bonded to a carbon atom adjacent to the SO 3 — group more preferably 1,1-difluoromethanediyl group, 1,1-difluoroethanediyl group, 1,1 , 3,3,3-pentafluoro-1,2-propanediyl group, 1,1,2,2-tetrafluoroethanediyl group, 1,1,2,2-tetrafluorobutanediyl group, and 1,1 2,2-tetrafluorohexanediyl group is more preferred.
- the monovalent radiolytic onium cation represented by M + is a cation that decomposes upon exposure to exposure light. In the exposed portion, sulfonic acid is generated from protons and sulfonate anions generated by the decomposition of the radiolytic onium cation.
- Examples of the monovalent radiolytic onium cation represented by M + include a sulfonium cation represented by the following formula (ba), a tetrahydrothiophenium cation represented by the following formula (bb), Examples thereof include iodonium cations represented by the following formula (bc).
- R B3 , R B4 and R B5 are each independently a substituted or unsubstituted linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a substituted or unsubstituted group.
- R BB1 and R BB2 each independently represent a substituted or unsubstituted linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted alicyclic hydrocarbon group having 5 to 25 carbon atoms. Or a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms.
- b1, b2 and b3 are each independently an integer of 0 to 5.
- R B3 ⁇ R B5 when R BB1 and R BB2 is plural respective plurality of R B3 ⁇ R B5, R BB1 and R BB2 may each be the same or different.
- R B6 represents a substituted or unsubstituted linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon having 6 to 8 carbon atoms. It is a group.
- b4 is an integer of 0 to 7. If R B6 is plural, the plurality of R B6 may be the same or different, may also represent a plurality of R B6 were combined together configured ring structure.
- R B7 is a substituted or unsubstituted linear or branched alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group having 6 or 7 carbon atoms.
- b5 is an integer of 0 to 6. If R B7 is plural, R B7 may be the same or different, and a plurality of R B7 may represent a keyed configured ring structure.
- n b is an integer of 0 to 3.
- R B8 and R B9 each independently represent a substituted or unsubstituted linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a substituted or unsubstituted carbon number of 6 Or an aromatic hydrocarbon group of ⁇ 12 , —OSO 2 —R BB3 or —SO 2 —R BB4 , or a ring structure in which two or more of these groups are combined with each other.
- R BB3 and R BB4 each independently represent a substituted or unsubstituted linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted alicyclic hydrocarbon group having 5 to 25 carbon atoms.
- R B8 and b7 are each independently an integer of 0 to 5.
- R B8, R B9, R BB3 and when R BB4 is plural respective plurality of R B8, R B9, R BB3 and R BB4 may each be the same or different.
- Examples of the unsubstituted linear alkyl group represented by R B3 to R B9 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, and an n-butyl group.
- Examples of the unsubstituted branched alkyl group represented by R B3 to R B9 include i-propyl group, i-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group and the like.
- Examples of the unsubstituted aromatic hydrocarbon group represented by R B3 to R B5 , R B8 and R B9 include aryl groups such as a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a mesityl group and a naphthyl group; a benzyl group, And aralkyl groups such as phenethyl group.
- Examples of the unsubstituted aromatic hydrocarbon group represented by R B6 and R B7 include a phenyl group, a tolyl group, and a benzyl group.
- Examples of the substituent that may be substituted for the hydrogen atom of the alkyl group and aromatic hydrocarbon group include a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom, a hydroxy group, a carboxy group, and a cyano group. Nitro group, alkoxy group, alkoxycarbonyl group, alkoxycarbonyloxy group, acyl group, acyloxy group and the like. Among these, the substituent is preferably a halogen atom, and more preferably a fluorine atom.
- R B3 to R B9 include an unsubstituted linear or branched alkyl group, a fluorinated alkyl group, an unsubstituted monovalent aromatic hydrocarbon group, —OSO 2 —R BB5 , and —SO 2.
- —R BB5 is preferred, a fluorinated alkyl group and an unsubstituted monovalent aromatic hydrocarbon group are more preferred, and a fluorinated alkyl group is more preferred.
- R BB5 is an unsubstituted monovalent alicyclic hydrocarbon group or an unsubstituted monovalent aromatic hydrocarbon group.
- b1, b2 and b3 are preferably integers of 0 to 2, more preferably 0 and 1, and even more preferably 0.
- b4 is preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 and 1, and even more preferably 1.
- b5 is preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 and 1, and still more preferably 0.
- the n b is preferably an integer of 1 to 3, more preferably 2 and 3, 2 is more preferable.
- b6 and b7 are preferably integers of 0 to 2, more preferably 0 and 1, and even more preferably 0.
- the monovalent radiolytic onium cation represented by M + is preferably a sulfonium cation, more preferably a triphenylsulfonium cation.
- Examples of the acid generator include compounds represented by the following formulas (5-1) to (5-13) (hereinafter also referred to as “compounds (5-1) to (5-13)”). Can be mentioned.
- M + has the same meaning as in the above formula (5).
- the acid generator is preferably compound (5-1), compound (5-2), compound (5-12), and compound (5-13).
- Examples of the acid generator include a polymer in which the structure of the above formula (5) is incorporated as a part of the polymer, such as a polymer having a structural unit represented by the following formula (5-14). preferable.
- R ′′ represents a hydrogen atom or a methyl group.
- M + is synonymous with the above formula (5).
- the lower limit of the content of the [B] acid generator is [A] from the viewpoint of improving the sensitivity and developability of the radiation-sensitive resin composition.
- the upper limit of the content of [B] acid generator is 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of [A] polymer from the viewpoint of improving the sensitivity and developability of the radiation-sensitive resin composition.
- 22 parts by mass is more preferable, 20 parts by mass is further preferable, and 15 parts by mass is particularly preferable.
- the lower limit of the content ratio of the structural unit containing the structure of the formula (5) is the sensitivity and development of the radiation-sensitive resin composition. From the viewpoint of improving the property, 1 mol% is preferable, 2 mol% is more preferable, and 3 mol% is more preferable with respect to all the structural units constituting the [A] polymer.
- the upper limit of the content ratio of the structural unit from the viewpoint of improving the sensitivity and developability of the radiation sensitive resin composition, 30 mol% is the total structural unit constituting the [A] polymer. Preferably, 20 mol% is more preferable, and 10 mol% is further more preferable.
- 1 type (s) or 2 or more types can be used for an acid generator.
- the compound [C] is a compound having an amine structure, and the amine structure changes to an amide structure, a thioamide structure, a nitrile structure or an ammonium structure by irradiation.
- the “amine structure” includes an oxazole structure, a pyridine structure and the like as a heterocyclic amine structure.
- the compound [C] exhibits basicity due to the amine structure in the unexposed area, but the basicity is lowered in the exposed area by changing the amine structure to an amide structure or the like by exposure. Therefore, the [C] compound functions as a radiation-sensitive acid diffusion control agent whose acid trapping function is reduced by exposure.
- the said radiation sensitive resin composition is excellent in LWR performance etc. by containing a [C] compound in addition to a [A] polymer and a [B] acid generator.
- the reason why the radiation-sensitive resin composition exhibits the above effect by containing the [C] compound is not necessarily clear, but as described above, the [C] compound functions as a radiation-sensitive acid diffusion controller. It is considered that the quench contrast between the exposed portion and the unexposed portion can be increased, and as a result, the LWR performance and the like of the radiation sensitive resin composition are further improved.
- a basic compound represented by the following formula (1) having an azole skeleton such as an oxazole skeleton, an imidazole skeleton, a thiazole skeleton, a pyrrole skeleton, or the like is preferable.
- R 1 and R 6 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydroxy group, a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or A substituted or unsubstituted monovalent heterocyclic group having 3 to 20 carbon atoms.
- R 2 to R 5 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted monovalent complex having 3 to 20 carbon atoms.
- ring members composed of a ring group or a carbon atom to which one or more selected from R 2 and R 3 , R 3 and R 4 , and R 4 and R 5 are combined with each other and bonded to each other
- X is an oxygen atom, a sulfur atom, —CR A R B — or —NR C —.
- R A , R B and R C are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or a monovalent organic group.
- the compound represented by the above formula (1) is a compound that exhibits basicity in the unexposed area, but as shown in the following scheme, in the exposed area, a photocyclization reaction and a transfer reaction occur due to exposure, and an amide skeleton or the like is formed. It has a relatively low basic compound. Therefore, the compound represented by the above formula (1) functions as a radiation-sensitive acid diffusion control agent whose acid trapping function is lowered by exposure.
- R 1 to R 6 and X are as defined in the above formula (1).
- hv means irradiation of radiation.
- the said radiation sensitive resin composition is excellent by LWR performance etc. by containing the compound represented by the said Formula (1) as a [C] compound.
- the reason why the radiation-sensitive resin composition exhibits the above effect by containing the compound represented by the above formula (1) as the [C] compound is not necessarily clear, but can be inferred as follows. . That is, since the compound represented by the above formula (1) has a high basicity compared to a conventional acid diffusion controller containing a sulfonate anion or the like, the acid trapping function is increased, and the exposed portion and the unexposed portion are exposed. The quench contrast with the part can be further increased. As a result, it is considered that the LWR performance and the like of the radiation sensitive resin composition are further improved. Moreover, since the compound represented by the said Formula (1) is excellent in the dispersibility in the resist film formed with the said radiation sensitive resin composition, it is thought that better defect inhibitory property can be ensured.
- R 1 , R 6 and X are as defined in the above formula (1).
- R 2A , R 3A , R 4A and R 5A are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydroxy group, a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or a substituted group. Alternatively, it is an unsubstituted monovalent heterocyclic group having 3 to 20 carbon atoms.
- Z A , Z B and Z C each independently represent a ring structure having 3 to 20 carbon atoms.
- Examples of the substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 1 to R 6 and R 2A to R 5A include, for example, monovalent chain carbon atoms having 1 to 20 carbon atoms. Examples thereof include a hydrogen group, a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, a monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, and a hydrocarbon group formed by combining these. Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms include a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by the above R e1 , R e2 and R e3 in the above formula (Y-1). And the same groups as those exemplified above. Of these, the monovalent hydrocarbon group is preferably a methyl group, a phenyl group or a naphthyl group.
- Examples of the substituted or unsubstituted monovalent heterocyclic group having 3 to 20 carbon atoms represented by R 1 to R 6 and R 2A to R 5A include the alicyclic hydrocarbon group or the aromatic hydrocarbon group described above. And a group having a structure in which some of the carbon atoms are replaced by oxygen atoms, nitrogen atoms, sulfur atoms, or the like. In addition, the number of ring members of the heterocyclic group is, for example, 3 to 20.
- heterocyclic group examples include pyridyl group, pyrimidyl group, furyl group, thienyl group, tetrahydrofuryl group, dioxolanyl group, benzoxazol-2-yl group, tetrahydropyranyl group, pyrrolidyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group. , Thiazolyl group, isothiazolyl group, oxazolyl group, isoxazolyl group, piperidyl group, piperazyl group, morpholinyl group and the like. Of these, a thienyl group is preferable as the heterocyclic group.
- Examples of the substituent which may be substituted on the hydrocarbon group and heterocyclic group represented by R 1 to R 6 and R 2A to R 5A include halogen such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom.
- an alkoxy group is preferable, and a methoxy group is more preferable.
- One or more pairs selected from R 2 and R 3 , R 3 and R 4 , and R 4 and R 5 in the above formula (1) are combined with each other and have 3 to 20 ring members composed of carbon atoms to which they are bonded.
- the ring structure that is, the ring structure represented by Z A to Z C in the above formulas (1-2) to (1-8)
- the ring structure include an alicyclic hydrocarbon structure, an aromatic hydrocarbon structure, and these structures
- a ring structure in which one or more carbon atoms are replaced by —O—, —CO—, —NH—, —S—, —SO 2 — or the like.
- ring structure represented by Z A to Z C include monocyclic saturated alicyclic structures such as a cyclopropane structure, a cyclobutane structure, a cyclopentane structure, a cyclohexane structure, and a cyclooctane structure; Polycyclic saturated alicyclic structures such as norbornane structure, adamantane structure, tricyclodecane structure and tetracyclododecane structure; Monocyclic unsaturated alicyclic structures such as cyclopropene structure, cyclobutene structure, cyclopentene structure, cyclohexene structure, cyclooctene structure; Polycyclic unsaturated alicyclic structures such as norbornene structure, tricyclodecene structure, tetracyclododecene structure; Aromatic ring structures such as phenyl structure, biphenyl structure, naphthalene structure, anthracene structure
- the ring structure represented by Z A to Z C may be a polycyclic structure formed by combining two or more of the ring structures described above. Further, two or more of Z A to Z C may be combined to form a polycyclic structure.
- the ring structure represented by Z A to Z C may have a substituent or may not have a substituent.
- substituents include the same groups as those exemplified as the substituent which may be substituted on the hydrocarbon group and heterocyclic group represented by R 1 to R 6 and R 2A to R 5A. be able to.
- Examples of the monovalent organic group represented by R A , R B and R C are the same as those described above as the monovalent organic group represented by R a , R b , R 9a and R 9b .
- a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms is preferable.
- Examples of the substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms include those described above as the monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R e1 , R e2 and R e3 . Examples thereof include the same groups as those described above.
- R 1 is preferably a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms and a substituted or unsubstituted monovalent heterocyclic group having 3 to 20 carbon atoms.
- a group and a phenyl group are more preferred.
- R 2 and R 3 constitute a ring structure having 3 to 20 ring members composed of carbon atoms to which they are combined and bonded to each other, that is, the above formulas (1-2) and (1- 5), more that constitute preferred that constitute the Z a in the formula (1-6) and (1-8), phenyl structure, biphenyl structure, naphthalene structure, a furan structure and phenolic structure preferable.
- R 4 and R 5 constitute a ring structure having 3 to 20 ring members that is formed together with the carbon atoms to which they are bonded, that is, the above formulas (1-4) and (1- 6), Z c in formula (1-7) and formula (1-8) is preferably constituted, and cyclopentene structure, cyclohexene structure, perfluorocyclopentene structure, cyclopentenone structure, cyclohexenone structure, phenylcyclohexene More preferably, it constitutes a senone structure and a dihydrofurandion structure.
- X is preferably an oxygen atom.
- Examples of the compound represented by the above formula (1) include compounds represented by the following formulas (C-1) to (C-20) (hereinafter referred to as “compounds (C-1) to (C-20)”). And the like).
- the upper limit of the content of the [C] compound is preferably 30 parts by mass, more preferably 20 parts by mass, further preferably 10 parts by mass, and 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the [A] polymer. Particularly preferred.
- the radiation-sensitive resin composition may contain one or more [C] compounds.
- the radiation-sensitive resin composition usually contains a [D] solvent.
- the solvent can dissolve or disperse at least optional components such as [A] polymer, [B] acid generator, [C] compound, and [E] fluorine atom-containing polymer contained if necessary. If it is a solvent, it will not specifically limit. [D]
- the solvent may be used alone or in combination of two or more.
- Examples of the solvent include alcohol solvents, ether solvents, ketone organic solvents, amide solvents, ester organic solvents, hydrocarbon solvents, and the like.
- the alcohol solvent examples include aliphatic monoalcohol solvents having 1 to 18 carbon atoms such as 4-methyl-2-pentanol and n-hexanol; An alicyclic monoalcohol solvent having 3 to 18 carbon atoms such as cyclohexanol; A polyhydric alcohol solvent having 2 to 18 carbon atoms such as 1,2-propylene glycol; Examples thereof include polyhydric alcohol partial ether solvents having 3 to 19 carbon atoms such as propylene glycol monomethyl ether.
- ether solvent examples include dialkyl ether solvents such as diethyl ether, dipropyl ether, dibutyl ether, dipentyl ether, diisoamyl ether, dihexyl ether, and diheptyl ether; Cyclic ether solvents such as tetrahydrofuran and tetrahydropyran; And aromatic ring-containing ether solvents such as diphenyl ether and anisole.
- dialkyl ether solvents such as diethyl ether, dipropyl ether, dibutyl ether, dipentyl ether, diisoamyl ether, dihexyl ether, and diheptyl ether
- Cyclic ether solvents such as tetrahydrofuran and tetrahydropyran
- aromatic ring-containing ether solvents such as diphenyl ether and anisole.
- ketone solvent examples include acetone, methyl ethyl ketone, methyl-n-propyl ketone, methyl-n-butyl ketone, diethyl ketone, methyl-iso-butyl ketone, 2-heptanone, ethyl-n-butyl ketone, and methyl-n-hexyl ketone.
- Chain ketone solvents such as di-iso-butyl ketone and trimethylnonanone: Cyclic ketone solvents such as cyclopentanone, cyclohexanone, cycloheptanone, cyclooctanone and methylcyclohexanone: Examples include 2,4-pentanedione, acetonylacetone, acetophenone, and the like.
- amide solvent examples include cyclic amide solvents such as N, N′-dimethylimidazolidinone and N-methylpyrrolidone; Examples thereof include chain amide solvents such as N-methylformamide, N, N-dimethylformamide, N, N-diethylformamide, acetamide, N-methylacetamide, N, N-dimethylacetamide, and N-methylpropionamide.
- cyclic amide solvents such as N, N′-dimethylimidazolidinone and N-methylpyrrolidone
- chain amide solvents such as N-methylformamide, N, N-dimethylformamide, N, N-diethylformamide, acetamide, N-methylacetamide, N, N-dimethylacetamide, and N-methylpropionamide.
- ester solvent examples include monocarboxylic acid ester solvents such as n-butyl acetate and ethyl lactate; Polyhydric alcohol carboxylate solvents such as propylene glycol acetate; Polyhydric alcohol partial ether carboxylate solvents such as propylene glycol monomethyl ether acetate; Polycarboxylic acid diester solvents such as diethyl oxalate; Examples thereof include carbonate solvents such as dimethyl carbonate and diethyl carbonate.
- monocarboxylic acid ester solvents such as n-butyl acetate and ethyl lactate
- Polyhydric alcohol carboxylate solvents such as propylene glycol acetate
- Polyhydric alcohol partial ether carboxylate solvents such as propylene glycol monomethyl ether acetate
- Polycarboxylic acid diester solvents such as diethyl oxalate
- carbonate solvents such as dimethyl carbonate and diethyl carbonate.
- hydrocarbon solvent examples include aliphatic hydrocarbon solvents having 5 to 12 carbon atoms such as n-pentane and n-hexane; Examples thereof include aromatic hydrocarbon solvents having 6 to 16 carbon atoms such as toluene and xylene.
- ester solvents and ketone solvents are preferable, polyhydric alcohol partial ether carboxylate solvents and cyclic ketone solvents are more preferable, polyhydric alcohol partial alkyl ether acetates and cycloalcohols.
- Canon is more preferred, with propylene glycol monomethyl ether acetate and cyclohexanone being particularly preferred.
- the fluorine atom-containing polymer is a polymer containing a fluorine atom (except for those corresponding to the [A] polymer).
- the radiation-sensitive resin composition further contains an [E] fluorine atom-containing polymer, whereby the [E] fluorine atom-containing polymer is unevenly distributed in the surface layer of the resist film to be formed.
- the hydrophobicity of the resist film surface can be improved.
- elution of substances from the resist film can be suppressed when performing immersion exposure, etc., and the receding contact angle between the resist film and the immersion liquid can be sufficiently increased, enabling faster scanning.
- the fluorine atom-containing polymer is not particularly limited, but is insoluble in the developer, but becomes alkali-soluble by the action of acid, soluble in the developer, and alkali-soluble by the action of acid. And a polymer that is insoluble in the developer but becomes soluble in alkali by the action of alkali, a polymer that is soluble in the developer and increases in alkali solubility by the action of alkali, and the like.
- Examples of the structure of the fluorine atom-containing polymer include, for example, a structure in which a fluorinated alkyl group is bonded to the main chain; A structure in which a fluorinated alkyl group is bonded to the side chain; Examples include a structure in which a fluorinated alkyl group is bonded to the main chain and the side chain.
- Examples of the monomer that gives a structure in which a fluorinated alkyl group is bonded to the main chain include ⁇ -trifluoromethyl acrylate compound, ⁇ -trifluoromethyl acrylate compound, ⁇ , ⁇ -trifluoromethyl acrylate compound, one or more types And compounds in which the hydrogen atom of the vinyl moiety is substituted with a fluorinated alkyl group such as a trifluoromethyl group.
- Examples of the monomer that gives a structure in which a fluorinated alkyl group is bonded to the side chain include compounds in which the side chain of an alicyclic olefin compound such as norbornene is a fluorinated alkyl group or a derivative thereof, acrylic acid or methacrylic acid An ester compound in which the side chain is a fluorinated alkyl group or a derivative group thereof, and a compound in which the side chain of one or more olefins (site not including a double bond) is a fluorinated alkyl group or a derivative group thereof. .
- Examples of the monomer that gives a structure in which a fluorinated alkyl group is bonded to the main chain and the side chain include ⁇ -trifluoromethylacrylic acid, ⁇ -trifluoromethylacrylic acid, ⁇ , ⁇ -trifluoromethylacrylic acid.
- Ester compounds in which the side chain is a fluorinated alkyl group or its derivative group, etc., and the side chain of a compound in which the hydrogen atom of one or more vinyl moieties is substituted with a fluorinated alkyl group such as a trifluoromethyl group A compound substituted with a group or a derivative thereof, a hydrogen atom bonded to a double bond of one or more alicyclic olefin compounds is substituted with a fluorinated alkyl group such as a trifluoromethyl group, and the side chain is fluorine And a compound that is a derivative group thereof.
- the alicyclic olefin compound refers to a compound in which a part of the ring is a double bond.
- the fluorine atom-containing polymer is a structural unit represented by the following formula (6) (hereinafter also referred to as “structural unit (f1)”), a structural unit represented by the following formula (7) (hereinafter, “ It is preferable to have a structural unit represented by the following formula (ff2) (hereinafter also referred to as “structural unit (f3)”).
- the fluorine atom-containing polymer may have “other structural units” other than the structural units (f1) to (f3).
- the [E] fluorine atom containing polymer may contain 1 type, or 2 or more types of each structural unit.
- each structural unit will be described in detail.
- the structural unit (f1) is a structural unit represented by the following formula (6).
- R f3 is a hydrogen atom, a fluorine atom, a methyl group or a trifluoromethyl group.
- R f4 is a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms having a fluorine atom or a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms having a fluorine atom.
- one part or all part of the hydrogen atom which the said alkyl group and alicyclic hydrocarbon group have may be substituted.
- Examples of the linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group.
- Examples of the monovalent alicyclic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms include a cyclopentyl group, a cyclopentylpropyl group, a cyclohexyl group, a cyclohexylmethyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, and a cyclooctylmethyl group. .
- Examples of the monomer that gives the structural unit (f1) include trifluoromethyl (meth) acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, perfluoroethyl (meth) acrylate, perfluoro n-propyl ( (Meth) acrylate, perfluoro i-propyl (meth) acrylate, perfluoro n-butyl (meth) acrylate, perfluoro i-butyl (meth) acrylate, perfluoro t-butyl (meth) acrylate, perfluorocyclohexyl (meth) Acrylate, 2- (1,1,1,3,3,3-hexafluoro) propyl (meth) acrylate, 1- (2,2,3,3,4,4,5,5-octafluoro) pentyl ( (Meth) acrylate, 1- (2,2,3,3,4,4,5,5-octafluoro) he Sil (me
- the structural unit (f1) is preferably a structural unit represented by the following formula (6-1) and a structural unit represented by (6-2).
- R f3 has the same meaning as in the above formula (6).
- the structural unit (f1) is preferably a structural unit represented by the above formula (6-1).
- the lower limit of the content ratio of the structural unit (f1) is 10 with respect to all the structural units constituting the [E] fluorine atom-containing polymer. Mol% is preferable and 20 mol% is more preferable. On the other hand, as an upper limit of the content rate of a structural unit (f1), 70 mol% is preferable with respect to all the structural units which comprise a [E] fluorine atom containing polymer, and 50 mol% is more preferable.
- the structural unit (f2) is a structural unit represented by the following formula (7).
- R f5 is a hydrogen atom, a fluorine atom, a methyl group, or a trifluoromethyl group.
- R f6 is a (r + 1) -valent linking group.
- X 1 is a divalent linking group having a fluorine atom.
- R f7 is a hydrogen atom or a monovalent organic group.
- r is an integer of 1 to 3. However, when r is 2 or 3, the plurality of X 1 may be the same or different, and the plurality of R f7 may be the same or different.
- Examples of the (r + 1) -valent linking group represented by R f6 include (r + 1) -valent linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 30 carbon atoms, and (r + 1) -valent groups having 3 to 30 carbon atoms.
- the (r + 1) -valent linking group may have a substituent.
- Examples of the (r + 1) -valent linear or branched hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms include hydrocarbons such as methane, ethane, propane, butane, pentane, hexane, heptane, decane, icosane, and triacontane. And (r + 1) hydrogen atoms are removed.
- Examples of the (r + 1) -valent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 30 carbon atoms include monocyclic groups such as cyclopropane, cyclobutane, cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, cyclooctane, cyclodecane, methylcyclohexane, and ethylcyclohexane.
- Saturated hydrocarbons Monocyclic unsaturated hydrocarbons such as cyclobutene, cyclopentene, cyclohexene, cycloheptene, cyclooctene, cyclodecene, cyclopentadiene, cyclohexadiene, cyclooctadiene, cyclodecadiene; Bicyclo [2.2.1] heptane, bicyclo [2.2.2] octane, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane, tricyclo [3.3.1.1 3,7 ] decane, Tetracyclo [6.2.1.1 3,6 .
- Examples of the (r + 1) -valent aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms include aromatics such as benzene, naphthalene, phenanthrene, anthracene, tetracene, pentacene, pyrene, picene, toluene, xylene, ethylbenzene, mesitylene, cumene, and the like. And a group obtained by removing (r + 1) hydrogen atoms from a hydrocarbon.
- Examples of the divalent linking group having a fluorine atom represented by X 1 include, for example, a divalent chain hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms and having a fluorine atom. And groups represented by X1-1) to (X1-6).
- X 1 is preferably a group represented by the formula (X1-1) and a group represented by the formula (X1-2), more preferably a group represented by the formula (X1-2). .
- Examples of the monovalent organic group represented by R f7 include linear or branched hydrocarbon groups having 1 to 30 carbon atoms, alicyclic hydrocarbon groups having 3 to 30 carbon atoms, and 6 to 6 carbon atoms. 30 aromatic hydrocarbon groups, or a group in which these groups are combined with one or more groups selected from the group consisting of oxygen atom, sulfur atom, ether group, ester group, carbonyl group and imino group. .
- Examples of the structural unit (f2) include a structural unit represented by the following formula (7-1), a structural unit represented by the following formula (7-2), and the like.
- R f5 , X 1 , R f7 and r are as defined in the above formula (7).
- R f6A represents a divalent linear or branched saturated or unsaturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or a saturated or unsaturated group having 3 to 20 carbon atoms.
- Examples of the structural unit represented by the above formula (7-1) include structural units represented by the following formulas (7-1-1) to (7-1-3).
- Examples of the structural unit represented by the above formula (7-2) include a structural unit represented by the following formula (7-2-1).
- R f5 has the same meaning as the formula (7).
- the structural unit (f2) is preferably a structural unit represented by the above formula (7-1), more preferably a structural unit represented by the above formula (7-1-3).
- Examples of the monomer that gives the structural unit (f2) include (meth) acrylic acid [2- (1-ethyloxycarbonyl-1,1-difluoro-n-butyl)] ester, (meth) acrylic acid (1, 1,1-trifluoro-2-trifluoromethyl-2-hydroxy-3-propyl) ester, (meth) acrylic acid (1,1,1-trifluoro-2-trifluoromethyl-2-hydroxy-4- Butyl) ester, (meth) acrylic acid (1,1,1-trifluoro-2-trifluoromethyl-2-hydroxy-5-pentyl) ester, (meth) acrylic acid 2- ⁇ [5- (1 ′, 1 ′, 1′-trifluoro-2′-trifluoromethyl-2′-hydroxy) propyl] bicyclo [2.2.1] heptyl ⁇ ester and the like.
- the lower limit of the content ratio of the structural unit (f2) is 30 with respect to all the structural units constituting the [E] fluorine atom-containing polymer.
- the mol% is preferable, and 50 mol% is more preferable.
- an upper limit of the content rate of a structural unit (f2) 90 mol% is preferable with respect to all the structural units which comprise a [E] fluorine atom containing polymer, and 80 mol% is more preferable.
- the structural unit (f3) is a structural unit represented by the following formula (ff2). [E] By having the structural unit (f3), the fluorine atom-containing polymer can adjust the fluorine atom content to an appropriate level and can change water repellency and hydrophilicity before and after alkali development.
- R F3 is a hydrogen atom, a methyl group or a trifluoromethyl group.
- R F4 is a single bond, a (w + 1) -valent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or an oxygen atom, a sulfur atom, —NR FF1 —, a carbonyl group, —CO at the terminal of the R F5 side of this hydrocarbon group. A group to which —O— or —CO—NH— is bonded.
- R FF1 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms.
- R F5 is a single bond or a divalent organic group having 1 to 20 carbon atoms.
- L F2 is a single bond or a divalent fluorinated chain hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
- L F3 is an oxygen atom, —NR FF2 —, —CO—O— * or —SO 2 —O— *. * Indicates a site that binds to R F6 .
- R FF2 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms.
- R F6 is a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 30 carbon atoms.
- w is an integer of 1 to 3. However, when w is 1, R F4 may be a single bond. When w is 2 or 3, the plurality of R F5 , L F2 , L F3 and R F6 may be the same or different.
- R F6 is a group containing a fluorine atom.
- R F3 a hydrogen atom and a methyl group are preferable, and a methyl group is more preferable, from the viewpoint of copolymerization of the monomer that gives the structural unit (f3).
- Examples of the (w + 1) -valent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R F4 include monovalent hydrocarbons exemplified by R e1 , R e2 and R e3 in the formula (Y-1). And a group obtained by removing w hydrogen atoms from the group.
- the above w is preferably 1 or 2, and more preferably 1.
- R F4 is preferably a single bond or a divalent hydrocarbon group, more preferably a single bond or an alkanediyl group, still more preferably a single bond or an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms, Single bonds, methanediyl groups and propanediyl groups are particularly preferred.
- Examples of the divalent organic group having 1 to 20 carbon atoms represented by R F5 include the monovalent organic groups exemplified for R a , R b , R 9a and R 9b in the above formula (3-2). Among them, a group obtained by removing one hydrogen atom from one having 1 to 20 carbon atoms, and the like can be mentioned.
- R F5 is preferably a group having a single bond and a lactone structure, more preferably a group having a single bond and a polycyclic lactone structure, and still more preferably a group having a single bond and a norbornane lactone structure.
- Examples of the divalent fluorinated chain hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by L F2 include a fluoromethanediyl group, a difluoromethanediyl group, a fluoroethanediyl group, a difluoroethanediyl group, and a tetrafluoroethanediyl group.
- Fluorinated alkanediyl groups such as a group, hexafluoropropanediyl group, octafluorobutanediyl group; Examples thereof include fluorinated alkenediyl groups such as a fluoroethenediyl group and a difluoroethenediyl group.
- L F2 preferably a fluorinated alkane diyl group, difluoromethane diyl group are more preferable.
- L F3 an oxygen atom, —CO—O— *, and —SO 2 —O— * are preferable, and —CO—O— * is more preferable.
- Examples of the monovalent organic group having 1 to 30 carbon atoms represented by R F6 include an alkali dissociable group, an acid dissociable group, and a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms.
- R F6 is preferably an alkali dissociable group.
- the “alkali dissociable group” is a group that substitutes a hydrogen atom of a carboxy group, a hydroxy group, etc., and in an alkaline aqueous solution (for example, a 2.38 mass% tetramethylammonium hydroxide aqueous solution at 23 ° C.). A group that dissociates.
- R F6 is an alkali-dissociable group
- the R F6 is preferably a group represented by the following formulas (ff3) to (ff5) (hereinafter also referred to as “groups (iii) to (v)”). .
- R F7 and R F8 are each independently a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms, or these groups are combined with each other and configured with a carbon atom to which they are bonded. Represents an alicyclic structure having 3 to 20 ring members.
- R F9 and R F10 are each independently a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms, or these groups are combined with each other and configured with a nitrogen atom to which they are bonded. Represents a heterocyclic structure having 3 to 20 ring members.
- R F11 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or a monovalent fluorinated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
- Examples of the monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms represented by R F7 , R F8 , R F9 and R F10 include, for example, R a , R b , R 9a and R in the formula (3-2).
- Examples of the monovalent organic group exemplified in 9b include the same groups as those having 1 to 20 carbon atoms.
- Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R F11 include those having 1 to 20 carbon atoms represented by R e1 , R e2 and R e3 in the formula (Y-1). Examples thereof include groups similar to those exemplified as the monovalent hydrocarbon group.
- Examples of the monovalent fluorinated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms include, for example, a part or all of the hydrogen atoms included in the above-described groups exemplified as the monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms is a fluorine atom. Examples include substituted groups.
- the groups (iii) to (v) are preferably groups represented by the following formulae.
- a hydrogen atom is also preferable from a viewpoint of improving the solubility with respect to the alkaline developing solution of a [E] polymer.
- L F3 is an oxygen atom
- L F2 is a 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2,2-methanediyl group
- the solubility is further improved.
- the lower limit of the content ratio of the structural unit (f3) is preferably 10 mol% with respect to all the structural units constituting the [E] polymer. Mole% is more preferable, and 40 mol% is more preferable.
- an upper limit of the content rate of a structural unit (f3) 90 mol% is preferable with respect to all the structural units which comprise a [E] polymer, 85 mol% is more preferable, and 80 mol% is further more preferable.
- the fluorine atom-containing polymer may contain other structural units other than the structural unit (f1), the structural unit (f2), and the structural unit (f3).
- Examples of the other structural unit include the structural unit shown as the structural unit (I) in the [A] polymer.
- the lower limit of the content ratio of the other structural unit is [E] with respect to all the structural units constituting the fluorine atom-containing polymer. 5 mol% is preferable, 10 mol% is more preferable, and 20 mol% is further more preferable.
- the upper limit of the content ratio of the other structural units is preferably 90 mol%, more preferably 80 mol%, and 70 mol% with respect to all the structural units constituting the [E] fluorine atom-containing polymer. Further preferred.
- the said radiation sensitive resin composition contains a [E] fluorine atom containing polymer
- a [E] fluorine atom containing polymer As a minimum of content of a [E] fluorine atom containing polymer, it is 0 with respect to 100 mass parts of [A] polymers. 1 part by mass is preferable, and 1 part by mass is more preferable.
- the upper limit of the content of the [E] fluorine atom-containing polymer is preferably 20 parts by weight, more preferably 15 parts by weight, and even more preferably 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the [A] polymer. 6 parts by mass is particularly preferred. [E] If the content of the fluorine atom-containing polymer exceeds the above upper limit, the water repellency of the resist film surface becomes too high and development failure may occur.
- the fluorine atom content (% by mass) of the fluorine atom-containing polymer is preferably larger than the fluorine atom content of the [A] polymer.
- the fluorine atom content of the fluorine atom-containing polymer By making the fluorine atom content of the fluorine atom-containing polymer larger than the fluorine atom content of the [A] polymer, the above-mentioned feeling containing the [A] polymer and the [E] fluorine atom-containing polymer.
- the water repellency of the resist film surface formed by the radiation resin composition can be further increased.
- the lower limit of the difference between the fluorine atom content of the fluorine atom-containing polymer and the fluorine atom content of the [A] polymer is preferably 1% by mass, and more preferably 3% by mass.
- the upper limit of the difference between the fluorine atom content of the [E] fluorine atom-containing polymer and the fluorine atom content of the [A] polymer is, for example, 30% by mass.
- the fluorine atom content (% by mass) can be calculated from the structure of a polymer obtained by 13 C-NMR.
- the lower limit of the fluorine atom content of the fluorine atom-containing polymer is preferably 1% by mass, more preferably 3% by mass, further preferably 5% by mass, and particularly preferably 10% by mass.
- the upper limit of the fluorine atom content of the [E] fluorine atom-containing polymer is, for example, 50% by mass.
- the fluorine atom-containing polymer can be synthesized, for example, by a method in which a monomer corresponding to each predetermined structural unit is polymerized in a suitable reaction solvent using a radical polymerization initiator.
- radical polymerization initiator examples include those similar to the radical polymerization initiator exemplified in [A] Polymer Synthesis Method.
- reaction solvent examples include those similar to the reaction solvent exemplified in the method for synthesizing [A] polymer.
- the lower limit of the reaction temperature in the polymerization is usually 40 ° C., and preferably 50 ° C.
- the upper limit of the reaction temperature is usually 150 ° C, preferably 120 ° C.
- the lower limit of the reaction time in the polymerization is usually 1 hour.
- the upper limit of the reaction time is usually 48 hours, preferably 24 hours.
- the lower limit of Mw of the fluorine atom-containing polymer is preferably 1,000, more preferably 2,000, still more preferably 3,000, and particularly preferably 10,000.
- the upper limit of Mw of the [E] fluorine atom-containing polymer is preferably 50,000, and more preferably 30,000.
- the lower limit of the ratio (Mw / Mn) of Mw to Mn of the fluorine atom-containing polymer is usually 1.
- the upper limit of Mw / Mn of the [E] fluorine atom-containing polymer is preferably 5, and more preferably 3.
- the uneven distribution promoter is a component that segregates the [E] fluorine atom-containing polymer on the resist film surface more efficiently.
- the radiation-sensitive resin composition can effectively segregate the [E] fluorine atom-containing polymer on the resist film surface by containing [F] an uneven distribution accelerator, and as a result, [E] fluorine The amount of the atom-containing polymer used can be reduced.
- Examples of the uneven distribution promoter include lactone compounds, carbonate compounds, nitrile compounds, polyhydric alcohols, and the like.
- the uneven distribution promoter may be used alone or in combination of two or more.
- lactone compound examples include ⁇ -butyrolactone, valerolactone, mevalonic lactone, norbornane lactone, and the like.
- Examples of the carbonate compound include propylene carbonate, ethylene carbonate, butylene carbonate, vinylene carbonate and the like.
- nitrile compound examples include succinonitrile.
- polyhydric alcohol examples include glycerin.
- the uneven distribution promoter is preferably a lactone compound, and more preferably ⁇ -butyrolactone.
- the said radiation sensitive resin composition contains [F] uneven distribution accelerator
- As a minimum of content of [F] uneven distribution accelerator it is 5 mass parts with respect to 100 mass parts of [A] polymers. Is preferable, 10 masses is more preferable, and 20 mass parts is further more preferable.
- As an upper limit of content of [F] uneven distribution promoter 300 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of [A] polymer, 100 mass parts is more preferable, 70 mass parts is further more preferable.
- the radiation sensitive resin composition may contain other optional components other than the above components [A] to [F].
- the other optional components include acid diffusion controllers other than the [C] compound, surfactants, alicyclic skeleton-containing compounds, and sensitizers. Each of these other optional components may be used alone or in combination of two or more.
- the said radiation sensitive resin composition may contain other acid diffusion control bodies other than a [C] compound in the range which does not impair the effect of this invention.
- the other acid diffusion controller controls the diffusion phenomenon in the resist film of the acid generated from the [B] acid generator by exposure. Therefore, the said radiation sensitive resin composition can suppress the undesirable chemical reaction in a non-exposure area
- the form of inclusion of the other acid diffusion controller in the radiation sensitive resin composition the form of a free compound (hereinafter also referred to as “other acid diffusion controller”) was incorporated as a part of the polymer. It may be in the form or both forms.
- Examples of the other acid diffusion control agent include amine compounds, amide group-containing compounds, urea compounds, nitrogen-containing heterocyclic compounds, and the like.
- Examples of the amine compound include mono (cyclo) alkylamines; di (cyclo) alkylamines; tri (cyclo) alkylamines; substituted alkylanilines or derivatives thereof; ethylenediamine, N, N, N ′, N′— Tetramethylethylenediamine, tetramethylenediamine, hexamethylenediamine, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminobenzophenone, 4,4'-diaminodiphenylamine, 2,2-bis ( 4-aminophenyl) propane, 2- (3-aminophenyl) -2- (4-aminophenyl) propane, 2- (4-aminophenyl) -2- (3-hydroxyphenyl) propane, 2- (4- Aminophenyl) -2- (4-hydroxyphenyl) propane 1,4-bis (1- (4-aminophenyl)
- amide group-containing compound examples include Nt-alkyloxycarbonyl group-containing amino compounds such as Nt-butoxycarbonyl group-containing amino compounds, formamide, N-methylformamide, N, N-dimethylformamide, acetamide, N -Methylacetamide, N, N-dimethylacetamide, propionamide, benzamide, pyrrolidone, N-methylpyrrolidone, N-acetyl-1-adamantylamine, isocyanuric acid tris (2-hydroxyethyl) and the like.
- Nt-alkyloxycarbonyl group-containing amino compounds such as Nt-butoxycarbonyl group-containing amino compounds, formamide, N-methylformamide, N, N-dimethylformamide, acetamide, N -Methylacetamide, N, N-dimethylacetamide, propionamide, benzamide, pyrrolidone, N-methylpyrrolidone, N-acetyl-1-a
- urea compound examples include urea, methylurea, 1,1-dimethylurea, 1,3-dimethylurea, 1,1,3,3-tetramethylurea, 1,3-diphenylurea, tri-n-butylthiourea. Etc.
- nitrogen-containing heterocyclic compound examples include imidazoles; pyridines; piperazines; pyrazine, pyrazole, pyridazine, quinosaline, purine, pyrrolidine, piperidine, piperidine ethanol, 3-piperidino-1,2-propanediol, morpholine, 4 -Methylmorpholine, 1- (4-morpholinyl) ethanol, 4-acetylmorpholine, 3- (N-morpholino) -1,2-propanediol, 1,4-dimethylpiperazine, 1,4-diazabicyclo [2.2. 2] octane and the like.
- a photodegradable base that is exposed to light and generates a weak acid by exposure can also be used.
- the photodegradable base include onium salt compounds that lose acid diffusion controllability by exposure to light.
- the onium salt compound include a sulfonium salt compound represented by the following formula (9-1), an iodonium salt compound represented by the following formula (9-2), and the like.
- R 28 to R 32 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a hydroxy group, or a halogen atom.
- E ⁇ and Q ⁇ are each independently OH ⁇ , R ⁇ —COO ⁇ , R ⁇ —SO 3 — or an anion represented by the following formula (9-3).
- R ⁇ is an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group.
- R 33 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in which part or all of the hydrogen atoms may be substituted with fluorine atoms, or 1 carbon atom 12 to 12 linear or branched alkoxyl groups.
- u is an integer of 0-2.
- Examples of the photodegradable base include compounds represented by the following formulas.
- the photodegradable base is preferably a sulfonium salt, more preferably a triarylsulfonium salt, and triphenylsulfonium 2.4.6. More preferred are triisopropyl phenyl sulfonate and triphenyl sulfonium 10-camphor sulfonate.
- the upper limit of the content of the other acid diffusion controller is [A] 100 parts by mass of the polymer. On the other hand, 15 mass parts is preferable and 10 mass parts is more preferable. Moreover, as an upper limit of content of said other acid diffusion control agent, 95 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of [C] compounds, 50 mass parts is more preferable, and 20 mass parts is further more preferable.
- the surfactant exhibits the effect of improving the coating property, striation, developability and the like of the radiation sensitive resin composition.
- the surfactant include polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene n-octylphenyl ether, polyoxyethylene n-nonylphenyl ether, polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol diacrylate.
- Nonionic surfactants such as stearate, commercially available products such as “KP341” from Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., “Polyflow No. 75” and “No.
- the alicyclic skeleton-containing compound has an effect of improving the dry etching resistance, pattern shape, adhesion to the substrate, and the like of the radiation-sensitive resin composition.
- sensitizer exhibits the effect
- the sensitizer examples include carbazoles, acetophenones, benzophenones, naphthalenes, phenols, biacetyl, eosin, rose bengal, pyrenes, anthracenes, phenothiazines and the like. These sensitizers may be used alone or in combination of two or more.
- the said radiation sensitive resin composition contains the said sensitizer, as an upper limit of content of the said sensitizer, it is 2 mass parts normally with respect to 100 mass parts of [A] polymers.
- the radiation sensitive resin composition includes, for example, [A] polymer, [B] acid generator, [C] compound, [E] fluorine atom-containing polymer and other optional components contained as necessary, and [D]
- the solvent can be prepared by mixing at a predetermined ratio.
- the radiation-sensitive resin composition is preferably filtered after mixing with, for example, a filter having a pore diameter of about 0.2 ⁇ m.
- a filter having a pore diameter of about 0.2 ⁇ m As a minimum of solid concentration of the radiation sensitive resin composition, 0.1 mass% is preferred, 0.5 mass% is more preferred, and 1 mass% is still more preferred.
- the upper limit of the solid content concentration of the radiation-sensitive resin composition is preferably 50% by mass, more preferably 30% by mass, and still more preferably 20% by mass.
- the radiation-sensitive resin composition can be used both for forming a positive pattern using an alkaline developer and for forming a negative pattern using a developer containing an organic solvent.
- the radiation-sensitive resin composition can exhibit particularly high resolution when used for negative pattern formation using a developer containing an organic solvent.
- the resist pattern forming method includes a step of coating the radiation-sensitive resin composition on one side of the substrate (hereinafter also referred to as “coating step”), and exposing the resist film obtained by the coating. And a step of developing the exposed resist film (hereinafter also referred to as “developing step”).
- the resist pattern forming method since the radiation-sensitive resin composition described above is used, a resist pattern excellent in LWR performance, CDU performance, and defect suppression is formed while exhibiting excellent exposure margin. can do.
- each step will be described.
- the radiation sensitive resin composition is applied to one surface side of the substrate to form a resist film.
- the substrate on which the resist film is formed include a silicon wafer and a wafer coated with aluminum.
- a resist film is formed by applying the radiation sensitive resin composition on the substrate.
- it does not specifically limit as a coating method of the said radiation sensitive resin composition, For example, it can apply
- the amount of the radiation-sensitive resin composition to be applied is adjusted so that the formed resist film has a desired thickness.
- substrate in order to volatilize a solvent, you may perform prebaking (PB).
- PB prebaking
- an upper limit of the temperature of PB 200 degreeC is preferable and 150 degreeC is more preferable.
- a protective film can be provided on the resist film as disclosed in, for example, JP-A-5-188598.
- the resist film obtained by the coating step is exposed.
- this exposure can be performed by irradiating with radiation through a mask having a predetermined pattern through an immersion exposure liquid such as water.
- the immersion exposure liquid a liquid having a refractive index larger than that of air is usually used.
- Specific examples of the immersion exposure liquid include pure water, long-chain or cyclic aliphatic compounds, and the like.
- Examples of the radiation include [B] electromagnetic waves such as visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, extreme ultraviolet light (EUV), X-rays, and ⁇ -rays depending on the type of the acid generator used; Among these, a far-ultraviolet ray, EUV and an electron beam are preferable, and among them, ArF excimer laser light (wavelength 193 nm), KrF excimer laser light (wavelength 248 nm), EUV and electron are preferable. A line is more preferable, and ArF excimer laser light, EUV, and an electron beam are further preferable.
- exposure conditions such as exposure amount, can be suitably selected according to the compounding composition of the said radiation sensitive resin composition, the kind of additive, etc.
- PEB post-exposure bake
- the resist film exposed in the exposure step is developed.
- the developer used for the development include an alkaline aqueous solution (alkaline developer) and a developer containing an organic solvent (organic solvent developer). Thereby, a predetermined resist pattern is formed.
- alkali developer examples include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium silicate, sodium metasilicate, aqueous ammonia, ethylamine, n-propylamine, diethylamine, di-n-propylamine, triethylamine, methyl Diethylamine, ethyldimethylamine, triethanolamine, tetramethylammonium hydroxide (TMAH), pyrrole, piperidine, choline, 1,8-diazabicyclo- [5.4.0] -7-undecene, 1,5-diazabicyclo- [ 4.3.0] -5-nonene and an alkaline aqueous solution in which at least one alkaline compound is dissolved.
- TMAH tetramethylammonium hydroxide
- a TMAH aqueous solution is preferable, a TMAH aqueous solution of 2% by mass to 3% by mass is more preferable, and a 2.38% by mass TMAH aqueous solution is more preferable.
- organic solvent developer examples include organic solvents such as hydrocarbon solvents, ether solvents, ester solvents, ketone solvents, alcohol solvents, and solutions containing these organic solvents.
- organic solvent such as hydrocarbon solvents, ether solvents, ester solvents, ketone solvents, alcohol solvents, and solutions containing these organic solvents.
- the 1 type (s) or 2 or more types of the solvent enumerated as the [D] solvent of the said radiation sensitive resin composition mentioned above are mentioned, for example.
- ester solvents and ketone solvents are preferable as the organic solvent.
- an acetate solvent is preferable, and n-butyl acetate is more preferable.
- the ketone solvent is preferably a chain ketone, more preferably 2-heptanone.
- 80 mass% is preferred, 90 mass% is more preferred, 95 mass% is still more preferred, and 99 mass% is especially preferred.
- components other than the organic solvent in the developer include water and silicone oil.
- These developers may be used alone or in combination of two or more.
- the substrate is washed with water or the like and dried.
- the dripping start was set as the polymerization reaction start time, and the polymerization reaction was carried out for 6 hours.
- the polymerization reaction solution was cooled with water and cooled to 30 ° C. or lower.
- the polymerization solution cooled in 400 g of methanol was added, and the precipitated white powder was separated by filtration.
- the filtered white powder was washed twice with 80 g of methanol, further filtered and dried at 50 ° C. for 17 hours to synthesize a white powdery polymer (A-1) (15.2 g, yield). 76%).
- Mw of the polymer (A-1) was 7,300, and Mw / Mn was 1.53.
- the content of each structural unit derived from compound (M-1), compound (M-2) and compound (M-3) was 34.3 mol% and 45.1 mol, respectively. %, And 20.6 mol%.
- Mw of the polymer (A-12) was 7,500, and Mw / Mn was 1.90.
- the content of each structural unit derived from p-hydroxystyrene and the compound (M-21) was 65.4 mol% and 34.6 mol%, respectively.
- the dripping start was set as the polymerization reaction start time, and the polymerization reaction was carried out for 6 hours.
- the polymerization reaction solution was cooled with water and cooled to 30 ° C. or lower.
- the operation of adding 100 g of hexane and stirring to recover the acetonitrile layer was repeated three times. Thereafter, the solvent was replaced with propylene glycol monomethyl ether acetate to obtain a solution containing 60.1 g of the polymer (E-1) (yield 60%).
- Mw of the polymer (E-1) was 15,000, and Mw / Mn was 1.90.
- the content of each structural unit derived from the compound (M-25) and the compound (M-10) was 70.3 mol% and 29.7 mol%, respectively.
- Example 1 [Preparation of radiation-sensitive resin composition for ArF exposure] [Example 1] (Preparation of radiation-sensitive resin composition (J-1)) [A] 100 parts by mass of (A-1) as a polymer, [B] 10 parts by mass of (B-1) as an acid generator, 7 parts by mass of (C-1) as a [C] compound, [D ] (D-1) 2,427 parts by mass as solvent, (D-2) 1,040 parts by mass and (D-3) 200 parts by mass, and [E] (E-1 as fluorine atom-containing polymer) ) 3 parts by mass were mixed and filtered through a membrane filter having a pore size of 0.2 ⁇ m to prepare a radiation sensitive resin composition (J-1).
- TWINSCAN XT-1900i ArF excimer laser immersion exposure apparatus
- Example 21 [Preparation of radiation-sensitive resin composition for electron beam exposure] [Example 21] (Preparation of radiation-sensitive resin composition (J-21)) [A] 100 parts by mass of (A-1) as a polymer, [B] 20 parts by mass of (B-1) as an acid generator, 3.6 parts by mass of (C-1) as a [C] compound, In addition, (D-1) 4,280 parts by mass and (D-2) 1,830 parts by mass as a solvent [D] are mixed and filtered through a membrane filter having a pore size of 0.2 ⁇ m to thereby prepare a radiation-sensitive resin composition. (J-21) was prepared.
- Example 22 to 25 and Comparative Examples 21 to 25 Preparation of radiation-sensitive resin compositions (J-22) to (J25) and (CJ21) to (CJ25)
- the radiation sensitive resin compositions (J-22) to (J-25) and (CJ-21) to (CJ-21) were prepared in the same manner as in Example 21 except that the components having the types and contents shown in Table 3 were used. (CJ-25) was prepared.
- a simple electron beam drawing apparatus (“HL800D” manufactured by Hitachi, Ltd., output: 50 KeV, current density: 5.0 A / cm 2 ).
- alkali development was performed at 23 ° C. for 30 seconds using a 2.38 mass% TMAH aqueous solution as an alkali developer.
- the resist pattern having an average line width of 38 nm line and space (1 L / 1S) was formed by washing with water and drying.
- each radiation sensitive resin composition was evaluated by measuring according to the following method.
- a scanning electron microscope (Hitachi High-Technologies “CG-4100”) was used for measuring the resist pattern.
- the evaluation results are shown in Tables 4 and 5.
- LWR performance Using the scanning electron microscope, a resist pattern formed by irradiating with an exposure amount equal to the Eop was observed from above the pattern. A total of 500 line width variations were measured, and a 3-sigma value was determined from the distribution of the measured values, and this was defined as LWR performance (nm). The smaller the value of the LWR performance, the smaller the line play and the better. The LWR performance can be evaluated as “good” when it is 2.5 nm or less, and “bad” when it exceeds 2.5 nm.
- CDU performance Using the scanning electron microscope, a resist pattern formed by irradiating with an exposure amount equal to the Eop was observed from above the pattern. The line width is measured at 20 points in the range of 400 nm to obtain the average value, the above average value is measured at a total of 500 points, 3 sigma values are obtained from the distribution of the measured values, and this is calculated as the CDU performance (nm ). The smaller the value of the CDU performance, the better the line width variation in the long cycle. The CDU performance can be evaluated as “good” when it is 1.5 nm or less, and “bad” when it exceeds 1.5 nm.
- the Bridge limit In the formation of the resist pattern, when the exposure amount is reduced from the Eop by alkali development and when the exposure amount is increased from the Eop by organic solvent development, the pattern width gradually increases and the space width Gradually gets smaller. Thus, by changing the exposure amount to increase the pattern width and reduce the space width, the minimum pattern width at which a bridge is generated in the space portion was obtained, and this was defined as the Bridge limit (nm).
- the Bridge limit is better as the value is larger, and a bridge defect is less likely to occur.
- the Bridge limit can be evaluated as “good” when it is 50 nm or more, and “bad” when it is less than 50 nm.
- Collapse limit In the formation of the resist pattern, the minimum pattern width at which pattern collapse occurs is obtained by increasing the exposure amount from the Eop in the alkali development and decreasing the exposure amount from the Eop in the organic solvent development. This value was taken as the Collapse limit (nm). As the Collapse limit is smaller, the resist pattern is less likely to collapse. The Collapse limit can be evaluated as “good” when it is 30 nm or less, and “bad” when it exceeds 30 nm.
- a coating film is formed with a radiation-sensitive resin composition on a 12-inch silicon wafer on which a lower antireflection film is formed with a composition for forming an lower antireflection film (“ARC66” of Nissan Chemical Co., Ltd.), and is heated at 120 ° C. for 50 seconds. SB was performed to form a resist film having an average film thickness of 110 nm.
- the film was exposed through a mask pattern for forming a line and space (1L / 1S). After exposure, PEB was performed at 95 ° C. for 50 seconds. Thereafter, development was performed for 10 seconds with a 2.38 mass% aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide or butyl acetate using a GP nozzle of a developing device (“Clean Track ACT8” manufactured by Tokyo Electron). In the case of development with an aqueous tetramethylammonium hydroxide solution, the substrate was rinsed with pure water for 15 seconds and then shaken off and dried at 2,000 rpm. At this time, the exposure amount for forming 1 L / 1S having an average width of 38 nm was determined as the optimum exposure amount.
- a resist pattern having excellent LWR performance, CDU performance, and defect suppression can be formed while exhibiting excellent exposure margin. Therefore, they can be suitably used for pattern formation in semiconductor device manufacturing or the like where further miniaturization is expected.
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Abstract
本発明は、酸解離性基を含む構造単位を有する重合体、感放射線性酸発生体、及びアミン構造を有する化合物であって、上記アミン構造が放射線照射によってアミド構造、チオアミド構造、ニトリル構造又はアンモニウム構造に変化する化合物を含有する感放射線性樹脂組成物である。上記化合物が下記式(1)で表されるとよい。下記式(1)中、R1及びR6は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基、1価の炭化水素基、又は1価の複素環基である。R2~R5は、水素原子、ハロゲン原子、1価の炭化水素基、1価の複素環基であるか、又はR2及びR3、R3及びR4、並びにR4及びR5から選ばれる一組以上が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される環構造を表す。Xは、酸素原子、硫黄原子、-CRARB-又は-NRC-である。RA、RB及びRCは、水素原子、ハロゲン原子又は1価の有機基である。
Description
本発明は、感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法に関する。
リソグラフィーによる微細加工に用いられる感放射線性樹脂組成物は、KrFエキシマレーザー光(波長248nm)、ArFエキシマレーザー光(波長193nm)、極端紫外線(EUV:Extreme Ultraviolet、波長13.5nm)等の遠紫外線、電子線等の荷電粒子線などの照射により露光部に酸を発生させ、この酸を触媒とする化学反応により露光部と未露光部との現像液に対する溶解速度に差を生じさせ、基板上にレジストパターンを形成する。
現在では、より波長の短いレーザー光や電子線の使用、液浸露光装置の使用等により、レジストパターンの加工技術の微細化が図られている。これに伴い、かかる感放射線性樹脂組成物には、形成されるレジストパターンの解像性及び断面形状の矩形性に優れるだけでなく、LWR(Line Width Roughness)性能、CDU(Critical Dimension Uniformity)性能、露光余裕度及び欠陥抑制性等の性能にも優れ、高精度なパターンを高い歩留まりで得られることが要求される。
これらの要求に対して、感放射線性樹脂組成物に用いられる酸発生体、酸拡散制御体及びその他の成分についてその種類や分子構造等が詳細に検討されている。かかる酸拡散制御体のうち、放射線分解性オニウムカチオンと弱酸アニオンとからなるオニウム塩化合物は、露光部では酸捕捉機能が消失し、未露光部でのみ酸捕捉機能を発揮するため、上記性能を向上できるとされている(特開平11-125907号公報、特開平8-146610号公報及び特開2000-298347号公報参照)。
しかしながら、上記オニウム塩化合物は、元々の塩基性が弱すぎるために酸捕捉機能が不十分であったり、レジスト膜中の分散性が悪く不均一分散になりやすかったりするという不都合があり、レジストパターンの微細化が線幅45nm以下のレベルまで進展している現在にあっては、上記リソグラフィー性能の要求レベルを満足させることはできていない。
本発明は以上のような事情に基づいてなされたものであり、その目的は、LWR性能、CDU性能、露光余裕度及び欠陥抑制性に優れる感放射線性樹脂組成物を提供することにある。
上記課題を解決するためになされた発明は、酸解離性基を含む構造単位(以下、「構造単位(I)」ともいう)を有する重合体(以下、「[A]重合体」ともいう)、感放射線性酸発生体(以下、「[B]酸発生体」ともいう)、及びアミン構造を有する化合物であって、上記アミン構造が放射線照射によってアミド構造、チオアミド構造、ニトリル構造又はアンモニウム構造に変化する化合物(以下、「[C]化合物」ともいう)を含有する感放射線性樹脂組成物である。
上記課題を解決するためになされた別の発明は、基板の一方の面側に当該感放射線性樹脂組成物を塗工する工程、上記塗工により得られたレジスト膜を露光する工程、及び上記露光されたレジスト膜を現像する工程を備えるレジストパターン形成方法である。
ここで、「酸解離性基」とは、カルボキシ基、ヒドロキシ基等の水素原子を置換する基であって、酸の作用により解離する基をいう。
本発明の感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法によれば、優れた露光余裕度を発揮しつつ、LWR性能、CDU性能及び欠陥抑制性(以下、「LWR性能等」ともいう)に優れたレジストパターンを形成することができる。従って、これらはさらなる微細化が進行すると予想される半導体デバイス製造等におけるパターン形成に好適に用いることができる。
<感放射線性樹脂組成物>
当該感放射線性樹脂組成物は、[A]重合体、[B]酸発生体及び[C]化合物を含有する。当該感放射線性樹脂組成物は、通常[D]溶媒を含有し、好適成分として[E]フッ素原子含有重合体及び[F]偏在化促進剤を含有してもよい。さらに、当該感放射線性樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲でその他の任意成分を含有していてもよい。以下、各成分について説明する。
当該感放射線性樹脂組成物は、[A]重合体、[B]酸発生体及び[C]化合物を含有する。当該感放射線性樹脂組成物は、通常[D]溶媒を含有し、好適成分として[E]フッ素原子含有重合体及び[F]偏在化促進剤を含有してもよい。さらに、当該感放射線性樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲でその他の任意成分を含有していてもよい。以下、各成分について説明する。
<[A]重合体>
[A]重合体は、構造単位(I)を有する重合体である。当該感放射線性樹脂組成物によれば、放射線を照射されることで[B]酸発生体等から生じる酸により露光部の[A]重合体の酸解離性基が解離して露光部と未露光部とで現像液に対する溶解性に差異が生じ、その結果、レジストパターンを形成することができる。[A]重合体は、通常当該感放射線性樹脂組成物のベース重合体となる。ここで「ベース重合体」とは、レジストパターンを構成する全重合体のうちの主成分となる重合体であって、好ましくは全重合体の50質量%以上、より好ましくは60質量%以上を占める重合体をいう。
[A]重合体は、構造単位(I)を有する重合体である。当該感放射線性樹脂組成物によれば、放射線を照射されることで[B]酸発生体等から生じる酸により露光部の[A]重合体の酸解離性基が解離して露光部と未露光部とで現像液に対する溶解性に差異が生じ、その結果、レジストパターンを形成することができる。[A]重合体は、通常当該感放射線性樹脂組成物のベース重合体となる。ここで「ベース重合体」とは、レジストパターンを構成する全重合体のうちの主成分となる重合体であって、好ましくは全重合体の50質量%以上、より好ましくは60質量%以上を占める重合体をいう。
[A]重合体は、構造単位(I)以外にも、後述する式(3-1)で表される構造単位、式(3-2)で表される構造単位、及びこれらの組み合わせ(以下、「構造単位(II)」ともいう)、後述する式(4)で表される構造単位(以下、「構造単位(III)」ともいう)、並びに上記構造単位(I)~(III)以外のその他の構造単位を有していてもよい。[A]重合体は、これらの構造単位を1種又は2種以上有していてもよい。以下、各構造単位について説明する。
[構造単位(I)]
構造単位(I)は、酸解離性基を含む構造単位である。構造単位(I)としては、例えば下記式(2-1)で表される構造単位(以下、「構造単位(I-1)」ともいう)、下記式(2-2)で表される構造単位(以下、「構造単位(I-2)」ともいう)等が挙げられ、これらの中で、構造単位(I-1)が好ましい。
構造単位(I)は、酸解離性基を含む構造単位である。構造単位(I)としては、例えば下記式(2-1)で表される構造単位(以下、「構造単位(I-1)」ともいう)、下記式(2-2)で表される構造単位(以下、「構造単位(I-2)」ともいう)等が挙げられ、これらの中で、構造単位(I-1)が好ましい。
上記式(2-1)中、R7Aは、水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基である。Y1は、下記式(Y-1)で表される基である。
上記式(2-2)中、R7Bは、水素原子又はメチル基である。Y2は、1価の酸解離性基である。
上記式(Y-1)中、Re1は、炭素数1~20の1価の炭化水素基である。Re2及びRe3は、それぞれ独立して炭素数1~20の1価の炭化水素基であるか、又はこれらの基が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される環員数3~20の脂環構造を表す。
ここで「炭化水素基」とは、鎖状炭化水素基、脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基を含む。この「炭化水素基」は、飽和炭化水素基でも不飽和炭化水素基でもよい。「鎖状炭化水素基」とは、環状構造を含まず、鎖状構造のみで構成された炭化水素基をいい、直鎖状炭化水素基及び分岐状炭化水素基の両方を含む。「脂環式炭化水素基」とは、環構造としては脂環構造のみを含み、芳香環構造を含まない炭化水素基をいい、単環の脂環式炭化水素基及び多環の脂環式炭化水素基の両方を含む。但し、脂環構造のみで構成されている必要はなく、その一部に鎖状構造を含んでいてもよい。「芳香族炭化水素基」とは、環構造として芳香環構造を含む炭化水素基をいう。但し、芳香環構造のみで構成されている必要はなく、その一部に鎖状構造や脂環構造を含んでいてもよい。また、「環員数」とは、環構造の環を構成する原子数をいい、多環構造の場合はこの多環を構成する原子数をいう。
上記R7Aとしては、構造単位(I-1)を与える単量体の共重合性の観点から、水素原子及びメチル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
上記Re1、Re2及びRe3で表される炭素数1~20の1価の炭化水素基としては、例えば炭素数1~20の1価の鎖状炭化水素基、炭素数3~20の1価の脂環式炭化水素基、炭素数6~20の1価の芳香族炭化水素基等が挙げられる。
上記炭素数1~20の1価の鎖状炭化水素基としては、例えば
メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基等のアルキル基;
エテニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基等のアルケニル基;
エチニル基、プロピニル基、ブチニル基、ペンチニル基等のアルキニル基などが挙げられる。
メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、i-ブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基等のアルキル基;
エテニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基等のアルケニル基;
エチニル基、プロピニル基、ブチニル基、ペンチニル基等のアルキニル基などが挙げられる。
上記炭素数1~20の1価の鎖状炭化水素基としては、これらの中で、アルキル基が好ましく、炭素数1~4のアルキル基がより好ましく、メチル基、エチル基及びi-プロピル基がさらに好ましく、エチル基が特に好ましい。
上記炭素数3~20の1価の脂環式炭化水素基としては、例えば
シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基等の単環のシクロアルキル基;
ノルボルニル基、アダマンチル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基等の多環のシクロアルキル基;
シクロプロペニル基、シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等の単環のシクロアルケニル基;
ノルボルネニル基、トリシクロデセニル基等の多環のシクロアルケニル基などが挙げられる。
シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基等の単環のシクロアルキル基;
ノルボルニル基、アダマンチル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基等の多環のシクロアルキル基;
シクロプロペニル基、シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等の単環のシクロアルケニル基;
ノルボルネニル基、トリシクロデセニル基等の多環のシクロアルケニル基などが挙げられる。
上記炭素数3~20の1価の脂環式炭化水素基としては、これらの中で、単環のシクロアルキル基及び多環のシクロアルキル基が好ましく、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基及びアダマンチル基がより好ましい。
上記炭素数6~20の1価の芳香族炭化水素基としては、例えば
フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントリル基等のアリール基;
ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基等のアラルキル基などが挙げられる。
フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントリル基等のアリール基;
ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基等のアラルキル基などが挙げられる。
上記炭素数6~20の1価の芳香族炭化水素基としては、これらの中で、アリール基が好ましく、炭素数6~10のアリール基がより好ましく、フェニル基及びナフチル基がさらに好ましく、フェニル基が特に好ましい。
上記Re2及びRe3が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される環員数3~20の脂環構造としては、例えば
シクロプロパン構造、シクロブタン構造、シクロペンタン構造、シクロヘキサン構造、シクロオクタン構造等の単環の飽和脂環構造;
ノルボルナン構造、アダマンタン構造、トリシクロデカン構造、テトラシクロドデカン構造等の多環の飽和脂環構造;
シクロプロペン構造、シクロブテン構造、シクロペンテン構造、シクロヘキセン構造、シクロオクテン構造等の単環の不飽和脂環構造;
ノルボルネン構造、トリシクロデセン構造、テトラシクロドデセン構造等の多環の不飽和脂環構造などが挙げられる。
シクロプロパン構造、シクロブタン構造、シクロペンタン構造、シクロヘキサン構造、シクロオクタン構造等の単環の飽和脂環構造;
ノルボルナン構造、アダマンタン構造、トリシクロデカン構造、テトラシクロドデカン構造等の多環の飽和脂環構造;
シクロプロペン構造、シクロブテン構造、シクロペンテン構造、シクロヘキセン構造、シクロオクテン構造等の単環の不飽和脂環構造;
ノルボルネン構造、トリシクロデセン構造、テトラシクロドデセン構造等の多環の不飽和脂環構造などが挙げられる。
上記Re2及びRe3が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される環員数3~20の脂環構造としては、これらの中で、単環の飽和脂環構造及び多環の飽和脂環構造が好ましく、炭素数5~8の単環の飽和脂環構造、及び炭素数7~12の多環の飽和脂環構造がより好ましく、シクロペンタン構造、シクロヘキサン構造、シクロオクタン構造、ノルボルナン構造及びアダマンタン構造がさらに好ましく、シクロペンタン構造及びアダマンタン構造が特に好ましい。
上記式(Y-1)で表される基としては、Re1が炭素数1~10の1価の鎖状炭化水素基であり、かつRe2及びRe3が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される環員数3~20の脂環構造を表す基が好ましく、Re1が炭素数1~10のアルキル基であり、かつRe2及びRe3が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される環員数3~20の飽和脂環構造を表す基がより好ましく、Re1が炭素数1~4のアルキル基であり、かつRe2及びRe3が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される環員数5~8の単環の飽和脂環構造又は環員数7~12の多環の飽和脂環構造を表す基がさらに好ましい。
上記R7Bとしては、構造単位(I-2)を与える単量体の共重合性の観点から、水素原子が好ましい。
上記Y2で表される1価の酸解離性基としては、下記式(Y-2)で表される基が好ましい。
上記式(Y-2)中、Re4、Re5及びRe6は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1~20の1価の炭化水素基又は炭素数1~20の1価のオキシ炭化水素基である。
但し、Re4、Re5及びRe6が同時に水素原子である場合はない。
但し、Re4、Re5及びRe6が同時に水素原子である場合はない。
上記Re4、Re5及びRe6で表される炭素数1~20の1価の炭化水素基としては、例えば上記Re1、Re2及びRe3で表される炭素数1~20の1価の炭化水素基として例示したものと同様の基等が挙げられる。
上記Re4、Re5及びRe6としては、これらの中で、鎖状炭化水素基及び脂環式炭化水素基が好ましく、アルキル基及びシクロアルキル基がより好ましく、炭素数1~4のアルキル基、単環のシクロアルキル基、及び多環のシクロアルキル基がさらに好ましく、メチル基、エチル基、n-プロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基及びアダマンチル基が特に好ましい。
上記Re4、Re5及びRe6で表される炭素数1~20の1価のオキシ炭化水素基としては、例えば炭素数1~20の1価のオキシ鎖状炭化水素基、炭素数3~20の1価のオキシ脂環式炭化水素基、炭素数6~20の1価のオキシ芳香族炭化水素基等が挙げられる。
上記炭素数1~20の1価のオキシ鎖状炭化水素基としては、例えば
メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、i-プロポキシ基、n-ブトキシ基、i-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、t-ブトキシ基、n-ペンチルオキシ基等のアルコキシ基;
エテニルオキシ基、プロペニルオキシ基、ブテニルオキシ基、ペンテニルオキシ基等のアルケニルオキシ基;
エチニルオキシ基、プロピニルオキシ基、ブチニルオキシ基、ペンチニルオキシ基等のアルキニルオキシ基などが挙げられる。
メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、i-プロポキシ基、n-ブトキシ基、i-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、t-ブトキシ基、n-ペンチルオキシ基等のアルコキシ基;
エテニルオキシ基、プロペニルオキシ基、ブテニルオキシ基、ペンテニルオキシ基等のアルケニルオキシ基;
エチニルオキシ基、プロピニルオキシ基、ブチニルオキシ基、ペンチニルオキシ基等のアルキニルオキシ基などが挙げられる。
上記炭素数1~20の1価のオキシ鎖状炭化水素基としては、これらの中で、アルコキシ基が好ましく、炭素数1~4のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基及びn-プロポキシ基がさらに好ましい。
上記炭素数3~20の1価のオキシ脂環式炭化水素基としては、例えば
シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロオクチルオキシ基等の単環のシクロアルキルオキシ基;
ノルボルニルオキシ基、アダマンチルオキシ基、トリシクロデシルオキシ基、テトラシクロドデシルオキシ基等の多環のシクロアルキルオキシ基;
シクロプロペニルオキシ基、シクロブテニルオキシ基、シクロペンテニルオキシ基、シクロヘキセニルオキシ基等の単環のシクロアルケニルオキシ基;
ノルボルネニルオキシ基、トリシクロデセニルオキシ基等の多環のシクロアルケニルオキシ基などが挙げられる。
シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロオクチルオキシ基等の単環のシクロアルキルオキシ基;
ノルボルニルオキシ基、アダマンチルオキシ基、トリシクロデシルオキシ基、テトラシクロドデシルオキシ基等の多環のシクロアルキルオキシ基;
シクロプロペニルオキシ基、シクロブテニルオキシ基、シクロペンテニルオキシ基、シクロヘキセニルオキシ基等の単環のシクロアルケニルオキシ基;
ノルボルネニルオキシ基、トリシクロデセニルオキシ基等の多環のシクロアルケニルオキシ基などが挙げられる。
上記炭素数3~20の1価のオキシ脂環式炭化水素基としては、これらの中で、単環のシクロアルキルオキシ基、及び多環のシクロアルキルオキシ基が好ましく、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ノルボルニルオキシ基及びアダマンチルオキシ基がより好ましい。
上記炭素数6~20の1価のオキシ芳香族炭化水素基としては、例えば
フェノキシ基、トリルオキシ基、ナフチルオキシ基等のアリールオキシ基;
ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、ナフチルメトキシ基等のアラルキルオキシ基などが挙げられる。
フェノキシ基、トリルオキシ基、ナフチルオキシ基等のアリールオキシ基;
ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、ナフチルメトキシ基等のアラルキルオキシ基などが挙げられる。
上記炭素数6~20の1価のオキシ芳香族炭化水素基としては、これらの中で、アリールオキシ基が好ましく、フェノキシ基がより好ましい。
上記式(Y-2)で表される基としては、Re4が水素原子であり、かつRe5及びRe6が1価の鎖状炭化水素基である基、Re4が水素原子であり、Re5が1価の鎖状炭化水素基であり、かつRe6が1価の脂環式炭化水素基である基、Re4、Re5及びRe6が1価の鎖状炭化水素基である基、並びにRe4及びRe5が1価の鎖状炭化水素基であり、かつRe6が1価のオキシ鎖状炭化水素基である基が好ましく、Re4が水素原子であり、かつRe5及びRe6がアルキル基である基、Re4が水素原子であり、Re5がアルキル基であり、かつRe6がシクロアルキル基である基、Re4、Re5及びRe6がアルキル基である基、並びにRe4及びRe5がアルキル基であり、かつRe6がアルコキシ基である基がより好ましく、Re4が水素原子であり、Re5がアルキル基であり、かつRe6がシクロアルキル基である基がさらに好ましく、1-(シクロヘキシルエトキシ)エチル基が特に好ましい。
構造単位(I)のうち、構造単位(I-1)としては、下記式(2-1-1)~(2-1-7)で表される構造単位(以下、「構造単位(I-1-1)~(I-1-7)」ともいう)等が挙げられ、構造単位(I-2)としては、下記式(2-2-1)~(2-2-3)で表される構造単位(以下、「構造単位(I-2-1)~(I-2-3)」ともいう)等が挙げられる。
上記式(2-1-1)~(2-1-7)中、R7Aは、上記式(2-1)と同義である。Re1、Re2及びRe3は、上記式(Y-1)と同義である。tは、1~3の整数である。
上記式(2-2-1)~(2-2-3)中、R7Bは、上記式(2-2)と同義である。
構造単位(I)としては、構造単位(I-1-2)、構造単位(I-1-3)、構造単位(I-1-4)、構造単位(I-1-5)及び構造単位(I-2-3)が好ましく、シクロペンタン構造を含む構造単位、シクロヘキサン構造を含む構造単位、及びアダマンタン構造を含む構造単位がより好ましく、1-エチル-1-シクロペンチル(メタ)アクリレートに由来する構造単位、2-メチル-2-アダマンチル(メタ)アクリレートに由来する構造単位、2-エチル-2-アダマンチル(メタ)アクリレートに由来する構造単位、アダマンタン-1-イル-2-プロピル(メタ)アクリレートに由来する構造単位、シクロヘキシル-2-プロピル(メタ)アクリレートに由来する構造単位、2-エチル-テトラシクロドデシル(メタ)アクリレートに由来する構造単位、及び1-(シクロヘキシルエトキシ)エトキシスチレンに由来する構造単位がさらに好ましい。
構造単位(I)の含有割合の下限としては、[A]重合体を構成する全構造単位に対して、10モル%が好ましく、20モル%がより好ましく、30モル%がさらに好ましく、35モル%が特に好ましい。一方、構造単位(I)の含有割合の上限としては、[A]重合体を構成する全構造単位に対して、70モル%が好ましく、60モル%がより好ましく、55モル%がさらに好ましく、50モル%が特に好ましい。構造単位(I)の含有割合を上記範囲とすることで、当該感放射線性樹脂組成物のLWR性能等をさらに向上させることができる。
[構造単位(II)]
構造単位(II)は、下記式(3-1)で表される構造単位(以下、「構造単位(II-1)」ともいう)、下記式(3-2)で表される構造単位(以下、「構造単位(II-2)」ともいう)、及びこれらの組み合わせである。[A]重合体が構造単位(II)を有することで、当該感放射線性樹脂組成物から形成されるレジスト膜中での[B]酸発生体及び/又は[C]化合物の分散性を向上させることができる。その結果、当該感放射線性樹脂組成物のLWR性能等をさらに向上させることができる。また、当該感放射線性樹脂組成物から形成されるレジストパターンの基板への密着性を向上させることができる。
構造単位(II)は、下記式(3-1)で表される構造単位(以下、「構造単位(II-1)」ともいう)、下記式(3-2)で表される構造単位(以下、「構造単位(II-2)」ともいう)、及びこれらの組み合わせである。[A]重合体が構造単位(II)を有することで、当該感放射線性樹脂組成物から形成されるレジスト膜中での[B]酸発生体及び/又は[C]化合物の分散性を向上させることができる。その結果、当該感放射線性樹脂組成物のLWR性能等をさらに向上させることができる。また、当該感放射線性樹脂組成物から形成されるレジストパターンの基板への密着性を向上させることができる。
上記式(3-1)中、R8は、水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基である。E1は、単結合、-COO-又はCO-O-(CH2)iである。iは、1~6の整数である。R9は、非酸解離性でかつ極性基を含む基である。
上記式(3-2)中、R8’は、水素原子又はメチル基である。Ra及びRbは、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、ヒドロキシ基又は1価の有機基である。sは、1~3の整数である。sが2以上の場合、複数のRaはそれぞれ同一でも異なっていてもよく、複数のRbはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。R9a及びR9bは、それぞれ独立して水素原子、フッ素原子、ヒドロキシ基若しくは1価の有機基であるか、又はこれらの基が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される環員数3~30の環構造を表す。ここで「有機基」とは、少なくとも1個の炭素原子を含む基をいう。
上記構造単位(II-1)において、上記R8としては、構造単位(II-1)を与える単量体の共重合性の観点から、水素原子及びメチル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
上記E1としては、構造単位(II-1)を与える単量体の共重合性の観点から、-COO-が好ましい。
上記R9で表される非酸解離性でかつ極性基を含む基における極性基としては、例えばヒドロキシ基、カルボキシ基、シアノ基、スルホ基、メルカプト基等の1価の基(a);カルボニル基、-O-、-S-、これらを組み合わせてなる2価の基(b)などが挙げられる。
上記R9で表される非酸解離性でかつ極性基を含む基としては、例えば炭素数1~20の1価の炭化水素基が有する水素原子の一部又は全部を上記1価の基(a)で置換した基、炭素数1~20の1価の炭化水素基の一部又は全部の炭素-炭素間に上記2価の基(b)を含む基、炭素数1~20の1価の炭化水素基が有する水素原子の一部又は全部を上記1価の基(a)で置換し、かつ一部又は全部の炭素-炭素間に上記2価の基(b)を含む基等が挙げられる。
上記炭素数1~20の1価の炭化水素基としては、例えば上記式(Y-1)における上記Re1、Re2及びRe3で表される炭素数1~20の1価の炭化水素基として例示したものと同様の基等が挙げられる。
上記R9としては、ラクトン構造を有する基、環状カーボネート構造を有する基、スルトン構造を有する基、ヒドロキシ基を有する基等が挙げられる。
上記ラクトン構造を有する基としては、例えばブチロラクトン-イル基、ノルボルナンラクトン-イル基、5-オキソ-4-オキサトリシクロ[4.3.1.13,8]ウンデカン-イル基等が挙げられる。
上記環状カーボネート構造を有する基としては、例えばエチレンカーボネート-イルメチル基等が挙げられる。
上記スルトン構造を有する基としては、例えばプロパンスルトン-イル基、ノルボルナンスルトン-イル基等が挙げられる。
上記ヒドロキシ基を有する基としては、例えばヒドロキシアダマンチル基、ジヒドロキシアダマンチル基、トリヒドロキシアダマンチル基、ヒドロキシエチル基等が挙げられる。
構造単位(II-2)において、上記R8’としては、構造単位(II-2)を与える単量体の共重合性の観点から、水素原子が好ましい。
上記Ra、Rb、R9a及びR9bで表される1価の有機基としては、例えば炭素数1~20の1価の炭化水素基、この炭化水素基が有する水素原子の一部又は全部を置換基で置換した基、これらの基の炭素-炭素間に-CO-、-CS-、-O-、-S-若しくは-NR’-、又はこれらのうちの2種以上を組み合わせた基を含む基等が挙げられる。R’は、水素原子又は1価の炭化水素基である。
上記R9a及びR9bが互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される環員数3~30の環構造としては、例えばシクロプロパン構造、シクロブタン構造、シクロペンタン構造、シクロヘキサン構造、ノルボルナン構造、アダマンタン構造等の脂環構造;オキサシクロペンタン構造、チアシクロペンタン構造、アザシクロペンタン構造等の脂肪族複素環構造などが挙げられる。
上記sとしては、1及び2が好ましく、1がより好ましい。
構造単位(II)のうち、構造単位(II-1)としては、例えば下記式(3-1-1)~(3-1-11)で表される構造単位(以下、「構造単位(II-1-1)~(II-1-11)」ともいう)等が挙げられ、構造単位(II-2)としては、例えば下記式(3-2-1)及び(3-2-2)で表される構造単位(以下、「構造単位(II-2-1)及び(II-2-2)」ともいう)等が挙げられる。
上記式(3-1-1)~(3-1-11)中、R8は、上記式(3-1)と同義である。
上記式(3-2-1)及び(3-2-2)中、R8’は、上記式(3-2)と同義である。
構造単位(II)としては、これらの中で、構造単位(II-1)が好ましく、構造単位(II-1-1)、構造単位(II-1-2)、構造単位(II-1-3)、構造単位(II-1-8)、及び構造単位(II-1-11)がより好ましい。
[A]重合体が構造単位(II)を有する場合、構造単位(II)の含有割合の下限としては、[A]重合体を構成する全構造単位に対して、10モル%が好ましく、30モル%がより好ましい。一方、構造単位(II)の含有割合の上限としては、[A]重合体を構成する全構造単位に対して、80モル%が好ましく、70モル%がより好ましく、60モル%がさらに好ましい。構造単位(II)の含有割合を上記範囲とすることで、当該感放射線性樹脂組成物から形成されるレジスト膜中での[B]酸発生体及び[C]化合物の分散性が向上し、その結果、当該感放射線性樹脂組成物のLWR性能等をさらに向上させることができる。
[構造単位(III)]
構造単位(III)は、下記式(4)で表される構造単位である。当該感放射線性樹脂組成物は、[A]重合体が構造単位(III)を有することで、照射する放射線としてKrFエキシマレーザー光、EUV、電子線等を用いる場合の感度を高めることができる。
構造単位(III)は、下記式(4)で表される構造単位である。当該感放射線性樹脂組成物は、[A]重合体が構造単位(III)を有することで、照射する放射線としてKrFエキシマレーザー光、EUV、電子線等を用いる場合の感度を高めることができる。
上記式(4)中、R10は、水素原子又はメチル基である。R11は、炭素数1~20の1価の有機基である。pは、0~3の整数である。R11が複数の場合、複数のR11は同一でも異なっていてもよい。qは、1~3の整数である。但し、p及びqは、p+q≦5を満たす。
上記R10としては、構造単位(III)を与える単量体の共重合性の観点から、水素原子が好ましい。
上記R11で表される炭素数1~20の1価の有機基としては、例えば上記式(3-2)における上記Ra、Rb、R9a及びR9bで表される1価の有機基として例示したものと同様の基等が挙げられる。
上記R11としては、これらの中で、1価の鎖状炭化水素基が好ましく、アルキル基がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。
上記pとしては、0~2の整数が好ましく、0及び1がより好ましく、0がさらに好ましい。
上記qとしては、1及び2が好ましく、1がより好ましい。
構造単位(III)としては、例えば下記式(4-1)~(4-4)で表される構造単位(以下、「構造単位(III-1)~(III-4)」ともいう)等が挙げられる。
上記式(4-1)~(4-4)中、R10は、上記式(4)と同義である。
構造単位(III)としては、これらの中で、構造単位(III-1)及び構造単位(III-2)が好ましく、構造単位(III-1)がより好ましい。
[A]重合体が構造単位(III)を有する場合、構造単位(III)の含有割合の下限としては、[A]重合体を構成する全構造単位に対して、30モル%が好ましく、50モル%がより好ましい。一方、構造単位(III)の含有割合の上限としては、[A]重合体を構成する全構造単位に対して、90モル%が好ましく、80モル%がより好ましく、75モル%がさらに好ましい。構造単位(III)の含有割合を上記範囲とすることで、当該感放射線性樹脂組成物の感度をより向上させることができる。
なお、構造単位(III)は、ヒドロキシスチレンのOH基の水素原子をt-ブチル基等で置換した単量体を用いて[A]重合体を重合し、得られた[A]重合体をアミン等の塩基存在下で加水分解反応を行う方法などにより形成することができる。
[その他の構造単位]
[A]重合体は、上記構造単位(I)~(III)以外のその他の構造単位を有していてもよい。その他の構造単位としては、例えば非解離性の1価の脂環式炭化水素基を含む(メタ)アクリル酸エステルに由来する構造単位等が挙げられる。[A]重合体が上記その他の構造単位を有する場合、上記その他の構造単位の含有割合の上限としては、[A]重合体を構成する全構造単位に対して、20モル%が好ましく、10モル%がより好ましい。
[A]重合体は、上記構造単位(I)~(III)以外のその他の構造単位を有していてもよい。その他の構造単位としては、例えば非解離性の1価の脂環式炭化水素基を含む(メタ)アクリル酸エステルに由来する構造単位等が挙げられる。[A]重合体が上記その他の構造単位を有する場合、上記その他の構造単位の含有割合の上限としては、[A]重合体を構成する全構造単位に対して、20モル%が好ましく、10モル%がより好ましい。
[A]重合体の含有量の下限としては、当該感放射線性樹脂組成物の全固形分に対して、70質量%が好ましく、80質量%がより好ましく、85質量%がさらに好ましい。一方、[A]重合体の含有量の上限としては、当該感放射線性樹脂組成物の全固形分に対して、例えば95質量%である。ここで「固形分」とは、当該感放射線性樹脂組成物の[D]溶媒及び[F]偏在化促進剤以外の成分の合計質量をいう。
<[A]重合体の合成方法>
[A]重合体は、ラジカル重合等の常法に従って合成することができる。[A]重合体の具体的な合成方法としては、例えば単量体及びラジカル開始剤を含有する溶液を反応溶媒又は単量体を含有する溶液に滴下して重合反応させる方法、単量体を含有する溶液とラジカル開始剤を含有する溶液とを各別に反応溶媒又は単量体を含有する溶液に滴下して重合反応させる方法、各々の単量体を含有する複数種の溶液とラジカル開始剤を含有する溶液とを各別に反応溶媒又は単量体を含有する溶液に滴下して重合反応させる方法、単量体及びラジカル開始剤を含有する溶液を無溶媒中や反応溶媒中で重合反応させる方法等が挙げられる。
[A]重合体は、ラジカル重合等の常法に従って合成することができる。[A]重合体の具体的な合成方法としては、例えば単量体及びラジカル開始剤を含有する溶液を反応溶媒又は単量体を含有する溶液に滴下して重合反応させる方法、単量体を含有する溶液とラジカル開始剤を含有する溶液とを各別に反応溶媒又は単量体を含有する溶液に滴下して重合反応させる方法、各々の単量体を含有する複数種の溶液とラジカル開始剤を含有する溶液とを各別に反応溶媒又は単量体を含有する溶液に滴下して重合反応させる方法、単量体及びラジカル開始剤を含有する溶液を無溶媒中や反応溶媒中で重合反応させる方法等が挙げられる。
なお、単量体溶液に対して、単量体溶液を滴下して反応させる場合、滴下される単量体溶液中の単量体量の下限としては、重合に用いられる単量体総量のうち、30モル%が好ましく、50モル%がより好ましく、70モル%がさらに好ましい。
[A]重合体の合成方法における反応温度は、開始剤種によって適宜決定すればよい。上記反応温度の下限としては、通常30℃であり、40℃が好ましく、50℃がより好ましい。一方、上記反応温度の上限としては、通常150℃であり、140℃が好ましい。[A]重合体の合成方法における滴下時間は、反応温度、開始剤の種類、反応させる単量体等の条件によって異なる。上記滴下時間の下限としては、通常30分であり、45分が好ましく、1時間がより好ましい。一方、上記滴下時間の上限としては、通常8時間であり、6時間が好ましく、5時間がより好ましい。また、[A]重合体の合成方法における滴下時間を含む全反応時間も、滴下時間と同様に条件により異なる。上記全反応時間の下限としては、通常30分であり、45分が好ましく、1時間がより好ましい。一方、上記全反応時間の上限としては、通常24時間であり、18時間が好ましく、12時間がより好ましく、10時間がさらに好ましい。
上記重合に使用されるラジカル開始剤としては、例えばアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)、2,2’-アゾビス(4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル)、2,2’-アゾビス(2-シクロプロピルプロピオニトリル)、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)、ジメチル2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオネート)、ジメチル2,2’-アゾビスイソブチレート等のアゾ系ラジカル開始剤;ベンゾイルパーオキサイド、t-ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等の過酸化物系ラジカル開始剤などが挙げられる。上記ラジカル開始剤としては、これらの中で、AIBN及びジメチル2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオネート)が好ましい。上記ラジカル開始剤は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。
上記重合に使用される反応溶媒としては、重合を阻害する溶媒(重合禁止効果を有するニトロベンゼン、連鎖移動効果を有するメルカプト化合物等)以外の溶媒であって、[A]重合体の単量体を溶解可能な溶媒を使用することができる。上記反応溶媒としては、例えばアルコール類、エーテル類、ケトン類、アミド類、エステル類、ラクトン類、ニトリル類、これらの混合溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。
重合反応により得られた[A]重合体は、再沈殿法により回収することが好ましい。すなわち、重合反応終了後、重合液を再沈溶媒に投入することにより、目的の[A]重合体を粉体として回収することが好ましい。再沈溶媒としては、アルコール類やアルカン類等を単独で又は2種以上を組み合わせて用いるとよい。なお、再沈殿法の他に、分液操作やカラム操作、限外ろ過操作等により、単量体、オリゴマー等の低分子成分を除去して[A]重合体を回収することもできる。
[A]重合体のゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)によるポリスチレン換算重量平均分子量(Mw)の下限としては、1,000が好ましく、2,000がより好ましく、3,000がさらに好ましく、5,000が特に好ましい。一方、[A]重合体のMwの上限としては、50,000が好ましく、40,000がより好ましく、30,000がさらに好ましく、20,000が特に好ましい。[A]重合体のMwが上記下限未満の場合、当該感放射線性樹脂組成物から形成されるレジストパターンの耐熱性が低下するおそれがある。逆に、[A]重合体のMwが上記上限を超える場合、当該感放射線性樹脂組成物の現像性が低下するおそれがある。
[A]重合体のGPCによるポリスチレン換算数平均分子量(Mn)に対するMwの比(Mw/Mn、分散度)の下限としては、通常1である。一方、上記Mw/Mnの上限としては、5が好ましく、3がより好ましく、2.5がさらに好ましい。
ここで、本明細書における重合体のMw及びMnは、以下の条件によるGPCを用いて測定される値である。
GPCカラム:東ソー社の「G2000HXL」2本、「G3000HXL」1本、及び「G4000HXL」1本
カラム温度:40℃
溶出溶媒:テトラヒドロフラン
流速:1.0mL/分
試料濃度:1.0質量%
試料注入量:100μL
検出器:示差屈折計
標準物質:単分散ポリスチレン
カラム温度:40℃
溶出溶媒:テトラヒドロフラン
流速:1.0mL/分
試料濃度:1.0質量%
試料注入量:100μL
検出器:示差屈折計
標準物質:単分散ポリスチレン
<[B]酸発生体>
[B]酸発生体は、露光により酸を発生する化合物である。当該感放射線性樹脂組成物は、上述の発生した酸により[A]重合体等が有する酸解離性基が解離してカルボキシ基等が生じ、これらの重合体の現像液への溶解性が変化するため、レジストパターンを形成することができる。当該感放射線性樹脂組成物における[B]酸発生体の含有形態としては、後述するような低分子化合物の形態(以下、「[B]酸発生剤」ともいう)でも、重合体の一部として組み込まれた形態でも、これらの両方の形態でもよい。
[B]酸発生体は、露光により酸を発生する化合物である。当該感放射線性樹脂組成物は、上述の発生した酸により[A]重合体等が有する酸解離性基が解離してカルボキシ基等が生じ、これらの重合体の現像液への溶解性が変化するため、レジストパターンを形成することができる。当該感放射線性樹脂組成物における[B]酸発生体の含有形態としては、後述するような低分子化合物の形態(以下、「[B]酸発生剤」ともいう)でも、重合体の一部として組み込まれた形態でも、これらの両方の形態でもよい。
[B]酸発生剤としては、例えばオニウム塩化合物、N-スルホニルオキシイミド化合物、ハロゲン含有化合物、ジアゾケトン化合物等が挙げられる。
上記オニウム塩化合物としては、例えばスルホニウム塩、テトラヒドロチオフェニウム塩、ヨードニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩、ピリジニウム塩等が挙げられる。
[B]酸発生剤の具体例としては、例えば特開2009-134088号公報の段落[0080]~[0113]に記載されている化合物等が挙げられる。
[B]酸発生剤としては、下記式(5)で表される化合物が好ましい。[B]酸発生剤を下記式(5)で表される化合物とすることで、[A]重合体が有する極性構造との相互作用等により、露光により発生する酸のレジスト膜中の拡散長が適度に短くなると考えられ、その結果、当該感放射線性樹脂組成物のLWR性能等をさらに向上させることができる。
上記式(5)中、Ra1は、環員数6以上の脂環構造を含む1価の基又は環員数6以上の脂肪族複素環構造を含む1価の基である。Ra2は、炭素数1~10のフッ素化アルカンジイル基である。M+は、1価の放射線分解性オニウムカチオンである。
上記Ra1で表される環員数6以上の脂環構造を含む1価の基としては、例えば
シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロドデシル基等の単環のシクロアルキル基;
シクロオクテニル基、シクロデセニル基等の単環のシクロアルケニル基;
ノルボルニル基、アダマンチル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基等の多環のシクロアルキル基;
ノルボルネニル基、トリシクロデセニル基等の多環のシクロアルケニル基などが挙げられる。
シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロドデシル基等の単環のシクロアルキル基;
シクロオクテニル基、シクロデセニル基等の単環のシクロアルケニル基;
ノルボルニル基、アダマンチル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基等の多環のシクロアルキル基;
ノルボルネニル基、トリシクロデセニル基等の多環のシクロアルケニル基などが挙げられる。
上記Ra1で表される環員数6以上の脂肪族複素環構造を含む1価の基としては、例えば
ノルボルナンラクトン-イル基等のラクトン構造を含む基;
ノルボルナンスルトン-イル基等のスルトン構造を含む基;
オキサシクロヘプチル基、オキサノルボルニル基等の酸素原子含有複素環基;
アザシクロヘキシル基、アザシクロヘプチル基、ジアザビシクロオクタン-イル基等の窒素原子含有複素環基;
チアシクロヘプチル基、チアノルボルニル基等の硫黄原子含有複素環基などが挙げられる。
ノルボルナンラクトン-イル基等のラクトン構造を含む基;
ノルボルナンスルトン-イル基等のスルトン構造を含む基;
オキサシクロヘプチル基、オキサノルボルニル基等の酸素原子含有複素環基;
アザシクロヘキシル基、アザシクロヘプチル基、ジアザビシクロオクタン-イル基等の窒素原子含有複素環基;
チアシクロヘプチル基、チアノルボルニル基等の硫黄原子含有複素環基などが挙げられる。
上記Ra1で表される基の含む脂環構造及び脂肪族複素環構造の環員数の下限としては、上述の酸の拡散長をさらに適度なものに調整する観点から、8が好ましく、9がより好ましく、10がさらに好ましい。一方、上記環員数の上限としては、上述の酸の拡散長をさらに適度なものに調整する観点から、15が好ましく、13がより好ましい。
上記Ra1で表される基としては、これらの中で、環員数9以上の脂環構造を含む1価の基、及び環員数9以上の脂肪族複素環構造を含む1価の基が好ましく、アダマンチル基、ヒドロキシアダマンチル基、ノルボルナンラクトン-イル基、及び5-オキソ-4-オキサトリシクロ[4.3.1.13,8]ウンデカン-イル基がより好ましく、アダマンチル基がさらに好ましい。
上記Ra2で表される炭素数1~10のフッ素化アルカンジイル基としては、例えばメタンジイル基、エタンジイル基、プロパンジイル基等の炭素数1~10のアルカンジイル基が有する水素原子の1個以上をフッ素原子で置換した基などが挙げられる。上記Ra2で表される炭素数1~10のフッ素化アルカンジイル基としては、これらの中で、SO3
-基に隣接する炭素原子にフッ素原子が結合しているフッ素化アルカンジイル基が好ましく、SO3
-基に隣接する炭素原子に2個のフッ素原子が結合しているフッ素化アルカンジイル基がより好ましく、1,1-ジフルオロメタンジイル基、1,1-ジフルオロエタンジイル基、1,1,3,3,3-ペンタフルオロ-1,2-プロパンジイル基、1,1,2,2-テトラフルオロエタンジイル基、1,1,2,2-テトラフルオロブタンジイル基、及び1,1,2,2-テトラフルオロヘキサンジイル基がさらに好ましい。
上記M+で表される1価の放射線分解性オニウムカチオンは、露光光の照射により分解するカチオンである。露光部では、この放射線分解性オニウムカチオンの分解により生成するプロトンとスルホネートアニオンとからスルホン酸を生じる。上記M+で表される1価の放射線分解性オニウムカチオンとしては、例えば下記式(b-a)で表されるスルホニウムカチオン、下記式(b-b)で表されるテトラヒドロチオフェニウムカチオン、下記式(b-c)で表されるヨードニウムカチオン等が挙げられる。
上記式(b-a)中、RB3、RB4及びRB5は、それぞれ独立して、置換若しくは非置換の炭素数1~12の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、置換若しくは非置換の炭素数6~12の芳香族炭化水素基、-OSO2-RBB1若しくは-SO2-RBB2であるか、又はこれらの基のうちの2つ以上が互いに合わせられ構成される環構造を表す。RBB1及びRBB2は、それぞれ独立して、置換若しくは非置換の炭素数1~12の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、置換若しくは非置換の炭素数5~25の脂環式炭化水素基又は置換若しくは非置換の炭素数6~12の芳香族炭化水素基である。b1、b2及びb3は、それぞれ独立して、0~5の整数である。RB3~RB5、RBB1及びRBB2がそれぞれ複数の場合、複数のRB3~RB5、RBB1及びRBB2は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
上記式(b-b)中、RB6は、置換若しくは非置換の炭素数1~8の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、又は置換若しくは非置換の炭素数6~8の芳香族炭化水素基である。b4は、0~7の整数である。RB6が複数の場合、複数のRB6は同一でも異なっていてもよく、また複数のRB6は互いに合わせられ構成される環構造を表してもよい。RB7は、置換若しくは非置換の炭素数1~7の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、又は置換若しくは非置換の炭素数6若しくは7の芳香族炭化水素基である。b5は、0~6の整数である。RB7が複数の場合、複数のRB7は同一でも異なっていてもよく、また複数のRB7は互いに合わせられ構成される環構造を表してもよい。nbは、0~3の整数である。
上記式(b-c)中、RB8及びRB9は、それぞれ独立して、置換若しくは非置換の炭素数1~12の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、置換若しくは非置換の炭素数6~12の芳香族炭化水素基、-OSO2-RBB3若しくは-SO2-RBB4であるか、又はこれらの基のうちの2つ以上が互いに合わせられ構成される環構造を表す。RBB3及びRBB4は、それぞれ独立して、置換若しくは非置換の炭素数1~12の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、置換若しくは非置換の炭素数5~25の脂環式炭化水素基又は置換若しくは非置換の炭素数6~12の芳香族炭化水素基である。b6及びb7は、それぞれ独立して、0~5の整数である。RB8、RB9、RBB3及びRBB4がそれぞれ複数の場合、複数のRB8、RB9、RBB3及びRBB4は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
上記RB3~RB9で表される非置換の直鎖状のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基等が挙げられる。
上記RB3~RB9で表される非置換の分岐状のアルキル基としては、例えばi-プロピル基、i-ブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基等が挙げられる。
上記RB3~RB5、RB8及びRB9で表される非置換の芳香族炭化水素基としては、例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、ナフチル基等のアリール基;ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基などが挙げられる。
上記RB6及びRB7で表される非置換の芳香族炭化水素基としては、例えばフェニル基、トリル基、ベンジル基等が挙げられる。
上記アルキル基及び芳香族炭化水素基が有する水素原子を置換していてもよい置換基としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルオキシ基、アシル基、アシロキシ基等が挙げられる。上記置換基としては、これらの中で、ハロゲン原子が好ましく、フッ素原子がより好ましい。
上記RB3~RB9としては、非置換の直鎖状又は分岐状のアルキル基、フッ素化アルキル基、非置換の1価の芳香族炭化水素基、-OSO2-RBB5、及び-SO2-RBB5が好ましく、フッ素化アルキル基、及び非置換の1価の芳香族炭化水素基がより好ましく、フッ素化アルキル基がさらに好ましい。RBB5は、非置換の1価の脂環式炭化水素基又は非置換の1価の芳香族炭化水素基である。
上記式(b-a)におけるb1、b2及びb3としては、0~2の整数が好ましく、0及び1がより好ましく、0がさらに好ましい。
上記式(b-b)におけるb4としては、0~2の整数が好ましく、0及び1がより好ましく、1がさらに好ましい。b5としては、0~2の整数が好ましく、0及び1がより好ましく、0がさらに好ましい。nbとしては、1~3の整数が好ましく、2及び3がより好ましく、2がさらに好ましい。
上記式(b-c)におけるb6及びb7としては、0~2の整数が好ましく、0及び1がより好ましく、0がさらに好ましい。
上記M+で表される1価の放射線分解性オニウムカチオンとしては、これらの中で、スルホニウムカチオンが好ましく、トリフェニルスルホニウムカチオンがより好ましい。
[B]酸発生剤としては、例えば下記式(5-1)~(5-13)で表される化合物(以下、「化合物(5-1)~(5-13)」ともいう)等が挙げられる。
上記式(5-1)~(5-13)中、M+は、上記式(5)と同義である。
[B]酸発生剤としては、これらの中で、化合物(5-1)、化合物(5-2)、化合物(5-12)、及び化合物(5-13)が好ましい。
また、[B]酸発生体としては、下記式(5-14)で表される構造単位を有する重合体等の上記式(5)の構造が重合体の一部として組み込まれた重合体も好ましい。
上記式(5-14)中、R’’は、水素原子又はメチル基である。M+は、上記式(5)と同義である。
[B]酸発生体が[B]酸発生剤の場合、[B]酸発生剤の含有量の下限としては、当該感放射線性樹脂組成物の感度及び現像性の向上の観点から、[A]重合体100質量部に対して、0.1質量部が好ましく、0.5質量部がより好ましく、1質量部がさらに好ましく、3質量部が特に好ましい。一方、[B]酸発生剤の含有量の上限としては、当該感放射線性樹脂組成物の感度及び現像性の向上の観点から、[A]重合体100質量部に対して、30質量部が好ましく、22質量部がより好ましく、20質量部がさらに好ましく、15質量部が特に好ましい。
[B]酸発生体が[A]重合体の一部として組み込まれる場合、上記式(5)の構造を含む構造単位の含有割合の下限としては、当該感放射線性樹脂組成物の感度及び現像性の向上の観点から、[A]重合体を構成する全構造単位に対して、1モル%が好ましく、2モル%がより好ましく、3モル%がさらに好ましい。一方、上記構造単位の含有割合の上限としては、当該感放射線性樹脂組成物の感度及び現像性の向上の観点から、[A]重合体を構成する全構造単位に対して、30モル%が好ましく、20モル%がより好ましく、10モル%がさらに好ましい。[B]酸発生体は、1種又は2種以上を用いることができる。
<[C]化合物>
[C]化合物は、アミン構造を有する化合物であって、上記アミン構造が放射線照射によってアミド構造、チオアミド構造、ニトリル構造又はアンモニウム構造に変化する。ここで、「アミン構造」には、複素環式のアミン構造として、オキサゾール構造、ピリジン構造等も含まれる。[C]化合物は、未露光部では上記アミン構造に起因して塩基性を示すが、露光部では露光により上記アミン構造がアミド構造等に変化することにより、塩基性が低下する。従って、[C]化合物は、露光によりその酸捕捉機能が低下する感放射線性の酸拡散制御剤として機能する。
[C]化合物は、アミン構造を有する化合物であって、上記アミン構造が放射線照射によってアミド構造、チオアミド構造、ニトリル構造又はアンモニウム構造に変化する。ここで、「アミン構造」には、複素環式のアミン構造として、オキサゾール構造、ピリジン構造等も含まれる。[C]化合物は、未露光部では上記アミン構造に起因して塩基性を示すが、露光部では露光により上記アミン構造がアミド構造等に変化することにより、塩基性が低下する。従って、[C]化合物は、露光によりその酸捕捉機能が低下する感放射線性の酸拡散制御剤として機能する。
当該感放射線性樹脂組成物は、[A]重合体及び[B]酸発生体に加えて[C]化合物を含有することで、LWR性能等に優れる。当該感放射線性樹脂組成物が[C]化合物を含有することで上記効果を奏する理由については必ずしも明確ではないが、上述の通り[C]化合物が感放射線性の酸拡散制御剤として機能するため、露光部と未露光部とのクエンチコントラストを高くすることができ、その結果、当該感放射線性樹脂組成物のLWR性能等がより向上すると考えられる。
[C]化合物としては、オキサゾール骨格、イミダゾール骨格、チアゾール骨格等のアゾール骨格、ピロール骨格などを有する下記式(1)で表される塩基性の化合物が好ましい。
上記式(1)中、R1及びR6は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基、置換若しくは非置換の炭素数1~20の1価の炭化水素基、又は置換若しくは非置換の炭素数3~20の1価の複素環基である。R2~R5は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、置換若しくは非置換の炭素数1~20の1価の炭化水素基、置換若しくは非置換の炭素数3~20の1価の複素環基であるか、又はR2及びR3、R3及びR4、並びにR4及びR5から選ばれる一組以上が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される環員数3~20の環構造を表す。Xは、酸素原子、硫黄原子、-CRARB-又は-NRC-である。RA、RB及びRCは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は1価の有機基である。
上記式(1)で表される化合物は、未露光部では塩基性を示す化合物であるが、下記スキームに示すように、露光部では露光により光閉環反応と転移反応が起こり、アミド骨格等を有する塩基性の比較的低い化合物となる。従って、上記式(1)で表される化合物は、露光によりその酸捕捉機能が低下する感放射線性の酸拡散制御剤として機能する。
上記スキーム中、R1~R6及びXは、上記式(1)と同義である。hvは、放射線の照射を意味する。
当該感放射線性樹脂組成物は、[C]化合物として上記式(1)で表される化合物を含有することで、LWR性能等により優れる。当該感放射線性樹脂組成物が[C]化合物として上記式(1)で表される化合物を含有することで上記効果を奏する理由については必ずしも明確ではないが、以下のように推察することができる。すなわち、上記式(1)で表される化合物は、従来のスルホネートアニオン等を含む酸拡散制御体と比べて高い塩基性を有しているため、酸捕捉機能が高くなり、露光部と未露光部とのクエンチコントラストをより高くすることができる。その結果、当該感放射線性樹脂組成物のLWR性能等がより向上すると考えられる。また、上記式(1)で表される化合物は、当該感放射線性樹脂組成物により形成されるレジスト膜中での分散性に優れるため、より良好な欠陥抑制性を確保できると考えられる。
上記式(1)で表される化合物の具体例としては、例えば下記式(1-1)~(1-8)で表される化合物等が挙げられる。
上記式(1-1)~(1-8)中、R1、R6及びXは、上記式(1)と同義である。R2A、R3A、R4A及びR5Aは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基、置換若しくは非置換の炭素数1~20の1価の炭化水素基、又は置換若しくは非置換の炭素数3~20の1価の複素環基である。ZA、ZB及びZCは、それぞれ独立して、炭素数3~20の環構造を表す。
上記R1~R6及び上記R2A~R5Aで表される置換又は非置換の炭素数1~20の1価の炭化水素基としては、例えば炭素数1~20の1価の鎖状炭化水素基、炭素数3~20の1価の脂環式炭化水素基、炭素数6~20の1価の芳香族炭化水素基、これらを組み合わせてなる炭化水素基等が挙げられる。上記炭素数1~20の1価の炭化水素基としては、例えば上記式(Y-1)における上記Re1、Re2及びRe3で表される炭素数1~20の1価の炭化水素基として例示したものと同様の基等が挙げられる。上記1価の炭化水素基としては、これらの中で、メチル基、フェニル基及びナフチル基が好ましい。
上記R1~R6及びR2A~R5Aで表される置換又は非置換の炭素数3~20の1価の複素環基としては、上述した脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基の一部の炭素原子が酸素原子、窒素原子、硫黄原子等に置き換わった構造を有する基などが挙げられる。また、上記複素環基の環員数としては、例えば3~20である。上記複素環基の具体例としては、ピリジル基、ピリミジル基、フリル基、チエニル基、テトラヒドロフリル基、ジオキソラニル基、ベンゾオキサゾール-2-イル基、テトラヒドロピラニル基、ピロリジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、ピペリジル基、ピペラジル基、モルホリニル基等が挙げられる。上記複素環基としては、これらの中で、チエニル基が好ましい。
上記R1~R6及びR2A~R5Aで表される炭化水素基及び複素環基を置換していてもよい置換基としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、フッ素化アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリロキシ基、アリロキシカルボニル基、アリロキシカルボニルオキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、シアノ基、ニトロ基、アシル基、アシロキシ基などが挙げられる。上記置換基としては、これらの中で、アルコキシ基が好ましく、メトキシ基がより好ましい。
上記式(1)におけるR2及びR3、R3及びR4、並びにR4及びR5から選ばれる一組以上が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される環員数3~20の環構造(すなわち、上記式(1-2)~(1-8)におけるZA~ZCで表される環構造)としては、脂環式炭化水素構造、芳香族炭化水素構造、これらの構造の1つ以上の炭素原子が-O-、-CO-、-NH-、-S-、-SO2-等に置き換わった環構造などが挙げられる。
上記ZA~ZCで表される環構造の具体例としては、シクロプロパン構造、シクロブタン構造、シクロペンタン構造、シクロヘキサン構造、シクロオクタン構造等の単環の飽和脂環構造;
ノルボルナン構造、アダマンタン構造、トリシクロデカン構造、テトラシクロドデカン構造等の多環の飽和脂環構造;
シクロプロペン構造、シクロブテン構造、シクロペンテン構造、シクロヘキセン構造、シクロオクテン構造等の単環の不飽和脂環構造;
ノルボルネン構造、トリシクロデセン構造、テトラシクロドデセン構造等の多環の不飽和脂環構造;
フェニル構造、ビフェニル構造、ナフタレン構造、アントラセン構造、フェナントレン構造等の芳香環構造;
シクロペンタノン構造、シクロヘキサノン構造、アダマンタノン構造、シクロペンテノン構造、シクロヘキセノン構造等の環状ケトン構造;
オキサシクロペンタン構造、オキサシクロヘキサン構造、オキサノルボルナン構造、オキサシクロペンテン(ジヒドロフラン)構造、フラン構造等の環状エーテル構造;
ブチロラクトン構造、メバロラクトン構造、ノルボルナンラクトン構造、アダマンタンラクトン構造等のラクトン構造;
アザシクロペンタン構造、アザシクロヘキサン構造、アザノルボルナン構造、アザシクロペンテン構造、アザシクロヘキセン構造、アザノルボルネン構造等の環状アミド構造;
チアシクロペンタン構造、チアシクロヘキサン構造、チアノルボルナン構造、チアシクロペンテン構造、チアシクロヘキセン構造、チアノルボルネン構造等の環状スルフィド構造;
ジヒドロフランジオン構造などが挙げられる。
ノルボルナン構造、アダマンタン構造、トリシクロデカン構造、テトラシクロドデカン構造等の多環の飽和脂環構造;
シクロプロペン構造、シクロブテン構造、シクロペンテン構造、シクロヘキセン構造、シクロオクテン構造等の単環の不飽和脂環構造;
ノルボルネン構造、トリシクロデセン構造、テトラシクロドデセン構造等の多環の不飽和脂環構造;
フェニル構造、ビフェニル構造、ナフタレン構造、アントラセン構造、フェナントレン構造等の芳香環構造;
シクロペンタノン構造、シクロヘキサノン構造、アダマンタノン構造、シクロペンテノン構造、シクロヘキセノン構造等の環状ケトン構造;
オキサシクロペンタン構造、オキサシクロヘキサン構造、オキサノルボルナン構造、オキサシクロペンテン(ジヒドロフラン)構造、フラン構造等の環状エーテル構造;
ブチロラクトン構造、メバロラクトン構造、ノルボルナンラクトン構造、アダマンタンラクトン構造等のラクトン構造;
アザシクロペンタン構造、アザシクロヘキサン構造、アザノルボルナン構造、アザシクロペンテン構造、アザシクロヘキセン構造、アザノルボルネン構造等の環状アミド構造;
チアシクロペンタン構造、チアシクロヘキサン構造、チアノルボルナン構造、チアシクロペンテン構造、チアシクロヘキセン構造、チアノルボルネン構造等の環状スルフィド構造;
ジヒドロフランジオン構造などが挙げられる。
上記ZA~ZCで表される環構造は、上述した環構造のうち二つ以上の環構造が組み合わされて構成される多環構造であってもよい。また、上記ZA~ZCのうち二つ以上が組み合わされて、多環構造を構成していてもよい。
上記ZA~ZCで表される環構造は、置換基を有していてもよく、置換基を有していなくてもよい。上記置換基としては、例えば上記R1~R6及びR2A~R5Aで表される炭化水素基及び複素環基を置換していてもよい置換基として例示したものと同様の基等を挙げることができる。
上記RA、RB及びRCで表される1価の有機基としては、例えば上記Ra、Rb、R9a及びR9bで表される1価の有機基として上述したものと同様の基等が挙げられ、これらの中で、置換又は非置換の炭素数1~20の1価の炭化水素基が好ましい。上記置換又は非置換の炭素数1~20の1価の炭化水素基としては、例えば上記Re1、Re2及びRe3で表される炭素数1~20の1価の炭化水素基として上述したものと同様の基等が挙げられる。
上記R1としては、置換又は非置換の炭素数1~20の1価の炭化水素基、及び置換又は非置換の炭素数3~20の1価の複素環基が好ましく、メチル基、メトキシメチル基及びフェニル基がより好ましい。
上記R2及びR3としては、互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される環員数3~20の環構造を構成していること、すなわち上記式(1-2)、式(1-5)、式(1-6)及び式(1-8)におけるZAを構成していることが好ましく、フェニル構造、ビフェニル構造、ナフタレン構造、フラン構造及びフェノール構造を構成していることがより好ましい。
上記R4及びR5としては、互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される環員数3~20の環構造を構成していること、すなわち上記式(1-4)、式(1-6)、式(1-7)及び式(1-8)におけるZcを構成していることが好ましく、シクロペンテン構造、シクロヘキセン構造、パーフルオロシクロペンテン構造、シクロペンテノン構造、シクロヘキセノン構造、フェニルシクロヘキセノン構造及びジヒドロフランジオン構造を構成していることがより好ましい。
上記Xとしては、酸素原子が好ましい。
上記式(1)で表される化合物としては、例えば下記式(C-1)~(C-20)で表される化合物(以下、「化合物(C-1)~(C-20)」ともいう)等が挙げられる。
当該感放射線性樹脂組成物における[C]化合物の含有量の下限としては、[A]重合体100質量部に対して、0.1質量部が好ましく、0.5質量部がより好ましく、1質量部がさらに好ましく、1.5質量部が特に好ましい。一方、[C]化合物の含有量の上限としては、[A]重合体100質量部に対して、30質量部が好ましく、20質量部がより好ましく、10質量部がさらに好ましく、5質量部が特に好ましい。[C]化合物の含有量を上記範囲とすることで、当該感放射線性樹脂組成物のLWR性能等をさらに向上させることができる。当該感放射線性樹脂組成物は、[C]化合物を1種又は2種以上含有してもよい。
<[D]溶媒>
当該感放射線性樹脂組成物は、通常[D]溶媒を含有する。[D]溶媒は、少なくとも[A]重合体、[B]酸発生体、[C]化合物、及び必要に応じて含有する[E]フッ素原子含有重合体等の任意成分を溶解又は分散可能な溶媒であれば特に限定されない。[D]溶媒は、1種を使用してもよく2種以上を併用してもよい。
当該感放射線性樹脂組成物は、通常[D]溶媒を含有する。[D]溶媒は、少なくとも[A]重合体、[B]酸発生体、[C]化合物、及び必要に応じて含有する[E]フッ素原子含有重合体等の任意成分を溶解又は分散可能な溶媒であれば特に限定されない。[D]溶媒は、1種を使用してもよく2種以上を併用してもよい。
[D]溶媒としては、例えばアルコール系溶媒、エーテル系溶媒、ケトン系有機溶媒、アミド系溶媒、エステル系有機溶媒、炭化水素系溶媒等が挙げられる。
上記アルコール系溶媒としては、例えば
4-メチル-2-ペンタノール、n-ヘキサノール等の炭素数1~18の脂肪族モノアルコール系溶媒;
シクロヘキサノール等の炭素数3~18の脂環式モノアルコール系溶媒;
1,2-プロピレングリコール等の炭素数2~18の多価アルコール系溶媒;
プロピレングリコールモノメチルエーテル等の炭素数3~19の多価アルコール部分エーテル系溶媒などが挙げられる。
4-メチル-2-ペンタノール、n-ヘキサノール等の炭素数1~18の脂肪族モノアルコール系溶媒;
シクロヘキサノール等の炭素数3~18の脂環式モノアルコール系溶媒;
1,2-プロピレングリコール等の炭素数2~18の多価アルコール系溶媒;
プロピレングリコールモノメチルエーテル等の炭素数3~19の多価アルコール部分エーテル系溶媒などが挙げられる。
上記エーテル系溶媒としては、例えば
ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジペンチルエーテル、ジイソアミルエーテル、ジヘキシルエーテル、ジヘプチルエーテル等のジアルキルエーテル系溶媒;
テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン等の環状エーテル系溶媒;
ジフェニルエーテル、アニソール等の芳香環含有エーテル系溶媒などが挙げられる。
ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジペンチルエーテル、ジイソアミルエーテル、ジヘキシルエーテル、ジヘプチルエーテル等のジアルキルエーテル系溶媒;
テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン等の環状エーテル系溶媒;
ジフェニルエーテル、アニソール等の芳香環含有エーテル系溶媒などが挙げられる。
上記ケトン系溶媒としては、例えば
アセトン、メチルエチルケトン、メチル-n-プロピルケトン、メチル-n-ブチルケトン、ジエチルケトン、メチル-iso-ブチルケトン、2-ヘプタノン、エチル-n-ブチルケトン、メチル-n-ヘキシルケトン、ジ-iso-ブチルケトン、トリメチルノナノン等の鎖状ケトン系溶媒:
シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン、シクロオクタノン、メチルシクロヘキサノン等の環状ケトン系溶媒:
2,4-ペンタンジオン、アセトニルアセトン、アセトフェノンなどが挙げられる。
アセトン、メチルエチルケトン、メチル-n-プロピルケトン、メチル-n-ブチルケトン、ジエチルケトン、メチル-iso-ブチルケトン、2-ヘプタノン、エチル-n-ブチルケトン、メチル-n-ヘキシルケトン、ジ-iso-ブチルケトン、トリメチルノナノン等の鎖状ケトン系溶媒:
シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン、シクロオクタノン、メチルシクロヘキサノン等の環状ケトン系溶媒:
2,4-ペンタンジオン、アセトニルアセトン、アセトフェノンなどが挙げられる。
上記アミド系溶媒としては、例えば
N,N’-ジメチルイミダゾリジノン、N-メチルピロリドン等の環状アミド系溶媒;
N-メチルホルムアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジエチルホルムアミド、アセトアミド、N-メチルアセトアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルプロピオンアミド等の鎖状アミド系溶媒などが挙げられる。
N,N’-ジメチルイミダゾリジノン、N-メチルピロリドン等の環状アミド系溶媒;
N-メチルホルムアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジエチルホルムアミド、アセトアミド、N-メチルアセトアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルプロピオンアミド等の鎖状アミド系溶媒などが挙げられる。
上記エステル系溶媒としては、例えば
酢酸n-ブチル、乳酸エチル等のモノカルボン酸エステル系溶媒;
プロピレングリコールアセテート等の多価アルコールカルボキシレート系溶媒;
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の多価アルコール部分エーテルカルボキシレート系溶媒;
シュウ酸ジエチル等の多価カルボン酸ジエステル系溶媒;
ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート等のカーボネート系溶媒などが挙げられる。
酢酸n-ブチル、乳酸エチル等のモノカルボン酸エステル系溶媒;
プロピレングリコールアセテート等の多価アルコールカルボキシレート系溶媒;
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の多価アルコール部分エーテルカルボキシレート系溶媒;
シュウ酸ジエチル等の多価カルボン酸ジエステル系溶媒;
ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート等のカーボネート系溶媒などが挙げられる。
上記炭化水素系溶媒としては、例えば
n-ペンタン、n-ヘキサン等の炭素数5~12の脂肪族炭化水素系溶媒;
トルエン、キシレン等の炭素数6~16の芳香族炭化水素系溶媒などが挙げられる。
n-ペンタン、n-ヘキサン等の炭素数5~12の脂肪族炭化水素系溶媒;
トルエン、キシレン等の炭素数6~16の芳香族炭化水素系溶媒などが挙げられる。
[D]溶媒としては、これらの中で、エステル系溶媒及びケトン系溶媒が好ましく、多価アルコール部分エーテルカルボキシレート系溶媒及び環状ケトン系溶媒がより好ましく、多価アルコール部分アルキルエーテルアセテート及びシクロアルカノンがさらに好ましく、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート及びシクロヘキサノンが特に好ましい。
<[E]フッ素原子含有重合体>
[E]フッ素原子含有重合体は、フッ素原子を含む重合体である(但し、[A]重合体に該当するものを除く)。当該感放射線性樹脂組成物が[A]重合体に加えて[E]フッ素原子含有重合体をさらに含有することで、形成されるレジスト膜の表層に[E]フッ素原子含有重合体が偏在化し、その結果、レジスト膜表面の疎水性を向上させることができる。これにより、液浸露光を行う場合等に、レジスト膜からの物質の溶出を抑制できると共に、レジスト膜と液浸液との後退接触角を十分高くすることができ、より高速なスキャンが可能になる。
[E]フッ素原子含有重合体は、フッ素原子を含む重合体である(但し、[A]重合体に該当するものを除く)。当該感放射線性樹脂組成物が[A]重合体に加えて[E]フッ素原子含有重合体をさらに含有することで、形成されるレジスト膜の表層に[E]フッ素原子含有重合体が偏在化し、その結果、レジスト膜表面の疎水性を向上させることができる。これにより、液浸露光を行う場合等に、レジスト膜からの物質の溶出を抑制できると共に、レジスト膜と液浸液との後退接触角を十分高くすることができ、より高速なスキャンが可能になる。
[E]フッ素原子含有重合体としては、特に限定されないが、現像液に不溶であるが、酸の作用によりアルカリ可溶性となる重合体、現像液に可溶であり、かつ酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する重合体、現像液に不溶であるが、アルカリの作用によりアルカリ可溶性となる重合体、現像液に可溶であり、かつアルカリの作用によりアルカリ可溶性が増大する重合体等が挙げられる。
[E]フッ素原子含有重合体の構造の態様としては、例えば
主鎖にフッ素化アルキル基が結合した構造;
側鎖にフッ素化アルキル基が結合した構造;
主鎖と側鎖とにフッ素化アルキル基が結合した構造等が挙げられる。
主鎖にフッ素化アルキル基が結合した構造;
側鎖にフッ素化アルキル基が結合した構造;
主鎖と側鎖とにフッ素化アルキル基が結合した構造等が挙げられる。
上記主鎖にフッ素化アルキル基が結合した構造を与える単量体としては、例えばα-トリフルオロメチルアクリレート化合物、β-トリフルオロメチルアクリレート化合物、α,β-トリフルオロメチルアクリレート化合物、1種類以上のビニル部位の水素原子がトリフルオロメチル基等のフッ素化アルキル基で置換された化合物などが挙げられる。
上記側鎖にフッ素化アルキル基が結合した構造を与える単量体としては、例えばノルボルネン等の脂環式オレフィン化合物の側鎖がフッ素化アルキル基やその誘導基である化合物、アクリル酸又はメタクリル酸の側鎖がフッ素化アルキル基やその誘導基であるエステル化合物、1種類以上のオレフィンの側鎖(二重結合を含まない部位)がフッ素化アルキル基やその誘導基である化合物などが挙げられる。
上記主鎖と側鎖とにフッ素化アルキル基が結合した構造を与える単量体としては、例えばα-トリフルオロメチルアクリル酸、β-トリフルオロメチルアクリル酸、α,β-トリフルオロメチルアクリル酸等の側鎖がフッ素化アルキル基やその誘導基であるエステル化合物、1種類以上のビニル部位の水素原子がトリフルオロメチル基等のフッ素化アルキル基で置換された化合物の側鎖をフッ素化アルキル基やその誘導基で置換した化合物、1種類以上の脂環式オレフィン化合物の二重結合に結合している水素原子をトリフルオロメチル基等のフッ素化アルキル基で置換し、かつ側鎖がフッ素化アルキル基やその誘導基である化合物などが挙げられる。なお、脂環式オレフィン化合物とは、環の一部が二重結合である化合物をいう。
[E]フッ素原子含有重合体は、下記式(6)で表される構造単位(以下、「構造単位(f1)」ともいう)、下記式(7)で表される構造単位(以下、「構造単位(f2)」ともいう)、及び/又は下記式(ff2)で表される構造単位(以下、「構造単位(f3)」ともいう)を有することが好ましい。また、[E]フッ素原子含有重合体は、構造単位(f1)~(f3)以外の「他の構造単位」を有してもよい。なお、[E]フッ素原子含有重合体は、各構造単位を1種又は2種以上含んでいてもよい。以下、各構造単位について詳述する。
[構造単位(f1)]
構造単位(f1)は、下記式(6)で表される構造単位である。
構造単位(f1)は、下記式(6)で表される構造単位である。
上記式(6)中、Rf3は、水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基である。Rf4は、フッ素原子を有する炭素数1~6の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基又はフッ素原子を有する炭素数4~20の1価の脂環式炭化水素基である。但し、上記アルキル基及び脂環式炭化水素基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。
上記炭素数1~6の直鎖状又は分岐状のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。
上記炭素数4~20の1価の脂環式炭化水素基としては、例えばシクロペンチル基、シクロペンチルプロピル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロオクチルメチル基等が挙げられる。
構造単位(f1)を与える単量体としては、例えばトリフルオロメチル(メタ)アクレート、2,2,2-トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、パーフルオロエチル(メタ)アクリレート、パーフルオロn-プロピル(メタ)アクリレート、パーフルオロi-プロピル(メタ)アクリレート、パーフルオロn-ブチル(メタ)アクリレート、パーフルオロi-ブチル(メタ)アクリレート、パーフルオロt-ブチル(メタ)アクリレート、パーフルオロシクロヘキシル(メタ)アクリレート、2-(1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ)プロピル(メタ)アクリレート、1-(2,2,3,3,4,4,5,5-オクタフルオロ)ペンチル(メタ)アクリレート、1-(2,2,3,3,4,4,5,5-オクタフルオロ)ヘキシル(メタ)アクリレート、パーフルオロシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、1-(2,2,3,3,3-ペンタフルオロ)プロピル(メタ)アクリレート、1-(2,2,3,3,4,4,4-ヘプタフルオロ)ペンタ(メタ)アクリレート、1-(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-ヘプタデカフルオロ)デシル(メタ)アクリレート、1-(5-トリフルオロメチル-3,3,4,4,5,6,6,6-オクタフルオロ)ヘキシル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
構造単位(f1)としては、下記式(6-1)で表される構造単位、及び(6-2)で表される構造単位が好ましい。
上記式(6-1)及び(6-2)中、Rf3は、上記式(6)と同義である。
構造単位(f1)としては、これらの中で、上記式(6-1)で表される構造単位が好ましい。
[E]フッ素原子含有重合体が構造単位(f1)を有する場合、構造単位(f1)の含有割合の下限としては、[E]フッ素原子含有重合体を構成する全構造単位に対して、10モル%が好ましく、20モル%がより好ましい。一方、構造単位(f1)の含有割合の上限としては、[E]フッ素原子含有重合体を構成する全構造単位に対して、70モル%が好ましく、50モル%がより好ましい。
[構造単位(f2)]
構造単位(f2)は、下記式(7)で表される構造単位である。
構造単位(f2)は、下記式(7)で表される構造単位である。
上記式(7)中、Rf5は、水素原子、フッ素原子、メチル基、又はトリフルオロメチル基である。Rf6は、(r+1)価の連結基である。X1は、フッ素原子を有する2価の連結基である。Rf7は、水素原子又は1価の有機基である。rは、1~3の整数である。但し、rが2又は3の場合、複数のX1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のRf7はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
上記Rf6で表される(r+1)価の連結基としては、例えば炭素数1~30の(r+1)価の直鎖状又は分岐状の炭化水素基、炭素数3~30の(r+1)価の脂環式炭化水素基、炭素数6~30の(r+1)価の芳香族炭化水素基、これらの基と酸素原子、硫黄原子、エーテル基、エステル基、カルボニル基、イミノ基からなる群より選ばれる1種以上の基とを組み合わせた基等が挙げられる。また、上記(r+1)価の連結基は、置換基を有していてもよい。
上記炭素数1~30の(r+1)価の直鎖状又は分岐状の炭化水素基としては、例えばメタン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、デカン、イコサン、トリアコンタン等の炭化水素から(r+1)個の水素原子を除いた基などが挙げられる。
上記炭素数3~30の(r+1)価の脂環式炭化水素基としては、例えば
シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロデカン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン等の単環式飽和炭化水素;
シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン、シクロデセン、シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン、シクロオクタジエン、シクロデカジエン等の単環式不飽和炭化水素;
ビシクロ[2.2.1]ヘプタン、ビシクロ[2.2.2]オクタン、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン、トリシクロ[3.3.1.13,7]デカン、テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカン、アダマンタン等の多環式飽和炭化水素;
ビシクロ[2.2.1]ヘプテン、ビシクロ[2.2.2]オクテン、トリシクロ[5.2.1.02,6]デセン、トリシクロ[3.3.1.13,7]デセン、テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデセン等の多環式不飽和炭化水素などから(r+1)個の水素原子を除いた基などが挙げられる。
シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロデカン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン等の単環式飽和炭化水素;
シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン、シクロデセン、シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン、シクロオクタジエン、シクロデカジエン等の単環式不飽和炭化水素;
ビシクロ[2.2.1]ヘプタン、ビシクロ[2.2.2]オクタン、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン、トリシクロ[3.3.1.13,7]デカン、テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカン、アダマンタン等の多環式飽和炭化水素;
ビシクロ[2.2.1]ヘプテン、ビシクロ[2.2.2]オクテン、トリシクロ[5.2.1.02,6]デセン、トリシクロ[3.3.1.13,7]デセン、テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデセン等の多環式不飽和炭化水素などから(r+1)個の水素原子を除いた基などが挙げられる。
上記炭素数6~30の(r+1)価の芳香族炭化水素基としては、例えばベンゼン、ナフタレン、フェナントレン、アントラセン、テトラセン、ペンタセン、ピレン、ピセン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、メシチレン、クメン等の芳香族炭化水素から(r+1)個の水素原子を除いた基などが挙げられる。
上記X1で表されるフッ素原子を有する2価の連結基としては、例えばフッ素原子を有する炭素数1~20の2価の鎖状炭化水素基等が挙げられ、具体的には下記式(X1-1)~(X1-6)で表される基等が挙げられる。
上記X1としては、上記式(X1-1)で表される基、及び上記式(X1-2)で表される基が好ましく、上記式(X1-2)で表される基がより好ましい。
上記Rf7で表される1価の有機基としては、例えば炭素数1~30の直鎖状又は分岐状の炭化水素基、炭素数3~30の脂環式炭化水素基、炭素数6~30の芳香族炭化水素基、又はこれらの基と酸素原子、硫黄原子、エーテル基、エステル基、カルボニル基及びイミノ基からなる群より選ばれる1種以上の基とを組み合わせた基等が挙げられる。
上記構造単位(f2)としては、例えば下記式(7-1)で表される構造単位、下記式(7-2)で表される構造単位等が挙げられる。
上記式(7-1)及び(7-2)中、Rf5、X1、Rf7及びrは、上記式(7)と同義である。
上記式(7-1)中、Rf6Aは、炭素数1~20の2価の直鎖状若しくは分岐状の飽和若しくは不飽和の炭化水素基、又は炭素数3~20の飽和若しくは不飽和の脂環式炭化水素基である。
上記式(7-1)で表される構造単位としては、例えば下記式(7-1-1)~(7-1-3)で表される構造単位等が挙げられる。上記式(7-2)で表される構造単位としては、例えば下記式(7-2-1)で表される構造単位等が挙げられる。
上記式(7-1-1)~(7-1-3)及び式(7-2-1)中、Rf5は、上記式(7)と同義である。
構造単位(f2)としては、上記式(7-1)で表される構造単位が好ましく、上記式(7-1-3)で表される構造単位がより好ましい。
構造単位(f2)を与える単量体としては、例えば(メタ)アクリル酸[2-(1-エチルオキシカルボニル-1,1-ジフルオロ-n-ブチル)]エステル、(メタ)アクリル酸(1,1,1-トリフルオロ-2-トリフルオロメチル-2-ヒドロキシ-3-プロピル)エステル、(メタ)アクリル酸(1,1,1-トリフルオロ-2-トリフルオロメチル-2-ヒドロキシ-4-ブチル)エステル、(メタ)アクリル酸(1,1,1-トリフルオロ-2-トリフルオロメチル-2-ヒドロキシ-5-ペンチル)エステル、(メタ)アクリル酸2-{[5-(1’,1’,1’-トリフルオロ-2’-トリフルオロメチル-2’-ヒドロキシ)プロピル]ビシクロ[2.2.1]ヘプチル}エステル等が挙げられる。構造単位(f2)を与える単量体としては、これらの中で、(メタ)アクリル酸[2-(1-エチルオキシカルボニル-1,1-ジフルオロ-n-ブチル)]エステルが好ましい。
[E]フッ素原子含有重合体が構造単位(f2)を有する場合、構造単位(f2)の含有割合の下限としては、[E]フッ素原子含有重合体を構成する全構造単位に対して、30モル%が好ましく、50モル%がより好ましい。一方、構造単位(f2)の含有割合の上限としては、[E]フッ素原子含有重合体を構成する全構造単位に対して、90モル%が好ましく、80モル%がより好ましい。
[構造単位(f3)]
構造単位(f3)は、下記式(ff2)で表される構造単位である。[E]フッ素原子含有重合体は、構造単位(f3)を有することで、フッ素原子含有率を適度なものに調整できると共に、アルカリ現像前後における撥水性及び親水性を変化させることができる。
構造単位(f3)は、下記式(ff2)で表される構造単位である。[E]フッ素原子含有重合体は、構造単位(f3)を有することで、フッ素原子含有率を適度なものに調整できると共に、アルカリ現像前後における撥水性及び親水性を変化させることができる。
上記式(ff2)中、RF3は、水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基である。RF4は、単結合、炭素数1~20の(w+1)価の炭化水素基、又はこの炭化水素基のRF5側の末端に酸素原子、硫黄原子、-NRFF1-、カルボニル基、-CO-O-若しくは-CO-NH-が結合した基である。RFF1は、水素原子又は炭素数1~10の1価の炭化水素基である。RF5は、単結合又は炭素数1~20の2価の有機基である。LF2は、単結合又は炭素数1~20の2価のフッ素化鎖状炭化水素基である。LF3は、酸素原子、-NRFF2-、-CO-O-*又は-SO2-O-*である。*は、RF6に結合する部位を示す。RFF2は、水素原子又は炭素数1~10の1価の炭化水素基である。RF6は、水素原子又は炭素数1~30の1価の有機基である。wは、1~3の整数である。但し、wが1の場合、RF4は単結合であってもよい。wが2又は3の場合、複数のRF5、LF2、LF3及びRF6は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。LF2が単結合の場合、RF6は、フッ素原子を含む基である。
上記RF3としては、構造単位(f3)を与える単量体の共重合性の観点から、水素原子及びメチル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
上記RF4で表される炭素数1~20の(w+1)価の炭化水素基としては、例えば上記式(Y-1)における上記Re1、Re2及びRe3で例示した1価の炭化水素基からw個の水素原子を除いた基等が挙げられる。
上記wとしては、1及び2が好ましく、1がより好ましい。
wが1の場合、上記RF4としては、単結合及び2価の炭化水素基が好ましく、単結合及びアルカンジイル基がより好ましく、単結合及び炭素数1~4のアルカンジイル基がさらに好ましく、単結合、メタンジイル基及びプロパンジイル基が特に好ましい。
上記RF5で表される炭素数1~20の2価の有機基としては、例えば上記式(3-2)における上記Ra、Rb、R9a及びR9bで例示した1価の有機基のうち炭素数1~20のものから1個の水素原子を除いた基等が挙げられる。
上記RF5としては、単結合及びラクトン構造を有する基が好ましく、単結合及び多環のラクトン構造を有する基がより好ましく、単結合及びノルボルナンラクトン構造を有する基がさらに好ましい。
上記LF2で表される炭素数1~20の2価のフッ素化鎖状炭化水素基としては、例えばフルオロメタンジイル基、ジフルオロメタンジイル基、フルオロエタンジイル基、ジフルオロエタンジイル基、テトラフルオロエタンジイル基、ヘキサフルオロプロパンジイル基、オクタフルオロブタンジイル基等のフッ素化アルカンジイル基;
フルオロエテンジイル基、ジフルオロエテンジイル基等のフッ素化アルケンジイル基などが挙げられる。上記LF2としては、これらの中で、フッ素化アルカンジイル基が好ましく、ジフルオロメタンジイル基がより好ましい。
フルオロエテンジイル基、ジフルオロエテンジイル基等のフッ素化アルケンジイル基などが挙げられる。上記LF2としては、これらの中で、フッ素化アルカンジイル基が好ましく、ジフルオロメタンジイル基がより好ましい。
上記LF3としては、酸素原子、-CO-O-*、及び-SO2-O-*が好ましく、-CO-O-*がより好ましい。
上記RF6で表される炭素数1~30の1価の有機基としては、例えばアルカリ解離性基、酸解離性基、炭素数1~30の炭化水素基等が挙げられる。上記RF6としては、これらの中で、アルカリ解離性基が好ましい。上記RF6をアルカリ解離性基とすることで、アルカリ現像時に、レジスト膜表面を疎水性から親水性により効果的に変えることができ、その結果、当該感放射線性樹脂組成物の欠陥抑制性がより向上する。ここで「アルカリ解離性基」とは、カルボキシ基、ヒドロキシ基等が有する水素原子を置換する基であって、アルカリ水溶液(例えば23℃の2.38質量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液)中で解離する基をいう。
上記RF6がアルカリ解離性基である場合、上記RF6としては、下記式(ff3)~(ff5)で表される基(以下、「基(iii)~(v)」ともいう)が好ましい。
上記式(ff3)中、RF7及びRF8は、それぞれ独立して炭素数1~20の1価の有機基であるか、又はこれらの基が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される環員数3~20の脂環構造を表す。
上記式(ff4)中、RF9及びRF10は、それぞれ独立して炭素数1~20の1価の有機基であるか、又はこれらの基が互いに合わせられこれらが結合する窒素原子と共に構成される環員数3~20の複素環構造を表す。
上記式(ff5)中、RF11は、炭素数1~20の1価の炭化水素基又は炭素数1~20の1価のフッ素化炭化水素基である。
上記RF7、RF8、RF9及びRF10で表される炭素数1~20の1価の有機基としては、例えば上記式(3-2)における上記Ra、Rb、R9a及びR9bで例示した1価の有機基のうち炭素数1~20のものと同様の基等が挙げられる。
上記RF11で表される炭素数1~20の1価の炭化水素基としては、例えば上記式(Y-1)における上記Re1、Re2及びRe3で表される炭素数1~20の1価の炭化水素基として例示したものと同様の基等が挙げられる。
上記炭素数1~20の1価のフッ素化炭化水素基としては、例えば上述の炭素数1~20の1価の炭化水素基として例示した基が有する水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換された基等が挙げられる。
上記基(iii)~(v)としては、下記式で表される基が好ましい。
上記基(iii)~(v)としては、これらの中で、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロピル基、及び1,1,1-トリフルオロエチル基が好ましい。
また、上記RF6としては、[E]有重合体のアルカリ現像液に対する溶解性を向上する観点から、水素原子も好ましい。この場合、LF3が酸素原子であり、かつLF2が1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2,2-メタンジイル基であることで、上記溶解性がさらに向上する。
[E]重合体が構造単位(f3)を有する場合、構造単位(f3)の含有割合の下限としては、[E]重合体を構成する全構造単位に対して、10モル%が好ましく、20モル%がより好ましく、40モル%がさらに好ましい。一方、構造単位(f3)の含有割合の上限としては、[E]重合体を構成する全構造単位に対して、90モル%が好ましく、85モル%がより好ましく、80モル%がさらに好ましい。構造単位(f3)の含有割合を上記範囲とすることで、当該感放射線性樹脂組成物から形成されるレジスト膜表面のアルカリ現像前後の撥水性及び親水性をより適度なものに調整することができる。
[他の構造単位]
[E]フッ素原子含有重合体は、構造単位(f1)、構造単位(f2)及び構造単位(f3)以外の他の構造単位を含んでいてもよい。上記他の構造単位としては、例えば[A]重合体において構造単位(I)として示した構造単位等が挙げられる。
[E]フッ素原子含有重合体は、構造単位(f1)、構造単位(f2)及び構造単位(f3)以外の他の構造単位を含んでいてもよい。上記他の構造単位としては、例えば[A]重合体において構造単位(I)として示した構造単位等が挙げられる。
[E]フッ素原子含有重合体が上記他の構造単位を含有する場合、上記他の構造単位の含有割合の下限としては、[E]フッ素原子含有重合体を構成する全構造単位に対して、5モル%が好ましく、10モル%がより好ましく、20モル%がさらに好ましい。一方、上記他の構造単位の含有割合の上限としては、[E]フッ素原子含有重合体を構成する全構造単位に対して、90モル%が好ましく、80モル%がより好ましく、70モル%がさらに好ましい。
当該感放射線性樹脂組成物が[E]フッ素原子含有重合体を含有する場合、[E]フッ素原子含有重合体の含有量の下限としては、[A]重合体100質量部に対して、0.1質量部が好ましく、1質量部がより好ましい。一方、[E]フッ素原子含有重合体の含有量の上限としては、[A]重合体100質量部に対して、20質量部が好ましく、15質量部がより好ましく、10質量部がさらに好ましく、6質量部が特に好ましい。[E]フッ素原子含有重合体の含有量が上記上限を超えると、レジスト膜表面の撥水性が高くなり過ぎて現像不良が起こる場合がある。
[E]フッ素原子含有重合体のフッ素原子含有率(質量%)としては、[A]重合体のフッ素原子含有率よりも大きいことが好ましい。[E]フッ素原子含有重合体のフッ素原子含有率を[A]重合体のフッ素原子含有率よりも大きくすることで、[A]重合体及び[E]フッ素原子含有重合体を含有する当該感放射線性樹脂組成物により形成されたレジスト膜表面の撥水性をより高めることができる。[E]フッ素原子含有重合体のフッ素原子含有率と[A]重合体のフッ素原子含有率との差の下限としては、1質量%が好ましく、3質量%がより好ましい。一方、[E]フッ素原子含有重合体のフッ素原子含有率と[A]重合体のフッ素原子含有率との差の上限としては、例えば30質量%である。なお、フッ素原子含有率(質量%)は、13C-NMRにより重合体の構造を求め、その構造から算出することができる。
[E]フッ素原子含有重合体のフッ素原子含有率の下限としては、1質量%が好ましく、3質量%がより好ましく、5質量%がさらに好ましく、10質量%が特に好ましい。一方、[E]フッ素原子含有重合体のフッ素原子含有率の上限としては、例えば50質量%である。
<[E]フッ素原子含有重合体の合成方法>
[E]フッ素原子含有重合体は、例えば所定の各構造単位に対応する単量体をラジカル重合開始剤を使用し、適当な反応溶媒中で重合する方法等により合成できる。
[E]フッ素原子含有重合体は、例えば所定の各構造単位に対応する単量体をラジカル重合開始剤を使用し、適当な反応溶媒中で重合する方法等により合成できる。
上記ラジカル重合開始剤としては、例えば[A]重合体の合成方法で例示したラジカル重合開始剤と同様のもの等が挙げられる。上記反応溶媒としては、例えば[A]重合体の合成方法で例示した反応溶媒と同様のもの等が挙げられる。
上記重合における反応温度の下限としては、通常40℃であり、50℃が好ましい。一方、上記反応温度の上限としては、通常150℃であり、120℃が好ましい。上記重合における反応時間の下限としては、通常1時間である。一方、上記反応時間の上限としては、通常48時間であり、24時間が好ましい。
[E]フッ素原子含有重合体のMwの下限としては、1,000が好ましく、2,000がより好ましく、3,000がさらに好ましく、10,000が特に好ましい。一方、[E]フッ素原子含有重合体のMwの上限としては、50,000が好ましく、30,000がより好ましい。[E]フッ素原子含有重合体のMwが上記下限未満の場合、十分な後退接触角を得ることができないおそれがある。逆に、[E]フッ素原子含有重合体のMwが上記上限を超える場合、レジストパターン形成時の現像性が低下する傾向にある。
[E]フッ素原子含有重合体のMwのMnに対する比(Mw/Mn)の下限としては、通常1である。一方、[E]フッ素原子含有重合体のMw/Mnの上限としては、5が好ましく、3がより好ましい。
<[F]偏在化促進剤>
[F]偏在化促進剤は、[E]フッ素原子含有重合体をより効率的にレジスト膜表面に偏析させる成分である。当該感放射線性樹脂組成物は、[F]偏在化促進剤を含有することで、[E]フッ素原子含有重合体をレジスト膜表面により効果的に偏析させることができ、結果として[E]フッ素原子含有重合体の使用量を少なくすることができる。[F]偏在化促進剤としては、例えばラクトン化合物、カーボネート化合物、ニトリル化合物、多価アルコール等が挙げられる。[F]偏在化促進剤は、1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。
[F]偏在化促進剤は、[E]フッ素原子含有重合体をより効率的にレジスト膜表面に偏析させる成分である。当該感放射線性樹脂組成物は、[F]偏在化促進剤を含有することで、[E]フッ素原子含有重合体をレジスト膜表面により効果的に偏析させることができ、結果として[E]フッ素原子含有重合体の使用量を少なくすることができる。[F]偏在化促進剤としては、例えばラクトン化合物、カーボネート化合物、ニトリル化合物、多価アルコール等が挙げられる。[F]偏在化促進剤は、1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。
上記ラクトン化合物としては、例えばγ-ブチロラクトン、バレロラクトン、メバロニックラクトン、ノルボルナンラクトン等が挙げられる。
上記カーボネート化合物としては、例えばプロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、ブチレンカーボネート、ビニレンカーボネート等が挙げられる。
上記ニトリル化合物としては、例えばスクシノニトリル等が挙げられる。
上記多価アルコールとしては、例えばグリセリン等が挙げられる。
[F]偏在化促進剤としては、これらの中で、ラクトン化合物が好ましく、γ-ブチロラクトンがより好ましい。
当該感放射線性樹脂組成物が[F]偏在化促進剤を含有する場合、[F]偏在化促進剤の含有量の下限としては、[A]重合体100質量部に対して、5質量部が好ましく、10質量がより好ましく、20質量部がさらに好ましい。一方、[F]偏在化促進剤の含有量の上限としては、[A]重合体100質量部に対して、300質量部が好ましく、100質量部がより好ましく、70質量部がさらに好ましい。
<その他の任意成分>
当該感放射線性樹脂組成物は、上記[A]~[F]成分以外のその他の任意成分を含有していてもよい。上記その他の任意成分としては、例えば[C]化合物以外の他の酸拡散制御体、界面活性剤、脂環式骨格含有化合物、増感剤等が挙げられる。これらのその他の任意成分は、それぞれ1種又は2種以上を併用してもよい。
当該感放射線性樹脂組成物は、上記[A]~[F]成分以外のその他の任意成分を含有していてもよい。上記その他の任意成分としては、例えば[C]化合物以外の他の酸拡散制御体、界面活性剤、脂環式骨格含有化合物、増感剤等が挙げられる。これらのその他の任意成分は、それぞれ1種又は2種以上を併用してもよい。
[他の酸拡散制御体]
当該感放射線性樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、[C]化合物以外の他の酸拡散制御体を含有してもよい。他の酸拡散制御体は、露光により[B]酸発生体から生じる酸のレジスト膜中における拡散現象を制御する。そのため、当該感放射線性樹脂組成物は、他の酸拡散制御体を含有することで、非露光領域における好ましくない化学反応を抑制することができる。また、当該感放射線性樹脂組成物は、他の酸拡散制御体を含有することで、貯蔵安定性が向上する。さらに、当該感放射線性樹脂組成物は、他の酸拡散制御体を含有することで、レジストとしての解像度がさらに向上すると共に、露光から現像処理までの引き置き時間の変動によるレジストパターンの線幅変化を抑えることができ、プロセス安定性が向上する。当該感放射線性樹脂組成物における他の酸拡散制御体の含有形態としては、遊離の化合物の形態(以下、「他の酸拡散制御剤」ともいう)でも、重合体の一部として組み込まれた形態でも、これらの両方の形態でもよい。
当該感放射線性樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、[C]化合物以外の他の酸拡散制御体を含有してもよい。他の酸拡散制御体は、露光により[B]酸発生体から生じる酸のレジスト膜中における拡散現象を制御する。そのため、当該感放射線性樹脂組成物は、他の酸拡散制御体を含有することで、非露光領域における好ましくない化学反応を抑制することができる。また、当該感放射線性樹脂組成物は、他の酸拡散制御体を含有することで、貯蔵安定性が向上する。さらに、当該感放射線性樹脂組成物は、他の酸拡散制御体を含有することで、レジストとしての解像度がさらに向上すると共に、露光から現像処理までの引き置き時間の変動によるレジストパターンの線幅変化を抑えることができ、プロセス安定性が向上する。当該感放射線性樹脂組成物における他の酸拡散制御体の含有形態としては、遊離の化合物の形態(以下、「他の酸拡散制御剤」ともいう)でも、重合体の一部として組み込まれた形態でも、これらの両方の形態でもよい。
上記他の酸拡散制御剤としては、例えばアミン化合物、アミド基含有化合物、ウレア化合物、含窒素複素環化合物等が挙げられる。
上記アミン化合物としては、例えばモノ(シクロ)アルキルアミン類;ジ(シクロ)アルキルアミン類;トリ(シクロ)アルキルアミン類;置換アルキルアニリン又はその誘導体;エチレンジアミン、N,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノベンゾフェノン、4,4’-ジアミノジフェニルアミン、2,2-ビス(4-アミノフェニル)プロパン、2-(3-アミノフェニル)-2-(4-アミノフェニル)プロパン、2-(4-アミノフェニル)-2-(3-ヒドロキシフェニル)プロパン、2-(4-アミノフェニル)-2-(4-ヒドロキシフェニル)プロパン、1,4-ビス(1-(4-アミノフェニル)-1-メチルエチル)ベンゼン、1,3-ビス(1-(4-アミノフェニル)-1-メチルエチル)ベンゼン、ビス(2-ジメチルアミノエチル)エーテル、ビス(2-ジエチルアミノエチル)エーテル、1-(2-ヒドロキシエチル)-2-イミダゾリジノン、2-キノキサリノール、N,N,N’,N’-テトラキス(2-ヒドロキシプロピル)エチレンジアミン、N,N,N’,N’’N’’-ペンタメチルジエチレントリアミン等が挙げられる。
上記アミド基含有化合物としては、例えばN-t-ブトキシカルボニル基含有アミノ化合物等のN-t-アルキルオキシカルボニル基含有アミノ化合物、ホルムアミド、N-メチルホルムアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、アセトアミド、N-メチルアセトアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、プロピオンアミド、ベンズアミド、ピロリドン、N-メチルピロリドン、N-アセチル-1-アダマンチルアミン、イソシアヌル酸トリス(2-ヒドロキシエチル)などが挙げられる。
上記ウレア化合物としては、例えば尿素、メチルウレア、1,1-ジメチルウレア、1,3-ジメチルウレア、1,1,3,3-テトラメチルウレア、1,3-ジフェニルウレア、トリ-n-ブチルチオウレア等が挙げられる。
上記含窒素複素環化合物としては、例えばイミダゾール類;ピリジン類;ピペラジン類;ピラジン、ピラゾール、ピリダジン、キノザリン、プリン、ピロリジン、ピペリジン、ピペリジンエタノール、3-ピペリジノ-1,2-プロパンジオール、モルホリン、4-メチルモルホリン、1-(4-モルホリニル)エタノール、4-アセチルモルホリン、3-(N-モルホリノ)-1,2-プロパンジオール、1,4-ジメチルピペラジン、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン等が挙げられる。
また、他の酸拡散制御剤としては、露光により感光し弱酸を発生する光崩壊性塩基を用いることもできる。上記光崩壊性塩基としては、例えば露光により分解して酸拡散制御性を失うオニウム塩化合物等が挙げられる。オニウム塩化合物としては、例えば下記式(9-1)で表されるスルホニウム塩化合物、下記式(9-2)で表されるヨードニウム塩化合物等が挙げられる。
上記式(9-1)及び式(9-2)中、R28~R32は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基又はハロゲン原子である。E-及びQ-は、それぞれ独立して、OH-、Rβ-COO-、Rβ-SO3
-又は下記式(9-3)で表されるアニオンである。Rβは、アルキル基、アリール基又はアラルキル基である。
上記式(9-3)中、R33は、水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換されていてもよい炭素数1~12の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、又は炭素数1~12の直鎖状若しくは分岐状のアルコキシル基である。uは、0~2の整数である。
上記光崩壊性塩基としては、例えば下記式で表される化合物等が挙げられる。
上記光崩壊性塩基としては、これらの中で、スルホニウム塩が好ましく、トリアリールスルホニウム塩がより好ましく、トリフェニルスルホニウム2.4.6.トリイソプロピルフェニルスルホネート、及びトリフェニルスルホニウム10-カンファースルホネートがさらに好ましい。
当該感放射線性樹脂組成物が上記他の酸拡散制御体として他の酸拡散制御剤を含有する場合、上記他の酸拡散制御剤の含有量の上限としては、[A]重合体100質量部に対して、15質量部が好ましく、10質量部がより好ましい。また、上記他の酸拡散制御剤の含有量の上限としては、[C]化合物100質量部に対して、95質量部が好ましく、50質量部がより好ましく、20質量部がさらに好ましい。
[界面活性剤]
界面活性剤は、当該感放射線性樹脂組成物の塗布性、ストリエーション、現像性等を改良する効果を奏する。界面活性剤としては、例えばポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンn-オクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンn-ノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート等のノニオン系界面活性剤、市販品としては信越化学工業社の「KP341」、共栄社化学社の「ポリフローNo.75」、「同No.95」、トーケムプロダクツ社の「エフトップEF301」、「同EF303」、「同EF352」、DIC社の「メガファックF171」、「同F173、住友スリーエム社の「フロラードFC430」、「同FC431」、旭硝子工業社の「アサヒガードAG710」、「サーフロンS-382」、「同SC-101」、「同SC-102」、「同SC-103」、「同SC-104」、「同SC-105」、「同SC-106」等が挙げられる。当該感放射線性樹脂組成物が界面活性剤を含有する場合、界面活性剤の含有量の上限としては、[A]重合体100質量部に対して、通常2質量部である。
界面活性剤は、当該感放射線性樹脂組成物の塗布性、ストリエーション、現像性等を改良する効果を奏する。界面活性剤としては、例えばポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンn-オクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンn-ノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート等のノニオン系界面活性剤、市販品としては信越化学工業社の「KP341」、共栄社化学社の「ポリフローNo.75」、「同No.95」、トーケムプロダクツ社の「エフトップEF301」、「同EF303」、「同EF352」、DIC社の「メガファックF171」、「同F173、住友スリーエム社の「フロラードFC430」、「同FC431」、旭硝子工業社の「アサヒガードAG710」、「サーフロンS-382」、「同SC-101」、「同SC-102」、「同SC-103」、「同SC-104」、「同SC-105」、「同SC-106」等が挙げられる。当該感放射線性樹脂組成物が界面活性剤を含有する場合、界面活性剤の含有量の上限としては、[A]重合体100質量部に対して、通常2質量部である。
[脂環式骨格含有化合物]
脂環式骨格含有化合物は、当該感放射線性樹脂組成物のドライエッチング耐性、パターン形状、基板との接着性等を改善する効果を奏する。
脂環式骨格含有化合物は、当該感放射線性樹脂組成物のドライエッチング耐性、パターン形状、基板との接着性等を改善する効果を奏する。
[増感剤]
増感剤は、[B]酸発生体等からの酸の生成量を増加する作用を示すものであり、当該感放射線性樹脂組成物の「みかけの感度」を向上させる効果を奏する。
増感剤は、[B]酸発生体等からの酸の生成量を増加する作用を示すものであり、当該感放射線性樹脂組成物の「みかけの感度」を向上させる効果を奏する。
上記増感剤としては、例えばカルバゾール類、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ナフタレン類、フェノール類、ビアセチル、エオシン、ローズベンガル、ピレン類、アントラセン類、フェノチアジン類等が挙げられる。これらの増感剤は単独で使用してもよく2種以上を併用してもよい。当該感放射線性樹脂組成物が上記増感剤を含有する場合、上記増感剤の含有量の上限としては、[A]重合体100質量部に対して、通常2質量部である。
<感放射線性樹脂組成物の調製方法>
当該感放射線性樹脂組成物は、例えば[A]重合体、[B]酸発生体、[C]化合物、必要に応じて含有される[E]フッ素原子含有重合体及びその他の任意成分、並びに[D]溶媒を所定の割合で混合することにより調製できる。当該感放射線性樹脂組成物は、混合後、例えば孔径0.2μm程度のフィルター等でろ過することが好ましい。当該感放射線性樹脂組成物の固形分濃度の下限としては、0.1質量%が好ましく、0.5質量%がより好ましく、1質量%がさらに好ましい。一方、当該感放射線性樹脂組成物の固形分濃度の上限としては、50質量%が好ましく、30質量%がより好ましく、20質量%がさらに好ましい。
当該感放射線性樹脂組成物は、例えば[A]重合体、[B]酸発生体、[C]化合物、必要に応じて含有される[E]フッ素原子含有重合体及びその他の任意成分、並びに[D]溶媒を所定の割合で混合することにより調製できる。当該感放射線性樹脂組成物は、混合後、例えば孔径0.2μm程度のフィルター等でろ過することが好ましい。当該感放射線性樹脂組成物の固形分濃度の下限としては、0.1質量%が好ましく、0.5質量%がより好ましく、1質量%がさらに好ましい。一方、当該感放射線性樹脂組成物の固形分濃度の上限としては、50質量%が好ましく、30質量%がより好ましく、20質量%がさらに好ましい。
当該感放射線性樹脂組成物は、アルカリ現像液を用いるポジ型パターン形成用にも、有機溶媒を含有する現像液を用いるネガ型パターン形成用にも用いることができる。当該感放射線性樹脂組成物は、これらの中で、有機溶媒を含有する現像液を用いるネガ型パターン形成に用いる場合に特に高い解像性を発揮することができる。
<レジストパターンの形成方法>
当該レジストパターンの形成方法は、基板の一方の面側に当該感放射線性樹脂組成物を塗工する工程(以下、「塗工工程」ともいう)、上記塗工により得られたレジスト膜を露光する工程(以下、「露光工程」ともいう)、及び上記露光されたレジスト膜を現像する工程(以下、「現像工程」ともいう)を備える。
当該レジストパターンの形成方法は、基板の一方の面側に当該感放射線性樹脂組成物を塗工する工程(以下、「塗工工程」ともいう)、上記塗工により得られたレジスト膜を露光する工程(以下、「露光工程」ともいう)、及び上記露光されたレジスト膜を現像する工程(以下、「現像工程」ともいう)を備える。
当該レジストパターン形成方法によれば、上述した当該感放射線性樹脂組成物を用いているので、優れた露光余裕度を発揮しつつ、LWR性能、CDU性能及び欠陥抑制性に優れたレジストパターンを形成することができる。以下、各工程について説明する。
[塗布工程]
本工程では、基板の一方の面側に当該感放射線性樹脂組成物を塗工し、レジスト膜を形成する。上記レジスト膜を形成する基板としては、例えばシリコンウェハ、アルミニウムで被覆したウェハ等が挙げられる。この基板上に当該感放射線性樹脂組成物を塗布することによりレジスト膜が形成される。当該感放射線性樹脂組成物の塗布方法としては、特に限定されないが、例えばスピンコート法等の公知の方法により塗布することができる。当該感放射線性樹脂組成物を塗布する際には、形成されるレジスト膜が所望の膜厚となるように、塗布する当該感放射線性樹脂組成物の量を調整する。なお、当該感放射線性樹脂組成物を基板上に塗布した後、溶媒を揮発させるためにプレベーク(PB)を行ってもよい。PBの温度の下限としては、30℃が好ましく、50℃がより好ましい。一方、PBの温度の上限としては、200℃が好ましく、150℃がより好ましい。
本工程では、基板の一方の面側に当該感放射線性樹脂組成物を塗工し、レジスト膜を形成する。上記レジスト膜を形成する基板としては、例えばシリコンウェハ、アルミニウムで被覆したウェハ等が挙げられる。この基板上に当該感放射線性樹脂組成物を塗布することによりレジスト膜が形成される。当該感放射線性樹脂組成物の塗布方法としては、特に限定されないが、例えばスピンコート法等の公知の方法により塗布することができる。当該感放射線性樹脂組成物を塗布する際には、形成されるレジスト膜が所望の膜厚となるように、塗布する当該感放射線性樹脂組成物の量を調整する。なお、当該感放射線性樹脂組成物を基板上に塗布した後、溶媒を揮発させるためにプレベーク(PB)を行ってもよい。PBの温度の下限としては、30℃が好ましく、50℃がより好ましい。一方、PBの温度の上限としては、200℃が好ましく、150℃がより好ましい。
また、当該感放射線性樹脂組成物の潜在能力を最大限に引き出すため、例えば特公平6-12452号公報、特開昭59-93448号公報等に開示されているように、使用される基板上に有機系又は無機系の反射防止膜を形成しておくこともできる。また、環境雰囲気中に含まれる塩基性不純物等の影響を防止するため、例えば特開平5-188598号公報等に開示されているように、レジスト膜上に保護膜を設けることもできる。
[露光工程]
本工程では、上記塗工工程により得られたレジスト膜を露光する。この露光は、場合によっては、水等の液浸露光液を介し、所定のパターンを有するマスクを介して放射線を照射することにより行うこともできる。
本工程では、上記塗工工程により得られたレジスト膜を露光する。この露光は、場合によっては、水等の液浸露光液を介し、所定のパターンを有するマスクを介して放射線を照射することにより行うこともできる。
上記液浸露光液としては、通常空気より屈折率の大きい液体を使用する。上記液浸露光液としては、具体的には、例えば純水、長鎖又は環状の脂肪族化合物等が挙げられる。この液浸露光液を介した状態、すなわちレンズとレジスト膜との間に液浸露光液を満たした状態で、露光装置から放射線を照射し、所定のパターンを有するマスクを介してレジスト膜を露光する。
上記放射線としては、使用される[B]酸発生体の種類に応じて、可視光線、紫外線、遠紫外線、極端紫外線(EUV)、X線、γ線等の電磁波;電子線、α線等の荷電粒子線などから適宜選定されて使用されるが、これらの中で、遠紫外線、EUV及び電子線が好ましく、ArFエキシマレーザー光(波長193nm)、KrFエキシマレーザー光(波長248nm)、EUV及び電子線がより好ましく、ArFエキシマレーザー光、EUV、電子線がさらに好ましい。なお、露光量等の露光条件は、当該感放射線性樹脂組成物の配合組成、添加剤の種類等に応じて適宜選定することができる。
本工程では、露光後に加熱処理(以下、「ポストエクスポージャーベーク(PEB)」ともいう)を行うことが好ましい。このPEBにより、[A]重合体中の酸解離性基の解離反応を円滑に進行させることができる。PEBの加熱条件は、当該感放射線性樹脂組成物の配合組成によって適宜調整される。具体的なPEBの温度の下限としては、30℃が好ましく、50℃がより好ましい。一方、PEBの温度の上限としては、200℃が好ましく、170℃がより好ましい。
[現像工程]
本工程では、上記露光工程で露光されたレジスト膜を現像する。この現像に用いる現像液としては、例えばアルカリ水溶液(アルカリ現像液)、有機溶媒を含有する現像液(有機溶媒現像液)等が挙げられる。これにより、所定のレジストパターンが形成される。
本工程では、上記露光工程で露光されたレジスト膜を現像する。この現像に用いる現像液としては、例えばアルカリ水溶液(アルカリ現像液)、有機溶媒を含有する現像液(有機溶媒現像液)等が挙げられる。これにより、所定のレジストパターンが形成される。
上記アルカリ現像液としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、けい酸ナトリウム、メタけい酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、n-プロピルアミン、ジエチルアミン、ジ-n-プロピルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、エチルジメチルアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)、ピロール、ピペリジン、コリン、1,8-ジアザビシクロ-[5.4.0]-7-ウンデセン、1,5-ジアザビシクロ-[4.3.0]-5-ノネン等のアルカリ性化合物の少なくとも1種を溶解したアルカリ水溶液等が挙げられる。これらの中で、TMAH水溶液が好ましく、2質量%以上3質量%以下のTMAH水溶液がより好ましく、2.38質量%TMAH水溶液がさらに好ましい。
上記有機溶媒現像液としては、例えば炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒、エステル系溶媒、ケトン系溶媒、アルコール系溶媒等の有機溶媒、これらの有機溶媒を含有する溶液などが挙げられる。上記有機溶媒としては、例えば上述の当該感放射線性樹脂組成物の[D]溶媒として列挙した溶媒の1種又は2種以上等が挙げられる。上記有機溶媒としては、これらの中で、エステル系溶媒及びケトン系溶媒が好ましい。エステル系溶媒としては、酢酸エステル系溶媒が好ましく、酢酸n-ブチルがより好ましい。ケトン系溶媒としては、鎖状ケトンが好ましく、2-ヘプタノンがより好ましい。現像液中の有機溶媒の含有量の下限としては、80質量%が好ましく、90質量%がより好ましく、95質量%がさらに好ましく、99質量%が特に好ましい。現像液中の有機溶媒以外の成分としては、例えば水、シリコーンオイル等が挙げられる。
これらの現像液は単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。なお、現像後は、水等で洗浄し、乾燥することが一般的である。
以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。まず、各種物性値の測定方法を以下に示す。
[重量平均分子量(Mw)、数平均分子量(Mn)及び分散度(Mw/Mn)の測定]
東ソー社のGPCカラム(「G2000HXL」2本、「G3000HXL」1本、及び「G4000HXL」1本)を用い、流量:1.0ミリリットル/分、溶出溶媒:テトラヒドロフラン、カラム温度:40℃の分析条件で、単分散ポリスチレンを標準とするゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定した。
東ソー社のGPCカラム(「G2000HXL」2本、「G3000HXL」1本、及び「G4000HXL」1本)を用い、流量:1.0ミリリットル/分、溶出溶媒:テトラヒドロフラン、カラム温度:40℃の分析条件で、単分散ポリスチレンを標準とするゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定した。
[1H-NMR分析及び13C-NMR分析]
日本電子社の「JNM-Delta400」を用い、測定溶媒として重クロロホルムを使用して、各重合体における各構造単位の含有割合(モル%)を求める分析を行った。
日本電子社の「JNM-Delta400」を用い、測定溶媒として重クロロホルムを使用して、各重合体における各構造単位の含有割合(モル%)を求める分析を行った。
<[C]化合物の合成>
[合成例1](化合物(C-1)の合成)
既知の方法に従い、以下のスキームで合成を実施して、下記式(C-1)で表される化合物(C-1)を得た。
[合成例1](化合物(C-1)の合成)
既知の方法に従い、以下のスキームで合成を実施して、下記式(C-1)で表される化合物(C-1)を得た。
[合成例2~20](化合物(C-2)~(C-20)の合成)
前駆体を適宜選択し、合成例1と同様の操作を行うことによって、上記式(C-2)~(C-20)で表される化合物(C-2)~(C-20)を合成した。
前駆体を適宜選択し、合成例1と同様の操作を行うことによって、上記式(C-2)~(C-20)で表される化合物(C-2)~(C-20)を合成した。
<重合体の合成>
[A]重合体及び[E]フッ素原子含有重合体の合成で用いた単量体を下記式に示す。
[A]重合体及び[E]フッ素原子含有重合体の合成で用いた単量体を下記式に示す。
[[A]重合体の合成]
[合成例21](重合体(A-1)の合成)
上記化合物(M-1)7.97g(35モル%)、化合物(M-2)7.44g(45モル%)、及び化合物(M-3)4.49g(20モル%)を2-ブタノン40gに溶解し、さらにラジカル重合開始剤としてのAIBN0.80g(単量体の総量に対して5モル%)を溶解させて単量体溶液を調製した。次に、20gの2-ブタノンを入れた100mLの三口フラスコを30分窒素パージした後、攪拌しながら80℃に加熱し、上記調製した単量体溶液を滴下漏斗にて3時間かけて滴下した。滴下開始を重合反応の開始時間とし、重合反応を6時間実施した。重合反応終了後、重合反応液を水冷して30℃以下に冷却した。400gのメタノール中に冷却した重合溶液を投入し、析出した白色粉末をろ別した。ろ別した白色粉末を80gのメタノールで2回洗浄した後、さらにろ別し、50℃で17時間乾燥させて白色粉末状の重合体(A-1)を合成した(15.2g、収率76%)。重合体(A-1)のMwは7,300、Mw/Mnは1.53であった。13C-NMR分析の結果、化合物(M-1)、化合物(M-2)及び化合物(M-3)に由来する各構造単位の含有割合は、それぞれ34.3モル%、45.1モル%、及び20.6モル%であった。
[合成例21](重合体(A-1)の合成)
上記化合物(M-1)7.97g(35モル%)、化合物(M-2)7.44g(45モル%)、及び化合物(M-3)4.49g(20モル%)を2-ブタノン40gに溶解し、さらにラジカル重合開始剤としてのAIBN0.80g(単量体の総量に対して5モル%)を溶解させて単量体溶液を調製した。次に、20gの2-ブタノンを入れた100mLの三口フラスコを30分窒素パージした後、攪拌しながら80℃に加熱し、上記調製した単量体溶液を滴下漏斗にて3時間かけて滴下した。滴下開始を重合反応の開始時間とし、重合反応を6時間実施した。重合反応終了後、重合反応液を水冷して30℃以下に冷却した。400gのメタノール中に冷却した重合溶液を投入し、析出した白色粉末をろ別した。ろ別した白色粉末を80gのメタノールで2回洗浄した後、さらにろ別し、50℃で17時間乾燥させて白色粉末状の重合体(A-1)を合成した(15.2g、収率76%)。重合体(A-1)のMwは7,300、Mw/Mnは1.53であった。13C-NMR分析の結果、化合物(M-1)、化合物(M-2)及び化合物(M-3)に由来する各構造単位の含有割合は、それぞれ34.3モル%、45.1モル%、及び20.6モル%であった。
[合成例22~31及び33~34](重合体(A-2)~(A-11)、及び(A-13)~(A-14)の合成)
下記表1に示す種類及び使用量の単量体を用いた以外は、合成例21と同様にして、重合体(A-2)~(A-11)及び(A-13)~(A-14)を合成した。用いた単量体の合計質量は20gとした。合成した重合体の収率(%)、Mw、Mw/Mn及び各構造単位の含有割合(モル%)を下記表1に合わせて示す。
下記表1に示す種類及び使用量の単量体を用いた以外は、合成例21と同様にして、重合体(A-2)~(A-11)及び(A-13)~(A-14)を合成した。用いた単量体の合計質量は20gとした。合成した重合体の収率(%)、Mw、Mw/Mn及び各構造単位の含有割合(モル%)を下記表1に合わせて示す。
[合成例32](重合体(A-12)の合成)
上記化合物(M-22)55.0g(65モル%)及び化合物(M-21)45.0g(35モル%)、ラジカル重合開始剤としてのAIBN4g、並びにt-ドデシルメルカプタン1gをプロピレングリコールモノメチルエーテル100gに溶解した後、窒素雰囲気下、反応温度を70℃に保持して、16時間共重合させた。重合反応終了後、重合反応液を1,000gのn-ヘキサン中に滴下して、重合体を凝固精製した。次いで、上記得られた重合体に再度プロピレングリコールモノメチルエーテル150gを加えた後、さらにメタノール150g、トリエチルアミン34g及び水6gを加えて、沸点にて還流させながら8時間加水分解反応を行った。反応終了後、溶媒及びトリエチルアミンを減圧留去した。得られた重合体をアセトン150gに溶解した後、2,000gの水中に滴下して凝固させ、生成した白色粉末をろ過し、50℃で17時間乾燥させて白色粉末状の重合体(A-12)を得た(65.7g、収率77%)。重合体(A-12)のMwは7,500、Mw/Mnは1.90であった。13C-NMR分析の結果、p-ヒドロキシスチレン及び化合物(M-21)に由来する各構造単位の含有割合は、それぞれ65.4モル%及び34.6モル%であった。
上記化合物(M-22)55.0g(65モル%)及び化合物(M-21)45.0g(35モル%)、ラジカル重合開始剤としてのAIBN4g、並びにt-ドデシルメルカプタン1gをプロピレングリコールモノメチルエーテル100gに溶解した後、窒素雰囲気下、反応温度を70℃に保持して、16時間共重合させた。重合反応終了後、重合反応液を1,000gのn-ヘキサン中に滴下して、重合体を凝固精製した。次いで、上記得られた重合体に再度プロピレングリコールモノメチルエーテル150gを加えた後、さらにメタノール150g、トリエチルアミン34g及び水6gを加えて、沸点にて還流させながら8時間加水分解反応を行った。反応終了後、溶媒及びトリエチルアミンを減圧留去した。得られた重合体をアセトン150gに溶解した後、2,000gの水中に滴下して凝固させ、生成した白色粉末をろ過し、50℃で17時間乾燥させて白色粉末状の重合体(A-12)を得た(65.7g、収率77%)。重合体(A-12)のMwは7,500、Mw/Mnは1.90であった。13C-NMR分析の結果、p-ヒドロキシスチレン及び化合物(M-21)に由来する各構造単位の含有割合は、それぞれ65.4モル%及び34.6モル%であった。
[[E]フッ素原子含有重合体の合成]
[合成例35](重合体(E-1)の合成)
上記化合物(M-25)82.2g(70モル%)、及び化合物(M-10)17.8g(30モル%)を2-ブタノン200gに溶解し、ラジカル重合開始剤としてのAIBN0.46g(単量体の総量に対して1モル%)を添加して単量体溶液を調製した。次いで、100gの2-ブタノンを入れた500mLの三口フラスコを30分窒素パージした後、攪拌しながら80℃に加熱し、上記調製した単量体溶液を滴下漏斗にて3時間かけて滴下した。滴下開始を重合反応の開始時間とし、重合反応を6時間実施した。重合反応終了後、重合反応液を水冷して30℃以下に冷却した。アセトニトリル400gで溶媒を置換した後、ヘキサン100gを加えて撹拌しアセトニトリル層を回収する作業を3回繰り返した。その後、溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに置換することで、重合体(E-1)を60.1g含む溶液を得た(収率60%)。重合体(E-1)のMwは15,000、Mw/Mnは1.90であった。13C-NMR分析の結果、化合物(M-25)及び化合物(M-10)に由来する各構造単位の含有割合は、それぞれ70.3モル%及び29.7モル%であった。
[合成例35](重合体(E-1)の合成)
上記化合物(M-25)82.2g(70モル%)、及び化合物(M-10)17.8g(30モル%)を2-ブタノン200gに溶解し、ラジカル重合開始剤としてのAIBN0.46g(単量体の総量に対して1モル%)を添加して単量体溶液を調製した。次いで、100gの2-ブタノンを入れた500mLの三口フラスコを30分窒素パージした後、攪拌しながら80℃に加熱し、上記調製した単量体溶液を滴下漏斗にて3時間かけて滴下した。滴下開始を重合反応の開始時間とし、重合反応を6時間実施した。重合反応終了後、重合反応液を水冷して30℃以下に冷却した。アセトニトリル400gで溶媒を置換した後、ヘキサン100gを加えて撹拌しアセトニトリル層を回収する作業を3回繰り返した。その後、溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに置換することで、重合体(E-1)を60.1g含む溶液を得た(収率60%)。重合体(E-1)のMwは15,000、Mw/Mnは1.90であった。13C-NMR分析の結果、化合物(M-25)及び化合物(M-10)に由来する各構造単位の含有割合は、それぞれ70.3モル%及び29.7モル%であった。
<感放射線性樹脂組成物の調製>
感放射線性樹脂組成物の調製に用いた[B]酸発生剤、[C]化合物、[D]溶媒及び他の酸拡散制御剤を以下に示す。
感放射線性樹脂組成物の調製に用いた[B]酸発生剤、[C]化合物、[D]溶媒及び他の酸拡散制御剤を以下に示す。
[[B]酸発生剤]
下記式(B-1)~(B-9)で表される化合物。
下記式(B-1)~(B-9)で表される化合物。
[[D]溶媒]
D-1:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
D-2:シクロヘキサン
D-3:γ-ブチロラクトン
D-1:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
D-2:シクロヘキサン
D-3:γ-ブチロラクトン
[他の酸拡散制御剤]
下記式(Q-1)~(Q-9)で表される化合物。
下記式(Q-1)~(Q-9)で表される化合物。
[ArF露光用感放射線性樹脂組成物の調製]
[実施例1](感放射線性樹脂組成物(J-1)の調製)
[A]重合体としての(A-1)100質量部、[B]酸発生剤としての(B-1)10質量部、[C]化合物としての(C-1)7質量部、[D]溶媒としての(D-1)2,427質量部、(D-2)1,040質量部及び(D-3)200質量部、並びに[E]フッ素原子含有重合体としての(E-1)3質量部を混合し、孔径0.2μmのメンブランフィルターでろ過することにより感放射線性樹脂組成物(J-1)を調製した。
[実施例1](感放射線性樹脂組成物(J-1)の調製)
[A]重合体としての(A-1)100質量部、[B]酸発生剤としての(B-1)10質量部、[C]化合物としての(C-1)7質量部、[D]溶媒としての(D-1)2,427質量部、(D-2)1,040質量部及び(D-3)200質量部、並びに[E]フッ素原子含有重合体としての(E-1)3質量部を混合し、孔径0.2μmのメンブランフィルターでろ過することにより感放射線性樹脂組成物(J-1)を調製した。
[実施例2~20及び比較例1~20](感放射線性樹脂組成物(J-2)~(J-20)及び(CJ-1)~(CJ-20)の調製)
下記表2に示す種類及び含有量の各成分を用いた以外は実施例1と同様にして、感放射線性樹脂組成物(J-2)~(J-20)及び(CJ-1)~(CJ-20)を調製した。
下記表2に示す種類及び含有量の各成分を用いた以外は実施例1と同様にして、感放射線性樹脂組成物(J-2)~(J-20)及び(CJ-1)~(CJ-20)を調製した。
<レジストパターンの形成(1)>
12インチのシリコンウェハ表面に、スピンコーター(東京エレクトロン社の「CLEAN TRACK ACT12」)を使用して、下層反射防止膜形成用組成物(ブルワーサイエンス社の「ARC66」)を塗布した後、205℃で60秒間加熱することにより平均膜厚105nmの下層反射防止膜を形成した。この下層反射防止膜上に、上記スピンコーターを使用して各ArF露光用感放射線性樹脂組成物を塗布し、100℃で50秒間PBを行った。その後、23℃で30秒間冷却し、平均膜厚90nmのレジスト膜を形成した。次に、この塗膜をArFエキシマレーザー液浸露光装置(ASML社の「TWINSCAN XT-1900i」)を用い、NA=1.35、Dipole35X(σ=0.97/0.77)の光学条件にて、38nmラインアンドスペース(1L/1S)のレジストパターン形成用のマスクパターンを介して露光した。露光後、90℃で50秒間PEBを行った。その後、2.38質量%TMAH水溶液を用い、23℃で30秒間パドル現像を行った。次いで、超純水を用いて7秒間リンスし、その後、2,000rpm、15秒間振り切りでスピンドライすることにより、平均線幅38nmラインアンドスペース(1L/1S)のレジストパターンを形成した。なお、38nmラインアンドスペース(1L/1S)のレジストパターンを形成する露光量を最適露光量(Eop)として求めた。このEopの求め方は、後述するレジストパターンの形成(2)~(4)においても同様とした。
12インチのシリコンウェハ表面に、スピンコーター(東京エレクトロン社の「CLEAN TRACK ACT12」)を使用して、下層反射防止膜形成用組成物(ブルワーサイエンス社の「ARC66」)を塗布した後、205℃で60秒間加熱することにより平均膜厚105nmの下層反射防止膜を形成した。この下層反射防止膜上に、上記スピンコーターを使用して各ArF露光用感放射線性樹脂組成物を塗布し、100℃で50秒間PBを行った。その後、23℃で30秒間冷却し、平均膜厚90nmのレジスト膜を形成した。次に、この塗膜をArFエキシマレーザー液浸露光装置(ASML社の「TWINSCAN XT-1900i」)を用い、NA=1.35、Dipole35X(σ=0.97/0.77)の光学条件にて、38nmラインアンドスペース(1L/1S)のレジストパターン形成用のマスクパターンを介して露光した。露光後、90℃で50秒間PEBを行った。その後、2.38質量%TMAH水溶液を用い、23℃で30秒間パドル現像を行った。次いで、超純水を用いて7秒間リンスし、その後、2,000rpm、15秒間振り切りでスピンドライすることにより、平均線幅38nmラインアンドスペース(1L/1S)のレジストパターンを形成した。なお、38nmラインアンドスペース(1L/1S)のレジストパターンを形成する露光量を最適露光量(Eop)として求めた。このEopの求め方は、後述するレジストパターンの形成(2)~(4)においても同様とした。
<レジストパターンの形成(2)>
上記レジストパターンの形成(1)において、上記TMAH水溶液の代わりに酢酸n-ブチルを用いて有機溶媒現像し、かつ超純水での洗浄を行わなかった以外は同様に操作して、ネガ型のレジストパターンを形成した。
上記レジストパターンの形成(1)において、上記TMAH水溶液の代わりに酢酸n-ブチルを用いて有機溶媒現像し、かつ超純水での洗浄を行わなかった以外は同様に操作して、ネガ型のレジストパターンを形成した。
[電子線露光用感放射線性樹脂組成物の調製]
[実施例21](感放射線性樹脂組成物(J-21)の調製)
[A]重合体としての(A-1)100質量部、[B]酸発生剤としての(B-1)20質量部、[C]化合物としての(C-1)3.6質量部、並びに[D]溶媒としての(D-1)4,280質量部及び(D-2)1,830質量部を混合し、孔径0.2μmのメンブランフィルターでろ過することにより感放射線性樹脂組成物(J-21)を調製した。
[実施例21](感放射線性樹脂組成物(J-21)の調製)
[A]重合体としての(A-1)100質量部、[B]酸発生剤としての(B-1)20質量部、[C]化合物としての(C-1)3.6質量部、並びに[D]溶媒としての(D-1)4,280質量部及び(D-2)1,830質量部を混合し、孔径0.2μmのメンブランフィルターでろ過することにより感放射線性樹脂組成物(J-21)を調製した。
[実施例22~25及び比較例21~25](感放射線性樹脂組成物(J-22)~(J25)及び(CJ21)~(CJ25)の調製)
下記表3に示す種類及び含有量の各成分を用いた以外は、実施例21と同様にして、感放射線性樹脂組成物(J-22)~(J-25)及び(CJ-21)~(CJ-25)を調製した。
下記表3に示す種類及び含有量の各成分を用いた以外は、実施例21と同様にして、感放射線性樹脂組成物(J-22)~(J-25)及び(CJ-21)~(CJ-25)を調製した。
<レジストパターンの形成(3)>
8インチのシリコンウエハー表面にスピンコーター(東京エレクトロン社の「CLEAN TRACK ACT8」)を使用して、上記調製した各電子線露光用感放射線性樹脂組成物を塗布し、90℃で60秒間PBを行った。その後、23℃で30秒間冷却し、平均膜厚50nmのレジスト膜を形成した。次に、このレジスト膜に、簡易型の電子線描画装置(日立製作所社の「HL800D」、出力:50KeV、電流密度:5.0A/cm2)を用いて電子線を照射した。照射後、120℃で60秒間PEBを行った。その後、アルカリ現像液としての2.38質量%のTMAH水溶液を用いて23℃で30秒間アルカリ現像した。現像後、水で洗浄した後、乾燥させることで平均線幅38nmラインアンドスペース(1L/1S)のレジストパターンを形成した。
8インチのシリコンウエハー表面にスピンコーター(東京エレクトロン社の「CLEAN TRACK ACT8」)を使用して、上記調製した各電子線露光用感放射線性樹脂組成物を塗布し、90℃で60秒間PBを行った。その後、23℃で30秒間冷却し、平均膜厚50nmのレジスト膜を形成した。次に、このレジスト膜に、簡易型の電子線描画装置(日立製作所社の「HL800D」、出力:50KeV、電流密度:5.0A/cm2)を用いて電子線を照射した。照射後、120℃で60秒間PEBを行った。その後、アルカリ現像液としての2.38質量%のTMAH水溶液を用いて23℃で30秒間アルカリ現像した。現像後、水で洗浄した後、乾燥させることで平均線幅38nmラインアンドスペース(1L/1S)のレジストパターンを形成した。
<レジストパターンの形成(4)>
上記レジストパターンの形成(3)において、上記TMAH水溶液の代わりに酢酸n-ブチルを用いて有機溶媒現像し、かつ超純水での洗浄を行わなかった以外は同様に操作して、ネガ型のレジストパターンを形成した。
上記レジストパターンの形成(3)において、上記TMAH水溶液の代わりに酢酸n-ブチルを用いて有機溶媒現像し、かつ超純水での洗浄を行わなかった以外は同様に操作して、ネガ型のレジストパターンを形成した。
<評価>
上記形成したレジストパターンについて、下記方法に従って測定することにより、各感放射線性樹脂組成物を評価した。なお、レジストパターンの測長には走査型電子顕微鏡(日立ハイテクノロジーズ社の「CG-4100」)を用いた。評価結果を表4及び表5に示す。
上記形成したレジストパターンについて、下記方法に従って測定することにより、各感放射線性樹脂組成物を評価した。なお、レジストパターンの測長には走査型電子顕微鏡(日立ハイテクノロジーズ社の「CG-4100」)を用いた。評価結果を表4及び表5に示す。
[LWR性能]
上記走査型電子顕微鏡を用い、露光量が上記Eopとなるよう照射して形成したレジストパターンをパターン上部から観察した。線幅のばらつきを計500点測定し、その測定値の分布から3シグマ値を求め、これをLWR性能(nm)とした。LWR性能は、その値が小さいほど、ラインのがたつきが小さく良好である。LWR性能は、2.5nm以下の場合は「良好」と、2.5nmを超える場合は「不良」と評価できる。
上記走査型電子顕微鏡を用い、露光量が上記Eopとなるよう照射して形成したレジストパターンをパターン上部から観察した。線幅のばらつきを計500点測定し、その測定値の分布から3シグマ値を求め、これをLWR性能(nm)とした。LWR性能は、その値が小さいほど、ラインのがたつきが小さく良好である。LWR性能は、2.5nm以下の場合は「良好」と、2.5nmを超える場合は「不良」と評価できる。
[CDU性能]
上記走査型電子顕微鏡を用い、露光量が上記Eopとなるよう照射して形成したレジストパターンをパターン上部から観察した。400nmの範囲で線幅を20点測定してその平均値を求め、上記平均値を任意のポイントで計500点測定し、その測定値の分布から3シグマ値を求め、これをCDU性能(nm)とした。CDU性能は、その値が小さいほど長周期での線幅のばらつきが小さく良好である。CDU性能は、1.5nm以下の場合は「良好」と、1.5nmを超える場合は「不良」と評価できる。
上記走査型電子顕微鏡を用い、露光量が上記Eopとなるよう照射して形成したレジストパターンをパターン上部から観察した。400nmの範囲で線幅を20点測定してその平均値を求め、上記平均値を任意のポイントで計500点測定し、その測定値の分布から3シグマ値を求め、これをCDU性能(nm)とした。CDU性能は、その値が小さいほど長周期での線幅のばらつきが小さく良好である。CDU性能は、1.5nm以下の場合は「良好」と、1.5nmを超える場合は「不良」と評価できる。
[EL性能]
感放射線性樹脂組成物のEL性能は、下記方法で測定される10%EL、Bridge限界及びCollapse限界の各値により評価した。
感放射線性樹脂組成物のEL性能は、下記方法で測定される10%EL、Bridge限界及びCollapse限界の各値により評価した。
(10%EL)
38nmラインアンドスペース(1L/1S)のレジストパターン形成用のマスクパターンを用いた場合に解像されるレジストパターンの寸法が、マスクの設計寸法の±10%以内となる場合の露光量の範囲の上記Eopに対する割合を10%EL(%)とした。10%ELは、その値が大きいほど露光量変化に対するパターニング性能の変化量が小さく良好である。10%ELは、20%以上の場合は「良好」と、20%未満の場合は「不良」と評価できる。
38nmラインアンドスペース(1L/1S)のレジストパターン形成用のマスクパターンを用いた場合に解像されるレジストパターンの寸法が、マスクの設計寸法の±10%以内となる場合の露光量の範囲の上記Eopに対する割合を10%EL(%)とした。10%ELは、その値が大きいほど露光量変化に対するパターニング性能の変化量が小さく良好である。10%ELは、20%以上の場合は「良好」と、20%未満の場合は「不良」と評価できる。
(Bridge限界)
上記レジストパターンの形成においては、アルカリ現像で上記Eopから露光量を小さくしていく場合、及び有機溶媒現像で上記Eopから露光量を大きくしていく場合、パターン幅が徐々に大きくなり、スペース幅は徐々に小さくなっていく。このように露光量を変化させてパターン幅の増大及びスペース幅の低減を行うことでスペース部にブリッジが発生する最小のパターン幅を求め、これをBridge限界(nm)とした。Bridge限界は、その値が大きいほどブリッジ欠陥が発生し難く良好である。Bridge限界は、50nm以上の場合は「良好」と、50nm未満の場合は「不良」と評価できる。
上記レジストパターンの形成においては、アルカリ現像で上記Eopから露光量を小さくしていく場合、及び有機溶媒現像で上記Eopから露光量を大きくしていく場合、パターン幅が徐々に大きくなり、スペース幅は徐々に小さくなっていく。このように露光量を変化させてパターン幅の増大及びスペース幅の低減を行うことでスペース部にブリッジが発生する最小のパターン幅を求め、これをBridge限界(nm)とした。Bridge限界は、その値が大きいほどブリッジ欠陥が発生し難く良好である。Bridge限界は、50nm以上の場合は「良好」と、50nm未満の場合は「不良」と評価できる。
(Collapse限界)
上記レジストパターンの形成において、アルカリ現像では上記Eopから露光量を大きくしていき、また有機溶媒現像では上記Eopから露光量を小さくしていくことにより、パターン倒れが発生する最小のパターン幅を求め、この値をCollapse限界(nm)とした。Collapse限界は、その値が小さいほどレジストパターンの倒れが発生し難く良好である。Collapse限界は、30nm以下の場合は「良好」と、30nm超の場合は「不良」と評価できる。
上記レジストパターンの形成において、アルカリ現像では上記Eopから露光量を大きくしていき、また有機溶媒現像では上記Eopから露光量を小さくしていくことにより、パターン倒れが発生する最小のパターン幅を求め、この値をCollapse限界(nm)とした。Collapse限界は、その値が小さいほどレジストパターンの倒れが発生し難く良好である。Collapse限界は、30nm以下の場合は「良好」と、30nm超の場合は「不良」と評価できる。
[欠陥抑制性(ArF露光用感放射線性樹脂組成物のみ)]
下層反射防止膜形成用組成物(日産化学社の「ARC66」)により下層反射防止膜を形成した12インチシリコンウェハ上に、感放射線性樹脂組成物により塗膜を形成し、120℃で50秒間SBを行い、平均膜厚110nmのレジスト膜を形成した。次に、このレジスト膜についてArFエキシマレーザー液浸露光装置(NIKON社の「NSR-S610C」)を用い、NA=1.3、ratio=0.800、Dipoleの条件により、ターゲットサイズが平均幅38nmのラインアンドスペース(1L/1S)形成用のマスクパターンを介して露光した。露光後、95℃で50秒間PEBを行った。その後、現像装置(東京エレクトロン社の「クリーントラック ACT8」)のGPノズルによって2.38質量%のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液又は酢酸ブチルにより10秒間現像した。なお、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液現像の場合には引き続き15秒間純水によりリンスをし、2,000rpmで液振り切り乾燥した。このとき、平均幅38nmの1L/1Sを形成する露光量を最適露光量とした。この最適露光量にてウェハ全面に平均線幅38nmの1L/1Sを形成し、欠陥検査用ウェハとした。なお、測長には走査型電子顕微鏡(日立ハイテクノロジーズ社の「CC-4000」)を用いた。欠陥検査装置(KLA-Tencor社の「KLA2810」)を用い、上記欠陥検査用ウェハ上の欠陥数を測定した。測定後、上記測定された欠陥をレジスト膜由来と判断される欠陥と外部由来の異物とに分類し、レジスト膜由来と判断される欠陥の数を算出した。欠陥抑制性(個/cm2)は、このレジスト膜由来と判断される欠陥の面積当たりの数であり、この値が少ないほど良好である。欠陥抑制性は、0.1個/cm2以下の場合は「良好」と、0.1個/cm2超の場合は「不良」と評価できる。
下層反射防止膜形成用組成物(日産化学社の「ARC66」)により下層反射防止膜を形成した12インチシリコンウェハ上に、感放射線性樹脂組成物により塗膜を形成し、120℃で50秒間SBを行い、平均膜厚110nmのレジスト膜を形成した。次に、このレジスト膜についてArFエキシマレーザー液浸露光装置(NIKON社の「NSR-S610C」)を用い、NA=1.3、ratio=0.800、Dipoleの条件により、ターゲットサイズが平均幅38nmのラインアンドスペース(1L/1S)形成用のマスクパターンを介して露光した。露光後、95℃で50秒間PEBを行った。その後、現像装置(東京エレクトロン社の「クリーントラック ACT8」)のGPノズルによって2.38質量%のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液又は酢酸ブチルにより10秒間現像した。なお、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液現像の場合には引き続き15秒間純水によりリンスをし、2,000rpmで液振り切り乾燥した。このとき、平均幅38nmの1L/1Sを形成する露光量を最適露光量とした。この最適露光量にてウェハ全面に平均線幅38nmの1L/1Sを形成し、欠陥検査用ウェハとした。なお、測長には走査型電子顕微鏡(日立ハイテクノロジーズ社の「CC-4000」)を用いた。欠陥検査装置(KLA-Tencor社の「KLA2810」)を用い、上記欠陥検査用ウェハ上の欠陥数を測定した。測定後、上記測定された欠陥をレジスト膜由来と判断される欠陥と外部由来の異物とに分類し、レジスト膜由来と判断される欠陥の数を算出した。欠陥抑制性(個/cm2)は、このレジスト膜由来と判断される欠陥の面積当たりの数であり、この値が少ないほど良好である。欠陥抑制性は、0.1個/cm2以下の場合は「良好」と、0.1個/cm2超の場合は「不良」と評価できる。
本発明の感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法によれば、優れた露光余裕度を発揮しつつ、LWR性能、CDU性能及び欠陥抑制性に優れたレジストパターンを形成することができる。従って、これらはさらなる微細化が進行すると予想される半導体デバイス製造等におけるパターン形成に好適に用いることができる。
Claims (8)
- 酸解離性基を含む構造単位を有する重合体、
感放射線性酸発生体、及び
アミン構造を有する化合物であって、上記アミン構造が放射線照射によってアミド構造、チオアミド構造、ニトリル構造又はアンモニウム構造に変化する化合物
を含有する感放射線性樹脂組成物。 - 上記化合物が、下記式(1)で表される請求項1に記載の感放射線性樹脂組成物。
- 上記式(1)におけるR1が、置換若しくは非置換の炭素数1~20の1価の炭化水素基、又は置換若しくは非置換の炭素数3~20の1価の複素環基である請求項2に記載の感放射線性樹脂組成物。
- 上記式(1)におけるR2及びR3が、互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される環員数3~20の環構造を表す請求項2に記載の感放射線性樹脂組成物。
- 上記式(1)におけるR4及びR5が、互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される環員数3~20の環構造を表す請求項2に記載の感放射線性樹脂組成物。
- 上記式(1)におけるXが酸素原子である請求項2に記載の感放射線性樹脂組成物。
- 基板の一方の面側に請求項1に記載の感放射線性樹脂組成物を塗工する工程、
上記塗工により得られたレジスト膜を露光する工程、及び
上記露光されたレジスト膜を現像する工程
を備えるレジストパターン形成方法。
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WO2018043122A1 (ja) * | 2016-08-31 | 2018-03-08 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法 |
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