WO2015199093A1 - モノマー組成物、及びそれを含む硬化性組成物 - Google Patents

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WO2015199093A1
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compound
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vinyl ether
group
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水田智也
井上慶三
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株式会社ダイセル
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Definitions

  • the present invention relates to a monomer composition and a curable composition containing the monomer composition.
  • the curable composition is preferably used for an ultraviolet curable ink-jet ink.
  • the present application is filed in Japan on June 27, 2014, including Japanese Patent Application Nos. 2014-133053, 2014-133055, 2014-133056, 2014-133058, and 2014-133059. Claims the priority of, and uses the contents here.
  • the ink jet recording method in which printing is performed by flying ink droplets onto a recording medium to form recording dots, is suitably used for applications in which a large number of products are printed in small quantities because an original plate is not required.
  • inkjet inks used in this inkjet recording method cationic curable inks and radical curable inks are known.
  • the radical curable ink has been frequently used because it has a fast curing property and has many types of monomers.
  • low-viscosity ink is used from the viewpoint of dischargeability, and oxygen easily diffuses and enters the ink from the atmosphere.
  • the ink is printed as small droplets, the surface area is increased and the ink is easily exposed to oxygen. For this reason, the inhibition of curing by oxygen is remarkable, and the curing is inhibited by the influence of oxygen, which causes a problem that bleeding occurs and a large amount of unreacted monomer that causes odor remains.
  • Another problem is that the substrate adhesion is low and it is necessary to process the substrate surface in order to improve the adhesion of the ink.
  • Patent Documents 1 to 3 include that for a cationic curable ink containing a dispersion medium and a pigment, a vinyl ether compound having a cyclic ether skeleton as a monomer constituting the dispersion medium contains 30% by weight or more of the total monomers contained in the dispersion medium. It is described that an ink film excellent in curability and substrate adhesion can be formed.
  • the vinyl ether compound having the cyclic ether skeleton easily absorbs moisture, the moisture is easily inhibited by moisture, and the humidity is low. It was found that when used at a high time or when moisture in the air was taken in during the storage process, curing failure occurred and it was not suitable for practical use.
  • an object of the present invention is to provide a monomer composition that has fast curability and can be cured rapidly even in the presence of oxygen and moisture to form a cured product having excellent adhesion to a wide range of substrates.
  • Another object of the present invention is to provide a curable composition comprising the monomer composition and a photoacid generator.
  • Still another object of the present invention is to provide an ultraviolet curable inkjet ink containing the curable composition and a pigment.
  • the present inventors have reduced the content of vinyl ether compounds having a cyclic ether skeleton, and instead contain a monomer composition obtained by combining and combining specific monomers.
  • the cured composition is rapidly cured even in the presence of oxygen and moisture by irradiating ultraviolet rays, and has a good adhesion to a wide range of substrates (that is, a wide range of substrate selectivity). Found that can form.
  • the present invention has been completed based on these findings.
  • the present invention is a monomer composition containing at least a vinyl ether compound (A), containing at least a vinyl ether compound (a) having a cyclic ether skeleton as the vinyl ether compound (A), and a chain hydrocarbon. At least one selected from the group consisting of a vinyl ether compound (a ′) having a skeleton, a divinyl ether compound (a ′′ -1) having a cyclic hydrocarbon skeleton, an oxetane compound (B), and an epoxy compound (C) Monomer compositions containing the compounds are provided.
  • the present invention also provides the above monomer composition, wherein the vinyl ether compound (a) having a cyclic ether skeleton is a compound represented by the following formula (a-1) and / or (a-2).
  • the present invention also provides a monomer composition containing a vinyl ether compound (A), an oxetane compound (B), and an epoxy compound (C), wherein the vinyl ether compound (A) is a compound of the formula (a-1) and / or The compound represented by (a-2), which contains 3-ethyl-3-[(2-ethylhexyloxy) methyl] oxetane as the oxetane compound (B) and has the formula (a-1) and / or (a The content of the compound represented by -2) is 5% by weight or more and less than 30% by weight of the total amount of the monomer composition.
  • the present invention also provides the monomer composition described above, wherein the epoxy compound (C) includes an epoxy compound having a cyclohexene oxide group.
  • the present invention also provides the monomer composition described above, wherein the content of the epoxy compound (C) is 5 to 80% by weight of the total amount of the monomer composition.
  • the present invention also provides the monomer composition described above, wherein the content of 3-ethyl-3-[(2-ethylhexyloxy) methyl] oxetane is 5 to 80% by weight of the total amount of the monomer composition.
  • the present invention also provides a monomer composition containing a vinyl ether compound (A) and an oxetane compound (B), wherein the vinyl ether compound (A) is represented by the formula (a-1) and / or (a-2).
  • the said monomer composition containing the compound represented, and containing the compound represented by a following formula (b ') as an oxetane compound (B) is provided.
  • R c represents a monovalent hydrocarbon group
  • the present invention also provides the above monomer composition, wherein the compound represented by the formula (b ′) is 3-allyloxyoxetane and / or 3- (2-ethylhexyloxy) oxetane.
  • the present invention also provides the monomer composition described above, wherein the content of the compound represented by the formula (b ′) is 5 to 90% by weight of the total amount of the monomer composition.
  • the present invention also provides the monomer composition, wherein the content of the compound represented by the formula (a-1) and / or (a-2) is 5% by weight or more and less than 30% by weight of the total amount of the monomer composition. Offer things.
  • the present invention further provides the above-described monomer composition containing an epoxy compound (C) containing a compound having a cyclohexene oxide group.
  • the present invention also provides the monomer composition described above, wherein the content of the epoxy compound (C) is 5 to 80% by weight of the total amount of the monomer composition.
  • the present invention is also a monomer composition containing a vinyl ether compound (A) and an epoxy compound (C), and is represented by the formula (a-1) and / or (a-2) as the vinyl ether compound (A).
  • the above compound contains 5% by weight or more and less than 30% by weight of the total amount of the monomer composition, and contains 1,2: 8,9-diepoxy limonene as the epoxy compound (C) in excess of 40% by weight of the total amount of the monomer composition.
  • a monomer composition is provided.
  • the present invention also provides the above-described monomer composition further containing, as a monomer, 5 to 50% by weight of the oxetane compound (B) based on the total amount of the monomer composition.
  • the present invention is also a monomer composition
  • the vinyl ether compound (A) is a compound of the above formula (a-1) and / or ( The compound represented by a-2) is contained in an amount of 5% by weight to less than 30% by weight based on the total amount of the monomer composition, and 3-ethyl-3-[(2-ethylhexyloxy) methyl] oxetane is used as the oxetane compound (B).
  • the monofunctional oxetane compound containing 10 to 85% by weight of the total amount of the monomer composition, and the epoxy compound (C) containing 1,2: 8,9-diepoxylimonene as the amount of 10 to 40% by weight of the total amount of the monomer composition A monomer composition is provided.
  • the present invention also provides a monomer composition containing a vinyl ether compound (A) and an oxetane compound (B), wherein the vinyl ether compound (A) is represented by the formula (a-1) and / or (a-2).
  • the above-mentioned monomer composition containing a compound represented by the formula and a divinyl ether compound (a "-1) having a cyclic hydrocarbon skeleton, and containing a monofunctional oxetane compound as the oxetane compound (B).
  • the divinyl ether compound (a "-1) having a cyclic hydrocarbon skeleton is represented by the following formula (a" -1): (Wherein ring Z represents the following formulas (z-1) to (z-5) And n and n ′ are the same or different and represent an integer of 0 or more)
  • the monomer composition is a compound represented by:
  • the total content of the compound represented by the formula (a-1) and / or (a-2) and the divinyl ether compound (a "-1) having a cyclic hydrocarbon skeleton is a monomer.
  • the monomer composition is provided in an amount of 10 to 80% by weight based on the total amount of the composition.
  • the present invention also provides the monomer composition, wherein the content of the compound represented by the formula (a-1) and / or (a-2) is 5% by weight or more and less than 30% by weight of the total amount of the monomer composition. Offer things.
  • the present invention also provides the above monomer composition, wherein the content of the monofunctional oxetane compound is 10 to 70% by weight of the total amount of the monomer composition.
  • the present invention further provides the above-mentioned monomer composition containing an epoxy compound (C) containing an epoxy compound having a cyclohexene oxide group.
  • the present invention also provides the monomer composition described above, wherein the content of the epoxy compound (C) is 5 to 80% by weight of the total amount of the monomer composition.
  • the present invention also provides a monomer composition containing a vinyl ether compound (A), the monofunctional monomer containing 20 to 70% by weight of the total amount of the monomer composition, and a vinyl ether compound (a) having a cyclic ether skeleton and a chain formula
  • the vinyl ether compound (a ′) having a hydrocarbon skeleton is contained in an amount of 10 to 40% by weight of the total amount of the monomer composition, and the content of the vinyl ether compound (a) having a cyclic ether skeleton is 5% by weight or more of the total amount of the monomer composition.
  • the monomer composition is characterized by being less than 30% by weight.
  • the present invention also provides the above-mentioned monomer composition further containing 1 to 50% by weight of the vinyl ether compound (a ′′) having a cyclic hydrocarbon skeleton as the vinyl ether compound (A) based on the total amount of the monomer composition.
  • the present invention also provides the above-mentioned monomer composition further containing 5 to 80% by weight of the oxetane compound (B) based on the total amount of the monomer composition.
  • the present invention also provides the above-mentioned monomer composition further containing 5 to 80% by weight of the epoxy compound (C) based on the total amount of the monomer composition.
  • the present invention also provides a curable composition containing the monomer composition and a photoacid generator.
  • the present invention also provides the curable composition further containing a sensitizer, or a sensitizer and a sensitization aid.
  • the surface tension (at 25 ° C. under 1 atm) is 10 to 50 mN / m, and the viscosity [at 25 ° C. and shear rate 10 (1 / s)] is 1 to 1000 mPa ⁇ s.
  • a curable composition is provided.
  • the present invention also provides the above curable composition for use in an ultraviolet curable inkjet ink.
  • the present invention also provides an ultraviolet curable inkjet ink containing the curable composition and a pigment and / or dye.
  • the present invention further provides the ultraviolet curable ink-jet ink further containing a dispersant.
  • a monomer composition containing at least a vinyl ether compound (A), wherein the vinyl ether compound (A) contains at least a vinyl ether compound (a) having a cyclic ether skeleton, and further has a chain hydrocarbon skeleton.
  • the content of the compound represented by the formula (a-1) and / or (a-2) is 5% by weight or more and less than 30% by weight of the total amount of the monomer composition [7] to [9] The monomer composition according to any one of the above.
  • a monomer composition comprising a vinyl ether compound (A), an oxetane compound (B), and an epoxy compound (C), wherein the vinyl ether compound (A) is represented by the formula (a-1) and / or (a-2 And a monofunctional compound containing 3-ethyl-3-[(2-ethylhexyloxy) methyl] oxetane as the oxetane compound (B), containing 5% by weight or more and less than 30% by weight of the total amount of the monomer composition.
  • the monomer composition according to [2] comprising a compound and a divinyl ether compound (a "-1) having a cyclic hydrocarbon skeleton, and containing a monofunctional oxetane compound as the oxetane compound (B).
  • the divinyl ether compound (a ′′ -1) having a cyclic hydrocarbon skeleton is a compound represented by the formula (a ′′ -1).
  • the total content of the monomer composition is the total content of the compound represented by the formula (a-1) and / or (a-2) and the divinyl ether compound (a "-1) having a cyclic hydrocarbon skeleton.
  • the content of the compound represented by the formula (a-1) and / or (a-2) is 5% by weight or more and less than 30% by weight of the total amount of the monomer composition [16] to [18] The monomer composition according to any one of the above.
  • the curable composition according to [27] further comprising a sensitizer or a sensitizer and a sensitization aid.
  • the surface tension (at 25 ° C. and 1 atm) is 10 to 50 mN / m, and the viscosity [at 25 ° C. and shear rate 10 (1 / s)] is 1 to 1000 mPa ⁇ s [27] or [28] The curable composition according to [28].
  • the curable composition according to any one of [27] to [29] which is used for an ultraviolet curable inkjet ink.
  • An ultraviolet curable inkjet ink containing the curable composition according to any one of [27] to [30] and a pigment and / or dye.
  • the ultraviolet curable ink jet ink according to [31] further containing a dispersant.
  • the curable composition containing the monomer composition of the present invention having the above-described configuration is low in viscosity and excellent in dischargeability before being irradiated with ultraviolet rays, and is rapidly cured even in the presence of oxygen or moisture by irradiating with ultraviolet rays. And the hardened
  • the ultraviolet curable ink-jet ink of the present invention containing the curable composition having the above characteristics is used, the generation of odor can be suppressed in an air atmosphere without any particular limitation on the humidity condition and the printed material.
  • a very high-definition ink film can be formed at high speed. Therefore, the ultraviolet curable ink-jet ink of the present invention can be suitably used in the industrial printing field.
  • the vinyl ether compound is a monomer having a vinyl ether group as a polymerizable group (particularly a cationic polymerizable monomer), a vinyl ether compound having a cyclic ether skeleton (a), a vinyl ether compound having a chain hydrocarbon skeleton (a ′), and A vinyl ether compound (a ′′) having a cyclic hydrocarbon skeleton is included.
  • the vinyl ether compound includes a monofunctional vinyl ether compound and a polyfunctional vinyl ether compound.
  • the vinyl ether compound (a) having the cyclic ether skeleton is represented by, for example, the following formula (a).
  • R— (O—CH ⁇ CH 2 ) s (a) (In the formula, R represents a group obtained by removing s hydrogen atoms from a heterocyclic structural formula containing an oxygen atom as a hetero atom, and s represents an integer of 1 or more)
  • Heterocycles containing oxygen atoms as heteroatoms include 3-membered rings such as oxirane rings; 4-membered rings such as oxetane rings; 5-membered rings such as furan rings, tetrahydrofuran rings, oxazole rings, isoxazole rings, and ⁇ -butyrolactone rings 6-membered ring such as 4-oxo-4H-pyran ring, tetrahydropyran ring, morpholine ring; hexahydrofuro [3,2-b] furan ring, benzofuran ring, isobenzofuran ring, 4-oxo-4H-chromene ring Condensed ring such as chroman ring and isochroman ring; 7-oxabicyclo [2.2.1] heptane ring, 3-oxatricyclo [4.3.1.1 4,8 ] undecan-2-one ring, 3 -Bridged rings such as -oxatricyclo [
  • the heterocycle containing an oxygen atom as the heteroatom has various substituents [eg, alkyl groups (eg, C 1-4 alkyl groups such as methyl group, ethyl group, etc.), cycloalkyl groups, aryl groups (eg, phenyl Group, naphthyl group, etc.), halogen atom, oxo group, hydroxyl group, substituted oxy group (for example, alkoxy group, aryloxy group, aralkyloxy group, acyloxy group, etc.), carboxyl group, substituted oxycarbonyl group (alkoxycarbonyl group, Aryloxycarbonyl group, aralkyloxycarbonyl group, etc.), substituted or unsubstituted carbamoyl group, cyano group, nitro group, substituted or unsubstituted amino group, sulfo group, heterocyclic group and the like.
  • the hydroxyl group and carboxyl group may be protected with a protective
  • S represents an integer of 1 or more, for example, 1 to 10.
  • Examples of the vinyl ether compound (a) having a cyclic ether skeleton include compounds represented by the following formula (a-1), compounds represented by the following formula (a-2), tetrahydrofurfuryl vinyl ether, glycidyl vinyl ether, and the like. Can be mentioned. These can be used alone or in combination of two or more. In the present invention, among them, the use of a compound represented by the following formula (a-1) and / or a compound represented by the following formula (a-2) can exhibit fast curability. This is preferable.
  • the vinyl ether compound (a ′) having the chain hydrocarbon skeleton is represented by the following formula (a ′), for example.
  • R ′ represents a t-valent aliphatic hydrocarbon group or a group in which two or more aliphatic hydrocarbon groups are bonded via a linking group, and t represents an integer of 1 or more
  • Examples of the monovalent aliphatic hydrocarbon group include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, pentyl group, hexyl group, decyl group, An alkyl group having about 1 to 20 (preferably 1 to 10, particularly preferably 1 to 3) carbon atoms such as dodecyl group; vinyl group, allyl group, methallyl group, 1-propenyl group, isopropenyl group, 1-butenyl group 2-butenyl group, 3-butenyl group, 1-pentenyl group, 2-pentenyl group, 3-pentenyl group, 4-pentenyl group, 5-hexenyl group, etc., having 2 to 20 carbon atoms (preferably 2 to 10, particularly An alkenyl group having preferably about 2 to 3); an alkynyl group having about 2 to 20 carbon atoms (preferably 2 to
  • the aliphatic hydrocarbon group may have various substituents [eg, halogen atom, oxo group, hydroxyl group, substituted oxy group (eg, alkoxy group, aryloxy group, aralkyloxy group, acyloxy group etc.), carboxyl group, substituted Oxycarbonyl group (alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, aralkyloxycarbonyl group, etc.), substituted or unsubstituted carbamoyl group, cyano group, nitro group, substituted or unsubstituted amino group, sulfo group, heterocyclic group, etc.] You may have.
  • the hydroxyl group and carboxyl group may be protected with a protective group commonly used in the field of organic synthesis.
  • linking group examples include a carbonyl group (—CO—), an ether bond (—O—), a thioether bond (—S—), an ester bond (—COO—), an amide bond (—CONH—), and a carbonate bond. (-OCOO-) and the like.
  • T represents an integer of 1 or more, for example, 1 to 10.
  • Examples of the vinyl ether compound (a ′) having a chain hydrocarbon skeleton include methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, n-propyl vinyl ether, allyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, tert-butyl vinyl ether, n- Pentyl vinyl ether, isopentyl vinyl ether, tert-pentyl vinyl ether, n-hexyl vinyl ether, isohexyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, n-heptyl vinyl ether, n-octyl vinyl ether, nonyl vinyl ether, decyl vinyl ether, dodecyl vinyl ether, hexadecyl vinyl ether, octadecyl Vinyl ether, ethoxymethyl vinyl ether 2-methoxyethyl vinyl ether, 2-eth
  • the vinyl ether compound (a ′′) having the cyclic hydrocarbon skeleton is represented by the following formula (a ′′), for example.
  • the alicyclic ring constituting the alicyclic hydrocarbon group includes a monocyclic hydrocarbon ring and a polycyclic hydrocarbon ring (a spiro hydrocarbon ring, a ring assembly hydrocarbon ring, a bridged cyclic hydrocarbon ring, a condensed cyclic ring). Hydrocarbon ring, bridged condensed cyclic hydrocarbon ring).
  • Examples of the u-valent alicyclic hydrocarbon group include groups in which u hydrogen atoms have been removed from the structural formula of the alicyclic ring.
  • Examples of the monocyclic hydrocarbon ring include C 5-12 cycloalkane rings such as cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, and cyclooctane ring; C 5-12 cycloalkene rings such as cyclohexene ring, and the like. .
  • spiro hydrocarbon ring examples include C 5-16 spiro hydrocarbon rings such as spiro [4.4] nonane, spiro [4.5] decane, and spirobicyclohexane rings.
  • ring assembly hydrocarbon ring examples include a ring assembly hydrocarbon ring including two or more C 5-12 cycloalkane rings such as bicyclohexane.
  • bridged cyclic hydrocarbon ring examples include pinane, bornane, norpinane, norbornane, norbornene, bicyclooctane ring (bicyclo [2.2.2] octane ring, bicyclo [3.2.1] octane ring, etc.) and the like.
  • a bicyclic hydrocarbon ring such as homobredan, adamantane, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane, tricyclo [4.3.1.1 2,5 ] undecane ring Tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7, 10 ] dodecane, and tetracyclic hydrocarbon rings such as perhydro-1,4-methano-5,8-methanonaphthalene ring.
  • Examples of the condensed cyclic hydrocarbon ring include 5 to 8 such as perhydronaphthalene (decalin), perhydroanthracene, perhydrophenanthrene, perhydroacenaphthene, perhydrofluorene, perhydroindene, and perhydrophenalene ring.
  • a condensed ring in which a plurality of membered cycloalkane rings are condensed can be exemplified.
  • bridged condensed cyclic hydrocarbon ring examples include dimers of dienes (for example, dimers of cycloalkadiene such as cyclopentadiene, cyclohexadiene, cycloheptadiene), hydrogenated products thereof, and the like. it can.
  • dimers of dienes for example, dimers of cycloalkadiene such as cyclopentadiene, cyclohexadiene, cycloheptadiene
  • hydrogenated products thereof and the like. it can.
  • the alicyclic hydrocarbon group may have a substituent, and examples of the substituent include the same examples as the substituent which R ′ in the above formula (a-2) may have. it can.
  • linking group examples include a divalent hydrocarbon group (the same examples as those of X in the formula (c) described later), a carbonyl group (—CO—), an ether bond (— O-), thioether bond (-S-), ester bond (-COO-), amide bond (-CONH-), carbonate bond (-OCOO-) and the like.
  • U represents an integer of 1 or more, for example, 1 to 10.
  • Examples of the vinyl ether compound (a ′′) having a cyclic hydrocarbon skeleton include compounds represented by the following formula (a ′′ -1) (specifically, cyclohexanedimethanol divinyl ether, cyclohexanediol divinyl ether, hydrogenated) Divinyl ether compounds having a cyclic hydrocarbon skeleton such as bisphenol F type divinyl ether, hydrogenated biphenyl divinyl ether, hydrogenated bisphenol A type divinyl ether, and tricyclodecane dimethanol divinyl ether (a "- 1); 4-hydroxycyclohexyl vinyl ether, cyclohexyldimethanol monovinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, cyclohexyl methyl vinyl ether, cyclohexyl ethyl vinyl ether, menthyl vinyl ether, norbornenyl vinyl Ether, 1-adamantyl vinyl ether, 2-adamantyl vinyl
  • ring Z represents the following formulas (z-1) to (z-5) And n and n ′ are the same or different and represent an integer of 0 or more)
  • N and n ′ in the formula (a ′′ -1) are the same or different and represent an integer of 0 or more, preferably an integer of 0 to 10, particularly preferably an integer of 0 to 3.
  • Examples of the vinyl ether compound (a ′′) having a cyclic hydrocarbon skeleton include commercial products such as trade names “CHDVE” (manufactured by Nippon Carbide Industries Co., Ltd.), “4CH-DVE” (manufactured by Daicel Corporation), and the like. Can be used.
  • the vinyl ether compound can be produced using a known method for producing a vinyl ether compound.
  • the compound represented by the above formula (a-1) includes 2-hydroxy-6-hydroxymethyl-7-oxabicyclo [2.2.1] heptane and a vinyl ester compound (in the presence of a transition metal compound).
  • a vinyl ester compound in the presence of a transition metal compound.
  • it can be produced by reacting with vinyl propionate).
  • the compound represented by the formula (a-2) is prepared in the same manner as above except that isosorbide is used instead of 2-hydroxy-6-hydroxymethyl-7-oxabicyclo [2.2.1] heptane. Can be manufactured.
  • the oxetane compound is a cationic polymerizable monomer having an oxetanyl group as a polymerizable group, and includes a monofunctional oxetane compound and a polyfunctional oxetane compound.
  • One oxetane compound can be used alone, or two or more oxetane compounds can be used in combination.
  • R a represents a monovalent organic group
  • R b represents a hydrogen atom or an ethyl group
  • m represents an integer of 0 or more.
  • the monovalent organic group in Ra includes a monovalent hydrocarbon group, a monovalent heterocyclic group, a substituted oxycarbonyl group (alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, aralkyloxycarbonyl group, cycloalkyloxycarbonyl group). Etc.), substituted carbamoyl groups (N-alkylcarbamoyl groups, N-arylcarbamoyl groups, etc.), acyl groups (aliphatic acyl groups such as acetyl groups; aromatic acyl groups such as benzoyl groups), and two or more of these A monovalent group bonded through a single bond or a linking group is included.
  • the monovalent hydrocarbon group includes a monovalent aliphatic hydrocarbon group, a monovalent alicyclic hydrocarbon group, and a monovalent aromatic hydrocarbon group.
  • Examples of the monovalent aliphatic hydrocarbon group include the same examples as the monovalent group for R ′ in the above formula (a ′).
  • Examples of the monovalent alicyclic hydrocarbon group include the same examples as the monovalent group for R ′′ in the above formula (a ′′).
  • Examples of the monovalent aromatic hydrocarbon group include aromatic hydrocarbon groups having about 6 to 14 (preferably 6 to 10) carbon atoms such as a phenyl group and a naphthyl group.
  • the monovalent hydrocarbon group may have a substituent, and examples of the substituent include the same examples as the substituent which R ′ in the above formula (a ′) may have. .
  • heterocyclic ring constituting the heterocyclic group examples include a heterocyclic ring containing an oxygen atom as a hetero atom (for example, a 4-membered ring such as an oxetane ring; a furan ring, a tetrahydrofuran ring, an oxazole ring, an isoxazole ring, a ⁇ - 5-membered ring such as butyrolactone ring; 6-membered ring such as 4-oxo-4H-pyran ring, tetrahydropyran ring, morpholine ring; benzofuran ring, isobenzofuran ring, 4-oxo-4H-chromene ring, chroman ring, isochroman ring 3-oxatricyclo [4.3.1.1 4,8 ] undecan-2-one ring, 3-oxatricyclo [4.2.1.0 4,8 ] nonane-2- A bridged ring such as an on-ring), a 4-
  • the heterocyclic group may be an alkyl group (for example, a C 1-4 alkyl group such as a methyl group or an ethyl group), a cycloalkyl group, an aryl group It may have a substituent such as a phenyl group or a naphthyl group.
  • linking group examples include a carbonyl group (—CO—), an ether bond (—O—), a thioether bond (—S—), an ester bond (—COO—), an amide bond (—CONH—), and a carbonate bond. (—OCOO—), silyl bond (—Si—), a group in which a plurality of these are linked, and the like.
  • M represents an integer of 1 or more, and is, for example, 1 to 20, preferably 1.
  • R c represents a monovalent hydrocarbon group, it is possible to raise the example similar to the example in the above-described R a.
  • Specific examples of the compound represented by the formula (b ′) include 3-methoxyoxetane, 3-ethoxyoxetane, 3-propoxyoxetane, 3-isopropoxyoxetane, 3- (n-butoxy) oxetane, 3-isobutoxy.
  • Examples of the compound represented by the formula (b) include compounds represented by the following formulas (b-1) to (b-13).
  • oxetane compounds include “Aron oxetane OXT-101”, “Aron oxetane OXT-121”, “Aron oxetane OXT-212”, “Aron oxetane OXT-211”, “Aron oxetane OXT-213”, “Aron oxetane”.
  • Commercial products such as “OXT-221” and “Aron Oxetane OXT-610” (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) can be used.
  • Epoxy compound (C) The monomer composition of the present invention contains an epoxy compound (C) as a cationic polymerizable monomer.
  • the epoxy compound (C) include an aromatic glycidyl ether-based epoxy compound; an alicyclic glycidyl ether-based epoxy compound (eg, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether); an aliphatic glycidyl ether-based epoxy compound; An epoxy compound; a glycidylamine epoxy compound; an epoxy compound having a cyclohexene oxide group (hereinafter sometimes referred to as “alicyclic epoxy compound”); an epoxy-modified siloxane compound; An epoxy compound can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
  • the epoxy compound (C) of the present invention a cured product excellent in substrate adhesion can be formed. Particularly, when used for an ink jet ink, it is difficult to be damaged, peeled off, and has a beautiful print over a long period of time. It is preferable to contain at least an alicyclic epoxy compound from the viewpoint that it can be maintained, and in particular, it is preferable to contain at least 30% by weight of the total epoxy compound contained in the monomer composition. More preferably, it is 50% by weight or more, and particularly preferably 80% by weight or more.
  • R 1 to R 18 are the same or different and are a hydrogen atom, a halogen atom, an oxygen atom, a hydrocarbon group that may contain a halogen atom, or an alkoxy that may have a substituent. Indicates a group.
  • Examples of the halogen atom in R 1 to R 18 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • Examples of the hydrocarbon group for R 1 to R 18 include the same examples as R c in the formula (b ′).
  • Examples of the hydrocarbon group that may contain an oxygen atom or a halogen atom in R 1 to R 18 include a group in which at least one hydrogen atom in the above-described hydrocarbon group is substituted with a group having an oxygen atom or a halogen atom, and the like Can be mentioned.
  • Examples of the group having an oxygen atom include hydroxyl group; hydroperoxy group; C 1-10 alkoxy group such as methoxy, ethoxy, propoxy, isopropyloxy, butoxy, isobutyloxy group; C 2-10 such as allyloxy group.
  • alkoxy group in R 1 to R 18 examples include C 1-10 alkoxy groups such as methoxy, ethoxy, propoxy, isopropyloxy, butoxy, isobutyloxy groups and the like.
  • alkoxy group may have include, for example, a halogen atom, a hydroxyl group, a C 1-10 alkoxy group, a C 2-10 alkenyloxy group, a C 6-14 aryloxy group, a C 1-10 Acyloxy group, mercapto group, C 1-10 alkylthio group, C 2-10 alkenylthio group, C 6-14 arylthio group, C 7-18 aralkylthio group, carboxyl group, C 1-10 alkoxycarbonyl group, C 6- 14 aryloxycarbonyl group, C 7-18 aralkyloxycarbonyl group, amino group, mono or di C 1-10 alkylamino group, C 1-10 acylamino group, epoxy group-containing group, oxetanyl group-containing group, C 1-10 And an acyl group, an oxo group, and a group in which two or more of these are bonded through a single bond or a C 1-10 al
  • X represents a single bond or a linking group.
  • the linking group include a divalent hydrocarbon group, an alkenylene group in which part or all of a carbon-carbon double bond is epoxidized, a carbonyl group (—CO—), an ether bond (—O—), Examples include an ester bond (—COO—), a carbonate group (—O—CO—O—), an amide group (—CONH—), and a group in which a plurality of these are linked.
  • Examples of the divalent hydrocarbon group include a linear or branched alkylene group having 1 to 18 carbon atoms and a divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms.
  • Examples of the linear or branched alkylene group having 1 to 18 carbon atoms include a methylene group, a methylmethylene group, a dimethylmethylene group, an ethylene group, a propylene group, and a trimethylene group.
  • Examples of the divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms include a 1,2-cyclopentylene group, a 1,3-cyclopentylene group, a cyclopentylidene group, and a 1,2-cyclohexylene group. Cycloalkylene groups (including cycloalkylidene groups) such as 1,3-cyclohexylene group, 1,4-cyclohexylene group and cyclohexylidene group.
  • alkenylene group in the alkenylene group in which part or all of the carbon-carbon double bond is epoxidized include, for example, vinylene group, propenylene group, 1-butenylene group And straight or branched alkenylene groups having 2 to 8 carbon atoms such as 2-butenylene group, butadienylene group, pentenylene group, hexenylene group, heptenylene group, octenylene group, and the like.
  • the epoxidized alkenylene group is preferably an alkenylene group in which all of the carbon-carbon double bonds are epoxidized, more preferably 2 to 4 carbon atoms in which all of the carbon-carbon double bonds are epoxidized. Alkenylene group.
  • Representative examples of the compound represented by the above formula (c) include (3,4,3 ′, 4′-diepoxy) bicyclohexyl, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ether, 1,2- Epoxy-1,2-bis (3,4-epoxycyclohexane-1-yl) ethane, 2,2-bis (3,4-epoxycyclohexane-1-yl) propane, 1,2-bis (3,4- And epoxycyclohexane-1-yl) ethane and compounds represented by the following formulas (c-1) to (c-8).
  • n 1 and n 2 each represents an integer of 1 to 30.
  • L in the following formula (c-5) is a linear or branched alkylene group having 1 to 8 carbon atoms.
  • the alicyclic epoxy compound includes an intramolecular compound such as 1,2: 8,9-diepoxy limonene represented by the following formula (c-9). Also included are compounds having an alicyclic ring and two or more epoxy groups, and one of the two or more epoxy groups being a cyclohexene oxide group.
  • the alicyclic epoxy compound further includes an alicyclic epoxy compound having three or more cyclohexene oxide groups represented by the following formulas (c-10) and (c-11), and the following formula (c-12):
  • An alicyclic epoxy compound having one cyclohexene oxide group represented by (c-15) and having no epoxy group is also included.
  • n 3 to n 8 are the same or different and represent an integer of 1 to 30, and R 19 and R 20 in the following formula (c-14) Are the same or different and represent a linear or branched alkyl group having 1 to 31 carbon atoms.
  • epoxy compound (C) of the present invention a compound having two cyclohexene oxide groups in one molecule represented by the above formula (c), particularly in terms of excellent adhesion to a substrate (for example, glass). It is preferable to contain at least, and it is particularly preferable to contain 3,4-epoxycyclohexylmethyl (3,4-epoxy) cyclohexanecarboxylate represented by the above formula (c-1).
  • an epoxy-modified siloxane compound may be contained as the epoxy compound (C).
  • epoxy-modified siloxane compound examples include epoxy-modified polyorganosilsesquioxane and epoxy-modified silicone. These can be used alone or in combination of two or more.
  • epoxy-modified polyorganosilsesquioxane examples include compounds having structural units represented by the following formulas (c-16) and (c-17) (random structure, cage structure, and ladder structure compounds). Include).
  • the epoxy-modified silicone includes a compound having a cyclic structure and a chain structure.
  • the epoxy-modified silicone having a cyclic structure is represented, for example, by the following formula (c-18).
  • the epoxy-modified silicone having a chain structure is represented by, for example, the following formula (c-19).
  • R 21 to R 37 are the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group optionally having an oxirane ring.
  • the hydrocarbon group include the same examples as R c in formula (b ′).
  • m 1 in the above formula (c-18) and m 2 in the above formula (c-19) are the same or different and are an integer of 1 or more.
  • m 1 R 26 and R 27 in (c-18) may be the same or different.
  • M 2 R 32 and R 33 in (c-19) may be the same or different.
  • At least one of R 21 to R 23 contained in polyorganosilsesquioxane, at least one of R 24 to R 29 contained in silicone having a cyclic structure, and silicone having a chain structure are included.
  • At least one of R 30 to R 37 is a hydrocarbon group having an oxirane ring (for example, a hydrocarbon group having a cyclohexene oxide group or a hydrocarbon group having a glycidyl group).
  • the content of the epoxy-modified siloxane compound is, for example, 1 to 100% by weight of the total epoxy compound contained in the monomer composition, and the upper limit is preferably 80% by weight, particularly preferably 70% by weight, and most preferably 60% by weight. %.
  • the lower limit is preferably 5% by weight, particularly preferably 10% by weight, most preferably 20% by weight.
  • the monomer composition of the present invention is a monomer composition containing at least a vinyl ether compound (A), and contains at least a vinyl ether compound (a) having a cyclic ether skeleton as the vinyl ether compound (A). At least one selected from the group consisting of a vinyl ether compound (a ′) having a hydrocarbon skeleton, a divinyl ether compound (a ′′ -1) having a cyclic hydrocarbon skeleton, an oxetane compound (B), and an epoxy compound (C).
  • the monomer composition of the present invention includes the following embodiments [1] to [6].
  • a monomer composition in which the content of the represented compound is 5% by weight or more and less than 30% by weight of the total amount of the monomer composition (hereinafter, sometimes referred to as “monomer composition (Type 1)”).
  • a monomer composition containing not less than 5% by weight and less than 30% by weight of the total amount of the composition, and containing 1,2: 8,9-diepoxylimonene as the epoxy compound (C) exceeding 40% by weight of the total amount of the monomer composition Sometimes referred to as “monomer composition (Type 3)”).
  • a monomer composition containing 10 to 85% by weight of the oxetane compound based on the total amount of the monomer composition, and 10: 40% by weight of 1,2: 8,9-diepoxy limonene as the epoxy compound (C) ( Hereinafter, it may be referred to as “monomer composition (Type 4)”.
  • % Monomer composition hereinafter sometimes referred to as “monomer composition (Type 6)”).
  • the monomer composition (Type 1) contains a vinyl ether compound (A) containing at least a compound represented by the above formula (a-1) and / or (a-2) as a cationic polymerizable monomer.
  • a vinyl ether compound (A) containing at least a compound represented by the above formula (a-1) and / or (a-2) as a cationic polymerizable monomer.
  • other vinyl ether compounds may be contained, but the above formula (occupying all vinyl ether compounds contained in the monomer composition)
  • the proportion of the compound represented by a-1) and / or (a-2) is, for example, 50% by weight or more, preferably 70% by weight or more, particularly preferably 85% by weight or more.
  • the content of the compound represented by the above formula (a-1) and / or (a-2) (the total amount when two types are included) is the total amount of the monomer composition (the total cation contained in the monomer composition).
  • the polymerizable monomer is 5% by weight or more and less than 30% by weight, preferably 10% by weight or more and less than 30% by weight, particularly preferably 10 to 25% by weight.
  • the content of the compound represented by the formula (a-1) and / or (a-2) exceeds the above range, the curable composition obtained by blending the monomer composition with a photoacid generator is In the presence of moisture, the curing rate is remarkably reduced, and curing may be difficult.
  • the content of the compound represented by the formula (a-1) and / or (a-2) is below the above range, it is not preferable because quick curability cannot be obtained.
  • the monomer composition (Type 1) contains at least 3-ethyl-3-[(2-ethylhexyloxy) methyl] oxetane as the oxetane compound (B).
  • other oxetane compounds may be contained, but the ratio of 3-ethyl-3-[(2-ethylhexyloxy) methyl] oxetane to the total oxetane compounds contained in the monomer composition is, for example, 50 % By weight or more, preferably 70% by weight or more, particularly preferably 85% by weight or more.
  • the content of 3-ethyl-3-[(2-ethylhexyloxy) methyl] oxetane is, for example, 5 to 80% by weight of the total amount of the monomer composition (total cationic polymerizable monomers contained in the monomer composition), preferably 10 to 70% by weight, particularly preferably 20 to 60% by weight.
  • a curable composition obtained by blending a photoacid generator with a monomer composition containing 3-ethyl-3-[(2-ethylhexyloxy) methyl] oxetane in the above range can be obtained in the presence of moisture when irradiated with ultraviolet rays. It can be cured quickly to form a cured product having excellent substrate adhesion.
  • the monomer composition (Type 1) preferably contains an epoxy compound (C) containing an epoxy compound having a cyclohexene oxide group, and the content of the epoxy compound (C) is the total amount of the monomer composition (included in the monomer composition). For example, 5 to 80% by weight, preferably 10 to 70% by weight, particularly preferably 20 to 60% by weight of the total cationically polymerizable monomer).
  • the curable composition obtained by blending the photoacid generator with the monomer composition containing the epoxy compound (C) in the above range is rapidly cured even in the presence of moisture when irradiated with ultraviolet rays, and has excellent substrate adhesion. A cured product having properties can be formed.
  • the monomer composition (Type 2) contains a vinyl ether compound (A) containing at least a compound represented by the above formula (a-1) and / or (a-2) as a cationic polymerizable monomer.
  • the monomer composition (Type 2) may contain other vinyl ether compounds in addition to the compounds represented by the above formulas (a-1) and / or (a-2), but is included in the monomer composition.
  • the proportion of the compound represented by the above formula (a-1) and / or (a-2) in the total vinyl ether compound is, for example, 30% by weight or more, preferably 50% by weight or more, particularly preferably 80% by weight or more. It is.
  • the content of the compound represented by the formula (a-1) and / or (a-2) (the total amount when two compounds are contained) is the total amount of the monomer composition (the total cationic curable monomer contained in the monomer composition) For example, about 5 wt% or more and less than 30 wt%, preferably 5 to 25 wt%, particularly preferably 10 to 25 wt%.
  • the curable composition obtained by blending the photoacid generator with the monomer composition containing the compound represented by the formula (a-1) and / or (a-2) in the above range is prompt even in the presence of moisture. Can be cured to obtain a cured product having excellent substrate adhesion.
  • the content of the total vinyl ether compound (A) including the compound represented by the formula (a-1) and / or (a-2) is the total amount of the monomer composition (the total cationic curable monomer included in the monomer composition).
  • the total amount of the monomer composition is the total amount of the monomer composition (the total cationic curable monomer included in the monomer composition).
  • the total amount of the monomer composition is the total amount of the monomer composition.
  • the total cationic curable monomer included in the monomer composition is the total amount of the monomer composition.
  • the total cationic curable monomer included in the monomer composition is the total amount of the monomer composition.
  • the total cationic curable monomer included in the monomer composition is the total amount of the monomer composition.
  • about 5 to 80% by weight preferably 10 to 70% by weight, particularly preferably 20 to 60% by weight.
  • the monomer composition (Type 2) contains at least a compound represented by the formula (b ′) as the oxetane compound (B).
  • a compound represented by the formula (b ′) 3-allyloxyoxetane and / or 3- (2-ethylhexyloxy) oxetane is particularly preferable.
  • the compound represented by the above formula (b ′) in all oxetane compounds contained in the monomer composition is, for example, 10% by weight or more, preferably 40% by weight or more, Especially preferably, it is 70 weight% or more.
  • the proportion of the compound represented by the formula (b ′) is below the above range, that is, when the proportion of the other oxetane compound is above the above range, the curability in the presence of moisture tends to be lowered.
  • the content of the total oxetane compound (B) including the compound represented by the formula (b ′) is, for example, about 10 to 70% by weight of the total amount of the monomer composition (total cationic curable monomers included in the monomer composition), preferably Is 20 to 70% by weight, particularly preferably 30 to 60% by weight.
  • the content of the compound represented by the formula (b ′) is, for example, 5 to 90 of the total amount of the monomer composition (the total cation-curable monomers contained in the monomer composition). It is about wt%.
  • the lower limit is preferably 20% by weight, more preferably 30% by weight, particularly preferably 40% by weight, and most preferably 45% by weight.
  • the upper limit is preferably 80% by weight, particularly preferably 75% by weight in terms of excellent curability in the presence of moisture, most preferably 70% by weight, and more preferably 60% by weight.
  • the curable composition obtained by blending the photoacid generator with the monomer composition containing the compound represented by the formula (b ′) in the above range is rapidly cured even in the presence of moisture, and has an excellent base material.
  • a cured product having adhesiveness can be formed.
  • the monomer composition (Type 2) may contain an epoxy compound (C) containing an epoxy compound having a cyclohexene oxide group, and the content of the epoxy compound (C) (particularly, the alicyclic epoxy compound) is The amount is, for example, 5 to 80% by weight, preferably 10 to 70% by weight, particularly preferably 20 to 60% by weight, based on the total amount of the monomer composition (total cationic curable monomers contained in the monomer composition).
  • the epoxy compound (C) is contained in the above range, it is preferable in that a cured product can be quickly cured even in the presence of moisture and excellent in substrate adhesion.
  • the total content of the vinyl ether compound (A) and the epoxy compound (C) in the total amount of the monomer composition is, for example, 5 to 90% by weight, preferably 10 to 80%. % By weight, particularly preferably 20 to 80% by weight, most preferably 40 to 75% by weight.
  • the vinyl ether compound (A) and the epoxy compound (C) are contained in the above range, it is preferable in that a cured product having excellent substrate adhesion can be obtained by curing quickly even in the presence of moisture.
  • the monomer composition (Type 3) contains a vinyl ether compound (A) containing at least a compound represented by the above formula (a-1) and / or (a-2) as a cationic polymerizable monomer.
  • the content of the compound represented by the formula (a-1) and / or (a-2) (the total amount when two types are contained) is 5 of the total amount of the monomer composition (the total monomers contained in the monomer composition). % By weight or more and less than 30% by weight, preferably 10% by weight or more and less than 30% by weight, particularly preferably 10 to 25% by weight.
  • the content of the compound represented by the formula (a-1) and / or (a-2) exceeds the above range, the curable composition obtained by blending the monomer composition with a photoacid generator is In the presence of moisture, the curing rate is remarkably reduced, and it may be difficult to cure.
  • the content of the compound represented by the formula (a-1) and / or (a-2) is below the above range, it is not preferable because quick curability cannot be obtained.
  • the monomer composition (Type 3) may contain one or more other vinyl ether compounds in addition to the compound represented by the above formula (a-1) and / or (a-2),
  • the content of the other vinyl ether compound is, for example, about 1 to 50% by weight, preferably 5 to 40% by weight, particularly preferably 10 to 30% by weight, based on the total amount of the monomer composition (total monomers contained in the monomer composition).
  • a vinyl ether compound (a ′) having a chain hydrocarbon skeleton for example, a compound represented by the formula (a ′), particularly a divinyl ether compound] and / or a vinyl ether compound having a cyclic hydrocarbon skeleton (a ′′) )
  • a compound represented by the formula (a ′′), particularly a divinyl ether compound is preferable in that a cured product having fast curability and excellent toughness can be formed.
  • the sum of the contents of the vinyl ether compound (a ′) having a chain hydrocarbon skeleton and the vinyl ether compound (a ′′) having a cyclic hydrocarbon skeleton is, for example, 10 to 70% by weight of the total vinyl ether compound contained in the monomer composition. %, Preferably 20 to 60% by weight, particularly preferably 30 to 50% by weight.
  • the monomer composition (Type 3) may or may not contain the oxetane compound (B) as a monomer.
  • the oxetane compound (B) may be either a monofunctional oxetane compound or a polyfunctional oxetane compound.
  • the content of the oxetane compound (B) is about 50% by weight or less, preferably 5 to 50% by weight, particularly preferably 5 to 20% by weight, based on the total amount of the monomer composition (total monomers contained in the monomer composition). is there.
  • the monomer composition (Type ⁇ 3) contains 1,2: 8,9-diepoxy limonene in an amount exceeding 40 wt% (preferably 40 wt%) of the total amount of monomer composition (total monomers contained in the monomer composition). More than 80% by weight, particularly preferably more than 40% by weight and 60% by weight or less, most preferably 45 to 60% by weight).
  • the monomer composition (Type 3) may contain other epoxy compounds in addition to 1,2: 8,9-diepoxy limonene, and the content of the other epoxy compounds is the total amount of the monomer composition (monomer composition). For example, about 1 to 50% by weight, preferably 5 to 40% by weight, and particularly preferably 10 to 30% by weight. When other epoxy compounds are contained in the above range, an effect of improving adhesion to a substrate and curability can be obtained.
  • the monomer composition (Type 4) contains a vinyl ether compound (A) containing at least a compound represented by the above formula (a-1) and / or (a-2) as a cationic polymerizable monomer.
  • the content of the compound represented by the formula (a-1) and / or (a-2) (the total amount when two types are contained) is 5 of the total amount of the monomer composition (the total monomers contained in the monomer composition). % By weight or more and less than 30% by weight, preferably 10% by weight or more and less than 30% by weight, particularly preferably 10 to 25% by weight.
  • the content of the compound represented by the formula (a-1) and / or (a-2) exceeds the above range, the curable composition obtained by blending the monomer composition with a photoacid generator is In the presence of moisture, the curing rate is remarkably reduced, and it may be difficult to cure.
  • the content of the compound represented by the formula (a-1) and / or (a-2) is below the above range, it is not preferable because quick curability cannot be obtained.
  • the monomer composition (Type IV 4) may contain one or more other vinyl ether compounds in addition to the compound represented by the above formula (a-1) and / or (a-2),
  • the content of the other vinyl ether compound is, for example, about 1 to 50% by weight, preferably 5 to 40% by weight, particularly preferably 10 to 30% by weight, based on the total amount of the monomer composition (total monomers contained in the monomer composition).
  • a vinyl ether compound (a ′) having a chain hydrocarbon skeleton for example, a compound represented by the formula (a ′), particularly a divinyl ether compound] and / or a vinyl ether compound having a cyclic hydrocarbon skeleton (a ′′) )
  • a compound represented by the formula (a ′′), particularly a divinyl ether compound is preferable in that a cured product having fast curability and excellent toughness can be formed.
  • the sum of the contents of the vinyl ether compound (a ′) having a chain hydrocarbon skeleton and the vinyl ether compound (a ′′) having a cyclic hydrocarbon skeleton is, for example, 10 to 70% by weight of the total vinyl ether compound contained in the monomer composition. %, Preferably 20 to 60% by weight, particularly preferably 30 to 50% by weight.
  • the monomer composition (Type IV 4) is a monofunctional oxetane compound containing 3-ethyl-3-[(2-ethylhexyloxy) methyl] oxetane as the oxetane compound (B) (total amount contained in the monomer composition). 10 to 85% by weight (preferably 10 to 60% by weight, particularly preferably 20 to 40% by weight) of the monomer.
  • the content of 3-ethyl-3-[(2-ethylhexyloxy) methyl] oxetane is, for example, about 5 to 50% by weight of the total amount of the monomer composition (total monomers contained in the monomer composition), and preferably 10 to It is 40% by weight, particularly preferably 20 to 40% by weight.
  • 3-ethyl-3-[(2-ethylhexyloxy) methyl] oxetane is contained in the above range, the effect of improving the adhesion to the substrate can be obtained.
  • the monomer composition (Type IV 4) contains 1,2: 8,9-diepoxy limonene in an amount of 10 to 40% by weight (preferably 20 to 30% by weight) of the total amount of the monomer composition (total monomers contained in the monomer composition). )contains.
  • the monomer composition (Type IV 4) may contain other epoxy compounds in addition to 1,2: 8,9-diepoxy limonene, and the content of the other epoxy compounds is the total amount of the monomer composition (monomer composition). For example, about 1 to 50% by weight, preferably 5 to 40% by weight, and particularly preferably 10 to 30% by weight. When other epoxy compounds are contained in the above range, an effect of improving adhesion to a substrate and curability can be obtained.
  • the sum of the contents of 1,2: 8,9-diepoxylimonene and 3-ethyl-3-[(2-ethylhexyloxy) methyl] oxetane is the total amount of monomer composition (total amount contained in the monomer composition).
  • Monomer is preferably 50% by weight or more, particularly preferably 50 to 80% by weight, and most preferably 50 to 60% by weight.
  • the monomer composition (Type 5) contains a compound represented by (a-1) and / or (a-2) and a vinyl ether compound (a ′′) having a cyclic hydrocarbon skeleton.
  • the content of the compound represented by (a-1) and / or (a-2) in the monomer composition (Type 5) is the total amount of the monomer composition (total cationic polymerizable monomer contained in the monomer composition). For example, it is about 5 wt% or more and less than 30 wt%, preferably 10 wt% or more and less than 30 wt%, particularly preferably 10 to 25 wt%.
  • blending a photo-acid generator with this monomer composition is based on a water
  • the content of the compound represented by the formula (a-1) and / or (a-2) is too small, it is difficult to obtain fast curability.
  • the total content of the compound represented by the formula (a-1) and / or (a-2) and the divinyl ether compound (a "-1) having a cyclic hydrocarbon skeleton is the total amount of the monomer composition (monomer composition 10 to 80% by weight, preferably 20 to 80% by weight, particularly preferably 30 to 70% by weight, and most preferably 30 to 60% by weight of the total cation polymerizable monomer contained in the formula (a-1). ) And / or (a-2) and a divinyl ether compound (a "-1) having a cyclic hydrocarbon skeleton, if the total content exceeds the above range, curing with excellent substrate adhesion There is a tendency that things are difficult to obtain.
  • Ratio of the content of the compound represented by the formula (a-1) and / or (a-2) and the divinyl ether compound (a "-1) having a cyclic hydrocarbon skeleton Is, for example, about 90:10 to 10:90, preferably 80:20 to 20:80, more preferably 75:25 to 30:70, and particularly preferably 75:25 to 40:60.
  • 1) and / or the compound represented by (a-2) and the divinyl ether compound (a "-1) having a cyclic hydrocarbon skeleton are blended in the above proportion, thereby having fast curability and moisture.
  • a monomer composition capable of suppressing the inhibition of curing due to the above can be obtained.
  • the monomer composition (Type 5) may be used in addition to the compound represented by the above formula (a-1) and / or (a-2) and the divinyl ether compound (a "-1) having a cyclic hydrocarbon skeleton.
  • the total content of the divinyl ether compound in the total vinyl ether compound contained in the monomer composition is, for example, 50% by weight or more, preferably 70% by weight or more, and particularly preferably 85%. % By weight or more.
  • the monomer composition (Type 5) contains at least a monofunctional oxetane compound as the oxetane compound (B).
  • the content of the monofunctional oxetane compound is, for example, about 10 to 70% by weight, preferably 20 to 60% by weight, particularly preferably 20 to 50% by weight of the total amount of the monomer composition (total cationic polymerizable monomers contained in the monomer composition). %.
  • the curable composition obtained by blending a monomeric composition containing a monofunctional oxetane compound in the above range with a photoacid generator cures rapidly in the presence of moisture when irradiated with ultraviolet rays, and exhibits excellent substrate adhesion. A cured product having can be obtained.
  • the monomer composition (Type 5) is composed of a monofunctional oxetane compound and a polyfunctional oxetane compound [eg, 1,4-bis ([(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxy] methyl) benzene, bis [(3-ethyloxetane -3-yl) methyl] ether and the like], but the proportion of the monofunctional oxetane compound in the total oxetane compound contained in the monomer composition is, for example, 50% by weight or more, preferably 70% by weight or more. Particularly preferred is 85% by weight or more.
  • the monomer composition (Type 5) preferably contains an epoxy compound (C) containing an epoxy compound having a cyclohexene oxide group, and the content of the epoxy compound (C) is the total amount of the monomer composition (included in the monomer composition). 5 to 80% by weight, preferably 10 to 70% by weight, particularly preferably 20 to 60% by weight, most preferably 20 to 50% by weight, and more preferably 20 to 40% by weight of the total cationic polymerizable monomer). is there.
  • the curable composition obtained by blending the photoacid generator with the monomer composition containing the epoxy compound (C) in the above range is rapidly cured even in the presence of moisture when irradiated with ultraviolet rays, and has excellent substrate adhesion. A cured product having properties can be obtained.
  • the total content of the monofunctional oxetane compound and the epoxy compound (C) is, for example, about 15 to 80% by weight, preferably 30 to 70% by weight, based on the total amount of the monomer composition (total cationic polymerizable monomers contained in the monomer composition). %, Particularly preferably 40 to 70% by weight, most preferably 45 to 70% by weight.
  • the monomer composition (Type 6) is a monofunctional monomer (particularly a monofunctional cationically polymerizable monomer) in an amount of 20 to 70% by weight, preferably 20 to 60% by weight, based on the total amount of the monomer composition (total monomers contained in the monomer composition). %, Particularly preferably 20 to 50% by weight. Therefore, the curable composition containing the monomer composition and the photoacid generator can suppress shrinkage during the curing process, and a cured product having excellent substrate adhesion can be obtained.
  • the sum of the contents of the vinyl ether compound (a) having a cyclic ether skeleton and the vinyl ether compound (a ′) having a chain hydrocarbon skeleton contained in the vinyl ether compound (A) is the total amount of the monomer composition (included in the monomer composition). 10 to 40% by weight of the total monomer), preferably 15 to 40% by weight, particularly preferably 20 to 40% by weight.
  • the content of the vinyl ether compound (a) having a cyclic ether skeleton is 5% by weight or more and 30% by weight of the total amount of the monomer composition (total monomers contained in the monomer composition). It is less than 10%, preferably 10 to 30% by weight, particularly preferably 15 to 30% by weight. Since the monomer composition (Type 6) contains the vinyl ether compound (a) having a cyclic ether skeleton within the above range, the curable composition obtained by adding a photoacid generator to the monomer composition is cured by moisture. Fast curability can be exhibited while inhibiting inhibition.
  • the vinyl ether compound (a) having a cyclic ether skeleton is preferably a compound represented by the formula (a-1) and / or (a-2).
  • the content of the vinyl ether compound (a ′) having a chain hydrocarbon skeleton is, for example, about 5 to 35% by weight of the total amount of the monomer composition (the total monomers contained in the monomer composition). And preferably 5 to 25% by weight, particularly preferably 10 to 20% by weight.
  • the ratio of the content of the vinyl ether compound (a) having a cyclic ether skeleton and the vinyl ether compound (a ′) having a chain hydrocarbon skeleton is, for example, about 10:90 to 90:10 , Preferably 30:70 to 80:20, particularly preferably 50:50 to 70:30.
  • the content of the vinyl ether compound (a) having a cyclic ether skeleton is excessive, it tends to be difficult to suppress the inhibition of curing due to moisture.
  • the content of the vinyl ether compound (a ′) having a chain hydrocarbon skeleton is excessive, it tends to be difficult to obtain fast curability.
  • the monomer composition (Type 6) may contain other vinyl ether compounds in addition to the vinyl ether compound (a) having a cyclic ether skeleton and the vinyl ether compound (a ') having a chain hydrocarbon skeleton.
  • the monomer composition (Type 6) preferably further contains a vinyl ether compound (a ′′) having a cyclic hydrocarbon skeleton as the vinyl ether compound (A), and the vinyl ether compound (a ′′) having a cyclic hydrocarbon skeleton.
  • the content of is, for example, about 1 to 50% by weight, preferably 5 to 50% by weight, particularly preferably 5 to 30% by weight, most preferably 5 to 5% by weight of the total amount of the monomer composition (total monomers contained in the monomer composition). 20% by weight.
  • the monomer composition (Type 6) is other than the vinyl ether compound (a) having a cyclic ether skeleton, the vinyl ether compound (a ′) having a chain hydrocarbon skeleton, and the vinyl ether compound (a ′′) having a cyclic hydrocarbon skeleton.
  • a vinyl ether compound may be contained, the content of other vinyl ether compounds is about 20% or less, preferably 10% by weight or less of the total vinyl ether compounds contained in the monomer composition.
  • the monomer composition (Type 6) contains the oxetane compound (B) in terms of improving adhesion to various base materials and imparting toughness to the resulting cured product.
  • the content of the oxetane compound (B) is, for example, about 5 to 80% by weight, preferably 10 to 70% by weight, particularly preferably 15 to 60% by weight, based on the total amount of the monomer composition (total monomers contained in the monomer composition). is there.
  • the curable composition obtained by blending the photoacid generator with the monomer composition containing the oxetane compound (B) in the above range can exhibit rapid curability while suppressing the inhibition of curing due to moisture.
  • the monomer composition (Type 6) preferably further contains an epoxy compound (C), and the content of the epoxy compound (C) is, for example, 5 to 5 of the total amount of the monomer composition (total monomers contained in the monomer composition). About 80% by weight, preferably 10 to 60% by weight, particularly preferably 10 to 40% by weight.
  • the cured product of the curable composition obtained by blending the photoacid generator with the monomer composition containing the epoxy compound (C) in the above range has excellent substrate adhesion.
  • the monomer composition (Type 1-6) may contain other monomers in addition to the above compounds, but the content of other monomers is the total amount of the monomer composition (all monomers contained in the monomer composition). It is about 30% by weight or less, preferably 20% by weight or less.
  • the monomer composition of the present invention comprises the above-mentioned vinyl ether compound (A), oxetane compound (B), epoxy compound (C), and other cationically polymerizable monomers as necessary, a self-revolving agitation deaerator, homogenizer , A planetary mixer, a three-roll mill, a bead mill, and the like. Each component may be mixed simultaneously or sequentially.
  • the curable composition of this invention contains the said monomer composition and a photo-acid generator.
  • a photoacid generator is a compound that generates an acid upon irradiation with light, and is also referred to as a photocationic polymerization initiator.
  • the photoacid generator is composed of a cation moiety that absorbs light and an anion moiety that is a source of acid.
  • Oxonium salt compounds, ammonium salt compounds, bromine salt compounds, metallocene complexes, iron arene complexes, and the like. These can be used alone or in combination of two or more.
  • Examples of the cation moiety of the sulfonium salt compound include (4-hydroxyphenyl) methylbenzylsulfonium ion, triphenylsulfonium ion, diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium ion, and tri-p-tolylsulfonium ion.
  • An arylsulfonium ion (especially a triarylsulfonium ion) can be mentioned.
  • anion portion of the photoacid generator examples include BF 4 ⁇ , CF 3 SO 3 ⁇ , CH 3 C 6 H 4 SO 3 ⁇ , CH 3 (NO 2 ) C 6 H 4 SO 3 ⁇ , B (C 6 F 5 ) 4 ⁇ , PF 6 ⁇ , [(Rf) t PF 6 ⁇ t ] ⁇ (Rf: an alkyl group in which 80% or more of hydrogen atoms are substituted with fluorine atoms, t: an integer of 1 to 5), AsF Examples thereof include 6 ⁇ , SbF 6 ⁇ , SbF 5 OH ⁇ , halogen anion, sulfonic acid anion, carboxylic acid anion, and sulfate anion.
  • the compound represented by a following formula can be mentioned, for example.
  • the content of the monomer composition is, for example, about 50 to 99.9% by weight, preferably 70 to 99.5% by weight of the total amount (100% by weight) of the curable composition of the present invention.
  • the content of the photoacid generator in the curable composition of the present invention is, for example, about 0.1 to 20 parts by weight, preferably 0.5 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the monomer composition. .
  • the curable composition of the present invention is solvent-free, that is, does not contain a solvent, can improve drying properties, can be applied to a substrate that is easily deteriorated by a solvent, and a solvent.
  • the content of the solvent is preferably 10% by weight or less, preferably 5% by weight or less, particularly preferably 1% by weight of the total amount (100% by weight) of the curable composition. It is as follows.
  • the curable composition of the present invention may contain other components as required in addition to the monomer composition and the photoacid generator.
  • a well-known and conventional sensitizer for example, acridine compound, benzoflavin, etc.
  • sensitization aids for example, antioxidants, stabilizers (eg amines) and the like.
  • a photoacid generator may contain a sensitizer and, if necessary, a sensitization aid.
  • these contents are the total amount of the curable composition (100% by weight), For example, it is about 0.05 to 10% by weight, preferably 0.1 to 5% by weight.
  • the surface tension (at 25 ° C. and 1 atm) of the curable composition of the present invention is, for example, about 10 to 50 mN / m, preferably 15 to 40 mN / m, particularly preferably 15 to 30 mN / m.
  • the viscosity [at 25 ° C., shear rate 10 (1 / s)] of the curable composition of the present invention is, for example, about 1 to 1000 mPa ⁇ s, preferably 3 to 500 mPa ⁇ s, particularly preferably 5 to 100 mPa ⁇ s. s, most preferably 5 to 50 mPa ⁇ s, more preferably 8 to 30 mPa ⁇ s. Therefore, the curable composition of this invention is excellent in discharge property or a filling property.
  • the curable composition of the present invention can be rapidly cured by irradiation with ultraviolet rays even in the presence of oxygen or moisture to form a cured product. Therefore, when used in an ultraviolet curable ink jet ink, it is possible to prevent the occurrence of bleeding and odor and to form an ink film excellent in print quality.
  • the ultraviolet light source may be any light source that can generate an acid in the curable composition when irradiated with light.
  • mercury such as UV-LED, low, medium, and high pressure mercury lamps.
  • the ultraviolet irradiation amount integrated light amount is, for example, about 10 to 1000 mJ / cm 2 .
  • the curable composition of the present invention may be further subjected to heat treatment after being irradiated with ultraviolet rays.
  • heat treatment By performing the heat treatment, the degree of curing can be further improved.
  • the heating temperature is about 40 to 200 ° C., and the heating time is about 1 minute to 15 hours.
  • the degree of curing can also be improved by leaving it to stand at room temperature (20 ° C.) for about 1 to 48 hours after irradiation with ultraviolet rays.
  • the curable composition of the present invention can be applied to a wide range of substrates [eg, glass, metal (eg, aluminum foil, copper foil, etc.), plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate (PET), vinyl chloride resin, polycarbonate). Etc.), natural rubber, butyl rubber, foam (eg, polyurethane, polychloroprene rubber, etc.), wood, woven fabric, non-woven fabric, cloth, paper (eg, fine paper, glassine paper, craft paper, Japanese paper, etc.), silicon wafer, A cured product having excellent adhesion to ceramics and the like, and composites thereof can be formed.
  • substrates eg, glass, metal (eg, aluminum foil, copper foil, etc.), plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate (PET), vinyl chloride resin, polycarbonate). Etc.), natural rubber, butyl rubber, foam (eg, polyurethane, polychloroprene
  • the curable composition of the present invention has the above-mentioned properties, ultraviolet and ink-jet ink materials, paints, adhesives, sealing materials, civil engineering and building materials, laminates and other electrical and electronic parts, photoresists, solder resists, multilayers It can be suitably used as an interlayer constituting material for a wiring board, an insulating material, a repair material for a concrete structure, a casting material, a sealant, an optical modeling material, an optical material such as a lens or an optical waveguide, and the like.
  • the curable composition of the present invention is particularly preferably used as an ultraviolet curable inkjet ink material (for example, an ultraviolet curable inkjet transparent ink).
  • the ultraviolet curable ink-jet transparent ink comprising the curable composition of the present invention contains various pigments and / or dye inks (pigment inks, dye inks, or pigments and dyes) by adding pigments and / or dyes. Ink).
  • primer ink and varnish coating ink (Because it is applied before or after applying pigment and / or dye ink, the pigment and / or dye ink can be easily fixed on the surface of the substrate, and the ink film has high color and high image quality.
  • the ink can be used as an ink that can prevent the ink from falling through and can improve weather resistance and water resistance.
  • any pigment that is generally known as a pigment and can be dispersed in the curable composition can be used without particular limitation.
  • the average particle diameter of the pigment is preferably about 300 nm or less from the viewpoint of excellent ejection properties, ink flying properties, and print reproducibility.
  • a pigment can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
  • the pigment may have a magnetic property, a fluorescent property, a conductive property, a dielectric property, etc. in addition to the coloring and coloring properties. In this case, various functions can be given to the image.
  • Usable pigments include, for example, earthen pigments (eg, ocher, amber, etc.), lapis lazuli, azurite, chalk, pepper, lead white, vermilion, ultramarine, viridan, cadmium red, carbon pigments (eg, carbon black, Carbon refined, carbon nanotubes, etc.), metal oxide pigments (eg, iron black, cobalt blue, zinc oxide, titanium oxide, chromium oxide, iron oxide, etc.), metal sulfide pigments (eg, zinc sulfide, etc.), metal sulfuric acid Inorganic pigments such as salts, metal carbonates (eg, calcium carbonate, magnesium carbonate, etc.), metal silicates, metal phosphates, metal powders (eg, aluminum powder, bronze powder, zinc powder, etc.); insoluble azo pigments ( For example, monoazo yellow, monoazo red, monoazo violet, disazo yellow, Suazo orange, pyrazolone pigments, etc.), soluble azo pigments (eg
  • dye examples include nitroaniline, phenyl monoazo, pyridone azo, quinophthalone, styryl, anthraquinone, naphthalimide azo, benzothiazolyl azo, phenyl disazo, thiazolyl azo dyes, and the like. Can do.
  • the content of the pigment and / or dye in the ultraviolet curable ink-jet ink of the present invention is, for example, 0.5 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the curable composition. Degree, preferably 1 to 10 parts by weight.
  • the ultraviolet curable ink-jet ink of the present invention may contain a dispersant in order to improve the dispersibility of the pigment or dye.
  • a dispersant include nonionic surfactants, ionic surfactants, charging agents, polymer dispersants (for example, trade names “Solsperse 24000”, “Solsperse 32000”, and more, manufactured by Abyssia). Can do. These can be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the dispersant is, for example, about 1 to 50 parts by weight, preferably 3 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the pigment and / or dye.
  • the ultraviolet curable ink-jet ink of the present invention contains the above curable composition, it is extremely high in an air atmosphere without particularly limiting the humidity condition and the printed material and suppressing the generation of odor.
  • a fine ink film can be formed at high speed.
  • Example (1-1) Mixing 25 parts by weight of ONB-DVE, 25 parts by weight of Celoxide 2021P, 50 parts by weight of OXT-212, and 5 parts by weight of a photoacid generator, a curable composition [surface tension (at 25 ° C. under 1 atm): 19.5 mN / m, viscosity (at 25 ° C., shear rate 10 (1 / s)): 12 mPa ⁇ s].
  • Example (2-1) ALOX 50 parts by weight, ONB-DVE 25 parts by weight, Celoxide 2021P 25 parts by weight, and photoacid generator 5 parts by weight were mixed to obtain a curable composition (surface tension (at 25 ° C. under 1 atm): 19. 6 mN / m, viscosity [at 25 ° C., shear rate 10 (1 / s): 15.1 mPa ⁇ s) was obtained.
  • Example (3-1) Mixing 25 parts by weight of ONB-DVE, 25 parts by weight of 4CH-DVE, 50 parts by weight of Celoxide 3000, and 5 parts by weight of a photoacid generator, a curable composition [surface tension (at 25 ° C. under 1 atm): 24.1 mN / m, viscosity (at 25 ° C., shear rate 10 (1 / s)): 15.5 mPa ⁇ s].
  • Example (4-1) 25 parts by weight of ONB-DVE, 25 parts by weight of 4CH-DVE, 20 parts by weight of Celoxide 2021P, 30 parts by weight of OXT-212, and 5 parts by weight of a photoacid generator were mixed to obtain a curable composition [surface tension (25 ° C. 1 atm): 20.1 mN / m, viscosity (at 25 ° C., shear rate 10 (1 / s)): 14 mPa ⁇ s].
  • Example (5-1) 25 parts by weight of ISB-DVE, 15 parts by weight of TEGDVE, 40 parts by weight of OXT-212, 20 parts by weight of Celoxide 2021P, and 5 parts by weight of a photoacid generator were mixed to obtain a curable composition [surface tension (25 ° C., 1 ° (At atmospheric pressure): 21.1 mN / m, viscosity (at 25 ° C., shear rate 10 (1 / s)): 14 mPa ⁇ s].
  • surface tension 25 ° C., 1 ° (At atmospheric pressure): 21.1 mN / m
  • viscosity at 25 ° C., shear rate 10 (1 / s)
  • the obtained curable composition was applied to a substrate (glass plate or PET plate) (coating thickness: 5 ⁇ m), a mercury xenon lamp was used as a light source, and ultraviolet rays were irradiated until tack disappeared.
  • a glass plate laminate and a coating film / PET plate laminate were obtained.
  • a sample having 100 pieces of 1 mm square sections is made by placing 11 cuts in a grid pattern at intervals of 1 mm on the coating film surface of the obtained laminate, and cellophane tape (trade name) “Cellotape (registered trademark)” manufactured by Nichiban Co., Ltd., 24 mm wide) was pasted together by reciprocating a 2 kg roller, and in a 20 ° C.
  • the adhesion was evaluated according to the following criteria from the number of sections that were peeled off and remained without peeling (based on JIS K-5400, 1990). Evaluation criteria of substrate adhesion The number of pieces peeled from the substrate is 0 or more and 15 or less: the substrate adhesion is very good ( ⁇ ) The number of pieces peeled from the substrate is 16 or more and 30 or less: Good substrate adhesion ( ⁇ ) The number of sections peeled from the substrate is 31 or more and 100 or less: poor substrate adhesion ( ⁇ )
  • 4CH-DVE cyclohexanediol divinyl ether, trade name" 4CH-DVE ", manufactured by Nippon Carbide Industries ( CHDMDVE: cyclohexane dimethanol divinyl ether, trade name “CHDMDVE”, Nippon Carbide Industries Co., Ltd.
  • TCDDVE tricyclodecane dimethanol divinyl ether
  • HBisF-DVE hydrogenated bisphenol F type divinyl ether
  • HBisA-DVE hydrogenated Bisphenol A divinyl A
  • Tell HBP-DVE hydrogenated biphenyl divinyl ether
  • CHVE cyclohexyl vinyl ether, trade name “CHVE”, manufactured by Nippon Carbide Industries Co., Ltd.
  • 2-EHVE 2-ethylhexyl vinyl ether, trade name “EHVE”, manufactured by Nippon Carbide Industries Co., Ltd.
  • ⁇ Epoxy compound> Celoxide 2021P: 3,4-epoxycyclohexylmethyl (3,4-epoxy) cyclohexanecarboxylate, trade name “Celoxide 2021P”, manufactured by Daicel Corporation Celoxide 3000: 1, 2: 8,9-diepoxy limonene, trade name “Celoxide 3000”, manufactured by Daicel Corporation
  • E-PS Epoxy hexahydrophthalate di-2-ethylhexyl, trade name “Sanso Sizer E-PS”, Shin Nippon Rika Co., Ltd.
  • X-22-163 Epoxy-modified silicone at both ends, epoxy group equivalent: 200 g / mol, trade name“ X-22-163 ”, manufactured by Shin-Etsu Chemical KF-105 : Epoxy-modified silicone at both ends, epoxy group equivalent: 490 g / mol, trade name “KF-105”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
  • OXT-212 3-ethyl-3-[(2-ethylhexyloxy) methyl] oxetane, trade name “Aron Oxetane OXT-212”, manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • OXT-221 Bis [(3-ethyloxetane-3 -Yl) methyl] ether, trade name "Aron Oxetane OXT-221", manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • ALOX 3-allyloxyoxetane
  • EHOX 3- (2-ethylhexyloxy) oxetane ⁇ photoacid generator>
  • the ultraviolet curable ink-jet ink containing the monomer composition of the present invention By using the ultraviolet curable ink-jet ink containing the monomer composition of the present invention, it is possible to achieve extremely high definition in an air atmosphere without particularly limiting humidity conditions and printing materials and suppressing the generation of odors. An ink film can be formed at high speed. Therefore, the ultraviolet curable inkjet ink containing the monomer composition of the present invention can be suitably used in the industrial printing field.

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Abstract

 速硬化性を有し、酸素や水分の存在下でも速やかに硬化して、幅広い基材に対して優れた密着性を有する硬化物を形成することができるモノマー組成物を提供する。 本発明のモノマー組成物は、ビニルエーテル化合物(A)を少なくとも含有するモノマー組成物であって、前記ビニルエーテル化合物(A)として環状エーテル骨格を有するビニルエーテル化合物(a)を少なくとも含有し、更に、鎖式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a')、環式炭化水素骨格を有するジビニルエーテル化合物(a"-1)、オキセタン化合物(B)、及びエポキシ化合物(C)からなる群より選択される少なくとも1種の化合物を含有する。

Description

モノマー組成物、及びそれを含む硬化性組成物
 本発明は、モノマー組成物及びそれを含む硬化性組成物に関する。前記硬化性組成物は紫外線硬化型インクジェット用インクに好適に使用される。本願は、2014年6月27日に日本に出願した、特願2014-133053号、特願2014-133055号、特願2014-133056号、特願2014-133058号、及び特願2014-133059号の優先権を主張し、その内容をここに援用する。
 インク小滴を記録媒体に飛翔させ記録ドットを形成することにより印字を行うインクジェット記録法は、原版が不要なため多品種を少量ずつ印刷する用途に好適に使用される。このインクジェット記録法に使用されるインクジェット用インクとしては、カチオン硬化型インクとラジカル硬化型インクが知られている。
 前記ラジカル硬化型インクは速硬化性を有し、モノマーの種類が豊富である等の理由から多用されてきた。しかし、インクジェット記録法では吐出性の観点から低粘度のインクが使用され、大気中からインクに酸素が拡散・進入し易い。また、インクを小さな液滴として印字するため表面積が大きくなり酸素に曝されやすい。そのため酸素による硬化阻害が顕著であり、酸素の影響を受けて硬化が阻害され、滲みが発生したり、臭気の原因となる未反応モノマーが多く残留することが問題であった。また、基材密着性が低く、インクの密着性を向上させるため基材表面に加工を施す必要があることも問題であった。
 一方、カチオン硬化型インクは酸素による硬化阻害を受けることがない。また、ラジカル硬化型インクに比べて基材密着性に優れていることが知られている。特許文献1~3には、分散媒と顔料とを含むカチオン硬化型インクについて、分散媒を構成するモノマーとして環状エーテル骨格を有するビニルエーテル化合物を分散媒に含まれる全モノマーの30重量%以上含有すると、硬化性と基材密着性に優れたインク被膜を形成できることが記載されている。
特開2005-154734号公報 特開2007-211098号公報 特開2007-211099号公報
 しかし、前記環状エーテル骨格を有するビニルエーテル化合物を上記の通り多量に含有するカチオン硬化型インクは、前記環状エーテル骨格を有するビニルエーテル化合物が水分を吸収しやすいため、水分による硬化阻害を受け易く、湿度が高い時期に使用した場合や、保存過程で空気中の水分を取り込んだ場合に硬化不良が生じるため実用に適さないことがわかった。
 従って、本発明の目的は、速硬化性を有し、酸素や水分の存在下でも速やかに硬化して、幅広い基材に対して優れた密着性を有する硬化物を形成することができるモノマー組成物を提供することにある。
 本発明の他の目的は、前記モノマー組成物と光酸発生剤を含む硬化性組成物を提供することにある。
 本発明の更に他の目的は、前記硬化性組成物と顔料を含む紫外線硬化型インクジェット用インクを提供することにある。
 本発明者等は上記課題を解決するため鋭意検討した結果、環状エーテル骨格を有するビニルエーテル化合物の含有量を減らし、その代わりに特定のモノマーを組み合わせて配合して得られるモノマー組成物を含有する硬化性組成物は、紫外線を照射することにより、酸素や水分の存在下でも速やかに硬化して、幅広い基材に対して優れた密着性を有する(すなわち、幅広い基材選択性を有する)硬化物を形成することができることを見いだした。本発明はこれらの知見に基づいて完成させたものである。
 すなわち、本発明は、ビニルエーテル化合物(A)を少なくとも含有するモノマー組成物であって、前記ビニルエーテル化合物(A)として環状エーテル骨格を有するビニルエーテル化合物(a)を少なくとも含有し、更に、鎖式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a’)、環式炭化水素骨格を有するジビニルエーテル化合物(a"-1)、オキセタン化合物(B)、及びエポキシ化合物(C)からなる群より選択される少なくとも1種の化合物を含有するモノマー組成物を提供する。
 本発明は、また、環状エーテル骨格を有するビニルエーテル化合物(a)が下記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物である前記のモノマー組成物を提供する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 本発明は、また、ビニルエーテル化合物(A)、オキセタン化合物(B)、及びエポキシ化合物(C)を含有するモノマー組成物であって、ビニルエーテル化合物(A)として前記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物、オキセタン化合物(B)として3-エチル-3-[(2-エチルヘキシルオキシ)メチル]オキセタンを含有し、且つ前記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物の含有量が、モノマー組成物全量の5重量%以上、30重量%未満である前記のモノマー組成物を提供する。
 本発明は、また、エポキシ化合物(C)が、シクロヘキセンオキシド基を有するエポキシ化合物を含む前記のモノマー組成物を提供する。
 本発明は、また、エポキシ化合物(C)の含有量が、モノマー組成物全量の5~80重量%である前記のモノマー組成物を提供する。
 本発明は、また、3-エチル-3-[(2-エチルヘキシルオキシ)メチル]オキセタンの含有量が、モノマー組成物全量の5~80重量%である前記のモノマー組成物を提供する。
 本発明は、また、ビニルエーテル化合物(A)、及びオキセタン化合物(B)を含有するモノマー組成物であって、ビニルエーテル化合物(A)として前記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物を含有し、オキセタン化合物(B)として下記式(b’)で表される化合物を含有する前記のモノマー組成物を提供する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
(式中、Rcは1価の炭化水素基を示す)
 本発明は、また、式(b’)で表される化合物が、3-アリルオキシオキセタン及び/又は3-(2-エチルヘキシルオキシ)オキセタンである前記のモノマー組成物を提供する。
 本発明は、また、式(b’)で表される化合物の含有量が、モノマー組成物全量の5~90重量%である前記のモノマー組成物を提供する。
 本発明は、また、式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物の含有量が、モノマー組成物全量の5重量%以上、30重量%未満である前記のモノマー組成物を提供する。
 本発明は、また、更に、シクロヘキセンオキシド基を有する化合物を含むエポキシ化合物(C)を含有する前記のモノマー組成物を提供する。
 本発明は、また、エポキシ化合物(C)の含有量が、モノマー組成物全量の5~80重量%である前記のモノマー組成物を提供する。
 本発明は、また、ビニルエーテル化合物(A)及びエポキシ化合物(C)を含むモノマー組成物であって、ビニルエーテル化合物(A)として前記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物をモノマー組成物全量の5重量%以上、30重量%未満含有し、エポキシ化合物(C)として1,2:8,9-ジエポキシリモネンをモノマー組成物全量の40重量%超含有する前記モノマー組成物を提供する。
 本発明は、また、モノマーとして、更に、オキセタン化合物(B)をモノマー組成物全量の5~50重量%含有する前記のモノマー組成物を提供する。
 本発明は、また、ビニルエーテル化合物(A)、オキセタン化合物(B)、及びエポキシ化合物(C)を含むモノマー組成物であって、ビニルエーテル化合物(A)として前記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物をモノマー組成物全量の5重量%以上、30重量%未満含有し、オキセタン化合物(B)として3-エチル-3-[(2-エチルヘキシルオキシ)メチル]オキセタンを含む単官能オキセタン化合物をモノマー組成物全量の10~85重量%含有し、エポキシ化合物(C)として1,2:8,9-ジエポキシリモネンをモノマー組成物全量の10~40重量%含有する前記のモノマー組成物を提供する。
 本発明は、また、ビニルエーテル化合物(A)、及びオキセタン化合物(B)を含有するモノマー組成物であって、ビニルエーテル化合物(A)として前記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物と、環式炭化水素骨格を有するジビニルエーテル化合物(a"-1)とを含有し、オキセタン化合物(B)として単官能オキセタン化合物を含有する前記のモノマー組成物を提供する。
 本発明は、また、環式炭化水素骨格を有するジビニルエーテル化合物(a"-1)が、下記式(a"-1)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
(式中、環Zは下記式(z-1)~(z-5)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
から選択される環であり、n、n’は同一又は異なって、0以上の整数を示す)
で表される化合物である前記のモノマー組成物を提供する。
 本発明は、また、式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物と、環式炭化水素骨格を有するジビニルエーテル化合物(a"-1)の合計含有量が、モノマー組成物全量の10~80重量%である前記のモノマー組成物を提供する。
 本発明は、また、式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物の含有量が、モノマー組成物全量の5重量%以上、30重量%未満である前記のモノマー組成物を提供する。
 本発明は、また、単官能オキセタン化合物の含有量が、モノマー組成物全量の10~70重量%である前記のモノマー組成物を提供する。
 本発明は、また、更に、シクロヘキセンオキシド基を有するエポキシ化合物を含むエポキシ化合物(C)を含有する前記のモノマー組成物を提供する。
 本発明は、また、エポキシ化合物(C)の含有量が、モノマー組成物全量の5~80重量%である前記のモノマー組成物を提供する。
 本発明は、また、ビニルエーテル化合物(A)を含むモノマー組成物であって、単官能モノマーをモノマー組成物全量の20~70重量%含有し、環状エーテル骨格を有するビニルエーテル化合物(a)と鎖式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a’)をモノマー組成物全量の10~40重量%含有し、且つ前記環状エーテル骨格を有するビニルエーテル化合物(a)の含有量がモノマー組成物全量の5重量%以上、30重量%未満であることを特徴とする前記のモノマー組成物を提供する。
 本発明は、また、更に、ビニルエーテル化合物(A)として環式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a”)をモノマー組成物全量の1~50重量%含有する前記のモノマー組成物を提供する。
 本発明は、また、更に、オキセタン化合物(B)をモノマー組成物全量の5~80重量%含有する前記のモノマー組成物を提供する。
 本発明は、また、更に、エポキシ化合物(C)をモノマー組成物全量の5~80重量%含有する前記のモノマー組成物を提供する。
 本発明は、また、前記のモノマー組成物と光酸発生剤を含有する硬化性組成物を提供する。
 本発明は、また、更に、増感剤、又は増感剤と増感助剤を含有する前記の硬化性組成物を提供する。
 本発明は、また、表面張力(25℃、1気圧下における)が10~50mN/mであり、粘度[25℃、せん断速度10(1/s)における]が1~1000mPa・sである前記の硬化性組成物を提供する。
 本発明は、また、紫外線硬化型インクジェット用インクに使用する前記の硬化性組成物を提供する。
 本発明は、また、前記の硬化性組成物と顔料及び/又は染料を含有する紫外線硬化型インクジェット用インクを提供する。
 本発明は、また、更に、分散剤を含有する前記の紫外線硬化型インクジェット用インクを提供する。
 従って、本発明は以下に関する。
[1] ビニルエーテル化合物(A)を少なくとも含有するモノマー組成物であって、前記ビニルエーテル化合物(A)として環状エーテル骨格を有するビニルエーテル化合物(a)を少なくとも含有し、更に、鎖式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a’)、環式炭化水素骨格を有するジビニルエーテル化合物(a"-1)、オキセタン化合物(B)、及びエポキシ化合物(C)からなる群より選択される少なくとも1種の化合物を含有するモノマー組成物。
[2] 環状エーテル骨格を有するビニルエーテル化合物(a)が式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物である[1]に記載のモノマー組成物。
[3] ビニルエーテル化合物(A)、オキセタン化合物(B)、及びエポキシ化合物(C)を含有するモノマー組成物であって、ビニルエーテル化合物(A)として前記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物、オキセタン化合物(B)として3-エチル-3-[(2-エチルヘキシルオキシ)メチル]オキセタンを含有し、且つ前記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物の含有量が、モノマー組成物全量の5重量%以上、30重量%未満である[2]に記載のモノマー組成物。
[4] エポキシ化合物(C)が、シクロヘキセンオキシド基を有するエポキシ化合物を含む[3]に記載のモノマー組成物。
[5] エポキシ化合物(C)の含有量が、モノマー組成物全量の5~80重量%である[3]又は[4]に記載のモノマー組成物。
[6] 3-エチル-3-[(2-エチルヘキシルオキシ)メチル]オキセタンの含有量が、モノマー組成物全量の5~80重量%である[3]~[5]の何れか1つに記載のモノマー組成物。
[7] ビニルエーテル化合物(A)、及びオキセタン化合物(B)を含有するモノマー組成物であって、ビニルエーテル化合物(A)として前記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物を含有し、オキセタン化合物(B)として式(b’)で表される化合物を含有する[2]に記載のモノマー組成物。
[8] 式(b’)で表される化合物が、3-アリルオキシオキセタン及び/又は3-(2-エチルヘキシルオキシ)オキセタンである[7]に記載のモノマー組成物。
[9] 式(b’)で表される化合物の含有量が、モノマー組成物全量の5~90重量%である[7]又は[8]に記載のモノマー組成物。
[10] 式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物の含有量が、モノマー組成物全量の5重量%以上、30重量%未満である[7]~[9]の何れか1つに記載のモノマー組成物。
[11] 更に、シクロヘキセンオキシド基を有する化合物を含むエポキシ化合物(C)を含有する[7]~[10]の何れか1つに記載のモノマー組成物。
[12] エポキシ化合物(C)の含有量が、モノマー組成物全量の5~80重量%である[11]に記載のモノマー組成物。
[13] ビニルエーテル化合物(A)及びエポキシ化合物(C)を含むモノマー組成物であって、ビニルエーテル化合物(A)として前記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物をモノマー組成物全量の5重量%以上、30重量%未満含有し、エポキシ化合物(C)として1,2:8,9-ジエポキシリモネンをモノマー組成物全量の40重量%超含有する[2]に記載のモノマー組成物。
[14] モノマーとして、更に、オキセタン化合物(B)をモノマー組成物全量の5~50重量%含有する[13]に記載のモノマー組成物。
[15] ビニルエーテル化合物(A)、オキセタン化合物(B)、及びエポキシ化合物(C)を含むモノマー組成物であって、ビニルエーテル化合物(A)として前記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物をモノマー組成物全量の5重量%以上、30重量%未満含有し、オキセタン化合物(B)として3-エチル-3-[(2-エチルヘキシルオキシ)メチル]オキセタンを含む単官能オキセタン化合物をモノマー組成物全量の10~85重量%含有し、エポキシ化合物(C)として1,2:8,9-ジエポキシリモネンをモノマー組成物全量の10~40重量%含有する[2]に記載のモノマー組成物。
[16] ビニルエーテル化合物(A)、及びオキセタン化合物(B)を含有するモノマー組成物であって、ビニルエーテル化合物(A)として前記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物と、環式炭化水素骨格を有するジビニルエーテル化合物(a"-1)とを含有し、オキセタン化合物(B)として単官能オキセタン化合物を含有する[2]に記載のモノマー組成物。
[17] 環式炭化水素骨格を有するジビニルエーテル化合物(a"-1)が、式(a"-1)で表される化合物である[16]に記載のモノマー組成物。
[18] 式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物と、環式炭化水素骨格を有するジビニルエーテル化合物(a"-1)の合計含有量が、モノマー組成物全量の10~80重量%である[16]又は[17]に記載のモノマー組成物。
[19] 式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物の含有量が、モノマー組成物全量の5重量%以上、30重量%未満である[16]~[18]の何れか1つに記載のモノマー組成物。
[20] 単官能オキセタン化合物の含有量が、モノマー組成物全量の10~70重量%である[16]~[19]の何れか1つに記載のモノマー組成物。
[21] 更に、シクロヘキセンオキシド基を有するエポキシ化合物を含むエポキシ化合物(C)を含有する[16]~[20]の何れか1つに記載のモノマー組成物。
[22] エポキシ化合物(C)の含有量が、モノマー組成物全量の5~80重量%である[21]に記載のモノマー組成物。
[23] ビニルエーテル化合物(A)を含むモノマー組成物であって、単官能モノマーをモノマー組成物全量の20~70重量%含有し、環状エーテル骨格を有するビニルエーテル化合物(a)と鎖式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a’)をモノマー組成物全量の10~40重量%含有し、且つ前記環状エーテル骨格を有するビニルエーテル化合物(a)の含有量がモノマー組成物全量の5重量%以上、30重量%未満であることを特徴とする[1]又は[2]に記載のモノマー組成物。
[24] 更に、ビニルエーテル化合物(A)として環式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a”)をモノマー組成物全量の1~50重量%含有する[23]に記載のモノマー組成物。
[25] 更に、オキセタン化合物(B)をモノマー組成物全量の5~80重量%含有する[23]又は[24]に記載のモノマー組成物。
[26] 更に、エポキシ化合物(C)をモノマー組成物全量の5~80重量%含有する[23]~[25]の何れか1つに記載のモノマー組成物。
[27] [1]~[26]の何れか1つに記載のモノマー組成物と光酸発生剤を含有する硬化性組成物。
[28] 更に、増感剤、又は増感剤と増感助剤を含有する[27]に記載の硬化性組成物。
[29] 表面張力(25℃、1気圧下における)が10~50mN/mであり、粘度[25℃、せん断速度10(1/s)における]が1~1000mPa・sである[27]又は[28]に記載の硬化性組成物。
[30] 紫外線硬化型インクジェット用インクに使用する[27]~[29]の何れか1つに記載の硬化性組成物。
[31] [27]~[30]の何れか1つに記載の硬化性組成物と顔料及び/又は染料を含有する紫外線硬化型インクジェット用インク。
[32] 更に、分散剤を含有する[31]に記載の紫外線硬化型インクジェット用インク。
 上記構成を有する本発明のモノマー組成物を含有する硬化性組成物は、紫外線を照射する前は低粘度で吐出性に優れ、紫外線を照射することにより、酸素や水分の存在下でも速やかに硬化して、幅広い基材に対して優れた密着性を有する硬化物を形成することができる。また、保存過程で空気中の水分を取り込んでも硬化性が損なわれることがない。すなわち、保存安定性に優れる。更に、本発明の硬化性組成物は硬化性に優れるため、未反応モノマーの残留を抑制することができ、未反応モノマーが原因の臭気の発生を著しく低減することができる。そのため、本発明の硬化性組成物は、紫外線硬化型インクジェット用インクに好適に使用することができる。
 また、上記特性を有する硬化性組成物を含む本発明の紫外線硬化型インクジェット用インクを使用すれば、空気雰囲気下で、湿度条件や被印刷物を特に限定することなく、且つ臭気の発生を抑制しつつ、非常に高精細なインク被膜を高速に形成することができる。そのため、本発明の紫外線硬化型インクジェット用インクは産業用印刷分野において好適に使用することができる。
 (ビニルエーテル化合物(A))
 ビニルエーテル化合物は、重合性基としてビニルエーテル基を有するモノマー(特に、カチオン重合性モノマー)であり、環状エーテル骨格を有するビニルエーテル化合物(a)、鎖式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a’)、及び環式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a”)が含まれる。また、ビニルエーテル化合物には、単官能ビニルエーテル化合物と多官能ビニルエーテル化合物が含まれる。
 前記環状エーテル骨格を有するビニルエーテル化合物(a)は、例えば、下記式(a)で表される。
   R-(O-CH=CH2s  (a)
(式中、Rはヘテロ原子として酸素原子を含む複素環の構造式からs個の水素原子を除いた基を示し、sは1以上の整数を示す)
 ヘテロ原子として酸素原子を含む複素環としては、オキシラン環等の3員環;オキセタン環等の4員環;フラン環、テトラヒドロフラン環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、γ-ブチロラクトン環等の5員環;4-オキソ-4H-ピラン環、テトラヒドロピラン環、モルホリン環等の6員環;ヘキサヒドロフロ[3,2-b]フラン環、ベンゾフラン環、イソベンゾフラン環、4-オキソ-4H-クロメン環、クロマン環、イソクロマン環等の縮合環;7-オキサビシクロ[2.2.1]ヘプタン環、3-オキサトリシクロ[4.3.1.14,8]ウンデカン-2-オン環、3-オキサトリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン-2-オン環等の架橋環等を挙げることができる。
 前記ヘテロ原子として酸素原子を含む複素環は、種々の置換基[例えば、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基等のC1-4アルキル基等)、シクロアルキル基、アリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基等)、ハロゲン原子、オキソ基、ヒドロキシル基、置換オキシ基(例えば、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシルオキシ基等)、カルボキシル基、置換オキシカルボニル基(アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基等)、置換又は無置換カルバモイル基、シアノ基、ニトロ基、置換又は無置換アミノ基、スルホ基、複素環式基等]を有していてもよい。前記ヒドロキシル基やカルボキシル基は有機合成の分野で慣用の保護基で保護されていてもよい。
 sは1以上の整数を示し、例えば1~10である。
 環状エーテル骨格を有するビニルエーテル化合物(a)としては、例えば、下記式(a-1)で表される化合物、下記式(a-2)で表される化合物、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル等を挙げることができる。これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。本発明においては、なかでも、下記式(a-1)で表される化合物及び/又は下記式(a-2)で表される化合物を使用することが、速硬化性を発揮することができる点で好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 前記鎖式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a’)は、例えば、下記式(a')で表される。
   R'-(O-CH=CH2t  (a')
(式中、R'はt価の脂肪族炭化水素基又は2個以上の脂肪族炭化水素基が連結基を介して結合した基を示し、tは1以上の整数を示す)
 1価の脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、デシル基、ドデシル基等の炭素数1~20(好ましくは1~10、特に好ましくは1~3)程度のアルキル基;ビニル基、アリル基、メタリル基、1-プロペニル基、イソプロペニル基、1-ブテニル基、2-ブテニル基、3-ブテニル基、1-ペンテニル基、2-ペンテニル基、3-ペンテニル基、4-ペンテニル基、5-ヘキセニル基等の炭素数2~20(好ましくは2~10、特に好ましくは2~3)程度のアルケニル基;エチニル基、プロピニル基等の炭素数2~20(好ましくは2~10、特に好ましくは2~3)程度のアルキニル基等を挙げることができる。t価の脂肪族炭化水素基としては、上記1価の脂肪族炭化水素基の構造式から(t-1)個の水素原子を除いた基を挙げることができる。
 上記脂肪族炭化水素基は、種々の置換基[例えば、ハロゲン原子、オキソ基、ヒドロキシル基、置換オキシ基(例えば、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシルオキシ基等)、カルボキシル基、置換オキシカルボニル基(アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基等)、置換又は無置換カルバモイル基、シアノ基、ニトロ基、置換又は無置換アミノ基、スルホ基、複素環式基等]を有していてもよい。前記ヒドロキシル基やカルボキシル基は有機合成の分野で慣用の保護基で保護されていてもよい。
 前記連結基としては、例えば、カルボニル基(-CO-)、エーテル結合(-O-)、チオエーテル結合(-S-)、エステル結合(-COO-)、アミド結合(-CONH-)、カーボネート結合(-OCOO-)等を挙げることができる。
 tは1以上の整数を示し、例えば1~10である。
 鎖式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a’)としては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、n-プロピルビニルエーテル、アリルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、n-ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、tert-ブチルビニルエーテル、n-ペンチルビニルエーテル、イソペンチルビニルエーテル、tert-ペンチルビニルエーテル、n-ヘキシルビニルエーテル、イソヘキシルビニルエーテル、2-エチルヘキシルビニルエーテル、n-ヘプチルビニルエーテル、n-オクチルビニルエーテル、ノニルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、ドデシルビニルエーテル、ヘキサデシルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、エトキシメチルビニルエーテル、2-メトキシエチルビニルエーテル、2-エトキシエチルビニルエーテル、2-ブトキシエチルビニルエーテル、アセトキシメチルビニルエーテル、2-アセトキシエチルビニルエーテル、3-アセトキシプロピルビニルエーテル、4-アセトキシブチルビニルエーテル、4-エトキシブチルビニルエーテル、2-(2-メトキシエトキシ)エチルビニルエーテル、3-ヒドロキシプロピルビニルエーテル、4-ヒドロキシブチルビニルエーテル、5-ヒドロキシペンチルビニルエーテル、6-ヒドロキシヘキシルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールメチルビニルエーテル、ジエチレングリコールエチルビニルエーテル、トリエチレングリコールモノビニルエーテル、テトラエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールモノビニルエーテル、プロピレングリコールモノビニルエーテル、ジプロピレングリコールモノビニルエーテル、トリプロピレングリコールモノビニルエーテル、ポリプロピレングリコールモノビニルエーテル、トリメチロールプロパンモノビニルエーテル、エチレンオキサイド付加トリメチロールプロパンモノビニルエーテル、ペンタエリスリトールモノビニルエーテル、エチレンオキサイド付加ペンタエリスリトールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールエチルビニルエーテル、トリエチレングリコールメチルビニルエーテル、ジビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、トリプロピレングリコールジビニルエーテル、ポリプロピレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、ネオペンチルグリコールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、ノナンジオールジビニルエーテル、トリメチロールプロパンジビニルエーテル、エチレンオキサイド付加トリメチロールプロパンジビニルエーテル、ペンタエリスリトールジビニルエーテル、エチレンオキサイド付加ペンタエリスリトールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、エチレンオキサイド付加トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、エチレンオキサイド付加ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、エチレンオキサイド付加ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル等を挙げることができる。これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
 前記環式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a”)は、例えば、下記式(a")で表される。
   R"-(O-CH=CH2u  (a")
(式中、R"はu価の脂環式炭化水素基又は2個以上の脂環式炭化水素基が単結合又は連結基を介して結合した基を示し、uは1以上の整数を示す)
 前記脂環式炭化水素基を構成する脂環には、単環式炭化水素環及び多環式炭化水素環(スピロ炭化水素環、環集合炭化水素環、架橋環式炭化水素環、縮合環式炭化水素環、架橋縮合環式炭化水素環)が含まれる。u価の脂環式炭化水素基としては、上記脂環の構造式からu個の水素原子を除いた基を挙げることができる。
 前記単環式炭化水素環としては、例えば、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン環等のC5-12シクロアルカン環;シクロヘキセン環等のC5-12シクロアルケン環等を挙げることができる。
 前記スピロ炭化水素環としては、例えば、スピロ[4.4]ノナン、スピロ[4.5]デカン、スピロビシクロヘキサン環等のC5-16スピロ炭化水素環等を挙げることができる。
 前記環集合炭化水素環としては、例えば、ビシクロヘキサン等のC5-12シクロアルカン環を2個以上含む環集合炭化水素環等を挙げることができる。
 前記架橋環式炭化水素環としては、例えば、ピナン、ボルナン、ノルピナン、ノルボルナン、ノルボルネン、ビシクロオクタン環(ビシクロ[2.2.2]オクタン環、ビシクロ[3.2.1]オクタン環等)等の2環式炭化水素環;ホモブレダン、アダマンタン、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン、トリシクロ[4.3.1.12,5]ウンデカン環等の3環式炭化水素環;テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカン、パーヒドロ-1,4-メタノ-5,8-メタノナフタレン環等の4環式炭化水素環等を挙げることができる。
 前記縮合環式炭化水素環としては、例えば、パーヒドロナフタレン(デカリン)、パーヒドロアントラセン、パーヒドロフェナントレン、パーヒドロアセナフテン、パーヒドロフルオレン、パーヒドロインデン、パーヒドロフェナレン環等の5~8員シクロアルカン環が複数個縮合した縮合環を挙げることができる。
 前記架橋縮合環式炭化水素環には、ジエン類の二量体(例えば、シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン、シクロヘプタジエン等のシクロアルカジエンの二量体)や、その水素添加物等を挙げることができる。
 前記脂環式炭化水素基は置換基を有していてもよく、置換基としては上記式(a-2)中のR’が有していてもよい置換基と同様の例を挙げることができる。
 前記連結基としては、例えば、二価の炭化水素基(後述の、式(c)中のXにおける例と同様の例を挙げることができる)、カルボニル基(-CO-)、エーテル結合(-O-)、チオエーテル結合(-S-)、エステル結合(-COO-)、アミド結合(-CONH-)、カーボネート結合(-OCOO-)等を挙げることができる。
 uは1以上の整数を示し、例えば1~10である。
 環式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a”)には、例えば、下記式(a"-1)で表される化合物(具体的には、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、シクロヘキサンジオールジビニルエーテル、水添ビスフェノールF型ジビニルエーテル、水添ビフェニルジビニルエーテル、水添ビスフェノールA型ジビニルエーテル、トリシクロデカンジメタノールジビニルエーテル等を挙げることができる)等の環式炭化水素骨格を有するジビニルエーテル化合物(a"-1);4-ヒドロキシシクロヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルジメタノールモノビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルメチルビニルエーテル、シクロヘキシルエチルビニルエーテル、メンチルビニルエーテル、ノルボルネニルビニルエーテル、1-アダマンチルビニルエーテル、2-アダマンチルビニルエーテル等の環式炭化水素骨格を有するモノビニルエーテル化合物(a"-2)が含まれる。これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
(式中、環Zは下記式(z-1)~(z-5)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
から選択される環であり、n、n’は同一又は異なって、0以上の整数を示す)
 前記式(a"-1)中のn、n’は同一又は異なって、0以上の整数を示し、好ましくは0~10の整数、特に好ましくは0~3の整数である。
 環式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a”)としては、例えば、商品名「CHDVE」(日本カーバイド工業(株)製)、「4CH-DVE」((株)ダイセル製)等の市販品を使用することができる。
 ビニルエーテル化合物は公知のビニルエーテル化合物の製造方法を利用して製造することができる。例えば、上記式(a-1)で表される化合物は、遷移金属化合物の存在下、2-ヒドロキシ-6-ヒドロキシメチル-7-オキサビシクロ[2.2.1]ヘプタンと、ビニルエステル化合物(例えば、プロピオン酸ビニル)とを反応させることにより製造することができる。また、式(a-2)で表される化合物は、2-ヒドロキシ-6-ヒドロキシメチル-7-オキサビシクロ[2.2.1]ヘプタンに代えてイソソルビドを使用する以外は上記と同様の方法により製造することができる。
 (オキセタン化合物(B))
 オキセタン化合物は、重合性基としてオキセタニル基を有するカチオン重合性モノマーであり、単官能オキセタン化合物と多官能オキセタン化合物が含まれる。オキセタン化合物は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
 オキセタン化合物としては、例えば、下記式(b)で表される化合物を挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
(式中、Raは1価の有機基を示し、Rbは水素原子又はエチル基を示す。mは0以上の整数を示す)
 前記Raにおける1価の有機基には1価の炭化水素基、1価の複素環式基、置換オキシカルボニル基(アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、シクロアルキルオキシカルボニル基等)、置換カルバモイル基(N-アルキルカルバモイル基、N-アリールカルバモイル基等)、アシル基(アセチル基等の脂肪族アシル基;ベンゾイル基等の芳香族アシル基等)、及びこれらの2以上が単結合又は連結基を介して結合した1価の基が含まれる。
 前記1価の炭化水素基には、1価の脂肪族炭化水素基、1価の脂環式炭化水素基、及び1価の芳香族炭化水素基が含まれる。
 1価の脂肪族炭化水素基としては、上記式(a')中のR’における1価の基と同様の例を挙げることができる。また、1価の脂環式炭化水素基としては、上記式(a")中のR"における1価の基と同様の例を挙げることができる。
 1価の芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基等の炭素数6~14(好ましくは6~10)程度の芳香族炭化水素基を挙げることができる。
 前記1価の炭化水素基は置換基を有していてもよく、置換基としては上記式(a')中のR’が有していてもよい置換基と同様の例を挙げることができる。
 前記複素環式基を構成する複素環としては、例えば、ヘテロ原子として酸素原子を含む複素環(例えば、オキセタン環等の4員環;フラン環、テトラヒドロフラン環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、γ-ブチロラクトン環等の5員環;4-オキソ-4H-ピラン環、テトラヒドロピラン環、モルホリン環等の6員環;ベンゾフラン環、イソベンゾフラン環、4-オキソ-4H-クロメン環、クロマン環、イソクロマン環等の縮合環;3-オキサトリシクロ[4.3.1.14,8]ウンデカン-2-オン環、3-オキサトリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン-2-オン環等の架橋環)、ヘテロ原子としてイオウ原子を含む複素環(例えば、チオフェン環、チアゾール環、イソチアゾール環、チアジアゾール環等の5員環;4-オキソ-4H-チオピラン環等の6員環;ベンゾチオフェン環等の縮合環等)、ヘテロ原子として窒素原子を含む複素環(例えば、ピロール環、ピロリジン環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環等の5員環;ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピペリジン環、ピペラジン環等の6員環;インドール環、インドリン環、キノリン環、アクリジン環、ナフチリジン環、キナゾリン環、プリン環等の縮合環等)等を挙げることができる。1価の複素環式基としては、上記複素環の構造式から1個の水素原子を除いた基を挙げることができる。
 上記複素環式基は、前記炭化水素基が有していてもよい置換基のほか、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基等のC1-4アルキル基等)、シクロアルキル基、アリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基等)等の置換基を有していてもよい。
 前記連結基としては、例えば、カルボニル基(-CO-)、エーテル結合(-O-)、チオエーテル結合(-S-)、エステル結合(-COO-)、アミド結合(-CONH-)、カーボネート結合(-OCOO-)、シリル結合(-Si-)、及びこれらが複数個連結した基等を挙げることができる。
 前記mは1以上の整数を示し、例えば1~20、好ましくは1である。
 前記式(b)で表される化合物としては、下記式(b’)で表される化合物が好ましい。下記式中、Rcは1価の炭化水素基を示し、上述のRaにおける例と同様の例を上げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 式(b’)で表される化合物の具体例としては、3-メトキシオキセタン、3-エトキシオキセタン、3-プロポキシオキセタン、3-イソプロポキシオキセタン、3-(n-ブトキシ)オキセタン、3-イソブトキシオキセタン、3-(s-ブトキシ)オキセタン、3-(t-ブトキシ)オキセタン、3-ペンチルオキシオキセタン、3-ヘキシルオキシオキセタン、3-(2-エチルヘキシルオキシ)オキセタン、3-ヘプチルオキシオキセタン、3-オクチルオキシオキセタン、3-(1-プロペニルオキシ)オキセタン、3-シクロヘキシルオキシオキセタン、3-(4-メチルシクロヘキシルオキシ)オキセタン、3-[(2-パーフルオロブチル)エトキシ]オキセタン、3-フェノキシオキセタン、3-(4-メチルフェノキシ)オキセタン、3-(3-クロロ-1-プロポキシ)オキセタン、3-(3-ブロモ-1-プロポキシ)オキセタン、3-(4-フルオロフェノキシ)オキセタン、3-アリルオキシオキセタン等を挙げることができる。
 前記式(b)で表される化合物としては、その他、下記式(b-1)~(b-13)で表される化合物等を挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 オキセタン化合物としては、例えば、「アロンオキセタンOXT-101」、「アロンオキセタンOXT-121」、「アロンオキセタンOXT-212」、「アロンオキセタンOXT-211」、「アロンオキセタンOXT-213」、「アロンオキセタンOXT-221」、「アロンオキセタンOXT-610」(以上、東亞合成(株)製)等の市販品を使用することができる。
 (エポキシ化合物(C))
 本発明のモノマー組成物は、カチオン重合性モノマーとして、エポキシ化合物(C)を含有する。エポキシ化合物(C)としては、例えば、芳香族グリシジルエーテル系エポキシ化合物;脂環式グリシジルエーテル系エポキシ化合物(例えば、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル等);脂肪族グリシジルエーテル系エポキシ化合物;グリシジルエステル系エポキシ化合物;グリシジルアミン系エポキシ化合物;シクロヘキセンオキシド基を有するエポキシ化合物(以後、「脂環式エポキシ化合物」と称する場合がある);エポキシ変性シロキサン化合物等を挙げることができる。エポキシ化合物は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
 本発明のエポキシ化合物(C)としては、基材密着性に優れた硬化物を形成することができ、特に、インクジェット用インクに使用した場合は、傷つき難く、剥がれ難く、美しい印字を長期に亘って維持することができる点で、脂環式エポキシ化合物を少なくとも含有することが好ましく、なかでも、脂環式エポキシ化合物をモノマー組成物に含まれる全エポキシ化合物の30重量%以上含有することが好ましく、更に好ましくは50重量%以上、特に好ましくは80重量%以上である。
 上記脂環式エポキシ化合物としては、例えば、下記式(c)で表される化合物を挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 上記式(c)中、R1~R18は同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、酸素原子若しくはハロゲン原子を含んでいてもよい炭化水素基、又は置換基を有していてもよいアルコキシ基を示す。
 R1~R18におけるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等を挙げることができる。
 R1~R18における炭化水素基としては、前記式(b’)中のRcと同様の例を挙げることができる。
 R1~R18における酸素原子若しくはハロゲン原子を含んでいてもよい炭化水素基としては、上述の炭化水素基における少なくとも1つの水素原子が、酸素原子を有する基又はハロゲン原子で置換された基等を挙げることができる。上記酸素原子を有する基としては、例えば、ヒドロキシル基;ヒドロパーオキシ基;メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロピルオキシ、ブトキシ、イソブチルオキシ基等のC1-10アルコキシ基;アリルオキシ基等のC2-10アルケニルオキシ基;C1-10アルキル基、C2-10アルケニル基、ハロゲン原子、及びC1-10アルコキシ基から選択される置換基を有していてもよいC6-14アリールオキシ基(例えば、トリルオキシ、ナフチルオキシ基等);ベンジルオキシ、フェネチルオキシ基等のC7-18アラルキルオキシ基;アセチルオキシ、プロピオニルオキシ、(メタ)アクリロイルオキシ、ベンゾイルオキシ基等のC1-10アシルオキシ基;メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル基等のC1-10アルコキシカルボニル基;C1-10アルキル基、C2-10アルケニル基、ハロゲン原子、及びC1-10アルコキシ基から選択される置換基を有していてもよいC6-14アリールオキシカルボニル基(例えば、フェノキシカルボニル、トリルオキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル基等);ベンジルオキシカルボニル基等のC7-18アラルキルオキシカルボニル基;グリシジルオキシ基等のエポキシ基含有基;エチルオキセタニルオキシ基等のオキセタニル基含有基;アセチル、プロピオニル、ベンゾイル基等のC1-10アシル基;イソシアナート基;スルホ基;カルバモイル基;オキソ基;これらの2以上が単結合若しくはC1-10アルキレン基等を介して結合した基等を挙げることができる。
 R1~R18におけるアルコキシ基としては、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロピルオキシ、ブトキシ、イソブチルオキシ基等のC1-10アルコキシ基を挙げることができる。
 前記アルコキシ基が有していてもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、C1-10アルコキシ基、C2-10アルケニルオキシ基、C6-14アリールオキシ基、C1-10アシルオキシ基、メルカプト基、C1-10アルキルチオ基、C2-10アルケニルチオ基、C6-14アリールチオ基、C7-18アラルキルチオ基、カルボキシル基、C1-10アルコキシカルボニル基、C6-14アリールオキシカルボニル基、C7-18アラルキルオキシカルボニル基、アミノ基、モノ又はジC1-10アルキルアミノ基、C1-10アシルアミノ基、エポキシ基含有基、オキセタニル基含有基、C1-10アシル基、オキソ基、及びこれらの2以上が単結合若しくはC1-10アルキレン基等を介して結合した基等を挙げることができる。
 上記式(c)中、Xは単結合又は連結基を示す。前記連結基としては、例えば、二価の炭化水素基、炭素-炭素二重結合の一部又は全部がエポキシ化されたアルケニレン基、カルボニル基(-CO-)、エーテル結合(-O-)、エステル結合(-COO-)、カーボネート基(-O-CO-O-)、アミド基(-CONH-)、及びこれらが複数個連結した基等を挙げることができる。
 上記二価の炭化水素基としては、例えば、炭素数1~18の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基、炭素数3~18の二価の脂環式炭化水素基等を挙げることができる。炭素数1~18の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基等を挙げることができる。炭素数3~18の二価の脂環式炭化水素基としては、例えば、1,2-シクロペンチレン基、1,3-シクロペンチレン基、シクロペンチリデン基、1,2-シクロヘキシレン基、1,3-シクロヘキシレン基、1,4-シクロヘキシレン基、シクロヘキシリデン基等のシクロアルキレン基(シクロアルキリデン基を含む)等を挙げることができる。
 上記炭素-炭素二重結合の一部又は全部がエポキシ化されたアルケニレン基(「エポキシ化アルケニレン基」と称する場合がある)におけるアルケニレン基としては、例えば、ビニレン基、プロペニレン基、1-ブテニレン基、2-ブテニレン基、ブタジエニレン基、ペンテニレン基、ヘキセニレン基、ヘプテニレン基、オクテニレン基等の炭素数2~8の直鎖状又は分岐鎖状のアルケニレン基等が挙げられる。特に、上記エポキシ化アルケニレン基としては、炭素-炭素二重結合の全部がエポキシ化されたアルケニレン基が好ましく、より好ましくは炭素-炭素二重結合の全部がエポキシ化された炭素数2~4のアルケニレン基である。
 上記式(c)で表される化合物の代表的な例としては、(3,4,3’,4’-ジエポキシ)ビシクロヘキシル、ビス(3,4-エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル、1,2-エポキシ-1,2-ビス(3,4-エポキシシクロヘキサン-1-イル)エタン、2,2-ビス(3,4-エポキシシクロヘキサン-1-イル)プロパン、1,2-ビス(3,4-エポキシシクロヘキサン-1-イル)エタンや、下記式(c-1)~(c-8)で表される化合物等を挙げることができる。尚、下記式(c-5)、(c-7)中のn1、n2は、それぞれ1~30の整数を表す。下記式(c-5)中のLは炭素数1~8の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 脂環式エポキシ化合物には、上記式(c)で表される化合物の他に、下記式(c-9)で表される1,2:8,9-ジエポキシリモネンのように、分子内に脂環と2個以上のエポキシ基を有し、且つ2個以上のエポキシ基のうち1個がシクロヘキセンオキシド基である化合物も含まれる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
 脂環式エポキシ化合物には、更に、下記式(c-10)、(c-11)で表される3個以上のシクロヘキセンオキシド基を有する脂環式エポキシ化合物や、下記式(c-12)~(c-15)で表されるシクロヘキセンオキシド基を1個有し、他にエポキシ基を有しない脂環式エポキシ化合物も含まれる。尚、下記式(c-10)、(c-11)中のn3~n8は、同一又は異なって1~30の整数を示し、下記式(c-14)中のR19、R20は、同一又は異なって炭素数1~31の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
 本発明のエポキシ化合物(C)としては、特に基材(例えば、ガラス)に対する密着性に優れる点で、上記式(c)で表される、1分子中にシクロヘキセンオキシド基を2個有する化合物を少なくとも含有することが好ましく、特に、上記式(c-1)で表される3,4-エポキシシクロヘキシルメチル(3,4-エポキシ)シクロヘキサンカルボキシレートを含有することが好ましい。
 また、硬化物に高い表面硬度と耐熱性を所望する場合は、エポキシ化合物(C)としてエポキシ変性シロキサン化合物を含有していてもよい。
 前記エポキシ変性シロキサン化合物としては、例えば、エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンや、エポキシ変性シリコーン等を挙げることができる。これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
 エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンとしては、例えば、下記式(c-16)、(c-17)で表される構成単位を有する化合物(ランダム構造、かご型構造、及びはしご型構造の化合物を含む)等を挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 また、エポキシ変性シリコーンには環状構造、及び鎖状構造の化合物が含まれる。環状構造を有するエポキシ変性シリコーンは、例えば、下記式(c-18)で表される。また、鎖状構造を有するエポキシ変性シリコーンは、例えば、下記式(c-19)で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
 上記式中、R21~R37は、同一又は異なって、水素原子、又はオキシラン環を有していてもよい炭化水素基を示す。炭化水素基としては式(b’)中のRcと同様の例を挙げることができる。また、上記式(c-18)中のm1、及び上記式(c-19)中のm2は、同一又は異なって、1以上の整数である。m1及びm2が2以上の整数である場合、(c-18)中のm1個のR26、及びR27はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。(c-19)中のm2個のR32、及びR33はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。但し、ポリオルガノシルセスキオキサンに含まれるR21~R23の少なくとも1つ、及び環状構造を有するシリコーンに含まれるR24~R29の少なくとも1つ、及び鎖状構造を有するシリコーンに含まれるR30~R37の少なくとも1つはオキシラン環を有する炭化水素基(例えば、シクロヘキセンオキシド基を有する炭化水素基、又はグリシジル基を有する炭化水素基)である。
 エポキシ変性シロキサン化合物の含有量は、モノマー組成物に含まれる全エポキシ化合物の、例えば1~100重量%であり、上限は、好ましくは80重量%、特に好ましくは70重量%、最も好ましくは60重量%である。下限は、好ましくは5重量%、特に好ましくは10重量%、最も好ましくは20重量%である。
 [モノマー組成物]
 本発明のモノマー組成物は、ビニルエーテル化合物(A)を少なくとも含有するモノマー組成物であって、前記ビニルエーテル化合物(A)として環状エーテル骨格を有するビニルエーテル化合物(a)を少なくとも含有し、更に、鎖式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a’)、環式炭化水素骨格を有するジビニルエーテル化合物(a"-1)、オキセタン化合物(B)、及びエポキシ化合物(C)からなる群より選択される少なくとも1種の化合物を含有するモノマー組成物である。
本発明のモノマー組成物には、以下の[1]~[6]の態様が含まれる。
[1] ビニルエーテル化合物(A)、オキセタン化合物(B)、及びエポキシ化合物(C)を含有するモノマー組成物であって、ビニルエーテル化合物(A)として式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物、オキセタン化合物(B)として3-エチル-3-[(2-エチルヘキシルオキシ)メチル]オキセタンを含有し、且つ前記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物の含有量が、モノマー組成物全量の5重量%以上、30重量%未満であるモノマー組成物(以後、「モノマー組成物(Type 1)」と称する場合がある)。
[2] ビニルエーテル化合物(A)、及びオキセタン化合物(B)を含有するモノマー組成物であって、ビニルエーテル化合物(A)として式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物を含有し、オキセタン化合物(B)として式(b’)で表される化合物を含有するモノマー組成物(以後、「モノマー組成物(Type 2)」と称する場合がある)。
[3] ビニルエーテル化合物(A)及びエポキシ化合物(C)を含むモノマー組成物であって、ビニルエーテル化合物(A)として式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物をモノマー組成物全量の5重量%以上、30重量%未満含有し、エポキシ化合物(C)として1,2:8,9-ジエポキシリモネンをモノマー組成物全量の40重量%超含有するモノマー組成物(以後、「モノマー組成物(Type 3)」と称する場合がある)。
[4] ビニルエーテル化合物(A)、オキセタン化合物(B)、及びエポキシ化合物(C)を含むモノマー組成物であって、ビニルエーテル化合物(A)として前記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物をモノマー組成物全量の5重量%以上、30重量%未満含有し、オキセタン化合物(B)として3-エチル-3-[(2-エチルヘキシルオキシ)メチル]オキセタンを含む単官能オキセタン化合物をモノマー組成物全量の10~85重量%含有し、エポキシ化合物(C)として1,2:8,9-ジエポキシリモネンをモノマー組成物全量の10~40重量%含有するモノマー組成物(以後、「モノマー組成物(Type 4)」と称する場合がある)。
[5] ビニルエーテル化合物(A)、及びオキセタン化合物(B)を含有するモノマー組成物であって、ビニルエーテル化合物(A)として式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物と、環式炭化水素骨格を有するジビニルエーテル化合物(a"-1)とを含有し、オキセタン化合物(B)として単官能オキセタン化合物を含有するモノマー組成物(以後、「モノマー組成物(Type 5)」と称する場合がある)。
[6] ビニルエーテル化合物(A)を含むモノマー組成物であって、単官能モノマーをモノマー組成物全量の20~70重量%含有し、環状エーテル骨格を有するビニルエーテル化合物(a)と鎖式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a’)をモノマー組成物全量の10~40重量%含有し、且つ前記環状エーテル骨格を有するビニルエーテル化合物(a)の含有量がモノマー組成物全量の5重量%以上、30重量%未満であることを特徴とするモノマー組成物(以後、「モノマー組成物(Type 6)」と称する場合がある)。
 (モノマー組成物(Type 1))
 モノマー組成物(Type 1)は、カチオン重合性モノマーとして、上記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物を少なくとも含むビニルエーテル化合物(A)を含有する。上記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物以外にも他のビニルエーテル化合物を含有していても良いが、モノマー組成物に含まれる全ビニルエーテル化合物に占める上記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物の割合は、例えば50重量%以上、好ましくは70重量%以上、特に好ましくは85重量%以上である。
 また、上記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物の含有量(2種含有する場合はその総量)は、モノマー組成物全量(モノマー組成物に含まれる全カチオン重合性モノマー)の5重量%以上、30重量%未満であり、好ましくは10重量%以上、30重量%未満、特に好ましくは10~25重量%である。上記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物の含有量が上記範囲を上回ると、該モノマー組成物に光酸発生剤を配合して得られる硬化性組成物は、水分存在下では硬化速度が著しく低下し、硬化が困難となる場合が発生するため好ましくない。一方、上記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物の含有量が上記範囲を下回ると、速硬化性が得られないため好ましくない。
 モノマー組成物(Type 1)は、オキセタン化合物(B)として3-エチル-3-[(2-エチルヘキシルオキシ)メチル]オキセタンを少なくとも含有する。それ以外にも他のオキセタン化合物を含有していても良いが、モノマー組成物に含まれる全オキセタン化合物に占める3-エチル-3-[(2-エチルヘキシルオキシ)メチル]オキセタンの割合は、例えば50重量%以上、好ましくは70重量%以上、特に好ましくは85重量%以上である。
 3-エチル-3-[(2-エチルヘキシルオキシ)メチル]オキセタンの含有量は、モノマー組成物全量(モノマー組成物に含まれる全カチオン重合性モノマー)の例えば5~80重量%、好ましくは10~70重量%、特に好ましくは20~60重量%である。3-エチル-3-[(2-エチルヘキシルオキシ)メチル]オキセタンを上記範囲で含有するモノマー組成物に光酸発生剤を配合して得られる硬化性組成物は、紫外線を照射すると水分存在下でも速やかに硬化して、優れた基材密着性を有する硬化物を形成することができる。一方、3-エチル-3-[(2-エチルヘキシルオキシ)メチル]オキセタンの含有量が上記範囲を上回ると、速硬化性が得られにくくなる傾向があり、3-エチル-3-[(2-エチルヘキシルオキシ)メチル]オキセタンの含有量が上記範囲を下回ると、基材密着性が低下する傾向がある。
 モノマー組成物(Type 1)はシクロヘキセンオキシド基を有するエポキシ化合物を含むエポキシ化合物(C)を含有することが好ましく、エポキシ化合物(C)の含有量は、モノマー組成物全量(モノマー組成物に含まれる全カチオン重合性モノマー)の例えば5~80重量%、好ましくは10~70重量%、特に好ましくは20~60重量%である。エポキシ化合物(C)を上記範囲で含有するモノマー組成物に光酸発生剤を配合して得られる硬化性組成物は、紫外線を照射すると水分存在下でも速やかに硬化して、優れた基材密着性を有する硬化物を形成することができる。一方、エポキシ化合物(C)の含有量が上記範囲を上回ると、速硬化性が得られにくくなる傾向があり、エポキシ化合物(C)の含有量が上記範囲を下回ると、水分存在下では硬化速度が著しく低下し、硬化が困難となる傾向がある。また、硬化物の基材密着性が低下する傾向もある。
 (モノマー組成物(Type 2))
 モノマー組成物(Type 2)は、カチオン重合性モノマーとして、上記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物を少なくとも含むビニルエーテル化合物(A)を含有する。モノマー組成物(Type 2)は、上記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物以外にも他のビニルエーテル化合物を含有していても良いが、モノマー組成物に含まれる全ビニルエーテル化合物に占める上記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物の割合は、例えば30重量%以上、好ましくは50重量%以上、特に好ましくは80重量%以上である。
 式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物の含有量(2種含有する場合はその総量)は、モノマー組成物全量(モノマー組成物に含まれる全カチオン硬化性モノマー)の例えば5重量%以上、30重量%未満程度であり、好ましくは5~25重量%、特に好ましくは10~25重量%である。式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物を上記範囲で含有するモノマー組成物に光酸発生剤を配合して得られる硬化性組成物は、水分存在下でも速やかに硬化して、優れた基材密着性を有する硬化物を得ることができる。一方、式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物の含有量が上記範囲を上回ると、水分存在下では硬化速度が低下する傾向がある。また、式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物の含有量が上記範囲を下回ると、速硬化性が得られ難くなる傾向がある。
 また、式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物を含む全ビニルエーテル化合物(A)の含有量は、モノマー組成物全量(モノマー組成物に含まれる全カチオン硬化性モノマー)の例えば5~80重量%程度、好ましくは10~70重量%、特に好ましくは20~60重量%である。
 モノマー組成物(Type 2)は、オキセタン化合物(B)として式(b’)で表される化合物を少なくとも含有する。前記式(b’)で表される化合物としては、特に、3-アリルオキシオキセタン及び/又は3-(2-エチルヘキシルオキシ)オキセタンが好ましい。
 上記式(b’)で表される化合物以外にも他のオキセタン化合物を含有していてもよいが、モノマー組成物に含まれる全オキセタン化合物に占める上記式(b’)で表される化合物(特に、3-アリルオキシオキセタン及び/又は3-(2-エチルヘキシルオキシ)オキセタン)の割合(2種以上含有する場合はその総量の割合)は、例えば10重量%以上、好ましくは40重量%以上、特に好ましくは70重量%以上である。上記式(b’)で表される化合物の割合が上記範囲を下回ると、すなわち他のオキセタン化合物の割合が上記範囲を上回ると、水分存在下での硬化性が低下する傾向がある。
 式(b’)で表される化合物を含む全オキセタン化合物(B)の含有量は、モノマー組成物全量(モノマー組成物に含まれる全カチオン硬化性モノマー)の例えば10~70重量%程度、好ましくは20~70重量%、特に好ましくは30~60重量%である。
 また、式(b’)で表される化合物の含有量(2種以上含有する場合はその総量)は、モノマー組成物全量(モノマー組成物に含まれる全カチオン硬化性モノマー)の例えば5~90重量%程度である。下限は、好ましくは20重量%、より好ましくは30重量%、特に好ましくは40重量%、最も好ましくは45重量%である。上限は、好ましくは80重量%であり、水分存在下での硬化性に優れる点で75重量%が特に好ましく、最も好ましくは70重量%、更に好ましくは60重量%である。式(b’)で表される化合物を上記範囲で含有するモノマー組成物に光酸発生剤を配合して得られる硬化性組成物は、水分存在下でも速やかに硬化して、優れた基材密着性を有する硬化物を形成することができる。
 モノマー組成物(Type 2)は、シクロヘキセンオキシド基を有するエポキシ化合物を含むエポキシ化合物(C)を含有していてもよく、エポキシ化合物(C)(特に、脂環式エポキシ化合物)の含有量は、モノマー組成物全量(モノマー組成物に含まれる全カチオン硬化性モノマー)の例えば5~80重量%、好ましくは10~70重量%、特に好ましくは20~60重量%である。エポキシ化合物(C)を上記範囲で含有すると水分存在下でも速やかに硬化し、基材密着性に優れた硬化物が得られる点で好ましい。
 また、モノマー組成物全量(モノマー組成物に含まれる全カチオン硬化性モノマー)におけるビニルエーテル化合物(A)とエポキシ化合物(C)との合計含有量は、例えば5~90重量%、好ましくは10~80重量%、特に好ましくは20~80重量%、最も好ましくは40~75重量%である。ビニルエーテル化合物(A)とエポキシ化合物(C)を上記範囲で含有すると、水分存在下でも速やかに硬化し、基材密着性に優れた硬化物が得られる点で好ましい。
 (モノマー組成物(Type 3))
 モノマー組成物(Type 3)は、カチオン重合性モノマーとして、上記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物を少なくとも含むビニルエーテル化合物(A)を含有する。
 式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物の含有量(2種含有する場合はその総量)は、モノマー組成物全量(モノマー組成物に含まれる全モノマー)の5重量%以上、30重量%未満であり、好ましくは10重量%以上、30重量%未満、特に好ましくは10~25重量%である。上記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物の含有量が上記範囲を上回ると、該モノマー組成物に光酸発生剤を配合して得られる硬化性組成物は、水分存在下では硬化速度が著しく低下し、硬化困難となる場合が発生するため好ましくない。一方、上記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物の含有量が上記範囲を下回ると、速硬化性が得られないため好ましくない。
 モノマー組成物(Type 3)は、上記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物以外にも他のビニルエーテル化合物を1種又は2種以上含有していても良く、他のビニルエーテル化合物の含有量はモノマー組成物全量(モノマー組成物に含まれる全モノマー)の例えば1~50重量%程度、好ましくは5~40重量%、特に好ましくは10~30重量%である。なかでも、鎖式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a’)[例えば、式(a’)で表される化合物、特にジビニルエーテル化合物]及び/又は環式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a”)[例えば、式(a”)で表される化合物、特にジビニルエーテル化合物]を含有することが、速硬化性を有し、強靭性に優れた硬化物を形成することができる点で好ましく、前記鎖式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a’)と環式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a”)の含有量の和は、モノマー組成物に含まれる全ビニルエーテル化合物の例えば10~70重量%、好ましくは20~60重量%、特に好ましくは30~50重量%である。
 モノマー組成物(Type 3)は、モノマーとして更にオキセタン化合物(B)を含有しても良く、含有しなくとも良い。オキセタン化合物(B)を含有する場合、オキセタン化合物(B)は、単官能オキセタン化合物及び多官能オキセタン化合物の何れであっても良い。オキセタン化合物(B)の含有量は、モノマー組成物全量(モノマー組成物に含まれる全モノマー)の50重量%以下程度であり、好ましくは5~50重量%、特に好ましくは5~20重量%である。
 また、モノマー組成物(Type 3)は、1,2:8,9-ジエポキシリモネンを、モノマー組成物全量(モノマー組成物に含まれる全モノマー)の40重量%超(好ましくは40重量%を超え、80重量%以下、特に好ましくは40重量%を超え、60重量%以下、最も好ましくは45~60重量%)含有する。
 モノマー組成物(Type 3)は、1,2:8,9-ジエポキシリモネン以外にも他のエポキシ化合物を含有していても良く、他のエポキシ化合物の含有量はモノマー組成物全量(モノマー組成物に含まれる全モノマー)の例えば1~50重量%程度、好ましくは5~40重量%、特に好ましくは10~30重量%である。他のエポキシ化合物を上記範囲で含有すると、基材への密着性や硬化性を向上する効果が得られる。
 (モノマー組成物(Type 4))
 モノマー組成物(Type 4)は、カチオン重合性モノマーとして、上記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物を少なくとも含むビニルエーテル化合物(A)を含有する。
 式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物の含有量(2種含有する場合はその総量)は、モノマー組成物全量(モノマー組成物に含まれる全モノマー)の5重量%以上、30重量%未満であり、好ましくは10重量%以上、30重量%未満、特に好ましくは10~25重量%である。上記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物の含有量が上記範囲を上回ると、該モノマー組成物に光酸発生剤を配合して得られる硬化性組成物は、水分存在下では硬化速度が著しく低下し、硬化困難となる場合が発生するため好ましくない。一方、上記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物の含有量が上記範囲を下回ると、速硬化性が得られないため好ましくない。
 モノマー組成物(Type 4)は、上記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物以外にも他のビニルエーテル化合物を1種又は2種以上含有していても良く、他のビニルエーテル化合物の含有量はモノマー組成物全量(モノマー組成物に含まれる全モノマー)の例えば1~50重量%程度、好ましくは5~40重量%、特に好ましくは10~30重量%である。なかでも、鎖式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a’)[例えば、式(a’)で表される化合物、特にジビニルエーテル化合物]及び/又は環式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a”)[例えば、式(a”)で表される化合物、特にジビニルエーテル化合物]を含有することが、速硬化性を有し、強靭性に優れた硬化物を形成することができる点で好ましく、前記鎖式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a’)と環式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a”)の含有量の和は、モノマー組成物に含まれる全ビニルエーテル化合物の例えば10~70重量%、好ましくは20~60重量%、特に好ましくは30~50重量%である。
 モノマー組成物(Type 4)は、オキセタン化合物(B)として3-エチル-3-[(2-エチルヘキシルオキシ)メチル]オキセタンを含む単官能オキセタン化合物をモノマー組成物全量(モノマー組成物に含まれる全モノマー)の10~85重量%(好ましくは10~60重量%、特に好ましくは20~40重量%)含有する。
 また、3-エチル-3-[(2-エチルヘキシルオキシ)メチル]オキセタンの含有量は、モノマー組成物全量(モノマー組成物に含まれる全モノマー)の例えば5~50重量%程度、好ましくは10~40重量%、特に好ましくは20~40重量%である。3-エチル-3-[(2-エチルヘキシルオキシ)メチル]オキセタンを上記範囲で含有すると、基材への密着性を向上する効果が得られる。
 モノマー組成物(Type 4)は、1,2:8,9-ジエポキシリモネンを、モノマー組成物全量(モノマー組成物に含まれる全モノマー)の10~40重量%(好ましくは20~30重量%)含有する。
 モノマー組成物(Type 4)は、1,2:8,9-ジエポキシリモネン以外にも他のエポキシ化合物を含有していても良く、他のエポキシ化合物の含有量はモノマー組成物全量(モノマー組成物に含まれる全モノマー)の例えば1~50重量%程度、好ましくは5~40重量%、特に好ましくは10~30重量%である。他のエポキシ化合物を上記範囲で含有すると、基材への密着性や硬化性を向上する効果が得られる。
 更にまた、1,2:8,9-ジエポキシリモネンと3-エチル-3-[(2-エチルヘキシルオキシ)メチル]オキセタンの含有量の和は、モノマー組成物全量(モノマー組成物に含まれる全モノマー)の50重量%以上であることが好ましく、特に好ましくは50~80重量%、最も好ましくは50~60重量%である。
 (モノマー組成物(Type 5))
 モノマー組成物(Type 5)は、(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物と環式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a”)とを含有する。
 モノマー組成物(Type 5)における前記(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物の含有量は、モノマー組成物全量(モノマー組成物に含まれる全カチオン重合性モノマー)の、例えば5重量%以上、30重量%未満程度、好ましくは10重量%以上、30重量%未満、特に好ましくは10~25重量%である。式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物の含有量が多すぎると、該モノマー組成物に光酸発生剤を配合して得られる硬化性組成物は、水分による硬化阻害を防止することが困難となる傾向がある。一方、式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物の含有量が少なすぎると、速硬化性が得られ難くなる傾向がある。
 前記環式炭化水素骨格を有するジビニルエーテル化合物(a"-1)としては、なかでも、前記式(a"-1)で表される化合物を使用することが、速硬化性を維持しつつ、水分による硬化阻害を抑制することができる点で好ましい。
 式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物と環式炭化水素骨格を有するジビニルエーテル化合物(a"-1)の合計含有量は、モノマー組成物全量(モノマー組成物に含まれる全カチオン重合性モノマー)の例えば10~80重量%、好ましくは20~80重量%、特に好ましくは30~70重量%、最も好ましくは30~60重量%である。式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物と環式炭化水素骨格を有するジビニルエーテル化合物(a"-1)の合計含有量が上記範囲を上回ると、基材密着性に優れた硬化物が得られ難くなる傾向がある。一方、式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物と環式炭化水素骨格を有するジビニルエーテル化合物(a"-1)の合計含有量が上記範囲を下回ると、速硬化性が得られ難くなる傾向がある。
 前記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物と環式炭化水素骨格を有するジビニルエーテル化合物(a"-1)の含有量の比(重量比、前者:後者)は、例えば90:10~10:90程度、好ましくは80:20~20:80、より好ましくは75:25~30:70、特に好ましくは75:25~40:60である。式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物と環式炭化水素骨格を有するジビニルエーテル化合物(a"-1)を上記割合で配合することにより、速硬化性を有し、且つ水分による硬化阻害を抑制することができるモノマー組成物を得ることができる。式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物の含有量が過剰となると、水分による硬化阻害を抑制することが困難となる傾向がある。一方、環式炭化水素骨格を有するジビニルエーテル化合物(a"-1)の含有量が過剰となると、速硬化性が得られ難くなる傾向がある。
 モノマー組成物(Type 5)は、上記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物と環式炭化水素骨格を有するジビニルエーテル化合物(a"-1)以外にも他のビニルエーテル化合物を含有していても良いが、モノマー組成物に含まれる全ビニルエーテル化合物に占める前記ジビニルエーテル化合物の合計含有量は、例えば50重量%以上、好ましくは70重量%以上、特に好ましくは85重量%以上である。
 モノマー組成物(Type 5)は、オキセタン化合物(B)として単官能オキセタン化合物を少なくとも含有する。単官能オキセタン化合物の含有量は、モノマー組成物全量(モノマー組成物に含まれる全カチオン重合性モノマー)の例えば10~70重量%程度、好ましくは20~60重量%、特に好ましくは20~50重量%である。単官能オキセタン化合物を上記範囲で含有するモノマー組成物に光酸発生剤を配合して得られる硬化性組成物は、紫外線を照射すると水分存在下でも速やかに硬化して、優れた基材密着性を有する硬化物を得ることができる。一方、単官能オキセタン化合物の含有量が上記範囲を上回ると、速硬化性が得られ難くなる傾向があり、単官能オキセタン化合物の含有量が上記範囲を下回ると、基材密着性が低下する傾向がある。
 モノマー組成物(Type 5)は、単官能オキセタン化合物と共に多官能オキセタン化合物[例えば、1,4-ビス([(3-エチル-3-オキセタニル)メトキシ]メチル)ベンゼン、ビス[(3-エチルオキセタン-3-イル)メチル]エーテル等]も含有していてもよいが、モノマー組成物に含まれる全オキセタン化合物に占める単官能オキセタン化合物の割合は、例えば50重量%以上、好ましくは70重量%以上、特に好ましくは85重量%以上である。
 モノマー組成物(Type 5)は、シクロヘキセンオキシド基を有するエポキシ化合物を含むエポキシ化合物(C)を含有することが好ましく、エポキシ化合物(C)の含有量は、モノマー組成物全量(モノマー組成物に含まれる全カチオン重合性モノマー)の例えば5~80重量%、好ましくは10~70重量%、特に好ましくは20~60重量%、最も好ましくは20~50重量%、更に好ましくは20~40重量%である。エポキシ化合物(C)を上記範囲で含有するモノマー組成物に光酸発生剤を配合して得られる硬化性組成物は、紫外線を照射すると水分存在下でも速やかに硬化して、優れた基材密着性を有する硬化物を得ることができる。
 さらに、単官能オキセタン化合物とエポキシ化合物(C)の合計含有量は、モノマー組成物全量(モノマー組成物に含まれる全カチオン重合性モノマー)の例えば15~80重量%程度、好ましくは30~70重量%、特に好ましくは40~70重量%、最も好ましくは45~70重量%である。
 (モノマー組成物(Type 6))
 モノマー組成物(Type 6)は、単官能モノマー(特に、単官能カチオン重合性モノマー)をモノマー組成物全量(モノマー組成物に含まれる全モノマー)の20~70重量%、好ましくは20~60重量%、特に好ましくは20~50重量%含有する。そのため、該モノマー組成物と光酸発生剤を含有する硬化性組成物は、硬化過程における収縮を抑制することができ、基材密着性に優れた硬化物を得ることができる。
 ビニルエーテル化合物(A)に含まれる環状エーテル骨格を有するビニルエーテル化合物(a)と鎖式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a’)の含有量の和は、モノマー組成物全量(モノマー組成物に含まれる全モノマー)の10~40重量%であり、好ましくは15~40重量%、特に好ましくは20~40重量%である。
 また、環状エーテル骨格を有するビニルエーテル化合物(a)の含有量(2種含有する場合はその総量)は、モノマー組成物全量(モノマー組成物に含まれる全モノマー)の5重量%以上、30重量%未満であり、好ましくは10~30重量%、特に好ましくは15~30重量%である。モノマー組成物(Type 6)は、環状エーテル骨格を有するビニルエーテル化合物(a)を上記範囲で含有するため、モノマー組成物に光酸発生剤を添加して得られる硬化性組成物は、水分による硬化阻害を抑制しつつ、速硬化性を発揮することができる。環状エーテル骨格を有するビニルエーテル化合物(a)の含有量が上記範囲を上回ると、水分による硬化阻害を抑制することが困難となる。一方、環状エーテル骨格を有するビニルエーテル化合物(a)の含有量が上記範囲を下回ると、速硬化性が得られ難くなる。
 前記環状エーテル骨格を有するビニルエーテル化合物(a)としては、前記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物が好ましい。
 鎖式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a’)の含有量(2種含有する場合はその総量)は、モノマー組成物全量(モノマー組成物に含まれる全モノマー)の例えば5~35重量%程度であり、好ましくは5~25重量%、特に好ましくは10~20重量%である。鎖式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a’)を上記範囲に含有することにより、基材への密着性を向上する効果が得られる。
 また、環状エーテル骨格を有するビニルエーテル化合物(a)と鎖式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a’)の含有量の比(前者:後者、重量比)は、例えば10:90~90:10程度、好ましくは30:70~80:20、特に好ましくは50:50~70:30である。環状エーテル骨格を有するビニルエーテル化合物(a)の含有量が過剰となると、水分による硬化阻害を抑制することが困難となる傾向がある。一方、鎖式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a’)の含有量が過剰となると、速硬化性が得られ難くなる傾向がある。
 モノマー組成物(Type 6)は、上記環状エーテル骨格を有するビニルエーテル化合物(a)と鎖式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a’)以外にも他のビニルエーテル化合物を含有していてもよい。
 モノマー組成物(Type 6)はビニルエーテル化合物(A)として、更に、環式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a”)を含有することが好ましく、環式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a”)の含有量は、モノマー組成物全量(モノマー組成物に含まれる全モノマー)の例えば1~50重量%程度、好ましくは5~50重量%、特に好ましくは5~30重量%、最も好ましくは5~20重量%である。
 モノマー組成物(Type 6)は上記環状エーテル骨格を有するビニルエーテル化合物(a)、鎖式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a’)、及び環式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a”)以外のビニルエーテル化合物を含有していても良いが、他のビニルエーテル化合物の含有量は、モノマー組成物に含まれる全ビニルエーテル化合物の20%以下程度、好ましくは10重量%以下である。
 モノマー組成物(Type 6)は、オキセタン化合物(B)を含有することが、各種基材への密着性を向上させる点、及び得られる硬化物に強靱性を付与できる点で好ましい。オキセタン化合物(B)の含有量は、モノマー組成物全量(モノマー組成物に含まれる全モノマー)の例えば5~80重量%程度、好ましくは10~70重量%、特に好ましくは15~60重量%である。オキセタン化合物(B)を上記範囲で含有するモノマー組成物に光酸発生剤を配合して得られる硬化性組成物は、水分による硬化阻害を抑制しつつ、速硬化性を発揮することができる。
 モノマー組成物(Type 6)は、更にエポキシ化合物(C)を含有することが好ましく、エポキシ化合物(C)の含有量は、モノマー組成物全量(モノマー組成物に含まれる全モノマー)の例えば5~80重量%程度、好ましくは10~60重量%、特に好ましくは10~40重量%である。エポキシ化合物(C)を上記範囲で含有するモノマー組成物に光酸発生剤を配合して得られる硬化性組成物の硬化物は、優れた基材密着性を有する。
 モノマー組成物(Type 1-6)は上記化合物以外にも、他のモノマーを含有していてもよいが、他のモノマーの含有量はモノマー組成物全量(モノマー組成物に含まれる全モノマー)の30重量%以下程度であり、好ましくは20重量%以下である。
 本発明のモノマー組成物は、上記ビニルエーテル化合物(A)、オキセタン化合物(B)、エポキシ化合物(C)、及び必要に応じて他のカチオン重合性モノマー等を、自公転式撹拌脱泡装置、ホモジナイザー、プラネタリーミキサー、3本ロールミル、ビーズミル等の一般的に知られる混合用機器を使用して均一に混合することにより製造することができる。尚、各成分は、同時に混合してもよいし、逐次混合してもよい。
 [硬化性組成物]
 本発明の硬化性組成物は、上記モノマー組成物と光酸発生剤を含有する。
 (光酸発生剤)
 光酸発生剤は光の照射によって酸を発生させる化合物であり、光カチオン重合開始剤とも称される。光酸発生剤は、光を吸収するカチオン部と酸の発生源となるアニオン部からなり、例えば、ジアゾニウム塩系化合物、ヨードニウム塩系化合物、スルホニウム塩系化合物、ホスホニウム塩系化合物、セレニウム塩系化合物、オキソニウム塩系化合物、アンモニウム塩系化合物、臭素塩系化合物、メタロセン錯体、鉄アレーン錯体等を挙げることができる。これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
 前記スルホニウム塩系化合物のカチオン部としては、例えば、(4-ヒドロキシフェニル)メチルベンジルスルホニウムイオン、トリフェニルスルホニウムイオン、ジフェニル[4-(フェニルチオ)フェニル]スルホニウムイオン、トリ-p-トリルスルホニウムイオン等のアリールスルホニウムイオン(特に、トリアリールスルホニウムイオン)を挙げることができる。
 光酸発生剤のアニオン部としては、例えば、BF4 -、CF3SO3 -、CH364SO3 -、CH3(NO2)C64SO3 -、B(C654 -、PF6 -、[(Rf)tPF6-t-(Rf:水素原子の80%以上がフッ素原子で置換されたアルキル基、t:1~5の整数)、AsF6 -、SbF6 -、SbF5OH-、ハロゲン系アニオン、スルホン酸系アニオン、カルボン酸系アニオン、硫酸アニオン等を挙げることができる。
 本発明の光酸発生剤としては、例えば、下記式で表される化合物を挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
 本発明においては、例えば、商品名「サイラキュアUVI-6970」、「サイラキュアUVI-6974」、「サイラキュアUVI-6990」、「サイラキュアUVI-950」(以上、米国ユニオンカーバイド社製)、「イルガキュア250」、「イルガキュア261」、「イルガキュア264」、「イルガキュア270」、「イルガキュア290」(以上、BASF社製)、「CG-24-61」(チバガイギー社製)、「アデカオプトマーSP-150」、「アデカオプトマーSP-151」、「アデカオプトマーSP-170」、「アデカオプトマーSP-171」(以上、(株)ADEKA製)、「DAICAT II」((株)ダイセル製)、「UVAC1590」、「UVAC1591」(以上、ダイセル・サイテック(株)製)、「CI-2064」、「CI-2639」、「CI-2624」、「CI-2481」、「CI-2734」、「CI-2855」、「CI-2823」、「CI-2758」、「CIT-1682」(以上、日本曹達(株)製)、「PI-2074」(ローディア社製、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート トルイルクミルヨードニウム塩)、「FFC509」(3M社製)、「BBI-102」、「BBI-101」、「BBI-103」、「MPI-103」、「BDS-105」、「TPS-103」、「MDS-103」、「MDS-105」、「MDS-203」、「MDS-205」、「DTS-102」、「DTS-103」、「NAT-103」、「NDS-103」、「BMS-105」、「TMS-105」(以上、ミドリ化学(株)製)、「CD-1010」、「CD-1011」、「CD-1012」(以上、米国、Sartomer社製)、「CPI-100P」、「CPI-101A」、「CPI-110P」、「CPI-110A」、「CPI-210S」(以上、サンアプロ(株)製)、「UVI-6992」、「UVI-6976」(以上、ダウ・ケミカル社製)等の市販品を使用できる。
 上記モノマー組成物の含有量は、本発明の硬化性組成物全量(100重量%)の、例えば50~99.9重量%程度、好ましくは70~99.5重量%である。
 また、本発明の硬化性組成物における光酸発生剤の含有量は、モノマー組成物100重量部に対して、例えば0.1~20重量部程度、好ましくは0.5~10重量部である。
 本発明の硬化性組成物は無溶剤系であること、即ち溶剤を含有しないことが、乾燥性を向上することができる点、溶剤により劣化し易い基材にも適用可能となる点、及び溶剤の揮発による臭気の発生を防止することができる点で好ましく、溶剤の含有量は硬化性組成物全量(100重量%)の10重量%以下、好ましくは5重量%以下、特に好ましくは1重量%以下である。
 本発明の硬化性組成物はモノマー組成物と光酸発生剤以外にも必要に応じて他の成分を含有していても良く、例えば、周知慣用の増感剤(例えば、アクリジン化合物、ベンゾフラビン類、ペリレン類、アントラセン類、チオキサントン化合物類、レーザ色素類等)、増感助剤、酸化防止剤、安定化剤(例えば、アミン類等)等を挙げることができる。特に、本発明の硬化性組成物をUV-LEDを照射して硬化させる用途に使用する場合には、増感剤、及び必要に応じて増感助剤を含有することが、光酸発生剤の紫外線光吸収率を向上して硬化性を向上することができる点で好ましく、これらの含有量(2種以上含有する場合はその総量)は、硬化性組成物全量(100重量%)の、例えば0.05~10重量%程度、好ましくは0.1~5重量%である。
 本発明の硬化性組成物の表面張力(25℃、1気圧下における)は、例えば10~50mN/m程度、好ましくは15~40mN/m、特に好ましくは15~30mN/mである。また、本発明の硬化性組成物の粘度[25℃、せん断速度10(1/s)における]は、例えば1~1000mPa・s程度、好ましくは3~500mPa・s、特に好ましくは5~100mPa・s、最も好ましくは5~50mPa・s、更に好ましくは8~30mPa・sである。そのため、本発明の硬化性組成物は吐出性若しくは充填性に優れる。
 また、本発明の硬化性組成物は、酸素や水分の存在下でも紫外線を照射することにより速やかに硬化して硬化物を形成することができる。そのため、紫外線硬化型インクジェット用インクに使用した場合は、滲みや臭気の発生を防止することができ、印字品質に優れたインク被膜を形成することができる。
 前記紫外線の光源としては、光を照射することにより、硬化性組成物中に酸を発生させることができる光源であれば良く、例えば、UV-LED、低、中、高圧水銀ランプのような水銀ランプ、水銀キセノンランプ、メタルハライドランプ、タングステンランプ、アーク灯、エキシマランプ、エキシマレーザ、半導体レーザ、YAGレーザ、レーザと非線形光学結晶とを組み合わせたレーザシステム、高周波誘起紫外線発生装置等を使用することができる。紫外線照射量(積算光量)は、例えば10~1000mJ/cm2程度である。
 本発明の硬化性組成物は、紫外線を照射した後に、更に加熱処理を施しても良い。加熱処理を施すことにより、硬化度をより一層向上させることができる。加熱処理を施す場合、加熱温度は40~200℃程度であり、加熱時間は1分~15時間程度である。また、紫外線を照射した後に、室温(20℃)で1~48時間程度静置することでも硬化度を向上させることができる。
 更に、本発明の硬化性組成物は、幅広い基材[例えば、ガラス、金属(例えば、アルミニウム箔、銅箔等)、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート(PET)、塩化ビニル樹脂、ポリカーボネート等)、天然ゴム、ブチルゴム、発泡体(例えば、ポリウレタン、ポリクロロプレンゴム等)、木材、織布、不織布、布、紙(例えば、上質紙、グラシン紙、クラフト紙、和紙等)、シリコンウェハ、セラミック等、及びこれらの複合体等]に対して優れた密着性を有する硬化物を形成することができる。
 本発明の硬化性組成物は上記特性を有するため、紫外線硬化型インクジェット用インク材料、塗料、接着剤、封止材、土木建築材料、積層板等の電気電子部品、フォトレジスト、ソルダーレジスト、多層配線板用層間構成材、絶縁材料、コンクリート建造物の補修材、注型用材料、シーラント、光造形用材料、レンズや光導波路等の光学材料等として好適に使用することができる。
 本発明の硬化性組成物は、特に、紫外線硬化型インクジェット用インク材料(例えば、紫外線硬化型インクジェット用透明インク)として使用することが好ましい。本発明の硬化性組成物からなる紫外線硬化型インクジェット用透明インクは、顔料及び/又は染料を添加することにより種々の顔料及び/又は染料インク(顔料インク、染料インク、又は顔料と染料とを含有するインク)を形成することができる。また、プライマーインクやニスコート用インク(顔料及び/又は染料インクを塗布する前や後に塗布することより、顔料及び/又は染料インクが基材表面に定着しやすくなり、高発色・高画質なインク被膜を形成することを可能とし、更にインクの裏抜け防止や耐候性、耐水性を向上することができるインク)としても使用可能である。
 [紫外線硬化型インクジェット用インク]
 本発明の紫外線硬化型インクジェット用インク(特に、顔料及び/又は染料インク)は、上記硬化性組成物(=紫外線硬化型インクジェット用透明インク)と顔料及び/又は染料を含有する。
 (顔料)
 顔料としては、一般に顔料として知られている色材であって、硬化性組成物中に分散可能なものであれば、特に制限なく使用することができる。顔料の平均粒子径は、300nm以下程度であることが吐出性、インク飛翔性、及び印字再現性に優れる点で好ましい。顔料は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
 顔料は、発色・着色性に加えて、磁性、蛍光性、導電性、又は誘電性等を併せて有するものであってもよい。この場合には、画像に様々な機能を付与することができる。
 使用可能な顔料としては、例えば、土製顔料(例えば、オーカー、アンバー等)、ラピスラズリ、アズライト、白亜、胡粉、鉛白、バーミリオン、ウルトラマリン、ビリジャン、カドミウムレッド、炭素顔料(例えば、カーボンブラック、カーボンリファインド、カーボンナノチューブ等)、金属酸化物顔料(例えば、鉄黒、コバルトブルー、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化クロム、酸化鉄等)、金属硫化物顔料(例えば、硫化亜鉛等)、金属硫酸塩、金属炭酸塩(例えば、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等)、金属ケイ酸塩、金属リン酸塩、金属粉末(例えば、アルミニウム粉末、ブロンズ粉末、亜鉛粉末等)等の無機顔料;不溶性アゾ顔料(例えば、モノアゾイエロー、モノアゾレッド、モノアゾバイオレット、ジスアゾイエロー、ジスアゾオレンジ、ピラゾロン顔料等)、溶性アゾ顔料(例えば、アゾイエローレーキ、アゾレーキレッド等)、ベンズイミダゾロン顔料、β-ナフトール顔料、ナフトールAS顔料、縮合アゾ顔料、キナクリドン顔料(例えば、キナクリドンレッド、キナクリドンマゼンタ等)、ペリレン顔料(例えば、ペリレンレッド、ペリレンスカーレット等)、ペリノン顔料(例えば、ペリノンオレンジ等)、イソインドリノン顔料(例えば、イソインドリノンイエロー、イソインドリノンオレンジ等)、イソインドリン顔料(例えば、イソインドリンイエロー等)、ジオキサジン顔料(例えば、ジオキサジンバイオレット等)、チオインジゴ顔料、アントラキノン顔料、キノフタロン顔料(例えば、キノフタロンイエロー等)、金属錯体顔料、ジケトピロロピロール顔料、フタロシアニン顔料(例えば、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン等)、染料レーキ顔料等の有機顔料;無機蛍光体や有機蛍光体等の蛍光顔料等を挙げることができる。
 (染料)
 前記染料としては、例えば、ニトロアニリン系、フェニルモノアゾ系、ピリドンアゾ系、キノフタロン系、スチリル系、アントラキノン系、ナフタルイミドアゾ系、ベンゾチアゾリルアゾ系、フェニルジスアゾ系、チアゾリルアゾ系染料等を挙げることができる。
 本発明の紫外線硬化型インクジェット用インクにおける顔料及び/又は染料の含有量(2種以上含有する場合はその総量)は、硬化性組成物100重量部に対して、例えば0.5~20重量部程度、好ましくは1~10重量部である。
 さらに、本発明の紫外線硬化型インクジェット用インクは、上記顔料や染料の分散性を向上するために分散剤を含有してもよい。分散剤としては、例えば、ノニオン系界面活性剤、イオン系界面活性剤、帯電剤、高分子系分散剤(例えば、商品名「Solsperse24000」、「Solsperse32000」、以上、アビシア社製)等を挙げることができる。これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
 上記分散剤の含有量は、顔料及び/又は染料100重量部に対して、例えば1~50重量部程度、好ましくは3~30重量部である。
 本発明の紫外線硬化型インクジェット用インクは、上記硬化性組成物を含有するため、空気雰囲気下で、湿度条件や被印刷物を特に限定することなく、且つ臭気の発生を抑制しつつ、非常に高精細なインク被膜を高速に形成することができる。
 以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
 実施例(1-1)
 ONB-DVE 25重量部、セロキサイド2021P 25重量部、OXT-212 50重量部、及び光酸発生剤 5重量部を混合して、硬化性組成物[表面張力(25℃、1気圧下における):19.5mN/m、粘度(25℃、せん断速度10(1/s)における):12mPa・s]を得た。
 実施例(1-2)~(1-18)、比較例(1-1)~(1-7)
 モノマー組成物を下記表1、2に記載の処方に変更した以外は実施例(1-1)と同様に行った。
 実施例(2-1)
 ALOX 50重量部、ONB-DVE 25重量部、セロキサイド2021P 25重量部、及び光酸発生剤 5重量部を混合して、硬化性組成物(表面張力(25℃、1気圧下における):19.6mN/m、粘度[25℃、せん断速度10(1/s)における:15.1mPa・s)を得た。
 実施例(2-2)~(2-21)、比較例(2-1)~(2-5)
 モノマー組成物を下記表3~5に記載の処方に変更した以外は実施例(2-1)と同様に行った。
 実施例(3-1)
 ONB-DVE 25重量部、4CH-DVE 25重量部、セロキサイド3000 50重量部、及び光酸発生剤 5重量部を混合して、硬化性組成物[表面張力(25℃、1気圧下における):24.1mN/m、粘度(25℃、せん断速度10(1/s)における):15.5mPa・s]を得た。
 実施例(3-2)~(3-14)、比較例(3-1)~(3-4)
 モノマー組成物を下記表6、7に記載の処方に変更した以外は実施例(3-1)と同様に行った。
 実施例(4-1)
 ONB-DVE 25重量部、4CH-DVE 25重量部、セロキサイド2021P 20重量部、OXT-212 30重量部、及び光酸発生剤 5重量部を混合して、硬化性組成物[表面張力(25℃、1気圧下における):20.1mN/m、粘度(25℃、せん断速度10(1/s)における):14mPa・s]を得た。
 実施例(4-2)~(4-22)、比較例(4-1)~(4-7)
 モノマー組成物を下記表8、9に記載の処方に変更した以外は実施例(4-1)と同様に行った。
 実施例(5-1)
 ISB-DVE 25重量部、TEGDVE 15重量部、OXT-212 40重量部、セロキサイド2021P 20重量部、及び光酸発生剤 5重量部を混合して、硬化性組成物[表面張力(25℃、1気圧下における):21.1mN/m、粘度(25℃、せん断速度10(1/s)における):14mPa・s]を得た。
 実施例(5-2)~(5-12)、比較例(5-1)~(5-5)
 モノマー組成物を下記表10、11に記載の処方に変更した以外は実施例(5-1)と同様に行った。
 (硬化性評価)
 得られた硬化性組成物をガラス板に塗布し(塗膜厚み:5μm)、光源として水銀キセノンランプ(商品「LC8 LIGHTNINGCURE L9588」、浜松ホトニクス(株)製)を使用して紫外線を照射して、タックが無くなるまで(具体的には、塗膜表面をキムワイプ(登録商標)で擦った際に、べとついたり、ガラス板から剥がれたりしない状態となるまで)の積算光量(=水非含有硬化性組成物の硬化に要する積算光量:mJ/cm2)を測定して、硬化性を評価した。
 (水分存在下における硬化性評価)
 得られた硬化性組成物100重量部に水5重量部を添加し、撹拌して水含有硬化性組成物を調製した。
 硬化性組成物に代えて水含有硬化性組成物を使用した以外は上記(硬化性評価)と同様にしてタックが無くなるまでの積算光量(mJ/cm2)を測定し、下記式から水添加による積算光量の増加率を算出して、水分存在下における硬化性を下記基準で評価した。
 積算光量の増加率(%)={(水含有硬化性組成物の硬化に要する積算光量/水非含有硬化性組成物の硬化に要する積算光量)-1}×100
 水分存在下における硬化性の評価基準
 積算光量の増加率が20%以上:硬化性不良(×)
 積算光量の増加率が10%以上、20%未満:硬化性良好(○)
 積算光量の増加率が10%未満:硬化性極めて良好(◎)
 (基材密着性評価)
 得られた硬化性組成物を基板(ガラス板又はPET板)に塗布し(塗膜厚み:5μm)、光源として水銀キセノンランプを使用して、タックが無くなるまで紫外線を照射して、塗膜/ガラス板積層体、及び塗膜/PET板積層体を得た。
 得られた積層体の塗膜面に1mm間隔で縦、横に11本の切れ目を碁盤目状に入れて、1mm角の切片を100個有する試料を作成し、切片上にセロハンテープ(商品名「セロテープ(登録商標)」、ニチバン(株)製、幅24mm)を2kgローラーを1往復することにより貼り合わせ、20℃環境下で、該セロハンテープを基板に対して垂直な方向に素早く引っ張って剥がし、剥がれずに残った切片の数から下記基準に従って密着性を評価した(JIS K-5400、1990年準拠)。
 基材密着性の評価基準
 基板から剥離した切片の数が0個以上、15個以下:基材密着性極めて良好(○)
 基板から剥離した切片の数が16個以上、30個以下:基材密着性良好(△)
 基板から剥離した切片の数が31個以上、100個以下:基材密着性不良(×)
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000024
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000025
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000026
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000027
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000028
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000029
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000030
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000031
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000032
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000033
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000034
 実施例及び比較例で使用した化合物は下記の通りである。
<ビニルエーテル化合物>
 ONB-DVE:式(a-1)で表される化合物、商品名「ONB-DVE」、(株)ダイセル製
 ISB-DVE:式(a-2)で表される化合物、商品名「ISB-DVE」、(株)ダイセル製
 TEGDVE:トリエチレングリコールジビニルエーテル、商品名「TEGDVE」、日本カーバイド工業(株)製
 4CH-DVE:シクロヘキサンジオールジビニルエーテル、商品名「4CH-DVE」、日本カーバイド工業(株)製
 CHDMDVE:シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、商品名「CHDMDVE」、日本カーバイド工業(株)製
 TCDDVE:トリシクロデカンジメタノールジビニルエーテル
 HBisF-DVE:水添ビスフェノールF型ジビニルエーテル
 HBisA-DVE:水添ビスフェノールA型ジビニルエーテル
 HBP-DVE:水添ビフェニルジビニルエーテル
 CHVE:シクロヘキシルビニルエーテル、商品名「CHVE」、日本カーバイド工業(株)製
 2-EHVE:2-エチルヘキシルビニルエーテル、商品名「EHVE」、日本カーバイド工業(株)製
<エポキシ化合物>
 セロキサイド2021P:3,4-エポキシシクロヘキシルメチル(3,4-エポキシ)シクロヘキサンカルボキシレート、商品名「セロキサイド2021P」、(株)ダイセル製
 セロキサイド3000:1,2:8,9-ジエポキシリモネン、商品名「セロキサイド3000」、(株)ダイセル製
 E-PS:エポキシヘキサヒドロフタル酸ジ2-エチルヘキシル、商品名「サンソサイザーE-PS」、新日本理化(株)製
 CHOX:1,2-エポキシシクロヘキサン、和光純薬工業(株)製
 EP0408:エポキシ(=3,4-エポキシシクロヘキシルメチル)変性ポリオルガノシルセスキオキサン、分子量1418.20、商品名「EP0408」、豊通ケミプラス(株)製
 EP0409:エポキシ(=グリシジルオキシエチル)変性ポリオルガノシルセスキオキサン、分子量1337.88、商品名「EP0409」、豊通ケミプラス(株)製
 EP0419:エポキシ(=グリシジルオキシプロピル)変性ポリオルガノシルセスキオキサン、分子量1324.37、商品名「EP0419」、豊通ケミプラス(株)製
 X-22-163:両末端エポキシ変性シリコーン、エポキシ基当量:200g/mol、商品名「X-22-163」、信越化学工業(株)製
 KF-105:両末端エポキシ変性シリコーン、エポキシ基当量:490g/mol、商品名「KF-105」、信越化学工業(株)製
<オキセタン化合物>
 OXT-212:3-エチル-3-[(2-エチルヘキシルオキシ)メチル]オキセタン、商品名「アロンオキセタンOXT-212」、東亞合成(株)製
 OXT-221:ビス[(3-エチルオキセタン-3-イル)メチル]エーテル、商品名「アロンオキセタンOXT-221」、東亞合成(株)製
 ALOX:3-アリルオキシオキセタン
 EHOX:3-(2-エチルヘキシルオキシ)オキセタン
<光酸発生剤>
 商品名「CPI-110P」、サンアプロ(株)製、ジフェニル[4-(フェニルチオ)フェニル]スルホニウム ヘキサフルオロホスファートおよびチオジ-p-フェニレンビス(ジフェニルスルホニウム) ビス(ヘキサフルオロホスファート)の混合物(99.5/0.5)
 本発明のモノマー組成物を含有する紫外線硬化型インクジェット用インクを使用すれば、空気雰囲気下で、湿度条件や被印刷物を特に限定することなく、且つ臭気の発生を抑制しつつ、非常に高精細なインク被膜を高速に形成することができる。そのため、本発明のモノマー組成物を含有する紫外線硬化型インクジェット用インクは産業用印刷分野において好適に使用することができる。

Claims (32)

  1.  ビニルエーテル化合物(A)を少なくとも含有するモノマー組成物であって、前記ビニルエーテル化合物(A)として環状エーテル骨格を有するビニルエーテル化合物(a)を少なくとも含有し、更に、鎖式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a’)、環式炭化水素骨格を有するジビニルエーテル化合物(a"-1)、オキセタン化合物(B)、及びエポキシ化合物(C)からなる群より選択される少なくとも1種の化合物を含有するモノマー組成物。
  2.  環状エーテル骨格を有するビニルエーテル化合物(a)が下記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物である請求項1に記載のモノマー組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
  3.  ビニルエーテル化合物(A)、オキセタン化合物(B)、及びエポキシ化合物(C)を含有するモノマー組成物であって、ビニルエーテル化合物(A)として前記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物、オキセタン化合物(B)として3-エチル-3-[(2-エチルヘキシルオキシ)メチル]オキセタンを含有し、且つ前記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物の含有量が、モノマー組成物全量の5重量%以上、30重量%未満である請求項2に記載のモノマー組成物。
  4.  エポキシ化合物(C)が、シクロヘキセンオキシド基を有するエポキシ化合物を含む請求項3に記載のモノマー組成物。
  5.  エポキシ化合物(C)の含有量が、モノマー組成物全量の5~80重量%である請求項3又は4に記載のモノマー組成物。
  6.  3-エチル-3-[(2-エチルヘキシルオキシ)メチル]オキセタンの含有量が、モノマー組成物全量の5~80重量%である請求項3~5の何れか1項に記載のモノマー組成物。
  7.  ビニルエーテル化合物(A)、及びオキセタン化合物(B)を含有するモノマー組成物であって、ビニルエーテル化合物(A)として前記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物を含有し、オキセタン化合物(B)として下記式(b’)で表される化合物を含有する請求項2に記載のモノマー組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
    (式中、Rcは1価の炭化水素基を示す)
  8.  式(b’)で表される化合物が、3-アリルオキシオキセタン及び/又は3-(2-エチルヘキシルオキシ)オキセタンである請求項7に記載のモノマー組成物。
  9.  式(b’)で表される化合物の含有量が、モノマー組成物全量の5~90重量%である請求項7又は8に記載のモノマー組成物。
  10.  式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物の含有量が、モノマー組成物全量の5重量%以上、30重量%未満である請求項7~9の何れか1項に記載のモノマー組成物。
  11.  更に、シクロヘキセンオキシド基を有する化合物を含むエポキシ化合物(C)を含有する請求項7~10の何れか1項に記載のモノマー組成物。
  12.  エポキシ化合物(C)の含有量が、モノマー組成物全量の5~80重量%である請求項11に記載のモノマー組成物。
  13.  ビニルエーテル化合物(A)及びエポキシ化合物(C)を含むモノマー組成物であって、ビニルエーテル化合物(A)として前記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物をモノマー組成物全量の5重量%以上、30重量%未満含有し、エポキシ化合物(C)として1,2:8,9-ジエポキシリモネンをモノマー組成物全量の40重量%超含有する請求項2に記載のモノマー組成物。
  14.  モノマーとして、更に、オキセタン化合物(B)をモノマー組成物全量の5~50重量%含有する請求項13に記載のモノマー組成物。
  15.  ビニルエーテル化合物(A)、オキセタン化合物(B)、及びエポキシ化合物(C)を含むモノマー組成物であって、ビニルエーテル化合物(A)として前記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物をモノマー組成物全量の5重量%以上、30重量%未満含有し、オキセタン化合物(B)として3-エチル-3-[(2-エチルヘキシルオキシ)メチル]オキセタンを含む単官能オキセタン化合物をモノマー組成物全量の10~85重量%含有し、エポキシ化合物(C)として1,2:8,9-ジエポキシリモネンをモノマー組成物全量の10~40重量%含有する請求項2に記載のモノマー組成物。
  16.  ビニルエーテル化合物(A)、及びオキセタン化合物(B)を含有するモノマー組成物であって、ビニルエーテル化合物(A)として前記式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物と、環式炭化水素骨格を有するジビニルエーテル化合物(a"-1)とを含有し、オキセタン化合物(B)として単官能オキセタン化合物を含有する請求項2に記載のモノマー組成物。
  17.  環式炭化水素骨格を有するジビニルエーテル化合物(a"-1)が、下記式(a"-1)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
    (式中、環Zは下記式(z-1)~(z-5)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
    から選択される環であり、n、n’は同一又は異なって、0以上の整数を示す)
    で表される化合物である請求項16に記載のモノマー組成物。
  18.  式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物と、環式炭化水素骨格を有するジビニルエーテル化合物(a"-1)の合計含有量が、モノマー組成物全量の10~80重量%である請求項16又は17に記載のモノマー組成物。
  19.  式(a-1)及び/又は(a-2)で表される化合物の含有量が、モノマー組成物全量の5重量%以上、30重量%未満である請求項16~18の何れか1項に記載のモノマー組成物。
  20.  単官能オキセタン化合物の含有量が、モノマー組成物全量の10~70重量%である請求項16~19の何れか1項に記載のモノマー組成物。
  21.  更に、シクロヘキセンオキシド基を有するエポキシ化合物を含むエポキシ化合物(C)を含有する請求項16~20の何れか1項に記載のモノマー組成物。
  22.  エポキシ化合物(C)の含有量が、モノマー組成物全量の5~80重量%である請求項21に記載のモノマー組成物。
  23.  ビニルエーテル化合物(A)を含むモノマー組成物であって、単官能モノマーをモノマー組成物全量の20~70重量%含有し、環状エーテル骨格を有するビニルエーテル化合物(a)と鎖式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a’)をモノマー組成物全量の10~40重量%含有し、且つ前記環状エーテル骨格を有するビニルエーテル化合物(a)の含有量がモノマー組成物全量の5重量%以上、30重量%未満であることを特徴とする請求項1又は2に記載のモノマー組成物。
  24.  更に、ビニルエーテル化合物(A)として環式炭化水素骨格を有するビニルエーテル化合物(a”)をモノマー組成物全量の1~50重量%含有する請求項23に記載のモノマー組成物。
  25.  更に、オキセタン化合物(B)をモノマー組成物全量の5~80重量%含有する請求項23又は24に記載のモノマー組成物。
  26.  更に、エポキシ化合物(C)をモノマー組成物全量の5~80重量%含有する請求項23~25の何れか1項に記載のモノマー組成物。
  27.  請求項1~26の何れか1項に記載のモノマー組成物と光酸発生剤を含有する硬化性組成物。
  28.  更に、増感剤、又は増感剤と増感助剤を含有する請求項27に記載の硬化性組成物。
  29.  表面張力(25℃、1気圧下における)が10~50mN/mであり、粘度[25℃、せん断速度10(1/s)における]が1~1000mPa・sである請求項27又は28に記載の硬化性組成物。
  30.  紫外線硬化型インクジェット用インクに使用する請求項27~29の何れか1項に記載の硬化性組成物。
  31.  請求項27~30の何れか1項に記載の硬化性組成物と顔料及び/又は染料を含有する紫外線硬化型インクジェット用インク。
  32.  更に、分散剤を含有する請求項31に記載の紫外線硬化型インクジェット用インク。
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